KR20160103804A - 투명 가스 배리어성 필름 및 이를 제조하는 방법 - Google Patents

투명 가스 배리어성 필름 및 이를 제조하는 방법 Download PDF

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KR20160103804A
KR20160103804A KR1020150026638A KR20150026638A KR20160103804A KR 20160103804 A KR20160103804 A KR 20160103804A KR 1020150026638 A KR1020150026638 A KR 1020150026638A KR 20150026638 A KR20150026638 A KR 20150026638A KR 20160103804 A KR20160103804 A KR 20160103804A
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방성환
석재호
박종환
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엘에스엠트론 주식회사
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Abstract

본 발명은 투명 가스 배리어성 필름 및 이를 제조하는 방법을 개시한다. 본 발명의 일 측면에 따른 투명 가스 배리어성 필름은, 베이스 기재; 및 상기 베이스 기재의 상부에 형성되는 무기막으로 이루어진 배리어층;을 포함하되, 상기 배리어층에는 상기 무기막과 다른 무기 물질로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자가 5 내지 20%의 비율로 존재한다.

Description

투명 가스 배리어성 필름 및 이를 제조하는 방법{TRANSPARENT GAS BARRIER FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT GAS BARRIER FILM}
본 발명은 가스 배리어성 필름 및 이를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 수분 침투 방지 기능이 향상된 투명 가스 배리어성 필름 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.
다양한 정보를 화면으로 구현해 주는 영상표시장치는 정보 통신 시대의 핵심 기술로 더 얇고 더 가볍고 휴대가 가능하면서도 고성능의 방향으로 발전하고 있다. 이에 음극선관(CRT)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 평판표시장치로 유기 발광층의 발광량을 제어하여 영상을 표시하는 유기전계발광 표시장치(OLED) 등이 각광받고 있다. 상기 유기전계발광 표시장치는 전극 사이의 얇은 발광층을 이용한 자발광 소자로 종이와 같이 박막화가 가능하다는 장점이 있다.
상기 유기전계발광 표시장치(OLED)는 외부로부터 산소와 수분이 내부로 유입될 경우 소자의 수명에 치명적인 영향을 미치게 되므로, 상기 산소와 수분의 침투를 방지하는 것은 매우 중요하다.
종래에는 상기 유기전계발광 표시장치(OLED)의 내부로 수분이 침투하는 것을 방지하기 위한 배리어 필름을 형성하는데 있어서, 무기막으로 이루어진 배리어층을 증착해 사용하였다.
하지만, 상기 증착된 배리어층은 모두 결정성을 가지지 않는 비정질 박막층으로, 상기 배리어층이 비결정성을 가지게 되면 응력이 높아질 뿐만 아니라, 다층으로 형성할 경우 두께가 증가함에 따라 응력이 높아져 크랙 발생으로 인한 배리어 특성이 저하된다.
따라서, 종래에는 상기 배리어층의 응력을 완화하기 위한 한 가지 방법으로 유기막으로 이루어진 응력 완화층을 상기 무기막으로 이루어진 배리어층에 적층하여 사용하였다. 하지만, 상기 유기막으로 이루어진 응력 완화층과 무기막으로 이루어진 배리어층은 한 챔버 내에서 적층할 수 없어 챔버를 번갈아가며 사용해야 한다. 따라서, 상술한 바와 같이 유기막으로 이루어진 응력 완화층과 무기막으로 이루어진 배리어층을 번갈아 적층할 경우 챔버 내에 오염이 발생하여 이로 인해 배리어성 필름에 영향을 끼쳐 상기 필름의 배리어 특성이 저하되는 문제점이 발생한다.
한국등록특허 제10-1430892호(2014.08.18 공고)
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 일정 크기를 갖는 결정성 나노 입자가 무기막으로 이루어진 배리어층에 일정 비율로 존재하여 응력을 완화시키는 투명 가스 배리어성 필름 및 이를 제조하는 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있으며, 본 발명의 실시 예에 의해 보다 분명하게 알게 될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허청구범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따른 투명 가스 배리어성 필름은, 베이스 기재; 및 상기 베이스 기재의 상부에 형성되는 무기막으로 이루어진 배리어층;을 포함하되, 상기 배리어층에는 상기 무기막과 다른 무기 물질로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자가 5 내지 20%의 비율로 존재한다.
상기 다른 무기 물질은 산화아연(ZnO)일 수 있다.
상기 배리어층 및 결정성 나노 입자는 상기 베이스 기재 상에 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용해 형성될 수 있다.
상기 배리어층은 SiOx, SiNx, SiOxNy, AlxOy, AlxNy, NiOx, CoOx, MgO 중 어느 하나 이상의 무기막으로 형성될 수 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 측면에 따른 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법에 있어서, 베이스 기재를 준비하는 단계; 및 상기 베이스 기재의 상부에 무기막으로 이루어진 배리어층을 형성하는 단계;를 포함하되, 상기 배리어층에는 상기 무기막과 다른 무기 물질로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자가 5 내지 20%의 비율로 존재한다.
상기 다른 무기 물질은 산화아연(ZnO)일 수 있다.
상기 배리어층 및 결정성 나노 입자는 상기 베이스 기재 상에 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용해 형성될 수 있다.
상기 배리어층은 SiOx, SiNx, SiOxNy, AlxOy, AlxNy, NiOx, CoOx, MgO 중 어느 하나 이상의 무기막으로 형성될 수 있다.
상기 투명 가스 배리어성 필름은 플렉서블 디스플레이 장치에 포함될 수 있다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 무기막으로 이루어진 배리어층에 상기 배리어층과 다른 무기 물질로 이루어진 일정 크기를 갖는 결정성 나노 입자가 일정 비율 존재하여 응력을 완화시킴으로써 배리어 특성을 향상시키는 효과가 있다.
본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시 예를 예시하는 것이며, 후술되는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 투명 가스 배리어성 필름의 적층 구성을 나타낸 도면,
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 투명 가스 배리어성 필름을 제조하는 방법에 대한 흐름도,
도 3은 본 발명의 본 발명의 일 실시 예에 따른 투명 가스 배리어성 필름의 실험 결과를 나타낸 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시 예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시 예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 투명 가스 배리어성 필름의 적층 구성을 나타낸 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 실시 예에 따른 투명 가스 배리어성 필름은 베이스 기재(100) 및 배리어층(200)을 포함한다.
베이스 기재(100)는 고분자 플라스틱 필름일 수 있으며, 바람직하게 PET(polyethylene terephthalate), COP(Cyclo Olefin Polymer), PC(polycarbonate) 등 일 수 있다. 하지만, 상기 베이스 기재(100)는 이에 한하지 않으며, OLED 봉지제, OPV 봉지제 등을 제조할 수 있으면 관계없다.
일반적으로, 상기 베이스 기재(100)는 15~100㎛ 두께로 형성될 수 있다.
배리어층(200)은 상기 베이스 기재(100)의 상부에 형성되어 대기 중의 수분이나 산소가 유입되는 것을 방지하는 역할을 할 수 있다. 본 실시 예를 설명함에 있어서, 상기 배리어층(200)은 단층으로 형성되는 것으로 설명하지만, 이에 한하지 않으며 베이스 기재(100) 상에 다층으로 형성될 수도 있다.. 이때, 상기 배리어층(200)은 무기막으로 형성될 수 있다. 바람직하게, 상기 배리어층(200)은 SiOx, SiNx, SiOxNy, AlxOy, AlxNy, NiOx, CoOx, MgO 중 어느 하나 이상의 무기막으로 형성될 수 있다.
상기 배리어층(200)은 상기 베이스 기재(100) 상에 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용하여 형성될 수 있다. 이때, 상기 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)은 CCP(Capacitively Coupled Plasma) 화학기상증착법 또는 ICP(Inductively Coupled Plasma) 화학기상증착법 중 어느 하나일 수 있다.
한편, 상기 배리어층(200)은 배리어층(200)과 다른 무기 물질로 이루어진 결정성 나노 입자(300)를 포함할 수 있다. 이때, 상기 결정성 나노 입자(300)는 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용하여 배리어층(200) 내에 형성할 수 있으며, 상기 무기 물질은 산화아연(ZnO)일 수 있다. 또한, 상기 배리어층(200)에는 일정 크기를 갖는 결정성 나노 입자(300)가 일정 비율로 포함될 수 있다. 바람직하게, 상기 배리어층(200)에는 산화아연(ZnO)으로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자(300)가 5 내지 20%의 비율로 존재할 수 있다. 여기서, 상기 결정성 나노 입자(300)의 크기는 입자의 장축을 기준으로 한 것이다.
또한, 상기 배리어층(200)은 100 내지 300nm의 두께를 가지도록 형성할 수 있다.
본 실시예를 설명함에 있어서, 상기 증착된 무기막으로 이루어진 배리어층(200)은 모두 결정성을 가지지 않는 비정질 박막층으로, 상기 배리어층(200)이 비결정성을 가지게 되면 응력이 증가함에 따라 배리어 필름의 특성이 저하된다.
따라서, 상술한 바와 같이, 상기 배리어층(200)은 상술한 조건(무기막으로 이루어진 배리어층(200) 내에 산화아연(ZnO)으로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자(300)가 5 내지 20% 존재)을 갖는 결정성 나노 입자(300)를 포함함으로써 응력을 감소시켜 배리어 특성을 향상시킬 수 있다. 본 실시 예에 따른 투명 가스 배리어성 필름의 배리어 특성에 대한 우수성은 실시예 및 비교예의 비교를 통한 실험값을 통해 자세히 후술하기로 한다.
한편, 상술한 바와 같은 조건(무기막으로 이루어진 배리어층(200) 내에 산화아연(ZnO)으로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자(300)가 5 내지 20% 존재)을 만족하는 투명 가스 배리어 필름은 우수한 배리어 특성을 갖기 때문에, 태양 전지, 터치 패널, 전자 페이퍼, 플렉서블 디스플레이 장치 등에 적용될 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 투명 가스 배리어성 필름을 제조하는 방법에 대한 흐름도이다.
도 2를 참조하면, 우선 베이스 기재(100)를 준비한다(S210).
상기 베이스 기재(100)는 고분자 플라스틱 필름일 수 있으며, 바람직하게 PET(polyethylene terephthalate), COP(Cyclo Olefin Polymer), PC(polycarbonate) 등 일 수 있다. 하지만, 상기 베이스 기재(100)는 이에 한하지 않으며, OLED 봉지제, OPV 봉지제 등을 제조할 수 있으면 관계없다.
일반적으로, 상기 베이스 기재(100)는 15~100㎛ 두께로 형성될 수 있다.
이후, 상기 베이스 기재(100)의 상부에 결정성 나노 입자(300)를 포함하는 배리어층(200)을 형성한다(S230).
상기 배리어층(200)은 베이스 기재(100)의 상부에 형성되어 대기 중의 수분이나 산소가 유입되는 것을 방지하는 역할을 할 수 있다. 이때, 상기 배리어층(200)은 무기막으로 형성될 수 있다. 바람직하게, 상기 배리어층(200)은 SiOx, SiNx, SiOxNy, AlxOy, AlxNy, NiOx, CoOx, MgO 중 어느 하나 이상의 무기막으로 형성될 수 있다.
상기 배리어층(200)은 상기 베이스 기재(100) 상에 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용하여 형성될 수 있다. 이때, 상기 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)은 CCP(Capacitively Coupled Plasma) 화학기상증착법 또는 ICP(Inductively Coupled Plasma) 화학기상증착법 중 어느 하나일 수 있다.
배리어층(200)결정성 나노 입자(300)상기 결정성 나노 입자(300)는 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용하여 배리어층(200) 내에 형성할 수 있으며, 무기막으로 이루어진 배리어층(200)과 다른 무기 물질인 산화아연(ZnO)의 입자이다. 또한, 상기 결정성 나노 입자(300)는 배리어층(200)일정 크기의 결정성 나노 입자(300)가 일정 비율로 포함될 수 있다. 바람직하게, 상기 배리어층(200)에는 산화아연(ZnO)으로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자(300)가 5 내지 20%의 비율로 존재할 수 있다.
본 실시 예에 따르면, 상기 배리어층(200)은 100 내지 300nm의 두께를 가지도록 형성할 수 있다.
이하, 본 발명을 하기 실험예를 들어 더욱 상세하게 설명하기로 한다.
평가시료 준비
1. 베이스 기재(100) 상에 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)으로 무기막 및 결정성 나노 입자(300)를 증착하였다. 보다 자세하게는, 베이스 기재(100) 상에 형성하고자 하는 배리어층의 절반 두께에 해당하도록 비정질의 무기막을 증착(예컨대, 전체 배리어층의 두께를 100nm로 가정한다면 먼저 50nm의 두께로 비정질의 무기막을 증착)한 후, 결정성 나노 입자(300)를 형성하여 증착하고, 다시 나머지 두께(예컨대, 상기 증착한 비정질의 무기막 두께를 제외한 나머지 50nm)를 비정질의 무기막을 증착한다. 한편, 상기 비정질 무기막은 실레인(Silane)을 소스가스로 사용하고, 질소(N2), 아르곤(Ar), 암모니아(NH3), 산소(O2), 아산화질소(N2O)를 반응가스로 사용하며, 소스는 RF를 사용하여 증착하였다. 또한, 상기 소스 RF 파워는 50 내지 1100W의 범위를 가지도록하여 비정질 무기막을 증착하였다. 이때, 상기 무기막은 SiOx, SiNx, SiOxNy, AlxOy, AlxNy, NiOx, CoOx, MgO 중 어느 하나 이상일 수 있다.
그리고, 상기 결정성 나노 입자(300)는 디에틸렌 아연(diethylene zinc)을 소스가스로 사용하고, 아르곤(Ar), 산소(O2)를 반응가스로 사용하며, 소스는 RF를 사용하여 증착하였다. 또한, 상기 RF 파워는 900W로하여 결정성 나노 입자를 증착하였다. 이때, 상기 디에틸렌 아연(diethylene zinc)은 0.5 내지 1.0sccm, 상기 아르곤(Ar)은 약 50sccm, 산소(O2)는 3 내지 5sccm을 사용하였다.
2. 비교예 및 실시예
실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 9는 베이스 기재(100) 상에 무기막으로 이루어진 배리어층(200) 및 결정성 나노 입자(300)를 형성하고, 상기 배리어층(200) 내에 결정성 나노 입자(300)의 크기 및 존재 비율의 변화에 따른 응력 및 수분 투과율(WVTR)을 측정하였다.
테스트
1. 결정성 나노 입자(300)의 크기 및 비율 측정
: 0.5㎛ x 0.5㎛ 샘플 영역 내에서 TEM(Transmission Electron Microscopy)을 이용하여 입자크기 및 비율을 확인하며, gatan software를 이용하여 결정성 유무를 파악한다.
2. 응력(stress) 측정
: 2cm X 2cm 샘플영역 내 레이저를 활용하여 투명 가스 배리어성 필름의 휨정도를 측정하여 투명 가스 배리어성 필름 전후의 곡률변화를 측정하고, Stoney equation(수학식 1)에 대입하여 투명 가스 배리어성 필름의 잔류 응력(stress)을 측정한다.(laser profilometer, Tencor FLX.-2320)
[수학식 1]
Stoney equation δ=Eh2 / (1-v)6Rt , R= (1/R1) - (1/R2)
(이때, δ는 잔류 응력, E/(1-V)는 기판의 2축 탄성계수 , h는 기판두께 두께, t는 박막두께, R은 곡률반경, R1은 증착 전 곡률반지름 그리고, R2는 증착 후 곡률 반지름을 의미한다.)
3. 수분 투과율(Water Vapor Transmission Rate : WVTR) 측정
: 10cm X 10cm 샘플영역에 있어 챔버 진공상태 유지 후 40℃, 습도 90% 환경을 유지하며 수분을 샘플에 흘려주어 샘플을 투과한 아래쪽 챔버 수분량을 측정하여 수분 투과율을 측정한다.(Techmoloc社 deltaperm)
결과
상기 테스트에 대한 결과는 도 3에 도시된 바와 같다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 투명 가스 배리어성 필름의 실험 결과를 나타낸 도면이다.
도 3을 참조하여 본 실시 예에 따른 투명 가스 배리어성 필름의 우수성을 설명하면 다음과 같다.
비교예 1은 배리어층(200)이 비결정성의 무기막으로 이루어졌을 때의 결과로, 본 실시 예에 따른 조건(무기막으로 이루어진 배리어층(200) 내에 산화아연(ZnO)으로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자(300)가 5 내지 20% 존재)을 만족하는 실시예 1 내지 7과 비교해 보면 응력의 증가로 인해 수분 투과율(WVTR)이 저하됨을 알 수 있다.
그리고, 비교예 2 및 비교예 9는 각각 무기막으로 이루어진 배리어층(200) 내에 1nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자(300)가 7% 존재할 때와 무기막으로 이루어진 배리어층(200) 내에 11nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자(300)가 16% 존재할 때의 결과로, 본 실시 예에 따른 조건(무기막으로 이루어진 배리어층 내에 산화아연(ZnO)으로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자(300)가 5 내지 20% 존재)을 만족하는 실시예 1 내지 7과 비교해 보면 응력의 증가로 인해 수분 투과율(WVTR)이 저하됨을 알 수 있다.
마지막으로, 비교예 3 내지 비교예 8은 무기막으로 이루어진 배리어층(200) 내에 결정성 나노 입자(300)가 본 실시 예의 조건 중 크기 조건(2 내지 10nm)을 만족하지만, 존재 비율을 만족하지 못하는 경우에 대한 결과로, 본 실시 예에 따른 조건(무기막으로 이루어진 배리어층(200) 내에 산화아연(ZnO)으로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자(300)가 5 내지 20% 존재)을 만족하는 실시예 1 내지 7과 비교해 보면 응력의 증가로 인해 수분 투과율(WVTR)이 저하됨을 알 수 있다.
상술한 바에 따르면, 배리어층(200)을 본 실시 예에 따른 조건(무기막으로 이루어진 배리어층(200) 내에 산화아연(ZnO)으로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자(300)가 5 내지 20% 존재)을 만족하도록 형성하면, 비결정성의 무기막층에서 발생할 수 있는 응력을 감소시켜 수분 투과율(WVTR)이 우수한 필름을 제조할 수 있다.
이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시 예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.
100 : 베이스 기재
200 : 배리어층
300 : 결정성 나노 입자

Claims (9)

  1. 베이스 기재; 및
    상기 베이스 기재의 상부에 형성되는 무기막으로 이루어진 배리어층;을 포함하되,
    상기 배리어층에는 상기 무기막과 다른 무기 물질로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자가 5 내지 20%의 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 다른 무기 물질은 산화아연(ZnO)인 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 배리어층 및 결정성 나노 입자는 상기 베이스 기재 상에 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용해 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 배리어층은 SiOx, SiNx, SiOxNy, AlxOy, AlxNy, NiOx, CoOx, MgO 중 어느 하나 이상의 무기막으로 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름.
  5. 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법에 있어서,
    베이스 기재를 준비하는 단계; 및
    상기 베이스 기재의 상부에 무기막으로 이루어진 배리어층을 형성하는 단계;를 포함하되,상기 배리어층에는 상기 무기막과 다른 무기 물질로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자가 5 내지 20%의 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 다른 무기 물질은 산화아연(ZnO)인 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법.
  7. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
    상기 배리어층 및 결정성 나노 입자는 상기 베이스 기재 상에 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용해 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 배리어층은 SiOx, SiNx, SiOxNy, AlxOy, AlxNy, NiOx, CoOx, MgO 중 어느 하나 이상의 무기막으로 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법.
  9. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 따른 투명 가스 배리어성 필름을 포함하는 플렉서블 디스플레이 장치.
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