JP5711031B2 - Coating apparatus and coating film forming system - Google Patents

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Description

本発明は、化学電池の電極材料として用いられる活物質の塗布液を基材に塗布することによって、基材上に塗布膜を形成する塗布装置、および、この塗布装置を組み込んだ塗布膜形成システムに関する。   The present invention relates to a coating apparatus for forming a coating film on a base material by applying a coating liquid of an active material used as an electrode material of a chemical battery to the base material, and a coating film forming system incorporating the coating apparatus. About.

従来より、基材として用いられる金属箔の上に、比較的高粘度の電極材料を塗布することによって、リチウムイオン二次電池などの化学電池を製造する方法が知られている(例えば、特許文献1)。   Conventionally, a method of manufacturing a chemical battery such as a lithium ion secondary battery by applying a relatively high-viscosity electrode material on a metal foil used as a base material is known (for example, Patent Documents). 1).

ここで、特許文献1の製造方法では、次のような手法により、金属箔上に塗布膜が形成される。まず、帯状の金属箔が、複数のローラにより、巻出し部から電極材料を吐出するスリットノズルの直下に搬送される。   Here, in the manufacturing method of Patent Document 1, a coating film is formed on the metal foil by the following method. First, a strip-shaped metal foil is conveyed by a plurality of rollers directly below a slit nozzle that discharges an electrode material from an unwinding portion.

次に、金属箔の搬送方向(金属箔の長手方向と平行)においてスリットノズルより上流側に配置された位置検出センサによって、幅方向(長手方向と直交する方向)における金属箔の一端部(幅方向における金属箔の両端のうち一方の端部)の位置が検出される。   Next, one end (width) of the metal foil in the width direction (direction perpendicular to the longitudinal direction) is detected by a position detection sensor arranged upstream of the slit nozzle in the conveyance direction of the metal foil (parallel to the longitudinal direction of the metal foil). The position of one end of both ends of the metal foil in the direction is detected.

続いて、検出された一端部の位置に基づいて、スリットノズルが、幅方向に沿って移動させられる。これにより、幅方向における金属箔の一端部を基準位置として、この基準位置から幅方向に沿って一定距離だけ離れた位置に、電極材料が塗布できる。そして、電極材料の塗布が金属箔の両主面(両面)に対して実行されることによって、金属箔の両面に塗布膜が形成される。   Subsequently, based on the detected position of the one end, the slit nozzle is moved along the width direction. Thereby, the electrode material can be applied at a position away from the reference position along the width direction by a certain distance with one end of the metal foil in the width direction as the reference position. And application | coating of an electrode material is performed with respect to both main surfaces (both surfaces) of metal foil, and a coating film is formed on both surfaces of metal foil.

特許第4259026号公報Japanese Patent No. 4259026

しかしながら、幅方向における金属箔のサイズは、必ずしも一定でなく、一方の端部を基準位置とする塗布膜の塗布位置は、他方の端部を基準位置とする塗布膜の塗布位置とズレる。その結果、一方の主面に形成された塗布膜の基準位置が不明な場合、両主面に形成された塗布膜の塗布位置を一致させることができないという問題が生ずる。   However, the size of the metal foil in the width direction is not necessarily constant, and the coating position of the coating film having one end as a reference position is different from the coating position of the coating film having the other end as a reference position. As a result, when the reference position of the coating film formed on one main surface is unknown, there arises a problem that the coating positions of the coating films formed on both main surfaces cannot be matched.

そこで、本発明では、基材の一方の主面に塗布膜が形成されている場合において、他方の主面に良好に塗布膜を形成することができる塗布装置、および、この塗布装置を組み込んだ塗布膜形成システムを提供することを目的とする。   Therefore, in the present invention, when a coating film is formed on one main surface of the base material, a coating apparatus that can satisfactorily form a coating film on the other main surface, and this coating apparatus are incorporated. An object is to provide a coating film forming system.

上記の課題を解決するため、請求項1の発明は、帯状とされた基材の第1主面上に活物質の第1塗布膜が形成された状態で、前記基材の第2主面に活物質の塗布液を塗布することによって、前記第2主面上に第2塗布膜を形成する塗布装置であって、前記第1塗布膜は、前記基材の長手方向に沿って形成されてるとともに、前記第2塗布膜が形成される時、前記基材は、前記長手方向に沿って搬送され、前記基材の幅方向に沿ったスリット状の吐出口から前記基材の前記第2主面に向けて、前記塗布液を吐出するノズルと、前記長手方向に沿った前記基材の搬送経路において、前記ノズルの吐出位置より上流側の検出位置に配置されるとともに、前記幅方向おける前記第1塗布膜の第1両端位置を前記基材の各部分について検出する位置検出部と、前記ノズルを前記幅方向に沿って移動させる駆動部と、前記位置検出部により検出された前記第1両端位置に基づいて、前記幅方向における前記ノズルの位置を決定することによって、前記基材の各部分における前記第2塗布膜の形成位置を決定する制御部と、備えることを特徴とする。   In order to solve the above problems, the invention of claim 1 is directed to the second main surface of the base material in a state where the first coating film of the active material is formed on the first main surface of the belt-shaped base material. A coating apparatus for forming a second coating film on the second main surface by applying an active material coating liquid to the second main surface, wherein the first coating film is formed along a longitudinal direction of the substrate. At the same time, when the second coating film is formed, the base material is transported along the longitudinal direction, and the second of the base material from the slit-shaped discharge port along the width direction of the base material. A nozzle that discharges the coating liquid toward the main surface and a transport path of the base material along the longitudinal direction are arranged at a detection position upstream of the discharge position of the nozzle and in the width direction. Position detection for detecting the first end positions of the first coating film for each part of the base material And determining the position of the nozzle in the width direction based on the first end position detected by the position detection unit and a drive unit that moves the nozzle along the width direction. And a control unit that determines a formation position of the second coating film in each part of the material.

また、請求項2の発明は、請求項1に記載の塗布装置において、前記位置検出部は、2次元レーザ変位計であることを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the coating apparatus according to the first aspect, the position detection unit is a two-dimensional laser displacement meter.

また、請求項3の発明は、請求項1に記載の塗布装置において、前記位置検出部は、前記幅方向における前記第1塗布膜の両端付近を撮像可能な撮像部と、前記撮像部により撮像された画像に基づいて、前記幅方向に沿った前記第1塗布膜の前記第1両端位置を演算する演算部とを有することを特徴とする。   Further, the invention of claim 3 is the coating apparatus according to claim 1, wherein the position detection unit is configured to capture an image of the vicinity of both ends of the first coating film in the width direction, and the imaging unit. And an arithmetic unit that calculates the first both end positions of the first coating film along the width direction based on the obtained image.

また、請求項4の発明は、請求項1から請求項3のいずれかに記載の塗布装置において、前記位置検出部は、前記基材の各部分について、前記幅方向における前記基材の第2両端位置を、前記第1両端位置とともに検出することを特徴とする。   Further, the invention of claim 4 is the coating apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the position detection unit is configured to provide the second part of the base material in the width direction for each part of the base material. Both end positions are detected together with the first both end positions.

また、請求項5の発明は、請求項1から請求項4のいずれかに記載の塗布装置と、前記塗布装置で塗布された前記基材上の前記塗布液を乾燥させる乾燥装置とを備えることを特徴とする。   Moreover, invention of Claim 5 is equipped with the coating device in any one of Claims 1-4, and the drying apparatus which dries the said coating liquid on the said base material apply | coated with the said coating device. It is characterized by.

請求項1から請求項5に記載の発明によれば、位置検出部は、幅方向における第1塗布膜の第1両端位置を基材の各部分について検出することができる。これにより、幅方向における基材のサイズが、基材の各部分において変動しても、第1塗布膜の形成位置および幅が、正確に検出できる。   According to the first to fifth aspects of the present invention, the position detector can detect the first end positions of the first coating film in the width direction for each part of the substrate. Thereby, even if the size of the base material in the width direction varies in each part of the base material, the formation position and width of the first coating film can be accurately detected.

そのため、基材の各部分において第1および第2塗布膜の形成位置が一致するように、ノズルの位置を決定することができる。また、検出された第1塗布膜の幅によって、第1塗布膜の形成不良を発見できる。   Therefore, the position of the nozzle can be determined so that the positions where the first and second coating films are formed in each part of the substrate. Further, the formation failure of the first coating film can be found based on the detected width of the first coating film.

特に、請求項4に記載の発明によれば、基材の各部分において、幅方向に沿った第1塗布膜の第1両端位置だけでなく、幅方向に沿った基材の第2両端位置をも検出することができる。そのため、第1塗布膜に関する情報だけでなく、基材の送り状況(例えば、幅方向における基材の蛇行状況)に関する情報をも取得することができる。   In particular, according to the invention described in claim 4, in each part of the base material, not only the first both end positions of the first coating film along the width direction but also the second both end positions of the base material along the width direction. Can also be detected. Therefore, not only the information regarding the first coating film but also the information regarding the feeding state of the base material (for example, the meandering state of the base material in the width direction) can be acquired.

本発明に係る塗布装置を組み込んだ塗布膜形成システムの全体構成の一例を示す正面図である。It is a front view which shows an example of the whole structure of the coating film formation system incorporating the coating device which concerns on this invention. 塗布処理部の概略構成を示す正面図である。It is a front view which shows schematic structure of a coating process part. ノズルおよび位置検出部の位置関係を説明するための側面図である。It is a side view for demonstrating the positional relationship of a nozzle and a position detection part. 図3のVI−VI線から見た断面図である。It is sectional drawing seen from the VI-VI line of FIG.

以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

<1.塗布膜形成システムの構成>
図1は、本発明に係る塗布装置を組み込んだ塗布膜形成システム1の全体構成を示す図である。なお、図1および以降の各図には、方向関係を明確にするために、Z軸方向を鉛直方向とし、XY平面を水平面とするXYZ直交座標系が付されている。また、図1および以降の各図において、理解容易のため、必要に応じて、各部の寸法や数が誇張または簡略化して描かれている。
<1. Configuration of coating film forming system>
FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration of a coating film forming system 1 incorporating a coating apparatus according to the present invention. In addition, in FIG. 1 and each subsequent figure, in order to clarify a directional relationship, the XYZ orthogonal coordinate system which makes a Z-axis direction a perpendicular direction and makes XY plane a horizontal surface is attached | subjected. Further, in FIG. 1 and the subsequent drawings, the dimensions and number of each part are exaggerated or simplified as necessary for easy understanding.

塗布膜形成システム1は、基材5の上に活物質の塗布膜を形成するとともに、形成された塗布膜を乾燥させることによって、リチウムイオン二次電池の電極を製造する。図1に示すように、塗布膜形成システム1は、主として、塗布処理部10、予熱部60、乾燥部65、アニール部70、冷却部75、および搬送部80を備えている。また、塗布膜形成システム1は、電源および後述する制御部90(図2参照)等を収納する電装ボックス9を備えている。   The coating film forming system 1 manufactures an electrode of a lithium ion secondary battery by forming a coating film of an active material on a substrate 5 and drying the formed coating film. As shown in FIG. 1, the coating film forming system 1 mainly includes a coating processing unit 10, a preheating unit 60, a drying unit 65, an annealing unit 70, a cooling unit 75, and a transport unit 80. Further, the coating film forming system 1 includes an electrical box 9 that houses a power source, a control unit 90 (see FIG. 2) described later, and the like.

ここで、基材5は、リチウムイオン二次電池の集電体として機能する帯状の金属箔である。基材5の形状は、より具体的には、長尺のシート状とされている。また、基材5の幅および厚さは特に限定されるものではないが、基材5の幅は600mm〜700mmとすることができ、基材5の厚さは10μm〜20μmとすることができる。   Here, the base material 5 is a strip-shaped metal foil that functions as a current collector of a lithium ion secondary battery. More specifically, the shape of the substrate 5 is a long sheet. Moreover, although the width | variety and thickness of the base material 5 are not specifically limited, The width | variety of the base material 5 can be 600 mm-700 mm, and the thickness of the base material 5 can be 10 micrometers-20 micrometers. .

また、塗布膜形成システム1において、リチウムイオン二次電池の正極が製造される場合、基材5として例えばアルミニウム箔(Al)が使用できる。一方、負極が製造される場合、基材5として例えば銅箔(Cu)が使用できる。   Moreover, in the coating film formation system 1, when the positive electrode of a lithium ion secondary battery is manufactured, aluminum foil (Al) can be used as the base material 5, for example. On the other hand, when the negative electrode is manufactured, for example, a copper foil (Cu) can be used as the substrate 5.

図1に示すように、帯状の基材5は、巻き出しローラ81から送り出されて巻き取りローラ82によって巻き取られることによって、塗布処理部10、予熱部60、乾燥部65、アニール部70、冷却部75の各部に、この順番で搬送される。搬送部80は、これら巻き出しローラ81および巻き取りローラ82と複数の補助ローラ83a〜83eとを備えて構成されており、基材5を矢印AR1方向に沿って搬送する。なお、補助ローラ83a〜83eの個数および配置については、図1の例に限定されるものではなく、必要に応じて適宜に増減することができる。   As shown in FIG. 1, the belt-shaped base material 5 is fed from the unwinding roller 81 and wound by the winding roller 82, so that the coating processing unit 10, the preheating unit 60, the drying unit 65, the annealing unit 70, It is conveyed to each part of the cooling unit 75 in this order. The conveying unit 80 includes the unwinding roller 81 and the winding roller 82 and a plurality of auxiliary rollers 83a to 83e, and conveys the base material 5 along the direction of the arrow AR1. In addition, about the number and arrangement | positioning of auxiliary roller 83a-83e, it is not limited to the example of FIG. 1, It can increase / decrease suitably as needed.

塗布処理部10は、電極材料として用いられる活物質の塗布液を基材5に塗布することによって、基材5上に塗布膜を形成する。塗布処理部10は、基材5の長手方向(矢印AR1方向)(以下、単に、「長手方向」とも称する)に沿った搬送経路8において、巻き出しローラ81より下流側であって、予熱部60の上流側に配置されている。なお、塗布処理部10の詳細な構成については、後述する。   The coating processing unit 10 forms a coating film on the substrate 5 by applying a coating solution of an active material used as an electrode material to the substrate 5. The application processing unit 10 is on the downstream side of the unwinding roller 81 in the transport path 8 along the longitudinal direction (arrow AR1 direction) of the base material 5 (hereinafter also simply referred to as “longitudinal direction”), and is a preheating unit. 60 on the upstream side. The detailed configuration of the coating processing unit 10 will be described later.

予熱部60は、塗布処理部10での塗布処理によって基材5の上に形成された電極材料の塗布膜を昇温し、一定時間の予熱を行う。また、乾燥部65は、主たる乾燥処理を行う処理部であり、予熱部60にて予熱された塗布膜に熱風を吹き付けて加熱して溶剤を蒸発させる。さらに、アニール部70は、塗布膜をより高温に加熱し、塗布膜に残留している溶剤を除去するとともに、乾燥部65での乾燥処理で塗布膜中に発生した歪みおよび残留応力を除去する。冷却部75は、加熱された塗布膜に常温のドライエアを吹き付けることによって塗布膜を冷却する。   The preheating unit 60 raises the temperature of the coating film of the electrode material formed on the substrate 5 by the coating process in the coating processing unit 10 and performs preheating for a predetermined time. The drying unit 65 is a processing unit that performs a main drying process, and blows hot air on the coating film preheated by the preheating unit 60 to heat and evaporate the solvent. Further, the annealing unit 70 heats the coating film to a higher temperature, removes the solvent remaining in the coating film, and removes strain and residual stress generated in the coating film by the drying process in the drying unit 65. . The cooling unit 75 cools the coating film by blowing dry air at normal temperature onto the heated coating film.

このように、予熱部60、乾燥部65、アニール部70、および冷却部75は、塗布処理部10で塗布された基材5上の塗布液を乾燥させる乾燥装置として使用できる。なお、基材5の上に形成された塗布膜を乾燥させる乾燥装置としては、上記の4つの処理部を備えた構成に限定されるものではなく、塗布液の種類に応じて適宜のものとすることができる。例えば、乾燥装置は、予熱部60および乾燥部65のみによって構成されても良い。   As described above, the preheating unit 60, the drying unit 65, the annealing unit 70, and the cooling unit 75 can be used as a drying device that dries the coating liquid on the substrate 5 applied by the coating processing unit 10. In addition, as a drying apparatus which dries the coating film formed on the base material 5, it is not limited to the structure provided with said four process part, According to the kind of coating liquid, it is appropriate and can do. For example, the drying device may be configured only by the preheating unit 60 and the drying unit 65.

制御部90は、塗布膜形成システム1の各要素の動作を制御するとともに、種々のデータ演算を実現する。図2に示すように、制御部90は、主として、ROM91と、RAM92と、CPU93と、を有している。   The control unit 90 controls the operation of each element of the coating film forming system 1 and realizes various data calculations. As shown in FIG. 2, the control unit 90 mainly includes a ROM 91, a RAM 92, and a CPU 93.

ROM(Read Only Memory)91は、いわゆる不揮発性の記憶部であり、例えば、プログラム91aが格納されている。なお、ROM91としては、読み書き自在の不揮発性メモリであるフラッシュメモリが使用されてもよい。RAM(Random Access Memory)92は、揮発性の記憶部であり、例えば、CPU93の演算で使用されるデータが格納される。   A ROM (Read Only Memory) 91 is a so-called nonvolatile storage unit, and stores, for example, a program 91a. As the ROM 91, a flash memory that is a readable / writable nonvolatile memory may be used. A RAM (Random Access Memory) 92 is a volatile storage unit and stores, for example, data used in the calculation of the CPU 93.

CPU(Central Processing Unit)93は、ROM91のプログラム91aに従った制御(例えば、駆動部15によるノズル11の移動動作や、閉止バルブ20およびポンプ51による塗布液の吐出動作等の制御)が、実行される。   A CPU (Central Processing Unit) 93 executes control according to the program 91a of the ROM 91 (for example, control of the movement operation of the nozzle 11 by the drive unit 15, the discharge operation of the coating liquid by the closing valve 20 and the pump 51, etc.). Is done.

<2.塗布処理部の構成>
図2は、本発明に係る塗布装置である塗布処理部10の概略構成を示す図である。図3は、ノズル11および位置検出部13の位置関係を説明するための側面図である。図4は、図3のVI−VI線から見た断面図である。ここでは、図2から図4を参照しつつ、塗布処理部10の構成を説明する。
<2. Configuration of coating processing section>
FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of the coating processing unit 10 which is a coating apparatus according to the present invention. FIG. 3 is a side view for explaining the positional relationship between the nozzle 11 and the position detector 13. 4 is a cross-sectional view taken along line VI-VI in FIG. Here, the configuration of the coating processing unit 10 will be described with reference to FIGS. 2 to 4.

塗布処理部10は、図2に示すように、帯状とされた基材5の第1主面5aに活物質の第1塗布膜6が形成された状態で、基材5の第2主面5bに活物質の塗布液を塗布する。これにより、基材5の第2主面5b上に第2塗布膜7が形成される。図2に示すように、塗布処理部10は、主として、ノズル11と、位置検出部13と、駆動部15と、タンク50と、ポンプ51と、供給配管55と、閉止バルブ20と、を備えている。   As shown in FIG. 2, the coating processing unit 10 is configured such that the first main coating surface 6 a of the active material is formed on the first main surface 5 a of the strip-shaped base material 5, and the second main surface of the base material 5. An active material coating solution is applied to 5b. Thereby, the 2nd coating film 7 is formed on the 2nd main surface 5b of the base material 5. FIG. As shown in FIG. 2, the application processing unit 10 mainly includes a nozzle 11, a position detection unit 13, a drive unit 15, a tank 50, a pump 51, a supply pipe 55, and a closing valve 20. ing.

なお、基材5のように長手方向に延びる帯状シート体において、「主面」とは、基材5の長手方向および幅方向のそれぞれと平行な面を言うものとする。   In addition, in the belt-like sheet body extending in the longitudinal direction like the base material 5, the “main surface” means a surface parallel to each of the longitudinal direction and the width direction of the base material 5.

タンク50は、基材5に正極用または負極用の電極材料を供給するための供給源である。タンク50は、リチウムイオン二次電池の電極材料である活物質の溶液を、塗布液として貯留する。   The tank 50 is a supply source for supplying the electrode material for the positive electrode or the negative electrode to the base material 5. The tank 50 stores a solution of an active material that is an electrode material of a lithium ion secondary battery as a coating solution.

ここで、塗布膜形成システム1において正極が製造される場合、タンク50には、正極材料の塗布液として、例えば正極活物質であるコバルト酸リチウム(LiCoO2)と、導電助剤であるカーボン(C)と、結着剤であるポリフッ化ビニリデン(PVDF)と、溶剤であるN−メチル−2−ピロリドン(NMP)と、の混合液が貯留される。 Here, when a positive electrode is manufactured in the coating film forming system 1, the tank 50 includes, for example, lithium cobalt oxide (LiCoO 2 ) as a positive electrode active material and carbon ( A mixed liquid of C), polyvinylidene fluoride (PVDF) as a binder, and N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) as a solvent is stored.

正極活物質としては、コバルト酸リチウムに代えて、ニッケル酸リチウム(LiNiO2)、マンガン酸リチウム(LiMn24)、または燐酸鉄リチウム(LiFePO4)等も使用できるが、これらの物質に限定されるものではない。 As the positive electrode active material, lithium nickelate (LiNiO 2 ), lithium manganate (LiMn 2 O 4 ), lithium iron phosphate (LiFePO 4 ), or the like can be used instead of lithium cobaltate, but these materials are limited. Is not to be done.

一方、塗布膜形成システム1において負極が製造される場合、タンク50には、負極材料の塗布液として、例えば負極活物質である黒鉛(グラファイト)と、結着剤であるPVDFと、溶剤であるNMPと、の混合液が貯留する。   On the other hand, when the negative electrode is manufactured in the coating film forming system 1, the tank 50 contains, for example, graphite (graphite) as a negative electrode active material, PVDF as a binder, and a solvent as a coating liquid for the negative electrode material. A liquid mixture of NMP is stored.

負極活物質としては、黒鉛に代えて、ハードカーボン、チタン酸リチウム(Li4Ti512)、シリコン合金、またはスズ合金等も使用できるが、これらの物質に限定されるものではない。 As the negative electrode active material, hard carbon, lithium titanate (Li 4 Ti 5 O 12 ), a silicon alloy, a tin alloy, or the like can be used instead of graphite, but the material is not limited to these materials.

また、正極材料および負極材料の双方において、結着剤としては、PVDFに代えてスチレン−ブタジエンゴム(SBR)等も用いられ、溶剤としては、NMPに代えて水(H2O)等も使用できる。さらに、結着剤としてSBRが、溶剤として水が、それぞれ用いられる場合、カルボキシメチルセルロース(CMC)が、増粘剤として併用できる。 In both the positive electrode material and the negative electrode material, styrene-butadiene rubber (SBR) or the like is used as a binder instead of PVDF, and water (H 2 O) or the like is used as a solvent instead of NMP. it can. Furthermore, when SBR is used as the binder and water is used as the solvent, carboxymethylcellulose (CMC) can be used as a thickener.

さらに、これら正極材料および負極材料の塗布液は、固体(微粒子)が分散されたスラリーである。これら塗布液の粘度は、いずれも1Pa・s(パスカル秒)以上であり、一般的にチクソトロピー性を有する。   Furthermore, the coating liquid of these positive electrode material and negative electrode material is a slurry in which solid (fine particles) are dispersed. Each of these coating solutions has a viscosity of 1 Pa · s (pascal second) or more, and generally has thixotropic properties.

タンク50には、攪拌機53およびエア加圧ユニット54が付設されている。攪拌機53は、スクリュー53aを有しており、スクリュー53aは、タンク50内の塗布液に浸漬可能とされている。したがって、スクリュー53aが回転させられることによって、タンク50に貯留された塗布液が撹拌される。   The tank 50 is provided with a stirrer 53 and an air pressurizing unit 54. The stirrer 53 has a screw 53a, and the screw 53a can be immersed in the coating liquid in the tank 50. Therefore, the coating liquid stored in the tank 50 is agitated by rotating the screw 53a.

エア加圧ユニット54は、高圧の空気をタンク50内の気相部分に送り込んで貯留されている塗布液の液面を加圧する。なお、ポンプ51のみで送液が可能であれば、エア加圧ユニット54は必須の要素ではない。   The air pressurization unit 54 pressurizes the liquid level of the coating liquid stored by sending high-pressure air into the gas phase portion in the tank 50. Note that the air pressurization unit 54 is not an essential element as long as the liquid can be fed only by the pump 51.

タンク50とノズル11とは供給配管55によって連通接続されている。供給配管55としては、ステンレス管または樹脂管が使用できる。供給配管55の経路途中には、ポンプ51、閉止バルブ20、および流量計52が介挿されている。また、供給配管55の途中から分岐して循環配管56が設けられている。循環配管56の基端側は供給配管55の閉止バルブ20とポンプ51との間の位置に接続され、先端側はタンク50に接続されている。循環配管56には、循環バルブ57および流量調整バルブ58が介挿されている。   The tank 50 and the nozzle 11 are connected in communication by a supply pipe 55. As the supply pipe 55, a stainless steel pipe or a resin pipe can be used. A pump 51, a closing valve 20, and a flow meter 52 are interposed in the course of the supply pipe 55. Further, a circulation pipe 56 is provided branching from the middle of the supply pipe 55. The proximal end side of the circulation pipe 56 is connected to a position between the closing valve 20 and the pump 51 of the supply pipe 55, and the distal end side is connected to the tank 50. A circulation valve 57 and a flow rate adjustment valve 58 are inserted in the circulation pipe 56.

ポンプ51は、供給配管55に設けられており、タンク50に貯留されている電極材料の塗布液を、ノズル11に向けて送り出す。流量計52は、供給配管55を流れる塗布液の流量を計測する。閉止バルブ20は、供給配管55の流路を開閉することによって、ノズル11への塗布液の供給を断続させる。   The pump 51 is provided in the supply pipe 55, and sends the electrode material coating liquid stored in the tank 50 toward the nozzle 11. The flow meter 52 measures the flow rate of the coating liquid flowing through the supply pipe 55. The closing valve 20 opens and closes the flow path of the supply pipe 55, thereby intermittently supplying the coating liquid to the nozzle 11.

循環配管56に設けられている循環バルブ57は、循環配管56の流路を開閉する。閉止バルブ20が供給配管55を閉止した状態で、循環バルブ57が開かれることによって、供給配管55を流れる塗布液は、循環配管56に流れ込み、タンク50へと帰還させられる。循環配管56を流れる塗布液の流量は、流量調整バルブ58により調整される。   A circulation valve 57 provided in the circulation pipe 56 opens and closes the flow path of the circulation pipe 56. When the circulation valve 57 is opened while the supply valve 55 is closed by the closing valve 20, the coating liquid flowing through the supply pipe 55 flows into the circulation pipe 56 and is returned to the tank 50. The flow rate of the coating liquid flowing through the circulation pipe 56 is adjusted by a flow rate adjusting valve 58.

ノズル11は、図2に示すように、バックアップローラ12と対向する位置に配置されている。ノズル11の先端には、基材5の幅方向(図3の矢印AR2方向)(基材5の長手方向と直交する方向:以下、単に、「幅方向」と称する)に沿ったスリット状の吐出口11aが設けられている。そして、供給配管55を経由して送供され、吐出口11aから吐出される塗布液は、バックアップローラ12に押圧支持された基材5に向けて吐出される。   As shown in FIG. 2, the nozzle 11 is disposed at a position facing the backup roller 12. At the tip of the nozzle 11, there is a slit-like shape along the width direction of the substrate 5 (the direction of the arrow AR2 in FIG. 3) (the direction orthogonal to the longitudinal direction of the substrate 5: hereinafter simply referred to as “width direction”). A discharge port 11a is provided. Then, the coating liquid supplied via the supply pipe 55 and discharged from the discharge port 11 a is discharged toward the base material 5 pressed and supported by the backup roller 12.

位置検出部13は、いわゆる2次元レーザ変位計により構成されたセンサである。図2および図3に示すように、位置検出部13は、長手方向に沿った基材5の搬送経路8において、ノズル11の吐出位置PDより上流側の検出位置PSに配置されており、バックアップローラ13aと対向する。図4に示すように、位置検出部13は、主として、複数の測距ユニット14を有している。なお、図3では、ノズル11および位置検出部13の配置が、模式的に描かれており、吐出位置PDおよび検出位置PSが、実際よりも近く記載されている。   The position detection unit 13 is a sensor configured by a so-called two-dimensional laser displacement meter. As shown in FIGS. 2 and 3, the position detection unit 13 is disposed at a detection position PS upstream of the discharge position PD of the nozzle 11 in the transport path 8 of the base material 5 along the longitudinal direction, and is backed up. It faces the roller 13a. As shown in FIG. 4, the position detector 13 mainly has a plurality of distance measuring units 14. In FIG. 3, the arrangement of the nozzles 11 and the position detection unit 13 is schematically illustrated, and the discharge position PD and the detection position PS are described closer than actual.

複数の測距ユニット14は、図4に示すように、配列方向(矢印AR3方向)に沿って一次元的に配列されている。各測距ユニット14は、対象物までの距離に応じたアナログ信号を出力する。図4に示すように、各測距ユニット14は、投光光源14aと、受光部14bと、を有している。   As shown in FIG. 4, the plurality of distance measuring units 14 are arranged one-dimensionally along the arrangement direction (the direction of the arrow AR3). Each ranging unit 14 outputs an analog signal corresponding to the distance to the object. As shown in FIG. 4, each distance measuring unit 14 includes a light projecting light source 14 a and a light receiving unit 14 b.

投光光源14aは、例えばレーザ光源であり、対象物に向けてレーザを出射する。受光部14bは、対応する投光光源14aから出射され、対象物で反射されたレーザを受光する。そして、各受光部14bは、受光されたレーザの強度に応じたアナログ信号(例えば、電圧)を出力する。   The light projecting light source 14a is, for example, a laser light source, and emits a laser toward an object. The light receiving unit 14b receives the laser beam emitted from the corresponding light projecting light source 14a and reflected by the object. Each light receiving unit 14b outputs an analog signal (for example, voltage) corresponding to the intensity of the received laser.

したがって、位置検出部13は、各測距ユニット14から出力されるアナログ信号を制御部90のCPU93に比較させることによって、幅方向おける第1塗布膜6の両端位置PE1、PE2(第1両端位置:図3参照)を基材5の各部分について検出する。   Therefore, the position detection unit 13 compares the analog signals output from the distance measuring units 14 with the CPU 93 of the control unit 90, so that both end positions PE1 and PE2 (first end position of the first coating film 6 in the width direction). : See FIG. 3) for each part of the substrate 5.

例えば、隣接する測距ユニット14のアナログ信号の値が、矢印AR3(図4参照)で規定される順序で比較される。そして、隣接する測距ユニット14のアナログ信号の値が同一符号であり、かつ、両アナログ信号の値が急峻に変化する場合、これら隣接する測距ユニット14の位置に基づいて位置PE1(図4参照)が求められる。   For example, the analog signal values of the adjacent ranging units 14 are compared in the order defined by the arrow AR3 (see FIG. 4). When the analog signal values of the adjacent ranging units 14 have the same sign and the values of both analog signals change sharply, the position PE1 (FIG. 4) is based on the positions of these adjacent ranging units 14. Reference) is required.

そして、制御部90は、位置検出部13により検出された両端位置PE1、PE2に基づいて、幅方向におけるノズル11の位置を決定することにより、基材5の各部分における第2塗布膜7の形成位置を決定する。   And the control part 90 determines the position of the nozzle 11 in the width direction based on the both end positions PE1 and PE2 detected by the position detection part 13, and thereby the second coating film 7 in each part of the substrate 5 is determined. The formation position is determined.

このように、位置検出部13は、幅方向における第1塗布膜6の両端位置PE1、PE2を基材5の各部分について検出することができる。これにより、幅方向における基材5のサイズが、基材5の各部分において変動しても、第1塗布膜6の形成位置が、正確に検出できる。そのため、塗布処理部10は、基材5の両主面5a、5bに形成される両塗布膜6、7の形成位置を正確に一致させることができる。その結果、これら両塗布膜6、7を有する化学電池の性能を向上させることができる。   As described above, the position detection unit 13 can detect the positions PE1 and PE2 of the first coating film 6 in the width direction for each part of the base material 5. Thereby, even if the size of the base material 5 in the width direction varies in each part of the base material 5, the formation position of the first coating film 6 can be accurately detected. Therefore, the coating processing unit 10 can accurately match the formation positions of the two coating films 6 and 7 formed on the two main surfaces 5a and 5b of the base material 5. As a result, the performance of the chemical battery having both the coating films 6 and 7 can be improved.

また、位置検出部13によって両端位置PE1、PE2が検出されると、基材5の各部分について、幅方向における第1塗布膜6のサイズ(以下、単に、「第1塗布膜6の幅」と称する)が取得できる。そして、得られた第1塗布膜6の幅の実測値と、第1塗布膜6の幅の設計値と、が比較されることによって、第1塗布膜6の形成不良が発見できる。   Further, when both end positions PE1 and PE2 are detected by the position detection unit 13, the size of the first coating film 6 in the width direction (hereinafter simply referred to as “width of the first coating film 6”) for each portion of the substrate 5 Can be obtained). Then, the measured value of the width of the first coating film 6 obtained is compared with the design value of the width of the first coating film 6, whereby a formation defect of the first coating film 6 can be found.

また、位置検出部13は、基材5の各部分について、幅方向おける基材5の両端位置PB1、PB2(第2両端位置:図3参照)を、上述の両端位置PE1、PE2とともに検出することができる。   Moreover, the position detection part 13 detects the both-ends position PB1 and PB2 (2nd both-ends position: refer FIG. 3) of the base material 5 in the width direction about each part of the base material 5 with above-mentioned both-ends position PE1 and PE2. be able to.

例えば、各測距ユニット14のアナログ信号の値が、矢印AR3(図4参照)で規定される順序で比較される。そして、隣接する測距ユニット14のアナログ信号の値がほぼゼロとなる測距ユニット14の位置が、位置PB1とされる(図4参照)。   For example, the analog signal values of the distance measuring units 14 are compared in the order defined by the arrow AR3 (see FIG. 4). Then, the position of the distance measuring unit 14 at which the value of the analog signal of the adjacent distance measuring unit 14 becomes almost zero is set as a position PB1 (see FIG. 4).

そして、制御部90は、位置検出部13により検出された両端位置PB1、PB2に基づいて、基材5の送り状況(例えば、幅方向における基材5の蛇行状況)に関する情報を取得することができる。   And the control part 90 can acquire the information regarding the feeding condition (for example, the meandering condition of the base material 5 in the width direction) of the base material 5 based on the both end positions PB1 and PB2 detected by the position detection part 13. it can.

図2に戻って、駆動部15は、ノズル11を前後左右上下(図2のXYZ方向)に移動させることによって、バックアップローラ12に対する吐出口11aの位置を調整する。すなわち、駆動部15は、少なくとも幅方向に沿って、ノズル11を移動させる。   Returning to FIG. 2, the drive unit 15 adjusts the position of the discharge port 11 a with respect to the backup roller 12 by moving the nozzle 11 back and forth, right and left, and up and down (XYZ direction in FIG. 2). That is, the drive unit 15 moves the nozzle 11 at least along the width direction.

圧力計18は、ノズル11内における塗布液の圧力を計測する。また、圧力計18によってノズル11内における塗布液の圧力が計測されるとともに、流量計52によって供給配管55を流れる塗布液の流量が計測されることによって、供給配管55を流れる塗布液の状態が把握できる。   The pressure gauge 18 measures the pressure of the coating liquid in the nozzle 11. Further, the pressure of the coating liquid in the nozzle 11 is measured by the pressure gauge 18, and the flow rate of the coating liquid flowing through the supply pipe 55 is measured by the flow meter 52, whereby the state of the coating liquid flowing through the supply pipe 55 is changed. I can grasp.

<3.本実施の形態の塗布処理部および塗布膜形成システムの利点>
以上のように、本実施の形態の塗布処理部10、および塗布処理部10を組み込んだ塗布膜形成システム1は、幅方向における第1塗布膜6の両端位置PE1、PE2を基材5の各部分について検出することができる。これにより、幅方向における基材5のサイズが、基材5の各部分において変動しても、第1塗布膜6の形成位置および幅が、正確に検出できる。
<3. Advantages of coating processing unit and coating film forming system of the present embodiment>
As described above, the coating processing unit 10 according to the present embodiment and the coating film forming system 1 incorporating the coating processing unit 10 are arranged such that the both end positions PE1 and PE2 of the first coating film 6 in the width direction are each of the base material 5. The part can be detected. Thereby, even if the size of the base material 5 in the width direction varies in each part of the base material 5, the formation position and width of the first coating film 6 can be accurately detected.

そのため、基材5の各部分において第1および第2塗布膜6、7の形成位置が一致するように、ノズル11の位置を決定することができる。また、検出された第1塗布膜6の幅によって、第1塗布膜6の形成不良を発見できる。   Therefore, the position of the nozzle 11 can be determined so that the formation positions of the first and second coating films 6 and 7 coincide in each part of the substrate 5. Further, the formation failure of the first coating film 6 can be found by the detected width of the first coating film 6.

<4.変形例>
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
<4. Modification>
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made.

(1)本実施の形態において、位置検出部13は、いわゆる2次元レーザ変位計により構成されるものであるとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、撮像部と、演算部と、を有するものが、位置検出部とされても良い。また、塗布膜で反射されたレーザ光と、塗布膜を透過したレーザ光と、を用いて、第1および第2塗布膜6、7の膜厚が測定されても良い。   (1) In the present embodiment, the position detection unit 13 has been described as being constituted by a so-called two-dimensional laser displacement meter, but is not limited to this. For example, what has an imaging part and a calculating part may be made into a position detection part. Moreover, the film thickness of the 1st and 2nd coating films 6 and 7 may be measured using the laser beam reflected by the coating film and the laser beam transmitted through the coating film.

例えば、撮像部と演算部とを有する位置検出部の場合、撮像部は、幅方向における第1塗布膜6の両端位置PE1、PE2付近を撮像する。また、演算部は、撮像部により撮像された画像に基づいて、幅方向に沿った第1塗布膜6の両端位置PE1、PE2を演算する。   For example, in the case of a position detection unit having an imaging unit and a calculation unit, the imaging unit images the vicinity of both end positions PE1 and PE2 of the first coating film 6 in the width direction. The calculation unit calculates both end positions PE1 and PE2 of the first coating film 6 along the width direction based on the image captured by the imaging unit.

これにより、この位置検出部は、位置検出部13と同様に、幅方向における第1塗布膜6の両端位置PE1、PE2、および幅方向における基材5の両端位置PB1、PB2を、検出できる。なお、上述の演算部の機能は、制御部90のCPU93により実現されても良い。   Thereby, similarly to the position detector 13, the position detector can detect both end positions PE1 and PE2 of the first coating film 6 in the width direction and both end positions PB1 and PB2 of the base material 5 in the width direction. Note that the functions of the calculation unit described above may be realized by the CPU 93 of the control unit 90.

(2)また、本実施の形態において、制御部90は、塗布膜形成システム1の各要素(塗布処理部10、予熱部60、乾燥部65、アニール部70、および冷却部75)の動作制御や、これら各要素に関する演算処理を実行するものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、制御部90は、塗布処理部10専用であっても良く、塗布処理部10に制御部90が含まれても良い。   (2) In the present embodiment, the control unit 90 controls the operation of each element of the coating film forming system 1 (the coating processing unit 10, the preheating unit 60, the drying unit 65, the annealing unit 70, and the cooling unit 75). In addition, although it has been described that the arithmetic processing related to each of these elements is executed, the present invention is not limited to this. For example, the control unit 90 may be dedicated to the coating processing unit 10, and the coating processing unit 10 may include the control unit 90.

1 塗布膜形成システム
5 基材
5a 第1主面
5b 第2主面
6 第1塗布膜
7 第2塗布膜
8 搬送経路
10 塗布処理部
11 ノズル
11a 吐出口
13 位置検出部
15 駆動部
60 予熱部
65 乾燥部
70 アニール部
75 冷却部
80 搬送部
90 制御部
PS 検出位置
PD 吐出位置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Coating film formation system 5 Base material 5a 1st main surface 5b 2nd main surface 6 1st coating film 7 2nd coating film 8 Conveyance path 10 Coating processing part 11 Nozzle 11a Discharge port 13 Position detection part 15 Drive part 60 Preheating part 65 Drying section 70 Annealing section 75 Cooling section 80 Transport section 90 Control section PS detection position PD discharge position

Claims (5)

帯状とされた基材の第1主面上に活物質の第1塗布膜が形成された状態で、前記基材の第2主面に活物質の塗布液を塗布することによって、前記第2主面上に第2塗布膜を形成する塗布装置であって、
前記第1塗布膜は、前記基材の長手方向に沿って形成されてるとともに、
前記第2塗布膜が形成される時、前記基材は、前記長手方向に沿って搬送され、
(a) 前記基材の幅方向に沿ったスリット状の吐出口から前記基材の前記第2主面に向けて、前記塗布液を吐出するノズルと、
(b) 前記長手方向に沿った前記基材の搬送経路において、前記ノズルの吐出位置より上流側の検出位置に配置されるとともに、前記幅方向おける前記第1塗布膜の第1両端位置を前記基材の各部分について検出する位置検出部と、
(c) 前記ノズルを前記幅方向に沿って移動させる駆動部と、
(d) 前記位置検出部により検出された前記第1両端位置に基づいて、前記幅方向における前記ノズルの位置を決定することによって、前記基材の各部分における前記第2塗布膜の形成位置を決定する制御部と、
備えることを特徴とする塗布装置。
In a state where the first coating film of the active material is formed on the first main surface of the belt-shaped base material, the second material surface is coated with an active material coating liquid on the second main surface of the base material. A coating apparatus for forming a second coating film on a main surface,
The first coating film is formed along the longitudinal direction of the base material,
When the second coating film is formed, the substrate is transported along the longitudinal direction,
(a) a nozzle that discharges the coating liquid from a slit-like discharge port along the width direction of the substrate toward the second main surface of the substrate;
(b) In the transport path of the base material along the longitudinal direction, the first end position of the first coating film in the width direction is arranged at a detection position upstream of the discharge position of the nozzle. A position detector for detecting each part of the substrate;
(c) a drive unit that moves the nozzle along the width direction;
(d) determining the position of the second coating film in each part of the substrate by determining the position of the nozzle in the width direction based on the first end position detected by the position detection unit. A control unit to determine;
An applicator characterized by comprising:
請求項1に記載の塗布装置において、
前記位置検出部は、2次元レーザ変位計であることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 1,
The position detecting unit is a two-dimensional laser displacement meter.
請求項1に記載の塗布装置において、
前記位置検出部は、
(b-1) 前記幅方向における前記第1塗布膜の両端付近を撮像可能な撮像部と、
(b-2) 前記撮像部により撮像された画像に基づいて、前記幅方向に沿った前記第1塗布膜の前記第1両端位置を演算する演算部と、
を有することを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 1,
The position detector is
(b-1) an imaging unit capable of imaging near both ends of the first coating film in the width direction;
(b-2) a calculation unit that calculates the first both end positions of the first coating film along the width direction based on an image captured by the imaging unit;
A coating apparatus comprising:
請求項1から請求項3のいずれかに記載の塗布装置において、
前記位置検出部は、前記基材の各部分について、前記幅方向における前記基材の第2両端位置を、前記第1両端位置とともに検出することを特徴とする塗布装置。
In the coating device in any one of Claims 1-3,
The said position detection part detects the 2nd both-ends position of the said base material in the said width direction about each part of the said base material with the said 1st both-ends position.
請求項1から請求項4のいずれかに記載の塗布装置と、
前記塗布装置で塗布された前記基材上の前記塗布液を乾燥させる乾燥装置と、
を備えることを特徴とする塗布膜形成システム。
A coating apparatus according to any one of claims 1 to 4,
A drying device for drying the coating solution on the substrate coated by the coating device;
A coating film forming system comprising:
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