KR20170000044A - 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치 - Google Patents

태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 셀렌화 공정을 수행하기 위한 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치에 관한 것으로서, 챔버의 외부에 구비되는 메인 플레이트와; 상기 메인 플레이트 위에서 직선 이동하면서 챔버 내부로 기판을 이송하는 트랜스퍼 로드와; 상기 메인 플레이트에 구비되어 상기 트랜스퍼 로드의 직선 이동을 안내하는 가이드 기구와; 상기 메인 플레이트에 구비되어 상기 트랜스퍼 로드를 직선 이동시키는 직선 구동기구와; 상기 트랜스퍼 로드의 내부에 냉각수를 공급하여 트랜스퍼 로드를 냉각시키는 제1 냉각 장치를 포함하여 구성됨으로써, 고열에 의해 트랜스퍼 로드 및 이를 지지하는 구조물이 변형되는 것을 방지할 수 있고, 이에 따라 장비의 성능을 개선함과 아울러 장비의 신뢰성을 높일 수 있는 효과를 갖는다.

Description

태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치{Substrate transfer device of the apparatus for manufacturing solar cell}
본 발명은 태양전지를 제조하는 태양 전지 제조 장비에 관한 것으로서, 특히 셀렌화 공정을 수행하기 위한 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치에 관한 것이다.
여기서는, 본 발명에 관한 배경기술이 제공되며, 이들이 반드시 공지기술을 의미하는 것은 아니다.
일반적으로 CIGS(Cu(In,Ga)Se) 박막 태양전지는 19%이상의 높은 효율을 기록하고 있으며, 결정질 실리콘 태양전지와 함께 고효율 태양전지로 많은 관심을 받고 있다.
CIGS 박막을 제조하는 공정 중 하나인 셀렌화 공정은 먼저 기판 위에 Cu, In, Ga의 적정 조성 비율을 갖는 전구체를 증착한 다음, 이를 셀레늄 분위기에서 열처리를 하여 화합물 반도체를 만들기 위한 공정이다.
통상적으로 전구체는 디스플레이 제조기술로 검증된 스퍼터링 방법을 이용하여 증착하고, 셀렌화 공정은 고온 열처리장비를 이용해 셀렌화 공정을 수행한다.
셀렌화 공정의 특정상 진공 상태에서 높은 온도를 필요로 하기 때문에, 진공 챔버 내부의 진공도 및 온도를 유지하면서 기판을 투입 및 배출하려면, 고온에 견딜 수 있는 진공 챔버는 물론, 기판을 이송하는 이송장치가 요구된다.
1. 특허문헌 0001) 한국 등록특허 10-1398808 2. 특허문헌 0002) 한국 등록특허 10-1385698
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 기판을 이송하는 트랜스퍼 로드를 냉각시킬 수 있도록 구성함으로써 고온 환경 하에서도 변형 등이 발생하지 않도록 하여, 장비의 성능 및 신뢰성을 높일 수 있는 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치를 제공하는 데 목적이 있다.
또한, 본 발명은 로드락 챔버로부터 기판 이송 장치 쪽에 전달되는 열을 냉각시킬 수 있도록 구성함으로써 진공이 파괴되는 등의 문제를 해결하여 장비의 신뢰성을 높일 수 있는 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치를 제공하는 데 목적이 있다.
상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명에 따른 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치는, 셀렌화 공정을 수행하기 위한 챔버의 외부에 구비되는 메인 플레이트와; 상기 메인 플레이트 위에서 직선 이동하면서 챔버 내부로 기판을 이송하는 트랜스퍼 로드와; 상기 메인 플레이트에 구비되어 상기 트랜스퍼 로드의 직선 이동을 안내하는 가이드 기구와; 상기 메인 플레이트에 구비되어 상기 트랜스퍼 로드를 직선 이동시키는 직선 구동기구와; 상기 트랜스퍼 로드의 내부에 냉각수를 공급하여 트랜스퍼 로드를 냉각시키는 제1 냉각 장치를 포함한 것을 특징으로 한다.
상기 트랜스퍼 로드는 내측 파이프와 외측 파이프로 이루어진 이중 파이프 구조로 이루어지고, 상기 제1 냉각 장치는 상기 내측 파이프 또는 외측 파이프 중 어느 한 파이프의 내부로 냉각수를 공급한 후에, 다른 파이프의 내부를 거쳐 냉각수를 배출하도록 구성되는 것이 바람직하다.
상기 가이드 기구는 상기 메인 플레이트에 설치된 리니어 가이드와, 상기 트랜스퍼 로드의 뒷부분을 지지하면서 상기 리니어 가이드를 따라 직선 이동하는 가동 지지유닛을 포함하고, 상기 제1 냉각 장치는 상기 가동 지지유닛을 통해 상기 트랜스퍼 로드의 내부로 냉각수를 공급하고 배출할 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다.
상기 가동 지지유닛에는 냉각수가 유입되는 유입 니플과, 냉각수가 배출되는 배출 니플이 설치될 수 있다.
이때, 상기 제1 냉각 장치는 상기 유입 니플에 상기 내측 파이프가 연결되고, 상기 배출 니플에 상기 외측 파이프가 연결되며, 외측 파이프의 선단부는 막힌 구조로 이루어지는 것이 바람직하다.
상기 유입 니플과 배출 니플에는 냉각수 튜브가 각각 연결되고, 상기 가동 지지유닛에는 상기 냉각수 튜브를 정리하는 케이블 체인이 연결되는 것이 바람직하다.
상기 메인 플레이트의 상부에 구비되어 상기 트랜스퍼 로드가 슬라이딩되면서 직선 이동하도록 지지하는 고정 지지유닛과; 상기 고정 지지유닛의 내부로 냉각수를 공급하여 고정 지지유닛을 냉각시키는 제2 냉각 장치를 더 포함하는 것이 바람직하다.
상기 고정 지지유닛은 상기 제2 냉각 장치를 구성하기 위해 냉각수가 통과하는 원통형 유로를 갖는 것이 바람직하다.
상기 고정 지지유닛에는 상기 제2 냉각 장치를 구성하기 위해 상기 원통형 유로에 공급관 및 배출관이 각각 연결되는 것이 바람직하다.
상기한 바와 같은 본 발명의 주요한 과제 해결 수단들은, 아래에서 설명될 '발명의 실시를 위한 구체적인 내용', 또는 첨부된 '도면' 등의 예시를 통해 보다 구체적이고 명확하게 설명될 것이며, 이때 상기한 바와 같은 주요한 과제 해결 수단 외에도, 본 발명에 따른 다양한 과제 해결 수단들이 추가로 제시되어 설명될 것이다.
본 발명에 따른 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치는 제1 냉각 장치를 통해 트랜스퍼 로드 등 주요 부품을 냉각시킬 수 있도록 구성되기 때문에 고열에 의해 트랜스퍼 로드 및 이를 지지하는 구조물이 변형되는 것을 방지할 수 있고, 이에 따라 장비의 성능을 개선함과 아울러 장비의 신뢰성을 높일 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 본 발명에 따른 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치는 제2 냉각 장치를 통해 로드락 챔버에 조립되는 기판 이송 장치를 냉각시킬 수 있도록 구성되기 때문에 고열에 의해 조립 고정 부분이 변형 또는 손상되는 문제를 해결하여 장비의 신뢰성을 높일 수 있는 효과를 제공한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 태양 전지 제조 장비가 도시된 정면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 태양 전지 제조 장비가 도시된 평면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치가 도시된 정면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치가 도시된 평면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치가 도시된 측면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치가 도시된 주요부 상세도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치에서 냉각 장치를 설명하기 위한 정면도이다.
첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하면 다음과 같다.
도 1 및 도 2를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 태양 전지 제조 장비에 대하여 설명한다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 태양 전지 제조 장비가 도시된 정면도 및 평면도이다.
이들 도면에 개시된 태양 전지 제조 장비는 CIGS(Cu(In,Ga)Se) 박막 태양전지를 제조하기 위해 공정 챔버 내에서 열처리 공정을 수행하는 장비로서, 도면 부호 20은 로드락 챔버를 나타내고, 30은 셀렌 챔버를 나타내며, 40은 설퍼 챔버를 나타낸다. 도면 부호 22, 32, 42는 각 챔버의 도어를 나타낸다. 그리고, 도면 부호 100은 기판 이송 장치를 나타내고, 200 및 250은 기판 이송 장치(100)를 냉각하기 위한 냉각 장치를 나타낸다.
로드락 챔버(20)는 셀렌 챔버(30) 및 설퍼 챔버(40)에 박막 태양전지를 제조하기 위한 기판을 반입 반송하기 위한 챔버이다.
셀렌 챔버(30)는 로드락 챔버(20)에 연결되며, Se(selenium) 고체 소스를 증발시켜 기판에 Se 가스를 공급하면서 열처리 공정을 수행하는 공정 챔버이다.
설퍼 챔버(40)는 셀렌 챔버(30)에 연결되며, H2S 가스를 이용하여 기판에 S(sulfur)를 공급하면서 열처리 공정을 수행하는 공정 챔버이다.
이와 같은 로드락 챔버(20), 셀렌 챔버(30), 설퍼 챔버(40)는 CIGS 박막 태양전지를 제조하기 위해 구성될 수 있는 챔버를 예시한 것으로서, 반드시 모든 챔버가 함께 구성되어야 하는 것은 아니며, 공지의 동일 또는 유사한 공정 챔버로 변경하여 구성하는 것도 가능하다.
상기 기판 이송 장치(100)는 로드락 챔버(20)로부터 셀렌 챔버(30), 설퍼 챔버(40) 내에 기판을 투입하고 반출하기 위한 장치로서, 도 3 내지 도 7을 참조하여 아래에서 자세히 설명한다.
냉각 장치(200, 250)는 기판 이송 장치(100)에 구비되어 트랜스퍼 로드(101)를 냉각시키는 장치이다. 트랜스퍼 로드(101)는 긴 막대형 구조로 이루어져 로드락 챔버(20)로부터 고온의 셀렌 챔버(30)와 설퍼 챔버(40) 내부로 진입하면서 기판을 이송하기 때문에 열에 의해 변형될 수 있는바, 냉각 장치(200, 250)는 트랜스퍼 로드(101) 및 이를 지지하는 구조물을 냉각하여 고열에 변형되지 않도록 하기 위해 구성된다.
도 3 내지 도 7을 참조하여, 상기 기판 이송 장치(100) 및 여기에 구성되는 냉각 장치에 대하여 자세히 설명한다.
도 3 내지 도 5는 기판 이송 장치(100)의 정면도, 평면도, 측면도이다. 그리고, 도 6은 기판 이송 장치(100)의 주요부 상세도이고, 도 7은 기판 이송 장치(100)에서 냉각수 유동 경로를 설명하기 위한 참고도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치(100)는, 도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 로드락 챔버(20) 옆에 구비되는 메인 플레이트(110)와, 이 메인 플레이트(110) 위에서 직선 이동하면서 챔버 내부로 기판을 이송하는 트랜스퍼 로드(101)와, 메인 플레이트(110)에 구비되어 상기 트랜스퍼 로드(101)의 직선 이동을 안내하는 가이드 기구(125 등)와, 메인 플레이트(110)에 구비되어 상기 트랜스퍼 로드(101)를 직선 이동시키는 직선 구동기구(123 등)와, 상기 트랜스퍼 로드(101)의 내부에 냉각수를 공급하여 트랜스퍼 로드(101)를 냉각시키는 제1 냉각 장치(200)를 포함하여 구성된다.
상기 메인 플레이트(110)는 긴 판형 구조로 이루어져 트랜스퍼 로드(101)의 직선 운동을 안정되게 지지하는 기능을 수행한다.
상기 트랜스퍼 로드(101)는 직선 구동기구에 의해 직선 운동하면서 기판을 이송하는 구성 요소로서, 그 선단부에는 기판이 올려지는 서포트 플레이트(171) 및 이를 지지하는 서포트 블록(173)이 연결되어 구성되는 것이 바람직하다.
특히, 트랜스퍼 로드(101)는 제1 냉각 장치(200)를 구성하기 위해 냉각수가 통과할 수 있도록 내측 파이프(220)와 외측 파이프(210)로 이루어진 이중 파이프 구조로 이루어진다.
외측 파이프(210)는 챔버 내부까지 직선 이동하면서 기판을 이송하는 기능을 수행하므로, 충분한 강성을 갖는 금속 소재로 구성되는 것이 바람직하다. 예를 들면 스테인리스 스틸 파이프로 구성될 수 있다.
내측 파이프(220)는 상기 외측 파이프(210) 내에 삽입된 상태에서 냉각수를 공급하는 파이프로서, 스테인리스 스틸 등의 금속 소재의 파이프로 구성되는 것이 바람직하나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 냉각수를 공급하기 위한 튜브 형태이면 공지의 다양한 파이프 소재를 선택하여 구성할 수 있다.
상기 가이드 기구는 메인 플레이트(110)에 길게 설치된 리니어 가이드(125)와, 트랜스퍼 로드(101)의 뒷부분을 지지하면서 리니어 가이드(125)를 따라 직선 이동하는 가동 지지유닛(130)과, 로드락 챔버(20)의 바로 앞쪽의 상기 메인 플레이트(110)의 상부에 구비되어 상기 트랜스퍼 로드(101)가 슬라이딩되면서 직선 이동하도록 지지하는 고정 지지유닛(150)을 포함하여 구성된다.
리니어 가이드(125)는 일반적으로 LM 가이드에 구성되는 가이드 레일의 구성으로 이루어지는 것이 바람직하다.
가동 지지유닛(130)은 그 하부가 상기 리니어 가이드(125)에 결합되어 리니어 가이드(125)를 따라 미끄럼 운동을 하면서 트랜스퍼 로드(101)와 함께 직선 이동하도록 구성되는 것이 바람직하다.
이러한 가동 지지유닛(130)은 도 6을 참조하면, 상기 리니어 가이드(125)에 결합되는 구성 요소가 구비됨과 아울러 아래에서 설명할 직선 구동기구의 볼 스크류(123)가 결합되는 스크류 블록(131)과, 이 스크류 블록(131)의 상부 양측에 조립되는 플랜지(133)를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.
상기 스크류 블록(131)과 플랜지(133)는 일체형으로 조립된 상태에서 , 이중 파이프 구조로 이루어진 트랜스퍼 로드(101)를 지지하도록 구성된다. 즉, 트랜스퍼 로드(101)의 뒤쪽 끝단부는 스크류 블록(131)과 플랜지(133)에 삽입된 상태로 고정되어 지지되도록 구성된다.
여기서 가동 지지유닛(130)에는 냉각수가 유입되는 유입 니플(231)과, 냉각수가 배출되는 배출 니플(233)이 각각 설치되는데, 이를 위해 상기 스크류 블록(131) 및 플랜지(133)에 각각 니플 결합구(132, 134)가 형성되어 유입 니플(231)과 배출 니플(233)이 각각 조립된다. 니플 결합구(132, 134)에서 트랜스퍼 로드(101)를 구성하는 내측 파이프(220) 및 외측 파이프(210)로는 냉각수가 통과하는 유로가 형성된다.
이때, 상기 제1 냉각 장치(200)는 상기 유입 니플(231)에 내측 파이프(220)가 연결되고, 상기 배출 니플(233)에 외측 파이프(210)가 연결된다. 물론, 외측 파이프(210)의 선단부(로드락 챔버 쪽)는 막힌 구조로 이루어진다.
따라서, 도 7에 도시된 바와 같이 냉각수는 유입 니플(231)로 유입되어 내측 파이프(220)를 통과한 다음, 외측 파이프(210) 내부로 배출되고, 이후 내측 파이프의 외측인 외측 파이프(210)를 통과한 후에 배출 니플(233)을 통해 외부로 배출된다. 이러한 냉각수 순환 구조를 통해서 트랜스퍼 로드(101)를 냉각하게 되는 것이다.
이와 반대로 실시 조건에 따라서는 배출 니플(233) 및 외측 파이프(210) 쪽으로 냉각수가 유입되고, 내측 파이프(220) 및 유입 니플(231) 쪽으로 냉각수가 배출되게 구성하는 것도 가능하다.
도 5에서 115는 가동 지지유닛(130)의 위치를 감지하는 위치감지센서이거나, 이동 위치를 제한하기 위한 리밋트 센서일 수 있고, 도 6에서 도면 부호 135는 오링을 나타낸다.
유입 니플(231)과 배출 니플(233)에는 외부의 냉각수 공급 장치와 냉각수 회수 장치와 냉각수 튜브(미도시)로 각각 연결되는데, 이 냉각수 튜브를 정리하기 위해 케이블 체인(180)이 구비된다(도 3 참조).
케이블 체인(180)은 가동 지지유닛(130)에 한쪽 끝단이 고정되어 가동 지지유닛(130)을 따라 움직이면서 상기 두 니플(231, 233)에 연결되는 냉각수 튜브를 지지하면서 정리하도록 구성된다. 물론 케이블 체인(180)은 메인 플레이트(110)에 지지된 상태로 움직이면서 튜브 정리 기능을 수행하도록 구성된다.
한편, 상기 직선 구동기구는 볼 스크류를 이용한 구조로서, 서보 모터(121)와, 이 서보 모터(121)에 의해 회전하면서 가동 지지유닛(130)을 직선 이동시키는 볼 스크류(123)로 이루어진다. 이러한 직선 구동기구는 리니어 모터 등 공지의 다른 직선 구동기구를 이용하여 구성하는 것도 가능하다. 도 4에서 도면 부호 122는 스크류(123)의 한쪽 끝단과 연결되는 커플링을 나타낸다. 스크류(123)의 다른 쪽 끝단은 고정 지지유닛(150)에 회전 가능하도록 지지되게 구성되는 것이 바람직하다.
다음, 고정 지지유닛(150)은 가동 지지유닛(130)과 달리 메인 플레이트(110)에 고정된 구조로 설치되어 트랜스퍼 로드(101)의 슬라이딩을 안내하는 기능을 수행한다.
이러한 고정 지지유닛(150)은 도 6을 참조하면, 메인 플레이트(110)에 고정된 고정 블록(152)과, 이 고정 블록(152)의 상부에 조립되어 트랜스퍼 로드(101)를 지지하는 하우징(151)과, 이 하우징(151)의 내부에 구비되어 트랜스퍼 로드(101)의 슬라이딩 운동을 지지하는 부쉬(153)를 포함하여 구성된다.
이때, 하우징(151)은 로드락 챔버(20)의 벽면에 함께 조립되게 구성되는 것이 바람직하다. 하지만 이에 한정되지 않고, 하우징(151)이 로드락 챔버(20)와 분리되어 구성되는 것도 가능하다.
도 6에서 도면 부호 155는 쿼드 링이고, 159는 오링을 나타낸다.
이와 같은 고정 지지유닛(150)은 로드락 챔버(20)에 조립되는 구성으로 이루어질 경우에 로드락 챔버(20)로부터 상당한 열을 받게 되므로, 이를 냉각시키기 위하여 제2 냉각 장치(250)가 구성된다.
제2 냉각 장치(250)는 고정 지지유닛(150)의 내부로 냉각수를 공급하여 고정 지지유닛(150)을 냉각시키도록 구성된다. 이를 위해 고정 지지유닛(150)은 냉각수가 통과하는 원통형 유로(255)를 갖고, 이 원통형 유로(255)는 공급관(252) 및 배출관(254)과 연결되어 냉각수를 공급받게 된다.
도 6에서는 냉각수가 통과하는 원통형 유로(255)가 하우징(151)의 외부면에 홈 구조로 파인 부분과, 이 부분의 바깥쪽 둘레에 커버 파이프(157)를 조립하는 구성으로 이루어진 실시예를 예시하고 있다.
따라서, 제2 냉각 장치(250)는 도 7을 참조하면, 유입 니플(251) 및 공급관(252)을 통해 원통형 유로(255)로 냉각수가 유입된 후에 반대쪽의 배출관(254) 및 배출 니플(253)을 통해 냉각수가 배출되는 과정을 통해 고정 지지유닛(150)의 하우징(151)을 냉각할 수 있도록 구성되는 것이다. 제2 냉각 장치(250)를 통해 고정 지지유닛(150)을 냉각시킴에 따라 오링(159; 도 6 참보) 등 조립 밀착 부분의 부품 변형을 방지할 수 있고, 이에 따라 진공 파괴 등의 문제를 해결할 수 있게 된다.
이와 반대로 배출 니플(253) 쪽으로 냉각수가 유입되어 유입 니플(251) 쪽으로 냉각수가 배출되는 구조로 구성하는 것도 가능하다.
상기한 바와 같은, 본 발명의 실시예들에서 설명한 기술적 사상들은 각각 독립적으로 실시될 수 있으며, 서로 조합되어 실시될 수 있다. 또한, 본 발명은 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 실시예를 통하여 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.
20 : 로드락 챔버 30 : 셀렌 챔버
40 : 설퍼 챔버 100 : 기판 이송 장치
101 : 트랜스퍼 로드 110 : 메인 플레이트
121 : 서보 모터 123 : 볼 스크류
125 : 리니어 가이드 130 : 가동 지지유닛
150 : 고정 지지유닛 200 : 제1 냉각 장치
210 : 외측 파이프 220 : 외측 파이프
231 : 유입 니플 233 : 배출 니플
250 : 제2 냉각 장치 251 : 유입 니플
253 : 배출 니플 255 : 원통형 유로

Claims (9)

  1. 셀렌화 공정을 수행하기 위한 챔버의 외부에 구비되는 메인 플레이트와;
    상기 메인 플레이트 위에서 직선 이동하면서 챔버 내부로 기판을 이송하는 트랜스퍼 로드와;
    상기 메인 플레이트에 구비되어 상기 트랜스퍼 로드의 직선 이동을 안내하는 가이드 기구와;
    상기 메인 플레이트에 구비되어 상기 트랜스퍼 로드를 직선 이동시키는 직선 구동기구와;
    상기 트랜스퍼 로드의 내부에 냉각수를 공급하여 트랜스퍼 로드를 냉각시키는 제1 냉각 장치를 포함한 것을 특징으로 하는 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 트랜스퍼 로드는 내측 파이프와 외측 파이프로 이루어진 이중 파이프 구조로 이루어지고,
    상기 제1 냉각 장치는 상기 내측 파이프 또는 외측 파이프 중 어느 한 파이프의 내부로 냉각수를 공급한 후에, 다른 파이프의 내부를 거쳐 냉각수를 배출하도록 구성된 것을 특징으로 하는 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 가이드 기구는 상기 메인 플레이트에 설치된 리니어 가이드와, 상기 트랜스퍼 로드의 뒷부분을 지지하면서 상기 리니어 가이드를 따라 직선 이동하는 가동 지지유닛을 포함하고,
    상기 제1 냉각 장치는 상기 가동 지지유닛을 통해 상기 트랜스퍼 로드의 내부로 냉각수를 공급하고 배출할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 가동 지지유닛에는 냉각수가 유입되는 유입 니플과, 냉각수가 배출되는 배출 니플이 설치된 것을 특징으로 하는 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 트랜스퍼 로드는 내측 파이프와 외측 파이프로 이루어진 이중 파이프 구조로 이루어지고,
    상기 제1 냉각 장치는 상기 유입 니플에 상기 내측 파이프가 연결되고, 상기 배출 니플에 상기 외측 파이프가 연결되며, 외측 파이프의 선단부는 막힌 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치.
  6. 청구항 4에 있어서,
    상기 유입 니플과 배출 니플에는 냉각수 튜브가 각각 연결되고,
    상기 가동 지지유닛에는 상기 냉각수 튜브를 정리하는 케이블 체인이 연결된 것을 특징으로 하는 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 메인 플레이트의 상부에 구비되어 상기 트랜스퍼 로드가 슬라이딩되면서 직선 이동하도록 지지하는 고정 지지유닛과;
    상기 고정 지지유닛의 내부로 냉각수를 공급하여 고정 지지유닛을 냉각시키는 제2 냉각 장치를 더 포함한 것을 특징으로 하는 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 고정 지지유닛은 상기 제2 냉각 장치를 구성하기 위해 냉각수가 통과하는 원통형 유로를 갖는 것을 특징으로 하는 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 고정 지지유닛에는 상기 제2 냉각 장치를 구성하기 위해 상기 원통형 유로에 공급관 및 배출관이 각각 연결된 것을 특징으로 하는 태양 전지 제조 장비의 기판 이송 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101398808B1 (ko) 2012-06-25 2014-06-19 영남대학교 산학협력단 태양 전지 제조장치
KR101385698B1 (ko) 2012-08-29 2014-04-18 주식회사 테라세미콘 열처리 장치 및 이를 구비한 열처리 시스템

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