KR20170032953A - 표시 장치 및 이의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예는 기판, 상기 기판 상에 위치하는 표시부, 상기 표시부 상부에 상기 표시부를 밀봉하도록 배치되는 봉지부, 상기 봉지부 상부에 배치되는 제1막, 상기 제1막의 상부에 배치되는 다공성막, 상기 제1막의 상부에 위치하는 터치 필름 및 상기 터치 필름의 상부에 위치하는 편광판을 포함하는 표시 장치를 개시한다.

Description

표시 장치 및 이의 제조 방법{Display device and the method of manufacturing thereof}
본 발명은 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
정보화 기술이 발달함에 따라 사용자와 정보간의 연결 매체인　표시장치의 시장이 커지고 있다. 이에 따라, 액정표시장치(Liquid Crystal Display: LCD), 유기 전계 발광 표시 장치(Organic Light Emitting Diode Display: OLED), 전기영동표시장치(Electro Phoretic Display; EPD) 및 플라즈마 액정패널(Plasma Display Panel: PDP) 등과 같은　표시장치의 사용이 증가하고 있다.
최근, 표시 패널에 대한 요구는 평판 표시 패널에만 국한되지 않고 다양한 방향으로 구부리거나 펼 수 있는 플렉서블 표시 패널에까지 미치고 있다. 이와 같은 플렉서블 표시 패널에 터치 기능이 적용되려면, 표시패널의 구부러짐에도 파괴되지 않은 터치 필름이 필요하게 된다.
그러나, 이와 같은 표시 장치는, 소자 내의 전극과 터치 필름 간에 기생 커패시턴스가 발생하여, 화질이 저하되는 문제점이 있다.
이러한 문제를 해소하기 위하여 전극과 터치 필름 간의 일정 간격이 요구되며 간격 유지를 위하여 전극과 터치 필름 간에 별도로 유기막, 무기막을 구비할 수 있다.
다만, 별도로 구비되는 유기막의 outgas로 인하여 터치 필름 상부의 편광판의 색 빠짐 현상이 초래되는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은, 이러한 문제점을 해결하는 표시 장치 및 이의 제조 방법을 제공하는데 있다.
본 발명의 일 실시예는 기판, 상기 기판 상에 위치하는 표시부, 상기 표시부 상부에 상기 표시부를 밀봉하도록 배치되는 봉지부, 상기 봉지부 상부에 배치되는 제1막, 상기 제1막의 상부에 배치되는 다공성막, 상기 제1막의 상부에 위치하는 터치 필름 및 상기 터치 필름의 상부에 위치하는 편광판을 포함하는 표시 장치를 개시한다.
본 실시예에 있어서, 상기 제1막과 상기 다공성막은 각각 유기막과 무기막일 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 제1막은 적어도 하나의 기포를 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 다공성막은 적어도 하나의 크랙을 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 다공성막은 적어도 하나의 홀을 포함하고, 상기 홀은 상기 다공성막을 관통할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 다공성막은 2개 이상의 상기 홀을 포함하고,
상기 홀은 상기 다공성막 전체 내에 분산되도록 배치될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 다공성막은 플루오르화리튬(LiF)으로 이루어질 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 실시예는, 기판, 상기 기판 상에 위치하는 표시부, 상기 표시부 상부에 상기 표시부를 밀봉하도록 배치되는 봉지부, 상기 봉지부 상부에 순차적으로 적층된 제1막 및 제2막, 상기 제1막과 상기 제2막의 사이에 배치되는 다공성막, 상기 제2막의 상부에 위치하는 터치 필름 및 상기 터치 필름의 상부에 위치하는 편광판을 포함하는 표시 장치를 개시한다.
본 실시예에 있어서, 상기 제1막과 상기 제2막은 각각 유기막과 무기막일 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 제1막은 적어도 하나의 기포를 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 제2막은 적어도 하나의 크랙을 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 다공성막은 적어도 하나의 홀을 포함하고, 상기 홀은 다공성막을 관통할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 다공성막은 플루오르화리튬(LiF)으로 이루어진 막일 수 있다.
또한, 본 발명의 또 다른 실시예는, 기판을 제공하는 단계, 상기 기판 상에 표시부를 형성하는 단계, 상기 표시부의 상부에 상기 표시부를 외부로부터 밀봉시키는 봉지막을 형성하는 단계, 상기 봉지막의 상부에 유기막을 성막하는 단계, 상기 제1막의 상부에 다공성막을 성막하는 단계, 상기 다공성막의 상부에 터치 필름을 형성하는 단계 및 상기 터치 필름의 상부에 편광판을 형성하는 단계를 포함하는 표시 장치의 제조 방법을 개시한다.
본 실시예에 있어서, 상기 다공성막을 성막하는 단계는 열 증착(Thermal Evaporation) 공정에 의해 수행될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 열 증착(Thermal Evaporation) 공정에 의해 성막된 다공성막은 플루오르화리튬(LiF)으로 이루어지는 다공성 결정(Crystal)막일 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 다공성막을 성막한 후 상기 다공성막의 상부에 무기막을 성막하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 발광 소자와 터치 필름 간에 별도의 유기막이 구비되어 기생 커패시턴스를 줄일 수 있는 유리한 효과가 있다.
또한, 별도로 구비되는 상기 유기막과 상기 터치 필름 간에 무기막을 포함하여 접착력을 향상시킬 수 있는 유리한 효과가 있다.
또한, 상기 유기막과 상기 무기막 사이에 다공성막을 더 구비하여 유기막의 outgas가 다공성막을 관통하여 이동함에 따라 터치 필름 상부의 편광판의 색 빠짐을 초래하는 문제를 해소할 수 있는 유리한 효과가 있다.
본 발명의 효과는 상술한 내용 이외에도, 도면을 참조하여 이하에서 설명할 내용으로부터도 도출될 수 있음은 물론이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 평면도이다.
도 2a는 도 1에 도시된 표시 장치의 단면을 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 2b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면을 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 3은 도 2a에 도시된 표시 장치의 단면을 표시부를 중심으로 확대하여 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에 포함되는 터치 필름의 평면을 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 5는 도 4의 터치 필름에 포함되는 센싱패턴의 일부를 상세하게 도시한 평면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 단면을 제1막, 다공성막, 제2막을 중심으로 개략적으로 도시한 단면도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용된다.
이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
이하의 실시예에서, 막, 영역, 구성 요소 등의 부분이 다른 부분 "위"에 또는 "상"에 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함한다.
도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 수행될 수도 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(1000)의 평면도이다.
선택적 실시예로서, 기판(100)은 가요성이 있는 다양한 소재로 이루어질 수 있으며 내열성 및 내구성이 우수한 플라스틱 물질로 이루어질 수 있다.
기판(100)은 사용자가 인식할 수 있는 화상을 구현하는 표시 영역(DA)과 상기 표시 영역(DA)의 외곽 영역인 비표시 영역(NDA)를 포함할 수 있다.
표시 영역(DA)에는 유기 발광 소자, 액정 표시 소자와 같은 빛을 발생시키는 다양한 소자가 구비될 수 있으며, 비표시 영역(DA)에는 전원을 공급하는 전압선이 배치될 수 있다.
또한, 비표시 영역(NDA)에는 전원 공급장치(미도시) 또는 신호 생성장치(미도시)로부터 전기적 신호를 표시 영역(DA)으로 전달하는 패드부(PAD)가 배치될 수 있다.
패드부(PAD)에는 드라이버 IC(미도시), 드라이버 IC와 화소 회로를 연결시키는 패드(미도시) 및 팬 아웃 배선(미도시)을 포함할 수 있다.
도 2a는 도 1에 도시된 표시 장치의 단면을 개략적으로 도시한 단면도이다.
본 실시예에 따른 표시 장치(1000)는 기판(100), 기판 상에 구비되는 표시부(200) 및 표시부를 밀봉하는 봉지부(300)를 포함할 수 있다.
상술한 바와 같이 기판(100)은 다양한 소재를 포함할 수 있다. 선택적 실시예로서, 기판(100)은 SiO2를 주성분으로 하는 투명한 유리 재질로 이루어질 수 있다. 그러나, 기판(100)은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 투명한 플라스틱 재질로 형성할 수도 있다. 플라스틱 재질은 절연성 유기물인 폴리에테르술폰(PES, polyethersulphone), 폴리아크릴레이트(PAR, polyacrylate), 폴리에테르 이미드(PEI, polyetherimide), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN, polyethyelenen napthalate), 폴리에틸렌 테레프탈레이드(PET, polyethyeleneterepthalate), 폴리페닐렌 설파이드(polyphenylene sulfide: PPS), 폴리아릴레이트(polyallylate), 폴리이미드(polyimide), 폴리카보네이트(PC), 셀룰로오스 트리 아세테이트(TAC), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(cellulose acetate propionate: CAP)로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 유기물일 수 있다.
본 실시예에 따른 표시 장치(1000)는 기판(100)이 유연한 성질을 갖도록 형성하여, 2차원 적으로 연신 가능하게 할 수 있다.
선택적 실시예로서 기판(100)은 0.4 이상의 포아송 비(Poisson's ratio)를 가지는 재질로 형성될 수 있다. 포아송 비(Poisson's ratio)는 한쪽방향에서 잡아 당겨서 길이를 늘일 때, 다른 쪽 방향이 줄어드는 비를 의미한다.
기판(100)을 형성하는 재질의 포아송 비(Poisson's ratio)가 0.4 이상, 즉 기판(100)이 잘 늘어나는 특성을 갖도록 하여 기판(100)의 유연성이 향상되고, 이를 통하여 표시 장치(1000)가 용이하게 벤딩 또는 폴딩될 수 있다.
표시부(200)는 기판(100)의 상부에 형성될 수 있다.
표시부(200)는 사용자가 시인 가능하도록 가시 광선을 발생한다. 표시부(200)는 다양한 소자를 구비할 수 있고, 예를 들면 유기 발광 소자 또는 액정 표시 소자 등을 포함할 수 있다.
본 실시예에 따른 표시 장치(1000)는 표시부(200)가 유기 발광 소자(OLED)를 포함할 수 있으며, 이에 대한 상세한 설명은 후술하도록 한다.
표시부(200)를 외부의 수분이나 산소로부터 보호하기 위하여 표시부(200)를 완전히 밀봉하도록 봉지부(300)를 포함할 수 있다.
선택적 실시예로서, 봉지부(300)는 표시부(200)의 상부에 형성될 수 있으며 봉지부(300)의 양단이 기판(100)과 밀착하도록 형성될 수 있다.
선택적 실시예로서, 봉지부(300)는 다수의 박막층이 적층된 구조로서, 무기막과 유기막이 교번적으로 적층된 구조로 형성될 수 있다.
무기막은 산소나 수분의 침투를 견고히 막아주는 역할을 할 수 있고, 상기 유기막은 무기막의 스트레스를 흡수하여 유연성을 부여하는 역할을 할 수 있다. 즉, 봉지부(300)에 포함된 유기막에 의해 표시 장치(1000)의 유연성이 향상될 수 있다.
상기 무기막은 금속 산화물 또는 금속 질화물을 포함하는 단일막 또는 적층막일수 있다. 선택적 실시예로서, 상기 무기막들은 SiNx, Al2O3, SiO2, TiO2 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기 유기막은 고분자로 형성되며, 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리이미드, 폴라카보네이트, 에폭시, 폴리에틸렌 및 폴리아크릴레이트 중 어느 하나로 형성되는 단일막 또는 적층막일수 있다. 예컨대, 상기 유기막들은 폴리아크릴레이트로 형성될 수 있다. 구체적으로, 상기 유기막들은 디아크릴레이트계 모노머와 트리아크릴레이트계 모노머를 포함하는 모노머 조성물이 고분자화된 것을 포함할 수 있다. 상기 모노머 조성물에 모노아크릴레이트계 모노머가 더 포함될 수 있다. 또한, 상기 모노머 조성물에 TPO와 같은 광개시제가 더 포함될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 실시예에 따른 표시 장치(1000)는 봉지부(300)의 상부에 제1 막(400), 다공성막(500), 제2막(600) 및 터치 필름(700)이 순차로 적층될 수 있다.
상기 제1막(400)은 유기막일 수 있다.
표시부(200)는 유기 발광 소자(OLED)와 같은 발광 소자를 포함할 수 있으며, 발광 소자는 후술하는 바와 같이 전극을 포함할 수 있다. 이 때, 표시부(200)에 포함되는 전극과 표시부(200) 상부의 터치 필름(700) 간에는 기생 용량이 발생할 수 있다. 표시부(200)에 포함되는 전극과 표시부(200) 상부의 터치 필름(700) 간에 기생 용량이 발생하게 되면 센싱 감도가 저하될 우려가 있다.
한편, 다음과 같이 두 층 사이에 발생하는 기생 용량(Cp)은 두 층 간의 거리(d)에 반비례하는 값으로써, 표시부(200)와 터치 필름(700) 간에 발생하는 기생 용량을 줄이기 위해서는 표시부(200)와 터치 필름(700) 간에 일정한 간격이 요구된다.
따라서, 선택적 실시예로서, 표시부(200)와 터치 필름(700) 간에 일정한 간격을 유지하기 위하여 제1막(400)이 구비될 수 있으며, 소정의 두께를 가지는 막이 형성되어야 하므로 제1막(400)은 유기막일 수 있다.
선택적 실시예로서, 제1막(400)은 10㎛의 두께를 가질 수 있다.
제1막(400)은 유기물로 단층 또는 복수층의 구조로 형성될 수 있으며, 다양한 증착 방법에 의해 형성될 수 있다. 일부 실시예에서, 제1막(400)은 아크릴계 수지(polyacrylates resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드계 수지(polyamides resin), 폴리이미드계 수지(polyimides rein), 불포화 폴리에스테르계 수지(unsaturated polyesters resin), 폴리페닐렌계 수지(poly phenylenethers resin), 폴리페닐렌설파이드계 수지(poly phenylenesulfides resin), 및 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene, BCB) 중 하나 이상의 물질로 형성될 수 있다.
제1막(400)이 유기물로 이루어지는 경우에는 용이하게 소정의 두께를 갖도록 성막할 수 있어, 표시부(200)와 터치 필름(700) 간의 간격을 유지할 수 있는 유리한 효과가 있다.
선택적 실시예로서, 제1막(400)의 상부에는 제2막(600)이 형성될 수 있다.
상기 제2막(600)은 무기막일 수 있다.
유기물으로 이루어지는 제1막(400)의 상부에 터치 필름(700)이 곧바로 부착되는 경우 접착력이 약한 문제가 있다. 터치 필름(700)은 무기물로 이루어질 수 있으며, 후술하는 바와 같이 센싱패턴(720, 도 4 참고)들이 형성되는 무기막일 수 있다.
이러한 경우, 패터닝된 무기막인 터치 필름(700)과 유기막인 제1막(400)사이의 접착력이 저하되어 신뢰성에 문제가 발생할 수 있다.
따라서, 터치 필름(700)과 제1막(400) 사이에 패터닝되지 않은 평탄화막인 제2막(600)을 형성하여 접착력을 향상시킬 수 있다.
선택적 실시예로서, 제2막(600)은 평탄화된 무기막으로 형성될 수 있으며 제1막(400)과 터치 필름(700) 사이에서 접착력을 향상시킬 수 있는 유리한 효과가 있다.
선택적 실시예로서, 제2막(600)의 두께는 제1막(400)보다 작을 수 있다.
제2막(600)은 무기물로 단층 또는 복수층의 구조로 형성될 수 있다.
선택적 실시예로서, 제2막(600)은 화학 증착 공정(Chemical Vapor Deposition, CVD)에 의해 성막될 수 있다. 일부 실시예에서, 제2막(600)은 금속 산화물 또는 금속 질화물일 수 있으며, 구체적으로 무기 물질은 실리콘산화물(SiO2), 실리콘질화물(SiNx), 실리콘산질화물(SiON), 알루미늄산화물(Al2O3), 티타늄산화물(TiO2), 탄탈산화물(Ta2O5), 하프늄산화물(HfO2), 또는 아연산화물(ZrO2) 등을 포함할 수 있다.
선택적 실시예로서, 표시 장치(1000)는 제1막(400)과 제2막(600) 사이에 구비되는 다공성막(500)을 더 포함할 수 있다.
선택적 실시예로서, 다공성막(500)은 복수 개의 구멍(hole)을 갖도록 형성될 수 있다.
다공성막(500)의 구조 및 기능에 대하여는 이후 별도로 상세히 설명하도록 한다.
제2막(600)의 상부에는 터치 필름(700)이 형성될 수 있다.
터치 필름(700)은 표시부(200) 위에 배치될 수 있다. 이러한 터치 필름(700)은 물체가 터치 필름(700)에 접근하거나, 터치 필름(700)에 접촉하면 터치를 감지할 수 있다. 여기서, 접촉이란 사용자의 손과 같은 외부 물체가 터치 필름(700)에 직접적으로 닿는 경우뿐만 아니라 외부 물체가 터치 필름(700)에 접근하거나 접근한 상태에서 움직이는(hovering) 경우도 포함한다.
터치 필름(700)의 구조에 대한 상세한 설명은 이후 도면과 함께 후술하도록 한다.
터치 필름(700)의 상부에는 편광판(800) 및 윈도우(900)가 형성될 수 있다.
편광판(800)은 외부광의 반사를 줄여 명암비를 증가시킬 수 있다.
편광판(800)은　표시부(200)를 거쳐 외부로 출사되는 빛의 광축을 변환시킨다. 일반적으로　편광판은 폴리비닐알코올계 수지로 이루어진　편광자(미도시)의 양면 또는 한쪽 면에 투명 보호필름(미도시)이 적층된 구조로 형성될 수 있다.
선택적 실시예로서,　편광판(800)은 폴리비닐알코올(Poly Vinyl Alchol, 이하, PVA라 함)계 분자 사슬이 일정한 방향으로 배향되고, 요오드계 화합물 또는 이색성　편광　물질을 포함하는 구조를 갖는　편광자에, 보호 필름으로 트리아세틸셀룰로즈(TAC) 필름을 접착시킨 구조로 이루어질 수 있다. 이때 상기　편광자와 보호 필름은 일반적으로 폴리비닐알코올계 수용액으로 이루어진 수계 접착제에 의해 접착될 수 있다.
다만,　편광판(800)의 구조는 상술한 구조에 한정되지 않음은 물론이며, 다양한 구조의　편광판이 사용될 수 있다.
한편, 편광판(800)의 상부에는 수지층(미도시)이 형성될 수 있다. 수지층(미도시)은　편광판(800) 상측에 이격 배치된 윈도우(900)와　편광판(800)을 합착시킬 수 있다.
선택적 실시예로서, 수지층은 액상 수지를 경화시켜 형성될 수 있다. 수지층은 투명한 액상 수지를 사용하여 이루어질 수 있다.
본 실시예에 따른 표시 장치(1000)는 윈도우(900)가 수지층에 의해 편광판(800)과 합착되어 편광판(800)의 상부에 배치될 수 있다.
윈도우(900)는 외부의 힘 및 외부 오염 물질로부터 윈도우(900)의 하측에 위치하는 편광판(800), 터치 필름(700) 및　표시부(200) 등을 보호하는 기능을 한다.
도 2b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치(2000)의 단면을 개략적으로 도시한 단면도이다. 도 2b에서, 도 2와 동일한 참조 부호는 동일 부재를 나타내며,
여기서는 설명의 간략화를 위하여 이들의 중복 설명은 생략한다.
상술한 도 2a에 도시된 실시예에 따른 표시 장치(1000)는, 봉지부(300)의 상부에 제1 막(400)의 상부에 다공성막(500) 및 제2막(600)이 순차로 적층되는 구조를 개시하고 있으나 이는 하나의 실시예이며 본 발명 표시 장치의 적층 구조가 이에 한정되지 않음은 물론이다.
도 2b에 도시된 바와 같이 본 실시예에 따른 표시 장치(2000)는 제1 막(400)의 상부에 제2 막(600)이 적층되지 않고, 다공성막(500)과 터치 필름(700)만이 형성될 수 있다.
즉, 제1막(400)과 터치 필름(700)간의 접착력이 저하되는 문제가 발생하지 않을 경우에는 접착력 향상을 위한 제2 막(600)이 구비되지 않고, 제1막(400)의 상부에 다공성막(500) 및 터치 필름(700)이 순차로 형성될 수 있음은 물론이다.
선택적 실시예로서, 터치 필름(700)의 상부에 편광판(800) 및 윈도우(900)가 순차로 적층 형성될 수 있다.
도 3은 도 2a에 도시된 표시 장치의 단면을 표시부(200)를 중심으로 확대하여 개략적으로 도시한 단면도이다. 상술한 바와 같이 표시부(200)는 유기 발광 소자(OLED), 액정 표시 소자와 같이 다양한 발광 소자를 구비할 수 있으나, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 표시부(200)가 유기 발광 소자(OLED)를 포함하는 실시예에 대하여 설명하도록 한다.
기판(100)의 상부에 버퍼층(110)이 형성될 수 있다. 버퍼층(110)은 불순물 이온이 확산되는 것을 방지하고, 수분이나 외기의 침투를 방지하며, 표면을 평탄화하기 위한 베리어층, 및/또는 블록킹층으로 역할을 할 수 있다.
선택적 실시예로서, 상기 버퍼층(110)은 무기막으로 이루어질 수 있으며 기판 전면(全面)에 형성될 수 있다.
버퍼층(110)의 상부에는 박막 트랜지스터(TFT)가 형성될 수 있다. 박막 트랜지스터(TFT)의 활성층(A)은 폴리 실리콘으로 이루어질 수 있으며, 불순물이 도핑되지 않은 채널 영역과, 채널 영역의 양 옆으로 불순물이 도핑되어 형성된 소스 영역 및 드레인 영역을 포함할 수 있다. 여기서, 불순물은 박막 트랜지스터의 종류에 따라 달라지며, N형 불순물 또는 P형 불순물이 가능하다.
활성층(A)이 형성된 후 활성층(A)의 상부에는 게이트 절연막(210)이 형성될 수 있다.
게이트 절연막(210)은 실리콘산화물 또는 실리콘질화물 등의 무기 물질로 이루어진 막이 다층 또는 단층으로 형성될 수 있다. 게이트 절연막(210)은 활성층(A)과 상부에 위치하는 게이트 전극(G)을 절연하는 역할을 한다.
선택적 실시예로서, 게이트 절연막(210)은 무기막으로 이루어질 수 있으며, 기판 전면(全面)에 형성될 수 있다.
상기 게이트 절연막(210)을 형성한 후 게이트 절연막(210)의 상부에 게이트 전극(G)이 형성될 수 있다. 상기 게이트 전극(G)은 포토리소그래피 공정과 식각 공정을 통하여 형성될 수 있다.
게이트 전극(G)의 물질은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 은(Ag), 마그네슘(Mg), 금(Au), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd), 이리듐(Ir), 크롬(Cr), 니켈(Li), 칼슘(Ca), 타이타늄(Ti), 텅스텐(W), 구리(Cu) 가운데 선택된 하나 이상의 금속을 포함할 수 있다.
상기 게이트 전극(G)이 형성된 후 층간 절연막(230)이 게이트 전극(G)을 덮도록 기판 전면(全面)에 형성될 수 있다.
층간 절연막(230)은 무기물로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 층간 절연막(230)은 금속 산화물 또는 금속 질화물일 수 있으며, 구체적으로 무기 물질은 실리콘산화물(SiO2), 실리콘질화물(SiNx), 실리콘산질화물(SiON), 알루미늄산화물(Al2O3), 티타늄산화물(TiO2), 탄탈산화물(Ta2O5), 하프늄산화물(HfO2), 또는 아연산화물(ZrO2) 등을 포함할 수 있다.
층간 절연막(230)은 실리콘산화물(SiOx) 및/또는 실리콘질화물(SiNx) 등의 무기물로 이루어진 막이 다층 또는 단층으로 형성될 수 있다. 일부 실시예에서, 층간 절연막(230)은 SiOx/SiNy 또는 SiNx/SiOy의 이중 구조로 이루어질 수 있다.
상기 층간 절연막(230)의 상부에는 박막 트랜지스터의 소스 전극(S), 드레인 전극(D)이 배치될 수 있다.
상기 소스 전극(S), 드레인 전극(D)은 알루미늄(Al), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 은(Ag), 마그네슘(Mg), 금(Au), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd), 이리듐(Ir), 크롬(Cr), 니켈(Li), 칼슘(Ca), 몰리브덴(Mo), 타이타늄(Ti), 텅스텐(W), 구리(Cu) 가운데 선택된 하나 이상의 금속을 포함할 수 있다.
소스 전극(S)과 드레인 전극(D)을 덮도록 비아층(250)이 형성될 수 있다. 비아층(250)의 상부에는 제1 전극(281)이 형성될 수 있다. 도 3에 도시된 일 실시예에 따르면, 제1 전극(281)은 비아홀을 통해 드레인 전극(D)과 연결된다.
비아층(250)은 절연물질로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 비아층(250)은 무기물, 유기물, 또는 유/무기 복합물로 단층 또는 복수층의 구조로 형성될 수 있으며, 다양한 증착방법에 의해서 형성될 수 있다. 일부 실시예에서, 비아층(250)은 아크릴계 수지(polyacrylates resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드계 수지(polyamides resin), 폴리이미드계 수지(polyimides rein), 불포화 폴리에스테르계 수지(unsaturated polyesters resin), 폴리페닐렌계 수지(poly phenylenethers resin), 폴리페닐렌설파이드계 수지(poly phenylenesulfides resin), 및 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene, BCB) 중 하나 이상의 물질로 형성될 수 있다.
상기 비아층(250)의 상부에는 유기 발광 소자(OLED)가 구비될 수 있다.
유기 발광 소자(OLED)는 제1 전극(281), 유기 발광층을 포함하는 중간층(283), 및 제2 전극(285)을 포함한다. 또한, 표시 장치는 화소 정의막(270)을 더 포함할 수 있다.
유기 발광 소자(OLED)의 제1 전극(281)과 제2 전극(285)에서 주입되는 정공과 전자는 중간층(283)의 유기 발광층에서 결합하면서 빛이 발생할 수 있다.
제1 전극(281) 및/또는 제2 전극(285)은 투명 전극 또는 반사형 전극으로 구비될 수 있다. 투명 전극으로 구비될 때에는 ITO, IZO, ZnO 또는 In2O3로 구비될 수 있고, 반사형 전극으로 구비될 때에는 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr 또는 이들의 화합물 등으로 형성된 반사막과, ITO, IZO, ZnO 또는 In2O3로 형성된 투명막을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 화소 전극(281) 또는 대향 전극(285)은 ITO/Ag/ITO 구조를 가질 수 있다.
상술한 바와 같이 유기 발광 소자(OLED)는 제2 전극(285)을 포함할 수 있으며, 이러한 제2 전극(285)은 상부에 배치되는 터치 필름(700)과의 관계에서 기생 용량(Capacitor)을 발생시킬 수 있다. 기생 용량(Capacitor)이 발생하는 경우에 터치 필름(700)의 센싱 감도가 저하되는 문제가 발생할 염려가 있다.
이에 따라, 제2 전극(285)과 터치 필름(700) 간에 발생하는 기생 용량을 줄이기 위해서 제2 전극(285)과 터치 필름(700) 간의 간격 유지를 위한 제1막(400, 도 2a 참고)을 형성할 수 있다.
중간층(283)은 제1 전극(281)과 제2 전극(285)의 사이에 형성되고 유기 발광층을 구비할 수 있다.
선택적인 실시예로서, 중간층(283)은 유기 발광층을 구비하고, 그 외에 정공 주입층(HIL:hole injection layer), 정공 수송층(hole transport layer), 전자 수송층(electron transport layer) 및 전자 주입층(electron injection layer) 중 적어도 하나를 더 구비할 수 있다. 본 실시예는 이에 한정되지 아니하고, 중간층(283)은 유기 발광층을 구비하고, 기타 다양한 기능층을 더 구비할 수 있다.
상기 화소 정의막(270) 상에는 스페이서(미도시)가 더 형성될 수 있다. 스페이서(미도시)는 화소 정의막(270)으로부터 상부 방향으로 돌출되어 마련될 수 있으며 외부 충격에 의해 표시 특성이 저하되지 않게 하기 위해 마련된 것일 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에 포함되는 터치 필름의 평면을 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 5는 터치 필름에 포함되는 센싱패턴의 일부를 상세하게 도시한 평면도이다.
터치 필름(700)은 베이스 필름(미도시) 및 베이스 필름 상에 형성된 센싱패턴(720)을 포함할 수 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 센싱패턴(720)은 다수의 제1 센싱셀들(720a)과 다수의 제2 센싱셀들(720b)을 포함할 수 있다.
선택적 실시예로서, 제1 센싱셀들(720a) 및 제2 센싱셀들(720b)은 인듐-틴-옥사이드(이하, ITO)와 같은 투명 도전성 물질으로 이루어질 수 있다.
복수의 센싱패턴(720)은 센싱라인들(730)에 전기적으로 연결되고, 센싱라인들(230)을 통해 패드부(PAD) 및 외부의 구동회로(미도시)와 연결될 수 있다.
이러한 센싱라인들(730)은 영상이 표시되는 표시 영역(DA, 도 1 참고) 외곽부인 비표시 영역(NDA, 도 1 참고)에 배치되는 것으로, 재료 선택의 폭이 넓어 센싱패턴(720)의 형성에 이용되는 투명 도전성 물질 외에도 몰리브덴(Mo), 은(Ag), 티타늄(Ti), 구리(Cu), 알루미늄(Ti), 몰리브덴/알루미늄/몰리브덴(Mo/Al/Mo) 등의 저저항 금속 물질로 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 의한 터치 필름(700)은 정전용량 방식의 터치패널로, 사람의 손 또는 스타일러스 펜 등과 같은 접촉물체가 접촉되면, 센싱패턴(720)으로부터 센싱라인(730) 및 패드부(PAD)를 경유하여 구동회로(미도시) 측으로 접촉위치에 따른 정전용량의 변화가 전달될 수 있다.
그러면, X 및 Y 입력처리회로(미도시) 등에 의해 정전용량의 변화가 전기적 신호로 변환됨에 의해 접촉위치가 파악된다.
도 5를 참고하면, 상기 센싱패턴(720)은 도 2a에 도시된 바와 같이, 행방향을 따라 각 행라인 별로 연결되도록 형성된 다수의 제1 센싱셀들(720a)과, 제1 센싱셀들(720a)을 행방향을 따라 연결하는 제1 연결라인들(720a1)을 포함할 수 있다.
또한, 열방향을 따라 각 열라인 별로 연결되도록 형성된 제2 센싱셀들(720b)과, 제2 센싱셀들(720b)을 열방향을 따라 연결하는 제2 연결라인들(720b1)을 포함할 수 있다.
편의상, 도 5에서는 센싱패턴의 일부만을 도시하였으나, 터치 필름은 도 5에 도시된 센싱패턴이 반복적으로 배치되는 구조를 가질 수 있다.
이러한 제1 센싱셀들(720a) 및 제2 센싱셀들(720b)은 서로 중첩되지 않도록 교호적으로 배치될 수 있고, 제1 연결라인들(720a1)과 제2 연결라인들(720b1)은 서로 교차될 수 있다.
선택적 실시예로서, 제1 연결라인들(720a1)과 제2 연결라인들(720b1) 사이에는 안정성 확보를 위한 절연막(미도시)이 개재될 수 있다.
선택적 실시예로서, 제1 센싱셀들(720a) 및 제2 센싱셀들(720b)은 인듐-틴-옥사이드(이하, ITO)와 같은 투명 도전성 물질을 이용하여 각각 제1 연결라인들(720a1) 및 제2 연결라인들(720b1)과 일체로 형성되거나, 혹은 이들과 별도로 형성되어 전기적으로 연결될 수 있다.
즉, 제2 센싱셀들(720b)은 제2 연결라인들(720b1)과 일체로 열방향으로 패터닝되어 형성되고, 제1 센싱셀들(720a)은 제2 센싱셀들(720b)의 사이에 각각이 독립된 패턴을 갖도록 패터닝되되 그 상부 또는 하부에 위치되는 제1 연결라인들(720a1)에 의해 행방향을 따라 연결될 수 있다.
이때, 제1 연결라인들(720a1)은 제1 센싱셀들(720a)의 상부, 또는 하부에서 제1 센싱셀들(720a)과 직접적으로 접촉되어 전기적으로 연결되거나, 혹은 컨택홀 등을 통해 제1 센싱셀들(720a)과 전기적으로 연결될 수 있다.
이러한 제1 연결라인들(720a1)은 ITO와 같은 투명 도전성 물질을 이용하여 형성되거나, 혹은 불투명한 저저항 금속 물질을 이용하여 형성되되 패턴의 가시화가 방지되도록 그 폭 등이 조절되어 형성될 수 있다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 단면을 제1막, 다공성막, 제2막을 중심으로 개략적으로 도시한 단면도이다.
기판(100), 표시부(200), 봉지부(300)의 상부에 제1막(400) 및 제2막(600)이 배치될 수 있으며 제1막(400)과 제2막(600) 사이에 다공성막(500)이 배치될 수 있다.
제2막(600)의 상부에는 터치 필름(700) 및 편광판(800)이 순차로 적층되어 배치될 수 있다.
표시부(200)에 포함되는 전극과 터치 필름(700) 사이에 발생하는 기생 용량을 줄이기 위하여 제1막(400)은 소정의 두께를 가질 수 있다.
선택적 실시예로서, 제1막(400)은 유기막일 수 있다.
도 6에 도시된 바와 같이 제1막(400)은 기포(400a)를 포함할 수 있다.
상기 기포(400a)라 함은 제조 공정에서 시간이 지남에 따라 자연적으로 제1막(400)의 내부에 발생하였다가 제1막(400)의 외부로 빠져나가는 기체(Outgas)를 의미하며, 이하 명세서에 기재된 기포(400a)는 모두 outgas의 의미로 사용하도록 한다.
제1막(400)이 유기막인 경우에 제조 공정에서 제1막(400)의 내부에 적어도 하나의 기포(400a)가 포함될 수 있다. 선택적 실시예로서, 복수개의 기포(400a)가 제1막(400) 내에 포함될 수 있다.
제1막(400)이 전극과 터치 필름(700) 사이의 간격 유지를 위하여 유기막으로 형성되는 경우, 제1막(400)과 터치 필름(700) 간의 접착력이 약한 문제가 발생하므로, 접착력을 향상시키기 위하여 제1막(400)과 터치 필름(700)을 접착하는 기능을 수행하는 제2막(600)을 포함할 수 있다.
선택적 실시예로서, 제2막(600)은 무기막일 수 있다.
도 6에 도시된 바와 같이 제2막(600)이 무기막인 경우에 제조 공정에서 제2막(600) 내에 크랙(600a)이 발생할 수 있다. 즉, 무기막인 제2막(600)은 제조 과정에서 내부에 적어도 하나의 크랙(600a)을 포함할 수 있다.
무기막은 투습을 차단하거나 접착력을 향상시키는 측면에서 우수한 특성 있는 반면 스트레스에 취약한 특성이 있다.
즉, 무기막은 스트레스를 받으면 유연성을 갖는 유기막에 비해 쉽게 크랙이 발생할 수 있다.
따라서, 본 실시예에 따른 플렉서블한 특성을 갖는 표시 장치(1000)를 제조하는 과정에서 유연성을 갖는 기판(100), 봉지부(300), 제1막(400)의 구조와 달리 무기막인 제2막(600)은 스트레스가 밀집되어 내부에 크랙(600a)이 발생할 수 있다.
선택적 실시예로서, 도 6에 도시된 바와 같이 제2막(600)은 복수개의 크랙(600a)을 포함할 수 있다.
이에 따라, 제1막(400)의 상부에 제2막(600)이 곧바로 형성되는 경우에는 제1막(400)의 내부에 포함되는 기포(400a)가 제2막(600) 내부에 포함되는 크랙(600a)에 밀집되는 문제가 발생할 수 있다.
크랙(600a)이 기포(400a)가 이동하는 경로가 되므로 기포(400a)는 상부로 이동시에 크랙(600a)이 형성된 부분에만 밀집되어 크랙(600a)을 통해 이동할 수 있다.
즉, 기포(400a)가 크랙(600a)에 밀집되어 상부로 전달되고 결과적으로 제2막(600)의 상부에 배치되는 터치 필름(700)을 통하여 밀집된 상태의 기포(400a)가 편광판(800)에 전달된다.
이 경우, 편광판(800)에 한꺼번에 밀집된 상태의 기포(400a)가 도달함에 따라 편광판(800)의 색이 빠지는 문제가 발생할 수 있다.
결과적으로, 편광판(800)에서 부분적으로 색빠짐 현상이 발생함에 따라 외광을 반사하는 편광판(800)의 기능을 충실히 수행하지 못하게 되므로 표시 장치의 신뢰성의 문제가 발생할 수 있다.
따라서, 본 실시예에 따른 표시 장치는 다공성막(500)을 제1막(400)과 제2막(600) 사이에 포함할 수 있다.
선택적 실시예로서, 다공성막(500)은 적어도 하나의 홀(500a)을 포함할 수 있다.
상기 홀(500a)은 다공성막(500)을 관통하는 통로로써, 기포(400a)가 이동하는 경로를 제공할 수 있다. 즉, 제1막(400)에 포함되는 기포(400a)가 다공성막(500)의 홀(500a)을 통해 제2막(600)에 도달할 수 있다.
이에 따라 제1막(400)과 제2막(600)이 연속적으로 형성되어 있을 때에 비해서 기포(400a)가 제2막(600)에 도달하는 시간이 지연되고, 기포(400a)가 분산된 상태로 제2막(600)에 도달할 수 있는 유리한 효과가 있다.
선택적 실시예로서, 다공성막(500)은 도 6에 도시된 바와 같이 복수 개의 홀(500a)을 포함할 수 있으며, 홀(500a)의 개수는 이에 한정되지 않고 적어도 하나 이상의 홀(500a)이 형성된다면 얼마든지 다공성막(500) 내에 포함될 수 있다.
다공성막(500)의 내부에 다공성막(500)을 관통하는 복수 개의 홀(500a)이 분산된 상태로 포함될 수 있다. 이 때, 제1막(400) 내에 포함되는 복수 개의 기포(400a) 역시 분산된 상태로 가까이 있는 홀(500a)을 통해 다공성막(500)을 이동해 제2막(600)에 도달하게 된다.
제2막(600)에 도달한 기포(400a)는 제2막(600) 내에 포함되는 크랙(600a)을 통해 상부로 전달되지만, 다시 크랙(600a)까지 이동해야 하므로 한꺼번에 크랙(600a)으로 기포(400a)가 밀집될 염려가 없으며 기포(400a)가 전달되는 시간이 지연된다는 유리한 효과가 있다.
선택적 실시예로서, 다공성막(500)은 LiF(플루오르화리튬)로 이루어진 막일 수 있다.
선택적 실시예로서, LiF(플루오르화리튬)로 이루어진 다공성막(500)은 결정(Crystal)막일 수 있다.
다른 실시예로서, 도 2b에 도시된 실시예에 따른 표시 장치(2000)는 제2 막(600)이 형성되지 않고, 제1 막(400)의 상부에 다공성막(500) 및 터치 필름(700)이 순차로 적층 형성될 수 있다.
선택적 실시예로서, 표시 장치(2000)에 포함되는 다공성막(500)은 무기막일 수 있다. 이 때, 다공성막(500)이 무기막인 경우 다공성막(500)은 적어도 하나의 크랙(미도시)을 포함할 수 있다.
상기 크랙(미도시)은 다공성막(500)이 무기막으로 이루어지는 경우에 스트레스가 밀집되어 다공성막(500)의 내부에 포함될 수 있다.
선택적 실시예로서, 표시 장치(2000)의 다공성막(500)은 복수 개의 홀(500a)을 포함할 수 있으며, 상기 홀(500a)은 하부 제1 막(400)의 기포(400a)가 이동하는 경로를 제공할 수 있다.
이에 따라, 본 실시예에 따른 표시 장치(2000)는 기포(400a)가 크랙과 복수개의 홀(500a)에 분산되어 터치 필름(700)에 도달할 수 있으며, 결과적으로 터치 필름(700)의 색 빠짐을 방지할 수 있는 유리한 효과가 있다.
이하에서는 도 2a 및 도 3을 참고하여 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법에 대하여 상세히 설명하도록 한다.
먼저, 기판(100) 상에 표시부(200)를 형성하는바, 도 3을 참고하여, 표시부(200)를 형성하는 과정에 대하여 상세히 설명하도록 한다.
기판(100)은 연신율이 우수한 재질로 형성될 수 있다. 먼저, 기판(100) 상에 박막 트랜지스터(TFT)를 형성한다.
박막 트랜지스터들(TFT)의 반도체층(A)을 형성하고, 그 상부에 게이트 절연막(210)를 형성한다.
반도체층(A)은 비정질 실리콘 또는 결정질 실리콘을 포함하는 반도체로 형성될 수 있으며, 다양한 증착 방법에 의해 증착될 수 있다. 이 때, 결정질 실리콘은 비정질 실리콘을 결정화하여 형성될 수도 있다. 비정질 실리콘을 결정화하는 방법은 RTA(rapid thermal annealing)법, SPC(solid phase crystallzation)법, ELA(excimer laser annealing)법, MIC(metal induced crystallzation)법, MILC(metal induced lateral crystallzation)법, SLS(sequential lateral solidification)법 등 다양한 방법에 의해 결정화될 수 있다. 반도체층들(A1)은 포토리소그라피(photolithography) 공정을 통해서 패터닝 될 수 있다.
게이트 절연막(210)은 상기 반도체층(A)과 그 상부에 형성될 게이트 전극들(G)을 절연하는 것으로, 상기 반도체층(A)을 덮으며 기판(100) 전면(全面)에 형성된다. 게이트 절연막(210)은 유기 또는 무기 절연체로 이루어질 수 있다. 일부 실시예에서, 게이트 절연막(210)은 실리콘질화막(SiNx), 실리콘산화막(SiO2), 하프늄(hafnium; Hf) 옥사이드, 알루미늄 옥사이드 등으로 이루어질 수 있다. 게이트 절연막(GI)은 스퍼터링, 화학기상증착(Chemical Vapour Deposition; CVD) 또는 플라즈마 화학기상증착(Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition; PECVD) 등 다양한 증착방법에 의해서 형성할 수 있다.
그 다음, 게이트 절연막(210) 상에 상기 반도체층(A)과 적어도 일부가 중첩되도록 게이트 전극(G)을 형성한다. 또한, 상기 게이트 전극(G)과 동시에 도시되지 않은 여러 배선들이 형성될 수 있다.
그 다음, 상기 게이트 전극(G) 및 미도시된 배선들을 덮도록 층간 절연막(230)을 기판 전면에 형성한다.
층간 절연막(230)은 그 구성 물질에 따라 스핀 코팅 공정, 프린팅 공정, 스퍼터링 공정, 화학 기상 증착(CVD) 공정, 원자층 적층(ALD) 공정, 플라즈마 증대 화학 기상 증착(PECVD) 공정, 고밀도 플라즈마-화학 기상 증착(HDP-CVD) 공정, 진공 증착 공정 등을 이용하여 형성될 수 있다.
층간 절연막(230)의 상부에는 소스 전극(S) 및 드레인 전극(D)이 형성될 수 있다.
다음으로, 비아홀을 포함하는 비아층(250)을 형성할 수 있고, 비아층(250)의 상부에는 유기 발광 소자(OLED)를 형성할 수 있다.
유기 발광 소자(OLED)는 먼저 비아홀을 통해 드레인 전극(D)과 연결되는 제1 전극(281)을 형성할 수 있다. 제1 전극(281)의 상부에는 중간층(283), 제2 전극(285)이 순차적으로 형성될 수 있다.
다음으로, 상기 표시부(200)를 밀봉하는 봉지부(300)를 형성할 수 있다.
봉지부(300)는 유기막과 무기막을 교번적으로 적층하여 형성할 수 있으며, 선택적 실시예로서 무기막은 화학기상증착(Chemical Vapour Deposition; CVD)에 의해 증착되어 형성될 수 있다.
봉지부(300)의 상부에는 제1막(400), 다공성막(500), 제2막(600)을 순차로 적층하여 형성할 수 있다.
제1막(400)은 유기막일 수 있으며, 일정한 두께를 갖도록 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 제1막(400)은 10㎛ 두께로 형성될 수 있다.
제1막(400)은 내부에 적어도 하나의 기포(400a)를 포함할 수 있다. 기포(400a)는 제조 공정에서 상부로 이동해 제1막(400)으로부터 빠져나갈 수 있다.
다음으로, 다공성막(500)이 증착 형성될 수 있다. 다공성막(500)은 그 구성 물질에 따라 스핀 코팅 공정, 프린팅 공정, 스퍼터링 공정, 화학 기상 증착(CVD) 공정, 원자층 적층(ALD) 공정, 플라즈마 증대 화학 기상 증착(PECVD) 공정, 고밀도 플라즈마-화학 기상 증착(HDP-CVD) 공정, 진공 증착 공정 등을 이용하여 형성될 수 있다.
선택적 실시예로서, 다공성막(500)은 플루오르화리튬(LiF) 물질으로 이루어질 수 있다.
다공성막(500)은 진공 증착(Vacuum deposition)으로 성막될 수 있으며 선택적 실시예로서, 열 증착(Thermal evaporation) 공정에 의해 성막될 수 있다.
다공성막(500)을 성막하는 단계에서 플루오르화리튬(LiF) 물질을 열 증착(Thermal evaporation) 공정을 수행하여 다공성막(500)을 형성하는 경우, 플루오르화리튬(LiF) 막은 결정(Crystal)막 특성을 가질 수 있다.
다공성막(500)은 내부에 적어도 하나의 홀(500a)을 포함할 수 있다. 홀(500a)은 다공성막(500)을 관통하도록 형성될 수 있다.
이에 따라, 제1막(400) 내부에 포함된 기포(400a)가 홀(500a)을 통해 제1막(400)을 빠져나가 상부로 이동할 수 있다.
다음으로, 선택적 실시예로서 다공성막(500)의 상부에 제2막(600)을 증착 형성할 수 있다.
제2막(600)은 무기막일 수 있으며, 제1막(400)보다 얇은 두께로 형성될 수 있다.
제2막(600)은 그 구성 물질에 따라 스핀 코팅 공정, 프린팅 공정, 스퍼터링 공정, 화학 기상 증착(CVD) 공정, 원자층 적층(ALD) 공정, 플라즈마 증대 화학 기상 증착(PECVD) 공정, 고밀도 플라즈마-화학 기상 증착(HDP-CVD) 공정, 진공 증착 공정 등을 이용하여 형성될 수 있다.
제2막(600)은 내부에 적어도 하나의 크랙(600a)을 포함할 수 있다. 제2막(600)이 무기막인 경우 스트레스에 취약하여 제조 공정에서 스트레스가 밀집되는 경우 크랙(600a)이 발생할 수 있다.
제1막(400) 내부에 포함된 기포(400a)는 홀(500a)을 통하여 이동하여 크랙(600a)에 도달하고 크랙(600a)을 통해 상부로 이동할 수 있다.
다음으로, 제2막(600)의 상부에는 터치 필름(700), 편광판(800) 및 윈도우(900)가 순차로 적층 형성될 수 있다.
터치 필름(700)은 복수개의 센싱패턴(720, 도4 참고)들을 포함하도록 형성될 수 있으며, 편광판(800)은 편광자와 보호 필름을 접착하여 형성하고 터치 필름(700)의 상부에 적층할 수 있다.
편광판(800)의 상부에는 수지층에 의해 윈도우가 접착되어 형성될 수 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안될 것이다.
100: 기판
200: 표시부
300: 봉지부
400: 제1막
400a: 기포
500: 다공성막
500a: 홀
600: 제2막
600a: 크랙
700: 터치 필름
720: 센싱패턴
800: 편광판
900: 윈도우

Claims (17)

  1. 기판;
    상기 기판 상에 위치하는 표시부;
    상기 표시부 상부에 상기 표시부를 밀봉하도록 배치되는 봉지부;
    상기 봉지부 상부에 배치되는 제1막;
    상기 제1막의 상부에 배치되는 다공성막;
    상기 제1막의 상부에 위치하는 터치 필름; 및
    상기 터치 필름의 상부에 위치하는 편광판을 포함하는 표시 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1막과 상기 다공성막은 각각 유기막과 무기막인 표시 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1막은 적어도 하나의 기포를 포함하는 표시 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 다공성막은 적어도 하나의 크랙을 포함하는 표시 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 다공성막은 적어도 하나의 홀을 포함하고, 상기 홀은 상기 다공성막을 관통하는 표시 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 다공성막은 2개 이상의 상기 홀을 포함하고,
    상기 홀은 상기 다공성막 전체 내에 분산되도록 배치되는 표시 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 다공성막은 플루오르화리튬(LiF)으로 이루어진 막인 표시 장치.
  8. 기판;
    상기 기판 상에 위치하는 표시부;
    상기 표시부 상부에 상기 표시부를 밀봉하도록 배치되는 봉지부;
    상기 봉지부 상부에 순차적으로 적층된 제1막 및 제2막;
    상기 제1막과 상기 제2막의 사이에 배치되는 다공성막;
    상기 제2막의 상부에 위치하는 터치 필름; 및
    상기 터치 필름의 상부에 위치하는 편광판을 포함하는 표시 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 제1막과 상기 제2막은 각각 유기막과 무기막인 표시 장치.
  10. 제2항에 있어서,
    상기 제1막은 적어도 하나의 기포를 포함하는 표시 장치.
  11. 제2항에 있어서,
    상기 제2막은 적어도 하나의 크랙을 포함하는 표시 장치.
  12. 제3항에 있어서,
    상기 다공성막은 적어도 하나의 홀을 포함하고, 상기 홀은 상기 다공성막을 관통하는 표시 장치.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 다공성막은 플루오르화리튬(LiF)으로 이루어진 막인 표시 장치.
  14. 기판을 제공하는 단계;
    상기 기판 상에 표시부를 형성하는 단계;
    상기 표시부의 상부에 상기 표시부를 외부로부터 밀봉시키는 봉지막을 형성하는 단계;
    상기 봉지막의 상부에 유기막을 성막하는 단계;
    상기 제1막의 상부에 다공성막을 성막하는 단계;
    상기 다공성막의 상부에 터치 필름을 형성하는 단계; 및
    상기 터치 필름의 상부에 편광판을 형성하는 단계를 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 다공성막을 성막하는 단계는 열 증착(Thermal Evaporation) 공정에 의해 수행되는 표시 장치의 제조 방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 열 증착(Thermal Evaporation) 공정에 의해 성막된 다공성막은 플루오르화리튬(LiF)으로 이루어지는 다공성 결정(Crystal)막인 표시 장치의 제조 방법.
  17. 제14항에 있어서,
    상기 다공성막을 성막한 후 상기 다공성막의 상부에 무기막을 성막하는 단계를 더 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
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