KR20170098337A - Photosensitive coloring composition, black matrix, coloring spacer, image display device, and pigment dispersion - Google Patents

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Abstract

본 발명은 차광성이 우수하고, 게다가 분산성이나 제판성이 우수하며, 충분히 낮은 비유전율을 나타내는 감광성 착색 조성물을 제공하는 것을 과제로 한다. 본 발명의 감광성 착색 조성물은, (A) 색재, (B) 분산제, (C) 알칼리 가용성 수지, 및 (D) 광 중합 개시제를 적어도 함유하고, (A) 색재가 (A-1) 일반식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 화합물의 기하 이성체, 그 화합물의 염, 또는 그 화합물의 기하 이성체의 염인 유기 흑색 안료를 포함하고, 또한 (B) 분산제가 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제를 포함한다.

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An object of the present invention is to provide a photosensitive coloring composition which is excellent in light shielding property, excellent in dispersibility and formability, and exhibits a sufficiently low relative dielectric constant. The photosensitive coloring composition of the present invention comprises at least a colorant, (B) a dispersant, (C) an alkali-soluble resin, and (D) a photopolymerization initiator, wherein the colorant (A) 1), a geometric isomer of the compound, a salt of the compound, or an organic black pigment which is a salt of a geometric isomer of the compound, and (B) the dispersant comprises a polymer dispersant having a quaternary ammonium group as a functional group .
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Description

감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 화상 표시 장치 및 안료 분산액{PHOTOSENSITIVE COLORING COMPOSITION, BLACK MATRIX, COLORING SPACER, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND PIGMENT DISPERSION}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive coloring composition, a black matrix, a colored spacer, an image display, and a pigment dispersion.

본 발명은 감광성 착색 조성물, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서 및 화상 표시 장치에 관한 것이다. 상세하게는, 차폐성 및 제판 특성이 우수한 감광성 착색 조성물과, 그 용도에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive coloring composition, a black matrix, a coloring spacer, and an image display device. Specifically, the present invention relates to a photosensitive coloring composition excellent in shielding property and plate making property, and a use thereof.

액정 표시 소자용 블랙 매트릭스는 액정 표시 소자에 있어서 구동 전극 사이로부터의 광의 누출을 방지하기 위해 사용된다. 일반적으로 블랙 매트릭스는, TFT (Thin Film Transistor) 소자 기판과 쌍을 이루는 유리 또는 플라스틱 시트 등의 투명 기판 상에 포토 리소그래피법을 이용하여 형성되는 스트라이프상 또는 격자상의 차광성 재료의 패턴이다.The black matrix for a liquid crystal display element is used to prevent leakage of light from between drive electrodes in a liquid crystal display element. Generally, the black matrix is a pattern of a stripe-shaped or lattice-like light-shielding material formed by photolithography on a transparent substrate such as a glass or plastic sheet paired with a TFT (Thin Film Transistor) element substrate.

최근에는, 컬러 액정 표시 소자의 보다 고정세(高精細)·고휘도화에 대응하기 위해서, 액티브 매트릭스형 액정 디스플레이에 있어서, 컬러 필터를 TFT 소자 기판측에 설치한 컬러 필터 온 어레이 방식 (COA 방식) 이나 블랙 매트릭스만을 TFT 소자 기판측에 형성한 블랙 매트릭스 온 어레이 방식 (BOA 방식) 이 제안되어 있다. 이 방식에 의하면, 컬러 필터측에 블랙 매트릭스를 형성하는 경우에 비해, 액티브 소자측과의 위치 맞춤 마진을 둘 필요가 없어지기 때문에, 개구율을 높게 할 수 있고, 그 결과 고휘도화를 도모할 수 있다.In recent years, in order to cope with higher definition and higher luminance of a color liquid crystal display element, a color filter on array system (COA system) in which a color filter is provided on the TFT element substrate side in an active matrix type liquid crystal display, And a black matrix on array system (BOA system) in which only a black matrix is formed on the TFT element substrate side. According to this method, as compared with the case of forming the black matrix on the color filter side, there is no need to provide a margin for alignment with the active element side, so that the aperture ratio can be increased, and as a result, higher luminance can be achieved .

단, 이와 같은 구조를 취하는 경우에 블랙 매트릭스에는, TFT 소자 상에 직접 탑재시켜도 전기 회로의 단락을 일으키지 않도록 일정 이상의 체적 저항률이나 일정 이하의 비유전율을 가질 것이 요구된다. However, in the case of adopting such a structure, it is required that the black matrix has a volume resistivity of not less than a predetermined value and a relative dielectric constant of not more than a certain value so as not to short circuit the electric circuit even if mounted directly on the TFT element.

이와 같은 블랙 매트릭스로는, 안료에 복수종의 유기 착색 안료와 카본 블랙을 사용한 블랙 매트릭스가 제안되어 있다 (예를 들어 특허문헌 1 참조).As such a black matrix, a black matrix using a plurality of organic colored pigments and carbon black as pigments has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

또, 안료로서 유기 흑색 안료를 사용한 블랙 매트릭스용 감광성 조성물도 알려져 있고, 구체적으로는 아닐린 블랙 (예를 들어 특허문헌 2 참조) 이나 페릴렌 블랙 (예를 들어 특허문헌 3 참조) 을 사용한 감광성 조성물이 알려져 있다.A photosensitive composition for a black matrix using an organic black pigment as a pigment is also known. Specifically, a photosensitive composition using aniline black (see, for example, Patent Document 2) or perylene black (see, for example, Patent Document 3) It is known.

한편, 유기 안료로서 비스-옥소디하이드로-인돌릴렌-벤조푸란 착색제가 알려져 있다 (예를 들어 특허문헌 4 참조). 본 문헌 중에는 그 안료를 컬러 필터의 적색층, 청색층 및 녹색층을 형성하기 위해서 사용하는 것이 기재되어 있다. 또, 그 안료는 전기 영동 디스플레이용 유기 흑색 안료로서도 사용되는 것이 알려져 있다 (예를 들어 특허문헌 5 참조). On the other hand, bis-oxodihydro-indolylene-benzofuran colorants are known as organic pigments (see, for example, Patent Document 4). In this document, it is described that the pigment is used for forming a red layer, a blue layer and a green layer of a color filter. It is also known that the pigment is also used as an organic black pigment for electrophoretic display (see, for example, Patent Document 5).

[선행기술문헌][Prior Art Literature]

[특허문헌][Patent Literature]

(특허문헌 1) 일본 공개특허공보 2009-75446호 (Patent Document 1) Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2009-75446

(특허문헌 2) 일본 공개특허공보 평8-44049호 (Patent Document 2) JP-A-8-44049

(특허문헌 3) 일본 공개특허공보 2006-235153호 (Patent Document 3) Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-235153

(특허문헌 4) 일본 공표특허공보 2002-528448호 (Patent Document 4) Japanese Published Patent Application No. 2002-528448

(특허문헌 5) 일본 공표특허공보 2012-515240호(Patent Document 5) Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-515240

본 발명자들이 예의 검토한 결과, 특허문헌 1 에 기재되어 있는 감광성 조성물은, 유기 착색 안료의 차폐율 (광학 농도) 이 낮아, 충분한 광학 농도를 얻기 위해서는 막두께를 두껍게 할 필요가 있는 것을 알 수 있었다.As a result of intensive investigations by the present inventors, it has been found that the photosensitive composition described in Patent Document 1 has a low shielding ratio (optical density) of the organic colored pigment, and it is necessary to increase the film thickness in order to obtain a sufficient optical density .

또, 특허문헌 2 나 3 에 기재되어 있는, 상기 아닐린 블랙이나 페릴렌 블랙은 분산성이 나빠, 분산시키기 위해서 다량의 분산제를 사용할 필요가 있어, 제판성 등에 문제가 발생하는 경우가 있는 것을 알 수 있었다. 게다가 차폐율 (광학 농도) 도 충분한 것은 아닌 것을 알 수 있었다.In addition, the aniline black or perylene black described in Patent Document 2 or 3 is poor in dispersibility and it is necessary to use a large amount of dispersing agent in order to disperse it, there was. Furthermore, it was found that the shielding ratio (optical density) was not sufficient.

또한, 특허문헌 4 나 5 에는, 비스-옥소디하이드로-인돌릴렌-벤조푸란 착색제를 화상 표시 장치에 사용하는 차폐제로서 사용하는 것에 대해서는 기재도 시사도 없고, 화상 표시 장치에 사용하는 차폐제로서 사용했을 때의 광학 농도, 분산성이나 제판성과 같은 특성에 대해서도 불분명하다.In Patent Documents 4 and 5, the use of the bis-oxodihydro-indolylene-benzofuran colorant as a shielding agent for use in an image display device has no description nor description, and was used as a shielding agent for use in an image display device The optical density, and the properties such as dispersibility and plate-making property are unclear.

본 발명은 상기 종래의 실정을 감안하여 이루어진 것으로서, 차광성이 우수하고, 또한 분산성이나 제판성이 우수하고, 충분히 낮은 비유전율을 나타내는 감광성 착색 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above conventional problems, and an object of the present invention is to provide a photosensitive coloring composition which is excellent in light shielding property, excellent in dispersibility and plate formability, and exhibits a sufficiently low relative dielectric constant.

본 발명자들이 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 실시한 결과, 감광성 착색 조성물 중의 색재를 특정 구조를 갖는 유기 흑색 안료를 사용하고, 또한 특정 분산제를 사용함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 찾아내, 본 발명에 이르렀다. The inventors of the present invention have conducted intensive studies in order to solve the above problems. As a result, it has been found that an organic black pigment having a specific structure is used as a coloring material in a photosensitive coloring composition and a specific dispersing agent is used, Has reached the invention.

즉, 본 발명은 이하의 [1] ∼ [17] 의 구성을 갖는다.That is, the present invention has the following structures [1] to [17].

[1] (A) 색재, (B) 분산제, (C) 알칼리 가용성 수지, 및 (D) 광 중합 개시제를 적어도 함유하는 감광성 착색 조성물로서, 상기 (A) 색재가 (A-1) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 기하 이성체, 그 염, 또는 그 기하 이성체의 염인 유기 흑색 안료를 포함하고, 또한 상기 (B) 분산제가 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제를 포함하는 감광성 착색 조성물.[1] A photosensitive coloring composition containing at least a colorant, a dispersant, an alkali-soluble resin, and a photopolymerization initiator, wherein the colorant (A) (B) a polymeric dispersant containing a quaternary ammonium salt group as a functional group, wherein the dispersing agent comprises an organic black pigment which is a compound represented by the following general formula (1), a geometric isomer thereof, a salt thereof, or a geometric isomer thereof.

[화학식 1] [Chemical Formula 1]

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[식 (1) 중, R1 및 R6 은 서로 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다 ; R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 다른 모두로부터 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이다 ; 또한, R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합하거나, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브리지에 의해 서로 결합할 수도 있다 ; R11 및 R12 는 서로 독립적으로 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다.][In the formula (1), R 1 and R 6 independently represent a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom; R 2, R 3, R 4 , R 5, R 7, R 8, R 9 and R 10 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom from all other, R 11, COOH, COOR 11, COO -, CONH 2, CONHR 11 , CONR 11 R 12 , CN, OH, OR 11 , COCR 11 , OOCNH 2 , OOCNHR 11 , OOCNR 11 R 12 , NO 2 , NH 2 , NHR 11 , NR 11 R 12 , NHCOR 12 , NR 11 COR 12 , N = CH 2 , N = CHR 11 , N = CR 11 R 12 , SH, SR 11 , SOR 11 , SO 2 R 11 , SO 3 R 11 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , 2 NHR 11 or SO 2 NR 11 R 12 ; At least one combination selected from the group consisting of R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 7 and R 8 , R 8 and R 9 , and R 9 and R 10 , Or they may be bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or NR < 11 > bridges; R 11 and R 12 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms. ]

[2] 상기 일반식 (1) 에 있어서, [2] In the above general formula (1)

식 중, R2, R4, R5, R7, R9 및 R10 은 서로 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고, R3 및 R8 은 서로 독립적으로 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸, β-나프틸, SO3H 또는 SO3 - 이며, R1 은 R6 과 동일하고, R2 는 R7 과 동일하고, R3 은 R8 과 동일하고, R4 는 R9 와 동일하고, R5 는 R10 과 동일한, [1] 에 기재된 감광성 착색 조성물.Wherein R 2 , R 4 , R 5 , R 7 , R 9 and R 10 are independently of each other a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom, R 3 and R 8 independently of one another are a hydrogen atom, NO 2 , OCH 3, OC 2 H 5, a bromine atom, a chlorine atom, CH 3, C 2 H 5 , N (CH 3) 2, N (CH 3) (C 2 H 5), N (C 2 H 5) 2, α Naphthyl,? -Naphthyl, SO 3 H or SO 3 - , R 1 is the same as R 6 , R 2 is the same as R 7 , R 3 is the same as R 8 , R 4 is R 9 And R 5 is the same as R 10 .

[3] 상기 고분자 분산제가, 추가로 3 급 아민을 관능기로서 갖는, [1] 또는 [2] 에 기재된 감광성 착색 조성물.[3] The photosensitive coloring composition according to [1] or [2], wherein the polymer dispersant further has a tertiary amine as a functional group.

[4] 상기 (C) 알칼리 가용성 수지가, 하기 알칼리 가용성 수지 (c1) 및 하기 알칼리 가용성 수지 (c2) 중 적어도 어느 하나를 포함하는, [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.[4] The photosensitive coloring composition according to any one of [1] to [3], wherein the alkali-soluble resin (C) comprises at least any one of the following alkali-soluble resin (c1) and alkali- .

<알칼리 가용성 수지 (c1)>≪ Alkali-soluble resin (c1) >

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로 다염기산 및/또는 그 무수물을 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.An alkali-soluble resin obtained by adding an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group to an epoxy resin and further reacting the polybasic acid and / or an anhydride thereof.

<알칼리 가용성 수지 (c2)>≪ Alkali-soluble resin (c2) >

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로 다가 알코올, 그리고 다염기산 및/또는 그 무수물과 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.An alkali-soluble resin obtained by adding an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group to an epoxy resin and further reacting with a polyhydric alcohol and a polybasic acid and / or an anhydride thereof.

[5] (A) 색재가, 추가로 (A-2) 유기 착색 안료를 함유하는, [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.[5] The photosensitive coloring composition according to any one of [1] to [4], wherein the coloring material (A) further comprises (A-2) an organic coloring pigment.

[6] (A-2) 유기 착색 안료가, 이하의 안료 중 적어도 1 종을 함유하는, [5] 에 기재된 감광성 착색 조성물.[6] The photosensitive coloring composition according to [5], wherein the (A-2) organic colored pigment contains at least one of the following pigments.

청색 : 컬러 인덱스 피그먼트 블루 60, 또는 15 : 6Blue: Color Index Pigment Blue 60, or 15: 6

적색 : 컬러 인덱스 피그먼트 레드 177, 254, 또는 272 Red: Color Index Pigment Red 177, 254, or 272

자색 : 컬러 인덱스 피그먼트 바이올렛 23, 또는 29 Purple: Color Index Pigment Violet 23, or 29

등색 : 컬러 인덱스 피그먼트 오렌지 43, 64, 또는 72Color: Color Index Pigment Orange 43, 64, or 72

[7] (A) 색재 100 질량% 에 대하여, 상기 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 30 ∼ 90 질량%, (A-2) 유기 착색 안료의 함유 비율이 10 ∼ 70 질량% 인, [5] 또는 [6] 에 기재된 감광성 착색 조성물.[7] The ink composition according to any one of [1] to [3], wherein the content of the organic black pigment (A-1) is 30 to 90% by mass, the content of the organic color pigment (A- , [5] or [6].

[8] (A) 색재가 추가로 (A-3) 카본 블랙을 함유하는, [1] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.[8] The photosensitive colored composition according to any one of [1] to [7], wherein the colorant further comprises (A-3) carbon black.

[9] (A) 색재 100 질량% 에 대하여, 상기 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 50 ∼ 90 질량%, (A-3) 카본 블랙의 함유 비율이 10 ∼ 50 질량% 인, [8] 에 기재된 감광성 착색 조성물.[9] The ink composition according to any one of [1] to [8], wherein the content of the organic black pigment (A-1) is from 50 to 90 mass%, the content of the carbon black is from 10 to 50 mass% The photosensitive coloring composition according to [8].

[10] (D) 광 중합 개시제가, 옥심에스테르 개시제, 및/또는 케톡심에스테르 개시제인, [1] ∼ [9] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물.[10] The photosensitive coloring composition according to any one of [1] to [9], wherein the photopolymerization initiator (D) is an oxime ester initiator and / or a ketoxime ester initiator.

[11] [1] ∼ [10] 중 어느 하나에 기재된 감광성 착색 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.[11] A cured product obtained by curing the photosensitive colored composition according to any one of [1] to [10].

[12] [11] 에 기재된 경화물로부터 형성되는 블랙 매트릭스.[12] A black matrix formed from the cured product of [11].

[13] [11] 에 기재된 경화물로부터 형성되는 착색 스페이서.[13] A colored spacer formed from the cured product according to [11].

[14] [12] 에 기재된 블랙 매트릭스 또는 [13] 에 기재된 착색 스페이서를 포함하는 화상 표시 장치.[14] An image display device comprising a black matrix according to [12] or a coloring spacer according to [13].

[15] (A) 색재, 및 (B) 분산제를 함유하는 안료 분산액으로서, 상기 (A) 색재가 (A-1) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 기하 이성체, 그 염, 또는 그 기하 이성체의 염인 유기 흑색 안료를 포함하고, 또한 상기 (B) 분산제가 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제를 포함하는 안료 분산액.[15] A pigment dispersion comprising (A) a colorant and (B) a dispersant, wherein the colorant (A) comprises a compound represented by the following general formula (1) (B) a polymer dispersant having a quaternary ammonium salt group as a functional group, wherein the dispersing agent (B) comprises an organic black pigment which is a salt of a geometric isomer.

[화학식 2](2)

Figure pat00002
Figure pat00002

[식 중, R1 및 R6 은 서로 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다 ; R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 다른 모두로부터 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이다 ; 또한, R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합하거나, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브리지에 의해 서로 결합할 수도 있다 ; R11 및 R12 는 서로 독립적으로 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다.]Wherein R 1 and R 6 are independently of each other a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom; R 2, R 3, R 4 , R 5, R 7, R 8, R 9 and R 10 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom from all other, R 11, COOH, COOR 11, COO -, CONH 2, CONHR 11 , CONR 11 R 12 , CN, OH, OR 11 , COCR 11 , OOCNH 2 , OOCNHR 11 , OOCNR 11 R 12 , NO 2 , NH 2 , NHR 11 , NR 11 R 12 , NHCOR 12 , NR 11 COR 12 , N = CH 2 , N = CHR 11 , N = CR 11 R 12 , SH, SR 11 , SOR 11 , SO 2 R 11 , SO 3 R 11 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , 2 NHR 11 or SO 2 NR 11 R 12 ; At least one combination selected from the group consisting of R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 7 and R 8 , R 8 and R 9 , and R 9 and R 10 , Or they may be bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or NR < 11 > bridges; R 11 and R 12 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms. ]

[16] 상기 일반식 (1) 에 있어서, [16] The compound represented by the general formula (1)

식 중, R2, R4, R5, R7, R9 및 R10 은 서로 독립적으로 수소 원자, 불소 원자, 또는 염소 원자이고, R3 및 R8 은 서로 독립적으로 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸, β-나프틸, SO3H 또는 SO3 - 이며, R1 은 R6 과 동일하고, R2 는 R7 과 동일하고, R3 은 R8 과 동일하고, R4 는 R9 와 동일하고, R5 는 R10 과 동일한, [15] 에 기재된 안료 분산액. Wherein, R 2, R 4, R 5, R 7, R 9 and R 10 are independently a hydrogen atom, a fluorine atom, or chlorine atom, R 3 and R 8 are independently a hydrogen atom, NO 2 from each other, OCH 3, OC 2 H 5, a bromine atom, a chlorine atom, CH 3, C 2 H 5 , N (CH 3) 2, N (CH 3) (C 2 H 5), N (C 2 H 5) 2, naphthyl, SO 3 H or SO 3 - , R 1 is the same as R 6 , R 2 is the same as R 7 , R 3 is the same as R 8 , R 4 is R 9, and R < 5 > is the same as R < 10 >.

[17] 상기 고분자 분산제가, 추가로 3 급 아민을 관능기로서 갖는, [15] 또는 [16] 에 기재된 안료 분산액.[17] The pigment dispersion according to [15] or [16], wherein the polymer dispersant further has a tertiary amine as a functional group.

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 특정 구조를 갖는 유기 흑색 안료를 포함함으로써, 안료 분산체 제작시에 분산제의 양을 적게 할 수 있기 때문에 우수한 제판 특성을 나타내고, 또 분산성도 우수하다. 따라서, 본 발명의 감광성 착색 조성물로부터 형성되는 블랙 매트릭스는 우수한 차광성을 나타낸다. 또, 본 발명의 블랙 매트릭스 및 착색 스페이서는, TFT 소자 기판 상에 형성되어도 단락·오동작 등을 일으키지 않는 만큼의 충분히 낮은 비유전율을 나타낸다. 본 발명의 블랙 매트릭스를 갖는 화상 표시 장치는, TFT 고장이나 액정 구동의 난조 등의 문제가 없고, 신뢰성이 우수하다.Since the photosensitive coloring composition of the present invention contains an organic black pigment having a specific structure, the amount of the dispersing agent can be reduced at the time of producing the pigment dispersion, and therefore, the photosensitive coloring composition exhibits excellent plate making characteristics and excellent dispersibility. Therefore, the black matrix formed from the photosensitive coloring composition of the present invention exhibits excellent light shielding properties. The black matrix and the colored spacer of the present invention exhibit a sufficiently low relative dielectric constant so as not to cause a short circuit, a malfunction, or the like even if the black matrix and the colored spacer are formed on the TFT element substrate. The image display device having the black matrix of the present invention has no problems such as TFT failure and hunting of liquid crystal driving, and is excellent in reliability.

도 1 은 유기 EL 소자의 일례를 나타내는 단면 개략도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an organic EL element.

이하, 본 발명의 실시형태를 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니고, 그 요지의 범위 내에서 여러 가지로 변경해 실시할 수 있다.Hereinafter, the embodiments of the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made within the scope of the present invention.

또한, 본 발명에 있어서, 「(메트)아크릴」이란 「아크릴 및/또는 메타크릴」을 의미하고, 「(메트)아크릴레이트」, 「(메트)아크릴로일」에 대해서도 동일하다.In the present invention, "(meth) acryl" means "acrylic and / or methacrylic", and "(meth) acrylate" and "(meth) acryloyl"

「(공)중합체」란, 단일 중합체 (호모폴리머) 와 공중합체 (코폴리머) 의 쌍방을 포함하는 것을 의미하고, 「산(무수물)」, 「(무수)…산」이란, 산과 그 무수물의 쌍방을 포함하는 것을 의미한다. 또, 본 발명에 있어서 「아크릴계 수지」란, (메트)아크릴산을 포함하는 (공)중합체, 카르복실기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 포함하는 (공)중합체를 의미한다.The term "(co) polymer" means both of a homopolymer (homopolymer) and a copolymer (copolymer), and the term "(co) polymer" Quot; acid " means containing both an acid and an anhydride thereof. In the present invention, "acrylic resin" means a (co) polymer containing (meth) acrylic acid or a (co) polymer containing a (meth) acrylic ester having a carboxyl group.

또, 본 발명에 있어서 「모노머」란, 이른바 고분자 물질 (폴리머) 에 상대되는 용어이고, 협의의 단량체 (모노머) 외에, 2 량체, 3 량체, 올리고머 등도 포함하는 의미이다.In the present invention, the term " monomer " refers to a so-called polymer material (polymer), and includes not only the monomer (monomer) but also the dimer, trimer and oligomer.

본 발명에 있어서 「전체 고형분」이란, 감광성 착색 조성물 중 또는 후술하는 잉크 중에 포함되는, 용제 이외의 전체 성분을 의미하는 것으로 한다.In the present invention, the term " total solid content " means all components other than the solvent contained in the photosensitive coloring composition or the ink described later.

본 발명에 있어서 중량 평균 분자량이란, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 을 가리킨다.In the present invention, the weight average molecular weight refers to the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by GPC (Gel Permeation Chromatography).

또, 본 발명에 있어서 「아민가」란, 특별히 기재하지 않는 한, 유효 고형분 환산의 아민가를 나타내고, 분산제의 고형분 1 g 당의 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 나타내는 값이다. 또한, 측정 방법에 대해서는 후술한다. 한편, 「산가」란, 특별히 기재가 없는 한 유효 고형분 환산의 산가를 나타내고, 중화 적정에 의해 산출된다.In the present invention, " amine value " means the amine value in terms of effective solid content, unless otherwise stated, and is a value expressed by mass of KOH in terms of the amount of the base group per 1 g of the solid content of the dispersant. The measuring method will be described later. On the other hand, "acid value" means the acid value in terms of effective solid content unless specifically stated, and is calculated by neutralization titration.

또, 본 명세서에 있어서, 「질량」으로 나타내는 백분율이나 부는 「중량」으로 나타내는 백분율이나 부와 동일한 의미이다.In the present specification, the percentages and parts denoted by " mass " have the same meaning as the percentages and parts denoted by " weight ".

[감광성 착색 조성물][Photosensitive coloring composition]

본 발명의 감광성 착색 조성물 (이하, 「감광성 착색 조성물」 또는 「착색 수지 조성물」이라고 칭하는 경우가 있다) 은,The photosensitive coloring composition of the present invention (hereinafter sometimes referred to as " photosensitive coloring composition " or " colored resin composition &

(A) 색재(A) Coloring material

(B) 분산제(B) Dispersant

(C) 알칼리 가용성 수지(C) an alkali-soluble resin

(D) 광 중합 개시제(D) a photopolymerization initiator

를 필수 성분으로서 함유하고, 필요에 따라 추가로 유기 용제, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제, 도포성 향상제, 현상 개량제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 계면 활성제, 안료 유도체 등, 기타 배합 성분을 포함하는 것이고, 통상 각 배합 성분이 유기 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다.And other additives such as organic solvents and adhesion improvers such as a silane coupling agent, a coating improver, a development improver, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a surfactant, a pigment derivative and the like, if necessary, , Usually, each compounding component is used in a state dissolved or dispersed in an organic solvent.

<(A) 색재><(A) Coloring material>

본 발명에서 사용하는 (A) 색재는, (A-1) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 기하 이성체, 그 염, 또는 그 기하 이성체의 염인 유기 흑색 안료를 포함한다.The colorant (A) used in the present invention includes (A-1) an organic black pigment which is a compound represented by the following general formula (1), a geometric isomer thereof, a salt thereof, or a salt of a geometric isomer thereof.

[화학식 3](3)

Figure pat00003
Figure pat00003

[식 (1) 중, R1 및 R6 은 서로 독립적으로 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자이다 ; [In the formula (1), R 1 and R 6 independently represent a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;

R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9 및 R10 은 다른 모두로부터 서로 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, R11, COOH, COOR11, COO-, CONH2, CONHR11, CONR11R12, CN, OH, OR11, COCR11, OOCNH2, OOCNHR11, OOCNR11R12, NO2, NH2, NHR11, NR11R12, NHCOR12, NR11COR12, N=CH2, N=CHR11, N=CR11R12, SH, SR11, SOR11, SO2R11, SO3R11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHR11 또는 SO2NR11R12 이다 ; R 2, R 3, R 4 , R 5, R 7, R 8, R 9 and R 10 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom from all other, R 11, COOH, COOR 11, COO -, CONH 2, CONHR 11 , CONR 11 R 12 , CN, OH, OR 11 , COCR 11 , OOCNH 2 , OOCNHR 11 , OOCNR 11 R 12 , NO 2 , NH 2 , NHR 11 , NR 11 R 12 , NHCOR 12 , NR 11 COR 12 , N = CH 2 , N = CHR 11 , N = CR 11 R 12 , SH, SR 11 , SOR 11 , SO 2 R 11 , SO 3 R 11 , SO 3 H, SO 3 - , SO 2 NH 2 , 2 NHR 11 or SO 2 NR 11 R 12 ;

또한, R2 와 R3, R3 과 R4, R4 와 R5, R7 과 R8, R8 과 R9, 및 R9 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합하거나, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NR11 브리지에 의해 서로 결합할 수도 있다 ;At least one combination selected from the group consisting of R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 7 and R 8 , R 8 and R 9 , and R 9 and R 10 , Or they may be bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or NR &lt; 11 &gt; bridges;

R11 및 R12 는 서로 독립적으로 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기이다.]R 11 and R 12 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms. ]

일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체는, 이하의 코어 구조를 갖고 (단, 구조식 중의 치환기는 생략하고 있다), 트랜스-트랜스 이성체는 필시 가장 안정적이다.The geometric isomer of the compound represented by the general formula (1) has the following core structure (however, the substituent in the structural formula is omitted), and the trans-trans isomer is most stable if necessary.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

일반식 (1) 로 나타내는 화합물이 아니온성인 경우, 그 전하를 임의의 공지된 적합한 카티온, 예를 들어 금속, 유기, 무기 또는 금속 유기 카티온, 구체적으로는 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 천이 금속, 1 급 암모늄, 2 급 암모늄, 트리알킬암모늄 등의 3 급 암모늄, 테트라알킬암모늄 등의 4 급 암모늄 또는 유기 금속 착물에 의해 보상한 염인 것이 바람직하다. 또, 일반식 (1) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체가 아니온성인 경우, 동일한 염인 것이 바람직하다.When the compound represented by the general formula (1) is not anionic, its charge can be converted to any known suitable cation such as a metal, an organic, an inorganic or a metal organic cation, particularly an alkali metal, an alkaline earth metal, , Quaternary ammonium such as primary ammonium, secondary ammonium or trialkylammonium, quaternary ammonium such as tetraalkylammonium, or salt compensated by an organometallic complex. When the geometric isomer of the compound represented by the general formula (1) is not present, it is preferable that the same is the salt.

일반식 (1) 의 치환기 및 그들의 정의에 있어서는, 차폐율이 높아지는 경향이 있으므로, 이하가 바람직하다. 이것은, 이하의 치환기는 흡수가 없어, 안료의 색상에 영향을 주지 않는다고 생각되기 때문이다.In terms of the substituents of the formula (1) and their definitions, the shielding ratio tends to be high. This is because it is considered that the following substituents do not absorb and do not affect the color of the pigment.

R2, R4, R5, R7, R9 및 R10 은 서로 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, 불소 원자, 또는 염소 원자이고, 더 바람직하게는 수소 원자이다.R 2 , R 4 , R 5 , R 7 , R 9 and R 10 are each independently preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom, more preferably a hydrogen atom.

R3 및 R8 은 서로 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸, β-나프틸, SO3H 또는 SO3 - 이고, 더 바람직하게는 수소 원자 또는 SO3H 이다.R 3 and R 8 are independently preferably a hydrogen atom, NO 2, OCH 3, OC 2 H 5, a bromine atom, a chlorine atom, CH 3, C 2 H 5 , N (CH 3) 2, N (CH 3 ) (C 2 H 5 ), N (C 2 H 5 ) 2 , α-naphthyl, β-naphthyl, SO 3 H or SO 3 - , more preferably a hydrogen atom or SO 3 H.

R1 및 R6 은 서로 독립적으로 바람직하게는 수소 원자, CH3 또는 CF3 이고, 더 바람직하게는 수소 원자이다.R 1 and R 6 independently of one another are preferably a hydrogen atom, CH 3 or CF 3 , more preferably a hydrogen atom.

바람직하게는, R1 과 R6, R2 와 R7, R3 과 R8, R4 와 R9, 및 R5 와 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합이 동일하고, 보다 바람직하게는 R1 은 R6 과 동일하고, R2 는 R7 과 동일하고, R3 은 R8 과 동일하고, R4 는 R9 와 동일하며, 또한 R5 는 R10 과 동일하다.Preferably, at least one combination selected from the group consisting of R 1 and R 6 , R 2 and R 7 , R 3 and R 8 , R 4 and R 9 , and R 5 and R 10 is the same, , R 1 is the same as R 6 , R 2 is the same as R 7 , R 3 is the same as R 8 , R 4 is the same as R 9, and R 5 is the same as R 10 .

탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 2-메틸부틸기, n-펜틸기, 2-펜틸기, 3-펜틸기, 2,2-디메틸프로필기, n-헥실기, 헵틸기, n-옥틸기, 1,1,3,3-테트라메틸부틸기, 2-에틸헥실기, 노닐기, 데실기, 운데실기 또는 도데실기이다.Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, Pentyl group, 3-pentyl group, 2,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, heptyl group, n- octyl group, 1,1,3,3- An ethylhexyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group or a dodecyl group.

탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기는, 예를 들어 시클로프로필기, 시클로프로필메틸기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기, 트리메틸시클로헥실기, 트질기, 노르보르닐기, 보르닐기, 노르카릴기, 카릴기, 멘틸기, 노르피닐기, 피닐기, 1-아다만틸기 또는 2-아다만틸기이다.Examples of the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexylmethyl group, a trimethylcyclohexyl group, a tosyl group, a norbornyl group, , A norbornyl group, a norbornyl group, a norbornyl group, a 1-adamantyl group or a 2-adamantyl group.

탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기는, 예를 들어 비닐기, 알릴기, 2-프로펜-2-일기, 2-부텐-1-일기, 3-부텐-1-일기, 1,3-부타디엔-2-일기, 2-펜텐-1-일기, 3-펜텐-2-일기, 2-멘틸-1-부텐-3-일기, 2-메틸-3-부텐-2-일기, 3-메틸-2-부텐-1-일기, 1,4-펜타디엔-3-일기, 헥세닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기 또는 도데세닐기이다.Examples of the alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, a 2-propen-2-yl group, a 2-buten-1-yl group, a 3-buten-1-yl group, 1-butene-2-yl group, 3-methyl-2-butene-1-yl group, A 1,4-pentadiene-3-yl group, a hexenyl group, an octenyl group, a nonenyl group, a decenyl group or a dodecenyl group.

탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기는, 예를 들어 2-시클로부텐-1-일기, 2-시크로펜텐-1-일기, 2-시클로헥센-1-일기, 3-시클로헥센-1-일기, 2,4-시클로헥사디엔-1-일기, 1-p-멘텐-8-일기, 4(10)-튜젠-10-일기, 2-노르보르넨-1-일기, 2,5-노르보르나디엔-1-일기, 7,7-디메틸-2,4-노르카라디엔-3-일기 또는 캄페닐기이다.The cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms is, for example, a 2-cyclobutene-1-yl group, a 2-cyclopenten-1-yl group, a 2- Cyclohexadien-1-yl group, 1-p-menthene-8-yl group, 4 (10) -tulen-10-yl group, 2-norbornen- En-1-yl group, a 7,7-dimethyl-2,4-norcaradien-3-yl group or a camphhenyl group.

탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기는, 예를 들어 1-프로핀-3-일기, 1-부틴-4-일기, 1-펜틴-5-일기, 2-메틸-3-부틴-2-일기, 1,4-펜타디인-3-일기, 1,3-펜타디인-5-일기, 1-헥신-6-일기, 시스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 트랜스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 1,3-헥사디인-5-일기, 1-옥틴-8-일기, 1-노닌-9-일기, 1-데신-10-일기 또는 1-도데신-12-일기이다.The alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms is, for example, a 1-propyn-3-yl group, a 1-butyne-4-yl group, Pentyne-3-yl group, a 1,3-pentadiyn-5-yl group, a 1-hexyn-6-yl group, 1-octyne-9-yl group, 1-decyne-10-yl group, -Yl group or a 1-dodecyn-12-yl group.

할로겐 원자는, 예를 들어 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자이다.The halogen atom is, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

바람직한 (A-1) 의 유기 흑색 안료는, 하기 일반식 (2) 로 나타내는 화합물이다.The preferred organic black pigment of (A-1) is a compound represented by the following general formula (2).

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

이와 같은 유기 흑색 안료의 구체예로는, 상품명으로 Irgaphor (등록 상표) Black S 0100 CF (BASF 사 제조) 를 들 수 있다.Specific examples of such organic black pigments include Irgaphor (registered trademark) Black S 0100 CF (manufactured by BASF) under the trade name.

(A-1) 의 유기 흑색 안료는, 바람직하게는 후술되는 방법에 따라서, 분산제, 용제에 분산시켜 사용된다. 또, 분산시에 상기 일반식 (2) 의 술폰산 유도체가 존재하면, 분산성이나 보존성이 향상되는 경우가 있다.The organic black pigment of (A-1) is preferably dispersed in a dispersant or a solvent according to a method described later. When the sulfonic acid derivative of the general formula (2) is present at the time of dispersion, dispersibility and storage stability may be improved.

본 발명의 감광성 착색 조성물은, (A) 색재로서 (A-1) 이외의 색재를 포함하고 있는 경우도 있다. 그 색재로는 염 안료를 사용할 수 있지만, 내열성, 내광성 등의 점에서 안료가 바람직하다. 특히 (A-2) 유기 착색 안료 및/또는 (A-3) 카본 블랙이 바람직하게 사용된다. 또한, 본 명세서에 있어서 유기 착색 안료란, 착색에 사용하는 유기 화합물을 성분으로 하는 분말이고, 물이나 기름에 불용한 것을 의미하는 것이다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain a coloring material other than (A-1) as the (A) coloring material. As the coloring material, a salt pigment can be used, but a pigment is preferable in view of heat resistance, light resistance and the like. In particular, (A-2) an organic colored pigment and / or (A-3) carbon black are preferably used. In the present specification, the organic colored pigment means a powder containing an organic compound used for coloring and insoluble in water or oil.

(A-2) 유기 착색 안료로는 청색 안료, 녹색 안료, 적색 안료, 황색 안료, 자색 안료, 오렌지 안료, 브라운 안료, (A-1) 및 (A-3) 이외의 흑색 안료 등 각종 색의 유기 안료를 사용할 수 있다. 또, 그 구조로는 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 인단트렌계 등의 유기 안료 외에 여러 가지 무기 안료 등도 이용 가능하다. 또한, 본 명세서에서는, 안료의 색은 특별히 기재가 없는 한은, 색재로서 그 안료를 단독으로 사용하여 감광성 착색 조성물을 형성했을 때에 나타내는 색을 의미한다. 요컨대, 예를 들어 흑색 안료란, 색재로서 당해 안료를 단독으로 사용하여 감광성 착색 조성물을 형성했을 때에 나타내는 색이 흑색이 되는 안료를 의미하고 있다.(A-2) The organic colored pigments include various pigments such as blue pigments, green pigments, red pigments, yellow pigments, purple pigments, orange pigments, brown pigments, and black pigments other than (A- Organic pigments can be used. As the structure, various inorganic pigments can be used in addition to organic pigments such as azo pigments, phthalocyanine pigments, quinacridone pigments, benzimidazolone pigments, isoindolinone pigments, dioxazine pigments, and indanthrene pigments. In the present specification, the color of the pigment means the color which is obtained when the pigment is used alone as a coloring material to form a photosensitive coloring composition, unless otherwise specified. In short, for example, a black pigment means a pigment in which the color represented by black when the photosensitive coloring composition is formed by using the pigment alone as a coloring material.

이하에, 본 발명에 사용할 수 있는 안료의 구체예를 피그먼트 넘버로 나타낸다. 또한, 이하에 예시하는 「C. I. 피그먼트 레드 2」 등의 용어는 컬러 인덱스 (C. I.) 를 의미한다.Specific examples of pigments that can be used in the present invention are shown below by pigment numbers. In addition, &quot; C. I. Pigment Red 2 &quot; and the like mean color index (C. I.).

적색 안료로는, As the red pigment,

Figure pat00006
Figure pat00006

이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 레드 48 : 1, 122, 168, 177, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, 더 바람직하게는 C. I. 피그먼트 레드 177, 209, 224, 254 를 들 수 있다. 또한, 분산성이나 차광성의 점에서 C. I. 피그먼트 레드 177, 254, 272 를 사용하는 것이 바람직하고, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 적색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 레드 254, 272 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.Among them, preferably CI Pigment Red 48: 1, 122, 168, 177, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, more preferably CI Pigment Red 177, 209, 224, 254 . Further, it is preferable to use CI Pigment Red 177, 254, and 272 from the viewpoints of dispersibility and light shielding property. When the photosensitive coloring composition of the present invention is cured with ultraviolet rays, a red pigment having a low ultraviolet absorption rate , And from this viewpoint, it is more preferable to use CI Pigment Red 254, 272.

청색 안료로는, As the blue pigment,

Figure pat00007
Figure pat00007

이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 블루 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 더 바람직하게는 C. I. 피그먼트 블루 15 : 6 을 들 수 있다. 또한, 분산성이나 차광성의 점에서 C. I. 피그먼트 블루 15 : 6, 16, 60 을 사용하는 것이 바람직하고, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 청색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 블루 60 을 사용하는 것이 보다 바람직하다.Among them, preferred are CI Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6 and more preferably CI Pigment Blue 15: 6. Further, it is preferable to use CI Pigment Blue 15: 6, 16, 60 from the viewpoints of dispersibility and light shielding. When the photosensitive coloring composition of the present invention is cured with ultraviolet rays, the blue pigment has a low ultraviolet absorption It is preferable to use CI Pigment Blue 60 from this viewpoint.

녹색 안료로는, C. I. 피그먼트 그린 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55 를 들 수 있다. 이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 그린 7, 36 을 들 수 있다. As the green pigment, CI Pigment Green 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, . Among these, CI Pigment Green 7 and CI 36 are preferably used.

황색 안료로는, As the yellow pigment,

Figure pat00008
Figure pat00008

이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 옐로우 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, 더 바람직하게는 C. I. 피그먼트 옐로우 83, 138, 139, 150, 180 을 들 수 있다.Of these, CI Pigment Yellow 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180 and 185 are preferable, and CI Pigment Yellow 83, 138, have.

오렌지 (등색) 안료로는,As orange (colorant) pigments,

Figure pat00009
Figure pat00009

이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 오렌지 38, 71 을 들 수 있다. 또한, 분산성이나 차광성의 점에서 C. I. 피그먼트 오렌지 43, 64, 72 를 사용하는 것이 바람직하고, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 오렌지 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 오렌지 64, 72 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.Among these, CI Pigment Orange 38 and 71 are preferred. Further, it is preferable to use CI Pigment Orange 43, 64, 72 from the viewpoints of dispersibility and light-shielding property, and when the photosensitive coloring composition of the present invention is cured with ultraviolet rays, , And from this viewpoint, it is more preferable to use CI Pigment Orange 64 or 72. [

자색 안료로는, C. I. 피그먼트 바이올렛 1, 1 : 1, 2, 2 : 2, 3, 3 : 1, 3 : 3, 5, 5 : 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50 을 들 수 있다. 이 중에서도, 바람직하게는 C. I. 피그먼트 바이올렛 19, 23, 더 바람직하게는 C. I. 피그먼트 바이올렛 23 을 들 수 있다. 또한, 분산성이나 차광성의 점에서 C. I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 를 사용하는 것이 바람직하고, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 자색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C. I. 피그먼트 바이올렛 29 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.CI Pigment Violet 1, 1: 1, 2, 2: 2, 3, 3: 1, 3: 3, 5, 5: 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27 , 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, Among them, CI Pigment Violet 19, 23, and more preferably CI Pigment Violet 23 can be mentioned. Further, it is preferable to use CI Pigment Violet 23 or 29 from the viewpoints of dispersibility and light-shielding property, and when the photosensitive coloring composition of the present invention is cured with ultraviolet rays, it is preferable to use a low- It is more preferable to use CI Pigment Violet 29 from this point of view.

이들 중에서도, 이하의 안료 중 적어도 1 종 이상을 함유하는 것으로 하는 것이 바람직하다.Among them, it is preferable to contain at least one or more of the following pigments.

청색 : 컬러 인덱스 피그먼트 블루 60, 또는 15 : 6Blue: Color Index Pigment Blue 60, or 15: 6

적색 : 컬러 인덱스 피그먼트 레드 177, 254, 또는 272Red: Color Index Pigment Red 177, 254, or 272

자색 : 컬러 인덱스 피그먼트 바이올렛 23 또는 29 Purple: Color Index Pigment Violet 23 or 29

등색 : 컬러 인덱스 피그먼트 오렌지 43, 64 또는 72 Color: Color Index Pigment Orange 43, 64 or 72

또한, 상이한 색의 안료를 조합하여 사용하는 경우, 색의 조합에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 차광성의 관점에서는 예를 들어, 적색 안료와 청색 안료 의 조합, 또는 청색 안료와 오렌지 안료와 자색 안료의 조합 등을 들 수 있다.When the pigments of different colors are used in combination, the combination of colors is not particularly limited. From the viewpoint of light shielding properties, for example, a combination of a red pigment and a blue pigment, or a combination of a blue pigment, an orange pigment and a purple pigment And combinations thereof.

또, (A-2) 유기 착색 안료 대신에 염료를 사용해도 되고, 또 (A-2) 유기 착색 안료에 추가로 염료를 사용해도 된다. 색재로서 사용할 수 있는 염료로는, 아조계 염료, 안트라퀴논계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 퀴논이민계 염료, 퀴놀린계 염료, 니트로계 염료, 카르보닐계 염료, 메틴계 염료 등을 들 수 있다.In place of the organic colored pigment (A-2), a dye may be used, and in addition to the organic colored pigment (A-2), a dye may be used. Examples of the dyes usable as the coloring material include azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, quinoneimine dyes, quinoline dyes, nitro dyes, carbonyl dyes, and methine dyes.

아조계 염료로는, 예를 들어 C. I. 엑시드 옐로우 11, C. I. 엑시드 오렌지 7, C. I. 엑시드 레드 37, C. I. 엑시드 레드 180, C. I. 엑시드 블루 29, C. I. 다이렉트 레드 28, C. I. 다이렉트 레드 83, C. I. 다이렉트 옐로우 12, C. I. 다이렉트 오렌지 26, C. I. 다이렉트 그린 28, C. I. 다이렉트 그린 59, C. I. 리엑티브 옐로우 2, C. I. 리엑티브 레드 17, C. I. 리엑티브 레드 120, C. I. 리엑티브 블랙 5, C. I. 디스퍼스 오렌지 5, C. I. 디스퍼스 레드 58, C. I. 디스퍼스 블루 165, C. I. 베이직 블루 41, C. I. 베이직 레드 18, C. I. 모르단트 레드 7, C. I. 모르단트 옐로우 5, C. I. 모르단트 블랙 7 등을 들 수 있다.Examples of the azo dyes include CI Exceed Yellow 11, CI Exed Orange 7, CI Exed Red 37, CI Exed Red 180, CI Exed Blue 29, CI Direct Red 28, CI Direct Yellow 83, CI Direct Yellow 12, CI Direct Yellow 12, Direct Orange 26, CI Direct Green 28, CI Direct Green 59, CI Reactive Yellow 2, CI Reactive Red 17, CI Reactive Red 120, CI Reactive Black 5, CI Disperse Orange 5, CI Disperse Red 58, CI Disperse Blue 165, CI Basic Blue 41, CI Basic Red 18, CI Mordant Red 7, CI Mordant Yellow 5, CI Mordant Black 7, and the like.

안트라퀴논계 염료로는, 예를 들어 C. I. 배트 블루 4, C. I. 엑시드 블루 40, C. I. 엑시드 그린 25, C. I. 리엑티브 블루 19, C. I. 리엑티브 블루 49, C. I. 디스퍼스 레드 60, C. I. 디스퍼스 블루 56, C. I. 디스퍼스 블루 60 등을 들 수 있다.Examples of the anthraquinone dyes include CI BAT BLUE 4, CI EXCEPT BLUE 40, CI EXCEPT BLUE 25, CI REACTIVE BLUE 19, CI REACTIVE BLUE 49, CI Disperse Red 60, CI Disperse Blue 56, CI Disperse Blue 60 and the like.

이 외, 프탈로시아닌계 염료로서, 예를 들어 C. I. 패드 블루 5 등을, 퀴논이민계 염료로서 예를 들어 C. I. 베이직 블루 3, C. I. 베이직 블루 9 등을, 퀴놀린계 염료로서 예를 들어 C. I. 솔벤트 옐로우 33, C. I. 엑시드 옐로우 3, C. I. 디스퍼스 옐로우 64 등을, 니트로계 염료로서 예를 들어 C. I. 엑시드 옐로우 1, C. I. 엑시드 오렌지 3, C. I. 디스퍼스 옐로우 42 등을 들 수 있다.Examples of the phthalocyanine dyes include CI Pad Blue 5, quinoneimine dyes such as CI Basic Blue 3 and CI Basic Blue 9, quinoline dyes such as CI Solvent Yellow 33, CI Exceed Yellow 3, and CI Disperse Yellow 64, and nitro-based dyes such as CI Exceed Yellow 1, CI Exed Orange 3, and CI Disperse Yellow 42.

또, 본 발명의 감광성 착색 조성물에는, (A-1) 이외의 흑색 안료를 사용할 수도 있다. (A-1) 이외의 흑색 안료는, 단독이어도 되고, 또는 적, 녹, 청 등의 혼합에 의한 것이어도 된다. 또, 이들 색재는 무기 또는 유기 안료, 염료 중에서 적절히 선택할 수 있다. In addition, a black pigment other than (A-1) may be used in the photosensitive coloring composition of the present invention. The black pigment other than the black pigment (A-1) may be used singly or may be a mixture of red, green, and blue. These coloring materials can be appropriately selected from inorganic or organic pigments and dyes.

흑색 색재를 조제하기 위해서 혼합 사용 가능한 색재로는, 빅토리아 퓨어 블루 (42595), 오라민 O (41000), 카틸론브릴리언트플라빈 (베이직 13), 로다민 6GCP (45160), 로다민 B (45170), 사프라닌 OK70 : 100 (50240), 에리오글라우신 X (42080), No.120/리오놀 옐로우 (21090), 리오놀 옐로우 GRO (21090), 시뮬러 패스트 옐로우 8GF (21105), 벤지딘 옐로우 4T-564D (21095), 시뮬러 패스트 레드 4015 (12355), 리오놀 레드 7B4401 (15850), 패스토겐 블루 TGR-L (74160), 리오놀 블루 SM (26150), 리오놀 블루 ES (피그먼트 블루 15 : 6), 리오노겐 레드 GD (피그먼트 레드 168), 리오놀 그린 2YS (피그먼트 그린 36) 등을 들 수 있다 (또한, 상기 ( ) 안의 숫자는 컬러 인덱스 (C. I.) 를 의미한다).Examples of the usable coloring materials for preparing the black coloring material include Victoria Pure Blue (42595), Oramin O (41000), Kathilon Brillant Flavin (Basic 13), Rhodamine 6GCP (45160), Rhodamine B (45170) , Sopranin OK 70: 100 (50240), Eliogluxin X (42080), No.120 / Rionol Yellow 21090, Rionol Yellow GRO 21090, Simulfast Yellow 8GF 21105, Benzidine Yellow Lionol Blue ES (Pigment Blue), Lionidol Blue TG-L (74160), Lionol Blue SM (26150), 4-T4 15: 6), Lionogen Red GD (Pigment Red 168), Lionol Green 2YS (Pigment Green 36), and the like. (The numbers in parentheses indicate color index (CI)).

또, 추가로 다른 혼합 사용 가능한 안료에 대해 C. I. 넘버로 나타내면, 예를 들어 C. I. 황색 안료 20, 24, 86, 93, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 147, 148, 153, 154, 166, C. I. 오렌지 안료 36, 43, 51, 55, 59, 61, C. I. 적색 안료 9, 97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, C. I. 바이올렛 안료 19, 23, 29, 30, 37, 40, 50, C. I. 청색 안료 15, 15 : 1, 15 : 4, 22, 60, 64, C. I. 녹색 안료 7, C. I. 브라운 안료 23, 25, 26 등을 들 수 있다.It is also possible to express the CI number for the further miscible pigments, for example CI yellow pigments 20, 24, 86, 93, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 147, 148, 153, 154, 166, CI orange pigment 36, 43, 51, 55, 59, 61, CI red pigment 9, 97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 15, 15, 4, 22, 60, 64, CI green pigment 7, CI 6,22, 227,228,240, CI violet pigment 19,23,29,30,37,40,50, CI blue pigment 15,15: Brown pigments 23, 25, 26, and the like.

또, 단독 사용 가능한 흑색 색재로는, 아세틸렌 블랙, 램프 블랙, 본 블랙, 흑연, 철흑, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 페릴렌 블랙 등을 들 수 있다.Examples of the black color material which can be used alone include acetylene black, lamp black, black black, graphite, iron black, aniline black, cyanine black, titanium black and perylene black.

또, (A-1) 유기 흑색 안료 이외의 색재로서 (A-3) 카본 블랙이 차광률, 화상 특성의 관점에서 바람직하게 사용된다. 카본 블랙의 예로는, 이하와 같은 카본 블랙을 들 수 있다.Also, carbon black (A-3) as a coloring material other than the organic black pigment (A-1) is preferably used from the viewpoint of light shading ratio and image characteristics. Examples of the carbon black include the following carbon blacks.

미츠비시 화학사 제조 : Mitsubishi Chemical Corporation:

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데구사사 제조 : Manufactured by Degussa Corporation:

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캐봇사 제조 :Manufactured by Cabot Corporation:

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콜럼비안 카본사 제조 : Columbian Carbons Manufacturing:

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카본 블랙은 수지로 피복된 것을 사용해도 상관없다. 수지로 피복된 카본 블랙을 사용하면, 유리 기판에의 밀착성이나 체적 저항값을 향상시키는 효과가 있다. 수지로 피복된 카본 블랙으로는, 예를 들어 일본 공개특허공보 평09-71733호에 기재되어 있는 카본 블랙 등을 바람직하게 사용할 수 있다.Carbon black coated with a resin may be used. The use of carbon black coated with a resin has the effect of improving the adhesion to a glass substrate and the volume resistance value. As the carbon black coated with resin, for example, carbon black described in JP-A-09-71733 can be preferably used.

수지에 의한 피복 처리에 제공하는 카본 블랙으로는, Na 와 Ca 의 합계 함유량이 100 ppm 이하인 것이 바람직하다. 카본 블랙은 통상 제조시의 원료유나 연소유 (또는 가스), 반응 정지수나 조립수 (造粒水), 나아가서는 반응로의 노재 등으로부터 혼입한 Na 나, Ca, K, Mg, Al, Fe 등을 조성으로 하는 회분이 퍼센트의 오더로 함유되어 있다. 이 중, Na 나 Ca 는, 각각 수백 ppm 이상 함유되어 있는 것이 일반적이지만, 이들이 다량으로 존재하면, 투명 전극 (ITO) 이나 그 밖의 전극에 침투해, 전기적 단락의 원인이 되는 경우가 있기 때문이다.It is preferable that the total content of Na and Ca is 100 ppm or less as the carbon black to be provided for the coating treatment by the resin. The carbon black may be Na, Ca, K, Mg, Al, Fe, or the like mixed in from raw oil, lead oxide (or gas), reaction stop water, granulated water, Is contained in the order of percent. Among them, Na and Ca are generally contained in several hundreds ppm or more, respectively. However, when they are present in a large amount, they penetrate the transparent electrode (ITO) and other electrodes, which may cause electrical short circuit.

이들의 Na 나 Ca 를 포함하는 회분의 함유량을 저감하는 방법으로는, 카본 블랙을 제조할 때의 원료유나 연료유 (또는 가스) 그리고 반응 정지수로서, 이들의 함유량이 최대한 적은 것을 엄선하는 것 및 스트럭쳐를 조정하는 알칼리 물질의 첨가량을 최대한 적게 하는 것에 의해 가능하다. 다른 방법으로는, 노로부터 제출된 카본 블랙을 물이나 염산 등으로 씻어 Na 나 Ca 를 용해해 제거하는 방법을 들 수 있다.As a method for reducing the content of the ash containing Na and Ca, there is a method of selecting as the raw material oil, fuel oil (or gas), and reaction stop water at the time of producing carbon black as possible, The amount of the alkali substance to be added is adjusted as much as possible. As another method, there is a method in which carbon black submitted from a furnace is washed with water or hydrochloric acid to dissolve Na or Ca.

구체적으로는 카본 블랙을 물, 염산, 또는 과산화수소수에 혼합 분산시킨 후, 물에 난용의 용매를 첨가해 가면 카본 블랙은 용매측으로 이행해, 물과 완전히 분리됨과 함께 카본 블랙 중에 존재한 대부분의 Na 나 Ca 는, 물이나 산에 용해, 제거된다. Na 와 Ca 의 합계량을 100 ppm 이하로 저감하기 위해서는, 원재료를 엄선한 카본 블랙 제조 과정 단독 혹은 물이나 산 용해 방식 단독으로도 가능한 경우도 있지만, 이 양 방식을 병용함으로써 더 용이하게 Na 와 Ca 의 합계량을 100 ppm 이하로 할 수 있다.Specifically, when carbon black is mixed and dispersed in water, hydrochloric acid, or aqueous hydrogen peroxide and then a soft solvent is added to the water, the carbon black migrates to the solvent side and is completely separated from water, and most Na Ca is dissolved and removed in water or acid. In order to reduce the total amount of Na and Ca to less than 100 ppm, it may be possible to use a raw material in a carbon black manufacturing process alone or in a water or acid dissolving method alone. However, by using both of these methods, the total amount of Na and Ca To 100 ppm or less.

또 수지 피복 카본 블랙은, pH6 이하의 이른바 산성 카본 블랙인 것이 바람직하다. 수중에서의 분산 직경 (어글로머레이트 직경(agglomerate diameter)) 이 작아지므로, 미세 유닛까지의 피복이 가능해져 바람직하다. 또한 입경 40 ㎚ 이하, 디부틸프탈레이트 (DBP) 흡수량 140 ㎖/100 g 이하인 것이 바람직하다. 입경이 40 ㎚ 보다 크고, DBP 흡수량이 140 ㎖/100 g 보다 크면 페이스트로 한 경우의 분산성은 우수하지만, 도포막의 농도감이 충분하지 않은 경우가 있고, 막두께 1 ∼ 2 ㎛ 정도에서는 차광성이 부족해질 우려가 있기 때문이다.The resin-coated carbon black is preferably an acidic carbon black having a pH of 6 or less. The dispersion diameter (agglomerate diameter) in water becomes small, so that it becomes possible to cover up to the fine unit. It is also preferable that the particle size is 40 nm or less and the amount of dibutyl phthalate (DBP) absorption is 140 ml / 100 g or less. If the particle diameter is larger than 40 nm and the DBP absorption is larger than 140 ml / 100 g, the dispersibility in the case of using a paste is excellent, but the feeling of concentration of the coating film may not be sufficient. This is because there is a possibility of becoming insufficient.

수지로 피복 된 카본 블랙을 조제하는 방법에는 특별히 한정이 없지만, 예를 들어 카본 블랙 및 수지의 배합량을 적절히 조정한 후, 1. 수지와 시클로헥사논, 톨루엔, 자일렌 등의 용제를 혼합해 가열 용해시킨 수지 용액과, 카본 블랙 및 물을 혼합한 현탁액을 혼합 교반하고, 카본 블랙과 물을 분리시킨 후, 물을 제거하고 가열 혼련해 얻어진 조성물을 시트상으로 성형하고, 분쇄한 후, 건조시키는 방법 ; 2. 상기와 동일하게 해 조제한 수지 용액과 현탁액을 혼합 교반하여 카본 블랙 및 수지를 입상화한 후, 얻어진 입상물을 분리, 가열해 잔존하는 용제 및 물을 제거하는 방법 ; 3. 상기 예시한 용제에 말레산, 푸마르산 등의 카르복실산을 용해시키고, 카본 블랙을 첨가, 혼합하여 건조시키고, 용제를 제거해 카르복실산 첨착 카본 블랙을 얻은 후, 이것에 수지를 첨가해 드라이 블렌드하는 방법 ; 4. 피복시키는 수지를 구성하는 반응성기 함유 모노머 성분과 물을 고속 교반하여 현탁액을 조제하고, 중합 후 냉각하여 중합체 현탁액으로부터 반응성기 함유 수지를 얻은 후, 이것에 카본 블랙을 첨가해 혼련하고, 카본 블랙과 반응성기를 반응시키고 (카본 블랙을 그래프트시키고), 냉각 및 분쇄하는 방법 등을 채용할 수 있다.The method for preparing the carbon black coated with the resin is not particularly limited. For example, after appropriately adjusting the amount of the carbon black and the resin, the resin is mixed with a solvent such as cyclohexanone, toluene or xylene, A suspension obtained by mixing the resin solution with the carbon black and water is mixed and stirred to separate the carbon black and water, and then the water is removed and heated and kneaded. The obtained composition is formed into a sheet, pulverized and dried Way ; 2. A method of granulating carbon black and resin by mixing and stirring the prepared resin solution and suspension in the same manner as above to separate and heat the obtained granular material to remove residual solvent and water; 3. Carboxylic acid such as maleic acid or fumaric acid is dissolved in the above-mentioned solvent, carbon black is added, mixed and dried, and the solvent is removed to obtain a carboxylic acid-impregnated carbon black, How to blend; 4. A suspension containing a reactive group-containing monomer component constituting the resin to be coated and water is stirred at a high speed to prepare a suspension. After polymerization and cooling to obtain a reactive group-containing resin from the polymer suspension, carbon black is added thereto, A method of reacting black with a reactive group (grafting carbon black), cooling, and pulverizing can be adopted.

피복 처리하는 수지의 종류도 특별히 한정되는 것은 아니지만, 합성 수지가 일반적이고, 또한 구조 중에 벤젠핵을 가진 수지가 양쪽성계 계면 활성제적인 작용이 보다 강하기 때문에 분산성 및 분산 안정성의 점에서 바람직하다. The type of the resin to be coated is not particularly limited, but a synthetic resin is common and a resin having a benzene nucleus in its structure is more preferable as an amphoteric surfactant, so that it is preferable from the viewpoints of dispersibility and dispersion stability.

구체적인 합성 수지로는, 페놀 수지, 멜라민 수지, 자일렌 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 글립탈 수지, 에폭시 수지, 알킬벤젠 수지 등의 열경화성 수지나, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 변성 폴리페닐렌옥사이드, 폴리술폰, 폴리파라페닐렌테레프탈아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 폴리아미노비스말레이미드, 폴리에테르술포폴리페닐렌술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르에테르케톤 등의 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 카본 블랙에 대한 수지의 피복량은, 카본 블랙과 수지의 합계량에 대해 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 1 질량% 미만의 양에서는 미처리의 카본 블랙과 동일한 분산성이나 분산 안정성밖에 얻어지지 않을 우려가 있다. 한편, 30 질량% 를 초과하면, 수지끼리의 점착성이 강해 경단상의 덩어리가 되어, 분산이 진행되지 않게 될 우려가 있다.Specific examples of the synthetic resin include thermosetting resins such as phenol resin, melamine resin, xylene resin, diallyl phthalate resin, grit resin, epoxy resin and alkylbenzene resin, and thermosetting resins such as polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate Examples of the thermoplastic resin composition of the present invention include thermoplastic resins such as polybutylene terephthalate, phthalate, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyparaphenylene terephthalamide, polyamideimide, polyimide, polyamino bismaleimide, polyethersulfopolyphenylene sulfone, polyarylate, Resin can be used. The covering amount of the resin with respect to the carbon black is preferably from 1 to 30 mass% based on the total amount of the carbon black and the resin, and if the amount is less than 1 mass%, the same dispersibility and dispersion stability as the untreated carbon black . On the other hand, if it is more than 30% by mass, the adhesion between the resins becomes strong, which results in a dendritic mass, which may prevent dispersion.

이와 같이 하여 수지로 피복 처리해 이루어지는 카본 블랙은, 통상적인 방법에 따라 블랙 매트릭스의 차광재로서 사용할 수 있고, 이 블랙 매트릭스를 구성 요소로 하는 컬러 필터를 통상적인 방법에 의해 제조할 수 있다. 이와 같은 카본 블랙을 사용하면, 고차광률이고 또한 표면 반사율이 낮고 또 막두께가 얇은 블랙 매트릭스를 저비용으로 달성할 수 있다. 블랙 매트릭스액을 구성하는 수지나 용매에 대해, 카본 블랙의 분산성이나 분산 안정성이 현격히 향상되었기 때문이라고 추측된다. 또, 카본 블랙 표면을 수지로 피복한 것에 의해, Ca 나 Na 를 카본 블랙 중에 봉쇄하는 작용도 있는 것도 추측된다.Carbon black obtained by coating with a resin in this way can be used as a light shielding material of a black matrix according to a conventional method, and a color filter having the black matrix as a component can be produced by a conventional method. When such carbon black is used, a black matrix having a high light-shielding ratio, a low surface reflectance and a thin film thickness can be achieved at low cost. It is presumed that the dispersibility and the dispersion stability of the carbon black are remarkably improved with respect to the resin or solvent constituting the black matrix liquid. It is also presumed that the coating of the carbon black surface with the resin also acts to block Ca or Na in the carbon black.

또, 안료로서 황산바륨, 황산납, 산화티탄, 황색납, 벵갈라, 산화크롬 등을 사용할 수도 있다. As the pigment, barium sulfate, lead sulfate, titanium oxide, yellow lead, spinach, and chromium oxide may be used.

이들 각종 안료는 복수종을 병용할 수도 있다. 예를 들어, 색도의 조정을 위해서 녹색 안료와 황색 안료를 병용하거나, 청색 안료와 자색 안료를 병용할 수 있다. A plurality of these pigments may be used in combination. For example, to adjust the chromaticity, a green pigment and a yellow pigment may be used together, or a blue pigment and a purple pigment may be used in combination.

이들 각종 안료 중 (A-2) 유기 착색 안료로서, 차광성의 점에서 특히 바람직하게 사용되는 안료로는 C. I. 피그먼트 블루 60, C. I. 피그먼트 블루 15 : 6, C. I. 피그먼트 레드 177, C. I. 피그먼트 레드 242, C. I. 피그먼트 블루 254, C. I. 피그먼트 바이올렛 23, C. I. 피그먼트 바이올렛 29, C. I. 피그먼트 오렌지 49, C. I. 피그먼트 오렌지 64, C. I. 피그먼트 오렌지 79 를 들 수 있다. (A-2) 유기 착색 안료를 포함하는 경우, 상기 안료 중 적어도 1 종 이상을 함유하는 것이 바람직하고, 2 종 이상을 함유하는 것이 더 바람직하다.Among these various pigments, CI Pigment Blue 60, CI Pigment Blue 15: 6, CI Pigment Red 177, CI Pigment (A-2) Red 242, CI Pigment Blue 254, CI Pigment Violet 23, CI Pigment Violet 29, CI Pigment Orange 49, CI Pigment Orange 64, CI Pigment Orange 79. When the (A-2) organic colored pigment is included, it preferably contains at least one kind of the above-mentioned pigments, and more preferably contains two or more kinds.

또, (A-3) 카본 블랙으로는, 체적 저항이나 유전율의 점에서, 수지 피복 카본 블랙이 바람직하게 사용된다.As the carbon black (A-3), resin-coated carbon black is preferably used in terms of volume resistance and permittivity.

이들 안료는, 평균 입경이 통상 1 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이하, 더 바람직하게는 0.25 ㎛ 이하가 되도록, 분산시켜 사용하는 것이 바람직하다. 여기서 평균 입경의 기준은 안료 입자의 수이다.These pigments are preferably dispersed and used so that the average particle diameter is usually 1 μm or less, preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.25 μm or less. Here, the reference of the average particle diameter is the number of pigment particles.

또한, 본 발명에 있어서, 안료의 평균 입경은, 동적 광 산란 (DLS) 에 의해 측정된 안료 입경으로부터 구한 값이다. 입경 측정은, 충분히 희석된 착색 수지 조성물 (통상은 희석하여 안료 농도 0.005 ∼ 0.2 질량% 정도로 조제. 단 측정 기기에 의해 추천된 농도가 있으면 그 농도에 따른다) 에 대해 실시하고, 25 ℃ 에서 측정한다.Further, in the present invention, the average particle diameter of the pigment is a value obtained from the pigment particle size measured by dynamic light scattering (DLS). The particle diameter measurement is carried out for a sufficiently diluted colored resin composition (usually diluted to a pigment concentration of about 0.005 to 0.2 mass%, and if there is a recommended concentration by a measuring instrument, the concentration is dependent on the concentration) .

<(B) 분산제><(B) Dispersant>

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서는, (A) 색재를 미세하게 분산시키고, 또한 그 분산 상태를 안정화시키는 것이 품질의 안정성 확보에는 중요하기 때문에, (B) 분산제를 포함하고, 특히 (A-1) 유기 흑색 안료의 분산성의 관점에서 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제를 포함한다. In the photosensitive coloring composition of the present invention, since it is important to finely disperse (A) the coloring material and to stabilize the dispersion state thereof, it is important to ensure the stability of the quality. And a polymer dispersant having a quaternary ammonium salt group as a functional group from the viewpoint of dispersibility of the organic black pigment.

상기 고분자 분산제는 추가로, 분산 안정성의 면에서 카르복실기 ; 인산기 ; 술폰산기 ; 또는 이들의 염기 ; 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기 등의 관능기를 추가로 갖는 것이어도 된다. 그 중에서도 특히, 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기 ; 피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기 등의 염기성 관능기를 추가로 갖는 고분자 분산제가 안료를 분산시킬 때에 소량의 분산제로 분산시킬 수 있다는 관점에서 바람직하다.The polymer dispersant may further contain a carboxyl group; Phosphate group; Sulfonic acid group; Or a base thereof; A primary, secondary or tertiary amino group; And a group derived from a nitrogen-containing heterocyclic ring such as pyridine, pyrimidine or pyrazine. Among them, a primary, secondary or tertiary amino group; A polymer dispersant further having a basic functional group such as a group derived from a nitrogen-containing heterocyclic ring such as pyridine, pyrimidine or pyrazine is preferable from the viewpoint of dispersing the pigment with a small amount of dispersant when dispersing the pigment.

이들 중에서도, (A-1) 유기 흑색 안료의 분산성의 관점에서, 또 (A-2) 유기 착색 안료 및/또는 (A-3) 카본 블랙의 분산성의 관점에서, 4 급 암모늄염기 및 3 급 아미노기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제가 바람직하다.Among these, from the viewpoints of the dispersibility of the organic black pigment (A-1) and the dispersibility of the organic coloring pigment (A-2) and / or the carbon black (A-3), quaternary ammonium salt groups and tertiary amino groups As a functional group is preferable.

또, 고분자 분산제로는, 예를 들어 우레탄계 분산제, 아크릴계 분산제, 폴리에틸렌이민계 분산제, 폴리알릴아민계 분산제, 아미노기를 갖는 모노머와 매크로 모노머로 이루어지는 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르계 분산제, 폴리옥시에틸렌디에스테르계 분산제, 폴리에테르인산계 분산제, 폴리에스테르인산계 분산제, 소르비탄 지방족 에스테르계 분산제, 지방족 변성 폴리에스테르계 분산제 등을 들 수 있다.Examples of the polymer dispersing agent include a urethane dispersant, an acrylic dispersant, a polyethyleneimine dispersant, a polyallyl amine dispersant, a dispersant comprising a monomer having an amino group and a macromonomer, a polyoxyethylene alkyl ether dispersant, An ester-based dispersant, a polyether phosphoric acid-based dispersant, a polyester phosphoric acid-based dispersant, a sorbitan aliphatic ester-based dispersant, and an aliphatic modified polyester-based dispersant.

이와 같은 분산제의 구체예로는, 상품명으로 EFKA (등록 상표. BASF 사 제조.), DISPERBYK (등록 상표. 빅케미사 제조.), 디스파론 (등록 상표. 쿠스모토 화성사 제조.), SOLSPERSE (등록 상표. 루브리졸사 제조.), KP (신에츠 화학 공업사 제조), 폴리플로우 (쿄에이샤 화학사 제조), 아지스퍼 (등록 상표. 아지노모토사 제조.) 등을 들 수 있다. Specific examples of such dispersants include, but are not limited to, EFKA (registered trademark, manufactured by BASF), DISPERBYK (registered trademark, manufactured by BICKEMISA), DIPARON (registered trademark, manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.), SOLSPERSE (Registered trademark) manufactured by Lubrizol Corporation), KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) and Ajisper (registered trademark, manufactured by Ajinomoto Co., Ltd.).

이들 고분자 분산제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또는 2 종 이상을 병용해도 된다.These polymer dispersants may be used singly or in combination of two or more.

고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상 700 이상, 바람직하게는 1000 이상이고, 또 통상 100,000 이하, 바람직하게는 50,000 이하이다. The weight average molecular weight (Mw) of the polymer dispersant is usually 700 or more, preferably 1000 or more, and usually 100,000 or less, preferably 50,000 or less.

이들 중, 밀착성 및 직선성의 면에서, (B) 분산제는 관능기를 갖는 우레탄계 고분자 분산제 및/또는 아크릴계 고분자 분산제를 포함하는 것이 바람직하고, 아크릴계 고분자 분산제를 포함하는 것이 특히 바람직하다.Among them, the dispersant (B) preferably contains a urethane-based polymer dispersant and / or an acrylic polymer dispersant having a functional group in view of adhesion and linearity, and particularly preferably contains an acrylic polymer dispersant.

또 분산성, 보존성의 면에서, 염기성 관능기를 갖고, 폴리에스테르 결합 및/또는 폴리에테르 결합을 갖는 고분자 분산제가 바람직하다.In view of dispersibility and preservability, a polymer dispersant having a basic functional group and having a polyester bond and / or a polyether bond is preferable.

우레탄계 및 아크릴계 고분자 분산제로는, 예를 들어 DISPERBYK160 ∼ 166, 182 시리즈 (모두 우레탄계), DISPERBYK2000, 2001, LPN21116 등 (모두 아크릴계) (이상 모두 빅케미사 제조) 을 들 수 있다.Examples of the urethane-based and acrylic-based polymer dispersing agents include DISPERBYK 160 to 166 and 182 series (all-urethane type), DISPERBYK 2000, 2001 and LPN21116 (all acrylic type) (all manufactured by Bigmix).

우레탄계 고분자 분산제로서 바람직한 화학 구조를 구체적으로 예시한다면, 예를 들어 폴리이소시아네이트 화합물과, 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10,000 의 화합물과, 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 얻어지는, 중량 평균 분자량 1,000 ∼ 200,000 의 분산 수지 등을 들 수 있다. 이들을 벤질클로라이드 등의 4 급화제로 처리함으로써, 3 급 아미노기의 전부 또는 일부를 4 급 암모늄염기로 할 수 있다.For example, a polyisocyanate compound, a compound having a number average molecular weight of 300 to 10,000 having one or two hydroxyl groups in the molecule, and a compound having an active hydrogen and a tertiary amino group And a dispersion resin having a weight average molecular weight of 1,000 to 200,000. By treating them with a quaternizing agent such as benzyl chloride, all or a part of the tertiary amino group can be quaternary ammonium salt group.

상기 폴리이소시아네이트 화합물의 예로는, 파라페닐렌디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신메틸에스테르디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 다이머산디이소시아네이트 등의 지방족 디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트), ω,ω'-디이소시아네이트디메틸시클로헥산 등의 지환족 디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, α,α,α',α'-테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트 등의 방향고리를 갖는 지방족 디이소시아네이트, 리신에스테르트리이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이트메틸옥탄, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 비시클로헵탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐메탄), 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트 등의 트리이소시아네이트, 및 이들의 3 량체, 물 부가물, 및 이들의 폴리올 부가물 등을 들 수 있다. 폴리이소시아네이트로서 바람직한 것은 유기 디이소시아네이트의 3 량체이고, 가장 바람직한 것은 톨릴렌디이소시아네이트의 3 량체와 이소포론디이소시아네이트의 3 량체이다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the polyisocyanate compound include p-phenylenediisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, naphthalene- Alicyclic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, lysine methyl ester diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and dimer acid diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4'- Alicyclic diisocyanates such as methylenebis (cyclohexylisocyanate), omega, omega'-diisocyanate dimethylcyclohexane and the like, aromatic rings such as xylylene diisocyanate, alpha, alpha, alpha ', alpha'- tetramethyl xylylene diisocyanate and the like , Lysine ester triisocyanate, 1,6,11-lane &lt; RTI ID = 0.0 &gt; (Isocyanatophenyl) thiophosphate, and the like can be used. Examples of the polyisocyanate compound include polyisocyanates such as polyisocyanate, polyisocyanate, polyisocyanate, polyisocyanate, polyisocyanate, polyisocyanate, Triisocyanates, trimer thereof, water adducts thereof, and polyol adducts thereof. The polyisocyanate is preferably a trimer of an organic diisocyanate, most preferably a trimer of tolylene diisocyanate and a trimer of isophorone diisocyanate. These may be used singly or in combination of two or more.

이소시아네이트의 3 량체의 제조 방법으로는, 상기 폴리이소시아네이트류를 적당한 3 량화 촉매, 예를 들어 제 3 급 아민류, 포스핀류, 알콕사이드류, 금속 산화물, 카르복실산염류 등을 이용하여 이소시아네이트기의 부분적인 3 량화를 실시하고, 촉매독의 첨가에 의해 3 량화를 정지시킨 후, 미반응의 폴리이소시아네이트를 용제 추출, 박막 증류에 의해 제거해 목적의 이소시아누레이트기 함유 폴리이소시아네이트를 얻는 방법을 들 수 있다.As a method for producing an isocyanate trimer, there can be mentioned a method of producing a trimer of an isocyanate group by using an appropriate trimerization catalyst such as tertiary amines, phosphines, alkoxides, metal oxides, carboxylic acid salts, The polyisocyanate is subjected to trimerization, quenching is stopped by the addition of a catalyst poison, and then unreacted polyisocyanate is removed by solvent extraction or thin-film distillation to obtain an intended isocyanurate group-containing polyisocyanate .

동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10,000 의 화합물로는, 폴리에테르글리콜, 폴리에스테르글리콜, 폴리카보네이트글리콜, 폴리올레핀글리콜 등, 및 이들 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화된 것 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다.Examples of the compound having a number average molecular weight of 300 to 10,000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule include polyether glycol, polyester glycol, polycarbonate glycol, polyolefin glycol and the like, and compounds in which the terminal hydroxyl groups of these compounds have 1 to 25 , And mixtures of two or more thereof.

폴리에테르글리콜로는, 폴리에테르디올, 폴리에테르에스테르디올, 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다. 폴리에테르디올로는, 알킬렌옥사이드를 단독 또는 공중합시켜 얻어지는 것, 예를 들어 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌-프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜, 폴리옥시헥사메틸렌글리콜, 폴리옥시옥타메틸렌글리콜 및 그들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다.Examples of the polyether glycol include polyether diol, polyether ester diol, and mixtures of two or more thereof. Examples of the polyether diol include those obtained by using an alkylene oxide alone or by copolymerization, such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene-propylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, polyoxyhexamethylene glycol, polyoxyoctamethylene glycol, And mixtures of two or more thereof.

폴리에테르에스테르디올로는, 에테르기 함유 디올 혹은 다른 글리콜과의 혼합물을 디카르복실산 또는 그들의 무수물과 반응시키거나, 또는 폴리에스테르글리콜에 알킬렌옥사이드를 반응시킴으로써 얻어지는 것, 예를 들어 폴리(폴리옥시테트라메틸렌)아디페이트 등을 들 수 있다. 폴리에테르글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜 또는 이들 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화된 화합물이다.Polyetherester diols include those obtained by reacting a mixture with an ether group-containing diol or other glycol with a dicarboxylic acid or anhydride thereof, or by reacting an alkylene oxide with a polyester glycol, for example, poly Oxytetramethylene) adipate, and the like. Polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, or compounds in which one terminal hydroxyl group of these compounds is alkoxylated with an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms is most preferable as the polyether glycol.

폴리에스테르글리콜로는, 디카르복실산 (숙신산, 글루타르산, 아디프산, 세바스산, 푸마르산, 말레산, 프탈산 등) 또는 그들의 무수물과 글리콜 (에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 2,5-디메틸-2,5-헥산디올, 1,8-옥타메틸렌글리콜, 2-메틸-1,8-옥타메틸렌글리콜, 1,9-노난디올 등의 지방족 글리콜, 비스하이드록시메틸시클로헥산 등의 지환족 글리콜, 자일릴렌글리콜, 비스하이드록시에톡시벤젠 등의 방향족 글리콜, N-메틸디에탄올아민 등의 N-알킬디알카놀아민 등) 을 중축합시켜 얻어진 것, 예를 들어 폴리에틸렌아디페이트, 폴리부틸렌아디페이트, 폴리헥사메틸렌아디페이트, 폴리에틸렌/프로필렌아디페이트 등, 또는 상기 디올류 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 1 가 알코올을 개시제로서 이용하여 얻어지는 폴리락톤디올 또는 폴리락톤모노올, 예를 들어 폴리카프로락톤글리콜, 폴리메틸발레로락톤 및 이들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 폴리에스테르글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리카프로락톤글리콜 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 알코올을 개시제로 한 폴리카프로락톤이다.Examples of the polyester glycol include dicarboxylic acid (succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, phthalic acid and the like) or anhydrides thereof and glycol (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene 1,2-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 2 Propylene-1,3-propanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, 1,6 Methyl-2,4-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,5- Aliphatic glycols such as hexanediol, 1,8-octamethylene glycol, 2-methyl-1,8-octamethylene glycol and 1,9-nonanediol, alicyclic glycols such as bishydroxymethylcyclohexane, , And bishydroxyethoxybenzene. , N-alkyldialkanolamine such as N-methyldiethanolamine), for example, polyethylene adipate, polybutylene adipate, polyhexamethylene adipate, polyethylene / propylene adipate, etc. , Or polylactone diols or polylactone monools obtained by using the diols or monohydric alcohols having 1 to 25 carbon atoms as an initiator, for example, polycaprolactone glycol, polymethylvalerolactone, and mixtures of two or more thereof . The most preferable polyester glycol is polycaprolactone glycol or polycaprolactone having an alcohol having 1 to 25 carbon atoms as an initiator.

폴리카보네이트글리콜로는, 폴리(1,6-헥실렌)카보네이트디올, 폴리(3-메틸-1,5-펜틸렌)카보네이트디올 등, 폴리올레핀글리콜로는 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리이소프렌글리콜 등을 들 수 있다. Examples of the polycarbonate glycol include poly (1,6-hexylene) carbonate diol and poly (3-methyl-1,5-pentylene) carbonate diol. Examples of the polyolefin glycol include polybutadiene glycol, hydrogenated polybutadiene glycol, And addition type polyisoprene glycol.

이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used singly or in combination of two or more.

동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 화합물의 수평균 분자량은, 통상 300 ∼ 10,000, 바람직하게는 500 ∼ 6,000, 더 바람직하게는 1,000 ∼ 4,000이다.The number average molecular weight of the compound having one or two hydroxyl groups in the same molecule is usually 300 to 10,000, preferably 500 to 6,000, and more preferably 1,000 to 4,000.

본 발명에 사용되는 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 설명한다.Compounds having active hydrogen and tertiary amino groups in the same molecule used in the present invention will be described.

활성 수소, 즉 산소 원자, 질소 원자 또는 황 원자에 직접 결합하고 있는 수소 원자로는, 수산기, 아미노기, 티올기 등의 관능기 중의 수소 원자를 들 수 있고, 그 중에서도 아미노기, 특히 1 급 아미노기의 수소 원자가 바람직하다.Examples of the hydrogen atom directly bonded to the active hydrogen, that is, the oxygen atom, the nitrogen atom or the sulfur atom include a hydrogen atom in a functional group such as a hydroxyl group, an amino group and a thiol group. Among them, a hydrogen atom of an amino group, Do.

3 급 아미노기는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 갖는 아미노기, 또는 헤테로 고리 구조, 보다 구체적으로는 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리 등을 들 수 있다.The tertiary amino group is not particularly limited, and examples thereof include an amino group having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a heterocyclic structure, more specifically, an imidazole ring or a triazole ring.

이와 같은 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 예시한다면, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, N,N-디프로필-1,3-프로판디아민, N,N-디부틸-1,3-프로판디아민, N,N-디메틸에틸렌디아민, N,N-디에틸에틸렌디아민, N,N-디프로필에틸렌디아민, N,N-디부틸에틸렌디아민, N,N-디메틸-1,4-부탄디아민, N,N-디에틸-1,4-부탄디아민, N,N-디프로필-1,4-부탄디아민, N,N-디부틸-1,4-부탄디아민 등을 들 수 있다.Examples of such a compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule include N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl- 1,3-propanediamine, N, N-dimethylethylenediamine, N, N-diethylethylenediamine, N, N-dipropylethylenediamine, N , N-dibutylethylenediamine, N, N-dimethyl-1,4-butanediamine, N, N-diethyl-1,4-butanediamine, , N-dibutyl-1,4-butanediamine, and the like.

또, 3 급 아미노기가 함질소 헤테로 고리 구조인 경우의 그 함질소 헤테로 고리로는, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 트리아졸 고리, 테트라졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 인다졸 고리, 벤즈이미다졸 고리, 벤조트리아졸 고리, 벤조옥사졸 고리, 벤조티아졸 고리, 벤조티아디아졸 고리 등의 함질소 헤테로 5 원자 고리, 피리딘 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 아크리딘 고리, 이소퀴놀린 고리 등의 함질소 헤테로 6 원자 고리를 들 수 있다. 이들 함질소 헤테로 고리 중 바람직한 것은 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리이다.Examples of the nitrogen-containing heterocyclic ring when the tertiary amino group is a nitrogen-containing heterocyclic ring structure include a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a tetrazole ring, an indole ring, a carbazole ring, an indazole ring, A pyridazine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a quinoline ring, an imidazole ring, a benzotriazole ring, a benzoxazole ring, a benzothiazole ring and a benzothiadiazole ring; , An acridine ring, an isoquinoline ring, and the like. Preferred among these nitrogen-containing heterocyclic rings are imidazole rings or triazole rings.

이들 이미다졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물을 구체적으로 예시한다면, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 히스티딘, 2-아미노이미다졸, 1-(2-아미노에틸)이미다졸 등을 들 수 있다. 또, 트리아졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물을 구체적으로 예시한다면, 3-아미노-1,2,4-트리아졸, 5-(2-아미노-5-클로로페닐)-3-페닐-1H-1,2,4-트리아졸, 4-아미노-4H-1,2,4-트리아졸-3,5-디올, 3-아미노-5-페닐-1H-1,3,4-트리아졸, 5-아미노-1,4-디페닐-1,2,3-트리아졸, 3-아미노-1-벤질-1H-2,4-트리아졸 등을 들 수 있다. 그 중에서도, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 3-아미노-1,2,4-트리아졸이 바람직하다.Specific examples of the compound having an imidazole ring and an amino group include 1- (3-aminopropyl) imidazole, histidine, 2-aminoimidazole and 1- (2-aminoethyl) imidazole. Specific examples of the compound having a triazole ring and an amino group include 3-amino-1,2,4-triazole, 5- (2-amino-5-chlorophenyl) 2,4-triazole, 4-amino-4H-1,2,4-triazole-3,5-diol, 3-amino- 1, 4-diphenyl-1,2,3-triazole, 3-amino-1-benzyl-1H-2,4-triazole and the like. Among these, N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl-1,3-propanediamine, 1- (3-aminopropyl) imidazole, -Triazole is preferred.

이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used singly or in combination of two or more.

우레탄계 고분자 분산제를 제조할 때의 원료의 바람직한 배합 비율은 폴리이소시아네이트 화합물 100 질량부에 대해, 동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수평균 분자량 300 ∼ 10,000 의 화합물이 10 ∼ 200 질량부, 바람직하게는 20 ∼ 190 질량부, 더 바람직하게는 30 ∼ 180 질량부, 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물이 0.2 ∼ 25 질량부, 바람직하게는 0.3 ∼ 24 질량부이다.The preferred mixing ratio of the starting materials in the production of the urethane polymer dispersant is 10-200 parts by mass of the compound having a number average molecular weight of 300 to 10,000 and one or two hydroxyl groups in the same molecule per 100 parts by mass of the polyisocyanate compound Preferably 20 to 190 parts by mass, more preferably 30 to 180 parts by mass, and the compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule in an amount of 0.2 to 25 parts by mass, preferably 0.3 to 24 parts by mass.

우레탄계 고분자 분산제의 제조는 폴리우레탄 수지 제조의 공지된 방법에 따라 실시된다. 제조할 때의 용매로는, 통상 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 이소포론 등의 케톤류, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산셀로솔브 등의 에스테르류, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 헥산 등의 탄화수소류, 다이아세톤알코올, 이소프로판올, 제2부탄올, 제3부탄올 등 일부의 알코올류, 염화메틸렌, 클로로포름 등의 염화물, 테트라하이드로푸란, 디에틸에테르 등의 에테르류, 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭사이드 등의 비프로톤성 극성 용매 등이 사용된다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The production of the urethane-based polymeric dispersant is carried out according to a known method of producing a polyurethane resin. As the solvent in the preparation, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone and isophorone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate and cellosolve acetate, , Hydrocarbons such as toluene, xylene and hexane, alcohols such as diacetone alcohol, isopropanol, secondary butanol and tertiary butanol, chlorides such as methylene chloride and chloroform, ethers such as tetrahydrofuran and diethyl ether , Aprotic polar solvents such as dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and dimethylsulfoxide, and the like are used. These may be used singly or in combination of two or more.

상기 제조시에, 통상 우레탄화 반응 촉매가 사용된다. 이 촉매로는, 예를 들어 디부틸틴디라우레이트, 디옥틸틴디라우레이트, 디부틸틴디옥토에이트, 스태너스옥토에이트 등의 주석계, 철아세틸아세토네이트, 염화제2철 등의 철계, 트리에틸아민, 트리에틸렌디아민 등의 3 급 아민계 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용하여 사용해도 된다.In the above production, a urethane reaction catalyst is usually used. Examples of the catalyst include tin-based catalysts such as dibutyl tin dilaurate, dioctyl tin dilaurate, dibutyl tin dioctoate and stannous octoate; iron catalysts such as iron acetylacetonate and ferric chloride; Amines, and tertiary amines such as triethylenediamine. These may be used singly or in combination of two or more.

동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물의 도입량은 반응 후의 아민값으로 1 ∼ 100 ㎎KOH/g 의 범위로 제어하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 5 ∼ 95 ㎎KOH/g 의 범위이다. 아민가는 염기성 아미노기를 산에 의해 중화 적정하고, 산가에 대응시켜 KOH 의 ㎎ 수로 나타낸 값이다. 아민가가 상기 범위보다 낮으면 분산 능력이 저하되는 경향이 있고, 또 상기 범위를 초과하면 현상성이 저하되기 쉬워진다.The introduction amount of the compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule is preferably controlled in the range of 1 to 100 mgKOH / g as an amine value after the reaction. And more preferably in the range of 5 to 95 mgKOH / g. The amine value is a value expressed by the number of mg of KOH corresponding to the acid value by neutralizing the basic amino group with an acid. When the amine value is lower than the above range, the dispersibility tends to decrease. When the amine value is more than the above range, the developability tends to decrease.

또한, 이상의 반응에서 고분자 분산제에 이소시아네이트기가 잔존하는 경우에는 추가로, 알코올이나 아미노 화합물로 이소시아네이트기를 변형시키면 생성물의 시간 경과적 안정성이 높아지므로 바람직하다.When the isocyanate group remains in the polymer dispersant in the above reaction, further modification of the isocyanate group with an alcohol or an amino compound is preferable because the stability of the product over time is increased.

우레탄계 고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상 1,000 ∼ 200,000, 바람직하게는 2,000 ∼ 100,000, 보다 바람직하게는 3,000 ∼ 50,000 의 범위이다. 이 분자량이 1,000 미만에서는 분산성 및 분산 안정성이 열등하고, 200,000 을 초과하면 용해성이 저하되어 분산성이 열등하면 동시에 반응의 제어가 곤란해진다.The weight average molecular weight (Mw) of the urethane type polymeric dispersant is usually in the range of 1,000 to 200,000, preferably 2,000 to 100,000, and more preferably 3,000 to 50,000. When the molecular weight is less than 1,000, the dispersibility and dispersion stability are inferior. When the molecular weight exceeds 200,000, the solubility is lowered, and when the dispersibility is inferior, it becomes difficult to control the reaction.

아크릴계 고분자 분산제로는, 관능기 (여기서 말하는 관능기란, 고분자 분산제에 함유되는 관능기로서 전술한 관능기이다) 를 갖는 불포화기 함유 단량체와, 관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체의 랜덤 공중합체, 그래프트 공중합체, 블록 공중합체를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 공중합체는 공지된 방법으로 제조할 수 있다.Examples of the acrylic polymer dispersant include random copolymers of an unsaturated group-containing monomer having a functional group (the functional group mentioned above as a functional group contained in the polymer dispersant as the functional group described above) and an unsaturated group-containing monomer having no functional group, a graft copolymer, It is preferable to use a block copolymer. These copolymers can be prepared by known methods.

관능기를 갖는 불포화기 함유 단량체로는, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 아크릴산 다이머 등의 카르복실기를 갖는 불포화 단량체, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 및 이들의 4 급화물 등의 3 급 아미노기, 4 급 암모늄염기를 갖는 불포화 단량체를 구체예로서 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the unsaturated group-containing monomer having a functional group include (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylsuccinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, 2- Unsaturated monomers having a carboxyl group such as hydrophthalic acid and dimethacrylic acid, tertiary amino groups such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate and quaternary compounds thereof, unsaturated monomers having a quaternary ammonium salt group As a specific example. These may be used singly or in combination of two or more.

관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체로는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시메틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, N-비닐피롤리돈, 스티렌 및 그 유도체, α-메틸스티렌, N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드, N-벤질말레이미드 등의 N-치환 말레이미드, 아크릴로니트릴, 아세트산비닐 및 폴리메틸(메트)아크릴레이트 매크로모노머, 폴리스티렌 매크로모노머, 폴리2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 매크로모노머, 폴리에틸렌글리콜 매크로모노머, 폴리프로필렌글리콜 매크로모노머, 폴리카프로락톤 매크로모노머 등의 매크로모노머 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the unsaturated group-containing monomer having no functional group include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (Meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclodecane (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone , Styrene and its derivatives, N-substituted maleimides such as? -Methylstyrene, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide and N-benzylmaleimide, acrylonitrile, vinyl acetate and polymethyl (meth) Rate macro maco Macromonomers such as nomar, polystyrene macromonomer, poly 2-hydroxyethyl (meth) acrylate macromonomer, polyethylene glycol macromonomer, polypropylene glycol macromonomer and polycaprolactone macromonomer. These may be used singly or in combination of two or more.

아크릴계 고분자 분산제는, 특히 바람직하게는 관능기를 갖는 A 블록과 관능기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체이지만, 이 경우 A 블록 중에는 상기 관능기를 포함하는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조 외에, 상기 관능기를 포함하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조가 포함되어 있어도 되고, 이들이 그 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또, 관능기를 포함하지 않는 부분 구조의, A 블록 중의 함유량은 통상 80 질량% 이하이고, 바람직하게는 50 질량% 이하, 더 바람직하게는 30 질량% 이하이다.The acrylic polymer dispersant is particularly preferably an AB or BAB block copolymer comprising an A block having a functional group and a B block having no functional group. In this case, in the A block, in addition to the partial structure derived from an unsaturated group- , And a partial structure derived from an unsaturated group-containing monomer not containing the above-mentioned functional group. These may be contained in the A block in any of the random copolymerization and the block copolymerization. The content of the partial structure not containing a functional group in the A block is usually 80 mass% or less, preferably 50 mass% or less, more preferably 30 mass% or less.

B 블록은, 상기 관능기를 포함하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조로 이루어지는 것이지만, 1 개의 B 블록 중에 2 종 이상의 단량체 유래의 부분 구조가 함유되어 있어도 되고, 이들은 그 B 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.The B block is composed of a partial structure derived from an unsaturated group-containing monomer not containing the above-mentioned functional group. However, one B block may contain a partial structure derived from two or more kinds of monomers. And may be contained in any form of block copolymerization.

그 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체는, 예를 들어 이하에 나타내는 리빙 중합법으로 조제된다.The AB or B-A-B block copolymer is prepared, for example, by the living polymerization method shown below.

리빙 중합법에는, 아니온 리빙 중합법, 카티온 리빙 중합법, 라디칼 리빙 중합법이 있고, 이 중 아니온 리빙 중합법은 중합 활성종이 아니온이고, 예를 들어 하기 스킴으로 나타낸다.Examples of the living polymerization method include anion living polymerization method, cationic living polymerization method, and radical living polymerization method. Among them, the anionic living polymerization method is a polymerization activity anion, and is represented by the following scheme, for example.

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pat00014
Figure pat00014

상기 스킴 중, Ar1 은 1 가의 유기기이고, Ar2 는 Ar1 과는 상이한 1 가의 유기기이며, M 은 금속 원자이고, s 및 t 는 각각 1 이상의 정수이다.In the scheme, Ar 1 is a monovalent organic group, Ar 2 is a monovalent organic group different from Ar 1 , M is a metal atom, and s and t are each an integer of 1 or more.

라디칼 리빙 중합법은 중합 활성종이 라디칼이고, 예를 들어 하기 스킴으로 나타낸다.The radical living polymerization method is a polymerization active radical, and is represented by the following scheme, for example.

[화학식 7](7)

Figure pat00015
Figure pat00015

Figure pat00016
Figure pat00016

상기 스킴 중, Ar1 은 1 가의 유기기이고, Ar2 는 Ar1 과는 상이한 1 가의 유기기이며, j 및 k 는 각각 1 이상의 정수이고, Ra 는 수소 원자 또는 1 가의 유기기이며, Rb 는 Ra 와는 상이한 수소 원자 또는 1 가의 유기기이다.In the scheme, Ar 1 is a monovalent organic group, Ar 2 is a monovalent organic group different from Ar 1 , j and k are each an integer of 1 or more, R a is a hydrogen atom or a monovalent organic group, R b is a hydrogen atom or a monovalent organic group different from R a .

이 아크릴계 고분자 분산제를 합성할 때에는, 일본 공개특허공보 평9-62002호나, P. Lutz, P. Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B. C. Anderson, G. D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K. Hatada, K. Ute, et al, Polym. J. 17, 977 (1985), 18, 1037 (1986), 우테 코이치, 하타다 코이치, 고분자 가공, 36, 366 (1987), 히가시무라 토시노부, 사와모토 미츠오, 고분자 논문집, 46, 189 (1989), M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737 (1987), 아이다 타쿠조, 이노우에 쇼헤이, 유기 합성 화학, 43, 300 (1985), D. Y. Sogoh, W. R. Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473 (1987) 등에 기재된 공지된 방법을 채용할 수 있다.When this acrylic polymer dispersant is synthesized, it is disclosed in JP-A-9-62002, P. Lutz, P. Masson et al., Polym. Bull. 12, 79 (1984), B. C. Anderson, G. D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K. Hatada, K. Ute, et al, Polym. 36, 366 (1987), Higashimura Toshinobu, Mitsuo Sawamoto, Polymer, Journal of Polymer Science, 46, 189 (1989), 17, 977 (1985), 18, 1037 , M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. (1987), DY Sogoh, WR Hertler et al., Macromolecules, 20, 1473 (1987), etc. can do.

본 발명에서 사용할 수 있는 아크릴계 고분자 분산제는 A-B 블록 공중합체여도, B-A-B 블록 공중합체여도 되고, 그 공중합체를 구성하는 A 블록/B 블록비는 1/99 ∼ 80/20, 특히 5/95 ∼ 60/40 (질량비) 인 것이 바람직하고, 이 범위 밖에서는 양호한 내열성과 분산성을 겸비할 수 없는 경우가 있다.The acrylic polymer dispersant usable in the present invention may be an AB block copolymer or a BAB block copolymer, and the A block / B block ratio constituting the copolymer is 1/99 to 80/20, in particular 5/95 to 60 / 40 (mass ratio). Outside this range, there is a case that good heat resistance and dispersibility can not be combined.

또, 본 발명에서 사용할 수 있는 A-B 블록 공중합체, B-A-B 블록 공중합체 1 g 중 4 급 암모늄염기의 양은 통상 0.1 ∼ 10 m㏖ 인 것이 바람직하고, 이 범위 밖에서는 양호한 내열성과 분산성을 겸비할 수 없는 경우가 있다.The amount of the quaternary ammonium salt group in 1 g of the AB block copolymer and the BAB block copolymer usable in the present invention is preferably 0.1 to 10 mmol, and if it is outside this range, the heat resistance and dispersibility can be both There is no case.

또한, 이와 같은 블록 공중합체 중에는, 통상 제조 과정에서 생긴 아미노기가 함유되는 경우가 있지만, 그 아민가는 1 ∼ 100 ㎎KOH/g 정도이고, 분산성의 관점에서 바람직하게는 10 ㎎KOH/g 이상, 보다 바람직하게는 30 ㎎KOH/g 이상, 더 바람직하게는 50 ㎎KOH/g 이상, 또 바람직하게는 90 ㎎KOH/g 이하, 보다 바람직하게는 80 ㎎KOH/g 이하, 더 바람직하게는 75 ㎎KOH/g 이하이다.Such an amino group may be contained in the block copolymer in an amount of usually 1 to 100 mgKOH / g, preferably 10 mgKOH / g or more, more preferably 10 mgKOH / g or more, Preferably not less than 30 mgKOH / g, more preferably not less than 50 mgKOH / g, still more preferably not more than 90 mgKOH / g, even more preferably not more than 80 mgKOH / g, / g.

여기서, 이들 블록 공중합체 등의 분산제의 아민가는, 분산제 시료 중의 용제를 제외한 고형분 1 g 당의 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 나타내고, 다음의 방법에 의해 측정한다.Here, the amine value of the dispersant such as the block copolymer is represented by the amount of the basic group per 1 g of the solid component excluding the solvent in the dispersant sample and the mass of the equivalent KOH, and is measured by the following method.

100 ㎖ 의 비커에 분산제 시료의 0.5 ∼ 1.5 g 을 정밀 칭량하고, 50 ㎖ 의 아세트산으로 용해한다. pH 전극을 구비한 자동 적정 장치를 사용하여, 이 용액을 0.1 ㏖/ℓ 의 HClO4 아세트산 용액으로 중화 적정한다. 적정 pH 곡선의 변곡점을 적정 종점으로 하고 다음 식에 의해 아민가를 구한다.0.5 to 1.5 g of the dispersant sample is precisely weighed in a 100 ml beaker and dissolved in 50 ml of acetic acid. Using an automatic titrator equipped with a pH electrode, this solution is neutralized with 0.1 mol / l HClO 4 acetic acid solution. Using the inflection point of the appropriate pH curve as the appropriate end point, the amine value is obtained by the following equation.

아민가 [㎎KOH/g] = (561 × V)/(W × S)Amine value [mgKOH / g] = (561 x V) / (W x S)

〔단, W : 분산제 시료 칭취량 (秤取量) [g], V : 적정 종점에서의 적정량 [㎖], S : 분산제 시료의 고형분 농도 [질량%] 를 나타낸다.〕 Wherein W represents a dispersant specimen removal amount (g), V represents an appropriate amount [ml] at an appropriate end point, and S represents a solid content concentration [mass%] of a dispersant sample.

또, 이 블록 공중합체의 산가는, 그 산가의 기초가 되는 산성기의 유무 및 종류에 따라 다르기도 하지만, 일반적으로 낮은 편이 바람직하고, 통상 10 ㎎KOH/g 이하이고, 그 중량 평균 분자량 (Mw) 은 1000 ∼ 100,000 의 범위가 바람직하다. 블록 공중합체의 중량 평균 분자량이 1000 미만이면 분산 안정성이 저하되는 경향이 있고, 100,000 을 초과하면 현상성, 해상성이 저하되는 경향이 있다.In general, the acid value of the block copolymer is preferably 10 mgKOH / g or less, and the weight average molecular weight (Mw ) Is preferably in the range of 1000 to 100,000. When the weight average molecular weight of the block copolymer is less than 1,000, the dispersion stability tends to decrease. When the weight average molecular weight exceeds 100,000, the developability and resolution tend to decrease.

4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제의 구체적인 구조에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서는 하기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (i)」이라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.The specific structure of the polymer dispersant having a quaternary ammonium salt group as a functional group is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility, the polymer dispersant having a quaternary ammonium group as a functional group has a repeating unit represented by the following formula (i) (hereinafter sometimes referred to as " .

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure pat00017
Figure pat00017

상기 식 (i) 중, R31 ∼ R33 은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기이고, R31 ∼ R33 중 2 개 이상이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다. R34 는 수소 원자 또는 메틸기이다. X 는 2 가의 연결기이고, Y- 는 카운터 아니온이다.In the formula (i), R 31 to R 33 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent or an aralkyl group which may have a substituent, and R 31 to R 33 Two or more of them may be bonded to each other to form an annular structure. R 34 is a hydrogen atom or a methyl group. X is a divalent linking group, and Y - is a counter no.

상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 또 10 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분지형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다.The number of carbon atoms of the alkyl group which may have a substituent in R 31 to R 33 of the formula (i) is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 10 or less, and more preferably 6 or less. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group and an octyl group. It is preferably a hexyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group. It may be either linear or branched. In addition, a cyclic structure such as a cyclohexyl group or a cyclohexylmethyl group may be included.

상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 6 이상이고, 또 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하다. 아릴기의 구체예로는, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 또는 디에틸페닐기인 것이 바람직하며, 페닐기, 메틸페닐기, 또는 에틸페닐기인 것이 보다 바람직하다.The number of carbon atoms of the aryl group which may have a substituent in R 31 to R 33 of the above formula (i) is not particularly limited, but is usually 6 or more, preferably 16 or less, and more preferably 12 or less. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, a dimethylphenyl group, a diethylphenyl group, a naphthyl group and an anthracenyl group. Of these, a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, An ethylphenyl group, and more preferably a phenyl group, a methylphenyl group, or an ethylphenyl group.

상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 7 이상이고, 또 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하다. 아르알킬기의 구체예로는, 페닐메틸렌기, 페닐에틸렌기, 페닐프로필렌기, 페닐부틸렌기, 페닐이소프로필렌기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐메틸렌기, 페닐에틸렌기, 페닐프로필렌기, 또는 페닐부틸렌기인 것이 바람직하고, 페닐메틸렌기, 또는 페닐에틸렌기인 것이 보다 바람직하다.The number of carbon atoms of the aralkyl group which may have a substituent in R 31 to R 33 of the above formula (i) is not particularly limited, but is usually 7 or more, preferably 16 or less, and more preferably 12 or less. Specific examples of the aralkyl group include a phenylmethylene group, a phenylethylene group, a phenylpropylene group, a phenylbutylene group and a phenylisopropylene group. Of these, a phenylmethylene group, a phenylethylene group, a phenylpropylene group, a phenyl Butylene group is preferable, and phenylmethylene group or phenylethylene group is more preferable.

이들 중에서도, 분산성의 관점에서 R31 ∼ R33 이 각각 독립적으로 알킬기, 또는 아르알킬기인 것이 바람직하고, 구체적으로는 R31 및 R33 이 각각 독립적으로 메틸기, 또는 에틸기이며, 또한 R32 가 페닐메틸렌기, 또는 페닐에틸렌기인 것이 바람직하고, R31 및 R33 이 메틸기이고, 또한 R32 가 페닐메틸렌기인 것이 더 바람직하다.Among these, from the viewpoint of dispersibility, it is preferable that R 31 to R 33 are each independently an alkyl group or an aralkyl group, specifically, R 31 and R 33 are each independently a methyl group or an ethyl group, and R 32 is phenylmethylene Or a phenylethylene group, more preferably R 31 and R 33 are methyl groups, and R 32 is a phenylmethylene group.

또, 상기 고분자 분산제가 관능기로서 3 급 아민을 갖는 경우, 분산성의 관점에서는 하기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (ii)」라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.When the polymer dispersant has a tertiary amine as a functional group, it is preferable to have a repeating unit represented by the following formula (ii) (hereinafter sometimes referred to as a "repeating unit (ii)") from the viewpoint of dispersibility.

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pat00018
Figure pat00018

상기 식 (ii) 중, R35 및 R36 은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기이고, R35 및 R36 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 된다. R37 은 수소 원자 또는 메틸기이다. Z 는 2 가의 연결기이다.The formula (ii) of, R 35 and R 36 is an aralkyl group which may have an aryl group, or a substituent which may have an alkyl group which may have a hydrogen atom, a substituent, each independently, R 35 and R 36 is They may be bonded to each other to form an annular structure. R 37 is a hydrogen atom or a methyl group. Z is a divalent linking group.

또, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.Examples of the alkyl group which may have a substituent in R 35 and R 36 in the above formula (ii) include those exemplified as R 31 to R 33 in the above formula (i).

마찬가지로, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다. 또, 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기로는, 상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.Similarly, examples of the aryl group which may have a substituent in R 35 and R 36 of the above formula (ii) include those exemplified as R 31 to R 33 in the above formula (i). As the aralkyl group which may have a substituent in R 35 and R 36 in the above formula (ii), those exemplified as R 31 to R 33 in the above formula (i) can be preferably employed.

이들 중에서도, R35 및 R36 이 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 또는 에틸기인 것이 보다 바람직하다.Among them, R 35 and R 36 are each independently preferably an alkyl group which may have a substituent, more preferably a methyl group or an ethyl group.

상기 식 (i) 의 R31 ∼ R33 및 상기 식 (ii) 의 R35 및 R36 에 있어서의 알킬기, 아르알킬기 또는 아릴기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 할로겐 원자, 알콕시기, 벤조일기, 수산기 등을 들 수 있다.Examples of the substituent which the alkyl group, aralkyl group or aryl group in R 31 to R 33 in the formula (i) and R 35 and R 36 in the formula (ii) may have include a halogen atom, an alkoxy group, a benzoyl group, And the like.

상기 식 (i) 및 (ii) 에 있어서, 2 가의 연결기 X 및 Z 로는, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴렌기, -CONH-R43-기, -COOR44-기〔단, R43 및 R44 는 단결합, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 또는 탄소수 2 ∼ 10 의 에테르기 (알킬옥시알킬기) 이다〕등을 들 수 있고, 바람직하게는 -COO-R44-기이다.In the formula (i) and (ii), roneun divalent connecting group X and Z, for example having 1 to 10 carbon atoms, alkylene group, arylene group, -CONH-R 43 having a carbon number of 6 to 12-group, -COOR 44 - group (provided that R 43 and R 44 are a single bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or an ether group (alkyloxyalkyl group) having 2 to 10 carbon atoms], and preferably -COO-R 44 - is the period.

또, 상기 식 (i) 에 있어서, 카운터 아니온의 Y- 로는 Cl-, Br-, I-, ClO4 -, BF4 -, CH3COO-, PF6 - 등을 들 수 있다.In the above formula (i), Y - of the counteranion may be Cl - , Br - , I - , ClO 4 - , BF 4 - , CH 3 COO - , PF 6 - and the like.

상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서 상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율과 상기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율의 합계에 대해 바람직하게는 60 몰% 이하이고, 보다 바람직하게는 50 몰% 이하이며, 더 바람직하게는 40 몰% 이하이고, 특히 바람직하게는 35 몰% 이하이며, 또 바람직하게는 5 몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 10 몰% 이상이며, 더 바람직하게는 20 몰% 이상이고, 특히 바람직하게는 30 몰% 이상이다.The content ratio of the repeating unit represented by the above formula (i) is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility, the content of the repeating unit represented by the above formula (i) and the content ratio of the repeating unit represented by the above formula (ii) Is preferably 60 mol% or less, more preferably 50 mol% or less, still more preferably 40 mol% or less, particularly preferably 35 mol% or less, and still more preferably 5 mol% More preferably 10 mol% or more, still more preferably 20 mol% or more, particularly preferably 30 mol% or more.

또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (i) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서 1 몰% 이상인 것이 바람직하고, 5 몰% 이상인 것이 보다 바람직하며, 10 몰% 이상인 것이 더 바람직하고, 또 50 몰% 이하인 것이 바람직하고, 30 몰% 이하인 것이 보다 바람직하며, 20 몰% 이하인 것이 더 바람직하고, 15 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다.The content ratio of the repeating unit represented by the above formula (i) in the total repeating units of the polymer dispersant is not particularly limited, but is preferably 1 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, and 10 More preferably 50 mol% or less, more preferably 30 mol% or less, still more preferably 20 mol% or less, particularly preferably 15 mol% or less.

또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (ii) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서 5 몰% 이상인 것이 바람직하고, 10 몰% 이상인 것이 보다 바람직하며, 15 몰% 이상인 것이 더 바람직하고, 20 몰% 이상인 것이 특히 바람직하며, 또 60 몰% 이하인 것이 바람직하고, 40 몰% 이하인 것이 보다 바람직하며, 30 몰% 이하인 것이 더 바람직하고, 25 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다.The content ratio of the repeating unit represented by the above formula (ii) in the total repeating units of the polymer dispersant is not particularly limited, but is preferably 5 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, and 15 , More preferably 20 mol% or more, particularly preferably 60 mol% or less, more preferably 40 mol% or less, still more preferably 30 mol% or less, and most preferably 25 mol% desirable.

또, 고분자 분산제는, 용매 등의 바인더 성분에 대한 상용성을 높여, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (iii)」이라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.The polymer dispersant may be referred to as a "recurring unit (iii)" hereinafter referred to as "recurring unit (iii)" from the viewpoint of enhancing compatibility with a binder component such as a solvent and improving dispersion stability ).

[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure pat00019
Figure pat00019

상기 식 (iii) 중, R40 은 에틸렌기 또는 프로필렌기이고, R41 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기이며, R42 는 수소 원자 또는 메틸기이다. n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.In the formula (iii), R 40 is an ethylene group or a propylene group, R 41 is an alkyl group which may have a substituent, and R 42 is a hydrogen atom or a methyl group. n is an integer of 1 to 20;

상기 식 (iii) 의 R41 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상인 것이 바람직하며, 또 10 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분지형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다.The number of carbon atoms of the alkyl group which may have a substituent in R 41 of the formula (iii) is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 10 or less, and more preferably 6 or less . Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group and an octyl group. It is preferably a hexyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group. It may be either linear or branched. In addition, a cyclic structure such as a cyclohexyl group or a cyclohexylmethyl group may be included.

또, 상기 식 (iii) 에 있어서의 n 은 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산성의 관점에서, 1 이상인 것이 바람직하고, 2 이상인 것이 보다 바람직하며, 또 10 이하인 것이 바람직하고, 5 이하인 것이 보다 바람직하다.The n in the formula (iii) is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, further preferably 10 or less, more preferably 5 or less, from the viewpoint of compatibility and dispersion with respect to the binder component such as a solvent Do.

또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (iii) 으로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 1 몰% 이상인 것이 바람직하고, 2 몰% 이상인 것이 보다 바람직하며, 4 몰% 이상인 것이 더 바람직하고, 또 30 몰% 이하인 것이 바람직하고, 20 몰% 이하인 것이 보다 바람직하며, 10 몰% 이하인 것이 더 바람직하다. 상기 범위 내인 경우에는 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산 안정성의 양립이 가능해지는 경향이 있다.The content ratio of the repeating unit represented by the above formula (iii) in the total repeating units of the polymer dispersant is not particularly limited, but is preferably 1 mol% or more, more preferably 2 mol% or more, and more preferably 4 mol% , More preferably 30 mol% or less, more preferably 20 mol% or less, and most preferably 10 mol% or less. When the amount is within the above range, compatibility with the binder component such as a solvent tends to be compatible with dispersion stability.

또, 고분자 분산제는, 분산제의 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성을 높여, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 식 (iv) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (iv)」라고 하는 경우가 있다) 를 갖는 것이 바람직하다.The polymer dispersant is preferably a repeating unit represented by the following formula (iv) (hereinafter referred to as a "repeating unit (iv)") in view of improving compatibility with a binder component such as a solvent of a dispersant and improving dispersion stability ).

[화학식 11](11)

Figure pat00020
Figure pat00020

상기 식 (iv) 중, R38 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기이다. R39 는 수소 원자 또는 메틸기이다.In the formula (iv), R 38 is an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent or an aralkyl group which may have a substituent. R 39 is a hydrogen atom or a methyl group.

상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 1 이상이고, 2 이상인 것이 바람직하며, 4 이상인 것이 보다 바람직하고, 또 10 이하인 것이 바람직하고, 8 이하인 것이 보다 바람직하다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분지형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다.The number of carbon atoms of the alkyl group which may have a substituent in R 38 of the formula (iv) is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 4 or more, and is preferably 10 or less , And more preferably 8 or less. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group and an octyl group. It is preferably a hexyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group. It may be either linear or branched. In addition, a cyclic structure such as a cyclohexyl group or a cyclohexylmethyl group may be included.

상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 6 이상이고, 또 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하며, 8 이하인 것이 더 바람직하다. 아릴기의 구체예로는, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 또는 디에틸페닐기인 것이 바람직하고, 페닐기, 메틸페닐기, 또는 에틸페닐기인 것이 보다 바람직하다.The number of carbon atoms of the aryl group which may have a substituent in R 38 of the formula (iv) is not particularly limited, but is usually 6 or more, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, desirable. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, a dimethylphenyl group, a diethylphenyl group, a naphthyl group and an anthracenyl group. Of these, a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, An ethylphenyl group, and more preferably a phenyl group, a methylphenyl group, or an ethylphenyl group.

상기 식 (iv) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상 7 이상이고, 또 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하며, 10 이하인 것이 더 바람직하다. 아르알킬기의 구체예로는, 페닐메틸렌기, 페닐에틸렌기, 페닐프로필렌기, 페닐부틸렌기, 페닐이소프로필렌기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐메틸렌기, 페닐에틸렌기, 페닐프로필렌기, 또는 페닐부틸렌기인 것이 바람직하고, 페닐메틸렌기, 또는 페닐에틸렌기인 것이 보다 바람직하다.The number of carbon atoms of the aralkyl group which may have a substituent in R 38 of the formula (iv) is not particularly limited, but is usually 7 or more, preferably 16 or less, more preferably 12 or less, desirable. Specific examples of the aralkyl group include a phenylmethylene group, a phenylethylene group, a phenylpropylene group, a phenylbutylene group and a phenylisopropylene group. Of these, a phenylmethylene group, a phenylethylene group, a phenylpropylene group, a phenyl Butylene group is preferable, and phenylmethylene group or phenylethylene group is more preferable.

이들 중에서도, 용제 상용성과 분산 안정성의 관점에서, R38 이 알킬기, 또는 아르알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 또는 페닐메틸렌기인 것이 보다 바람직하다.Of these, R 38 is preferably an alkyl group or an aralkyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group, or a phenylmethylene group, from the viewpoint of solvent compatibility and dispersion stability.

R38 에 있어서의, 알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는 할로겐 원자, 알콕시기 등을 들 수 있다. 또, 아릴기 또는 아르알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는 사슬형의 알킬기, 할로겐 원자, 알콕시기 등을 들 수 있다. 또, R38 로 나타내는 사슬형의 알킬기에는 직사슬형 및 분기사슬형 모두 포함된다.Examples of the substituent which the alkyl group may have in R 38 include a halogen atom and an alkoxy group. Examples of the substituent which the aryl group or the aralkyl group may have include a chain-like alkyl group, a halogen atom and an alkoxy group. The chain alkyl group represented by R 38 includes both a linear chain and a branched chain.

또, 고분자 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (iv) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은, 분산성의 관점에서 30 몰% 이상인 것이 바람직하고, 40 몰% 이상인 것이 보다 바람직하며, 50 몰% 이상인 것이 더 바람직하고, 또 80 몰% 이하인 것이 바람직하고, 70 몰% 이하인 것이 보다 바람직하다.The content of the repeating unit represented by the formula (iv) in the total repeating units of the polymer dispersant is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, and 50 mol% or more from the viewpoint of dispersibility , More preferably 80 mol% or less, and more preferably 70 mol% or less.

고분자 분산제는, 반복 단위 (i), 반복 단위 (ii), 반복 단위 (iii) 및 반복 단위 (iv) 이외의 반복 단위를 갖고 있어도 된다. 그러한 반복 단위의 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체 ; (메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 아세트산비닐 ; 아크릴로니트릴 ; 알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르 ; N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다.The polymer dispersant may have a repeating unit other than the repeating unit (i), the repeating unit (ii), the repeating unit (iii) and the repeating unit (iv). Examples of such repeating units include styrene-based monomers such as styrene and? -Methylstyrene; (Meth) acrylic acid salt monomers such as (meth) acrylic acid chloride; (Meth) acrylamide, N-methylol acrylamide, and other (meth) acrylamide monomers; Vinyl acetate; Acrylonitrile; Allyl glycidyl ether, crotonic acid glycidyl ether; And repeating units derived from monomers such as N-methacryloylmorpholine.

고분자 분산제는, 분산성을 보다 높인다는 관점에서, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 를 갖는 A 블록과, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 를 갖지 않는 B 블록을 갖는, 블록 공중합체인 것이 바람직하다. 그 블록 공중합체는, A-B 블록 공중합체 또는 B-A-B 블록 공중합체인 것이 바람직하다. A 블록에 4 급 암모늄염기뿐만 아니라 3 급 아미노기도 도입함으로써, 의외로 분산제의 분산 능력이 현저하게 향상되는 경향이 있다. 또, B 블록이 반복 단위 (iii) 을 갖는 것이 바람직하고, 또 반복 단위 (iv) 를 갖는 것이 보다 바람직하다.The polymer dispersant is preferably a block copolymer having an A block having a repeating unit (i) and a repeating unit (ii) and a B block having no repeating unit (i) and a repeating unit (ii) Is preferably a copolymer. The block copolymer is preferably an A-B block copolymer or a B-A-B block copolymer. By introducing a quaternary ammonium group as well as a tertiary amino group in the A block, the dispersing ability of the dispersing agent tends to remarkably improve remarkably. It is more preferable that the B block has the repeating unit (iii), and the B block has the repeating unit (iv).

A 블록 중에 있어서, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 는 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 는, 1 개의 A 블록 중에 각각 2 종 이상 함유되어 있어도 되고, 그 경우 각각의 반복 단위는, 그 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.In the A block, the repeating unit (i) and the repeating unit (ii) may be contained in any form of random copolymerization or block copolymerization. The repeating unit (i) and the repeating unit (ii) may contain two or more kinds of repeating units in each of the A blocks. In this case, the repeating units may be either random copolymerization or block copolymerization .

또, 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 이외의 반복 단위가 A 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위의 예로는 전술한 (메트)아크릴산에스테르계 단량체 유래의 반복 단위 등을 들 수 있다. 반복 단위 (i) 및 반복 단위 (ii) 이외의 반복 단위의, A 블록 중의 함유량은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 A 블록 중에 함유되지 않는 것이 가장 바람직하다.The repeating unit other than the repeating unit (i) and the repeating unit (ii) may be contained in the A block. Examples of the repeating unit include repeating units derived from the above-mentioned (meth) acrylate monomer . The content of the repeating units other than the repeating unit (i) and the repeating unit (ii) in the A block is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 20 mol% Most preferably not contained.

반복 단위 (iii) 및 (iv) 이외의 반복 단위가 B 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위의 예로는 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체 ; (메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 아세트산비닐 ; 아크릴로니트릴 ; 알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르 ; N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다. 반복 단위 (iii) 및 반복 단위 (iv) 이외의 반복 단위의, B 블록 중의 함유량은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 B 블록 중에 함유되지 않는 것이 가장 바람직하다.The repeating units other than the repeating units (iii) and (iv) may be contained in the B block. Examples of such repeating units include styrene-based monomers such as styrene and? -Methylstyrene; (Meth) acrylic acid salt monomers such as (meth) acrylic acid chloride; (Meth) acrylamide, N-methylol acrylamide, and other (meth) acrylamide monomers; Vinyl acetate; Acrylonitrile; Allyl glycidyl ether, crotonic acid glycidyl ether; And repeating units derived from monomers such as N-methacryloylmorpholine. The content of the repeating unit other than the repeating unit (iii) and the repeating unit (iv) in the B block is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 20 mol% Most preferably not contained.

또 분산 안정성 향상의 점에서, (B) 분산제는 후술하는 안료 유도체와 병용하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of improving the dispersion stability, the dispersant (B) is preferably used in combination with the pigment derivative described later.

<(C) 알칼리 가용성 수지>&Lt; (C) Alkali-soluble resin &gt;

본 발명에서 사용하는 (C) 알칼리 가용성 수지로는, 카르복실기 또는 수산기를 포함하는 수지이면 특별히 한정은 없고, 예를 들어 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지, 아크릴계 수지, 카르복실기 함유 에폭시 수지, 카르복실기 함유 우레탄 수지, 노볼락계 수지, 폴리비닐페놀계 수지 등을 들 수 있지만, 그 중에서도 에폭시(메트)아크릴레이트계 수지, 아크릴계 수지가 바람직하다. 이들은 1 종을 단독으로, 혹은 복수종을 혼합하여 사용할 수 있다.The alkali-soluble resin (C) used in the present invention is not particularly limited as long as it is a resin containing a carboxyl group or a hydroxyl group, and examples thereof include an epoxy (meth) acrylate resin, an acrylic resin, a carboxyl group-containing epoxy resin, A novolak resin, a polyvinyl phenol resin, and the like. Of these, an epoxy (meth) acrylate resin and an acrylic resin are preferable. These may be used singly or in combination of plural kinds.

본 발명에서 사용하는 알칼리 가용성 수지로는, 특히 하기 알칼리 가용성 수지 (c1) 및/또는 알칼리 가용성 수지 (c2) (이하 「카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지」라고 칭하는 경우가 있다) 가 우수한 제판성이라는 관점에서 바람직하게 사용된다.As the alkali-soluble resin to be used in the present invention, an excellent alkali-soluble resin (c1) and / or an alkali-soluble resin (c2) (hereinafter sometimes referred to as "carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin" It is preferably used from the viewpoint of surname.

<알칼리 가용성 수지 (c1)>&Lt; Alkali-soluble resin (c1) &gt;

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로 다염기산 및/또는 그 무수물을 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.An alkali-soluble resin obtained by adding an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group to an epoxy resin and further reacting the polybasic acid and / or an anhydride thereof.

<알칼리 가용성 수지 (c2)>&Lt; Alkali-soluble resin (c2) &gt;

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키고, 추가로 다가 알코올, 및 다염기산 및/또는 그 무수물과 반응시킴으로써 얻어진 알칼리 가용성 수지.An alkali-soluble resin obtained by adding an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group to an epoxy resin and further reacting with a polyhydric alcohol and a polybasic acid and / or an anhydride thereof.

원료가 되는 에폭시 수지로서, 예를 들어 비스페놀 A 형 에폭시 수지 (예를 들어, 미츠비시 화학사 제조의 「에피코트 (등록 상표. 이하 동일.) 828」, 「에피코트 1001」, 「에피코트 1002」, 「에피코트 1004」등), 비스페놀 A 형 에폭시 수지의 알코올성 수산기와 에피클로르하이드린의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 (예를 들어, 닛폰카야쿠사 제조의 「NER-1302」(에폭시 당량 323, 연화점 76 ℃)), 비스페놀 F 형 수지 (예를 들어, 미츠비시 화학사 제조의 「에피코트 807」, 「EP-4001」, 「EP-4002」, 「EP-4004 등」), 비스페놀 F 형 에폭시 수지의 알코올성 수산기와 에피클로르하이드린의 반응에 의해 얻어지는 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰카야쿠사 제조의 「NER-7406」(에폭시 당량 350, 연화점 66 ℃)), 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 비페닐글리시딜에테르 (예를 들어, 미츠비시 화학사 제조의 「YX-4000」), 페놀노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰카야쿠사 제조의 「EPPN-201」, 미츠비시 화학사 제조의 「EP-152」, 「EP-154」, 다우케미컬사 제조의 「DEN-438」), (o,m,p-)크레졸노볼락형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰카야쿠사 제조의 「EOCN (등록 상표. 이하 동일.) -102S」, 「EOCN-1020」, 「EOCN-104S」), 트리글리시딜이소시아누레이트 (예를 들어, 닛산 화학사 제조의 「TEPIC (등록 상표)」), 트리스페놀메탄형 에폭시 수지 (예를 들어, 닛폰카야쿠사 제조의 「EPPN (등록 상표. 이하 동일.) -501」, 「EPN-502」, 「EPPN-503」), 지환식 에폭시 수지 (다이셀 화학 공업사 제조의 「셀록사이드 2021P」, 「셀록사이드 (등록 상표. 이하 동일.) EHPE」), 디시클로펜타디엔과 페놀의 반응에 의한 페놀 수지를 글리시딜화한 에폭시 수지 (예를 들어, DIC 사 제조의 「EXA-7200」, 닛폰카야쿠사 제조의 「NC-7300」), 하기 일반식 (C1) ∼ (C4) 로 나타내는 에폭시 수지 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 구체적으로는, 하기 일반식 (C1) 로 나타내는 에폭시 수지로서 닛폰카야쿠사 제조의 「XD-1000」, 하기 일반식 (C2) 로 나타내는 에폭시 수지로서 닛폰카야쿠사 제조의 「NC-3000」, 하기 일반식 (C4) 로 나타내는 에폭시 수지로서 신닛테츠 화학사 제조의 「ESF-300」등을 들 수 있다.As the raw material epoxy resin, for example, a bisphenol A type epoxy resin (for example, &quot; Epicote (registered trademark, the same applies hereinafter) 828 &quot;, &quot; Epicote 1001 &quot;, &quot; Epicote 1004 "), epoxy obtained by reaction of an alcoholic hydroxyl group of a bisphenol A type epoxy resin with epichlorohydrin (for example," NER-1302 "manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (epoxy equivalent 323, EP-4001 &quot;, &quot; EP-4002 &quot;, &quot; EP-4004 &quot;, etc.), bisphenol F type resins (for example, "Epikote 807" NER-7406 &quot; (epoxy equivalent: 350, softening point: 66 占 폚) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), bisphenol S type epoxy resin, biphenyl glycidyl ether (For example, Quot; EP-152 &quot;, &quot; EP-154 &quot;, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), &quot; Cresol novolak type epoxy resin (for example, &quot; EOCN (registered trademark, hereinafter the same) -102S &quot;, manufactured by Nippon Kayaku Co., (For example, "TEPIC (registered trademark)" manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), trisphenol methane type epoxy resin (for example, "EOCN-1020" (Registered trademark, hereinafter the same) -501, EPN-502 and EPPN-503 manufactured by Kusa Co., Ltd.), alicyclic epoxy resin ("Celloxide 2021P" manufactured by Daicel Chemical Industries, (Registered trademark, hereinafter the same) EHPE), an epoxy resin obtained by glycidylating a phenol resin by reaction of dicyclopentadiene and phenol (for example, DIC EXA-7200 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., "NC-7300" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and epoxy resins represented by the following general formulas (C1) to (C4). Specifically, "XD-1000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., "NC-3000" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. as an epoxy resin represented by the following general formula (C2) As the epoxy resin represented by the formula (C4), "ESF-300" manufactured by Shin-Nittsu Chemical Co., Ltd. and the like can be mentioned.

[화학식 12][Chemical Formula 12]

Figure pat00021
Figure pat00021

상기 일반식 (C1) 에 있어서, a 는 평균값을 나타내고 0 ∼ 10 의 수를 나타낸다. R111 은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기 중 어느 것을 나타낸다. 또한, 1 분자 중에 존재하는 복수의 R111 은 각각 동일하거나 상이해도 된다.In the general formula (C1), a represents an average value and represents a number of 0 to 10. R 111 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group or a biphenyl group. A plurality of R &lt; 111 &gt; s present in one molecule may be the same or different.

[화학식 13][Chemical Formula 13]

Figure pat00022
Figure pat00022

상기 일반식 (C2) 에 있어서, b 는 평균값을 나타내고 0 ∼ 10 의 수를 나타낸다. R121 은 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 10 의 시클로알킬기, 페닐기, 나프틸기, 또는 비페닐기 중 어느 하나를 나타낸다. 또한, 1 분자 중에 존재하는 복수의 R121 은 각각 동일하거나 상이해도 된다.In the general formula (C2), b represents an average value and represents a number of 0 to 10. R 121 represents any one of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group or a biphenyl group. Further, a plurality of R 121 s present in one molecule may be the same or different.

[화학식 14][Chemical Formula 14]

Figure pat00023
Figure pat00023

상기 일반식 (C3) 에 있어서, X 는 하기 일반식 (C3-1) 또는 (C3-2) 로 나타내는 연결기를 나타낸다. 단, 분자 구조 중에 1 개 이상의 아다만탄 구조를 포함한다. c 는 2 또는 3 의 정수를 나타낸다.In the general formula (C3), X represents a linking group represented by the following general formula (C3-1) or (C3-2). However, it includes at least one adamantane structure in the molecular structure. and c represents an integer of 2 or 3.

[화학식 15][Chemical Formula 15]

Figure pat00024
Figure pat00024

상기 일반식 (C3-1) 및 (C3-2) 에 있어서, R131 ∼ R134 및 R135 ∼ R137 은, 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 아다만틸기, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다. * 는 결합손을 나타낸다.In the general formulas (C3-1) and (C3-2), R 131 to R 134 and R 135 to R 137 each independently represent an adamantyl group, a hydrogen atom, An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a phenyl group which may have a substituent. * Indicates a combined hand.

[화학식 16][Chemical Formula 16]

Figure pat00025
Figure pat00025

상기 일반식 (C4) 에 있어서, p 및 q 는 각각 독립적으로 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고, R141 및 R142 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타낸다. R143 및 R144 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타낸다. x 및 y 는 각각 독립적으로 0 이상의 정수를 나타낸다.In the general formula (C4), p and q each independently represent an integer of 0 to 4, and R 141 and R 142 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom. R 143 and R 144 each independently represent an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. x and y each independently represent an integer of 0 or more.

이들 중에서, 일반식 (C1) ∼ (C4) 중 어느 것으로 나타내는 에폭시 수지를 사용하는 것이 바람직하다.Among these, it is preferable to use an epoxy resin represented by any one of the general formulas (C1) to (C4).

α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르로는, (메트)아크릴산, 크로톤산, o-, m- 또는 p-비닐벤조산, (메트)아크릴산의 α 위치 할로알킬, 알콕실, 할로겐, 니트로, 시아노 치환체 등의 모노카르복실산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸말레산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필테트라하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필말레산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸아디프산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시부틸말레산, (메트)아크릴산에 ε-카프로락톤, β-프로피오락톤, γ-부티로락톤, δ-발레롤락톤 등의 락톤류를 부가시킨 것인 단량체, 혹은 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트에 (무수)숙신산, (무수)프탈산, (무수)말레산 등의 산(무수물)을 부가시킨 단량체, (메트)아크릴산 다이머 등을 들 수 있다. Examples of the?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? -unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group include (meth) acrylic acid, crotonic acid, o-, m- or p-vinylbenzoic acid, (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl adipic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, (Meth) acryloyloxypropyl succinic acid, 2 (meth) acryloyloxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, 2- (Meth) acryloyloxypropyl adipic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyltetrahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropylphthalic acid, 2- (Meth) acryloyloxybutyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxybutyl adipic acid, 2- (meth) acryloyloxy (Meth) acryloyloxybutylphthalic acid, 2- (meth) acryloyloxybutylmaleic acid, (meth) acrylic acid with? -Caprolactone,? -Propiolactone,? -Butyrolactone (anhydrous) phthalic acid, (anhydrous) methacrylic acid, and (meth) acrylic acid are added to monomers which are obtained by adding lactones such as δ-valerolactone, Monomers having an acid (anhydride) added thereto such as maleic acid, and (meth) acrylic acid dimer.

이들 중, 감도의 점에서 특히 바람직한 것은 (메트)아크릴산이다.Of these, (meth) acrylic acid is particularly preferable in terms of sensitivity.

에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르를 부가시키는 방법으로는, 공지된 수법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 에스테르화 촉매의 존재하, 50 ∼ 150 ℃ 의 온도에서, α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르와 에폭시 수지를 반응시킬 수 있다. 여기서 사용하는 에스테르화 촉매로는, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 벤질디메틸아민, 벤질디에틸아민 등의 3 급 아민, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 도데실트리메틸암모늄클로라이드 등의 4 급 암모늄염 등을 사용할 수 있다.As a method for adding an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group to an epoxy resin, a known technique may be used. For example, an α, β-unsaturated monocarboxylic acid or an α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester having an α, β-unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group can be reacted with an epoxy resin at a temperature of 50 to 150 ° C. in the presence of an esterification catalyst . Examples of the esterification catalyst used herein include tertiary amines such as triethylamine, trimethylamine, benzyldimethylamine and benzyldiethylamine, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride and dodecyltrimethylammonium chloride Etc. may be used.

또한, 에폭시 수지, α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르, 및 에스테르화 촉매는 모두 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Further, the epoxy resin, the?,? -Unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group, and the esterification catalyst may all be used singly or in combination of two or more do.

α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 사용량은, 에폭시 수지의 에폭시기 1 당량에 대해 0.5 ∼ 1.2 당량의 범위가 바람직하고, 더 바람직하게는 0.7 ∼ 1.1 당량의 범위이다. α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 사용량이 적으면 불포화기의 도입량이 부족하고, 이어지는 다염기산 및/또는 그 무수물과의 반응도 불충분해진다. 또, 다량의 에폭시기가 잔존하는 것도 유리하지 않다. 한편, 그 사용량이 많으면 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르가 미반응물로서 잔존한다. 어느 경우도 경화 특성이 악화되는 경향이 보인다.The amount of the?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group is preferably in the range of 0.5 to 1.2 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin, more preferably 0.7 To 1.1 equivalents. If the amount of the?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or carboxyl group is too small, the amount of the unsaturated group introduced is insufficient, and the subsequent reaction with the polybasic acid and / or its anhydride becomes insufficient. Also, it is not advantageous that a large amount of epoxy groups remain. On the other hand, if the amount is large, the?,? - unsaturated monocarboxylic acid or the?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group remains as an unreacted product. In either case, the curing properties tend to deteriorate.

다염기산 및/또는 그 무수물로는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 및 이들의 무수물 등에서 선택된 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.Examples of the polybasic acid and / or anhydride thereof include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, Hydrofluoric acid, chlorophthalic acid, hydrophthalic acid, chlorendic acid, methyltetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, and anhydrides thereof, and the like.

바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산, 또는 이들의 무수물이다. 특히 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산, 무수 테트라하이드로프탈산, 또는 비페닐테트라카르복실산 2 무수물이다.Preferred are maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, biphenyltetracarboxylic acid, or anhydrides thereof. Particularly preferred are tetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, anhydrous tetrahydrophthalic acid, or biphenyltetracarboxylic acid dianhydride.

다염기산 및/또는 그 무수물의 부가 반응에 관해서도 공지된 수법을 사용할 수 있고, 에폭시 수지에의 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 부가 반응과 동일한 조건하에서, 계속 반응시켜 목적물을 얻을 수 있다. 다염기산 및/또는 그 무수물 성분의 부가량은, 생성하는 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 산가가 10 ∼ 150 ㎎KOH/g 의 범위가 되는 정도인 것이 바람직하고, 또한 20 ∼ 140 ㎎KOH/g 의 범위가 되는 정도인 것이 바람직하다. 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 산가가 상기 범위 미만이면 알칼리 현상성이 부족해지는 경향이 있고, 또 상기 범위를 초과하면 경화성능이 열등한 경향이 보인다.The addition reaction of a polybasic acid and / or an anhydride thereof can be carried out by a known method, and an addition reaction of an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group to an epoxy resin and Under the same conditions, the target product can be obtained by continuous reaction. The addition amount of the polybasic acid and / or the anhydride component thereof is preferably such that the acid value of the resulting carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin is in the range of 10 to 150 mgKOH / g, more preferably 20 to 140 mgKOH / g. &lt; / RTI &gt; When the acid value of the carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin is less than the above range, the alkaline developability tends to become insufficient. When the acid value exceeds the above range, the curing performance tends to be inferior.

또한, 이 다염기산 및/또는 그 무수물의 부가 반응시에, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 등의 다관능 알코올을 첨가하고, 다분기 구조를 도입한 것으로 해도 된다. In addition, polyfunctional alcohols such as trimethylolpropane, pentaerythritol and dipentaerythritol may be added during the addition reaction of the polybasic acid and / or anhydride thereof to introduce a multibranched structure.

카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는, 통상 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물에, 다염기산 및/또는 그 무수물을 혼합한 후, 혹은 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물에, 다염기산 및/또는 그 무수물 및 다관능 알코올을 혼합한 후에, 가온함으로써 얻어진다. 이 경우, 다염기산 및/또는 그 무수물과 다관능 알코올의 혼합 순서에 특별히 제한은 없다. 가온에 의해, 에폭시 수지와 α,β-불포화 모노카르복실산 또는 카르복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카르복실산에스테르의 반응물과 다관능 알코올과의 혼합물 중에 존재하는 어느 수산기에 대해 다염기산 및/또는 그 무수물이 부가 반응한다.The carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin is usually prepared by mixing a reaction product of an epoxy resin and an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or carboxyl group with a polybasic acid and / Or after mixing a reaction product of an epoxy resin and an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group with a polybasic acid and / or an anhydride thereof and a polyfunctional alcohol, . In this case, the mixing order of the polybasic acid and / or the anhydride thereof and the polyfunctional alcohol is not particularly limited. By heating, polybasic acid and / or polybasic acid can be added to any hydroxyl groups present in a mixture of an epoxy resin and a reaction product of an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or a carboxyl group and a polyfunctional alcohol The anhydride is additionally reacted.

카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상 1000 이상, 바람직하게는 1500 이상이고, 통상 10000 이하, 바람직하게는 8000 이하, 보다 바람직하게는 6000 이하이다. 이 중량 평균 분자량이 작으면 현상액에 대한 용해성이 높고, 지나치게 크면 현상액에 대한 용해성이 낮다.The weight average molecular weight (Mw) of the carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) is usually 1,000 or more, preferably 1,500 or more and usually 10000 or less, 8000 or less, and more preferably 6000 or less. When the weight average molecular weight is small, solubility in a developer is high, and when it is too large, solubility in a developer is low.

카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상의 수지를 혼합하여 사용해도 된다.The carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin may be used singly or as a mixture of two or more kinds of resins.

또, 본 발명에서 사용하는 (C) 알칼리 가용성 수지는, 전술한 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 일부를, 본 발명의 성능을 저해하지 않는 한 다른 바인더 수지로 치환해도 된다. 즉, 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지와 다른 바인더 수지를 병용해도 된다. 이 경우에 있어서, (C) 알칼리 가용성 수지에 있어서의 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 비율을 50 질량% 이상, 특히 80 질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다.In the alkali-soluble resin (C) used in the present invention, a part of the above-mentioned carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin may be substituted with another binder resin so long as the performance of the present invention is not impaired. That is, a carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin and another binder resin may be used in combination. In this case, the proportion of the carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin in the alkali-soluble resin (C) is preferably 50% by mass or more, particularly preferably 80% by mass or more.

본 발명의 성능을 저해하지 않는 한, 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지와 병용할 수 있는 다른 바인더 수지에 제한은 없고, 감광성 착색 조성물에 통상 사용되는 수지에서 선택하면 된다. 예를 들어, 일본 공개특허공보 2007-271727호, 일본 공개특허공보 2007-316620호, 일본 공개특허공보 2007-334290호 등에 기재된 바인더 수지 등을 들 수 있다.As long as the performance of the present invention is not impaired, the other binder resin that can be used in combination with the carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin is not limited, and may be selected from the resins usually used in the photosensitive coloring composition. For example, binder resins described in JP-A-2007-271727, JP-A-2007-316620, JP-A-2007-334290 and the like can be given.

또한, 다른 바인더 수지는 모두 1 종류를 단독으로 사용해도 되도, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Further, all of the other binder resins may be used alone or in combination of two or more.

<(D) 광 중합 개시제>&Lt; (D) Photopolymerization initiator &gt;

(D) 광 중합 개시제는, 광을 직접 흡수해, 분해 반응 또는 수소 인발 반응을 일으켜, 중합 활성 라디칼을 발생하는 기능을 갖는 성분이다. 필요에 따라 중합 촉진제 (연쇄 이동제), 증감 색소 등의 부가제를 첨가해 사용해도 된다.(D) The photopolymerization initiator is a component having a function of absorbing light directly to generate a decomposition reaction or a hydrogen withdrawing reaction to generate a polymerization activity radical. If necessary, additives such as polymerization accelerators (chain transfer agents), sensitizing dyes and the like may be added and used.

광 중합 개시제로는, 예를 들어 일본 공개특허공보 소59-152396호, 일본 공개특허공보 소61-151197호 각 공보에 기재된 티타노센 화합물을 포함하는 메탈로센 화합물 ; 일본 공개특허공보 2000-56118호에 기재된 헥사아릴비이미다졸 유도체 ; 일본 공개특허공보 평10-39503호에 기재된 할로메틸화옥사디아졸 유도체, 할로메틸-s-트리아진 유도체, N-페닐글리신 등의 N-아릴-α-아미노산류, N-아릴-α-아미노산염류, N-아릴-α-아미노산에스테르류 등의 라디칼 활성제, α-아미노알킬페논 유도체 ; 일본 공개특허공보 2000-80068호, 일본 공개특허공보 2006-36750호 등에 기재되어 있는 옥심에스테르 유도체 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include metallocene compounds containing a titanocene compound described in JP-A-59-152396 and JP-A-61-151197; Hexaarylbimidazole derivatives described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-56118; N-aryl-α-amino acids such as halomethylated oxadiazole derivatives, halomethyl-s-triazine derivatives and N-phenylglycine described in JP-A-10-39503, N-aryl- , N-aryl-? -Amino acid esters and? -Aminoalkylphenone derivatives; Oxime ester derivatives described in JP-A-2000-80068, JP-A-2006-36750, and the like.

구체적으로는, 예를 들어 티타노센 유도체류로는, 디시클로펜타디에닐티타늄디클로라이드, 디시클로펜타디에닐티타늄비스페닐, 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,5,6-테트라플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,4,6-트리플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,6-디플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,4-디플루오로페니-1-일), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페니-1-일), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,6-디플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄〔2,6-디-플루오로-3-(피로-1-일)-페니-1-일〕등을 들 수 있다.Specifically, examples of the titanocene derivative include dicyclopentadienyl titanium dichloride, dicyclopentadienyl titanium bisphenyl, dicyclopentadienyl titanium bis (2,3,4,5,6- 1-yl), dicyclopentadienyl titanium bis (2,3,5,6-tetrafluoropheny-1-yl), dicyclopentadienyl titanium bis (2,4,6- 1-yl), dicyclopentadienyltitanium di (2,6-difluoropheny-1-yl), dicyclopentadienyltitanium di (2,4-difluorophenyl- (Methylcyclopentadienyl) titanium bis (2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl), di (methylcyclopentadienyl) titanium bis 1-yl), and dicyclopentadienyl titanium [2,6-di-fluoro-3- (pyrro-1-yl) -pheny-1-yl].

또, 비이미다졸 유도체류로는, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-비스(3'-메톡시페닐)이미다졸 2 량체, 2-(2'-플루오로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, 2-(2'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, (4'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체 등을 들 수 있다.Examples of nonimidazole derivatives include 2- (2'-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2'-chlorophenyl) -4,5- (2'-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (2'-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- Imidazole dimer, (4'-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, and the like.

또, 할로메틸화옥사디아졸 유도체류로는, 2-트리클로로메틸-5-(2'-벤조푸릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-〔β-(2'-벤조푸릴)비닐〕-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-〔β-(2'-(6''-벤조푸릴)비닐)〕-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-푸릴-1,3,4-옥사디아졸 등을 들 수 있다.Examples of halomethylated oxadiazole derivatives include 2-trichloromethyl-5- (2'-benzofuryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- [ Vinylidene] -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- [beta - (2 '- (6 "-benzofuryl) 4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5-furyl-1,3,4-oxadiazole, and the like.

또, 할로메틸-s-트리아진 유도체류로는, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시카르보닐나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of halomethyl-s-triazine derived products include 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, and the like.

또, α-아미노알킬페논 유도체류로는, 2-메틸-1〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 4-디메틸아미노에틸벤조에이트, 4-디메틸아미노이소아밀벤조에이트, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 2-에틸헥실-1,4-디메틸아미노벤조에이트, 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 7-디에틸아미노-3-(4-디에틸아미노벤조일)쿠마린, 4-(디에틸아미노)칼콘 등을 들 수 있다.Examples of the? -Aminoalkylphenone derivatives include 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 4-dimethylaminoethyl benzoate, 4-dimethylamino Diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, 2-ethylhexyl-1,4-dimethylaminobenzoate, 2,5-bis (4-diethylaminobenzal) cyclohexane Diethylamino-3- (4-diethylaminobenzoyl) coumarin, and 4- (diethylamino) chalcone.

광 중합 개시제로는, 특히 감도나 제판성의 점에서 옥심 유도체류 (옥심계 및 케톡심계 화합물) 가 유효하고, 페놀성 수산기를 포함하는 알칼리 가용성 수지를 사용하는 경우 등은, 감도의 점에서 불리해지기 때문에, 특히 이와 같은 감도가 우수한 옥심 유도체류 (옥심에스테르 및 케톡심에스테르 화합물) 가 유용하다.As the photopolymerization initiator, oxime derivatives (oxime and ketoxime compounds) are particularly effective in view of sensitivity and formability, and when an alkali-soluble resin containing a phenolic hydroxyl group is used, it is disadvantageous in view of sensitivity Oxime derivatives (oxime esters and ketoxime esters) having excellent sensitivity are particularly useful.

옥심계 화합물로는, 하기 일반식 (3) 으로 나타내는 구조 부분을 포함하는 화합물을 들 수 있고, 바람직하게는 하기 일반식 (3a) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 들 수 있다.Examples of the oxime-based compound include a compound containing a structural moiety represented by the following general formula (3), and an oxime ester-based compound represented by the following general formula (3a).

[화학식 17][Chemical Formula 17]

Figure pat00026
Figure pat00026

식 (3) 중, R22 는 각각 치환되어 있어도 되고, 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알카노일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알케노일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알카노일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 알콕시카르보닐알카노일기, 탄소수 8 ∼ 20 의 페녹시카르보닐알카노일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 헤테로아릴옥시카르보닐알카노일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 아미노알킬카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기, 또는 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기를 나타낸다.In the formula (3), R 22 may be substituted or an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a heteroarylalkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 25 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms An alkoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms, a heteroaryloxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aminoalkylcarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, An aryloxy group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaryloxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, or an aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms.

[화학식 18][Chemical Formula 18]

Figure pat00027
Figure pat00027

식 (3a) 중, R21a 는 수소 원자, 또는 각각 치환되어 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 25 의 알케닐기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알킬기, 탄소수 3 ∼ 20 의 알콕시카르보닐알킬기, 탄소수 8 ∼ 20 의 페녹시카르보닐알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 혹은 헤테로아릴티오알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 아미노알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알케노일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알카노일기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기, 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 시클로알킬알킬기를 나타낸다. R21b 는 방향고리 혹은 헤테로 방향고리를 포함하는 임의의 치환기를 나타낸다.In formula (3a), R 21a represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, a heteroarylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycar with 3 to 20 carbon atoms, A phenoxycarbonylalkyl group having 8 to 20 carbon atoms, a heteroaryloxycarbonylalkyl group or heteroarylthioalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aminoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, A cycloalkanoyl group having 3 to 8 carbon atoms, an aryloyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaryloyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryloxy group having 7 to 20 carbon atoms, A carbonyl group, or a cycloalkylalkyl group having 1 to 10 carbon atoms. R 21b represents an arbitrary substituent including an aromatic ring or a hetero ring.

또한, R21a 는 R21b 와 함께 고리를 형성해도 되고, 그 연결기는 각각 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 폴리에틸렌기 (-(CH=CH)r-), 폴리에티닐렌기 (-(C≡C)r-) 혹은 이들을 조합하여 이루어지는 기를 들 수 있다 (또한, r 은 0 ∼ 3 의 정수이다).R 21a may form a ring together with R 21b . The linking group may be an alkylene group, a polyethylene group (- (CH = CH) r -), a polyethynylene group - (C? C) r -), or a group formed by combining these groups (and r is an integer of 0 to 3).

식 (3a) 중, R22a 는 각각 치환되어 있어도 되는, 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알카노일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알케노일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알카노일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 알콕시카르보닐알카노일기, 탄소수 8 ∼ 20 의 페녹시카르보닐알카노일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 헤테로아릴옥시카르보닐알카노일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 아미노카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기 또는 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기를 나타낸다.In formula (3a), R 22a represents an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a heteroarylalkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 25 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms An alkoxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, a phenoxycarbonylalkanoyl group having 8 to 20 carbon atoms, a heteroaryloxycarbonylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, an aminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, An arylthio group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroarylthio group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, or an aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms.

상기 일반식 (3) 에 있어서의 R22 및 상기 일반식 (3a) 에 있어서의 R22a 로는, 바람직하게는 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알카노일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알카노일기를 들 수 있다. R 22 in general formula (3) and R 22a in general formula (3a) are preferably an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a heteroarylalkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, a heteroarylalkanoyl group having 3 to 20 carbon atoms, And a cycloalkanoyl group having 1 to 8 carbon atoms.

상기 일반식 (3a) 에 있어서의 R21a 로는, 바람직하게는 무치환의 메틸기, 에틸기, 프로필기나, N-아세틸-N-아세톡시아미노기로 치환된 프로필기를 들 수 있다.The R 21a in the general formula (3a) is preferably an unsubstituted methyl group, an ethyl group, a propyl group or a propyl group substituted with an N-acetyl-N-acetoxyamino group.

또, 상기 일반식 (3a) 에 있어서의 R21b 로는, 바람직하게는 치환되어 있어도 되는 카르바조일기, 치환되어 있어도 되는 티오크산토닐기, 치환되어 있어도 되는 페닐술파이드기를 들 수 있다.Examples of R 21b in the general formula (3a) include a carbazoyl group which may be substituted, a thioxanthonyl group which may be substituted, and a phenylsulfide group which may be substituted.

또, 상기 일반식 (3) 및 (3a) 에 있어서의 임의의 치환기로는, 알킬기, 아릴기, 지환기, 복소고리기, 할로겐기, 수산기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기 등을 들 수 있다.Examples of the substituent in the general formulas (3) and (3a) include an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a heterocyclic group, a halogen group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and an amide group.

본 발명에 바람직한 옥심에스테르계 화합물로서 구체적으로는, 이하에 예시되는 화합물을 들 수 있지만, 전혀 이들 화합물에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the oxime ester compound to be used in the present invention include the compounds exemplified below, but are not limited to these compounds at all.

[화학식 19][Chemical Formula 19]

Figure pat00028
Figure pat00028

[화학식 20][Chemical Formula 20]

Figure pat00029
Figure pat00029

또 니트로기를 가진 카르바졸기를 갖는 옥심에스테르 개시제도 유효하다.Oxime ester initiation system having a carbazole group having a nitro group is also effective.

케톡심계 화합물로는, 하기 일반식 (4) 로 나타내는 구조 부분을 포함하는 화합물을 들 수 있고, 바람직하게는 하기 일반식 (5) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 들 수 있다.Examples of the ketoxime compound include a compound containing a structural moiety represented by the following general formula (4), and an oxime ester-based compound represented by the following general formula (5).

[화학식 21][Chemical Formula 21]

Figure pat00030
Figure pat00030

상기 일반식 (4) 에 있어서, R24 는 상기 일반식 (3) 에 있어서의 R22 와 동일한 의미이다.In the general formula (4), R 24 has the same meaning as R 22 in the general formula (3).

[화학식 22][Chemical Formula 22]

Figure pat00031
Figure pat00031

상기 일반식 (5) 에 있어서, R23a 는 각각 치환되어 있어도 되는, 페닐기, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 25 의 알케닐기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알킬기, 탄소수 3 ∼ 20 의 알콕시카르보닐알킬기, 탄소수 8 ∼ 20 의 페녹시카르보닐알킬기, 탄소수 2 ∼ 20 의 알킬티오알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 혹은 헤테로아릴티오알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 아미노알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알케노일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알카노일기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기, 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 시클로알킬알킬기를 나타낸다.In the general formula (5), R 23a represents an optionally substituted phenyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, a heteroarylalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 3 to 20 carbon atoms A carbonylalkyl group, a phenoxycarbonylalkyl group having a carbon number of 8 to 20, an alkylthioalkyl group having a carbon number of 2 to 20, a heteroaryloxycarbonylalkyl group or a heteroarylthioalkyl group having a carbon number of 1 to 20, an aminoalkyl group having a carbon number of 1 to 20, An alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 25 carbon atoms, a cycloalkanoyl group having 3 to 8 carbon atoms, an arylthio group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroarylmono group having 1 to 20 carbon atoms, An alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a cycloalkylalkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

R23b 는 방향고리 혹은 헤테로 방향고리를 포함하는 임의의 치환기를 나타낸다.R 23b represents an arbitrary substituent including an aromatic ring or a hetero ring.

또한, R23a 는 R23b 와 함께 고리를 형성해도 되고, 그 연결기는, 각각 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 폴리에틸렌기 (-(CH=CH)r-), 폴리에티닐렌기 (-(C≡C)r-) 혹은 이들을 조합하여 이루어지는 기를 들 수 있다 (또한, r 은 0 ∼ 3 의 정수이다).R 23a may form a ring together with R 23b . The linking group may be an alkylene group, a polyethylene group (- (CH = CH) r -) having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, (- (C≡C) r -), or a group formed by combining these groups (and r is an integer of 0 to 3).

일반식 (5) 중, R24a 는 각각 치환되어 있어도 되는, 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알케노일기, 탄소수 4 ∼ 8 의 시클로알카노일기, 탄소수 7 ∼ 20 의 벤조일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기, 탄소수 2 ∼ 20 의 헤테로아릴기, 또는 탄소수 2 ∼ 20 의 알킬아미노카르보닐기를 나타낸다.In the general formula (5), R 24a represents an optionally substituted alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 25 carbon atoms, a cycloalkanoyl group having 4 to 8 carbon atoms, a benzoyl group having 7 to 20 carbon atoms , A heteroaryloxy group having 3 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms, or an alkylaminocarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms.

상기 일반식 (4) 에 있어서의 R24 및 상기 일반식 (5) 에 있어서의 R24a 로는, 바람직하게는 탄소수 2 ∼ 12 의 알카노일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알카노일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알카노일기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기를 들 수 있다. Wherein in the formula (4) R 24 and the roneun formula R 24a according to (5), preferably a heteroaryl alkanoyl group, having a carbon number of 3 having a carbon number of 2 - 12 alkanoyl groups, having from 1 to 20 A cycloalkanoyl group having 8 to 8 carbon atoms, and an aryloyl group having 7 to 20 carbon atoms.

상기 일반식 (5) 에 있어서의 R23a 로는, 바람직하게는 무치환의 에틸기, 프로필기, 부틸기나, 메톡시카르보닐기로 치환된 에틸기 또는 프로필기를 들 수 있다.As R 23a in the general formula (5), an ethyl group or a propyl group preferably substituted with an unsubstituted ethyl group, propyl group, butyl group, or methoxycarbonyl group can be exemplified.

또, 상기 일반식 (5) 에 있어서의 R23b 로는, 바람직하게는 치환되어 있어도 되는 카르바조일기, 치환되어 있어도 되는 페닐술파이드기를 들 수 있다.Examples of R 23b in the general formula (5) include a substituted or unsubstituted carbazoyl group or an optionally substituted phenylsulfide group.

또, 상기 일반식 (4) 및 (5) 에 있어서의 임의의 치환기로는, 알킬기, 아릴기, 지환기, 복소고리기, 할로겐기, 수산기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기 등을 들 수 있다.Examples of the substituent in the general formulas (4) and (5) include an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a heterocyclic group, a halogen group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and an amide group.

본 발명에 바람직한 케톡심에스테르계 화합물로서 구체적으로는, 이하에 예시되는 화합물을 들 수 있지만, 전혀 이들 화합물에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the ketoxime ester compound preferred for the present invention include the compounds exemplified below, but are not limited to these compounds at all.

[화학식 23](23)

Figure pat00032
Figure pat00032

[화학식 24]&Lt; EMI ID =

Figure pat00033
Figure pat00033

이들 옥심 및 케톡심에스테르계 화합물은, 그 자체 공지된 화합물이고, 예를 들어 일본 공개특허공보 2000-80068호나, 일본 공개특허공보 2006-36750호에 기재되어 있는 일련의 화합물의 일종이다. 본 발명에서는, (D) 광 중합 개시제가 옥심에스테르 개시제 및/또는 케톡심에스테르 개시제인 것이 바람직하다.These oxime and ketoxime ester compounds are known compounds themselves and are a kind of a series of compounds described, for example, in JP-A-2000-80068 and JP-A-2006-36750. In the present invention, it is preferable that the photopolymerization initiator (D) is an oxime ester initiator and / or a ketoxime ester initiator.

상기 광 중합 개시제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These photopolymerization initiators may be used singly or in combination of two or more.

본 발명의 감광성 착색 조성물 중의 광 중합 개시제의 비율은, 전체 고형분에 대해 통상 0.4 ∼ 15 질량%, 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량% 이다. 이 범위보다 광 중합 개시제의 비율이 지나치게 많으면 현상성이 저하되는 경향이 있고, 한편 지나치게 적으면 바람직한 착색 경화물의 형상, 단차의 형성이 되지 않는 경우가 있다.The proportion of the photopolymerization initiator in the photosensitive coloring composition of the present invention is generally 0.4 to 15 mass%, preferably 0.5 to 10 mass%, based on the total solid content. When the proportion of the photo-polymerization initiator is excessively larger than this range, the developability tends to decrease. On the other hand, when the proportion is too small, the shape and step of the desired colored cured product may not be formed.

그 외에, 벤조인메틸에테르, 벤조인페닐에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 등의 벤조인알킬에테르류 ; 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논 등의 안트라퀴논 유도체류 ; 벤조페논, 미힐러케톤, 2-메틸벤조페논, 3-메틸벤조페논, 4-메틸벤조페논, 2-클로로벤조페논, 4-브로모벤조페논, 2-카르복시벤조페논 등의 벤조페논 유도체류 ; 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, α-하이드록시-2-메틸페닐프로파논, 1-하이드록시-1-메틸에틸-(p-이소프로필페닐)케톤, 1-하이드록시-1-(p-도데실페닐)케톤, 2-메틸-(4'-메틸티오페닐)-2-모르폴리노-1-프로파논, 1,1,1-트리클로로메틸-(p-부틸페닐)케톤 등의 아세토페논 유도체류 ; 티오크산톤, 2-에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤 유도체류 ; p-디메틸아미노벤조산에틸, p-디에틸아미노벤조산에틸 등의 벤조산에스테르 유도체류 ; 9-페닐아크리딘, 9-(p-메톡시페닐)아크리딘 등의 아크리딘 유도체류 ; 9,10-디메틸벤즈페나진 등의 페나진 유도체류 ; 벤즈안트론 등의 안트론 유도체류 등도 들 수 있다.In addition, benzoin alkyl ethers such as benzoin methyl ether, benzoin phenyl ether, benzoin isobutyl ether and benzoin isopropyl ether; Anthraquinone derivatives such as 2-methyl anthraquinone, 2-ethyl anthraquinone, 2-t-butyl anthraquinone and 1-chloro anthraquinone; Benzophenone derivatives such as benzophenone, Michler's ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone and 2-carboxybenzophenone; Hydroxy-2-methylphenylacetophenone, 1-hydroxy-2-methylphenyl acetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, Ethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4'-methylthiophenyl) , And 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) ketone; Thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-di Thioxanthone derivatives such as isopropyl thioxanthone; benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate; Acridine derivatives such as 9-phenylacridine and 9- (p-methoxyphenyl) acridine; Phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzphenazine; And anthrone derivatives such as benzanthrone.

이들 광 중합 개시제 중에서는, 감도의 점에서 옥심에스테르 유도체류 (옥심에스테르계 화합물) 가 특히 바람직하다.Among these photopolymerization initiators, an oxime ester derivative (oxime ester compound) is particularly preferable in view of sensitivity.

옥심에스테르 유도체류 중에서도, 디페닐술파이드 골격을 갖는 광 중합 개시제가 내용제성의 관점에서 바람직하고, 예를 들어 하기 일반식 (5-1) 로 나타내는 것을 사용할 수 있다.Among the oxime ester derivatives, a photopolymerization initiator having a diphenyl sulfide skeleton is preferable from the viewpoint of the solvent resistance, and for example, those represented by the following general formula (5-1) can be used.

[화학식 25](25)

Figure pat00034
Figure pat00034

여기서, R23a, R24a 는 상기 일반식 (5) 와 동일한 의미이다.Here, R 23a and R 24a have the same meanings as in the general formula (5).

R25a 및 R25b 는, 각각 독립적으로 R25c, OR25c, CN, OH, 또는 할로겐 원자를 나타내고, f 는 0 ∼ 5 의 정수를 나타내고, g 는 0 ∼ 4 의 정수를 나타낸다.R 25a and R 25b each independently represent R 25c , OR 25c , CN, OH or a halogen atom; f represents an integer of 0 to 5; and g represents an integer of 0 to 4.

R25c 는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 30 의 아릴기, 또는 탄소수 7 ∼ 30 의 아릴알킬기를 나타낸다. R25c 로 나타내는 치환기의 수소 원자는, 추가로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, R25c 로 나타내는 치환기의 알킬렌 부분은 -O-, -S-, -COO-, -OCO- 또는 -NR25d- 에 의해 1 ∼ 5 회 중단되어 있어도 된다. R25d 는 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 6 ∼ 30 의 아릴기, 또는 탄소수 7 ∼ 30 의 아릴알킬기를 나타낸다. R25c 로 나타내는 치환기의 알킬 부분은 분기 측사슬이 있어도 되고, 시클로펜틸 또는 시클로헥실이어도 된다.R 25c represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms. A - R a hydrogen atom of the substituent represented by 25c is, and may be further substituted with a halogen atom, the alkylene portion of the substituent represented by R 25c is -O-, -S-, -COO-, -OCO- or -NR 25d Or may be interrupted one to five times. R 25d represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms. The alkyl moiety of the substituent represented by R 25c may have a branched side chain, or may be cyclopentyl or cyclohexyl.

R26 은 OH, COOH 또는 하기 일반식 (5-2) 로 나타내는 기를 나타내고, h 는 0 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.R 26 represents OH, COOH or a group represented by the following general formula (5-2), and h represents an integer of 0 to 5;

[화학식 26](26)

Figure pat00035
Figure pat00035

식 (5-2) 중, R26a 는 -O-, -S-, -OCO- 또는 -COO- 를 나타낸다.In the formula (5-2), R 26a represents -O-, -S-, -OCO- or -COO-.

R26b 는 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 30 의 아릴렌기, 또는 탄소수 7 ∼ 30 의 아릴렌알킬렌기를 나타낸다.R 26b represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, or an arylenealkylene group having 7 to 30 carbon atoms.

R26b 로 나타내는 치환기의 알킬렌 부분은 -O-, -S-, -COO- 또는 -OCO- 에 의해 1 ∼ 5 회 중단되어 있어도 된다. R26b 로 나타내는 치환기의 알킬렌 부분은 분기 측사슬이 있어도 되고, 시클로헥실렌이어도 된다.The alkylene moiety of the substituent represented by R 26b may be interrupted one to five times by -O-, -S-, -COO- or -OCO-. The alkylene moiety of the substituent represented by R 26b may have a branch side chain or may be cyclohexylene.

R26c 는 OH 또는 COOH 를 나타내고, i 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.R 26c represents OH or COOH, and i represents an integer of 1 to 3;

* 는 결합손을 나타낸다.* Indicates a combined hand.

광 중합 개시제는 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.One type of photopolymerization initiator may be used alone, or two or more types may be used in combination.

광 중합 개시제에는, 필요에 따라 감응 감도를 높이는 목적으로, 화상 노광 광원의 파장에 따른 증감 색소, 중합 촉진제를 배합시킬 수 있다. 증감 색소로는, 일본 공개특허공보 평4-221958호, 일본 공개특허공보 평4-219756호에 기재된 크산텐 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 복소고리를 갖는 쿠마린 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 3-케토쿠마린 화합물, 일본 공개특허공보 평6-19240호에 기재된 피로메텐 색소, 그 외 일본 공개특허공보 소47-2528호, 일본 공개특허공보 소54-155292호, 일본 특허공보 소45-37377호, 일본 공개특허공보 소48-84183호, 일본 공개특허공보 소52-112681호, 일본 공개특허공보 소58-15503호, 일본 공개특허공보 소60-88005호, 일본 공개특허공보 소59-56403호, 일본 공개특허공보 평2-69호, 일본 공개특허공보 소57-168088호, 일본 공개특허공보 평5-107761호, 일본 공개특허공보 평5-210240호, 일본 공개특허공보 평4-288818호에 기재된 디알킬아미노벤젠 골격을 갖는 색소 등을 들 수 있다.The photopolymerization initiator may be compounded with a sensitizing dye and a polymerization promoter depending on the wavelength of the image exposure light source for the purpose of increasing the sensitivity of sensitivity as needed. Examples of the sensitizing dye include xanthene dye described in JP-A-4-221958, JP-A-4-219756, JP-A-3-239703 and JP-A-5-289335 A coumarin dye having the heterocycle described above, a 3-ketocoumarin compound described in JP-A Nos. 3-239703 and 5-289335, a pyrromethene dye described in JP-A No. 6-19240 JP-A-47-2528, JP-A-54-155292, JP-B-45-37377, JP-A-48-84183, JP-A-52-112681 Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-15503, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 60-88005, Japanese Laid-Open Patent Application No. 59-56403, Japanese Laid-Open Patent Application No. 2-69, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 57-168088 JP-A-5-107761, JP-A-5-210240, JP-A- A dye having a dialkylaminobenzene skeleton described in JP-A No. 4-288818, and the like.

이들 증감 색소 중 바람직한 것은 아미노기 함유 증감 색소이고, 더 바람직한 것은 아미노기 및 페닐기를 동일 분자 내에 갖는 화합물이다. 특히 바람직한 것은, 예를 들어 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 2-아미노벤조페논, 4-아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노벤조페논, 3,4-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 화합물 ; 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[4,5]벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[6,7]벤조옥사졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-옥사디아졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-티아디아졸, (p-디메틸아미노페닐)피리딘, (p-디에틸아미노페닐)피리딘, (p-디메틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디에틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디메틸아미노페닐)피리미딘, (p-디에틸아미노페닐)피리미딘 등의 p-디알킬아미노페닐기 함유 화합물 등이다. 이 중 가장 바람직한 것은 4,4'-디알킬아미노벤조페논이다.Among these sensitizing dyes, preferred are amino group-containing sensitizing dyes, and more preferred are compounds having an amino group and a phenyl group in the same molecule. Particularly preferred are, for example, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, 2-aminobenzophenone, 4-aminobenzophenone, Benzophenone compounds such as 3,3'-diaminobenzophenone and 3,4-diaminobenzophenone; Benzooxazole, 2- (p-dimethylaminophenyl) benzooxazole, 2- (p-diethylaminophenyl) benzoxazole, 2- (Dimethylaminophenyl) benzo [6,7] benzoxazole, 2,5-bis (p-diethylaminophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2- Sol, 2- (p-diethylaminophenyl) benzothiazole, 2- (p-dimethylaminophenyl) benzimidazole, 2- (p-diethylaminophenyl) benzimidazole, 2,5-bis Diethylaminophenyl) -1,3,4-thiadiazole, (p-dimethylaminophenyl) pyridine, (p-diethylaminophenyl) pyridine, (p- dimethylaminophenyl) quinoline, (P-dimethylaminophenyl) pyrimidine, (p-diethylaminophenyl) pyrimidine, and other p-dialkylaminophenyl group-containing compounds. Of these, 4,4'-dialkylaminobenzophenone is most preferred.

증감 색소도 또 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The sensitizing dyes may also be used singly or in combination of two or more species.

중합 촉진제로는, 예를 들어 p-디메틸아미노벤조산에틸, 벤조산2-디메틸아미노에틸 등의 방향족 아민, n-부틸아민, N-메틸디에탄올아민 등의 지방족 아민, 후술하는 메르캅토 화합물 등이 사용된다. 중합 촉진제는 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Examples of the polymerization accelerator include aromatic amines such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and 2-dimethylaminoethyl benzoate, aliphatic amines such as n-butylamine and N-methyldiethanolamine, mercapto compounds described later, and the like do. The polymerization promoters may be used singly or in combination of two or more kinds.

<광 중합성 모노머>&Lt; Photopolymerizable monomer &gt;

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서는, 추가로 광 중합성 모노머 (광 중합성 화합물) 를 포함하는 것이, 감도 등의 점에서 바람직하다. In the photosensitive coloring composition of the present invention, it is preferable to further include a photopolymerizable monomer (photopolymerizable compound) from the viewpoint of sensitivity and the like.

본 발명에 사용되는 광 중합성 모노머로는, 분자 내에 에틸렌성 불포화기를 적어도 1 개 갖는 화합물 (이하, 「에틸렌성 단량체」라고 칭하는 경우가 있다) 을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 (메트)아크릴산, (메트)아크릴산알킬에스테르, 아크릴로니트릴, 스티렌, 및 에틸렌성 불포화 결합을 1 개 갖는 카르복실산과, 다가 또는 1 가 알코올의 모노에스테르 등을 들 수 있다.The photopolymerizable monomer used in the present invention includes a compound having at least one ethylenic unsaturated group in the molecule (hereinafter sometimes referred to as "ethylenic monomer"). Specific examples thereof include (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid alkyl ester, acrylonitrile, styrene, and carboxylic acid having one ethylenic unsaturated bond and monoester of polyhydric or monohydric alcohol have.

본 발명에 있어서는, 특히 1 분자 중에 에틸렌성 불포화기를 2 개 이상 갖는 다관능 에틸렌성 단량체를 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, it is particularly preferable to use a polyfunctional ethylenic monomer having two or more ethylenic unsaturated groups in one molecule.

이러한 다관능 에틸렌성 단량체의 예로는, 예를 들어 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르 ; 지방족 폴리하이드록시 화합물, 방향족 폴리하이드록시 화합물 등의 다가 하이드록시 화합물과, 불포화 카르복실산 및 다염기성 카르복실산의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르 등을 들 수 있다.Examples of such polyfunctional ethylenic monomers include, for example, esters of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid; An ester of an aromatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid; Aliphatic polyhydroxy compounds, and aromatic polyhydroxy compounds, and esters obtained by esterification reaction of an unsaturated carboxylic acid and a polybasic carboxylic acid.

상기 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 글리세롤아크릴레이트 등의 지방족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르, 이들 예시 화합물의 아크릴레이트를 메타크릴레이트로 변경한 메타크릴산에스테르, 동일하게 이타코네이트로 변경한 이타콘산에스테르, 크로토네이트로 변경한 크로톤산에스테르 혹은 말레에이트로 변경한 말레산에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the ester of the aliphatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylol ethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, Examples of the aliphatic polyhydroxy compound such as pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and glycerol acrylate include acrylic acid Esters, methacrylic acid esters obtained by changing the acrylate of these exemplified compounds to methacrylate, itaconic acid esters similarly modified with itaconate, maleic acid esters modified with crotonate, maleic acid esters modified with maleic acid Back There.

방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 하이드로퀴논디아크릴레이트, 하이드로퀴논디메타크릴레이트, 레조르신디아크릴레이트, 레조르신디메타크릴레이트, 피로갈롤트리아크릴레이트 등의 방향족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르 및 메타크릴산에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the ester of the aromatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid include aromatic polyesters such as hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcinodiacrylate, resorcine dimethacrylate and pyrogallol triacrylate; Acrylic acid esters and methacrylic acid esters of hydroxy compounds, and the like.

다염기성 카르복실산 및 불포화 카르복실산과, 다가 하이드록시 화합물의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르로는 반드시 단일물은 아니지만, 대표적인 구체예를 들면 아크릴산, 프탈산, 및 에틸렌글리콜의 축합물, 아크릴산, 말레산, 및 디에틸렌글리콜의 축합물, 메타크릴산, 테레프탈산 및 펜타에리트리톨의 축합물, 아크릴산, 아디프산, 부탄디올 및 글리세린의 축합물 등을 들 수 있다.The ester obtained by the esterification reaction of the polybasic carboxylic acid and the unsaturated carboxylic acid with the polyhydric hydroxy compound is not necessarily a single substance. Representative examples thereof include condensates of acrylic acid, phthalic acid and ethylene glycol, acrylic acid, maleic acid , Condensates of diethylene glycol, condensates of methacrylic acid, terephthalic acid and pentaerythritol, condensates of acrylic acid, adipic acid, butanediol and glycerin, and the like.

그 외, 본 발명에 사용되는 다관능 에틸렌성 단량체의 예로는, 폴리이소시아네이트 화합물과 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 폴리올 및 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르를 반응시켜 얻어지는 우레탄(메트)아크릴레이트류 ; 다가 에폭시 화합물과 하이드록시(메트)아크릴레이트 또는 (메트)아크릴산의 부가 반응물과 같은 에폭시아크릴레이트류 ; 에틸렌비스아크릴아미드 등의 아크릴아미드류 ; 프탈산디알릴 등의 알릴에스테르류 ; 디비닐프탈레이트 등의 비닐기 함유 화합물 등이 유용하다.Examples of the polyfunctional ethylenic monomer used in the present invention include urethane (meth) acrylate obtained by reacting a polyisocyanate compound, a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester or polyisocyanate compound with a polyol and a hydroxyl group-containing (meth) Acrylates; Epoxy acrylates such as polyaddition epoxy compounds and addition reactants of hydroxy (meth) acrylate or (meth) acrylic acid; Acrylamides such as ethylenebisacrylamide; Allyl esters such as diallyl phthalate; And vinyl group-containing compounds such as divinyl phthalate.

상기 우레탄(메트)아크릴레이트류로는, 예를 들어 DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (닛폰카야쿠사 제조), U-2PPA, U-6LPA, U-10PA, U-33H, UA-53H, UA-32P, UA-1100H (신나카무라 화학 공업사 제조), UA-306H, UA-510H, UF-8001G (쿄에이샤 화학사 제조), UV-1700B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B, UV7640B (닛폰 합성 화학사 제조) 등을 들 수 있다.U-2PPA, U-6LPA, U-6LPA, and U-6LPA are examples of the urethane (meth) acrylates. UA-510H, UF-8001G (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.), UV-1700B, UA- UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B and UV7640B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.).

이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used singly or in combination of two or more.

<감광성 착색 조성물의 기타 배합 성분>&Lt; Other compounding components of photosensitive coloring composition &gt;

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 상기 서술한 성분 외에, 유기 용제, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제, 도포성 향상제, 현상 개량제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 계면 활성제, 안료 유도체 등을 적절히 배합할 수 있다.The photosensitive coloring composition of the present invention may suitably contain, in addition to the components described above, adhesion improvers such as organic solvents and silane coupling agents, coating improvers, development improvers, ultraviolet absorbers, antioxidants, surfactants and pigment derivatives .

(1) 유기 용제 (1) Organic solvents

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 통상 (A) 색재, (B) 분산제, (C) 알칼리 가용성 수지, (D) 광 중합 개시제, 및 필요에 따라 사용되는 광 중합성 모노머, 그 외의 각종 재료가 유기 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다.The photosensitive coloring composition of the present invention is a photosensitive coloring composition which is usually prepared by mixing (A) a colorant, (B) a dispersant, (C) an alkali-soluble resin, (D) a photopolymerization initiator, It is used in a state dissolved or dispersed in a solvent.

유기 용제로는, 비점이 100 ∼ 300 ℃ 의 범위의 것을 선택하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 120 ∼ 280 ℃ 의 비점을 갖는 용제이다.As the organic solvent, it is preferable to select one having a boiling point in the range of 100 to 300 占 폚. And more preferably a solvent having a boiling point of 120 to 280 ° C.

이와 같은 유기 용제로는, 예를 들어 다음과 같은 것을 들 수 있다. Such organic solvents include, for example, the following.

에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜-t-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 메톡시메틸펜탄올, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르와 같은 글리콜모노알킬에테르류 ;Ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol- Butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, methoxymethyl pentanol, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, Glycol monoalkyl ethers such as 3-methoxybutanol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether and tripropylene glycol methyl ether;

에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르와 같은 글리콜디알킬에테르류 ;Glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether and dipropylene glycol dimethyl ether ;

에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트와 같은 글리콜알킬에테르아세테이트류 ;Ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether But are not limited to, acetate, methoxybutyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, dipropylene glycol mono Glycol alkyl ether acetates such as methyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate and 3-methyl-3-methoxybutyl acetate;

에틸렌글리콜디아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트 등의 글리콜디아세테이트류 ; Glycol diacetates such as ethylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate and 1,6-hexanediol acetate;

시클로헥산올아세테이트 등의 알킬아세테이트류 ; Alkyl acetates such as cyclohexanol acetate;

아밀에테르, 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르, 디아밀에테르, 에틸이소부틸에테르, 디헥실에테르와 같은 에테르류 ;Ethers such as amyl ether, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, diamyl ether, ethyl isobutyl ether and dihexyl ether;

아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소아밀케톤, 디이소프로필케톤, 디이소부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 에틸아밀케톤, 메틸부틸케톤, 메틸헥실케톤, 메틸노닐케톤, 메톡시메틸펜타논과 같은 케톤류 ; Examples of the solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isoamyl ketone, diisopropyl ketone, diisobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl amyl ketone, Ketones such as ketone, methyl nonyl ketone, methoxymethyl pentanone;

에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 메톡시메틸펜탄올, 글리세린, 벤질알코올과 같은 1 가 또는 다가 알코올류 ;But are not limited to, monohydric or polyhydric alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, methoxymethylpentanol, glycerin, Ryu;

n-펜탄, n-옥탄, 디이소부틸렌, n-헥산, 헥센, 이소프렌, 디펜텐, 도데칸과 같은 지방족 탄화수소류 ;aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-octane, diisobutylene, n-hexane, hexene, isoprene, dipentene and dodecane;

시클로헥산, 메틸시클로헥산, 메틸시클로헥센, 비시클로헥실과 같은 지환식 탄화수소류 ;Alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, methylcyclohexene and bicyclohexyl;

벤젠, 톨루엔, 자일렌, 쿠멘과 같은 방향족 탄화수소류 ; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and cumene;

아밀포르메이트, 에틸포르메이트, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산프로필, 아세트산아밀, 메틸이소부틸레이트, 에틸렌글리콜아세테이트, 에틸프로피오네이트, 프로필프로피오네이트, 부티르산부틸, 부티르산이소부틸, 이소부티르산메틸, 에틸카프릴레이트, 부틸스테아레이트, 에틸벤조에이트, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, γ-부티로락톤과 같은 사슬형 또는 고리형 에스테르류 ;Ethyl propionate, propyl propionate, butyl butyrate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, methyl isobutyrate, ethyl isobutyrate, ethyl propionate, propyl propionate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, Ethyl propionate, ethyl caprylate, butyl stearate, ethyl benzoate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, Chain or cyclic esters such as butyl methoxypropionate and? -Butyrolactone;

3-메톡시프로피온산, 3-에톡시프로피온산과 같은 알콕시카르복실산류 ;Alkoxycarboxylic acids such as 3-methoxypropionic acid and 3-ethoxypropionic acid;

부틸클로라이드, 아밀클로라이드와 같은 할로겐화 탄화수소류 ;Halogenated hydrocarbons such as butyl chloride and amyl chloride;

메톡시메틸펜타논과 같은 에테르케톤류 ;Ether ketones such as methoxymethylpentanone;

아세토니트릴, 벤조니트릴과 같은 니트릴류 등.Nitriles such as acetonitrile, benzonitrile, and the like.

상기에 해당하는 시판되는 용제로는, 미네랄 스피릿, 바르솔 #2, 아프코 #18 솔벤트, 아프코 시너, 소칼 솔벤트 No.1 및 No.2, 솔벳소 #150, 쉘 TS28 솔벤트, 카르비톨, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 메틸셀로솔브 (「셀로솔브」는 등록 상표. 이하 동일.), 에틸셀로솔브, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀로솔브아세테이트, 디글라임 (모두 상품명) 등을 들 수 있다.Examples of commercially available solvents include Mineral Spray, Barthol # 2, Acco # 18 Solvent, Afucosiner, SoCal Solvent No.1 and No.2, Solvesso # 150, Shell TS28 Solvent, Carbitol, Ethylcellosolve acetate, methylcellosolve acetate, diglyme (all trade names), and the like may be used as the carrier. The term &quot; cellosolve &quot; .

이들 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

포토 리소그래피법으로 컬러 필터의 화소 또는 블랙 매트릭스를 형성하는 경우, 유기 용제로는 비점이 100 ∼ 200 ℃ (압력 1013.25 [hPa] 조건하. 이하, 비점에 관해서는 모두 동일.) 의 범위의 것을 선택하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 120 ∼ 170 ℃ 의 비점을 갖는 것이다.When a pixel or a black matrix of a color filter is formed by a photolithography method, the organic solvent is selected to have a boiling point in the range of 100 to 200 DEG C (under the pressure of 1013.25 [hPa], all the same with respect to the boiling point) . More preferably a boiling point of 120 to 170 占 폚.

상기 유기 용제 중, 도포성, 표면 장력 등의 밸런스가 양호하고, 조성물 중의 구성 성분의 용해도가 비교적 높은 점에서는, 글리콜알킬에테르아세테이트류가 바람직하다.Among the above-mentioned organic solvents, glycol alkyl ether acetates are preferred from the viewpoints of good balance of coatability, surface tension and the like, and relatively high solubility of the constituent components in the composition.

또, 글리콜알킬에테르아세테이트류는 단독으로 사용해도 되지만, 다른 유기 용제를 병용해도 된다. 병용하는 유기 용제로서 특히 바람직한 것은 글리콜모노알킬에테르류이다. 그 중에서도, 특히 조성물 중의 구성 성분의 용해성으로부터 프로필렌글리콜모노메틸에테르가 바람직하다. 또한, 글리콜모노알킬에테르류는 극성이 높고, 첨가량이 지나치게 많으면 안료가 응집되기 쉬워, 후에 얻어지는 착색 수지 조성물의 점도가 올라가는 등 보존 안정성이 저하되는 경향이 있으므로, 용제 중의 글리콜모노알킬에테르류의 비율은 5 질량% ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하다.The glycol alkyl ether acetates may be used alone or in combination with other organic solvents. Especially preferred as the organic solvent to be used in combination are glycol monoalkyl ethers. Among them, propylene glycol monomethyl ether is particularly preferable from the solubility of the constituent components in the composition. The glycol monoalkyl ether has a high polarity. When the amount of the glycol monoalkyl ether to be added is too large, the pigment tends to aggregate, and the storage stability tends to be lowered, for example, the viscosity of the resulting colored resin composition tends to be lowered. Is preferably 5% by mass to 30% by mass, and more preferably 5% by mass to 20% by mass.

또, 150 ℃ 이상의 비점을 갖는 유기 용제 (이하 「고비점 용제」라고 칭하는 경우가 있다) 를 병용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 고비점 용제를 병용함으로써, 착색 수지 조성물은 마르기 어렵게 되지만, 조성물 중에 있어서의 안료의 균일한 분산 상태가 급격한 건조에 의해 파괴되는 것을 방지하는 효과가 있다. 즉, 예를 들어 슬릿 노즐 선단에 있어서의, 색재 등의 석출·고화에 의한 이물질 결함의 발생을 방지하는 효과가 있다. 이와 같은 효과가 높은 점에서, 상기 서술한 각종 용제 중에서도 특히 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 및 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트가 바람직하다.It is also preferable to use an organic solvent having a boiling point of 150 캜 or more (hereinafter sometimes referred to as a &quot; high boiling point solvent &quot;). When such a high boiling point solvent is used in combination, the colored resin composition becomes difficult to dry, but it has an effect of preventing the uniform dispersion state of the pigment in the composition from being broken by rapid drying. That is, for example, there is an effect of preventing the occurrence of foreign matter defects due to precipitation and solidification of a coloring material at the tip of the slit nozzle. Among these various solvents, diethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate and diethylene glycol monoethyl ether acetate are particularly preferable from the viewpoint of high effect.

유기 용제 중의 고비점 용제의 함유 비율은 3 질량% ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하며, 5 질량% ∼ 30 질량% 가 특히 바람직하다. 고비점 용제의 양이 지나치게 적으면, 예를 들어 슬릿 노즐 선단에서 색재 등이 석출·고화되어 이물질 결함을 야기할 가능성이 있고, 또 지나치게 많으면 조성물의 건조 온도가 느려져, 후술하는 블랙 매트릭스 제조 공정에 있어서의, 감압 건조 프로세스의 택트 불량이나, 프리베이크의 핀 흔적과 같은 문제를 야기하는 것이 염려된다.The content of the high boiling point solvent in the organic solvent is preferably 3% by mass to 50% by mass, more preferably 5% by mass to 40% by mass, and particularly preferably 5% by mass to 30% by mass. If the amount of the high-boiling point solvent is too small, for example, the coloring material precipitates and solidifies at the tip of the slit nozzle to cause foreign matter defects. If the amount is too large, the drying temperature of the composition is slowed, It may cause problems such as tack in the reduced-pressure drying process and pin marks on the pre-baking.

또한, 비점 150 ℃ 이상의 고비점 용제가, 글리콜알킬에테르아세테이트류여도 되고, 또 글리콜알킬에테르류여도 되며, 이 경우에는 비점 150 ℃ 이상의 고비점 용제를 별도로 함유시키지 않아도 상관없다.The high boiling point solvent having a boiling point of 150 ° C or higher may be a glycol alkyl ether acetate or a glycol alkyl ether. In this case, a high boiling point solvent having a boiling point of 150 ° C or more may not be separately contained.

바람직한 고비점 용제로서, 예를 들어 전술한 각종 용제 중에서는 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트, 트리아세틴 등을 들 수 있다.As preferred high boiling point solvents, for example, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, 1,3-butylene glycol diacetate , 1,6-hexanediol diacetate, triacetin, and the like.

(2) 밀착 향상제 (2) Adhesion improving agent

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 기판과의 밀착성을 개선하기 위해 밀착 향상제를 함유시켜도 된다. 밀착 향상제로는, 실란 커플링제, 인산기 함유 화합물 등이 바람직하다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain an adhesion-improving agent for improving the adhesion with the substrate. As the adhesion improver, a silane coupling agent, a phosphoric acid group-containing compound and the like are preferable.

실란 커플링제의 종류로는, 에폭시계, (메트)아크릴계, 아미노계 등 여러 가지 것을 1 종을 단독으로, 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the silane coupling agent include various epoxy compounds, (meth) acrylic compounds, amino compounds, and the like, or a mixture of two or more thereof.

바람직한 실란 커플링제로서, 예를 들어 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 (메트)아크릴옥시실란류, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란 등의 에폭시실란류, 3-우레이도프로필트리에톡시실란 등의 우레이도실란류, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트실란류를 들 수 있지만, 특히 바람직하게는 에폭시실란류의 실란 커플링제이다.As preferred silane coupling agents there may be mentioned, for example, (meth) acryloxysilanes such as 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl ) Epoxy silanes such as ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-ureidopropyl Ureido silanes such as triethoxy silane, and isocyanate silanes such as 3-isocyanate propyl triethoxy silane. Particularly preferred are silane coupling agents of epoxysilanes.

인산기 함유 화합물로는, (메트)아크릴로일기 함유 포스페이트류가 바람직하고, 하기 일반식 (g1), (g2) 또는 (g3) 으로 나타내는 것이 바람직하다.The phosphate group-containing compound is preferably a (meth) acryloyl group-containing phosphate, and is preferably represented by the following general formula (g1), (g2) or (g3).

[화학식 27](27)

Figure pat00036
Figure pat00036

상기 일반식 (g1), (g2) 및 (g3) 에 있어서, R51 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, l 및 l' 는 1 ∼ 10 의 정수, m 은 1, 2 또는 3 이다.In the above general formulas (g1), (g2) and (g3), R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group, l and l 'represent an integer of 1 to 10, and m represents 1, 2 or 3.

이들 인산기 함유 화합물도 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.These phosphate group-containing compounds may be used singly or in combination of two or more.

(3) 계면 활성제 (3) Surfactants

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 도포성 향상을 위해 계면 활성제를 함유시켜도 된다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain a surfactant for improving the coatability.

계면 활성제로는, 예를 들어 아니온계, 카티온계, 비이온계, 양쪽성 계면 활성제 등 각종의 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 제 특성에 악영향을 미칠 가능성이 낮은 점에서, 비이온계 계면 활성제를 사용하는 것이 바람직하고, 그 중에서도 불소계나 실리콘계의 계면 활성제가 도포성의 면에서 효과적이다.As the surfactant, various kinds of surfactants such as anionic surfactants, cationic surfactants, nonionic surfactants, and amphoteric surfactants can be used. Among them, it is preferable to use a nonionic surfactant in view of a low possibility of adversely affecting the properties, and in particular, a fluorine-based or silicone-based surfactant is effective in terms of application.

이와 같은 계면 활성제로는, 예를 들어 TSF4460 (지이 토시바 실리콘사 제조), DFX-18 (네오스사 제조), BYK-300, BYK-325, BYK-330 (빅케미사 제조), KP340 (신에츠 실리콘사 제조), F-470, F-475, F-478, F-559 (DIC 사 제조), SH7PA (토레이 실리콘사 제조), DS-401 (다이킨사 제조), L-77 (닛폰 유니카사 제조), FC4430 (스미토모 3M 사 제조) 등을 들 수 있다.Examples of such a surfactant include TSF4460 (manufactured by Zitoshiba Silicone), DFX-18 (manufactured by Neos), BYK-300, BYK-325 and BYK- (Manufactured by DIC), SH7PA (manufactured by Toray Silicone Co., Ltd.), DS-401 (manufactured by DICKINSU), and L-77 (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.), F-470, F-475, F- , FC4430 (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), and the like.

또한, 계면 활성제는, 1 종을 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 병용해도 된다.The surfactant may be used alone or in combination of two or more in any combination.

(4) 안료 유도체 (4) Pigment derivatives

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 분산성, 보존성 향상을 위해, 분산 보조제로서 안료 유도체를 함유시켜도 된다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, a pigment derivative may be contained as a dispersion auxiliary agent in order to improve dispersibility and storage stability.

안료 유도체로는 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 퀴노프탈론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 안트라퀴논계, 인단트렌계, 페릴렌 계, 페리논계, 디케토피롤로피롤계, 디옥사진계 등의 유도체를 들 수 있지만, 그 중에서도 프탈로시아닌계, 퀴노프탈론계가 바람직하다.Examples of the pigment derivative include azo pigments, phthalocyanine pigments, quinacridone pigments, benzimidazolone pigments, quinophthalone pigments, isoindolinone pigments, dioxazine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, perylene pigments, perinone pigments, A thiophene, a thiophene, a thiophene, a thiophene, a thiophene, a thiophene, and a thiophene.

안료 유도체의 치환기로는 술폰산기, 술폰아미드기 및 그 4 급 염, 프탈이미도메틸기, 디알킬아미노알킬기, 수산기, 카르복실기, 아미드기 등이 안료 골격에 직접 또는 알킬기, 아릴기, 복소고리기 등을 개재하여 결합한 것을 들 수 있고, 바람직하게는 술폰산기이다. 또 이들 치환기는 하나의 안료 골격에 복수 치환되어 있어도 된다.Examples of the substituent of the pigment derivative include a sulfonic acid group, a sulfonamide group and a quaternary salt thereof, a phthalimidomethyl group, a dialkylaminoalkyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amide group and the like directly to the pigment skeleton or an alkyl group, an aryl group, , And preferably a sulfonic acid group. These substituents may be substituted by plural substituents on one pigment skeleton.

안료 유도체의 구체예로는 프탈로시아닌의 술폰산 유도체, 퀴노프탈론의 술폰산 유도체, 안트라퀴논의 술폰산 유도체, 퀴나크리돈의 술폰산 유도체, 디케토피롤로피롤의 술폰산 유도체, 디옥사진의 술폰산 유도체 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Specific examples of the pigment derivative include a sulfonic acid derivative of phthalocyanine, a sulfonic acid derivative of quinophthalone, an anthraquinone sulfonic acid derivative, a quinacridone sulfonic acid derivative, a diketopyrrolopyrrole sulfonic acid derivative, and a dioxazine sulfonic acid derivative . These may be used singly or in combination of two or more.

(5) 광산발생제 (5)

광산발생제란, 자외선에 의해 산을 발생할 수 있는 화합물이고, 노광을 실시했을 때에 발생하는 산의 작용에 의해, 예를 들어 멜라민 화합물 등 가교제가 있음으로써 가교 반응을 진행시키게 된다. 이러한 광산발생제 중에서도, 용제에 대한 용해성, 특히 감광성 착색 조성물에 사용되는 용제에 대한 용해성이 큰 것이 바람직한 것이고, 예를 들어 디페닐요오드늄, 디톨릴요오드늄, 페닐(p-아니실)요오드늄, 비스(m-니트로페닐)요오드늄, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄, 비스(p-클로로페닐)요오드늄, 비스(n-도데실)요오드늄, p-이소부틸페닐(p-톨릴)요오드늄, p-이소프로필페닐(p-톨릴)요오드늄 등의 디아릴요오드늄, 혹은 트리페닐술포늄 등의 트리아릴술포늄의 클로라이드, 브로마이드, 혹은 붕불화염, 헥사플루오로포스페이트염, 헥사플루오로아르세네이트염, 방향족 술폰산염, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트염 등이나, 디페닐페나실술포늄(n-부틸)트리페닐보레이트 등의 술포늄 유기 붕소 착물류, 혹은 2-메틸-4,6-비스트리클로로메틸트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스트리클로로메틸트리아진 등의 트리아진 화합물 등을 들 수 있지만 이것에 한정되지 않는다.The photoacid generator is a compound capable of generating an acid by ultraviolet rays, and by the action of an acid generated upon exposure, a cross-linking agent such as a melamine compound is allowed to advance the cross-linking reaction. Of these photoacid generators, those having a high solubility in a solvent, particularly a solvent used in a photosensitive coloring composition, are preferred, and examples thereof include diphenyl iodonium, ditolyl iodonium, phenyl (p- anisyl) iodonium Iodonium, bis (p-chlorophenyl) iodonium, bis (n-dodecyl) iodonium, p-isobutylphenyl (p Diaryl iodonium such as iodonium iodide, p-isopropylphenyl (p-tolyl) iodonium, or triarylsulfonium, such as triphenylsulfonium chloride, bromide, or boronate, hexafluorophosphate salt (Pentafluorophenyl) borate salts and the like, sulfonium organic boron complexes such as diphenylphenazylsulfonium (n-butyl) triphenylborate and the like, or 2-fluorobenzenesulfonium salts such as 2 - methyl-4,6-bist trichloromethyl triazine, And triazine compounds such as 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bistricloromethyltriazine, but are not limited thereto.

(6) 가교제 (6) Crosslinking agent

본 발명의 감광성 착색 조성물에는, 추가로 가교제를 첨가할 수 있고, 예를 들어 멜라민 또는 구아나민계의 화합물을 사용할 수 있다. 이들 가교제로는, 예를 들어 하기 일반식 (6) 으로 나타내는 멜라민 또는 구아나민계의 화합물을 들 수 있다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, a crosslinking agent may be further added, and for example, a melamine or guanamine-based compound may be used. Examples of the crosslinking agent include melamine or guanamine-based compounds represented by the following general formula (6).

[화학식 28] (28)

Figure pat00037
Figure pat00037

식 (6) 중, R61 은 -NR66R67기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타내고, R61 이 -NR66R67기인 경우에는 R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 중 하나, 그리고 R61 이 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기인 경우에는 R62, R63, R64 및 R65 중 하나가 -CH2OR68기를 나타내고, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 나머지는 서로 독립적으로 수소 또는 -CH2OR68기를 나타내고, 여기에 R68 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.In the formula (6), R 61 represents an -NR 66 R 67 group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and when R 61 represents -NR 66 R 67 group, R 62 , R 63 , R 64 , R 65 and R 66 and one of R 67, and R 61 in this case, an aryl group having 6 to 12, R 62, R 63, either R 64 and R 65 represents a group -CH 2 OR 68, R 62, R 63, R 64, R 65 , R 66 and R 67 independently represent hydrogen or a -CH 2 OR 68 group, wherein R 68 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

여기서, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기는 전형적으로는 페닐기, 1-나프틸기 또는 2-나프틸기이고, 이들 페닐기나 나프틸기에는 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 등의 치환기가 결합하고 있어도 된다. 알킬기 및 알콕시기는 각각 탄소수 1 ∼ 6 정도일 수 있다. R68 로 나타내는 알킬기는, 상기 중에서도 메틸기 또는 에틸기, 특히 메틸기인 것이 바람직하다.Here, the aryl group having 6 to 12 carbon atoms is typically a phenyl group, a 1-naphthyl group or a 2-naphthyl group, and the phenyl group or the naphthyl group may have a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom. The alkyl group and the alkoxy group may each have about 1 to 6 carbon atoms. The alkyl group represented by R 68 is preferably a methyl group or an ethyl group, particularly a methyl group.

일반식 (6) 에 상당하는 멜라민계 화합물, 즉 하기 일반식 (6-1) 의 화합물에는, 헥사메틸올멜라민, 펜타메틸올멜라민, 테트라메틸올멜라민, 헥사메톡시메틸멜라민, 펜타메톡시메틸멜라민, 테트라메톡시메틸멜라민, 헥사에톡시메틸멜라민 등이 포함된다.Examples of the melamine compound corresponding to the general formula (6), that is, the compound represented by the general formula (6-1) include hexamethylolmelamine, pentamethylolmelamine, tetramethylolmelamine, hexamethoxymethylmelamine, pentamethoxymethyl Melamine, tetramethoxymethyl melamine, hexaethoxymethyl melamine, and the like.

[화학식 29][Chemical Formula 29]

Figure pat00038
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식 (6-1) 중, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 중 하나가 아릴기인 경우에는 R62, R63, R64 및 R65 중 하나가 -CH2OR68기를 나타내고, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 나머지는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 -CH2OR68기를 나타내고, 여기서 R68 은 수소 원자 또는 알킬기를 나타낸다.When one of R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 in the formula (6-1) is an aryl group, one of R 62 , R 63 , R 64 and R 65 is -CH 2 OR And the remaining of R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 independently represent a hydrogen atom or a -CH 2 OR 68 group, wherein R 68 represents a hydrogen atom or an alkyl group.

또, 일반식 (6) 에 상당하는 구아나민계 화합물, 즉 일반식 (6) 중의 R61 이 아릴인 화합물에는, 테트라메틸올벤조구아나민, 테트라메톡시메틸벤조구아나민, 트리메톡시메틸벤조구아나민, 테트라에톡시메틸벤조구아나민 등이 포함된다.In addition, a guanamine compound corresponding to the formula (6), that is, a compound wherein R 61 in the formula (6) is aryl includes tetramethylolbenzoguanamine, tetramethoxymethylbenzoguanamine, trimethoxymethylbenzo Guanamine, tetraethoxymethylbenzoguanamine, and the like.

또한, 메틸올기 또는 메틸올알킬에테르기를 갖는 가교제를 사용할 수도 있다. 이하에 그 예를 든다.A crosslinking agent having a methylol group or a methylol alkyl ether group may also be used. An example is given below.

2,6-비스(하이드록시메틸)-4-메틸페놀, 4-tert-부틸-2,6-비스(하이드록시메틸)페놀, 5-에틸-1,3-비스(하이드록시메틸)퍼하이드로-1,3,5-트리아진-2-온 (통칭 N-에틸디메틸올트리아존) 또는 그 디메틸에테르체, 디메틸올트리메틸렌우레아 또는 그 디메틸에테르체, 3,5-비스(하이드록시메틸)퍼하이드로-1,3,5-옥사디아진-4-온 (통칭 디메틸올우론) 또는 그 디메틸에테르체, 테트라메틸올글리옥살디우레인 또는 그 테트라메틸에테르체.(Hydroxymethyl) -4-methylphenol, 4-tert-butyl-2,6-bis (hydroxymethyl) phenol, 5-ethyl- -1,3,5-triazin-2-one (commonly known as N-ethyldimethyloltriazone) or its dimethyl ether, dimethyloltrimethyleneurea or its dimethyl ether, 3,5-bis (hydroxymethyl) Perhydro-1,3,5-oxadiazin-4-one (also known as dimethyloluron) or a dimethyl ether thereof, tetramethylolglyoxaldiurene or tetramethyl ether thereof.

또한, 이들 가교제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 가교제를 사용할 때의 양은, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대해 0.1 ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 특히 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량% 이다.These crosslinking agents may be used singly or in combination of two or more kinds. The amount when the crosslinking agent is used is preferably from 0.1 to 15% by mass, particularly preferably from 0.5 to 10% by mass, based on the total solid content of the photosensitive coloring composition.

(7) 메르캅토 화합물 (7) Mercapto compound

중합 촉진제로서, 또 기판에의 밀착성 향상을 위해, 메르캅토 화합물을 첨가할 수도 있다.A mercapto compound may also be added as a polymerization promoter and in order to improve adhesion to a substrate.

메르캅토 화합물의 종류로는, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오글리콜레이트, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토부틸레이트), 1,4-비스(3-메르캅토부티릴옥시)부탄, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토부틸레이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토이소부틸레이트), 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등의 복소고리를 갖는 메르캅토 화합물 또는 지방족 다관능 메르캅토 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 여러 가지 것을 1 종을 단독으로, 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the mercapto compound include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, hexanedithiol, decanedithiol, 1,4-dimethylmercaptobenzene, butanediol Butadiene bis-thioglycolate, trimethylolpropane tris-thioglycolate, trimethylolpropane tris-thiopropionate, trimethylolpropane tristy- thioglycolate, , Pentaerythritol tetrakisthiopropionate, pentaerythritol tetrakisthioglycolate, trishydroxyethyl tris thiopropionate, ethylene glycol bis (3-mercaptobutyrate), butanediol bis (3-mercaptobutyl (3-mercaptobutyryloxy) butane, trimethylolpropane tris (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tri (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tris (3-mercaptobutyrate), ethylene glycol bis (3-mercaptoisobutylate), butanediol bis (3-mercaptoisobutyl Triethylolpropane tris (3-mercaptoisobutylate), 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 1H, 3H, 5H) -trione, and the like, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

<감광성 착색 조성물 중의 성분 배합량>&Lt; Amount of component in photosensitive coloring composition &gt;

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서, (A) 색재의 함유량은, 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분량에 대해 통상 10 질량% 이상, 20 질량% 이상인 것이 바람직하고, 또 통상 50 질량% 이하이다. (A) 색재의 함유량이 지나치게 적으면 충분한 광학 농도 (OD) 가 얻어지지 않는 경우가 있고, 또 반대로 (A) 색재의 함유량이 지나치게 많으면 충분한 화상 형성성이 얻어지지 않게 되는 경우가 있다. 또, (A) 색재 100 질량% 에 대하여 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 10 질량% 이상, 바람직하게는 30 질량% 이상이고, 또 통상 100 질량% 이하이다. (A) 색재 중의 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 지나치게 적으면 충분한 광학 농도 (OD) 가 얻어지지 않는 경우가 있다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, the content of the colorant (A) is usually 10% by mass or more, preferably 20% by mass or more, and usually 50% by mass or less based on the total solid content in the photosensitive coloring composition. If the content of the coloring material (A) is too small, a sufficient optical density (OD) may not be obtained. On the other hand, if the content of the coloring material (A) is too large, sufficient image forming properties may not be obtained. The content ratio of (A-1) the organic black pigment to (A) 100 mass% of the coloring material is usually 10 mass% or more, preferably 30 mass% or more, and usually 100 mass% or less. If the content of the organic black pigment (A-1) in the coloring material (A) is too small, a sufficient optical density (OD) may not be obtained.

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서, (A) 색재 중에 (A-1) 유기 흑색 안료와 함께 (A-2) 유기 착색 안료를 함유하는 경우도 있다. 그때, (A) 색재 100 질량% 에 대하여 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상, 보다 바람직하게는 30 질량% 이상, 또 통상 90 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 60 질량% 이하이다. 또, (A-2) 유기 착색 안료의 함유 비율은 통상 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상, 보다 바람직하게는 40 질량% 이상이고, 또 통상 90 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이하이다. (A-2) 유기 착색 안료의 함유량이 지나치게 많으면 충분한 광학 농도가 얻어지지 않는 경우가 있다. 또, (A-2) 유기 착색 안료 100 질량부에 대한 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 15 질량부 이상, 바람직하게는 20 질량부 이상, 통상 900 질량부 이하, 바람직하게는 800 질량부 이하, 보다 바람직하게는 500 질량부 이하, 더 바람직하게는 200 질량부 이하이다.In the photosensitive coloring composition of the present invention, the (A-1) organic black pigment and the (A-2) organic colored pigment may be contained in the (A) At this time, the content of the organic black pigment (A-1) relative to 100 mass% of the (A) coloring material is usually 10 mass% or more, preferably 20 mass% or more, more preferably 30 mass% % Or less, preferably 80 mass% or less, and more preferably 60 mass% or less. The content ratio of (A-2) the organic colored pigment is usually 10 mass% or more, preferably 20 mass% or more, more preferably 40 mass% or more, and usually 90 mass% or less, preferably 80 mass % Or less, more preferably 70 mass% or less. (A-2) If the content of the organic colored pigment is too large, a sufficient optical density may not be obtained. The content ratio of (A-1) the organic black pigment to 100 parts by mass of the organic colored pigment (A-2) is usually not less than 15 parts by mass, preferably not less than 20 parts by mass, and usually not more than 900 parts by mass, 800 parts by mass or less, more preferably 500 parts by mass or less, and even more preferably 200 parts by mass or less.

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서, (A) 색재 중에 (A-1) 유기 흑색 안료와 함께 (A-3) 카본 블랙을 함유하는 경우도 있다. 그때, (A) 색재 100 질량% 에 대하여 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 50 질량% 이상, 바람직하게는 60 질량% 이상, 또 통상 95 질량% 이하, 바람직하게는 90 질량% 이하이다. 또, (A-3) 카본 블랙의 함유 비율은 통상 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 또 통상 50 질량% 이하, 바람직하게는 40 질량% 이하이다. (A-3) 카본 블랙의 함유량이 지나치게 많으면 체적 저항값이 저하하거나, 비유전율이 커지는 경우가 있다. 또, (A-3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 100 질량부 이상, 바람직하게는 150 질량부 이상, 통상 2000 질량부 이하, 바람직하게는 1000 질량부 이하이다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain (A-3) carbon black together with the organic black pigment (A-1) in the colorant (A) The content of the organic black pigment (A-1) relative to 100 mass% of the (A) coloring material is usually 50 mass% or more, preferably 60 mass% or more, and usually 95 mass% or less, preferably 90 mass% Or less. The content ratio of (A-3) carbon black is usually 5 mass% or more, preferably 10 mass% or more, and usually 50 mass% or less, preferably 40 mass% or less. (A-3) If the content of carbon black is too large, the volume resistivity may decrease or the relative dielectric constant may increase. The content ratio of (A-1) the organic black pigment to 100 parts by mass of (A-3) carbon black is usually 100 parts by mass or more, preferably 150 parts by mass or more and usually 2000 parts by mass or less, Parts by mass or less.

또, 본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서, (A) 색재 중에 (A-1) 유기 흑색 안료와 함께 (A-2) 유기 착색 안료 및 (A-3) 카본 블랙을 함유하는 경우도 있다. 그때, (A) 색재 100 질량% 에 대하여 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상, 또 통상 80 질량% 이하, 바람직하게는 70 질량% 이하이다. 또, (A-2) 유기 착색 안료의 함유 비율은 통상 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상, 또 통상 60 질량% 이하, 바람직하게는 50 질량% 이하이다. 또한 (A-3) 카본 블랙의 함유 비율은 통상 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 또 통상 50 질량% 이하, 바람직하게는 40 질량% 이하이다. 이 경우, (A-2) 유기 착색 안료 100 질량부에 대한 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 15 질량부 이상, 바람직하게는 20 질량부 이상, 통상 800 질량부 이하, 바람직하게는 700 질량부 이하이다. 또, (A-3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 (A-1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은 통상 40 질량부 이상, 바람직하게는 50 질량부 이상, 통상 1000 질량부 이하, 바람직하게는 900 질량부 이하이다.The photosensitive coloring composition of the present invention may contain (A-2) an organic colored pigment and (A-3) carbon black together with the (A-1) organic black pigment in the colorant (A). The content of the organic black pigment (A-1) relative to 100 mass% of the (A) coloring material is usually 10 mass% or more, preferably 20 mass% or more, and usually 80 mass% or less, preferably 70 mass% Or less. The content ratio of (A-2) the organic colored pigment is usually 10% by mass or more, preferably 20% by mass or more, and usually 60% by mass or less, preferably 50% by mass or less. The content ratio of (A-3) carbon black is usually 5 mass% or more, preferably 10 mass% or more, and usually 50 mass% or less, preferably 40 mass% or less. In this case, the content ratio of (A-1) the organic black pigment to 100 parts by mass of the organic colored pigment (A-2) is usually not less than 15 parts by mass, preferably not less than 20 parts by mass, usually not more than 800 parts by mass, Is not more than 700 parts by mass. The content ratio of the organic black pigment (A-1) relative to 100 parts by mass of (A-3) carbon black is usually 40 parts by mass or more, preferably 50 parts by mass or more and usually 1000 parts by mass or less, Parts by mass or less.

(B) 분산제의 함유량은, 감광성 착색 조성물의 고형분 중 통상 1 질량% 이상이고, 3 질량% 이상이 바람직하며, 5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또 통상 30 질량% 이하, 20 질량% 이하가 바람직하고, 15 질량% 이하가 특히 바람직하다. 또, (A) 색재 100 질량% 에 대하여 (B) 분산제의 함유량은 통상 5 질량% 이상, 10 질량% 이상이 특히 바람직하고, 통상 50 질량% 이하, 특히 30 질량% 이하인 것이 바람직하다. (B) 분산제의 함유량이 지나치게 적으면, 충분한 분산성이 얻어지지 않는 경우가 있고, 지나치게 많으면 상대적으로 다른 성분의 비율이 줄어 감도, 제판성 등이 저하되는 경우가 있다.The content of the dispersant (B) in the solid content of the photosensitive coloring composition is usually 1% by mass or more, preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and usually 30% , And particularly preferably 15 mass% or less. The content of the dispersant (B) is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and usually 50% by mass or less, particularly preferably 30% by mass or less, based on 100% by mass of the colorant (A). If the content of the dispersant (B) is too small, sufficient dispersibility may not be obtained. If the content of the dispersant is too large, the proportion of other components may be decreased, and the plate formability may be deteriorated.

(C) 알칼리 가용성 수지의 함유량은, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대해 통상 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상이고, 통상 85 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하이다. (C) 알칼리 가용성 수지의 함유량이 현저하게 적으면, 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성이 저하되어, 현상 불량을 야기시키기 쉬워진다. 반대로, (C) 알칼리 가용성 수지의 함유량이 지나치게 많으면, 노광부에의 현상액의 침투성이 높아지는 경향이 있어, 화소의 샤프성이나 밀착성이 저하되는 경우가 있다.The content of the alkali-soluble resin (C) is usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, and usually 85% by mass or less, preferably 80% by mass or less based on the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention . When the content of the alkali-soluble resin (C) is remarkably small, the solubility of the unexposed portion in the developer is lowered, and development defects tend to occur. On the other hand, if the content of the (C) alkali-soluble resin is too large, the penetrability of the developer to the exposed portion tends to be high, and the sharpness and adhesiveness of the pixel may be deteriorated.

(D) 광 중합 개시제의 함유량은, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대해 통상 0.1 질량% 이상, 바람직하게는 0.5 질량% 이상, 더 바람직하게는 1 질량% 이상이고, 통상 15 질량% 이하, 바람직하게는 10 질량% 이하이다. (D) 광 중합 개시제의 함유량이 지나치게 적으면 감도 저하를 일으키는 경우가 있고, 반대로 지나치게 많으면 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성이 저하되어, 현상 불량을 야기시키기 쉽다.The content of the (D) photopolymerization initiator is usually 0.1% by mass or more, preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and usually 15% by mass or less based on the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention , Preferably not more than 10 mass%. If the content of the photopolymerization initiator (D) is too small, the sensitivity may be lowered. On the contrary, if the content is too high, the solubility of the unexposed portion in the developer is lowered.

(D) 광 중합 개시제와 함께 중합 촉진제를 사용하는 경우, 중합 촉진제의 함유량은, 본 발명의 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대해 바람직하게는 0.05 질량% 이상이고, 통상 10 질량% 이하, 바람직하게는 5 질량% 이하이고, 중합 촉진제는 (D) 광 중합 개시제 100 질량부에 대해 통상 0.1 ∼ 50 질량부, 특히 0.1 ∼ 20 질량부의 비율로 사용하는 것이 바람직하다.When a polymerization accelerator is used together with the (D) photopolymerization initiator, the content of the polymerization promoter is preferably 0.05% by mass or more, and usually 10% by mass or less, based on the total solid content of the photosensitive coloring composition of the present invention And the polymerization promoter is preferably used in an amount of usually 0.1 to 50 parts by mass, particularly 0.1 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the (D) photopolymerization initiator.

(D) 광 중합 개시제와 중합 촉진제 등으로 이루어지는 광 중합 개시제계 성분의 배합 비율이 현저하게 낮으면 노광 광선에 대한 감도가 저하되는 원인이 되는 경우가 있고, 반대로 현저하게 높으면 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성이 저하되어, 현상 불량을 야기시키는 경우가 있다.If the compounding ratio of the photopolymerization initiator (D) photopolymerization initiator and the polymerization accelerator is too low, the sensitivity to exposure light may be lowered. On the contrary, if the proportion is too high, The solubility is lowered, which may cause defective development.

또, 본 발명의 감광성 착색 조성물 중에서 차지하는 증감 색소의 배합 비율은 감도의 관점에서 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분 중, 통상 20 질량% 이하, 바람직하게는 15 질량% 이하, 더 바람직하게는 10 질량% 이하이다.The mixing ratio of the sensitizing dye in the photosensitive coloring composition of the present invention is usually 20% by mass or less, preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content in the photosensitive coloring composition, to be.

광 중합성 모노머를 사용하는 경우, 그 함유량은 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대해 통상 30 질량% 이하, 바람직하게는 20 질량% 이하이다. 광 중합성 모노머의 함유량이 지나치게 많으면, 노광부에의 현상액의 침투성이 높아져, 양호한 화상을 얻는 것이 곤란해지는 경우가 있다. 또한, 광 중합성 모노머의 함유량의 하한은 통상 1 질량% 이상, 바람직하게는 5 질량% 이상이다.When a photopolymerizable monomer is used, its content is usually 30 mass% or less, preferably 20 mass% or less, based on the total solid content of the photosensitive coloring composition. If the content of the photopolymerizable monomer is too large, permeation of the developer into the exposed portion increases, and it becomes difficult to obtain a good image in some cases. The lower limit of the content of the photopolymerizable monomer is generally 1% by mass or more, and preferably 5% by mass or more.

밀착 향상제를 사용하는 경우, 그 함유량은 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분에 대해 통상 0.1 ∼ 5 질량%, 바람직하게는 0.2 ∼ 3 질량%, 더 바람직하게는 0.4 ∼ 2 질량% 이다. 밀착 향상제의 함유량이 상기 범위보다 적으면 밀착성의 향상 효과를 충분히 얻을 수 없는 경우가 있고, 많으면 감도가 저하되거나, 현상 후에 잔류물이 남아 결함이 되거나 하는 경우가 있다.When the adhesion improver is used, the content thereof is usually 0.1 to 5% by mass, preferably 0.2 to 3% by mass, more preferably 0.4 to 2% by mass, based on the total solid content in the photosensitive coloring composition. If the content of the adhesion-promoting agent is less than the above-mentioned range, the effect of improving the adhesion can not be sufficiently obtained. If the content is too large, the sensitivity may decrease or the residue may remain after development.

또, 계면 활성제를 사용하는 경우, 그 함유량은 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분에 대해 통상 0.001 ∼ 10 질량%, 바람직하게는 0.005 ∼ 1 질량%, 더 바람직하게는 0.01 ∼ 0.5 질량%, 가장 바람직하게는 0.03 ∼ 0.3 질량% 이다. 계면 활성제의 함유량이 상기 범위보다 적으면 도포막의 평활성, 균일성을 발현할 수 없는 가능성이 있고, 많으면 도포막의 평활성, 균일성을 발현할 수 없는 외에, 다른 특성이 악화되는 경우가 있다.When a surfactant is used, the content thereof is usually from 0.001 to 10% by mass, preferably from 0.005 to 1% by mass, more preferably from 0.01 to 0.5% by mass, and most preferably from 0.005 to 1% by mass based on the total solid content in the photosensitive coloring composition 0.03 to 0.3% by mass. If the content of the surfactant is less than the above range, there is a possibility that the smoothness and uniformity of the coated film can not be exhibited. If the content is too large, the smoothness and uniformity of the coated film can not be exhibited and other properties may deteriorate.

또한, 본 발명의 감광성 착색 조성물은, 전술한 유기 용제를 사용하여, 그 고형분 농도가 통상 5 ∼ 50 질량%, 바람직하게는 10 ∼ 30 질량% 가 되도록 조액된다.In addition, the photosensitive coloring composition of the present invention is adjusted to have a solid content concentration of usually 5 to 50% by mass, preferably 10 to 30% by mass, using the above-described organic solvent.

<감광성 착색 조성물의 물성>&Lt; Physical Properties of Photosensitive Coloring Composition &gt;

본 발명의 감광성 착색 조성물은, 블랙 매트릭스 형성용으로 바람직하게 사용할 수 있고, 이러한 관점에서 흑색을 나타내고 있는 것이 바람직하고, 그 도포막의 막두께 1 ㎛ 당 광학 농도 (OD) 가 1.0 이상인 것이 바람직하다.The photosensitive coloring composition of the present invention can be preferably used for forming a black matrix. From this viewpoint, it is preferable that the photosensitive coloring composition exhibits black color, and the optical density (OD) per 1 m of the film thickness of the coating film is preferably 1.0 or more.

<감광성 착색 조성물의 제조 방법>&Lt; Method for producing photosensitive coloring composition &gt;

본 발명의 감광성 착색 조성물 (이하, 「레지스트」라고 칭하는 경우가 있다) 은 통상적인 방법에 따라 제조된다.The photosensitive coloring composition of the present invention (hereinafter sometimes referred to as &quot; resist &quot;) is prepared by a conventional method.

통상, (A) 색재는, 미리 페인트 컨디셔너, 샌드 그라인더, 볼밀, 롤밀, 스톤 밀, 제트밀, 호모게나이저 등을 이용하여 분산 처리하는 것이 바람직하다. 분산 처리에 의해 (A) 색재가 미립자화되기 때문에, 레지스트의 도포 특성이 향상된다.Usually, the colorant (A) is preferably subjected to dispersion treatment in advance using a paint conditioner, a sand grinder, a ball mill, a roll mill, a stone mill, a jet mill, a homogenizer, or the like. Since the colorant (A) is made into fine particles by the dispersion treatment, the coating property of the resist is improved.

분산 처리는, 통상 (A) 색재, 유기 용제, 및 (B) 분산제, 그리고 (C) 알칼리 가용성 수지의 일부 또는 전부를 병용한 계에서 실시하는 것이 바람직하다 (이하, 분산 처리에 제공하는 혼합물, 및 그 처리로 얻어진 조성물을 「잉크」또는 「안료 분산액」이라고 칭하는 경우가 있다). 특히 (B) 분산제로서 고분자 분산제를 사용하면, 얻어진 잉크 및 레지스트의 시간 경과에 따른 증점이 억제 (분산 안정성이 우수하다) 되므로 바람직하다.The dispersion treatment is preferably carried out in a system in which a part or all of (A) a colorant, an organic solvent, (B) a dispersant and (C) an alkali-soluble resin are used in combination (hereinafter, And a composition obtained by the treatment may be referred to as "ink" or "pigment dispersion"). Particularly, when a polymer dispersant (B) is used as a dispersant, it is preferable to suppress the increase in viscosity of the resulting ink and resist over time (dispersion stability is excellent).

이와 같이, 레지스트를 제조하는 공정에 있어서, (A) 색재, 유기 용제, 및 (B) 분산제를 적어도 함유하는 안료 분산액을 제조하는 것이 바람직하다. 안료 분산액에 사용할 수 있는 (A) 색재, 유기 용제, 및 (B) 분산제로는, 각각 감광성 착색 조성물에 사용할 수 있는 것으로서 기재한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.Thus, in the step of producing a resist, it is preferable to prepare a pigment dispersion containing at least (A) a coloring material, an organic solvent, and (B) a dispersing agent. As the coloring material (A), the organic solvent, and the dispersing agent (B) which can be used for the pigment dispersion, those described as being usable in the photosensitive coloring composition can be preferably employed.

또한, 착색 수지 조성물에 배합하는 전체 성분을 함유하는 액에 대해 분산 처리를 실시한 경우, 분산 처리시에 발생하는 발열 때문에, 고반응성의 성분이 변성될 가능성이 있다. 따라서, 고분자 분산제를 포함하는 계에서 분산 처리를 실시하는 것이 바람직하다.Further, when a dispersion containing the entire components to be mixed with the colored resin composition is subjected to dispersion treatment, there is a possibility that the highly reactive component is denatured due to the heat generated during the dispersion treatment. Therefore, it is preferable to carry out a dispersion treatment in a system including a polymeric dispersant.

샌드 그라인더로 (A) 색재를 분산시키는 경우에는, 0.1 ∼ 8 ㎜ 정도의 직경의 유리 비즈 또는 지르코니아 비즈가 바람직하게 사용된다. 분산 처리 조건은, 온도는 통상 0 ℃ 내지 100 ℃ 이고, 바람직하게는 실온 내지 80 ℃ 의 범위이다. 분산 시간은 액의 조성 및 분산 처리 장치의 사이즈 등에 따라 적정 시간이 상이하므로 적절히 조절한다. 레지스트의 20 도 경면 광택도 (JIS Z8741) 가 50 ∼ 300 의 범위가 되도록, 잉크의 광택을 제어하는 것이 분산의 목표이다. 레지스트의 광택도가 낮은 경우에는, 분산 처리가 충분하지 않아 거친 안료 (색재) 입자가 남아 있는 경우가 많아, 현상성, 밀착성, 해상성 등이 불충분해질 가능성이 있다. 또, 광택값이 상기 범위를 초과할 때까지 분산 처리를 실시하면, 안료가 파쇄되어 초미립자가 다수 생기기 때문에, 오히려 분산 안정성이 저해되는 경향이 있다.When dispersing the coloring material (A) in a sand grinder, glass beads or zirconia beads having a diameter of about 0.1 to 8 mm are preferably used. The dispersion treatment conditions are usually 0 ° C to 100 ° C, preferably room temperature to 80 ° C. The dispersion time is appropriately adjusted because the appropriate time differs depending on the composition of the liquid and the size of the dispersion treatment apparatus. It is a goal of dispersion to control the gloss of the ink so that the 20-degree mirror surface gloss (JIS Z8741) of the resist is in the range of 50 to 300. If the gloss of the resist is low, the dispersion treatment is not sufficient and rough pigment (coloring material) particles often remain, which may result in insufficient developability, adhesion, and resolution. If the dispersion treatment is carried out until the gloss value exceeds the above range, the pigment tends to be broken and the dispersion stability tends to be rather deteriorated because many ultrafine particles are produced.

또, 잉크 중에 분산된 안료의 분산 입경은 통상 0.03 ∼ 0.3 ㎛ 이고, 동적 광 산란법 등에 의해 측정된다.The dispersion particle diameter of the pigment dispersed in the ink is usually 0.03 to 0.3 占 퐉 and is measured by a dynamic light scattering method or the like.

다음으로, 상기 분산 처리에 의해 얻어진 잉크와, 레지스트 중에 포함되는, 상기 다른 성분을 혼합해, 균일한 용액으로 한다. 레지스트의 제조 공정에 있어서는, 미세한 먼지가 액 중에 섞이는 경우가 많기 때문에, 얻어진 레지스트는 필터 등에 의해 여과 처리하는 것이 바람직하다.Next, the ink obtained by the dispersion treatment and the other components contained in the resist are mixed to obtain a homogeneous solution. In the process of producing a resist, fine dust is often mixed in a liquid, and therefore, the obtained resist is preferably subjected to filtration treatment with a filter or the like.

[경화물][Cured goods]

본 발명의 감광성 착색 조성물을 경화시킴으로써, 경화물을 얻을 수 있다. 감광성 착색 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물은, 블랙 매트릭스나 착색 스페이서로서 바람직하게 사용할 수 있다.By curing the photosensitive coloring composition of the present invention, a cured product can be obtained. The cured product obtained by curing the photosensitive coloring composition can be preferably used as a black matrix or a colored spacer.

[블랙 매트릭스][Black Matrix]

다음으로, 본 발명의 감광성 착색 조성물을 사용한 블랙 매트릭스에 대해, 그 제조 방법에 따라 설명한다.Next, the black matrix using the photosensitive coloring composition of the present invention will be described with reference to its production method.

(1) 지지체 (1)

블랙 매트릭스를 형성하기 위한 지지체로는, 적당한 강도가 있으면 그 재질은 특별히 한정되는 것은 아니다. 주로 투명 기판이 사용되지만, 재질로는 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리술폰 등의 열가소성 수지제 시트, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르수지, 폴리(메트)아크릴계 수지 등의 열경화성 수지 시트, 또는 각종 유리 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 내열성의 관점에서 유리, 내열성 수지가 바람직하다. 또, 기판의 표면에 ITO, IZO 등의 투명 전극이 막형성되어 있는 경우도 있다. 투명 기판 이외에는, TFT 어레이 상에 형성할 수도 있다.The support for forming the black matrix is not particularly limited as long as it has a suitable strength. A transparent substrate is mainly used. As the material, for example, a polyester resin such as polyethylene terephthalate, a polyolefin resin such as polypropylene and polyethylene, a thermoplastic resin sheet such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, , Thermosetting resin sheets such as epoxy resin, unsaturated polyester resin and poly (meth) acrylic resin, and various glasses. Of these, glass and heat-resistant resins are preferable from the viewpoint of heat resistance. In some cases, a transparent electrode such as ITO or IZO is formed on the surface of the substrate. Other than the transparent substrate, may be formed on the TFT array.

지지체에는, 접착성 등의 표면 물성의 개량을 위해, 필요에 따라 코로나 방전 처리, 오존 처리, 실란 커플링제나, 우레탄계 수지 등의 각종 수지의 박막 형성 처리 등을 실시해도 된다.The support may be subjected to a corona discharge treatment, an ozone treatment, a silane coupling agent, a thin film formation treatment of various resins such as a urethane resin, etc., if necessary, in order to improve surface physical properties such as adhesiveness.

투명 기판의 두께는 통상 0.05 ∼ 10 ㎜, 바람직하게는 0.1 ∼ 7 ㎜ 의 범위로 된다. 또 각종 수지의 박막 형성 처리를 실시하는 경우, 그 막두께는 통상 0.01 ∼ 10 ㎛, 바람직하게는 0.05 ∼ 5 ㎛ 의 범위이다.The thickness of the transparent substrate is usually in the range of 0.05 to 10 mm, preferably 0.1 to 7 mm. When the thin film formation treatment of various resins is carried out, the film thickness is usually in the range of 0.01 to 10 mu m, preferably 0.05 to 5 mu m.

(2) 블랙 매트릭스 (2) Black Matrix

상기 서술한 본 발명의 감광성 착색 조성물에 의해 본 발명의 블랙 매트릭스를 형성하기 위해서는, 투명 기판 상에 본 발명의 감광성 착색 조성물을 도포해 건조시킨 후, 그 감광성 착색 조성물 상에 포토마스크를 놓고, 그 포토마스크를 개재하여 화상 노광, 현상, 필요에 따라 열 경화 혹은 광 경화함으로써 블랙 매트릭스를 형성시킨다. In order to form the black matrix of the present invention by the above-described photosensitive coloring composition of the present invention, the photosensitive coloring composition of the present invention is applied onto a transparent substrate and dried. Then, a photomask is placed on the photosensitive coloring composition, A black matrix is formed by image exposure, development, and thermosetting or photo-curing, if necessary, through a photomask.

또한, 본 발명의 블랙 매트릭스는 TFT 소자 기판 상에 형성시키는 것에 유효하지만, 그 구성은 COA, BOA 각각의 방식에 있어서 특별히 한정되는 것은 아니고, 여러 가지 구성에의 대응이 가능하다.Further, the black matrix of the present invention is effective for forming on the TFT element substrate, but its configuration is not particularly limited in the respective methods of COA and BOA, and various configurations can be dealt with.

(3) 블랙 매트릭스의 형성(3) Formation of black matrix

(3-1) 감광성 착색 조성물의 도포 (3-1) Application of Photosensitive Coloring Composition

블랙 매트릭스용 감광성 착색 조성물의 투명 기판 상에의 도포는, 스피너법, 와이어바법, 플로우 코트법, 다이 코트법, 롤 코트법, 또는 스프레이 코트법 등에 의해 실시할 수 있다. 그 중에서도, 다이 코트법에 의하면, 도포액 사용량이 대폭 삭감되고, 또한 스핀 코트법에 의했을 때에 부착되는 미스트 등의 영향이 전혀 없고, 이물질 발생이 억제되는 등, 종합적인 관점에서 바람직하다.The application of the photosensitive coloring composition for black matrix onto the transparent substrate can be carried out by a spinner method, a wire bar method, a flow coating method, a die coating method, a roll coating method, a spray coating method or the like. Among them, the die coating method is preferable from the viewpoint of synthesis, in that the application amount of coating liquid is greatly reduced, and there is no influence of mist or the like attached by the spin coating method and the generation of foreign matter is suppressed.

도포막의 두께는, 지나치게 두꺼우면 패턴 현상이 곤란해짐과 함께, 액정 셀 화 공정에서의 갭 조정이 곤란해지는 경우가 있고, 지나치게 얇으면 안료 농도를 높이는 것이 곤란해져 원하는 색발현이 불가능해지는 경우가 있다. 도포막의 두께는, 건조 후의 막두께로서 통상 0.2 ∼ 10 ㎛ 의 범위로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직한 것은 0.5 ∼ 6 ㎛ 의 범위, 더 바람직한 것은 1 ∼ 4 ㎛ 의 범위이다.When the thickness of the coating film is excessively large, pattern development becomes difficult and the gap adjustment in the liquid crystal cell formation step becomes difficult. When the coating thickness is too thin, it is difficult to increase the pigment concentration, and desired color development becomes impossible . The thickness of the coated film is preferably in the range of 0.2 to 10 mu m, more preferably in the range of 0.5 to 6 mu m, and more preferably in the range of 1 to 4 mu m, as the film thickness after drying.

(3-2) 도포막의 건조(3-2) Drying of Coating Film

기판에 감광성 착색 조성물을 도포한 후의 도포막의 건조는, 핫 플레이트, IR오븐, 또는 컨벡션 오븐을 사용한 건조법에 의해 실시하는 것이 바람직하다. 건조의 조건은, 상기 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 건조 시간은, 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라, 통상은 40 ∼ 200 ℃ 의 온도에서 15 초 ∼ 5 분간의 범위에서 선택되고, 바람직하게는 50 ∼ 130 ℃ 의 온도에서 30 초 ∼ 3 분간의 범위에서 선택된다. Drying of the coated film after application of the photosensitive coloring composition to the substrate is preferably carried out by a drying method using a hot plate, an IR oven, or a convection oven. The drying conditions can be appropriately selected depending on the type of the solvent component, the performance of the dryer to be used, and the like. The drying time is generally selected within the range of from 40 to 200 캜 for 15 seconds to 5 minutes, preferably from 50 to 130 캜 for 30 seconds to 50 minutes, depending on the kind of the solvent component and the performance of the dryer to be used. 3 minutes.

건조 온도는 높을수록 투명 기판에 대한 도포막의 접착성이 향상되지만, 지나치게 높으면 (C) 알칼리 가용성 수지가 분해되고, 열중합을 유발하여 현상 불량을 발생시키는 경우가 있다. 또한, 이 도포막의 건조 공정은 온도를 높이지 않고, 감압 챔버 내에서 건조를 실시하는, 감압 건조법이어도 된다.The higher the drying temperature, the better the adhesion of the coating film to the transparent substrate. However, if the drying temperature is too high, the alkali-soluble resin (C) may be decomposed and thermal polymerization may occur to cause defective development. The drying process of the coated film may be a reduced pressure drying method in which the drying is performed in the decompression chamber without raising the temperature.

(3-3) 노광 (3-3) Exposure

화상 노광은 감광성 착색 조성물의 도포막 상에 네거티브의 마스크 패턴을 겹치고, 이 마스크 패턴을 개재하여 자외선 또는 가시광선의 광원을 조사해 실시한다. 이때, 필요에 따라, 산소에 의한 광 중합성층의 감도 저하를 방지하기 위해, 광 중합성 도포막 상에 폴리비닐알코올층 등의 산소 차단층을 형성한 후에 노광을 실시해도 된다. 상기 화상 노광에 사용되는 광원은 특별히 한정되는 것은 아니다. 광원으로는, 예를 들어 크세논 램프, 할로겐 램프, 텅스텐 램프, 고압 수은등, 초고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 중압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크, 형광 램프 등의 램프 광원이나, 아르곤 이온 레이저, YAG 레이저, 엑시머 레이저, 질소 레이저, 헬륨카드뮴 레이저, 반도체 레이저 등의 레이저 광원 등을 들 수 있다. 특정 파장의 광을 조사해 사용하는 경우에는 광학 필터를 이용할 수도 있다.The image exposure is performed by overlapping a negative mask pattern on a coating film of the photosensitive coloring composition and irradiating a light source of ultraviolet rays or visible rays through the mask pattern. At this time, if necessary, an oxygen barrier layer such as a polyvinyl alcohol layer may be formed on the photopolymerizable coating film and then exposed to light, in order to prevent the sensitivity of the photopolymerizable layer from being lowered by oxygen. The light source used for the image exposure is not particularly limited. Examples of the light source include a lamp light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a medium pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, A laser light source such as an excimer laser, a nitrogen laser, a helium cadmium laser, or a semiconductor laser. An optical filter may be used when light of a specific wavelength is used for irradiation.

(3-4) 현상 (3-4) phenomenon

본 발명에 관련된 블랙 매트릭스는, 감광성 착색 조성물에 의한 도포막을 상기 광원에 의해 화상 노광을 실시한 후, 유기 용제, 또는 계면 활성제와 알칼리성 화합물을 포함하는 수용액을 사용하는 현상에 의해, 기판 상에 화상을 형성하여 제작할 수 있다. 이 수용액에는, 추가로 유기 용제, 완충제, 착화제, 염료 또는 안료를 포함시킬 수 있다.The black matrix according to the present invention is a black matrix in which an image is formed on a substrate by applying an aqueous solution containing an organic solvent or a surfactant and an alkaline compound after subjecting the coating film of the photosensitive coloring composition to image exposure by the light source . The aqueous solution may further contain an organic solvent, a buffer, a complexing agent, a dye or a pigment.

알칼리성 화합물로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 메타규산나트륨, 인산나트륨, 인산칼륨, 인산수소나트륨, 인산수소칼륨, 인산이수소나트륨, 인산이수소칼륨, 수산화암모늄 등의 무기 알칼리성 화합물이나, 모노-·디- 또는 트리에탄올아민, 모노-·디- 또는 트리메틸아민, 모노-·디- 또는 트리에틸아민, 모노- 또는 디이소프로필아민, n-부틸아민, 모노-·디- 또는 트리이소프로판올아민, 에틸렌이민, 에틸렌디이민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드 (TMAH), 콜린 등의 유기 알칼리성 화합물을 들 수 있다. 이들 알칼리성 화합물은 2 종 이상의 혼합물이어도 된다.Examples of the alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium phosphate, sodium hydrogen phosphate, potassium hydrogen phosphate Mono-di- or triethanolamine, mono- di- or trimethylamine, mono- di- or triethylamine, mono-di- or triethanolamine, mono-di- or triethanolamine, Or organic alkaline compounds such as diisopropylamine, n-butylamine, mono- di- or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), choline and the like. These alkaline compounds may be a mixture of two or more.

계면 활성제로는, 예를 들어 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬에스테르류, 소르비탄알킬에스테르류, 모노글리세리드알킬에스테르류 등의 논이온계 계면 활성제, 알킬벤젠술폰산염류, 알킬나프탈렌술폰산염류, 알킬황산염류, 알킬술폰산염류, 술포숙신산에스테르염류 등의 아니온성 계면 활성제, 알킬베타인류, 아미노산류 등의 양쪽성 계면 활성제를 들 수 있다.Examples of the surfactant include nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylaryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters and monoglyceride alkyl esters, alkyl Anionic surfactants such as benzenesulfonic acid salts, alkylnaphthalenesulfonic acid salts, alkylsulfuric acid salts, alkylsulfonic acid salts and sulfosuccinic acid ester salts, amphoteric surfactants such as alkyl betaines and amino acids.

유기 용제로는, 예를 들어 이소프로필알코올, 벤질알코올, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 페닐셀로솔브, 프로필렌글리콜, 디아세톤알코올 등을 들 수 있다. 유기 용제는 단독으로 사용해도 되고, 또 수용액과 병용해도 된다.Examples of the organic solvent include isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, diacetone alcohol and the like. The organic solvent may be used alone or in combination with an aqueous solution.

현상 처리의 조건은 특별히 제한은 없고, 통상 현상 온도는 10 ∼ 50 ℃ 의 범위, 그 중에서도 15 ∼ 45 ℃, 특히 바람직하게는 20 ∼ 40 ℃ 이고, 현상 방법은 침지 현상법, 스프레이 현상법, 브러시 현상법, 초음파 현상법 등 중 어느 방법에 의해 할 수 있다.The developing conditions are not particularly limited, and the developing temperature is usually in the range of 10 to 50 占 폚, preferably 15 to 45 占 폚, particularly preferably 20 to 40 占 폚. The developing method includes an immersion developing method, a spray developing method, A developing method, an ultrasonic developing method, or the like.

(3-5) 열 경화 처리 (3-5) Thermal curing treatment

현상 후의 기판에는, 열 경화 처리 또는 광 경화 처리, 바람직하게는 열 경화 처리를 실시한다. 이때의 열 경화 처리 조건은, 온도는 100 ∼ 280 ℃ 의 범위, 바람직하게는 150 ∼ 250 ℃ 의 범위에서 선택되고, 시간은 5 ∼ 60 분간의 범위에서 선택된다.The substrate after development is subjected to a heat curing treatment or a light curing treatment, preferably a heat curing treatment. The heat curing treatment conditions at this time are selected in the range of 100 to 280 ° C, preferably 150 to 250 ° C, and the time is selected in the range of 5 to 60 minutes.

이상과 같이 해 형성시킨 블랙 매트릭스의 선폭은 통상 3 ∼ 50 ㎛, 바람직하게는 4 ∼ 30 ㎛, 높이는 통상 0.5 ∼ 5 ㎛, 바람직하게는 1 ∼ 4 ㎛ 이다. 또, 체적 저항률은 1 × 1013 Ω·㎝ 이상, 바람직하게는 1 × 1014 Ω·㎝ 이상이고, 비유전율은 6 이하, 바람직하게는 5 이하이며, 통상 2 이상이다.The line width of the black matrix thus formed is usually from 3 to 50 mu m, preferably from 4 to 30 mu m, and the height is usually from 0.5 to 5 mu m, preferably from 1 to 4 mu m. The volume resistivity is not less than 1 × 10 13 Ω · cm, preferably not less than 1 × 10 14 Ω · cm, and the relative dielectric constant is not more than 6, preferably not more than 5, and usually not less than 2.

또한, 두께 1 ㎛ 당 광학 농도 (OD) 가 1.2 이상, 바람직하게는 1.5 이상, 보다 바람직하게는 1.8 이상이고, 통상 4.0 이하이다. 여기서, 광학 농도 (OD) 는 후술하는 방법으로 측정한 값이다.The optical density (OD) per 1 mu m of thickness is 1.2 or more, preferably 1.5 or more, more preferably 1.8 or more, and usually 4.0 or less. Here, the optical density (OD) is a value measured by a method described later.

[착색 스페이서][Coloring Spacer]

본 실시형태의 감광성 착색 조성물은, 블랙 매트릭스 이외에 착색 스페이서용 레지스트로서 사용할 수도 있다. 스페이서를 TFT 형 LCD 에 사용하는 경우, TFT 에 입사하는 광에 의해 스위칭 소자로서 TFT 가 오작동을 일으키는 경우가 있어, 착색 스페이서는 이것을 방지하기 위해서 사용되고, 예를 들어 일본 공개특허공보 평8-234212호에 스페이서를 차광성으로 하는 것이 기재되어 있다. 착색 스페이서는 착색 스페이서용 마스크를 사용하는 것 이외에는 전술한 블랙 매트릭스와 동일한 방법으로 형성할 수 있다.The photosensitive coloring composition of this embodiment may be used as a resist for a colored spacer in addition to a black matrix. When the spacer is used for a TFT-type LCD, the TFT as a switching element may malfunction due to the light incident on the TFT, and the coloring spacer is used for preventing this. For example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 8-234212 The spacer is made light-shielding. The coloring spacer can be formed in the same manner as the above-described black matrix except that a mask for a coloring spacer is used.

[화상 표시 장치] [Image display device]

본 발명의 화상 표시 장치로는, 화상이나 영상을 표시하는 장치이면 특별히 한정은 받지 않지만, 후술하는 액정 표시 장치나 유기 EL (Electro Luminesence) 디스플레이 등을 들 수 있다.The image display apparatus of the present invention is not particularly limited as long as it is an apparatus for displaying an image or an image, and examples thereof include a liquid crystal display apparatus and an organic EL (Electro Luminescence) display described later.

[액정 표시 장치][Liquid crystal display device]

본 발명의 액정 표시 장치는, 상기 서술한 본 발명의 블랙 매트릭스를 사용하여 제작된 것이고, 컬러 화소나 블랙 매트릭스의 형성 순서나 형성 위치 등 특별히 제한을 받는 것은 아니다.The liquid crystal display device of the present invention is manufactured by using the black matrix of the present invention described above and is not particularly limited such as the formation order of the color pixel or the black matrix and the formation position thereof.

예를 들어, TFT 소자 기판 상에 본 발명의 블랙 매트릭스를 형성하고, 적색, 녹색, 청색의 화소를 형성하고, 필요에 따라 오버코트층을 형성한 후에, 추가로 그 위에 화상 상에 ITO, IZO 등의 투명 전극을 형성해, 컬러 디스플레이, 액정 표시 장치 등의 부품의 일부로서 사용된다. 또 일부, 평면 배향형 구동 방식 (IPS 모드) 등의 용도에 있어서는, 투명 전극을 형성하지 않는 경우도 있다.For example, a black matrix of the present invention is formed on a TFT element substrate, red, green, and blue pixels are formed, and if necessary, an overcoat layer is formed. Then, ITO, IZO And is used as a part of parts such as a color display and a liquid crystal display device. In some applications such as a planar alignment type driving method (IPS mode), a transparent electrode may not be formed.

액정 표시 장치는, 통상 컬러 필터 상에 배향막을 형성하고, 이 배향막 상에 스페이서를 산포하거나, 포토 스페이서를 형성한 후, 대향 기판과 첩합 (貼合) 하여 액정 셀을 형성하고, 형성한 액정 셀에 액정을 주입하고, 대향 전극에 결선하여 완성한다. 배향막으로는 폴리이미드 등의 수지막이 바람직하다. 배향막의 형성에는, 통상 그라비아 인쇄법 및/또는 플렉소 인쇄법이 채용되고, 배향막의 두께는 수십 ㎚ 가 된다. 열소성에 의해 배향막의 경화 처리를 실시한 후, 자외선의 조사나 러빙포에 의한 처리에 의해 표면 처리해, 액정의 경사를 조정할 수 있는 표면 상태로 가공된다.In a liquid crystal display device, a liquid crystal cell is usually formed by forming an alignment film on a color filter, spraying a spacer on the alignment film, or forming a photo-spacer and then bonding the film to a counter substrate to form a liquid crystal cell, And the liquid crystal is injected into the liquid crystal layer and connected to the counter electrode. As the alignment film, a resin film such as polyimide is preferable. The orientation film is usually formed by a gravure printing method and / or a flexo printing method, and the thickness of the alignment film is several tens nm. After curing treatment of the alignment film by thermo-firing, it is surface-treated by irradiation with ultraviolet rays or treatment with rubbing cloth, and is processed into a surface state in which the inclination of the liquid crystal can be adjusted.

본 발명의 블랙 매트릭스가 사용되고 있으면, 컬러 화소나 블랙 매트릭스의 형성 순서나 형성 위치 등 특별히 제한을 받는 것은 아니다. If the black matrix of the present invention is used, the order of formation of the color pixel or the black matrix and the forming position are not particularly limited.

스페이서로는, 대향 기판과의 갭 (간극) 에 따른 크기의 것이 사용되고, 통상 2 ∼ 8 ㎛ 인 것이 바람직하다. 컬러 필터 기판 상에, 포토 리소그래피법에 의해 투명 수지막의 포토 스페이서 (PS) 를 형성하고, 이것을 스페이서 대신 활용할 수도 있다.As the spacer, a material having a size corresponding to a gap (gap) with the counter substrate is used, and it is preferable that the spacer is usually 2 to 8 mu m. A photo-spacer PS of a transparent resin film may be formed on the color filter substrate by a photolithography method, and this may be utilized instead of a spacer.

대향 기판과의 첩합 갭은, 액정 표시 장치의 용도에 따라 상이하지만, 통상 2 ∼ 8 ㎛ 의 범위에서 선택된다. 대향 기판과 첩합한 후, 액정 주입구 이외의 부분은 에폭시 수지 등의 시일재에 의해 밀봉한다. 시일재는, UV 조사 및/또는 가열함으로써 경화시켜, 액정 셀 주변이 시일된다. The bonding gap with the counter substrate differs depending on the use of the liquid crystal display, and is usually selected in the range of 2 to 8 mu m. After bonding with the counter substrate, the portion other than the liquid crystal injection hole is sealed with a sealing material such as epoxy resin. The sealing material is cured by UV irradiation and / or heating to seal the periphery of the liquid crystal cell.

주변이 시일된 액정 셀은, 패널 단위로 절단한 후, 진공 챔버 내에서 감압으로 하고, 상기 액정 주입구를 액정에 침지한 후, 챔버 내를 리크함으로써, 액정을 액정 셀 내에 주입한다. 액정 셀 내의 감압도는 통상 1 × 10-2 ∼ 1 × 10-7 Pa 이지만, 바람직하게는 1 × 10-3 ∼ 1 × 10-6 Pa 이다. 또, 감압시에 액정 셀을 가온하는 것이 바람직하고, 가온 온도는 통상 30 ∼ 100 ℃ 이고, 보다 바람직하게는 50 ∼ 90 ℃ 이다. 감압시의 가온 유지는, 통상 10 ∼ 60 분간의 범위로 되고, 그 후 액정 중에 침지된다. 액정을 주입한 액정 셀은, 액정 주입구를 경화시킨 UV 경화 수지로 밀봉함으로써, 액정 표시 장치 (패널) 가 완성된다.The liquid crystal cell sealed in its periphery is cut in panel units and then decompressed in a vacuum chamber. After the liquid crystal injection port is immersed in the liquid crystal, the inside of the chamber is leaked to inject liquid crystal into the liquid crystal cell. The degree of vacuum in the liquid crystal cell is usually 1 × 10 -2 to 1 × 10 -7 Pa, but preferably 1 × 10 -3 to 1 × 10 -6 Pa. It is preferable to warm the liquid crystal cell at the time of depressurization, and the heating temperature is usually 30 to 100 DEG C, more preferably 50 to 90 DEG C. The heating and holding at the time of the decompression is usually in the range of 10 to 60 minutes and then immersed in the liquid crystal. The liquid crystal cell into which the liquid crystal is injected is sealed with a UV curable resin which hardens the liquid crystal injection port, thereby completing a liquid crystal display (panel).

액정의 종류에는 특별히 제한이 없고, 방향족계, 지방족계, 다환형 화합물 등, 종래부터 알려져 있는 액정으로서, 리오트로픽 액정, 서모트로픽 액정 등의 어느 것이어도 된다. 서모트로픽 액정에는 네마틱 액정, 스멕틱 액정 및 콜레스테릭 액정 등이 알려져 있지만, 어느 것이어도 된다.There is no particular limitation on the type of the liquid crystal, and conventionally known liquid crystals such as an aromatic system, an aliphatic system, and a polycyclic compound may be used, such as a lyotropic liquid crystal or a thermotropic liquid crystal. Nematic liquid crystal, smectic liquid crystal, cholesteric liquid crystal, and the like are known as the thermotropic liquid crystal, but any of them may be used.

[유기 EL 디스플레이][Organic EL display]

본 발명의 블랙 매트릭스를 이용하여 본 발명의 유기 EL 디스플레이를 제작할 수 있다. The organic EL display of the present invention can be produced by using the black matrix of the present invention.

본 발명의 블랙 매트릭스를 이용하여 유기 EL 디스플레이를 제작하는 경우, 예를 들어 도 1 에 나타내는 바와 같이, 먼저 투명 지지 기판 (10) 상에 착색 수지 조성물에 의해 형성된 패턴 (즉, 화소 (20), 및 인접하는 화소 (20) 사이에 형성된 블랙 매트릭스 (도시 생략)) 이 형성되어 이루어지는 컬러 필터를 제작하고, 그 컬러 필터 상에 유기 보호층 (30) 및 무기 산화막 (40) 을 개재하여 유기 발광체 (500) 를 적층함으로써, 유기 EL 소자 (100) 를 제작할 수 있다. 또한, 화소 (20) 및 블랙 매트릭스 중, 적어도 하나는 본 발명의 감광성 착색 조성물을 이용하여 제작된 것이다. 유기 발광체 (500) 의 적층 방법으로는, 컬러 필터 상면에 투명 양극 (50), 정공 주입층 (51), 정공 수송층 (52), 발광층 (53), 전자 주입층 (54), 및 음극 (55) 을 순서대로 형성해 가는 방법이나, 별도의 기판 상에 형성한 유기 발광체 (500) 를 무기 산화막 (40) 상에 첩합하는 방법 등을 들 수 있다. 이와 같이 하여 제작된 유기 EL 소자 (100) 를 이용하여, 예를 들어 「유기 EL 디스플레이」(옴사, 2004년 8월 20일 발행, 토키토 시즈오, 아다치 치하야, 무라타 히데유키 저) 에 기재된 방법 등으로 유기 EL 디스플레이를 제작할 수 있다. In the case of manufacturing an organic EL display using the black matrix of the present invention, for example, as shown in Fig. 1, a pattern formed by a colored resin composition (i.e., a pixel 20, And a black matrix (not shown) formed between the adjacent pixels 20) are formed on the color filter, and an organic light emitting element (not shown) is formed on the color filter through the organic protective layer 30 and the inorganic oxide film 40 500) are stacked, the organic EL device 100 can be manufactured. At least one of the pixel 20 and the black matrix is manufactured using the photosensitive coloring composition of the present invention. A method of laminating the organic light emitting element 500 includes a method in which a transparent anode 50, a hole injection layer 51, a hole transport layer 52, a light emitting layer 53, an electron injection layer 54, and a cathode 55 ), A method in which an organic light emitting material 500 formed on a separate substrate is bonded onto the inorganic oxide film 40, and the like. The organic EL device 100 manufactured in this manner can be used to form the organic EL display by the method described in, for example, &quot; Organic EL Display &quot; (OMO, published on Aug. 20, 2004, Shizuo Tokido, Adachi Chihaya, Murata Hideyuki) An organic EL display can be manufactured.

또한, 본 발명의 블랙 매트릭스는, 패시브 구동 방식의 유기 EL 디스플레이에도 액티브 구동 방식의 유기 EL 디스플레이에도 적용 가능하다.The black matrix of the present invention is also applicable to an organic EL display of passive driving type and an organic EL display of active driving type.

실시예Example

다음으로, 합성예, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. Next, the present invention will be described in more detail with reference to Synthesis Examples, Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples unless the gist thereof is exceeded.

이하의 실시예 및 비교예에서 사용한 감광성 착색 조성물의 구성 성분은 다음과 같다.The components of the photosensitive coloring composition used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.

<(A-1) 유기 흑색 안료>&Lt; (A-1) Organic black pigment &gt;

BASF 사 제조, Irgaphor (등록 상표) Black S 0100 CF (하기 식 (2) 로 나타내는 화학 구조를 갖는다)Irgaphor (registered trademark) Black S 0100 CF (having the chemical structure represented by the following formula (2)), manufactured by BASF,

[화학식 30](30)

Figure pat00039
Figure pat00039

<유기 흑색 안료 : 페릴렌 블랙>&Lt; Organic black pigment: perylene black &gt;

BASF 사 제조, Lumogen (등록 상표) Black FK4281Manufactured by BASF, Lumogen (R) Black FK4281

<유기 흑색 안료 : 아닐린 블랙>&Lt; Organic black pigment: aniline black &gt;

BASF 사 제조, Paliotol (등록 상표) Black L0080Paliotol (registered trademark) Black L0080 manufactured by BASF Corporation

<알칼리 가용성 수지-I><Alkali-soluble resin-I>

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 145 질량부를 질소 치환하면서 교반하고, 120 ℃ 로 승온시켰다. 여기에 스티렌 10 질량부, 글리시딜메타크릴레이트 85.2 질량부 및 트리시클로데칸 골격을 갖는 모노아크릴레이트 (히타치 화성사 제조 FA-513M) 66 질량부를 적하하고, 및 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴 8.47 질량부를 3 시간에 걸쳐 적하하고, 또한 90 ℃ 에서 2 시간 계속 교반하였다. 다음으로 반응 용기 내를 공기 치환으로 바꾸고, 아크릴산 43.2 질량부에 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.7 질량부 및 하이드로퀴논 0.12 질량부를 투입하고, 100 ℃ 에서 12 시간 반응을 계속하였다. 그 후, 테트라하이드로무수프탈산 (THPA) 56.2 질량부, 트리에틸아민 0.7 질량부를 첨가해, 100 ℃ 3.5 시간 반응시켰다. 이렇게 해 얻어진 알칼리 가용성 수지-I 의 GPC 에 의해 측정한 중량 평균 분자량 Mw 는 약 8400, 산가는 80 ㎎KOH/g 였다.And 145 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate were stirred while substituting with nitrogen, and the temperature was raised to 120 占 폚. 10 parts by mass of styrene, 85.2 parts by mass of glycidyl methacrylate and 66 parts by mass of monoacrylate having a tricyclodecane skeleton (FA-513M manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) were added dropwise thereto, and 2,2'-azobis- 8.47 parts by mass of 2-methylbutyronitrile was added dropwise over 3 hours, and further stirring was continued at 90 ° C for 2 hours. Subsequently, 0.7 parts by mass of trisdimethylaminomethylphenol and 0.12 parts by mass of hydroquinone were added to 43.2 parts by mass of acrylic acid, and the reaction was continued at 100 占 폚 for 12 hours. Thereafter, 56.2 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride (THPA) and 0.7 parts by mass of triethylamine were added and reacted at 100 ° C for 3.5 hours. The alkali-soluble resin-I thus obtained had a weight average molecular weight Mw of about 8400 and an acid value of 80 mgKOH / g as measured by GPC.

<알칼리 가용성 수지-II><Alkali-soluble resin-II>

닛폰카야쿠 (주) 제조 「ZCR-1664H」(중량 평균 분자량 Mw = 5000 ∼ 6000, 산가 = 약 60 ㎎-KOH/g)"ZCR-1664H" (weight average molecular weight Mw = 5000 to 6000, acid value = about 60 mg-KOH / g) manufactured by Nippon Kayaku Co.,

<알칼리 가용성 수지-III><Alkali-soluble resin-III>

[화학식 31](31)

Figure pat00040
Figure pat00040

상기 구조의 에폭시 화합물 (에폭시 당량 247) 50 g, 아크릴산 14.3 g, 메톡시부틸아세테이트 59.5 g, 트리페닐포스핀 1.29 g, 및 파라메톡시페놀 0.05 g 을, 온도계, 교반기, 냉각관을 장착한 플라스크에 넣고, 교반하면서 90 ℃ 에서 산가가 5 ㎎KOH/g 이하가 될 때까지 반응시켰다. 반응에는 12 시간을 필요로 하고, 에폭시아크릴레이트 용액을 얻었다.50 g of the epoxy compound having the above structure (epoxy equivalent 247), 14.3 g of acrylic acid, 59.5 g of methoxybutyl acetate, 1.29 g of triphenylphosphine and 0.05 g of para-methoxyphenol were placed in a flask equipped with a thermometer, And the mixture was reacted at 90 DEG C with stirring until the acid value became 5 mgKOH / g or less. The reaction required 12 hours, and an epoxy acrylate solution was obtained.

상기 에폭시아크릴레이트 용액 25 질량부 및, 트리메틸올프로판 (TMP) 0.8 질량부, 비페닐테트라카르복실산 2 무수물 (BPDA) 4.1 질량부, 테트라하이드로프탈산 무수물 (THPA) 2.8 질량부를, 온도계, 교반기, 냉각관을 장착한 플라스크에 넣고, 교반하면서 105 ℃ 까지 천천히 승온시켜 반응시켰다., 25 parts by mass of the above epoxy acrylate solution, and 0.8 parts by mass of trimethylolpropane (TMP), 4.1 parts by mass of biphenyltetracarboxylic acid dianhydride (BPDA) and 2.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride (THPA) The mixture was placed in a flask equipped with a cooling tube, and slowly heated to 105 DEG C with stirring to react.

수지 용액이 투명해졌을 때, 메톡시부틸아세테이트로 희석하고, 고형분 50 질량% 가 되도록 조제해, 산가 131 ㎎KOH/g, GPC 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 4000 의 카르복실기 함유 에폭시아크릴레이트 수지 (c1) 을 얻었다.When the resin solution became transparent, it was diluted with methoxybutyl acetate to prepare a resin having a solid content of 50% by mass. The carboxyl group-containing epoxy resin having an acid value of 131 mgKOH / g and a weight average molecular weight (Mw) of 4000 in terms of polystyrene measured by GPC Acrylate resin (c1).

<알칼리 가용성 수지-IV><Alkali-soluble resin-IV>

닛폰카야쿠 (주) 제조 「ZCR-1642H」(Mw = 6500, 산가 = 98 ㎎-KOH/g)"ZCR-1642H" (Mw = 6500, acid value = 98 mg-KOH / g) manufactured by Nippon Kayaku Co.,

<분산제-I><Dispersant-I>

빅케미사 제조 「DISPERBYK-LPN21116」(측사슬에 4 급 암모늄염기 및 3 급 아미노기를 갖는 A 블록과, 4 급 암모늄염기 및 아미노기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는, 아크릴계 A-B 블록 공중합체. 아민가는 70 ㎎KOH/g. 산가는 1 ㎎KOH/g 이하.)DISPERBYK-LPN21116 &quot; (an acrylic block AB block made of A block having a quaternary ammonium salt group and a tertiary amino group in the side chain and a B block having no quaternary ammonium salt group and no amino group, 70 mg KOH / g. Acid value is not more than 1 mgKOH / g.)

분산제-I 의 전체 반복 단위에서 차지하는 하기 식 (1a), (2a), 및 (3a) 의 반복 단위의 함유 비율은 각각 11.1 몰%, 22.2 몰%, 6.7 몰% 이다.The content of the repeating units represented by the following formulas (1a), (2a) and (3a) in the total repeating units of the dispersant-I was 11.1 mol%, 22.2 mol%, and 6.7 mol%, respectively.

[화학식 32](32)

Figure pat00041
Figure pat00041

<분산제-II><Dispersant-II>

빅케미사 제조 「DISPERBYK-2000」(측사슬에 4 급 암모늄염기를 갖는 A 블록과, 4 급 암모늄염기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는, 아크릴계 A-B 블록 공중합체)DISPERBYK-2000 &quot; (an A block having a quaternary ammonium salt group in the side chain and an acrylic A-B block copolymer comprising a B block having no quaternary ammonium salt group)

<분산제-III><Dispersant-III>

EFKA 사 제조 「EFKA-4300」(측사슬에 3 급 아미노기와 부틸기를 갖는, 아크릴계 고분자 분산제. 측사슬에 4 급 암모늄염기를 갖지 않다.)EFKA-4300 "(an acrylic polymer dispersant having a tertiary amino group and a butyl group in the side chain and not having a quaternary ammonium salt group in the side chain) manufactured by EFKA.

<안료 유도체><Pigment Derivative>

루브리졸사 제조 「Solsperse12000」&Quot; Solsperse 12000 &quot; manufactured by Lubrizol Corporation

<용제-I><Solvent-I>

PGMEA : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

<용제-II> <Solvent-II>

MB : 3-메톡시부탄올MB: 3-methoxybutanol

<광 중합 개시제-I>&Lt; Photopolymerization initiator-I &gt;

[화학식 33](33)

Figure pat00042
Figure pat00042

질소 분위기하, 50 ㎖ 3 구 플라스크에 화합물 1 (0.98 g, 5 m㏖) 과 염화메틸렌 (17 ㎖) 을 첨가했다. 이것을 3 ℃ 로 냉각한 후, o-톨루오일클로라이드 (0.77 g, 5 m㏖) 를 적하했다. 이 안에 1 시간에 걸쳐 염화알루미늄 (0.67 g, 5 m㏖) 을 천천히 첨가했다. 첨가 종료 후, 추가로 3 ℃ 에서 2 시간 교반하고, 염화메틸렌 (8 ㎖) 을 첨가했다. 다음으로 무수 글루타르산 (0.68 g, 6 m㏖) 을 30 분에 걸쳐 첨가한 후, 30 분에 걸쳐 염화알루미늄 (1.90 g, 14 m㏖) 을 첨가했다.Compound 1 (0.98 g, 5 mmol) and methylene chloride (17 ml) were added to a 50 ml three-necked flask under a nitrogen atmosphere. After cooling to 3 캜, o-toluoyl chloride (0.77 g, 5 mmol) was added dropwise. In this, aluminum chloride (0.67 g, 5 mmol) was slowly added over 1 hour. After completion of the addition, the mixture was further stirred at 3 ° C for 2 hours, and methylene chloride (8 ml) was added. Next, anhydrous glutaric acid (0.68 g, 6 mmol) was added over 30 minutes and then aluminum chloride (1.90 g, 14 mmol) was added over 30 minutes.

첨가 종료 후, 추가로 3 ℃ 에서 2 시간 교반하고, 반응 용액을 빙수 (400 ㎖) 에 조금씩 투입하였다. 수층에 염화나트륨 (80 g) 을 첨가하고, 염화메틸렌 (50 ㎖) 으로 5 회 추출 작업을 실시했다. 유기층을 포화 염화나트륨 수용액으로 세정하고, 무수 황산마그네슘을 첨가해 건조시켰다. 무수 황산마그네슘을 여과한 후, 이배퍼레이터에 의해 용매를 증류 제거해, 화합물 2 (2.13 g, 미정제 수율 100 %) 를 얻었다. 이것을 정제하지 않고 다음의 반응에 사용하였다.After completion of the addition, the mixture was further stirred at 3 ° C for 2 hours, and the reaction solution was added little by little to ice water (400 ml). Sodium chloride (80 g) was added to the aqueous layer and extracted five times with methylene chloride (50 ml). The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous magnesium sulfate. The anhydrous magnesium sulfate was filtered off, and then the solvent was distilled off using this separator to obtain Compound 2 (2.13 g, crude yield: 100%). This was used in the next reaction without purification.

[화학식 34](34)

Figure pat00043
Figure pat00043

질소 분위기하, 50 ㎖ 3 구 플라스크에 화합물 2 (2.13 g, 5 m㏖), 메탄올 (22 ㎖) 및 진한 황산 (5 ㎎) 을 넣어, 3 시간 가열 환류를 실시했다. 냉각 후, 용매를 농축하고, 물 (10 ㎖) 및 아세트산에틸 (30 ㎖) 을 첨가했다.Compound 2 (2.13 g, 5 mmol), methanol (22 ml) and concentrated sulfuric acid (5 mg) were placed in a 50 ml three-necked flask under a nitrogen atmosphere, and the mixture was heated under reflux for 3 hours. After cooling, the solvent was concentrated and water (10 mL) and ethyl acetate (30 mL) were added.

유기층을 포화 탄산수소나트륨 수용액, 포화 염화나트륨 수용액으로 순서대로 세정하고, 무수 황산마그네슘을 첨가해 건조시켰다. 무수 황산마그네슘을 여과한 후, 이배퍼레이터에 의해 용매를 증류 제거해, 화합물 3 (1.72 g, 미정제 수율 78 %) 을 얻었다. 이것을 정제하지 않고, 다음의 반응에 사용하였다.The organic layer was washed successively with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and a saturated aqueous sodium chloride solution, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The anhydrous magnesium sulfate was filtered off, and then the solvent was distilled off using this separator to obtain Compound 3 (1.72 g, crude yield 78%). This was used in the next reaction without purification.

[화학식 35](35)

Figure pat00044
Figure pat00044

질소 분위기하, 50 ㎖ 3 구 플라스크에 화합물 3 (1.00 g, 2.26 m㏖) 과 염화메틸렌 (10 ㎖) 을 넣어, 10 ℃ 로 냉각하였다. 이것에 1N 염화수소의 디에틸에테르 용액 (4.68 ㎖) 을 첨가했다. 다음으로 아질산아밀 (0.36 g, 3.04 m㏖) 을 첨가해 10 ℃ 에서 4 시간 반응시켰다. 물 (10 ㎖) 을 첨가한 후, 포화 탄산수소나트륨 수용액, 포화 염화나트륨 수용액으로 순서대로 세정하고, 무수 황산마그네슘을 첨가해 건조시켰다. 무수 황산마그네슘을 여과한 후, 이배퍼레이터에 의해 용매를 증류 제거해, 담황색 고체 (0.88 g) 를 얻었다. 이것을 톨루엔 (3.5 ㎖) 으로 재결정 정제를 실시해, 화합물 4 (0.45 g, 수율 42 %) 를 얻었다.Compound 3 (1.00 g, 2.26 mmol) and methylene chloride (10 ml) were placed in a 50 ml three-necked flask under a nitrogen atmosphere and cooled to 10 占 폚. To this was added a 1N solution of hydrogen chloride in diethyl ether (4.68 mL). Next, amyl nitrite (0.36 g, 3.04 mmol) was added and reacted at 10 ° C for 4 hours. Water (10 ml) was added, and the mixture was washed successively with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and a saturated aqueous sodium chloride solution, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The anhydrous magnesium sulfate was filtered off, and then the solvent was distilled off using this separator to obtain a light yellow solid (0.88 g). This was subjected to recrystallization purification with toluene (3.5 ml) to obtain Compound 4 (0.45 g, yield 42%).

[화학식 36](36)

Figure pat00045
Figure pat00045

질소 분위기하, 50 ㎖ 3 구 플라스크에 화합물 4 (3.50 g, 7.44 m㏖) 와 염화메틸렌 (35 ㎖) 을 넣고, 4 ℃ 로 냉각하였다. 이것에 트리에틸아민 (1.50 g, 14.9 m㏖) 을 첨가했다. 다음으로 염화아세틸 (0.70 g, 8.93 m㏖) 을 첨가한 후, 그대로 1 시간 반응시켰다. 포화 탄산수소나트륨 수용액 (10 ㎖) 을 첨가한 후, 유기층을 분액하고, 추가로 포화 탄산수소나트륨 수용액, 포화 염화나트륨 수용액으로 순서대로 세정하고, 무수 황산마그네슘을 첨가해 건조시켰다. 무수 황산마그네슘을 여과한 후, 이배퍼레이터에 의해 용매를 증류 제거해, 황색의 유상물 (油狀物) (3.65 g) 을 얻었다. 이것을 칼럼 크로마토그래피 (아세트산 에틸/헥산 = 1/1) 로 정제해, 화합물 5 (3.12 g, 수율 82 %, 광 중합 개시제-I) 를 얻었다. 이하에 화합물 5 의 화학 시프트를 나타낸다.Compound 4 (3.50 g, 7.44 mmol) and methylene chloride (35 ml) were placed in a 50 ml three-necked flask under a nitrogen atmosphere and cooled to 4 캜. To this was added triethylamine (1.50 g, 14.9 mmol). Then, acetyl chloride (0.70 g, 8.93 mmol) was added, and the reaction was continued for 1 hour. A saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate (10 ml) was added, and the organic layer was separated. The organic layer was further washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and a saturated aqueous sodium chloride solution successively, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The anhydrous magnesium sulfate was filtered off, and then the solvent was distilled off using this separator to obtain an oily oily product (3.65 g). This was purified by column chromatography (ethyl acetate / hexane = 1/1) to obtain Compound 5 (3.12 g, yield 82%, photopolymerization initiator-I). The chemical shift of Compound 5 is shown below.

Figure pat00046
Figure pat00046

<광 중합 개시제-II>&Lt; Photopolymerization initiator-II &gt;

[화학식 37](37)

Figure pat00047
Figure pat00047

<광 중합성 모노머-I>&Lt; Photopolymerizable monomer-I &gt;

DPHA : 닛폰카야쿠 (주) 제조 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트DPHA: dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

<광 중합성 모노머-II>&Lt; Photopolymerizable monomer-II &gt;

DPHA-40H : 닛폰카야쿠 (주) 제조 우레탄아크릴레이트DPHA-40H: urethane acrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.

<첨가제-I><Additive-I>

닛폰카야쿠 (주) 제조, KAYAMER PM-21 (메타크릴로일기 함유 포스페이트) KAYAMER PM-21 (methacryloyl group-containing phosphate), manufactured by Nippon Kayaku Co.,

<계면 활성제-I> <Surfactant-I>

DIC (주) 제조 메가팩 F-559Megapack F-559 manufactured by DIC Corporation

<안료 분산액-1 ∼ 7 의 조제><Preparation of Pigment Dispersions-1 to 7>

표 1 에 기재된 안료, 분산제, 분산 보조제, 알칼리 가용성 수지, 및 용제를, 표 1 에 기재된 질량비가 되도록 혼합하였다. 이 용액을 페인트 셰이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 범위에서 3 시간 분산 처리를 실시했다. 비즈로는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비즈를 이용하고, 분산액의 2.5 배의 질량을 첨가했다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비즈와 분산액을 분리해, 안료 분산액-1 ∼ 7 을 조제했다.The pigments, dispersant, dispersion assisting agent, alkali-soluble resin, and solvent described in Table 1 were mixed in a mass ratio as shown in Table 1. This solution was dispersed by a paint shaker at 25 to 45 캜 for 3 hours. As the beads, zirconia beads of 0.5 mm phi were used and a mass of 2.5 times the dispersion was added. After the dispersion was completed, the beads and the dispersion were separated by a filter to prepare Pigment Dispersion 1-7.

여기서, 페릴렌 블랙을 안료 분산액-1 과 동일한 조건으로 분산시킨 바, 페릴렌 블랙은 점도가 크게 증가했다. 그 때문에, 이들 안료를 분산시키기 위해서는, 안료 분산액-6 과 같이 분산제의 양을 크게 증가시킬 필요가 있었다.Here, when the perylene black was dispersed under the same conditions as the pigment dispersion-1, the viscosity of the perylene black increased greatly. Therefore, in order to disperse these pigments, it is necessary to increase the amount of the dispersing agent to a large extent, such as the pigment dispersion-6.

Figure pat00048
Figure pat00048

<피복 카본 블랙 분산액><Coated Carbon Black Dispersion>

카본 블랙은, 통상적인 오일 퍼니스법으로 제조했다. 단, 원료유로는 Na, Ca, S 분량이 적은 에틸렌 보텀유를 사용하고, 연소용으로는 코크스로 가스를 사용하였다. 또한, 반응 정지수로는, 이온 교환 수지로 처리한 순수를 사용하였다. 얻어진 카본 블랙 540 g 을 순수 14500 g 과 함께 호모 믹서를 사용하여 5,000 ∼ 6,000 rpm 으로 30 분 교반하여 슬러리를 얻었다. 이 슬러리를 스크루형 교반기 부착 용기로 옮겨 약 1,000 rpm 으로 혼합하면서 에폭시 수지 「에피코트 828」(미츠비시 화학 (주) 제조) 60 g 을 용해한 톨루엔 600 g 을 소량씩 첨가해 갔다. 약 15 분에, 물에 분산되어 있던 카본 블랙은 전체량 톨루엔측으로 이행하고, 약 1 ㎜ 의 알갱이가 되었다.Carbon black was produced by a conventional oil furnace method. However, ethylene bottom oil having a small amount of Na, Ca and S was used as the raw material flow path, and coke oven gas was used for combustion. As the reaction stoppage water, pure water treated with an ion exchange resin was used. 540 g of the obtained carbon black was mixed with 14500 g of pure water using a homomixer at 5,000 to 6,000 rpm for 30 minutes to obtain a slurry. The slurry was transferred to a container equipped with a screw type stirrer, and 600 g of toluene in which 60 g of an epoxy resin "Epicoat 828" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was dissolved was added in small amounts while mixing at about 1,000 rpm. At about 15 minutes, the carbon black dispersed in the water migrated toward the total amount of toluene and became a granule of about 1 mm.

다음으로, 60 메시 철망으로 물기를 뺀 후, 진공 건조기에 넣어, 70 ℃ 에서 7 시간 건조시켜, 톨루엔과 물을 완전히 제거했다.Subsequently, the water was removed with a 60-mesh wire net, and the resultant was put in a vacuum drier and dried at 70 DEG C for 7 hours to completely remove toluene and water.

얻어진 피복 카본 블랙 90 질량부에 대해, 분산제로서 DISPERBYK-167 (빅케미사 제조) 을 20 질량부, 안료 유도체로서 Solsperse12000 (루브리졸사 제조) 을 4.5 질량부 첨가해, 고형분 농도가 25 질량% 가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 (PGMEA) 를 첨가했다.To 90 parts by mass of the obtained coated carbon black, 20 parts by mass of DISPERBYK-167 (manufactured by Bigkema) as a dispersing agent and 4.5 parts by mass of Solsperse 12000 (manufactured by Lubrizol Corporation) as a pigment derivative were added to obtain a solid content concentration of 25% by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was added.

이것을 교반기에 의해 충분히 교반하고, 프리믹싱을 실시했다. 다음으로, 페인트 셰이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 범위에서 6 시간 분산 처리를 실시했다. 비즈로는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비즈를 이용하여 분산액과 동일한 질량을 첨가했다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비즈와 분산액을 분리해 조제했다.This was sufficiently stirred by an agitator, and premixing was carried out. Next, dispersion treatment was carried out by a paint shaker for 6 hours in the range of 25 to 45 占 폚. As the beads, zirconia beads of 0.5 mm phi were used and the same mass as the dispersion was added. After the dispersion was completed, the beads and the dispersion liquid were separated by a filter.

[실시예 1 ∼ 8 및 비교예 1 ∼ 4][Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4]

상기 조제한 안료 분산액, 피복 카본 블랙 분산액을 이용하여, 고형분 중의 비율이 표 2 의 배합 비율이 되도록 각 성분을 첨가하고, 추가로 고형분이 17 질량% 가 되도록 PGMEA 를 첨가해, 교반, 용해시켜, 감광성 착색 조성물을 조제했다. 실시예 1 ∼ 8 및 비교예 1, 2 및 4 는 고형분 중의 안료 농도를 40 질량% 로 하고, 비교예 3 은 고형분 중의 안료 농도를 30 질량% 로 했다. 또, 모든 감광성 착색 조성물에 있어서, 광 중합성 모노머에 대한 알칼리 가용성 수지 (분산액 중의 수지도 포함한다) 의 질량 비율을 3 으로 하고, 광 중합 개시제를 고형분 중 4 질량%, 첨가제를 0.5 질량%, 계면 활성제를 0.1 질량% 로 했다. 얻어진 감광성 착색 조성물을 이용하여, 후술하는 방법으로 평가를 실시했다.Using the prepared pigment dispersions and coated carbon black dispersions, each component was added so that the ratio of the solid components to the solid components was the mixing ratios shown in Table 2, and PGMEA was further added thereto so as to have a solid content of 17 mass%, followed by stirring and dissolution. To prepare a coloring composition. In Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1, 2 and 4, the pigment concentration in the solid content was 40 mass%, and in Comparative Example 3, the pigment concentration in the solid content was 30 mass%. In all the photosensitive coloring compositions, the mass ratio of the alkali-soluble resin (including the resin in the dispersion) to the photopolymerizable monomer was 3, the photopolymerization initiator was added in an amount of 4 mass% in the solid content, 0.5 mass% And 0.1% by mass of the surfactant. Using the obtained photosensitive coloring composition, evaluation was carried out by the following method.

Figure pat00049
Figure pat00049

[1 ㎛ 당 광학 농도 (OD) 의 측정][Measurement of optical density (OD) per 1 mu m]

조제한 감광성 착색 조성물을 최종적인 막두께가 2 ㎛ 가 되도록 스핀 코터로 유리 기판에 도포하고, 1 분간 감압 건조한 후에, 핫 플레이트로 100 ℃ 에서 90 초간 건조시켰다. 230 ℃ 에서 30 분간 가열함으로써, 레지스트 도포 기판 (기판-1) 을 얻었다. 얻어진 기판의 광학 농도 (OD) 를 투과 농도계 그레택맥베스 D200-II 에 의해 측정하고, 막두께를 (주) 료카 시스템 제조 비접촉 표면·층 단면 형상 계측 시스템 VertScan(R) 2.0 에 의해 측정하였다. 막두께 1 ㎛ 당 광학 농도 (OD) 를 표 3 에 나타낸다.The prepared photosensitive coloring composition was applied to a glass substrate with a spin coater to a final film thickness of 2 탆, dried under reduced pressure for 1 minute, and then dried with a hot plate at 100 캜 for 90 seconds. And then heated at 230 占 폚 for 30 minutes to obtain a resist coating substrate (substrate-1). The optical density (OD) of the obtained substrate was measured by a transmission densitometer Gretax Macbeth D200-II, and the film thickness was measured by VertScan (R) 2.0, a noncontact surface / layer cross sectional shape measuring system manufactured by Ryoka Corporation. Table 3 shows the optical density (OD) per 1 mu m of the film thickness.

[비유전율의 측정][Measurement of relative dielectric constant]

기판-1 의 제작 방법에 있어서, 유리 기판 대신에 크롬 증착막을 갖는 유리 기판을 사용한 것 이외에는 동일하게 하여 기판 (기판-2) 을 제작하였다. 이 샘플의 크롬막을 주전극으로 해, 레지스트 도포막 상에 금 (金) 의 대향 전극을 증착법에 의해 형성하였다. 또, HP (현 Agilent) 사 제조 「LCR 미터 4284A」를 이용하여, 1 kHz·1 V 에 있어서의 비유전율을 측정하였다. 결과를 표 3 에 나타낸다.A substrate (substrate-2) was produced in the same manner as in the production method of substrate-1 except that a glass substrate having a chromium vapor deposited film was used in place of the glass substrate. A chromium film of this sample was used as a main electrode, and a counter electrode of gold was formed on the resist coating film by a vapor deposition method. In addition, the relative dielectric constant at 1 kHz and 1 V was measured using "LCR meter 4284A" manufactured by HP (present Agilent). The results are shown in Table 3.

[제판 특성][Characteristics of plate making]

기판-1 과 동일한 방법으로 핫 플레이트에 의한 건조를 실시했다. 이 샘플을 개구 20 ㎛ 의 직선 패턴이 있는 네거티브 타입의 마스크를 통해 고압 수은등으로 이미지 노광하였다 (조도 30 mW/㎠, 노광량 20 mJ/㎠). 이때, 샘플과 마스크의 거리는 200 ㎛ 로 했다. 그 후, 온도 25 ℃ 에서, KOH 농도 0.05 질량% 의 현상액을 이용하여 스프레이 현상하였다. 현상 시간은 미노광부의 용해 시간의 1.5 배로 했다. 얻어진 선상 패턴의 선폭의 결과를 표 3 에 나타낸다. 단, 비교예 1 및 2 의 레지스트를 사용한 경우, 10 분간 현상해도 패턴이 얻어지지 않았다.And dried by a hot plate in the same manner as in the substrate-1. This sample was subjected to image exposure (illuminance: 30 mW / cm 2, exposure dose: 20 mJ / cm 2) through a negative-type mask having a straight line pattern with an opening of 20 μm. At this time, the distance between the sample and the mask was 200 mu m. Thereafter, spraying was carried out at a temperature of 25 캜 using a developer having a KOH concentration of 0.05% by mass. The development time was 1.5 times the dissolution time of the unexposed portion. Table 3 shows the results of line width of the obtained line pattern. However, when the resists of Comparative Examples 1 and 2 were used, no pattern was obtained even when developed for 10 minutes.

Figure pat00050
Figure pat00050

실시예 1 과 비교예 1, 2 및 4 의 비교로부터, 동일한 안료 농도이면, 본 발명의 감광성 착색 조성물로부터 얻어지는 기판 쪽이 OD 가 높고, 차폐성이 높은 것이 확인되었다. 또, 비교예 1, 2 는 10 분간 현상해도 선상 패턴이 얻어지지 않았다. 이것은, 비교예 1, 2 는 안료로서 페릴렌 블랙을 포함하는 것이지만, 페릴렌 블랙을 분산시킬 때에 다량의 분산제를 사용할 필요가 있고, 그것이 제판 특성에 악영향을 미쳤다고 생각된다. 또, 선폭은 값이 클수록 감도가 높은 것을 나타내지만, (A-1) 유기 흑색 안료와 (A-2) 유기 착색 안료를 병용함으로써, OD 를 크게 낮추지 않고, 감도를 높일 수 있는 것이 실시예 4 및 5 로부터 확인되었다.From the comparison between Example 1 and Comparative Examples 1, 2 and 4, it was confirmed that the substrate obtained from the photosensitive colored composition of the present invention had a high OD and a high shielding property when the same pigment concentration was used. In Comparative Examples 1 and 2, no line-shaped pattern was obtained even after developing for 10 minutes. This is because Comparative Examples 1 and 2 contain perylene black as a pigment, but it is necessary to use a large amount of a dispersing agent when dispersing the perylene black, which is considered to have adversely affected plate making characteristics. The larger the value of the line width, the higher the sensitivity, but it was found that the combination of (A-1) the organic black pigment and (A-2) the organic colored pigment can increase the sensitivity without significantly lowering the OD, And 5, respectively.

비교예 3 은 안료가 피복 카본 블랙뿐이고, 높은 OD 를 나타내지만, 비유전율이 높아지는 것을 알 수 있다. 본 발명에서 사용되는 (A-1) 유기 흑색 안료와 (A-3) 카본 블랙을 병용함으로써, OD 는 높고, 또한 비유전율을 낮게 유지할 수 있는 것이 실시예 6 및 7 로부터 확인되었다.In Comparative Example 3, the pigment is only coated carbon black and shows a high OD, but it can be seen that the relative dielectric constant is increased. It was confirmed from Examples 6 and 7 that the OD was high and the relative dielectric constant could be kept low by using the (A-1) organic black pigment and (A-3) carbon black used in the present invention in combination.

[분산성 평가][Evaluation of dispersibility]

<안료 분산액-8 ∼ 11 의 조제><Preparation of Pigment Dispersions-8 to 11>

표 4 에 기재된 안료, 분산제, 분산 보조제, 알칼리 가용성 수지, 및 용제를, 표 4 에 기재된 질량비가 되도록 혼합하였다. 이 용액을 페인트 셰이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 범위에서 3 시간 분산 처리를 실시했다. 비즈로는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비즈를 사용하고, 분산액의 2.5 배의 질량을 첨가했다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비즈와 분산액을 분리해, 안료 분산액-8 ∼ 11 을 조제했다.The pigments, dispersants, dispersion aids, alkali-soluble resins, and solvents described in Table 4 were mixed in the mass ratios shown in Table 4. This solution was dispersed by a paint shaker at 25 to 45 캜 for 3 hours. As the beads, zirconia beads of 0.5 mm phi were used and a mass of 2.5 times the dispersion was added. After dispersion was completed, the beads and the dispersion were separated by a filter to prepare Pigment Dispersion-8 to 11.

Figure pat00051
Figure pat00051

[실시예 9 및 비교예 5 ∼ 7][Example 9 and Comparative Examples 5 to 7]

상기 조제한 안료 분산액을 이용하여, 고형분 중의 비율이 표 5 의 배합 비율이 되도록 각 성분을 첨가하고, 추가로 고형분이 17 질량% 가 되도록 PGMEA 를 첨가해, 교반, 용해시켜, 감광성 착색 조성물을 조제했다.Using the pigment dispersion prepared above, each component was added so that the proportion thereof in the solid content was as shown in Table 5, and PGMEA was further added so as to have a solid content of 17 mass%, followed by stirring and dissolution to prepare a photosensitive coloring composition .

또, 얻어진 각 감광성 착색 조성물에 대해 토키 산업 주식회사 제조 RC80L 형 점도계 (측정 조건 : 23 ℃, 50 rpm) 에 의해 그 점도를 측정하였다. 결과를 표 5 에 나타낸다.The viscosity of each of the photosensitive coloring compositions thus obtained was measured by an RC80L type viscometer (measuring conditions: 23 ° C, 50 rpm) manufactured by Toray Industries, Inc. The results are shown in Table 5.

Figure pat00052
Figure pat00052

일반적으로, 유기 안료를 감광성 착색 조성물 중에 분산시키기 위해서, 4 급 암모늄염기를 갖는 염기성 고분자 분산제도, 4 급 암모늄염기를 갖지 않는 염기성 고분자 분산제도 동등하게 취급되고 있고, 동등한 분산성을 나타내는 것이 알려져 있다. 실제, 표 5 의 비교예 6 및 7 에서는, 유기 흑색 안료인 페릴렌 블랙은 분산제 I 을 사용한 경우도, 분산제 III 을 사용한 경우도, 감광성 착색 조성물의 점도에 유의차는 없다.In general, in order to disperse an organic pigment in a photosensitive coloring composition, a basic polymer dispersing system having a quaternary ammonium salt group and a basic polymer dispersing system having no quaternary ammonium salt group are treated equivalently and are known to exhibit equivalent dispersibility. Actually, in Comparative Examples 6 and 7 shown in Table 5, the viscosity of the photosensitive coloring composition is not significantly different even when the dispersant I or the dispersant III is used as the perylene black as the organic black pigment.

의외로 (A-1) 유기 흑색 안료를 포함하는 감광성 착색 조성물에 있어서는, 표 5 의 실시예 9 와 비교예 5 의 비교로부터, 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 고분자 분산제 (분산제 I) 를 사용함으로써, 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖지 않는 고분자 분산제 (분산제 III) 를 사용한 경우와 비교해, 감광성 착색 조성물의 점도가 절반 정도가 되어, (A-1) 유기 흑색 안료가 균일하게 분산된 것이 되었다.(A-1) By using a polymeric dispersant (dispersant I) having a quaternary ammonium salt group as a functional group, it was found that, in the photosensitive coloring composition containing the organic black pigment, (A-1) the organic black pigment was uniformly dispersed, as compared with the case of using a polymer dispersant (dispersant III) having no quaternary ammonium salt group as a functional group.

또, 표 6 에 실시예 1 ∼ 8 의 감광성 착색 조성물에 대해, 실시예 9 와 동일한 방법으로 측정한 점도의 값을 나타낸다.Table 6 shows the values of the viscosities measured in the same manner as in Example 9 for the photosensitive colored compositions of Examples 1 to 8.

Figure pat00053
Figure pat00053

표 6 에 나타내는 바와 같이, 안료로서 (A-1) 유기 흑색 안료를 단독으로 사용한 실시예 1 및 2 뿐만 아니라, (A-1) 유기 흑색 안료와 (A-2) 유기 착색 안료를 병용한 실시예 3 ∼ 5, 및 8, (A-1) 유기 흑색 안료와 (A-3) 카본 블랙을 병용한 실시예 6, (A-1) 유기 흑색 안료와 (A-2) 유기 착색 안료와 (A-3) 카본 블랙을 병용한 실시예 7 의 어디에 있어서도 실시예 1 및 2 와 동등한 점도가 되어, 어느 감광성 착색 조성물에 있어서도 안료가 균일하게 분산된 것이 되었다.(A-1) organic black pigment and (A-2) an organic coloring pigment in combination as well as Examples 1 and 2 using the (A-1) organic black pigment alone as a pigment as shown in Table 6 Example 6, (A-1) an organic black pigment, (A-2) an organic colored pigment and (A-1) an organic black pigment in Examples 3 to 5 and 8, A-3) In all of Example 7 in which carbon black was used in combination, the viscosity was equivalent to that of Examples 1 and 2, and the pigment was uniformly dispersed even in any of the photosensitive coloring compositions.

본 발명을 상세하게 또 특정 실시형태를 참조해 설명했지만, 본 발명의 정신과 범위를 일탈하지 않고 다양한 변경이나 수정을 가할 수 있는 것은 당업자에게 있어 분명하다. 본 출원은, 2013년 9월 25일 출원된 일본 특허 출원 (일본 특허출원 2013-198425) 에 근거하는 것이고, 그 내용은 여기에 참조로서 받아들여진다.Although the present invention has been described in detail with reference to specific embodiments, it is apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. This application is based on Japanese Patent Application (Japanese Patent Application 2013-198425) filed on September 25, 2013, the content of which is incorporated herein by reference.

10 : 투명 지지 기판
20 : 화소
30 : 유기 보호층
40 : 무기 산화막
50 : 투명 양극
51 : 정공 주입층
52 : 정공 수송층
53 : 발광층
54 : 전자 주입층
55 : 음극
100 : 유기 EL 소자
500 : 유기 발광체
10: transparent support substrate
20: pixel
30: Organic protective layer
40: inorganic oxide film
50: Transparent anode
51: Hole injection layer
52: hole transport layer
53: light emitting layer
54: electron injection layer
55: cathode
100: Organic EL device
500: organic luminescent material

Claims (20)

(A) 색재, 및 (B) 분산제를 함유하는 안료 분산액으로서,
상기 (A) 색재가 (A-1) 하기 일반식 (2) 로 나타내는 화합물인 유기 흑색 안료와, 하기 일반식 (2) 의 술폰산 유도체를 포함하고, 또한,
상기 (B) 분산제가 4 급 암모늄염기 및 3 급 아민을 관능기로서 갖는 고분자 분산제를 포함하는 안료 분산액.
[화학식 1]
Figure pat00054
(A) a colorant, and (B) a dispersant,
Wherein the colorant (A) comprises (A-1) an organic black pigment which is a compound represented by the following general formula (2) and a sulfonic acid derivative represented by the following general formula (2)
Wherein the dispersant (B) comprises a polymer dispersant having a quaternary ammonium salt group and a tertiary amine as a functional group.
[Chemical Formula 1]
Figure pat00054
제 1 항에 있어서,
상기 (A) 색재가, 추가로 (A-2) 유기 착색 안료를 함유하는 안료 분산액.
The method according to claim 1,
A pigment dispersion wherein the colorant (A) further comprises (A-2) an organic coloring pigment.
제 1 항에 있어서,
상기 (A) 색재가, 추가로 (A-3) 카본 블랙을 함유하는 안료 분산액.
The method according to claim 1,
A pigment dispersion wherein the colorant (A) further contains (A-3) carbon black.
제 1 항에 있어서,
상기 고분자 분산제가, 상기 4 급 암모늄염기 및 상기 3 급 아민을 갖는 A 블록과, 상기 4 급 암모늄염기 및 상기 3 급 아민을 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는, A-B 또는 B-A-B 의 아크릴계 블록 공중합체인 안료 분산액.
The method according to claim 1,
Wherein the polymer dispersant is an acrylic block copolymer of AB or BAB, wherein the polymer dispersant is composed of an A block having the quaternary ammonium salt group and the tertiary amine, and a B block having no quaternary ammonium salt group and the tertiary amine.
제 4 항에 있어서,
상기 공중합체 1 g 중의 4 급 암모늄염기의 양이 0.1 ∼ 10 m㏖ 인 안료 분산액.
5. The method of claim 4,
Wherein the amount of the quaternary ammonium salt group in 1 g of the copolymer is 0.1 to 10 mmol.
제 4 항에 있어서,
상기 공중합체의 아민가가 1 ∼ 100 ㎎KOH/g 인 안료 분산액.
5. The method of claim 4,
Wherein the copolymer has an amine value of 1 to 100 mgKOH / g.
제 6 항에 있어서,
상기 공중합체의 아민가가 30 ㎎KOH/g 이상인 안료 분산액.
The method according to claim 6,
Wherein the copolymer has an amine value of 30 mgKOH / g or more.
제 1 항에 있어서,
추가로 유기 용제를 함유하는 안료 분산액.
The method according to claim 1,
A pigment dispersion further containing an organic solvent.
제 8 항에 있어서,
상기 유기 용제가, 압력 1013.25 [hPa] 조건하에 있어서의 비점이 100 ∼ 200 ℃ 인 유기 용제를 함유하는 안료 분산액.
9. The method of claim 8,
Wherein the organic solvent has an organic solvent having a boiling point of 100 to 200 DEG C under a pressure of 1013.25 [hPa].
제 8 항에 있어서,
상기 유기 용제가, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 함유하는 안료 분산액.
9. The method of claim 8,
Wherein the organic solvent contains propylene glycol monomethyl ether acetate.
제 1 항에 있어서,
추가로 (C) 알칼리 가용성 수지를 함유하는 안료 분산액.
The method according to claim 1,
Further comprising (C) an alkali-soluble resin.
제 1 항에 있어서,
감광성 착색 조성물 제조용인 안료 분산액.
The method according to claim 1,
Pigment dispersion for the preparation of photosensitive colored compositions.
제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 기재된 안료 분산액, 및 (D) 광 중합 개시제를 적어도 함유하는 감광성 착색 조성물.12. A photosensitive coloring composition comprising at least the pigment dispersion according to any one of claims 1 to 12 and (D) a photopolymerization initiator. 제 13 항에 있어서,
(A) 색재의 함유량이, 감광성 착색 조성물 중의 전체 고형분량에 대해 20 질량% 이상인 감광성 착색 조성물.
14. The method of claim 13,
(A) the coloring material content is 20 mass% or more based on the total solid content in the photosensitive coloring composition.
제 13 항에 있어서,
(D) 광 중합 개시제가, 옥심에스테르 개시제, 케톡심에스테르 개시제, 또는 옥심에스테르 개시제 및 케톡심에스테르 개시제인 감광성 착색 조성물.
14. The method of claim 13,
(D) the photopolymerization initiator is an oxime ester initiator, a ketoxime ester initiator, or an oxime ester initiator and a ketoxime ester initiator.
제 13 항에 있어서,
착색 스페이서 형성용인 감광성 착색 조성물.
14. The method of claim 13,
A photosensitive coloring composition for forming a colored spacer.
제 13 항에 기재된 감광성 착색 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화물.A cured product obtained by curing the photosensitive colored composition according to claim 13. 제 17 항에 기재된 경화물로부터 형성되는 블랙 매트릭스.A black matrix formed from the cured product according to claim 17. 제 17 항에 기재된 경화물로부터 형성되는 착색 스페이서.A colored spacer formed from the cured product according to claim 17. 제 17 항에 기재된 경화물로부터 형성되는 블랙 매트릭스 또는 착색 스페이서를 포함하는 화상 표시 장치.

An image display device comprising a black matrix or a colored spacer formed from the cured product according to claim 17.

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190049504A (en) * 2017-10-30 2019-05-09 사카타 인쿠스 가부시키가이샤 Black colored composition and black colored resist composition containing the same
KR20190049505A (en) * 2017-10-31 2019-05-09 사카타 인쿠스 가부시키가이샤 Black pigment dispersion composition and black pigment dispersion resist composition containing the same
KR20190106497A (en) 2018-03-09 2019-09-18 동우 화인켐 주식회사 A black photo sensitive resin composition, a color filter comprising a black metrics, a column spacer or a black column spacer prepared by using the composition, and a liquid crystal display device comprising the color filter
KR20190106072A (en) * 2018-03-07 2019-09-18 삼성에스디아이 주식회사 Photosensitive resin composition, black pixel defining layer using the same and display device
KR20190125792A (en) 2018-04-30 2019-11-07 동우 화인켐 주식회사 A method for preparing pigment dispersion composition, the pigment dispersion composition prepared by the same, a colored photo sensitive resin composition comprising the pigment dispersion composition, a color filter comprising the colored photo sensitive resin composition, and a display devide comprising the color filter

Families Citing this family (58)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6464764B2 (en) * 2015-01-16 2019-02-06 Jsr株式会社 Radiation-sensitive coloring composition, spacer, method for forming the same, and liquid crystal display device
TWI723994B (en) * 2015-05-22 2021-04-11 日商富士軟片股份有限公司 Colored composition, film, color filter, pattern forming method, method of manufacturing color filter, solid-state imaging element, and infrared sensor
JP6700710B2 (en) * 2015-10-16 2020-05-27 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 Photosensitive resin composition for black column spacer, black column spacer, liquid crystal display device, method for producing photosensitive resin composition for black column spacer, method for producing black column spacer, and method for producing liquid crystal display device
CN108475012B (en) * 2015-12-24 2022-07-15 三菱化学株式会社 Photosensitive coloring composition, cured product, coloring spacer and image display device
TWI639054B (en) 2015-12-29 2018-10-21 奇美實業股份有限公司 Black photosensitive resin composition and uses thereof
US10884335B2 (en) * 2016-01-18 2021-01-05 Rohm And Haas Electronic Materials Korea Ltd. Black photosensitive resin composition and black column spacer prepared therefrom
CN108700685A (en) * 2016-02-12 2018-10-23 三菱化学株式会社 Colour spacer photosensitive coloring composition, solidfied material, coloring spacer, image display device
JP6768302B2 (en) * 2016-02-16 2020-10-14 株式会社Dnpファインケミカル Colored resin compositions for color filters, color filters, and display devices
JP2017146429A (en) * 2016-02-16 2017-08-24 株式会社Adeka Photosensitive composition for black column spacer
KR102247840B1 (en) * 2016-03-18 2021-05-03 제이에스알 가부시끼가이샤 Substrate for display device, manufacturing method of the substrate for display device, and display device
WO2017169866A1 (en) * 2016-03-31 2017-10-05 日本ゼオン株式会社 Radiation-sensitive resin composition and resist
KR102590768B1 (en) * 2016-05-31 2023-10-19 주식회사 이엔에프테크놀로지 Photosensitive colorant composition for black column spacer or black matrix
TWI664499B (en) * 2016-06-04 2019-07-01 奇美實業股份有限公司 Black photosensitive resin composition and uses thereof
CN109328322A (en) * 2016-06-30 2019-02-12 东丽株式会社 Negative light-sensitive resin combination, cured film, the element for having cured film, the display device and organic el display for having element
TWI664500B (en) * 2016-06-30 2019-07-01 奇美實業股份有限公司 Black photosensitive resin composition and uses thereof
TWI731148B (en) * 2016-08-24 2021-06-21 日商東麗股份有限公司 Black pigment and its manufacturing method, pigment dispersion, photosensitive composition and its hardened product
WO2018052024A1 (en) * 2016-09-16 2018-03-22 三菱ケミカル株式会社 Photosensitive resin composition, cured product and image display device
KR101991699B1 (en) * 2016-09-26 2019-06-21 삼성에스디아이 주식회사 Photosensitive resin composition, black pixel defining layer using the same and display device
JP6787038B2 (en) * 2016-10-25 2020-11-18 東洋インキScホールディングス株式会社 Black photosensitive composition
KR101973253B1 (en) * 2016-11-10 2019-04-30 동우 화인켐 주식회사 Black Photosensitive Resin Composition
KR20190088972A (en) * 2016-12-02 2019-07-29 미쯔비시 케미컬 주식회사 Colored photosensitive resin composition, pigment dispersion, barrier rib, organic electroluminescent device, image display device and illumination
KR101897937B1 (en) * 2017-01-20 2018-09-12 동우 화인켐 주식회사 A photo sensitive resin composition, a color filter comprising a black metrics, a column spacer or black column spacer prepared by using the composition, and a display devide comprising the color filter
KR101886992B1 (en) * 2017-01-20 2018-08-10 동우 화인켐 주식회사 A photo sensitive resin composition, a color filter comprising a black metrics, a column spacer or black column spacer prepared by using the composition, and a display devide comprising the color filter
KR20190109383A (en) 2017-02-15 2019-09-25 미쯔비시 케미컬 주식회사 Photosensitive coloring composition, cured product, colored spacer, and image display device
CN110177817A (en) * 2017-03-01 2019-08-27 株式会社艾迪科 Polymerizable composition, polymerizable composition and black column spacer photosensitive composite
WO2018180943A1 (en) 2017-03-27 2018-10-04 Agc株式会社 Method for producing halogen-containing pyrazol carboxylic acid and intermediate thereof
JP7218069B2 (en) * 2017-06-20 2023-02-06 株式会社Adeka Polymerizable composition, photosensitive composition for black matrix and photosensitive composition for black column spacer
KR102669276B1 (en) * 2017-06-20 2024-05-29 가부시키가이샤 아데카 Polymerizable composition, photosensitive composition for black matrix and photosensitive composition for black column spacer
JP7079581B2 (en) * 2017-08-31 2022-06-02 東京応化工業株式会社 Photosensitive composition, cured product forming method, cured product, panel for image display device, and image display device
WO2019065359A1 (en) * 2017-09-28 2019-04-04 東レ株式会社 Organic el display device and method for forming pixel division layer and planarizing layer
WO2019078415A1 (en) * 2017-10-20 2019-04-25 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, black matrix manufactured by using same, color filter comprising column spacer or black column spacer, and display apparatus comprising color filter
KR101922348B1 (en) * 2017-10-20 2018-11-26 동우 화인켐 주식회사 A photo sensitive resin composition, a color filter comprising a black metrics, a column spacer or black column spacer prepared by using the composition, and a display device comprising the color filter
TWI741223B (en) * 2017-10-20 2021-10-01 南韓商東友精細化工有限公司 A pigment dispersion, a photo sensitive resin composition comprising the pigment dispersion, a pattern layer prepared by using the composition, a color filter comprising the pattern layer, and a display device comprising the color filter
KR101840984B1 (en) * 2017-11-10 2018-03-21 동우 화인켐 주식회사 A photo sensitive resin composition, a color filter comprising a black metrics, a column spacer or black column spacer prepared by using the composition, and a display device comprising the color filter
TWI791690B (en) * 2017-12-14 2023-02-11 日商迪愛生股份有限公司 Coloring composition and color filter
KR102158874B1 (en) * 2017-12-29 2020-09-22 삼성에스디아이 주식회사 Epoxy resin composition for encapsulating semiconductor device and semiconductor device encapsulated using the same
JP6757547B2 (en) * 2018-03-15 2020-09-23 株式会社タムラ製作所 Method of forming a cured coating film
JP7230559B2 (en) * 2018-03-20 2023-03-01 三菱ケミカル株式会社 Photosensitive coloring composition, cured product, colored spacer, and image display device
JP7172171B2 (en) * 2018-06-22 2022-11-16 Dic株式会社 Pigment dispersant, pigment dispersion and method for producing polymer
US20200201180A1 (en) * 2018-12-21 2020-06-25 Rohm And Haas Electronic Materials Korea Ltd. Colored photosensitive resin composition and black matrix prepared therefrom
JP6689434B1 (en) * 2019-02-06 2020-04-28 昭和電工株式会社 Photosensitive resin composition, organic EL element partition wall, and organic EL element
JP7360798B2 (en) * 2019-02-21 2023-10-13 サカタインクス株式会社 Colored composition and colored resist composition containing the same
JP7299036B2 (en) * 2019-02-21 2023-06-27 サカタインクス株式会社 Coloring composition and coloring resist composition
JP7263153B2 (en) * 2019-06-27 2023-04-24 東京応化工業株式会社 Photosensitive composition, cured product, black matrix, black bank, color filter, image display device, and method for producing patterned cured film
JP7354496B2 (en) * 2019-08-30 2023-10-03 サカタインクス株式会社 Pigment dispersion composition for black matrix and pigment dispersion resist composition for black matrix containing the same
WO2021045193A1 (en) * 2019-09-06 2021-03-11 三菱ケミカル株式会社 Photosensitive coloring composition, cured product, image display device and pigment dispersion liquid for image display devices
JP7325728B2 (en) * 2019-09-30 2023-08-15 山陽色素株式会社 Pigment dispersion and coloring composition for coating film formation
KR102109544B1 (en) * 2019-10-16 2020-05-12 삼성에스디아이 주식회사 Color filter and liquid crystal display comprising the same
KR102421036B1 (en) * 2019-11-22 2022-07-15 에스케이씨하이테크앤마케팅(주) Pigment dispersion and colored photosensitive resin composition comprising same
JP7429283B2 (en) * 2020-02-20 2024-02-07 富士フイルム株式会社 Colored compositions, films, color filters, solid-state imaging devices, and image display devices
CN115279847B (en) * 2020-03-26 2023-10-27 富士胶片株式会社 Active energy ray-curable ink and image recording method
WO2022065490A1 (en) * 2020-09-28 2022-03-31 三菱ケミカル株式会社 Photosensitive coloring composition, cured product, organic electroluminescent element, and image display device
JP7464494B2 (en) 2020-10-02 2024-04-09 東京応化工業株式会社 Black photosensitive resin composition, method for producing patterned cured product, patterned cured product, and black matrix
JP7464493B2 (en) 2020-10-02 2024-04-09 東京応化工業株式会社 Black photosensitive resin composition, method for producing patterned cured product, patterned cured product, and black matrix
WO2022138027A1 (en) * 2020-12-23 2022-06-30 株式会社Dnpファインケミカル Photocurable red resin composition, display device, and method of manufacturing laminate of organic light-emitting element and external-light antireflection film
CN117916664A (en) * 2021-09-29 2024-04-19 东丽株式会社 Photosensitive composition, cured product, and organic EL display device
CN114156329B (en) * 2021-11-30 2023-07-04 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Display panel, manufacturing method thereof and display device
TW202346486A (en) * 2022-03-25 2023-12-01 日商三菱化學股份有限公司 Pigment dispersion liquid, photosensitive resin composition, cured product, black matrix, image display device, and method for producing pigment dispersion liquid

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0844049A (en) 1994-08-01 1996-02-16 Sekisui Chem Co Ltd Colored resist film
ATE228515T1 (en) * 1998-10-22 2002-12-15 Ciba Sc Holding Ag OXOBENZOFURANYLIDENE DIHYDROINDOLONES
JP4794870B2 (en) 2005-02-24 2011-10-19 東京応化工業株式会社 Photosensitive resin composition for forming light shielding layer, light shielding layer and color filter
JP5169422B2 (en) * 2007-04-20 2013-03-27 三菱化学株式会社 Colored resin composition, color filter, liquid crystal display device, and organic EL display
JP5343410B2 (en) * 2007-06-11 2013-11-13 三菱化学株式会社 Photosensitive colored resin composition for color filter, color filter, liquid crystal display device and organic EL display
JP2009075446A (en) 2007-09-21 2009-04-09 Mitsubishi Chemicals Corp Resin black matrix, light shielding photosensitive resin composition and liquid crystal display
US20100175691A1 (en) * 2009-01-15 2010-07-15 Celanese Acetate Llc Process for recycling cellulose acetate ester waste
ES2484942T3 (en) * 2009-01-19 2014-08-12 Basf Se Black matrix for color filters
EP2387599B1 (en) * 2009-01-19 2013-03-20 Basf Se Black pigment dispersion
JP5431225B2 (en) * 2010-03-29 2014-03-05 新日鉄住金化学株式会社 Alkali-developable photosensitive resin composition, partition wall for display element formed using the same, and display element
US9575230B2 (en) * 2010-05-03 2017-02-21 Basf Se Color filter for low temperature applications
JP5741141B2 (en) * 2010-08-27 2015-07-01 東洋インキScホールディングス株式会社 Black resin composition and black matrix
CN102279522B (en) * 2010-06-08 2014-07-30 东洋油墨Sc控股株式会社 Coloring composition for color filter and color filter
TWI434887B (en) * 2010-06-08 2014-04-21 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Coloring composition for color filter and color filter
CN103890660B (en) * 2011-10-25 2019-05-31 三菱化学株式会社 Coloring photosensitive combination, coloring spacer, colour filter and liquid crystal display device
KR101921368B1 (en) * 2011-11-11 2018-11-22 에이지씨 가부시키가이샤 Negative-type photosensitive resin composition, partition wall, black matrix, and optical element
WO2013115268A1 (en) * 2012-01-31 2013-08-08 三菱化学株式会社 Colored photosensitive composition, black photo spacer, and color filter
JP5801214B2 (en) 2012-01-31 2015-10-28 株式会社日立製作所 Control device for district heat energy supply network
CN104350108B (en) * 2012-06-01 2017-03-29 巴斯夫欧洲公司 Black colorant agent composition
JP6170673B2 (en) * 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 Composition for color filter, infrared transmission filter, method for producing the same, and infrared sensor
WO2014208348A1 (en) * 2013-06-24 2014-12-31 東レ株式会社 Black resin composition for touch panels
JP6635497B2 (en) * 2013-07-25 2020-01-29 東レ株式会社 Negative photosensitive white composition for touch panel, touch panel, and method for manufacturing touch panel

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190049504A (en) * 2017-10-30 2019-05-09 사카타 인쿠스 가부시키가이샤 Black colored composition and black colored resist composition containing the same
KR20190049505A (en) * 2017-10-31 2019-05-09 사카타 인쿠스 가부시키가이샤 Black pigment dispersion composition and black pigment dispersion resist composition containing the same
KR20190106072A (en) * 2018-03-07 2019-09-18 삼성에스디아이 주식회사 Photosensitive resin composition, black pixel defining layer using the same and display device
KR20190106497A (en) 2018-03-09 2019-09-18 동우 화인켐 주식회사 A black photo sensitive resin composition, a color filter comprising a black metrics, a column spacer or a black column spacer prepared by using the composition, and a liquid crystal display device comprising the color filter
KR20190125792A (en) 2018-04-30 2019-11-07 동우 화인켐 주식회사 A method for preparing pigment dispersion composition, the pigment dispersion composition prepared by the same, a colored photo sensitive resin composition comprising the pigment dispersion composition, a color filter comprising the colored photo sensitive resin composition, and a display devide comprising the color filter

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