KR20170029061A - 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈 - Google Patents

스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈 Download PDF

Info

Publication number
KR20170029061A
KR20170029061A KR1020150125590A KR20150125590A KR20170029061A KR 20170029061 A KR20170029061 A KR 20170029061A KR 1020150125590 A KR1020150125590 A KR 1020150125590A KR 20150125590 A KR20150125590 A KR 20150125590A KR 20170029061 A KR20170029061 A KR 20170029061A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
shield
floating
ground
stepped
Prior art date
Application number
KR1020150125590A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101747692B1 (ko
Inventor
유환규
이원용
한기인
우남운
Original Assignee
(주)이루자
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)이루자 filed Critical (주)이루자
Priority to KR1020150125590A priority Critical patent/KR101747692B1/ko
Publication of KR20170029061A publication Critical patent/KR20170029061A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101747692B1 publication Critical patent/KR101747692B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 유리 기판의 박막 영역을 노출시키는 플로팅 홀을 구비하는 플로팅 마스크와, 상기 플로팅 마스크의 상부에 위치하며, 상기 플로팅 마스크의 상면에서 상기 플로팅 홀의 주위 부분을 노출시키는 마스크 홀을 구비하는 마스크 쉴드와, 상기 마스크 쉴드의 마스크 상면에서 상기 마스크 홀의 외측에 전체적으로 사각 링 형상을 이루는 소정 높이의 벽체 형상으로 형성되는 마스크 사이드 쉴드 및 상기 마스크 쉴드의 상면으로부터 소정 높이로 이격되며, 상기 유리 기판과 대향하는 스퍼터링 타겟이 결합되는 그라운드 홀을 구비하는 그라운드 쉴드를 포함하며, 상기 플라즈마 영역에 노출되는 서로 접하는 평면들을 연결하는 연결부가 호 형상으로 형성되는 스퍼트 쉴드 모듈을 개시한다.

Description

스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈{sputter Shield Module for Sputtering Apparatus}
본 발명은 스퍼터링 장치에 사용되는 스퍼터 쉴드 모듈에 관한 것이다.
일반적인 스퍼터링 장치는 일측에 형성되어 유리 기판이 장입되는 장입구 및 타측에 유리 기판이 노출되는 노출구를 포함하는 진공 챔버와, 진공 챔버의 내부에서 유리 기판을 지지하는 서셉터와, 유리 기판에 대향하도록 위치하는 타겟과, 타겟이 부착되는 백플레이트 및 백플레이트 뒤쪽에 위치하는 마그네트를 포함하여 형성된다. 상기 노출구에는 프레임이 장착되며, 프레임과 타겟 사이에 스퍼터 쉴드가 결합된다.
상기 스퍼터링 장치는 유리 기판과 타겟 사이의 공간인 스퍼터링 영역에서 스퍼터링이 진행되며, 스퍼터링되는 타겟 물질이 유리 기판에 박막으로 증착된다. 상기 스퍼터 쉴드는 유리 기판의 가장 자리를 차폐하여 스퍼터링 과정에서 타겟으로부터 방출되는 물질들이 챔버 내부로 유입되는 것을 차단한다.
따라서, 상기 스퍼터 쉴드는 스퍼터링이 진행됨에 따라 플라즈마 영역으로 노출되는 표면에 타겟 물질이 증착되어 쉴드 코팅층이 형성된다. 한편, 상기 쉴드 코팅층은 증착 두께가 증가되면 크랙이 유발되어 스퍼터 쉴드로부터 분리되면서 이물 입자를 발생시킨다. 특히, 상기 쉴드 코팅층은 스퍼터 쉴드에서 모서리 부분과 같이 직각으로 연결되는 형성되는 부분에서 크랙이 발생되어 이물 입자를 발생시킨다. 상기 이물 입자는 유리 기판에 부착되어 불량을 유발한다.
한편, 상기 유리 기판의 면적이 증가됨에 따라 스퍼터 쉴드의 크기도 증가된다. 상기 스퍼터 쉴드를 구성하는 사이드 쉴드는 복수 개로 분할된 단위 사이드 쉴드가 결합되어 형성된다. 상기 단위 사이드 쉴드는 이웃하는 단위 사이드 쉴드와 결합되는 영역이 직각으로 형성되므로, 역시 표면에 증착되는 쉴드 코팅층에 쉽게 크랙이 유발되면서 이물 입자를 발생시킬 수 있다.
본 발명은 쉴드 코팅층으로부터 이물 입자가 발생되는 것을 최소화할 수 있는 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈은 유리 기판의 박막 영역을 노출시키는 플로팅 홀을 구비하는 플로팅 마스크와, 상기 플로팅 마스크의 상부에 위치하며, 상기 플로팅 마스크의 상면에서 상기 플로팅 홀의 주위 부분을 노출시키는 마스크 홀을 구비하는 마스크 쉴드와, 상기 마스크 쉴드의 마스크 상면에서 상기 마스크 홀의 외측에 전체적으로 사각 링 형상을 이루는 소정 높이의 벽체 형상으로 형성되는 마스크 사이드 쉴드 및 상기 마스크 쉴드의 상면으로부터 소정 높이로 이격되며, 상기 유리 기판과 대향하는 스퍼터링 타겟이 결합되는 그라운드 홀을 구비하는 그라운드 쉴드를 포함하며, 상기 플로팅 마스크와 상기 마스크 쉴드와 마스크 사이드 쉴드 및 상기 그라운드 쉴드는 플라즈마 영역에 노출되는 서로 접하는 평면들을 연결하는 연결부가 호 형상으로 형성되는 것을 특징으로 한다. 이때, 상기 연결부의 호 형상의 반지름은 상기 플라즈마 영역에 노출되는 평면들에 코팅되는 쉴드 코팅층의 두께에 비례하여 형성될 수 있다.
또한, 상기 연결부의 호 형상의 반지름(r)은 r x (π/2) ≥
Figure pat00001
x t0 (여기서, t0는 상기 스퍼터링 타겟이 보이는 위치의 평면들에 코팅되는 쉴드 코팅층의 두께)로 결정될 수 있다.
또한, 상기 스퍼터링 타겟이 보이는 위치의 평면들에 코팅되는 쉴드 코팅층의 두께는 1 ∼ 5mm이며, 상기 스퍼터링 타겟이 보이는 위치의 평면을 연결하는 상기 연결부의 호 형상의 반지름은 0.9mm보다 크게 형성될 수 있다.
또한, 상기 스퍼터링 타겟이 보이지 않는 위치의 평면을 연결하는 연결부의 호 형상의 반지름은 0.5mm보다 크게 형성될 수 있다.
또한, 상기 플로팅 마스크는 플로팅 내측면과 플로팅 상면을 연결하는 상부 플로팅 연결부와, 상기 플로팅 내측면과 플로팅 하면을 연결하는 하부 플로팅 연결부를 포함하며, 상기 상부 플로팅 연결부와 상기 하부 플로팅 연결부는 반지름이 0.9mm보다 큰 호 형상으로 형성될 수 있다.
또한, 상기 마스크 쉴드는 상기 마스크 홀의 마스크 내측면과 마스크 상면을 연결하는 상부 마스크 연결부와, 상기 마스크 내측면과 마스크 하면을 연결하는 하부 마스크 연결부를 포함하며, 상부 마스크 연결부와 하부 마스크 연결부는 반지름이 0.9mm보다 큰 호 형상으로 형성될 수 있다.
또한, 상기 플로팅 마스크는 플로팅 외측면에 인접한 상기 플로팅 상면에 소정 높이로 형성되며, 플라즈마 영역으로 대향하는 바 내측면과 그 반대면인 바 외측면 및 바 상면을 구비하는 플로팅 돌출 바를 더 포함하며, 상기 바 내측면과 상기 플로팅 마스크의 플로팅 상면을 연결하는 호 형상의 하부 바 연결부와, 상기 바 내측면과 바 상면을 연결하는 호 형상의 상부 바 연결부를 구비하며, 상기 하부 바 연결부와 상부 바 연결부의 반지름은 0.5mm보다 크게 형성될 수 있다.
또한, 상기 마스크 쉴드는 상기 마스크 하면에서 상기 마스크 상면 방향으로 소정 깊이의 마스크 홈을 구비하며, 상기 마스크 홈은 홈 내측면과 홈 바닥면을 호 형상의 곡면으로 연결하는 홈 연결부와, 상기 홈 내측면과 상기 마스크 하면을 호 형상의 곡면으로 연결하는 홈 하부 연결부를 구비하며, 상기 홈 연결부와 상기 홈 하부 연결부의 호 형상의 반지름은 0.5mm보다 크게 형성될 수 있다.
또한, 상기 마스크 사이드 쉴드는 마스크 사이드 내면의 하부에 상기 마스크 쉴드 방향으로 호 형상의 곡면을 이루는 마스크 사이드 연결부를 더 포함하며, 상기 마스크 사이드 연결부의 호 형상의 반지름은 0.9mm보다 크게 형성될 수 있다.
또한, 상기 마스크 사이드 쉴드는 복수 개의 서브 마스크 사이드 블록이 결합되어 사각 링 형상으로 형성되며, 일측에서 서브 마스크 내면에 형성되는 서브 마스크 내면 단차부와 타측에서 서브 마스크 외면에 형성되는 서브 마스크 외면 단차부를 포함하며, 상기 서브 마스크 내면 단차부는 내면 단차 바닥면과 내면 단차 내측면을 연결하는 호 형상의 내면 단차 내부 연결부와, 상기 내면 단차 내측면과 상기 서브 마스크 내면을 연결하는 호 형상의 내면 단차 외부 연결부를 포함하며, 상기 서브 마스크 외면 단차부는 외면 단차 바닥면과 외면 단차 타단면을 연결하는 호 형상의 외면 단차 외부 연결부와 상기 외면 단차 타단면과 서브 마스크 내면을 연결하는 호 형상의 외면 단차 내부 연결부를 포함하며, 상기 내면 단차 내부 연결부와, 상기 내면 단차 외부 연결부와 상기 외면 단차 외부 연결부 및 상기 외면 단차 내부 연결부의 호 형상의 반지름은 0.9mm보다 크게 형성될 수 있다.
또한, 상기 그라운드 쉴드의 그라운드 하면에서 상기 그라운드 홀의 외측에 전체적으로 사각 링 형상을 이루는 소정 높이의 벽체 형상으로 형성되는 그라운드 사이드 쉴드를 더 포함하며, 상기 그라운드 사이드 쉴드는 그라운드 사이드 내면과 상기 그라운드 쉴드의 그라운드 하면을 연결하는 호 형상의 그라운드 사이드 상부 연결부와, 그라운드 사이드 외면과 그라운드 사이드 단면을 연결하는 호 형상의 그라운드 사이드 외측 연결부 및 상기 그라운드 사이드 내면과 상기 그라운드 사이드 단면을 연결하는 호 형상의 그라운드 사이드 내측 연결부를 구비하며, 상기 그라운드 사이드 상부 연결부와, 상기 그라운드 사이드 외측 연결부 및 상기 그라운드 사이드 내측 연결부의 호 형상의 반지름은 0.9mm보다 크게 형성될 수 있다.
본 발명에 따른 스퍼터 쉴드 모듈은 플라즈마 영역에 노출되는 부분에서 평면과 평면이 접하는 연결부를 호 형상의 곡면으로 형성하여 쉴드 코팅층에 크랙이 유발되는 것을 최소화함으로써 이물 입자가 발생되는 것을 최소화하는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 스퍼터 쉴드 모듈은 단위 사이드 쉴드가 결합되는 부분을 호 형상의 곡면으로 형성하여 쉴드 코팅층에 크랙이 유발되는 것을 최소화함으로써 이물 입자가 발생되는 것을 최소화하는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 스퍼터 쉴드 모듈의 수직단면도이다.
도 2a 내지 도 2e는 연결부로 공급되는 스퍼터링 물질의 플럭스와 쉴드 코팅층의 두께 관계를 설명하는 개략도이다.
도 3은 도 1의 A에 대한 부분 확대도이다.
도 4는 도 1의 B에 대한 부분 확대도이다.
도 5는 도 1의 마스크 사이드 쉴드의 사시도이다.
도 6은 도 5의 C-C에 대한 단면도이다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 스퍼터 쉴드 모듈을 첨부된 도면을 통하여 상세히 설명한다.
먼저, 본 발명의 일 실시예에 따른 스퍼터 쉴드 모듈의 구조에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 스퍼터 쉴드 모듈의 수직단면도이다. 도 2a 내지 도 2e는 연결부로 공급되는 스퍼터링 물질의 플럭스와 쉴드 코팅층의 두께 관계를 설명하는 개략도이다. 도 3은 도 1의 A에 대한 부분 확대도이다. 도 4는 도 1의 B에 대한 부분 확대도이다. 도 5는 도 1의 마스크 사이드 쉴드의 사시도이다. 도 6은 도 5의 C-C에 대한 단면도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 스퍼터 쉴드 모듈(100)은, 도 1 내지 도 6을 참조하면, 플로팅 마스크(110)와 마스크 쉴드(120)와 마스크 사이드 쉴드(130)와 그라운드 쉴드(140) 및 그라운드 사이드 쉴드(150)를 포함하여 형성된다.
상기 스퍼터 쉴드 모듈(100)은 스퍼터링 장치에 장착되며, 유리 기판(10)과 스퍼터링 타겟(20) 사이에 위치하여 유리 기판(10) 및 스퍼터링 타겟(20)과 함께 플라즈마 영역을 형성한다. 상기 플로팅 마스크(110)는 유리 기판(10)의 전면에서 외측 부분으로 박막이 증착되지 않는 비박막 영역을 차폐한다. 상기 그라운드 쉴드(140)는 스퍼터링 타겟(20)의 모서리 부분 또는 측면에 접촉하며, 스퍼터링 타겟(20)의 측면 부분을 차폐한다.
한편, 상기 스퍼터 쉴드 모듈(100)은 마스크 사이드 쉴드(130)만으로 마스크 쉴드(120)와 그라운드 쉴드(140) 사이 공간의 측면을 충분히 차폐할 수 있는 경우에 그라운드 사이드 쉴드(150)가 생략될 수 있다. 또한, 상기 스퍼터 쉴드 모듈(100)은 기판이 수평으로 위치하도록 형성되고 있으나, 기판이 수직 또는 경사지게 위치하도록 형성될 수 있다.
상기 스퍼터 쉴드 모듈(100)은 플라즈마 영역으로 노출되어 쉴드 코팅층이 형성되는 영역의 평면들의 연결부가 호 형상으로 형성되어 오목 곡면 또는 볼록 곡면 형상이며, 연결부의 표면에 증착되는 쉴드 코팅층도 곡면을 이루도록 형성된다. 이때, 상기 플라즈마 영역으로 노출되어 쉴드 코팅층이 형성되는 영역의 평면들은 스퍼터링 타겟이 보이는 위치의 평면들과 스퍼터링 타겟이 보이지는 않지만 플라즈마에 의하여 쉴드 코팅층이 형성되는 평면들로 구분될 수 있다. 상기 쉴드 코팅층은 스퍼터링 타겟이 보이는 위치의 평면에 상대적으로 두껍게 코팅될 수 있다. 여기서, 상기 연결부는 서로 인접하는 두 개의 평면의 변이 접하는 부분을 포함하는 영역을 의미하며, 평면이 서로 접하는 각도에 따라 구석부 또는 모서리부로 형성될 수 있다. 상기 연결부를 형성하는 서로 접하는 평면은 서로 직각, 둔각 또는 예각을 이루며 접할 수 있다. 상기 연결부는 곡면의 중심축에 수직한 방향의 형상이 호 형상을 이루도록 형성된다.
예를 들어, 상기 연결부를 이루는 서로 인접한 수직면과 수평면이 서로 직각으로 연결되어 구석부를 형성하는 경우에 대하여 설명한다. 한편, 이하에서 설명하는 구석부의 호 형상의 반지름에 대한 구성은, 연결부가 구석부와 반대 형상인 모서리부로 형성되는 경우에도 동일하게 적용될 수 있다. 도 2a 내지 도 2e를 참조하면, 상기 연결부는 수직면과 수평면의 단위 길이 dL에 입사 각도 θ로 입사되는 스퍼터링 물질의 플럭스(Q)로 인하여 쌓이는 쉴드 코팅층 두께(t0)가 각각 (Q x sinθ)/dL과 (Q x cosθ)/dL로 결정될 수 있다. 따라서, 수직면과 수평면이 서로 연결되는 구석부에 쌓이는 쉴드 코팅층 두께(t1)는 (Q x cosθ)/dL + (Q x sinθ)/dL로 된다. 또한, 상기 구석부에 쌓이는 쉴드 코팅층 두께는 플럭스의 입사 각도 θ가 45도일 때 최대가 되며,
Figure pat00002
x Q/dL로 된다. 즉, 상기 구석부에 성막되는 쉴드 코팅층 두께(t1)는 구석부가 아닌 부분의 쉴드 코팅층 두께(t0)에 비하여
Figure pat00003
만큼 증가된다. 따라서, 상기 구석부에서의 쉴드 코팅층의 두께를 다른 부분과 동일하게 하기 위해서는 플럭스가 입사되는 면적을 적어도
Figure pat00004
만큼 증가시키는 것이 필요하다. 또한, 상기 구석부는 모따기 형상으로 형성되는 것보다는 호 형상으로 형성되는 경우에 쉴드 코팅층이 떨어지는 현상을 최소화시킬 수 있다.
상기 연결부의 호 형상의 반지름(r)은 쉴드 코팅층(t0)의 두께에 따라 달리질 수 있으며, r x (π/2) ≥
Figure pat00005
x t0로 결정된다. 또한, 상기 쉴드 코팅층은 스퍼터링 타겟이 보이는 영역 즉, 스퍼터링 타겟에 직접적으로 노출되지 않는 영역에 코팅되는 것을 기준으로 1 ~ 5mm의 두께가 되었을 때 박리가 시작되는 것으로 조사되었다. 따라서, 상기 연결부는 쉴드 코팅층의 두께가 1mm일 때 적어도 0.9mm의 반지름을 갖는 호 형상으로 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 상기 쉴드 코팅층의 두께가 각각 2mm, 3mm, 4mm, 5mm 일 때 연결부는 반지름이 각각 적어도 1.8mm, 2.7mm, 3.6mm, 4.5mm인 호 형상으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 연결부는 기구적으로 결합되는데 간섭이 없는 경우에 호 형상의 반지름이 클수록 바람직하다.
또한, 상기 연결부 중에서 스퍼터링 타겟이 보이지 않은 부분의 연결부는 쉴드 코팅층의 두께가 상대적으로 얇으며, 박리되는 정도가 작으므로 호 형상의 반지름이 작아도 된다. 다만, 상기 연결부의 호 형상의 반지름이 0.5mm보다는 큰 것이 바람직하다.
이하에서는 상기 스퍼터 쉴드 모듈(100)를 구성하는 각 구성요소에 형성되는 연결부를 중심으로 설명한다.
상기 플로팅 마스크(110)는 내측에 플로팅 홀(110a)이 형성되는 사각 링 형상의 프레임으로 형성된다. 상기 플로팅 마스크(110)는 바람직하게는 플로팅 상면(111)과 플로팅 하면(112)이 전체적으로 평면을 이루도록 형성된다. 상기 플로팅 마스크(110)는 플로팅 하면(112)이 유리 기판(10)의 상면과 소정 거리로 이격되도록 위치한다. 상기 플로팅 마스크(110)는 유리 기판(10)의 비박막 영역을 차폐한다.
상기 플로팅 홀(110a)은 유리 기판(10)에서 박막이 형성되는 영역인 박막 영역에 대응되는 면적을 가지도록 형성된다. 상기 플로팅 마스크(110)는 플로팅 홀(110a)을 통하여 유리 기판(10)의 박막 영역을 노출시키며, 유리 기판(10)의 비박막 영역을 마스킹하여 비박막 영역에 박막이 증착되지 않도록 한다.
상기 플로팅 마스크(110)는 플로팅 홀(110a)에 의한 플로팅 내측면(113)이 상부 방향을 따라 외측으로 경사지는 경사면으로 형성된다. 상기 플로팅 내측면(113)은 플로팅 하면(112)과 예각을 이루며, 플로팅 상면(111)과 둔각을 이루도록 형성된다. 상기 플로팅 마스크(110)는 플로팅 내측면(113)과 플로팅 상면(111)을 연결하는 상부 플로팅 연결부(114a)와 플로팅 내측면(113)과 플로팅 하면(112)을 연결하는 하부 플로팅 연결부(114b)를 포함하여 형성된다. 상기 상부 플로팅 연결부(114a)와 하부 플로팅 연결부(114b)는 호 형상의 곡면으로 형성된다. 상기 상부 플로팅 연결부(114a)는 플로팅 내측면(113)과 플로팅 상면(111)이 접하는 방향에 수직인 형상이 호 형상으로 형성된다. 상기 하부 플로팅 연결부(114b)는 플로팅 내측면(113)과 플로팅 하면(112)이 접하는 방향에 수직인 형상이 호 형상으로 형성된다. 상기 상부 플로팅 연결부(114a)와 하부 플로팅 연결부(114b)는 결부(114)는 호의 반지름이 0.9mm보다 크도록 형성될 수 있다. 또한, 상기 상부 플로팅 연결부(114a)와 하부 플로팅 연결부(114b)는 플로팅 마스크(110)의 두께 및 플로팅 내측면(113)이 플로팅 상면(111) 및 플로팅 하면(112)과 만나는 각도에 따라 호의 반지름이 변경될 수 있다.
상기 플로팅 마스크(110)는 플로팅 외측면(115)에 인접한 플로팅 상면(111)에 소정 높이로 플로팅 돌출 바(116)가 형성될 수 있다. 상기 플로팅 돌출 바(116)는 플로팅 마스크(110)의 형상에 대응되도록 전체적으로 사각 링 형상으로 형성된다. 상기 플로팅 돌출 바(116)는 플로팅 마스크(110)와 마스크 쉴드(120) 사이의 이격 공간을 차폐하여 스퍼터링 입자가 플로팅 마스크(110)의 외측으로 유출되는 것을 차단한다.
상기 플로팅 돌출 바(116)는 플라즈마 영역으로 대향하는 바 내측면(117a)과 그 반대면인 바 외측면(117b) 및 바 상면(117c)을 구비한다. 상기 플로팅 돌출 바(116)는 하부 바 연결부(118) 및 상부 바 연결부(119)를 구비한다. 상기 하부 바 연결부(118)는 플로팅 돌출 바(116)의 바 내측면(117a)과 플로팅 마스크(110)의 플로팅 상면(111)를 연결하며, 플로팅 상면과 접하는 방향으로 오목한 곡면을 갖는 호 형상으로 형성된다. 즉, 상기 하부 바 연결부(118)는 플로팅 돌출 바(116)의 바 내측면(117a)와 플로팅 마스크(110)의 플로팅 상면(111)을 곡면으로 연결한다. 또한, 상기 상부 바 연결부(119)는 바 내측면(117a)과 바 상면(117c)을 곡면으로 연결하는 호 형상으로 형성된다. 따라서, 상기 하부 바 연결부(118)와 상부 바 연결부(119)에 형성되는 쉴드 코팅층은 곡면을 이루며, 크랙의 발생과 이물 입자의 발생을 최소화한다. 상기 하부 바 연결부(118)와 상부 바 연결부(119)는 호의 반지름이 0.5mm보다 큰 반지름으로 형성될 수 있다. 상기 하부 바 연결부(118)와 상부 바 연결부(119)는 플로팅 돌출 바(116)의 높이와 두께에 따라 호의 반지름이 변경될 수 있다.
한편, 상기 플로팅 마스크(110)는 기판 지지판(미도시) 및 마스크 쉴드(120)와 전기적으로 절연된다. 상기 플로팅 마스크(110)는 그라운드에 연결되지 않고 플로팅되어 플로팅 전위가 인가된다. 따라서, 상기 플로팅 마스크(110)는 플로팅되어 플라즈마 영역의 전자를 유인하여 플라즈마 영역에서 상대적으로 두꺼운 플라즈마 분포를 형성하는 가장 자리 부분을 외측으로 확장시킨다. 상기 플로팅 마스크(110)는 알루미늄, 니켈 합금과 같은 전도성 금속으로 형성된다.
상기 마스크 쉴드(120)는 내측에 마스크 홀(120a)이 형성되는 사각 링 형상의 프레임으로 형성된다. 상기 마스크 쉴드(120)는 바람직하게는 마스크 상면(121)과 마스크 하면(122) 및 마스크 내측면(123)을 구비하여 형성된다. 상기 마스크 쉴드(120)는 플로팅 마스크(110)의 상부에서 마스크 하면(122)이 플로팅 쉴드(110)의 플로팅 상면(111)과 소정 거리로 이격되도록 위치한다. 상기 마스크 쉴드(120)는 마스크 홀(120a)을 통하여 플로팅 마스크(110)의 상면에서 플로팅 홀(110a)의 주위 부분을 노출시킨다.
상기 마스크 홀(120a)은 플로팅 마스크(110)의 플로팅 상면(111)의 노출되는 영역을 포함하도록 소정 면적으로 형성된다. 상기 마스크 쉴드(120)는 마스크 홀(120a)을 통하여 플로팅 마스크(110)의 플로팅 상면(111)을 플로팅 내측면(113)의 상단 모서리(113a)로부터 소정 폭으로 노출시킨다. 즉, 상기 마스크 쉴드(120)는 플로팅 마스크(110)의 플로팅 상면(111)이 소정 폭으로 노출되도록 플로팅 마스크(110)의 플로팅 상면(111)을 마스킹한다. 상기 플로팅 마스크(110)는 플로팅 내측면(113)과 함께 플로팅 상면(111)이 노출되므로 기존의 플로팅 마스크(110)에 대비하여 상대적으로 많은 면적이 플라즈마에 노출된다. 상기 플로팅 마스크(110)는 상기에서도 언급한 바와 같이 노출된 영역에 양전하가 분포하게 되므로 기존의 플로팅 마스크(110)에 비하여 상대적으로 많은 양전하가 분포된다.
상기 마스크 내측면(123)은 마스크 홀(120a)의 내측면을 이루며, 상부 방향을 따라 외측으로 경사지는 경사면으로 형성된다. 상기 마스크 내측면(123)은 마스크 하면(122)과 예각을 이루며, 마스크 상면(121)과 둔각을 이루도록 형성된다. 상기 마스크 쉴드(120)는 마스크 내측면(123)과 마스크 상면(121)을 연결하는 상부 마스크 연결부(124a)와 마스크 내측면(123)과 마스크 하면(122)을 연결하는 하부 마스크 연결부(124b)가 호 형상의 곡면으로 형성된다. 상기 상부 마스크 연결부(124a)는 마스크 내측면(123)과 마스크 상면(121)이 접하는 방향에 수직인 형상이 곡면을 이루는 호 형상으로 형성된다. 또한, 상기 하부 마스크 연결부(124b)는 마스크 내측면(123)과 마스크 하면(122)이 접하는 방향에 수직인 형상이 곡면을 이루는 호 형상으로 형성된다. 상기 마스크 연결부(124)는 호의 반지름이 0.9mm보다 크도록 형성될 수 있다. 상기 상부 마스크 연결부(124a)와 하부 마스크 연결부(124b)는 마스크 쉴드(120)의 두께 및 마스크 내측면(123)이 마스크 상면(121) 또는 마스크 하면(122)와 만나는 각도에 따라 호의 반지름이 변경될 수 있다.
상기 마스크 쉴드(120)는 마스크 하면(122)에서 마스크 상면(121) 방향으로 소정 깊이의 마스크 홈(125)이 형성될 수 있다. 상기 마스크 홈(125)는 마스크 쉴드(120)의 형상에 대응되도록 전체적으로 사각 링 형상으로 형성된다. 또한, 상기 마스크 홈(125)은 플로팅 돌출 바(116)에 대응되는 형상으로 형성된다. 또한, 상기 마스크 홈(125)은 플로팅 마스크(110)과 마스크 쉴드(120)가 결합될 때 플로팅 돌출 바(116)의 위치에 대응되는 위치에 형성된다. 한편, 상기 마스크 홈(125)은 마스크 하면(122)의 외측면까지 연장되어 형성될 수 있다. 상기 마스크 홈(125)에는 플로팅 돌출 바(116)가 삽입되어 플로팅 마스크(110)의 플로팅 상면(111)과 마스크 쉴드(120)의 마스크 하면(122) 사이의 공간을 차단한다.
상기 마스크 쉴드(120)는 마스크 홈(125)의 홈 내측면(126)과 홈 바닥면(127)을 호 형상의 곡면으로 연결하는 홈 연결부(128)을 구비한다. 상기 홈 연결부(128)는 홈 내측면(126)과 홈 바닥면(127)이 접하는 방향에 수직인 형상이 호 형상으로 형성된다. 상기 홈 연결부(128)는 홈 내측면(126)과 홈 바닥면(127)을 곡면으로 연결한다. 상기 홈 연결부(128)는 호의 반지름이 0.5mm 보다 크게 되도록 형성될 수 있다. 상기 홈 연결부(128)는 스퍼터링 타겟에 직접적으로 노출되지 않는 영역 위치하므로 상대적으로 작은 반지름으로 형성될 수 있다. 상기 홈 연결부(128)는 마스크 홈(125)의 깊이와 플로팅 마스크(110)와의 결합 관계에 따라 호의 반지름이 변경될 수 있다. 상기 마스크 홈(125)의 홈 내측면(126)과 홈 바닥면(127)이 접하는 부분의 쉴드 코팅층은 곡면을 이루며, 크랙이 발생되는 것이 최소화한다.
상기 마스크 쉴드(120)는 마스크 홈(125)의 홈 내측면(126)과 마스크 하면(122)을 곡면으로 연결하는 홈 하부 연결부(129)을 구비한다. 상기 홈 하부 연결부(129)는 홈 내측면(126)과 마스크 하면(122)이 접하는 방향에 수직인 형상이 호 형상으로 형성된다. 상기 홈 하부 연결부(129)는 홈 내측면(126)과 마스크 하면(122)을 곡면으로 연결한다. 상기 홈 하부 연결부(129)는 호의 반지름이 0.5mm 보다 크게 되도록 형성될 수 있다. 상기 홈 하부 연결부(129)는 스퍼터링 타겟에 직접적으로 노출되지 않는 영역 위치하므로 상대적으로 작은 반지름으로 형성될 수 있다.
상기 마스크 쉴드(120)는 그라운드에 연결되며, 플로팅 마스크(110)와 전기적으로 절연된다. 상기 마스크 쉴드(120)는 알루미늄, 니켈 합금과 같은 전도성 금속으로 형성된다. 상기 마스크 쉴드(120)는 플라즈마 영역의 전자를 유인하여 플라즈마 분포가 유리 기판(10)의 상부에 전체적으로 형성되도록 한다.
상기 마스크 사이드 쉴드(130)는 마스크 쉴드(120)의 마스크 상면(121)에서 마스크 홀(120a)의 외측에 전체적으로 사각 링 형상을 이루는 소정 높이의 벽체 형상으로 형성된다. 상기 마스크 사이드 쉴드(130)는 마스크 쉴드(120)와 그라운드 쉴드(140) 사이의 이격 높이에 대응되는 높이로 형성될 수 있다. 상기 마스크 사이드 쉴드(130)는 마스크 사이드 내면(131)이 플라즈마 영역에 대향하고 마스크 사이드 외면(132)이 그 반대면을 이루도록 형성된다. 상기 마스크 사이드 쉴드(130)는 마스크 쉴드(120)와 그라운드 쉴드(140) 사이의 외측 공간을 차폐하여 플라즈마 영역을 형성한다. 상기 마스크 사이드 쉴드(130)는 그라운드 사이드 쉴드(150)와 함께 마스크 쉴드(120)와 그라운드 쉴드(140) 사이의 외측 공간을 차폐할 수 있다.
상기 마스크 사이드 쉴드(130)는 마스크 사이드 내면(131)의 하부에 마스크 쉴드(120) 방향으로 곡면을 이루는 마스크 사이드 연결부(133)를 구비한다. 상기 마스크 사이드 연결부(133)는 마스크 사이드 쉴드(130)와 마스크 쉴드(120)가 접하는 방향에 수직인 형상이 호 형상을 이루도록 형성된다. 상기 마스크 사이드 연결부(133)는 마스크 사이드 쉴드(130)와 마스크 쉴드(120)가 접하는 방향으로 오목한 곡면으로 형성된다. 상기 마스크 사이드 연결부(133)는 마스크 사이드 쉴드(130)의 마스크 사이드 내면(131)과 마스크 쉴드(120)의 마스크 상면(121)을 곡면으로 연결한다. 따라서, 상기 마스크 사이드 쉴드(130)의 마스크 사이드 내면(131)과 마스크 쉴드(120)의 마스크 상면(121)이 접하는 부분의 쉴드 코팅층은 곡면을 이루며, 크랙이 발생되는 것이 최소화한다. 상기 마스크 사이드 연결부(133)는 호의 반지름이 0.9mm보다 크도록 형성될 수 있다.
한편, 상기 마스크 사이드 쉴드는 마스크 쉴드(120)의 상면이 아닌 그라운드 쉴드(140)의 하면에 결합될 수 있다. 이러한 경우에, 상기 마스크 사이드 연결부(133)는 마스크 사이드 쉴드(130)의 상부에 형성될 수 있다.
상기 마스크 사이드 쉴드(130)는 면적이 큰 유리 기판(10)을 증착하는 스퍼터링 장치에 사용되는 경우에 분할형으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 마스크 사이드 쉴드(130)는 복수 개의 서브 마스크 사이드 블록(135)이 결합되어 사각 링 형상으로 형성될 수 있다.
상기 서브 마스크 사이드 블록(135)은 블록 형상으로 형성되며, 일측에서 서브 마스크 내면(136)에 형성되는 서브 마스크 내면 단차부(136a)와 타측에서 서브 마스크 외면(137)에 형성되는 서브 마스크 외면 단차부(137a)를 포함하여 형성된다. 즉, 상기 서브 마스크 사이드 블록(135)은 일측에 서브 마스크 내면 단차부(136a)가 형성되고, 타측에 서브 마스크 외면 단차부(137a)가 형성된다. 상기 서브 마스크 사이드 블록(135)이 조립되어 마스크 사이드 쉴드(130)를 형성하는 경우에, 서브 마스크 내면(136)은 마스크 사이드 내면(131)을 형성하며, 서브 마스크 외면(137)은 마스크 사이드 외면(132)을 형성한다.
상기 서브 마스크 내면 단차부(136a)는 서브 마스크 내면(136)의 일측단으로부터 소정 깊이와 길이로 형성된다. 상기 서브 마스크 내면 단차부(136a)는 플라즈마 영역을 향하도록 형성된다. 상기 서브 마스크 내면 단차부(136a)에는 내면 단차 바닥면(136b)과 내면 단차 내측면(136c)을 연결하는 내면 단차 내부 연결부(136d)가 호 형상을 이루도록 형성된다. 상기 내면 단차 내부 연결부(136d)는 호의 반지름이 0.9mm보다 큰 호 형상으로 형성된다. 또한, 상기 서브 마스크 내면 단차부(136a)에는 내면 단차 내측면(136c)과 서브 마스크 내면(136)을 연결하는 내면 단차 외부 연결부(136e)가 호 형상을 이루도록 형성된다. 상기 내면 단차 외부 연결부(136e)는 호의 반지름이 0.9mm보다 큰 호 형상으로 형성된다. 따라서, 상기 서브 마스크 내면 단차부(136a)에서 내면 단차 내부 연결부(136d)와 내면 단차 외부 연결부(136e)에 코팅되는 쉴드 코팅층은 곡면으로 형성된다.
상기 서브 마스크 외면 단차부(137a)는 서브 마스크 외면(1376)의 타측단으로부터 소정 깊이와 길이로 형성된다. 상기 서브 마스크 외면 단차부(137a)는 플라즈마 영역과 반대 방향을 향하도록 형성된다. 상기 서브 마스크 외면 단차부(137a)에는 외면 단차 바닥면(137b)과 외면 단차 타단면(137c)을 연결하는 외면 단차 외부 연결부(137d)가 호 형상으로 형성된다. 상기 외면 단차 외부 연결부(137d)는 호의 반지름이 0.9mm보다 큰 호 형상으로 형성된다. 또한, 상기 서브 마스크 외면 단차부(137a)에는 외면 단차 타단면(137c)와 서브 마스크 내면(136)을 연결하는 외면 단차 내부 연결부(137e)가 호 형상으로 형성된다. 상기 외면 단차 내부 연결부(137e)는 호의 반지름이 0.9mm보다 큰 호 형상으로 형성된다. 따라서, 상기 외면 단차 외부 연결부(137d)와 외면 단차 내부 연결부(137e)에 코팅되는 쉴드 코팅층은 곡면으로 형성된다. 따라서, 상기 서브 마스크 사이드 블록(136)이 결합된 상태에서 서브 마스크 외면 단차부(137a)에 코팅되는 쉴드 코팅층이 분리되어 떨어지는 것을 최소화시킬 수 있다.
또한, 상기 서브 마스크 내면 단차부(136a)는 내면 단차 바닥면(136b)에 내측 방향으로 소정 높이와 폭으로 내면 돌출부(136f)가 형성된다. 상기 내면 돌출부(136f)는 적어도 0.5mm의 높이로 형성된다. 또한, 상기 서브 마스크 외면 단차부(137a)는 외면 단차 바닥면(137b)에 외측 방향으로 소정 높이와 폭으로 외면 돌출부(137f)가 형성된다. 상기 외면 돌출부(136f)는 적어도 0.5mm의 높이로 형성된다. 상기 내면 돌출부(136f)와 외면 돌출부(137f)는 내면 단차 바닥면(136b)과 외면 단차 바닥면(137b)이 접촉되는 것을 방지하여 서브 마스크 내면 단차부(136a)와 서브 마스크 외면 단차부(137b)에 코팅되는 쉴드 코팅층이 떨어지는 것을 방지한다.
상기 그라운드 쉴드(140)는 내측에 그라운드 홀(140a)이 형성되는 사각 링 형상의 프레임으로 형성된다. 상기 그라운드 쉴드(140)는 바람직하게는 그라운드 상면(141)과 그라운드 하면(142)이 전체적으로 평면을 이루도록 형성된다. 상기 그라운드 쉴드(140)는 마스크 쉴드(120)의 상부에서 마스크 쉴드(120)의 마스크 상면(121)과 소정 높이로 이격되도록 위치한다.
상기 그라운드 홀(140a)은 스퍼터링 타겟(20)의 면적에 대응되는 면적을 가지도록 형성된다. 상기 그라운드 홀(140a)에는 스퍼터링 타겟(20)이 삽입되어 결합된다. 따라서, 상기 그라운드 쉴드(140)는 스퍼터링 타겟(20)의 측면을 마스킹하여 스퍼터링 입자가 스퍼터링 타겟(20)의 측면으로 유출되지 않도록 한다.
상기 그라운드 사이드 쉴드(150)는 그라운드 쉴드(140)의 그라운드 하면(151)에서 그라운드 홀(150a)의 외측에 전체적으로 사각 링 형상을 이루는 소정 높이의 벽체 형상으로 형성된다. 상기 그라운드 사이드 쉴드(150)는 마스크 쉴드(120)와 그라운드 쉴드(140) 사이의 이격 높이에 대응되는 높이 또는 작은 높이로 형성될 수 있다. 상기 그라운드 사이드 쉴드(150)는 마스크 사이드 쉴드(130)와 인접하여 형성된다. 상기 그라운드 사이드 쉴드(150)는 그라운드 사이드 내면(151)이 플라즈마 영역에 대향하고 그라운드 사이드 외면(152)이 그 반대면을 이루도록 형성된다. 또한, 상기 그라운드 사이드 쉴드(150)는 그라운드 사이드 단면(153)이 마스크 쉴드(120)와 대향하도록 형성된다.
상기 그라운드 사이드 쉴드(150)는 그라운드 사이드 외면(152)이 마스크 사이드 쉴드(130)의 마스크 사이드 내면(131)과 인접하도록 형성된다. 한편, 상기 그라운드 사이드 쉴드(150)는 그라운드 사이드 내면(151)이 마스크 사이드 쉴드(130)의 마스크 사이드 외면(132)과 인접하도록 형성될 수도 있다. 상기 그라운드 사이드 쉴드(150)는 마스크 사이드 쉴드(130)와 함께 마스크 쉴드(120)와 그라운드 쉴드(140) 사이의 외측 공간을 차폐할 수 있다. 한편, 상기 그라운드 사이드 쉴드(150)는 마스크 사이드 쉴드(130)와 같이 분할형으로 형성될 수 있다. 이러한 경우에 상기 그라운드 사이드 쉴드(150)도 서브 그라운드 사이드 블록(미도시)이 결합되어 형성된다. 상기 서브 그라운드 사이드 블록은 서브 마스크 그라운드 불록(135)과 동일 또는 유사한 형상으로 형성될 수 있다.
상기 그라운드 사이드 쉴드(150)는 그라운드 사이드 내면(151)의 상부에 그라운드 사이드 상부 연결부(154)를 구비한다. 상기 그라운드 사이드 상부 연결부(154)는 그라운드 사이드 쉴드(150)와 그라운드 쉴드(140)가 접하는 방향에 수직인 호 형상으로 형성된다. 상기 그라운드 사이드 상부 연결부(154)는 그라운드 사이드 쉴드(150)의 그라운드 사이드 내면(151)과 그라운드 쉴드(140)의 그라운드 하면(142)을 곡면으로 연결한다. 상기 그라운드 사이드 상부 연결부(154)는 호의 반지름이 0.9mm보다 큰 반지름을 갖도록 형성된다. 따라서, 상기 그라운드 사이드 상부 연결부(154)에 코팅되는 쉴드 코팅층은 곡면으로 형성되며, 쉴드 코팅층에 크랙이 발생되거나 쉴드 코팅층으로부터 이물 입자가 떨어지는 것을 최소화한다.
또한, 상기 그라운드 사이드 쉴드(150)는 하부에 그라운드 사이드 내측 연결부(155)와 그라운드 사이드 외측 연결부(156)를 구비할 수 있다. 상기 그라운드 사이드 내측 연결부(155)는 그라운드 사이드 내면(151)과 그라운드 사이드 단면(153)을 연결하는 호 형상으로 형성된다. 상기 그라운드 사이드 내측 연결부(155)는 호의 반지름이 0.9mm보다 큰 반지름을 갖도록 형성된다. 상기 그라운드 사이드 외측 연결부(156)는 그라운드 사이드 외면(152)과 그라운드 사이드 단면(153)을 연결하는 호 형상으로 형성된다. 상기 그라운드 사이드 외측 연결부(156)는 호의 반지름이 0.9mm보다 큰 반지름을 갖도록 형성된다. 따라서, 상기 그라운드 사이드 내측 연결부(155)와 그라운드 사이드 외측 연결부(156)에 코팅되는 쉴드 코팅층은 곡면으로 형성되며, 쉴드 코팅층에 크랙이 발생되거나 쉴드 코팅층으로부터 이물 입자가 떨어지는 것을 최소화한다.
본 명세서에 개시된 실시예는 여러 가지 실시 가능한 예중에서 당업자의 이해를 돕기 위하여 가장 바람직한 실시예를 선정하여 제시한 것일 뿐, 이 발명의 기술적 사상이 반드시 이 실시예에만 의해서 한정되거나 제한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화와 부가 및 변경이 가능함 물론, 균등한 다른 실시예의 구현이 가능하다.
100: 스퍼터 쉴드 모듈
110: 플로팅 마스크 120: 마스크 쉴드
130: 마스크 사이드 쉴드 140: 그라운드 쉴드
150: 그라운드 사이드 쉴드

Claims (12)

  1. 유리 기판의 박막 영역을 노출시키는 플로팅 홀을 구비하는 플로팅 마스크와,
    상기 플로팅 마스크의 상부에 위치하며, 상기 플로팅 마스크의 상면에서 상기 플로팅 홀의 주위 부분을 노출시키는 마스크 홀을 구비하는 마스크 쉴드와,
    상기 마스크 쉴드의 마스크 상면에서 상기 마스크 홀의 외측에 전체적으로 사각 링 형상을 이루는 소정 높이의 벽체 형상으로 형성되는 마스크 사이드 쉴드 및
    상기 마스크 쉴드의 상면으로부터 소정 높이로 이격되며, 상기 유리 기판과 대향하는 스퍼터링 타겟이 결합되는 그라운드 홀을 구비하는 그라운드 쉴드를 포함하며,
    상기 플로팅 마스크와 상기 마스크 쉴드와 마스크 사이드 쉴드 및 상기 그라운드 쉴드는 플라즈마 영역에 노출되는 서로 접하는 평면들을 연결하는 연결부가 호 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 연결부의 호 형상의 반지름은 상기 플라즈마 영역에 노출되는 평면들에 코팅되는 쉴드 코팅층의 두께에 비례하여 형성되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 연결부의 호 형상의 반지름(r)은 r x (π/2) ≥
    Figure pat00006
    x t0 (여기서, t0는 상기 스퍼터링 타겟이 보이는 위치의 평면들에 코팅되는 쉴드 코팅층의 두께)로 결정되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 스퍼터링 타겟이 보이는 위치의 평면들에 코팅되는 쉴드 코팅층의 두께는 1 ∼ 5mm이며, 상기 스퍼터링 타겟이 보이는 위치의 평면을 연결하는 상기 연결부의 호 형상의 반지름은 0.9mm보다 큰 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 스퍼터링 타겟이 보이지 않는 위치의 평면을 연결하는 연결부의 호 형상의 반지름은 0.5mm보다 큰 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 플로팅 마스크는 플로팅 내측면과 플로팅 상면을 연결하는 상부 플로팅 연결부와, 상기 플로팅 내측면과 플로팅 하면을 연결하는 하부 플로팅 연결부를 포함하며,
    상기 상부 플로팅 연결부와 상기 하부 플로팅 연결부는 반지름이 0.9mm보다 큰 호 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 마스크 쉴드는 상기 마스크 홀의 마스크 내측면과 마스크 상면을 연결하는 상부 마스크 연결부와, 상기 마스크 내측면과 마스크 하면을 연결하는 하부 마스크 연결부를 포함하며,
    상부 마스크 연결부와 하부 마스크 연결부는 반지름이 0.9mm보다 큰 호 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 플로팅 마스크는 플로팅 외측면에 인접한 상기 플로팅 상면에 소정 높이로 형성되며, 플라즈마 영역으로 대향하는 바 내측면과 그 반대면인 바 외측면 및 바 상면을 구비하는 플로팅 돌출 바를 더 포함하며,
    상기 바 내측면과 상기 플로팅 마스크의 플로팅 상면을 연결하는 호 형상의 하부 바 연결부와, 상기 바 내측면과 바 상면을 연결하는 호 형상의 상부 바 연결부를 구비하며, 상기 하부 바 연결부와 상부 바 연결부의 반지름은 0.5mm보다 큰 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 마스크 쉴드는 상기 마스크 하면에서 상기 마스크 상면 방향으로 소정 깊이의 마스크 홈을 구비하며,
    상기 마스크 홈은 홈 내측면과 홈 바닥면을 호 형상의 곡면으로 연결하는 홈 연결부와, 상기 홈 내측면과 상기 마스크 하면을 호 형상의 곡면으로 연결하는 홈 하부 연결부를 구비하며,
    상기 홈 연결부와 상기 홈 하부 연결부의 호 형상의 반지름은 0.5mm보다 큰 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크 사이드 쉴드는 마스크 사이드 내면의 하부에 상기 마스크 쉴드 방향으로 호 형상의 곡면을 이루는 마스크 사이드 연결부를 더 포함하며, 상기 마스크 사이드 연결부의 호 형상의 반지름은 0.9mm보다 큰 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 마스크 사이드 쉴드는 복수 개의 서브 마스크 사이드 블록이 결합되어 사각 링 형상으로 형성되며,
    일측에서 서브 마스크 내면에 형성되는 서브 마스크 내면 단차부와 타측에서 서브 마스크 외면에 형성되는 서브 마스크 외면 단차부를 포함하며,
    상기 서브 마스크 내면 단차부는 내면 단차 바닥면과 내면 단차 내측면을 연결하는 호 형상의 내면 단차 내부 연결부와, 상기 내면 단차 내측면과 상기 서브 마스크 내면을 연결하는 호 형상의 내면 단차 외부 연결부를 포함하며,
    상기 서브 마스크 외면 단차부는 외면 단차 바닥면과 외면 단차 타단면을 연결하는 호 형상의 외면 단차 외부 연결부와 상기 외면 단차 타단면과 서브 마스크 내면을 연결하는 호 형상의 외면 단차 내부 연결부를 포함하며,
    상기 내면 단차 내부 연결부와, 상기 내면 단차 외부 연결부와 상기 외면 단차 외부 연결부 및 상기 외면 단차 내부 연결부의 호 형상의 반지름은 0.9mm보다 큰 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 그라운드 쉴드의 그라운드 하면에서 상기 그라운드 홀의 외측에 전체적으로 사각 링 형상을 이루는 소정 높이의 벽체 형상으로 형성되는 그라운드 사이드 쉴드를 더 포함하며,
    상기 그라운드 사이드 쉴드는 그라운드 사이드 내면과 상기 그라운드 쉴드의 그라운드 하면을 연결하는 호 형상의 그라운드 사이드 상부 연결부와, 그라운드 사이드 외면과 그라운드 사이드 단면을 연결하는 호 형상의 그라운드 사이드 외측 연결부 및 상기 그라운드 사이드 내면과 상기 그라운드 사이드 단면을 연결하는 호 형상의 그라운드 사이드 내측 연결부를 구비하며,
    상기 그라운드 사이드 상부 연결부와, 상기 그라운드 사이드 외측 연결부 및 상기 그라운드 사이드 내측 연결부의 호 형상의 반지름은 0.9mm보다 큰 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈.
KR1020150125590A 2015-09-04 2015-09-04 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈 KR101747692B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150125590A KR101747692B1 (ko) 2015-09-04 2015-09-04 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150125590A KR101747692B1 (ko) 2015-09-04 2015-09-04 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170029061A true KR20170029061A (ko) 2017-03-15
KR101747692B1 KR101747692B1 (ko) 2017-06-28

Family

ID=58403307

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150125590A KR101747692B1 (ko) 2015-09-04 2015-09-04 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101747692B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109023268A (zh) * 2018-08-31 2018-12-18 重庆市渝大节能玻璃有限公司 玻璃镀膜加工用阴极底板清理机构

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200113319A (ko) 2019-03-25 2020-10-07 주식회사 테토스 냉각 효율이 향상된 쉴드를 구비하는 기판 측면부 증착 장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109023268A (zh) * 2018-08-31 2018-12-18 重庆市渝大节能玻璃有限公司 玻璃镀膜加工用阴极底板清理机构
CN109023268B (zh) * 2018-08-31 2021-02-26 重庆市渝大节能玻璃有限公司 玻璃镀膜加工用阴极底板清理机构

Also Published As

Publication number Publication date
KR101747692B1 (ko) 2017-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10727033B2 (en) Biasable flux optimizer / collimator for PVD sputter chamber
US6878249B2 (en) High frequency sputtering device
US7985325B2 (en) Closed contact electroplating cup assembly
KR101747692B1 (ko) 스퍼터링 장치용 스퍼터 쉴드 모듈
CN110473988A (zh) 一种显示面板制程用掩模版及其应用
CN108546914B (zh) 蒸镀用的掩膜版及掩膜版装置
TW201624071A (zh) 顯示面板
CN107564921B (zh) 显示面板及其制备方法、显示装置
JP2012224921A (ja) 成膜装置
CN108598292A (zh) 一种掩膜板及其制作方法
US4897172A (en) Sputtering chamber structure for high-frequency bias sputtering process
TWI649442B (zh) 成膜裝置
KR20070026557A (ko) 단편 코일 지지 조립체, 코일 구조, 및 코일 구조 조립방법
KR102411142B1 (ko) 샤워 헤드 구조체 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR100345253B1 (ko) 조준형증착장치
CN112376015A (zh) 一种掩膜版及其制作方法、显示基板及其制作方法
JP7128024B2 (ja) スパッタリング装置及びコリメータ
TWM578013U (zh) Ion implantation device
JPH10121234A (ja) スパッタリング装置及びそれに用いるコリメータ
CN104746034A (zh) Pvd腔室遮挡盘检测装置和pvd腔室
TW201930642A (zh) 具有變化輪廓的側邊的遮蔽框架以改善沉積均勻性
CN219653109U (zh) 一种电子束蒸镀设备及其电子枪盖板
KR101703219B1 (ko) 기판의 잔류 응력을 제어하는 스퍼터링 장치
CN218372585U (zh) 一种电镀模具
KR102149656B1 (ko) 엄폐형 아크억제수단이 마련된 증착장비

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant