KR20170052373A - Susceptor and vacuum chamber having the same - Google Patents
Susceptor and vacuum chamber having the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR20170052373A KR20170052373A KR1020150154743A KR20150154743A KR20170052373A KR 20170052373 A KR20170052373 A KR 20170052373A KR 1020150154743 A KR1020150154743 A KR 1020150154743A KR 20150154743 A KR20150154743 A KR 20150154743A KR 20170052373 A KR20170052373 A KR 20170052373A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- groove
- train
- heat
- susceptor
- holes
- Prior art date
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 6
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 12
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 12
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 10
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 9
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 3
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 235000012489 doughnuts Nutrition 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/324—Thermal treatment for modifying the properties of semiconductor bodies, e.g. annealing, sintering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
-
- H01L51/001—
-
- H01L51/56—
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 서셉터 및 이를 구비한 진공챔버에 관한 것이다.The present invention relates to a susceptor and a vacuum chamber having the susceptor.
보다 상세하게는 몸체에 설치된 열차단부에 의해 몸체 상면의 열균일성을 향상시킬 수 있는 서셉터 및 이를 구비한 진공챔버에 관한 것이다.And more particularly, to a susceptor capable of improving thermal uniformity of an upper surface of a body by means of a train end provided on the body, and a vacuum chamber having the susceptor.
일반적으로 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 등의 평판표시소자(FPD, Flat Panel Display)는 여러 가지 공정을 거쳐 제조되는데, 이러한 제조 공정에는 기판에 소정의 박막을 형성시키는 박막증착공정이 포함된다.In general, a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP) and an organic light emitting diode (OLED) is manufactured through various processes. And a thin film deposition process for forming a predetermined thin film.
박막증착공정은 진공으로 이루어진 진공챔버 내에서 가열된 기판에 증기압이 높은 반응가스를 보내어 그 반응가스의 막을 기판에 성장시키도록 하는 공정이다.The thin film deposition process is a process in which a reaction gas having a high vapor pressure is sent to a heated substrate in a vacuum chamber made of vacuum to grow a film of the reaction gas on the substrate.
진공챔버 내에는 기판을 지지하며, 상부면에 안착되는 기판에 열을 전달하기 위해 내부에 히터를 구비한 서셉터가 설치되는데 이러한 서셉터는 대한민국 공개특허공보 제2005-0001918호에 게재된 것이 있다.In the vacuum chamber, a susceptor having a heater is installed to support the substrate and transfer heat to the substrate mounted on the upper surface. Such a susceptor is disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2005-0001918 .
종래의 서셉터는, 커버로 밀폐되는 매설홈과 관통홀이 형성되는 서셉터 바디와, 상기 서셉터 바디와 연결되는 서셉터 샤프트를 포함하는 서셉터에 있어서, 상기 매설홈을 통하여 상기 서셉터 바디에 수용되고 상기 관통홀을 통하여 상기 서셉터 샤프트의 내측면을 따라 연장되어 상기 서셉터 샤프트의 하단부를 관통하는 히터를 포함한다.A conventional susceptor includes a susceptor body having a buried groove to be sealed by a cover and a through hole formed therein, and a susceptor shaft connected to the susceptor body. The susceptor includes a susceptor body And a heater extending along the inner surface of the susceptor shaft through the through hole and penetrating the lower end of the susceptor shaft.
하지만, 이러한 종래의 서셉터는 서셉터 바디 중앙부의 열이 서셉터 샤프트를 통해 외부로 빠져나가 온도 편차가 생기므로 서셉터 바디 상면의 열균일성이 저하된다는 문제점이 있다. 상기 서셉터 바디 상부의 온도 편차로 인해, 상기 기판의 테두리부와 그 내측부에 형성되는 막질의 특성이 서로 상이하게 된다. 소형 기판의 경우에는 위와 같은 온도 편차에 따른 막질의 특성차이가 완제품 품질에 크게 영향을 미치지 않았으나, 최근의 대형 기판에서는 온도편차에 따른 막질의 특성 변화를 줄인 고품질의 막질 형성의 필요성이 대두되었다. 그러나 종래기술로는 서셉터 바디의 온도편차를 줄이는데 한계가 있다.However, in such a conventional susceptor, the heat at the central portion of the susceptor body is escaped to the outside through the susceptor shaft, resulting in a temperature deviation, thereby lowering thermal uniformity of the upper surface of the susceptor body. Due to the temperature deviation of the upper portion of the susceptor body, film characteristics formed on the rim of the substrate and the inner portion thereof are different from each other. In the case of small substrates, the difference in film quality due to the above temperature variation did not significantly affect the quality of the final product. However, in recent large-sized substrates, there has been a need to form a high-quality film with less variation in film quality due to temperature variations. However, the prior art has a limitation in reducing the temperature deviation of the susceptor body.
본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 몸체 상면의 열균일성이 향상된 서셉터 및 이를 구비한 진공챔버를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a susceptor having improved heat uniformity on the top surface of a body and a vacuum chamber having the susceptor.
상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명의 서셉터는, 몸체와, 상기 몸체의 하면에 연결된 봉과, 상기 몸체의 내부에서 상기 몸체의 수평방향으로 배치된 수평부와 상기 봉을 관통하는 수직부를 갖는 열선, 및 상기 수평부 하부에 설치된 열차단부를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a susceptor including a body, a rod connected to a lower surface of the body, a horizontal portion disposed in the body in a horizontal direction, and a vertical portion penetrating the rod. And a heat end portion provided below the horizontal portion.
또한, 상기 열차단부는 상기 몸체의 하면 중앙부에 설치되는 것을 특징으로 한다.Further, the end of the train is installed at the center of the lower surface of the body.
또한, 상기 열선의 상기 수평부는 발열부와 비발열부를 갖고, 상기 열차단부는 상기 비발열부 하부에 위치하는 것을 특징으로 한다.Further, the horizontal portion of the hot wire has a heat generating portion and a non-heat generating portion, and the end portion of the heat is located below the non-heat generating portion.
또한, 상기 열선의 상기 수평부는 발열부와 비발열부를 갖고, 상기 열차단부는 상기 발열부 및 상기 비발열부 하부에 위치하는 것을 특징으로 한다. Further, the horizontal portion of the heat ray has a heat generating portion and a non-heat generating portion, and the end portion of the heat is located below the heat generating portion and the non-heat generating portion.
또한, 상기 열차단부는, 상기 몸체의 하부로 개구된 개구부를 갖는 홈과, 상기 홈의 개구부를 덮는 덮개를 포함하는 것을 특징으로 한다.Further, the end of the train includes a groove having an opening portion opened to the lower portion of the body, and a cover covering the opening portion of the groove.
또한, 상기 홈에는 열차단부재가 설치되는 것을 특징으로 한다. Further, the groove is provided with a heat shield member.
또한, 상기 홈은 상기 몸체의 하면 중앙부에 위치하고, 상기 덮개의 하부에 상기 봉이 설치되는 것을 특징으로 한다.In addition, the groove is located at the center of the lower surface of the body, and the rod is installed at a lower portion of the lid.
또한, 상기 홈은 상기 몸체의 하면 중앙부에 위치하고, 상기 봉은 상기 덮개의 내측으로 상기 몸체의 하면에 설치되는 것을 특징으로 한다.Further, the groove is located at the center of the lower surface of the body, and the rod is installed on the lower surface of the body to the inside of the lid.
또한, 상기 홈의 개구부에는 단턱이 형성되고, 상기 덮개는 상기 단턱에 배치되는 것을 특징으로 한다.Further, a step is formed in the opening of the groove, and the lid is disposed at the step.
또한, 상기 열차단부는 상기 수직부를 둘러싸는 위치에 배치되는 것을 특징으로 한다.Further, the end portion of the train is disposed at a position surrounding the vertical portion.
또한, 상기 홈은 도넛 형상인 것을 특징으로 한다.Further, the grooves are donut-shaped.
또한, 상기 몸체는, 상기 열선이 매설되는 상부몸체, 및 상기 상부몸체와 분리 결합되고 상기 봉이 연결되는 하부몸체를 포함하되, 상기 열차단부는 상기 상부몸체와 상기 하부몸체 사이의 공간에 배치되는 것을 특징으로 한다.In addition, the body may include an upper body in which the hot wire is embedded, and a lower body separated from the upper body and connected to the rod, wherein the end of the heat is disposed in a space between the upper body and the lower body .
또한, 상기 상부몸체의 테두리와 상기 하부몸체의 테두리가 용접되어 일체로 결합되는 것을 특징으로 한다.Further, the rim of the upper body and the rim of the lower body are welded and integrally joined.
또한, 상기 상부몸체에 형성되는 복수 개의 제1관통공과, 상기 하부몸체에 형성되고 각각의 상기 제1관통공에 수직하게 배치되는 복수 개의 제2관통공, 및 각각의 서로 수직하게 배치된 상기 제1관통공과 상기 제2관통공에 설치되는 복수 개의 리프트핀을 더 포함하되, 복수 개의 상기 제1관통공과 복수 개의 상기 제2관통공은 상기 공간과 밀폐되는 것을 특징으로 한다.A plurality of first through holes formed in the upper body; a plurality of second through holes formed in the lower body and arranged perpendicularly to the respective first through holes; and a plurality of through- And a plurality of lift pins provided in the first through hole and the second through hole, wherein the plurality of first through holes and the plurality of second through holes are sealed with the space.
또한, 상기 열차단부는 상기 몸체를 이루는 금속의 열전도율보다 낮은 열전도율을 갖는 금속 단열재로 이루어진 것을 특징으로 한다.In addition, the end of the train is formed of a metal thermal insulator having a thermal conductivity lower than that of the metal forming the body.
또한, 상기 열차단부는 상기 몸체를 이루는 금속의 열전도율보다 낮은 열전도율을 갖는 비금속 단열재로 이루어진 것을 특징으로 한다.Further, the end portion of the train is formed of a non-metallic heat insulating material having a thermal conductivity lower than that of the metal forming the body.
또한, 상기 열차단부는 열전도율이 0.03W/mk 이상 35W/mk 이하인 것을 특징으로 한다.Further, the end portion of the train has a thermal conductivity of 0.03 W / mK or more and 35 W / mK or less.
또한, 상기 열차단부는 유리세라믹 또는 산화알루미늄(Al2O3) 또는 산화마그네슘(MgO)으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, the end of the train is made of glass ceramic, aluminum oxide (Al 2 O 3 ), or magnesium oxide (MgO).
또한, 상기 열차단부는 스테인레스 스틸 재질로 이루어지는 것을 특징으로 한다.Further, the end of the train is made of stainless steel.
또한, 상기 열차단부는 상기 몸체에서 온도 편차가 있는 곳에 국부적으로 설치되는 것을 특징으로 한다.Further, the end of the train is locally installed at a position where there is a temperature variation in the body.
상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명의 진공챔버는, 몸체와, 상기 몸체의 하면에 연결된 봉과, 상기 몸체의 내부에서 상기 몸체의 수평방향으로 배치된 수평부와 상기 봉을 관통하는 수직부를 갖는 열선, 및 상기 수평부 하부에 설치된 열차단부를 포함하는 서셉터를 구비한 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a vacuum chamber including a body, a rod connected to a lower surface of the body, a horizontal portion disposed in the body in a horizontal direction, and a vertical portion penetrating the rod, And a susceptor including a heat ray and a heat ray end portion provided below the horizontal portion.
본 발명에 따른 서셉터 및 이를 구비한 진공챔버는 다음과 같은 장점이 있다.The susceptor according to the present invention and the vacuum chamber having the susceptor have the following advantages.
몸체 중앙부의 열이 봉을 통해 외부로 빠져나가는 것을 방지할 수 있다는 장점이 있다.There is an advantage that the heat in the central portion of the body can be prevented from escaping through the rod to the outside.
또한, 몸체 중앙부의 열이 봉을 통해 외부로 빠져나가는 것을 방지할 수 있으므로 몸체 상면의 열균일성을 향상시킬 수 있다는 장점이 있다.In addition, since the heat in the central portion of the body can be prevented from escaping to the outside through the bar, the heat uniformity of the upper surface of the body can be improved.
또한, 몸체 상면의 열균일성으로 인해 기판에도 균일한 열 전달이 이루어져 기판에 증착되는 박막의 두께를 고르게 할 수 있다는 장점이 있다.In addition, since the heat uniformity on the upper surface of the body allows uniform heat transfer to the substrate, the thickness of the thin film deposited on the substrate can be made even.
또한, 대형 기판에서도 온도편차에 따른 막질의 특성 변화를 줄인 고품질의 막질을 형성할 수 있다는 장점이 있다.In addition, even on a large-sized substrate, it is possible to form a high-quality film having a reduced characteristic change of the film quality due to temperature variations.
또한, 몸체 상면의 국부적인 온도 편차를 줄일 수 있다는 장점이 있다.In addition, there is an advantage that a local temperature deviation of the upper surface of the body can be reduced.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 서셉터를 도시한 저면사시도.
도 2는 도 1의 A부분을 뒤집어서 도시한 분해사시도.
도 3은 도 1의 A부분에 대한 제1변형예를 뒤집어서 도시한 분해사시도.
도 4는 도 1의 A부분에 대한 제2변형예를 뒤집어서 도시한 분해사시도.
도 5는 도 1의 A부분에 대한 제3변형예를 뒤집어서 도시한 분해사시도.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 서셉터의 열차단부가 국부적으로 설치될 때를 뒤집어서 도시한 분해사시도.
도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 서셉터의 승강부재가 하강한 상태를 개략적으로 도시한 단면도.
도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 서셉터의 승강부재가 상승한 상태를 개략적으로 도시한 단면도.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 서셉터를 도시한 저면분해사시도.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 서셉터의 승강부재가 하강한 상태를 개략적으로 도시한 단면도.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 서셉터의 승강부재가 상승한 상태를 개략적으로 도시한 단면도.1 is a bottom perspective view showing a susceptor according to a preferred embodiment of the present invention.
Fig. 2 is an exploded perspective view showing the portion A of Fig. 1 in an inverted state.
FIG. 3 is an exploded perspective view showing a first modification of the portion A in FIG. 1; FIG.
FIG. 4 is an exploded perspective view showing a second modification of the portion A in FIG. 1; FIG.
FIG. 5 is an exploded perspective view showing a third modification of the portion A in FIG. 1; FIG.
FIG. 6 is an exploded perspective view of a susceptor according to a preferred embodiment of the present invention, when a train end is installed locally. FIG.
7 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the elevating member of the susceptor is lowered according to a preferred embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional view schematically showing a state in which an elevating member of a susceptor is lifted according to a preferred embodiment of the present invention.
9 is a bottom exploded perspective view of a susceptor according to another embodiment of the present invention.
10 is a cross-sectional view schematically showing a state in which an elevating member of a susceptor is lowered according to another embodiment of the present invention.
11 is a cross-sectional view schematically showing a state in which an elevating member of a susceptor is lifted according to another embodiment of the present invention.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명하기로 한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부한 도면들과 함께 상세히 후술된 실시 예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명하는 실시 예에 한정된 것이 아니라 서로 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시 예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록, 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Brief Description of the Drawings The advantages and features of the present invention, and how to achieve them, will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein but may be embodied in different forms. Rather, the embodiments disclosed herein are provided so that the disclosure can be thorough and complete, and will fully convey the concept of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 또한, 바람직한 실시 예에 따른 것이기 때문에, 설명의 순서에 따라 제시되는 참조 부호는 그 순서에 반드시 한정되지는 않는다. The terminology used herein is for the purpose of illustrating embodiments and is not intended to be limiting of the present invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. As used herein, the terms 'comprises' and / or 'comprising' mean that the stated element, step, operation and / or element does not imply the presence of one or more other elements, steps, operations and / Or additions. In addition, since they are in accordance with the preferred embodiment, the reference numerals presented in the order of description are not necessarily limited to the order.
본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시 도인 단면도 및/또는 평면도들을 참고하여 설명될 것이다. 도면들에 있어서, 막 및 영역들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. 따라서, 제조 기술 및/또는 허용 오차 등에 의해 예시도의 형태가 변형될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다. 따라서, 도면에서 예시된 영역들은 개략적인 속성을 가지며, 도면에서 예시된 영역들의 모양은 소자의 영역의 특정 형태를 예시하기 위한 것이며 발명의 범주를 제한하기 위한 것이 아니다.The embodiments described herein will be described with reference to cross-sectional views and / or plan views which are ideal illustrations of the present invention. In the drawings, the thicknesses of the films and regions are exaggerated for an effective description of the technical content. Thus, the shape of the illustrations may be modified by manufacturing techniques and / or tolerances. Accordingly, the embodiments of the present invention are not limited to the specific forms shown, but also include changes in the shapes that are generated according to the manufacturing process. Thus, the regions illustrated in the figures have schematic attributes, and the shapes of the regions illustrated in the figures are intended to illustrate specific types of regions of the elements and are not intended to limit the scope of the invention.
참고적으로, 이하에서 설명될 본 발명의 구성들 중 종래기술과 동일한 구성과, 서셉터 외측에 배치되는 진공챔버에 대해서는 전술한 종래기술을 비롯하여 종래에 많이 공지되어 있으므로, 별도의 상세한 설명은 생략한다.For reference, the vacuum chamber arranged outside the susceptor and the same configuration as the prior art among the configurations of the present invention to be described below are well known in the prior art including the above-described conventional techniques, and a detailed description thereof will be omitted do.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 서셉터를 도시한 저면사시도이고, 도 2는 도 1의 A부분을 뒤집어서 도시한 분해사시도이고, 도 3은 도 1의 A부분에 대한 제1변형예를 뒤집어서 도시한 분해사시도이고, 도 4는 도 1의 A부분에 대한 제2변형예를 뒤집어서 도시한 분해사시도이고, 도 5는 도 1의 A부분에 대한 제3변형예를 뒤집어서 도시한 분해사시도이고, 도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 서셉터의 열차단부가 국부적으로 설치될 때를 뒤집어서 도시한 분해사시도이고, 도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 서셉터의 승강부재가 하강한 상태를 개략적으로 도시한 단면도이고, 도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 서셉터의 승강부재가 상승한 상태를 개략적으로 도시한 단면도이다.FIG. 1 is an exploded bottom perspective view showing a susceptor according to a preferred embodiment of the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view showing part A in FIG. 1, and FIG. 3 is a cross- Fig. 4 is an exploded perspective view showing the second modification of the portion A in Fig. 1, and Fig. 5 is an exploded perspective view of the third modification of the portion A of Fig. And FIG. 6 is an exploded perspective view of a susceptor according to a preferred embodiment of the present invention, when the end portion of the susceptor is installed locally. FIG. 7 is a cross- 8 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the elevating member of the susceptor according to the preferred embodiment of the present invention is elevated.
도 1, 도 2 및 도 6 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 서셉터는, 몸체(100)와, 몸체(100)의 하면에 연결된 봉(200)과, 몸체(100)의 내부에서 몸체(100)의 수평방향으로 배치된 수평부(310)와 봉(200)을 관통하는 수직부(320)를 갖는 열선(300), 및 수평부(310) 하부에 설치된 열차단부(400)를 포함한다. As shown in FIGS. 1, 2 and 6 to 8, a susceptor according to a preferred embodiment of the present invention includes a
몸체(100)는 전체적으로 직육면체 형상으로 형성된 직사각판으로써 알루미늄 재질로 제작됨이 바람직하다. 몸체(100)의 표면은 아노다이징처리 될 수 있다. 몸체(100)는 기판(700)을 지지하는 역할을 하며, 기판(700)은 몸체(100)의 상면에 위치하게 된다.The
몸체(100)에는 봉(200)이 연결된다. 봉(200)은 종방향으로 길게 형성된 원형 파이프 형상이다. 봉(200)은 몸체(100)의 하면 중앙에 연결되어 용접에 의해 몸체(100)에 고정된다. 보다 구체적으로 봉(200)은 몸체(100)의 하면 중앙부에 고정되는 후술할 덮개(403)의 하부에 용접된다. 봉(200)은 내부에 중공(210)이 형성되며, 봉(200)의 하단측에 설치되는 후술할 히터(미도시)의 열선(300)이 중공(210)을 통해 인입되어 몸체(100)에 매설될 수 있다.The
몸체(100)의 하면 중앙에는 하부로 개구된 개구부를 갖는 수용홈(110)이 형성된다. 수용홈(110)은 몸체(100)의 하면에 형성된 원형홈이다. 수용홈(110)은 몸체(100)의 하면에 대해 상측으로 오목하게 형성된다. 수용홈(110)은 봉(200)에 형성된 중공(210)과 종방향으로 연통된다. At the lower center of the
수용홈(110)의 반경방향 외측으로는 하부로 개구된 개구부를 갖는 홈(120)이 이격되어 형성된다. 홈(120)은 몸체(100)의 하면에 형성된 도넛형홈이다. 홈(120)은 몸체(100)의 하면에 대해 상측으로 오목하게 형성된다. 홈(120)은 단차지게 형성되어 개구된 하부 일부의 횡폭이 그 상부 횡폭보다 크게 형성된다. 홈(120)은 수용홈(110)의 직경보다 큰 내측 및 외측 직경을 가진 채 수용홈(110)과 이격되도록 형성되며, 수용홈(110)을 둘러싼 형태로 형성된다.A
홈(120)과 수용홈(110)의 사이에는 몸체(100)의 상면 일부가 홈(120)과 수용홈(110)에 대해 하측으로 볼록하게 형성된 도넛형상의 볼록부(130)가 형성되어 있다.A donut-shaped
홈(120)의 개구부측에는 제1단턱(121)이 형성된다. 제1단턱(121)은 볼록부(130)의 둘레면 하단측과, 볼록부(130)의 둘레면과 마주하는 둘레면 하단측에 각각 형성된다. 즉, 제1단턱(121)은 홈(120)의 내부에 서로 마주하도록 형성된 두 둘레면 하단측에 각각 형성되는 것이다.A
몸체(100)의 하면에는 수용홈(110) 내의 둘레면에서부터 볼록부(130) 및 홈(120)을 거쳐 몸체(100) 내의 수평방향 여러 갈래로 갈라지는 매설홈(140)이 형성된다. 매설홈(140)은 하부로 개구된 개구부를 갖는다. 매설홈(140)은 몸체(100)의 하면에 대해 상측으로 오목하게 형성된다. 매설홈(140)은 단차지게 형성되어 개구된 하부 일부의 횡폭이 그 상부 횡폭보다 크게 형성된다. 매설홈(140)에는 후술할 열선(300)이 매설되며, 매설홈(140)의 형상은 열선(300)에 의해 가해지는 열이 몸체(100) 상면에 균일하게 전달될 수 있는 다양한 패턴으로 형성될 수 있다. 매설홈(140)은 홈(120)의 깊이보다 깊게 형성되고, 수용홈(110)의 깊이와 동일하게 형성됨이 바람직하다. 매설홈(140)은 수용홈(110) 및 홈(120)과 연통된다.A buried
매설홈(140)의 개구부측에는 제2단턱(141)이 형성된다. 제2단턱(141)은 매설홈(140)의 내부에 서로 마주하도록 형성된 두 면의 하단측에 각각 형성된다.A
몸체(100) 및 봉(200)에는 복수의 열선(300)이 설치된다. 열선(300)은 봉(200)의 하단측에 설치된 히터(미도시)에 전원을 인가함에 따라 발열하여 열전도를 통해 몸체(100)의 상면에 열이 전달되도록 하는 역할을 한다. 몸체(100)에 전달된 열은 열전도를 통해 몸체(100)의 상면에 올려진 기판(700)에 전달되어 진다. 열선(300)은 몸체(100)의 내부에서 몸체(100)의 수평방향으로 배치된 수평부(310)와, 수용홈(110)으로부터 봉(200)의 중공(210)을 관통하는 수직부(320)를 갖는다. 수평부(310)는 매설홈(140)과 평면상 동일한 패턴을 가지고 형성되어 매설홈(140)의 하단측에 형성된 개구부를 통해 매설홈(140) 내에 매설된다. A plurality of
이때, 수평부(310)는 매설홈(140)의 바닥(상단)까지 삽입되어 매설되며, 수평부(310)의 하부에는 제2매설홈덮개(145)와 제1매설홈덮개(143)가 설치된다. 제1매설홈덮개(143)는 제2단턱(141)에 설치되고, 제2매설홈덮개(145)는 제1매설홈덮개(143)와 수평부(310) 사이에 설치된다. 즉, 수평부(310)의 하부는 제2매설홈덮개(145)의 상부에 의해 덮이고, 제2매설홈덮개(145)의 하부는 제1매설홈덮개(143)의 상부에 의해 덮인다. 제1매설홈덮개(143)는 상면은 제2매설홈덮개(145)의 하부 형상에 대응하도록 평평하게 형성되어 제2매설홈덮개(145)의 하부를 지지하고, 제2매설홈덮개(145)의 상면은 열선(300)의 하부 형상에 대응하도록 하측으로 오목하게 라운드지게 형성되어 열선(300)의 하부를 지지한다. 제1매설홈덮개(143)와 제2매설홈덮개(145)는 전체적으로 수평부(310) 및 매설홈(140)과 평면상 동일한 패턴을 갖지만 홈(120)이 형성된 구간에서 제1매설홈덮개(143)는 일부분이 끊어져 있고, 제2매설홈덮개(145)는 일부분이 절개되어 있다. 제1매설홈덮개(143)는 열선(300) 및 제2매설홈덮개(145)가 매설홈(140)에 차례대로 매설된 다음, 매설홈(140)의 제2단턱(141)에 배치된 채 폭 방향 테두리를 따라 몸체(100)와 서로 용접되어 고정되며, 이로 인해 매설홈(140)은 외부로부터 밀폐된다. 이때, 사용되는 용접은 마찰교반용접인 것이 가장 바람직하다.At this time, the
수평부(310)는 전원의 인가에 따라 열이 발생하는 발열부(미도시)와, 전원의 인가에도 열이 발생하지 않는 비발열부(미도시)를 가진다. The
수평부(310)의 수용홈(110)측 단부 각각에는 수직부(320)가 각각 형성된다. 수직부(320)는 수평부(310)의 수용홈(110)측 단부 각각에서 상측으로 각각 절곡되어 연장된다. 수직부(320)는 수용홈(110) 및 봉(200)의 중공 내에 배치된다. 수직부(320)는 수용홈(110)에서부터 봉(200)의 중공(210)을 통해 외부로 인출된다. 외부로 인출된 수직부(320)의 단부는 봉(200)의 하단측에 배치되어 열선(300)에 전원을 인가하는 히터부(미도시)에 연결된다.
수평부(310)의 하부에는 열차단부(400)가 설치된다. 열차단부(400)는 몸체(100)의 하면 중앙부에 설치된다. 열차단부(400)는 수평부(310)의 비발열부(미도시) 하부에 위치하는 것이 바람직하나, 수평부(310)의 발열부(미도시) 및 비발열부(미도시)의 하부에 위치할 수도 있다. 열차단부(400)는 수용홈(110)에 위치하는 수직부(320)를 둘러싸는 위치에 배치된다. 열차단부(400)는 열차단부(400)의 상부측 몸체(100)의 열이 열차단부(400)의 하부측으로 빠져나가지 못하게 하기 위해 몸체(100)를 이루는 금속인 알루미늄의 열전도율보다 낮은 열전도율을 갖는 금속 단열재 또는 비금속 단열재로 이루어지는 것이 바람직하다. 예컨대, 열차단부(400)는 유리세라믹 또는 산화알루미늄(Al2O3) 또는 산화마그네슘(MgO)으로 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 열차단부(400)는 스테인레스 스틸 재질로 이루어질 수 있다. 또한, 열차단부(400)는 열전도율이 0.03W/mk 이상 35W/mk 이하인 것이 바람직하다. A
열차단부(400)는 실질적으로 전술했던 홈(120)을 포함하며, 홈(120)에 삽입되어 설치되는 열차단부재(401)와 덮개(403)도 포함한다. 열차단부재(401)는 도넛형상으로써 홈(120)에 삽입되어 설치된다. 열차단부재(401)는 홈(120)에서 횡폭이 작게 형성된 부분 내에 삽입된다. 열차단부재(401)의 높이는 홈(120)의 바닥(상단)에서 제1단턱(121) 사이의 높이와 동일하여, 홈(120)에 열차단부재(401)가 삽입될 경우, 제1단턱(121) 하부로 열차단부재(401)가 돌출되지 않는다. 즉, 열차단부재(401)의 높이는 홈(120)에서 횡폭이 작게 형성된 부분의 높이와 동일하다.The
열차단부재(401)는 열차단부재(401)의 상부측 몸체(100) 중앙 부근의 열이 열차단부재(401)의 하부를 거쳐 후술할 봉(200)을 통해 빠져나가는 것을 막아주는 역할을 한다.The
열차단부재(401)의 하부에는 덮개(403)가 설치된다. 덮개(403)는 홈(120)의 개구부를 덮어 열차단부재(401)가 외부로 노출되지 않게 한다. 덮개(403)는 제1단턱(121)에 배치되도록 홈(120)의 개구부측 횡폭이 크게 형성된 부분 내에 삽입된다. 덮개(403)는 제1단턱(121)에 배치되도록 홈(120)에 삽입된 채 하면 내측 테두리와 하면 외측 테두리가 몸체(100)와 용접되어 고정되며, 홈(120)을 외부로부터 밀폐한다. 이때, 사용되는 용접은 마찰교반용접인 것이 가장 바람직하다.A
또한, 봉(200)은 덮개(403)의 내측으로 몸체(100)의 하면에 설치되는데, 보다 구체적으로 봉(200)의 외주면 상단은 몸체(100)와 용접되어 고정된 덮개(403)의 하면에 용접되어 고정되는 것이다. 봉(200)의 외주면의 직경은 덮개(403)의 외측 테두리의 직경보다 작게 형성되는 것이 바람직하고, 덮개(403)의 내측 테두리의 직경보다 크게 형성되는 것이 바람직하다.More specifically, the upper end of the outer circumference of the
도 6에 도시된 바와 같이, 열차단부(400')는 필요에 따라 몸체(100)의 하면 중앙부 외에 몸체(100)에서 온도 편차가 있는 곳에 국부적으로 설치될 수도 있다. 이때, 열차단부(400')는 도 6에 도시된 바와 같이, 몸체(100)의 하부로 개구된 개구부를 갖는 원형의 홈(120')과, 홈(120') 내에 설치되는 원형의 열차단부재(401')와, 열차단부재(401')을 덮은 채 몸체(100)에 용접되어 고정되는 원형의 덮개(403')를 포함하며, 이러한 열차단부(400')는 전술했던 몸체(100)의 하면 중앙부에 설치되는 열차단부(400)의 홈(120), 열차단부재(401) 및 덮개(403)와 형상 및 설치위치만 다를 뿐 고정설치되는 방법은 동일하다. 이때, 사용되는 용접은 마찰교반용접인 것이 가장 바람직하다.As shown in FIG. 6, the end portion 400 'of the heat source 400' may be installed locally at a location where the temperature of the
몸체(100)에는 몸체(100)의 테두리 부근을 따라 형성되는 복수 개의 관통공(150)이 서로 이격되어 형성된다. 관통공(150)은 몸체(100)의 상면에서 하면까지 수직하게 관통되어 있다. The
각각의 관통공(150)에는 기판(700)을 승강시키기 위한 리프트핀(500)이 각각 몸체(100)를 관통되도록 삽입되어 설치된다. 리프트핀(500)은 상단부 일부가 상광하협의 원추형상이다. 각각의 리프트핀(500)은 하단이 몸체(100)의 하부에 위치하는 승강부재(600)에 고정되어 승강부재(600)의 상승 시 함께 상승하여 몸체(100)의 상면 위로 돌출되고, 승강부재(600)의 하강 시 함께 하강하여 몸체(100)에 형성된 관통공(150)에 완전히 삽입된다. 기판(700)은 승강부재(600)가 상승하면 각각의 리프트핀(500)에 의해 몸체(100)의 상면과 이격되도록 들어올려 지고, 승강부재(600)가 하강하면 각각의 리프트핀(500)에 의해 몸체(100)의 상면에 올려지게 된다.In the through
이하, 도 1의 A부분에 대한 변형예들을 설명하며, 본 발명의 바람직한 실시예와 실질적으로 동일한 구성은 설명을 생략하고, 동일한 부호를 부여한다.Hereinafter, modifications to the portion A of FIG. 1 will be described, and substantially the same configurations as those of the preferred embodiment of the present invention are not described and are given the same reference numerals.
도 3은 도 1의 A부분에 대한 제1변형예를 뒤집어서 도시한 분해사시도이다.3 is an exploded perspective view showing the first modification of the portion A of FIG.
도 3에 도시된 바와 같이, 제1매설홈덮개(143)와 제2매설홈덮개(미도시)는 홈(120)의 하단 외측 테두리까지만 형성될 수 있고, 볼록부(130)의 하면에는 제2단턱(미도시)이 형성되지 않을 수 있으며, 열차단부재(401)의 내주면에는 볼록부(130)에 형성된 매설홈(140) 내의 열선(300)을 덮는 지지부재(405)가 형성될 수 있다.3, the first and second buried-groove covers 143 and 143 may be formed only up to the outer edge of the lower end of the
지지부재(405)는 볼록부(130)에 형성된 매설홈(140)에 대응하는 형상을 가진다. 지지부재(405)는 열선(300)을 고정하는 동시에, 볼록부(130)를 보강하는 역할을 한다.The
도 4는 도 1의 A부분에 대한 제2변형예를 뒤집어서 도시한 분해사시도이다.4 is an exploded perspective view showing a second modification of the portion A in Fig.
도 4에 도시된 바와 같이, 제1매설홈덮개(143)와 제2매설홈덮개(미도시)는 홈(120)의 하단 외측 테두리까지만 형성될 수 있고, 볼록부(130)의 하면에는 제2단턱(미도시)이 형성되지 않을 수 있다.4, the first and second buried groove covers 143 and 74 may be formed only up to the outer edge of the lower end of the
즉, 제2변형예는 도 3에 도시된 제1변형예에서 지지부재(405)만이 없는 상태이다.That is, the second modification is a state in which only the
도 5는 도 1의 A부분에 대한 제3변형예를 뒤집어서 도시한 분해사시도이다.Fig. 5 is an exploded perspective view showing the third modification of the portion A in Fig. 1;
도 5에 도시된 바와 같이, 제1매설홈덮개(143)는 홈(120)의 하단 외측 테두리까지만 형성될 수 있고, 도 2 또는 도 3 또는 도 4에서 볼록부(130)를 제거하여 홈(120)과 수용홈(110)이 이어지도록 형성될 수 있으며, 제2매설홈덮개(145)는 수용홈(110) 내의 둘레면까지 형성되어 열선(300)을 덮는다.5, the first buried
도 5에서 홈(120)의 횡폭은 도 2 또는 도 3 또는 도 4에서 볼록부(130)와 홈(120)의 횡폭을 합한 것과 같다.5, the width of the
홈(120)에는 홈(120)의 횡폭에 대응하는 도넛형상의 열차단부재(401)가 삽입되고, 열차단부재(401)의 하부에는 열차단부재(401)의 횡폭에 제1단턱(121)의 횡폭을 더한 크기의 덮개(403)가 덮어진다.A donut-shaped
이하에서는, 본 발명의 다른 실시예에 따른 서셉터를 설명한다.Hereinafter, a susceptor according to another embodiment of the present invention will be described.
본 발명의 다른 실시예에 따른 서셉터를 설명함에 있어서, 본 발명의 바람직한 실시예와 실질적으로 동일한 구성은 설명을 생략하고, 동일한 부호를 부여한다.In describing the susceptor according to another embodiment of the present invention, substantially the same constituent elements as those of the preferred embodiment of the present invention are not described, and the same reference numerals are given thereto.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 서셉터를 도시한 저면분해사시도이고, 도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 서셉터의 승강부재가 하강한 상태를 개략적으로 도시한 단면도이고, 도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 서셉터의 승강부재가 상승한 상태를 개략적으로 도시한 단면도이다.FIG. 9 is a bottom exploded perspective view showing a susceptor according to another embodiment of the present invention, FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the elevator of a susceptor according to another embodiment of the present invention is lowered, 11 is a cross-sectional view schematically showing a state where the elevating member of the susceptor according to another embodiment of the present invention is elevated.
본 발명의 다른 실시예에 따른 서셉터는, 열선(300)이 매설되는 상부몸체(100a) 및 상부몸체(100a)와 분리 결합되고 봉(200)이 연결되는 하부몸체(100b)를 포함하는 몸체(100)와, 상부몸체(100a)와 하부몸체(100b) 사이의 공간(105)에 배치되는 열차단부(400)를 포함한다.The susceptor according to another embodiment of the present invention includes an
상부몸체(100a)는 하부가 개구된 직육면체 형상이고, 하부몸체(100b)는 직사각판 형상이다. 상부몸체(100a)에는 테두리를 따라 하측으로 돌출된 돌출부(160)가 형성되어 있다. 상부몸체(100a)의 테두리, 즉, 돌출부(160)는 하부몸체(100b)의 상면 테두리와 용접되어 일체로 결합된다. 이때, 사용되는 용접은 마찰교반용접인 것이 가장 바람직하다. The
하부몸체(100b)의 중앙에는 제1구멍(170)이 형성된다.A
하부몸체(100b)의 하면에는 중공(210)이 형성된 봉(200)이 연결된다. 봉(200)은 하부몸체(100b)의 하면 중앙부에 용접되어 고정된다.A
상부몸체(100a)와 하부몸체(100b) 사이에는 공간(105)이 형성된다. 공간(105)은 상부몸체(100a)의 하면, 하부몸체(100b)의 상면 및 돌출부(160)의 내면으로 둘러싸여 있다. A
공간(105)에는 열차단부(400)가 배치된다. 열차단부(400)는 공간(105)에 대응하는 직육면체 형상으로써 공간 내에 설치된다. 본 발명의 다른 실시예에 따른 서셉터에서 열차단부(400)는 공간(105) 전체에 걸쳐 설치되어 있지만 공간(105) 내에 국부적으로 설치될 수도 있다. 열차단부(400)는 상부몸체(100a) 상면의 열, 특히, 상부몸체(100a) 상면 중앙부의 열이 봉(200)을 통해 외부로 유출되지 않도록 하는 역할을 한다.In the
열차단부(400)의 중앙에는 제2구멍(407)이 형성된다. 제2구멍(407)은 봉(200)에 형성된 중공(210)과 하부몸체(100b)에 형성된 제1구멍(170)과 서로 연통된다.A second hole (407) is formed in the center of the heat-transfer end (400). The
상부몸체(100a)에는 하부로 개구된 개구부를 갖는 매설홈(140)이 형성되고, 매설홈(140) 내에는 열선(300)의 수평부(310)가 매설되어 제2매설홈덮개(145) 및 제1매설홈덮개(143)가 차례로 덮어져 고정된다.The
매설홈(140)에 매설된 열선(300)의 수평부(310) 단부에는 수직부(320)가 하측으로 절곡되어 제2구멍(407)에서부터 제1구멍(170)을 거쳐 중공(210)을 통해 외부로 인출된다.The
상부몸체(100a)에는 상부몸체(100a)의 테두리 부근을 따라 형성되는 복수 개의 제1관통공(151)이 서로 이격되어 형성되고, 하부몸체(100b)에는 하부몸체(100b)의 테두리 부근을 따라 형성되는 복수 개의 제2관통공(153)이 서로 이격되어 형성되며, 열차단부(400)에는 열차단부(400)의 테두리 부근을 따라 형성되는 복수 개의 제3관통공(409)이 서로 이격되어 형성된다. 각각의 제1관통공(151), 제2관통공(153) 및 제3관통공(409)의 개수는 동일하다. 각각의 제1관통공(151)의 하부에는 각각의 제3관통공(409)이 수직하게 배치되고, 각각의 제3관통공(409)의 하부에는 각각의 제2관통공(153)이 수직하게 배치된다. 즉, 각각 서로 가장 인접한 제1관통공(151), 제3관통공(409) 및 제2관통공(153)은 상측에서부터 하측으로 차례대로 배치되어 서로 연통된다. The
각각 서로 가장 인접한 제1관통공(151), 제3관통공(409) 및 제2관통공(153)에는 각각 밀폐부재(410)가 설치된다. 밀폐부재(410)는 각각의 제1관통공(151), 제2관통공(153) 및 제3관통공(409)의 개수와 동일한 개수가 설치된다. 밀폐부재(410)는 상단 중앙에서 하단 중앙까지 관통된 원통형상이다. 밀폐부재(410)는 상단부가 제1관통공(151) 하단 테두리의 상부몸체(100a) 하면에 용접되어 고정되고, 상부가 제3관통공(409)에 삽입되며, 하부가 제2관통공(153)에 삽입되어 하부몸체(100b)와 용접되어 고정된다. 이때, 밀폐부재(410)의 하면은 하부몸체(100b)의 하면과 수평하게 배치된다. 밀폐부재(410)는 복수 개의 제1관통공(151)과 복수 개의 제2관통공(153)이 공간(105)과 밀폐되도록 하여 봉(200)의 중공(210)을 통해 들어오는 공기가 제1관통공(151) 및 제2관통공(153)을 통해 진공챔버(미도시) 내로 유입되는 것을 막아주는 역할을 한다.A sealing
각각 수직하게 배치된, 즉, 각각 서로 가장 인접한 제1관통공(151)과 제3관통공(409)과 제2관통공(153)에는 리프트핀(500)이 설치된다. 보다 구체적으로 리프트핀(500)은 제1관통공(151)과, 제3관통공(409) 및 제2관통공(153)에 삽입된 밀폐부재(410)를 관통하여 승강부재(600)의 상승 또는 하강 작동에 따라 기판(700)을 상승 또는 하강시킨다. A
이상에서 설명한 본 발명의 서셉터는 진공챔버(미도시)에 구비될 수 있다. 상기 서셉터는 진공상태에서 박막증착공정이 이루어질 수 있도록 진공챔버(미도시) 내부에 배치되어 기판(700)을 지지하는 것이 바람직하다.The susceptor of the present invention described above may be provided in a vacuum chamber (not shown). The susceptor is preferably disposed in a vacuum chamber (not shown) to support the
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당기술분야의 당업자는 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변형하여 실시할 수 있다.Although the preferred embodiments of the present invention have been disclosed for illustrative purposes, those skilled in the art will appreciate that various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention as disclosed in the accompanying claims. can do.
100 : 몸체
100a : 상부몸체
100b : 하부몸체
105 : 공간
110 : 수용홈
120, 120' : 홈
121 : 제1단턱
130 : 볼록부
140 : 매설홈
141 : 제2단턱
143 : 제1매설홈덮개
145 : 제2매설홈덮개
150 : 관통공
151 : 제1관통공
153 : 제2관통공
160 : 돌출부
170 : 제1구멍
200 : 봉
210 : 중공
300 : 열선
310 : 수평부
320 : 수직부
400, 400' : 열차단부
401, 401' : 열차단부재
403, 403' : 덮개
405 : 지지부재
407 : 제2구멍
409 : 제3관통공
410 : 밀폐부재
500 : 리프트핀
600 : 승강부재
700 : 기판100:
100b: lower body 105: space
110: receiving
121: First step 130:
140: buried groove 141: 2nd step
143: first embedding groove cover 145: second embedded groove cover
150: through hole 151: first through hole
153: second through hole 160: protrusion
170: first hole 200: rod
210: Hollow 300: Heat line
310: horizontal part 320: vertical part
400, 400 ': train
403, 403 ': cover 405: support member
407: second hole 409: third through hole
410: sealing member 500: lift pin
600: elevating member 700: substrate
Claims (21)
상기 몸체의 하면에 연결된 봉;
상기 몸체의 내부에서 상기 몸체의 수평방향으로 배치된 수평부와 상기 봉을 관통하는 수직부를 갖는 열선; 및
상기 수평부 하부에 설치된 열차단부를 포함하는 것을 특징으로 하는 서셉터.
Body;
A rod connected to a lower surface of the body;
A heating wire having a horizontal portion arranged in the horizontal direction of the body and a vertical portion penetrating the bar inside the body; And
And a train end portion provided below the horizontal portion.
상기 열차단부는 상기 몸체의 하면 중앙부에 설치되는 것을 특징으로 하는 서셉터.
The method according to claim 1,
And the end of the train is installed at the center of the lower surface of the body.
상기 열선의 상기 수평부는 발열부와 비발열부를 갖고, 상기 열차단부는 상기 비발열부 하부에 위치하는 것을 특징으로 하는 서셉터.
The method according to claim 1,
Wherein the horizontal portion of the hot wire has a heat generating portion and a non-heat generating portion, and the end portion of the heat is located below the non-heat generating portion.
상기 열선의 상기 수평부는 발열부와 비발열부를 갖고, 상기 열차단부는 상기 발열부 및 상기 비발열부 하부에 위치하는 것을 특징으로 하는 서셉터.
The method according to claim 1,
Wherein the horizontal portion of the heat ray has a heat generating portion and a non-heat generating portion, and the end portion of the heat is located below the heat generating portion and the non-heat generating portion.
상기 열차단부는
상기 몸체의 하부로 개구된 개구부를 갖는 홈과;
상기 홈의 개구부를 덮는 덮개를 포함하는 것을 특징으로 하는 서셉터.
The method according to claim 1,
The train end
A groove having an opening opened to a lower portion of the body;
And a cover covering the opening of the groove.
상기 홈에는 열차단부재가 설치되는 것을 특징으로 하는 서셉터.
6. The method of claim 5,
And a heat block member is installed in the groove.
상기 홈은 상기 몸체의 하면 중앙부에 위치하고,
상기 덮개의 하부에 상기 봉이 설치되는 것을 특징으로 하는 서셉터.
6. The method of claim 5,
The groove is located at the center of the lower surface of the body,
And the rod is installed at a lower portion of the cover.
상기 홈은 상기 몸체의 하면 중앙부에 위치하고,
상기 봉은 상기 덮개의 내측으로 상기 몸체의 하면에 설치되는 것을 특징으로 하는 서셉터.
6. The method of claim 5,
The groove is located at the center of the lower surface of the body,
Wherein the rod is installed on the lower surface of the body to the inside of the lid.
상기 홈의 개구부에는 단턱이 형성되고,
상기 덮개는 상기 단턱에 배치되는 것을 특징으로 하는 서셉터.
6. The method of claim 5,
A step is formed in the opening of the groove,
Wherein the lid is disposed at the step.
상기 열차단부는 상기 수직부를 둘러싸는 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 서셉터.
The method according to claim 1,
And the end portion of the train is disposed at a position surrounding the vertical portion.
상기 홈은 도넛 형상인 것을 특징으로 하는 서셉터.
6. The method of claim 5,
Wherein the groove is donut-shaped.
상기 몸체는,
상기 열선이 매설되는 상부몸체; 및
상기 상부몸체와 분리 결합되고 상기 봉이 연결되는 하부몸체;를 포함하되,
상기 열차단부는 상기 상부몸체와 상기 하부몸체 사이의 공간에 배치되는 것을 특징으로 하는 서셉터.
The method according to claim 1,
The body,
An upper body in which the hot wire is embedded; And
A lower body separated from the upper body and connected to the upper body,
And the end of the train is disposed in a space between the upper body and the lower body.
상기 상부몸체의 테두리와 상기 하부몸체의 테두리가 용접되어 일체로 결합되는 것을 특징으로 하는 서셉터.
13. The method of claim 12,
Wherein the rim of the upper body and the rim of the lower body are welded and integrally joined.
상기 상부몸체에 형성되는 복수 개의 제1관통공;
상기 하부몸체에 형성되고 각각의 상기 제1관통공에 수직하게 배치되는 복수 개의 제2관통공; 및
각각의 서로 수직하게 배치된 상기 제1관통공과 상기 제2관통공에 설치되는 복수 개의 리프트핀;을 더 포함하되,
복수 개의 상기 제1관통공과 복수 개의 상기 제2관통공은 상기 공간과 밀폐되는 것을 특징으로 하는 서셉터.
13. The method of claim 12,
A plurality of first through holes formed in the upper body;
A plurality of second through holes formed in the lower body and disposed perpendicularly to the respective first through holes; And
And a plurality of lift pins installed in the first through holes and the second through holes arranged perpendicularly to each other,
Wherein the plurality of first through holes and the plurality of second through holes are sealed with the space.
상기 열차단부는 상기 몸체를 이루는 금속의 열전도율보다 낮은 열전도율을 갖는 금속 단열재로 이루어진 것을 특징으로 하는 서셉터.
The method according to claim 1,
Wherein the end of the train is made of a metal thermal insulator having a thermal conductivity lower than a thermal conductivity of the metal forming the body.
상기 열차단부는 상기 몸체를 이루는 금속의 열전도율보다 낮은 열전도율을 갖는 비금속 단열재로 이루어진 것을 특징으로 하는 서셉터.
The method according to claim 1,
Wherein the end of the train is made of a nonmetallic insulating material having a thermal conductivity lower than a thermal conductivity of the metal forming the body.
상기 열차단부는 열전도율이 0.03W/mk 이상 35W/mk 이하인 것을 특징으로 하는 서셉터.
The method according to claim 1,
And a heat conductivity of the end portion of the train is 0.03 W / mk or more and 35 W / mk or less.
상기 열차단부는 유리세라믹 또는 산화알루미늄(Al2O3) 또는 산화마그네슘(MgO)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 서셉터.
The method according to claim 1,
Wherein the end of the train is made of glass ceramic, aluminum oxide (Al 2 O 3 ), or magnesium oxide (MgO).
상기 열차단부는 스테인레스 스틸 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 서셉터.
The method according to claim 1,
Wherein the end of the train is made of stainless steel.
상기 열차단부는 상기 몸체에서 온도 편차가 있는 곳에 국부적으로 설치되는 것을 특징으로 하는 서셉터.
The method according to claim 1,
Wherein the end of the train is locally installed at a location where there is a temperature variation in the body.
상기 몸체의 하면에 연결된 봉;
상기 몸체의 내부에서 상기 몸체의 수평방향으로 배치된 수평부와 상기 봉을 관통하는 수직부를 갖는 열선; 및
상기 수평부 하부에 설치된 열차단부;를 포함하는 서셉터를 구비한 진공챔버.
Body;
A rod connected to a lower surface of the body;
A heating wire having a horizontal portion arranged in the horizontal direction of the body and a vertical portion penetrating the bar inside the body; And
And a susceptor installed at a lower portion of the horizontal portion.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150154743A KR102408404B1 (en) | 2015-11-04 | 2015-11-04 | Susceptor and vacuum chamber having the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150154743A KR102408404B1 (en) | 2015-11-04 | 2015-11-04 | Susceptor and vacuum chamber having the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170052373A true KR20170052373A (en) | 2017-05-12 |
KR102408404B1 KR102408404B1 (en) | 2022-06-14 |
Family
ID=58740564
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150154743A KR102408404B1 (en) | 2015-11-04 | 2015-11-04 | Susceptor and vacuum chamber having the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102408404B1 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990088384A (en) * | 1998-05-29 | 1999-12-27 | 시바타 마사하루 | Susceptors |
KR20020077176A (en) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | 니뽄 가이시 가부시키가이샤 | Supporting structure for a ceramic susceptor |
KR20050001918A (en) | 2003-06-28 | 2005-01-07 | 주성엔지니어링(주) | Susceptor and Method of Manufacturing Susceptor |
KR20070013364A (en) * | 2005-07-26 | 2007-01-31 | (주)월드이비텍 | Heater module of chemical vapor deposition apparatus |
-
2015
- 2015-11-04 KR KR1020150154743A patent/KR102408404B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990088384A (en) * | 1998-05-29 | 1999-12-27 | 시바타 마사하루 | Susceptors |
KR20020077176A (en) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | 니뽄 가이시 가부시키가이샤 | Supporting structure for a ceramic susceptor |
KR20050001918A (en) | 2003-06-28 | 2005-01-07 | 주성엔지니어링(주) | Susceptor and Method of Manufacturing Susceptor |
KR20070013364A (en) * | 2005-07-26 | 2007-01-31 | (주)월드이비텍 | Heater module of chemical vapor deposition apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102408404B1 (en) | 2022-06-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100750968B1 (en) | Structure of susceptor inside plasma enhanced chemical vapor deposition device | |
US20050051099A1 (en) | Susceptor provided with indentations and an epitaxial reactor which uses the same | |
KR101405299B1 (en) | Substrate supporting plate and apparatus for depositing thin film having the same | |
KR101600265B1 (en) | Chemical vapor deposition apparatus | |
KR100965143B1 (en) | Susceptor unit and apparatus for processing a substrate using it | |
JP2007067394A (en) | Substrate processing apparatus and substrate stage used for the same | |
TW201301335A (en) | Large area ICP source for plasma application | |
TWI690617B (en) | Chamber design for semiconductor processing | |
KR101440307B1 (en) | Apparatus for processing substrate | |
KR101318174B1 (en) | Susceptor and apparatus for CVD including the same | |
KR20170052373A (en) | Susceptor and vacuum chamber having the same | |
TWI629712B (en) | Method for manufacturing epitaxial wafer | |
KR102409329B1 (en) | Susceptor and Vaccum chamber including the same | |
KR101499056B1 (en) | Effusion Cell for Antipollution of Inner Part | |
KR20140003362A (en) | Substrate supporting plate and apparatus for depositing thin film having the same | |
KR101804394B1 (en) | Glass foaming apparatus | |
JP5132959B2 (en) | Vacuum processing equipment | |
KR101499054B1 (en) | Effusion Cell for Antipollution of Inner Part | |
KR102420852B1 (en) | Susceptor and Vaccum chamber including the same | |
KR20130039013A (en) | Mask frame assembly | |
KR101030926B1 (en) | Apparatus for processing substrate | |
KR101515882B1 (en) | The susceptor | |
KR20060032618A (en) | Susceptor with air gap | |
KR101707103B1 (en) | Heater for chemical vapor deposition and chemical vapor deposition apparatus using the same | |
KR102408403B1 (en) | Susceptor and Vaccum chamber including the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |