KR20170012969A - 광 확산시트 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 광 확산시트는 기재의 일측면에 형성되고 표면에 소정의 패턴이 형성되는 광 확산시트로서, 상기 기재의 일측면에 형성되는 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층 및 상기 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층의 일측면에 형성되는 패턴이 형성되는 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층을 포함하되, 상기 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층의 인장강도(Tensile strength)는 10psi 내지 60psi이며, 상기 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층과 상기 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층 사이의 계면 형성시에 상기 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층에 소정의 압축력이 작용한다.

Description

광 확산시트{LIGHT DIFFUSING SHEET}
본 발명은 광 확산시트에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유기 고분자층을 포함하는 광 확산시트에 관한 것이다.
최근, 마이크로미터 스케일 나아가 나노미터 스케일의 미세패턴을 제조하기 위하여, 지금까지의 광식각 공정 대신 미세패턴 제조를 위한 새로운 연구들이 행해지고 있다.
특히, 반도체 공정에서 기기의 소형화 및 고집적화는 시간, 비용 및 시료의 크기를 감소시키고, 새로운 기능을 향상시키기 위한 중요한 공정이므로, 미세패턴에 대한 수요는 급격하게 증가하고 있는 실정이다. 또한 LED조명, LED를 광원으로 하는 디스플레이장치, OLED조명, OLED 디스플레이 장치의 급성장으로 인하여 광 확산시트 내지는 도광판에 대한 수요는 늘어나고 있다.
이에, 나노미터 스케일의 미세 패턴을 제조하기 위한 전자빔(E-beam), 엑스선(x-ray) 식각방법 등이 연구되고 있고, 마이크로 스케일의 미세패턴 제조를 위해서도 이와 같은 방법을 사용하고 있다. 그러나 위와 같은 미세패턴 제조과정은 고가의 장비와 긴 공정시간의 문제점 등이 있다. 이러한 방법으로 얻어지는 패턴의 생산성은 극히 비효율적이다.
최근, 임프린트 공정을 이용하여 비교적 간단한 방법으로 패턴을 복제하여 생산성을 향상시키는 연구가 이루어지고 있다.(S. Y. Chou et al., Appl. Phys. lett., 67: 3114, 1995) 또한 PDMS(polydimethylsiloxane)라는 고분자 탄성체를 이용하여 몰드를 제작한 후 양각 표면에 습식식각물질이나 식각저항물질을 코팅한 후 직접 2차 기판 표면에 프린팅하여 2차 기판에 원하는 패턴을 얻거나, 2차 기판과 접촉후 몰드 안을 패턴하고자 하는 물질을 채움으로써 역패턴을 2차 기판 위에 형성시키는 연구가 이루어지고 있다(A. Kumer et al., Acc. Chem. Res., 283: 219, 1995).
또한, 실리콘 몰드에서 복제한 고분자 몰드를 이용하여 고분자 박막이 형성된 기판 위에 놓고 온도를 가하여 모세관 현상에 따라 고분자 패턴을 형성시키는 기술이 공개된 바 있다 (K.Y.Suh et al., Advanced Materials, 13: 1386, 2001).
또한, 패턴의 전이 단계에서 습식 식각(wet ethcing)법을 이용하여 패턴의 크기를 조절한 기술이 개시되어 있다(C. M. Bruinink et al., Adv. Funct. Mater. 16: 1555, 2006 ). 여기서, 고분자 패턴은 그대로 유지하여 식각 저항마스크로 이용하고, 선택적 식각용액(etchant)을 사용하여 반응 시간에 따라 기판에 전이되는 패턴의 사이즈가 변화되도록 하였다. 하지만 습식 식각법은 사이즈의 미세조절이 반응성 이온식각(Reactive Ion Etching, RIE)과 같은 건식 식각법보다 어렵고, 패턴의 다양화를 위한 몰드의 준비에 있어서 공정단가가 높다는 단점이 있다.
또한, 나노 임프린트, PDMS를 이용한 미세접촉 프린팅 방법, 캐필러리 리쏘그래피 방법과 같이 패턴의 복제에서 광식각 장치를 요구하지 않는 방법은 하나의 미세 패턴을 대량 복제하는데 용이하나, 패턴의 종류를 바꾸기 위해서는 기본 디자인 몰드를 새롭게 제작해야하는 어려움이 있다.
따라서, 당업계에서는 상기의 문제점들을 해결하기 위하여, 간소한 공정과 저렴한 비용으로 다양한 크기와 형상의 미세패턴을 수득할 수 있는 기술개발에 대한 요구가 시급한 실정이다.
본 발명은 비교적 간단한 방법으로 제조가능한 광 확산시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한 조명장치나 디스플레이 장치제작에 소요되는 시간과 비용절감이 가능한 광 확산시트를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 광 확산시트는 기재의 일측면에 형성되고 표면에 소정의 패턴이 형성되는 광 확산시트로서, 상기 기재의 일측면에 형성되는 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층 및 상기 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층의 일측면에 형성되는 패턴이 형성되는 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층을 포함하되, 상기 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층의 인장강도(Tensile strength)는 10psi 내지 60psi이며, 상기 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층과 상기 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층 사이의 계면 형성시에 상기 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층에 소정의 압축력이 작용한다.
본 발명의 실시예에 따른 광 확산시트는 몰딩이나 리소그래피, UV조사 또는 열처리 과정이 필요치 않아 제조시간과 제조단가가 저렴하다.
또한, 유연한 소재의 기판을 사용할 경우 유연기기 또는 웨어러블 디바이스에 적용이 가능하다.
또한, 광원의 형태에 상관없이 광 확산을 위한 소재로 사용이 가능하다.
또한, 제조과정이 상온에서 이루어질 수 있어 고온에 취약한 광원에도 적용이 가능하다.
도1은 본 발명의 실시예에 따른 광 확산시트의 개략적인 단면도이다.
도2는 PDMS 코팅층의 인장력이 약 9.3psi인 경우 계면의 단면을 전자현미경으로 촬영한 실제사진이다.
도3은 PDMS 코팅층의 인장력이 약 10.27psi인 경우, 계면의 단면을 전자현미경으로 촬영한 실제사진이다.
도4는 PDMS 코팅층의 인장력이 약 72.3psi인 경우 폴리클로로파라자일렌 코팅층의 표면을 광학현미경으로 촬영한 실제사진이다.
도5는 PDMS 코팅층의 인장력이 약 57.98psi인 경우, 폴리클로로파라자일렌 코팅층의 표면을 광학현미경으로 촬영한 실제사진이다.
도6은 폴리클로로파라자일렌 코팅층 표면의 AFM(Atomic Force Microscope) 사진이다.
도7은 폴리클로로파라자일렌 코팅층 표면의 두께에 따른 패턴폭의 변화그래프이다.
본 명세서에 개시되어 있는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들에 대해서 특정한 구조적 또는 기능적 설명은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 형태들로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시 예들에 한정되지 않는다.
본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 변경들을 가할 수 있고 여러 가지 형태들을 가질 수 있으므로 실시 예들을 도면에 예시하고 본 명세서에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 특정한 개시 형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.
제1 또는 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만, 예컨대 본 발명의 개념에 따른 권리 범위로부터 벗어나지 않은 채, 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고 유사하게 제2 구성 요소는 제1 구성 요소로도 명명될 수 있다.
어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 본 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
각 블록 또는 각 단계는 특정된 논리적 기능(들)을 실행하기 위한 하나 이상의 실행 가능한 인스트럭션들을 포함하는 모듈, 세그먼트 또는 코드의 일부를 나타낼 수 있다. 또, 몇 가지 대체 실시예들에서는 블록들 또는 단계들에서 언급된 기능들이 순서를 벗어나서 발생하는 것도 가능함을 주목해야 한다. 예컨대, 잇달아 도시되어 있는 두 개의 블록들 또는 단계들은 사실 실질적으로 동시에 수행되는 것도 가능하고 또는 그 블록들 또는 단계들이 때때로 해당하는 기능에 따라 역순으로 수행되는 것도 가능하다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 본 명세서에 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 상세히 설명한다.
도1은 본 발명의 실시예에 따른 광 확산시트의 개략적인 단면도이다.
도1에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 광 확산시트는 기재(100)의 일측면에 형성되고 표면에 소정의 패턴이 형성되는 광 확산시트로서, 상기 기재(100)의 일측면에 형성되는 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층(이하 "PDMS 코팅층"이라 함) 및 PDMS 코팅층(200)의 일측면에 형성되는 패턴이 형성되는 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층(300)을 포함하되, 상기 PDMS 코팅층(200)의 인장강도(Tensile strength)는 10psi 내지 60psi이며, 상기 PDMS 코팅층(200)과 상기 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층(300) 사이의 계면 형성시에 상기 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층(300)에 소정의 압축력(compressive force)이 작용한다.
보다 상세하게는 상기 압축력이 상기 폴리클로로파라자일렌 코팅층이 형성하는 면에 수평으로 작용하여 패턴을 형성한다.
본 발명의 실시예에 따른 광 확산시트에서 사용되는 기재(100)는 일반적으로 사용되는 투명기판으로, 투명유리기판 또는 투명플라스틱 기판 등일 수 있다. 특히 광투과성이 우수한 투명한 재질의 기판이라면 기재(100)로 사용하는데 제한이 없다.
PDMS 코팅층(200)은 도1과 같이 기재의 상부면에 형성될 수 있으며, 기재의 전면(全面)에 형성되거나 일부분에 형성될 수도 있다. PDMS 코팅층(200)을 기재표면에 형성하는 방법은 다양하며, PDMS용액을 기판이 상부에 떨어뜨리면서 기재를 회전시키는 스핀코팅에 의해서 형성시킬 수 있다.
특히, PDMS 코팅층(200)의 조성물은 실리콘 고무(silicone rubber), 실리콘 라텍스(silicone latex), 라텍스(latex), 디메틸실리콘(dimethyl silicone), 디메틸폴리실록산(dimethyl polysiloxane) 및 메틸실리콘(methyl silicone)으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나의 유기 고분자일 수 있다.
폴리디메틸실록산(PDMS)은 분자량이 162.38이고 녹는점이 -40℃ ~ 50℃, 끊는점 205℃, 밀도 0.76g/ml인 유기 고분자물질로서, 물질 자체의 특성은 투명하고, 액체와 증기에 대한 침투성이 있으며, 표면 에너지가 낮고, 비활성이며, 유연성이 있다는 점이다.
특히 폴리디메틸실록산을 기판에 형성할 경우에는 상대적으로 넓은 영역에 안정적으로 점착시킬 수 있으며, 평탄하지 않은 표면을 가진 기판에도 안정적으로 점착될 수 있다. 나아가 폴리디메틸실록산은 내구성이 강한 탄성중합체로서 외력을 가해서 잡아당기면 몇 배나 늘어나고 외력을 제거하면 원래의 길이로 돌아가는 성질을 가진 고분자 화합물이다.
이러한 폴리디메틸실록산은 유연성이 있는 경화전의 상태에서는 PDMA A물질이고, 경화가 일어나면 PDMS가닥들이 서로 덩어리가 되어 PDMS kit B가 된다. 만일 PDMS의 표면을 UV/오존, 플라즈마 처리하게되면, 표면에 있는 탄소분자와 유기분자들이 사라지고 실리콘 산화막이 만들어지게되어 딱딱한 표면을 형성하게된다.
본 발명의 실시예에 따른 폴리디메틸실록산으로 이루어진 PDMS 코팅층(200)은 인장력(tensile strength)이 10psi ~ 60psi일 수 있다.
PDMS 코팅층(200)의 인장력은 아래 설명할 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층(300)의 코팅시에 형성되는 계면의 상호작용에 의해서 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층(300) 상에 패턴형성 여부를 결정하는 중요한 인자가 된다. 이에 대해서는 아래 자세히 설명한다.
폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층(300)을 구성하는 폴리클로로파라자일렌은 상온에서 무색액체상을 가지며, 녹는점은 약 2℃, 끊는점은 184℃ ~ 185℃이다.
<제1실시예> - 패턴형성을 위한 인장력의 범위
본 발명의 실시예에 따른 광 확산시트는 PDMS 코팅층(200) 상에 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)이 형성될 경우에 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300) 상에 패턴이 형성된다. 이러한 패턴이 형성되기 위해서는 앞서 언급한 바와 같이 PDMS 코팅층(200)의 인장력(tensile strength)이 10psi ~ 60psi인 조건을 만족해야 한다.
PDMS 코팅층(200) 상에 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)이 증착되면, 두 고분자물질의 계면상에서 물리적인 힘에 의한 변화가 생긴다. 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)에는 압축력이 발생하여 계면상에 영향을 주게 되고, 압축력에 의해서 PDMS 코팅층(200)은 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)과 함께 일정한 패턴의 주름을 형성하게 된다.
즉, 압축력은 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300) 상에 패턴을 형성하는 주된 원인이 된다.
다만 폴리디메틸실록산(PDMS)의 계면자유에너지(interfacial free energy)가 낮기 때문에 고분자간의 접착력이 상대적으로 크지 않다. 이에 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)의 압축력이 그대로 PDMS 코팅층(200) 상에 작용하게되면 PDMS 코팅층(200)과 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)이 분리된다.
도2는 PDMS 코팅층의 인장력이 약 9.3psi인 경우 계면의 단면을 전자현미경으로 촬영한 실제사진이다.
도2와 같이 PDMS 코팅층(200)의 인장력이 10psi미만인 경우 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)의 압축력에 의해서 PDMS 코팅층(200)이 분리된 모습을 확인할 수 있다. 만일 PDMS 코팅층(200)이 분리되는 경우 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)에 패턴이 형성될 수 없으며, 패턴이 형성되더라도 PDMS 코팅층(200)과 사이에 형성되는 공동에 의해서 내구성에 문제가 발생하거나 코팅층의 변형이 생겨 광 확산효율이 떨어지게 된다.
도3은 PDMS 코팅층의 인장력이 약 10.27psi인 경우, 계면의 단면을 전자현미경으로 촬영한 실제사진이다.
도3과 같이 PDMS 코팅층(200)의 인장력이 약 10.27psi인 경우를 보면, 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)의 압축력에 의해서 PDMS 코팅층(200)이 완전히 접착되어 있음을 확인할 수 있다.
이는 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)의 증착시에 발생하는 압축력이 PDMS 코팅층(200)의 인장력에 의해서 두 층이 떨어지지 않을 정도의 압축력이 PDMS 코팅층(200)에 작용하도록 힘의 상쇄가 일어난 것으로 분석할 수 있다.
도4는 PDMS 코팅층의 인장력이 약 72.3psi인 경우 폴리클로로파라자일렌 코팅층의 표면을 광학현미경으로 촬영한 실제사진이다.
도5는 PDMS 코팅층의 인장력이 약 57.98psi인 경우, 폴리클로로파라자일렌 코팅층의 표면을 광학현미경으로 촬영한 실제사진이다.
만일 PDMS 코팅층(200)의 인장력이 큰 경우에는 그 만큼 PDMS 코팅층(200)의 유연한 정도가 감소한 것으로 판단할 수 있다. 폴리디메틸실록산의 화학식은 [-Si(CH3)2O-]n이고, n의 숫자에 따라서 폴리디메틸실록산의 유연한 정도(viscosity)를 조절할 수 있다.
도4와 같이 PDMS 코팅층의 인장력이 비교적 큰 경우에는 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)에서 작용하는 압축력이 인장력에 의해서 상쇄되거나 상쇄되지 않더라도 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)의 상부면까지 패턴을 형성할 만한 변형이 일어나지 않게 된다. 도4를 통해서 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300) 상에 전혀 패턴이 형성되지 않고 있음을 확인할 수 있다.
이에 반해 도5와 같이 PDMS 코팅층(200)의 인장력이 약 57.98psi인 경우에는 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)의 증착에 의해서 계면에 압축력이 작용하고 이에 의해서 일정한 폭을 갖는 패턴이 형성되어 있음을 확인할 수 있다.
<제2실시예> - 패턴의 폭 조절
폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층(300)의 두께가 두꺼울수록 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층(300)의 패턴 폭은 넓어진다.
이는 PDMS 코팅층(200)과 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)의 계면에 물리적으로 작용하는 힘에 의해서 형성되는 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)의 변화가 소정두께를 갖는 표면까지 영향을 받되, 폴리클로로파라자일렌의 압축력이 고분자사슬 상호간에도 강하게 작용하게 됨을 짐작할 수 있다. 즉 하나의 고분자 사슬을 서로 연결하는 크로스 링킹(cross linking)이 계면의 물리적 변화로 인해 영향을 받아 상부표면까지 영향을 주게 되는 것으로 파악될 수 있다.
이와 같은 점은 제2실시예를 통한 도6과 도7을 통해서 확인할 수 있다.
가로×세로 = 50㎛ × 50㎛인 시편의 표면을 AFM촬영하되, 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)의 두께가 각 3㎛, 12㎛, 28㎛인 경우의 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300) 표면을 촬영하였다.
도6은 폴리클로로파라자일렌 코팅층 표면의 AFM(Atomic Force Microscope) 사진이다.
도7은 폴리클로로파라자일렌 코팅층 표면의 두께에 따른 패턴폭의 변화그래프이다.
도6의 (A)와 도7에 도시된 바와 같이 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)의 두께가 3㎛인 경우 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300) 표면에 형성되는 평균 패턴폭은 14.45㎛이다. 도6의 (B)와 도7과 같이 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)의 두께가 12㎛인 경우, 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300) 표면에 형성되는 평균 패턴폭은 17.28㎛이고, 도6의 (C)와 도7과 같이 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)의 두께가 28㎛인 경우, 폴리클로로파라자일렌 코팅층 표면에 형성되는 평균 패턴폭은 24.71㎛이다.
결국, 본 발명의 실시예에 따른 광 확산시트의 용도에 따라 폴리클로로파라자일렌 코팅층(300)의 두께를 조절함으로서, 손쉽게 패턴의 폭을 변화시킬 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명이 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론, 그와 같은 변경은 청구범위기재의 범위내에 있게 된다.
100 기재
200 PDMS 코팅층
300 폴리클로로파라자일렌 코팅층

Claims (5)

  1. 기재의 일측면에 형성되고 표면에 소정의 패턴이 형성되는 광 확산시트로서,
    상기 기재의 일측면에 형성되는 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층; 및
    상기 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층의 일측면에 형성되는 패턴이 형성되는 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층을 포함하되,
    상기 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층의 인장강도(Tensile strength)는 10psi 내지 60psi이며, 상기 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층과 상기 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층 사이의 계면 형성시에 상기 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층에 소정의 압축력이 작용하는 것을 특징으로 하는 광 확산시트.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane, PDMS) 코팅층의 조성물은 실리콘 고무(silicone rubber), 실리콘 라텍스(silicone latex), 라텍스(latex), 디메틸실리콘(dimethyl silicone), 디메틸폴리실록산(dimethyl polysiloxane) 및 메틸실리콘(methyl silicone)으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나의 유기 고분자인 것을 특징으로 하는 광 확산시트.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층의 두께가 두꺼울수록 상기 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층의 패턴 폭이 넓어지는 것을 특징으로 하는 광 확산시트.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층의 두께는 3㎛ 내지 28㎛이며, 상기 폴리클로로파라자일렌(Poly-chloro-P-xylene) 코팅층의 패턴 폭은 14.45㎛ 내지 24.71㎛인 것을 특징으로 하는 광 확산시트.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 광 확산시트를 포함하는 라이트 유닛.
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