KR20160137700A - 연속처리방식의 탈취 시스템 - Google Patents

연속처리방식의 탈취 시스템 Download PDF

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Abstract

본 발명은 내측에 채워지는 제올라이트에 의해 내측을 통과하는 기체에 포함되는 악취를 제거하도록 다수로 마련되는 탈취부; 탈취부 각각에 악취 포함 기체가 공급되어 탈취를 마치고서 외부로 배출되기 위한 경로를 제공하는 제 1 이송라인; 제 1 이송라인을 따라 악취 포함 기체가 이송되도록 하는 펌프; 제 1 이송라인을 통한 탈취부 각각에 대한 악취 포함 기체의 공급을 개폐시키도록 제 1 이송라인에 설치되는 제 1 개폐부; 제올라이트의 재생을 위한 마이크로웨이브를 탈취부 각각의 내측에 출력하도록 설치되는 마이크로웨이브발생부; 탈취부 각각에 흡입되는 외기의 흐름을 개폐시키는 제 2 개폐부; 탈취부 각각으로부터 제 2 이송라인을 통해 기체를 공급받아 플라즈마로 처리하여 외부로 배출시키는 플라즈마처리부; 및 탈취부로부터 배출되는 기체에 대해서 외부로의 배출과 플라즈마처리부로의 공급을 선택하도록 하는 제 3 개폐부;를 포함한 연속처리방식의 탈취 시스템에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 다수의 탈취부가 탈취 과정을 수행하면서 일부 탈취부에 대한 재생과정이 수행되도록 하여, 연속적인 탈취 과정이 가능하도록 할 뿐만 아니라, 뛰어난 탈취 효율을 유지할 수 있고, 탈취부에 대한 재생 효율이 우수하며, 저농도 악취의 대용량 처리를 가능하도록 하면서 고농도 악취에 대한 집중적인 플라즈마 처리에 의해 에너지 효율과 악취 처리 효율을 높일 수 있다.

Description

연속처리방식의 탈취 시스템{Continuous processing type deodorization system}
본 발명은 탈취 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 악취나 VOC(Volatile Organic Compounds)를 연속적이면서도 고효율로 처리할 수 있도록 하는 연속처리방식의 탈취 시스템에 관한 것이다.
일반적으로 산업이 발전하면서 그 부산물로서 산업 폐기물이 대량으로 발생하고 있으며, 도시로의 인구가 집중되면서 생활 폐기물의 발생 역시 크게 증가하고 있는 실정이다.
이러한 폐기물로는 도시의 밀집 주거에서 발생되는 대량의 음식물쓰레기, 하수처리시설에서 배출되는 각종 슬러지, 반도체 제조, 식품 가공, 제지 등의 공장과 같은 각종 산업시설로부터 배출되는 폐기물질, 축산농가에서 배출되는 축산분뇨 등을 들 수 있는데, 이러한 폐기물은 수분을 함유하고 있을 뿐만 아니라, 악취, VOC(Volatile Organic Compounds)(이하, "악취"라 함)를 유발하게 된다.
그러므로, 이러한 악취의 처리는 환경적으로 매우 중요한 역할을 하게 되며,이를 위해 다양한 탈취 시스템이 개발되어 적용되고 있다.
종래의 탈취 시스템과 관련된 기술로는, 한국등록특허 제10-0919689호의 "저온 플라즈마를 이용한 유해가스 탈취장치"가 제시된 바 있는데, 유해가스를 오염원로부터 송풍하는 송풍부; 및 상기 유해가스를 반응촉진제와 혼합 반응시켜 배기가스를 방출하게 하는 탈취부;를 포함하며, 상기 탈취부는 유입된 유해가스와 혼합되는 반응촉진제를 분사하는 반응촉진제 분사부와, 반응촉진제가 혼합된 유해가스를 플라즈마 반응하게 하는 반응부와, 상기 반응부를 통과한 유해가스를 확산하며 반응을 촉진하게 하는 가스혼합촉진부와, 상기 반응부 하측에 구비되어 유해가스를 확산 및 안정화시키기 위한 가스안정부로 이루어지며, 상기 송풍부와 탈취부 사이에는 상기 송풍부 측에서 유입된 유해가스 내부에 존재하는 이물질을 제거하는 전처리부;를 더 구비하고 있다.
그러나, 이와 같은 종래 기술은, 전처리부를 사용함으로써 탈취 과정을 수행함에 따라 전처리부의 교체 내지 유지보수로 인한 연속적인 사용을 어렵게 하고, 비교적 저농도의 악취인 경우라도 플라즈마 반응을 통해서만 탈취 작용을 수행함으로써 에너지 효율면에서 매우 불리할 뿐만 아니라, 대풍량 기체를 처리할 경우 대용량의 플라즈마 반응을 요구하게 되는 문제점을 가지고 있었다.
상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 연속적인 운전이 가능하도록 하면서 악취의 제거 효율이 우수하도록 하고, 에너지 효율 면에서 우수하도록 하는데 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적들은 이하의 실시례에 대한 설명을 통해 쉽게 이해될 수 있을 것이다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일측면에 따르면, 내측에 채워지는 제올라이트에 의해 내측을 통과하는 기체에 포함되는 악취를 제거하도록 다수로 마련되는 탈취부; 상기 탈취부 각각에 악취 포함 기체가 공급되어 탈취를 마치고서 외부로 배출되기 위한 경로를 제공하는 제 1 이송라인; 상기 제 1 이송라인을 따라 악취 포함 기체가 이송되도록 하는 펌프; 상기 제 1 이송라인을 통한 상기 탈취부 각각에 대한 악취 포함 기체의 공급을 개폐시키도록 상기 제 1 이송라인에 설치되는 제 1 개폐부; 상기 제올라이트의 재생을 위한 마이크로웨이브를 상기 탈취부 각각의 내측에 출력하도록 설치되는 마이크로웨이브발생부; 상기 탈취부 각각에 흡입되는 외기의 흐름을 개폐시키는 제 2 개폐부; 상기 탈취부 각각으로부터 제 2 이송라인을 통해 기체를 공급받아 플라즈마로 처리하여 외부로 배출시키는 플라즈마처리부; 및 상기 탈취부로부터 배출되는 기체에 대해서 외부로의 배출과 상기 플라즈마처리부로의 공급을 선택하도록 하는 제 3 개폐부;를 포함하고, 상기 제 1 내지 제 3 개폐부의 개폐 동작에 의해, 상기 악취 포함 기체가 상기 제 1 이송라인을 따라 상기 탈취부를 통과함으로써 탈취되어 외부로 배출되도록 하되, 상기 제올라이트에 대한 재생을 위하여 상기 악취 포함 기체의 공급이 차단된 상태에서 외기가 흡입되는 탈취부로부터 흡입되는 고농도 악취가 상기 플라즈마처리부로 공급되어 처리되도록 하는, 연속처리방식의 탈취 시스템이 제공된다.
상기 탈취부 각각이 순서적으로 설정된 시간 동안 상기 제올라이트에 대한 재생을 수행하도록 상기 제 1 내지 제 3 개폐부와 상기 마이크로웨이브발생부를 각각 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다.
상기 탈취부는, 상기 악취 포함 기체가 이동하는 경로를 따라 연장되도록 형성되는 챔버로 이루어지고, 상기 마이크로웨이브발생부는, 상기 챔버에서 상기 악취 포함 기체가 배출되는 측으로 치우치도록 설치될 수 있다.
상기 제 2 개폐부는, 밸브로 이루어지되, 상기 탈취부의 전단에 외기의 흡입 경로를 제공하도록 마련되는 흡기라인 상에 설치될 수 있다.
상기 플라즈마처리부는, 상기 제 2 이송라인 상에 설치되는 처리챔버; 상기 처리챔버에 공급되기 위한 전자기파를 발생시키는 마그네트론; 상기 마그네트론으로부터 발생되는 전자기파를 전송 및 집중시켜서 상기 처리챔버의 하부에 공급하는 웨이브가이드; 및 상기 처리챔버의 하부에 공급되는 전자기파를 점화시켜서 플라즈마 불꽃을 생성하도록 하는 이그니터;를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 연속처리방식의 탈취 시스템에 의하면, 다수의 탈취부가 탈취 과정을 수행하면서 일부 탈취부에 대한 재생과정이 수행되도록 하여, 연속적인 탈취 과정이 가능하도록 할 뿐만 아니라, 뛰어난 탈취 효율을 유지할 수 있고, 탈취부에 대한 재생 효율이 우수하며, 저농도 악취의 대용량 처리를 가능하도록 하면서 고농도 악취에 대한 집중적인 플라즈마 처리에 의해 에너지 효율과 악취 처리 효율을 높일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시례에 따른 연속처리방식의 탈취 시스템을 도시한 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시례에 따른 연속처리방식의 탈취 시스템의 동작을 설명하기 위한 구성도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시례에 따른 연속처리방식의 탈취 시스템의 다른 동작을 설명하기 위한 구성도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고, 여러 가지 실시례를 가질 수 있는 바, 특정 실시례들을 도면에 예시하고, 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니고, 본 발명의 기술 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 식으로 이해되어야 하고, 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시례에 한정되는 것은 아니다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시례를 상세히 설명하며, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성요소에 대해서는 동일한 참조 번호를 부여하고, 이에 대해 중복되는 설명을 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시례에 따른 연속처리방식의 탈취 시스템을 도시한 구성도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시례에 따른 연속처리방식의 탈취 시스템(100)은 탈취부(110,120), 제 1 이송라인(130), 펌프(140), 제 1 개폐부(150), 마이크로웨이브발생부(160,170), 제 2 개폐부(180,190), 플라즈마처리부(240) 및 제 3 개폐부(220,230)를 포함할 수 있으며, 이러한 구성에 의하여, 제 1 내지 제 3 개폐부(150,180,190,220,230)의 개폐 동작에 의해, 악취 포함 기체가 제 1 이송라인(130)을 따라 탈취부를 통과함으로써 탈취되어 외부로 배출되도록 하되, 제올라이트에 대한 재생을 위하여 악취 포함 기체의 공급이 차단된 상태에서 외기가 흡입되는 탈취부로부터 흡입되는 고농도 악취가 플라즈마처리부(240)로 공급되어 처리되도록 한다.
탈취부(110,120)는 내측에 채워지는 제올라이트(zeolite)에 의해 내측을 통과하는 기체에 포함되는 악취를 제거하도록 다수로 마련된다. 제올라이트는 비석(沸石)이라고도 하는데, 주로 알칼리 금속 또는 알칼리토류 금속을 함유하는 함수 알루미늄 규산염 광물의 일종으로(Si,Al)O4의 사면체가 입체망상으로 결합하고 있는 구조로 골격에 빈틈을 가지게 되는데, 결정구조 내에 있는 양이온의 작용, 분자체 효과, 이온교환성 등의 성질을 가지고서 기체에 포함되는 악취를 흡착하여 제거되도록 하며, 후술하게 될 마이크로웨이브발생부(160,170)로부터 출력되는 마이크로웨이브에 의해 흡착된 악취 물질이 분리됨으로써 재생되도록 한다.
탈취부(110,120)는 본 실시례에서 2개를 예로 들었으나, 이에 한하지 않고, 각각의 규격, 제올라이트의 수용량, 악취 포함 기체의 처리 용량 등을 고려하여 그 수를 달리할 수 있으며, 일례로 악취 포함 기체가 이동하는 경로를 따라 연장되도록 형성되는 육면체나 원통 또는 그 밖에 다양한 형태의 챔버로 이루어질 수 있다.
제 1 이송라인(130)은 탈취부(110,120) 각각에 악취 포함 기체가 공급되어 탈취를 마치고서 외부로 배출되기 위한 경로를 제공하는데, 일례로 본 실시례에서처럼 악취 포함 기체가 공급되는 메인라인(131)과, 메인라인(131)으로부터 분기되어 탈취부(110,120) 각각의 전측에 연결됨으로써, 메인라인(131)을 통해 공급되는 악취 포함 기체를 탈취부(110,120) 각각으로 분배하는 분기라인(132,133)과, 탈취부(110,120) 각각의 후측에 연결되어 탈취부(110,120)를 통과한 기체를 외부로 배출되도록 하는 배출라인(134,135)을 포함할 수 있다.
펌프(140)는 제 1 이송라인(130)을 따라 악취 포함 기체가 이송되기 위한 펌핑력을 제공하고, 나아가서 제올라이트(111,121))에 대한 재생시 외기가 공급되는 탈취부(110,120)로부터 고농도의 악취가 플라즈마처리부(240)로 흡입되기 위한 펌핑력을 제공할 수 있다. 펌프(140)는 본 실시례에서처럼 제 1 이송라인(130)에서 탈취부(110,120) 각각의 후단에 설치됨을 나타내나, 탈취부(110,120)의 전단이나 제 2 이송라인(210) 등에 설치될 수 있으며, 본 실시례에서처럼 탈취부(110,120) 각각에 대응하도록 설치될 수 있고, 이와 달리 설치되는 위치에 따라 상기한 바와 같은 역할을 수행하는 범위 내에서 단일로도 이루어질 수 있다.
제 1 개폐부(150)는 제 1 이송라인(130)을 통한 탈취부(110,120) 각각에 대한 악취 포함 기체의 공급을 개폐시키도록 제 1 이송라인(130)에 설치되는데, 일례로 본 실시례에서처럼 3방향 밸브로 이루어지거나, 3방향 밸브를 대체하기 위한 다수의 양방향 밸브로 이루어질 수 있으며, 탈취부(110,120)의 개수에 따라 그 수를 달리할 수 있다.
마이크로웨이브발생부(160,170)는 탈취부(110,120) 각각의 내측에 채워진 제올라이트(111,121)의 재생을 위한 마이크로웨이브를 탈취부(110,120) 각각의 내측에 출력하도록, 일례로 탈취부(110,120)의 측부에 설치될 수 있는데, 탈취부(110,120), 즉 챔버에서 악취 포함 기체가 배출되는 측으로 치우치도록 설치될 수 있으며, 이로 인해 탈취부(110,120)로부터 흡입되어 배출되는 고농도의 악취 제거가 최대한 균일하게 이루어지도록 할 수 있다. 또한 마이크로웨이브발생부(160,170)는 일례로 마그네트론으로 이루어질 수 있다.
제 2 개폐부(180,190)는 탈취부(110,120) 각각에 흡입되는 외기의 흐름을 개폐시키도록 설치되는데, 일례로 밸브로 이루어지되, 탈취부(110,120)의 전단에 외기의 흡입 공급 경로를 제공하도록 마련되는 흡기라인(181,191) 상에 각각 설치될 수 있다. 여기서 흡기라인(181,191)은 탈취부(110,120)의 전단에 위치하도록 일례로 탈취부(110,120)의 전측에 연결되거나, 다른 예로서 본 실시례에서처럼 탈취부(110,120)의 전단에 연결되는 분기라인(132,133) 각각에 연결될 수 있다.
플라즈마처리부(240)는 탈취부(110,120) 각각으로부터 제 2 이송라인(210)을 통해 기체를 공급받아 플라즈마로 탈취시켜서 외부로 배출시키도록 한다. 플라즈마처리부(240)는 일례로 제 2 이송라인(210) 상에 설치되어 탈취부(110,120)로부터 공급되는 기체가 통과하도록 하는 처리챔버(241)와, 처리챔버(241)에 공급되기 위한 전자기파를 발생시키는 마그네트론(242)과, 마그네트론(242)으로부터 발생되는 전자기파를 전송 및 집중시켜서 처리챔버(241)의 하부에 공급하는 웨이브가이드(243)와, 처리챔버(241)의 하부에 공급되는 전자기파를 점화시켜서 플라즈마 불꽃을 생성하도록 하는 이그니터(244)를 포함할 수 있다.
제 3 개폐부(220,230)는 탈취부(110,120)로부터 배출되는 기체에 대해서 외부로의 배출과 플라즈마처리부(240)로의 공급을 선택하도록 하는데, 일례로 본 실시례에서처럼 배출라인(134,135)과 제 2 이송라인(210)의 연결부위에 설치되는 3방향 밸브로 이루어지거나, 다른 예로서 배출라인(134,135)과 제 2 이송라인(210)에 각각 설치되는 양방향 밸브로 이루어질 수 있으며, 탈취부(110,120)의 개수에 따라 그 개수를 적절히 정할 수 있다.
본 발명의 일 실시례에 따른 연속처리방식의 탈취 시스템(100)은 탈취부(110,120) 각각이 순서적으로 설정된 시간 동안 제올라이트(111,121)에 대한 재생을 수행하도록 제 1 내지 제 3 개폐부(150,180,190,220,230)와 마이크로웨이브발생부(160,170)를 각각 제어하도록 하는데, 이에 대한 상세한 동작에 대해서 후술하기로 한다. 한편, 제 1 내지 제 3 개폐부(150,180,190,220,230)는 제어부(250)의 제어신호에 의해 동작하도록 제어밸브로 이루어질 수 있다.
이와 같은 본 발명에 따른 연속처리방식의 탈취 시스템의 작용을 설명하기로 한다.
도 2에서와 같이, 비교적 저농도인 악취를 포함하는 대풍량 기체의 경우, 펌프(140)의 펌핑력에 의해 제 1 이송라인(130)을 통해서, 제올라이트(111)에 대한 재생이 불필요한 탈취부(110)를 통과함으로써 탈취되어 외부로 배출된다("A" 경로). 이때, 제 1 개폐부(150)의 동작에 의해 재생이 불필요한 탈취부(110)로의 악취 포함 기체 공급을 허용하면서, 제 2 개페부(180)의 동작에 의해 외기가 재생이 불필요한 탈취부(110)로 유입되는 것을 차단하도록 함과 아울러, 제 3 개폐부(220)의 동작에 의해 재생이 불필요한 탈취부(110)를 통과한 기체가 제 2 이송라인(210)으로 공급되는 것을 차단하도록 한다.
한편 탈취부(110,120) 중에서 계속적인 탈취 과정에 의해 제올라이트(121)에 대한 재생이 필요한 탈취부(120)의 경우, 제 1 개폐부(150)의 동작에 의해 비교적 저농도 악취를 포함하는 대풍량 기체의 공급이 차단된 상태에서, 제 2 개폐부(190)의 개폐동작에 의해 외기가 재생이 필요한 탈취부(120)에 공급되도록 함과 아울러, 제 3 개폐부(230)의 동작에 의해 재생이 필요한 탈취부(120)로부터 흡입되는 기체가 외부로 직접 배출되지 않고 제 2 이송라인(210)을 통해서 플라즈마처리부(240)를 거쳐서 배출되도록 함으로써 재생이 필요한 탈취부(120)로부터 비교적 고농도 악취가 포함된 소풍량 기체가 플라즈마처리부(240)에서 탈취 처리되도록 한다("B" 경로)
한편, 도 3에서와 같이, 상기한 탈취부(110,120)에 대한 저농도 악취의 대풍량 기체에 대한 탈취 처리("C"경로)와, 고농도 악취의 소풍량 기체에 대한 탈취 처리, 즉 재생처리("D" 경로)를 도 2와는 서로 반대로 수행할 수 있다.
상기한 바와 같은 동작들은 제어부(250)의 제어에 의해 정해진 순서와 정해진 시간 동안 탈취부(110,120) 각각에 대한 제올라이트(111,121)의 재생이 수행되도록 할 수 있다.
이와 같이, 본 발명에 따르면, 다수의 탈취부가 탈취 과정을 수행하면서 일부 탈취부에 대한 재생과정이 수행되도록 하여, 연속적인 탈취 과정이 가능하도록 할 뿐만 아니라, 뛰어난 탈취 효율을 유지할 수 있고, 탈취부에 대한 재생 효율이 우수하며, 저농도 악취의 대용량 처리를 가능하도록 하면서 고농도 악취에 대한 집중적인 플라즈마 처리에 의해 에너지 효율과 악취 처리 효율을 높일 수 있다.
이와 같이 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 설명하였으나, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 이루어질 수 있음은 물론이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시례에 한정되어서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이러한 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
110,120 : 탈취부 111,121 : 제올라이트
130 : 제 1 이송라인 131 : 메인라인
132,133 : 분기라인 134,135 : 배출라인
140 : 펌프 150 : 제 1 개폐부
160,170 : 마이크로웨이브발생부 180,190 : 제 2 개폐부
181,191 : 흡기라인 210 : 제 2 이송라인
220,230 : 제 3 개폐부 240 : 플라즈마처리부
241 : 처리챔버 242 : 마그네트론
243 : 웨이브가이드 244 : 이그니터

Claims (5)

  1. 내측에 채워지는 제올라이트에 의해 내측을 통과하는 기체에 포함되는 악취를 제거하도록 다수로 마련되는 탈취부;
    상기 탈취부 각각에 악취 포함 기체가 공급되어 탈취를 마치고서 외부로 배출되기 위한 경로를 제공하는 제 1 이송라인;
    상기 제 1 이송라인을 따라 악취 포함 기체가 이송되도록 하는 펌프;
    상기 제 1 이송라인을 통한 상기 탈취부 각각에 대한 악취 포함 기체의 공급을 개폐시키도록 상기 제 1 이송라인에 설치되는 제 1 개폐부;
    상기 제올라이트의 재생을 위한 마이크로웨이브를 상기 탈취부 각각의 내측에 출력하도록 설치되는 마이크로웨이브발생부;
    상기 탈취부 각각에 흡입되는 외기의 흐름을 개폐시키는 제 2 개폐부;
    상기 탈취부 각각으로부터 제 2 이송라인을 통해 기체를 공급받아 플라즈마로 처리하여 외부로 배출시키는 플라즈마처리부; 및
    상기 탈취부로부터 배출되는 기체에 대해서 외부로의 배출과 상기 플라즈마처리부로의 공급을 선택하도록 하는 제 3 개폐부;를 포함하고,
    상기 제 1 내지 제 3 개폐부의 개폐 동작에 의해, 상기 악취 포함 기체가 상기 제 1 이송라인을 따라 상기 탈취부를 통과함으로써 탈취되어 외부로 배출되도록 하되, 상기 제올라이트에 대한 재생을 위하여 상기 악취 포함 기체의 공급이 차단된 상태에서 외기가 흡입되는 탈취부로부터 흡입되는 고농도 악취가 상기 플라즈마처리부로 공급되어 처리되도록 하는, 연속처리방식의 탈취 시스템.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 탈취부 각각이 순서적으로 설정된 시간 동안 상기 제올라이트에 대한 재생을 수행하도록 상기 제 1 내지 제 3 개폐부와 상기 마이크로웨이브발생부를 각각 제어하는 제어부를 더 포함하는, 연속처리방식의 탈취 시스템.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 탈취부는,
    상기 악취 포함 기체가 이동하는 경로를 따라 연장되도록 형성되는 챔버로 이루어지고,
    상기 마이크로웨이브발생부는,
    상기 챔버에서 상기 악취 포함 기체가 배출되는 측으로 치우치도록 설치되는, 연속처리방식의 탈취 시스템.
  4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 제 2 개폐부는,
    밸브로 이루어지되, 상기 탈취부의 전단에 외기의 흡입 경로를 제공하도록 마련되는 흡기라인 상에 설치되는, 연속처리방식의 탈취 시스템.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 플라즈마처리부는,
    상기 제 2 이송라인 상에 설치되는 처리챔버;
    상기 처리챔버에 공급되기 위한 전자기파를 발생시키는 마그네트론;
    상기 마그네트론으로부터 발생되는 전자기파를 전송 및 집중시켜서 상기 처리챔버의 하부에 공급하는 웨이브가이드; 및
    상기 처리챔버의 하부에 공급되는 전자기파를 점화시켜서 플라즈마 불꽃을 생성하도록 하는 이그니터;
    를 포함하는, 연속처리방식의 탈취 시스템.
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