KR20170031102A - Calibration of photoelectromagnetic sensor in a laser source - Google Patents

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Abstract

레이저-생성 플라즈마(LPP) 극자외선(EUV) 시스템에서, EUV 광을 생성하기 위하여 레이저 펄스가 사용된다. 개개의 레이저 펄스의 에너지를 결정하기 위하여, 광전자기(PEM) 검출기가 교정 계수를 사용하여 파워미터에 맞게 교정된다. 단일 파장의 펄스를 포함하는 단일 레이저 빔을 측정할 경우, 교정 계수는 펄스의 버스트에 기초하여 계산된다. 결합 레이저 빔은 제 2 파장의 프리-펄스와 교번하는 제 1 파장의 메인 펄스를 가진다. 결합된 레이저 빔 내의 메인 펄스의 에너지를 계산하기 위하여, 메인 펄스의 단일 레이저 빔에 대하여 계산된 교정 계수가 사용된다. 결합 레이저 빔 내의 프리-펄스의 에너지를 계산하기 위하여, 새로운 교정 계수가 계산된다. 계산된 에너지 값이 선정의된 임계치를 넘어 변하면, 교정 계수는 다시 계산된다.In a laser-generated plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) system, a laser pulse is used to generate EUV light. To determine the energy of the individual laser pulses, a photoelectric (PEM) detector is calibrated to the power meter using a calibration factor. When measuring a single laser beam containing pulses of a single wavelength, the calibration factor is calculated based on the burst of pulses. The combined laser beam has a main pulse of a first wavelength alternating with a pre-pulse of a second wavelength. In order to calculate the energy of the main pulse in the combined laser beam, the calculated calibration factor is used for the single laser beam of the main pulse. To calculate the energy of the pre-pulse in the combined laser beam, a new calibration factor is calculated. If the calculated energy value changes beyond the selected threshold, the calibration factor is recalculated.

Description

레이저 소스 내의 광전자기 센서의 교정 방법{CALIBRATION OF PHOTOELECTROMAGNETIC SENSOR IN A LASER SOURCE}[0001] CALIBRATION OF PHOTOELECTROMAGNETIC SENSOR IN A LASER SOURCE [0002]

본 출원은 일반적으로 레이저 시스템에 관한 것이고, 특히 레이저 생성 플라즈마(LPP) 극자외선(EUV) 시스템의 레이저 소스 내의 광전자기 센서를 교정하는 것에 관한 것이다.The present application relates generally to laser systems, and more particularly to calibrating photoelectric sensors in a laser source of a laser-generated plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) system.

반도체 산업은 점점 더 작은 집적 회로 치수들을 프린트할 수 있는 리소그래피 기술을 계속하여 발전시켜 왔다. 극자외(EUV) 광(가끔 소프트 x-레이라고도 불림)은 일반적으로 10 내지 102 nm 사이의 파장을 가지는 전자기 방사선으로 규정된다. 일반적으로 EUV 리소그래피는 10 - 14 nm의 범위에 있는 파장의 EUV 광을 포함하는 것으로 간주되고, 극히 작은 피쳐(예를 들어, 32 nm 미만의 피쳐)를 실리콘 웨이퍼와 같은 기판에서 생성하기 위하여 사용된다. 이러한 시스템은 신뢰성이 매우 높아야 하고, 비용-효과적 쓰루풋 및 적절한 공정 관용도(process latitude)를 제공하여야 한다.The semiconductor industry has continued to develop lithography techniques capable of printing smaller and smaller integrated circuit dimensions. Extreme ultraviolet (EUV) light (sometimes also referred to as soft x-ray) is generally defined as electromagnetic radiation having a wavelength between 10 and 102 nm. In general, EUV lithography is considered to include EUV light at wavelengths in the range of 10-14 nm and is used to produce very small features (e.g., features below 32 nm) on a substrate such as a silicon wafer . Such systems must be highly reliable, provide cost-effective throughput and adequate process latitude.

EUV 광을 생성하기 위한 방법은, EUV 범위 내에 하나 이상의 방출 라인(들)이 있으면서 재료를 적어도 하나의 원소(, 예를 들어 제논, 리튬 또는 주석, 인듐, 비소, 텔루륨, 알루미늄 등)를 가지는 플라즈마 상태로 변환하는 단계를 포함하지만 반드시 이것으로 제한되는 것은 아니다. 이러한 하나의 방법에서, 흔히 레이저 생성 플라즈마(laser produced plasma; LPP)라고 명명되는 요구되는 플라즈마는, 타겟 재료, 예컨대 원하는 선발광 요소를 가지는 액적, 스트림, 클러스터를 LPP EUV 소스 플라즈마 챔버 내의 조사 사이트에서 레이저 빔으로써 조사함으로써 생성될 수 있다.A method for producing EUV light is a method of forming a material having at least one element (e.g., xenon, lithium or tin, indium, arsenic, tellurium, aluminum, etc.) Into a plasma state, but is not necessarily limited thereto. In one such method, a required plasma, often referred to as a laser produced plasma (LPP), is formed by applying a target material, such as droplets, streams, clusters having the desired preferential light elements, to an irradiation site within the LPP EUV source plasma chamber Can be generated by irradiation with a laser beam.

도 1 은 선행 기술의 LPP EUV 시스템(100)의 컴포넌트들 중 일부를 도시한다. 고 파워 CO2 레이저와 같은 레이저 소스(101)는 빔 전달 시스템(103)을 통과하여 그리고 포커싱 광학기(104)(렌즈 및 조향 미러 포함)를 통과하여 지나가는 레이저 빔(102)을 생성한다. 포커싱 광학기(104)는 LPP EUV 소스 플라즈마 챔버(110) 내의 조사 사이트에 일차 초점(105)을 가진다. 액적 발생기(106)는, 일차 초점(105)에서 레이저 빔(102)에 의해 타격되면 EUV 광을 조사하는 플라즈마를 생성하는 적합한 타겟 재료의 액적(107)을 생성한다. 타원형 미러("콜렉터")(108)는, 생성된 EUV 광을 예를 들어 리소그래피 스캐너 시스템(미도시)으로 전달하기 위하여, 플라즈마로부터의 EUV 광을 초점 스폿(109)(중간 초점 위치)에 포커싱한다. 초점 스폿(109)은 통상적으로 EUV 광에 노광될 웨이퍼를 포함하는 스캐너(미도시) 내에 있을 것이다. 몇 가지 실시예들에서, 포커싱 광학기(104)로 모두 수렴하는 빔을 가지는 다수의 레이저 소스(101)가 존재할 수도 있다. LPP EUV 광원의 하나의 타입은 CO2 레이저 및 반사-방지 코팅 및 약 6 내지 8 인치의 개방된 개구부가 있는 셀렌화아연(ZnSe) 렌즈를 사용할 수도 있다.Figure 1 shows some of the components of the prior art LPP EUV system 100. A laser source 101, such as a high power CO 2 laser, produces a laser beam 102 that passes through the beam delivery system 103 and through the focusing optics 104 (including the lens and steering mirror). The focusing optics 104 has a primary focus 105 at the illumination site within the LPP EUV source plasma chamber 110. The droplet generator 106 produces a droplet 107 of a suitable target material that, when struck by the laser beam 102 at the primary focus 105, produces a plasma that illuminates the EUV light. An elliptical mirror ("collector") 108 focuses the EUV light from the plasma onto a focal spot 109 (an intermediate focal spot) to deliver the generated EUV light to, for example, a lithographic scanner system do. The focal spot 109 will typically be in a scanner (not shown) including a wafer to be exposed to EUV light. In some embodiments, there may be a plurality of laser sources 101 having beams that all converge to the focusing optics 104. One type of LPP EUV light source may use a CO 2 laser and a selenium zinc (ZnSe) lens with an anti-reflection coating and an open aperture of about 6 to 8 inches.

레이저 소스(101)는, 다수 개의 광 펄스가 하나의 버스트 안에 생성되는 버스트 모드에서 동작될 수 있으며, 버스트들 사이에는 어느 정도의 시간 간격이 있다. 레이저 소스(101)는 파장 및/또는 펄스 길이와 같은 별개의 특성을 가지는 펄스형 레이저를 생성하는 다수 개의 레이저를 포함할 수 있다. 레이저 소스(101), 빔 전달 시스템(103), 및 포커싱 광학기(104) 내에서, 별개의 레이저 빔들이 결합, 분할, 또는 그렇지 않으면 조작될 수 있다.The laser source 101 can be operated in a burst mode in which a plurality of optical pulses are generated in one burst, and there is some time interval between bursts. The laser source 101 may include a plurality of lasers that produce pulsed lasers having distinct characteristics, such as wavelength and / or pulse length. Within the laser source 101, the beam delivery system 103, and the focusing optics 104, separate laser beams can be combined, split, or otherwise manipulated.

레이저 빔(102)이 LPP EUV 소스 플라즈마 챔버(110)에 도달하기 전에, 빔(102)이 레이저 소스(101), 빔 전달 시스템(103), 및/또는 포커싱 광학기(104) 내의 다양한 포인트에서 측정된다. 측정은 레이저 빔(102)의 하나 이상의 양태를 측정하는 다양한 기구를 사용해서 이루어진다. 몇 가지 실례들에서, 레이저 빔(102)은 생성된 다른 빔과 결합되기 이전에 또는 결합된 이후에 측정될 수 있다. 그러나, 기구들은 레이저 빔(102)의 특정한 특성을 직접적으로 측정하지 않을 수 있고, 레이저 빔(102)의 특성을 측정하기 위해서 이러한 방식으로 교정되지 않을 수도 있다.Before the laser beam 102 reaches the LPP EUV source plasma chamber 110, the beam 102 is focused at various points within the laser source 101, the beam delivery system 103, and / or the focusing optics 104 . Measurements are made using various instruments that measure one or more aspects of the laser beam 102. In some instances, the laser beam 102 may be measured before or after being combined with another beam generated. However, the instruments may not directly measure the specific characteristics of the laser beam 102 and may not be calibrated in this manner to measure the characteristics of the laser beam 102.

일 실시예에 따르면, 시스템은, 레이저-생성 플라즈마(LPP) 극자외선(EUV) 시스템 내의 에너지 모니터로서, 시간 길이만큼 분리되는 프리-펄스와 메인 펄스를 포함하는 레이저 빔을 측정하도록 구성되고: 규정된 시간 기간 동안의 레이저 펄스의 시리즈의 평균 파워를 감지하도록 구성되는 파워미터; 및 상기 규정된 시간 기간의 일부 동안에, 상기 시간 기간만큼 제 1 메인 펄스로부터 분리되는 제 1 프리-펄스의 시간 프로파일을 나타내는 전압 신호를 제공하도록 구성되는 광전자기(photoelectomagentic; PEM) 검출기를 포함하는, 에너지 모니터; 메인 펄스 교정 계수 및 상기 제 1 메인 펄스에 대응하는 전압 신호의 부분의 펄스 적분에 기초하여 상기 제 1 메인 펄스의 파워를 결정하고, 상기 평균 파워 및 상기 제 1 메인 펄스의 파워에 기초하여 상기 제 1 프리-펄스의 파워를 결정하며, 상기 제 1 프리-펄스의 파워, 및 상기 제 1 프리-펄스에 대응하는 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 프리-펄스 교정 계수를 결정하도록 구성되는 교정 모듈; 및 상기 프리-펄스 교정 계수, 및 제 2 프리-펄스에 대응하여 상기 PEM 검출기에 의하여 제공된 제 2 전압 신호의 부분의 펄스 적분에 기초하여 상기 제 2 프리-펄스의 에너지를 결정하고, 상기 메인 펄스 교정 계수 및 제 2 메인 펄스에 대응하는 상기 제 2 전압 신호의 부분의 펄스 적분에 기초하여 상기 제 2 메인 펄스의 에너지를 결정하도록 구성되는 단일 펄스 에너지 계산(single pulse energy calculation; SPEC) 모듈을 포함한다.According to one embodiment, the system is configured to measure a laser beam comprising a pre-pulse and a main pulse that are separated by a time length, as an energy monitor in a laser-generated plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) A power meter configured to sense an average power of a series of laser pulses over a period of time; And a photoelectromagnet (PEM) detector configured to provide a voltage signal indicative of a time profile of a first pre-pulse separated from the first main pulse by the time period, during a portion of the prescribed time period. Energy monitor; Wherein the power of the first main pulse is determined based on a pulse integral of a portion of the main pulse correction coefficient and a portion of the voltage signal corresponding to the first main pulse, and based on the average power and the power of the first main pulse, Pulse calibration factor based on the integration of the power of the first pre-pulse and the portion of the voltage signal corresponding to the first pre-pulse, ; And determining the energy of the second pre-pulse based on the pulse-integral of the portion of the second voltage signal provided by the PEM detector corresponding to the pre-pulse correction coefficient and the second pre-pulse, And a single pulse energy calculation (SPEC) module configured to determine the energy of the second main pulse based on the calibration integral and the pulse integral of the portion of the second voltage signal corresponding to the second main pulse do.

시스템은, PEM에 의하여 제공되는 제 2 전압 신호에 기초하여 제 2 규정된 시간 기간 동안 레이저 빔의 에너지를 계산하도록 구성되고, 상기 레이저 빔의 계산된 에너지를 제 2 규정된 시간 기간 동안 상기 파워미터에 의하여 감지된 평균 파워와 비교하며, 상기 비교에 기초하여 상기 프리-펄스 교정 계수를 업데이트하도록 상기 교정 모듈에게 지시하도록 구성되는 재교정 모듈을 더 포함할 수 있다.The system is configured to calculate the energy of the laser beam for a second prescribed time period based on a second voltage signal provided by the PEM, and wherein the calculated energy of the laser beam is applied to the power meter Calibration module that is configured to compare the pre-pulse calibration coefficient with the average power sensed by the pre-pulse calibration module and to instruct the calibration module to update the pre-pulse calibration coefficient based on the comparison.

일 실시예에 따르면, 방법은, 레이저-생성 플라즈마(LPP) 극자외선(EUV) 시스템 내의 에너지 모니터를 사용하여, 프리-펄스와 메인 펄스를 포함하는 레이저 빔의 측정을 수신하는 단계로서, 상기 레이저 빔의 측정은: 파워미터를 사용하여 측정된, 규정된 시간 기간 동안의 레이저 펄스의 시리즈의 평균 파워, 및 상기 메인 펄스 중 제 1 메인 펄스로부터 시간 길이만큼 분리되는 프리-펄스 중 제 1 프리-펄스의 시간 프로파일을 나타내는 제 1 전압 신호를 포함하고, 상기 제 1 전압 신호는 광전자기(photoelectomagentic; PEM) 검출기에 의하여 제공되는, 레이저 빔의 측정을 수신하는 단계; 메인 펄스 교정 계수 및 상기 제 1 메인 펄스에 대응하는 제 1 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 상기 제 1 메인 펄스의 파워를 결정하는 단계; 상기 평균 파워 및 상기 제 1 메인 펄스의 파워에 기초하여 상기 제 1 프리-펄스의 파워를 결정하는 단계; 상기 제 1 프리-펄스의 파워 및 상기 제 1 프리-펄스에 대응하는 상기 제 1 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 프리-펄스 교정 계수를 결정하는 단계; 상기 프리-펄스 교정 계수, 및 제 2 프리-펄스에 대응하여 상기 PEM 검출기에 의하여 제공된 제 2 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 상기 제 2 프리-펄스의 에너지를 결정하는 단계; 및 상기 메인 펄스 교정 계수, 및 제 2 메인 펄스에 대응하는 상기 제 2 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 상기 제 2 메인 펄스의 에너지를 결정하는 단계를 포함한다.According to one embodiment, a method comprises receiving a measurement of a laser beam comprising a pre-pulse and a main pulse using an energy monitor in a laser-generated plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) system, The measurement of the beam is performed by: measuring the average power of the series of laser pulses over a defined time period, measured using a power meter, and a first pre-pulse of a pre-pulse separated by a time length from the first of the main pulses, The method comprising: receiving a measurement of a laser beam comprising a first voltage signal representative of a time profile of a pulse, the first voltage signal being provided by a photoelectromagnetic (PEM) detector; Determining a power of the first main pulse based on integration of a main pulse correction coefficient and a portion of the first voltage signal corresponding to the first main pulse; Determining a power of the first pre-pulse based on the average power and the power of the first main pulse; Determining a pre-pulse correction factor based on an integration of the power of the first pre-pulse and a portion of the first voltage signal corresponding to the first pre-pulse; Determining an energy of the second pre-pulse based on the pre-pulse correction coefficient and an integration of a portion of the second voltage signal provided by the PEM detector corresponding to a second pre-pulse; And determining the energy of the second main pulse based on the integration of the main pulse calibration coefficient and a portion of the second voltage signal corresponding to the second main pulse.

일 실시예에 따르면, 비-일시적 컴퓨터-판독가능 매체는 구현된 명령을 포함하고, 명령들은, 레이저-생성 플라즈마(LPP) 극자외선(EUV) 시스템 내의 에너지 모니터를 사용하여, 프리-펄스와 메인 펄스를 포함하는 레이저 빔의 측정을 수신하는 동작으로서, 상기 레이저 빔의 측정은: 파워미터를 사용하여 측정된, 규정된 시간 기간 동안의 레이저 펄스의 시리즈의 평균 파워, 및 상기 메인 펄스 중 제 1 메인 펄스로부터 시간 길이만큼 분리되는 프리-펄스 중 제 1 프리-펄스의 시간 프로파일을 나타내는 제 1 전압 신호를 포함하고, 상기 제 1 전압 신호는 광전자기(photoelectomagentic; PEM) 검출기에 의하여 제공되는, 레이저 빔의 측정을 수신하는 동작; 메인 펄스 교정 계수 및 상기 제 1 메인 펄스에 대응하는 제 1 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 상기 제 1 메인 펄스의 파워를 결정하는 동작; 상기 평균 파워 및 상기 제 1 메인 펄스의 파워에 기초하여 상기 제 1 프리-펄스의 파워를 결정하는 동작; 상기 제 1 프리-펄스의 파워 및 상기 제 1 프리-펄스에 대응하는 상기 제 1 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 프리-펄스 교정 계수를 결정하는 동작; 상기 프리-펄스 교정 계수 및 제 2 프리-펄스에 대응하여 상기 PEM 검출기에 의하여 제공된 제 2 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 상기 제 2 프리-펄스의 에너지를 결정하는 동작; 및 상기 메인 펄스 교정 계수 및 제 2 메인 펄스에 대응하는 상기 제 2 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 상기 제 2 메인 펄스의 에너지를 결정하는 동작을 수행하도록 하나 이상의 프로세서에 의해서 실행될 수 있다.According to one embodiment, the non-transitory computer-readable medium includes implemented instructions and the instructions are programmed to perform the pre-pulse and the main scan using an energy monitor in a laser-generated plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) Wherein the measurement of the laser beam comprises: measuring an average power of a series of laser pulses over a defined time period, measured using a power meter, and an average power of a first one of the main pulses, A first voltage signal indicative of a time profile of a first one of the pre-pulses separated by a time length from the main pulse, the first voltage signal being generated by a laser, which is provided by a photoelectromagnetic Receiving a measurement of the beam; Determining a power of the first main pulse based on integration of a main pulse calibration coefficient and a portion of the first voltage signal corresponding to the first main pulse; Determining a power of the first pre-pulse based on the average power and the power of the first main pulse; Determining a pre-pulse correction factor based on an integration of the power of the first pre-pulse and a portion of the first voltage signal corresponding to the first pre-pulse; Determining an energy of the second pre-pulse based on an integration of a portion of a second voltage signal provided by the PEM detector corresponding to the pre-pulse correction coefficient and a second pre-pulse; And determining an energy of the second main pulse based on integration of the portion of the second voltage signal corresponding to the main pulse calibration coefficient and the second main pulse.

일 실시예에 따르면, 시스템은, 레이저-생성 플라즈마(LPP) 극자외선(EUV) 시스템 내의 레이저 소스 내의 에너지 모니터로서, 동일한 파장을 가지며 버스트(burst) 내에서 발생하는 레이저 펄스를 측정하도록 구성되고: 규정된 시간 기간 동안의 레이저 펄스의 시리즈의 평균 파워를 측정하도록 구성되는 파워미터; 및 상기 규정된 시간 기간의 적어도 일부 동안에, 상기 레이저 펄스의 버스트의 시간 프로파일을 나타내는 제 1 전압 신호를 제공하도록 구성되는 광전자기(photoelectomagentic; PEM) 검출기를 포함하는 에너지 모니터; 상기 평균 파워 및 상기 제 1 전압 신호에 기초하여 교정 계수를 결정하도록 구성되는 교정 모듈로서, 상기 교정 계수는 상기 평균 파워로부터 결정된 상기 레이저 펄스의 버스트의 에너지와 상기 제 1 전압 신호의 적분의 비율인, 교정 모듈; 및 상기 교정 계수, 및 상기 PEM 검출기에 의하여 제공되고 후속 펄스의 시간 프로파일을 나타내는 제 2 전압 신호의 펄스 적분에 기초하여, 상기 레이저 펄스의 시리즈의 상기 후속 펄스의 에너지를 결정하도록 구성되는 단일 펄스 에너지 계산(SPEC) 모듈을 포함한다.According to one embodiment, the system is an energy monitor in a laser source in a laser-generated plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) system, configured to measure laser pulses having the same wavelength and occurring in a burst, A power meter configured to measure an average power of a series of laser pulses over a specified time period; And an energy monitor comprising a photoelectromagnetic (PEM) detector configured to provide a first voltage signal indicative of a time profile of the burst of laser pulses during at least a portion of the prescribed time period; A calibration module configured to determine a calibration factor based on the average power and the first voltage signal, the calibration factor being a ratio of an energy of the burst of the laser pulse determined from the average power to an integral of the first voltage signal A calibration module; And a pulse voltage generator configured to determine an energy of the subsequent pulse of the series of laser pulses based on the calibration coefficient and a pulse integral of a second voltage signal provided by the PEM detector and indicative of a time profile of a subsequent pulse, And a calculation (SPEC) module.

시스템은, 제 2 버스트의 제 2 시간 프로파일을 나타내는 제 3 전압 신호에 기초하여 제 2 버스트의 에너지를 계산하고, 제 2 버스트의 에너지를 파워미터에 의하여 검출된 제 2 평균 파워와 비교하며, 이러한 비교에 기초하여 교정 계수를 업데이트하도록 교정 모듈에게 지시하도록 구성되는 재교정 모듈을 더 포함할 수 있다.The system calculates the energy of the second burst based on the third voltage signal representing the second time profile of the second burst and compares the energy of the second burst to the second average power detected by the power meter, And a re-calibration module configured to instruct the calibration module to update the calibration coefficient based on the comparison.

일 실시예에 따르면, 방법은 동일한 파장을 가지며 버스트 내에서 발생하는 레이저 펄스를 레이저-생성 플라즈마(LPP) 극자외선(EUV) 시스템의 레이저 소스 내의 에너지 모니터를 사용하여 측정하는 단계로서: 파워미터로부터, 규정된 시간 기간 동안 측정된 상기 레이저 펄스의 평균 파워를 수신하는 단계; 및 광전자기(PEM) 검출기로부터, 상기 규정된 시간 기간의 적어도 일부 동안 감지된 상기 레이저 펄스의 상기 버스트의 시간 프로파일을 나타내는 제 1 전압 신호를 수신하는 단계를 포함하는 단계; 상기 평균 파워 및 상기 제 1 전압 신호에 기초하여 교정 계수를 결정하는 단계로서, 상기 교정 계수는 상기 평균 파워로부터 결정된 상기 레이저 펄스의 상기 버스트의 에너지와 상기 제 1 전압 신호의 적분의 비율인, 단계; 및 상기 교정 계수 및 상기 PEM 검출기에 의하여 제공되며 후속 펄스의 시간 프로파일을 나타내는 제 2 전압 신호의 적분에 기초하여, 상기 레이저 펄스의 시리즈의 상기 후속 펄스의 에너지를 결정하는 단계를 포함한다.According to one embodiment, the method comprises the steps of measuring a laser pulse having the same wavelength and occurring in a burst using an energy monitor in a laser source of a laser-generated plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) system, Receiving an average power of the laser pulse measured during a prescribed time period; And a photoelectric (PEM) detector, the method comprising: receiving a first voltage signal indicative of a time profile of the burst of the laser pulse sensed during at least a portion of the defined time period; Determining a calibration factor based on the average power and the first voltage signal, the calibration factor being a ratio of an energy of the burst of the laser pulse determined from the average power to an integral of the first voltage signal; ; And determining the energy of the subsequent pulse of the series of laser pulses based on the calibration factor and the integration of a second voltage signal provided by the PEM detector and indicative of a time profile of a subsequent pulse.

일 실시예에 따르면, 비-일시적 컴퓨터 판독가능 매체는 구현된 명령을 포함하고, 명령들은, 동일한 파장을 가지며 버스트 내에서 발생하는 레이저 펄스를 레이저-생성 플라즈마(LPP) 극자외선(EUV) 시스템의 레이저 소스 내의 에너지 모니터를 사용하여 측정하는 동작으로서: 파워미터로부터, 규정된 시간 기간 동안 측정된 상기 레이저 펄스의 평균 파워를 수신하는 동작; 및 광전자기(PEM) 검출기로부터, 상기 규정된 시간 기간의 적어도 일부 동안 감지된 상기 레이저 펄스의 상기 버스트의 시간 프로파일을 나타내는 제 1 전압 신호를 수신하는 동작을 포함하는, 동작; 상기 평균 파워 및 상기 제 1 전압 신호에 기초하여 교정 계수를 결정하는 동작으로서, 상기 교정 계수는 상기 평균 파워로부터 결정된 상기 레이저 펄스의 상기 버스트의 에너지와 상기 제 1 전압 신호의 적분의 비율인, 동작; 및 상기 교정 계수 및 상기 PEM 검출기에 의하여 제공되며 후속 펄스의 시간 프로파일을 나타내는 제 2 전압 신호의 적분에 기초하여, 상기 레이저 펄스의 시리즈의 상기 후속 펄스의 에너지를 결정하는 동작을 수행하도록 하나의 프로세서에 의하여 실행될 수 있다.According to one embodiment, the non-transitory computer readable medium comprises implemented instructions, wherein the instructions cause the laser pulses having the same wavelength and occurring in the burst to be in a laser-generated plasma (LPP) Extreme Ultraviolet (EUV) system Operating using an energy monitor in a laser source, comprising: receiving from the power meter an average power of the laser pulse measured over a defined time period; And from a photoelectric (PEM) detector, a first voltage signal indicative of a time profile of the burst of the laser pulse sensed during at least a portion of the specified time period; Determining a calibration factor based on the average power and the first voltage signal, wherein the calibration factor is a ratio of an energy of the burst of the laser pulse determined from the average power to an integral of the first voltage signal, ; And to determine an energy of the subsequent pulse of the series of laser pulses based on the integration of the calibration factor and a second voltage signal provided by the PEM detector and indicative of a time profile of a subsequent pulse, Lt; / RTI >

도 1 은 종래 기술에 따른 LPP EUV 시스템의 일부의 도면이다.
도 2 는 예시적인 구현형태에 따르는 에너지 모니터의 도면이다.
도 3 은 예시적인 실시예에 따르는 레이저 소스의 버스트 모드의 도면이다.
도 4 는 메인 펄스를 포함하는 버스트의 시간 프로파일을 나타내는, PEM 검출기에 의해 출력된 그래프이다.
도 5 는 단일 메인 펄스를 포함하는 시간 프로파일을 나타내는, PEM 검출기에 의해 출력된 그래프이다.
도 6 은 프리-펄스를 포함하는 버스트의 시간 프로파일을 나타내는, PEM 검출기에 의해 출력된 그래프이다.
도 7 은 단일 프리-펄스의 시간 프로파일을 나타내는, PEM 검출기에 의해 출력된 그래프이다.
도 8 은 소정 시간 길이만큼 분리된 프리-펄스 및 메인 펄스의 시간 프로파일을 나타내는, PEM 검출기에 의해 출력된 그래프의 일 예이다.
도 9 는 예시적인 실시예에 따르는, 펄스의 에너지를 측정하는 시스템의 블록도이다.
도 10 은 예시적인 실시예에 따르는, 펄스의 에너지를 측정하는 예시적인 방법의 흐름도이다.
도 11 은 단일 레이저 빔용 파워미터를 사용하여 광전자기(PEM) 검출기를 교정하는 예시적인 방법의 흐름도이다.
도 12 는 결합 레이저 빔용 파워미터를 사용하여 PEM 검출기를 교정하는 예시적인 방법의 흐름도이다.
1 is a diagram of a portion of a prior art LPP EUV system.
2 is a diagram of an energy monitor in accordance with an exemplary implementation.
3 is a diagram of a burst mode of a laser source in accordance with an exemplary embodiment.
4 is a graph output by a PEM detector showing the time profile of the burst containing the main pulse.
5 is a graph output by a PEM detector showing a time profile including a single main pulse.
6 is a graph output by a PEM detector showing the time profile of a burst containing pre-pulses.
Figure 7 is a graph output by a PEM detector showing the time profile of a single pre-pulse.
Figure 8 is an example of a graph output by a PEM detector showing the time profile of the pre-pulses and main pulses separated by a predetermined time length.
9 is a block diagram of a system for measuring the energy of a pulse, according to an exemplary embodiment.
10 is a flow diagram of an exemplary method for measuring the energy of a pulse, according to an exemplary embodiment.
11 is a flow diagram of an exemplary method of calibrating a photoelectric (PEM) detector using a power meter for a single laser beam.
12 is a flow diagram of an exemplary method of calibrating a PEM detector using a power meter for the combined laser beam.

LPP EUV 시스템 내에서, 레이저 펄스의 에너지는 레이저 소스, 빔 전달 시스템, 및/또는 포커싱 광학기 내의 다양한 위치에서 계산된다. 레이저 빔을 측정하기 위하여 LPP EUV 시스템에서 사용되는 센서는 레이저 빔의 펄스의 에너지를 직접적으로 측정하지 않는다. 센서는, 생성된 규정된 시간 기간 동안의 펄스의 평균 파워의 측정을 제공하는 파워미터를 포함한다. 센서는, 제한된 시간 기간 동안의 검출된 적외선(IR) 광에 기초하여 전압 신호를 출력하는 광전자기(PEM) 검출기를 더 포함한다. 전압 신호는 개개의 레이저 펄스의 시간 프로파일을 제공한다. 센서에 의하여 측정된 데이터를 사용하면, 파워미터에 맞춰 PEM 검출기를 교정하기 위한 교정 계수가 계산된다. 교정이 이루어지면, 펄스의 에너지가 PEM 검출기에 의하여 제공된 전압 신호로부터 계산될 수 있다.Within the LPP EUV system, the energy of the laser pulse is calculated at various locations within the laser source, the beam delivery system, and / or the focusing optics. The sensor used in the LPP EUV system to measure the laser beam does not directly measure the energy of the pulse of the laser beam. The sensor includes a power meter that provides a measure of the average power of the pulses over a defined period of time generated. The sensor further includes a photoelectric (PEM) detector that outputs a voltage signal based on the detected infrared (IR) light for a limited time period. The voltage signal provides a time profile of the individual laser pulses. Using the data measured by the sensor, a calibration factor is calculated to calibrate the PEM detector to the power meter. Once the calibration is made, the energy of the pulse can be calculated from the voltage signal provided by the PEM detector.

측정되는 레이저 빔은, 일체형(unitary) 레이저 빔이라고 불리는 동일한 파장의 광의 펄스를 포함할 수 있다. 단일 레이저 빔은 제 1 파장의 프리-펄스 또는 제 2 파장의 메인 펄스를 포함할 수 있다. 단일 레이저 빔 내의 광의 펄스의 에너지를 결정하기 위하여, PEM 검출기는 단일 레이저 빔에 대한 교정 계수를 계산함으로써 파워미터에 맞춰 교정된다. 단일 레이저 빔에 대하여, 교정 계수는 하나의 버스트에 걸쳐 파워미터로부터 수신된 측정과 PEM 검출기에 의해 제공된 전압 신호에 기초한 비율이다. 교정이 이루어진 후, 교정 계수와 PEM 검출기에 의하여 제공된 전압 신호가 단일 레이저 빔 내의 펄스들의 에너지를 계산하기 위하여 사용된다.The laser beam to be measured may comprise a pulse of light of the same wavelength, called a unitary laser beam. The single laser beam may comprise a pre-pulse of the first wavelength or a main pulse of the second wavelength. To determine the energy of a pulse of light in a single laser beam, the PEM detector is calibrated to a power meter by calculating a calibration coefficient for a single laser beam. For a single laser beam, the calibration factor is the ratio based on the measurement received from the power meter over one burst and the voltage signal provided by the PEM detector. After the calibration is made, the calibration factor and the voltage signal provided by the PEM detector are used to calculate the energy of the pulses in the single laser beam.

LPP EUV 시스템에서, 상이한 파장의 두 개의 단일 레이저 빔이 결합되면, 결과적으로 얻어지는 결합 레이저 빔은 시간 도메인에서 분리된 교번하는 파장의 펄스들을 가진다. 본 명세서에서 설명되는 실시예에서, 결합 레이저 빔 내의 펄스들은 제 1 파장의 프리-펄스와 제 2 파장의 메인 펄스 사이에서 교번한다. 결합된 레이저 빔 내의 메인 펄스의 에너지를 계산할 때, 메인 펄스의 단일 레이저 빔으로부터 계산된 교정 계수가 사용된다. 결합 레이저 빔 내의 프리-펄스 및 메인 펄스 사이에서, LPP EUV 시스템 내의 광 컴포넌트의 효과가 상이하기 때문에, 결합된 레이저 빔 내의 프리-펄스의 별개의 교정 계수가 계산된다. 프리-펄스의 교정 계수는 파워미터에 의하여 측정된 파워와 결합된 레이저 빔 내의 메인 펄스에 기인한 파워 사이의 차분에 기초하여 결정된다. 교정이 이루어진 후, 교정 계수와 PEM 검출기에 의하여 제공된 전압 신호가 단일 레이저 빔 내의 프리-펄스 및 메인 펄스의 개별 에너지를 계산하기 위하여 사용된다.In an LPP EUV system, when two single laser beams of different wavelengths are combined, the resulting combined laser beam has pulses of alternating wavelengths separated in the time domain. In the embodiment described herein, the pulses in the combined laser beam alternate between the pre-pulse of the first wavelength and the main pulse of the second wavelength. When calculating the energy of the main pulse in the combined laser beam, a calibration factor calculated from a single laser beam of the main pulse is used. Since the effect of the optical components in the LPP EUV system is different between the pre-pulses and the main pulses in the combined laser beam, a separate calibration coefficient of the pre-pulses in the combined laser beam is calculated. The calibration factor of the pre-pulse is determined based on the difference between the power measured by the power meter and the power due to the main pulse in the laser beam combined. After the calibration is made, the calibration factor and the voltage signal provided by the PEM detector are used to calculate the individual energy of the pre-pulse and the main pulse in a single laser beam.

도 2 는 파워미터(202) 및 PEM 검출기(208)를 포함하는, 예시적인 실시예에 따르는 에너지 모니터(200)의 도면이다. 에너지 모니터(200)는, 예를 들어 빔 스플리터를 사용하여 레이저 소스(101) 내의 다른 컴포넌트로부터 레이저 빔(102)을 수광할 수 있다. 당업자에게 명백하게 이해될 수 있는 바와 같이, 에너지 모니터(200)에 도달하기 이전에, 레이저 빔(102)은 하나 이상의 광 컴포넌트를 통해 이동하여 측정하기 위한 레이저 빔(102)의 일부를 픽-오프한다. 이러한 광 컴포넌트들은 다이아몬드 윈도우, 부분 반사체, 또는 셀렌화 아연 윈도우를 포함할 수 있다. 에너지 모니터(200)를 포함할 수 있는 레이저 시드 모듈의 일 예가 함께 양도되고 2013 년 12 월 5 일에 공개된 미국 특허 출원 공개 번호 제 2013/0321926 에서 논의된다.FIG. 2 is a diagram of an energy monitor 200 according to an exemplary embodiment, including a power meter 202 and a PEM detector 208. FIG. The energy monitor 200 may receive the laser beam 102 from other components in the laser source 101, for example, using a beam splitter. As will be appreciated by those skilled in the art, prior to reaching the energy monitor 200, the laser beam 102 picks off a portion of the laser beam 102 for movement through one or more optical components . Such optical components may include a diamond window, a partial reflector, or a zinc selenide window. An example of a laser seed module that may include an energy monitor 200 is also disclosed and discussed in U.S. Patent Application Publication No. 2013/0321926, published Dec. 5, 2013.

에너지 모니터(200)는 레이저 소스(101), 빔 전달 시스템(103), 또는 포커싱 광학기(104) 내의 특정 위치에서 레이저 빔(102)을 측정하도록 위치된다. 본 명세서에서 설명되는 몇 가지 실시예들에서, 에너지 모니터(200)를 배치하면, 에너지 모니터(200)는 동일한 파장의 광의 레이저 펄스(예를 들어, 프리-펄스 또는 메인 펄스)를 포함하는 단일 레이저 빔(102)을 측정하게 된다. 광의 레이저 펄스는 단일 소스에 의해 생성되지만, 다른 시스템에서는 두 개 이상의 소스에 의해서 생성될 수 있다. 본 명세서에서 설명되는 다른 실시예에서, 에너지 모니터(200)를 배치하면 에너지 모니터가 상이한 파장의 두 개의 레이저 소스에 의해 생성된 결합 레이저 빔(102)을 측정하게 된다. 레이저 소스(101), 빔 전달 시스템(103), 및 포커싱 광학기(104)는 두 개 이상의 에너지 모니터(200)를 포함할 수 있다.The energy monitor 200 is positioned to measure the laser beam 102 at a particular location within the laser source 101, the beam delivery system 103, or the focusing optics 104. In some embodiments described herein, when the energy monitor 200 is deployed, the energy monitor 200 may be a single laser (not shown) that includes a laser pulse of light of the same wavelength The beam 102 is measured. Laser pulses of light are generated by a single source, but can be generated by two or more sources in other systems. In another embodiment described herein, placing the energy monitor 200 causes the energy monitor to measure the combined laser beam 102 produced by the two laser sources of different wavelengths. The laser source 101, the beam delivery system 103, and the focusing optics 104 may include two or more energy monitors 200.

레이저 빔(102)은 에너지 모니터(200)를 통과하여 광로를 따라 진행한다. 레이저 빔(102)은 빔 스플리터(204)에 의해 분할되어, 레이저 빔(102)의 제 1 부분은 광로를 따라 계속 진행하는 반면에 레이저 빔(102)의 나머지는 반사체(206)를 향해 디렉팅된다. 그러면, 반사체(206)는 레이저 빔(102)의 나머지를 파워미터(202)로 디렉팅한다.The laser beam 102 passes through the energy monitor 200 and travels along the optical path. The laser beam 102 is split by the beam splitter 204 such that the first portion of the laser beam 102 continues along the optical path while the remainder of the laser beam 102 is directed toward the reflector 206 . The reflector 206 then directs the remainder of the laser beam 102 to the power meter 202.

파워미터(202)는 규정된 시간 기간 동안의 레이저 빔(102)의 평균 파워를 측정하도록 구성된다. 측정은 레이저 빔(102)의 다수 개의 버스트에 걸쳐 이루어질 수 있다. 몇 가지 실례들에서, 측정은 레이저 빔(102)의 5 개, 10 개, 또는 20 개의 버스트에 걸쳐 이루어질 수 있다. 정의된 시간 기간은 1 초보다 짧거나 수 초일 수 있다. 몇 가지 실례들에서, 규정된 시간 기간은 1 초이다.The power meter 202 is configured to measure the average power of the laser beam 102 for a specified time period. The measurement may be made over a plurality of bursts of the laser beam 102. In some instances, measurements may be made over 5, 10, or 20 bursts of the laser beam 102. The defined time period may be less than or equal to one second. In some instances, the prescribed time period is one second.

파워미터(202)로 디렉팅되지 않은 레이저 빔(102)의 부분은 추가적인 빔 스플리터(204)로 디렉팅된다. 빔 스플리터(204)로부터의 레이저 빔의 제 1 부분은, 예를 들어 더 나아가 센서 또는 다른 광 컴포넌트(미도시)로 디렉팅된다. 레이저 빔(102)의 나머지는 PEM 검출기(208)로 디렉팅된다.A portion of the laser beam 102 that is not directed to the power meter 202 is directed to an additional beam splitter 204. The first portion of the laser beam from beam splitter 204 is further directed, for example, to a sensor or other optical component (not shown). The remainder of the laser beam 102 is directed to the PEM detector 208.

PEM 검출기(208)는 레이저 빔(102)의 시간 프로파일을 나타내는 전압 신호를 제공한다. 시간 프로파일은 파워미터(202)에 의해 사용되는 규정된 시간 기간의 적어도 일부에 걸쳐 있다. 시간 프로파일은 적어도 빔(102)의 버스트에 걸쳐 있다. 결합 레이저 빔 내의 펄스의 에너지를 계산하기 위하여, 시간 프로파일은 프리-펄스 및 메인 펄스에 걸쳐 있다.The PEM detector 208 provides a voltage signal representative of the time profile of the laser beam 102. The time profile spans at least a portion of the prescribed time period used by power meter 202. [ The time profile spans at least the burst of beam 102. To calculate the energy of the pulse in the combined laser beam, the time profile spans the pre-pulse and the main pulse.

도 2 에는 오직 하나의 PEM 검출기(208)만 도시되는 반면에, 추가적 PEM 검출기(미도시)가 에너지 모니터(200)에 포함될 수 있다. 더 나아가, 레이저 빔(102)은, 예를 들어 렌즈(미도시) 또는 확산기 세트(미도시)를 사용하여, PEM 검출기(208)에 의한 측정 이전에 변경될 수 있다. 에너지 모니터(200)는 케이싱에 의해 밀폐되고 레이저 소스(101)의 포트에 부착되거나, 레이저 소스(101) 내에 밀폐될 수 있다.While only one PEM detector 208 is shown in FIG. 2, an additional PEM detector (not shown) may be included in the energy monitor 200. Further, the laser beam 102 may be changed prior to measurement by the PEM detector 208, for example using a lens (not shown) or a diffuser set (not shown). The energy monitor 200 may be sealed by a casing and attached to the port of the laser source 101 or enclosed within the laser source 101.

도 9 는 예시적인 실시예에 따르는, 펄스의 에너지를 측정하는 시스템(900)의 블록도이다. 시스템(900)은 에너지 모니터(902), 교정 모듈(904), 단일 펄스 에너지 계산(SPEC) 모듈(906), 및 선택적인 재교정 모듈(908)을 포함한다. 시스템(900)은, 실행가능한 명령을 저장할 수 있는 메모리에 액세스하는 프로세서를 포함하는 계산 디바이스를 포함하지만 이들로 한정되는 것은 아닌, 당업자들에게 공지된 다양한 방법으로 구현될 수 있다. 계산 디바이스는, 네트워크 또는 다른 형태의 통신을 통해 다른 계산 디바이스와 통신하기 위한 컴포넌트를 포함하는, 하나 이상의 입력 및 출력 컴포넌트를 포함할 수 있다. 시스템(900)은 계산 로직 또는 실행가능한 코드로 구현되는 하나 이상의 모듈을 포함한다.9 is a block diagram of a system 900 for measuring the energy of a pulse, in accordance with an exemplary embodiment. The system 900 includes an energy monitor 902, a calibration module 904, a single pulse energy calculation (SPEC) module 906, and an optional recalibration module 908. The system 900 may be implemented in a variety of ways known to those skilled in the art, including, but not limited to, a computing device including a processor that accesses memory that may store executable instructions. The computing device may include one or more input and output components, including components for communicating with other computing devices via a network or other type of communication. The system 900 includes one or more modules implemented with computational logic or executable code.

에너지 모니터(902)는 레이저 빔(102)의 레이저 펄스에 대한 데이터를 수신하도록 구성된다. 에너지 모니터(902)는 파워미터 및 PEM 검출기를 포함하거나, 이들과 전자적으로 통신한다. 몇 가지 실례들에서, 에너지 모니터(902)는 파워미터(202) 및 PEM 검출기(208)를 포함하는 에너지 모니터(200)이다. 파워미터는 규정된 시간 기간 동안의 레이저 펄스를 측정하도록 구성된다. 정의된 시간 기간은, 예를 들어 1 초일 수 있다. PEM 검출기는 규정된 시간 기간 중 적어도 일부에 걸쳐 레이저 펄스를 나타내는 전압 신호를 제공하도록 구성된다.The energy monitor 902 is configured to receive data for the laser pulse of the laser beam 102. The energy monitor 902 includes, or is in electronic communication with, a power meter and a PEM detector. In some instances, the energy monitor 902 is an energy monitor 200 that includes a power meter 202 and a PEM detector 208. The power meter is configured to measure laser pulses for a prescribed time period. The defined time period may be, for example, one second. The PEM detector is configured to provide a voltage signal representative of a laser pulse over at least a portion of a specified time period.

단일 레이저 빔(102)을 수광하도록 에너지 모니터(200 또는 902)가 LPP EUV 시스템(100) 내에 배치되면, 교정 모듈(904)은 파워미터(예를 들어, 파워미터(202)) 및 PEM 검출기(예를 들어, PEM 검출기(208))에 의해 수집된 데이터에 기초하여 교정 계수를 결정하도록 구성된다. 교정 계수는 각각의 단일 레이저 빔에 대해 계산된다. 교정 계수는 추후 수집된 PEM 검출기 데이터에 기초하여 단일 펄스(예를 들어, 단일 메인 펄스(502) 또는 단일 프리-펄스(702)의 에너지를 계산하기 위하여 사용된다. 교정 계수는 평균 파워와 전압 신호의 적분으로부터 결정되는 비율이다.When the energy monitor 200 or 902 is placed in the LPP EUV system 100 to receive a single laser beam 102, the calibration module 904 may be coupled to a power meter (e.g., power meter 202) and a PEM detector (E. G., PEM detector 208). ≪ / RTI > The calibration coefficients are calculated for each single laser beam. The calibration coefficient is used to calculate the energy of a single pulse (e.g., a single main pulse 502 or a single pre-pulse 702) based on the subsequently collected PEM detector data. Is the ratio determined from the integral of?

단일 레이저 빔(102)에서 교정 계수를 결정하기 위하여, 펄스의 버스트가 분석된다. 도 3 은 예시적인 실시예에 따르는 레이저 펄스의 두 개의 버스트(302)의 예시(300)이다. 예시(300)는 시간의 함수(밀리초(ms)로 측정)로서 변동하는 전압으로 묘사되는, PEM 검출기(208)에 의해 제공되는 시간 프로파일의 윤곽이다.To determine the correction factor in a single laser beam 102, a burst of pulses is analyzed. 3 is an illustration 300 of two bursts 302 of laser pulses in accordance with an exemplary embodiment. Example 300 is an outline of the time profile provided by the PEM detector 208, depicted as a varying voltage as a function of time (measured in milliseconds).

예시(300)에서, 각각의 버스트(302)는 상승 에지(310), 피크값(312)을 가지고, 하강 에지(316) 이전의 시간 길이 동안 피크 레벨 보다 낮은 전압 레벨(314)을 유지하는 곡선으로서 도시된다. 버스트(302) 상승 에지(310)에서 시작해서 하강 에지(316)에서 끝나는 버스트 길이(304)를 가진다. 본 명세서의 다른 부분에서 설명되는 바와 같은 교정 계수를 계산하기 위하여 버스트(302)의 에너지를 계산할 때, PEM 검출기(208)는 적어도 버스트 길이(304)를 망라하는 범위 윈도우(306)를 가진다. 범위 윈도우(306)는 버스트들(302) 사이의 시간을 캡쳐하도록 확장되거나 버스트(302) 내의 하나 또는 두 개의 펄스만을 캡쳐하도록 축소될 수 있다.In the example 300, each burst 302 has a rising edge 310, a curve 312 that has a peak value 312, and a voltage level 314 that is lower than the peak level for a time length prior to the falling edge 316 Lt; / RTI > The burst 302 has a burst length 304 starting at the rising edge 310 and ending at the falling edge 316. The PEM detector 208 has a range window 306 that covers at least the burst length 304 when calculating the energy of the burst 302 to calculate a calibration coefficient as described elsewhere herein. The range window 306 may be expanded to capture the time between bursts 302 or may be reduced to capture only one or two pulses within the burst 302.

버스트 주기(308)는 제 1 버스트(302)의 상승 에지(310)로부터 제 2 버스트(302)의 상승 에지(310)까지 측정된다. 버스트 주기(308)는, 규정된 시간 기간 동안의(예를 들어, 1 초) 버스트의 개수를 표시하는 버스트(302)의 반복률 또는 "렙 레이트(rep rate)"로부터 결정될 수 있다. 버스트 렙 레이트는 5 헤르쯔(Hz), 10 Hz, 또는 20 Hz와 같은 주파수로서 표현될 수 있다.The burst period 308 is measured from the rising edge 310 of the first burst 302 to the rising edge 310 of the second burst 302. The burst period 308 may be determined from the repetition rate or "rep rate" of the burst 302 indicating the number of bursts for a specified period of time (e.g., one second). The burst repre- rate can be expressed as a frequency such as 5 Hertz (Hz), 10 Hz, or 20 Hz.

도 4 는 메인 펄스를 포함하는 단일 레이저 빔(102)의 버스트(402)의 PEM 검출기(208)의 출력에 의하여 제공되는 시간 프로파일을 나타내는 그래프(400)이다. 그래프(400)는 도 3 에 도시된 출력의 실제 예이다. 단일 레이저 빔(102)은 단일 소스에 의해 생성된다. 일 실시예에서, 메인 펄스는 10.59 마이크론의 파장을 가진다. 도시된 바와 같이, 버스트(402)는 약 3.5 밀리초 동안 지속되고, 선-결정된 개수의 레이저 펄스를 포함한다. 다양한 실시예에 따르면, 버스트(402)는 버스트 길이에 따라 다른 개수의 레이저 펄스를 포함할 수 있다. 레이저 펄스는 폭(시간 길이로서 측정됨) 및 진폭을 가진다. 교정 계수를 계산하는 과정의 일부로서, 그래프(400)에 도시된 시간 길이에 걸쳐, 교정 모듈(904)은 버스트(402)의 펄스를 적분할 수 있다.4 is a graph 400 showing the time profile provided by the output of the PEM detector 208 of the burst 402 of a single laser beam 102 containing the main pulse. The graph 400 is an actual example of the output shown in FIG. The single laser beam 102 is generated by a single source. In one embodiment, the main pulse has a wavelength of 10.59 microns. As shown, the burst 402 lasts about 3.5 milliseconds and includes a pre-determined number of laser pulses. According to various embodiments, the burst 402 may include a different number of laser pulses depending on the burst length. The laser pulse has a width (measured as a time length) and an amplitude. As part of the process of calculating the calibration coefficients, over the length of time shown in graph 400, the calibration module 904 can integrate the pulses of the burst 402.

도 6 은 프리-펄스를 포함하는 단일 레이저 빔(102)의 버스트(602)의 시간 프로파일을 나타내는, PEM 검출기(208)에 의해 출력된 그래프(600)이다. 그래프(600)는 도 3 에 도시된 출력의 실제 예이다. 단일 레이저 빔(102)은 단일 소스에 의해 생성되지만, 다른 시스템에서는 다수의 소스에 의해 생성될 수 있다. 일 실시예에서, 프리-펄스는 10.26 마이크론의 파장을 가진다. 도시된 바와 같이, 버스트(602)는 약 3.5 밀리초의 지속 시간을 가지고, 선-결정된 개수의 레이저 펄스를 포함한다. 다양한 실시예에 따르면, 버스트(602)는 버스트 길이에 따라 다른 개수의 레이저 펄스를 포함할 수 있다. 레이저 펄스는 폭(시간 길이로서 측정됨) 및 진폭을 가진다. 교정 계수를 계산하는 과정의 일부로서, 그래프(600)에 도시된 시간 길이에 걸쳐, 교정 모듈(904)은 버스트(602)의 펄스를 적분할 수 있다.Figure 6 is a graph 600 output by the PEM detector 208 that represents the time profile of the burst 602 of a single laser beam 102 comprising pre-pulses. The graph 600 is an actual example of the output shown in FIG. The single laser beam 102 is generated by a single source, but may be generated by multiple sources in other systems. In one embodiment, the pre-pulse has a wavelength of 10.26 microns. As shown, burst 602 has a duration of about 3.5 milliseconds and includes a pre-determined number of laser pulses. According to various embodiments, burst 602 may include a different number of laser pulses depending on the burst length. The laser pulse has a width (measured as a time length) and an amplitude. As part of the process of calculating the calibration coefficients, over the length of time shown in graph 600, the calibration module 904 can integrate the pulses of the burst 602. [

단일 레이저 빔(102)에 대한 교정 계수는, 메인 펄스를 포함하는 일체형 빔과 프리-펄스를 포함하는 일체형 빔 양자 모두에 대해 동일한 방식으로 계산된다. 우선, 교정 모듈(904)은 평균 파워로부터 레이저 펄스의 버스트의 에너지를 결정한다. 파워가 측정된 규정된 시간 기간 동안에 생성된 에너지가 결정된다:The calibration coefficients for the single laser beam 102 are calculated in the same manner for both the integral beam including the main pulse and the integral beam including the pre-pulse. First, the calibration module 904 determines the energy of the burst of laser pulses from the average power. The energy produced during the specified time period during which power is measured is determined:

Figure pct00001
Figure pct00001

여기에서

Figure pct00002
은 규정된 시간 기간 동안의 레이저 빔(102)의 에너지이고,
Figure pct00003
는 파워미터(202)에 의해 얻어진 파워 측정이며,
Figure pct00004
는 파워미터(202)의 규정된 시간 기간(예를 들어, 1 초)이다.
Figure pct00005
로부터, 버스트 내의 에너지 양이 버스트 렙 레이트로부터 계산된다:From here
Figure pct00002
Is the energy of the laser beam 102 for a specified time period,
Figure pct00003
Is a power measurement obtained by the power meter 202,
Figure pct00004
(E.g., one second) of the power meter 202. In this case,
Figure pct00005
The amount of energy in the burst is calculated from the burst repre- rate:

Figure pct00006
Figure pct00006

여기에서

Figure pct00007
는 버스트의 에너지이고,
Figure pct00008
은 규정된 시간 기간(예를 들어, 1 초) 동안의 단일 레이저 빔(102)의 에너지이며, 및
Figure pct00009
는 버스트 렙 레이트이다.From here
Figure pct00007
Is the energy of the burst,
Figure pct00008
Is the energy of a single laser beam 102 for a specified time period (e.g., 1 second), and
Figure pct00009
Is the burstreplate.

교정 계수

Figure pct00010
를 결정하기 위하여, 다음 수학식이 사용된다:Calibration factor
Figure pct00010
, The following equation is used: < RTI ID = 0.0 >

Figure pct00011
Figure pct00011

so that,so that,

Figure pct00012
Figure pct00012

여기에서

Figure pct00013
는 교정 계수이고, V는 적분
Figure pct00014
가 버스트의 시간 길이 동안 PEM 검출기(208)에 의하여 제공된 전압 신호의 곡선 아래의 면적이 되도록 PEM 검출기(208)로부터 수신된 전압 신호이며,
Figure pct00015
는 파워미터(202)로부터 수신된 평균 파워 데이터로부터 결정된 버스트의 에너지이다. 교정 계수
Figure pct00016
는 볼트당 와트(Watts per Volt)의 단위를 가진다.From here
Figure pct00013
Is the calibration coefficient, V is the integral
Figure pct00014
Is the voltage signal received from the PEM detector 208 to be the area under the curve of the voltage signal provided by the PEM detector 208 during the time length of the burst,
Figure pct00015
Is the energy of the burst determined from the average power data received from the power meter 202. [ Calibration factor
Figure pct00016
Has units of Watts per Volt.

SPEC 모듈(906)은 교정 모듈(904)에 의해 계산된 교정 계수를 사용하여 단일 펄스의 에너지를 계산하도록 구성된다. SPEC 모듈(906)은, 단일 레이저 빔 내의 단일 펄스(예를 들어, 단일 메인 펄스(502) 또는 단일 프리-펄스(702))의 시간 프로파일을 포함하는 전압 데이터를 PEM 검출기(208)로부터 수신한다.The SPEC module 906 is configured to calculate the energy of a single pulse using the calibration coefficients calculated by the calibration module 904. SPEC module 906 receives voltage data from PEM detector 208 that includes a time profile of a single pulse (e.g., a single main pulse 502 or a single pre-pulse 702) in a single laser beam .

도 5 는 단일 레이저 빔(102) 내의 단일 메인 펄스(502)의 시간 프로파일을 나타내는, PEM 검출기(208)에 의해 출력된 그래프(500)이다. 단일 메인 펄스(502)는 하나의 버스트(402) 내의 펄스일 수도 있고, 후속하는 버스트 내의 펄스일 수도 있다. 단일 메인 펄스(502)는 PEM 검출기(208)의 범위 윈도우(306)를 축소시킴으로써 캡쳐된다. 메인 펄스(502)는 진폭 및 폭(시간 길이로 측정됨)을 가진다. 펄스(502)의 에너지를 계산하는 과정의 일부로서, SPEC 모듈(906)은 메인 펄스(502)를 적분할 수 있다.5 is a graph 500 output by a PEM detector 208, which represents the time profile of a single main pulse 502 in a single laser beam 102. In FIG. The single main pulse 502 may be a pulse in one burst 402 or a pulse in a subsequent burst. A single main pulse 502 is captured by shrinking the range window 306 of the PEM detector 208. The main pulse 502 has amplitude and width (measured in time length). As part of the process of calculating the energy of the pulse 502, the SPEC module 906 may integrate the main pulse 502.

도 7 은 단일 레이저 빔(102) 내의 단일 메인 펄스(702)의 시간 프로파일을 나타내는, PEM 검출기에 의해 출력된 그래프(700)이다. 단일 프리-펄스(702)는, PEM 검출기(208)가 레이저 빔(102)을 측정하는 시간 길이를 단축함으로써 캡쳐된다. 프리-펄스(702)는 진폭 및 폭(시간 길이로서 측정됨)을 가진다. 프리-펄스(702)의 에너지를 계산하는 과정의 일부로서, SPEC 모듈(906)은 프리-펄스(702)를 적분할 수 있다.FIG. 7 is a graph 700 output by a PEM detector showing the time profile of a single main pulse 702 in a single laser beam 102. FIG. A single pre-pulse 702 is captured by shortening the length of time that the PEM detector 208 measures the laser beam 102. The pre-pulse 702 has an amplitude and a width (measured as a time length). As part of the process of calculating the energy of the pre-pulse 702, the SPEC module 906 may integrate the pre-pulse 702.

단일 펄스의 시간 프로파일을 사용하여, 단일 펄스의 에너지는 다음 수학식에 따라 계산된다:Using the time profile of a single pulse, the energy of a single pulse is calculated according to the following equation:

Figure pct00017
Figure pct00017

여기에서

Figure pct00018
는 펄스의 에너지이고,
Figure pct00019
는 측정되는 펄스의 파장의 펄스들에 대한 교정 계수이며, V는, 적분
Figure pct00020
가 펄스의 시간 길이 동안 PEM 검출기(208)에 의해 제공된 전압 신호의 곡선 아래의 면적이 되도록, 측정되는 펄스의 시간 프로파일을 나타내는 전압 신호이며 PEM 검출기(208)로부터 수신된다.From here
Figure pct00018
Is the energy of the pulse,
Figure pct00019
Is the calibration coefficient for the pulses of the wavelength of the pulse being measured, V is the integral
Figure pct00020
Is a voltage signal indicative of the time profile of the pulse being measured, such that it is the area under the curve of the voltage signal provided by the PEM detector 208 during the time length of the pulse and is received from the PEM detector 208.

선택적인 재교정 모듈(908)은 PEM 검출기(208)를 재교정할지 여부를 결정하도록 구성된다. 예를 들어 기구 드리프트(instrument drift), 장비 노후화, 또는 레이저 빔이 수광되는 소스인 빔 스플리터의 열화 때문에, 교정 계수는 시간이 지남에 따라 정확도가 떨어질 수 있다. 단일 레이저 빔에서, 레이저 펄스의 후속 버스트(예를 들어, 버스트(402) 또는 버스트(602)) 동안에, 재교정 모듈(908)은 파워미터(202) 측정을 PEM 검출기(208)에 의해 제공된 데이터를 사용하여 계산된 레이저 빔(102)의 파워와 비교하도록 구성된다. 본 명세서에서 설명된 바와 같이, 비교는 1 초의 시간 기간을 사용하여 이루어진다. 당업자들에게 명확히 이해될 수 있는 것과 같이, 후속하는 설명에 기초하면, 버스트 길이(304) 또는 버스트 주기(308), 또는 여러 버스트 주기와 같은 다른 시간 기간들이 사용될 수 있다.An optional re-calibration module 908 is configured to determine whether to re-calibrate the PEM detector 208. [ For example, due to instrument drift, equipment obsolescence, or deterioration of the beam splitter, which is the source from which the laser beam is received, the calibration coefficients may degrade over time. During a subsequent burst (e.g., burst 402 or burst 602) of laser pulses in a single laser beam, the recalibration module 908 causes the power meter 202 measurements to be compared to the data provided by the PEM detector 208 To the power of the laser beam 102 calculated using the power of the laser beam 102. As described herein, the comparison is made using a time period of one second. Other times periods such as burst length 304 or burst period 308, or various burst periods may be used, based on the following description, as will be clear to those skilled in the art.

1 초의 기간 동안의 레이저 빔(102)의 펄스의 파워를 계산하기 위하여, 버스트(예를 들어, 버스트(402 또는 602)) 동안의 펄스의 에너지가 교정 계수를 사용하여 결정된다:To calculate the power of the pulses of the laser beam 102 for a period of one second, the energy of the pulse during a burst (e.g., burst 402 or 602) is determined using a calibration factor:

Figure pct00021
Figure pct00021

여기에서

Figure pct00022
는 교정 계수이고, V는 적분
Figure pct00023
가 버스트의 시간 길이 동안 PEM 검출기(208)에 제공된 전압 신호의 곡선 아래의 면적이 되도록 PEM 검출기(208)로부터 수신된 전압 신호이며,
Figure pct00024
는 버스트의 계산된 에너지이다. 레이저 펄스 에너지의 합산이 시간 기간 동안의 레이저 빔(102)의 총에너지를 결정하기 위하여 사용된다:From here
Figure pct00022
Is the calibration coefficient, V is the integral
Figure pct00023
Is the voltage signal received from the PEM detector 208 to be the area under the curve of the voltage signal provided to the PEM detector 208 during the time length of the burst,
Figure pct00024
Is the computed energy of the burst. The summation of the laser pulse energy is used to determine the total energy of the laser beam 102 for a time period:

Figure pct00025
Figure pct00025

여기에서

Figure pct00026
는 버스트의 에너지이고,
Figure pct00027
은 규정된 시간 기간(예를 들어, 1 초) 동안의 레이저 빔(102)의 계산된 에너지이며,
Figure pct00028
는 규정된 시간 기간 동안의 레이저 펄스 에너지의 합산이다. 펄스의 파워를 결정하기 위하여, 총에너지는 시간 기간(예를 들어, 1 초)에 의해 나누어진다:From here
Figure pct00026
Is the energy of the burst,
Figure pct00027
Is the calculated energy of the laser beam 102 for a specified time period (e.g., 1 second)
Figure pct00028
Is the sum of the laser pulse energies for a defined period of time. To determine the power of the pulse, the total energy is divided by a time period (e.g., 1 second):

Figure pct00029
Figure pct00029

여기에서

Figure pct00030
은 규정된 시간 기간 동안의 레이저 빔(102)의 계산된 에너지이고,
Figure pct00031
는 PEM 검출기(208)로부터 수신된 전압 신호로부터 계산된 파워 값이며,
Figure pct00032
는 규정된 시간 기간(예를 들어, 1 초)이다.From here
Figure pct00030
Is the calculated energy of the laser beam 102 for a defined period of time,
Figure pct00031
Is the power value calculated from the voltage signal received from the PEM detector 208,
Figure pct00032
Is a specified time period (e.g., one second).

교정 모듈(904)에게 교정 계수를 재계산하도록 지시할지 여부를 결정하기 위하여, 재교정 모듈(908)은 계산된 파워와 측정된 파워 사이의 차분을 계산할 수 있다. 차분은 퍼센트로 표현될 수 있다. 재교정할지 여부를 결정하기 위하여, 재교정 모듈(908)은 차분을 임계값과 비교할 수 있다. 몇 가지 실례들에서, 두 개의 파워 값들이 15% 이상 차이가 난다면, 재교정 모듈(908)은 교정 모듈(904)에게 교정 계수를 재계산하도록 지시한다. 비교에 기초하여, 재교정 관리자(908)는 교정 모듈(904)에게, 레이저 빔(102)의 펄스의 후속 버스트 동안에 교정 계수를 재계산하여 교정 계수를 업데이트하도록 지시할 수 있다.To determine whether to instruct the calibration module 904 to recalculate the calibration coefficients, the recalibration module 908 may calculate the difference between the calculated power and the measured power. The difference can be expressed in percent. To determine whether to recalibrate, the recalibration module 908 may compare the difference to a threshold. In some instances, if the two power values differ by more than 15%, the re-calibration module 908 instructs the calibration module 904 to recalculate the calibration coefficients. Based on the comparison, the re-calibration manager 908 may instruct the calibration module 904 to update the calibration coefficients by recalculating the calibration coefficients during a subsequent burst of pulses of the laser beam 102. [

결합 레이저 빔(102)을 수광하기 위하여 에너지 모니터(200 또는 902)가 LPP EUV 시스템(100) 내에 배치되면, 도 9 의 시스템(900)은 결합 레이저 빔(102) 내의 프리-펄스를 결정하기 위하여 사용되는 교정 계수를 결정하도록 더욱 구성된다. 에너지 모니터(902)는 결합 레이저 빔(102)을 측정하도록 LPP EUV 시스템(100) 내에 위치된다.When the energy monitor 200 or 902 is placed in the LPP EUV system 100 to receive the combined laser beam 102, the system 900 of FIG. 9 may be used to determine the pre-pulse in the combined laser beam 102 Is further configured to determine the calibration factor used. The energy monitor 902 is positioned within the LPP EUV system 100 to measure the combined laser beam 102.

결합된 레이저 빔(102) 내의 프리-펄스의 교정 계수를 계산하기 위하여, 교정 모듈(904)은 단일 레이저 빔을 교정할 때와 다른 계산의 상이한 세트를 사용한다. 이러한 계산은 메인 펄스의 단일 레이저 빔(102)에 대해 계산된 교정 계수를 사용하여 메인 펄스에 기인하며 파워미터(202)에 의해 측정된 파워의 일부를 결정하며, 파워의 나머지를 사용하여 결합된 레이저 빔 내의 프리-펄스에 대한 교정 계수를 결정한다.To calculate the calibration coefficients of the pre-pulses in the combined laser beam 102, the calibration module 904 uses a different set of different calculations than when calibrating a single laser beam. This calculation uses the calculated calibration coefficients for the single laser beam 102 of the main pulse to determine a fraction of the power measured by the power meter 202 that originates from the main pulse, To determine a correction factor for the pre-pulse in the laser beam.

도 8 은 시간 길이만큼 분리된 프리-펄스 및 메인 펄스를 포함하는, 결합된 펄스의 PEM 검출기(208)에 의해 출력된 전압 신호의 예시적인 시간 프로파일(800)이다. 결합된 레이저 빔(102)은 단일 레이저 빔(102)을 단일 레이저 빔으로 통합하여, 결합 레이저 빔(102)의 버스트 내에서, 버스트(602)의 프리-펄스가 버스트(402)의 메인 펄스와 교번하게 함으로써 생성된다. 도 8 에서 묘사되는 바와 같이, 프리-펄스(802)는 15 마이크로초만큼 메인 펄스(804)보다 앞선다. 레이저 펄스는 폭(시간 길이로서 측정됨) 및 진폭을 가진다. 그래프(800)에 도시된 시간 길이에 걸쳐, 교정 모듈(904) 및 SPEC 모듈(906)은 메인 펄스(804)와 별개로 프리-펄스(802)를 적분할 수 있다. 적분은 프리-펄스의 에너지를 계산하기 위한 교정 계수를 결정하기 위하여, 또한 결합 레이저 빔 내의 후속 프리-펄스의 에너지를 계산하기 위하여 사용된다.8 is an exemplary time profile 800 of the voltage signal output by the PEM detector 208 of the combined pulse, including the pre-pulse and the main pulse separated by a time length. The combined laser beam 102 integrates the single laser beam 102 into a single laser beam so that within the burst of the combined laser beam 102 the pre- . As depicted in FIG. 8, pre-pulse 802 precedes main pulse 804 by 15 microseconds. The laser pulse has a width (measured as a time length) and an amplitude. The calibration module 904 and the SPEC module 906 may integrate the pre-pulse 802 separately from the main pulse 804 over the length of time shown in graph 800. [ The integral is used to determine the calibration factor for calculating the energy of the pre-pulse and also to calculate the energy of the subsequent pre-pulse in the combined laser beam.

교정 모듈(904)은 결합형 빔의 메인 펄스의 파워를, 결합된 펄스 내의 메인 펄스의 시간 프로파일을 표시하며 PEM 검출기(208)에 의해 제공된 전압 신호의 일부에 기초하여 계산한다. 시간 프로파일을 사용하면, 메인 펄스의 에너지가 수학식에 따라 계산된다:The calibration module 904 computes the power of the main pulse of the combined beam based on a portion of the voltage signal provided by the PEM detector 208 indicating the time profile of the main pulse in the combined pulse. Using the time profile, the energy of the main pulse is calculated according to the equation:

Figure pct00033
Figure pct00033

여기에서

Figure pct00034
는 메인 펄스의 에너지이고,
Figure pct00035
는 단일 레이저 빔(102)에 대하여 계산된 메인 펄스에 대한 교정 계수이며, V는 PEM 검출기(208)로부터 수신되며, 메인 펄스의 시간 길이 동안 적분
Figure pct00036
가 PEM 검출기(208)에 의하여 제공된 전압 신호의 곡선 아래의 면적이 되도록, 측정되는 메인 펄스의 시간 프로파일을 나타내는 전압 신호이다.From here
Figure pct00034
Is the energy of the main pulse,
Figure pct00035
Is the calibration coefficient for the main pulse calculated for the single laser beam 102, V is received from the PEM detector 208, and is integrated during the time length of the main pulse
Figure pct00036
Is the voltage signal representing the time profile of the main pulse being measured such that the area under the curve of the voltage signal provided by the PEM detector 208 is the area under the curve.

결합된 펄스의 평균 파워는 규정된 시간 기간(예를 들어, 1 초) 동안에 파워미터(202)에 의해 측정된다. 메인 펄스의 에너지에 기초하여, 규정된 시간 기간 동안의 메인 펄스에 기인한 파워가 다음과 같이 계산된다:The average power of the combined pulses is measured by the power meter 202 during a specified time period (e.g., one second). Based on the energy of the main pulse, the power due to the main pulse for a defined time period is calculated as:

Figure pct00037
Figure pct00037

여기에서

Figure pct00038
는 메인 펄스의 에너지이고,
Figure pct00039
는 메인 펄스의 계산된 파워이며,
Figure pct00040
는 파워미터(202)에 의하여 사용되는 규정된 시간 기간이고,
Figure pct00041
는 파워미터(202)에 의하여 사용되는, 규정된 시간 기간 동안에 발생하는 메인 펄스의 에너지의 합산이다. 프리-펄스에 기인하는, 파워미터(202)에 의해서 측정되는 파워의 일부를 결정하기 위하여, 교정 모듈(904)은 다음 차분을 결정한다:From here
Figure pct00038
Is the energy of the main pulse,
Figure pct00039
Is the calculated power of the main pulse,
Figure pct00040
Is a prescribed time period used by the power meter 202,
Figure pct00041
Is the sum of the energies of the main pulses that occur during a specified time period, as used by the power meter 202. To determine a portion of the power measured by the power meter 202, which results from the pre-pulse, the calibration module 904 determines the next difference:

Figure pct00042
Figure pct00042

여기에서

Figure pct00043
는 파워미터에 의하여 측정되는 규정된 시간 기간 동안의 결합된 펄스에 기인한 파워의 부분이고,
Figure pct00044
는 파워미터(202)에 의하여 측정되는 결합된 펄스의 파워이며,
Figure pct00045
는 메인 펄스의 계산된 파워이다.From here
Figure pct00043
Is the fraction of power due to the combined pulse for a specified time period measured by the power meter,
Figure pct00044
Is the power of the combined pulse measured by the power meter 202,
Figure pct00045
Is the calculated power of the main pulse.

프리-펄스에 기인한 파워를 사용하면, 프리-펄스에 기인한 에너지는 다음에 의하여 결정된다:Using the power due to the pre-pulse, the energy due to the pre-pulse is determined by:

Figure pct00046
Figure pct00046

여기에서

Figure pct00047
는 파워미터(202)에 의해 사용되는 규정된 시간 기간 동안의 프리-펄스의 총에너지이고,
Figure pct00048
는 규정된 시간 기간 동안의 결합된 펄스의 프리-펄스에 기인하고 파워미터에 의하여 측정되는 파워의 부분이며,
Figure pct00049
는 파워미터(202)의 규정된 시간 기간(예를 들어, 1 초)이다.From here
Figure pct00047
Is the total energy of the pre-pulse for a defined time period used by the power meter 202,
Figure pct00048
Is the fraction of power due to the pre-pulse of the combined pulse for the specified time period and measured by the power meter,
Figure pct00049
(E.g., one second) of the power meter 202. In this case,

결합 레이저 빔 내의 프리-펄스의 교정 계수를 결정하기 위하여, 다음 수학식이 사용된다:To determine the correction factor of the pre-pulse in the combined laser beam, the following equation is used:

Figure pct00050
Figure pct00050

여기에서

Figure pct00051
는 결합 레이저 빔 내의 프리-펄스의 교정 계수이고, V는 적분
Figure pct00052
가 규정된 시간 기간 중 적어도 일부 동안에 PEM 검출기(208)에 의해 제공된 전압 신호의 곡선 아래의 면적이 되도록, PEM 검출기(208)로부터 수신된 전압 신호이며,
Figure pct00053
는 파워미터(202)에 의하여 사용되는, 규정된 시간 기간 동안의 프리-펄스의 총에너지이다. 교정 계수
Figure pct00054
는 볼트당 와트의 단위를 가진다.From here
Figure pct00051
Is the calibration coefficient of the pre-pulse in the combined laser beam, V is the integral
Figure pct00052
Is the voltage signal received from the PEM detector 208 such that the voltage signal is the area under the curve of the voltage signal provided by the PEM detector 208 during at least a portion of the specified time period,
Figure pct00053
Is the total energy of the pre-pulse for a defined period of time, as used by the power meter 202. Calibration factor
Figure pct00054
Has units of watts per volt.

결합 레이저 빔 내의 프리-펄스의 교정 계수가 결정되면, SPEC 모듈(906)은, 결합 레이저 빔 내의 프리-펄스 및 메인 펄스의 쌍의 시간 프로파일을 포함하는 전압 데이터를 PEM 검출기(208)로부터 수신한다. 그러면, SPEC 모듈(906)은 다음 공식을 사용하여 후속 프리-펄스의 에너지를 결정할 수 있다:Once the correction factor of the pre-pulse in the combined laser beam is determined, the SPEC module 906 receives from the PEM detector 208 voltage data including the time profile of the pre-pulse and the main pulse pair in the combined laser beam . The SPEC module 906 may then determine the energy of the subsequent pre-pulse using the following formula:

Figure pct00055
Figure pct00055

여기에서

Figure pct00056
는 단일 프리-펄스의 에너지이고,
Figure pct00057
는 결합 레이저 빔(102) 내의 프리-펄스의 펄스들에 대한 교정 계수이며, V는 PEM 검출기(208)에 의하여 수신되고, 적분
Figure pct00058
가 프리-펄스의 시간 길이 동안 PEM 검출기(208)에 의해 제공된 전압 신호의 곡선 아래의 면적이 되도록, 측정되는 프리-펄스의 시간 프로파일을 나타내는 전압 신호이다.From here
Figure pct00056
Is the energy of a single pre-pulse,
Figure pct00057
Is a calibration factor for the pulses of the pre-pulse in the combined laser beam 102, V is received by the PEM detector 208,
Figure pct00058
Is the voltage signal representing the time profile of the pre-pulse being measured such that it is the area under the curve of the voltage signal provided by the PEM detector 208 during the time length of the pre-pulse.

선택적인 재교정 모듈(908)은 위에서 설명된 바와 같이, 결합 레이저 빔(102) 내의 프리-펄스들에 대하여 PEM 검출기(208)를 파워미터(202)를 사용해서 재교정할지 여부를 더 결정할 수 있다. 결합된 레이저 빔에 대하여, 재교정 모듈(908)은 결합 레이저 빔 내의 펄스들의 에너지를 파워미터(202)에 대응하는 규정된 시간 기간 동안의에 합산함으로써 펄스들에 대한 파워를 결합한다. 그러면, 위에서 설명된 바와 같이, 재교정 모듈(908)은 합산으로부터 계산된 파워를 파워미터(202)에 의해 측정된 파워와 비교한다.The optional recalibration module 908 may further determine whether to recalibrate the PEM detector 208 with the power meter 202 for pre-pulses in the combined laser beam 102, as described above have. For the combined laser beam, the re-calibration module 908 combines the power for the pulses by summing the energy of the pulses in the combined laser beam for a specified time period corresponding to the power meter 202. [ The recalibration module 908 then compares the power calculated from the summation with the power measured by the power meter 202, as described above.

도 10 은 예시적인 실시예에 따르는, 펄스의 에너지를 계산하는 예시적인 방법(1000)의 흐름도이다. 방법(1000)은 시스템(900)에 의하여 수행될 수 있다.10 is a flow diagram of an exemplary method 1000 for calculating the energy of a pulse, in accordance with an exemplary embodiment. The method 1000 may be performed by the system 900.

동작 1002 에서, PEM 검출기는 제 1 레이저의 빔에 대한 파워미터를 사용하여 교정된다. 제 1 레이저는 위에서 설명된 바와 같이, 단일 레이저 빔 내의 메인 펄스 또는 프리-펄스를 생성할 수 있다. 도 11 은 결합 레이저 빔 내의 펄스의 에너지를 결정하기 위해 파워미터를 사용하여 PEM 검출기를 교정하는 예시적인 방법(1100)의 흐름도이다. 방법 1100 은, 예를 들어 시스템(900)dml 에너지 모니터(200 또는 902) 및 교정 모듈(904)에 의하여 동작 1002 의 일부로서 수행될 수 있다.At operation 1002, the PEM detector is calibrated using a power meter for the beam of the first laser. The first laser can generate a main pulse or pre-pulse in a single laser beam, as described above. 11 is a flow diagram of an exemplary method 1100 for calibrating a PEM detector using a power meter to determine the energy of a pulse in the combined laser beam. Method 1100 may be performed, for example, as part of operation 1002 by system 900 dml energy monitor 200 or 902 and calibration module 904.

동작 1102 에서, 파워 측정이 파워미터(예를 들어, 파워미터(202))로부터 수신된다. 파워 측정은 시간 기간에 걸친 단일 레이저 빔(102)의 펄스의 평균 파워를 표시한다.At operation 1102, a power measurement is received from a power meter (e.g., power meter 202). The power measurement represents the average power of the pulses of the single laser beam 102 over a period of time.

동작 1104 에서, 시간 길이 동안의 전압 신호가 PEM 검출기(예를 들어, PEM 검출기(208))로부터 수신된다. 전압 신호는 단일 레이저 빔(102)의 펄스의 버스트의 시간 프로파일이다. 데이터가 PEM 검출기(208)에 의해 수집되는 시간 길이는 파워미터(202)의 시간 기간 내의 적어도 하나의 버스트이다.At operation 1104, a voltage signal for a time length is received from a PEM detector (e.g., PEM detector 208). The voltage signal is the time profile of the burst of pulses of the single laser beam 102. The length of time that the data is collected by the PEM detector 208 is at least one burst within the time period of the power meter 202.

동작 1106 에서, 레이저 빔(102)의 교정 계수가 계산된다. 교정 계수는 교정 모듈(904)과 관련하여 설명된 것처럼 계산된다. 교정 계수는 교정 모듈(904)에 의해 계산될 수 있다.At operation 1106, the calibration factor of the laser beam 102 is calculated. The calibration coefficients are calculated as described in connection with the calibration module 904. The calibration coefficients may be calculated by the calibration module 904.

에너지 모니터(200)가 단일 레이저 빔을 측정하고 있다면, 방법(1000)은 동작 1004 를 건너뛰고 동작 1006 으로 진행한다. 동작 1006 에서, 펄스의 에너지가 계산된다. 펄스의 에너지는, 예를 들어 본 명세서에서 SPEC 모듈(906)과 관련하여 설명되는 바와 같이 계산된다. 몇 가지 실례들에서, SPEC 모듈(906)은 동작 1006 을 수행한다.If the energy monitor 200 is measuring a single laser beam, the method 1000 skips operation 1004 and proceeds to operation 1006. At operation 1006, the energy of the pulse is calculated. The energy of the pulses is calculated, for example, as described herein with respect to the SPEC module 906. In some instances, SPEC module 906 performs operation 1006.

선택적인 동작 1008 에서, 예를 들어 재교정 모듈(908)로 PEM 검출기를 재교정할지 여부가 결정된다. 결정은 PEM 검출기로부터 계산된 전압 신호를 파워미터에 의해 측정된 파워와 비교함으로써 수행된다. 재교정한다고 결정되면, 방법 1000 은 동작 1002 로, 또는 몇 가지 실례들에서는 동작 1004 로 복귀한다. 재교정하지 않는다고 결정되면, 방법 1000 은 동작 1006 으로 복귀한다.In optional operation 1008, it is determined, for example, whether to recalibrate the PEM detector with the recalibration module 908. The determination is performed by comparing the voltage signal calculated from the PEM detector with the power measured by the power meter. If it is determined to recalibrate, method 1000 returns to operation 1002, or, in some instances, to operation 1004. If it is determined not to recalibrate, the method 1000 returns to operation 1006.

에너지 모니터(200)에 의해 측정된 레이저 빔이 결합 레이저 빔이라면, 방법 1000 은 동작 1002 로부터 동작 1004 로 진행한다. PEM 검출기는 결합된 빔에 의해 교정되어 결합형 빔 내의 프리-펄스의 에너지를 결정한다. 제 2 레이저는 위에서 설명된 바와 같이, 결합 레이저 빔(102) 내의 메인 펄스와 결합되는, 버스트 내의 프리-펄스를 생성할 수 있다. 동작 1004 에서, 결합 레이저 빔(102) 내의 프리-펄스에 대한 교정 계수가 결정된다. 결합 레이저 빔(102) 내의 프리-펄스에 대한 교정 계수는, 단일 레이저 빔(102) 내의 프리-펄스와 별개로 결정되는데, 그 이유는 LPP EUV 시스템(100)의 광 컴포넌트가 프리-펄스의 시간 프로파일과 단일 레이저 빔(102)이 결합된 이후에 파워미터(202)에 의해 측정되는 파워 사이의 관련성에 영향을 주기 때문이다. 프리-펄스의 교정 계수는 파워미터에 의하여 측정된 파워와 결합된 레이저 빔 내의 메인 펄스에 기인한 파워 사이의 차분에 기초하여 결정된다.If the laser beam measured by the energy monitor 200 is a combined laser beam, the method 1000 proceeds from operation 1002 to operation 1004. The PEM detector is calibrated by the combined beam to determine the energy of the pre-pulse in the combined beam. The second laser can generate a pre-pulse in the burst, which is combined with the main pulse in the combined laser beam 102, as described above. At operation 1004, the calibration factor for the pre-pulse in the combined laser beam 102 is determined. The calibration coefficient for the pre-pulse in the combined laser beam 102 is determined separately from the pre-pulse in the single laser beam 102 because the optical component of the LPP EUV system 100 is at the pre- Since it affects the relationship between the profile and the power measured by the power meter 202 after the single laser beam 102 is combined. The calibration factor of the pre-pulse is determined based on the difference between the power measured by the power meter and the power due to the main pulse in the laser beam combined.

도 12 는 프리-펄스 및 메인 펄스를 포함하는 결합 레이저 빔에 대해 파워미터(예를 들어, 파워미터(202))를 사용하여 PEM 검출기(예를 들어, PEM 검출기(208))를 교정하는 예시적인 방법(1200)의 흐름도이다. 방법 1200 은 에너지 모니터(200)에 의해 측정된 레이저 빔이 결합 레이저 빔인 경우 방법 1000 의 동작 1004 을 수행하는 예시적인 방법이다. 방법 1200 은, 예를 들어 시스템(900)의 교정 모듈(904)에 의하여 수행될 수 있다.12 illustrates an example of calibrating a PEM detector (e.g., PEM detector 208) using a power meter (e.g., power meter 202) for a combined laser beam comprising a pre-pulse and a main pulse 0.0 > 1200 < / RTI > Method 1200 is an exemplary method of performing operation 1004 of method 1000 when the laser beam measured by energy monitor 200 is a combined laser beam. The method 1200 may be performed, for example, by the calibration module 904 of the system 900.

동작 1202 에서, 전압 데이터는 에너지 모니터(200 또는 902) 내의 PEM 검출기(208)로부터 수신된다. 전압 데이터는 도 8 에서 묘사되는 바와 같이 결합 레이저 빔(102)의 시간 프로파일이다. 데이터가 PEM 검출기(208)에 의해 수집되는 시간 길이는 파워미터(202)의 시간 기간 내의 적어도 일부이다.At operation 1202, the voltage data is received from the PEM detector 208 in the energy monitor 200 or 902. The voltage data is the time profile of the combined laser beam 102 as depicted in Fig. The length of time that the data is collected by the PEM detector 208 is at least part of the time period of the power meter 202.

동작 1204 에서, 메인 펄스에 기인한 파워가 결정된다. 메인 펄스의 파워는 교정 모듈(904) 및 SPEC 모듈(906)과 관련하여 설명된 것처럼 결정된다.In operation 1204, the power due to the main pulse is determined. The power of the main pulse is determined as described in connection with the calibration module 904 and the SPEC module 906. [

동작 1206 에서, 파워 데이터가 파워미터(202)로부터 수신된다. 파워 데이터는 시간 기간에 걸친 결합 레이저 빔(102)의 펄스의 평균 파워를 표시한다.At operation 1206, power data is received from the power meter 202. The power data represents the average power of the pulses of the combined laser beam 102 over a time period.

동작 1208 에서, 결합 레이저 빔(102) 내의 프리-펄스에 기인한 파워가 결정한다. 프리-펄스의 파워는 교정 모듈(904) 및 SPEC 모듈(906)과 관련하여 설명된 것처럼 결정된다.At operation 1208, the power due to the pre-pulse in the combined laser beam 102 is determined. The power of the pre-pulse is determined as described in connection with the calibration module 904 and the SPEC module 906.

동작 1210 에서, 결합 레이저 빔(102) 내의 프리-펄스의 교정 계수가 계산된다. 교정 계수는 교정 모듈(904)과 관련하여 설명된 것처럼 계산된다.At operation 1210, the calibration coefficient of the pre-pulse in the combined laser beam 102 is calculated. The calibration coefficients are calculated as described in connection with the calibration module 904.

에너지 모니터(200)에 의해 측정된 레이저 빔이 결합 레이저 빔인 경우 동작 1006 으로 진행하면, 결합 레이저 빔 내의 각각의 메인 펄스 및 프리-펄스의 에너지가 동작 1006 에 대해서 전술된 것처럼 계산된다. 메인 펄스의 일체형 빔에 대해 계산된 동작 1002 의 교정 계수는 결합 레이저 빔 내의 메인 펄스의 에너지를 계산하기 위하여 사용된다. 결합 레이저 빔 내의 프리-펄스의 에너지를 계산하기 위하여, 동작 1004 의 교정 계수가 사용된다. 에너지 모니터(200)에 의해 측정된 레이저 빔이 결합 레이저 빔인 경우, 방법 1000 은 이제 위에서 설명된 바와 같이 선택적인 동작 1008 로 진행할 수 있다.If the laser beam measured by the energy monitor 200 is a combined laser beam, proceeding to operation 1006, the energy of each main pulse and pre-pulse in the combined laser beam is calculated as described above for operation 1006. [ The calibration factor of operation 1002 calculated for the integral beam of the main pulse is used to calculate the energy of the main pulse in the combined laser beam. To calculate the energy of the pre-pulse in the combined laser beam, the calibration factor of operation 1004 is used. If the laser beam measured by energy monitor 200 is a combined laser beam, method 1000 may now proceed to optional operation 1008 as described above.

개시된 방법 및 장치는 여러 실시예를 참조하여 위에서 설명되었다. 본 명세서에 비추어 다른 실시예들도 당업자들에게는 명백하게 이해될 것이다. 설명된 방법과 장치의 어떤 양태들은 위의 실시예에서 설명되는 것과는 다른 구성을 사용하여 용이하게 구현되거나 위에서 설명된 것들과는 다른 요소들과 함께 구현될 수도 있다. 예를 들어, 본 명세서에서 설명되는 것들보다 더 복잡할 수 있는 다른 알고리즘 및/또는 로직 회로가 사용될 수도 있고, 다른 타입의 레이저 빔 생성 시스템이 사용될 수도 있다.The disclosed method and apparatus have been described above with reference to various embodiments. Other embodiments in view of the present disclosure will be apparent to those skilled in the art. Certain aspects of the methods and apparatus described may be readily implemented using configurations other than those described in the above embodiments, or may be implemented with elements other than those described above. For example, other algorithms and / or logic circuits that may be more complex than those described herein may be used, and other types of laser beam generation systems may be used.

더 나아가, 설명된 방법 및 장치가 프로세스, 장치, 또는 시스템을 포함하는 여러 방식으로 구현될 수 있다는 것이 또한 인정되어야 한다. 본 명세서에서 설명되는 방법은, 하드 디스크 드라이브, 플로피 디스크와 같은 비일시적 컴퓨터 판독가능 저장 매체, 콤팩트 디스크(CD) 또는 디지털 다기능 디스크(DVD)와 같은 광학적 디스크, 플래시 메모리, 등에 기록되거나, 프로그램 명령이 광학적이거나 전자적 통신 링크를 거쳐 전송되는 컴퓨터 네트워크를 통해 통신되는 이러한 방법, 및 이러한 명령을 프로세서가 수행하도록 지시하기 위한 프로그램 명령에 의하여 구현될 수도 있다. 본 명세서에서 설명되는 방법의 단계들의 순서가 변경되고 여전히 본 발명의 범위 내에 있을 수 있다는 것에 주목해야 한다.Furthermore, it should also be appreciated that the methods and apparatus described may be implemented in various ways including processes, devices, or systems. The methods described herein may be embodied in computer readable storage mediums, such as hard disk drives, non-volatile computer readable storage media such as floppy disks, optical disks such as compact disks (CD) or digital versatile disks May be implemented by such a method communicated over a computer network that is transmitted over an optical or electronic communication link, and program instructions for instructing the processor to perform such an instruction. It should be noted that the order of the steps of the method described herein may vary and still be within the scope of the present invention.

주어진 예들은 오직 예시적인 목적만을 위한 것이고, 다른 관례 및 기법을 가지는 다른 구현형태 및 실시예로 확장될 수도 있다는 것이 이해되어야 한다. 여러 실시예들이 설명되지만, 본 발명을 본 명세서에서 개시되는 실시예(들)로 한정하려는 의도가 없다. 반면에, 의도는 모든 대체예, 수정, 및 당업자에게 명백한 균등물을 포함하는 것이다.It should be understood that the examples given are for illustrative purposes only and may be extended to other implementations and embodiments having different conventions and techniques. While several embodiments have been described, there is no intent to limit the invention to the embodiment (s) disclosed herein. On the contrary, the intention is to cover all alternatives, modifications, and equivalents obvious to those skilled in the art.

앞선 명세서에서, 본 발명은 그것의 특정 실시예를 참조하여 설명되었지만, 당업자들은 본 발명이 그러한 실시예로 한정되지 않는다는 것을 인식할 것이다. 위에서 설명된 발명의 다양한 특징 및 양태는 개별적으로 또는 공동으로 사용될 수도 있다. 더 나아가, 본 발명은 본 발명의 더욱 넓은 사상 및 범위에서 벗어나지 않으면서 본 명세서에서 설명되는 것을 넘어서는 다수의 환경 및 애플리케이션 범위에서 이용될 수 있다. 이에 상응하여, 명세서 및 도면은 한정적인 것이 아니라 예시적인 것으로 간주돼야 한다. 본 명세서에서 사용될 때 "구비하는(comprising)", "포함하는(including)", 및 "가지는(having)"과 같은 용어들이 당업계에서 특히 열린 의미로 파악되어야 한다는 것이 인식될 것이다.In the foregoing specification, the invention has been described with reference to specific embodiments thereof, but those skilled in the art will recognize that the invention is not limited to such embodiments. The various features and aspects of the invention described above may be used individually or collectively. Furthermore, the present invention may be utilized in a number of environments and applications beyond what is described herein without departing from the broader spirit and scope of the present invention. Correspondingly, the specification and drawings are to be regarded in an illustrative rather than a restrictive sense. It will be appreciated that terms such as " comprising ", " including ", and "having ", when used in this specification,

Claims (22)

레이저-생성 플라즈마(LPP) 극자외선(EUV) 시스템 내의 에너지 모니터 - 상기 에너지 모니터는 시간 길이만큼 분리되는 프리-펄스와 메인 펄스를 포함하는 레이저 빔을 측정하도록 구성되고:
규정된 시간 기간 동안의 레이저 펄스의 시리즈의 평균 파워를 감지하도록 구성되는 파워미터; 및
상기 규정된 시간 기간의 일부 동안에, 상기 시간 기간만큼 제 1 메인 펄스로부터 분리되는 제 1 프리-펄스의 시간 프로파일을 나타내는 전압 신호를 제공하도록 구성되는 광전자기(photoelectomagentic; PEM) 검출기를 포함함 -;
메인 펄스 교정 계수 및 상기 제 1 메인 펄스에 대응하는 전압 신호의 부분의 펄스 적분에 기초하여 상기 제 1 메인 펄스의 파워를 결정하고, 상기 평균 파워 및 상기 제 1 메인 펄스의 파워에 기초하여 상기 제 1 프리-펄스의 파워를 결정하며, 상기 제 1 프리-펄스의 파워 및 상기 제 1 프리-펄스에 대응하는 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 프리-펄스 교정 계수를 결정하도록 구성되는 교정 모듈; 및
상기 프리-펄스 교정 계수, 및 제 2 프리-펄스에 대응하여 상기 PEM 검출기에 의하여 제공된 제 2 전압 신호의 부분의 펄스 적분에 기초하여 상기 제 2 프리-펄스의 에너지를 결정하고, 상기 메인 펄스 교정 계수 및 제 2 메인 펄스에 대응하는 상기 제 2 전압 신호의 부분의 펄스 적분에 기초하여 상기 제 2 메인 펄스의 에너지를 결정하도록 구성되는 단일 펄스 에너지 계산(single pulse energy calculation; SPEC) 모듈을 포함하는, 시스템.
An energy monitor in a laser-generated plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) system, said energy monitor being configured to measure a laser beam comprising a pre-pulse and a main pulse separated by a time length,
A power meter configured to sense an average power of a series of laser pulses over a defined time period; And
And a photoelectromagnetic (PEM) detector configured to provide a voltage signal indicative of a time profile of a first pre-pulse separated from the first main pulse by the time period during a portion of the prescribed time period;
Wherein the power of the first main pulse is determined based on a pulse integral of a portion of the main pulse correction coefficient and a portion of the voltage signal corresponding to the first main pulse, and based on the average power and the power of the first main pulse, A calibration module configured to determine a power of one pre-pulse and to determine a pre-pulse calibration coefficient based on an integration of the power of the first pre-pulse and a portion of the voltage signal corresponding to the first pre-pulse; And
Determines the energy of the second pre-pulse based on the pulse integral of the portion of the second voltage signal provided by the PEM detector corresponding to the pre-pulse correction coefficient and the second pre-pulse, And a single pulse energy calculation (SPEC) module configured to determine an energy of the second main pulse based on a pulse and a pulse integral of a portion of the second voltage signal corresponding to the second main pulse , system.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은,
제 2 규정된 시간 기간 동안의 레이저 빔의 에너지를, PEM에 의하여 제공되는 상기 제 2 전압 신호에 기초하여 계산하도록 구성되는 재교정 모듈을 더 포함하는, 시스템.
The method according to claim 1,
The system comprises:
Further comprising a recalibration module configured to calculate an energy of the laser beam for a second prescribed time period based on the second voltage signal provided by the PEM.
제 2 항에 있어서,
상기 재교정 모듈은, 상기 레이저 빔의 계산된 에너지를 제 2 규정된 시간 기간 동안 상기 파워미터에 의하여 감지된 평균 파워와 비교하고, 상기 비교에 기초하여 상기 프리-펄스 교정 계수를 업데이트하도록 상기 교정 모듈에게 지시하도록 더 구성되는, 시스템.
3. The method of claim 2,
The recalibration module is further configured to compare the calculated energy of the laser beam with an average power sensed by the power meter for a second prescribed time period and to update the pre- And is further configured to instruct the module.
제 3 항에 있어서,
상기 재교정 모듈은, 비교 결과가 임계치를 초과하는 경우, 상기 프리-펄스 교정 계수를 업데이트 하도록 상기 교정 모듈에게 지시하도록 구성되는, 시스템.
The method of claim 3,
Wherein the recalibration module is configured to instruct the calibration module to update the pre-pulse calibration coefficient if the comparison result exceeds a threshold.
제 1 항에 있어서,
상기 교정 모듈은, 상기 규정된 시간 기간 동안의 상기 메인 펄스에 기인한 파워를 상기 규정된 시간 기간 동안의 평균 파워로부터 감산함으로써, 상기 제 1 프리-펄스의 파워를 결정하도록 구성되는, 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the calibration module is configured to determine the power of the first pre-pulse by subtracting the power due to the main pulse for the defined time period from the average power for the defined time period.
레이저-생성 플라즈마(LPP) 극자외선(EUV) 시스템 내의 에너지 모니터를 사용하여, 프리-펄스와 메인 펄스를 포함하는 레이저 빔의 측정을 수신하는 단계로서, 상기 레이저 빔의 측정은, 파워미터를 사용하여 측정된, 규정된 시간 기간 동안의 레이저 펄스의 시리즈의 평균 파워, 및 상기 메인 펄스 중 제 1 메인 펄스로부터 시간 길이만큼 분리되는 상기 프리-펄스 중 제 1 프리-펄스의 시간 프로파일을 나타내는 제 1 전압 신호를 포함하고, 상기 제 1 전압 신호는 광전자기(photoelectomagentic; PEM) 검출기에 의하여 제공되는, 레이저 빔의 측정을 수신하는 단계;
메인 펄스 교정 계수 및 상기 제 1 메인 펄스에 대응하는 상기 제 1 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 상기 제 1 메인 펄스의 파워를 결정하는 단계;
상기 평균 파워 및 상기 제 1 메인 펄스의 파워에 기초하여 상기 제 1 프리-펄스의 파워를 결정하는 단계;
상기 제 1 프리-펄스의 파워 및 상기 제 1 프리-펄스에 대응하는 상기 제 1 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 프리-펄스 교정 계수를 결정하는 단계;
상기 프리-펄스 교정 계수, 및 제 2 프리-펄스에 대응하여 상기 PEM 검출기에 의하여 제공된 제 2 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 상기 제 2 프리-펄스의 에너지를 결정하는 단계; 및
상기 메인 펄스 교정 계수, 및 제 2 메인 펄스에 대응하는 상기 제 2 전압 신호의 부분의 적분에 기초하여 상기 제 2 메인 펄스의 에너지를 결정하는 단계를 포함하는, 방법.
Receiving a measurement of a laser beam comprising a pre-pulse and a main pulse using an energy monitor in a laser-generated plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) system, wherein the measurement of the laser beam is performed using a power meter Pulse, which is measured by an average power of a series of laser pulses for a prescribed time period and a time profile of a first pre-pulse separated by a time length from a first main pulse of the main pulse, Comprising: receiving a measurement of a laser beam comprising a voltage signal, the first voltage signal being provided by a photoelectromagnet (PEM) detector;
Determining a power of the first main pulse based on integration of a main pulse calibration coefficient and a portion of the first voltage signal corresponding to the first main pulse;
Determining a power of the first pre-pulse based on the average power and the power of the first main pulse;
Determining a pre-pulse correction factor based on an integration of the power of the first pre-pulse and a portion of the first voltage signal corresponding to the first pre-pulse;
Determining an energy of the second pre-pulse based on the pre-pulse correction coefficient and an integration of a portion of the second voltage signal provided by the PEM detector corresponding to a second pre-pulse; And
Determining the energy of the second main pulse based on the integration of the main pulse calibration coefficient and a portion of the second voltage signal corresponding to the second main pulse.
제 6 항에 있어서,
상기 방법은,
제 2 규정된 시간 기간 동안의 상기 레이저 빔의 에너지를, 상기 PEM에 의하여 제공되는 상기 제 2 전압 신호에 기초하여 계산하는 단계를 더 포함하는, 방법.
The method according to claim 6,
The method comprises:
Further comprising calculating energy of the laser beam for a second prescribed time period based on the second voltage signal provided by the PEM.
제 7 항에 있어서,
상기 방법은, 상기 레이저 빔의 계산된 에너지를 상기 제 2 규정된 시간 기간 동안의 평균 파워와 비교하고, 상기 비교에 기초하여 상기 프리-펄스 교정 계수를 업데이트하는 단계를 더 포함하는, 방법.
8. The method of claim 7,
The method further comprises comparing the calculated energy of the laser beam to an average power for the second specified time period and updating the pre-pulse correction factor based on the comparison.
제 8 항에 있어서,
상기 프리-펄스 교정 계수를 업데이트하는 단계는, 상기 비교가 임계치를 초과하는 것에 기초하는, 방법.
9. The method of claim 8,
Wherein updating the pre-pulse correction factor is based on the comparison exceeding a threshold.
제 6 항에 있어서,
상기 제 1 프리-펄스의 파워를 결정하는 단계는, 상기 규정된 시간 기간 동안의 상기 메인 펄스에 기인한 파워를 상기 규정된 시간 기간 동안의 평균 파워로부터 감산함으로써 수행되는, 방법.
The method according to claim 6,
Wherein the step of determining the power of the first pre-pulse is performed by subtracting the power due to the main pulse for the defined time period from the average power for the defined time period.
레이저-생성 플라즈마(LPP) 극자외선(EUV) 시스템 내의 레이저 소스 내의 에너지 모니터 - 상기 에너지 모니터는 동일한 파장을 가지며 버스트(burst) 내에서 발생하는 레이저 펄스를 측정하도록 구성되고:
규정된 시간 기간 동안의 레이저 펄스의 시리즈의 평균 파워를 측정하도록 구성되는 파워미터; 및
상기 규정된 시간 기간의 적어도 일부 동안에, 상기 레이저 펄스의 버스트의 시간 프로파일을 나타내는 제 1 전압 신호를 제공하도록 구성되는 광전자기(photoelectomagentic; PEM) 검출기를 포함함 - ;
상기 평균 파워 및 상기 제 1 전압 신호에 기초하여 교정 계수를 결정하도록 구성되는 교정 모듈로서, 상기 교정 계수는 상기 평균 파워로부터 결정된 상기 레이저 펄스의 버스트의 에너지와 상기 제 1 전압 신호의 적분의 비율인, 교정 모듈; 및
상기 교정 계수, 및 상기 PEM 검출기에 의하여 제공되고 후속 펄스의 시간 프로파일을 나타내는 제 2 전압 신호의 펄스 적분에 기초하여, 상기 레이저 펄스의 시리즈의 상기 후속 펄스의 에너지를 결정하도록 구성되는 단일 펄스 에너지 계산(SPEC) 모듈을 포함하는, 시스템.
An energy monitor in a laser source in a laser-generated plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) system, said energy monitor being configured to measure laser pulses having the same wavelength and occurring in a burst,
A power meter configured to measure an average power of a series of laser pulses over a specified time period; And
A photoelectromagnetic (PEM) detector configured to provide a first voltage signal indicative of a time profile of the burst of laser pulses during at least a portion of the prescribed time period;
A calibration module configured to determine a calibration factor based on the average power and the first voltage signal, the calibration factor being a ratio of an energy of the burst of the laser pulse determined from the average power to an integral of the first voltage signal A calibration module; And
A first pulse energy calculation configured to determine an energy of the subsequent pulse of the series of laser pulses based on the calibration coefficient and a pulse integral of a second voltage signal provided by the PEM detector and indicative of a time profile of a subsequent pulse, (SPEC) module.
제 11 항에 있어서,
제 2 버스트의 제 2 시간 프로파일를 나타내는 제 3 전압 신호에 기초하여, 제 2 버스트의 에너지를 계산하도록 구성되는 재교정 모듈을 더 포함하는, 시스템.
12. The method of claim 11,
Further comprising a recalibration module configured to calculate an energy of a second burst based on a third voltage signal indicative of a second time profile of the second burst.
제 12 항에 있어서,
상기 재교정 모듈은, 상기 제 2 버스트의 에너지를 상기 파워미터에 의하여 감지된 제 2 평균 파워와 비교하고, 상기 비교에 기초하여 상기 교정 계수를 업데이트하도록 상기 교정 모듈에게 지시하도록 더 구성되는, 시스템.
13. The method of claim 12,
Wherein the recalibration module is further configured to compare the energy of the second burst to a second average power sensed by the power meter and to instruct the calibration module to update the calibration coefficient based on the comparison, .
제 13 항에 있어서,
상기 재교정 모듈은, 비교 결과가 임계치를 초과하는 경우, 상기 교정 계수를 업데이트하도록 상기 교정 모듈에게 지시하도록 구성되는, 시스템.
14. The method of claim 13,
Wherein the recalibration module is configured to instruct the calibration module to update the calibration coefficient if the comparison result exceeds a threshold.
제 11 항에 있어서,
상기 레이저 펄스는 메인 펄스인, 시스템.
12. The method of claim 11,
Wherein the laser pulse is a main pulse.
제 11 항에 있어서,
상기 레이저 펄스는 프리-펄스인, 시스템.
12. The method of claim 11,
Wherein the laser pulse is a pre-pulse.
레이저-생성 플라즈마(LPP) 극자외선(EUV) 시스템의 레이저 소스 내의 에너지 모니터를 사용하여 동일한 파장을 가지며 버스트 내에서 발생하는 레이저 펄스를 측정하는 단계 - 측정은;
파워미터로부터, 규정된 시간 기간 동안 측정된 상기 레이저 펄스의 평균 파워를 수신하는 것; 및
광전자기(PEM) 검출기로부터, 상기 규정된 시간 기간의 적어도 일부 동안 감지된 상기 레이저 펄스의 시간 프로파일을 나타내는 제 1 전압 신호를 수신하는 것을 포함함 - ;
상기 평균 파워 및 상기 제 1 전압 신호에 기초하여 교정 계수를 결정하는 단계로서, 상기 교정 계수는 상기 평균 파워로부터 결정된 상기 레이저 펄스의 에너지와 상기 제 1 전압 신호의 적분의 비율인, 교정 계수를 결정하는 단계; 및
상기 교정 계수, 및 상기 PEM 검출기에 의하여 제공되며 후속 펄스의 시간 프로파일을 나타내는 제 2 전압 신호의 적분에 기초하여, 상기 레이저 펄스의 시리즈의 상기 후속 펄스의 에너지를 결정하는 단계를 포함하는, 방법.
Using a energy monitor in the laser source of a laser-generated plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) system to measure laser pulses having the same wavelength and occurring in the burst;
Receiving, from a power meter, an average power of the laser pulse measured over a defined time period; And
Receiving from a photoelectric (PEM) detector a first voltage signal indicative of a time profile of the laser pulse sensed during at least a portion of the defined time period;
Determining a calibration coefficient based on the average power and the first voltage signal, wherein the calibration coefficient determines a calibration coefficient, which is a ratio of the energy of the laser pulse determined from the average power to an integral of the first voltage signal ; And
Determining the energy of the subsequent pulse of the series of laser pulses based on the calibration factor and an integration of a second voltage signal provided by the PEM detector and indicative of a time profile of a subsequent pulse.
제 17 항에 있어서,
상기 방법은, 제 2 버스트의 시간 프로파일를 나타내는 제 3 전압 신호에 기초하여, 상기 제 2 버스트의 에너지를 계산하는 단계를 더 포함하는, 방법.
18. The method of claim 17,
Wherein the method further comprises calculating an energy of the second burst based on a third voltage signal indicative of a temporal profile of the second burst.
제 18 항에 있어서,
상기 방법은, 상기 제 2 버스트의 에너지를 상기 파워미터에 의하여 감지된 제 2 평균 파워와 비교하고, 상기 비교에 기초하여 상기 교정 계수를 업데이트하는 단계를 더 포함하는, 방법.
19. The method of claim 18,
The method further comprises comparing the energy of the second burst to a second average power sensed by the power meter and updating the calibration factor based on the comparison.
제 19 항에 있어서,
상기 교정 계수를 업데이트하는 단계는, 상기 비교가 임계치를 초과하는 것에 기초하는, 방법.
20. The method of claim 19,
Wherein updating the calibration factor is based on the comparison exceeding a threshold.
제 17 항에 있어서,
상기 레이저 펄스는 메인 펄스인, 방법.
18. The method of claim 17,
Wherein the laser pulse is a main pulse.
제 17 항에 있어서,
상기 레이저 펄스는 프리-펄스인, 방법.
18. The method of claim 17,
Wherein the laser pulse is a pre-pulse.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019058522A1 (en) * 2017-09-22 2019-03-28 三菱電機株式会社 Laser machining device
CN111521264B (en) * 2020-07-02 2020-09-22 北京瑞通科悦科技有限公司 Rapid calculation method and device for pulse energy measurement
CN113567903B (en) * 2021-07-21 2023-04-28 清华大学 Method, device, computer storage medium and terminal for realizing sensor calibration

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010022701A (en) * 1997-08-08 2001-03-26 아킨스 로버트 피. Laser-illuminated stepper or scanner with energy sensor feedback
US20060007432A1 (en) * 2003-11-27 2006-01-12 Peter Heist Optical arrangement for obtaining a measurement signal for power measurement in lasers
KR101024559B1 (en) * 2002-05-07 2011-03-31 사이머 인코포레이티드 High power deep ultraviolet laser with long life optics
WO2014039221A1 (en) * 2012-09-07 2014-03-13 Cymer, Llc Seed laser mode stabilization system and method

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3542359B2 (en) * 1992-12-24 2004-07-14 キヤノン株式会社 Pulse laser device and exposure apparatus using the same
JP2844288B2 (en) * 1993-02-09 1999-01-06 ミヤチテクノス株式会社 Laser monitoring device
DE10251435B3 (en) * 2002-10-30 2004-05-27 Xtreme Technologies Gmbh Radiation source for extreme UV radiation for photolithographic exposure applications for semiconductor chip manufacture
US7164144B2 (en) * 2004-03-10 2007-01-16 Cymer Inc. EUV light source
US7482609B2 (en) * 2005-02-28 2009-01-27 Cymer, Inc. LPP EUV light source drive laser system
US20060256679A1 (en) * 2005-05-10 2006-11-16 Kuang-Jung Chang Laser power controlling method for recording data and related apparatus
US7394083B2 (en) * 2005-07-08 2008-07-01 Cymer, Inc. Systems and methods for EUV light source metrology
US7615730B2 (en) * 2007-11-30 2009-11-10 Intel Corporation Device and method for measuring wavelength of an optical signal
CN101429865A (en) * 2008-12-05 2009-05-13 北京六合伟业科技有限公司 Parameter-embedded analog transducer calibration method
JP5314433B2 (en) * 2009-01-06 2013-10-16 ギガフォトン株式会社 Extreme ultraviolet light source device
CN102353446A (en) * 2011-07-08 2012-02-15 西安炬光科技有限公司 Method and system for testing power of pulsing laser
CN102394704B (en) * 2011-07-15 2013-10-30 华中科技大学 Device for automatically adjusting output power of array calibration signal source
JP6021454B2 (en) * 2011-10-05 2016-11-09 ギガフォトン株式会社 Extreme ultraviolet light generation apparatus and extreme ultraviolet light generation method
CN102435829B (en) * 2011-10-28 2013-08-14 哈尔滨工业大学 Self-calibration method for optical voltage sensor
JP5818721B2 (en) * 2012-03-06 2015-11-18 住友重機械工業株式会社 Laser processing apparatus and laser processing method
JP6050607B2 (en) * 2012-05-15 2016-12-21 株式会社アマダミヤチ Laser processing apparatus and laser output calibration method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010022701A (en) * 1997-08-08 2001-03-26 아킨스 로버트 피. Laser-illuminated stepper or scanner with energy sensor feedback
KR101024559B1 (en) * 2002-05-07 2011-03-31 사이머 인코포레이티드 High power deep ultraviolet laser with long life optics
US20060007432A1 (en) * 2003-11-27 2006-01-12 Peter Heist Optical arrangement for obtaining a measurement signal for power measurement in lasers
WO2014039221A1 (en) * 2012-09-07 2014-03-13 Cymer, Llc Seed laser mode stabilization system and method
KR20150038651A (en) * 2012-09-07 2015-04-08 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. Seed laser mode stabilization system and method

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