KR20170081036A - Organic light emitting display panel and organic light emitting display device - Google Patents
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Abstract
본 실시예들은, 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 서브픽셀이 구동 트랜지스터와 제1, 제2 트랜지스터를 포함하여 구성되는 경우, 각 서브픽셀의 구동 트랜지스터의 영역마다 위치하되 구동 트랜지스터의 특정 노드와 연결되는 쇼트 차광 패턴과, 각 서브픽셀 행마다 위치하되 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터와 다수의 제2 트랜지스터의 영역을 지나가면서 형성되거나 다수의 제1 트랜지스터 또는 다수의 제2 트랜지스터의 영역을 지나가면서 형성되어 서브픽셀 행에 배치된 게이트 라인과 넌-액티브 영역에서 연결되는 롱 차광 패턴을 포함하는 차광 패턴 구조를 갖는다. 이를 통해, 트랜지스터 종류별로 바디 효과의 영향을 효과적으로 저감시켜 트랜지스터의 이상 구동 및 화면 이상 현상을 방지해줄 수 있다. The present invention relates to an organic light emitting display panel and an organic light emitting diode (OLED) display device, and more particularly, to a method of driving an organic light emitting display And a plurality of second transistors, each of the plurality of first transistors being located in each subpixel row, the plurality of first transistors being located in each subpixel row, Shielding pattern structure including a transistor or a long-shielding pattern formed across the region of the plurality of second transistors and connected in a non-active region with gate lines arranged in sub-pixel rows. As a result, the effect of the body effect can be effectively reduced for each type of transistor, thereby preventing abnormal driving of the transistor and abnormal screen phenomenon.
Description
본 실시예들은 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치에 관한 것이다. The present embodiments relate to an organic light emitting display panel and an organic light emitting display.
최근, 표시장치로서 각광받고 있는 유기발광표시장치는, 스스로 발광하는 유기발광다이오드(OLED: Organic Light Emitting Diode)를 이용함으로써, 응답속도가 빠르고, 발광효율, 휘도 및 시야각 등이 크다는 장점이 있다. 2. Description of the Related Art Recently, an organic light emitting display device that has been spotlighted as a display device has advantages of high response speed, high luminous efficiency, high brightness, and a wide viewing angle by using an organic light emitting diode (OLED)
이러한 유기발광표시장치의 유기발광표시패널에는 각 서브픽셀 별로 유기발광다이오드 및 각종 트랜지스터가 배치된다. The organic light emitting display panel of the OLED display device includes an organic light emitting diode and various transistors for each subpixel.
유기발광표시패널에서, 트랜지스터 등의 회로 소자는, 구동 시간에 따라 회로 소자가 열화 되어 소자 특성이 변하기도 하지만, 빛(예: 외부 광)에 노출되어 소자 특성이 변하기도 한다. In an organic light emitting display panel, a circuit element such as a transistor may be deteriorated due to deterioration of the circuit element due to driving time, but may be exposed to light (e.g., external light) to change the device characteristics.
전술한 바와 같이, 유기발광표시패널에서 각 회로 소자가 구동 시간에 따라 소자 특성이 변하거나, 외부 광 노출에 의해 소자 특성이 변하는 경우, 비정상적으로 구동을 하여 화면 이상 현상을 발생시킬 수 있다.As described above, when the device characteristics of the circuit elements of the organic light emitting display panel are changed according to the driving time, or when the device characteristics are changed by exposure to external light, the circuit may be abnormally driven to cause a screen abnormal phenomenon.
본 실시예들의 목적은, 서브픽셀 내 트랜지스터의 특성 변화를 줄여주어 트랜지스터의 이상 구동을 방지할 수 있는 차광 패턴 구조를 갖는 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치를 제공하는 데 있다.It is an object of the present embodiments to provide an organic light emitting display panel and an organic light emitting display device having a light shielding pattern structure capable of reducing a change in characteristics of a transistor in a subpixel to prevent abnormal driving of a transistor.
본 실시예들의 다른 목적은, 서브픽셀 내 트랜지스터의 하부에 차광 패턴을 위치시켜, 트랜지스터의 특성 변화를 저감시키면서도, 트랜지스터에서 발생될 수 있는 바디 효과(Body Effect)의 영향을 줄여줄 수 있는 차광 패턴 구조를 갖는 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치를 제공하는 데 있다. Another object of the present embodiments is to provide a light emitting device capable of reducing the influence of a body effect that may be generated in a transistor while reducing a change in characteristics of a transistor by placing a light shielding pattern in a lower portion of the transistor in the sub- And an organic light emitting diode (OLED) display device.
본 실시예들의 또 다른 목적은, 서브픽셀 내 트랜지스터의 종류별로 차광 패턴의 형태 및 연결 위치를 다르게 하여, 바디 효과(Body Effect)의 영향을 효과적으로 줄여주고, 이를 통해, 화상 이상 현상을 방지해줄 수 있는 차광 패턴 구조를 갖는 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치를 제공하는 데 있다. It is still another object of the present embodiments to provide an image display device capable of effectively reducing the influence of a body effect by changing the shape of a light shielding pattern and the connection position for each type of transistor in a sub pixel, An organic light emitting display panel having a light-shielding pattern structure and an organic light emitting display device.
본 실시예들의 또 다른 목적은, 서브픽셀이 구동 트랜지스터와 동일 게이트 라인에 연결된 제1, 제2 트랜지스터를 포함하여 구성되는 경우, 구동 트랜지스터의 영역에 쇼트 차광 패턴과 제1, 제2 트랜지스터의 영역에 롱 차광 패턴(들)을 포함하는 차광 패턴 구조를 가짐으로써, 트랜지스터 종류별로 이상 구동 현상을 효과적으로 방지해줄 수 있는 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치를 제공하는 데 있다. It is a further object of the present embodiments to provide a method of driving a plasma display panel in which when a subpixel includes first and second transistors connected to the same gate line as the driving transistor, Emitting display panel and an organic light-emitting display device capable of effectively preventing an abnormal driving phenomenon according to a transistor type by having a light-shielding pattern structure including a long light-shielding pattern (s).
본 실시예들의 또 다른 목적은, 개구율을 높일 수 있는 차광 패턴 구조를 갖는 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치를 제공하는 데 있다. It is another object of the present embodiments to provide an organic light emitting display panel and an organic light emitting display device having a light shielding pattern structure capable of increasing an aperture ratio.
일 측면에서, 본 실시예들은, 다수의 데이터 라인 및 다수의 게이트 라인에 의해 정의되는 다수의 서브픽셀이 매트릭스 타입으로 배열된 유기발광표시패널과, 다수의 데이터 라인을 구동하는 데이터 드라이버와, 다수의 게이트 라인을 구동하는 게이트 드라이버를 포함하는 유기발광표시장치를 제공할 수 있다. In one aspect, the embodiments provide an organic light emitting display panel in which a plurality of subpixels defined by a plurality of data lines and a plurality of gate lines are arranged in a matrix type, a data driver for driving a plurality of data lines, And a gate driver for driving a gate line of the organic light emitting display device.
이러한 유기발광표시장치에서, 각 서브픽셀은, 유기발광다이오드와, 유기발광다이오드를 구동하는 구동 트랜지스터와, 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 스캔신호에 의해 제어되며 구동 트랜지스터의 제1 노드와 데이터 라인 사이에 전기적으로 연결된 제1 트랜지스터와, 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 스캔신호에 의해 제어되며 구동 트랜지스터의 제2 노드와 기준 전압 라인 사이에 전기적으로 연결된 제2 트랜지스터와, 구동 트랜지스터의 제1 노드와 제2 노드 사이에 전기적으로 연결된 스토리지 캐패시터를 포함하여 구성될 수 있다. In such an OLED display device, each sub-pixel includes an organic light emitting diode, a driving transistor for driving the organic light emitting diode, and a scan signal applied to the gate node through the gate line, A second transistor electrically connected between the second node of the driving transistor and the reference voltage line, the second transistor being controlled by a scan signal applied to the gate node through the gate line; And a storage capacitor electrically connected between the first node and the second node.
이러한 유기발광표시장치에서는, 각 서브픽셀의 구동 트랜지스터의 영역마다 쇼트 차광 패턴이 위치할 수 있다. In such an organic light emitting display device, a short shielding pattern may be located in each driving transistor region of each subpixel.
이러한 쇼트 차광 패턴은 해당 구동 트랜지스터의 제2 노드와 전기적으로 연결될 수 있다. Such a short shielding pattern can be electrically connected to the second node of the corresponding driving transistor.
또한, 유기발광표시장치에서는, 각 서브픽셀 행마다 1개의 롱 차광 패턴이 행 방향으로 위치한다. 본 명세서에서, 행(Row) 방향은 설명의 편의를 위해 기재한 기준 방향으로서, 보기에 따라서는, 행 방향을 열(Column) 방향으로 보아도 무방하다. Further, in the organic light emitting diode display device, one long light shielding pattern for each subpixel row is located in the row direction. In this specification, the row direction is a reference direction described for the sake of convenience of explanation, and the row direction may be viewed in the column direction in some cases.
이러한 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터의 영역과 다수의 제2 트랜지스터의 영역을 지나가면서 위치할 수 있다. The long shading pattern may be located across a plurality of first transistor regions and a plurality of second transistor regions located in a corresponding subpixel row.
또한, 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 모든 제1 트랜지스터의 게이트 노드와 모든 제2 트랜지스터의 게이트 노드에 공통으로 연결된 게이트 라인과 넌-액티브 영역에서 전기적으로 연결될 수 있다. In addition, the long light-shielding pattern can be electrically connected in the non-active region with gate lines commonly connected to gate nodes of all the first transistors and gate nodes of all the second transistors located in corresponding subpixel rows.
다른 측면에서, 본 실시예들은, 다수의 데이터 라인과, 다수의 게이트 라인과, 다수의 데이터 라인 및 다수의 게이트 라인에 의해 정의되고 매트릭스 타입으로 배열된 다수의 서브픽셀을 포함하는 유기발광표시패널을 제공할 수 있다. In another aspect, the present embodiments relate to an organic light emitting display panel including a plurality of data lines, a plurality of gate lines, a plurality of data lines, and a plurality of sub-pixels arranged in a matrix type, Can be provided.
이러한 유기발광표시패널에서 각 서브픽셀에는, 유기발광다이오드와, 유기발광다이오드를 구동하는 구동 트랜지스터와, 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 스캔신호에 의해 제어되며, 구동 트랜지스터의 제1 노드와 데이터 라인 사이에 전기적으로 연결된 제1 트랜지스터와, 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 스캔신호에 의해 제어되며, 구동 트랜지스터의 제2 노드와 기준 전압 라인 사이에 전기적으로 연결된 제2 트랜지스터와, 구동 트랜지스터의 제1 노드와 제2 노드 사이에 전기적으로 연결된 스토리지 캐패시터가 배치될 수 있다. Each subpixel in the organic light emitting display panel is controlled by an organic light emitting diode, a driving transistor for driving the organic light emitting diode, and a scan signal applied to a gate node through a gate line, A second transistor electrically connected between the second node of the driving transistor and the reference voltage line, the second transistor being controlled by a scan signal applied to the gate node through the gate line, A storage capacitor electrically connected between the first node and the second node may be disposed.
이러한 유기발광표시패널에는, 각 서브픽셀의 구동 트랜지스터의 영역마다 쇼트 차광 패턴이 위치할 수 있다. In such an organic light emitting display panel, a short shielding pattern may be placed in each driving transistor region of each subpixel.
이러한 쇼트 차광 패턴은 해당 구동 트랜지스터의 제2 노드와 전기적으로 연결될 수 있다. Such a short shielding pattern can be electrically connected to the second node of the corresponding driving transistor.
또한, 유기발광표시패널에는, 각 서브픽셀 행마다 1개의 롱 차광 패턴이 행 방향으로 위치할 수 있다. Further, in the organic light emitting display panel, one long light shielding pattern may be positioned in the row direction for each subpixel row.
이러한 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터의 영역과 다수의 제2 트랜지스터의 영역을 지나가면서 위치할 수 있다. The long shading pattern may be located across a plurality of first transistor regions and a plurality of second transistor regions located in a corresponding subpixel row.
또한, 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 모든 제1 트랜지스터의 게이트 노드와 모든 제2 트랜지스터의 게이트 노드에 공통으로 연결된 게이트 라인과 넌-액티브 영역에서 전기적으로 연결될 수 있다. In addition, the long light-shielding pattern can be electrically connected in the non-active region with gate lines commonly connected to gate nodes of all the first transistors and gate nodes of all the second transistors located in corresponding subpixel rows.
또 다른 측면에서, 본 실시예들은, 다수의 데이터 라인 및 다수의 게이트 라인에 의해 정의되는 다수의 서브픽셀이 매트릭스 타입으로 배열된 유기발광표시패널과, 다수의 데이터 라인을 구동하는 데이터 드라이버와, 다수의 게이트 라인을 구동하는 게이트 드라이버를 포함하는 유기발광표시장치를 제공할 수 있다. According to another aspect of the present invention, there is provided an organic light emitting diode display panel including a plurality of data lines, An organic light emitting display device including a gate driver for driving a plurality of gate lines can be provided.
이러한 유기발광표시장치에서, 각 서브픽셀은, 유기발광다이오드와, 유기발광다이오드를 구동하는 구동 트랜지스터와, 제1 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 제1 스캔신호에 의해 제어되며, 구동 트랜지스터의 제1 노드와 데이터 라인 사이에 전기적으로 연결된 제1 트랜지스터와, 제2 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 제2 스캔신호에 의해 제어되며, 구동 트랜지스터의 제2 노드와 기준 전압 라인 사이에 전기적으로 연결된 제2 트랜지스터와, 구동 트랜지스터의 제1 노드와 제2 노드 사이에 전기적으로 연결된 스토리지 캐패시터를 포함하여 구성될 수 있다. In such an organic light emitting display, each sub-pixel is controlled by an organic light emitting diode, a driving transistor for driving the organic light emitting diode, and a first scan signal applied to the gate node through the first gate line, A first transistor electrically connected between the first node and the data line and a second scan signal applied to the gate node through the second gate line and electrically connected between the second node of the drive transistor and the reference voltage line, And a storage capacitor electrically connected between the first node and the second node of the driving transistor.
이러한 유기발광표시장치에서는, 각 서브픽셀의 구동 트랜지스터의 영역마다 쇼트 차광 패턴이 위치할 수 있다. In such an organic light emitting display device, a short shielding pattern may be located in each driving transistor region of each subpixel.
이러한 쇼트 차광 패턴은 해당 구동 트랜지스터의 제2 노드와 전기적으로 연결될 수 있다. Such a short shielding pattern can be electrically connected to the second node of the corresponding driving transistor.
또한, 유기발광표시장치에서는, 각 서브픽셀 행마다 제1 롱 차광 패턴과 제2 롱 차광 패턴이 행 방향으로 위치할 수 있다. Further, in the organic light emitting display device, the first long light shielding pattern and the second long light shielding pattern may be positioned in the row direction for each subpixel row.
이러한 제1 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터의 영역을 지나가면서 위치하며, 제2 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제2 트랜지스터의 영역을 지나가면서 위치할 수 있다. The first long light-shielding pattern is located passing through a plurality of first transistor regions located in a corresponding subpixel row, and the second long light-shielding pattern is located passing through a plurality of second transistor regions located in the corresponding subpixel row .
제1 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 모든 제1 트랜지스터의 게이트 노드에 연결된 제1 게이트 라인과 넌-액티브 영역에서 전기적으로 연결될 수 있다. The first long light shielding pattern may be electrically connected in the non-active region with the first gate line connected to the gate node of all the first transistors located in the subpixel row.
또한, 제2 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 모든 제2 트랜지스터의 게이트 노드에 연결된 제2 게이트 라인과 넌-액티브 영역에서 전기적으로 연결될 수 있다. Also, the second long-shielding pattern may be electrically connected to the second gate line connected to the gate node of all the second transistors located in the subpixel row in the non-active region.
또 다른 측면에서, 본 실시예들은, 다수의 데이터 라인과, 다수의 게이트 라인과, 다수의 데이터 라인 및 다수의 게이트 라인에 의해 정의되고 매트릭스 타입으로 배열된 다수의 서브픽셀을 포함하는 유기발광표시패널을 제공할 수 있다. In yet another aspect, the present embodiments provide an organic light emitting display comprising a plurality of data lines, a plurality of gate lines, a plurality of data lines and a plurality of sub-pixels arranged in a matrix type, Panel can be provided.
이러한 유기발광표시패널에서 각 서브픽셀에는, 유기발광다이오드와, 유기발광다이오드를 구동하는 구동 트랜지스터와, 제1 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 제1 스캔신호에 의해 제어되며, 구동 트랜지스터의 제1 노드와 데이터 라인 사이에 전기적으로 연결된 제1 트랜지스터와, 제2 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 제2 스캔신호에 의해 제어되며, 구동 트랜지스터의 제2 노드와 기준 전압 라인 사이에 전기적으로 연결된 제2 트랜지스터와, 구동 트랜지스터의 제1 노드와 제2 노드 사이에 전기적으로 연결된 스토리지 캐패시터가 배치될 수 있다. Each subpixel in the organic light emitting display panel is controlled by an organic light emitting diode, a driving transistor for driving the organic light emitting diode, and a first scan signal applied to the gate node through the first gate line, A first transistor electrically connected between the first node and the data line and a second scan signal applied to the gate node through the second gate line and electrically connected between the second node of the drive transistor and the reference voltage line A storage capacitor electrically connected between the second transistor and the first node and the second node of the driving transistor may be disposed.
이러한 유기발광표시패널에서는, 각 서브픽셀의 구동 트랜지스터의 영역마다 쇼트 차광 패턴이 위치할 수 있다. In such an organic light emitting display panel, a short shielding pattern may be located in each driving transistor region of each subpixel.
이러한 쇼트 차광 패턴은 해당 구동 트랜지스터의 제2 노드와 전기적으로 연결될 수 있다. Such a short shielding pattern can be electrically connected to the second node of the corresponding driving transistor.
또한, 이러한 유기발광표시패널에서는, 각 서브픽셀 행마다 제1 롱 차광 패턴과 제2 롱 차광 패턴이 행 방향으로 위치할 수 있다. In this organic light emitting display panel, the first long-shielding pattern and the second long-shielding pattern may be located in the row direction for each subpixel row.
제1 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터의 영역을 지나가면서 위치할 수 있다. The first long-light-shielding pattern may be positioned passing through a plurality of regions of the first transistors located in corresponding subpixel rows.
제2 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제2 트랜지스터의 영역을 지나가면서 위치할 수 있다. And the second long-shielding pattern may be located passing through the area of the plurality of second transistors located in the corresponding subpixel row.
제1 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 모든 제1 트랜지스터의 게이트 노드에 연결된 제1 게이트 라인과 넌-액티브 영역에서 전기적으로 연결될 수 있다. The first long light shielding pattern may be electrically connected in the non-active region with the first gate line connected to the gate node of all the first transistors located in the subpixel row.
제2 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 모든 제2 트랜지스터의 게이트 노드에 연결된 제2 게이트 라인과 넌-액티브 영역에서 전기적으로 연결될 수 있다. And the second long light shielding pattern may be electrically connected to the second gate line connected to the gate node of all the second transistors located in the subpixel row in the non-active region.
이상에서 설명한 바와 같은 본 실시예들에 의하면, 서브픽셀 내 트랜지스터의 특성 변화를 줄여주어 트랜지스터의 이상 구동을 방지할 수 있는 차광 패턴 구조를 갖는 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치를 제공할 수 있다.According to the exemplary embodiments of the present invention described above, it is possible to provide an organic light emitting display panel and an OLED display device having a light-shielding pattern structure capable of reducing a change in characteristics of a transistor in a sub- .
또한, 본 실시예들에 의하면, 서브픽셀 내 트랜지스터의 하부에 차광 패턴을 위치시켜, 트랜지스터의 특성 변화를 저감시키면서도, 트랜지스터에서 발생될 수 있는 바디 효과(Body Effect)의 영향을 줄여줄 수 있는 차광 패턴 구조를 갖는 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치를 제공할 수 있다.In addition, according to the embodiments, a light-shielding pattern can be placed under the transistor in the sub-pixel to reduce variations in characteristics of the transistor, and a light-shielding effect that can reduce the influence of a body effect, An organic light emitting display panel having a pattern structure and an organic light emitting display device can be provided.
또한, 본 실시예들에 의하면, 서브픽셀 내 트랜지스터의 종류별로 차광 패턴의 형태 및 연결 위치를 다르게 하여, 바디 효과(Body Effect)의 영향을 효과적으로 줄여주고, 이를 통해, 화상 이상 현상을 방지해줄 수 있는 차광 패턴 구조를 갖는 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치를 제공할 수 있다.In addition, according to the embodiments, the shape of the light-shielding pattern and the connection position are different depending on the type of transistor in the sub-pixel, thereby effectively reducing the influence of the body effect, An organic light emitting display panel having a light-shielding pattern structure and an organic light emitting display device can be provided.
또한, 본 실시예들에 의하면, 서브픽셀이 구동 트랜지스터와 동일 게이트 라인에 연결된 제1, 제2 트랜지스터를 포함하여 구성되는 경우, 구동 트랜지스터의 영역에 쇼트 차광 패턴과 제1, 제2 트랜지스터의 영역에 롱 차광 패턴(들)을 포함하는 차광 패턴 구조를 가짐으로써, 트랜지스터 종류별로 이상 구동 현상을 효과적으로 방지해줄 수 있는 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치를 제공할 수 있다. In addition, according to the present embodiments, when the sub-pixel includes the first transistor and the second transistor connected to the same gate line as the driving transistor, a region where the short-shielding pattern and the regions of the first and second transistors The organic light emitting display panel and the organic light emitting display device capable of effectively preventing the abnormal driving phenomenon according to the transistor type can be provided by having the light shielding pattern structure including the long light shielding pattern (s).
또한, 본 실시예들에 의하면, 개구율을 높일 수 있는 차광 패턴 구조를 갖는 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치를 제공할 수 있다.In addition, according to the embodiments, an organic light emitting display panel and an organic light emitting display device having a light shielding pattern structure capable of increasing the aperture ratio can be provided.
도 1은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치의 시스템 구성도이다.
도 2 및 도 3은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치의 서브픽셀 구조의 예시도들이다.
도 4는 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치에서, 빛에 의해 트랜지스터의 특성치가 변화하는 현상을 방지하기 위하여, 차광 패턴을 트랜지스터의 하부에 형성한 것을 나타낸 도면이다.
도 5는 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치에서 각 서브픽셀의 회로 영역에 형성된 차광 패턴과, 차광 패턴이 형성된 서브픽셀의 등가회로이다.
도 6은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치에서, 구동 트랜지스터의 동작 특성을 개선하기 위해, 차광 패턴을 구동 트랜지스터의 제2 노드에 연결한 싱글 차광 패턴 구조를 나타낸 도면이다.
도 7 및 도 8은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치에서, 싱글 차광 패턴 구조에 의해 발생할 수 있는 이상 구동 현상을 설명하기 위한 도면이다.
도 9 내지 도 11은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치의 각 서브픽셀이 1 스캔 구조를 갖는 경우, 이상 구동 현상을 방지하기 위한 더블 차광 패턴 구조를 나타낸 도면이다.
도 12는 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치의 각 서브픽셀이 1 스캔 구조를 갖는 경우, 더블 차광 패턴 구조에서, 롱 차광 패턴을 개략화하여 나타낸 도면이다.
도 13은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치의 각 서브픽셀이 1 스캔 구조를 갖는 경우, 더블 차광 패턴 구조에서, 롱 차광 패턴과 게이트 라인의 배치 구조를 나타낸 도면이다.
도 14 및 도 15는 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치의 각 서브픽셀이 1 스캔 구조를 갖는 경우, 더블 차광 패턴 구조에서, 롱 차광 패턴과 게이트 라인 간의 연결 구조를 나타낸 도면이다.
도 16 내지 도 18은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치의 각 서브픽셀이 2 스캔 구조를 갖는 경우, 이상 구동 현상을 방지하기 위한 트리플 차광 패턴 구조를 나타낸 도면이다.
도 19는 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치의 각 서브픽셀이 2 스캔 구조를 갖는 경우, 트리플 차광 패턴 구조에서, 제1 롱 차광 패턴 및 제2 롱 차광 패턴을 개략화하여 나타낸 도면이다.
도 20은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치의 각 서브픽셀이 2 스캔 구조를 갖는 경우, 트리플 차광 패턴 구조에서, 제1 롱 차광 패턴 및 제1 게이트 라인 간의 배치 구조와, 제2 롱 차광 패턴 및 제2 게이트 라인 간의 배치 구조를 나타낸 도면이다.
도 21 및 도 22는 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치의 각 서브픽셀이 2 스캔 구조를 갖는 경우, 트리플 차광 패턴 구조에서, 제1 롱 차광 패턴 및 제1 게이트 라인 간의 연결 구조와, 제2 롱 차광 패턴 및 제2 게이트 라인 간의 연결 구조를 나타낸 도면이다. 1 is a system configuration diagram of an organic light emitting display according to the present embodiments.
FIGS. 2 and 3 are exemplary views of a sub-pixel structure of an organic light emitting display according to the present embodiments.
FIG. 4 is a view illustrating a light blocking pattern formed below a transistor in order to prevent the characteristic value of the transistor from changing due to light in the organic light emitting display according to the present embodiments.
5 is an equivalent circuit of a light-shielding pattern formed in a circuit region of each subpixel and a subpixel in which a light-shielding pattern is formed in the organic light emitting display according to the present embodiments.
6 is a diagram illustrating a structure of a single light-shielding pattern in which a light-shielding pattern is connected to a second node of the driving transistor in order to improve the operating characteristics of the driving transistor in the organic light emitting display according to the present embodiments.
FIGS. 7 and 8 are views for explaining an abnormal driving phenomenon that may be caused by the single light-shielding pattern structure in the organic light emitting diode display according to the present embodiments.
FIGS. 9 to 11 are diagrams illustrating a double light-shielding pattern structure for preventing abnormal driving phenomenon when each sub-pixel of the organic light emitting display according to the present embodiments has a one-scan structure.
FIG. 12 is a diagram schematically illustrating a long-light-shielding pattern in a double-shielding pattern structure when each subpixel of the organic light emitting display according to the present embodiments has a one-scan structure.
FIG. 13 is a diagram showing a layout structure of a long-shielding pattern and a gate line in a double-shielding pattern structure when each subpixel of the organic light emitting display according to the present embodiments has a one-scan structure.
FIGS. 14 and 15 are views showing a connection structure between a long-shielding pattern and a gate line in a double-shielding pattern structure when each subpixel of the organic light emitting display according to the present embodiments has a one-scan structure.
FIGS. 16 to 18 are diagrams illustrating a triple shielding pattern structure for preventing an abnormal driving phenomenon when each subpixel of the organic light emitting display according to the present embodiments has a two-scan structure.
FIG. 19 is a diagram schematically showing a first long light-shielding pattern and a second long light-shielding pattern in a triple light-shielding pattern structure when each sub-pixel of the organic light emitting display according to the present embodiment has a two-scan structure.
20 is a diagram illustrating a structure in which, in a triple-light-shielding pattern structure, each subpixel of the organic light emitting display according to the present embodiment has a two-scan structure, a layout structure between a first long-shielding pattern and a first gate line, Pattern and the second gate line.
21 and 22 are diagrams for explaining the connection structure between the first long-shielding pattern and the first gate line and the connection structure between the first long-shielding pattern and the first gate line in the triple shielding pattern structure when each subpixel of the OLED display according to the present embodiments has a two- 2 long shielding pattern and the second gate line.
이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 수 있다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail with reference to exemplary drawings. In the drawings, like reference numerals are used to denote like elements throughout the drawings, even if they are shown on different drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.
또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 다른 구성 요소가 "개재"되거나, 각 구성 요소가 다른 구성 요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In describing the components of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are intended to distinguish the components from other components, and the terms do not limit the nature, order, order, or number of the components. When a component is described as being "connected", "coupled", or "connected" to another component, the component may be directly connected or connected to the other component, Quot; intervening "or that each component may be" connected, "" coupled, "or " connected" through other components.
도 1은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)의 시스템 구성도이다. FIG. 1 is a system configuration diagram of an organic light emitting
도 1을 참조하면, 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)는, 다수의 데이터 라인(DL) 및 다수의 게이트 라인(GL)이 배치되고, 다수의 서브픽셀(SP: Sub Pixel)이 배치된 유기발광표시패널(110)과, 다수의 데이터 라인(DL)을 구동하는 데이터 드라이버(120)와, 다수의 게이트 라인(GL)을 구동하는 게이트 드라이버(130)와, 데이터 드라이버(120) 및 게이트 드라이버(130)를 제어하는 컨트롤러(140) 등을 포함한다. 1, the
컨트롤러(140)는, 데이터 드라이버(120) 및 게이트 드라이버(130)로 각종 제어신호를 공급하여, 데이터 드라이버(120) 및 게이트 드라이버(130)를 제어한다. The
이러한 컨트롤러(140)는, 각 프레임에서 구현하는 타이밍에 따라 스캔을 시작하고, 외부에서 입력되는 입력 영상 데이터를 데이터 드라이버(120)에서 사용하는 데이터 신호 형식에 맞게 전환하여 전환된 영상 데이터를 출력하고, 스캔에 맞춰 적당한 시간에 데이터 구동을 통제한다. The
이러한 컨트롤러(140)는 통상의 디스플레이 기술에서 이용되는 타이밍 컨트롤러(Timing Controller)이거나, 타이밍 컨트롤러(Timing Controller)를 포함하여 다른 제어 기능도 더 수행하는 제어장치일 수 있다. The
데이터 드라이버(120)는, 다수의 데이터 라인(DL)으로 데이터 전압을 공급함으로써, 다수의 데이터 라인(DL)을 구동한다. 여기서, 데이터 드라이버(120)는 '소스 드라이버'라고도 한다. The
게이트 드라이버(130)는, 다수의 게이트 라인(GL)으로 스캔 신호를 순차적으로 공급함으로써, 다수의 게이트 라인(GL)을 순차적으로 구동한다. 여기서, 게이트 드라이버(130)는 '스캔 드라이버'라고도 한다. The
게이트 드라이버(130)는, 컨트롤러(140)의 제어에 따라, 온(On) 전압 또는 오프(Off) 전압의 스캔 신호를 다수의 게이트 라인(GL)으로 순차적으로 공급한다. The
데이터 드라이버(120)는, 게이트 드라이버(130)에 의해 특정 게이트 라인이 열리면, 컨트롤러(140)로부터 수신한 영상 데이터를 아날로그 형태의 데이터 전압으로 변환하여 다수의 데이터 라인(DL)으로 공급한다. When a specific gate line is opened by the
데이터 드라이버(120)는, 도 1에서는 유기발광표시패널(110)의 일측(예: 상측 또는 하측)에만 위치하고 있으나, 구동 방식, 패널 설계 방식 등에 따라서, 유기발광표시패널(110)의 양측(예: 상측과 하측)에 모두 위치할 수도 있다. 1, the
게이트 드라이버(130)는, 도 1에서는 유기발광표시패널(110)의 일 측(예: 좌측 또는 우측)에만 위치하고 있으나, 구동 방식, 패널 설계 방식 등에 따라서, 유기발광표시패널(110)의 양측(예: 좌측과 우측)에 모두 위치할 수도 있다. 1, the
전술한 컨트롤러(140)는, 입력 영상 데이터와 함께, 수직 동기 신호(Vsync), 수평 동기 신호(Hsync), 입력 데이터 인에이블(DE: Data Enable) 신호, 클럭 신호(CLK) 등을 포함하는 각종 타이밍 신호들을 외부(예: 호스트 시스템)로부터 수신한다. The
컨트롤러(140)는, 외부로부터 입력된 입력 영상 데이터를 데이터 드라이버(120)에서 사용하는 데이터 신호 형식에 맞게 전환하여 전환된 영상 데이터를 출력하는 것 이외에, 데이터 드라이버(120) 및 게이트 드라이버(130)를 제어하기 위하여, 수직 동기 신호(Vsync), 수평 동기 신호(Hsync), 입력 DE 신호, 클럭 신호 등의 타이밍 신호를 입력 받아, 각종 제어 신호들을 생성하여 데이터 드라이버(120) 및 게이트 드라이버(130)로 출력한다. The
예를 들어, 컨트롤러(140)는, 게이트 드라이버(130)를 제어하기 위하여, 게이트 스타트 펄스(GSP: Gate Start Pulse), 게이트 쉬프트 클럭(GSC: Gate Shift Clock), 게이트 출력 인에이블 신호(GOE: Gate Output Enable) 등을 포함하는 각종 게이트 제어 신호(GCS: Gate Control Signal)를 출력한다. For example, in order to control the
여기서, 게이트 스타트 펄스(GSP)는 게이트 드라이버(130)를 구성하는 하나 이상의 게이트 드라이버 집적회로의 동작 스타트 타이밍을 제어한다. 게이트 쉬프트 클럭(GSC)은 하나 이상의 게이트 드라이버 집적회로에 공통으로 입력되는 클럭 신호로서, 스캔 신호(게이트 펄스)의 쉬프트 타이밍을 제어한다. 게이트 출력 인에이블 신호(GOE)는 하나 이상의 게이트 드라이버 집적회로의 타이밍 정보를 지정하고 있다. Here, the gate start pulse GSP controls the operation start timing of one or more gate driver integrated circuits constituting the
또한, 컨트롤러(140)는, 데이터 드라이버(120)를 제어하기 위하여, 소스 스타트 펄스(SSP: Source Start Pulse), 소스 샘플링 클럭(SSC: Source Sampling Clock), 소스 출력 인에이블 신호(SOE: Source Output Enable) 등을 포함하는 각종 데이터 제어 신호(DCS: Data Control Signal)를 출력한다. In order to control the
여기서, 소스 스타트 펄스(SSP)는 데이터 드라이버(120)를 구성하는 하나 이상의 소스 드라이버 집적회로의 데이터 샘플링 시작 타이밍을 제어한다. 소스 샘플링 클럭(SSC)은 소스 드라이버 집적회로 각각에서 데이터의 샘플링 타이밍을 제어하는 클럭 신호이다. 소스 출력 인에이블 신호(SOE)는 데이터 드라이버(120)의 출력 타이밍을 제어한다. Here, the source start pulse SSP controls the data sampling start timing of one or more source driver integrated circuits constituting the
데이터 드라이버(120)는, 적어도 하나의 소스 드라이버 집적회로(SDIC: Source Driver Integrated Circuit)를 포함하여 다수의 데이터 라인을 구동할 수 있다. The
각 소스 드라이버 집적회로(SDIC)는, 테이프 오토메티드 본딩(TAB: Tape Automated Bonding) 방식 또는 칩 온 글래스(COG: Chip On Glass) 방식으로 유기발광표시패널(110)의 본딩 패드(Bonding Pad)에 연결되거나, 유기발광표시패널(110)에 직접 배치될 수도 있으며, 경우에 따라서, 유기발광표시패널(110)에 집적화되어 배치될 수도 있다. 또한, 각 소스 드라이버 집적회로(SDIC)는, 유기발광표시패널(110)에 연결된 필름 상에 실장 되는 칩 온 필름(COF: Chip On Film) 방식으로 구현될 수도 있다. Each source driver integrated circuit (SDIC) is connected to a bonding pad of the organic light emitting
각 소스 드라이버 집적회로(SDIC)는, 쉬프트 레지스터(Shift Register), 래치 회로(Latch Circuit), 디지털 아날로그 컨버터(DAC: Digital to Analog Converter), 출력 버퍼(Output Buffer) 등을 포함할 수 있다. Each source driver integrated circuit (SDIC) may include a shift register, a latch circuit, a digital to analog converter (DAC), an output buffer, and the like.
각 소스 드라이버 집적회로(SDIC)는, 경우에 따라서, 아날로그 디지털 컨버터(ADC: Analog to Digital Converter)를 더 포함할 수 있다. Each source driver integrated circuit (SDIC) may further include an analog to digital converter (ADC), as the case may be.
게이트 드라이버(130)는, 적어도 하나의 게이트 드라이버 집적회로(GDIC: Gate Driver Integrated Circuit)를 포함할 수 있다. The
각 게이트 드라이버 집적회로(GDIC)는, 테이프 오토메티드 본딩(TAB) 방식 또는 칩 온 글래스(COG) 방식으로 유기발광표시패널(110)의 본딩 패드(Bonding Pad)에 연결되거나, GIP(Gate In Panel) 타입으로 구현되어 유기발광표시패널(110)에 직접 배치될 수도 있으며, 경우에 따라서, 유기발광표시패널(110)에 집적화되어 배치될 수도 있다. 또한, 각 게이트 드라이버 집적회로(GDIC)는 유기발광표시패널(110)과 연결된 필름 상에 실장 되는 칩 온 필름(COF) 방식으로 구현될 수도 있다. Each gate driver integrated circuit GDIC may be connected to a bonding pad of the organic light emitting
각 게이트 드라이버 집적회로(GDIC)는 쉬프트 레지스터(Shift Register), 레벨 쉬프터(Level Shifter) 등을 포함할 수 있다. Each gate driver IC (GDIC) may include a shift register, a level shifter, and the like.
본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)는 적어도 하나의 소스 드라이버 집적회로(SDIC)에 대한 회로적인 연결을 위해 필요한 적어도 하나의 소스 인쇄회로기판(S-PCB: Source Printed Circuit Board)과 제어 부품들과 각종 전기 장치들을 실장 하기 위한 컨트롤 인쇄회로기판(C-PCB: Control Printed Circuit Board)을 포함할 수 있다. The
적어도 하나의 소스 인쇄회로기판(S-PCB)에는, 적어도 하나의 소스 드라이버 집적회로(SDIC)가 실장 되거나, 적어도 하나의 소스 드라이버 집적회로(SDIC)가 실장 된 필름이 연결될 수 있다. At least one source driver integrated circuit (SDIC) may be mounted on at least one source printed circuit board (S-PCB), or a film on which at least one source driver integrated circuit (SDIC) is mounted may be connected.
컨트롤 인쇄회로기판(C-PCB)에는, 데이터 드라이버(120) 및 게이트 드라이버(130) 등의 동작을 제어하는 컨트롤러(140)와, 유기발광표시패널(110), 데이터 드라이버(120) 및 게이트 드라이버(130) 등으로 각종 전압 또는 전류를 공급해주거나 공급할 각종 전압 또는 전류를 제어하는 전원 컨트롤러 등이 실장 될 수 있다. The control printed circuit board (C-PCB) is provided with a
적어도 하나의 소스 인쇄회로기판(S-PCB)과 컨트롤 인쇄회로기판(C-PCB)은 적어도 하나의 연결 부재를 통해 회로적으로 연결될 수 있다. The at least one source printed circuit board (S-PCB) and the control printed circuit board (C-PCB) may be circuitly connected via at least one connecting member.
여기서, 연결 부재는 가요성 인쇄 회로(FPC: Flexible Printed Circuit), 가요성 플랫 케이블(FFC: Flexible Flat Cable) 등일 수 있다. Here, the connecting member may be a flexible printed circuit (FPC), a flexible flat cable (FFC), or the like.
적어도 하나의 소스 인쇄회로기판(S-PCB)과 컨트롤 인쇄회로기판(C-PCB)은 하나의 인쇄회로기판으로 통합되어 구현될 수도 있다. At least one source printed circuit board (S-PCB) and a control printed circuit board (C-PCB) may be integrated into one printed circuit board.
유기발광표시패널(110)에 배치되는 각 서브픽셀(SP)은 트랜지스터 등의 회로 소자를 포함하여 구성될 수 있다. Each sub-pixel SP disposed in the organic light emitting
일 예로, 유기발광표시패널(110)이 유기발광표시패널인 경우, 각 서브픽셀(SP)은 유기발광다이오드(OLED: Organic Light Emitting Diode)와, 이를 구동하기 위한 구동 트랜지스터(Driving Transistor) 등의 회로 소자로 구성되어 있다. For example, when the organic light emitting
각 서브픽셀(SP)을 구성하는 회로 소자의 종류 및 개수는, 제공 기능 및 설계 방식 등에 따라 다양하게 정해질 수 있다.The types and the number of the circuit elements constituting each subpixel SP can be variously determined depending on the providing function, the design method, and the like.
도 2 및 도 3은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)의 서브픽셀 구조의 예시도들이다. 2 and 3 are exemplary views of the sub-pixel structure of the
도 2 및 도 3을 참조하면, 유기발광표시패널(110)에 배열된 각 서브픽셀(SP)은, 유기발광다이오드(OLED: Organic Light Emitting Diode)와, 유기발광다이오드(OLED)를 구동하는 구동 트랜지스터(DT: Driving Transistor)와, 제1 스캔신호(SCAN1)에 의해 제어되며 구동 트랜지스터(DT)의 제1 노드(N1)와 데이터 라인(DL: Data Line) 사이에 전기적으로 연결된 제1 트랜지스터(T1)와, 제2 스캔신호(SCAN2)에 의해 제어되며 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)와 기준 전압 라인(RVL: Reference Voltage Line) 사이에 전기적으로 결된 제2 트랜지스터(T2)와, 구동 트랜지스터(DT)의 제1 노드(N1)와 제2 노드(N2) 사이에 전기적으로 연결된 스토리지 캐패시터(C1)를 포함하여 구성될 수 있다. 2 and 3, each of the sub-pixels SP arranged in the organic light emitting
도 2 및 도 3에서와 같이, 하나의 서브픽셀(SP)이 3개의 트랜지스터(DT, T1, T2)와 1개의 캐패시터(C1)를 포함하여 구성되는 구조를 3T(Transistor)1C(Capacitor) 구조라고 한다. As shown in FIGS. 2 and 3, a structure in which one subpixel SP includes three transistors DT, T1, and T2 and one capacitor C1 is referred to as a 3T (Capacitor) .
유기발광다이오드(OLED)는 제1전극(예: 애노드 전극), 유기층 및 제2전극(예: 캐소드 전극) 등으로 이루어질 수 있다. The organic light emitting diode OLED may include a first electrode (e.g., an anode electrode), an organic layer, and a second electrode (e.g., a cathode electrode).
구동 트랜지스터(DT)는, 유기발광다이오드(OLED)를 구동하는 구동 트랜지스터로서, 유기발광다이오드(OLED)로 구동 전류를 공급해줌으로써 유기발광다이오드(OLED)를 구동한다.The driving transistor DT is a driving transistor for driving the organic light emitting diode OLED and supplies driving current to the organic light emitting diode OLED to drive the organic light emitting diode OLED.
이러한 구동 트랜지스터(DT)에서, 제1 노드(N1)는 제1 트랜지스터(T1)의 소스 노드 또는 드레인 노드와 전기적으로 연결될 수 있으며, 게이트 노드일 수 있다. 제2 노드(N2)는 유기발광다이오드(OLED)의 제1전극 및 제2 트랜지스터(T2)의 소스 노드 또는 드레인 노드와 전기적으로 연결될 수 있으며, 소스 노드 또는 드레인 노드일 수 있다. 제3노드(N3)는 구동전압(EVDD)을 공급하는 구동전압 라인(DVL: Driving Voltage Line)과 전기적으로 연결될 수 있으며, 드레인 노드 또는 소스 노드일 수 있다. In this driving transistor DT, the first node N1 may be electrically connected to the source node or the drain node of the first transistor T1, and may be a gate node. The second node N2 may be electrically connected to a source node or a drain node of the first electrode of the organic light emitting diode OLED and the second transistor T2 and may be a source node or a drain node. The third node N3 may be electrically connected to a driving voltage line (DVL) for supplying a driving voltage EVDD, and may be a drain node or a source node.
제1 트랜지스터(T1)는 데이터 라인(DL)과 구동 트랜지스터(DT)의 제1 노드(N1) 사이에 전기적으로 연결되고, 게이트 노드에 인가된 제1 스캔신호(SCAN1)에 의해 온-오프가 제어될 수 있다. The first transistor T1 is electrically connected between the data line DL and the first node N1 of the driving transistor DT and is turned on and off by the first scan signal SCAN1 applied to the gate node Lt; / RTI >
이러한 제1 트랜지스터(T1)는 제1 스캔신호(SCAN1)에 의해 턴-온 되어 데이터 라인(DL)으로부터 공급된 데이터 전압(Vdata)을 구동 트랜지스터(DT)의 제1 노드(N1)로 전달해줄 수 있다. The first transistor T1 is turned on by the first scan signal SCAN1 to transfer the data voltage Vdata supplied from the data line DL to the first node N1 of the driving transistor DT .
제2 트랜지스터(T2)는 기준 전압 라인(RVL)과 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2) 사이에 전기적으로 연결되고, 게이트 노드에 인가된 제2 스캔신호(SCAN2)에 의해 온-오프가 제어될 수 있다. The second transistor T2 is electrically connected between the reference voltage line RVL and the second node N2 of the driving transistor DT and is turned on and off by the second scan signal SCAN2 applied to the gate node. Can be controlled.
이러한 제2 트랜지스터(T2)는 제2 스캔신호(SCAN2)에 의해 턴-온 되어 기준 전압 라인(RVL)으로부터 공급된 기준 전압(Vref)을 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)로 전달해줄 수 있다. The second transistor T2 is turned on by the second scan signal SCAN2 to transfer the reference voltage Vref supplied from the reference voltage line RVL to the second node N2 of the driving transistor DT I can do it.
또한, 제2 트랜지스터(T2)는 제2 스캔신호(SCAN2)에 의해 턴-온 되어, 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)의 전압을 기준 전압 라인(RVL)으로 전달해줄 수도 있다. 이는, 각 서브픽셀(SP) 내 구동 트랜지스터(DT), 유기발광다이오드(OLED) 등의 회로 소자에 대한 특성치(예: 문턱전압, 이동도 등)를 센싱할 때 이루어지는 현상이다. The second transistor T2 may be turned on by the second scan signal SCAN2 to transfer the voltage of the second node N2 of the driving transistor DT to the reference voltage line RVL. This is a phenomenon that occurs when sensing characteristic values (e.g., threshold voltage, mobility, etc.) for circuit elements such as the driving transistor DT and the organic light emitting diode OLED in each subpixel SP.
스토리지 캐패시터(C1)는 구동 트랜지스터(DT)의 제1 노드(N1)와 제2 노드(N2) 사이에 전기적으로 연결되어 한 프레임 시간 동안 일정 전압을 유지해주는 역할을 한다. The storage capacitor C1 is electrically connected between the first node N1 and the second node N2 of the driving transistor DT to maintain a constant voltage for one frame time.
이러한 스토리지 캐패시터(C1)는, 구동 트랜지스터(DT)의 제1 노드(N1)와 제2 노드(N2) 사이에 존재하는 내부 캐패시터(Internal Capacitor)인 기생 캐패시터(예: Cgs, Cgd)가 아니라, 구동 트랜지스터(DT)의 외부에 의도적으로 설계한 외부 캐패시터(External Capacitor)이다.The storage capacitor C1 is not a parasitic capacitor (e.g., Cgs or Cgd) which is an internal capacitor existing between the first node N1 and the second node N2 of the driving transistor DT, And is an external capacitor intentionally designed outside the driving transistor DT.
구동 트랜지스터(DT), 제1 트랜지스터(T1) 및 제2 트랜지스터(T2)는 n 타입의 트랜지스터일 수도 있고, p 타입의 트랜지스터일 수도 있다. The driving transistor DT, the first transistor T1 and the second transistor T2 may be either n-type transistors or p-type transistors.
한편, 도 2를 참조하면, 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 노드와 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 노드는 동일한 게이트 라인(GL)에 연결될 수 있다. Referring to FIG. 2, the gate node of the first transistor T1 and the gate node of the second transistor T2 may be connected to the same gate line GL.
이에 따라, 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 노드에 인가되는 제1 스캔신호(SCAN1)와 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 노드에 인가되는 제2 스캔신호(SCAN2)는 동일한 스캔신호(SCAN)일 수 있다. Accordingly, the first scan signal SCAN1 applied to the gate node of the first transistor T1 and the second scan signal SCAN2 applied to the gate node of the second transistor T2 are the same scan signal SCAN .
도 2와 같이, 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 노드와 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 노드가 1개의 게이트 라인(GL)에 공통으로 연결된 경우, 서브픽셀(SP)은 "1 스캔 구조"를 갖는다고 한다. 2, when the gate node of the first transistor T1 and the gate node of the second transistor T2 are commonly connected to one gate line GL, the subpixel SP has a "one scan structure" .
다른 한편, 도 3을 참조하면, 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 노드는 제1 게이트 라인(GL1)에 연결되고, 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 노드는 제1 게이트 라인(GL1)과는 다른 제2 게이트 라인(GL2)에 연결될 수 있다. 3, the gate node of the first transistor T1 is coupled to the first gate line GL1, and the gate node of the second transistor T2 is coupled to the first gate line GL1 And may be connected to the second gate line GL2.
이에 따라, 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 노드에 인가되는 제1 스캔신호(SCAN1)와 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 노드에 인가되는 제2 스캔신호(SCAN2)는 별개의 신호이다. Accordingly, the first scan signal SCAN1 applied to the gate node of the first transistor T1 and the second scan signal SCAN2 applied to the gate node of the second transistor T2 are separate signals.
도 3과 같이, 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 노드와 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 노드가 2개의 게이트 라인(GL1, GL2)에 대응되어 연결된 경우, 서브픽셀(SP)은 "2 스캔 구조"를 갖는다고 한다. 3, when the gate node of the first transistor T1 and the gate node of the second transistor T2 are connected in correspondence with the two gate lines GL1 and GL2, the subpixel SP is " ".
한편, 구동 트랜지스터(DT) 등의 트랜지스터는 구동 시간이 길어짐에 따라 열화가 진행되어 문턱전압, 이동도 등의 특성치가 변할 수 있다. On the other hand, the transistor such as the driving transistor DT may be deteriorated as the driving time becomes longer, and the characteristic value such as the threshold voltage and the mobility may be changed.
또한, 각 트랜지스터마다 구동 시간의 차이가 있기 때문에 열화 정도도 다를 수 있고, 각 트랜지스터 간의 특성치 변화도 서로 다를 수 있다. 이에 따라, 각 트랜지스터 간의 특성치 편차가 발생할 수 있다. Further, since there is a difference in driving time for each transistor, the degree of deterioration may be different, and the characteristic value change between the transistors may be different from each other. Thus, a characteristic value deviation between the transistors may occur.
각 트랜지스터 간의 특성치 편차는 유기발광표시패널(110)의 휘도 불균일을 초래하여 화상 품질을 크게 떨어뜨릴 수 있다. The deviation of the characteristic values between the respective transistors may cause unevenness of luminance of the organic light emitting
이와 같이, 화상 품질 저하의 요인이 되는 트랜지스터의 특성치 변화는 빛에 의해서도 발생할 수 있다. As described above, a change in the characteristic value of a transistor, which is a factor of image quality degradation, can also be caused by light.
가령, 외부 광이 트랜지스터(특히, 채널 영역)에 닿으면, 트랜지스터의 문턱전압이 네거티브(-) 방향으로 쉬프트(Shift) 하는 현상이 발생하여 트랜지스터 소자 특성이 나빠지게 된다. For example, when an external light touches a transistor (particularly, a channel region), a phenomenon occurs in which the threshold voltage of the transistor shifts in a negative (-) direction, and transistor characteristics are deteriorated.
도 4는 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치에서, 빛에 의해 트랜지스터의 특성치가 변화하는 현상을 방지하기 위하여, 차광 패턴(LS: Light Shield)을 트랜지스터의 하부에 형성한 것을 나타낸 도면이다. 4 is a diagram showing a light shield pattern (LS) formed under the transistor in order to prevent the characteristic value of the transistor from changing due to light in the organic light emitting display according to the present embodiments.
도 4를 참조하면, 소스 노드(S), 드레인 노드(D) 및 게이트 노드(G) 등으로 이루어진 트랜지스터에 빛이 조사되는 경우, 특히, 트랜지스터의 채널에 빛이 조사되는 경우, 트랜지스터의 소자 특성(예: 문턱전압 등)이 크게 변할 수 있다. 4, when light is irradiated to a transistor including a source node S, a drain node D and a gate node G, particularly, when light is irradiated to a channel of the transistor, (E.g., threshold voltage, etc.) can vary greatly.
이에, 트랜지스터의 영역(예: 하부)에 차광 패턴(LS)을 형성해둔다. Thus, a light shielding pattern LS is formed in a region (for example, a lower portion) of the transistor.
이에 따라, 차광 패턴(LS)에 의해 트랜지스터에 빛이 닿는 것을 방지해줄 수 있고, 트랜지스터의 소자 특성 변화도 방지해줄 수 있다. As a result, it is possible to prevent light from reaching the transistor by the light-shielding pattern LS, and the change of the device characteristics of the transistor can be prevented.
이러한 차광 패턴(LS)은 빛이 투과되는 것을 차단할 수 있는 금속 물질로 되어 있을 수 있다. The light-shielding pattern LS may be made of a metal material capable of blocking the transmission of light.
한편, 차광 패턴(LS)은 트랜지스터의 게이트 노드(게이트 전극)의 하부에 절연층을 사이에 두고 위치하며, 트랜지스터의 바디(B)의 역할을 수 있다. On the other hand, the light shielding pattern LS is located under the gate node (gate electrode) of the transistor with the insulating layer interposed therebetween, and can serve as the body B of the transistor.
도 5는 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)에서 각 서브픽셀(SP)의 회로 영역(CA: Circuit Area)에 형성된 차광 패턴(LS)과, 차광 패턴(LS)이 형성된 서브픽셀(SP)의 등가회로이다. 5 is a sectional view illustrating a light blocking pattern LS formed in a circuit area (CA) of each subpixel SP in the organic light emitting
도 5를 참조하면, 각 서브픽셀(SP)은 유기발광다이오드(OLED)에 의해 발광하는 발광 영역(EA: Emission Area)과 유기발광다이오드(OLED)를 구동하기 위한 회로가 형성된 회로 영역(CA)으로 이루어진다. 5, each of the sub-pixels SP includes a light emitting area (EA) emitting light by the organic light emitting diode (OLED) and a circuit area CA formed with a circuit for driving the organic light emitting diode (OLED) Lt; / RTI >
도 5를 참조하면, 빛에 의해 트랜지스터 특성 변화를 방지하기 위하여, 차광 패턴(LS)을 트랜지스터들(DT, T1, T2)이 위치한 회로 영역(CA)의 전면에 패터닝 할 수 있다. Referring to FIG. 5, the light blocking pattern LS may be patterned on the entire surface of the circuit region CA where the transistors DT, T1, and T2 are located, in order to prevent the transistor characteristics from being changed by light.
이 경우, 차광 패턴(LS)은 전압이 인가되지 않는 플로팅 패턴(Floating Pattern)이다. In this case, the light-shielding pattern LS is a floating pattern to which no voltage is applied.
한편, 전술한 바와 같이, 차광 패턴(LS)은 각 트랜지스터(DT, T1, T2)의 바디 역할을 한다. On the other hand, as described above, the shielding pattern LS serves as the body of each of the transistors DT, T1, and T2.
이에 따라, 차광 패턴(LS)은 각 트랜지스터(DT, T1, T2)의 또 다른 게이트 노드(일명, 뒷문 게이트 노드(Back Gate Node)라고도 함)의 역할을 할 수 있다. 이에 따라, 각 트랜지스터(DT, T1, T2)의 문턱전압이 변하거나 원하는 동작을 하지 못하는 현상이 발생할 수 있다. 이러한 현상을 "바디 효과(Body Effect)"라고 한다. Thus, the light-shielding pattern LS can serve as another gate node (also referred to as a back gate node) of each of the transistors DT, T1, and T2. As a result, the threshold voltage of each of the transistors DT, T1, and T2 may change, or a desired operation may not be performed. This phenomenon is called "body effect ".
도 6은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)에서, 구동 트랜지스터(DT)의 동작 특성을 개선하기 위해, 차광 패턴(LS)을 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)에 연결한 싱글 차광 패턴 구조를 나타낸 도면이다. In order to improve the operation characteristics of the driving transistor DT in the
도 6을 참조하면, 각 서브픽셀(SP)의 전체 구동 특성에 큰 영향을 끼치는 구동 트랜지스터(DT)가 바디 효과의 영향을 받지 않도록 하고, 구동 트랜지스터(DT)의 동작 특성을 개선하기 위하여, 회로 영역(CA)의 전면에 패터닝 된 차광 패턴(LS)을 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)에 연결할 수 있다. 6, in order to prevent the drive transistor DT, which greatly affects the overall drive characteristics of each sub-pixel SP, from being affected by the body effect and to improve the operation characteristics of the drive transistor DT, The shielding pattern LS patterned on the front surface of the area CA can be connected to the second node N2 of the driving transistor DT.
이러한 차광 패턴 구조는, 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)에 연결되는 차광 패턴(LS)이 각 서브픽셀(SP)마다 1개씩 존재하기 때문에, "싱글 차광 패턴 구조"라고 한다. Such a light-shielding pattern structure is referred to as a "single light-shielding pattern structure" since there is one light-shielding pattern LS connected to the second node N2 of the driving transistor DT for each subpixel SP.
도 7 및 도 8은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)에서, 싱글 차광 패턴 구조에 의해 발생할 수 있는 이상 구동 현상을 설명하기 위한 도면이다. FIGS. 7 and 8 are views for explaining an abnormal driving phenomenon that may be caused by a single light-shielding pattern structure in the organic light emitting
도 7 및 도 8을 참조하면, 싱글 차광 패턴 구조에 따르면, 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)의 전압이 바이어스 전압(BV)으로서 차광 패턴(LS)에 인가된다. 7 and 8, according to the single light-shielding pattern structure, the voltage of the second node N2 of the driving transistor DT is applied to the light-shielding pattern LS as the bias voltage BV.
도 7에 도시된 바와 같이, 제1 트랜지스터(T1)를 턴-오프 시키기 위하여, 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 노드에 턴-오프 레벨 전압(VGL)에 해당하는 제1 스캔신호(SCAN1)를 인가한 경우, 차광 패턴(LS)에 인가된 바이어스 전압(BV)이 제1 트랜지스터(T1)의 또 다른 게이트 전압 역할을 하여, 바디 효과가 발생할 수 있고, 이에 따라, 제1 트랜지스터(T1)가 원치 않게 턴-온 될 수도 있다. 7, in order to turn off the first transistor T1, a first scan signal SCAN1 corresponding to the turn-off level voltage VGL is applied to the gate node of the first transistor T1 The bias voltage BV applied to the shielding pattern LS serves as another gate voltage of the first transistor T1 so that a body effect may be generated so that the first transistor T1 It may be turned on unwantedly.
또한, 도 8에 도시된 바와 같이, 제2 트랜지스터(T2)를 턴-오프 시키기 위하여, 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 노드에 턴-오프 레벨 전압(VGL)에 해당하는 제2 스캔신호(SCAN2)를 인가한 경우, 차광 패턴(LS)에 인가된 바이어스 전압(BV)이 제2 트랜지스터(T2)의 또 다른 게이트 전압 역할을 하여, 바디 효과가 발생할 수 있고, 이에 따라, 제2 트랜지스터(T2)가 원치 않게 턴-온 될 수도 있다. 8, a second scan signal SCAN2 corresponding to the turn-off level voltage VGL is applied to the gate node of the second transistor T2 in order to turn off the second transistor T2. The bias voltage BV applied to the light shielding pattern LS serves as another gate voltage of the second transistor T2 so that a body effect can be generated and thus the second transistor T2 ) May be turned on unwantedly.
도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 바디 효과의 영향으로 인해, 제1 트랜지스터(T1) 및/또는 제2 트랜지스터(T2)가 원치 않게 턴-온 되는 상황은, 영상 구동 시에도 발생할 수 있고, 센싱 구동 시에도 발생할 수 있다. 7 and 8, the situation in which the first transistor T1 and / or the second transistor T2 are turned on unwantedly due to the influence of the body effect may occur even during image driving , And may also occur at the time of sensing driving.
예를 들어, 턴-오프 되어야 하는 제1 트랜지스터(T1)가 턴-온 되는 경우, 이전 라인(이전 서브픽셀 행) 또는 다음 라인(다음 서브픽셀 행)에서의 서브픽셀에 공급되는 데이터 전압이 해당 제1 트랜지스터(T1)가 있는 서브픽셀로 공급되어, 화상 이상 현상이 발생할 수 있다. 이러한 현상을 데이터 섞임 현상이라고 한다. For example, when the first transistor (T1) to be turned off is turned on, the data voltage supplied to the subpixel in the previous line (previous subpixel row) or the next line (next subpixel row) Is supplied to the sub-pixel having the first transistor (T1), so that an image abnormal phenomenon may occur. This phenomenon is called data mixing phenomenon.
다른 예를 들어, 아날로그 디지털 컨버터(Analog to Digital)과 전기적으로 연결되어 센싱 라인 역할을 하는 기준 전압 라인(RVL)과 전기적으로 연결된 제1 서브픽셀에 대하여, 구동 트랜지스터(DT)의 문턱전압을 센싱하기 위한 센싱 구동이 진행되고 있는 동안, 다른 서브픽셀 행에서 기준 전압 라인(RVL)과 함께 전기적으로 연결된 제2 서브픽셀에서 턴-오프 되어야 하는 제2 트랜지스터(T2)가 불필요하게 턴-온 되면, 불필요하게 턴-온 된 제2 트랜지스터(T2)는, 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)의 전압을 기준 전압 라인(RVL)으로 전달한다. For example, the threshold voltage of the driving transistor DT may be sensed for a first sub-pixel electrically connected to a reference voltage line RVL electrically connected to an analog-to-digital converter (serving as a sensing line) When the second transistor T2 to be turned off in the second sub-pixel electrically connected with the reference voltage line RVL in another sub-pixel row is unnecessarily turned on while the sensing operation for performing the sensing operation for the second sub- The unnecessarily turned-on second transistor T2 transfers the voltage of the second node N2 of the driving transistor DT to the reference voltage line RVL.
이로 인해, 아날로그 디지털 컨버터는 제1 서브픽셀 내 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)의 전압을 정확하게 센싱하지 못하여, 센싱 오류가 발생할 수 있다. 이러한 센싱 오류는 문턱전압 편차에 대한 보상값 연산에도 오류를 발생시켜 화상 이상 현상을 발생시킬 수 있다. Because of this, the analog digital converter can not accurately sense the voltage of the second node N2 of the driving transistor DT in the first sub-pixel, so that a sensing error may occur. Such a sensing error may also cause an error in the calculation of the compensation value for the threshold voltage deviation, thereby causing an image abnormal phenomenon.
따라서, 본 실시예들은, 바디 효과의 영향으로 인한 제1 트랜지스터(T1) 및/또는 제2 트랜지스터(T2)의 이상 구동 현상(불필요하게 턴-온 되는 현상)을 방지해줄 수 있는 차광 패턴 구조를 제안한다. Therefore, the embodiments of the present invention can provide a light-shielding pattern structure capable of preventing abnormal driving phenomenon (unnecessarily turning on phenomenon) of the first transistor T1 and / or the second transistor T2 due to the influence of the body effect I suggest.
먼저, 도 9 내지 도 15를 참조하여, 더블 차광 패턴 구조를 설명한다. 이어서, 도 16 내지 도 22를 참조하여, 트리플 차광 패턴 구조를 설명한다. First, referring to Figs. 9 to 15, a double shielding pattern structure will be described. Next, with reference to Figs. 16 to 22, a triple shield pattern structure will be described.
더블 차광 패턴 구조는, 1 스캔 구조에 적용될 수 있는 차광 패턴 구조로서, 서로 다른 지점에 연결되는 2가지의 차광 패턴(LS_SHORT, LS_LONG)을 갖는 구조이다. The double shielding pattern structure is a shielding pattern structure applicable to one scan structure and has two shielding patterns (LS_SHORT, LS_LONG) connected to different points.
트리플 차광 패턴 구조는, 2 스캔 구조에 적용될 수 있는 차광 패턴 구조로서, 서로 다른 지점에 연결되는 3가지의 차광 패턴(LS_SHORT, LS_LONG1, LS_LONG2)을 갖는 구조이다. The triple shielding pattern structure is a shielding pattern structure applicable to a two-scan structure and has three shielding patterns (LS_SHORT, LS_LONG1, LS_LONG2) connected to different points.
도 9 내지 도 11은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)의 각 서브픽셀(SP)이 1 스캔 구조를 갖는 경우, 이상 구동 현상을 방지하기 위한 더블 차광 패턴 구조를 나타낸 도면이다. 9 to 11 are views showing a double shielding pattern structure for preventing abnormal driving phenomenon when each subpixel SP of the organic light emitting
도 9는 더블 차광 패턴 구조가 적용된 2개의 서브픽셀(SP1, SP2)의 등가회로이고, 도 10은 2개의 서브픽셀(SP1, SP2)에서 더블 차광 패턴(LS_SHORT, LS_LONG)을 나타낸 도면이다. 그리고, 도 11은 4개의 서브픽셀(SP1, SP2, SP3, SP4)에서 더블 차광 패턴(LS_SHORT, LS_LONG)을 나타낸 도면이다. FIG. 9 is an equivalent circuit of two sub-pixels SP1 and SP2 to which a double light-shielding pattern structure is applied, and FIG. 10 is a diagram showing double light-shielding patterns LS_SHORT and LS_LONG in two sub-pixels SP1 and SP2. 11 is a diagram showing a double light-shielding pattern LS_SHORT, LS_LONG in the four sub-pixels SP1, SP2, SP3 and SP4.
도 9 내지 도 11을 참조하면, 1 스캔 구조의 각 서브픽셀은, 유기발광다이오드(OLED)와, 유기발광다이오드(OLED)를 구동하는 구동 트랜지스터(DT)와, 게이트 라인(GL)을 통해 게이트 노드에 인가된 스캔신호(SCAN)에 의해 제어되며 구동 트랜지스터(DT)의 제1 노드(N1)와 데이터 라인(DL) 사이에 전기적으로 연결된 제1 트랜지스터(T1)와, 게이트 라인(GL)을 통해 게이트 노드에 인가된 스캔신호(SCAN)에 의해 제어되며, 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)와 기준 전압 라인(RVL) 사이에 전기적으로 연결된 제2 트랜지스터(T2)와, 구동 트랜지스터(DT)의 제1 노드(N1)와 제2 노드(N2) 사이에 전기적으로 연결된 스토리지 캐패시터(C1)를 포함하여 구성된다. 9 to 11, each sub-pixel of one scan structure includes an organic light emitting diode OLED, a driving transistor DT for driving the organic light emitting diode OLED, A first transistor T1 which is controlled by a scan signal SCAN applied to the node and is electrically connected between the first node N1 of the driving transistor DT and the data line DL, A second transistor T2 controlled by a scan signal SCAN applied to the gate node through the second node N2 and electrically connected between the second node N2 of the driving transistor DT and the reference voltage line RVL, And a storage capacitor C1 electrically connected between the first node N1 and the second node N2 of the data driver DT.
도 9 내지 도 11을 참조하면, 각 서브픽셀의 구동 트랜지스터(DT)의 영역마다 쇼트 차광 패턴(Short Light Shield Pattern, LS_SHORT)이 위치한다. Referring to FIGS. 9 to 11, a short light shield pattern (LS_SHORT) is positioned for each region of the driving transistor DT of each subpixel.
각 서브픽셀 마다 1개씩 존재하는 쇼트 차광 패턴(LS_SHORT)은 해당 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)와 전기적으로 연결된다. The short-shielding pattern LS_SHORT, which exists for each sub-pixel, is electrically connected to the second node N2 of the corresponding driving transistor DT.
이러한 쇼트 차광 패턴(LS_SHORT)은 연결 패턴(CPS)을 통해 해당 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)와 연결될 수 있다. The short shading pattern LS_SHORT may be connected to the second node N2 of the driving transistor DT through the connection pattern CPS.
도 9 내지 도 11을 참조하면, 각 서브픽셀 행마다 1개의 롱 차광 패턴(Long Light Shield Pattern, LS_LONG)이 행 방향으로 위치한다. 9 to 11, one long light shield pattern (LS_LONG) is positioned in the row direction for each subpixel row.
각 서브픽셀 행마다 1개씩 존재하는 롱 차광 패턴(LS_LONG)은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터(T1)의 영역과 다수의 제2 트랜지스터(T2)의 영역을 지나가면서 위치한다. The long light-shielding pattern LS_LONG, which is present for each subpixel row, is located passing through a plurality of regions of the first transistor T1 and a plurality of the second transistors T2 located in the corresponding subpixel row.
이러한 롱 차광 패턴(LS_LONG)은 해당 서브픽셀 행에 위치한 모든 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 노드와 모든 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 노드에 공통으로 연결된 게이트 라인(GL)과 넌-액티브 영역(N/A)에서 전기적으로 연결될 수 있다. The long light-shielding pattern LS_LONG includes a gate line GL and a non-active region GL connected in common to the gate node of all the first transistors T1 and the gate nodes of all the second transistors T2, N / A). ≪ / RTI >
이러한 롱 차광 패턴(LS_LONG)은 해당 서브픽셀 행에 위치한 모든 제1 트랜지스터(T1)와 모든 제2 트랜지스터(T2)의 더블 게이트 동작을 가능하게 한다. This long shading pattern LS_LONG enables the double gate operation of all the first transistor T1 and all the second transistors T2 located in the subpixel row.
또한, 이러한 롱 차광 패턴(LS_LONG)은 연결 패턴(CPL)을 통해 게이트 라인(GL)과 넌-액티브 영역(N/A)에서 전기적으로 연결될 수 있다. In addition, the long light-shielding pattern LS_LONG may be electrically connected to the gate line GL and the non-active region N / A through the connection pattern CPL.
전술한 더블 차광 패턴 구조에 따르면, 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)의 전압에 따라 제1 트랜지스터(T1) 및 제2 트랜지스터(T2)가 의도치 않게 턴-온 되는 현상이 방지될 수 있다, 즉, 제1 트랜지스터(T1) 및 제2 트랜지스터(T2)가 바디 효과의 영향을 적게 받게 된다. 이에 따라, 제1 트랜지스터(T1) 및 제2 트랜지스터(T2)의 이상 구동 현상(불필요하게 턴-온 되는 현상)을 방지해줄 수 있고, 이로 인해, 화상 이상 현상이 방지되어 화상 품질이 개선될 수 있다. According to the double shielding pattern structure described above, the first transistor T1 and the second transistor T2 are prevented from being turned on unintentionally according to the voltage of the second node N2 of the driving transistor DT That is, the first transistor T1 and the second transistor T2 are less influenced by the body effect. Thus, it is possible to prevent the abnormal driving phenomenon (unnecessarily turning on phenomenon) of the first transistor (T1) and the second transistor (T2), thereby preventing the image abnormal phenomenon and improving the image quality have.
또한, 더블 게이트 동작을 위해, 롱 차광 패턴(LS_LONG)이, 각 서브픽셀에서 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 노드와 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 노드와 개별적으로 연결되지 않고, 게이트 라인(GL)과 넌-액티브 영역(N/A)에서 1차례만 연결됨으로써, 액티브 영역(A/A)에서 연결 구조를 형성하지 않아도 된다. 이에 따라, 유기발광표시패널(110)의 개구율을 증가시킬 수 있다. In addition, for the double gate operation, the long light-shielding pattern LS_LONG is not individually connected to the gate node of the first transistor T1 and the gate node of the second transistor T2 in each subpixel, ) And the non-active region N / A, so that it is not necessary to form a connection structure in the active region A / A. Accordingly, the aperture ratio of the
도 12는 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)의 각 서브픽셀(SP)이 1 스캔 구조를 갖는 경우, 더블 차광 패턴 구조에서, 롱 차광 패턴(LS_LONG)을 나타낸 도면이다. 12 is a diagram illustrating a long light-shielding pattern LS_LONG in a double-shielding pattern structure when each sub-pixel SP of the
도 12를 참조하면, 롱 차광 패턴(LS_LONG)은, 해당 서브픽셀 행에서 행 방향으로 연장된 라인부(L)와, 라인부(L)에서 해당 서브픽셀 행에 위치한 각 제1 트랜지스터(T1)의 영역으로 돌출된 제1 돌출부(E1)와, 라인부(L)에서 해당 서브픽셀 행에 위치한 각 제2 트랜지스터(T2)의 영역으로 돌출된 제2 돌출부(E2)로 이루어질 수 있다. 12, the long light-shielding pattern LS_LONG includes a line portion L extending in the row direction in the corresponding subpixel row, a first transistor T1 located in the corresponding subpixel row in the line portion L, And a second protrusion E2 protruding into the area of each second transistor T2 located in the corresponding subpixel row in the line section L. The first protrusion E1 protrudes into the region of the second transistor T2,
전술한 바에 따르면, 1개의 롱 차광 패턴(LS_LONG)만으로도, 서브픽셀 행에 위치한 모든 제1 트랜지스터(T1) 및 모든 제2 트랜지스터(T2)의 영역에 차광 패턴 구조를 만들어줄 수 있다. According to the above description, it is possible to make a light-shielding pattern structure in the regions of all the first transistors T1 and all the second transistors T2 located in the subpixel row by using only one long light-shielding pattern LS_LONG.
도 13은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)의 각 서브픽셀(SP)이 1 스캔 구조를 갖는 경우, 더블 차광 패턴 구조에서, 롱 차광 패턴(LS_LONG)과 게이트 라인(GL)의 배치 구조를 나타낸 도면이다. 13 is a graph showing the relationship between the long-shielding pattern LS_LONG and the gate line GL in the double-shielding pattern structure when each subpixel SP of the
도 13을 참조하면, 유기발광표시패널(110)은 화상이 표시되는 액티브 영역(A/A: Active Area)과, 액티브 영역(A/A)의 외곽 영역에 해당하며 화상이 표시되지 않는 넌-액티브 영역(N/A: Non-Active Area)으로 이루어진다. 13, the organic light emitting
유기발광표시패널(110)에는 다수의 서브픽셀 행(SPR1, … , SPRn)이 존재한다. A plurality of subpixel rows SPR1, ..., SPRn exist in the organic light emitting
도 13을 참조하면, 1 스캔 구조의 경우, 1개의 서브픽셀 행마다 1개의 게이트 라인(GL)이 행 방향으로 배치될 수 있다. Referring to FIG. 13, in the case of a one scan structure, one gate line GL may be arranged in the row direction for each one subpixel row.
또한, 1 스캔 구조의 경우, 1개의 서브픽셀 행마다 1개의 롱 차광 패턴(LS_LONG)이 행 방향으로 배치될 수 있다. In addition, in the case of one scan structure, one long light shield pattern LS_LONG may be arranged in the row direction for each one subpixel row.
도 13을 참조하면, 1개의 서브픽셀 행마다 배치되는 게이트 라인(GL)과 롱 차광 패턴(LS_LONG)은, 넌-액티브 영역(N/A)에서 연결 패턴(CPL)을 통해 전기적으로 연결될 수 있다. Referring to FIG. 13, the gate line GL and the long light-shielding pattern LS_LONG arranged for each subpixel row can be electrically connected through the connection pattern CPL in the non-active region N / A .
롱 차광 패턴(LS_LONG)은, 도 13에 도시된 바와 같이, 게이트 라인(GL)의 일단과 연결될 수도 있고, 게이트 라인(GL)의 양단과 연결될 수도 있다. 즉, 롱 차광 패턴(LS_LONG)의 연결 지점이 1개일 수도 있고 2개일 수도 있다. The long shield pattern LS_LONG may be connected to one end of the gate line GL or may be connected to both ends of the gate line GL as shown in FIG. That is, the connection point of the long light-shielding pattern LS_LONG may be one or two.
도 13을 참조하면, 롱 차광 패턴(LS_LONG)은 게이트 라인(GL)과 대응되어 위치한다. Referring to FIG. 13, the long light-shielding pattern LS_LONG is located corresponding to the gate line GL.
일 예로, 롱 차광 패턴(LS_LONG)은 게이트 라인(GL)의 아래에 위치할 수 있다. As an example, the long light-shielding pattern LS_LONG may be positioned below the gate line GL.
이에 따라, 롱 차광 패턴(LS_LONG)의 형성 공간을 줄일 수 있고, 짧은 연결 패턴(CPL)을 통해 게이트 라인(GL)과 롱 차광 패턴(LS_LONG)을 쉽게 연결해줄 수 있다. Accordingly, the formation space of the long shielding pattern LS_LONG can be reduced, and the gate line GL and the long shielding pattern LS_LONG can be easily connected through the short connection pattern CPL.
도 14 및 도 15는 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)의 각 서브픽셀(SP)이 1 스캔 구조를 갖는 경우, 더블 차광 패턴 구조에서, 롱 차광 패턴(LS_LONG)과 게이트 라인(GL) 간의 연결 구조를 나타낸 도면이다. FIGS. 14 and 15 are diagrams for explaining a case where each subpixel SP of the organic light emitting
도 14는 도 13의 A 부분의 확대도이고, 도 15는 도 14의 A'의 단면도이다. Fig. 14 is an enlarged view of a portion A in Fig. 13, and Fig. 15 is a cross-sectional view of A 'in Fig.
도 14 및 도 15를 참조하면, 롱 차광 패턴(LS_LONG)과 게이트 라인(GL)은 넌-액티브 영역(A/A)에서 연결 패턴(CPL)을 통해 연결된다. 14 and 15, the long light blocking pattern LS_LONG and the gate line GL are connected through the connection pattern CPL in the non-active area A / A.
도 14를 참조하면, 게이트 라인(GL)에 게이트 돌출부(GE)가 넌-액티브 영역(N/A)에 위치하고, 롱 차광 패턴(LS_LONG)에 컨택 돌출부(LE)가 넌-액티브 영역(N/A)에 위치한다. 14, when the gate protrusion GE is located in the non-active region N / A in the gate line GL and the contact protrusion LE is located in the non-active region N / A in the long shield pattern LS_LONG, A).
도 14 및 도 15를 참조하면, 게이트 라인(GL)의 게이트 돌출부(GE)와 롱 차광 패턴(LS_LONG)의 컨택 돌출부(LE)는 연결 패턴(CPL)을 통해 전기적으로 연결될 수 있다. 14 and 15, the gate protrusion GE of the gate line GL and the contact protrusion LE of the long light-shielding pattern LS_LONG may be electrically connected through the connection pattern CPL.
이러한 돌출 연결 구조를 통해, 롱 차광 패턴(LS_LONG)과 게이트 라인(GL)을 쉽게 연결시킬 수 있다. The long shield pattern LS_LONG and the gate line GL can be easily connected through the protruded connection structure.
도 15를 참조하면, 기판(1510) 상에 하부 버퍼층(1520)이 위치한다. Referring to FIG. 15, a
게이트 라인(GL), 즉, 게이트 라인(GL)의 게이트 돌출부(GE)는, 하부 버퍼층(1520) 위에 위치한 게이트 절연층(1530) 상에 위치한다.The gate line GL, that is, the gate projection GE of the gate line GL is located on the
롱 차광 패턴(LS_LONG), 즉, 롱 차광 패턴(LS_LONG)의 컨택 돌출부(LE)는 하부 버퍼층(1520) 위에 위치한다. The contact protrusion LE of the long light blocking pattern LS_LONG, that is, the long light blocking pattern LS_LONG, is located on the
이러한 롱 차광 패턴(LS_LONG)의 컨택 돌출부(LE) 상에 버퍼층(1540)이 위치한다. The
버퍼층(1540)과, 게이트 라인(GL)의 게이트 돌출부(GE)의 위에는 층간 절연막(1550)이 위치한다. An interlayer insulating
연결 패턴(CPL)은, 층간 절연막(155)의 홀을 통해, 게이트 라인(GL)의 게이트 돌출부(GE)와 롱 차광 패턴(LS_LONG)의 컨택 돌출부(LE)를 연결시켜준다. The connection pattern CPL connects the gate protrusion GE of the gate line GL and the contact protrusion LE of the long light blocking pattern LS_LONG through the hole of the interlayer insulating film 155.
이러한 연결 패턴(CPL) 위에 패시베이션 층(1560)이 위치한다. A
도 15를 참조하면, 연결 패턴(CPL)은, 롱 차광 패턴(LS_LONG) 및 게이트 라인(GL)와는 다른 종류의 금속일 수 있다. 일 예로, 연결 패턴(CPL)은 소스-드레인 물질일 수 있다. Referring to FIG. 15, the connection pattern CPL may be a metal of a different type from the long-shielding pattern LS_LONG and the gate line GL. In one example, the connection pattern (CPL) may be a source-drain material.
유기발광표시패널(110)에서 게이트 물질 층 상에 위치하고 전압 배선 등에 사용되는 물질 층을 그대로 활용하여, 롱 차광 패턴(LS_LONG) 및 게이트 라인(GL)을 연결시켜주기 위한 연결 패턴(CPL)을 형성할 수 있다. The organic light emitting
아래에서는, 도 16 내지 도 22를 참조하여, 2 스캔 구조에 활용될 수 있는 트리플 차광 패턴 구조를 설명한다. Hereinafter, a triple shielding pattern structure that can be utilized for a two-scan structure will be described with reference to FIGS. 16 to 22. FIG.
도 16 내지 도 18은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)의 각 서브픽셀(SP)이 2 스캔 구조를 갖는 경우, 이상 구동 현상을 방지하기 위한 트리플 차광 패턴 구조를 나타낸 도면이다. 16 to 18 are views showing a triple shielding pattern structure for preventing abnormal driving phenomenon when each subpixel SP of the organic light emitting
도 16은 트리플 차광 패턴 구조가 적용된 2개의 서브픽셀(SP1, SP2)의 등가회로이고, 도 17은 2개의 서브픽셀(SP1, SP2)에서 트리플 차광 패턴(LS_SHORT, LS_LONG1, LS_LONG2)을 나타낸 도면이다. 그리고, 도 18은 4개의 서브픽셀(SP1, SP2, SP3, SP4)에서 트리플 차광 패턴(LS_SHORT, LS_LONG1, LS_LONG2)을 나타낸 도면이다. 16 is an equivalent circuit of two sub-pixels SP1 and SP2 to which a triple light-shielding pattern structure is applied, and FIG. 17 is a diagram showing triple light-shielding patterns LS_SHORT, LS_LONG1 and LS_LONG2 in two sub-pixels SP1 and SP2 . 18 is a diagram showing triple shielding patterns LS_SHORT, LS_LONG1 and LS_LONG2 in the four sub-pixels SP1, SP2, SP3 and SP4.
도 16 내지 도 18을 참조하면, 2 스캔 구조를 갖는 각 서브픽셀은, 유기발광다이오드(OLED)와, 유기발광다이오드(OLED)를 구동하는 구동 트랜지스터(DT)와, 제1 게이트 라인(GL1)을 통해 게이트 노드에 인가된 제1 스캔신호(SCAN1)에 의해 제어되며, 구동 트랜지스터(DT)의 제1 노드(N1)와 데이터 라인(DL) 사이에 전기적으로 연결된 제1 트랜지스터(T1)와, 제2 게이트 라인(GL2)을 통해 게이트 노드에 인가된 제2 스캔신호(SCAN2)에 의해 제어되며, 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)와 기준 전압 라인(RVL) 사이에 전기적으로 연결된 제2 트랜지스터(T2)와, 구동 트랜지스터(DT)의 제1 노드(N1)와 제2 노드(N2) 사이에 전기적으로 연결된 스토리지 캐패시터(C1)를 포함하여 구성된다. 16 to 18, each sub-pixel having a two scan structure includes an organic light emitting diode OLED, a driving transistor DT for driving the organic light emitting diode OLED, a first gate line GL1, A first transistor T1 which is controlled by a first scan signal SCAN1 applied to the gate node through the first node N1 and is electrically connected between the first node N1 of the driving transistor DT and the data line DL, Is controlled by the second scan signal SCAN2 applied to the gate node through the second gate line GL2 and is electrically connected between the second node N2 of the drive transistor DT and the reference voltage line RVL A second transistor T2 and a storage capacitor C1 electrically connected between the first node N1 and the second node N2 of the driving transistor DT.
도 16 내지 도 18을 참조하면, 각 서브픽셀(SP)의 구동 트랜지스터(DT)의 영역마다 쇼트 차광 패턴(LS_SHORT)이 위치한다. Referring to Figs. 16 to 18, a short-shielding pattern LS_SHORT is provided for each region of the driving transistor DT of each subpixel SP.
각 서브픽셀 마다 1개씩 존재하는 쇼트 차광 패턴(LS_SHORT)은 해당 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)와 연결 패턴(CPS)을 통해 전기적으로 연결될 수 있다. The short shield pattern LS_SHORT, which is provided for each subpixel, can be electrically connected to the second node N2 of the driving transistor DT through a connection pattern CPS.
도 16 내지 도 18을 참조하면, 각 서브픽셀 행마다, 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1)과 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)이 행 방향으로 위치한다. 16 to 18, for each row of sub-pixels, the first long light blocking pattern LS_LONG1 and the second long light blocking pattern LS_LONG2 are located in the row direction.
각 서브픽셀 행마다 1개씩 존재하는 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1)은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터(T1)의 영역을 지나가면서 위치한다. The first long light-shielding pattern LS_LONG1, which is present for each subpixel row, is located passing through a region of the plurality of first transistors T1 located in the corresponding subpixel row.
각 서브픽셀 행마다 1개식 존재하는 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제2 트랜지스터(T2)의 영역을 지나가면서 위치한다. The second long light-shielding pattern LS_LONG2, which exists in one row for each subpixel row, is located passing through the area of the plurality of second transistors T2 located in the corresponding subpixel row.
제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1)은, 해당 서브픽셀 행에 위치한 모든 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 노드에 연결된 제1 게이트 라인(GL1)과 넌-액티브 영역(N/A)에서, 연결 패턴(CPL1)을 통해, 전기적으로 연결될 수 있다. The first long light shielding pattern LS_LONG1 is formed in the first gate line GL1 and the non-active region N / A connected to the gate nodes of all the first transistors T1 located in the subpixel row, CPL1. ≪ / RTI >
제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)은 해당 서브픽셀 행에 위치한 모든 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 노드에 연결된 제2 게이트 라인(GL2)과 넌-액티브 영역(N/A) 에서, 연결 패턴(CPL2)을 통해, 전기적으로 연결될 수 있다. The second long light shielding pattern LS_LONG2 is formed in the second gate line GL2 connected to the gate node of all the second transistors T2 located in the corresponding subpixel row and in the non-active region N / ), As shown in Fig.
전술한 트리플 차광 패턴 구조에 따르면, 구동 트랜지스터(DT)의 제2 노드(N2)의 전압에 따라 제1 트랜지스터(T1) 및 제2 트랜지스터(T2)가 의도치 않게 턴-온 되는 현상이 방지될 수 있다, 즉, 제1 트랜지스터(T1) 및 제2 트랜지스터(T2)가 바디 효과의 영향을 적게 받게 된다. 이에 따라, 제1 트랜지스터(T1) 및 제2 트랜지스터(T2)의 이상 구동 현상(불필요하게 턴-온 되는 현상)을 방지해줄 수 있고, 이로 인해, 화상 이상 현상이 방지되어 화상 품질이 개선될 수 있다. According to the triple shield pattern structure described above, the first transistor T1 and the second transistor T2 are prevented from being turned on unintentionally according to the voltage of the second node N2 of the driving transistor DT That is, the first transistor T1 and the second transistor T2 are less influenced by the body effect. Thus, it is possible to prevent the abnormal driving phenomenon (unnecessarily turning on phenomenon) of the first transistor (T1) and the second transistor (T2), thereby preventing the image abnormal phenomenon and improving the image quality have.
또한, 더블 게이트 동작을 위해, 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1)이, 각 서브픽셀에서 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 노드와 개별적으로 연결되지 않고, 제1 게이트 라인(GL1)과 넌-액티브 영역(N/A)에서 1차례만 연결됨으로써, 액티브 영역(A/A)에서 연결 구조를 형성하지 않아도 된다. 이에 따라, 유기발광표시패널(110)의 개구율을 증가시킬 수 있다. 이와 마찬가지로, 더블 게이트 동작을 위해, 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)이, 각 서브픽셀에서 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 노드와 개별적으로 연결되지 않고, 제2 게이트 라인(GL2)과 넌-액티브 영역(N/A)에서 1차례만 연결됨으로써, 액티브 영역(A/A)에서 연결 구조를 형성하지 않아도 된다. 이에 따라, 유기발광표시패널(110)의 개구율을 증가시킬 수 있다. In addition, for the double gate operation, the first long-shielding pattern LS_LONG1 is not separately connected to the gate node of the first transistor T1 in each sub-pixel, and the first gate line GL1 and the non- (N / A), it is not necessary to form a connection structure in the active area A / A. Accordingly, the aperture ratio of the
도 19는 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)의 각 서브픽셀(SP)이 2 스캔 구조를 갖는 경우, 트리플 차광 패턴 구조에서, 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1) 및 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)을 개략화하여 나타낸 도면이다. FIG. 19 is a diagram for explaining a case where each subpixel SP of the
도 19을 참조하면, 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1)은, 해당 서브픽셀 행에서 행 방향으로 연장된 제1 라인부(L1)와, 제1 라인부(L1)에서 해당 서브픽셀 행에 위치한 각 제1 트랜지스터(T1)의 영역으로 돌출된 제1 돌출부(E1)로 이루어질 수 있다. 19, the first long light-shielding pattern LS_LONG1 includes a first line portion L1 extending in the row direction in the corresponding subpixel row and a second line portion L1 extending in the first line portion L1 in the subpixel row And a first protrusion E1 protruding into the region of the first transistor T1.
제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)은, 해당 서브픽셀 행에서 행 방향으로 연장된 제2 라인부(L2)와, 제2 라인부(L2)에서 해당 서브픽셀 행에 위치한 각 제2 트랜지스터(T2)의 영역으로 돌출된 제2 돌출부(E2)로 이루어질 수 있다. The second long light-shielding pattern LS_LONG2 includes a second line portion L2 extending in the row direction of the corresponding subpixel row and a second line portion L2 extending in the second line portion L2 of each second transistor T2, And a second protrusion E2 protruding into the area of the second protrusion E2.
전술한 바에 따르면, 1개의 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1)만으로도, 서브픽셀 행에 위치한 모든 제1 트랜지스터(T1)의 영역에 차광 패턴 구조를 만들어줄 수 있고, 1개의 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)만으로도, 서브픽셀 행에 위치한 모든 제2 트랜지스터(T2)의 영역에 차광 패턴 구조를 만들어줄 수 있다. According to the above description, even if only one first long light-shielding pattern LS_LONG1 is provided, a light-shielding pattern structure can be formed in the area of all the first transistors T1 located in the subpixel row, and one second long light- ), It is possible to make a light-shielding pattern structure in the region of all the second transistors T2 located in the subpixel row.
도 20은 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)의 각 서브픽셀(SP)이 2 스캔 구조를 갖는 경우, 트리플 차광 패턴 구조에서, 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1) 및 제1 게이트 라인(GL1) 간의 배치 구조와, 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2) 및 제2 게이트 라인(GL2) 간의 배치 구조를 나타낸 도면이다. FIG. 20 is a diagram illustrating a relationship between a first long-shielding pattern LS_LONG1 and a first gate line GL in a triple-shielding pattern structure when each sub-pixel SP of the
도 20을 참조하면, 유기발광표시패널(110)은 화상이 표시되는 액티브 영역(A/A: Active Area)과, 액티브 영역(A/A)의 외곽 영역에 해당하며 화상이 표시되지 않는 넌-액티브 영역(N/A: Non-Active Area)으로 이루어진다. 20, the organic light emitting
유기발광표시패널(110)에는 다수의 서브픽셀 행(SPR1, … , SPRn)이 존재한다. A plurality of subpixel rows SPR1, ..., SPRn exist in the organic light emitting
도 20을 참조하면, 2 스캔 구조의 경우, 1개의 서브픽셀 행마다 2개의 게이트 라인(GL1, GL2)이 행 방향으로 배치될 수 있다. Referring to FIG. 20, in the case of a two scan structure, two gate lines GL1 and GL2 may be arranged in the row direction for each one subpixel row.
또한, 2 스캔 구조의 경우, 1개의 서브픽셀 행마다 2개의 롱 차광 패턴(LS_LONG1, LS_LONG2)이 행 방향으로 배치될 수 있다. In the case of a two-scan structure, two long light-shielding patterns LS_LONG1 and LS_LONG2 may be arranged in the row direction for each one subpixel row.
도 20을 참조하면, 1개의 서브픽셀 행마다 배치되는 제1 게이트 라인(GL1)과 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1)은, 넌-액티브 영역(N/A)에서 연결 패턴(CPL1)을 통해 전기적으로 연결될 수 있다. Referring to FIG. 20, the first gate line GL1 and the first long light-shielding pattern LS_LONG1 arranged for each subpixel row are electrically connected through the connection pattern CPL1 in the non-active region N / A .
1개의 서브픽셀 행마다 배치되는 제2 게이트 라인(GL2)과 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)은, 넌-액티브 영역(N/A)에서 연결 패턴(CPL2)을 통해 전기적으로 연결될 수 있다. The second gate line GL2 and the second long light shielding pattern LS_LONG2 arranged for each subpixel row can be electrically connected through the connection pattern CPL2 in the non-active region N / A.
이러한 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1)은, 도 20에 도시된 바와 같이, 제1 게이트 라인(GL1)의 일단과 연결될 수도 있고, 제1 게이트 라인(GL1)의 양단과 연결될 수도 있다. 즉, 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1)의 연결 지점이 1개일 수도 있고 2개일 수도 있다. The first long light shield pattern LS_LONG1 may be connected to one end of the first gate line GL1 or may be connected to both ends of the first gate line GL1 as shown in FIG. That is, the connection point of the first long light shielding pattern LS_LONG1 may be one or two.
이러한 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)은, 도 20에 도시된 바와 같이, 제2 게이트 라인(GL2)의 일단과 연결될 수도 있고, 제2 게이트 라인(GL2)의 양단과 연결될 수도 있다. 즉, 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)의 연결 지점이 1개일 수도 있고 2개일 수도 있다.The second long light shield pattern LS_LONG2 may be connected to one end of the second gate line GL2 or may be connected to both ends of the second gate line GL2 as shown in FIG. That is, the connection point of the second long light shielding pattern LS_LONG2 may be one or two.
도 20을 참조하면, 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1)은 제1 게이트 라인(GL1)과 대응되어 위치하고, 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)은 제2 게이트 라인(GL2)과 대응되어 위치한다.Referring to FIG. 20, the first long light-shielding pattern LS_LONG1 is located in correspondence with the first gate line GL1, and the second long light-shielding pattern LS_LONG2 is located in correspondence with the second gate line GL2.
일 예로, 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1)은 제1 게이트 라인(GL1)의 아래에 위치하고, 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)은 제2 게이트 라인(GL2)의 아래에 위치할 수 있다. For example, the first long light-shielding pattern LS_LONG1 may be positioned below the first gate line GL1, and the second long light-shielding pattern LS_LONG2 may be located below the second gate line GL2.
이에 따라, 각 서브픽셀 행마다 존재하는 2개의 롱 차광 패턴(LS_LONG1, LS_LONG2)의 형성 공간을 줄일 수 있고, 짧은 연결 패턴(CPL1, CPL2)을 통해 2개의 게이트 라인(GL1, GL2)과 2개의 롱 차광 패턴(LS_LONG1, LS_LONG2)을 서로 대응시켜 쉽게 연결해줄 수 있다. Accordingly, a space for forming two long light-shielding patterns LS_LONG1 and LS_LONG2 existing for each subpixel row can be reduced, and two gate lines GL1 and GL2 and two The long light-shielding patterns LS_LONG1 and LS_LONG2 can be easily connected to each other.
도 21 및 도 22는 본 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)의 각 서브픽셀(SP)이 2 스캔 구조를 갖는 경우, 트리플 차광 패턴 구조에서, 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1) 및 제1 게이트 라인(GL1) 간의 연결 구조와, 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2) 및 제2 게이트 라인(GL2) 간의 연결 구조를 나타낸 도면이다.Figs. 21 and 22 are diagrams illustrating a case where each subpixel SP of the organic light emitting
도 21은 도 20의 B 부분의 확대도이고, 도 22는 도 21의 B'의 단면도이다. FIG. 21 is an enlarged view of a portion B in FIG. 20, and FIG. 22 is a sectional view of B 'in FIG.
도 21 및 도 22를 참조하면, 제1 게이트 라인(GL1)에 제1 게이트 돌출부(GE1)가 넌-액티브 영역(N/A)에 위치하고, 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1)에 제1 컨택 돌출부(LE1)가 넌-액티브 영역(N/A)에 위치한다. 21 and 22, the first gate protrusion GE1 is located in the non-active region N / A in the first gate line GL1 and the first contact protrusion GE1 is located in the first long- (LE1) is located in the non-active area N / A.
제1 게이트 돌출부(GE1)와 제1 컨택 돌출부(LE1)는 제1 연결 패턴(CPL1)을 통해 전기적으로 연결된다. The first gate protrusion GE1 and the first contact protrusion LE1 are electrically connected through the first connection pattern CPL1.
도 21 및 도 22를 참조하면, 제2 게이트 라인(GL2)에 제2 게이트 돌출부(GE2)가 넌-액티브 영역(N/A)에 위치하고, 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)에 제2 컨택 돌출부(LE2)가 넌-액티브 영역(N/A)에 위치한다. 21 and 22, the second gate protrusion GE2 is located in the non-active region N / A in the second gate line GL2, the second contact protrusion GE2 is located in the second long- (LE2) is located in the non-active area N / A.
제2 게이트 돌출부(GE2)와 제2 컨택 돌출부(LE2)는 제2 연결 패턴(CPL2)을 통해 전기적으로 연결된다. The second gate protrusion GE2 and the second contact protrusion LE2 are electrically connected through the second connection pattern CPL2.
이러한 돌출 연결 구조를 통해, 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1)과 제1 게이트 라인(GL1)을 쉽게 연결시킬 수 있고, 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)과 제2 게이트 라인(GL1)을 쉽게 연결시킬 수 있다. The first long light-shielding pattern LS_LONG1 and the first gate line GL1 can be easily connected to each other through the protruded connection structure and the second long-shielding pattern LS_LONG2 can be easily connected to the second gate line GL1 .
제1 연결 패턴(CPL1) 및 제2 연결 패턴(CPL2)은, 제1 롱 차광 패턴(LS_LONG1) 및 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG2)과, 제1 게이트 라인(GL1) 및 제2 게이트 라인(GL2)과 다른 종류의 금속일 수 있다. 일 예로, 제1 연결 패턴(CPL1) 및 제2 연결 패턴(CPL2)은, 소스-드레인 물질일 수 있다. The first connection pattern CPL1 and the second connection pattern CPL2 are formed by connecting the first long shielding pattern LS_LONG1 and the second long shielding pattern LS_LONG2 and the first gate line GL1 and the second gate line GL2 ) And a different kind of metal. For example, the first connection pattern CPL1 and the second connection pattern CPL2 may be source-drain materials.
유기발광표시패널(110)에서 게이트 물질 층 상에 위치하고 전압 배선 등에 사용되는 물질 층을 그대로 활용하여, 제1, 제2 롱 차광 패턴(LS_LONG1, LS_LONG2) 및 제1, 제2 게이트 라인(GL1, GL2)을 연결시켜주기 위한 제1, 제2 연결 패턴(CPL1, CPL2)을 형성할 수 있다. The first and second long light shield patterns LS_LONG1 and LS_LONG2 and the first and second gate lines GL1 and GL_LONG2 are formed on the organic light emitting
이상에서 설명한 바와 같은 본 실시예들에 의하면, 서브픽셀 내 트랜지스터의 특성 변화를 줄여주어 트랜지스터의 이상 구동을 방지할 수 있는 차광 패턴 구조를 갖는 유기발광표시패널(110) 및 유기발광표시장치(100)를 제공할 수 있다.According to the exemplary embodiments of the present invention described above, the organic light emitting
또한, 본 실시예들에 의하면, 서브픽셀 내 트랜지스터의 하부에 차광 패턴을 위치시켜, 트랜지스터의 특성 변화를 저감시키면서도, 트랜지스터에서 발생될 수 있는 바디 효과(Body Effect)의 영향을 줄여줄 수 있는 차광 패턴 구조를 갖는 유기발광표시패널(110) 및 유기발광표시장치(100)를 제공할 수 있다.In addition, according to the embodiments, a light-shielding pattern can be placed under the transistor in the sub-pixel to reduce variations in characteristics of the transistor, and a light-shielding effect that can reduce the influence of a body effect, The organic light emitting
또한, 본 실시예들에 의하면, 서브픽셀 내 트랜지스터의 종류별로 차광 패턴의 형태 및 연결 위치를 다르게 하여, 바디 효과(Body Effect)의 영향을 효과적으로 줄여주고, 이를 통해, 화상 이상 현상을 방지해줄 수 있는 차광 패턴 구조를 갖는 유기발광표시패널(110) 및 유기발광표시장치(100)를 제공할 수 있다.In addition, according to the embodiments, the shape of the light-shielding pattern and the connection position are different depending on the type of transistor in the sub-pixel, thereby effectively reducing the influence of the body effect, The organic light emitting
또한, 본 실시예들에 의하면, 서브픽셀이 구동 트랜지스터와 동일 게이트 라인에 연결된 제1, 제2 트랜지스터를 포함하여 구성되는 경우, 구동 트랜지스터의 영역에 쇼트 차광 패턴과 제1, 제2 트랜지스터의 영역에 롱 차광 패턴(들)을 포함하는 차광 패턴 구조를 가짐으로써, 트랜지스터 종류별로 이상 구동 현상을 효과적으로 방지해줄 수 있는 유기발광표시패널(110) 및 유기발광표시장치(100)를 제공할 수 있다.In addition, according to the present embodiments, when the sub-pixel includes the first transistor and the second transistor connected to the same gate line as the driving transistor, a region where the short-shielding pattern and the regions of the first and second transistors The organic light emitting
또한, 본 실시예들에 의하면, 개구율을 높일 수 있는 차광 패턴 구조를 갖는 유기발광표시패널(110) 및 유기발광표시장치(100)를 제공할 수 있다.In addition, according to the embodiments, it is possible to provide the organic light emitting
이상에서 설명한 차광 패턴 구조는, 구동 트랜지스터(DT) 및 제1 트랜지스터(T1)와 스토리지 캐패시터(C1)로 구성된 2T1C 서브픽셀 구조에도 적용될 수 있고, 3T1C 구조 및 2T1C 구조 이외에, 다양한 서브픽셀 구조에 적용될 수 있다. The light shielding pattern structure described above can be applied to the 2T1C subpixel structure composed of the driving transistor DT and the first transistor T1 and the storage capacitor C1 and can be applied to various subpixel structures in addition to the 3T1C structure and the 2T1C structure .
이상에서의 설명 및 첨부된 도면은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 나타낸 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 구성의 결합, 분리, 치환 및 변경 등의 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the inventions. , Separation, substitution, and alteration of the invention will be apparent to those skilled in the art. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.
100: 유기발광표시장치
110: 유기발광표시패널
120: 데이터 드라이버
130: 게이트 드라이버
140: 컨트롤러100: organic light emitting display
110: organic light emitting display panel
120: Data driver
130: gate driver
140: controller
Claims (12)
상기 다수의 데이터 라인을 구동하는 데이터 드라이버; 및
상기 다수의 게이트 라인을 구동하는 게이트 드라이버를 포함하고,
상기 각 서브픽셀은,
유기발광다이오드와, 상기 유기발광다이오드를 구동하는 구동 트랜지스터와, 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 스캔신호에 의해 제어되며 상기 구동 트랜지스터의 제1 노드와 데이터 라인 사이에 전기적으로 연결된 제1 트랜지스터와, 상기 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 상기 스캔신호에 의해 제어되며 상기 구동 트랜지스터의 제2 노드와 기준 전압 라인 사이에 전기적으로 연결된 제2 트랜지스터와, 상기 구동 트랜지스터의 제1 노드와 제2 노드 사이에 전기적으로 연결된 스토리지 캐패시터를 포함하여 구성되고,
상기 각 서브픽셀의 구동 트랜지스터의 영역마다 쇼트 차광 패턴이 위치하고, 상기 쇼트 차광 패턴은 해당 구동 트랜지스터의 제2 노드와 전기적으로 연결되며,
각 서브픽셀 행마다 1개의 롱 차광 패턴이 행 방향으로 위치하고, 상기 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터의 영역과 다수의 제2 트랜지스터의 영역을 지나가면서 위치하며, 상기 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터의 게이트 노드와 다수의 제2 트랜지스터의 게이트 노드에 공통으로 연결된 상기 게이트 라인과 넌-액티브 영역에서 전기적으로 연결되는 유기발광표시장치. An organic light emitting display panel in which a plurality of subpixels defined by a plurality of data lines and a plurality of gate lines are arranged in a matrix type;
A data driver for driving the plurality of data lines; And
And a gate driver for driving the plurality of gate lines,
Each of the sub-
A first transistor controlled by a scan signal applied to a gate node through a gate line and electrically connected between a first node of the drive transistor and the data line, A second transistor electrically connected between a second node of the driving transistor and the reference voltage line, the second transistor being controlled by the scan signal applied to the gate node through the gate line, And a storage capacitor electrically connected between the first electrode and the second electrode,
A short shielding pattern is located in each of the regions of the driving transistor of each subpixel, the short shielding pattern is electrically connected to a second node of the driving transistor,
One long shading pattern is positioned in the row direction for each subpixel row and the long shading pattern is located passing through a region of a plurality of first transistors located in the corresponding subpixel row and a region of a plurality of second transistors, Wherein the shielding pattern is electrically connected to the gate node of the plurality of first transistors located in the corresponding subpixel row and the gate line commonly connected to the gate nodes of the plurality of second transistors in the non-active region.
상기 롱 차광 패턴은,
해당 서브픽셀 행에서 행 방향으로 연장된 라인부;
상기 라인부에서 해당 서브픽셀 행에 위치한 각 제1 트랜지스터의 영역으로 돌출된 제1 돌출부; 및
상기 라인부에서 해당 서브픽셀 행에 위치한 각 제2 트랜지스터의 영역으로 돌출된 제2 돌출부를 포함하는 유기발광표시장치. The method according to claim 1,
The long-
A line portion extending in the row direction in the corresponding subpixel row;
A first protrusion protruding into a region of each first transistor located in a corresponding subpixel row in the line portion; And
And a second protrusion protruding into a region of each second transistor located in a corresponding subpixel row in the line portion.
상기 게이트 라인에 게이트 돌출부가 넌-액티브 영역에 위치하고,
상기 롱 차광 패턴에 컨택 돌출부가 넌-액티브 영역에 위치하며,
상기 게이트 돌출부와 상기 컨택 돌출부는 연결 패턴을 통해 전기적으로 연결되는 유기발광표시장치. The method according to claim 1,
A gate protrusion is located in the non-active region in the gate line,
Wherein the contact protrusion is located in the non-active region in the long-shielding pattern,
And the gate protrusion and the contact protrusion are electrically connected through a connection pattern.
상기 연결 패턴은,
상기 롱 차광 패턴 및 상기 게이트 라인과 다른 종류의 금속으로 된 유기발광표시장치. The method of claim 3,
The connection pattern
Wherein the long light-shielding pattern and the gate line are made of a different kind of metal.
상기 롱 차광 패턴은 상기 게이트 라인의 아래에 위치하는 유기발광표시장치. The method according to claim 1,
Wherein the long-shielding pattern is located below the gate line.
다수의 게이트 라인; 및
상기 다수의 데이터 라인 및 상기 다수의 게이트 라인에 의해 정의되고 매트릭스 타입으로 배열된 다수의 서브픽셀을 포함하고,
상기 각 서브픽셀에는,
유기발광다이오드와, 상기 유기발광다이오드를 구동하는 구동 트랜지스터와, 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 스캔신호에 의해 제어되며, 상기 구동 트랜지스터의 제1 노드와 데이터 라인 사이에 전기적으로 연결된 제1 트랜지스터와, 상기 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 상기 스캔신호에 의해 제어되며, 상기 구동 트랜지스터의 제2 노드와 기준 전압 라인 사이에 전기적으로 연결된 제2 트랜지스터와, 상기 구동 트랜지스터의 제1 노드와 제2 노드 사이에 전기적으로 연결된 스토리지 캐패시터가 배치되고,
상기 각 서브픽셀의 구동 트랜지스터의 영역마다 쇼트 차광 패턴이 위치하고, 상기 쇼트 차광 패턴은 해당 구동 트랜지스터의 제2 노드와 전기적으로 연결되며,
각 서브픽셀 행마다 1개의 롱 차광 패턴이 행 방향으로 위치하고, 상기 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터의 영역과 다수의 제2 트랜지스터의 영역을 지나가면서 위치하며, 상기 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터의 게이트 노드와 다수의 제2 트랜지스터의 게이트 노드에 공통으로 연결된 상기 게이트 라인과 넌-액티브 영역에서 전기적으로 연결되는 유기발광표시패널. A plurality of data lines;
A plurality of gate lines; And
And a plurality of subpixels defined by the plurality of data lines and the plurality of gate lines and arranged in a matrix type,
In each subpixel,
A first transistor coupled between a first node of the driving transistor and a data line, the first transistor being controlled by a scan signal applied to a gate node through a gate line, A second transistor electrically connected between a second node of the driving transistor and the reference voltage line, the second transistor being controlled by the scan signal applied to the gate node through the gate line; A storage capacitor electrically connected between two nodes is disposed,
A short shielding pattern is located in each of the regions of the driving transistor of each subpixel, the short shielding pattern is electrically connected to a second node of the driving transistor,
One long shading pattern is positioned in the row direction for each subpixel row and the long shading pattern is located passing through a region of a plurality of first transistors located in the corresponding subpixel row and a region of a plurality of second transistors, Wherein the light shielding pattern is electrically connected to the gate node of the plurality of first transistors located in the corresponding subpixel row and the gate line commonly connected to the gate nodes of the plurality of second transistors in the non-active region.
상기 다수의 데이터 라인을 구동하는 데이터 드라이버; 및
상기 다수의 게이트 라인을 구동하는 게이트 드라이버를 포함하고,
상기 각 서브픽셀은,
유기발광다이오드와, 상기 유기발광다이오드를 구동하는 구동 트랜지스터와, 제1 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 제1 스캔신호에 의해 제어되며, 상기 구동 트랜지스터의 제1 노드와 데이터 라인 사이에 전기적으로 연결된 제1 트랜지스터와, 제2 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 제2 스캔신호에 의해 제어되며, 상기 구동 트랜지스터의 제2 노드와 기준 전압 라인 사이에 전기적으로 연결된 제2 트랜지스터와, 상기 구동 트랜지스터의 제1 노드와 제2 노드 사이에 전기적으로 연결된 스토리지 캐패시터를 포함하여 구성되고,
상기 각 서브픽셀의 구동 트랜지스터의 영역마다 쇼트 차광 패턴이 위치하고, 상기 쇼트 차광 패턴은 해당 구동 트랜지스터의 제2 노드와 전기적으로 연결되며,
각 서브픽셀 행마다 제1 롱 차광 패턴과 제2 롱 차광 패턴이 행 방향으로 위치하고,
상기 제1 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터의 영역을 지나가면서 위치하며, 상기 제2 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제2 트랜지스터의 영역을 지나가면서 위치하고,
상기 제1 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터의 게이트 노드에 연결된 상기 제1 게이트 라인과 넌-액티브 영역에서 전기적으로 연결되며, 상기 제2 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제2 트랜지스터의 게이트 노드에 연결된 상기 제2 게이트 라인과 넌-액티브 영역에서 전기적으로 연결되는 유기발광표시장치.An organic light emitting display panel in which a plurality of subpixels defined by a plurality of data lines and a plurality of gate lines are arranged in a matrix type;
A data driver for driving the plurality of data lines; And
And a gate driver for driving the plurality of gate lines,
Each of the sub-
A driving transistor for driving the organic light emitting diode; a first scan signal applied to the gate node through the first gate line; and a first scan signal applied to the gate node through the first node and the data line, A second transistor electrically connected between a second node of the driving transistor and a reference voltage line, the second transistor being controlled by a second scan signal applied to a gate node through a second gate line, And a storage capacitor electrically connected between the first node and the second node of the storage capacitor,
A short shielding pattern is located in each of the regions of the driving transistor of each subpixel, the short shielding pattern is electrically connected to a second node of the driving transistor,
The first long light-shielding pattern and the second long light-shielding pattern are located in the row direction for each subpixel row,
The first long light-shielding pattern is located passing through a plurality of first transistors located in a corresponding subpixel row, and the second long light-shielding pattern is located passing through a plurality of second transistor regions located in the corresponding subpixel row ,
The first long-shielding pattern is electrically connected to the first gate line connected to the gate nodes of the plurality of first transistors located in the corresponding subpixel row in the non-active region, and the second long- And the second gate line connected to the gate node of the plurality of second transistors located in the non-active region.
상기 제1 롱 차광 패턴은,
해당 서브픽셀 행에서 행 방향으로 연장된 제1 라인부; 및
상기 제1 라인부에서 해당 서브픽셀 행에 위치한 각 제1 트랜지스터의 영역으로 돌출된 제1 돌출부를 포함하고,
상기 제2 롱 차광 패턴은,
해당 서브픽셀 행에서 행 방향으로 연장된 제2 라인부; 및
상기 제2 라인부에서 해당 서브픽셀 행에 위치한 각 제2 트랜지스터의 영역으로 돌출된 제2 돌출부를 포함하는 유기발광표시장치. 8. The method of claim 7,
Shielding pattern,
A first line portion extending in the row direction in the corresponding subpixel row; And
And a first protrusion protruding into a region of each first transistor located in a corresponding subpixel row in the first line portion,
The second long-shielding pattern is a light-
A second line portion extending in the row direction in the corresponding subpixel row; And
And a second protrusion protruding into a region of each second transistor located in a corresponding subpixel row in the second line portion.
상기 제1 게이트 라인에 제1 게이트 돌출부가 넌-액티브 영역에 위치하고, 상기 제1 롱 차광 패턴에 제1 컨택 돌출부가 넌-액티브 영역에 위치하며, 상기 제1 게이트 돌출부와 상기 제1 컨택 돌출부는 제1 연결 패턴을 통해 전기적으로 연결되고,
상기 제2 게이트 라인에 제2 게이트 돌출부가 넌-액티브 영역에 위치하고, 상기 제2 롱 차광 패턴에 제2 컨택 돌출부가 넌-액티브 영역에 위치하며, 상기 제2 게이트 돌출부와 상기 제2 컨택 돌출부는 제2 연결 패턴을 통해 전기적으로 연결되는 유기발광표시장치. 8. The method of claim 7,
Wherein the first gate protrusion and the first contact protrusion are located in the non-active region in the first gate line, the first contact protrusion is located in the non-active region in the first long-light-shielding pattern, And electrically connected through the first connection pattern,
Wherein the second gate protrusion and the second contact protrusion are located in a non-active region in the second gate line, the second gate protrusion is located in the non-active region, the second contact protrusion is located in the non- And the second connection pattern is electrically connected.
상기 제1 연결 패턴 및 상기 제2 연결 패턴은,
상기 제1 롱 차광 패턴 및 상기 제2 롱 차광 패턴과, 상기 제1 게이트 라인 및 상기 제2 게이트 라인과 다른 종류의 금속으로 된 유기발광표시장치. 10. The method of claim 9,
Wherein the first connection pattern and the second connection pattern are formed by:
The first long light-shielding pattern, the second long light-shielding pattern, and the first gate line and the second gate line.
상기 제1 롱 차광 패턴은 상기 제1 게이트 라인의 아래에 위치하고,
상기 제2 롱 차광 패턴은 상기 제2 게이트 라인의 아래에 위치하는 유기발광표시장치. 8. The method of claim 7,
Wherein the first long-shielding pattern is located below the first gate line,
And the second long-shielding pattern is located below the second gate line.
다수의 게이트 라인; 및
상기 다수의 데이터 라인 및 상기 다수의 게이트 라인에 의해 정의되고 매트릭스 타입으로 배열된 다수의 서브픽셀을 포함하고,
상기 각 서브픽셀에는,
유기발광다이오드와, 상기 유기발광다이오드를 구동하는 구동 트랜지스터와, 제1 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 제1 스캔신호에 의해 제어되며, 상기 구동 트랜지스터의 제1 노드와 데이터 라인 사이에 전기적으로 연결된 제1 트랜지스터와, 제2 게이트 라인을 통해 게이트 노드에 인가된 제2 스캔신호에 의해 제어되며, 상기 구동 트랜지스터의 제2 노드와 기준 전압 라인 사이에 전기적으로 연결된 제2 트랜지스터와, 상기 구동 트랜지스터의 제1 노드와 제2 노드 사이에 전기적으로 연결된 스토리지 캐패시터가 배치되고,
상기 각 서브픽셀의 구동 트랜지스터의 영역마다 쇼트 차광 패턴이 위치하고, 상기 쇼트 차광 패턴은 해당 구동 트랜지스터의 제2 노드와 전기적으로 연결되며,
각 서브픽셀 행마다 제1 롱 차광 패턴과 제2 롱 차광 패턴이 행 방향으로 위치하고,
상기 제1 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터의 영역을 지나가면서 위치하며, 상기 제2 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제2 트랜지스터의 영역을 지나가면서 위치하고,
상기 제1 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제1 트랜지스터의 게이트 노드에 연결된 상기 제1 게이트 라인과 넌-액티브 영역에서 전기적으로 연결되며, 상기 제2 롱 차광 패턴은 해당 서브픽셀 행에 위치한 다수의 제2 트랜지스터의 게이트 노드에 연결된 상기 제2 게이트 라인과 넌-액티브 영역에서 전기적으로 연결되는 유기발광표시패널. A plurality of data lines;
A plurality of gate lines; And
And a plurality of subpixels defined by the plurality of data lines and the plurality of gate lines and arranged in a matrix type,
In each subpixel,
A driving transistor for driving the organic light emitting diode; a first scan signal applied to the gate node through the first gate line; and a first scan signal applied to the gate node through the first node and the data line, A second transistor electrically connected between a second node of the driving transistor and a reference voltage line, the second transistor being controlled by a second scan signal applied to a gate node through a second gate line, A storage capacitor electrically connected between the first node and the second node of the first transistor is disposed,
A short shielding pattern is located in each of the regions of the driving transistor of each subpixel, the short shielding pattern is electrically connected to a second node of the driving transistor,
The first long light-shielding pattern and the second long light-shielding pattern are located in the row direction for each subpixel row,
The first long light-shielding pattern is located passing through a plurality of first transistors located in a corresponding subpixel row, and the second long light-shielding pattern is located passing through a plurality of second transistor regions located in the corresponding subpixel row ,
The first long-shielding pattern is electrically connected to the first gate line connected to the gate nodes of the plurality of first transistors located in the corresponding subpixel row in the non-active region, and the second long- And the second gate line connected to the gate node of the plurality of second transistors located in the non-active region.
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Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |