KR20170101803A - Quartz tube holding structure and heat treatment apparatus using the same - Google Patents

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KR20170101803A
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마사히로 기쿠치
스스무 야기
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

The present invention provides a quartz tube holding and supporting structure and a heat treatment device using the same, which can certainly fix a quartz tube with a simple structure without fluctuation, warp, desorption, breakage, etc. and can install multiple quartz tubes. The quartz tube holding and supporting structure comprises: a vertically long processing vessel (10); the quartz tube (110), along the longitudinal direction of an inner wall (12) of the processing vessel, installed by having a gap with the inner wall for at least in a lower part of the processing vessel; a supporting member (102) supporting the quartz tube from the lower side; and a pressing force generating part (140), in the lower part of the processing vessel, fixing the quartz tube by applying a pressing force from the inner side toward the inner wall to the quartz tube.

Description

석영관 보유 지지 구조 및 이것을 사용한 열처리 장치 {QUARTZ TUBE HOLDING STRUCTURE AND HEAT TREATMENT APPARATUS USING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a quartz tube holding structure and a heat treatment apparatus using the quartz tube holding structure.

본 발명은, 석영관 보유 지지 구조 및 이것을 사용한 열처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a quartz tube holding structure and a heat treatment apparatus using the quartz tube holding structure.

종래부터, 적어도 1개의 가스 공급 구멍을 갖는 직관부와, 직관부의 하단에 형성되고, 직관부의 직경보다 큰 폭을 갖는 하단부와, 하단부를 적재하는 적재부와, 하단부를 적재부에 고정하고, 하단부가 기울어졌을 때에 하단부의 상면을 지지하는 지지면을 갖는 덮개부를 갖고, 덮개부의 상면에는 상기 직관부에 대해 소정 간격을 갖도록 절결이 형성되고, 상기 적재부에는 하단부와의 접촉면에 가스를 도입하는 도입 구멍이 형성되어 있는 가스 공급부가 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).BACKGROUND ART [0002] Conventionally, there has been known an apparatus for manufacturing a gas-liquid separator, which comprises a straight pipe portion having at least one gas supply hole, a lower end portion formed at the lower end of the straight pipe portion and having a width larger than the diameter of the straight pipe portion, a mounting portion for mounting the lower end portion, A cutout portion is formed on the upper surface of the lid portion so as to have a predetermined gap with respect to the straight pipe portion, and in the mounting portion, a gas is introduced into the contact surface with the lower end portion, A gas supply portion having a hole is known (see, for example, Patent Document 1).

이러한 특허문헌 1에 기재된 가스 공급부에서는, 적재부와 덮개부에 의해 하단부를 끼워 넣음으로써, 하단부를 고정하여 자립시켜, 가스 노즐 설치 등의 메인터넌스 작업을 용이하게 하고 있다.In the gas supply unit described in Patent Document 1, the lower end portion is fitted by the stacking portion and the lid portion so that the lower end portion is fixed and is self-supported, thereby facilitating maintenance work such as gas nozzle installation.

또한, 기판을 처리하는 반응실을 형성함과 함께, 반응실 내에 확보된 반응 공간에 복수 매의 기판을 세로 방향으로 적재한 상태에서 수용하는 반응관과, 반응 공간에 세로 방향을 따라 설치되는 가스 공급 노즐과, 반응 공간에 설치되는 가스 공급 노즐의 경사를 억제하는 경사 억제 수단을 구비하고, 경사 억제 수단은, 가스 공급 노즐의 하단부를 받침면으로 받치는 노즐 받침부와, 받침면으로 가스 공급 노즐의 하단부를 받친 상태에서 가스 공급 노즐을 노즐 받침부에 고정 가능한 고정부가 형성된 노즐 고정 부재를 구비하는 기판 처리 장치가 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 2 참조).A reaction tube for forming a reaction chamber for processing the substrate and accommodating the plurality of substrates in a longitudinally loaded state in a reaction space secured within the reaction chamber; The gas supply nozzle is provided with a nozzle support portion for supporting the lower end of the gas supply nozzle to the support surface, and a gas supply nozzle for supplying the gas supply nozzle to the gas supply nozzle, And a nozzle fixing member provided with a fixing portion capable of fixing the gas supply nozzle to the nozzle receiving portion in a state in which the lower end of the nozzle fixing member is supported by the nozzle fixing member (see, for example, Patent Document 2).

이러한 특허문헌 2에 기재된 기판 처리 장치에서는, 반응실 내에 가스 공급 노즐을 설치하는 경우에, 가스 공급 노즐의 경사를 저감시키는 것을 목적으로 하고 있다.In the substrate processing apparatus described in Patent Document 2, when the gas supply nozzle is provided in the reaction chamber, the inclination of the gas supply nozzle is reduced.

일본 특허 공개 제2015-185578호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-185578 일본 특허 공개 제2013-187459호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-187459

그런데, 최근, 반도체 제조 프로세스의 다양화와 면내 균일성의 담보의 높은 요구에 기초하여, 공급 가스의 종류를 증가시키거나, 동일한 가스를 에어리어마다 상이한 노즐로 공급하거나 하는 요청이 있어, 가스 공급 노즐의 설치 개수가 증가 경향에 있다.In recent years, there has been a demand to increase the kinds of the supply gas or to supply the same gas to different nozzles per area based on the demand for diversification of the semiconductor manufacturing process and the guarantee of in-plane uniformity. The number of installations is on the increase tendency.

그러나, 특허문헌 1에서는, 적재부와 덮개부에 의해 하단부를 끼워 넣음으로써 직관부의 하단부를 고정하여 자립시키는 구조이므로, 적재부, 덮개부 및 하단부를 어느 정도 큰 구조로 할 수밖에 없어, 가스 공급 노즐이 증가하면 공간이 부족하여, 가스 공급 노즐을 많이 설치하는 것은 곤란하다고 하는 문제가 있었다.However, in Patent Document 1, since the lower end portion of the straight pipe portion is fixed by fitting the lower end portion by the stacking portion and the lid portion, the stacking portion, the lid portion and the lower end portion have to be somewhat large in structure, There is a problem that it is difficult to install a large number of gas supply nozzles.

또한, 특허문헌 2에서는 가스 공급 노즐의 하단부를 노즐 고정 부재의 노즐 받침부에 고정하여 경사를 저감시키는 구조이므로, 노즐 고정 부재는 어느 정도의 크기를 갖고 구성할 수밖에 없어, 역시 가스 공급 노즐을 많이 설치하는 것은 곤란하다고 하는 문제가 있었다.Further, in Patent Document 2, since the lower end portion of the gas supply nozzle is fixed to the nozzle support portion of the nozzle fixing member to reduce the inclination, the nozzle fixing member has to be configured to have a certain size, There is a problem that installation is difficult.

따라서, 본 발명은, 간소한 구조로 요동, 경사, 탈리 등 없이 확실하게 석영관을 고정할 수 있고, 다수의 석영관의 설치도 가능한 석영관 보유 지지 구조 및 이것을 사용한 열처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, it is an object of the present invention to provide a quartz tube holding structure capable of securely fixing a quartz tube without rocking, tilting, or tearing with a simple structure and capable of installing a plurality of quartz tubes, and a heat treatment apparatus using the quartz tube holding structure .

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 양태에 관한 석영관 보유 지지 구조는, 세로로 긴 처리 용기와,In order to achieve the above object, a quartz tube holding structure according to an embodiment of the present invention includes a vertically long processing vessel,

당해 처리 용기의 내벽면의 길이 방향을 따라, 적어도 당해 처리 용기의 하부에 있어서 상기 내벽면과 간격을 갖고 설치된 석영관과,A quartz tube disposed along the longitudinal direction of the inner wall surface of the processing vessel and spaced apart from the inner wall surface at least in a lower portion of the processing vessel;

당해 석영관을 하방으로부터 지지하는 지지 부재와,A support member for supporting the quartz tube from below,

상기 처리 용기의 하부에 있어서, 상기 석영관에 내측으로부터 상기 내벽면을 향하는 압박력을 가하여 상기 석영관을 고정하는 압박력 발생구를 갖는다.And a pressing force generating means for applying a pressing force to the quartz tube from the inside to the inside wall face to fix the quartz tube at the lower portion of the processing vessel.

본 발명의 다른 양태에 관한 열처리 장치는, 상기 석영관 보유 지지 구조와,The heat treatment apparatus according to another aspect of the present invention includes the quartz tube holding structure,

당해 석영관 보유 지지 구조의 상기 처리 용기를 외측으로부터 가열하는 가열 수단을 갖는다.And heating means for heating the processing vessel of the quartz tube holding structure from the outside.

본 발명에 따르면, 간소한 구조이면서, 요동, 경사, 탈리, 파손 등 없이 확실하게 석영관을 보유 지지할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, a quartz tube can be securely held without rocking, tilting, tearing, breakage or the like while having a simple structure.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치의 일례를 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 열처리 장치의 매니폴드의 단면 구성의 일례를 도시한 단면 사시도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조의 홀더 및 이너 가이드의 일례의 구성을 도시한 사시도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조의 홀더의 일례의 구성을 도시한 도면이다. 도 4의 (a)는 홀더의 평면도이다. 도 4의 (b)는 홀더의 정면도이다. 도 4의 (c)는 홀더의 측단면도이다. 도 4의 (d)는 홀더의 측단면도와 측면도를 조합한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조의 홀더의 일례의 구성을 도시한 측면도이다. 도 5의 (a)는 홀더의 고정 전의 상태를 도시한 측면도이다. 도 5의 (b)는 홀더의 고정 후의 상태를 도시한 측면도이다.
도 6은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조의 인젝터 및 하부 고정 부재의 탈리 방지 구조의 일례를 도시한 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조에 있어서의 인젝터의 설치 방법의 일례를 도시한 도면이다. 도 7의 (a)는 인젝터 삽입 공정의 일례를 도시한 도면이다. 도 7의 (b)는 홀더 설치 공정의 일례를 도시한 도면이다. 도 7의 (c)는 인젝터 설치 공정의 일례를 도시한 도면이다.
도 8은 설치된 인젝터 및 홀더의 일례를 도시한 측단면도이다.
도 9는 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치의 지지점을 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치의 인젝터 설치 상태의 일례를 도시한 도면이다.
도 11은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조에서 3개의 인젝터를 고정한 상태를 도시한 도면이다.
도 12는 도 11에 대응한 3개의 인젝터의 상부의 지지 구조를 도시한 도면이다.
도 13은 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치의 일례를 도시한 도면이다.
도 14는 제2 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치의 인젝터 설치 상태의 일례를 도시한 도면이다.
도 15는 본 발명의 제3 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치의 일례를 도시한 측단면도이다.
도 16은 제3 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조의 홀더의 설치 방법의 일례를 도시한 도면이다. 도 16의 (a)는 홀더의 설치 전의 인젝터의 상태를 도시한 도면이다. 도 16의 (b)는 홀더의 설치 후의 인젝터의 상태를 도시한 도면이다.
도 17은 제3 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조에 있어서 외측으로부터 인젝터 및 홀더를 도시한 사시도이다.1 is a view showing an example of a quartz tube holding structure and a heat treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional perspective view showing an example of a sectional configuration of a manifold of the heat treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention.
3 is a perspective view showing an example of the structure of a holder and an inner guide of a quartz tube holding structure according to the first embodiment of the present invention.
4 is a view showing an example of the structure of a holder of a quartz tube holding structure according to the first embodiment of the present invention. 4 (a) is a plan view of the holder. 4 (b) is a front view of the holder. 4 (c) is a side sectional view of the holder. Fig. 4 (d) is a combination of a side sectional view and a side view of the holder. Fig.
5 is a side view showing an exemplary structure of a holder of a quartz tube holding structure according to the first embodiment of the present invention. 5 (a) is a side view showing a state before the holder is fixed. 5 (b) is a side view showing the state after the holder is fixed.
6 is a cross-sectional view showing an example of a disengagement preventing structure of the injector and the lower fixing member of the quartz tube holding structure according to the first embodiment of the present invention.
7 is a view showing an example of a method of installing an injector in a quartz tube holding structure according to the first embodiment of the present invention. Fig. 7A is a view showing an example of the injector inserting step. Fig. 7 (b) is a view showing an example of a holder installing step. Fig. 7C is a view showing an example of the injector installing process.
8 is a side cross-sectional view showing an example of an injector and a holder installed.
Fig. 9 is a view for explaining support points of the quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention. Fig.
Fig. 10 is a view showing an example of the injector mounting state of the quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention. Fig.
11 is a view showing a state in which three injectors are fixed in the quartz tube holding structure according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a view showing a top support structure of three injectors corresponding to FIG. 11. FIG.
13 is a diagram showing an example of a quartz tube holding structure and a heat treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention.
Fig. 14 is a diagram showing an example of the injector mounting state of the quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus according to the second embodiment. Fig.
15 is a side sectional view showing an example of a quartz tube holding and supporting structure and a heat treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention.
16 is a diagram showing an example of a method of installing a holder of the quartz tube holding structure according to the third embodiment. 16 (a) is a view showing the state of the injector before the holder is installed. 16 (b) is a view showing the state of the injector after the holder is installed.
17 is a perspective view showing an injector and a holder from the outside in the quartz tube holding structure according to the third embodiment.

이하, 도면을 참조하여, 본 발명을 실시하기 위한 형태의 설명을 행한다.Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

〔제1 실시 형태〕[First Embodiment]

도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치의 일례를 도시한 도면이다. 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조는, 처리 대상, 처리 내용은 특별히 한정되지 않고, 가스를 처리 용기 내에 공급하여 처리를 행하는 다양한 처리 장치에 적용 가능하지만, 본 실시 형태에서는, 기판에 열처리를 행하는 열처리 장치에 적용한 예를 들어 설명한다. 따라서, 도 1은 종형 열처리 장치의 구성을 도시하고 있다.1 is a view showing an example of a quartz tube holding structure and a heat treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention. The quartz tube holding structure according to the first embodiment of the present invention is not particularly limited to the object to be treated and the treatment content and can be applied to various kinds of treatment apparatuses which perform the treatment by supplying the gas into the treatment vessel. An example in which the present invention is applied to a heat treatment apparatus for performing heat treatment on a substrate will be described. Therefore, Fig. 1 shows a configuration of a vertical type heat treatment apparatus.

도 1에 있어서, 열처리 장치는, 반도체 웨이퍼(W)를 수용하는 처리 용기(10)를 갖고 있다. 처리 용기(10)는, 내열성이 높은 석영에 의해 대략 원통체 형상으로 성형되고, 천장에 배기구(11)를 갖는다. 처리 용기(10)는, 연직 방향으로 연장되는 종형의 형상으로 구성되어 있다. 처리 용기(10)의 직경은, 예를 들어 처리되는 웨이퍼(W)의 직경이 300㎜인 경우에는, 350∼450㎜ 정도의 범위로 설정되어 있다.1, the heat treatment apparatus has a processing vessel 10 for accommodating a semiconductor wafer W. The processing vessel 10 is formed into a substantially cylindrical shape by quartz having high heat resistance and has an exhaust port 11 in the ceiling. The processing vessel 10 is formed into a vertical shape extending in the vertical direction. The diameter of the processing vessel 10 is set in the range of about 350 to 450 mm, for example, when the diameter of the processed wafer W is 300 mm.

처리 용기(10)의 천장부의 배기구(11)에는, 가스 배기 포트(20)가 접속된다. 가스 배기 포트(20)는, 예를 들어 배기구(11)로부터 연장되어 직각으로 가로 방향으로 L자 형상으로 굴곡된 석영관으로 구성된다.A gas exhaust port 20 is connected to the exhaust port 11 of the ceiling portion of the processing vessel 10. The gas exhaust port 20 is composed of, for example, a quartz tube extending from the exhaust port 11 and bent in an L-shape in a transverse direction at right angles.

가스 배기 포트(20)에는, 처리 용기(10) 내의 분위기를 배기하는 진공 배기계(30)가 접속된다. 구체적으로는, 진공 배기계(30)는, 가스 배기 포트(20)에 연결되는 예를 들어 스테인리스 스틸로 이루어지는 금속제의 가스 배기관(31)을 갖고 있다. 그리고, 이 가스 배기관(31)의 도중에는, 개폐 밸브(32), 버터플라이 밸브와 같은 압력 조정 밸브(33) 및 진공 펌프(34)가 순차 개재 설치되어 있어, 처리 용기(10) 내의 분위기를 압력 조정하면서 진공화할 수 있도록 되어 있다. 또한, 가스 배기 포트(20)의 내경은, 가스 배기관(31)의 내경과 동일하게 설정되어 있다.A vacuum evacuation system 30 for evacuating the atmosphere in the processing vessel 10 is connected to the gas exhaust port 20. Specifically, the vacuum exhaust system 30 has a gas exhaust pipe 31 made of, for example, stainless steel and connected to the gas exhaust port 20. An opening / closing valve 32, a pressure regulating valve 33 such as a butterfly valve, and a vacuum pump 34 are disposed in sequence in the middle of the gas exhaust pipe 31, So that it can be vacuumed while being adjusted. The inner diameter of the gas exhaust port 20 is set equal to the inner diameter of the gas exhaust pipe 31.

처리 용기(10)의 측부에는, 처리 용기(10)를 둘러싸도록 하여 가열 수단(40)이 설치되어 있어, 내측에 위치하는 반도체 웨이퍼(W)를 가열할 수 있도록 되어 있다. 가열 수단(40)의 외주에는, 단열재(50)가 설치되어 있어, 이 열적 안정성을 확보하도록 되어 있다.A heating means 40 is provided on the side of the processing vessel 10 so as to surround the processing vessel 10 so that the semiconductor wafer W located on the inside can be heated. A heat insulating material 50 is provided on the outer periphery of the heating means 40 to ensure the thermal stability.

석영제의 처리 용기(10)의 하단부는 개구되어, 웨이퍼(W)를 반입, 반출할 수 있도록 되어 있다. 처리 용기(10)의 하단부의 개구는, 덮개(60)에 의해 개폐가 행해지는 구성으로 되어 있다.The lower end of the quartz processing vessel 10 is opened so that the wafer W can be carried in and out. The opening of the lower end of the processing vessel 10 is configured to be opened and closed by the lid 60.

덮개(60)보다 상방에는, 웨이퍼 보트(80)가 설치되어 있다. 웨이퍼 보트(80)는, 웨이퍼(W)를 보유 지지하기 위한 웨이퍼 보유 지지 부재이며, 연직 방향으로 복수 매의 웨이퍼를 이격시킨 상태에서 보유 지지 가능하게 구성된다. 웨이퍼 보트(80)가 보유 지지하는 웨이퍼의 매수는 특별히 정해져 있지 않지만, 예를 들어 50∼100매의 웨이퍼(W)를 보유 지지한다.A wafer boat 80 is provided above the lid 60. The wafer boat 80 is a wafer holding member for holding a wafer W and is configured to be capable of being held in a state in which a plurality of wafers are spaced apart in the vertical direction. Although the number of wafers held by the wafer boat 80 is not particularly specified, for example, 50 to 100 wafers W are held.

웨이퍼 보트(80)는, 석영제의 보온통(75)을 개재하여 테이블(74) 상에 적재되어 있고, 테이블(74)은, 처리 용기(10)의 하단부 개구부를 개폐하는 덮개(60)를 관통하는 회전축(72)의 상단부에 지지된다. 그리고, 이 회전축(72)의 관통부에는, 예를 들어 자성 유체 시일(73)이 개재 설치되어, 이 회전축(72)을 기밀하게 시일하면서 회전 가능하게 지지하고 있다. 또한, 덮개(60)의 주변부와 처리 용기(10)의 하단부에는, 예를 들어 O-링 등으로 이루어지는 시일 부재(61)가 개재 설치되어 있어, 처리 용기(10) 내의 시일성을 유지하고 있다.The wafer boat 80 is mounted on a table 74 via a quartz thermal insulating container 75. The table 74 is passed through a lid 60 for opening and closing a lower end opening of the process container 10 And is supported at the upper end of the rotary shaft 72. A magnetic fluid seal 73 is interposed, for example, in the penetrating portion of the rotating shaft 72, and rotatably supports the rotating shaft 72 while sealing the airtightness. A seal member 61 made of, for example, an O-ring or the like is provided on the periphery of the lid 60 and the lower end of the processing vessel 10 to maintain sealability in the processing vessel 10 .

회전축(72)은, 예를 들어 보트 엘리베이터 등의 승강 기구(70)에 지지된 아암(71)의 선단에 설치되어 있어, 웨이퍼 보트(80) 및 덮개(60) 등을 일체적으로 승강할 수 있도록 이루어져 있다. 또한, 테이블(74)을 덮개(60)측에 고정하여 설치하여, 웨이퍼 보트(80)를 회전시키는 일 없이 웨이퍼(W)의 처리를 행하도록 해도 된다.The rotary shaft 72 is provided at the front end of an arm 71 supported by an elevating mechanism 70 such as a boat elevator for example so that the wafer boat 80 and the lid 60 can be integrally moved . The wafer W may be processed without rotating the wafer boat 80 by fixing the table 74 to the lid 60 side.

처리 용기(10)의 하단부에는, 처리 용기(10)의 내주벽을 따라 연장되는 부분을 가짐과 함께, 반경 방향 외측을 향해 연장되는 플랜지 형상의 부분을 갖는 매니폴드(90)가 배치되어 있다. 그리고, 매니폴드(90)를 통해, 처리 용기(10)의 하단부로부터, 처리 용기(10) 내로 필요한 가스를 도입한다. 매니폴드(90)는, 처리 용기(10)와는 다른 부품으로 구성되지만, 처리 용기(10)의 측벽과 일체적으로 설치되어, 처리 용기(10)의 측벽의 일부를 구성하도록 설치된다.A manifold 90 having a portion extending along the inner peripheral wall of the processing vessel 10 and having a flange-shaped portion extending radially outward is disposed at the lower end of the processing vessel 10. Then, necessary gas is introduced into the processing vessel 10 from the lower end of the processing vessel 10 through the manifold 90. The manifold 90 is formed as a part different from the processing vessel 10 but is provided integrally with the side wall of the processing vessel 10 to constitute a part of the side wall of the processing vessel 10.

매니폴드(90)는, 인젝터(110)를 지지한다. 인젝터(110)는, 처리 용기(10) 내에 가스를 공급하기 위한 가스 공급 수단이며, 석영으로 구성된다. 즉, 인젝터(110)는 석영관으로 구성된다. 본 발명의 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조는, 다양한 석영관에 적용 가능하지만, 제1 실시 형태에 있어서는, 인젝터(110)로서 구성된 석영관에 적용하는 예를 들어 설명한다. 또한, 인젝터(110)는 처리 용기(10)의 내부에서 상하 방향으로 연장되도록 설치되고, 직접적으로 가스를 웨이퍼(W)에 공급한다.The manifold 90 supports the injector 110. The injector 110 is a gas supply means for supplying gas into the processing vessel 10, and is made of quartz. That is, the injector 110 is composed of a quartz tube. The quartz tube holding structure according to the embodiment of the present invention can be applied to various quartz tubes. In the first embodiment, a quartz tube configured as the injector 110 will be described. Further, the injector 110 is installed so as to extend in the vertical direction inside the processing vessel 10, and directly supplies the gas to the wafer W.

인젝터(110)는, 가스의 종류에 따라서 복수 설치되는 것이 일반적이지만, 최근에는, 또한 웨이퍼 보트(80)에 적재된 상하 방향의 영역마다, 개별의 인젝터(110)를 설치하는 경우도 있으므로, 10개 이상이나 되는 인젝터(110)를 설치할 필요가 있는 경우도 있다. 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치는, 그러한 다수 개의 인젝터의 설치를 가능하게 하는 구성을 갖지만, 그 점의 상세에 대해서는 후술한다.In general, a plurality of injectors 110 are provided depending on the kind of gas. In recent years, however, there is a case where the individual injectors 110 are provided for each of the regions in the vertical direction loaded on the wafer boat 80, It is sometimes necessary to install the injector 110 which is more than two. The quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention have such a structure as to enable the installation of such a plurality of injectors, but the details will be described later.

인젝터(110)를 고정하기 위해, 홀더(140)가 설치된다. 홀더(140)는, 처리 용기(10)의 내측으로부터 처리 용기(10)의 내벽면(12)을 향해 인젝터(110)에 압박력을 가하는 압박력 발생구이다. 또한, 처리 용기(10)의 내벽면(12)을 따라, 삽입 구멍(151)을 갖는 이너 가이드(150)가 설치되어 있고, 인젝터(110)의 상단부 부근의 소정 개소가 삽입 구멍(151)에 삽입되어 있다. 홀더(140)는, 처리 용기(10)의 내벽면(12)을 향해 압박력을 가하고 있으므로, 인젝터(110)의 상단부 부근의 소정 개소가 이너 가이드(150)의 삽입 구멍(151)의 내벽면(12)측(외측)에 압박되어 접촉하고 있다. 또한, 도 1에 있어서, 인젝터(110)는 수직으로 그려져 있지만, 홀더(140)에 의해 외측을 향하는 압박력이 가해지고 있으므로, 이너 가이드(150)의 삽입 구멍(151)의 위치에 따라서는, 약간 내벽면(12)측을 향해 경사지는 경우도 있다.In order to fix the injector 110, a holder 140 is installed. The holder 140 is a pressing force generating means for applying a pressing force to the injector 110 from the inside of the processing vessel 10 toward the inner wall surface 12 of the processing vessel 10. An inner guide 150 having an insertion hole 151 is provided along the inner wall surface 12 of the processing vessel 10 and a predetermined portion near the upper end of the injector 110 is inserted into the insertion hole 151 Respectively. The holder 140 applies a pressing force toward the inner wall surface 12 of the processing vessel 10 so that a predetermined portion near the upper end of the injector 110 contacts the inner wall surface of the insertion hole 151 of the inner guide 150 12 (outer side). 1, the injector 110 is vertically drawn. However, depending on the position of the insertion hole 151 of the inner guide 150, a slight force is applied to the inner guide 150 slightly It may be inclined toward the inner wall surface 12 side.

인젝터(110)에 가스를 공급하기 위해 가스 공급계(120)가 설치된다. 가스 공급계(120)는 인젝터(110)에 연통되는 금속, 예를 들어 스테인리스 스틸제의 가스 배관(121)을 갖고 있고, 가스 배관(121)의 도중에는, 매스 플로우 컨트롤러와 같은 유량 제어기(123) 및 개폐 밸브(122)가 순차 개재 설치되어, 처리 가스를 유량 제어하면서 공급할 수 있도록 되어 있다. 기판 처리에 필요한 다른 처리 가스도, 마찬가지로 구성된 가스 공급계(120) 및 매니폴드(90)를 통해 공급된다.A gas supply system 120 is provided to supply the gas to the injector 110. The gas supply system 120 has a gas pipe 121 made of a metal such as stainless steel that communicates with the injector 110. A flow controller 123 such as a mass flow controller is disposed halfway of the gas pipe 121, And an opening / closing valve 122 are provided in this order so that the process gas can be supplied while controlling the flow rate. Other process gases necessary for substrate processing are also supplied through the gas supply system 120 and the manifold 90 similarly configured.

처리 용기(10)의 하단부의 매니폴드(90)의 주변부는, 예를 들어 스테인리스 스틸에 의해 형성된 베이스 플레이트(130)에 의해 지지되어 있고, 이 베이스 플레이트(130)에 의해 처리 용기(10)의 하중을 지지하도록 되어 있다. 이 베이스 플레이트(130)의 하방은, 도시하지 않은 웨이퍼 이동 탑재 기구를 갖는 웨이퍼 이동 탑재실로 되어 있고, 대략 대기압의 질소 가스 분위기로 되어 있다. 또한 베이스 플레이트(130)의 상방은 통상의 클린 룸의 청정한 공기의 분위기로 되어 있다.The periphery of the manifold 90 at the lower end of the processing vessel 10 is supported by a base plate 130 formed of, for example, stainless steel. By this base plate 130, So as to support the load. The lower portion of the base plate 130 is a wafer transfer mounting chamber having a wafer transfer mounting mechanism (not shown) and has a nitrogen gas atmosphere at a substantially atmospheric pressure. The upper portion of the base plate 130 is a clean air atmosphere of a normal clean room.

다음으로, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 열처리 장치의 매니폴드(90)의 구성에 대해 더욱 상세하게 설명한다.Next, the structure of the manifold 90 of the heat treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described in more detail.

도 2는, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 열처리 장치의 매니폴드(90)의 단면 구성의 일례를 도시한 단면 사시도이다. 매니폴드(90)는, 인젝터 지지부(91)와, 가스 도입부(95)를 갖는다. 인젝터 지지부(91)는, 처리 용기(10) 내벽면을 따라 연직 방향으로 연장되는 부분이며, 인젝터(110)를 지지한다. 인젝터 지지부(91)는, 인젝터(110)의 하단부를 삽입 가능하고, 인젝터(110)의 하단부를 외부 끼움 지지 가능한 삽입 구멍(92)을 갖는다. 가스 도입부(95)는, 인젝터 지지부(91)로부터 반경 방향 외측으로 연장되어, 처리 용기(10)의 외측에 노출되는 부분이며, 가스 도입로(가스 유로)(96)를 갖는다.2 is a sectional perspective view showing an example of a sectional configuration of the manifold 90 of the heat treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention. The manifold 90 has an injector supporting portion 91 and a gas introducing portion 95. The injector supporting portion 91 is a portion extending in the vertical direction along the inner wall surface of the processing vessel 10 and supports the injector 110. The injector support portion 91 has an insertion hole 92 into which the lower end of the injector 110 can be inserted and which can support the lower end portion of the injector 110 externally. The gas introducing portion 95 is a portion that extends radially outward from the injector supporting portion 91 and is exposed to the outside of the processing container 10 and has a gas introducing path (gas flow path) 96.

도 2에 도시되는 바와 같이, 인젝터 지지부(91)는, 처리 용기(10)의 내주벽을 따라 연장되고, 복수 개의 인젝터(110)를 지지 가능하도록, 복수의 삽입 구멍(92)이 주위 방향을 따라 배치된다. 각 삽입 구멍(92)은, 1개의 인젝터(110)의 하단부가 삽입되었을 때, 인젝터(110)를 연직으로 세운 상태로 지지할 수 있는 높이를 갖고 구성된다. 인젝터(110)의 측면에는, 개구(112)가 형성되어, 가스 도입부(95)의 가스 도입로(96)와 연통 가능하게 구성된다.2, the injector supporting portion 91 extends along the inner peripheral wall of the processing container 10 and has a plurality of insertion holes 92 extending in the peripheral direction so as to support the plurality of injectors 110 Respectively. Each of the insertion holes 92 has a height enough to support the injector 110 in a vertically standing state when the lower end of one injector 110 is inserted. An opening 112 is formed in the side surface of the injector 110 so as to be communicable with the gas introducing path 96 of the gas introducing portion 95.

다음으로, 도 3 내지 도 5를 이용하여, 홀더(140) 및 이너 가이드(150)의 구성에 대해 더욱 상세하게 설명한다. 도 3은, 홀더(140) 및 이너 가이드(150)의 일례의 구성을 도시한 사시도이다.Next, the configurations of the holder 140 and the inner guide 150 will be described in more detail with reference to Figs. 3 to 5. Fig. 3 is a perspective view showing an example of the structure of the holder 140 and the inner guide 150. As shown in Fig.

도 4는, 홀더(140)의 일례의 구성을 도시한 도면이다. 도 4의 (a)는 홀더(140)의 평면도이고, 도 4의 (b)는 홀더(140)의 정면도이다. 또한, 도 4의 (c)는, 도 4의 (b)의 E-E 단면에 있어서의 홀더(140)의 측단면도이다. 또한, 도 4의 (c)에 있어서, 우측이 나사 고정되는 배면측의 위치를 나타내고, 좌측이 처리 용기(10)의 내벽면(12)과 대면하는 전방면측의 위치를 나타내고 있다. 도 4의 (d)는, 도 4의 (b)의 A-A 단면도와 측면도를 조합한 도면이다.4 is a diagram showing an example of the structure of the holder 140. Fig. 4 (a) is a plan view of the holder 140, and Fig. 4 (b) is a front view of the holder 140. Fig. 4 (c) is a side cross-sectional view of the holder 140 in the section E-E of Fig. 4 (b). 4 (c), the right side shows the position on the rear side where the screw is fixed, and the left side shows the position on the front side facing the inner wall surface 12 of the processing container 10. [ 4 (d) is a view showing a combination of the A-A cross-sectional view and the side view of Fig. 4 (b).

도 5는, 홀더(140)의 일례의 구성을 도시한 측면도이다. 도 5의 (a)는, 홀더(140)의 고정 전의 상태를 도시한 측면도이고, 도 5의 (b)는, 홀더(140)의 고정 후의 상태를 도시한 측면도이다.Fig. 5 is a side view showing an example of the configuration of the holder 140. Fig. 5A is a side view showing a state before the holder 140 is fixed, and FIG. 5B is a side view showing a state after the holder 140 is fixed.

도 3 및 도 5에 도시되는 바와 같이, 홀더(140)는, 하부 고정 부재(141)와, 상부 압박 부재(142)와, 연결 부재(143)를 갖는다. 하부 고정 부재(141)는, 인젝터 지지부(91)의 상면에 나사 고정되고, 홀더(140)를 인젝터 지지부(91)의 상면에 고정하기 위한 부재이며, 인젝터(110)의 회전 및 탈리를 방지하기 위한 부재이다. 또한, 상부 압박 부재(142)는, 인젝터(110)를 처리 용기(10)의 내벽면(12)측으로 압박하기 위한 부재이고, 연결 부재(143)는, 하부 고정 부재(141)와 상부 압박 부재(142)를 연결하기 위한 부재이다.3 and 5, the holder 140 has a lower fixing member 141, an upper pressing member 142, and a connecting member 143. [ The lower fixing member 141 is a member for fixing the holder 140 on the upper surface of the injector supporting portion 91 and is screwed on the upper surface of the injector supporting portion 91. The lower fixing member 141 is a member for preventing rotation and tearing of the injector 110 . The upper pressing member 142 is a member for urging the injector 110 toward the inner wall surface 12 side of the processing vessel 10 and the connecting member 143 is a member for pressing the lower fixing member 141 and the upper pressing member 142, (142).

도 3 및 도 4의 (a)에 도시되는 바와 같이, 상부 압박 부재(142)는, 인젝터(110)를 처리 용기(10)의 내벽면(12)측으로 압박 가능한 형상을 갖는다. 본 실시 형태에 있어서는, 상부 압박 부재(142)는 U자 형상으로 구성되고, U자의 오목부 내에 인젝터(110)를 보유 지지하고, 외측으로 압박력을 가하는 것이 가능한 형상으로 되어 있다. 또한, 본 실시 형태에서는, 상부 압박 부재(142)는, U자 형상으로 구성되어 있지만, 인젝터(110)를 일 방향으로 압박하는 것이 가능한 형상이면, 다양한 형상으로 구성되어도 된다. 단, 인젝터(110)를 확실하게 보유 지지하기 위해서는, 인젝터(110)와 결합 가능한 형상인 것이 바람직하고, 본 실시 형태와 같은 U자 형상이나, V자 형상 등의 원통형의 인젝터(110)를 보유 지지 가능한 오목부를 갖는 평면 형상인 것이 바람직하다.3 and 4A, the upper pressing member 142 has a shape capable of urging the injector 110 toward the inner wall surface 12 side of the processing vessel 10. As shown in Fig. In this embodiment, the upper pressing member 142 is formed in a U-shape, and has a shape capable of holding the injector 110 in the U-shaped concave portion and exerting an urging force to the outside. In this embodiment, the upper pressing member 142 is formed in a U-shape, but may be formed in various shapes as long as it is capable of pressing the injector 110 in one direction. However, in order to securely hold the injector 110, it is preferable that the injector 110 has a shape that can be engaged with the injector 110, and a cylindrical injector 110 such as a U-shaped or V- It is preferable to have a plane shape having a supportable recess.

하부 고정 부재(141)는, 상부 압박 부재(142)와 마찬가지로 U자 형상으로 구성되고, U자의 오목부 내에 인젝터(110)를 근접하여 배치하는 것이 가능한 형상으로 되어 있다. 하부 고정 부재(141)는, 인젝터 지지부(91)의 상면에 고정되어 설치되어도 된다. 도 3 및 도 5에 도시되는 바와 같이, 하부 고정 부재(141)는, 예를 들어 나사(145) 등을 사용하여, 인젝터 지지부(91)에 고정되어도 된다. 또한, 도 4의 (a), (d)에 도시되는 바와 같이, 상부 압박 부재(142)의 U자 형상의 오목부 인젝터(110)와의 접촉점이 되는 오목 부분(142a)은, 하부 고정 부재(141)의 U자 형상의 오목 부분(141a)이 형성된 면보다 전방면에 위치하도록 구성되어 있다. 따라서, 도 5의 (a), (b)에 도시되는 바와 같이, 상부 압박 부재(142)의 U자 형상의 오목 부분(142a)이 인젝터(110)와 접촉하는 위치에서, 하부 고정 부재(141)를 인젝터 지지부(91)의 상면에 나사 고정하면, 상부 압박 부재(142)의 U자 형상의 오목 부분(142a)은 반드시 인젝터(110)에 접촉하게 된다. 이에 의해, 상부 압박 부재(142)는 인젝터(110)를 전방으로 압출하여, 처리 용기(10)의 내벽면(12)에 압박력을 가하게 된다. 또한, 하부 고정 부재(141)는, 인젝터(110)와는 비접촉 상태로 인젝터 지지부(91)의 상면에 고정되어, 인젝터(110)에 하중 부담을 가하지 않도록 구성된다. 따라서, 상부 압박 부재(142)의 U자 형상의 오목 부분(142a)은, 인젝터(110)를 보유 지지하도록 하여 인젝터(110)를 압박하지만, 하부 고정 부재(141)는 인젝터(110)의 외주의 적어도 절반 이상, 더욱 상세하게는 2/3∼3/4 정도를, 3 방향으로부터 근접하여 둘러싸거나 또는 덮도록 배치된다. 단, 하부 고정 부재(141)는 인젝터(110)와 이격되어 배치되기 때문에 인젝터(110)와 결합되지 않지만, 형상 자체는 U자 형상이므로, 인젝터(110)와 결합 가능한 형상을 갖고 있다.The lower fixing member 141 is formed in a U-shape like the upper pressing member 142, and has a shape capable of placing the injector 110 close to the U-shaped concave portion. The lower fixing member 141 may be fixed to the upper surface of the injector supporting portion 91. 3 and 5, the lower fixing member 141 may be fixed to the injector supporting portion 91 using, for example, a screw 145 or the like. 4 (a) and 4 (d), the concave portion 142a, which is a contact point with the U-shaped concave injector 110 of the upper pressing member 142, 141 of the U-shaped concave portion 141a is formed. 5 (a) and 5 (b), at the position where the U-shaped concave portion 142a of the upper pressing member 142 contacts the injector 110, the lower fixing member 141 The U-shaped concave portion 142a of the upper pressing member 142 necessarily comes into contact with the injector 110. [0064] As shown in FIG. Thus, the upper pressing member 142 pushes the injector 110 forward, and applies a pressing force to the inner wall surface 12 of the processing vessel 10. [ The lower fixing member 141 is fixed to the upper surface of the injector supporting portion 91 in a noncontact state with the injector 110 so that the load on the injector 110 is not exerted. The U-shaped concave portion 142a of the upper pressing member 142 presses the injector 110 to hold the injector 110 while the lower fixing member 141 presses the outer periphery of the injector 110 At least about half, more specifically about 2/3 to about 3/4 of the total length, of the first, second, Since the lower fixing member 141 is spaced apart from the injector 110, the lower fixing member 141 does not engage with the injector 110 but has a shape that can be engaged with the injector 110 because the shape itself is U-shaped.

또한, 연결 부재(143)는, 하부 고정 부재(141)와 상부 압박 부재(142)를 연결하는 부재이며, 하부 고정 부재(141)의 고정에 의해, 상부 압박 부재(142)에 전방으로의 압박력을 부여한다. 연결 부재(143)는, 연결 부재(143)가 변형됨으로써 발생하는 탄성력을 상부 압박 부재(142)에 전달할 수 있으면, 그 구성이나 형상은 상관없지만, 도 3 내지 도 5에 도시하는 바와 같이, 예를 들어 복수의 봉상의 형상을 갖고 구성되어도 된다. 봉상의 형상을 가짐으로써, 연결 부재(143)가 변형됨으로써 발생하는 탄성력을 직접적으로 상부 압박 부재(142)에 전달할 수 있다.The connecting member 143 is a member that connects the lower fixing member 141 and the upper pressing member 142. By fixing the lower fixing member 141 to the upper pressing member 142, . The configuration and the shape of the connecting member 143 are not limited as long as they can transmit the elastic force generated by the deformation of the connecting member 143 to the upper pressing member 142. However, as shown in Figs. 3 to 5, And may have a plurality of bar-shaped shapes. By having the shape of a rod-like shape, the elastic force generated by the deformation of the connecting member 143 can be directly transmitted to the upper pressing member 142.

연결 부재(143)는, 탄성을 갖는 것이 바람직하고, 예를 들어 금속으로 구성되어도 된다. 하부 고정 부재(141) 및 상부 압박 부재(142)도, 연결 부재(143)와 마찬가지로 금속으로 구성되어도 된다. 석영관 보유 지지 구조를, 열처리 장치 등의 고온의 장치에 사용하는 경우에는, 열팽창 계수가 작고, 또한 내열성이 우수한 금속을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 열팽창 계수가 작고, 내열성이 우수한 금속으로서는, 예를 들어 하스텔로이를 들 수 있다. 따라서, 홀더(140)는 예를 들어 하스텔로이로 구성되어도 된다. 열처리 장치는, 600℃ 이상에서 처리를 행하는 경우가 많으므로, 열팽창 계수가 높은 금속을 사용하면, 인젝터(110)를 적절하게 고정할 수 없어, 덜걱거림이나 탈리를 발생하는 원인이 된다. 따라서, 홀더(140)는 열팽창 계수가 작은 금속으로 구성하는 것이 바람직하다.The connecting member 143 preferably has elasticity, and may be made of, for example, a metal. The lower fixing member 141 and the upper pressing member 142 may be made of metal in the same manner as the connecting member 143. [ When the quartz tube holding structure is used in a high-temperature apparatus such as a heat treatment apparatus, it is preferable to use a metal having a small thermal expansion coefficient and excellent heat resistance. As a metal having such a small thermal expansion coefficient and excellent heat resistance, for example, Hastelloy can be mentioned. Thus, the holder 140 may be made of, for example, Hastelloy. Since the heat treatment apparatus often performs treatment at a temperature of 600 ° C or higher, if a metal having a high thermal expansion coefficient is used, the injector 110 can not be appropriately fixed, causing rattling or tearing. Therefore, it is preferable that the holder 140 is made of a metal having a small thermal expansion coefficient.

또한, 이러한 고온의 영역에 사용될 수 있는 재료로서, 석영이나 세라믹스도 존재하지만, 탄성이 부족한 경우가 많다. 물론, 어느 정도의 탄성을 갖고, 열팽창률이 작고 내열성이 높은 신소재가 개발되면, 그러한 재료를 적합하게 이용할 수 있다.In addition, although quartz or ceramics exist as materials that can be used in such a high-temperature region, they often lack sufficient elasticity. Of course, when a new material having a certain degree of elasticity, a small coefficient of thermal expansion and a high heat resistance is developed, such a material can be suitably used.

또한, 하부 고정 부재(141), 상부 압박 부재(142) 및 연결 부재(143)끼리의 접합은, 예를 들어 용접에 의해 행해져도 된다.The joining of the lower fixing member 141, the upper pressing member 142, and the connecting members 143 may be performed by, for example, welding.

이러한 열팽창 계수가 작고, 탄성을 갖는 연결 부재(143)를 개재하여 상부 압박 부재(142)와 하부 고정 부재(141)를 연결함으로써, 인젝터(110)의 요동을 방지할 수 있다.By connecting the upper pressing member 142 and the lower fixing member 141 via the connecting member 143 having a small thermal expansion coefficient and elasticity, it is possible to prevent the injector 110 from rocking.

이너 가이드(150)는, 원환상의 부재에 인젝터(110)에 대응한 삽입 구멍(151)이 형성되어 구성된다. 삽입 구멍(151)의 외측에 인젝터(110)를 압박함으로써, 인젝터(110)의 경사 및 요동의 발생을 방지할 수 있다. 또한, 이너 가이드(150)는, 처리 용기(110)의 내벽면(12)에 설치되므로, 처리 용기(110)와 마찬가지로 석영으로 구성하는 것이 바람직하다. 또한, 인젝터(110)가 압박되는 삽입 구멍(151)의 외측의 내주면은, 처리 용기(10)의 내벽면(12)보다 내측으로 융기되어 있지만, 그 융기의 정도는, 인젝터(110)의 배치 등에 따라서 적절하게 정해져도 된다. 인젝터(110)가 처리 용기(10)의 내벽면(12)에 근접하고 있는 경우에는, 내벽면(12)과 대략 동일면으로 되도록 구성되어도 된다.The inner guide 150 has an annular member formed with an insertion hole 151 corresponding to the injector 110 formed therein. It is possible to prevent the injector 110 from tilting and rocking by pressing the injector 110 against the outside of the insertion hole 151. [ Since the inner guide 150 is provided on the inner wall surface 12 of the processing vessel 110, it is preferable that the inner guide 150 is made of quartz like the processing vessel 110. The inner peripheral surface of the outer side of the insertion hole 151 to which the injector 110 is pushed is inwardly protruded inward from the inner wall surface 12 of the processing container 10, Or the like. The injector 110 may be configured so as to be substantially flush with the inner wall surface 12 when the injector 110 is close to the inner wall surface 12 of the processing vessel 10. [

도 4의 (a), (b), (d)에 도시되는 바와 같이, 하부 고정 부재(141)와 상부 압박 부재(142)는, 모두 중심 부분에 U자 형상의 오목 부분(141a, 142a)을 갖고, 양 외측이 연결 부재(143)에 의해 연결되어 있다. 그리고, 도 4의 (a), (d)에 도시되는 바와 같이, 상부 압박 부재(142)의 U자 형상의 오목 부분(142a)의 쪽이, 하부 고정 부재(141)의 U자 형상의 오목 부분(141a)보다 전방으로 나와 있는 것을 알 수 있다. 구체적으로는, U자 형상의 오목 부분(141a, 142a)의 수평 방향에 있어서의 어긋남량 X는 수 ㎜ 정도로 설정되는 것이 바람직하고, 제1 실시 형태에 있어서는 1.5㎜이다. 또한, 하부 고정 부재(141)와 상부 압박 부재(142) 사이의 연결 부재(143)의 길이 Y는 수십 ㎜로 설정되는 것이 바람직하고, 제1 실시 형태에 있어서는 50㎜이다. 홀더(140)의 재질이 하스텔로이인 경우, 하부 고정 부재(141)를 인젝터 지지부(91)에 고정함으로써 얻어지는 상부 압박 부재(142)의 압박력은 약 3.0Nm이다.As shown in Figs. 4A, 4B and 4D, the lower fixing member 141 and the upper pressing member 142 are each formed with U-shaped concave portions 141a, 142a at the central portion, And both outer sides thereof are connected to each other by a connecting member 143. As shown in Figs. 4A and 4D, the U-shaped concave portion 142a of the upper pressing member 142 is positioned in the U-shaped concave portion 142a of the lower fixing member 141, It is seen that the portion 141a is forward. Specifically, the shift amount X of the U-shaped concave portions 141a and 142a in the horizontal direction is preferably set to about several millimeters, and is 1.5 millimeters in the first embodiment. The length Y of the connecting member 143 between the lower fixing member 141 and the upper pressing member 142 is preferably set to several tens mm and is 50 mm in the first embodiment. When the material of the holder 140 is Hastelloy, the pressing force of the upper pressing member 142 obtained by fixing the lower fixing member 141 to the injector supporting portion 91 is about 3.0 Nm.

또한, 도 4의 (c)에 도시되는 바와 같이, 하부 고정 부재(141)에는, 나사(145)와 나사 결합 가능한 나사 구멍(144)이 형성되어 있다.4 (c), the lower fixing member 141 is formed with a screw hole 144 that can be screwed with the screw 145. [0064] As shown in Fig.

또한, 도 4의 (a)에 도시되는 바와 같이, 상부 압박 부재(142)의 U자 형상의 내주면은 전체가 둥글게 곡선적으로 구성되어 있지만, 하부 고정 부재(141)의 U자 형상의 양측의 내주면의 일부에는, 직선적인 형상을 갖는 직선부(141b)가 형성되어 있다. 이것은, 인젝터(110)의 하부에 하부 고정 부재(141)와 결합 가능한 평탄면이 형성되어, 탈리 방지 구조를 구성하고 있기 때문이다. 여기서, 직선부(141b)의 길이, 즉, 직선부(141b)의 안쪽의 길이는, 인젝터(110)의 직경의 크기보다 짧다. 직선부(141b)는, 인젝터(110)의 평탄면과 대향할 수 있는 범위에 설치되어 있으면 충분하기 때문이다. 또한, 직선부(141b)는, 인젝터(110)의 평탄면과 결합 가능한 형상을 갖지만, 하부 고정 부재(141)의 고정 시에는, 인젝터(110)의 평탄면과 접촉하지 않고, 대향하고 있는 상태이다. 이 점의 상세에 대해는 후술한다.4A, the U-shaped inner peripheral surface of the upper pressing member 142 is entirely curved. However, the U-shaped inner peripheral surface of the upper pressing member 142 may be curved A straight portion 141b having a linear shape is formed in a part of the inner peripheral surface. This is because a flat surface that can be engaged with the lower fixing member 141 is formed in the lower portion of the injector 110 to constitute a desorption preventing structure. Here, the length of the straight portion 141b, that is, the length of the inside of the straight portion 141b is shorter than the diameter of the injector 110. [ This is because it is sufficient that the straight portion 141b is provided in a range that can face the flat surface of the injector 110. [ The rectilinear section 141b has a shape that can engage with the flat surface of the injector 110. When the lower fixing member 141 is fixed, the rectilinear section 141b does not contact the flat surface of the injector 110, to be. Details of this point will be described later.

도 5의 (a)는, 홀더(140)를 인젝터(110)에 끼워 맞춤시키고, 인젝터 지지부(91)의 상면에 나사(145)로 가고정한 상태를 도시하고 있다. 또한, 도 5의 (a)에서는, 나사(145)에 의해 홀더(140)가 가고정되어 있지만, 인젝터(110)가 하방으로 탈락되지 않으면, 나사(145)가 없어도 작업적으로는 문제 없다.5A shows a state in which the holder 140 is fitted to the injector 110 and fixed to the upper surface of the injector support portion 91 with screws 145. [ 5A, although the holder 140 is fixed by the screw 145, there is no problem in operation even if the screw 145 is not provided unless the injector 110 is dropped downward.

도 5의 (b)는, 나사(145)를 고정한 상태를 나타내고 있다. 나사(145)에 의해 홀더(140)의 하부 고정 부재(141)를 인젝터 지지부(91)의 상면에 고정하면, 힘 F1이 하부 고정 부재(141)에 가해진 상태로 되어, 하부 고정 부재(141)의 저면이 인젝터 지지부(91)의 상면에 밀착한다. 상부 압박 부재(142)는, 인젝터(110)에 접촉하고 있어 이동할 수 없으므로, 힘 F2가 가해져, 연결 부재(143)가 배면측으로 휘도록 변형된다. 이 연결 부재(143)의 변형에 수반하여, 전방 방향(처리 용기(10)의 내벽면(12) 방향)으로의 탄성력 F3이 발생하고, 상부 압박 부재(142)에는 전방 방향의 압박력 F4가 가해진다. 이와 같이 하여, 상부 압박 부재(142)의 압박력 F4에 의해, 인젝터(110)를 고정할 수 있다.5 (b) shows a state in which the screw 145 is fixed. When the lower fixing member 141 of the holder 140 is fixed to the upper surface of the injector supporting portion 91 by the screw 145, the force F1 is applied to the lower fixing member 141, Is in close contact with the upper surface of the injector supporting portion 91. Since the upper pressing member 142 is in contact with the injector 110 and can not move, the force F2 is applied, and the connecting member 143 is deformed to bend toward the back side. The elastic force F3 in the forward direction (in the direction of the inner wall surface 12 of the processing container 10) is generated as the connecting member 143 is deformed and the pressing force F4 in the forward direction is applied to the upper pressing member 142 All. In this way, the injector 110 can be fixed by the urging force F4 of the upper pressing member 142. [

도 6은, 인젝터(110) 및 하부 고정 부재(141)의 탈리 방지 구조의 일례를 도시한 단면도이다. 또한, 도 6은, 인젝터 지지부(91)의 주위 방향을 따른 단면을 도시하고 있다. 도 6에 도시되는 바와 같이, 인젝터(110)의 하부의 인젝터 지지부(91)의 바로 위의 위치의 소정 개소에는, 원통형의 외주가 깎여 평탄면(111)이 형성된다. 평탄면(111)은, 처리 용기(10)의 반경 방향을 따라 반대측끼리 2면 형성되고, 평행면을 형성하고 있다. 이 평탄면(111)이 하부 고정 부재(141)의 U자 형상 부분의 내주면의 직선부(141b)와 결합되어, 인젝터(110)의 회전을 방지하는 회전 방지부로서 기능함과 함께, 탈리를 방지하는 탈리 방지 구조로서 기능한다. 또한, 인젝터(110)의 외주면과 하부 고정 부재(141)의 U자 형상 부분의 내주면 사이, 및 인젝터(110)의 평탄면(111)의 하단부로부터 수평 방향으로 연장되는 하부 수평면(도 6의 "D"로 나타내어지는 부분)과 하부 고정 부재(141)의 저면 사이에는 클리어런스가 마련되어 있어, 하부 고정 부재(141)를 인젝터 지지부(91)에 나사 고정해도 접촉하는 일은 없다. 이에 의해, 하부 고정 부재(141)가 금속이라도, 석영관이 파손되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 인젝터(110)의 평탄면(111)보다 아래의 부분은, 인젝터(110)의 직경보다 약간 큰 대직경부를 갖는 것이 바람직하다. 이 대직경부는, 인젝터 지지부(91)의 삽입 구멍(92)과 대략 동일 직경으로 설정되는데, 인젝터의 직경이 대직경부와 동일한 치수인 경우, 인젝터(110)를 설치할 때에 삽입 구멍(92)에 간섭해 버리기 때문이다.6 is a cross-sectional view showing an example of the disengagement preventing structure of the injector 110 and the lower fixing member 141. As shown in Fig. 6 shows a cross section along the circumferential direction of the injector supporting portion 91. As shown in Fig. As shown in Fig. 6, a cylindrical outer periphery is cut off at a predetermined position in a position directly above the injector supporting portion 91 at the lower portion of the injector 110 to form a flat surface 111. [ The flat surfaces 111 are formed on two sides of the opposite sides of the processing vessel 10 along the radial direction, and form parallel surfaces. The flat surface 111 is engaged with the straight portion 141b of the inner circumferential surface of the U-shaped portion of the lower fixing member 141 to serve as a rotation preventing portion for preventing the rotation of the injector 110, As shown in Fig. 6) extending horizontally from the outer peripheral surface of the injector 110 to the inner peripheral surface of the U-shaped portion of the lower fixing member 141 and from the lower end of the flat surface 111 of the injector 110, D ") and the bottom surface of the lower fixing member 141, there is no clear contact even when the lower fixing member 141 is screwed to the injector supporting portion 91. Thereby, even if the lower fixing member 141 is made of metal, it is possible to prevent the quartz tube from being broken. It is preferable that the portion of the injector 110 below the flat surface 111 has a larger diameter portion that is slightly larger than the diameter of the injector 110. [ The diameter of the large diameter portion is set to be substantially the same as the diameter of the insertion hole 92 of the injector supporting portion 91. When the diameter of the injector is the same as the diameter of the large diameter portion, I do it.

다음으로, 도 7을 이용하여 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조에 있어서의 인젝터(110)의 설치 방법에 대해 설명한다. 도 7은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조에 있어서의 인젝터(110)의 설치 방법의 일례를 도시한 도면이다.Next, a method of installing the injector 110 in the quartz tube holding structure according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to Fig. 7 is a view showing an example of a method of installing the injector 110 in the quartz tube holding structure according to the first embodiment of the present invention.

도 7의 (a)는, 인젝터 삽입 공정의 일례를 도시한 도면이다. 인젝터 삽입 공정에 있어서는, 인젝터(110)가 인젝터 지지부(91)의 삽입 구멍(92)에 삽입되고, 상부에서는, 인젝터(110)의 상단부가 이너 가이드(150)의 삽입 구멍(151)에 삽입된다. 그때, 인젝터(110)는, 평탄면(111)이 주위 방향을 따라 배치되도록 한다.7A is a view showing an example of an injector inserting step. In the injector inserting process, the injector 110 is inserted into the insertion hole 92 of the injector support portion 91, and the upper end of the injector 110 is inserted into the insertion hole 151 of the inner guide 150 . At this time, the injector 110 causes the flat surface 111 to be disposed along the circumferential direction.

도 7의 (b)는, 홀더 설치 공정의 일례를 도시한 도면이다. 홀더 설치 공정에서는, 홀더(140)가 인젝터(110)와 결합되도록 설치된다. 즉, 하부 고정 부재(141) 및 상부 압박 부재(142)의 U자 형상 부분을 인젝터(110)에 끼워 넣는다. 그때, 하부 고정 부재(141)의 직선부(141b)가 인젝터(110)의 평탄면(111)과 결합되도록 위치 정렬을 행한다. 또한, 나사 구멍(144)에 나사(145)를 삽입하여, 인젝터(110)의 상단부와 이너 가이드(150)의 삽입 구멍(151)의 접촉면에 큰 하중이 가해지지 않을 정도로 나사(145)를 가고정하는 것이 바람직하다. 이 상태에 있어서, 상부 압박 부재(142)의 U자 형상의 오목 부분(142a)은 인젝터(110)의 외면에 접촉하지만, 하부 고정 부재(141)의 U자 형상의 오목 부분(141a)은 인젝터(110)의 외면에 접촉하지 않는다. 인젝터(110)의 평탄면(111)의 상단으로부터 수평 방향으로 연장되는 상부 수평면(도 6의 "U"로 나타내어지는 부분)은 하부 고정 부재(141)의 상면에 의해 지지되므로, 인젝터(110)가 하방으로 탈락되는 일은 없다.7B is a view showing an example of a holder installing step. In the holder mounting step, a holder 140 is installed to be coupled with the injector 110. That is, the U-shaped portions of the lower fixing member 141 and the upper pressing member 142 are inserted into the injector 110. At this time, alignment is performed so that the straight portion 141b of the lower fixing member 141 is engaged with the flat surface 111 of the injector 110. [ The screw 145 is inserted into the screw hole 144 and the screw 145 is pushed so that a large load is not applied to the contact surface between the upper end of the injector 110 and the insertion hole 151 of the inner guide 150 . In this state, the U-shaped concave portion 142a of the upper pressing member 142 contacts the outer surface of the injector 110, but the U-shaped concave portion 141a of the lower fixing member 141 is in contact with the injector 110, (Not shown). Since the upper horizontal surface (the portion indicated by "U" in FIG. 6) extending in the horizontal direction from the upper end of the flat surface 111 of the injector 110 is supported by the upper surface of the lower fixing member 141, Is not dropped downward.

도 7의 (c)는, 인젝터 설치 공정의 일례를 도시한 도면이다. 인젝터 설치 공정에 있어서는, 삽입 구멍(92)의 하단부에 플러그(원형 부재)가 끼움 삽입되어, 삽입 구멍(92)의 하단부가 폐색된다. 이에 의해, 인젝터(110)의 하단부가 플러그(102) 상에 적재되어 지지된 상태로 되고, 인젝터 지지부(91)에 형성된 가스 도입부(95)의 가스 도입로(96)와 인젝터(110)의 하방에 형성된 개구(112)가 연통된다. 그 다음에 나사(145)를 고정한다. 나사로 고정하면, 하부 고정 부재(141)의 저면이 인젝터 지지부(91)의 상면에 밀착되는 동시에 연결 부재(143)가 변형되고, 상부 압박 부재(142)에는 처리 용기(10)의 내벽면(12)을 향하는 압박력 F4가 발생하여 인젝터(110)를 보유 지지한다. 또한, 인젝터(110)의 고정 원리는, 도 5에서 설명한 바와 같다.7C is a diagram showing an example of the injector installing process. In the injector installing process, a plug (circular member) is inserted into the lower end of the insertion hole 92, and the lower end of the insertion hole 92 is closed. As a result, the lower end of the injector 110 is supported on the plug 102 and supported by the gas introducing path 96 of the gas introducing portion 95 formed in the injector supporting portion 91, The openings 112 formed in the openings are communicated with each other. Then, the screw 145 is fixed. The lower surface of the lower fixing member 141 is brought into close contact with the upper surface of the injector supporting portion 91 and the connecting member 143 is deformed while the upper pressing member 142 is fitted with the inner wall surface 12 And the injector 110 is held. The principle of fixing the injector 110 is the same as that described with reference to Fig.

예를 들어, 이와 같이 하여, 인젝터(110)는 처리 용기(10) 내에 설치된다.For example, in this way, the injector 110 is installed in the processing vessel 10.

도 8은, 설치된 인젝터(110) 및 홀더(140)의 일례를 도시한 측단면도이다. 도 8에 도시되는 바와 같이, 상부 압박 부재(142)보다 하부 고정 부재(141)의 쪽이 전후의 길이가 길어, 고정 부재로서의 기능을 행하고, 상부 압박 부재(142)는 전방으로 압박력을 가하는 배면만이 인젝터(110)보다 후방에 있고, 압박의 역할을 갖지 않는 전방은, 인젝터(110)보다 전방에 도달해 있지 않고, 최소한의 사이즈로 구성되어 있다. 이와 같이, 부품 개수도 적고, 간소하게 구성되어 있으므로, 인접하는 인젝터(110)끼리의 간격이 좁은 경우라도, 서로 간섭하는 일 없이 설치할 수 있다.8 is a side cross-sectional view showing an example of the injector 110 and the holder 140 installed. 8, the lower fixing member 141 is longer in length than the upper pressing member 142, and functions as a fixing member. The upper pressing member 142 has a back surface Only the injector 110 is located rearward of the injector 110 and the forward portion of the injector 110 does not reach the injector 110 in front of the injector 110 and has a minimum size. As described above, since the number of parts is small and the configuration is simple, even when the intervals between adjacent injectors 110 are narrow, they can be installed without interfering with each other.

도 9는, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치의 지지점을 설명하기 위한 도면이다. 도 9에 있어서, 인젝터(110)가 홀더(140)를 사용하여 고정되어 있을 때에 있어서의 인젝터(110)의 지지점 S1∼S3이 나타나 있다. 지지점 S1은, 인젝터 지지부(91)의 삽입 구멍(92)의 외측의 면이다. 그리고, 지지점 S2는, 홀더(140)의 상부 압박 부재(142)의 U자 형상의 오목 부분(142a)이다. 지지점 S3은, 이너 가이드(150)의 삽입 구멍(151)의 외측 부분이다. 이와 같이, 인젝터(110)의 상단부 및 하단부를 외측으로부터 지지점 S1, S3으로 지지하고, 인젝터(110)의 하부를 내측으로부터 지지점 S2로 지지하여, 3점 지지로, 플러그(102) 상에 적재된 인젝터(110)를 고정하여 보유 지지하고 있다. 더욱 상세하게는, 지지점 S2에서 내측으로부터 외측을 향해 압박력을 가하고, 상단부 및 하단부의 지지점 S1, S3에서 그 압박력을 받아, 인젝터(110)의 양측으로부터 끼우도록 하여 고정하고 있다.Fig. 9 is a view for explaining support points of the quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention. Fig. 9, support points S1 to S3 of the injector 110 when the injector 110 is fixed using the holder 140 are shown. The supporting point S1 is the surface outside the insertion hole 92 of the injector supporting portion 91. [ The supporting point S2 is a U-shaped concave portion 142a of the upper pressing member 142 of the holder 140. [ The supporting point S3 is an outer portion of the insertion hole 151 of the inner guide 150. [ As described above, the upper end and the lower end of the injector 110 are supported from the outside by the supporting points S1 and S3, the lower portion of the injector 110 is supported from the inside by the supporting point S2, And the injector 110 is fixed and held. More specifically, a pressing force is applied from the inside to the outside at the supporting point S2, and the pressing force is applied at the supporting points S1 and S3 at the upper and lower ends, and is fixed so as to be sandwiched from both sides of the injector 110.

또한, 도 9에 있어서, 홀더(140)의 하부 고정 부재(141)는, 홀더(140)의 하부 고정 부재(141)의 저면과 인젝터(110)의 평탄면(111)의 하단부로부터 수평 방향으로 연장되는 하부 수평면(도 6의 "D"로 나타내어지는 부분) 사이에 간극 G1을 갖고 고정되어 있는 것이 도시되어 있다. 이에 의해, 인젝터(110)와 하부 고정 부재(141)가 접촉하여 인젝터(110)가 파손되는 것을 방지할 수 있다.9, the lower fixing member 141 of the holder 140 is moved in the horizontal direction from the bottom surface of the lower fixing member 141 of the holder 140 and the lower end of the flat surface 111 of the injector 110 And a gap G1 is provided between the lower horizontal surface (the portion indicated by "D" in Fig. 6) extending therefrom. Thus, the injector 110 and the lower fixing member 141 are in contact with each other, thereby preventing the injector 110 from being damaged.

도 10은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치의 인젝터 설치 상태의 일례를 도시한 도면이다. 도 10에 도시되는 바와 같이, 세로로 긴 가느다란 인젝터(110)가, 이너 가이드(150), 인젝터 지지부(91)의 삽입 구멍(92) 및 홀더(140)라고 하는 최소한의 지지점에서 고정되어 있는 상태가 나타나 있어, 본 실시 형태에 관한 석영 보유 지지 구조가 어떻게 간소화된 것인지가 나타나 있다. 또한, 인젝터(110)의 일부를 파지하는 구성이 아니라, 안정된 적은 지지점 S1∼S3에 압박하는 구조이므로, 이들 지지점 S1∼S3에 변형 등이 발생하지 않는 한, 요동, 경사 및 탈리 없이 확실하게 인젝터(110)를 보유 지지할 수 있다.Fig. 10 is a diagram showing an example of the injector mounting state of the quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention. Fig. 10, the longitudinally elongated injector 110 is fixed at a minimum support point called the inner guide 150, the insertion hole 92 of the injector support 91, and the holder 140 State is shown, showing how the quartz holding structure according to the present embodiment is simplified. Further, since the structure is not a structure for gripping a part of the injector 110 but a structure for pushing the stable small portion to the support points S1 to S3, as long as the support points S1 to S3 are not deformed, (Not shown).

도 11은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조에서 3개의 인젝터(110)를 고정한 상태를 도시한 도면이다. 도 11에 도시되는 바와 같이, 3개의 인젝터(110)가 매우 좁은 간격으로 배치되어 있다. 이와 같이, 본 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조에 따르면, 홀더(140)가 매우 간소하게 구성되어 있으므로, 인젝터(110)끼리의 간격이 좁은 경우에도 적용 가능하며, 적용 범위가 크다.11 is a view showing a state in which three injectors 110 are fixed in the quartz tube holding structure according to the first embodiment of the present invention. As shown in Fig. 11, three injectors 110 are disposed at very narrow intervals. As described above, according to the quartz tube holding structure according to the present embodiment, since the holder 140 is very simple, it can be applied to a case where the intervals between the injectors 110 are narrow, and the application range is large.

도 12는, 도 11에 대응한 3개의 인젝터(110)의 상부의 지지 구조를 도시한 도면이다. 인젝터(110)의 상단부에 있어서도, 이너 가이드(150)를 사용하여 콤팩트하게 인젝터(110)를 배치 고정할 수 있는 구성으로 되어 있다.Fig. 12 is a view showing a supporting structure of the upper portion of three injectors 110 corresponding to Fig. The injector 110 can be arranged and fixed compactly at the upper end portion of the injector 110 by using the inner guide 150. [

이와 같이, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치에 따르면, 간소한 구조이면서, 고온 하에서 사용되어도 요동, 경사, 탈리 및 파손을 발생시키는 일 없이 석영관을 보유 지지할 수 있다.As described above, according to the quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention, the quartz tube can be held without being subjected to rocking, tilting, tearing and breakage even if it is used under a high temperature, .

〔제2 실시 형태〕[Second embodiment]

도 13은, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치의 일례를 도시한 도면이다. 제2 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치는, 처리 용기(10)의 상부에 있어서 이너 가이드(150)가 설치되어 있지 않고, 인젝터(110)를 처리 용기(10)의 내벽면(12)으로 지지하고 있는 점이 상이하다. 그 밖의 구성에 대해서는, 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치와 마찬가지이므로, 대응하는 구성 요소에는 동일한 참조 부호를 부여하고 그 설명을 생략한다.13 is a diagram showing an example of a quartz tube holding structure and a heat treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention. The quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus according to the second embodiment are different from the quartz tube holding structure and heat treatment apparatus according to the second embodiment in that the inner guide 150 is not provided at the upper part of the processing vessel 10, 12). The other constitution is the same as that of the quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus according to the first embodiment, and therefore corresponding components are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

도 13에 도시되는 바와 같이, 지지점 S1, S2는, 제1 실시 형태와 완전히 마찬가지이다. 한편, 인젝터(110)의 상단부의 지지점 S30은, 처리 용기(10)의 내벽면(12)으로 되어 있다. 제2 실시 형태에 있어서는, 이너 가이드(150)를 설치하지 않고, 인젝터(110)의 상부를 직접 처리 용기(10)의 내벽면(12)에 접촉시키고 있다. 이너 가이드(150)를 설치하지 않음으로써, 인젝터(110)는 약간 외측으로 경사지지만, 인젝터(110)와 내벽면(12) 사이의 클리어런스는 수 ㎜ 정도이고, 2∼3㎜ 전후로 설정되는 경우가 많으므로, 1500㎜ 이상의 길이를 갖는 인젝터(110)에서는, 거의 무시할 수 있는 경사가 되어, 프로세스에 전혀 악영향을 미치지 않는다.As shown in Fig. 13, the supporting points S1 and S2 are completely the same as those in the first embodiment. On the other hand, the fulcrum S30 at the upper end of the injector 110 is the inner wall surface 12 of the processing vessel 10. In the second embodiment, the upper portion of the injector 110 is directly brought into contact with the inner wall surface 12 of the processing container 10 without providing the inner guide 150. The injector 110 is slightly inclined to the outside by not providing the inner guide 150 but the clearance between the injector 110 and the inner wall surface 12 is about several millimeters and is set to about 2 to 3 mm The injector 110 having a length of 1500 mm or more has a slope that can be ignored, and does not adversely affect the process at all.

따라서, 제2 실시 형태와 같이, 이너 가이드(150)를 설치하지 않고, 인젝터(110)의 상단부의 소정 개소를 처리 용기(10)의 내벽면(12)에 직접 압박하는 구성이어도 된다.The inner guide 150 may not be provided and a predetermined portion of the upper end of the injector 110 may be directly pressed against the inner wall surface 12 of the processing vessel 10 as in the second embodiment.

또한, 홀더(140)의 하부 고정 부재(141)의 저면과 인젝터(110)의 평탄면(111)의 하단부로부터 수평 방향으로 연장되는 하부 수평부(도 6의 "D"로 나타내어지는 부분) 사이에 간극 G1이 형성되어 있는 점은, 제1 실시 형태와 마찬가지이다.Between the bottom surface of the lower fixing member 141 of the holder 140 and the lower horizontal portion extending from the lower end of the flat surface 111 of the injector 110 in the horizontal direction And the gap G1 is formed in the gap G1.

그 밖의 구성은, 제1 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치와 마찬가지이므로, 그 설명을 생략한다.Other configurations are the same as those of the quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus according to the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

도 14는, 제2 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치의 인젝터 설치 상태의 일례를 도시한 도면이다. 도 14에 도시되는 바와 같이, 인젝터(110)의 상단부에 있어서는, 처리 용기(10)의 내벽면(12)에 지지되어 있지만, 내벽면(12)과 인젝터(110)의 클리어런스는 매우 작으므로, 인젝터(110)의 경사는 거의 무시할 수 있어, 연직으로 서 있는 것과 거의 동등하다. 따라서, 프로세스에 전혀 악영향을 미치는 일은 없어, 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치에 아무런 문제없이 적용 가능하다.14 is a diagram showing an example of the injector mounting state of the quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus according to the second embodiment. 14, the upper end of the injector 110 is supported by the inner wall surface 12 of the processing vessel 10, but the clearance between the inner wall surface 12 and the injector 110 is very small, The inclination of the injector 110 is almost negligible and is almost equal to standing vertically. Therefore, there is no adverse effect on the process at all, and it can be applied to the quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus without any problem.

이와 같이, 제2 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치에 따르면, 더욱 간소한 구조로, 부품 개수를 저감시켜 인젝터(110)를 지지할 수 있어, 구조의 더 한층의 간소화 및 비용의 저감을 도모할 수 있다.Thus, according to the quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus of the second embodiment, it is possible to support the injector 110 by reducing the number of parts with a simpler structure, and further simplifying the structure and reducing the cost Reduction can be achieved.

〔제3 실시 형태〕[Third embodiment]

도 15는, 본 발명의 제3 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치의 일례를 도시한 측단면도이다. 도 15에 도시되는 바와 같이, 제3 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조에서는, 석영관인 인젝터(115)가, 하단부에 수평 부분(115b)을 갖는 L자 형상으로 구성되어 있다. 인젝터(115)는, 하단부에 있어서 인젝터 지지부(97)를 수평으로 관통하고, 처리 용기(10)의 내부에서 연직부(115a)가 수직으로 상방으로 연장되어 있는 구성을 갖는다. 그리고, 인젝터 지지부(97)의 상면에 홀더(140)를 설치하여, L자 형상의 인젝터(115)를 고정할 수 있다. 이와 같이, 홀더(140)는 L자형의 인젝터(115)에도 마찬가지로 사용할 수 있다. 홀더(140)의 설치에 의해, 인젝터(115)는, 처리 용기(10)의 내벽면(12)을 향하는 압박력을 받아, 제1 및 제2 실시 형태와 마찬가지로 인젝터(115)를 고정할 수 있다.15 is a side cross-sectional view showing an example of a quartz tube holding structure and a heat treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention. As shown in Fig. 15, in the quartz tube holding structure according to the third embodiment, the injector 115, which is a quartz tube, is formed in an L shape having a horizontal portion 115b at a lower end portion. The injector 115 horizontally penetrates the injector support portion 97 at the lower end and has a vertically upwardly extending vertical portion 115a inside the processing vessel 10. [ The L-shaped injector 115 can be fixed by providing a holder 140 on the upper surface of the injector supporting portion 97. As described above, the holder 140 can be used for the L-shaped injector 115 as well. The injector 115 can receive the urging force toward the inner wall surface 12 of the processing container 10 and fix the injector 115 in the same manner as in the first and second embodiments .

도 16은, 제3 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조의 홀더(140)의 설치 방법의 일례를 도시한 도면이다. 도 16의 (a)는, 홀더(140)의 설치 전의 인젝터(115)의 상태를 도시한 도면이고, 도 16의 (b)는, 홀더(140)의 설치 후의 인젝터(115)의 상태를 도시한 도면이다.16 is a diagram showing an example of a method of installing the holder 140 of the quartz tube holding structure according to the third embodiment. 16A is a view showing the state of the injector 115 before the holder 140 is installed and FIG. 16B is a view showing the state of the injector 115 after the holder 140 is installed Fig.

도 16의 (a), (b)에 도시되는 바와 같이, 인젝터 지지부(97)의 상면에, 내측으로부터 외측을 향해 하부 고정 부재(141) 및 상부 압박 부재(142)를 인젝터(115)에 끼워 넣고, 하부 고정 부재(141)를 나사 고정함으로써, 인젝터(115)를 외측으로 압박하여 고정할 수 있다.The lower fixing member 141 and the upper pressing member 142 are inserted into the injector 115 from the inner side to the outer side on the upper surface of the injector supporting portion 97 as shown in Figures 16 (a) and 16 (b) And the lower fixing member 141 is screwed, so that the injector 115 can be pressed and fixed to the outside.

또한, 인젝터(115)의 상단부의 고정 방법은, 제1 실시 형태와 같이, 이너 가이드(150)를 설치하여 삽입 구멍(151)에 삽입하여 고정하는 구성이어도 되고, 제2 실시 형태와 같이, 단순히 처리 용기(10)의 내벽면(12)에 압박하는 구성이어도 된다.The upper end portion of the injector 115 may be fixed by inserting the inner guide 150 into the insertion hole 151 and fixing the inner guide 150 as in the first embodiment. It may be configured to be pressed against the inner wall surface 12 of the processing vessel 10.

도 17은, 제3 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조에 있어서 외측으로부터 인젝터(115) 및 홀더(140)를 도시한 사시도이다. 내측으로부터 외측을 향해 인젝터(115)를 상부 압박 부재(142)가 압박하여, 고정하는 점은, 제1 및 제2 실시 형태와 마찬가지이다.17 is a perspective view showing the injector 115 and the holder 140 from the outside in the quartz tube holding structure according to the third embodiment. The point that the upper pushing member 142 presses and fixes the injector 115 from the inside toward the outside is the same as in the first and second embodiments.

이와 같이, 홀더(140)는 다양한 석영관에 이용할 수 있어, 다양한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치를 구성할 수 있다.Thus, the holder 140 can be used in various quartz tubes, and can constitute various quartz tube holding structures and heat treatment apparatuses.

또한, 제1 내지 제3 실시 형태에서는, 석영관을 인젝터(110, 115)로서 구성하는 예를 들어 설명하였지만, 석영관이 열전대로서 구성되어 있는 경우 등, 다양한 석영관에 본 발명의 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조를 적용할 수 있다.In the first to third embodiments, examples in which the quartz tube is configured as the injectors 110 and 115 have been described. However, in the case where the quartz tube is configured as a thermocouple, A quartz tube holding structure can be applied.

본 발명의 실시 형태에 관한 석영관 보유 지지 구조 및 열처리 장치에 따르면, 고온의 조건 하에 있어서도, 석영관을 간소한 구조로, 요동, 경사, 탈리 및 파손 없이 확실하게 보유 지지할 수 있다. 또한, 압박력 발생구인 홀더(140)를 매우 소형으로 구성할 수 있으므로, 인젝터(110, 115)끼리의 간격이 좁은 경우라도, 적합하게 적용할 수 있다.According to the quartz tube holding structure and the heat treatment apparatus according to the embodiment of the present invention, even under high temperature conditions, the quartz tube can be reliably held with a simple structure without rocking, inclining, tearing, and breakage. Further, since the holder 140, which is a pressing force generating mechanism, can be configured to be very small, it can be suitably applied even when the intervals between the injectors 110 and 115 are narrow.

이상, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대해 상세하게 설명하였지만, 본 발명은, 상술한 실시 형태에 제한되는 일은 없고, 본 발명의 범위를 일탈하는 일 없이, 상술한 실시 형태에 다양한 변형 및 치환을 가할 수 있다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and substitutions may be made without departing from the scope of the present invention. .

10 : 처리 용기
12 : 내벽면
40 : 가열 수단
91, 97 : 인젝터 지지부
92 : 삽입 구멍
102 : 플러그
110, 115 : 인젝터
111 : 평탄면
140 : 홀더
141 : 하부 고정 부재
141a, 142a : 오목 형상 부분
141b : 직선부
142 : 상부 압박 부재
143 : 연결 부재
144 : 나사 구멍
145 : 나사
150 : 이너 가이드
151 : 삽입 구멍10: Processing vessel
12: My wall
40: Heating means
91, 97: injector supporting portion
92: Insertion hole
102: Plug
110, 115: injector
111: flat surface
140: Holder
141: Lower fixing member
141a, 142a:
141b:
142: upper pressing member
143:
144: screw hole
145: Screw
150: Inner guide
151: insertion hole

Claims (19)

세로로 긴 처리 용기와,
당해 처리 용기의 내벽면의 길이 방향을 따라, 적어도 당해 처리 용기의 하부에 있어서 상기 내벽면과 간격을 갖고 설치된 석영관과,
당해 석영관을 하방으로부터 지지하는 지지 부재와,
상기 처리 용기의 하부에 있어서, 상기 석영관에 내측으로부터 상기 내벽면을 향하는 압박력을 가하여 상기 석영관을 고정하는 압박력 발생구를 갖는, 석영관 보유 지지 구조.A vertically long processing vessel,
A quartz tube disposed along the longitudinal direction of the inner wall surface of the processing vessel and spaced apart from the inner wall surface at least in a lower portion of the processing vessel;
A support member for supporting the quartz tube from below,
And a pressing force generating means for applying a pressing force from the inside to the inside wall surface to fix the quartz tube at the lower portion of the processing vessel. 제1항에 있어서,
상기 석영관의 상단 부근은, 상기 처리 용기의 상기 내벽면 또는 당해 내벽면보다 내측으로 융기한 받침면과 접촉하고 있는, 석영관 보유 지지 구조.The method according to claim 1,
Wherein the vicinity of the upper end of the quartz tube is in contact with the inner wall surface of the processing vessel or a supporting surface protruding inwardly from the inner wall surface of the quartz tube. 제2항에 있어서,
상기 석영관의 상단 부근은, 삽입 구멍에 삽입된 상태에서 상기 받침면과 접촉하고 있는, 석영관 보유 지지 구조.3. The method of claim 2,
And the vicinity of the upper end of the quartz tube is in contact with the supporting surface in a state of being inserted into the insertion hole. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 압박력 발생구는, 상기 지지 부재보다 상방에 설치되는, 석영관 보유 지지 구조.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the pressing force generating portion is provided above the supporting member. 제4항에 있어서,
상기 압박력 발생구는, 상기 지지 부재의 상면에 고정되어 설치된, 석영관 보유 지지 구조.5. The method of claim 4,
Wherein the pressing force generating member is fixed to the upper surface of the supporting member. 제5항에 있어서,
상기 압박력 발생구는, 상기 석영관의 외주의 절반 이상을 포위 가능한 형상을 갖고 하측에 설치된 하측 고정 부재와, 상기 석영관을 압박 가능한 형상을 갖고 상측에 설치된 상측 압박 부재와, 상기 하측 고정 부재와 상기 상측 압박 부재를 연결하는 연결 부재를 갖고,
상기 하측 고정 부재를 상기 지지 부재의 상면에 고정하였을 때, 상기 연결 부재에 의해 상기 상측 압박 부재를 상기 처리 용기의 상기 내벽면을 향하게 하는 탄성력이 작용하여, 상기 상측 압박 부재에 의해 상기 석영관에 상기 압박력이 가해지는, 석영관 보유 지지 구조.6. The method of claim 5,
Wherein the pressing force generating member includes a lower fixing member having a shape capable of surrounding at least half of the outer periphery of the quartz tube and provided on a lower side thereof, an upper pressing member having a shape capable of pressing the quartz tube and provided on the upper side, And a connecting member for connecting the upper pressing member,
Wherein when the lower fixing member is fixed to the upper surface of the supporting member, an elastic force acts on the upper pressing member toward the inner wall surface of the processing container by the connecting member, Wherein the pressing force is applied to the quartz tube holding structure. 제6항에 있어서,
상기 상측 압박 부재의 압박면은, 압박 방향을 따른 종단면에 있어서 상기 하측 고정 부재의 내주면보다 전방에 배치되고,
상기 하측 고정 부재를 상기 지지 부재의 상면에 고정하였을 때, 상기 연결 부재의 탄성력에 의해 상기 상측 압박 부재를 상기 처리 용기의 상기 내벽면을 향하게 하는 상기 압박력이 작용하는, 석영관 보유 지지 구조.The method according to claim 6,
The pressing surface of the upper pressing member is disposed forward of the inner circumferential surface of the lower fixing member on the longitudinal section along the pressing direction,
Wherein when the lower fixing member is fixed to the upper surface of the support member, the urging force acts to urge the upper pressing member toward the inner wall surface of the processing container by the elastic force of the connecting member. 제6항에 있어서,
상기 상측 압박 부재 및 상기 하측 고정 부재는, 상기 석영관과 결합 가능한 형상을 갖는, 석영관 보유 지지 구조.The method according to claim 6,
Wherein the upper pressing member and the lower fixing member have a shape engageable with the quartz tube. 제8항에 있어서,
상기 석영관과 결합 가능한 형상은 U자 형상인, 석영관 보유 지지 구조.9. The method of claim 8,
The quartz tube holding structure is U-shaped in shape that can be coupled with the quartz tube. 제9항에 있어서,
상기 하측 고정 부재는, 상기 U자 형상의 내주 양측면에, 상기 석영관의 직경보다 안쪽의 길이가 짧은 직선 부분을 갖는, 석영관 보유 지지 구조.10. The method of claim 9,
Wherein the lower fixing member has a linear portion having a shorter length inward than a diameter of the quartz tube on both inner sides of the U-shaped inner periphery. 제10항에 있어서,
상기 석영관은, 상기 하측 고정 부재의 상기 직선 부분과 대향하는 평탄면을 갖는, 석영관 보유 지지 구조.11. The method of claim 10,
Wherein the quartz tube has a flat surface opposite to the linear portion of the lower fixing member. 제6항에 있어서,
상기 하측 고정 부재는, 상기 석영관과 클리어런스를 갖고 비접촉 상태로 상기 지지 부재의 상면에 고정되어 있는, 석영관 보유 지지 구조.The method according to claim 6,
Wherein the lower fixing member has a clearance with the quartz tube and is fixed on the upper surface of the supporting member in a noncontact state. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 압박력 발생구는, 금속으로 이루어지는, 석영관 보유 지지 구조.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the pressing force generating element is made of metal. 제13항에 있어서,
상기 압박력 발생구는, 하스텔로이로 이루어지는, 석영관 보유 지지 구조.14. The method of claim 13,
Wherein the pressing force generating section is made of Hastelloy. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 석영관은, 상기 처리 용기 내에 가스를 공급하기 위해 설치된 인젝터인, 석영관 보유 지지 구조.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the quartz tube is an injector installed to supply a gas into the processing vessel. 제15항에 있어서,
상기 석영관은, 봉상의 형상을 갖고,
상기 지지 부재는, 상기 석영관의 하단부를 지지하는, 석영관 보유 지지 구조.16. The method of claim 15,
The quartz tube has a rod-
And the support member supports the lower end of the quartz tube. 제15항에 있어서,
상기 석영관은, 하단부에 수평 부분을 갖는 L자 형상을 갖고,
상기 지지 부재는, 상기 수평 부분을 지지하는, 석영관 보유 지지 구조.16. The method of claim 15,
The quartz tube has an L shape having a horizontal portion at a lower end,
Wherein the support member supports the horizontal portion. 제15항에 있어서,
상기 지지 부재는, 복수 개의 상기 석영관을 지지하는, 석영관 보유 지지 구조.16. The method of claim 15,
Wherein the support member supports a plurality of the quartz tubes. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 석영관 보유 지지 구조와,
당해 석영관 보유 지지 구조의 상기 처리 용기를 외측으로부터 가열하는 가열 수단을 갖는, 열처리 장치.A quartz tube holding structure as claimed in any one of claims 1 to 3,
And heating means for heating the processing vessel of the quartz tube holding structure from the outside.
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