KR20160148565A

KR20160148565A - Abrasive pad

Info

Publication number: KR20160148565A
Application number: KR1020167030980A
Authority: KR
Inventors: 히로시 카시와다; 신 토쿠시게; 다이스케 타카하시
Original assignee: 후지보 홀딩스 가부시키가이샤
Priority date: 2014-04-23
Filing date: 2015-04-07
Publication date: 2016-12-26
Also published as: WO2015163136A1; JP6292397B2; JP2015208782A; CN106232296B; KR102383987B1; CN106232296A

Abstract

연마 패드(13)는 볼록형상 곡면 부분(1a)을 가지는 피연마물(1)의 상기 볼록형상 곡면 부분을 연마하기 위한 연마 패드로서, 원반형상이며 두께를 가지는 탄성체의 측면에, 원반의 원의 중심을 축으로 원주방향으로 회전 구동시키면서 피연마물의 볼록형상 곡면 부분과 접촉시키는 환형상 오목 연마부(13a)를 배치하고 있고, 또한 환형상 오목 연마부를 구성하는 탄성체의 0.1mm 압축시의 압축 응력이 50~150gf/cm²의 범위, 또한 압축 응력의 비(0.5mm 압축시의 압축 응력/0.1mm 압축시의 압축 응력)가 5~30의 범위인 것을 특징으로 하는 연마 패드. 피연마물의 상기 볼록형상 곡면 부분을 고정밀도로 경면 마무리 연마할 수 있다.The polishing pad 13 is a polishing pad for polishing the convex curved surface portion of the object 1 having a convex curved surface portion 1a and is provided on the side of an elastic body having a disk- Shaped concave polishing portion 13a which is in contact with the convex curved portion of the object to be polished while being rotationally driven in the circumferential direction around the axis of the concave polishing portion and the compressive stress at the time of 0.1 mm compression of the elastic body constituting the circular concave polishing portion (50 to 150 gf / cm ² ), and the ratio of compressive stress (compressive stress at the time of 0.5 mm compression / compressive stress at the time of 0.1 mm compression) is in the range of 5 to 30. The convex curved surface portion of the object to be polished can be polished in a mirror finished state with high precision.

Description

Abrasive Pads {ABRASIVE PAD}

본 발명은 볼록형상 곡면 부분을 가지는 피연마물의 상기 볼록형상 곡면 부분을 연마하기 위한 연마 패드에 관한 것으로, 상세하게는 원반형상이며 두께를 가지는 탄성체의 측면에, 이 원반의 원의 중심을 축으로 원주방향으로 회전 구동시키면서 피연마물의 볼록형상 곡면 부분과 접촉시키는 환형상 오목 연마부를 배치하고, 상기 회전 구동에 의해 볼록형상 곡면 부분이 형성된 피연마물, 특히 외주 가장자리에 볼록형상 곡면 부분이 형성된 피연마물을 고정밀도로 경면 마무리 연마하기에 적합한 연마 패드에 관한 것이다.The present invention relates to a polishing pad for polishing a convex curved surface portion of a subject to be polished having a convex curved surface portion and more particularly to a polishing pad having a disc shape and having a thickness on the side of an elastic body, And an annular concave polishing portion for contacting the convex curved portion of the object to be polished while being rotationally driven in the circumferential direction is disposed on the outer periphery of the object to be polished and the convex curved portion is formed by the rotational driving, To a polishing pad which is suitable for polish-finish polishing with high precision.

종래 볼록형상 곡면 부분을 가지는 피연마물의 상기 곡면 부분을 연마할 때는 원반형상이며 두께를 가지는 연마 부재가 사용되고 있고, 구체적으로는 당해 연마 부재의 측면에, 원반의 원의 중심을 축으로 원주방향으로 회전 구동시키면서 피연마물의 상기 볼록형상 곡면 부분을 접촉시키는 연마 부재가 알려져 있다(특허문헌 1).Conventionally, an abrasive member having a disk shape and a thickness is used for abrading the curved surface portion of a subject to be polished having a conventional convex curved surface portion. Specifically, on the side surface of the abrading member, There is known an abrasive member which is brought into contact with the convex curved surface portion of the object to be polished while being rotationally driven (Patent Document 1).

일본 특개 2007-5661호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-5661

그러나 상기 특허문헌 1의 연마 부재는 상기 특허문헌 1이 목적으로 하고 있는 반도체 웨이퍼의 에지부에 부착된 불필요한 성막을 제거하기에는 적합하지만, 상기 볼록형상 곡면 부분을 고정밀도로 경면 마무리 연마한다는 사상은 없고, 예를 들면 외주 가장자리에 볼록형상 곡면 부분이 형성된 부재의 상기 볼록형상 곡면 부분을 고정밀도로 경면 마무리 연마할 때는, 회전 구동의 진동 등에 의한 연마 부재와 피연마물의 접촉 불균일을 충분히 흡수할 수 없어 연마 불균일을 초래해버려, 곡면을 불균일 없이 고정밀도로 경면 마무리 연마하기에는 매우 부적당했다.However, the polishing member of Patent Document 1 is suitable for removing an unnecessary film adhered to the edge portion of the semiconductor wafer, which is the object of Patent Document 1, but there is no idea that the convex curved portion is polished in a mirror- For example, when the convex curved surface portion of a member having a convex curved surface portion formed on the outer circumferential edge is polished with mirror finishing with high precision, contact irregularities caused by vibration or the like of rotation driving can not be sufficiently absorbed, And it was very inadequate to polish the mirror finished surface with high precision without any unevenness of the curved surface.

또 상기 특허문헌 1에서는 피연마물의 볼록형상 곡면 부분을 연마했을 때, 연마 부재의 맞닿은 볼록형상 곡면 부분과, 맞닿지 않은 평면 부분과의 경계가 남아버려, 마무리 품위를 저하시켜버린다는 문제도 있었다.Also, in Patent Document 1, when the convex curved surface portion of the object to be polished is polished, there is a problem that the boundary between the convex curved surface portion abutted by the abrading member and the flat portion not abutted is left, and the finishing quality is lowered .

이와 같은 문제를 감안하여, 본 발명은 볼록형상 곡면 부분을 가지는 피연마물의 볼록형상 곡면 부분을 고정밀도로 경면 마무리 연마하는 것이 가능한 연마 패드를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, the present invention provides a polishing pad capable of polishing a convex curved surface portion of a subject to be polished having a convex curved portion with high precision.

즉 본 발명은 볼록형상 곡면 부분을 가지는 피연마물의 상기 볼록형상 곡면 부분을 연마하기 위한 연마 패드로서, 원반형상이며 두께를 가지는 탄성체의 측면에, 이 원반의 원의 중심을 축으로 원주방향으로 회전 구동시키면서 피연마물의 볼록형상 곡면 부분과 접촉시키는 환형상 오목 연마부를 배치하고, 이 환형상 오목 연마부를 구성하는 탄성체의 0.1mm 압축시의 압축 응력이 50~150gf/cm²의 범위, 또한 압축 응력의 비(0.5mm 압축시의 압축 응력/0.1mm 압축시의 압축 응력)가 5~30의 범위인 것을 특징으로 하는 연마 패드로 되어 있다.That is, the present invention provides a polishing pad for polishing a convex curved surface portion of a material to be polished having a convex curved surface portion, the polishing pad having a disc-shaped elastic body, Shaped concave polishing portion to be brought into contact with the convex curved surface portion of the object to be polished while being driven. The compressive stress at the time of 0.1 mm compression of the elastic body constituting the circular concave polishing portion is in the range of 50 to 150 gf / cm ² , (Compressive stress at the time of 0.5 mm compression / compressive stress at the time of 0.1 mm compression) is in the range of 5 to 30.

또 상기 환형상 오목 연마부를 구성하는 탄성체의 초기 하중 20g, 뒤틀림 범위 1.0%, 온도 40℃, 주파수 60Hz, 압축 모드로 측정했을 때의 손실계수 tanδ가 0.150~0.420의 범위여도 된다.In addition, the initial value of the elastic force of the elastic member constituting the annular concave polishing portion may be 20g, the warp range of 1.0%, the temperature of 40 ° C, the frequency of 60Hz, and the loss coefficient tan δ measured in the compression mode in the range of 0.150 to 0.420.

또한 상기 환형상 오목 연마부 표면에 개공(開孔)이 형성되어 있어도 된다.Further, an opening may be formed in the surface of the annular concave polishing portion.

또한 상기 환형상 오목 연마부는 피연마물의 상기 볼록형상 곡면 부분보다 대직경이며, 상기 피연마물의 정점과 상기 환형상 오목 연마부의 저점을 접촉시켰을 때, 상기 환형상 오목 연마부의 두께 방향 양단부에 위치하는 환형상 돌기는 피연마물의 볼록형상 곡면 부분에 인접하는 평면 부분으로부터 이격되어 있고, 상기 피연마물이 상기 환형상 오목 연마부에 연마시의 압압력(押壓力)에 의해 가라앉아 당해 환형상 오목 연마부가 변형함으로써, 상기 환형상 돌기가 상기 피연마물에 있어서의 상기 평면 부분에 밀착하도록 해도 된다.The annular concave polishing portion is larger in diameter than the convex curved portion of the object to be polished and is located at both ends in the thickness direction of the annular concave polishing portion when the vertex of the object to be polished is brought into contact with the bottom of the annular concave polishing portion Wherein the annular projection is spaced apart from a flat portion adjacent to the convex curved surface portion of the object to be polished and the object to be polished is submerged in the annular recessed polishing portion by a pressing force during polishing, The annular projection may be brought into close contact with the flat portion of the object to be polished.

그리고 상기 환형상 돌기에는 두께 방향 양단부의 적어도 어느 일방의 원주방향을 따라 소정의 간격으로 절결부를 배치해도 된다.The annular protrusions may be provided with notches at predetermined intervals along the circumferential direction of at least one of both end portions in the thickness direction.

즉 상기 발명에 의하면 연마 패드의 환형상 오목 연마부가 연마시의 압압력에 의해 피연마물의 볼록형상 곡면 부분의 형상을 따르도록 압축 변형하고, 그 때의 적당한 응력을 피연마물의 볼록형상 곡면 부분에 부여할 수 있으므로, 당해 볼록형상 곡면 부분을 고정밀도로 경면 마무리 연마할 수 있다.That is, according to the present invention, the annular concave polishing portion of the polishing pad is compressively deformed to conform to the shape of the convex curved portion of the object to be polished by the pressing pressure at the time of polishing, and a proper stress at that time is applied to the convex curved surface portion The convex curved surface portion can be polished in a mirror-finished state with high accuracy.

또한 상기 연마 패드를 구성하는 탄성체에 있어서의 압축 응력의 비(0.5mm 압축시의 압축 응력/0.1mm 압축시의 압축 응력)를 5~30의 범위로 한 것에 의해, 연마 패드의 회전에 의한 진동이나 피연마물의 표면에 형성된 요철에 의해 환형상 오목 연마부의 압축 변형량이 변동해도, 안정적인 응력을 피연마물의 볼록형상 곡면 부분에 작용시킬 수 있어, 연마 불균일이나 미연마부의 발생을 억제할 수 있다.Further, by setting the ratio of the compressive stress in the elastic body constituting the polishing pad (the compressive stress at the time of 0.5 mm compression / the compressive stress at the time of 0.1 mm compression) to 5 to 30, Even when the amount of compressive deformation of the annular concave polishing portion fluctuates due to the irregularities formed on the surface of the abrasive article or the object to be polished, stable stress can be exerted on the convex curved surface portion of the object to be polished and occurrence of polishing unevenness and un-

그리고 환형상 오목 연마부 표면에 개공이 형성되어 있기 때문에, 연마액으로서의 슬러리를 상기 환형상 오목 연마부에 유지할 수 있으므로, 안정적인 연마 효율을 얻을 수 있다.Since the pores are formed in the surface of the annular concave polishing portion, the slurry serving as the polishing liquid can be retained in the annular concave polishing portion, so that stable polishing efficiency can be obtained.

또한 상기 환형상 오목 연마부는 피연마물의 상기 볼록형상 곡면 부분보다 대직경이며, 상기 피연마물의 정점과 상기 환형상 오목 연마부의 저점을 접촉시켰을 때, 상기 환형상 오목 연마부의 두께 방향 양단부에 위치하는 환형상 돌기는 피연마물의 볼록형상 곡면 부분에 인접하는 평면 부분으로부터 이격되어 있다.The annular concave polishing portion is larger in diameter than the convex curved portion of the object to be polished and is located at both ends in the thickness direction of the annular concave polishing portion when the vertex of the object to be polished is brought into contact with the bottom of the annular concave polishing portion The annular projection is spaced apart from the flat portion adjacent to the convex curved portion of the object to be polished.

이 상태로부터 상기 피연마물이 상기 환형상 오목 연마부에 연마시의 압압력에 의해 가라앉아, 당해 환형상 오목 연마부가 변형함으로써, 상기 환형상 돌기가 상기 피연마물에 있어서의 볼록형상 곡면 부분과 인접하는 평면 부분에 밀착하도록 되어 있다. 이와 같은 구조로 함으로써 볼록형상 곡면 부분과 평면 부분과의 경계가 남지 않아, 고품위의 피연마물을 얻을 수 있다.The object to be polished is sagged by the pressing force at the time of polishing on the annular recessed abrasive portion and the annular recessed abrasive portion is deformed so that the annular recessed portion is adjacent to the convex shaped curved portion in the object to be polished As shown in Fig. With such a structure, the boundary between the convex-shaped curved surface portion and the planar portion is not left, and high-quality objects to be polished can be obtained.

또한 환형상 돌기에 절결부를 배치하고, 또한 절결부의 크기, 형상, 수, 간격을 적당히 조정함으로써, 슬러리의 급배액량의 조정이나 연마 부스러기의 배출 촉진, 피연마물의 볼록형상 곡면 부분과 평면 부분과의 경계가 남지 않도록 하는 조정 등을 행할 수 있다.Further, by adjusting the size, shape, number and spacing of the notches, it is possible to adjust the amount of feeding and discharging of the slurry and to accelerate the discharge of the polishing debris, And the like can be performed.

도 1은 본 실시예에 따른 연마 장치의 평면도.
도 2는 상기 연마 장치의 측면도.
도 3은 연마 패드와 피연마물의 확대 단면도로서, (a)는 연마 전의 상태를, (b)는 연마 중의 상태를 각각 나타내고 있다.
도 4는 연마 패드의 평면도.
도 5는 실험 결과를 나타내는 표.1 is a plan view of a polishing apparatus according to the present embodiment.
2 is a side view of the polishing apparatus.
Fig. 3 is an enlarged cross-sectional view of the polishing pad and the object to be polished, wherein (a) shows the state before polishing and (b) shows the state during polishing.
4 is a plan view of the polishing pad.
5 is a table showing experimental results.

이하 도시 실시예에 대해서 설명하면, 도 1, 도 2는 피연마물(1)의 외주 가장자리에 형성된 볼록형상 곡면 부분(1a)을 연마하는 연마 장치(2)의 평면도 및 단면도를 나타내고 있다.1 and 2 show a plan view and a sectional view of a polishing apparatus 2 for polishing a convex curved surface portion 1a formed on the outer peripheral edge of the object 1 to be polished.

상기 연마 장치(2)는 피연마물(1)을 유지하는 유지 테이블(3)과, 본 발명에 따른 연마 패드(13)를 구비한 연마 수단(4)과, 상기 연마 패드(13)와 피연마물(1) 사이에 슬러리를 공급하는 슬러리 공급 수단(5)을 구비하고 있다.The polishing apparatus 2 includes a holding table 3 for holding an object to be polished 1, a polishing means 4 having a polishing pad 13 according to the present invention, And a slurry supply means (5) for supplying slurry between the slurry supply means (1).

상기 피연마물(1)은 도 1에 나타내는 바와 같이 대략 직사각형을 가지고 있고, 이 피연마물(1)의 외주 가장자리에는 볼록형상 곡면 부분(1a)이 형성되어 있다.As shown in Fig. 1, the object to be polished 1 has a substantially rectangular shape, and a convex curved surface portion 1a is formed on the outer peripheral edge of the object 1 to be polished.

상기 볼록형상 곡면 부분(1a)은 앞 공정에 있어서 미리 조(粗)연삭 가공만이 행해져 있거나 또는 미가공인 점에서, 그 표면에는 연삭 상처나 버 등의 요철이 형성되어 있다.The convex-shaped curved surface portion 1a is formed with unevenness such as grinding wounds or burrs on its surface in that only rough rough grinding is preliminarily performed or unprocessed in the previous step.

또한 피연마물(1)로서는 그 평면형상이 예를 들면 원형 등의 그 밖의 형상을 가진 것이어도 되고, 또 소재로서는 금속, 유리, 플라스틱, 세라믹, 사파이어 등을 들 수 있다.Further, the object to be polished 1 may have another shape such as a circular shape, for example, and the material may be metal, glass, plastic, ceramic, sapphire, or the like.

상기 유지 테이블(3)은 피연마물(1)을 수평으로 유지하는 구조로 되어 있다. 유지 테이블(3)은 상기 피연마물(1)보다 소형의 것이 준비되고, 이것에 의해 유지 테이블(3)의 단부로부터는 상기 볼록형상 곡면 부분(1a)이 유지 테이블(3)측으로부터 외측으로 돌출하도록 되어 있다.The holding table 3 has a structure for holding the object 1 horizontally. The holding table 3 is made smaller than the object 1 so that the convex curved surface portion 1a protrudes outward from the holding table 3 side from the end of the holding table 3 .

상기 연마 수단(4)은 각각 상기 유지 테이블(3)에 상대하는 위치에 설치된 연마 지그(治具)(11)와, 당해 연마 지그(11)를 상기 피연마물(1)이 위치하는 방향으로 이동시키는 이동 수단(12)을 구비하고, 도시하지 않는 제어 수단에 의해 이동 수단(12)이 제어되도록 되어 있다.The grinding means 4 includes a polishing jig 11 provided at a position facing the holding table 3 and a grinding jig 11 for moving the grinding jig 11 in a direction in which the object to be polished 1 is located And the moving means 12 is controlled by a control means (not shown).

상기 이동 수단(12)은 도시하지 않는 구동 수단에 의해 연마 지그(11)가 피연마물(1)의 외주 가장자리에 접촉하면서 외주 가장자리를 따라 이동하도록 되어 있다.The moving means 12 is adapted to move along the outer peripheral edge of the polishing jig 11 while being in contact with the outer peripheral edge of the object to be polished 1 by driving means not shown.

상기 연마 지그(11)에는 원반형상의 연마 패드(13)가 설치되고, 이 연마 패드(13)는 축방향이 수직으로 배치됨과 아울러, 도시하지 않는 구동 수단에 의해 예를 들면 1000rpm~6000rpm과 같은 회전수로 고속 회전하도록 되어 있다.A disk-shaped polishing pad 13 is provided on the polishing jig 11. The polishing pad 13 is vertically arranged in the axial direction and rotated by a driving means (not shown), for example, at a rotational speed of 1000 rpm to 6000 rpm So as to rotate at a high speed.

또한 연마 패드(13)의 관통 구멍의 내측 및 연마 패드(13)와 연마 지그(11) 사이에는 구동 수단의 작동에 의한 진동을 흡수하는 쿠션재나 스프링 등의 진동 흡수 기구가 배치되어 있어도 된다.A vibration absorbing mechanism such as a cushioning member or a spring may be disposed between the polishing pad 13 and the inside of the through hole of the polishing pad 13 and between the polishing pad 13 and the polishing jig 11.

이것에 의해 도 3과 같이 상기 연마 패드(13)가 피연마물(1)의 볼록형상 곡면 부분(1a)에 눌렸을 때도, 피연마물(1)의 변위가 억제되어, 피연마물(1)이 연마 패드(13)에 의해 안정적으로 가라앉을 수 있어 바람직하다.As a result, even when the polishing pad 13 is pressed against the convex curved surface portion 1a of the object 1 as shown in Fig. 3, displacement of the object to be polished 1 is suppressed, It can be stably settled by the pad 13, which is preferable.

상기 스프링에 대해서는 그 가압력을 조정함으로써, 대상이 되는 피연마물(1)의 소재나 필요하게 되는 볼록형상 곡면 부분(1a)의 가공 정밀도에 따라 적당히 설정하는 것이 더욱 바람직하다.It is more preferable to appropriately set the spring according to the machining accuracy of the material of the object to be polished 1 to be processed and the convex-shaped curved surface portion 1a which is required by adjusting the pressing force of the spring.

또 본 실시예에서는 상기 유지 테이블(3)에 의해 피연마물(1)을 수평으로 유지하는 수단을 설명했는데, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면 피연마물(1)을 수평방향과 수직으로 유지하고, 연마 지그(11)가 피연마물(1)의 외주 가장자리에 접촉하면서 외주 가장자리를 따라 이동시켜도 되고, 또 연마 지그(11)를 고정하고, 유지 테이블(3)을 이동시킴으로써 피연마물(1)을 연마해도 된다.In this embodiment, the means for holding the object 1 horizontally by the holding table 3 has been described, but the present invention is not limited thereto. For example, the object to be polished 1 may be held perpendicular to the horizontal direction, and the polishing jig 11 may be moved along the outer edge while being in contact with the outer peripheral edge of the object to be polished 1, And the object to be polished 1 may be polished by moving the holding table 3.

본 실시예에 따른 연마 패드(13)는 도 3, 도 4에 나타내는 바와 같이 원반형상을 가지고 있고, 그 측면에는 상기 피연마물(1)의 볼록형상 곡면 부분(1a)을 연마하기 위한 환형상 오목 연마부(13a)를 가지고, 상기 환형상 오목 연마부(13a)의 두께 방향 양단부에는 환형상 돌기(13b)가 배치되어 있다.As shown in Figs. 3 and 4, the polishing pad 13 according to the present embodiment has a disk shape, and on the side thereof, an annular recess (not shown) for polishing the convex curved surface portion 1a of the object 1 And an annular protrusion 13b is disposed at both end portions in the thickness direction of the annular concave polishing portion 13a.

또 상기 연마 패드(13)는 탄력성을 가진 소재(탄성체)에 의해 구성되고, 구체적으로는 이하에 서술하는 제조 방법을 사용하여 제조한 폴리우레탄 수지를 함침 시킨 부직포나, 발포 폴리우레탄 등의 소재에 의해 구성되어 있다. 그리고 이들 소재에 의해 구성함으로써, 상기 환형상 오목 연마부(13a)를 구성하는 탄성체는 연속 기포 및/또는 독립 기포를 가지고, 표면에 미소한 개공이 무수히 형성되어 있다.The polishing pad 13 is made of a material having elasticity (elastic body). Specifically, the polishing pad 13 is made of a material such as a nonwoven fabric impregnated with a polyurethane resin produced by a manufacturing method described below or a foamed polyurethane . By constituting these annular concave polishing portions 13a by these materials, the elastic body constituting the annular concave polishing portion 13a has continuous bubbles and / or closed bubbles, and a small number of fine holes are formed on the surface.

상기 연마 패드(13)의 직경은 연마하는 피연마물(1)에 따라 35~250mm로 할 수 있고, 또 그 두께는 두께가 3.0~30.0mm의 피연마물(1)을 연마하는 것이 가능한 치수로 되어 있다.The diameter of the polishing pad 13 may be 35 to 250 mm depending on the object 1 to be polished and the thickness thereof is such that the object 1 to be polished having a thickness of 3.0 to 30.0 mm can be polished have.

또 상기 연마 패드(13)의 환형상 오목 연마부(13a)는 피연마물(1)의 볼록형상 곡면 부분(1a)의 형상에 맞추어 형성되어 있고, 예를 들면 반경 1.5~15.0mm의 대략 단면 반원형상을 가진 볼록형상 곡면 부분(1a)을 연마할 수 있다.The annular concave polishing portion 13a of the polishing pad 13 is formed in conformity with the shape of the convex curved portion 1a of the object 1 to be polished and has an approximately semicircle shape having a radius of 1.5 to 15.0 mm The convex-shaped curved surface portion 1a having an image can be polished.

또한 상기 피연마물(1)의 볼록형상 곡면 부분(1a)은 반드시 완전한 반원형상일 필요는 없고, 환형상 오목 연마부(13a)는 이 볼록형상 곡면 부분(1a)의 형상에 대응하여 연마시에 압축 변형함으로써 적당한 응력이 부여되는 것 같은 구조를 가지고 있으면 된다.The convex curved surface portion 1a of the object to be polished 1 does not necessarily have to be a perfect semi-circular shape, and the circular concave polished portion 13a corresponds to the shape of the convex curved surface portion 1a, It suffices to have such a structure that a proper stress is given by the deformation.

또한 본 실시예에서는 상기 환형상 돌기(13b)의 돌출량을 상이하게 할 수 있고, 이것에 의해 상기 볼록형상 곡면 부분(1a)에 인접한 위치로부터 1.0~30.0mm의 범위에서 피연마물(1)의 평면 부분(1b)도 연마하는 것이 가능하게 되어 있다.In this embodiment, the amount of protrusion of the annular protrusion 13b can be made different from that of the protrusion 13b in the range of 1.0 to 30.0 mm from the position adjacent to the convex curved surface portion 1a, The flat portion 1b can be polished.

도 3(a)은 피연마물(1)이 연마 패드(13)에 접촉하기 전의 상태를 나타내고 있고, 상기 환형상 오목 연마부(13a)는 상기 피연마물(1)의 볼록형상 곡면 부분(1a)에 대하여 약간 대직경으로 형성되어 있다.3 (a) shows a state before the object to be polished 1 is brought into contact with the polishing pad 13, and the annular concave polished portion 13a has a convex curved surface portion 1a of the object 1, As shown in Fig.

이 때문에 상기 피연마물(1)의 볼록형상 곡면 부분(1a)의 정점과 상기 환형상 오목 연마부(13a)의 저점을 접촉시켰을 때, 상기 환형상 돌기(13b)는 피연마물(1)의 상기 볼록형상 곡면 부분(1a)에 인접하는 상기 평면 부분(1b)으로부터 이격되도록 되어 있다.Therefore, when the apex of the convex curved surface portion 1a of the object to be polished 1 and the bottom point of the circular concave polished portion 13a are brought into contact with each other, And is spaced apart from the flat portion 1b adjacent to the convex curved portion 1a.

또한 피연마물(1)의 볼록형상 곡면 부분(1a)이 완전한 반원형상이 아닌 경우, 예를 들면 볼록형상 곡면 부분(1a)이 둘 이상의 볼록부에 의해 형성되어 있는 경우, 상기 대직경이라는 용어는 이 볼록형상 곡면 부분(1a)의 볼록부 개수에 따라 소요의 배율로 크게 형성한 형상을 가지고 있는 것을 의미하고 있다.Further, when the convex curved surface portion 1a of the object 1 is not a perfect semi-circular shape, for example, when the convex curved surface portion 1a is formed by two or more convex portions, Means a shape formed to be large at a required magnification depending on the number of convex portions of the convex-shaped curved surface portion 1a.

이 상태로부터 피연마물(1)이 환형상 오목 연마부(13a)에 눌리면, 피연마물(1)은 연마 패드(13)의 소재에 대하여 가라앉아, 도 3(b)에 나타내는 바와 같이 환형상 오목 연마부(13a)가 변형하여 볼록형상 곡면 부분(1a)의 형상을 따라 밀착하도록 되어 있다.When the object to be polished 1 is pressed against the annular concave polishing portion 13a from this state, the object to be polished 1 is seated against the material of the polishing pad 13 and, as shown in Fig. 3 (b) The polishing portion 13a is deformed and brought into close contact with the shape of the convex curved surface portion 1a.

또 환형상 오목 연마부(13a)가 상기 볼록형상 곡면 부분(1a)에 밀착하면, 이것에 따라 상기 환형상 돌기(13b)가 평면 부분(1b)에 접근하여 약한 응력으로 밀착하고, 환형상 돌기(13b)에 의해 평면 부분(1b)도 볼록형상 곡면 부분(1a)보다 낮은 연마량으로 연마 가능한 상태가 된다. 이것에 의해 볼록형상 곡면 부분(1a)과 평면 부분(1b)의 경계가 남지 않아, 고품위의 피연마물(1)을 얻을 수 있다.When the annular concave polished portion 13a is brought into close contact with the convex curved surface portion 1a, the annular protrusion 13b approaches the flat portion 1b and comes into close contact with a weak stress, The flat portion 1b also becomes a state capable of polishing at a lower polishing amount than that of the convex curved surface portion 1a. As a result, the boundary between the convex curved surface portion 1a and the planar portion 1b is not left, and a high-quality operand 1 can be obtained.

또 상기 환형상 돌기(13b)에는 모따기 형상(13c)이 형성되어 있어, 연마를 행할 때, 상기 환형상 돌기(13b)와 환형상 돌기(13b) 사이에 피연마물(1)이 삽입되기 쉽게 되어 있다. 또 모따기 형상(13c)의 길이, 모따기 각도, 형상을 적당히 조정함으로써, 피연마물(1)의 볼록형상 곡면 부분(1a)과 평면 부분(1b)의 경계가 남지 않도록 하는 조정 등을 행할 수도 있다.The chamfered shape 13c is formed in the annular projection 13b so that the object to be polished 1 is likely to be inserted between the annular projection 13b and the annular projection 13b when polishing is performed have. It is also possible to adjust such that the boundary between the convex curved surface portion 1a and the planar portion 1b of the object 1 is not left by appropriately adjusting the length, chamfer angle and shape of the chamfered shape 13c.

또한 도 4에 나타내는 바와 같이 상기 환형상 돌기(13b)에는 소정의 간격으로 절결부(13d)가 형성되어 있어, 상기 슬러리 공급 수단(5)으로부터 공급된 슬러리를 상기 환형상 오목 연마부(13a)와 피연마물(1) 사이에 양호하게 공급하도록 되어 있다.4, cutouts 13d are formed at predetermined intervals in the annular protrusions 13b, so that the slurry supplied from the slurry supply means 5 is supplied to the annular concave polishing portion 13a, And the object 1 to be smoothed.

여기서 상기 환형상 오목 연마부(13b)의 표면에는 개공이 형성되어 있는 점에서, 공급된 슬러리는 이 개공에 의해 유지되게 되고, 당해 슬러리에 의한 양호한 연마 성능도 얻을 수 있다.Since the pores are formed in the surface of the annular concave polishing portion 13b, the supplied slurry is held by the pores, and good polishing performance by the slurry can be obtained.

또한 상기 환형상 돌기(13b)에 대해서는 상하 중 어느 일방만을 설치해도 되고, 또 절결부(13d)에 대해서도 어느 일방의 환형상 돌기(13b)에 대해서는 생략해도 된다. 또 상기 절결부(13d)의 크기는 특별히 한정되지 않고, 형상에 대해서도 특별히 한정되지 않는다. 반원형상이나 대략 삼각형, 대략 사각형 형상 등의 다각형이어도 된다. 수 및 간격도 특별히 한정되지 않지만, 6~12개소, 환형상 돌기(13b)를 평면에서 보았을 때에 30~60° 간격으로 형성하는 것이 바람직하다.The annular projection 13b may be provided either vertically or vertically, and the one or more annular projections 13b may be omitted from the cutout 13d. The size of the cutout portion 13d is not particularly limited, and the shape is not particularly limited. A semicircular shape, or a polygonal shape such as a substantially triangular shape or a substantially rectangular shape. The number and the interval are not particularly limited, but it is preferable to form six to twelve annular projections 13b at intervals of 30 to 60 degrees when viewed from the plane.

상기 서술한 바와 같이, 환형상 돌기(13b)에 설치하는 절결부(13d)의 크기, 형상, 수, 간격을 적당히 조정함으로써, 슬러리의 공급량 뿐만아니라 배액량의 조정이나 연마 부스러기의 배출 촉진, 피연마물의 볼록형상 곡면 부분(1a)과 평면 부분(1b)의 경계가 남지 않도록 하는 조정 등을 행할 수도 있다.By appropriately adjusting the size, shape, number and interval of the cutouts 13d provided in the annular projection 13b as described above, it is possible to adjust not only the feed amount of the slurry but also the amount of the slurry to be discharged, Adjustment such that the boundary between the convex curved surface portion 1a of the water and the flat surface portion 1b is not left can be performed.

상기 서술한 바와 같이 본 실시예의 연마 패드(13)는 폴리우레탄 수지가 함침된 부직포나, 발포 폴리우레탄 등의 소재에 의해 구성되어 있으며, 이들 소재는 이하의 성질을 가지고 있다.As described above, the polishing pad 13 of the present embodiment is made of a nonwoven fabric impregnated with a polyurethane resin or a material such as foamed polyurethane. These materials have the following properties.

상기 연마 패드(13)를 구성하는 소재에 있어서의 0.1mm 압축시의 압축 응력을 50~150gf/cm²의 범위로 하고, 또한 압축 응력의 비(0.5mm 압축시의 압축 응력/0.1mm 압축시의 압축 응력)를 5~30의 범위로 한다.The compressive stress at the time of compression of 0.1 mm in the material constituting the polishing pad 13 is set in the range of 50 to 150 gf / cm ² and the compressive stress ratio (compressive stress at the time of 0.5 mm compression / Is set in the range of 5 to 30.

또한 연마 패드(13)를 구성하는 소재에 있어서의 손실계수 tanδ를 0.150~0.420의 범위로 하고, 특히 상기 손실계수 tanδ의 범위가 초기 하중 20g, 뒤틀림 범위 1.0%, 온도 40℃, 주파수 60Hz, 압축 모드에 있어서 얻어지는 것이 보다 바람직하다. 또한 상기 손실계수 tanδ는 저장 탄성률(E') 및 손실 탄성률(E'')의 비, E''/E'를 나타내고 있다.Further, the loss coefficient tan? Of the material constituting the polishing pad 13 is set in the range of 0.150 to 0.420, and the range of the loss coefficient tan? Is set to an initial load of 20g, a distortion range of 1.0%, a temperature of 40 占 폚, Mode is more preferable. The loss coefficient tan? Represents the ratio of the storage elastic modulus E 'and the loss elastic modulus E' ', E' '/ E'.

상기 구성을 가지는 연마 패드(13)에 의하면 이하와 같은 효과를 얻을 수 있다.According to the polishing pad 13 having the above-described structure, the following effects can be obtained.

우선 연마 패드(13)를 구성하는 소재에 있어서의 0.1mm 압축시의 압축 응력은 50~150gf/cm²가 바람직하고, 60~150gf/cm²가 보다 바람직하다. 상기 서술한 수치 범위이면 연마 패드(13)에 가라앉은 피연마물(1)의 볼록형상 곡면 부분(1a)에 적절한 응력을 작용시킬 수 있으므로, 고정밀도의 경면 마무리 연마를 행할 수 있다.First compression stress at the time of 0.1mm compression of the material constituting the polishing pad 13 is a 50 ~ 150gf / cm ² are preferred, and more preferably 60 ~ 150gf / cm ^2. In the above-described numerical range, it is possible to exert an appropriate stress on the convex curved surface portion 1a of the object to be polished 1 that has settled on the polishing pad 13, so that highly accurate mirror-finished polishing can be performed.

0.1mm 압축시의 압축 응력이 50gf/cm²보다 작은 경우, 피연마물에 가해지는 응력이 지나치게 작기 때문에, 충분히 연마 가공을 행할 수 없어 연마 불균일이 되고, 150gf/cm²보다 큰 경우, 연마 부하가 커져 스크래치를 발생시키기 쉬워지기 때문에 바람직하지 않다.When the compressive stress at the time of compression of 0.1 mm is smaller than 50 gf / cm ² , the stress applied to the object to be polished is too small, so that the polishing can not be sufficiently performed and the polishing becomes uneven. When the compression stress is larger than 150 gf / cm ² , It is not preferable because it is liable to generate large scratches.

또 압축 응력의 비(0.5mm 압축시의 압축 응력/0.1mm 압축시의 압축 응력)는 5~30이 바람직하고, 5~20이 보다 바람직하다. 피연마물(1)의 가라앉음량이 변동해도, 피연마물(1)에 대해 안정적으로 응력을 계속 작용시켜, 연마 불균일이나 미연마부를 저감할 수 있다.The ratio of the compressive stress (compressive stress at the time of 0.5 mm compression / compressive stress at the time of 0.1 mm compression) is preferably 5 to 30, more preferably 5 to 20. Even if the sinking amount of the object to be polished 1 fluctuates, the stress can be stably applied to the object to be polished 1, thereby making it possible to reduce polishing irregularities and non-polished portions.

압축 응력의 비가 5보다 작으면 미소한 요철을 연마할 수 없어 연마 불균일이 되고, 반대로 30보다 크면 안정적인 응력이 피연마물(1)에 가해질 수 없어, 연마 불균일이 발생해버린다.If the ratio of the compressive stress is less than 5, the minute unevenness can not be polished and the polishing becomes uneven. On the contrary, if the ratio is larger than 30, stable stress can not be applied to the object to be polished 1, resulting in polishing unevenness.

구체적으로 설명하면 연마 전의 피연마물(1)의 볼록형상 곡면 부분(1a)에는 앞 공정에 있어서 미리 조연삭 가공만이 행해져 있거나 또는 미가공이기 때문에, 그 표면에는 연삭흔이나 버 등의 미소한 요철이 잔존하고 있고, 예를 들면 0.4mm정도의 표면 거칠기로 마무리되어 있다.Specifically, in the convex curved surface portion 1a of the object to be polished 1 before polishing, only rough grinding is carried out in the previous step, or since it is unprocessed, minute concavities and convexities such as grinding marks and burrs are formed on the surface And is finished with a surface roughness of, for example, about 0.4 mm.

연마시 연마 패드(13)와 피연마물(1)은 상대적으로 이동하고 있는 점에서, 상기 볼록형상 곡면 부분(1a)의 요철이 연마 패드(13)와 피연마물(1)의 접촉 부분에 당도함으로써, 피연마물(1)의 상기 연마 패드(13)의 상기 환형상 오목 연마부(13b)로의 가라앉음량이 변동한다.Since the polishing pad 13 and the object to be polished 1 are relatively moved during polishing, the irregularities of the convex curved surface portion 1a are brought into contact with the contact portion between the polishing pad 13 and the object to be polished 1 , The sinking amount of the object to be polished 1 to the annular concave polishing portion 13b of the polishing pad 13 varies.

또 본 실시예와 같이 연마 패드(13)를 고속 회전시키면, 구동 수단의 작동 등에 의해 진동이 커지기 때문에, 이 진동에 의해서도 상기 가라앉음량이 변동하게 된다.Also, when the polishing pad 13 is rotated at a high speed as in the present embodiment, the vibration becomes large due to the operation of the driving means and the like.

이렇게 하여 볼록형상 곡면 부분(1a)의 요철이나 진동에 의해 가라앉음량이 변동했다고 해도, 본 실시예의 연마 패드(13)의 소재가 상기 성질을 가지고 있는 점에서, 피연마물(1)에 대하여 안정적으로 응력을 계속 작용시킬 수 있어, 연마 불균일을 저감하도록 되어 있다.Even if the amount of sinking fluctuates due to the concavity and convexity of the convex-shaped curved surface portion 1a in this way, the material of the polishing pad 13 of the present embodiment has the above-described properties, So that stress can be continuously applied, thereby reducing polishing unevenness.

이어서 본 실시예의 연마 패드(13)를 구성하는 소재의 손실계수 tanδ는 0.15~0.420이 바람직하고, 0.350~0.420이 보다 바람직하다. tanδ의 값이 상기 서술한 범위이면 연마 균일성이 우수한 연마가 가능하게 된다.Then, the loss coefficient tan? Of the material constituting the polishing pad 13 of the present embodiment is preferably 0.15 to 0.420, more preferably 0.350 to 0.420. When the value of tan? is within the above-mentioned range, polishing with excellent polishing uniformity becomes possible.

구체적으로 설명하면 연마 패드(13)는 피연마물(1)이 환형상 오목 연마부(13a)에 가라앉는 방향에 대하여 수직인 축을 중심으로 회전하고 있기 때문에, 피연마물(1)에 있어서의 볼록형상 곡면 부분(1a)의 정부가 과잉하게 연마되는 경향이 있다.Specifically, since the polishing pad 13 is rotated around an axis perpendicular to the direction in which the object 1 to be sunk into the annular concave polishing portion 13a, the convex shape of the object 1 to be polished The portion of the curved surface portion 1a tends to be excessively polished.

그래서 상기 손실계수 tanδ의 범위를 설정함으로써, 피연마물(1)이 연마 패드(13)에 가라앉을 때에 있어서의 피연마물(1)로부터 받는 응력을 적당히 흡수시켜, 이것에 의해 볼록형상 곡면 부분(1a) 전체가 균일하게 연마하도록 하고 있다.Therefore, by setting the range of the loss coefficient tan ?, the stress received from the object 1 to be smoothed when the object to be polished 1 sinks on the polishing pad 13 is suitably absorbed, whereby the convex surface portion 1a ) Is uniformly polished.

이에 대해, 손실계수 tanδ가 0.150보다 작은 경우, 연마 패드(13)가 변위를 흡수할 수 없어, 볼록형상 곡면 부분(1a)의 정부가 과잉하게 연마되어, 정부로부터 떨어진 개소에서는 미연마부가 발생하거나, 또 볼록형상 곡면 부분(1a) 전역에 균등하게 응력이 가해지지 않기 때문에 연마 불균일이 발생하게 된다.On the other hand, when the loss coefficient tan? Is smaller than 0.150, the polishing pad 13 can not absorb the displacement and the portion of the convex curved surface portion 1a is excessively polished, so that unevenly- , And the stress is not evenly applied to the entire convex-shaped curved surface portion 1a, resulting in polishing unevenness.

한편, 손실계수 tanδ가 0.420보다 큰 경우, 연마 패드(13)의 점성이 커지고, 연마 지립이 연마 패드(13) 내에 메워져들어가기 쉬워져, 연삭력이 저하하기 때문에 바람직하지 않다.On the other hand, when the loss coefficient tan? Is larger than 0.420, the viscosity of the polishing pad 13 becomes large, abrasive grains are easily filled in the polishing pad 13, and the grinding force is lowered.

그리고 본 실시예에서는 특히 실제의 연마 가공부의 연마 열 온도, 즉 40℃에 있어서 손실계수 tanδ의 범위를 상기 범위로 함으로써, 실제의 연마 가공시에 있어서의 양호한 연마 성능을 얻을 수 있다.In this embodiment, in particular, by setting the range of the loss coefficient tan? At 40 占 폚 to the polishing temperature range of the actual polishing portion in the above-described range, it is possible to obtain good polishing performance at the time of actual polishing.

도 5는 본 발명에 따른 발명품 1~3 및 비교를 위해서 준비한 비교품 1, 2에 대한 실험 결과를 나타내고, 이 실험에서는 이들 발명품 1~3 및 비교품 1, 2에 대한 0.1mm 압축시의 압축 응력(gf/cm²), 압축 응력의 비(0.5mm 압축시의 압축 응력/0.1mm 압축시의 압축 응력), 손실계수 tanδ, 육안에 의한 연마 불균일의 유무, 육안에 의한 스크래치의 유무, 육안에 의한 미연마부의 유무에 대해서 각각 측정을 행했다.FIG. 5 shows experimental results of the inventions 1 to 3 according to the present invention and the comparative articles 1 and 2 prepared for comparison. In this experiment, the compressibility of the inventions 1 to 3 and the comparative articles 1 and 2 at 0.1 mm compression (Gf / cm ² ), the ratio of compressive stress (compressive stress at 0.5 mm compression / compressive stress at 0.1 mm compression), loss coefficient tanδ, presence or absence of scratches due to naked eyes, The presence or absence of the unfired portion was measured.

이하, 상기 발명품 1~3 및 비교품 1, 2를 얻기 위한 순서에 대해서 설명한다.Hereinafter, a procedure for obtaining the above-mentioned Inventions 1 to 3 and Comparative Products 1 and 2 will be described.

우선, 발명품 1에 따른 연마 패드는 발포 폴리우레탄제로 되어 있고, 구체적으로는 이하의 제조 과정에 의해 제조를 행했다.First, the polishing pad according to invention 1 was made of foamed polyurethane, and specifically, the production was carried out by the following manufacturing process.

우선, 제1 성분의 프리폴리머로서 2,4-TDI와 수 평균 분자량 약1000의 PTMG를 반응시킴으로써 얻어진 이소시아네이트기 함유 우레탄 프리폴리머(288질량부)를 50℃로 가열하여 감압하에서 탈포했다. 이 프리폴리머에서는 이소시아네이트 함유량이 7.7%였다.First, an isocyanate group-containing urethane prepolymer (288 parts by mass) obtained by reacting 2,4-TDI as a first component prepolymer with PTMG having a number average molecular weight of about 1000 was heated to 50 占 폚 and defoamed under reduced pressure. In this prepolymer, the isocyanate content was 7.7%.

또 제2 성분은 조제(粗製) MOCA(50질량부), 수 평균 분자량 약1000의 PTMG(50질량부), 물(0.52질량부), 촉매(0.3질량부), 실리콘계 계면활성제(0.3질량부)를 각각 첨가하고, 50℃에서 교반 혼합한 후, 감압하에서 탈포했다.(50 parts by mass), a water (0.52 parts by mass), a catalyst (0.3 parts by mass), a silicone surfactant (0.3 parts by mass) ) Were respectively added, stirred at 50 ° C, and then defoamed under reduced pressure.

그리고 이들 제1 성분:제2 성분을 질량비로 100:43의 비율로 혼합기에 36kg/min의 유량으로 공급하고, 아울러 혼합기의 교반 로터에 설치된 노즐로부터 공기를 35L/min의 유량으로 공급했다.The first component and the second component were supplied to the mixer at a flow rate of 100: 43 in a mass ratio of 36 kg / min, and air was supplied at a flow rate of 35 L / min from a nozzle provided in the stirring rotor of the mixer.

계속해서 얻어진 혼합액을 형 프레임(890mm×890mm)에 주형(注型)하고 경화시킨 후, 형성된 폴리우레탄 수지 발포체를 프레임으로부터 빼냈다.Subsequently, the resulting mixed solution was cast into a mold frame (890 mm x 890 mm) and cured, and the formed polyurethane resin foam was taken out of the frame.

마지막으로 이 발포체를 9.0mm의 두께로 슬라이스하여 우레탄 시트를 제작하고, 이것을 외경 40.0mm의 원반형상으로 잘라냄과 아울러 그 측면에 반경 3.5mm의 반원형상의 환형상 오목 연마부(13a)를 설치하고, 환형상 오목 연마부(13a)에 대응하는 상하 2개소의 환형상 돌기(13b)에 반경 2.5mm의 반원형상의 절결부(13d)를 평면에서 보아 60° 간격 즉 각 6개소씩 설치하고, 또 원반 중앙부에 연마 지그(11)에 고정하기 위한 관통 구멍을 설치함으로써 상기 형상의 연마 패드(13)를 얻었다. 또한 절결부(13d)는 환형상 돌기(13b)의 두께 방향 상하 모두 평면에서 보아 동일한 위치에 설치했다.Finally, the foam was sliced to a thickness of 9.0 mm to produce a urethane sheet, which was cut into a disc shape having an outer diameter of 40.0 mm, and a semi-circular annular concave polished portion 13a having a radius of 3.5 mm was provided on its side surface Circular cutouts 13d having a radius of 2.5 mm are provided at six intervals at intervals of 60 占 from the top in plan view at the upper and lower annular projections 13b corresponding to the annular concave polished portions 13a, A through hole for fixing the polishing pad to the polishing jig 11 was provided at the central portion of the disk to obtain the polishing pad 13 of the above shape. Further, the notch portion 13d is provided at the same position in the upper and lower sides in the thickness direction of the annular projection 13b as seen from the plane.

발명품 2에 따른 연마 패드(13)는 폴리우레탄 수지를 함침시킨 부직포제로 되어 있으며, 구체적으로는 이하의 제조 과정에 의해 제조를 행했다.The polishing pad 13 according to the invention 2 is made of a nonwoven fabric impregnated with a polyurethane resin. Specifically, the polishing pad 13 was produced by the following production process.

우선, 100% 모듈러스가 6MPa인 폴리에테르계 폴리우레탄 수지를 30질량% 포함하는 DMF 용액 53질량부에 추가로 용매로서 DMF 47질량부를 가한 수지 용액을 조제했다.First, a resin solution was prepared by adding 47 parts by mass of DMF as a solvent to 53 parts by mass of a DMF solution containing 30% by mass of a polyether-based polyurethane resin having a 100% modulus of 6 MPa.

또한 모듈러스는 수지의 반발력을 나타내는 지표이며, 무발포의 수지 시트를 100% 늘였을 때(원래 길이의 2배로 늘였을 때)에 걸리는 하중을 신장 전의 단면적으로 나눈 값을 100% 모듈러스라고 부른다. 이 값이 높을수록 변형하기 어려운 수지인 것을 의미한다.The modulus is an index indicating the repulsive force of the resin, and the value obtained by dividing the load applied when the resin sheet without foaming is stretched by 100% (when stretched to twice the original length) divided by the cross-sectional area before stretching is referred to as 100% modulus. The higher the value, the more difficult it is to deform the resin.

한편 시트형상의 섬유 기재를 준비하고, 당해 섬유 기재는 섬유 재료가 PET인 부직포이며, 섬도 및 섬유 길이가 2.2dtex×51mm, 3.3dtex×51mm의 질량비 1:2의 혼합물이며, 두께가 12mm, 단위면적당 중량은 1500g/m²였다.On the other hand, a sheet-like fibrous base material was prepared, and the fibrous base material was a nonwoven fabric in which the fiber material was PET, and the mixture had a fineness and fiber length of 2.2 dtex x 51 mm and a mass ratio of 1: 2 of 3.3 dtex x 51 mm. The weight per area was 1500 g / m ² .

계속해서 상기 조정한 수지 용액에 상기 섬유 기재를 침지한 후, 1쌍의 롤러 사이를 가압 가능한 맹글 롤러를 사용하여 수지 용액을 짜서, 섬유 기재에 수지 용액을 대략 균일하게 함침시켰다.Subsequently, the fiber substrate was immersed in the adjusted resin solution, and a resin solution was squeezed between a pair of rollers using a pressable mangle roller to impregnate the fiber substrate with the resin solution substantially uniformly.

또한 상기 수지 용액을 함침한 섬유 기재를 실온의 물로 이루어지는 응고액 중에 침지하여, 폴리에테르계 폴리우레탄 수지를 응고 재생시켜 전구체 시트를 얻고, 당해 전구체 시트를 응고액으로부터 꺼내어 물로 이루어지는 세정액에 침지하여 DMF를 제거함과 아울러, 또한 건조시키고나서 표면의 스킨층을 슬라이스에 의해 제거하여, 두께 9.0mm의 연마 패드용 시트를 얻었다. 이어서 이것을 외경 40.0mm의 원반형상으로 잘라냄과 아울러 그 측면에 반경 3.5mm의 반원형상의 환형상 오목 연마부(13a)를 설치하고, 환형상 오목 연마부(13a)에 대응하는 2개소의 환형상 돌기(13b)에 반경 2.5mm의 반원형상의 절결부(13d)를 평면에서 보아 60° 간격 즉 각 6개소씩 설치하고, 또 원반 중앙부에 연마 지그(11)에 고정하기 위한 관통 구멍을 설치함으로써 상기 형상의 연마 패드(13)를 얻었다. 또한 절결부(13d)는 환형상 돌기(13b)의 두께 방향 상하 모두 평면에서 보아 동일한 위치에 설치했다.The fiber substrate impregnated with the resin solution is immersed in a coagulating solution composed of water at room temperature to coagulate and regenerate the polyether polyurethane resin to obtain a precursor sheet. The precursor sheet is taken out from the coagulating liquid, immersed in a washing liquid containing water, And then dried. Then, the skin layer of the surface was removed by a slice to obtain a sheet for a polishing pad having a thickness of 9.0 mm. Subsequently, this is cut into a disc having an outer diameter of 40.0 mm, and a semi-circular annular recessed abrasive portion 13a having a radius of 3.5 mm is provided on its side surface, and two circular annular abrasive portions 13a corresponding to the annular recessed abrasive portion 13a are provided A semi-circular notch 13d having a radius of 2.5 mm is provided on each of the projections 13b at intervals of 60 占 from the top in a plan view and a through hole is formed in the central portion of the disk to fix it to the polishing jig 11, Shaped polishing pad 13 was obtained. Further, the notch portion 13d is provided at the same position in the upper and lower sides in the thickness direction of the annular projection 13b as seen from the plane.

이어서 발명품 3에 따른 연마 패드(13)는 상기 발명품 2에 대하여 수지의 100% 모듈러스를 9MPa로 상이하게 하고, 그 이외에는 마찬가지의 공정에 의해 연마 패드(13)를 얻었다.Subsequently, the polishing pad 13 according to invention 3 was obtained in the same manner as above except that the 100% modulus of the resin was changed to 9 MPa with respect to the above-mentioned invention 2, and the polishing pad 13 was obtained.

그리고 비교품 1은 프리폴리머의 이소시아네이트기 함유량을 6.3%로 변경한 것 이외에는 발명품 1과 마찬가지의 방법으로 연마 패드(13)를 얻었다.In Comparative Example 1, the polishing pad 13 was obtained in the same manner as in Inventive Example 1 except that the isocyanate group content of the prepolymer was changed to 6.3%.

또 비교품 2는 수지의 100% 모듈러스를 34MPa로 변경한 것 이외에는 발명품 2와 마찬가지의 방법으로 연마 패드(13)를 얻었다.In Comparative Example 2, the polishing pad 13 was obtained in the same manner as in Inventive Example 2 except that the 100% modulus of the resin was changed to 34 MPa.

상기 연마 패드(13)의 압축 응력의 측정은 우선 연마 패드(13)를 구성하는 소재를 12mm×12mm×15mm로 잘라내고, 당해 시험편을 시험기(시마즈세이사쿠쇼제, 마이크로 오토그래프, MST-I)의 대 상의 중앙에 압축 방향이 15mm가 되도록 설치하고, 또한 직경 20mm의 원형상의 가압판(평판)을 0.1mm/min의 속도로 0~8000gf/cm²의 하중을 가했다. 또한 시료편의 압축 방향의 두께가 1.5cm를 만족하지 않는 경우, 복수매 시험편을 겹쳐 합계 15mm의 두께가 되도록 하여 측정했다.In order to measure the compressive stress of the polishing pad 13, the material constituting the polishing pad 13 was cut into 12 mm x 12 mm x 15 mm and the test piece was tested with a tester (Shimazu Seisakusho Co., Ltd., Micro Autograph, MST-I) A circular compression plate (flat plate) having a diameter of 20 mm was loaded at a rate of 0 to 8000 gf / cm ² at a rate of 0.1 mm / min. When the thickness of the sample piece in the compression direction did not satisfy 1.5 cm, a plurality of test pieces were stacked so that the total thickness was 15 mm.

그리고 가압판이 시험편에 0.1mm 가라앉았을 때와, 0.5mm 가라앉았을 때에 있어서의 압축 응력을 구하고, 또한 산출한 압축 응력으로부터 압축 응력의 비(0.5mm 압축시의 압축 응력/0.1mm 압축시의 압축 응력)를 산출했다.The compressive stress at the time when the pressure plate was settled to 0.1 mm on the test piece and when it was set to 0.5 mm was found and the ratio of the compressive stress from the calculated compressive stress (compressive stress at the time of 0.5 mm compression / ).

그 결과 발명품 1에 있어서의 0.1mm 압축시의 압축 응력은 64gf/cm²이며, 압축 응력의 비(0.5mm 압축시의 압축 응력/0.1mm 압축시의 압축 응력)는 8.0이었다.As a result, the compressive stress at the time of 0.1 mm compression in Inventive Example 1 was 64 gf / cm ² , and the ratio of compressive stress (compressive stress at 0.5 mm compression / compressive stress at 0.1 mm compression) was 8.0.

발명품 2에 있어서의 0.1mm 압축시의 압축 응력은 104gf/cm²이며, 압축 응력의 비(0.5mm 압축시의 압축 응력/0.1mm 압축시의 압축 응력)는 17.7이었다.The compressive stress at the compression of 0.1 mm in the invention 2 was 104 gf / cm ² , and the ratio of compressive stress (compression stress at the time of 0.5 mm compression / compressive stress at the time of compression of 0.1 mm) was 17.7.

발명품 3에 있어서의 0.1mm 압축시의 압축 응력은 128gf/cm²이며, 압축 응력의 비(0.5mm 압축시의 압축 응력/0.1mm 압축시의 압축 응력)는 23.4였다.The compression stress at the time of 0.1 mm compression in the invention 3 was 128 gf / cm ² , and the compression stress ratio (compression stress at the time of 0.5 mm compression / compressive stress at the time of 0.1 mm compression) was 23.4.

비교품 1에 있어서의 0.1mm 압축시의 압축 응력은 39gf/cm²이며, 압축 응력의 비(0.5mm 압축시의 압축 응력/0.1mm 압축시의 압축 응력)는 4.8이었다.The comparative article 1 had a compressive stress of 39 gf / cm < ² > at the time of 0.1 mm compression, and a compressive stress ratio (compressive stress at the time of 0.5 mm compression / compressive stress at the time of compression of 0.1 mm) was 4.8.

비교품 2에 있어서의 0.1mm 압축시의 압축 응력은 192gf/cm²이며, 압축 응력의 비(0.5mm 압축시의 압축 응력/0.1mm 압축시의 압축 응력)는 32.1이었다.The comparative article 2 had a compressive stress of 192 gf / cm < ² > at the time of 0.1 mm compression, and a compressive stress ratio (compressive stress at the time of 0.5 mm compression / compressive stress at the time of compression of 0.1 mm) was 32.1.

상기 연마 패드(13)의 손실계수(tanδ)는 동적 점탄성 측정 장치(티·에이·인스트루먼트·재팬 가부시키가이샤제, RSA-III)를 사용하여 측정했다.The loss coefficient (tan?) Of the polishing pad 13 was measured using a dynamic viscoelasticity measuring device (RSA-III made by Japan Aerospace Exploration Co., Japan).

구체적으로는 발명품 및 비교품의 연마 패드(13)로부터 5mm×5mm의 시험편을 채취하고, 이 시험편을 동적 점탄성 측정 장치를 사용하여, 초기 하중 20g, 뒤틀림 범위 1.0%, 온도 40℃에서의 주파수 1~70Hz 범위에 있어서 서서히 주파수를 변화시켰을 때의 저장 탄성률 E' 및 손실 탄성률 E''을 압축 모드에 의해 측정하고, 또한 이들 값으로부터 60Hz일 때의 손실계수 tanδ를 산출했다.Concretely, test pieces of 5 mm x 5 mm were taken from the polishing pad 13 of the inventions and the comparative products, and the test specimens were subjected to an initial load of 20 g, a warping range of 1.0% and a frequency of 1 - The storage elastic modulus E 'and the loss elastic modulus E' 'when the frequency was gradually changed in the range of 70 Hz to 70 Hz were measured by the compression mode and the loss coefficient tan δ at 60 Hz was calculated from these values.

상기 설정한 주파수에 대해서는 연마 패드(13)의 회전수(3000rpm)에 대응하여 60Hz로 했다.The set frequency was set to 60 Hz corresponding to the number of revolutions (3000 rpm) of the polishing pad 13.

그 결과 발명품 1의 손실계수 tanδ는 0.390, 발명품 2는 0.153, 발명품 3은 0.169였다.As a result, the loss coefficient tan delta of Inventive Item 1 was 0.390, Inventive Item 2 was 0.153, and Inventive Item 3 was 0.169.

이에 대해, 비교품 1의 손실계수 tanδ는 0.262, 비교품 2는 0.147이었다.On the other hand, the loss factor tan? Of the comparative article 1 was 0.262 and that of the comparative article 2 was 0.147.

그리고 연마 패드(13)의 연마 불균일의 평가, 스크래치의 평가 및 미연마부의 유무의 평가에 대해서는 이하의 연마 조건하에서 실제로 연마를 행한 피연마물(1)을 관찰하여 행했다.The evaluation of the polishing unevenness of the polishing pad 13, the evaluation of the scratch, and the evaluation of the presence or absence of the unburned portion were carried out by observing the object 1 to be polished actually under the following polishing conditions.

피연마물(1)로서는 외주에 연삭된 곡면을 가지는 스테인레스판을 사용하고, 슬러리로서 pH10의 100% 알루미나 슬러리를 90cc/min의 유량으로 피연마물(1)과 연마 패드(13) 사이에 공급함과 아울러, 상기 연마 패드(13)를 회전수 3000rpm으로 회전시키면서, 피연마물(1)의 외주를 80mm/분의 속도로 이동시켜 연마를 행했다. 또한 연마 중에는 상시 연마 패드(13)를 피연마물에 0.1mm정도 가라앉혀 연마를 행했다.As the object 1 to be polished, a stainless steel plate having a curved outer surface was used, and a 100% alumina slurry of pH 10 as a slurry was supplied between the object 1 and the polishing pad 13 at a flow rate of 90 cc / min, , And the periphery of the object to be polished 1 was moved at a speed of 80 mm / min while rotating the polishing pad 13 at a rotation speed of 3000 rpm to perform polishing. During polishing, the polishing pad 13 was always placed on the object to be polished by about 0.1 mm to perform polishing.

그리고 연마가 종료된 피연마물(1)에 대해서 연마 불균일에 대해서 육안에 의한 확인을 행했다. 구체적으로는 광택 정도가 피연마물(1)의 피연마면 상의 장소에 따라 차가 없는 경우를 ○로 하고, 광택도가 장소에 따라 차가 보인 경우에 ×라고 평가했다.Then, the object to be polished (1) whose polishing was finished was checked visually for unevenness of polishing. Concretely, the case where there was no difference in glossiness depending on the place on the surface to be polished of the article to be polished 1 was evaluated as & cir &

그 결과 발명품 1~3에 대해서는 평가가 ○이며, 비교품 1, 2에 대해서는 평가가 ×가 되는 결과가 얻어졌다.As a result, the evaluation was evaluated as ○ for Inventions 1 to 3, and the evaluation was evaluated as × for Comparative Products 1 and 2.

한편, 스크래치에 대해서는 연마 후의 피연마물(1)에 대하여 육안으로 확인했다. 선형상의 상처가 1개도 확인되지 않은 경우를 ○, 1개 이상 확인된 경우를 ×라고 평가했다.On the other hand, regarding the scratches, the object to be polished (1) after polishing was visually confirmed. A case where no linear scratches were confirmed was evaluated as " o ", and a case where one or more scratches were confirmed was evaluated as " x ".

또 미연마부의 유무에 대해서는 피연마물(1)에 있어서의 볼록형상 곡면 부분(1a)과 평면 부분(1b)의 경계 근방에 있어서, 연마할 수 없고 안개가 낀 것 같이 보이는 부분을 미연마부로 하여 육안에 의한 확인을 행하고, 미연마부를 확인할 수 없었던 것을 「없음」, 확인된 것을 「있음」으로 했다.With regard to the presence or absence of the non-burnished portion, a portion which can not be polished and appears to be fogged in the vicinity of the boundary between the convex curved surface portion 1a and the planar portion 1b in the object to be polished 1 is set as an un- The confirmation by the naked eye was performed, and the case where the non-burned portion was not confirmed was indicated as "none", and the confirmed condition was defined as "existed".

그 결과 발명품 1~3에 대해서는 연마 불균일, 스크래치, 미연마부에 대한 평가가 ○ 및 「없음」이 양호한 결과이며, 이에 대해 비교품 1은 연마 불균일 및 스크래치에 대한 평가가 ○였지만, 미연마부에 대한 평가가 「있음」이며, 비교품 2에 대해서는 연마 불균일, 스크래치, 미연마부에 대한 평가가 모두 × 및 「있음」이 되는 불량한 결과가 얻어졌다.As a result, Inventive products 1 to 3 showed good results in evaluation of polishing unevenness, scratches, and non-burned parts of the comparative article 1 and that of "no". On the contrary, in the comparative article 1, evaluation of polishing unevenness and scratch was " The evaluation was "Yes", and the comparative product 2 was evaluated as "poor", "scratch" and "unburned portion" were all unsatisfactory.

1…피연마물
1a…볼록형상 곡면 부분
2…연마 장치
13…연마 패드
13a…환형상 오목 연마부
13b…환형상 돌기
13d…절결부One… Working material
1a ... Convex curved surface portion
2… Abrasive device
13 ... Abrasive pad
13a ... The annular concave polishing portion
13b ... Annular projection
13d ... The cut-

Claims

A polishing pad for polishing a convex curved surface portion of a subject to be polished having a convex curved surface portion is provided with a disk-like elastic body on the side of an elastic body, placing a ring-like concave polished into contact with water, the convex curved surface portion, the annular concave grinding compression stress at the time of 0.1mm compression of the elastic body constituting portion is in the range of 50 ~ 150gf / cm ^2, in addition, the ratio (compression stress of 0.5 mm compression stress at compression / compression stress at 0.1 mm compression) is in the range of 5 to 30.

The method according to claim 1, wherein an initial load of 20 g of the elastic body constituting the annular concave polished portion, a distortion range of 1.0%, a temperature of 40 캜, a frequency of 60 Hz, and a loss coefficient tan δ measured in a compression mode are in a range of 0.150 to 0.420 Features a polishing pad.

The polishing pad according to any one of claims 1 to 4, wherein a hole is formed in the surface of the annular concave polishing portion.

The polishing apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the annular concave polishing portion has a larger diameter than the convex curved portion of the object to be polished, and when the vertex of the object to be polished contacts the bottom of the annular concave polishing portion , The annular projection located at both end portions in the thickness direction of the annular concave polishing portion is spaced apart from the flat portion adjacent to the convex curved portion of the object to be polished,
Characterized in that the object to be polished is sagged by the pressing force at the time of polishing on the annular recessed abrasive portion so that the annular recessed abrasive portion deforms so that the annular projection is in close contact with the flat portion of the object to be polished Polishing pad.

The polishing pad according to any one of claims 1 to 4, wherein the annular projection is provided with notches at predetermined intervals along at least one circumferential direction of at least one of both end portions in the thickness direction.