KR20160115805A - Drying apparatus, coating film forming system, drying method and coating film forming method - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 슬러리상의 도공액을 건조시키는 기술에 관한 것이다.The present invention relates to a technique for drying a coating liquid on a slurry.
특허문헌 1 에는, 복수의 지점에서, 기재 상의 도막의 온도를, 방사 온도계 또는 서모그래피로 구성되는 온도 측정부로 계측하는 것이 개시되어 있다. 또, 각 온도 측정부의 측정 결과에 기초하여, 하류측의 건조 노즐에 의한 건조 강도를, 상류측의 건조 노즐의 건조 강도보다 크게 하는 것이 개시되어 있다.Patent Document 1 discloses that, at a plurality of points, the temperature of a coating film on a substrate is measured by a temperature measuring section composed of a radiation thermometer or thermography. It is also disclosed that the drying strength by the drying nozzle on the downstream side is made larger than the drying strength of the drying nozzle on the upstream side based on the measurement results of the respective temperature measuring portions.
또, 특허문헌 2 에는, 기재에 대한 도막의 밀착력을 높이기 위해서, 도막이 도공되어 있지 않은 쪽의 기재면측으로부터 가열 수단으로 기재를 가열하고, 기재를 사이에 두고 가열 수단의 반대측으로부터 도막의 표면을 냉각 수단으로 냉각시키는 것이 개시되어 있다. 또, 도막을 기재로부터 박리할 때의 필력과, 기재 표면 온도 및 기재 하면 온도의 온도차의 상관이 해석되어 있다.In addition, in Patent Document 2, in order to increase the adhesion of a coating film to a substrate, the base material is heated from the base material side of the side not coated with the coating film by heating means, and the surface of the coating film is cooled And cooling it by means of means. The correlation between the pressing force at the time of peeling the coating film from the substrate and the temperature difference between the substrate surface temperature and the surface temperature is described.
특허문헌 1 에서 사용되는 방사 온도계 또는 서모그래피의 경우, 도막의 방사율을 소정의 값으로 설정함으로써, 건조 처리 중의 도막의 표면 온도가 계측된다. 그러나, 건조 처리 중에 있어서의 도막의 방사율은, 용매의 증발 등에 의해 변동되어 버리기 때문에, 온도계에 있어서의 방사율의 설정치와 실제 방사율이 크게 상이한 경우가 있다. 이 때문에, 도막 표면 온도를 정확하게 측정하지 못하여, 잘못된 온도 제어가 이루어질 우려가 있었다. 또, 특허문헌 1 에 기재된 건조 장치에서는, 측정 결과가 하류측의 건조 노즐의 제어에 사용된다. 이 때문에, 상류측의 건조 노즐은 부적절한 건조 처리를 계속해서 실행해 버릴 우려가 있었다.In the case of the radiation thermometer or thermography used in Patent Document 1, the surface temperature of the coating film in the drying process is measured by setting the emissivity of the coating film to a predetermined value. However, since the emissivity of the coating film during the drying treatment is fluctuated by the evaporation of the solvent or the like, the set value of the emissivity in the thermometer may be significantly different from the actual emissivity. For this reason, the surface temperature of the coating film can not be accurately measured, and there is a fear that the temperature control is erroneously performed. In the drying apparatus described in Patent Document 1, the measurement result is used to control the drying nozzle on the downstream side. For this reason, there is a possibility that the drying nozzle on the upstream side continues to perform an improper drying process.
또, 특허문헌 2 에서는, 기재의 각 부위의 온도를 어떻게 해서 계측하는지가 분명하게 되어 있지 않다. 또, 특허문헌 2 에는, 특허문헌 1 과 같이, 각 부위의 온도의 계측 결과에 기초하여, 가열 수단 (또는 냉각 수단) 을 제어한다는 기술적 사상은 개시도 시사도 되어 있지 않다.In Patent Document 2, it is not clear how to measure the temperature of each portion of the substrate. Patent Document 2 does not disclose the technical idea of controlling the heating means (or the cooling means) based on the measurement results of the temperatures of the respective portions as in Patent Document 1.
본 발명은, 기재에 도공된 슬러리상의 도공액을 건조시키기 위한 건조 강도를 바람직하게 제어하는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a technique for preferably controlling a drying strength for drying a coating liquid on a slurry coated on a substrate.
상기의 과제를 해결하기 위해서, 제 1 양태는, 제 1 롤로부터 송출함과 함께, 제 2 롤로 권취하는 반송 기구에 의해 연속 반송되는 기재에 있어서의 2 개의 주면 (主面) 중 적어도 일방측 주면에 도공된 슬러리상의 도공액을 건조시키는 건조 장치로서, 상기 기재에 도공된 도공액을 가열 처리하는 가열부와, 상기 가열부보다 반송 방향의 하류측의 위치에서, 상기 기재에 있어서의 상기 가열 처리에 의해 방사율이 변동되지 않는 방사율 불변 부위의 온도를 계측하는 방사 온도계와, 상기 방사 온도계로 계측된 온도에 기초하여, 상기 가열 처리의 강도를 제어하는 제어부를 구비한다.In order to solve the above-described problems, the first aspect is characterized in that at least one of the two main surfaces of the main surface of the substrate which is fed from the first roll and continuously transported by the transporting mechanism wound by the second roll, A drying unit for drying the coating liquid on the slurry coated on the substrate, the drying unit comprising: a heating unit for heating the coating liquid coated on the base material; And a control unit for controlling the intensity of the heating process based on the temperature measured by the radiation thermometer.
또, 제 2 양태는, 제 1 양태에 관련된 건조 장치로서, 상기 방사 온도계는, 상기 기재 중, 상기 도공액이 도공되어 있지 않은 비도공 부위, 또는, 건조된 상기 도공액의 도막이 형성되어 있는 도막 형성 부위에 있어서 온도를 계측한다.The second aspect is the drying apparatus according to the first aspect, wherein the radiation temperature gauge is a nonporous region in which the coating liquid is not coated, or a coating film on which a coating film of the dried coating liquid is formed The temperature is measured at the formation site.
또, 제 3 양태는, 제 1 또는 제 2 양태에 관련된 건조 장치로서, 상기 기재가 내부에 진입하기 위한 진입구, 및, 상기 기재가 내부로부터 퇴출하기 위한 퇴출구가 형성되어 있는 케이싱부를 추가로 구비하고, 상기 가열부 및 상기 방사 온도계가 상기 케이싱부 내에 수용되어 있다.A third aspect of the present invention is the drying apparatus according to the first or second aspect further comprising a casing portion having an inlet for the substrate to enter therein and a discharge port for the substrate to be withdrawn from the inside thereof, And the heating section and the radiation thermometer are housed in the casing section.
또, 제 4 양태는, 제 1 내지 제 3 양태 중 어느 1 양태에 관련된 건조 장치로서, 상기 제어부는, 상기 방사 온도계에 의해 계측된 상기 방사율 불변 부위의 온도가 목표 온도보다 낮은 경우에는, 상기 가열부에 의한 상기 가열 처리의 강도를 강하게 하고, 상기 방사율 불변 부위의 온도가 상기 목표 온도보다 높은 경우에는, 상기 가열부에 의한 상기 가열 처리의 강도를 약하게 한다.The fourth aspect is the drying apparatus according to any one of the first to third aspects, wherein when the temperature of the emissivity constant area measured by the radiation thermometer is lower than the target temperature, The intensity of the heat treatment by the heating unit is made weak and the intensity of the heat treatment by the heating unit is weakened when the temperature of the emissivity constant area is higher than the target temperature.
또, 제 5 양태는, 제 4 양태에 관련된 건조 장치로서, 상기 가열부가, 상기 기재에 상기 목표 온도보다 고온의 열풍을 분사함으로써 상기 도공액을 가열하는 열풍 공급부를 갖는다.The fifth aspect is the drying apparatus according to the fourth aspect, wherein the heating section has a hot air supply section for heating the coating liquid by spraying hot air having a temperature higher than the target temperature on the substrate.
또, 제 6 양태는, 제 1 내지 제 5 양태 중 어느 1 양태에 관련된 건조 장치로서, 상기 가열부 및 상기 방사 온도계가 상기 기재의 반송 경로 상을 따라 적어도 1 세트 이상 배열되어 있다.The sixth aspect is the drying apparatus according to any one of the first to fifth aspects, wherein at least one set of the heating section and the radiation thermometer are arranged along the conveyance path of the substrate.
또, 제 7 양태는, 제 1 내지 제 6 양태 중 어느 1 양태에 관련된 건조 장치로서, 상기 가열부보다 하류측에 배치되어 있고, 상기 기재의 타방측 주면을 지지하는 지지 롤러를 추가로 구비하고, 상기 방사 온도계가 상기 가열부와 상기 지지 롤러 사이의 위치에서 상기 방사율 불변 부위의 온도를 계측한다.A seventh aspect is the drying apparatus according to any one of the first to sixth aspects, further comprising a support roller disposed downstream of the heating section and supporting the other main surface of the base material , And the radiation thermometer measures the temperature of the emissivity constant at a position between the heating part and the supporting roller.
또, 제 8 양태는, 제 1 내지 제 7 양태 중 어느 1 양태에 관련된 건조 장치에 있어서, 상이한 높이에 배열된 복수의 지지 롤러를 추가로 구비하고, 상기 복수의 지지 롤러는, 상기 기재가 상기 일방측 주면측에 볼록상이 되도록 당해 상기 기재를 지지한다.According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a drying apparatus according to any one of the first to seventh aspects, further comprising: a plurality of support rollers arranged at different heights; And the substrate is supported so as to be convex on one main surface side.
또, 제 9 양태는, 제 1 내지 제 8 양태 중 어느 1 양태에 관련된 건조 장치로서, 상기 방사 온도계에 의해 계측된 상기 방사율 불변 부위의 온도가 규정된 기준 온도를 초과한 경우에 외부에 통지하는 통지부를 추가로 구비한다.The ninth aspect is the drying apparatus according to any one of the first to eighth aspects, wherein when the temperature of the emissivity constant area measured by the radiation thermometer exceeds a prescribed reference temperature, And a notification unit.
또, 제 10 양태는, 기재에 도막을 형성하는 도막 형성 시스템으로서, 제 1 롤러로부터 송출된 기재를 제 2 롤러로 권취함으로써 상기 기재를 연속 반송하는 반송 기구와, 상기 반송 기구에 의해 반송되는 기재의 2 개의 주면 중, 적어도 일방측 주면에 슬러리상의 도공액을 도포하는 도공부와, 제 1 내지 제 9 양태 중 어느 1 양태에 기재된 건조 장치를 구비한다.The tenth aspect is a coating film forming system for forming a coating film on a substrate, comprising: a transport mechanism for continuously transporting the substrate by winding a substrate fed from the first roller with a second roller; And a drying device according to any one of the first to ninth aspects. The drying device according to any one of the first to ninth aspects of the present invention comprises:
또, 제 11 양태는, 제 1 롤로부터 송출되면서 제 2 롤로 권취됨으로써 연속 반송되는 기재에 있어서의 2 개의 주면 중, 적어도 일방측 주면에 도공된 슬러리상의 도공액을 건조시키는 건조 방법으로서, (a) 상기 기재에 도공된 도공액을 가열 처리하는 가열 공정과, (b) 상기 가열 공정에서 가열된 상기 기재 중, 상기 가열 처리에 의해 방사율이 변동되지 않는 방사율 불변 부위의 온도를 방사 온도계로 계측하는 온도 계측 공정과, (c) 상기 방사 온도계로 계측된 온도에 기초하여 상기 가열 처리의 강도를 제어하는 제어 공정을 포함한다.The 11th aspect is a drying method for drying a slurry-like coating liquid coated on at least one main surface of two main surfaces of a base material continuously fed by being wound in a second roll while being fed from a first roll, ) A heating step of heating the coating liquid coated on the base material; (b) a temperature of the emissivity constant area where the emissivity is not changed by the heat treatment among the substrates heated in the heating step, by a radiation thermometer (C) a control step of controlling the intensity of the heat treatment based on the temperature measured by the radiation thermometer.
또, 제 12 양태는, 기재에 도막을 형성하는 도막 형성 방법으로서, (A) 제 1 롤러로부터 송출된 기재를 제 2 롤러로 권취함으로써 기재를 연속 반송하는 반송 공정과, (B) 상기 반송 공정에서 연속 반송되는 기재의 2 개의 주면 중, 적어도 일방측 주면에 슬러리상의 도공액을 도포하는 도공 공정과, (C) 상기 기재에 도공된 도공액을 가열 처리하는 가열 공정과, (D) 상기 가열 공정에서 가열된 상기 기재 중, 상기 가열 처리에 의해 방사율이 변동되지 않는 방사율 불변 부위의 온도를 방사 온도계로 계측하는 온도 계측 공정과, (E) 상기 방사 온도계로 계측된 온도에 기초하여 상기 가열 처리의 강도를 제어하는 제어 공정을 포함한다.A twelfth aspect is a coating film forming method for forming a coating film on a substrate, comprising the steps of: (A) a transporting step of continuously transporting a substrate by winding a substrate fed from a first roller with a second roller; (B) (C) a heating step of applying heat treatment to the coating liquid coated on the base material; (D) a heating step of heating the coating liquid applied on the base material A temperature measuring step of measuring the temperature of the emissivity constant area where the emissivity is not changed by the heating process with the radiation thermometer among the substrates heated in the process; and (E) And a control step of controlling the intensity of the light.
제 1 내지 제 10 양태에 관련된 건조 장치에 의하면, 기재에 있어서의 방사율이 불변인 부위의 온도를 방사 온도계로 계측함으로써, 건조 처리 중의 도공액의 온도를 비접촉으로 고정밀도로 특정할 수 있다. 또, 온도 계측하는 부위보다 상류측에서 실시되는 가열 처리의 강도를 계측된 온도에 기초하여 제어함으로써, 건조 처리를 보다 더 양호하게 실시할 수 있다.According to the drying apparatuses related to the first to tenth aspects, the temperature of the portion of the substrate where the emissivity is unchanged is measured with a radiation thermometer, whereby the temperature of the coating solution in the drying treatment can be specified with high accuracy in a noncontact manner. Further, by controlling the intensity of the heat treatment performed on the upstream side of the temperature measurement site based on the measured temperature, the drying treatment can be performed more favorably.
제 2 양태에 의하면, 비도공 부위, 또는, 도막 형성 부위는, 가열 처리에 의해 방사율이 변동되지 않는 지점이다. 이 때문에, 이들 부위의 온도를 방사 온도계로 계측함으로써, 건조 대상인 도공액의 온도를 비접촉으로 고정밀도로 특정할 수 있다.According to the second aspect, the non-porous region or the coating film formation site is a point where the emissivity is not changed by the heat treatment. Therefore, by measuring the temperature of these portions with a radiation thermometer, the temperature of the coating liquid to be dried can be specified with high accuracy in a noncontact manner.
제 3 양태에 의하면, 케이싱부에 의해 외기를 차단한 상태에서 가열할 수 있다. 이 때문에, 효율적으로 건조 처리를 실시할 수 있다.According to the third aspect, heating can be performed in a state in which the outside air is blocked by the casing portion. Therefore, the drying treatment can be performed efficiently.
제 4 양태에 의하면, 슬러리상의 도공액을 가열하는 가열 처리의 강도를 적절히 제어할 수 있다.According to the fourth aspect, the strength of the heat treatment for heating the coating liquid on the slurry can be appropriately controlled.
제 5 양태에 의하면, 목표 온도보다 고온의 열풍을 분사함으로써, 도공액의 온도를 신속하게 목표 온도에 근접시킬 수 있다.According to the fifth aspect, the temperature of the coating liquid can be quickly brought close to the target temperature by jetting hot air at a temperature higher than the target temperature.
제 6 양태에 의하면, 1 개 이상의 방사 온도계에 의한 계측 결과에 기초하여, 제어부가 1 개 이상의 방사 온도계의 상류측에 있는 1 개 이상의 가열부를 제어함으로써, 1 개 지점 또는 복수 지점에서 바람직한 가열 처리를 실시할 수 있다.According to the sixth aspect, the control unit controls one or more heating units located on the upstream side of one or more radiation thermometers based on the measurement result of one or more radiation thermometers, thereby achieving a preferable heating process at one or a plurality of points .
제 7 양태에 의하면, 지지 롤러에 의해 방사율 불변 부위의 온도가 변화되기 전에 방사 온도계로 온도를 계측할 수 있다. 이 때문에, 가열부를 보다 적절히 제어할 수 있다.According to the seventh aspect, the temperature can be measured by the radiation thermometer before the temperature of the emissivity constant area is changed by the support roller. Therefore, the heating unit can be more appropriately controlled.
제 8 양태에 의하면, 기재를 볼록상으로 굽혀 반송함으로써, 직선 거리를 바꾸지 않고 반송 거리를 보다 길게 할 수 있다. 이로써, 보다 긴 건조 시간을 확보할 수 있다.According to the eighth aspect, the substrate can be bent and conveyed in a convex shape, so that the conveying distance can be made longer without changing the straight line distance. Thus, a longer drying time can be secured.
제 9 양태에 의하면, 도공액이 이상 온도가 된 것을 외부에 통지함으로써, 이상 사태에 신속히 대처하는 것이 가능해진다.According to the ninth aspect, by informing the outside that the coating liquid has reached the abnormal temperature, it is possible to quickly cope with the abnormal situation.
제 10 양태에 관련된 도막 형성 시스템에 의하면, 기재에 있어서의 방사율이 불변인 부위의 온도를 방사 온도계로 계측함으로써, 건조 처리 중의 도공액의 온도를 비접촉으로 고정밀도로 특정할 수 있다. 또, 온도 계측하는 부위보다 상류측에서 실시되는 가열 처리의 강도를 계측된 온도에 기초하여 제어함으로써, 건조 처리를 보다 더 양호하게 실시할 수 있다.According to the coating film forming system related to the tenth aspect, the temperature of the coating solution in the drying treatment can be specified with high accuracy by measuring the temperature of the site where the emissivity is unchanged in the substrate with a radiation thermometer. Further, by controlling the intensity of the heat treatment performed on the upstream side of the temperature measurement site based on the measured temperature, the drying treatment can be performed more favorably.
제 11 양태에 관련된 건조 방법에 의하면, 기재에 있어서의 방사율이 불변인 부위의 온도를 방사 온도계로 계측함으로써, 건조 처리 중의 도공액의 온도를 비접촉으로 고정밀도로 특정할 수 있다. 또, 온도 계측하는 부위보다 상류측에서 실시되는 가열 처리의 강도를 계측된 온도에 기초하여 제어함으로써, 건조 처리를 보다 더 양호하게 실시할 수 있다.According to the drying method according to the eleventh aspect, the temperature of the portion of the substrate where the emissivity is unchanged is measured with a radiation thermometer, whereby the temperature of the coating solution in the drying treatment can be specified with high accuracy in a noncontact manner. Further, by controlling the intensity of the heat treatment performed on the upstream side of the temperature measurement site based on the measured temperature, the drying treatment can be performed more favorably.
제 12 양태에 관련된 도막 형성 방법에 의하면, 기재에 있어서의 방사율이 불변인 부위의 온도를 방사 온도계로 계측함으로써, 건조 처리 중의 도공액의 온도를 비접촉으로 고정밀도로 특정할 수 있다. 또, 온도 계측하는 부위보다 상류측에서 실시되는 가열 처리의 강도를 계측된 온도에 기초하여 제어함으로써, 건조 처리를 보다 더 양호하게 실시할 수 있다.According to the coating film forming method related to the twelfth aspect, the temperature of the coating liquid in the drying treatment can be specified with high accuracy by measuring the temperature of the site where the emissivity is unchanged in the base material with a radiation thermometer. Further, by controlling the intensity of the heat treatment performed on the upstream side of the temperature measurement site based on the measured temperature, the drying treatment can be performed more favorably.
도 1 은, 실시형태에 관련된 건조 장치를 구비한 도막 형성 시스템을 나타내는 개략 구성도이다.
도 2 는, 실시형태에 관련된 건조 장치의 개략 측면도이다.
도 3 은, 실시형태에 관련된 제어부와 도막 형성 시스템의 다른 구성의 접속 관계를 나타내는 블록도이다.
도 4 는, 실시형태에 관련된 건조 장치에서 반송되는 기재의 타방측 주면을 나타내는 개략 평면도이다.
도 5 는, 실시형태에 관련된 건조 장치에서 반송되는 기재의 일방측 주면을 나타내는 개략 평면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a schematic structural view showing a coating film forming system provided with a drying apparatus according to an embodiment; FIG.
2 is a schematic side view of a drying apparatus according to the embodiment.
Fig. 3 is a block diagram showing the connection relationship between the control section related to the embodiment and the other constitution of the coating film forming system. Fig.
Fig. 4 is a schematic plan view showing the other main surface of the substrate conveyed in the drying apparatus according to the embodiment. Fig.
5 is a schematic plan view showing a main surface on one side of a substrate conveyed in the drying apparatus according to the embodiment.
이하, 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태에 대해 설명한다. 또한, 이 실시형태에 기재되어 있는 구성 요소는 어디까지나 예시로, 본 발명의 범위를 그것들에만 한정하는 취지의 것은 아니다. 또, 도면에 있어서는, 이해를 용이하게 하기 위해, 필요에 따라 각 부의 치수나 수가 과장 또는 간략화되어 도시되어 있는 경우가 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, the constituent elements described in this embodiment are merely examples, and the scope of the present invention is not limited to them. In the drawings, for the sake of easy understanding, the dimensions and the numbers of the respective parts may be exaggerated or simplified as necessary.
<1. 실시형태><1. Embodiment>
도 1 은, 실시형태에 관련된 건조 장치 (3A, 3B) 를 구비한 도막 형성 시스템 (1) 을 나타내는 개략 구성도이다.1 is a schematic structural view showing a coating film forming system 1 including drying
이 도막 형성 시스템 (1) 은, 예를 들어 장척상의 금속박인 기재 (5) 를 롤 투 롤 방식으로 연속 반송하면서, 그 기재 (5) 의 양면에 전극 재료인 활성질을 포함하는 슬러리상의 도공액을 도공한다. 그리고, 그 도공액의 건조 처리를 실시함으로써, 리튬 이온 이차 전지의 전극 제조를 실시한다.This coating film forming system 1 is a system in which a
도막 형성 시스템 (1) 은, 도공부 (10A, 10B), 건조 장치 (3A, 3B), 반송 기구 (60) 및 제어부 (7) 를 구비하여 구성된다. 제어부 (7) 는, 시스템 전체를 제어하도록 구성되어 있다.The coating film forming system 1 includes
반송 기구 (60) 는, 송출 롤러 (61) (제 1 롤러), 권취 롤러 (62) (제 2 롤러) 및 복수의 보조 롤러 (63) 를 구비하고 있다. 장척의 기재 (5) 는, 송출 롤러 (61) 로부터 송출되어 복수의 보조 롤러 (63) 에 안내되면서, 권취 롤러 (62) 에 의해 권취된다. 복수의 보조 롤러 (63) 는, 연속 반송되는 기재 (5) 의 반송 경로 상의 적절한 위치에 배치되어 있다. 장척의 기재 (5) 는, 도공부 (10A), 건조 장치 (3A), 도공부 (10B), 건조 장치 (3B) 의 순으로 롤 투 롤 방식으로 연속 반송된다. 이하의 설명에서는, 기재 (5) 가 반송 기구 (60) 에 의해 반송되는 방향 (화살표 DR1 로 나타내는 방향) 을 「반송 방향」이라고 한다. 또한, 반송 방향은, 고정된 일 방향에 한정되는 것은 아니다. 도 1 에 나타내는 예에서는, 기재 (5) 의 반송 방향은, 복수의 보조 롤러 (63) 에 의해 적절히 변경된다. 보조 롤러 (63) 의 개수 및 배치 위치에 대해서는, 도 1 에 나타내는 것에 한정되는 것은 아니고, 필요에 따라 적절히 증감시킬 수 있다. 기재 (5) 를 반송 방향으로 연속 반송하는 공정은, 기재 (5) 에 도막 (43) 을 형성하는 도막 형성 방법에 있어서의 반송 공정의 일례이다.The
도공부 (10A, 10B) 는, 반송 기구 (60) 에 의해 반송되는 기재 (5) 의 표리면에 대해 슬러리상의 도공액을 도공하도록 구성되어 있다. 도공부 (10A) 는, 기재 (5) 의 표리의 2 개의 주면 중 일방측 주면 (51) 을 향하여 도공액을 토출하는 노즐 (11A) 을 구비하고 있고, 도공부 (10B) 는, 타방측 주면 (53) 을 향하여 도공액을 토출하는 노즐 (11B) 을 구비하고 있다. 각 노즐 (11A, 11B) 은, 기재 (5) 의 폭 방향 (기재 (5) 의 표면에 평행한 방향으로서, 상기 반송 방향과 직교하는 방향) 을 따른 연장되는 슬릿상의 토출구를 구비한 슬릿 노즐로서 구성되어 있다.The
노즐 (11A, 11B) 에는, 도시를 생략하는 송액 기구에 의해, 소정의 도공액이 송액된다. 노즐 (11A, 11B) 이 토출하는 도공액은 동일하지만, 상이한 종류의 것이어도 된다.A predetermined coating liquid is fed to the
노즐 (11A, 11B) 은, 슬릿상의 토출구에 연결되는 유로를 규정하기 위한 심 및 매니폴드 등을 구비한다. 또, 노즐 (11A, 11B) 에는, 각각의 위치 및 자세를 조정하기 위한 도시 생략된 기구가 부설되어 있다. 송액 기구로부터 각 노즐 (11A, 11B) 에 송급된 도공액은, 슬릿상의 토출구로부터 기재 (5) 의 표면에 토출된다.The
도공부 (10A, 10B) 에 의해 기재 (5) 의 주면에 도공액이 도공되는 공정은, 도막 형성 방법에 있어서의 도공 공정의 일례이다.The step of coating the coating liquid on the main surface of the
건조 장치 (3A, 3B) 는, 반송 기구 (60) 에 의해 소정의 반송 방향으로 연속해서 반송되는 기재 (5) 에 대해 건조 처리를 실시한다.The drying
건조 장치 (3A) 는, 도공부 (10A) 의 하류측에 형성되어 있다. 건조 장치 (3A) 는, 도공부 (10A) 에 의해 기재 (5) 의 일방측 주면 (51) 에 도공된 슬러리상의 도공액 (41) 을 건조시킨다. 이로써, 당해 일방측 주면 (51) 에 도막 (43) 이 형성된다. 건조 장치 (3B) 는, 도공부 (10B) 의 하류측에 형성되어 있다. 건조 장치 (3B) 는, 도공부 (10B) 에 의해 기재 (5) 의 타방측 주면 (53) 에 도공된 슬러리상의 도공액 (41) 을 건조시킨다. 이로써, 타방측 주면 (53) 에 도막 (43) 이 형성된다. 또한, 건조 장치 (3A, 3B) 의 구성은 거의 동일하기 때문에, 이하에서는, 건조 장치 (3A) 의 구성에 대해 주로 설명한다.The
도 2 는, 실시형태에 관련된 건조 장치 (3A) 의 개략 측면도이다. 건조 장치 (3A) 는, 복수의 건조 처리부 (31) 를 구비하고 있다. 본 예에서는, 건조 장치 (3A) 는, 3 개의 건조 처리부 (31) 로 구성되어 있지만, 단일의 건조 처리부로 구성되어 있어도 되고, 2 개 또는 4 개 이상의 건조 처리부로 구성되어 있어도 된다. 이하의 설명에 있어서, 3 개의 건조 처리부 (31) 를 구별하는 경우에는, 반송 방향 상류측부터 순서대로 건조 처리부 (31a, 31b, 31c) 로 한다.Fig. 2 is a schematic side view of the
도 2 에 나타내는 바와 같이, 각 건조 처리부 (31) 는, 케이싱부 (32), 지지 롤러 (33), 도공면측 가열부 (35), 이면측 가열부 (37) 및 방사 온도계 (39) 를 구비하고 있다. 도 2 에 있어서는, 각 케이싱부 (32) 가 단면도로 도시되어 있다.2, each drying
케이싱부 (32) 는, 내부에 기재 (5) 를 수용하는 공간을 형성하는 부재로서, 기재 (5) 를 진입시키기 위한 진입구 (321), 및, 기재 (5) 를 내부로부터 퇴출시키기 위한 퇴출구 (323) 를 형성하고 있다. 각 케이싱부 (32) 의 내부에는, 지지 롤러 (33), 도공면측 가열부 (35), 이면측 가열부 (37) 및 방사 온도계 (39) 가 부설되어 있다. 각 건조 처리부 (31) 에서는, 케이싱부 (32) 에 의해 외기를 차단한 상태에서, 도공면측 가열부 (35) 및 이면측 가열부 (37) 에 의해 슬러리상의 도공액 (41) 을 가열한다. 이 때문에, 효율적으로 건조 처리를 실시하는 것이 가능하게 되어 있다.The
이웃하는 2 개의 케이싱부 (32, 32) 의 퇴출구 (323) 및 진입구 (321) 는 접속부 (325) 에 의해 접속되어 있다. 본 예에서는, 3 개의 케이싱부 (32) 가 서로 연결됨으로써, 기재 (5) 를 수용하는 1 개의 수용 공간을 형성하고 있다. 단, 접속부 (325) 는 생략 가능하고, 각 케이싱부 (32) 는 각각 분리되어 있어도 된다.The
지지 롤러 (33) 는, 기재 (5) 의 폭 방향으로 연장되어 있고, 그 외주면이 기재 (5) 에 접촉함으로써 당해 기재 (5) 를 지지한다. 건조 장치 (3A) 의 각 지지 롤러 (33) 는, 슬러리상의 도공액이 도공되어 있지 않은 측의 주면 (건조 장치 (3A) 에서는 타방측 주면 (53)) 에 접촉하도록 배치되어 있다.The
각 케이싱부 (32) 의 내부에는, 1 개의 지지 롤러 (33) 가 각각 배치되어 있다. 각 지지 롤러 (33) 는, 상이한 높이에 배치되어 있다. 보다 상세하게는, 중앙의 건조 처리부 (31b) 의 지지 롤러 (33) 가, 다른 2 개의 지지 롤러 (33) 보다 높은 위치에 배치되어 있다. 이 때문에, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 건조 장치 (3A) 에 있어서는, 기재 (5) 가, 도공액이 도공된 주면 (건조 장치 (3A) 에서는, 일방측 주면 (51)) 이 볼록상 (아치상) 으로 굽혀져 반송된다.One
이상과 같이, 기재 (5) 를 볼록상으로 반송함으로써, 직선 거리를 바꾸지 않고 기재 (5) 의 반송 거리를 길게 할 수 있다. 따라서, 건조 장치 (3A) 에 있어서, 보다 긴 건조 시간을 확보할 수 있다.As described above, by conveying the
또한, 본 예에서는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 건조 처리부 (31a) 의 지지 롤러 (33) 는, 그 진입구 (321) 직전에 있는 보조 롤러 (63) 보다 높은 위치에 배치되어 있다. 또, 건조 처리부 (31c) 의 지지 롤러 (33) 는, 그 퇴출구 (323) 직후에 있는 보조 롤러 (63) 보다 높은 위치에 배치되어 있다. 이 때문에, 각 지지 롤러 (33) 는 기재 (5) 에 대해 포각 (抱角) (θ) 으로 접촉한다. 한편, 포각 (θ) 이란, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 각 지지 롤러 (33) 에 있어서의, 기재 (5) 와 접촉하는 접촉면의 회전축 둘레의 각도이다.1, the supporting
<가열부><Heating section>
도공면측 가열부 (35) 는, 도공액 (41) 이 도공된 측의 주면 (건조 장치 (3A) 에서는, 일방측 주면 (51)) 에 열풍을 공급함으로써 도공액 (41) 을 가열하는 복수의 열풍 공급부로 구성되어 있다. 또, 이면측 가열부 (37) 는, 도공액 (41) 이 도공된 측의 주면과는 반대측의 주면 (건조 장치 (3A) 에서는, 타방측 주면 (53)) 에 열풍을 공급하여 기재 (5) 를 가열함으로써, 간접적으로 도공액 (41) 을 가열하는 복수의 열풍 공급부로 구성되어 있다.The coating surface
또한, 도공면측 가열부 (35) 및 이면측 가열부 (37) 는, 열풍을 공급하는 대신에, 적외 가열, 유도 가열, 증기 가열을 실시하도록 구성되어 있어도 된다.The coating surface
이하의 설명에서는, 도공면측 가열부 (35) 및 이면측 가열부 (37) 를 구별하지 않는 경우에는 간단히 「가열부」라고 칭한다. 가열부에 의해 도공액 (41) 을 가열 처리하는 공정은, 도막 형성 방법에 있어서의 가열 공정의 일례이다.In the following description, when the coating surface
여기서, 도공액 (41) 이, 리튬 이온 전지 부극용 재료로서, 그 바인더 수지로서 PVDF (폴리불화비닐리덴) 가 사용되고 있는 경우를 상정한다. 이 경우, 기재 (5) 상의 도공액 (41) 의 온도가, PVDF 의 재융해 온도인 135 도를 초과하지 않는 것은 편석 등의 원인이 되어 바람직하지 않다. 이 때문에, 슬러리상의 도공액 (41) 이 한계 온도를 초과하지 않는 소정의 온도가 되도록 각 가열부를 제어하여 도공액 (41) 을 가열하는 것이 바람직하다. 이하에서는, 이 한계 온도를 초과하지 않는 소정의 온도를 목표 온도라고 한다.Here, it is assumed that the
건조 처리부 (31a) 는, 기재 (5) 상의 슬러리상의 도공액 (41) 을 승온시키는 에어리어이다. 이 때문에, 건조 처리부 (31a) 의 가열부가, 상기 목표 온도를 초과하는 온도의 열풍을 공급하도록 구성해도 된다. 예를 들어, PVDF 를 함유하는 도공액 (41) 이 기재 (5) 에 도공되어 있는 경우, 도공면측 가열부 (35) 는, 135 도 이상 (예를 들어, 200 도) 의 열풍을 기재 (5) 상의 도공액 (41) 에 공급해도 된다. 이로써, 기재 (5) 상의 도공액 (41) 을 신속하게 목표 온도에 근접시키는 것이 가능해진다. 이면측 가열부 (37) 에 대해서도, 마찬가지로 한계 온도를 초과하는 온도의 열풍을 공급하도록 해도 된다.The drying
또, 각 건조 처리부 (31b, 31c) 의 가열부는, 건조 처리부 (31a) 에서 가열부가 공급하는 열풍의 온도보다 낮은 온도의 열풍을 기재 (5) 의 도공액 (41) 에 공급한다. 예를 들어, 각 건조 처리부 (31b, 31c) 의 도공면측 가열부 (35) 는, 상기 목표 온도와 동일 온도의 열풍을 공급하도록 구성되면 된다. 또한, 건조 처리부 (31a) 에 있어서, 도공액 (41) 의 온도를 목표 온도까지 충분히 승온시킬 수 없는 경우에는, 예를 들어, 건조 처리부 (31b) 에 있어서도, 상기 목표 온도를 초과하는 열풍을 공급하도록 해도 된다. 각 건조 처리부 (31b, 31c) 의 이면측 가열부 (37) 에 대해서도 동일하다.The heating section of each of the drying
방사 온도계 (39) 는, 적외선을 검출하는 적외 방사 온도계로 구성되어 있다. 방사 온도계 (39) 는, 가열부보다 반송 방향의 하류측의 위치에서, 기재 (5) 의 특정 부위의 온도를 비접촉으로 계측한다. 보다 상세하게는, 방사 온도계 (39) 는, 가열부의 가열 처리에 의해, 방사율이 변동되지 않는 부위 (방사율 불변 부위) 의 온도를 계측한다. 이 방사율 불변 부위의 상세한 것에 대해서는 후술한다. 방사율 불변 부위의 온도를 방사 온도계 (39) 로 계측하는 공정은, 도막 형성 방법에 있어서의 온도 계측 공정의 일례이다.The
방사 온도계 (39) 는, 가열부의 위치 (보다 상세하게는, 기재 (5) 에 있어서의, 도공면측 가열부 (35) 및 이면측 가열부 (37) 로부터 열풍이 공급되는 영역) 와 지지 롤러 (33) 가 기재 (5) 를 지지하는 위치 사이의 위치에서, 기재 (5) 의 방사율 불변 부위의 온도를 계측한다. 이 때문에, 방사 온도계 (39) 는, 도공액 (41) 의 온도가 지지 롤러 (33) 에 의해 변화되기 전에 온도를 계측할 수 있다. 따라서, 가열부에 의해 가열된 도공액 (41) 의 온도를 보다 고정밀도로 특정할 수 있다.The
도 3 은, 실시형태에 관련된 제어부 (7) 와 도막 형성 시스템 (1) 의 다른 구성의 접속 관계를 나타내는 블록도이다. 제어부 (7) 는, 예를 들어, CPU (71), ROM (72), RAM (73) 및 기억 장치 (74) 가 버스 라인 (75) 를 통하여 상호 접속된 일반적인 컴퓨터로서 구성되어 있다. ROM (72) 은, 기본 프로그램 등을 격납하고 있다. RAM (73) 은, CPU (71) 가 소정의 처리를 실시하기 위해서 사용하는 작업 영역을 제공한다.Fig. 3 is a block diagram showing the connection relationship between the
기억 장치 (74) 는, 플래쉬 메모리 또는 하드 디스크 등의 불휘발성 메모리에 의해 구성되어 있다. 기억 장치 (74) 에는 프로그램 (PG1) 이 인스톨되어 있다. 당해 프로그램 (PG1) 에 기술된 순서에 따라 CPU (71) 가 동작함으로써, 당해 CPU (71) 가, 예를 들어 가열 제어부 (711) 로서 기능한다.The
프로그램 (PG1) 은, 통상적으로, 미리 기억 장치 (74) 등의 메모리에 격납되어 사용되는 것이지만, CD-ROM 혹은 DVD-ROM, 외부의 플래쉬 메모리 등의 기록 매체에 기록된 형태 (프로그램 프로덕트) 로 제공되고 (혹은, 네트워크를 통한 외부 서버로부터의 다운로드 등에 의해 제공되고), 추가적 또는 교환적으로 기억 장치 (74) 등의 메모리에 격납되어도 된다. 또한, 제어부 (7) 에 있어서 실현되는 기능 모듈은, 전용의 논리 회로 등에 의해 하드웨어적으로 실현되어도 된다.The program PG1 is typically stored in advance in a memory such as the
또, 제어부 (7) 에는, 버스 라인 (75) 을 통하여 조작 입력부 (76), 표시부 (77) 가 접속되어 있다. 조작 입력부 (76) 는, 예를 들어, 키보드 및 마우스에 의해 구성되는 입력 디바이스로, 오퍼레이터로부터의 각종 조작 (커맨드나 각종 데이터의 입력과 같은 조작) 을 받아들인다. 또한, 조작 입력부 (76) 는, 각종 스위치, 터치 패널 등에 의해 구성되어도 된다. 표시부 (77) 는, 디스플레이 또는 램프 등에 의해 구성되는 표시 장치로, CPU (71) 에 의한 제어하, 각종 정보를 표시한다.An
또, 제어부 (7) 에는, 버스 라인 (75) 을 통하여, 건조 장치 (3A, 3B) 에 형성된 각 도공면측 가열부 (35), 각 이면측 가열부 (37) 및 각 방사 온도계 (39) 가 접속되어 있다.The coating unit
각 방사 온도계 (39) 는, 계측한 온도를 나타내는 온도 정보를 제어부 (7) 에 송신한다. 그러면, 제어부 (7) 의 가열 제어부 (711) 는, 당해 온도 정보에 기초하여, 해당하는 방사 온도계 (39) 보다 상류측에 있는 가열부 (도공면측 가열부 (35) 및 이면측 가열부 (37)) 가 실행하는 가열 처리의 강도를 제어한다. 예를 들어, 가열 제어부 (711) 는, 건조 처리부 (31a) 의 방사 온도계 (39) 로 계측된 온도에 기초하여, 건조 처리부 (31a) 의 가열부에 의한 가열 처리의 강도를 제어한다. 마찬가지로, 가열 제어부 (711) 는, 건조 처리부 (31b, 31c) 의 방사 온도계 (39) 로 계측된 온도에 기초하여, 건조 처리부 (31b, 31c) 의 가열부가 실행하는 가열 처리의 강도를 각각 제어한다. 또한, 가열 제어부 (711) 는, 건조 처리부 (31b) 의 방사 온도계 (39) 로 계측된 온도에 기초하여, 건조 처리부 (31b) 의 가열부뿐만 아니라, 추가로 상류측의 건조 처리부 (31a) 의 가열부도 제어하도록 해도 된다.Each
이와 같이, 각 건조 장치 (3A, 3B) 에서는, 가열부 및 방사 온도계 (39) 가 3 세트 형성되어 있다. 가열부 및 방사 온도계 (39) 를 복수 세트 형성하고, 각 방사 온도계 (39) 의 계측 결과에 기초하여 각 가열부를 제어함으로써, 각 건조 처리부 (31) 에서 바람직한 가열 처리를 실시할 수 있다.Thus, in each of the drying
또한, 가열 처리의 강도를 제어한다란, 방사 온도계 (39) 의 계측 결과에 기초하여, 가열부가 가열 대상물에 대해 부여하는 열량을 증감시키는 것을 말한다. 예를 들어 도공면측 가열부 (35) 의 경우, 도공액 (41) 에 공급하는 열풍의 온도를 상하시키거나, 혹은, 공급하는 열풍의 풍량을 증감시키는 것을 포함한다.The control of the intensity of the heat treatment means to increase or decrease the amount of heat given by the heating section to the object to be heated based on the measurement result of the
만일, 특정 방사 온도계 (39) 로 계측된 온도가 규정된 목표 온도보다 낮은 경우, 가열 제어부 (711) 는 당해 특정 방사 온도계 (39) 보다 반송 방향 상류측의 가열부에 의한 가열 처리의 강도를 강하게 한다. 또, 특정 방사 온도계 (39) 로 계측된 온도가 규정된 목표 온도보다 높은 경우, 가열 제어부 (711) 는 당해 특정 방사 온도계 (39) 보다 반송 방향 상류측의 가열부에 의한 가열 처리의 강도를 약하게 한다. 이와 같은 제어에 의해, 각 부분에서의 가열 처리의 강도를 바람직하게 제어할 수 있다. 또한, 이 제어의 기준이 되는 목표 온도는, 방사 온도계 (39) 마다 상이해도 되고, 혹은, 일치하고 있어도 된다.If the temperature measured by the
또, 가열 제어부 (711) 는, 가열부 중, 도공면측 가열부 (35) 만, 혹은, 이면측 가열부 (37) 만을 제어하도록 구성되어 있어도 된다. 또한, 가열 제어부 (711) 는, 도공면측 가열부 (35) 또는 이면측 가열부 (37) 를 구성하는 복수의 열풍 공급부 중 일부만을 제어하도록 구성되어 있어도 된다.The
이상과 같이, 제어부 (7) 의 가열 제어부 (711) 가, 방사 온도계 (39) 로 계측된 온도에 기초하여, 가열부에 의한 가열 처리의 강도를 제어하는 공정은, 도막 형성 방법에 있어서의 제어 공정의 일례이다.As described above, the
제어부 (7) 에는, 버스 라인 (75) 을 통하여 통지부 (78) 가 접속되어 있다. 통지부 (78) 는, 스피커, 램프, 또는, 디스플레이 등으로 구성되어 있고, 각 방사 온도계 (39) 에 의해 계측된 기재 (5) 의 온도가, 규정된 기준 온도를 초과한 경우에, 그 경고를 외부에 통지하도록 구성되어 있다. 당해 규정된 기준 온도란, 예를 들어, 목표 온도를 초과하는 온도, 혹은, 한계 온도를 초과하는 온도로 된다. 이와 같이, 통지부 (78) 를 형성함으로써, 도공액 (41) 이 이상 온도가 되었을 때에 그 취지를 오퍼레이터에게 통지함으로써, 그 이상 사태에 신속히 대응할 수 있다. 또한, 표시부 (77) 를 통지부로서 기능시켜도 된다.The
<온도 계측 부위에 대해>≪ About temperature measurement part >
다음으로, 각 방사 온도계 (39) 가 온도를 계측하는 기재 (5) 에 있어서의 온도 계측 부위에 대해 설명한다.Next, the temperature measurement part of the
먼저, 건조 장치 (3A) 에서의 온도 계측 부위에 대해 설명한다. 본 예에서는, 도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 건조 장치 (3A) 에 부설된 각 방사 온도계 (39) 는, 기재 (5) 의 타방측 주면 (53) 의 표면 온도를 계측하도록 구성되어 있다.First, the temperature measuring part in the
도 4 는, 실시형태에 관련된 건조 장치 (3A) 에서 반송되는 기재 (5) 의 타방측 주면 (53) 을 나타내는 개략 평면도이다. 건조 장치 (3A) 를 통과하는 기재 (5) 의, 타방측 주면 (53) 과는 반대측의 일방측 주면 (51) 에는, 슬러리상의 도공액 (41) 이 도공되어 있다. 도시된 예에서는, 일방측 주면 (51) 중, 폭 방향의 양 단부를 제외한 내측 영역에 도공액 (41) 이 도공되어 있다. 한편, 기재 (5) 의 타방측 주면 (53) 은, 그 반대측의 일방측 주면 (51) 과는 달리, 도공액 (41) 이 도포되어 있지 않은 비도공 부위로 되어 있다.4 is a schematic plan view showing the other
슬러리상의 도공액 (41) 은, 도공면측 가열부 (35) 또는 이면측 가열부 (37) 의 가열 처리에 의해 용매가 증발한다. 이 때문에, 도공액 (41) 의 표면의 방사율은 크게 변동될 수 있다. 이에 대하여, 타방측 주면 (53) 은, 비도공 부위이기 때문에, 가열 처리에 의한 방사율의 변동은 잘 일어나지 않는다. 가열 처리에 의한 비도공 부위의 방사율의 변동은, 적어도 가열 처리에 의한 도공액 (41) 의 표면의 방사율의 변동보다 작다. 또, 기재 (5) 는 금속박 등의 비교적 얇은 부재이기 때문에, 건조 처리 상은, 타방측 주면 (53) 의 표면 온도를, 도공액 (41) 의 온도로 간주할 수 있다.The solvent in the
이상의 관점에서, 이 타방측 주면 (53) 의 특정 부위를 방사율 불변 부위 (531) 로 하여, 당해 방사율 불변 부위 (531) 의 온도를 방사 온도계 (39) 로 계측한다. 이로써, 기재 (5) 에 있어서의 일방측 주면 (51) 상의 도공액 (41) 의 온도를 비접촉으로 고정밀도로 특정할 수 있다. 또한, 방사율 불변 부위 (531) 의 방사율 (즉, 기재 (5) 자체의 방사율) 은, 예를 들어, 당해 부위의 온도를 열전쌍으로 실측하는 것, 혹은, 기재 (5) 의 재질 등으로부터 추정하는 것에 의해 특정 가능하다.From the above viewpoint, the specific portion of the other
계속해서, 건조 장치 (3B) 에서의 온도 계측 부위에 대해 설명한다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 건조 장치 (3B) 에 부설된 각 방사 온도계 (39) 는, 기재 (5) 의 일방측 주면 (51) 의 표면 온도를 계측하도록 구성되어 있다.Next, the temperature measuring part in the
도 5 는, 실시형태에 관련된 건조 장치 (3B) 에서 반송되는 기재 (5) 의 일방측 주면 (51) 을 나타내는 개략 평면도이다. 건조 장치 (3B) 는, 기재 (5) 의 타방측 주면 (53) 에 도공된 도공액 (41) 을 건조시키는데, 건조 장치 (3B) 를 통과하는 기재 (5) 의 일방측 주면 (51) 에는, 이미 건조 장치 (3A) 로 건조 처리된 후의 도공액 (41) 의 박막 (도막 (43)) 이 형성되어 있다.Fig. 5 is a schematic plan view showing one
이와 같은 기재 (5) 의 일방측 주면 (51) 에 있어서는, 도막 (43) 이 형성되어 있지 않은 양 단부는 도공액 (41) 이 도공되어 있지 않은 비도공 부위로, 방사율의 변동이 거의 일어나지 않는 부위이다. 그래서, 기재 (5) 의 양 단부의 일 부위가 방사율 불변 부위 (511) 로 되고, 당해 방사율 불변 부위 (511) 의 온도가 각 방사 온도계 (39) 에 의해 계측된다. 이로써, 타방측 주면 (53) 에 도공된 도공액 (41) 의 온도를 비접촉으로 고정밀도로 특정할 수 있다.In the one
또, 도막 (43) 이 형성된 도막 형성 부위는, 이미 도공액 (41) 의 용매가 증발된 상태의 고형상 부분이다. 이 때문에, 이 도막 형성 부위는, 방사율의 변동이 잘 일어나지 않는 부위로 되어 있다. 그래서, 이 도막 (43) 이 형성된 부위를 방사율 불변 부위 (513) 로 하고, 당해 방사율 불변 부위 (513) 의 온도가 각 방사 온도계 (39) 에 의해 계측되도록 해도 된다. 또한, 도막 (43) 의 방사율 불변 부위 (513) 의 방사율은, 예를 들어, 당해 부위를 열전쌍으로 실측하는 것, 혹은, 도공액 (41) 의 성분 등으로부터 추정하는 것에 의해 특정 가능하다. 방사율 불변 부위 (513) 의 온도를 계측함으로써, 타방측 주면 (53) 에 도공된 도공액 (41) 의 온도를 비접촉으로 고정밀도로 특정할 수 있다.The coating film forming portion on which the
<2. 변형예><2. Modifications>
이상, 실시형태에 대해 설명해 왔지만, 본 발명은 상기와 같은 것에 한정되는 것은 아니고, 다양한 변형이 가능하다.Although the embodiment has been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications are possible.
예를 들어, 상기 실시형태에서는, 각 건조 처리부 (31) 에는, 가열부로서 도공면측 가열부 (35) 및 이면측 가열부 (37) 가 형성되어 있다. 그러나 어느 일방만이 형성되어 있어도 된다.For example, in the above embodiment, each of the drying
또, 상기 실시형태에 관련된 각 건조 장치 (3A, 3B) 에서는, 각 지지 롤러 (33) 를 배치하는 높이를 바꿈으로써, 기재 (5) 를 볼록상으로 굽혀 반송하고 있다. 그러나, 각 지지 롤러 (33) 를 동일한 높이에 배치함으로써, 기재 (5) 를 반듯한 상태에서 반송해도 된다.In the drying
또, 가열 제어부 (711) 가, 각 방사 온도계 (39) 로 계측한 온도에 기초하여, 반송 방향 상류측의 가열부뿐만 아니라, 반송 방향 하류측의 가열부도 제어하도록 해도 된다.The
또, 상기 실시형태에 관련된 도막 형성 시스템 (1) 에서는, 도막 (43) 이 기재 (5) 의 양 주면에 형성되어 있다. 그러나, 도막 (43) 을 편측 주면에만 형성하는 도막 형성 시스템에 있어서도 본 발명은 유효하다.In the coating film forming system 1 according to the above embodiment, a
또, 본 발명의 적용 범위는, 리튬 이온 전지용의 전극 제조에 한정되는 것은 아니고, 그 밖의 전지용의 전극 제조에도 적용 가능하다.The scope of application of the present invention is not limited to the manufacture of electrodes for lithium ion batteries, but can also be applied to the manufacture of other electrodes for batteries.
또, 상기 각 실시형태 및 각 변형예에서 설명한 각 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적절히 조합하거나 생략하거나 할 수 있다.The configurations described in each of the above-described embodiments and modified examples can be appropriately combined or omitted as long as they do not contradict each other.
본 발명은 상세하게 설명되었지만, 상기의 설명은 모든 국면에 있어서 예시로서, 본 발명이 그것에 한정되는 것은 아니다. 예시되어 있지 않은 무수한 변형예가 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않고 상정될 수 있는 것으로 해석된다.While the invention has been described in detail, the foregoing description is exemplary in all respects, and the invention is not limited thereto. It is understood that numerous modifications that are not illustrated can be made without departing from the scope of the present invention.
1 : 도막 형성 시스템
10A, 10B : 도공부
3A, 3B : 건조 장치
31 : 건조 처리부
32 : 케이싱부
321 : 진입구
323 : 퇴출구
325 : 접속부
33 : 지지 롤러
35 : 도공면측 가열부
37 : 이면측 가열부
39 : 방사 온도계
41 : 도공액
43 : 도막
5 : 기재
51 : 일방측 주면
53 : 타방측 주면
511, 513, 531 : 방사율 불변 부위
60 : 반송 기구
61 : 송출 롤러 (제 1 롤러)
62 : 권취 롤러 (제 2 롤러)
7 : 제어부
71 : CPU
711 : 가열 제어부
78 : 통지부1: Coating system
10A and 10B:
3A, 3B: Drying device
31:
32:
321: Entry
323: Exit Area
325:
33: Support roller
35: Porous surface side heating part
37: back side heating part
39: Radiation thermometer
41: coating liquid
43:
5: substrate
51: One side surface
53: the other side surface
511, 513, 531: Emissivity constant area
60:
61: Feed roller (first roller)
62: take-up roller (second roller)
7:
71: CPU
711: Heating control unit
78: Notification section
Claims (12)
상기 기재에 도공된 도공액을 가열 처리하는 가열부와,
상기 가열부보다 반송 방향의 하류측의 위치에서, 상기 기재에 있어서의 상기 가열 처리에 의해 방사율이 변동되지 않는 방사율 불변 부위의 온도를 계측하는 방사 온도계와,
상기 방사 온도계로 계측된 온도에 기초하여, 상기 가열 처리의 강도를 제어하는 제어부를 구비하는, 건조 장치.A drying apparatus for drying a slurry-like coating liquid coated on at least one major surface of two main surfaces of a substrate fed from a first roll and continuously transported by a transport mechanism wound with a second roll,
A heating unit for applying heat treatment to the coating liquid coated on the substrate;
A radiation thermometer for measuring the temperature of the emissivity constant area where the emissivity is not changed by the heat treatment in the base material at a location on the downstream side of the heating part in the transport direction,
And a control unit for controlling the intensity of the heating process based on the temperature measured by the radiation thermometer.
상기 방사 온도계는, 상기 기재 중, 상기 도공액이 도공되어 있지 않은 비도공 부위, 또는, 건조된 상기 도공액의 도막이 형성되어 있는 도막 형성 부위에 있어서, 온도를 계측하는, 건조 장치.The method according to claim 1,
Wherein the radiation thermometer measures a temperature at a non-porous region in the substrate where the coating liquid is not coated, or at a coating film formation region where a coating film of the dried coating liquid is formed.
상기 기재가 내부에 진입하기 위한 진입구, 및, 상기 기재가 내부로부터 퇴출하기 위한 퇴출구가 형성되어 있는 케이싱부를 추가로 구비하고,
상기 가열부 및 상기 방사 온도계가 상기 케이싱부 내에 수용되어 있는, 건조 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Further comprising a casing portion having an entry port for the substrate to enter therein and an exit port for the substrate to exit from the inside,
Wherein the heating section and the radiation thermometer are housed in the casing section.
상기 제어부는, 상기 방사 온도계에 의해 계측된 상기 방사율 불변 부위의 온도가 목표 온도보다 낮은 경우에는, 상기 가열부에 의한 상기 가열 처리의 강도를 강하게 하고, 상기 방사율 불변 부위의 온도가 상기 목표 온도보다 높은 경우에는, 상기 가열부에 의한 상기 가열 처리의 강도를 약하게 하는, 건조 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the control unit increases the intensity of the heat treatment by the heating unit when the temperature of the emissivity constant area measured by the radiation thermometer is lower than the target temperature and the temperature of the emissivity constant area is higher than the target temperature And the strength of the heat treatment by the heating unit is weakened when the temperature is high.
상기 가열부가,
상기 기재에 상기 목표 온도보다 고온의 열풍을 분사함으로써 상기 도공액을 가열하는 열풍 공급부를 갖는, 건조 장치.5. The method of claim 4,
The heating unit,
And a hot air supply unit for heating the coating liquid by spraying hot air having a temperature higher than the target temperature on the substrate.
상기 가열부 및 상기 방사 온도계가 상기 기재의 반송 경로 상을 따라 적어도 1 세트 이상 배열되어 있는, 건조 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein at least one set of the heating section and the radiation thermometer are arranged along the conveyance path of the substrate.
상기 가열부보다 하류측에 배치되어 있고, 상기 기재의 타방측 주면을 지지하는 지지 롤러를 추가로 구비하고,
상기 방사 온도계가, 상기 가열부와 상기 지지 롤러 사이의 위치에서 상기 방사율 불변 부위의 온도를 계측하는, 건조 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Further comprising a support roller disposed on the downstream side of the heating section and supporting the other main surface of the substrate,
Wherein the radiation thermometer measures the temperature of the emissivity constant at a position between the heating part and the supporting roller.
상이한 높이에 배열된 복수의 지지 롤러를 추가로 구비하고,
상기 복수의 지지 롤러는, 상기 기재가 상기 일방측 주면 측에 볼록상이 되도록 당해 상기 기재를 지지하는, 건조 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Further comprising a plurality of support rollers arranged at different heights,
Wherein the plurality of support rollers support the substrate so that the substrate is convex on the one main surface side.
상기 방사 온도계에 의해 계측된 상기 방사율 불변 부위의 온도가, 규정된 기준 온도를 초과한 경우에, 외부에 통지하는 통지부를 추가로 구비하는, 건조 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Further comprising a notifying unit for notifying the outside when the temperature of the emissivity constant area measured by the radiation thermometer exceeds a prescribed reference temperature.
제 1 롤러로부터 송출된 기재를 제 2 롤러로 권취함으로써 상기 기재를 연속 반송하는 반송 기구와,
상기 반송 기구에 의해 반송되는 기재의 2 개의 주면 중, 적어도 일방측 주면에 슬러리상의 도공액을 도포하는 도공부와,
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 건조 장치를 구비하는, 도막 형성 시스템.A coating film forming system for forming a coating film on a substrate,
A transport mechanism for continuously transporting the substrate by winding a substrate fed from the first roller with a second roller,
A coating portion for applying a slurry-like coating liquid to at least one main surface of the two main surfaces of the substrate conveyed by the conveying mechanism;
A coating film forming system comprising the drying device according to claim 1 or 2.
(a) 상기 기재에 도공된 도공액을 가열 처리하는 가열 공정과,
(b) 상기 가열 공정에서 가열된 상기 기재 중, 상기 가열 처리에 의해 방사율이 변동되지 않는 방사율 불변 부위의 온도를 방사 온도계로 계측하는 온도 계측 공정과,
(c) 상기 방사 온도계로 계측된 온도에 기초하여 상기 가열 처리의 강도를 제어하는 제어 공정을 포함하는, 건조 방법.A drying method for drying a slurry-like coating liquid coated on at least one main surface of two main surfaces of a base material continuously fed by being wound in a second roll while being discharged from a first roll,
(a) a heating step of heat-treating the coating liquid coated on the substrate;
(b) a temperature measuring step of measuring the temperature of the emissivity constant area where the emissivity is not changed by the heat treatment among the substrates heated in the heating step;
(c) a control step of controlling the intensity of the heat treatment based on the temperature measured by the radiation thermometer.
(A) 제 1 롤러로부터 송출된 기재를 제 2 롤러로 권취함으로써 기재를 연속 반송하는 반송 공정과,
(B) 상기 반송 공정에서 연속 반송되는 기재의 2 개의 주면 중, 적어도 일방측 주면에 슬러리상의 도공액을 도포하는 도공 공정과,
(C) 상기 기재에 도공된 도공액을 가열 처리하는 가열 공정과,
(D) 상기 가열 공정에서 가열된 상기 기재 중, 상기 가열 처리에 의해 방사율이 변동되지 않는 방사율 불변 부위의 온도를 방사 온도계로 계측하는 온도 계측 공정과,
(E) 상기 방사 온도계로 계측된 온도에 기초하여 상기 가열 처리의 강도를 제어하는 제어 공정을 포함하는, 도막 형성 방법.A coating film forming method for forming a coating film on a substrate,
(A) a conveying step of continuously conveying a substrate by winding a substrate fed from a first roller with a second roller; and
(B) a coating step of coating a slurry-like coating liquid on at least one of the two main surfaces of the base material continuously conveyed in the conveying step,
(C) a heating step of heat-treating the coating liquid coated on the substrate,
(D) a temperature measuring step of measuring the temperature of the emissivity constant area where the emissivity does not fluctuate by the heat treatment among the substrates heated in the heating step;
(E) a control step of controlling the intensity of the heat treatment based on the temperature measured by the radiation thermometer.
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