KR20160149147A - Curable composition, method for production of cured product, and hard-coating material - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a curable composition which provides a hard coating layer having excellent bending properties, toughness, surface hardness and transparency, and a method for preparing a cured product and a hard coating material using the curable composition. The curable composition according to the present invention comprises (A) a photopolymerization initiator, and (B) a multi-functional acrylate compound including at least one selected from the group consisting of a siloxane bond, an aromatic ring and a crosslinked saturated ring, wherein (A) the photopolymerization initiator comprises a compound represented by chemical formula (a-1). In chemical formula (a-1), R^1 is a specific organic group containing an aromatic ring; R^2 is a monovalent organic group; R^3 is H, an optionally substituted C1-C11 alkyl group, or an optionally substituted aryl group; and m is 0 or 1.

Description

경화성 조성물, 경화물의 제조 방법, 및 하드 코트재{CURABLE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCTION OF CURED PRODUCT, AND HARD-COATING MATERIAL}CURABLE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCTION OF CURED PRODUCT, AND HARD-COATING MATERIAL BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001]

본 발명은 경화성 조성물, 및 상기 경화성 조성물을 이용한 경화물의 제조 방법 및 하드 코트재에 관한 것이다.The present invention relates to a curable composition, and a hard coat material and a method for producing a cured product using the curable composition.

액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, CRT 디스플레이, EL 디스플레이, 전계 방출 디스플레이 등의 각종 화상 표시 장치에는, 예를 들면 표면의 보호, 반사 방지, 방현(防眩) 등의 목적으로 광학 필름이 사용되고 있다. 그러한 광학 필름에는 내찰상성의 관점에서, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등으로 이루어지는 기재의 표면에 하드 코트층을 형성한 하드 코트재를 사용하는 것이 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).BACKGROUND ART Various image display devices such as a liquid crystal display, a plasma display, a CRT display, an EL display, and a field emission display use optical films for the purpose of, for example, protecting the surface, preventing reflection, and preventing glare. From the viewpoint of scratch resistance, it is known to use a hard coat material in which a hard coat layer is formed on the surface of a substrate made of triacetylcellulose (TAC) or the like (see, for example, Patent Document 1).

일본 특개 2013-195550호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-195550

통상 하드 코트재에 이용되는 하드 코트층에는 굴곡성, 인성(靭性), 표면 경도, 투명성 등의 여러 가지 특성이 뛰어난 것이 요구된다. 그러나, 종래의 하드 코트층은 이러한 요구를 충분히 만족하는 것은 아니다.Generally, the hard coat layer used in the hard coat material is required to have excellent properties such as flexibility, toughness, surface hardness, and transparency. However, the conventional hard coat layer does not sufficiently satisfy such a demand.

본 발명은 상기의 과제를 감안하여 이루어진 것으로서, 굴곡성, 인성, 표면 경도, 및 투명성이 뛰어난 하드 코트층을 부여하는 경화성 조성물, 및 상기 경화성 조성물을 이용한 경화물의 제조 방법 및 하드 코트재를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a curable composition which gives a hard coat layer excellent in flexibility, toughness, surface hardness and transparency and a method for producing a cured product using the curable composition and a hard coat material The purpose.

본 발명자들은 특정한 광중합 개시제와 특정한 다관능 아크릴레이트 화합물을 함유하는 경화성 조성물에 의해, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 구체적으로는 본 발명은 이하의 것을 제공한다.The present inventors have found out that the above problems can be solved by a curable composition containing a specific photopolymerization initiator and a specific polyfunctional acrylate compound, and have completed the present invention. Specifically, the present invention provides the following.

본 발명의 제1 태양은 (A) 광중합 개시제와, (B) 실록산 결합, 방향환 및 가교 포화환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 다관능 아크릴레이트 화합물을 함유하고, A first aspect of the present invention relates to a photopolymerizable composition comprising (A) a photopolymerization initiator, (B) a polyfunctional acrylate compound containing at least one member selected from the group consisting of siloxane bonds, aromatic rings and crosslinking rings,

상기 (A) 광중합 개시제가 하기 식(a-1):Wherein the photopolymerization initiator (A) is represented by the following formula (a-1):

[화 1]However,

Figure pat00001
Figure pat00001

(R1은 하기 식(a-2):(R 1 is a group represented by the following formula (a-2):

[화 2][Figure 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

(R4는 수소 원자, 니트로기, 또는 1가의 유기기이며, R5 및 R6은 독립적으로 쇄상 알킬기, 환상 탄화수소기, 또는 헤테로아릴기이며, R5와 R6은 서로 결합해 스피로환을 형성해도 된다.)(R 4 is a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group, R 5 and R 6 are independently a straight chain alkyl group, a cyclic hydrocarbon group, or a heteroaryl group, and R 5 and R 6 are bonded to each other to form a spiro ring .

로 나타내는 기, 하기 식(a-3):, A group represented by the following formula (a-3):

[화 3][Figure 3]

Figure pat00003
Figure pat00003

(R7은 독립적으로 1가의 유기기, 아미노기, 할로겐 원자, 니트로기, 또는 시아노기이며, A는 S 또는 O이고, n은 0~4의 정수이다.)(Wherein R 7 is independently a monovalent organic group, an amino group, a halogen atom, a nitro group, or a cyano group, A is S or O, and n is an integer of 0 to 4.)

로 나타내는 기, 또는 하기 식(a-4):, Or a group represented by the following formula (a-4):

[화 4][Figure 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

(R8은 1가의 유기기이며, R9는 수소 원자, 니트로기, 또는 1가의 유기기이다.)로 나타내는 기이며, R2는 1가의 유기기이며, R3은 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1~11의 알킬기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이며, m은 0 또는 1이다.)(R 8 is a monovalent organic group and R 9 is a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group), R 2 is a monovalent organic group, and R 3 is a hydrogen atom, a substituent Or an aryl group which may have a substituent, and m is 0 or 1.)

로 나타내는 화합물을 포함하는, 경화성 조성물이다., ≪ / RTI >

본 발명의 제2 태양은 상기 경화성 조성물을 이용해 경화성 조성물막을 형성하는 공정과, A second aspect of the present invention is a process for producing a curable composition comprising the steps of forming a curable composition film using the curable composition,

상기 경화성 조성물막을 노광하는 공정을 포함하는, 경화물의 제조 방법이다.And a step of exposing the curable composition film to light.

본 발명의 제3 태양은 기재와, 상기 경화성 조성물을 이용해 상기 기재 위에 형성된 하드 코트층을 구비하는 하드 코트재이다.A third aspect of the present invention is a hard coat material comprising a substrate and a hard coat layer formed on the substrate using the curable composition.

본 발명에 의하면, 굴곡성, 인성, 표면 경도, 및 투명성이 뛰어난 하드 코트층을 부여하는 경화성 조성물, 및 상기 경화성 조성물을 이용한 경화물의 제조 방법 및 하드 코트재를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a curable composition that gives a hard coat layer excellent in flexibility, toughness, surface hardness, and transparency, and a method of producing a cured product using the curable composition and a hard coat material.

≪경화성 조성물≫&Quot; Curing Composition "

본 발명에 관한 경화성 조성물은 (A) 광중합 개시제와, (B) 실록산 결합, 방향환 및 가교 포화환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 다관능 아크릴레이트 화합물을 함유하고, 상기 (A) 광중합 개시제는 상기 식(a-1)으로 나타내는 화합물을 포함한다. 본 발명에 관한 경화성 조성물로부터 얻어지는 하드 코트층은 굴곡성, 인성, 표면 경도, 및 투명성이 뛰어나 하드 코트재에 적합하게 이용할 수 있다.The curable composition according to the present invention comprises (A) a photopolymerization initiator, and (B) a polyfunctional acrylate compound comprising at least one member selected from the group consisting of siloxane bonds, aromatic rings and crosslinking rings, ) The photopolymerization initiator includes the compound represented by the above formula (a-1). The hard coat layer obtained from the curable composition according to the present invention is excellent in flexibility, toughness, surface hardness and transparency and can be suitably used for hard coat materials.

<(A) 광중합 개시제><(A) Photopolymerization initiator>

(A) 광중합 개시제로서는 상기 식(a-1)으로 나타내는 화합물을 포함하는 한, 특별히 한정되지 않는다. 본 발명에 관한 경화성 조성물은 (A) 광중합 개시제를 포함하기 때문에, 감도가 높고, 보다 적은 에너지 선량에서도 충분히 경화한다. (A) 광중합 개시제는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.The photopolymerization initiator (A) is not particularly limited as long as it contains the compound represented by the above formula (a-1). Since the curable composition according to the present invention contains (A) a photopolymerization initiator, it has high sensitivity and sufficiently cures even at a lower energy dose. The photopolymerization initiator (A) may be used alone or in combination of two or more.

상기 식(a-1) 중, R1은 상기 식(a-2)으로 나타내는 기, 상기 식(a-3)으로 나타내는 기, 또는 상기 식(a-4)으로 나타내는 기이다.In the formula (a-1), R 1 is a group represented by the formula (a-2), a group represented by the formula (a-3), or a group represented by the formula (a-4).

R2의 바람직한 유기기의 예로서는 후술하는 R4와 동일하게, 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 알콕시카르보닐기, 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴카르보닐기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기 등을 들 수 있다.As examples of R 2 A preferred organic group in the same manner as described below R 4, an alkyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, a phenyl group, the substituent which may have a substituent , A benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a benzoyloxy group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, A naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, A heterocyclyl group, a heterocyclyl group which may have a substituent, an amino group substituted by an organic group of 1 or 2, And the like can be mentioned 1-yl group, and a piperazin-1-yl group.

R2가 알킬기인 경우, 알킬기의 탄소 원자수는 1~20이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하다. 또, R2가 알킬기인 경우, 직쇄여도, 분기쇄여도 된다. R2가 알킬기인 경우의 구체예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, R2가 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알킬기의 예로서는 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기, 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.When R 2 is an alkyl group, the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably from 1 to 20, more preferably from 1 to 6. When R 2 is an alkyl group, it may be straight chain or branched chain. Specific examples of the case where R 2 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec- n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, iso-octyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n- And an isodecyl group. When R 2 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

R2가 알콕시기인 경우, 알콕시기의 탄소 원자수는 1~20이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하다. 또, R2가 알콕시기인 경우, 직쇄여도, 분기쇄여도 된다. R2가 알콕시기인 경우의 구체예로서는 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, sec-부틸옥시기, tert-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, sec-펜틸옥시기, tert-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 이소옥틸옥시기, sec-옥틸옥시기, tert-옥틸옥시기, n-노닐옥시기, 이소노닐옥시기, n-데실옥시기, 및 이소데실옥시기 등을 들 수 있다. 또, R2가 알콕시기인 경우, 알콕시기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알콕시기의 예로서는 메톡시에톡시기, 에톡시에톡시기, 메톡시에톡시에톡시기, 에톡시에톡시에톡시기, 프로필옥시에톡시에톡시기, 및 메톡시프로필옥시기 등을 들 수 있다.When R 2 is an alkoxy group, the number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably from 1 to 20, more preferably from 1 to 6. When R 2 is an alkoxy group, it may be a straight chain or a branched chain. Specific examples of the case where R 2 is an alkoxy group include methoxy, ethoxy, n-propyloxy, isopropyloxy, n-butyloxy, isobutyloxy, sec-butyloxy, tert- N-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group, isohexyloxy group, isopentyloxy group, sec- tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, and isodecyloxy group. When R 2 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propoxyoxyethoxyethoxy group, and a methoxy Propyloxy group and the like.

R2가 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기인 경우, 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기의 탄소 원자수는 3~10이 바람직하고, 3~6이 보다 바람직하다. R2가 시클로알킬기인 경우의 구체예로서는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 및 시클로옥틸기 등을 들 수 있다. R2가 시클로알콕시기인 경우의 구체예로서는 시클로프로필옥시기, 시클로부틸옥시기, 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기, 시클로헵틸옥시기, 및 시클로옥틸옥시기 등을 들 수 있다.When R 2 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or the cycloalkoxy group is preferably from 3 to 10, more preferably from 3 to 6. Specific examples of the case where R 2 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples of when R 2 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

R2가 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기인 경우, 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기의 탄소 원자수는 2~21이 바람직하고, 2~7이 보다 바람직하다. R2가 포화 지방족 아실기인 경우의 구체예로서는 아세틸기, 프로파노일기, n-부타노일기, 2-메틸프로파노일기, n-펜타노일기, 2,2-디메틸프로파노일기, n-헥사노일기, n-헵타노일기, n-옥타노일기, n-노나노일기, n-데카노일기, n-운데카노일기, n-도데카노일기, n-트리데카노일기, n-테트라데카노일기, n-펜타데카노일기, 및 n-헥사데카노일기 등을 들 수 있다. R2가 포화 지방족 아실옥시기인 경우의 구체예로서는 아세틸옥시기, 프로파노일옥시기, n-부타노일옥시기, 2-메틸프로파노일옥시기, n-펜타노일옥시기, 2,2-디메틸프로파노일옥시기, n-헥사노일옥시기, n-헵타노일옥시기, n-옥타노일옥시기, n-노나노일옥시기, n-데카노일옥시기, n-운데카노일옥시기, n-도데카노일옥시기, n-트리데카노일옥시기, n-테트라데카노일옥시기, n-펜타데카노일옥시기, 및 n-헥사데카노일옥시기 등을 들 수 있다.When R 2 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 to 21, more preferably 2 to 7. Specific examples of when R 2 is a saturated aliphatic acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, an n-butanoyl group, a 2-methylpropanoyl group, an n-pentanonyl group, a 2,2-dimethylpropanoyl group, Heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, Decanoyl group, n-hexadecanoyl group, and the like. Specific examples of the case where R 2 is a saturated aliphatic acyloxy group include an acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2,2- , n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, Tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, and n-hexadecanoyloxy group.

R2가 알콕시카르보닐기인 경우, 알콕시카르보닐기의 탄소 원자수는 2~20이 바람직하고, 2~7이 보다 바람직하다. R2가 알콕시카르보닐기인 경우의 구체예로서는 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, n-프로필옥시카르보닐기, 이소프로필옥시카르보닐기, n-부틸옥시카르보닐기, 이소부틸옥시카르보닐기, sec-부틸옥시카르보닐기, tert-부틸옥시카르보닐기, n-펜틸옥시카르보닐기, 이소펜틸옥시카르보닐기, sec-펜틸옥시카르보닐기, tert-펜틸옥시카르보닐기, n-헥실옥시카르보닐기, n-헵틸옥시카르보닐기, n-옥틸옥시카르보닐기, 이소옥틸옥시카르보닐기, sec-옥틸옥시카르보닐기, tert-옥틸옥시카르보닐기, n-노닐옥시카르보닐기, 이소노닐옥시카르보닐기, n-데실옥시카르보닐기, 및 이소데실옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.When R 2 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably from 2 to 20, more preferably from 2 to 7. Specific examples of when R 2 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, Sec-butyloxycarbonyl, n-pentyloxycarbonyl, n-heptyloxycarbonyl, n-octyloxycarbonyl, iso-octyloxycarbonyl, sec-pentyloxycarbonyl, Octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, and isodecyloxycarbonyl group.

R2가 페닐알킬기인 경우, 페닐알킬기의 탄소 원자수는 7~20이 바람직하고, 7~10이 보다 바람직하다. 또, R2가 나프틸알킬기인 경우, 나프틸알킬기의 탄소 원자수는 11~20이 바람직하고, 11~14가 보다 바람직하다. R2가 페닐알킬기인 경우의 구체예로서는 벤질기, 2-페닐에틸기, 3-페닐프로필기, 및 4-페닐부틸기를 들 수 있다. R2가 나프틸알킬기인 경우의 구체예로서는, α-나프틸메틸기, β-나프틸메틸기, 2-(α-나프틸)에틸기, 및 2-(β-나프틸)에틸기를 들 수 있다. R2가 페닐알킬기, 또는 나프틸알킬기인 경우, R2는 페닐기, 또는 나프틸기상에 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R 2 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7 to 20, more preferably 7 to 10. When R 2 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms of the naphthylalkyl group is preferably from 11 to 20, more preferably from 11 to 14. Specific examples of the case where R 2 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples of when R 2 is a naphthylalkyl group include an a-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group and a 2- (β-naphthyl) ethyl group. When R 2 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R 2 may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.

R2가 헤테로시크릴기인 경우, 헤테로시크릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이거나, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로시크릴기이다. 헤테로시크릴기가 축합환인 경우에는 환수 3까지인 것으로 한다. 헤테로시크릴기는 방향족기(헤테로아릴기)여도, 비방향족기여도 된다. 이러한 헤테로시크릴기를 구성하는 복소환으로서는 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 시놀린, 및 퀴녹살린 등을 들 수 있다. R2가 헤테로시크릴기인 경우, 헤테로시크릴기는 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R 2 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may be a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing one or more N, S or O, or a heterocyclyl group in which these monocyclic rings and condensed benzene rings are condensed. And in the case where the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of rings is 3. The heterocyclyl group can be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocycle constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine , Pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, Ginsenosin, and quinoxaline. When R 2 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

R2가 헤테로시크릴카르보닐기인 경우, 헤테로시크릴카르보닐기에 포함되는 헤테로시크릴기는 R2가 헤테로시크릴기인 경우와 동일하다.When R 2 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclylcarbonyl group is the same as the case where R 2 is a heterocyclyl group.

R2가 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기인 경우, 유기기의 바람직한 예는 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 탄소 원자수 3~10의 시클로알킬기, 탄소 원자수 2~21의 포화 지방족 아실기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 7~20의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 11~20의 나프틸알킬기, 및 헤테로시크릴기 등을 들 수 있다. 이들 바람직한 유기기의 구체예는 R2와 동일하다. 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기의 구체예로서는 메틸아미노기, 에틸아미노기, 디에틸아미노기, n-프로필아미노기, 디-n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 디-n-부틸아미노기, n-펜틸아미노기, n-헥실아미노기, n-헵틸아미노기, n-옥틸아미노기, n-노닐아미노기, n-데실아미노기, 페닐아미노기, 나프틸아미노기, 아세틸아미노기, 프로파노일아미노기, n-부타노일아미노기, n-펜타노일아미노기, n-헥사노일아미노기, n-헵타노일아미노기, n-옥타노일아미노기, n-데카노일아미노기, 벤조일아미노기, α-나프토일아미노기, 및 β-나프토일아미노기 등을 들 수 있다.When R 2 is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, preferred examples of the organic group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic group having 2 to 21 carbon atoms A phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, A naphthylalkyl group having from 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and heterocyclyl group. Specific examples of these preferred organic groups are the same as R &lt; 2 &gt;. Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include a methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n-butylamino group, an n-butylamino group, an n-hexylamino group, an n-heptylamino group, an n-octylamino group, an n-nonylamino group, a n-decylamino group, a phenylamino group, a naphthylamino group, an acetylamino group, a propanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-decanoylamino group, benzoylamino group,? -naphthoylamino group and? have.

R2에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우의 치환기로서는 탄소 원자수 1~6의 알킬기, 탄소 원자수 1~6의 알콕시기, 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2~7의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자수 2~7의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기, 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다. R2에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1~4가 바람직하다. R2에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.The substituent when the phenyl group, naphthyl group and heterocyclyl group contained in R 2 have a substituent further includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 2 to 7 carbon atoms A saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms A morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen atom, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in R 2 further have a substituent, the number of the substituent is not limited within the range not impairing the object of the present invention, but is preferably 1 to 4. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 2 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

또, R2로서는 시클로알킬알킬기, 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페녹시알킬기, 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기도 바람직하다. 페녹시알킬기, 및 페닐티오알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기는 R2에 포함되는 페닐기가 가지고 있어도 되는 치환기와 동일하다.As R 2 , a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring, and a phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring are also preferable. The phenoxyalkyl group and the substituent which the phenylthioalkyl group may have are the same as the substituent which the phenyl group contained in R 2 may have.

유기기 중에서도, R2로서는 알킬기, 시클로알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기, 또는 시클로알킬알킬기, 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기가 바람직하다. 알킬기로서는 탄소 원자수 1~20의 알킬기가 바람직하고, 탄소 원자수 1~8의 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소 원자수 1~4의 알킬기가 특히 바람직하고, 메틸기가 가장 바람직하다. 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기 중에서는 메틸페닐기가 바람직하고, 2-메틸페닐기가 보다 바람직하다. 시클로알킬알킬기에 포함되는 시클로알킬기의 탄소 원자수는 5~10이 바람직하고, 5~8이 보다 바람직하고, 5 또는 6이 특히 바람직하다. 시클로알킬알킬기에 포함되는 알킬렌기의 탄소 원자수는 1~8이 바람직하고, 1~4가 보다 바람직하며, 2가 특히 바람직하다. 시클로알킬알킬기 중에서는 시클로펜틸에틸기가 바람직하다. 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기에 포함되는 알킬렌기의 탄소 원자수는 1~8이 바람직하고, 1~4가 보다 바람직하며, 2가 특히 바람직하다. 방향환상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기 중에서는 2-(4-클로로페닐티오)에틸기가 바람직하다.Among the organic groups, R 2 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, a cycloalkylalkyl group or a phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and most preferably a methyl group. Among the phenyl groups which may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. The number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 to 10, more preferably 5 to 8, and particularly preferably 5 or 6. The number of carbon atoms of the alkylene group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably from 1 to 8, more preferably from 1 to 4, and particularly preferably 2. [ Among the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferable. The number of carbon atoms of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 2. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, 2- (4-chlorophenylthio) ethyl group is preferable.

이상, R2에 대해 설명했지만, R2로서는 하기 식(R2-1) 또는 (R2-2)으로 나타내는 기가 바람직하다.Above has been described for the R 2, R 2 is preferably a group represented by the following formula (R2-1) or (R2-2) As.

[화 5][Figure 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

(식(R2-1) 및 (R2-2) 중, R10 및 R11은 각각 유기기이며, p는 0~4의 정수이고, R10 및 R11이 벤젠환상의 인접하는 위치에 존재하는 경우, R10과 R11이 서로 결합해 환을 형성해도 되고, q는 1~8의 정수이며, r은 1~5의 정수이고, s는 0~(r+3)의 정수이며, R12는 알킬기이다.)(Wherein (R2-1) and (R2-2), R 10 and R 11 are each an organic group, p is an integer of 0 ~ 4, R 10 and R 11 are present in the adjacent position of the benzene ring case, R 10 and R 11, and form a ring by combining to each other, q is an integer of 1 ~ 8, r is an integer of 1 ~ 5, s is an integer of 0 ~ (r + 3), R 12 is an alkyl group to be.)

식(R2-1) 중의 R10 및 R11에 대한 유기기의 예는 R2와 동일하다. R10으로서는 알킬기 또는 페닐기가 바람직하다. R10이 알킬기인 경우, 그 탄소 원자수는 1~10이 바람직하고, 1~5가 보다 바람직하며, 1~3이 특히 바람직하고, 1이 가장 바람직하다. 즉, R10은 메틸기인 것이 가장 바람직하다. R10과 R11이 결합해 환을 형성하는 경우, 상기 환은 방향족환이어도 되고, 지방족환이어도 된다. 식(R2-1)으로 나타내는 기로서, R10과 R11이 환을 형성하고 있는 기의 바람직한 예로서는 나프탈렌-1-일기나, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-5-일기 등을 들 수 있다. 상기 식(R2-1) 중, p는 0~4의 정수이며, 0 또는 1인 것이 바람직하고, 0인 것이 보다 바람직하다.An example of an organic group for R 10 and R 11 in the formula (R 2-1) is the same as R 2 . R 10 is preferably an alkyl group or a phenyl group. When R 10 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, particularly preferably 1 to 3, most preferably 1. That is, R 10 is most preferably a methyl group. When R 10 and R 11 are bonded to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. Preferable examples of the group represented by the formula (R2-1) in which R 10 and R 11 form a ring include a naphthalen-1-yl group, a 1,2,3,4-tetrahydronaphthalen-5- . In the formula (R2-1), p is an integer of 0 to 4, preferably 0 or 1, and more preferably 0.

상기 식(R2-2) 중, R12는 알킬기이다. 알킬기의 탄소 원자수는 1~10이 바람직하고, 1~5가 보다 바람직하며, 1~3이 특히 바람직하다. R12로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기 등이 바람직하게 예시되며, 이들 중에서도 메틸기인 것이 보다 바람직하다.In the formula (R2-2), R 12 is an alkyl group. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably from 1 to 10, more preferably from 1 to 5, and particularly preferably from 1 to 3. R 12 is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a butyl group, and among these, a methyl group is more preferable.

상기 식(R2-2) 중, r은 1~5의 정수이며, 1~3의 정수가 바람직하고, 1 또는 2가 보다 바람직하다. 상기 식(R2-2) 중, s는 0~(r+3)이고, 0~3의 정수가 바람직하고, 0~2의 정수가 보다 바람직하며, 0이 특히 바람직하다. 상기 식(R2-2) 중, q는 1~8의 정수이며, 1~5의 정수가 바람직하고, 1~3의 정수가 보다 바람직하고, 1 또는 2가 특히 바람직하다.In the formula (R2-2), r is an integer of 1 to 5, preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2. In the formula (R2-2), s is 0 to (r + 3), preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0. In the formula (R2-2), q is an integer of 1 to 8, preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 3, and particularly preferably 1 or 2.

식(a-1) 중, R3은 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1~11의 알킬기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이다. R3이 알킬기인 경우에 가져도 되는 치환기로서는 페닐기, 나프틸기 등이 바람직하게 예시된다. 또, R3이 아릴기인 경우에 가져도 되는 치환기로서는 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 등이 바람직하게 예시된다.In the formula (a-1), R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. As the substituent which R 3 may be an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group and the like are preferably exemplified. The substituent which may be taken when R 3 is an aryl group is preferably an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms.

식(a-1) 중, R3로서는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 페닐기, 벤질기, 메틸페닐기, 나프틸기 등이 바람직하게 예시되며, 이들 중에서도 메틸기 또는 페닐기가 보다 바람직하다.In the formula (a-1), R 3 is preferably hydrogen, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, phenyl, benzyl, Among them, a methyl group or a phenyl group is more preferable.

식(a-2) 중, R4는 수소 원자, 니트로기 또는 1가의 유기기이다. R4는 식(a-2) 중의 플루오렌환상에서, 식(a-1) 중의 -(CO)m-로 나타내는 기에 결합하는 6원 방향환과는 상이한 6원 방향환에 결합한다. 이 조건을 만족하는 한, 식(a-2) 중, R4의 플루오렌환에 대한 결합 위치는 특별히 한정되지 않는다. R4의 플루오렌환에 대한 결합 위치는 R1이 식(a-2)으로 나타내는 기인 식(a-1)으로 나타내는 화합물의 합성이 용이한 점 등에서, 플루오렌환 중의 2위치인 것이 바람직하다.In the formula (a-2), R 4 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group. R 4 bonds to a 6-membered aromatic ring different from a 6-membered aromatic ring bonded to a group represented by - (CO) m - in formula (a-1) on a fluorene ring in formula (a-2). As long as this condition is satisfied, the bonding position of R 4 to the fluorene ring in the formula (a-2) is not particularly limited. Binding to the fluorene ring of the R 4 position is R 1 is preferably formula (a-2) a group formula (a-1) as shown in, etc. that the synthesis is easy of compounds, two of the fluorene ring position shown .

R4가 유기기인 경우, R4는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지 유기기로부터 적절히 선택된다. R4가 유기기인 경우의 바람직한 예로서는 R2와 동일하게, 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 알콕시카르보닐기, 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴카르보닐기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기 등을 들 수 있다. 이들 기의 구체예는 R2에 대해 설명한 것과 동일하다.When R &lt; 4 &gt; is an organic group, R &lt; 4 &gt; is not particularly limited within the range not impairing the object of the present invention, and is appropriately selected from various organic groups. R 4 a preferable example equal to, alkyl, alkoxy, cycloalkyl, cycloalkoxy, and R 2 in the case organic group group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, a phenyl group which may have a substituent, a substituent A phenoxy group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a benzoyloxy group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, A naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoylcarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, A heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, an amino group substituted by an organic group of 1 or 2, a morpholine-1 -Yl group, and a piperazin-1-yl group. Specific examples of these groups are the same as those described for R &lt; 2 & gt ;.

이상 설명한 기 중에서도, R4로서는 니트로기, 또는 R13-CO-로 나타내는 기이면, 감도가 향상되는 경향이 있어 바람직하다. R13은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지 유기기로부터 선택할 수 있다. R13으로서 바람직한 기의 예로서는 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴기를 들 수 있다. R13으로서 이들 기 중에서는 2-메틸페닐기, 티오펜-2-일기, 및 α-나프틸기가 특히 바람직하다. Among the groups described above, R 4 is preferably a nitro group or a group represented by R 13 -CO- because sensitivity tends to be improved. R &lt; 13 &gt; is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and R &lt; 13 &gt; Examples of a preferable group as R 13 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a heterocyclyl group which may have a substituent. As R 13 , among these groups, a 2-methylphenyl group, a thiophen-2-yl group and an a-naphthyl group are particularly preferable.

또, R4가 수소 원자이면, 투명성이 양호해지는 경향이 있어 바람직하다. 또한 R4가 수소 원자이고, 또한 R2가 전술한 (R2-2)이면 투명성은 보다 양호해지는 경향이 있다.When R 4 is a hydrogen atom, transparency tends to be good, which is preferable. Further, when R 4 is a hydrogen atom and R 2 is the above-mentioned (R 2 - 2 ), the transparency tends to be better.

식(a-1) 중, R5 및 R6은 각각 쇄상 알킬기, 환상 탄화수소기, 또는 헤테로아릴기이다. 이들 기 중에서는 R5 및 R6로서 쇄상 알킬기가 바람직하다.In the formula (a-1), R 5 and R 6 are each a straight chain alkyl group, a cyclic hydrocarbon group or a heteroaryl group. Of these groups, R 5 and R 6 are preferably chain alkyl groups.

R5 및 R6이 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기는 직쇄 알킬기여도 분기쇄 알킬기여도 된다. R5 및 R6이 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기의 탄소 원자수는 1~20이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하다. R5 및 R6이 쇄상 알킬기인 경우의 구체예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, R5 및 R6이 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 쇄상 알킬기의 예로서는 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기, 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.When R 5 and R 6 are a straight chain alkyl group, the straight chain alkyl group may be a straight chain alkyl group or a branched chain alkyl group. When R 5 and R 6 are a straight chain alkyl group, the number of carbon atoms of the straight chain alkyl group is preferably from 1 to 20, more preferably from 1 to 6. Specific examples of R 5 and R 6 as the chain alkyl group include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec- N-hexyl, n-heptyl, n-octyl, isooctyl, sec-octyl, tert-octyl, n-nonyl, isononyl , n-decyl group, and isodecyl group. When R 5 and R 6 are a straight chain alkyl group, the straight chain alkyl group may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of the straight chain alkyl group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethyl, ethoxyethyl, methoxyethoxyethyl, ethoxyethoxyethyl, propyloxyethoxyethyl and methoxypropyl groups.

R5 및 R6이 환상 탄화수소기인 경우, 환상 탄화수소기는 지방족 환상 탄화수소기여도, 방향족 환상 탄화수소기여도 된다.When R 5 and R 6 are cyclic hydrocarbon groups, the cyclic hydrocarbon group may be an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic cyclic hydrocarbon group.

R5 및 R6이 방향족 환상 탄화수소기인 경우, 방향족 환상 탄화수소기는 페닐기이거나, 복수의 벤젠환이 탄소-탄소 결합을 통해서 결합해 형성되는 기이거나, 복수의 벤젠환이 축합해 형성되는 기인 것이 바람직하다. 방향족 환상 탄화수소기가 페닐기이거나, 복수의 벤젠환이 결합 또는 축합해 형성되는 기인 경우, 방향족 환상 탄화수소기에 포함되는 벤젠환의 환수는 특별히 한정되지 않고, 3 이하가 바람직하며, 2 이하가 보다 바람직하고, 1이 특히 바람직하다. 방향족 환상 탄화수소기의 바람직한 구체예로서는 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 안트릴기, 및 페난트릴기 등을 들 수 있다.When R 5 and R 6 are an aromatic cyclic hydrocarbon group, the aromatic cyclic hydrocarbon group may be a phenyl group, or a group formed by bonding a plurality of benzene rings through a carbon-carbon bond, or a group in which a plurality of benzene rings are condensed to form. In the case where the aromatic cyclic hydrocarbon group is a phenyl group or a group in which a plurality of benzene rings are formed by bonding or condensation, the number of the ring of the benzene ring contained in the aromatic cyclic hydrocarbon group is not particularly limited and is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, Particularly preferred. Preferable specific examples of the aromatic cyclic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.

R5 및 R6이 지방족 환상 탄화수소기인 경우, 지방족 환상 탄화수소기는 단환식이어도 다환식이어도 된다. 지방족 환상 탄화수소기의 탄소 원자수는 특별히 한정되지 않지만, 3~20이 바람직하고, 3~10이 보다 바람직하다. 단환식의 환상 탄화수소기의 예로서는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 노르보르닐기, 이소보닐기, 트리시클로노닐기, 트리시클로데실기, 테트라시클로도데실기, 및 아다만틸기 등을 들 수 있다.When R 5 and R 6 are aliphatic cyclic hydrocarbon groups, aliphatic cyclic hydrocarbon groups may be monocyclic or polycyclic. The number of carbon atoms of the aliphatic cyclic hydrocarbon group is not particularly limited, but is preferably 3 to 20, more preferably 3 to 10. Examples of the monocyclic cyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, an isobonyl group, a tricyclodecyl group, Tetradecyldodecyl group, adamantyl group, and the like.

R5 및 R6이 헤테로아릴기인 경우, 헤테로아릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이거나, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로아릴기이다. 헤테로아릴기가 축합환인 경우에는 환수 3까지인 것으로 한다. 이러한 헤테로아릴기를 구성하는 복소환으로서는 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 시놀린, 및 퀴녹살린 등을 들 수 있다.When R 5 and R 6 are a heteroaryl group, the heteroaryl group is a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing one or more N, S or O, or a heteroaryl group in which these monocyclic rings and condensed benzene rings are condensed. When the heteroaryl group is a condensed ring, it is assumed to be up to 3. Examples of the heterocycle constituting the heteroaryl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, Benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, benzothiazole, benzothiazole, , Syninorine, and quinoxaline.

R5와 R6은 서로 결합해 스피로환을 형성해도 된다. R5와 R6이 형성하는 스피로환으로 이루어지는 기는 시클로알킬리덴기인 것이 바람직하다. R5와 R6이 결합해 시클로알킬리덴기를 형성하는 경우, 시클로알킬리덴기를 구성하는 스피로환은 5원환~6원환인 것이 바람직하고, 5원환인 것이 보다 바람직하다.R 5 and R 6 may combine with each other to form a spiro ring. The group consisting of spiro rings formed by R 5 and R 6 is preferably a cycloalkylidene group. When R 5 and R 6 combine to form a cycloalkylidene group, the spiro ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5-membered to 6-membered ring, more preferably a 5-membered ring.

R5와 R6이 결합해 형성하는 기가 시클로알킬리덴기인 경우, 시클로알킬리덴기는 1 이상의 다른 환과 축합하고 있어도 된다. 시클로알킬리덴기와 축합하고 있어도 되는 환의 예로서는 벤젠환, 나프탈렌환, 시클로부탄환, 시클로펜탄환, 시클로헥산환, 시클로헵탄환, 시클로옥탄환, 푸란환, 티오펜환, 피롤환, 피리딘환, 피라진환, 및 피리미딘환 등을 들 수 있다.When the group formed by combining R 5 and R 6 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings. Examples of the ring which may be condensed with a cycloalkylidene group include a benzene ring, a naphthalene ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclooctane ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, And pyrimidine rings, and the like.

R7이 유기기인 경우, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 여러 가지 유기기로부터 선택할 수 있다. R7이 유기기인 경우의 바람직한 예로서는 탄소수 1~6의 알킬기; 탄소수 1~6의 알콕시기; 탄소수 2~7의 포화 지방족 아실기; 탄소수 2~7의 알콕시카르보닐기; 탄소수 2~7의 포화 지방족 아실옥시기; 페닐기; 나프틸기; 벤조일기; 나프토일기; 탄소수 1~6의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 및 페닐기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기; 탄소수 1~6의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기; 탄소수 1~6의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기; 모르폴린-1-일기; 피페라진-1-일기; 할로겐; 니트로기; 시아노기를 들 수 있다.When R &lt; 7 &gt; is an organic group, various organic groups can be selected within the range not hindering the object of the present invention. Preferable examples of the organic group when R 7 is an alkyl group include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; A saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; A saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; A phenyl group; Naphthyl group; Benzoyl group; A naphthoyl group; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; A monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; Morpholin-1-yl group; Piperazin-1-yl group; halogen; A nitro group; And cyano group.

R7 중에서는 벤조일기; 나프토일기; 탄소수 1~6의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 및 페닐기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기; 니트로기가 바람직하고, 벤조일기; 나프토일기; 2-메틸페닐카르보닐기; 4-(피페라진-1-일)페닐카르보닐기; 4-(페닐)페닐카르보닐기가 보다 바람직하다.R 7 is a benzoyl group; A naphthoyl group; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; A nitro group is preferable, a benzoyl group; A naphthoyl group; A 2-methylphenylcarbonyl group; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl group; And a 4- (phenyl) phenylcarbonyl group is more preferable.

또, n은 0~3의 정수가 바람직하고, 0~2의 정수가 보다 바람직하며, 0 또는 1인 것이 특히 바람직하다. n이 1인 경우, R7의 결합하는 위치는 R7이 결합하는 페닐기가 원자 A와 결합하는 결합손에 대해서, 파라 위치인 것이 바람직하다.N is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1. when n is 1, the binding position of R 7 is a phenyl group for bonding hands binding with the atom to which A is bonded R 7, preferably in the para position.

A는 S인 것이 바람직하다.A is preferably S.

R8은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 여러 가지 유기기로부터 선택할 수 있다. R8의 바람직한 예로서는 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 3~10의 시클로알킬기, 탄소수 2~20의 포화 지방족 아실기, 탄소수 2~20의 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 7~20의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 11~20의 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시크릴카르보닐기 등을 들 수 있다.R 8 may be selected from a variety of organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples of R 8 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, A phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent , A naphthylalkyl group having a carbon number of 11 to 20 which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent.

R8 중에서는 탄소수 1~20의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~6의 알킬기가 보다 바람직하며, 에틸기가 특히 바람직하다.R 8 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably an ethyl group.

R7 또는 R8에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우의 치환기로서는 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 탄소수 2~7의 포화 지방족 아실기, 탄소수 2~7의 알콕시카르보닐기, 탄소수 2~7의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소수 1~6의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기, 탄소수 1~6의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다. R7 또는 R8에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1~4가 바람직하다. R7 또는 R8에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시크릴기가 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.When the phenyl group, naphthyl group and heterocyclyl group contained in R 7 or R 8 have a substituent further, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a saturated aliphatic group having 2 to 7 carbon atoms An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, A piperazine-1-yl group, a halogen atom, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in R 7 or R 8 further have a substituent, the number of the substituent is not limited to the extent that the object of the present invention is not impaired, but is preferably 1 to 4 . When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 7 or R 8 have plural substituents, plural substituents may be the same or different.

R9는 R4와 동일하다.R 9 is the same as R 4 .

식(a-1)으로 나타내는 화합물은 m이 0인 경우, 예를 들면 하기 스킴 1에 따라 합성할 수 있다. 스킴 1에서는 하기 식(1-1)으로 나타내는 화합물을 원료로서 이용한다. 예를 들면, R1이 식(a-2)으로 나타내는 기인 경우, 스킴 1에서는 하기 식(1-1-1)으로 나타내는 플루오렌 유도체를 원료로서 이용한다. R4가 니트로기 또는 1가의 유기기인 경우, 식(1-1-1)으로 나타내는 플루오렌 유도체는 9위치가 R5 및 R6로 치환된 플루오렌 유도체에, 주지의 방법에 의해서, 치환기 R4를 도입해 얻을 수 있다. 9위치가 R4 및 R5로 치환된 플루오렌 유도체는, 예를 들면 R4 및 R5가 알킬기인 경우, 일본 특개 평06-234668호 공보에 기재된 바와 같이, 알칼리 금속 수산화물의 존재 하에, 비프로톤성 극성 유기용매 중에서, 플루오렌과 알킬화제를 반응시켜 얻을 수 있다. 또, 플루오렌의 유기용매 용액 중에, 할로겐화 알킬과 같은 알킬화제와, 알칼리 금속 수산화물의 수용액과, 요오드화 테트라부틸암모늄이나 칼륨tert-부톡시드와 같은 상간 이동 촉매를 첨가해 알킬화 반응을 실시함으로써, 9,9-알킬치환플루오렌을 얻을 수 있다.The compound represented by the formula (a-1) can be synthesized according to the following Scheme 1 when m is 0, for example. In Scheme 1, a compound represented by the following formula (1-1) is used as a raw material. For example, when R 1 is a group represented by formula (a-2), a fluorene derivative represented by the following formula (1-1-1) is used as a raw material in scheme 1. When R 4 is a nitro group or a monovalent organic group, the fluorene derivative represented by the formula (1-1-1) is reacted with a fluorene derivative substituted at the 9-position with R 5 and R 6 by a known method to obtain a substituent R 4 can be obtained. 9 where the fluorene derivative is substituted by R 4 and R 5 is, for example, R 4, and if R 5 is an alkyl group, under the presence of an alkali metal hydroxide, as described in Japanese Patent Laid-Open No. Hei-06-234668, non- Can be obtained by reacting fluorene with an alkylating agent in a protonic polar organic solvent. An alkylation reaction such as an alkyl halide such as an alkyl halide, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide and an interphase transfer catalyst such as tetrabutylammonium iodide or potassium tert-butoxide iodide is added to an organic solvent solution of fluorene, 9-alkyl substituted fluorene can be obtained.

식(1-1)으로 나타내는 화합물을 식(1-2)으로 나타내는 할로카르보닐 화합물을 이용하고, 플리델 크라프트 반응에 의해 아실화하여 식(1-3)으로 나타내는 케톤 화합물이 얻어진다. 식(1-2) 중, Hal은 할로겐 원자이다. R1 중에 포함되는 방향환상의 식(1-2)으로 나타내는 화합물에 의해 아실화되는 위치는 플리델 크라프트 반응의 조건을 적절히 변경하거나 상기 방향환상의 식(1-2)으로 나타내는 화합물에 의해 아실화되는 위치의 다른 위치에 보호 및 탈보호를 실시하거나 하는 방법에서 선택할 수 있다.The ketone compound represented by the formula (1-3) is obtained by acylating the compound represented by the formula (1-1) with a halocarbonyl compound represented by the formula (1-2) by the Friedel-Craft reaction. In the formula (1-2), Hal is a halogen atom. The position to be acylated by the compound represented by the formula (1-2) in the aromatic ring contained in R 1 can be appropriately changed by the conditions of the Friedel-Craft reaction or by the compound represented by the formula (1-2) Or a method of performing protection and deprotection at another position of the position where the misfire occurs.

그 다음에, 얻어지는 식(1-3)으로 나타내는 케톤 화합물을 히드록실 아민에 의해 옥심화해 하기 식(1-4)으로 나타내는 옥심 화합물을 얻는다. 식(1-4)의 옥심 화합물과, 하기 식(1-5)으로 나타내는 산무수물((R3CO)2O), 또는 하기 식(1-6)으로 나타내는 산할라이드(R3COHal, Hal은 할로겐 원자)를 반응시켜 하기 식(1-7)으로 나타내는 화합물을 얻을 수 있다.Next, an oxime compound represented by the formula (1-4) is obtained by oxytizing the ketone compound represented by the formula (1-3) to be obtained with hydroxylamine. An oxime compound of the formula (1-4) and an acid anhydride ((R 3 CO) 2 O) represented by the following formula (1-5) or an acid halide (R 3 COHal, Hal Is a halogen atom) to obtain a compound represented by the following formula (1-7).

또한 식(1-1), (1-2), (1-3), (1-4), (1-5), (1-6), (1-7), 및 (1-1-1)에서, R1, R2, R3, R4, R5, 및 R6은 식(a-1)과 동일하다.(1-1), (1-2), (1-3), (1-4), (1-5), (1-6), (1-7) 1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 are the same as in formula (a-1).

<스킴 1><Scheme 1>

[화 6][6]

Figure pat00006
Figure pat00006

식(a-1)으로 나타내는 화합물은 m이 1인 경우, 예를 들면 하기 스킴 2에 따라 합성할 수 있다. 스킴 2에서는 하기 식(2-1)으로 나타내는 화합물을 원료로서 이용한다. 식(2-1)으로 나타내는 화합물은 스킴 1과 동일한 방법에 의해서, 식(1-1)으로 나타내는 화합물을 플리델 크라프트 반응에 의해서 아실화해 얻어진다. 식(2-1)으로 나타내는 화합물에, 염산의 존재 하에 하기 식(2-2)으로 나타내는 아질산에스테르(RONO, R은 탄소수 1~6의 알킬기)를 반응시켜 하기 식(2-3)으로 나타내는 케토옥심 화합물을 얻는다. 그 다음에, 하기 식(2-3)으로 나타내는 케토옥심 화합물과, 하기 식(2-4)으로 나타내는 산무수물((R3CO)2O), 또는 하기 식(2-5)으로 나타내는 산할라이드(R3COHal, Hal은 할로겐 원자)를 반응시켜 하기 식(2-6)으로 나타내는 화합물을 얻을 수 있다. 또한 하기 식(2-1), (2-3), (2-4), (2-5), 및 (2-6)에서, R1, R2, 및 R3은 식(a-1)과 동일하다. The compound represented by the formula (a-1) can be synthesized according to the following scheme 2 when m is 1, for example. In Scheme 2, a compound represented by the following formula (2-1) is used as a raw material. The compound represented by the formula (2-1) can be obtained by acylation of the compound represented by the formula (1-1) by the Friedel-Craft reaction in the same manner as scheme 1. A nitrite ester (RONO, R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) represented by the following formula (2-2) is reacted with a compound represented by the formula (2-1) in the presence of hydrochloric acid to prepare a compound represented by the following formula To obtain a keto oxime compound. Next, a ketooxime compound represented by the following formula (2-3), an acid anhydride ((R 3 CO) 2 O) represented by the following formula (2-4) (R 3 COHal, Hal is a halogen atom) to obtain a compound represented by the following formula (2-6). In addition, the following formula (2-1), (2-3), (2-4), (2-5) and (2-6) in a, R 1, R 2, and R 3 is the formula (a-1 ).

m이 1인 경우, 식(a-1)으로 나타내는 화합물을 함유하는 경화성 조성물을 이용해 형성되는 경화물 중에서의 이물의 발생을 보다 저감할 수 있는 경향이 있다.When m is 1, the generation of foreign matters in the cured product formed by using the curable composition containing the compound represented by the formula (a-1) tends to be further reduced.

<스킴 2><Scheme 2>

[화 7][Figure 7]

Figure pat00007
Figure pat00007

식(a-1)으로 나타내는 화합물의 바람직한 구체예로서는 이하의 화합물을 들 수 있다.Specific preferred examples of the compound represented by the formula (a-1) include the following compounds.

[화 8][Figure 8]

Figure pat00008
Figure pat00008

[화 9][Figure 9]

Figure pat00009
Figure pat00009

[화 10][10]

Figure pat00010
Figure pat00010

[화 11][Figure 11]

Figure pat00011
Figure pat00011

[화 12][Figure 12]

Figure pat00012
Figure pat00012

[화 13][Figure 13]

Figure pat00013
Figure pat00013

[화 14][14]

Figure pat00014
Figure pat00014

(A) 광중합 개시제의 함유량은 경화성 조성물의 고형분의 합계 100중량부에 대해서, 바람직하게는 0.1~90중량부이며, 보다 바람직하게는 1~80중량부이다. (A) 광중합 개시제의 함유량이 상기 범위이면, 본 발명에 관한 경화성 조성물은 보다 감도가 뛰어난 것이 되기 쉽다.The content of the photopolymerization initiator (A) is preferably 0.1 to 90 parts by weight, and more preferably 1 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total solid content of the curable composition. When the content of the photopolymerization initiator (A) is within the above range, the curable composition of the present invention tends to be more excellent in sensitivity.

<(B) 다관능 아크릴레이트 화합물><(B) Polyfunctional acrylate compound>

(B) 다관능 아크릴레이트 화합물로서는 실록산 결합, 방향환 및 가교 포화환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 한, 특별히 한정되지 않는다. (B) 다관능 아크릴레이트 화합물은 본 발명에 관한 경화성 조성물로부터 얻어지는 하드 코트층의 굴곡성, 인성, 및 표면 경도의 향상에 기여한다. (B) 다관능 아크릴레이트 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다. (B) 다관능 아크릴레이트 화합물은 저분자 화합물이어도, 특정한 반복 단위를 가지는 올리고머 및/또는 폴리머여도, 이들 조합이어도 된다.The polyfunctional acrylate compound (B) is not particularly limited as long as it contains at least one member selected from the group consisting of a siloxane bond, an aromatic ring and a crosslinking ring. The polyfunctional acrylate compound (B) contributes to the improvement of the bendability, toughness and surface hardness of the hard coat layer obtained from the curable composition of the present invention. (B) polyfunctional acrylate compounds may be used alone or in combination of two or more. The polyfunctional acrylate compound (B) may be a low molecular compound, an oligomer and / or polymer having a specific repeating unit, or a combination thereof.

(B) 다관능 아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들면 실록산 결합 함유 다관능 아크릴레이트 화합물을 포함하는 것; 방향환 및 가교 포화환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 다관능 아크릴레이트 화합물을 포함하는 것을 들 수 있고, 얻어지는 하드 코트층의 특성이 향상되기 쉬운 점에서, 실록산 결합 함유 다관능 아크릴레이트 화합물과, 방향환 및 가교 포화환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 다관능 아크릴레이트 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.Examples of the polyfunctional acrylate compound (B) include those containing a siloxane bond-containing polyfunctional acrylate compound; Aromatic rings and cross-linking rings, and from the viewpoint of improving the properties of the obtained hard coat layer, it is preferable that the siloxane bond-containing polyfunctional acrylate A polyfunctional acrylate compound containing at least one member selected from the group consisting of an aromatic compound, an aromatic compound, and an aromatic ring and a crosslinking ring.

[실록산 결합 함유 다관능 아크릴레이트 화합물][Siloxane bond-containing polyfunctional acrylate compound]

실록산 결합 함유 다관능 아크릴레이트 화합물은 얻어지는 하드 코트층의 굴곡성 향상이나 경화 수축 억제(컬성 저감)의 효과에 대한 기여는 크지 않기는 하지만, 상기 하드 코트층의 표면 경도 상승에는 크게 기여한다. 실록산 결합 함유 다관능 아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들면 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물을 들 수 있다. 특히, 얻어지는 하드 코트층의 표면 경도가 보다 향상되기 쉬운 점에서, 상기 폴리실세스퀴옥산 화합물로서는 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 포함하는 바구니형의 폴리실세스퀴옥산 화합물이 바람직하다.The siloxane bond-containing polyfunctional acrylate compound largely contributes to the increase in the surface hardness of the hard coat layer, though it does not contribute to the improvement of the bending property of the obtained hard coat layer or the effect of the suppression of shrinkage shrinkage (curl reduction). Examples of the siloxane bond-containing polyfunctional acrylate compound include a polysilsesquioxane compound containing two or more (meth) acryloyl groups. Particularly, as the polysilsesquioxane compound, a cage-shaped polysilsesquioxane compound containing two or more (meth) acryloyl groups is preferable in that the surface hardness of the obtained hard coat layer is more easily improved.

상기 폴리실세스퀴옥산 화합물로서는, 예를 들면 하기 식:Examples of the polysilsesquioxane compound include compounds represented by the following formulas:

[RSiO3 / 2]n [RSiO 3/2] n

(식 중, R은 독립적으로 (메타)아크릴로일기 또는 카르복실기 함유기이며, n은 8, 10, 12, 또는 14이고, 단 2개 이상의 R이 (메타)아크릴로일기이다.)로 나타내는 바구니형 폴리실세스퀴옥산을 들 수 있다.(Wherein R is independently a (meth) acryloyl group or a carboxyl group-containing group, n is 8, 10, 12 or 14, and at least two R are (meth) acryloyl groups. Type polysilsesquioxane.

상기 카르복실기 함유기로서는, 예를 들면 -X-B-Y-COOH로 나타내는 1가기를 들 수 있다. Examples of the carboxyl group-containing group include monovalent groups represented by -X-B-Y-COOH.

상기 X는 단결합, 탄소수 1~6의 알킬렌기, 알릴렌기 또는 -R5-NH-R6-(식 중, R5 및 R6은 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다. R5와 R6은 동일해도 되고, 상이해도 된다.)을 나타내고, Y는 방향족환기 또는 지환기로부터 2개의 환 탄소 원자의 각각 1개의 수소 원자를 제거함으로써 생성되는 2가의 기 또는 분기쇄 및/혹은 이중 결합을 가지고 있어도 되는 탄소수 1~4의 2가의 알킬렌기를 나타내며, B는 -NHCO- 또는 -CONH-를 나타낸다. 다만, X 및/또는 Y는 (메타)아크릴기, 비닐기 및 에폭시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 기를 치환기로서 가지고 있어도 된다.Wherein X is a single bond, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an allylene group or -R5-NH-R6- (wherein R5 and R6 represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, Y represents a divalent group formed by removing one hydrogen atom from each of two ring carbon atoms from an aromatic ring group or a divalent group, or a divalent group which may have a branched chain and / or double bond, 4, and B represents -NHCO- or -CONH-. However, X and / or Y may have at least one group selected from the group consisting of a (meth) acrylic group, a vinyl group and an epoxy group as a substituent.

상기 X에서의 탄소수 1~6의 알킬렌기로서는 구체적으로는, 예를 들면 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기 등을 들 수 있다. 상기 X에서의 알릴렌기로서는 탄소수 6~10인 것이 바람직하다. 이와 같은 것으로서는, 예를 들면 페닐렌기(오르토, 메타 또는 파라 등), 나프틸렌기(1,4-, 1,5-, 2,6- 등) 등을 들 수 있다. 상기 X에서의 -R5-NH-R6-로서는 구체적으로는, 예를 들면 -CH2-NH-CH2-, -(CH2)2-NH-(CH2)2-, -(CH2)3-NH-(CH2)3-, -CH2-NH-(CH2)2-, -(CH2)2-NH-CH2-, -(CH2)2-NH-(CH2)3-, -(CH2)3-NH-(CH2)2-, -CH2-NH-(CH2)3-, -(CH2)3-NH-CH2- 등을 들 수 있다.Examples of the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms for X include a methylene group, an ethylene group, a propylene group and a butylene group. The allylene group in X preferably has 6 to 10 carbon atoms. Examples of such groups include a phenylene group (ortho, meta or para), a naphthylene group (1,4-, 1,5-, 2,6- or the like), and the like. Specifically, as the -R5-NH-R6- in said X is, for example, -CH 2 -NH-CH 2 -, - (CH2) 2 -NH- (CH 2) 2 -, - (CH 2) 3 -NH- (CH 2) 3 -, -CH 2 -NH- (CH 2) 2 -, - (CH 2) 2 -NH-CH 2 -, - (CH 2) 2 -NH- (CH 2) 3 -, - (CH 2 ) 3 -NH- (CH 2 ) 2 -, -CH 2 -NH- (CH 2 ) 3 -, - (CH 2 ) 3 -NH-CH 2 - and the like.

상기 Y에서의 방향족환으로서는 탄소수 1~2의 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~10의 방향환(예를 들면, 벤젠환, 나프탈렌환, 톨릴기, 크실릴기 등)을 들 수 있다. 상기 Y에서의 지환으로서는 탄소수 5~10의 지환(예를 들면, 단환 시클로알킬기, 단환 시클로알케닐기, 2환식 알킬기, 바구니형 알킬기 등을 들 수 있고, 구체적으로는, 예를 들면 시클로펜탄환, 시클로헥산환, 시클로헵탄환, 시클로옥탄환, 시클로노난환, 시클로데칸환, 디시클로펜타디엔환, 노르보르난환, 노르보르넨환, 큐베인환, 바스케테인환 등)을 들 수 있다. 상기 Y에서의 분기쇄 및/혹은 이중 결합을 가지고 있어도 되는 탄소수 1~4의 알킬렌기로서는 구체적으로는, 예를 들면 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 비닐렌기, (2-옥테닐)에틸렌기, (2,4,6-트리메틸-2-노네닐)에틸렌기 등의 알킬렌기, 이중 결합을 가지는 알킬렌기 또는 탄소수 1~9의 분기쇄를 가지는 알킬렌기를 들 수 있다.Examples of the aromatic ring in Y include aromatic rings having 6 to 10 carbon atoms (for example, benzene ring, naphthalene ring, tolyl group, xylyl group, etc.) which may have a substituent having 1 to 2 carbon atoms. Examples of the aliphatic ring in Y include an alicyclic group having 5 to 10 carbon atoms (e.g., a monocyclic cycloalkyl group, a monocyclic cycloalkenyl group, a bicyclic alkyl group, a cage-type alkyl group and the like, and specific examples thereof include a cyclopentane ring, Cyclobutane ring, cycloheptane ring, cycloheptane ring, cyclooctane ring, cyclononane ring, cyclodecane ring, dicyclopentadiene ring, norbornane ring, norbornene ring, quercetin ring, and busket ring). Examples of the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms which may have a branched chain and / or a double bond in Y include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a vinylene group, a (2-octenyl) ethylene group , And (2,4,6-trimethyl-2-nonenyl) ethylene group, an alkylene group having a double bond or an alkylene group having a branched chain having 1 to 9 carbon atoms.

[방향환 및 가교 포화환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 다관능 아크릴레이트 화합물] [A polyfunctional acrylate compound containing at least one member selected from the group consisting of aromatic rings and crosslinked phthalocyanines]

방향환 및 가교 포화환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 다관능 아크릴레이트 화합물은 얻어지는 하드 코트층의 표면 경도 상승의 효과에 대한 기여는 중간 정도이지만, 방향환 및/또는 가교 포화환이라는 강직한 부분 골격과 알킬렌기(예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기 등), 에테르 결합, 및/또는 우레탄 결합 등의 유연한 부분 골격의 상승적인 작용에 의해, 상기 하드 코트층의 굴곡성 향상이나 경화 수축 억제(컬성 저감)에 크게 기여한다.A multifunctional acrylate compound containing at least one member selected from the group consisting of an aromatic ring and a crosslinked phthalocyanine ring has a medium contribution to the effect of increasing the surface hardness of the obtained hard coat layer, And a flexible partial skeleton such as an alkylene group (e.g., a methylene group, an ethylene group or the like), an ether bond, and / or a urethane bond in order to improve the flexibility of the hard coat layer, This contributes greatly to suppression of shrinkage (curl reduction).

방향환으로서는, 예를 들면 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환, 페난트렌환, 플루오렌환, 푸란환, 피롤환, 이미다졸환, 티오펜환, 포스폴환, 피라졸환, 옥사졸환, 이소옥사졸환, 티아졸환, 피리딘환, 피라진환, 피리미딘환, 피리다진환, 트리아진환, 테트라진환, 벤조푸란환, 이소벤조푸란환, 인돌환, 이소인돌환, 벤조티오펜환, 벤조포스폴환, 벤조이미다졸환, 푸린환, 인다졸환, 벤조옥사졸환, 벤조이소옥사졸환, 벤조티아졸환, 퀴놀린환, 이소퀴놀린환, 퀴녹살린환, 퀴나졸린환, 시놀린환, 이소시아누레이트환 등을 들 수 있고, 얻어지는 하드 코트층의 굴곡성, 내(耐)컬성 등의 관점에서, 이소시아누레이트환, 플루오렌환, 및 트리아진환이 바람직하다.Examples of the aromatic ring include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a fluorene ring, a furan ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a thiophen ring, a phosphone ring, a pyrazole ring, , Thiazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazin ring, triazine ring, tetrazine ring, benzofuran ring, isobenzofuran ring, indole ring, isoindole ring, benzothiophen ring, Benzoxazole ring, benzothioxazole ring, benzothiazole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinoxaline ring, quinazoline ring, cininoline ring, isocyanurate ring and the like are exemplified as the imidazole ring, purine ring, indazole ring, benzoxazole ring, And isocyanurate ring, fluorene ring, and triazine ring are preferable from the viewpoints of flexural strength, anti-curl property and the like of the obtained hard coat layer.

가교 포화환으로서는, 예를 들면 노르보르난환, 이소보르난환, 아다만탄환, 트리시클로데칸환, 테트라시클로도데칸환 등을 들 수 있고, 얻어지는 하드 코트층의 굴곡성, 내컬성 등의 관점에서, 트리시클로데칸환이 바람직하다.Examples of the bridged tetrahydric rings include a norbornane ring, an isoboronic ring, an adamantane ring, a tricyclodecane ring, a tetracyclododecane ring, and the like. From the viewpoints of flexibility, Tricyclodecane ring is preferable.

(B) 다관능 아크릴레이트 화합물의 함유량은 경화성 조성물의 고형분의 합계 100중량부에 대해서, 바람직하게는 10~99.9중량부이며, 보다 바람직하게는 20~99중량부이다. (B) 다관능 아크릴레이트 화합물의 함유량이 상기 범위이면, 본 발명에 관한 경화성 조성물로부터 얻어지는 하드 코트층은 더욱 뛰어난 굴곡성, 인성, 및 표면 경도를 가지는 것이 되기 쉽다.The content of the polyfunctional acrylate compound (B) is preferably 10 to 99.9 parts by weight, more preferably 20 to 99 parts by weight, per 100 parts by weight of the total solid content of the curable composition. If the content of the polyfunctional acrylate compound (B) is within the above range, the hard coat layer obtained from the curable composition of the present invention tends to have more excellent bendability, toughness and surface hardness.

<그 밖의 성분>&Lt; Other components &gt;

본 발명에 관한 경화성 조성물은 필요에 따라 각종 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 구체적으로는 용제, 증감제, 경화촉진제, 광가교제, 광증감제, 분산 조제, 충전제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제, 열중합 금지제, 소포제, 계면활성제 등이 예시된다.The curable composition according to the present invention may contain various additives as required. Specifically, examples thereof include a solvent, a sensitizer, a curing accelerator, a photo-crosslinking agent, a photosensitizer, a dispersing aid, a filler, an adhesion promoter, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an aggregation inhibitor, a thermal polymerization inhibitor, a defoaming agent and a surfactant.

본 발명에 관한 경화성 조성물에 사용되는 용제로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르류; 에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르아세테이트류; 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 다른 에테르류; 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵탄온, 3-헵탄온 등의 케톤류; 2-히드록시프로피온산메틸, 2-히드록시프로피온산에틸 등의 락트산알킬에스테르류; 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 히드록시아세트산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산에틸, 아세트산n-프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산이소부틸, 포름산n-펜틸, 아세트산이소펜틸, 프로피온산n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산n-프로필, 부티르산이소프로필, 부티르산n-부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산n-프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산에틸 등의 다른 에스테르류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있다. 이들 용제는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다.Examples of the solvent used in the curable composition of the present invention include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol Monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropyl Glycol monoethyl ether and (poly) alkylene glycol monoalkyl ether; (Poly) alkylene ethers such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate. Glycol monoalkyl ether acetates; Other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether and tetrahydrofuran; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone and 3-heptanone; Lactic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; Methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, Methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n- Butyl acetate, isobutyl acetate, isopentyl acetate, isopentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, isopropyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, Other esters such as methyl, ethyl acetoacetate and ethyl 2-oxobutanoate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; And amides such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide. These solvents may be used alone, or two or more solvents may be used in combination.

상기 용제 중에서도, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 3-메톡시부틸아세테이트는 상술한 (A) 성분 및 (B) 성분에 대해서 뛰어난 용해성을 나타내기 때문에 바람직하고, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트를 이용하는 것이 특히 바람직하다. 용제의 사용량은 경화성 조성물의 용도에 따라 적절히 결정하면 되지만, 일례로서 경화성 조성물의 고형분의 합계 100중량부에 대해서, 50~900중량부 정도를 들 수 있다. 본 발명에서, 용제를 사용하면, 막 두께의 컨트롤이 용이해지는 경향이 있다. 이 경향은 특히 박막화가 필요한 경우에 현저하다. 또, (B) 성분이 실온에서 고체인 경우에는 본 발명에서 용제를 이용하는 것이 바람직하다.Among these solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 3- Methoxybutyl acetate is preferred because it exhibits excellent solubility in the components (A) and (B), and propylene glycol monomethyl ether acetate and 3-methoxybutyl acetate are particularly preferred. The amount of the solvent to be used may be appropriately determined depending on the use of the curable composition, but is, for example, about 50 to 900 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the curable composition. In the present invention, the use of a solvent tends to facilitate control of the film thickness. This tendency is remarkable particularly when thinning is necessary. When the component (B) is a solid at room temperature, it is preferable to use a solvent in the present invention.

본 발명에 관한 경화성 조성물에 사용되는 열중합 금지제로서는, 예를 들면 히드로퀴논, 히드로퀴논모노에틸에테르 등을 들 수 있다. 또, 소포제로서는 실리콘계, 불소계 등의 화합물을, 계면활성제로서는 음이온계, 양이온계, 비이온 등의 화합물을, 각각 예시할 수 있다.Examples of the thermal polymerization inhibitor used in the curable composition according to the present invention include hydroquinone, hydroquinone monoethyl ether and the like. Examples of the antifoaming agent include silicon compounds and fluorine compounds, and surfactants include anionic compounds, cationic compounds, and nonionic compounds.

[경화성 조성물의 조제 방법][Method of preparing the curable composition]

본 발명에 관한 경화성 조성물은 상기의 각 성분을 모두 교반기로 혼합함으로써 조제된다. 또한 조제된 경화성 조성물이 충전제 등의 불용성의 성분을 포함하지 않는 경우, 경화성 조성물이 균일한 것이 되도록 필터를 이용해 여과해도 된다.The curable composition of the present invention is prepared by mixing all of the above components with a stirrer. When the prepared curable composition does not contain an insoluble component such as a filler, it may be filtered using a filter so that the curable composition is uniform.

≪경화물의 제조 방법≫&Lt; Process for producing cured product &

본 발명에 관한 경화물의 제조 방법은 본 발명에 관한 경화성 조성물을 이용해 경화성 조성물막을 형성하는 공정과, The method for producing a cured product according to the present invention comprises the steps of forming a curable composition film using the curable composition according to the present invention,

상기 경화성 조성물막을 노광하는 공정을 포함한다. 이 제조 방법으로 제조되는 경화물은 필요에 따라 패턴화되어 있어도 된다.And exposing the curable composition film. The cured product produced by this production method may be patterned as required.

본 발명에 관한 경화성 조성물을 이용해 경화성 조성물막을 형성하는 방법으로서는, 예를 들면 롤 코터, 리버스 코터, 바 코터 등의 접촉 전사형 도포 장치나 스피너(회전식 도포 장치), 커튼 플로우 코터 등의 비접촉형 도포 장치를 이용하여, 기판 위에 경화성 조성물을 도포하는 방법을 들 수 있다. 기판으로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 후술한 것을 들 수 있다.Examples of the method for forming the curable composition film using the curable composition according to the present invention include a non-contact type coating apparatus such as a contact transfer type coating apparatus such as a roll coater, a reverse coater and a bar coater, a spinner (rotary coating apparatus), a curtain flow coater A method of applying a curable composition on a substrate can be mentioned. The substrate is not particularly limited, and examples thereof may be mentioned below.

필요에 따라 형성된 상기 경화성 조성물막을 건조시켜도 된다. 건조 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 (1) 핫 플레이트에서, 예를 들면 80~120℃, 바람직하게는 90~100℃의 온도에서 60~120초간 건조시키는 방법, (2) 실온에서 수 시간 ~ 며칠간 방치하는 방법, (3) 온풍 히터나 적외선 히터 중에 수십분간 ~ 수 시간 넣어 건조시키는 방법 등을 들 수 있다.The curable composition film formed as needed may be dried. The drying method is not particularly limited and includes, for example, (1) a method of drying on a hot plate at a temperature of, for example, 80 to 120 ° C, preferably 90 to 100 ° C for 60 to 120 seconds, (2) (3) a method of putting in a hot air heater or an infrared heater for several minutes to several hours for drying.

그 다음에, 상기 경화성 조성물막에, 자외선, 엑시머 레이저광 등의 활성 에너지선을 조사해 노광한다. 노광은 예를 들면, 네거티브형의 마스크를 통해서 노광을 실시하는 방법 등에 의해, 위치 선택적으로 실시해도 되고, 전면 노광에 의해서 실시해도 된다. 전면(全面) 노광을 실시하는 경우에는, 예를 들면 경화성 조성물막이 형성된 필름 기재를 라인으로 권취하면서, 라인 공정 중에서, 상기 경화성 조성물막에 대해, 연속적으로 활성 에너지선의 조사를 실시해도 된다. 조사하는 에너지 선량은 경화성 조성물의 조성에 따라 상이하지만, 예를 들면 40~200mJ/cm2 정도가 바람직하다. 광원은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 고압 수은등, LED등을 들 수 있고, 에너지 절약이나 환경 부하 저감의 관점에서, LED가 바람직하다. LED에 의한 노광에서, 이용되는 파장으로서는, 예를 들면 365~405nm, 보다 구체적으로는 385nm, 395nm, 405nm 등의 UV 영역인 것을 들 수 있다. 일반적으로, LED에 의해 조사되는 에너지 선량은 적게 되기 쉽다. 그러나, 본 발명에 관한 경화성 조성물은 (A) 광중합 개시제를 함유하고, 감도가 뛰어나기 때문에, LED를 광원으로서 이용하여 노광을 실시해도 충분히 경화해, 양호한 특성을 가지는 경화물을 효과적으로 얻을 수 있다. 이미 설명한 것처럼, 본 발명에 관한 경화성 조성물은 감도가 뛰어나기 때문에, 본 발명의 경화성 조성물을 이용함으로써, 하드 코트재를 효율적으로 제조할 수 있고, 결과적으로 액정 표시 디스플레이 패널과 같은 표시 장치의 생산성을 향상시킬 수 있다.Then, the curable composition film is exposed to actinic energy rays such as ultraviolet rays and excimer laser rays. The exposure may be performed in a position-selective manner, for example, by a method of performing exposure through a negative-type mask, or may be performed by front exposure. In the case of performing the entire surface exposure, for example, the film of the curable composition may be continuously irradiated with the active energy ray in the line process while winding the film base provided with the curable composition film thereon in a line. The energy dose to be irradiated varies depending on the composition of the curable composition, but is preferably about 40 to 200 mJ / cm 2 , for example. The light source is not particularly limited, and examples thereof include a high-pressure mercury lamp, an LED, and the like. From the viewpoints of energy saving and environmental load reduction, LED is preferable. The wavelength used in the exposure by the LED is, for example, 365 to 405 nm, and more specifically, UV region such as 385 nm, 395 nm, and 405 nm. In general, the energy dose irradiated by the LED is liable to be reduced. However, since the curable composition according to the present invention contains (A) a photopolymerization initiator and is excellent in sensitivity, even when the LED is used as a light source and exposure is performed, the curable composition can be sufficiently cured and a cured product having good characteristics can be effectively obtained. As described above, since the curable composition of the present invention is excellent in sensitivity, the hard coat material can be efficiently produced by using the curable composition of the present invention, and as a result, the productivity of a display device such as a liquid crystal display Can be improved.

경화성 조성물막이 위치 선택적으로 노광된 경우, 노광 후의 막을 현상액에 의해 현상함으로써 원하는 형상으로 패터닝한다. 현상 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 침지법, 스프레이법 등을 이용할 수 있다. 현상액은 경화성 조성물의 조성에 따라 적절히 선택된다. 경화성 조성물이, 알칼리 가용성 수지와 같은 알칼리 가용성의 성분을 포함하는 경우, 현상액으로서는 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 유기계인 것이나, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 암모니아, 4급 암모늄염 등의 수용액을 이용할 수 있다.When the curable composition film film is selectively exposed, the film after exposure is patterned into a desired shape by developing with a developing solution. The developing method is not particularly limited, and for example, a dipping method, a spraying method, or the like can be used. The developer is appropriately selected depending on the composition of the curable composition. When the curable composition contains an alkali-soluble component such as an alkali-soluble resin, examples of the developer include organic ones such as monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine, and organic solvents such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, quaternary ammonium salt Can be used.

그 다음에, 현상 후의 패턴에 대해서 200~250℃ 정도에서 포스트베이크를 실시하는 것이 바람직하다.Then, post-baking is preferably performed at about 200 to 250 DEG C with respect to the pattern after development.

본 발명에 관한 경화물의 제조 방법으로 제조된 경화물은 예를 들면, 하드 코트재에서의 하드 코트층으로서 적합하게 이용할 수 있다.The cured product produced by the method for producing a cured product according to the present invention can be suitably used, for example, as a hard coat layer in a hard coat material.

≪하드 코트재≫«Hard coat material»

본 발명에 관한 하드 코트재는 기재와, 본 발명에 관한 경화성 조성물을 이용해 상기 기재 위에 형성된 하드 코트층을 구비한다.The hard coat material according to the present invention comprises a substrate and a hard coat layer formed on the substrate using the curable composition of the present invention.

기재로서는 특별히 한정되지 않고, 하드 코트재의 기재로서 공지된 것을 이용할 수 있다. 구체적으로는 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리아미드(PA), 폴리메타크릴산메틸(PMMA), 나일론(Ny), 폴리에테르설폰(PES), 폴리염화비닐(PVC), 폴리프로필렌(PP), 폴리카보네이트(PC) 등의 필름 기재; 유리 기재 등을 들 수 있다. 이 중에서도 필름 기재가 바람직하고, TAC 필름, PC 필름, PET 필름이 보다 바람직하다.The substrate is not particularly limited and those known as substrates of a hard coat material can be used. Specific examples thereof include triacetylcellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyamide (PA), polymethyl methacrylate (PMMA), nylon (Ny), polyether sulfone , Polyvinyl chloride (PVC), polypropylene (PP), and polycarbonate (PC); Glass substrates and the like. Of these, a film substrate is preferable, and a TAC film, a PC film, and a PET film are more preferable.

본 발명에 관한 하드 코트재는 우선, 본 발명에 관한 경화성 조성물을 이용해 경화성 조성물막을 형성하고, 이 경화성 조성물막을 노광함으로써 제조할 수 있다. 경화성 조성물막의 형성 및 노광은 본 발명에 관한 경화물의 제조 방법의 경우와 동일하다. 하드 코트층의 막 두께는 1~10㎛가 바람직하다.The hard coat material according to the present invention can be produced by first forming a curable composition film using the curable composition according to the present invention and exposing the curable composition film. Formation and exposure of the curable composition film are the same as in the case of the method for producing a cured product according to the present invention. The thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 10 mu m.

≪화상 표시 장치≫&Quot; Image display device &quot;

본 발명에 관한 화상 표시 장치는 본 발명에 관한 하드 코트재를 구비하는 것이다. 화상 표시 장치로서는 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, CRT 디스플레이, EL 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 전계 방출 디스플레이 등을 들 수 있고, 그 디스플레이 표면 혹은 그 배선 보호층에 본 발명에 관한 하드 코트재가 첩합된다.The image display apparatus according to the present invention comprises the hard coat material according to the present invention. Examples of the image display device include a liquid crystal display, a plasma display, a CRT display, an EL display, an organic EL display, a field emission display, and the hard coat material according to the present invention is applied to the display surface or its wiring protection layer.

[[ 실시예Example ]]

이하, 실시예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples.

[실시예 1~12 및 비교예 1~8][Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 8]

표 1에 나타내는 것과 같이, (A) 광중합 개시제, (B1) 실록산 결합 함유 다관능 아크릴레이트 화합물, (B2) 방향환 및 가교 포화환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 다관능 아크릴레이트 화합물, 및 (B3) 그 밖의 아크릴레이트 화합물을 균일하게 혼합하여 무용제계의 경화성 조성물을 얻었다. 표 1 중의 괄호 내의 수치는 각 성분의 배합량(단위: 질량부)를 나타낸다.As shown in Table 1, a polyfunctional acrylate (B) containing at least one kind selected from the group consisting of (A) a photopolymerization initiator, (B1) a siloxane bond-containing polyfunctional acrylate compound, , And (B3) other acrylate compounds were uniformly mixed to obtain a solventless curable composition. The numerical values in parentheses in Table 1 represent the compounding amount (unit: parts by mass) of each component.

화합물 1: 하기 첫째 단 좌측의 식으로 나타내는 광중합 개시제Compound 1: A photopolymerization initiator represented by the formula on the left side in the following first column

화합물 2: 하기 첫째 단 우측의 식으로 나타내는 광중합 개시제Compound 2: A photopolymerization initiator represented by the formula on the right side of the first step

화합물 3: 하기 둘째 단의 식으로 나타내는 광중합 개시제 Compound 3: A photopolymerization initiator represented by the following formula

[화 15][Figure 15]

Figure pat00015
Figure pat00015

Irg819: 하기 좌측의 식으로 나타내는 광중합 개시제 Irg819: A photopolymerization initiator represented by the following formula

Irg184: 하기 한가운데의 식으로 나타내는 광중합 개시제 Irg184: a photopolymerization initiator represented by the formula shown below

OXE01: 하기 우측의 식으로 나타내는 광중합 개시제 OXE01: The photopolymerization initiator represented by the formula on the right side

[화 16][16]

Figure pat00016
Figure pat00016

실세스퀴옥산 1: 하기 좌측의 식으로 나타내고, R19~R26의 모두가 아크릴로일옥시기인 실세스퀴옥산Silsesquioxane 1: represented by the formula on the left side and silsesquioxane in which all of R 19 to R 26 are acryloyloxy groups

실세스퀴옥산 2: 하기 좌측의 식으로 나타내고, R19~R26의 30몰%가 하기 우측의 식으로 나타내는 기이며, R19~R26의 70몰%가 아크릴로일옥시기인 실세스퀴옥산 Silsesquioxane 2: 30% by mole of R 19 to R 26 is a group represented by the right-hand side formula, and 70% by mole of R 19 to R 26 is an acryloyloxy group. Oxane

[화 17][Figure 17]

Figure pat00017
Figure pat00017

트리시클로데칸계: 하기 첫째 단 좌측의 식으로 나타내는 화합물 Tricyclodecane-based compound: a compound represented by the formula on the left side of the first step

이소시아눌산계 1: 하기 첫째 단 우측의 식으로 나타내는 화합물 Isocyanuric acid system 1: Compound represented by the formula on the right side of the first step

플루오렌계: 하기 둘째 단의 식으로 나타내는 화합물 Fluorene type: A compound represented by the following formula

이소시아눌산계 2: 하기 셋째 단의 식으로 나타내고, X가 아크릴로일옥시기를 나타내는 화합물 Isocyanuric acid-based compound 2: a compound represented by the following formula (3) and X represents an acryloyloxy group

[화 18][Figure 18]

Figure pat00018
Figure pat00018

[제막 방법][Film forming method]

얻어진 경화성 조성물을 두께 100㎛의 PET 필름 위에 적하하고, 애플리케이터로 도포하여, 경화성 조성물막을 얻었다. 그 후, 이 경화성 조성물막에 대해, 고압 수은등 노광기(ORC사) 또는 LED 라이트(파장 395nm)로 노광을 실시해, 두께 50㎛의 경화막을 얻었다. 이 경화막을 상기 PET 필름으로부터 박리해, 이하의 평가를 실시했다. 이들 평가 결과를 표 1에 기재한다.The obtained curable composition was dropped onto a PET film having a thickness of 100 탆 and coated with an applicator to obtain a curable composition film. Thereafter, the curable composition film was exposed with a high-pressure mercury lamp exposing machine (ORC company) or an LED light (wavelength: 395 nm) to obtain a cured film having a thickness of 50 탆. This cured film was peeled from the PET film, and the following evaluation was carried out. The results of these evaluations are shown in Table 1.

[표면 경도][Surface hardness]

JIS K 5600-5-4에 따라 상기 경화막의 연필 경도를 측정했다. 이하의 기준에 따라 표면 경도를 평가했다.The pencil hardness of the cured film was measured according to JIS K 5600-5-4. The surface hardness was evaluated according to the following criteria.

◎ (매우 양호): 상기 연필 경도가 7H 이상이었다.⊚ (very good): The pencil hardness was 7H or more.

○ (양호): 상기 연필 경도가 4H~6H였다.(Good): The pencil hardness was 4H to 6H.

× (불량): 상기 연필 경도가 3H 이하였다.X (poor): The pencil hardness was 3H or less.

[투명성][Transparency]

투과율계 MCPD(오오츠카 전자 제)를 이용하여 상기 경화막의 400nm에서의 투과율을 측정했다. 이하의 기준에 따라 투명성을 평가했다.Transmittance The transmittance of the cured film at 400 nm was measured using MCPD (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). The transparency was evaluated according to the following criteria.

◎ (매우 양호): 상기 투과율이 95% 이상이었다.? (Very good): the transmittance was 95% or more.

○ (양호): 상기 투과율이 90% 이상 95% 미만이었다.(Good): the transmittance was 90% or more and less than 95%.

× (불량): 상기 투과율이 90% 미만이었다.× (poor): the transmittance was less than 90%.

[굴곡성 및 인성][Flexibility and toughness]

반경 n(단위 mm, n은 1 이상의 정수)의 스테인리스 봉을 준비했다. 준비한 각 스테인리스 봉에 상기 경화막을 휘감았다. 상기 경화막을 깨는 경우 없이 휘감을 수 있었던 스테인리스 봉 중, 최소 반경을 가지는 것을 특정했다. 이하의 기준에 따라 굴곡성 및 인성을 평가했다.A stainless steel rod having a radius n (unit mm, n is an integer of 1 or more) was prepared. The cured film was wound around each prepared stainless steel rod. Among the stainless steel rods which could be wound without breaking the cured film, those having the minimum radius were specified. Flexibility and toughness were evaluated according to the following criteria.

◎ (매우 양호): 상기 최소 반경이 2mm 이하였다.? (Very good): The minimum radius was 2 mm or less.

○ (양호): 상기 최소 반경이 3mm~5mm였다.(Good): The minimum radius was 3 mm to 5 mm.

× (불량): 상기 최소 반경이 6mm 이상이었다.X (defective): The minimum radius was 6 mm or more.

Figure pat00019
Figure pat00019

표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 관한 경화성 조성물로부터 얻어지는 하드 코트층은 굴곡성, 인성, 표면 경도, 및 투명성이 뛰어나고, 하드 코트재에 적합하게 이용할 수 있다.As can be seen from Table 1, the hard coat layer obtained from the curable composition of the present invention is excellent in flexibility, toughness, surface hardness and transparency, and can be suitably used for a hard coat material.

Claims (6)

(A) 광중합 개시제와, (B) 실록산 결합, 방향환 및 가교 포화환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 다관능 아크릴레이트 화합물을 함유하고,
상기 (A) 광중합 개시제가, 하기 식(a-1):
Figure pat00020

(R1은 하기 식(a-2):
Figure pat00021

(R4는 수소 원자, 니트로기, 또는 1가의 유기기이며, R5 및 R6은 독립적으로 쇄상 알킬기, 환상 탄화수소기, 또는 헤테로아릴기이며, R5와 R6은 서로 결합해 스피로환을 형성해도 된다.)
로 나타내는 기, 하기 식(a-3):
Figure pat00022

(R7은 독립적으로 1가의 유기기, 아미노기, 할로겐 원자, 니트로기, 또는 시아노기이며, A는 S 또는 O이고, n은 0~4의 정수이다.)
로 나타내는 기, 또는 하기 식(a-4):
Figure pat00023

(R8은 1가의 유기기이며, R9는 수소 원자, 니트로기, 또는 1가의 유기기이다.)
로 나타내는 기이며, R2는 1가의 유기기이며, R3은 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1~11의 알킬기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이며, m은 0 또는 1이다.)
로 나타내는 화합물을 포함하는, 경화성 조성물.
(A) a photopolymerization initiator, and (B) a polyfunctional acrylate compound containing at least one member selected from the group consisting of a siloxane bond, an aromatic ring and a crosslinking ring,
Wherein the photopolymerization initiator (A) is represented by the following formula (a-1):
Figure pat00020

(R 1 is a group represented by the following formula (a-2):
Figure pat00021

(R 4 is a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group, R 5 and R 6 are independently a straight chain alkyl group, a cyclic hydrocarbon group, or a heteroaryl group, and R 5 and R 6 are bonded to each other to form a spiro ring .
, A group represented by the following formula (a-3):
Figure pat00022

(Wherein R 7 is independently a monovalent organic group, an amino group, a halogen atom, a nitro group, or a cyano group, A is S or O, and n is an integer of 0 to 4.)
, Or a group represented by the following formula (a-4):
Figure pat00023

(R 8 is a monovalent organic group and R 9 is a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group.)
A group represented by, R 2 is a monovalent organic group, R 3 is an aryl group which may have a number of carbon atoms which may have a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group of 1 to 11, or a substituent, m is 0 or 1, .)
Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 1, &lt; / RTI &gt;
청구항 1에 있어서,
상기 (B) 다관능 아크릴레이트 화합물이 실록산 결합 함유 다관능 아크릴레이트 화합물을 포함하는 경화성 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the polyfunctional acrylate compound (B) comprises a siloxane bond-containing polyfunctional acrylate compound.
청구항 2에 있어서,
상기 실록산 결합 함유 다관능 아크릴레이트 화합물이 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 포함하는 폴리실세스퀴옥산 화합물인 경화성 조성물.
The method of claim 2,
Wherein the siloxane bond-containing polyfunctional acrylate compound is a polysilsesquioxane compound containing two or more (meth) acryloyl groups.
청구항 2에 있어서,
상기 (B) 다관능 아크릴레이트 화합물이 추가로 방향환 및 가교 포화환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 다관능 아크릴레이트 화합물을 포함하는 경화성 조성물.
The method of claim 2,
Wherein the polyfunctional acrylate compound (B) further comprises at least one member selected from the group consisting of an aromatic ring and a crosslinking silane ring.
청구항 1의 경화성 조성물을 이용해 경화성 조성물막을 형성하는 공정과,
상기 경화성 조성물막을 노광하는 공정을 포함하는, 경화물의 제조 방법.
Forming a curable composition film using the curable composition of claim 1;
And exposing the curable composition film to light.
기재와, 청구항 1의 경화성 조성물을 이용해 상기 기재 위에 형성된 하드 코트층을 구비하는 하드 코트재.A hard coat material comprising a substrate and a hard coat layer formed on the substrate using the curable composition of claim 1.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101788399B1 (en) * 2015-09-23 2017-10-19 (주)경인양행 Oxime ester compound having improved heat stability, photopolymerization initiator and photoresist composition comprising the same
JP6677047B2 (en) * 2016-03-30 2020-04-08 三菱ケミカル株式会社 Alicyclic polyfunctional (meth) acrylate compounds
EP3653573A4 (en) * 2017-07-14 2020-06-17 FUJIFILM Corporation Surface-modified inorganic nitride, composition, thermally conductive material, device provided with thermally conductive layer
EP3653574B1 (en) 2017-07-14 2021-01-06 FUJIFILM Corporation Surface-modified inorganic nitride, composition, thermally conductive material, device provided with thermally conductive layer
KR102338611B1 (en) 2017-07-14 2021-12-13 후지필름 가부시키가이샤 Surface-modified inorganic nitride, composition, heat-conducting material, heat-conducting layer attachment device
WO2019188442A1 (en) * 2018-03-30 2019-10-03 富士フイルム株式会社 Hard coat film, article having hard coat film, image display device, and method for manufacturing hard coat film
JP7377261B2 (en) * 2019-05-17 2023-11-09 富士フイルム株式会社 Hard coat film, article equipped with hard coat film, and image display device
JP7142158B2 (en) * 2019-05-17 2022-09-26 富士フイルム株式会社 Resin composition, hard coat film, and polyorganosilsesquioxane
WO2021060055A1 (en) * 2019-09-27 2021-04-01 富士フイルム株式会社 Composition for hard coat layer formation, hard coat film, method for producing hard coat film, and article including hard coat film
CN114075398A (en) * 2020-08-21 2022-02-22 广东华润涂料有限公司 Coating composition and coated article including coating layer formed by coating composition

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011128239A (en) * 2009-12-16 2011-06-30 Jsr Corp Coloring composition, color filter, and color liquid crystal display element
KR20120037892A (en) * 2010-10-12 2012-04-20 후지필름 가부시키가이샤 Pattern forming method, pattern forming material, and photosensitive film, patterned film, low-refractive index film, optical device and solid-state imaging device using the same
JP2013195550A (en) 2012-03-16 2013-09-30 Toppan Printing Co Ltd Optical film and optical display device

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005215147A (en) * 2004-01-28 2005-08-11 Fuji Photo Film Co Ltd Polymerizable composition
JP2006241406A (en) * 2005-03-07 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd Ink composition, inkjet recording method, printed article, method for producing planographic printing plate and planographic printing plate
JP5117002B2 (en) * 2006-07-10 2013-01-09 富士フイルム株式会社 Photocurable composition and pattern forming method using the same
JP4899100B2 (en) * 2007-05-29 2012-03-21 ナガセケムテックス株式会社 Photosensitive composition
JP5494479B2 (en) * 2008-04-25 2014-05-14 三菱化学株式会社 Ketoxime ester compounds and uses thereof
JP2009286976A (en) * 2008-05-30 2009-12-10 Fujifilm Corp Polymerizable liquid crystal composition, optically anisotropic film, optical element and liquid crystal display device
CN102459171B (en) * 2009-06-17 2014-07-09 东洋油墨Sc控股株式会社 Oxime ester compound, radical polymerization initiator, polymerizable composition, negative resist and image pattern
TWI475006B (en) * 2009-09-08 2015-03-01 Nippon Steel & Sumikin Chem Co Photopolymerization initiator and photosensitive composition
JP2011170334A (en) * 2010-01-20 2011-09-01 Fujifilm Corp Black curable composition for wafer-level lens, and wafer-level lens
KR101361753B1 (en) * 2010-03-22 2014-02-12 주식회사 엘지화학 Photo-curable and thermo-curable resin composition, and dry film solder resist
CN102477252A (en) * 2010-11-29 2012-05-30 Jsr株式会社 Laminated film for hard coating forming, film coil and curing composition for hard coating forming
KR101878016B1 (en) * 2011-07-11 2018-07-12 가부시끼가이샤 도꾸야마 Photochromic curable composition
JP5890297B2 (en) * 2011-12-22 2016-03-22 東京応化工業株式会社 Photosensitive resin composition, color filter and display device using the same, oxime ester compound, and photopolymerization initiator
WO2013165207A1 (en) * 2012-05-03 2013-11-07 한국화학연구원 Novel oximester fluorine compound, and photopolymerization initiator and photoresist composition comprising same
KR20140077246A (en) * 2012-12-12 2014-06-24 동우 화인켐 주식회사 A colored curable resin composition, color filter and display device
CN103293855B (en) * 2013-05-20 2015-12-23 常州强力先端电子材料有限公司 A kind of esters of acrylic acid Photocurable composition
JP5890457B2 (en) * 2013-08-05 2016-03-22 東京応化工業株式会社 Pigment dispersion, photosensitive resin composition containing the same, and dispersion aid
JP6339346B2 (en) * 2013-11-05 2018-06-06 太陽インキ製造株式会社 Curable composition for printed wiring board, cured coating film using the same, and printed wiring board
JP6400289B2 (en) * 2013-12-24 2018-10-03 日立化成株式会社 Base material for touch panel with cured film and method for producing the same, photosensitive element and touch panel

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011128239A (en) * 2009-12-16 2011-06-30 Jsr Corp Coloring composition, color filter, and color liquid crystal display element
KR20120037892A (en) * 2010-10-12 2012-04-20 후지필름 가부시키가이샤 Pattern forming method, pattern forming material, and photosensitive film, patterned film, low-refractive index film, optical device and solid-state imaging device using the same
JP2013195550A (en) 2012-03-16 2013-09-30 Toppan Printing Co Ltd Optical film and optical display device

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