KR20160100984A - Abrasive, abrasive article and the method for preparing the same - Google Patents

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KR20160100984A
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에드워드 제이 우
지안핑 주
리처드 씨 코트너
크레이그 에프 램피어
제이미 에이 마르티네즈
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쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
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Abstract

연마 입자 및 접착제 매트릭스를 포함하는 연마재가 제공되며, 연마 입자는 접착제 매트릭스 내에 분포되어 있고, 연마 입자는 수산화 알루미늄 연마 입자를 포함하고, 접착제 매트릭스는 트라이아크릴레이트, 다이아크릴레이트 및 개시제를 포함한다. 본 발명의 연마재를 사용하여 제조된 연마 물품은 적절한 내마모성(wear resistance)을 가져서, 그것을 사용하여 LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치내지 않고 LCD 패널 표면을 세정할 수 있다.There is provided an abrasive comprising abrasive particles and an adhesive matrix, wherein the abrasive particles are distributed in an adhesive matrix, the abrasive particles comprise aluminum hydroxide abrasive particles, and the adhesive matrix comprises a triacrylate, a diacrylate and an initiator. An abrasive article made using the abrasive article of the present invention has adequate wear resistance and can be used to clean an LCD panel surface without scratching the ITO coating on the surface of the LCD panel.

Description

연마재, 연마 물품 및 그의 제조 방법 {ABRASIVE, ABRASIVE ARTICLE AND THE METHOD FOR PREPARING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention [0001] The present invention relates to abrasive articles, abrasive articles,

본 발명은 연마 분야, 특히 연마재, 연마 물품 및 연마 물품의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polishing field, in particular, an abrasive article, a polishing article and a method of manufacturing the article.

LCD 패널의 제조 방법에서, LCD 패널 표면의 세정 단계가 존재한다. 이 단계에서, 스크래핑 나이프(scraping knife) 또는 연마 밴드를 일반적으로 사용하여 LCD 패널 표면으로부터 불순물 또는 유리 부스러기를 제거한다.In the manufacturing method of the LCD panel, there is a cleaning step of the surface of the LCD panel. At this stage, a scraping knife or abrasive band is typically used to remove impurities or glass debris from the surface of the LCD panel.

그러나, 스크래핑 나이프는 ITO (투명하고 전도성인 인듐-주석 산화물 필름) 코팅을 갖는 LCD 패널 표면을 세정하는 데 사용될 수 없는데, 그 이유는 그것이 ITO 코팅을 스크래치낼 수 있기 때문이다. LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 세정하는 데 사용되는 종래의 연마 밴드는 ITO 코팅을 스크래치낼 수 있는 산화 알루미늄 연마 입자를 주로 포함하여, LCD 패널의 생산율(yield rate)에 영향을 미친다.However, scraping knives can not be used to clean LCD panel surfaces with ITO (transparent and conductive indium-tin oxide film) coating, because it can scratch ITO coatings. Conventional abrasive bands used to clean ITO coatings on the surface of LCD panels primarily include aluminum oxide abrasive particles capable of scratching ITO coatings, affecting the yield rate of LCD panels.

따라서, LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치내지 않고 LCD 패널 표면을 세정하는 데 사용될 수 있는 신규 연마재 및 신규 연마 물품을 개발하는 것이 필요하다.Therefore, there is a need to develop new abrasives and new abrasive articles that can be used to clean LCD panel surfaces without scratching the ITO coating on the surface of the LCD panel.

본 발명의 목적은 비교적 낮은 내마모성(wear resistance)을 갖는 신규 연마재 및 연마 물품을 제공하는 것이며, 그 연마 물품을 사용하여 LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치내지 않고 LCD 패널 표면을 세정할 수 있다.It is an object of the present invention to provide a new abrasive and abrasive article having a relatively low wear resistance and using the abrasive article to clean an LCD panel surface without scratching the ITO coating on the surface of the LCD panel.

본 발명의 측면에 따라서, 연마 입자 및 접착제 매트릭스를 포함하는 연마재가 제공되며, 연마 입자는 접착제 매트릭스 내에 분포되어 있고, 연마 입자는 수산화 알루미늄 연마 입자를 포함하고, 접착제 매트릭스는 트라이아크릴레이트, 다이아크릴레이트 및 개시제를 포함한다.According to an aspect of the present invention there is provided an abrasive comprising abrasive particles and an adhesive matrix, wherein the abrasive particles are distributed within an adhesive matrix, the abrasive particles comprise aluminum hydroxide abrasive grains and the adhesive matrix comprises a triacrylate, Rate and initiator.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 수산화 알루미늄 연마 입자는 0.5 내지 10 μm의 평균 입자 크기를 갖는다.According to certain preferred embodiments of the invention, the aluminum hydroxide abrasive particles have an average particle size of 0.5 to 10 占 퐉.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 수산화 알루미늄 연마 입자는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 15 내지 30 wt.%의 양으로 존재한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the aluminum hydroxide abrasive particles are present in an amount of 15 to 30 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 연마 입자는 탄산 칼슘 연마 입자를 추가로 포함할 수 있다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the abrasive particles may further comprise calcium carbonate abrasive particles.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 탄산 칼슘 연마 입자는 0.5 내지 5 μm의 평균 입자 크기를 갖는다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the calcium carbonate abrasive grains have an average particle size of 0.5 to 5 占 퐉.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 탄산 칼슘 연마 입자는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 0.5 내지 5 wt.%의 양으로 존재한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the calcium carbonate abrasive particles are present in an amount of 0.5 to 5 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 연마 입자는 산화 알루미늄 연마 입자를 추가로 포함한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the abrasive particles further comprise aluminum oxide abrasive particles.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 산화 알루미늄 연마 입자는 0.5 내지 5 μm의 평균 입자 크기를 갖는다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the aluminum oxide abrasive grains have an average particle size of 0.5 to 5 占 퐉.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 산화 알루미늄 연마 입자는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 0.5 내지 2 wt.%의 양으로 존재한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the aluminum oxide abrasive particles are present in an amount of 0.5 to 2 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 접착제 매트릭스는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 60 내지 85 wt.%의 양으로 존재한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the adhesive matrix is present in an amount of 60 to 85 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 트라이아크릴레이트는 150 내지 500의 평균 분자량을 갖는다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the triacrylate has an average molecular weight of from 150 to 500.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 트라이아크릴레이트는 아이소시아누레이트-아크릴레이트 및 트라이메틸올프로판트라이아크릴레이트로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택된다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the triacrylate is selected from one or more from the group consisting of isocyanurate-acrylate and trimethylolpropane triacrylate.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 트라이아크릴레이트는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 10 내지 40 wt.%의 양으로 존재한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the triacrylate is present in an amount of 10 to 40 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 다이아크릴레이트는 100 내지 600의 평균 분자량을 갖는다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the diacrylate has an average molecular weight of 100 to 600.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 다이아크릴레이트는 폴리에틸렌 글리콜 (200) 다이아크릴레이트 및 옥시에틸렌 비스페놀 A 다이아크릴레이트로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택된다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the diacrylate is selected from one or more from the group consisting of polyethylene glycol (200) diacrylate and oxyethylene bisphenol A diacrylate.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 다이아크릴레이트는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 30 내지 60 wt.% 양으로 존재한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the diacrylate is present in an amount of 30 to 60 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 개시제는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 0.1 내지 5 wt.%의 양으로 존재한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the initiator is present in an amount of 0.1 to 5 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 접착제 매트릭스는 계면활성제, 현탁제, 커플링제 또는 분산제로 이루어진 군으로부터의 하나 이상을 추가로 포함할 수 있다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the adhesive matrix may further comprise one or more from the group consisting of a surfactant, a suspending agent, a coupling agent or a dispersing agent.

본 발명의 또 다른 측면에 따라서, 본 발명에 따라서 제공된 경화된 연마재를 포함하는 연마 물품이 제공된다.According to another aspect of the present invention, there is provided an abrasive article comprising a cured abrasive provided in accordance with the present invention.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 연마 물품은 하나의 돌출 부재(protruding member) 또는 복수의 돌출 부재를 포함한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the abrasive article comprises a protruding member or a plurality of projecting members.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 수평 방향에서의 돌출 부재의 단면 형상은 삼각형, 사각형, 직사각형, 마름모형, 오각형, 육각형, 원형 및 타원형으로 이루어진 군으로부터의 하나 이상을 포함한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the cross sectional shape of the projecting member in the horizontal direction includes at least one of the group consisting of a triangle, a rectangle, a rhombus, a pentagon, a hexagon, a circle and an ellipse.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 돌출 부재의 상부 표면은 수평 방향에서의 돌출 부재의 단면에 평행하다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the upper surface of the projecting member is parallel to the cross-section of the projecting member in the horizontal direction.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 돌출 부재는 피라미드형 구조를 갖는다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the projecting member has a pyramidal structure.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 돌출 부재는 10 내지 500 μm의 높이를 갖는다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the protruding member has a height of 10 to 500 [mu] m.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 복수의 돌출 부재는 동일한 높이를 갖는다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the plurality of projecting members have the same height.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 복수의 돌출 부재는 규칙적으로 배열되어 있다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the plurality of projecting members are regularly arranged.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 연마 물품은 돌출 부재가 배치된 배킹(backing) 층을 추가로 포함한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the abrasive article further comprises a backing layer on which the projecting members are disposed.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 배킹 층용 재료는 폴리에틸렌 필름, 폴리에스테르 직포, 블렌디드 직포, 면 직포 및 종이로 이루어진 군으로부터의 하나 이상을 포함한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the backing layer material comprises at least one of the group consisting of a polyethylene film, a polyester woven fabric, a blended woven fabric, a cotton woven fabric and a paper.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 프라이머 코팅 층이 돌출 부재와 배킹 층 사이에 포함되어 있다.According to certain preferred embodiments of the present invention, a primer coating layer is contained between the projecting member and the backing layer.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 프라이머 코팅 층용 재료는 폴리우레탄 및 에틸렌/아크릴산 공중합체로 이루어진 군으로부터의 하나 이상을 포함한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the material for the primer coating layer comprises at least one from the group consisting of a polyurethane and an ethylene / acrylic acid copolymer.

본 발명의 또 다른 측면에 따라서, 본 발명에 따라서 제공된 연마재를 경화시키는 단계를 포함하는 연마 물품의 제조 방법이 제공된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an abrasive article comprising curing the abrasive provided in accordance with the present invention.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 연마재는 자외광에 의해서 경화될 수 있다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the abrasive may be cured by ultraviolet light.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 자외광의 강도는 500 내지 700 와트/데시미터, 바람직하게는 600 와트/데시미터이다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the intensity of ultraviolet light is 500 to 700 watts / decimeter, preferably 600 watts / decimeter.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 연마재를 경화시키는 단계 전에, 본 발명에 따라서 제공된 연마재를 먼저 배킹 층 상에 배치할 수 있다. 바람직하게는, 본 발명에 따라서 제공된 연마재를 코팅 적용에 의해서 배킹 층 상에 배치할 수 있다.According to certain preferred embodiments of the present invention, prior to the step of curing the abrasive, the abrasive provided in accordance with the present invention may first be placed on the backing layer. Preferably, the abrasive provided in accordance with the present invention may be disposed on the backing layer by coating application.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 배킹 층용 재료는 폴리에틸렌 필름, 폴리에스테르 직포, 블렌디드 직포, 면 직포 및 종이로 이루어진 군으로부터의 하나 이상을 포함한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the backing layer material comprises at least one of the group consisting of a polyethylene film, a polyester woven fabric, a blended woven fabric, a cotton woven fabric and a paper.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 연마재를 배킹 층에 배치하는 단계 전에, 프라이머 코팅 층을 먼저 배킹 층 상에 배치한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the primer coating layer is first placed on the backing layer prior to placing the abrasive on the backing layer.

본 발명의 특정 바람직한 실시양태에 따라서, 프라이머 코팅 층용 재료는 폴리우레탄 및 에틸렌/아크릴산 공중합체로 이루어진 군으로부터의 하나 이상을 포함한다.According to certain preferred embodiments of the present invention, the material for the primer coating layer comprises at least one from the group consisting of a polyurethane and an ethylene / acrylic acid copolymer.

본 발명에 따라서 제공된 연마 물품은 비교적 낮은 내마모성을 가져서, 그것을 사용하여 LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치내지 않고 LCD 패널 표면을 세정할 수 있다.The abrasive article provided in accordance with the present invention has relatively low abrasion resistance and can be used to clean the LCD panel surface without scratching the ITO coating on the surface of the LCD panel.

상기 요약은 본 발명의 모든 구현의 각각의 개시된 실시양태를 설명하는 것으로 의도되지 않는다. 본 발명의 상기 실시양태 및 추가 실시양태의 특징 및 이점은 도면과 함께 참고할 때, 하기에 언급된 상세한 설명에서 본 발명의 예시적인 실시양태의 보다 상세한 설명으로부터 보다 명백해 진다.The above summary is not intended to describe each disclosed embodiment of every implementation of the present invention. The features and advantages of the above embodiments and additional embodiments of the present invention will become more apparent from the following detailed description of exemplary embodiments of the invention when taken in conjunction with the drawings.

도 1a는 본 발명의 일부 바람직한 실시양태에 따라서 제공된 연마 물품의 평면도이고;
도 1b는 본 발명의 일부 바람직한 실시양태에 따라서 제공된 연마 물품의 수직 방향에서의 단면도이고;
도 2a는 본 발명의 일부 바람직한 실시양태에 따라서 제공된 연마 물품을 제조하기 위한 사각형 주형 공동(cavity)의 평면도이고;
도 2b는 본 발명의 일부 바람직한 실시양태에 따라서 제공된 연마 물품을 제조하기 위한 사각형 주형 공동의 수직 방향에서의 단면도이고;
도 3은 쉬퍼 시험(Schiefer Test)의 개략도이다.
IA is a top view of an abrasive article provided in accordance with some preferred embodiments of the present invention;
1B is a cross-sectional view in the vertical direction of a polishing article provided in accordance with some preferred embodiments of the present invention;
Figure 2a is a plan view of a rectangular mold cavity for manufacturing an abrasive article provided in accordance with some preferred embodiments of the present invention;
Figure 2b is a cross-sectional view in the vertical direction of a rectangular mold cavity for producing an abrasive article provided in accordance with some preferred embodiments of the present invention;
3 is a schematic diagram of a Schiefer test.

본 발명의 범주 및 사상을 벗어나지 않고, 본 명세서의 교시에 비추어 본 기술 분야의 숙련인에 의해서 다양한 다른 실시양태가 고려될 수 있고, 그의 개질이 행해질 수 있다는 것을 이해해야 한다. 따라서, 하기의 상세한 설명은 제한적 의미로 해석되지 않아야 한다.It is to be understood that various other embodiments may be contemplated and modified by those skilled in the art in light of the teachings of the present disclosure without departing from the scope and spirit of the invention. Accordingly, the following detailed description should not be construed in a limiting sense.

달리 지시되지 않는 한, 본 명세서 및 청구범위에서 사용되는 특징부 크기, 양, 및 물성을 표현하는 모든 수치는 모든 경우 용어 "약"에 의해 수식되는 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 반대로 지시되지 않는 한, 상기 명세서 및 첨부된 청구범위에 기술된 수치 파라미터는 본 명세서에 개시된 교시를 이용하는 본 기술 분야의 숙련인이 얻고자 하는 원하는 특성에 따라 변할 수 있는 근사치이다. 종점에 의한 수치 범위의 설명은 그 범위 내에 포함되는 모든 수 및 그 범위 내의 임의의 범위를 포함한다. 예를 들어, 1, 2, 3, 4 및 5는 1, 1.1, 1.3, 1.5, 2, 2.75, 3, 3.80, 4, 및 5 등을 포함한다.Unless otherwise indicated, all numbers expressing feature sizes, amounts, and physical properties used in the specification and claims are to be understood as being modified in all instances by the term "about ". Accordingly, unless indicated to the contrary, the numerical parameters set forth in the foregoing specification and the appended claims are approximations that may vary depending upon the desired properties sought to be obtained by those skilled in the art using the teachings disclosed herein. Descriptions of numerical ranges by endpoints include all numbers contained within that range and any range within that range. For example, 1, 2, 3, 4, and 5 include 1, 1.1, 1.3, 1.5, 2, 2.75, 3, 3.80, 4,

연마재Abrasive

본 발명은 경화시켜서 비교적 낮은 내마모성을 갖는 연마 물품을 수득할 수 있고, LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치내지 않고 LCD 패널 표면을 세정하는 데 사용될 수 연마재를 제공한다.The present invention provides an abrasive that can be cured to obtain abrasive articles having relatively low abrasion resistance and can be used to clean the LCD panel surface without scratching the ITO coating on the LCD panel surface.

본 발명에 의해서 제공된 연마재는 연마 입자 및 접착제 매트릭스를 포함하고, 연마 입자는 접착제 매트릭스 내에 분포되어 있고, 연마 입자는 수산화 알루미늄 연마 입자를 포함하고, 접착제 매트릭스는 트라이아크릴레이트, 다이아크릴레이트 및 개시제를 포함한다.The abrasive material provided by the present invention comprises abrasive particles and an adhesive matrix, wherein the abrasive particles are distributed in an adhesive matrix, the abrasive particles comprise aluminum hydroxide abrasive particles, and the adhesive matrix comprises a triacrylate, a diacrylate, .

수산화 알루미늄 연마 입자는 0.5 내지 10 μm, 바람직하게는 0.5 내지 5 μm, 보다 바람직하게는 0.5 내지 1 μm의 평균 입자 크기를 갖는다. 수산화 알루미늄 연마 입자는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 15 내지 30 wt.%, 바람직하게는 25 내지 30 wt.%의 양으로 존재한다.The aluminum hydroxide abrasive particles have an average particle size of 0.5 to 10 μm, preferably 0.5 to 5 μm, more preferably 0.5 to 1 μm. The aluminum hydroxide abrasive particles are present in an amount of 15 to 30 wt.%, Preferably 25 to 30 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

연마 입자는 탄산 칼슘 연마 입자를 추가로 포함할 수 있다. 탄산 칼슘 연마 입자는 0.5 내지 5 μm, 바람직하게는 1 내지 3 μm의 평균 입자 크기를 갖는다. 탄산 칼슘 연마 입자는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 0.5 내지 5 wt.%, 바람직하게는 1 내지 5 wt.%의 양으로 존재한다.The abrasive grains may further comprise calcium carbonate abrasive grains. The calcium carbonate abrasive grains have an average particle size of 0.5 to 5 μm, preferably 1 to 3 μm. The calcium carbonate abrasive particles are present in an amount of 0.5 to 5 wt.%, Preferably 1 to 5 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

연마 입자는 산화 알루미늄 연마 입자를 추가로 포함할 수 있다. 산화 알루미늄 연마 입자는 0.5 내지 5 μm, 바람직하게는 1 내지 3 μm의 평균 입자 크기를 갖는다. 산화 알루미늄 연마 입자는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 0.5 내지 2 wt.%, 바람직하게는 1 내지 2 wt.%의 양으로 존재한다.The abrasive grains may further comprise aluminum oxide abrasive grains. The aluminum oxide abrasive particles have an average particle size of 0.5 to 5 μm, preferably 1 to 3 μm. The aluminum oxide abrasive particles are present in an amount of 0.5 to 2 wt.%, Preferably 1 to 2 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

접착제 매트릭스는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 60 내지 85 wt.%의 양으로 존재한다The adhesive matrix is present in an amount of 60 to 85 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%

트라이아크릴레이트는 150 내지 500, 바람직하게는 200 내지 500의 평균 분자량을 갖는다. 트라이아크릴레이트는 바람직하게는 아이소시아누레이트-아크릴레이트 및 트라이메틸올프로판트라이아크릴레이트로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택될 수 있다. 예를 들어, 사토머 코프.(Sartomer Corp.)로부터 상업적으로 입수가능한 트라이아크릴레이트 아이소시아누레이트-아크릴레이트 SR368D 또는 트라이메틸올프로판트라이아크릴레이트 SR351이 선택될 수 있다. 트라이아크릴레이트는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 10 내지 40 wt.%의 양으로 존재한다. 트라이아크릴레이트를 사용하여 접착제 매트릭스의 접착 성능을 증진시켜서 연마 입자가 접착제 매트릭스 내에 결합되도록 할 수 있다. 더욱이, 트라이아크릴레이트를 추가로 사용하여 연마재와 배킹 층을 함께 결합시킬 수 있다. 추가로, 트라이아크릴레이트는 연마 물품을 형성하기 위한 연마재의 경화를 도울 수 있다 ("연마 물품"에 대해서는 본 명세서의 "연마 물품" 부분을 참고하기 바란다). 연마재가 트라이아크릴레이트를 갖지 않으면, 접착제 매트릭스는 너무 연성일 것이어서 연마재는 연마 물품을 형성하기 위한 경화에 실패할 것이다.The triacrylate has an average molecular weight of 150 to 500, preferably 200 to 500. The triacrylate is preferably selected from one or more from the group consisting of isocyanurate-acrylate and trimethylolpropane triacrylate. For example, triacrylate isocyanurate-acrylate SR368D or trimethylolpropane triacrylate SR351 commercially available from Sartomer Corp. may be selected. The triacrylate is present in an amount of 10 to 40 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%. The triacrylate can be used to enhance the adhesive performance of the adhesive matrix so that the abrasive particles are bonded into the adhesive matrix. Moreover, triacrylate can be additionally used to bond the abrasive and backing layer together. In addition, the triacrylate can help cure the abrasive to form an abrasive article (see "abrasive article" in this document for a "abrasive article"). If the abrasive does not have triacrylate, the adhesive matrix will be too soft and the abrasive will fail to cure to form the abrasive article.

다이아크릴레이트는 100 내지 600, 바람직하게는 200 내지 600의 평균 분자량을 갖는다. 다이아크릴레이트는 폴리에틸렌 글리콜 (200) 및 옥시에틸렌 비스페놀 A 다이아크릴레이트로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택될 수 있다. 예를 들어, 사토머 코프.로부터 상업적으로 입수가능한 폴리에틸렌 글리콜 (200) 다이아크릴레이트 SR259 또는 옥시에틸렌 비스페놀 A 다이아크릴레이트 SR601이 선택될 수 있다. 다이아크릴레이트는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 30 내지 60 wt.%의 양으로 존재한다. 다이아크릴레이트는 연마재의 경화 후에 형성된 연마 물품이 비교적 낮은 내마모성을 갖게 하는 것을 도와서, LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅 상에 스크래치가 생성되지 않을 것이다. 연마재가 다이아크릴레이트를 갖지 않으면, 연마재 매트릭스는 너무 강성일 것이어서 연마재의 경화 후에 형성된 연마 물품의 내마모성이 너무 높아서, LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅 상에 스크래치가 생성될 것이다. 더욱이, 다이아크릴레이트는 또한 연마재의 친수성을 증가시키는 것을 도울 수 있어서, 연마재의 경화 후에 형성된 연마 물품은 물 연마(water abrasion) 조건 하에서 적절한 내마모성을 갖는다. 이것은 연마 물품의 마모율을 더 양호하게 제어할 수 있어서, 연마 물품은 너무 빠르지도 않고 너무 느리지도 않게 마모할 것이다. 연마 물품이 너무 빠르게 마모하면, 그의 사용 수명이 단축될 것이고, 너무 느리면, LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅 상에 스크래치가 생성될 것이다.The diacrylate has an average molecular weight of 100 to 600, preferably 200 to 600. The diacrylate may be selected from one or more of the group consisting of polyethylene glycol (200) and oxyethylene bisphenol A diacrylate. For example, polyethylene glycol (200) diacrylate SR259 or oxyethylene bisphenol A diacrylate SR601, commercially available from Satoromarkoff, may be selected. The diacrylate is present in an amount of 30 to 60 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%. The diacrylate will help to ensure that the abrasive article formed after curing of the abrasive has a relatively low abrasion resistance so that scratches will not be produced on the ITO coating on the surface of the LCD panel. If the abrasive does not have a diacrylate, the abrasive matrix will be too stiff and the abrasion resistance of the abrasive article formed after curing of the abrasive is too high, resulting in scratches on the ITO coating on the surface of the LCD panel. Moreover, the diacrylate may also help to increase the hydrophilicity of the abrasive so that the abrasive article formed after curing of the abrasive has adequate abrasion resistance under water abrasion conditions. This can better control the abrasion rate of the abrasive article so that the abrasive article will wear too quickly and not too slowly. If the abrasive article is worn too quickly, its service life will be shortened, and if it is too slow, a scratch will be created on the ITO coating on the LCD panel surface.

개시제는 연마재의 경화를 용이하게 할 수 있고, 연마 입자가 접착제 매트릭스 내에 결합되게 할 뿐만 아니라, 연마재와 배킹 층이 함께 결합되게 할 것이다. 개시제는 바람직하게는 광개시제 또는 열 라디칼 개시제로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택될 수 있다. 광개시제는 바람직하게는 자외선 개시제 및 광-활성화 개시제, 보다 바람직하게는 자외선 개시제로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택될 수 있다. 자외선 개시제용으로, 예를 들어, 시바 코프.(Ciba Corp.)로부터 상업적으로 입수가능한 이르가큐어(Irgacure) 819가 선택될 수 있고, 광-활성화 개시제용으로, 예를 들어, 바스프 코프.(Basf Corp.)로부터 상업적으로 입수가능한 TPO-L이 선택될 수 있다. 열 라디칼 개시제용으로, 예를 들어, 듀폰 코프.(Dupont Corp.)로부터 상업적으로 입수가능한 바조(VAZO) 52 또는 바조67이 선택될 수 있다. 개시제는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 0.1 내지 5 wt.%의 양으로 존재한다.The initiator can facilitate curing of the abrasive and will not only allow the abrasive grains to bond within the adhesive matrix, but will also allow the abrasive and backing layers to be joined together. The initiator may preferably be selected from one or more of the group consisting of photoinitiators or thermal radical initiators. The photoinitiator may preferably be selected from one or more of the group consisting of an ultraviolet initiator and a photo-activator, more preferably a UV initiator. For ultraviolet initiators, for example, Irgacure 819 commercially available from Ciba Corp. may be selected and used for photo-activating initiators such as, for example, BASF Corp. TPO-L commercially available from BASF Corp. may be selected. For thermal radical initiators, for example, VAZO 52 or VAZO 67 commercially available from Dupont Corp. may be selected. The initiator is present in an amount of 0.1 to 5 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

접착제 매트릭스는 계면활성제, 현탁제, 커플링제, 및 분산제로 이루어진 군으로부터의 하나 이상을 추가로 포함할 수 있다.The adhesive matrix may further comprise one or more of the group consisting of a surfactant, a suspending agent, a coupling agent, and a dispersing agent.

계면활성제를 사용하여 접착제 매트릭스와 배킹 간의 결합 강도 및 친화도를 개선시킬 수 있다. 계면활성제는 바람직하게는 이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제 및 비이온성 계면활성제, 보다 바람직하게는 비이온성 계면활성제로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택될 수 있다. 비이온성 계면활성제는 바람직하게는 알콜 에테르 계면활성제이다. 알콜 에테르 계면활성제용으로, 예를 들어, 듀폰 코프.로부터 상업적으로 입수가능한 터지톨(Tergitol) 15-S-5가 선택될 수 있다. 계면활성제는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 0.1 내지 10 wt.%의 양으로 존재한다.Surfactants can be used to improve bond strength and affinity between the adhesive matrix and backing. The surfactant may preferably be selected from one or more of the group consisting of an ionic surfactant, a cationic surfactant and a nonionic surfactant, more preferably a nonionic surfactant. The nonionic surfactant is preferably an alcohol ether surfactant. For alcohol ether surfactants, for example, Tergitol 15-S-5, commercially available from DuPont Corp., may be selected. The surfactant is present in an amount of 0.1 to 10 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

현탁제를 사용하여 접착제 매트릭스 중에서의 연마 입자의 침전(precipitation)을 감소시킬 수 있다. 현탁제는 바람직하게는 비정질 산화 규소 입자, 보다 바람직하게는 150 m2/g 미만의 표면적을 갖는 비정질 산화 규소 입자일 수 있다. 150 m2/g 미만의 표면적을 갖는 비정질 산화 규소 입자용으로, 예를 들어, 에보니크 코프.(Evonik Corp.)로부터 상업적으로 입수가능한 OX50이 선택될 수 있다. 현탁제는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 1 내지 5 wt.%, 바람직하게는 1 내지 2 wt.%의 양으로 존재한다.Suspension can be used to reduce the precipitation of abrasive particles in the adhesive matrix. The suspending agent may preferably be amorphous silicon oxide particles, more preferably amorphous silicon oxide particles having a surface area of less than 150 m < 2 > / g. For amorphous silicon oxide particles having a surface area of less than 150 m < 2 > / g, for example, OX50 commercially available from Evonik Corp. may be selected. The suspending agent is present in an amount of 1 to 5 wt.%, Preferably 1 to 2 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

커플링제는 접착제 매트릭스와 연마 입자 사이에 회합 다리(association bridge)를 제공할 수 있다. 커플링제는 바람직하게는 실란 커플링제, 티타네이트 커플링제, 및 지르코늄 알루미네이트 커플링제로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택될 수 있다. 커플링제는 목적에 따라서 상이한 방식으로 첨가될 수 있다. 예를 들어, 커플링제는 접착제 매트릭스에 직접 첨가될 수 있다. 커플링제는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 바람직하게는 0.1 내지 5 wt.%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 3 wt.%의 양으로 존재한다.The coupling agent may provide an association bridge between the adhesive matrix and the abrasive particles. The coupling agent may preferably be selected from one or more members selected from the group consisting of a silane coupling agent, a titanate coupling agent, and a zirconium aluminate coupling agent. The coupling agent may be added in a different manner depending on the purpose. For example, a coupling agent may be added directly to the adhesive matrix. The coupling agent is preferably present in an amount of from 0.1 to 5 wt.%, More preferably from 0.1 to 3 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

분산제를 사용하여 접착제 매트릭스의 점도를 감소시켜서 연마 입자가 접착제 매트릭스 내에서 균일하게 분포되게 할 수 있다. 분산제는 바람직하게는 앵커링(anchoring) 중합체 분산제일 수 있다. 앵커링 중합체 분산제용으로, 예를 들어, 루브리졸 코프.(Lubrizol Corp.)로부터 상업적으로 입수가능한 졸플러스(Solplus) D520이 선택될 수 있다. 분산제는 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 0.1 내지 0.5 wt.%, 바람직하게는 0.1 내지 0.3 wt.%의 양으로 존재한다.A dispersant may be used to reduce the viscosity of the adhesive matrix so that abrasive particles are uniformly distributed within the adhesive matrix. The dispersing agent may preferably be an anchoring polymer dispersing agent. For anchoring polymer dispersants, for example, Solplus D520, commercially available from Lubrizol Corp., may be selected. The dispersant is present in an amount of 0.1 to 0.5 wt.%, Preferably 0.1 to 0.3 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%.

본 발명에 의해서 제공된 연마재는 비교적 낮은 내마모성을 가져서, 그것을 사용하여 LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치내지 않고 LCD 패널 표면을 세정할 수 있다.The abrasives provided by the present invention have relatively low abrasion resistance and can be used to clean the LCD panel surface without scratching the ITO coating on the surface of the LCD panel.

연마 물품Abrasive article

본 발명은 연마 물품을 추가로 제공한다. 연마 물품은 본 발명에 의해서 제공된 경화된 연마재를 포함하는 연마 층을 포함한다. "연마재"의 설명에 대해서는 본 명세서의 "연마재" 부분을 참고하기 바란다.The present invention further provides an abrasive article. The abrasive article comprises an abrasive layer comprising a cured abrasive material provided by the present invention. For a description of "abrasives ", see the" abrasives "section of this specification.

도 1a 및 도 1b에 도시된 바와 같이, 연마 물품 (100)은 배킹 층 (110), 및 배킹 층 (110) 상에 배치된 하나의 돌출 부재 (120) 또는 복수의 돌출 부재 (120)를 포함한다. 연마 물품 (100)을 사용하여 LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치내지 않고 LCD 패널 표면을 세정할 수 있다.1A and 1B, the abrasive article 100 includes a backing layer 110 and one protrusion member 120 or a plurality of protrusion members 120 disposed on the backing layer 110 do. The abrasive article 100 can be used to clean the LCD panel surface without scratching the ITO coating on the surface of the LCD panel.

배킹 층 (110)용 재료는 바람직하게는 폴리에틸렌 배킹, 폴리에스테르 직포 배킹, 블렌디드 직포 배킹, 면 직포 배킹 및 종이 배킹, 보다 바람직하게는 폴리에틸렌 배킹으로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택될 수 있다. 예를 들어, 3M 코프.(3M Corp.)로부터 상업적으로 입수가능한 폴리에틸렌 배킹이 선택될 수 있다.The material for backing layer 110 may preferably be selected from one or more of the group consisting of polyethylene backing, polyester woven backing, blended woven backing, cotton woven backing and paper backing, more preferably polyethylene backing. For example, a commercially available polyethylene backing from 3M Corp. may be selected.

수평 방향에서의 돌출 부재 (120)의 단면 형상은 바람직하게는 삼각형, 사각형, 직사각형, 마름모형, 오각형, 육각형, 원형 및 타원형, 보다 바람직하게는 사각형, 직사각형 및 타원형으로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택될 수 있다. 수평 방향에서의 돌출 부재 (120)의 단면적은 바람직하게는 0.25 내지 5 ㎟, 보다 바람직하게는 1 내지 3 ㎟일 수 있다.The cross-sectional shape of the projecting member 120 in the horizontal direction is preferably at least one of a triangle, a rectangle, a rhombus, a pentagon, a hexagon, a circle and an ellipse, more preferably a rectangle, a rectangle, Can be selected. The cross-sectional area of the projecting member 120 in the horizontal direction may be preferably 0.25 to 5 mm 2, more preferably 1 to 3 mm 2.

돌출 부재 (120)의 상부 표면은 수평 방향에서의 돌출 부재 (120)의 단면에 평행하거나 또는 평행하지 않을 수 있다. 바람직하게는, 돌출 부재 (120)의 상부 표면은 수평 방향에서의 돌출 부재 (120)의 단면에 평행하다. 돌출 부재 (120)의 상부 표면의 형상은 수평 방향에서의 돌출 부재 (120)의 단면 형상과 동일하거나 또는 상이할 수 있다. 바람직하게는, 돌출 부재 (120)의 상부 표면의 형상은 수평 방향에서의 돌출 부재 (120)의 단면 형상과 동일하다. 돌출 부재 (120)의 상부 표면의 면적은 수평 방향에서의 돌출 부재 (120)의 단면의 면적과 동일하거나 또는 상이할 수 있다. 바람직하게는, 돌출 부재 (120)의 상부 표면의 면적은 수평 방향에서의 돌출 부재 (120)의 단면의 면적과 동일하다.The upper surface of the protruding member 120 may be parallel or not parallel to the cross-section of the protruding member 120 in the horizontal direction. Preferably, the upper surface of the projecting member 120 is parallel to the cross-section of the projecting member 120 in the horizontal direction. The shape of the upper surface of the protruding member 120 may be the same as or different from the sectional shape of the protruding member 120 in the horizontal direction. Preferably, the shape of the upper surface of the protruding member 120 is the same as the sectional shape of the protruding member 120 in the horizontal direction. The area of the upper surface of the projecting member 120 may be the same as or different from the area of the cross section of the projecting member 120 in the horizontal direction. Preferably, the area of the upper surface of the projecting member 120 is equal to the area of the cross-section of the projecting member 120 in the horizontal direction.

더욱이, 돌출 부재 (120)는 피라미드형 구조를 가질 수 있다.Furthermore, the protruding member 120 may have a pyramidal structure.

돌출 부재 (120)의 높이는 h1로 표현되며, 바람직하게는 h1 = 10 내지 500 μm, 보다 바람직하게는 h1 = 200 내지 350 μm이다.The height of the protruding member 120 is represented by h 1 , preferably h 1 = 10 to 500 μm, and more preferably h 1 = 200 to 350 μm.

연마 물품 (100)이 복수의 돌출 부재 (120)를 포함하면, 이들 돌출 부재 (120)의 높이 h1은 동일하거나 또는 상이할 수 있다. 바람직하게는, 돌출 부재들 (120)의 높이 h1은 동일하며, 이것은 연마 물품이 LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치내지 않고 LCD 패널 표면을 세정하는 것을 돕는다.When the polishing article 100 comprises a plurality of protruding members 120, the height h 1 of these protruding member 120 may be the same or different. Preferably, the projected height h 1 of the members 120 are the same, and this helps to clean the LCD panel surface abrasive article is not to scratch the ITO coating on the LCD panel surface.

연마 물품 (100)이 복수의 돌출 부재 (120)를 포함하면, 이들 돌출 부재 (120)는 규칙적으로 배열되거나 또는 불규칙적으로 배열될 수 있다. 바람직하게는, 이들 돌출 부재 (120)는 규칙적으로 배열되어 있고, 이것은 연마 물품이 LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치내지 않고 LCD 패널 표면을 세정하는 것을 돕는다.If the abrasive article 100 includes a plurality of projecting members 120, these projecting members 120 may be arranged regularly or irregularly. Preferably, these protruding members 120 are regularly arranged, which helps the polishing article clean the LCD panel surface without scratching the ITO coating on the LCD panel surface.

연마 물품 (100)은 프라이머 코팅 층 (130) (도면에 도시되지 않음)을 추가로 포함할 수 있다. 프라이머 코팅 층 (130)을 사용하여 배킹 층 (110)과 돌출 부재 (120) 간의 접착력을 증가시킬 수 있다. 프라이머 코팅 층 (130)용 재료는 폴리우레탄 및 에틸렌 아크릴산 공중합체, 보다 바람직하게는 에틸렌 아크릴산 공중합체로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택될 수 있다.The abrasive article 100 may further include a primer coating layer 130 (not shown in the figure). The adhesion force between the backing layer 110 and the protruding member 120 can be increased by using the primer coating layer 130. The material for primer coating layer 130 may be selected from one or more of the group consisting of polyurethane and ethylene acrylic acid copolymer, more preferably ethylene acrylic acid copolymer.

연마 물품의 제조 방법Method of manufacturing an abrasive article

본 발명은 본 발명에 따라서 제공된 연마재를 경화시키는 단계를 포함하는 연마 물품의 제조 방법을 제공한다.The present invention provides a method of making an abrasive article comprising curing the abrasive material provided in accordance with the present invention.

"연마재"의 설명에 대해서는 본 명세서의 "연마재" 부분을 참고하기 바란다.For a description of "abrasives ", see the" abrasives "section of this specification.

도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따라서 제공된 연마재를 경화시키는 단계는 연마재를 주형 (200)에 넣음으로써 수행될 수 있다.As shown in FIGS. 2A and 2B, the step of curing the abrasive material provided according to the present invention can be performed by putting an abrasive material into the mold 200.

도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이, 주형 (200)은 하나의 공동 (220) 또는 복수의 공동 (220)을 포함한다. 주형 (200)은 미세-복제(micro-replication) 기술에 의해서 제조될 수 있다. 수평 방향에서의 공동 (220)의 단면 형상은 바람직하게는 삼각형, 사각형, 직사각형, 마름모형, 오각형, 육각형, 원형 및 타원형, 보다 바람직하게는 사각형, 직사각형 및 타원형으로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택될 수 있다. 공동 (220)의 바닥 표면의 면적은 바람직하게는 0.25 내지 5 ㎟, 보다 바람직하게는 1 내지 3 ㎟이다.As shown in FIGS. 2A and 2B, the mold 200 includes one cavity 220 or a plurality of cavities 220. The mold 200 may be fabricated by micro-replication techniques. The cross sectional shape of cavity 220 in the horizontal direction is preferably selected from one or more of the group consisting of triangular, rectangular, rectangular, rhombic, pentagonal, hexagonal, circular and elliptical, more preferably rectangular, . The area of the bottom surface of the cavity 220 is preferably 0.25 to 5 mm 2, more preferably 1 to 3 mm 2.

바람직하게는, 공동 (220)의 측벽은 바닥 표면에 수직이다.Preferably, the sidewalls of cavity 220 are perpendicular to the bottom surface.

바람직하게는, 공동 (220)의 바닥 표면은 수평 방향에서의 공동 (220)의 단면에 평행하다. 바람직하게는, 캐비티 (220)의 바닥 표면의 형상은 수평 방향에서의 캐비티 (220)의 단면 형상과 동일하다. 바람직하게는, 캐비티 (220)의 바닥 표면의 면적은 수평 방향에서의 캐비티 (220)의 단면의 면적과 동일하다.Preferably, the bottom surface of the cavity 220 is parallel to the cross-section of the cavity 220 in the horizontal direction. Preferably, the shape of the bottom surface of the cavity 220 is the same as the cross-sectional shape of the cavity 220 in the horizontal direction. Preferably, the area of the bottom surface of the cavity 220 is equal to the area of the cross section of the cavity 220 in the horizontal direction.

더욱이, 공동 (220)은 뒤집힌 피라미드형 구조를 가질 수 있다.Moreover, the cavity 220 may have an inverted pyramidal structure.

공동 (220)의 깊이는 b1로 표현되며, 바람직하게는 b1 = 10 내지 500 μm, 보다 바람직하게는 b1 = 200 내지 350 μm이다. 주형 (200)이 복수의 공동 (220)을 포함하면, 이들 공동 (220)의 깊이 b1은 동일하거나 또는 상이할 수 있다. 바람직하게는, 이들 공동 (220)의 깊이 b1은 동일하다. 주형 (200)이 복수의 공동 (220)을 포함하면, 이들 공동 (220)은 규칙적이거나 또는 불규칙적으로 배열될 수 있다. 바람직하게는, 이들 공동 (220)은 규칙적으로 배열되어 있다.The depth of the cavity 220 is represented by b 1 , preferably b 1 = 10 to 500 μm, and more preferably b 1 = 200 to 350 μm. If the mold 200 comprises a plurality of cavities 220, the depth b 1 of these cavities 220 may be the same or different. Preferably, the depth b 1 of these cavities 220 is the same. If the mold 200 comprises a plurality of cavities 220, these cavities 220 may be arranged regularly or irregularly. Preferably, these cavities 220 are regularly arranged.

연마재의 경화 단계에서, 연마재가 광개시제를 포함하면, 연마재는 바람직하게는 자외광에 의해서 경화될 수 있다. 자외광을 사용하여 연마재를 경화시키는 경우, 자외광의 강도는 500 내지 700 와트/데시미터, 바람직하게는 600 와트/데시미터이다.In the curing step of the abrasive, if the abrasive comprises a photoinitiator, the abrasive can preferably be cured by ultraviolet light. When the abrasive is cured using ultraviolet light, the intensity of the ultraviolet light is 500 to 700 watts / decimeter, preferably 600 watts / decimeter.

연마재의 경화 단계에서, 연마재가 열 라디칼 개시제를 포함하면, 연마재는 바람직하게는 가열에 의해서 경화될 수 있고, 가열 온도는 바람직하게는 50 내지 120℃이다.In the curing step of the abrasive, if the abrasive comprises a thermal radical initiator, the abrasive can preferably be cured by heating, and the heating temperature is preferably 50 to 120 占 폚.

실시예Example

하기에 제공된 실시예 및 비교예는 본 발명을 이해하는 데 도움을 주고자 함이며, 본 발명의 범주를 제한하는 것으로서 이해되어서는 안된다. 모든 부 및 백분율은, 달리 명시되지 않는 한, 중량 기준이다.The examples and comparative examples provided below are intended to aid in understanding the present invention and should not be understood as limiting the scope of the invention. All parts and percentages are by weight unless otherwise specified.

본 발명의 실시예 및 비교예에서 사용된 원료는 하기 표 1에 표시된 바와 같다.The raw materials used in Examples and Comparative Examples of the present invention are as shown in Table 1 below.

[표 1] [Table 1]

Figure pct00001
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실시예 및 비교예에 제공된 연마 물품의 내마모성 성능을 도 3에 도시된 "쉬퍼 시험"에 의해서 주로 평가하였다.The abrasion resistance performance of the abrasive articles provided in the examples and comparative examples was mainly evaluated by the "shaper test" shown in Fig.

쉬퍼 시험 방법Shiffer Test Method

연마 물품을 (도 1a에 도시된 바와 같은) 둥근 디스크로 절단하였고, 디스크의 직경은 목적에 따라서 선택된다.The abrasive article is cut into round disks (as shown in Fig. 1A), and the diameter of the disk is selected according to the purpose.

시험 전 디스크를 디지탈 현미경 VHX-1000 E (케이엔스 코프.(Keyence Corp.)로부터 상업적으로 입수가능함)를 사용하여 3D 검출에 적용하였고, 시험 전 디스크의 두께를 기록하였다.Prior to testing, the disks were applied to 3D detection using a digital microscope VHX-1000 E (commercially available from Keyence Corp.), and the thickness of the disk before testing was recorded.

도 3에 도시된 바와 같이, 디스크 (330)의 후면에 감압 접착제를 붙이고, 디스크 (330)를 평탄 트레이 (320)에 부착하였다. 디스크 (330)가 부착된 트레이 (320)를 쉬퍼 시험기 (프라지어 프리시젼 코.(Frazier Precision Co.) (미국 매릴랜드주 게이터스버그 소재)로부터 상업적으로 입수가능함) 상에 장착하였다.3, a pressure-sensitive adhesive is applied to the back surface of the disk 330, and the disk 330 is attached to the flat tray 320. As shown in Fig. The tray 320 with the disc 330 attached was mounted on a shaper tester (commercially available from Frazier Precision Co., Gatorbagg, Maryland, USA).

4.54 ㎏의 시험 압력에서, 연속식 물 제트를 사용하는 습식 연마 조건 (물 유량 (350)은 30 ml/min임) 하에서, PMMA (폴리메틸 메타크릴레이트)로 제조되고, 102 mm의 외경 및 51 mm의 내경을 갖는 고리 (340)를 디스크 (330)를 사용하여 총 4,500의 회전수를 사용하여 연마하였다. 시험 동안, 트레이 (320)의 회전 속도는 250 rpm이었고, PMMA 고리 (340)의 회전 속도는 250 rpm이었고, PMMA 고리 (340)의 회전 방향은 트레이 (320)의 회전 방향과 동일하였다. 도 3에서의 화살표는 각각 PMMA 고리 (340) 및 트레이 (320)의 회전 방향을 나타낸다. PMMA 고리 (340)의 회전 축은 트레이 (320)의 회전 축과 동일한 선 상에 존재하지 않았고, PMMA 고리 (340)의 회전 축과 트레이 (320)의 회전 축 간의 거리는 약 30 mm였다.(Polymethylmethacrylate) under wet polishing conditions using a continuous water jet (water flow rate 350 at 30 ml / min) at a test pressure of 4.54 kg and having an outer diameter of 102 mm and an outer diameter of 51 The ring 340 having an inner diameter of mm was polished by using the disk 330 at a total number of revolutions of 4,500. During the test, the rotation speed of the tray 320 was 250 rpm, the rotation speed of the PMMA ring 340 was 250 rpm, and the rotation direction of the PMMA ring 340 was the same as the rotation direction of the tray 320. The arrows in FIG. 3 indicate the rotational directions of the PMMA ring 340 and the tray 320, respectively. The rotation axis of the PMMA ring 340 was not on the same line as the rotation axis of the tray 320 and the distance between the rotation axis of the PMMA ring 340 and the rotation axis of the tray 320 was about 30 mm.

연마가 완료되면, 디스크 (330)를 블로우(blow) 건조하였다.When the polishing is completed, the disk 330 is blow-dried.

시험 후 디스크를 디지탈 현미경 VHX-1000 E (케이엔스 코프.로부터 상업적으로 입수가능함)를 사용하여 3D 검출에 적용하였고, 시험 후 디스크의 두께를 기록하였다. 연마 물품의 실제 마모도를 하기 수학식에 따라서 계산하여 연마 물품의 내마모율을 평가하였다.After the test, the disc was applied to 3D detection using a digital microscope VHX-1000 E (commercially available from Kenskopf) and the thickness of the discs after the test was recorded. The actual wear rate of the abrasive article was calculated according to the following equation to evaluate the abrasion resistance of the abrasive article.

실제 마모도 = 마모 전 디스크의 두께 - 마모 완료 후 디스크의 두께Actual wear = thickness of disc before abrasion - thickness of disc after abrasion

디스크의 실제 마모도가 5 μm 미만이면, 디스크는 비교적 높은 내마모성을 가져서, 그 디스크를 사용하여 LCD 패널 표면을 세정하면, 그것은 LCD 패널 표면 상의 ITO 층을 스크래치낼 것이다. 디스크의 실제 마모도가 5 μm 이상이면, 디스크 (연마 물품)는 비교적 낮은 내마모성을 가져서, 그 디스크를 사용하여 LCD 패널 표면을 세정하면, 그것은 LCD 패널 표면 상의 ITO 층을 스크래치내지 않을 것이다.If the actual wear of the disk is less than 5 占 퐉, the disk has a relatively high abrasion resistance, and if the disk is used to clean the surface of the LCD panel, it will scratch the ITO layer on the surface of the LCD panel. If the actual wear of the disc is greater than 5 占 퐉, the disc (abrasive article) has a relatively low abrasion resistance, and if the disc is used to clean the surface of the LCD panel, it will not scratch the ITO layer on the surface of the LCD panel.

본 발명의 실시예 및 비교예에 의해서 제공된 연마 물품의 내마모성 성능의 시험 결과를 하기 표 4에 열거한다.Test results of the abrasion resistance performance of the abrasive articles provided by the Examples and Comparative Examples of the present invention are listed in Table 4 below.

실시예 1 내지 실시예 4 (접착제 매트릭스의 제조)Examples 1 to 4 (Preparation of Adhesive Matrix)

하기 표 2에 열거된 성분 및 그의 양을 사용하여 하기 단계에 의해서 접착제 매트릭스를 제조하였다.Adhesive matrices were prepared by the following steps using the components listed in Table 2 and amounts thereof.

단계 1: 성분들을 CA 모델 # LA1A 교반기 (코트 터본 믹서 인크.(Cott Turbon Mixer Inc.)로부터 상업적으로 입수가능함)에 첨가하였다.Step 1: The ingredients were added to a CA model # LA1A stirrer (commercially available from Cott Turbon Mixer Inc.).

단계 2: 성분들을 30℃의 온도 및 400 rpm의 회전 속도 하에서 교반하여 잘 혼합하여 접착제 매트릭스를 수득하였다.Step 2: The components were mixed well by stirring at a temperature of 30 DEG C and a rotational speed of 400 rpm to obtain an adhesive matrix.

[표 2] [Table 2]

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실시예 5 내지 실시예 13 및 비교예 C1 내지 비교예 C4Examples 5 to 13 and Comparative Examples C1 to C4

"연마재의 제조":"Manufacture of abrasives":

표 3에 열거된 성분 및 그의 양을 사용하여 하기 단계에 의해서 연마재를 제조하였다.The abrasives were prepared by the following steps using the components listed in Table 3 and their amounts.

30℃ 미만의 온도 및 400 rpm의 회전 속도 하에서 CA 모델 # LA1A 교반기 (코트 터본 믹서 인크.로부터 상업적으로 입수가능함)를 사용하여 연마 입자를 접착제 매트릭스 내에 균일하게 분산시켜서 연마재를 수득하였다.An abrasive was obtained by uniformly dispersing abrasive particles in an adhesive matrix using a CA model # LA1A stirrer (commercially available from Court Turbomixer Inc.) at a temperature of less than 30 DEG C and a rotational speed of 400 rpm.

"연마 물품의 제조":"Manufacture of abrasive articles":

연마재를 도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같은 PP (폴리프로필렌) 주형 상에 균일하게 적용하였다. PP 주형은 미세-복제 기술에 의해서 제조하였고, 200 mm의 폭을 갖고, 사각형 주형 공동을 가졌다. 사각형 주형 공동은 규칙적인 배열의 복수의 공동을 포함한다. 이들 공동의 바닥 표면은 수평 방향에서의 공동의 단면에 평행하였고, 그것과 동일한 면적을 가졌다. 이들 공동의 바닥 면적은 1.69 ㎟였고, 깊이 b1은 300 μm였다.The abrasives were uniformly applied on a PP (polypropylene) mold as shown in Figs. 2A and 2B. The PP mold was produced by a micro-replica technique, having a width of 200 mm, and having a rectangular mold cavity. The rectangular mold cavity includes a plurality of cavities of regular arrangement. The bottom surfaces of these cavities were parallel to the cross section of the cavity in the horizontal direction and had the same area as that of the cavity. The bottom area of these cavities was 1.69 mm 2 and the depth b 1 was 300 μm.

US5975987에 제공된 방법에 따라서, 연마재가 충전된 주형을, EAA (에틸렌 아크릴산 공중합체) 탄성 프라이머가 코팅된 PET 필름 상에 적용하였다 (대안적으로는, 연마재가 충전된 주형을, 12 인치의 폭 및 0.005 인치의 두께를 갖고, 폴리우레탄 프라이머가 코팅된 직포 배킹 상에 적용할 수 있다).According to the method provided in US5975987, a mold filled with an abrasive was applied on a PET film coated with an EAA (ethylene acrylic acid copolymer) elastic primer (alternatively, the abrasive filled mold was cut into a 12 inch wide 0.005 inches in thickness and can be applied on a woven backing coated with a polyurethane primer).

US5975987에 제공된 방법에 따라서, 클램프 롤의 90 lbs/ft (대략 620.5 ㎪과 동일함)의 클램프력(clamp force)의 조건 및 PET 필름의 10 ft/min의 이동 속도 하에서, PET 필름 상의 연마재를 600 와트/데시미터의 강도를 갖는 자외광으로 조사하였다 (자외광 조사용 장비는 EPIQ 6000이었고, 이것은 퓨전 시스템 코프.(Fusion System Corp.) (미국 매릴랜드주 게이터스버그 소재)로부터 상업적으로 입수가능하다).According to the method provided in US5975987, under the conditions of a clamp force of 90 lbs / ft (equivalent to approximately 620.5 mm) of the clamp roll and a moving speed of 10 ft / min of the PET film, (Ultraviolet light source equipment was EPIQ 6000, which is commercially available from Fusion System Corp., Gatherburg, MD, USA). ≪ RTI ID = 0.0 > ).

연마재를 경화시킨 후, PP 주형을 PET 필름으로부터 제거하여, EAA가 코팅된 PET 필름 상에 형성된 경화된 연마 물품을 생성하였다. 연마 물품은 200 mm의 폭을 가졌다. 연마 물품은 규칙적으로 배열된 돌출 부재를 가졌다. 수평 방향에서의 이들 돌출 부재의 단면 형상은 사각형이었다 (사각형의 변은 1.3 mm였고, 면적은 1.69 ㎟였다). 이들 돌출 부재는 300±50 μm의 높이 h1를 가졌다.After curing the abrasive, the PP mold was removed from the PET film to produce a cured abraded article formed on the EAA coated PET film. The abrasive article had a width of 200 mm. The abrasive article had regularly arranged protruding members. The cross-sectional shapes of these projecting members in the horizontal direction were square (the side of the rectangle was 1.3 mm and the area was 1.69 mm 2). These protruding members had a height h 1 of 300 ± 50 μm.

"연마 물품의 쉬퍼 시험""Siffer test of abrasive article"

3M PSA 300LSE 감압 접착제 (3M 코프.로부터 상업적으로 입수가능함)의 층을 연마 물품의 후면 상에 적용하였다.A layer of 3M PSA 300LSE pressure sensitive adhesive (commercially available from 3M Corp.) was applied on the back side of the abraded article.

감압 접착제가 코팅된 연마 물품을 4 인치의 직경을 갖는 (도 1a에 도시된 바와 같은) 둥근 디스크로 절단하였다.The pressure sensitive adhesive coated abrasive article was cut into round discs (as shown in Figure < RTI ID = 0.0 > 1A) < / RTI >

디스크의 실제 마모도를 본 명세서의 "쉬퍼 시험" 부분에 제공된 "쉬퍼 시험 방법"에 따라서 측정하였다. 결과를 표 3에 열거하였다.The actual wear of the disc was measured according to the "Shiffer Test Method" provided in the "Shiffer Test" The results are listed in Table 3.

[표 3][Table 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

비교예 C1 내지 비교예 C3으로부터, 연마재가 수산화 알루미늄 연마 입자를 함유하지 않은 경우, 그 연마재로부터 제조된 연마 물품은 5 μm 미만의 실제 마모도를 가지며, 이는 연마 물품이 비교적 높은 내마모성을 가져서, 가능하게는 LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치낼 것이라는 것을 나타낸다는 것을 인지할 수 있다.From Comparative Examples C1 to C3, it can be seen that when the abrasive does not contain aluminum hydroxide abrasive grains, the abrasive article produced from the abrasive has an actual wear less than 5 m, which allows the abrasive article to have a relatively high abrasion resistance, Lt; RTI ID = 0.0 > ITO < / RTI > coating on the surface of the LCD panel.

비교예 C4로부터, 연마재가 수산화 알루미늄 연마 입자를 함유하지만 다이아크릴레이트를 함유하지 않은 경우, 그 연마재로부터 제조된 연마 물품은 5 μm 미만의 실제 마모도를 가지며, 이는 연마 물품이 비교적 높은 내마모성을 가져서, 가능하게는 LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치낼 것이라는 것을 나타낸다는 것을 인지할 수 있다.From Comparative Example C4, the abrasive article produced from the abrasive article had an actual abrasion of less than 5 占 퐉 when the abrasive contained aluminum hydroxide abrasive particles but did not contain diacrylate, which has a relatively high abrasion resistance of the abrasive article, And possibly scratches the ITO coating on the surface of the LCD panel.

실시예 5 내지 실시예 13으로부터, 연마재가 수산화 알루미늄 연마 입자, 다이아크릴레이트 및 트라이아크릴레이트를 함유한 경우, 그 연마재로부터 제조된 연마 물품은 5 μm를 초과하는 실제 마모도를 가지며, 이는 연마 물품이 비교적 낮은 내마모성을 가져서, LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치내지 않을 것이라는 것을 나타낸다는 것을 인지할 수 있다.From Examples 5 to 13 it can be seen that when the abrasive contains aluminum hydroxide abrasive grains, diacrylates and triacrylates, the abrasive articles produced from the abrasive have an actual wear rate of greater than 5 [mu] m, It is recognized that it has a relatively low abrasion resistance, indicating that it will not scratch the ITO coating on the surface of the LCD panel.

더욱이, 실시예 10 및 실시예 12로부터, 연마재의 연마 입자가 수산화 알루미늄 연마 입자를 함유한 경우, 적합한 양 (1 내지 2 wt.%)의 탄산 칼슘 연마 입자가 그 연마 입자에 추가로 첨가될 수 있고, 그러한 연마재로부터 제조된 연마 물품은 5 μm를 초과하는 실제 마모도를 가지며, 이는 연마 물품이 비교적 낮은 내마모성을 가져서, LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치내지 않을 것이라는 것을 나타낸다는 것을 인지할 수 있다.Furthermore, it can be seen from Examples 10 and 12 that, when the abrasive grains of the abrasive contain aluminum hydroxide abrasive grains, a suitable amount (1 to 2 wt.%) Of calcium carbonate abrasive grains can be further added to the abrasive grains And that the abrasive article made from such an abrasive has an actual wear rate of greater than 5 [mu] m indicating that the abrasive article has a relatively low abrasion resistance and will not scratch the ITO coating on the surface of the LCD panel.

추가로, 실시예 9 및 실시예 11로부터, 연마재의 연마 입자가 수산화 알루미늄 연마 입자를 포함하는 경우, 적합한 양 (1 내지 2 wt.%)의 산화 알루미늄 연마 입자가 그 연마 입자에 추가로 첨가될 수 있고, 그러한 연마재로부터 제조된 연마 물품은 5 μm를 초과하는 실제 마모도를 가지며, 이는 연마 물품이 또한 비교적 낮은 내마모성을 가져서, LCD 패널 표면 상의 ITO 코팅을 스크래치내지 않을 것이라는 것을 나타낸다는 것을 인지할 수 있다.Further, it can be seen from Examples 9 and 11 that when the abrasive grains of the abrasive comprise aluminum hydroxide abrasive grains, a suitable amount (1 to 2 wt.%) Of aluminum oxide abrasive grains are further added to the abrasive grains It can be appreciated that the abrasive articles made from such abrasive materials have an actual wear rate of greater than 5 탆 which indicates that the abrasive article also has a relatively low abrasion resistance and will not scratch the ITO coating on the surface of the LCD panel have.

전술된 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용은 예시의 목적을 위해 많은 구체적인 상세사항을 포함하지만, 본 기술 분야의 숙련인은 이들 상세사항에 대한 많은 변형, 변화, 치환 및 변경이 청구된 본 개시내용의 범주 내에 있음을 이해할 것이다. 따라서, 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용에 기재된 본 개시내용은 청구되는 본 개시내용에 어떠한 제한도 부과하지 않고 개시된다. 본 개시내용의 적합한 범주는 청구범위 및 그의 적절한 법률적 등가물에 의해 결정되어야 한다. 인용된 참고 문헌 전부는 본 명세서에 전체적으로 참고로 포함된다.Although the specific details for carrying out the invention described above include many specific details for the purpose of illustration, it will be understood by those skilled in the art that many variations, changes, substitutions and alterations to these details are possible, ≪ / RTI > Therefore, the present disclosure set forth in the detailed description for carrying out the invention is disclosed without imposing any limitation on the content of the present disclosure claimed. The appropriate scope of this disclosure should be determined by the claims and their appropriate legal equivalents. All cited references are incorporated herein by reference in their entirety.

Claims (39)

연마 입자 및 접착제 매트릭스를 포함하는 연마재로서, 연마 입자는 접착제 매트릭스 내에 분포되어 있고,
연마 입자는 수산화 알루미늄 연마 입자를 포함하고,
접착제 매트릭스는 트라이아크릴레이트, 다이아크릴레이트, 및 개시제를 포함하는 연마재.
An abrasive comprising abrasive particles and an adhesive matrix, wherein the abrasive particles are distributed in an adhesive matrix,
The abrasive particles comprise aluminum hydroxide abrasive grains,
The adhesive matrix comprises a triacrylate, a diacrylate, and an initiator.
제1항에 있어서, 수산화 알루미늄 연마 입자가 0.5 내지 10 μm의 평균 입자 크기를 갖는 연마재.2. The abrasive according to claim 1, wherein the aluminum hydroxide abrasive grains have an average particle size of 0.5 to 10 mu m. 제1항에 있어서, 수산화 알루미늄 연마 입자가 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 15 내지 30 wt.%의 양으로 존재하는 연마재.The abrasive according to claim 1, wherein the aluminum hydroxide abrasive particles are present in an amount of 15 to 30 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%. 제1항에 있어서, 연마 입자가 탄산 칼슘 연마 입자를 추가로 포함하는 연마재.The abrasive according to claim 1, wherein the abrasive particles further comprise calcium carbonate abrasive grains. 제4항에 있어서, 탄산 칼슘 연마 입자가 0.5 내지 5 μm의 평균 입자 크기를 갖는 연마재.5. The abrasive according to claim 4, wherein the calcium carbonate abrasive grains have an average particle size of 0.5 to 5 mu m. 제4항에 있어서, 탄산 칼슘 연마 입자가 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 0.5 내지 5 wt.%의 양으로 존재하는 연마재.The abrasive according to claim 4, wherein the calcium carbonate abrasive particles are present in an amount of 0.5 to 5 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%. 제1항에 있어서, 연마 입자가 산화 알루미늄 연마 입자를 추가로 포함하는 연마재.The abrasive according to claim 1, wherein the abrasive particles further comprise aluminum oxide abrasive grains. 제7항에 있어서, 산화 알루미늄 연마 입자가 0.5 내지 5 μm의 평균 입자 크기를 갖는 연마재.8. The abrasive according to claim 7, wherein the aluminum oxide abrasive grains have an average particle size of 0.5 to 5 mu m. 제7항에 있어서, 산화 알루미늄 연마 입자가 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 0.5 내지 2 wt.%의 양으로 존재하는 연마재.The abrasive according to claim 7, wherein the aluminum oxide abrasive particles are present in an amount of 0.5 to 2 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%. 제1항에 있어서, 접착제 매트릭스가 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 60 내지 85 wt.%의 양으로 존재하는 연마재.The abrasive according to claim 1, wherein the adhesive matrix is present in an amount of 60 to 85 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%. 제1항에 있어서, 트라이아크릴레이트가 150 내지 500의 평균 분자량을 갖는 연마재.The abrasive according to claim 1, wherein the triacrylate has an average molecular weight of 150 to 500. 제1항에 있어서, 트라이아크릴레이트가 아이소시아누레이트-아크릴레이트 및 트라이메틸올프로판트라이아크릴레이트로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택되는 연마재.The abrasive of claim 1, wherein the triacrylate is selected from one or more from the group consisting of isocyanurate-acrylate and trimethylolpropane triacrylate. 제1항에 있어서, 트라이아크릴레이트가 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 10 내지 40 wt.%의 양으로 존재하는 연마재.The abrasive according to claim 1, wherein the triacrylate is present in an amount of 10 to 40 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%. 제1항에 있어서, 다이아크릴레이트가 100 내지 600의 평균 분자량을 갖는 연마재.The abrasive according to claim 1, wherein the diacrylate has an average molecular weight of 100 to 600. 제1항에 있어서, 다이아크릴레이트가 폴리에틸렌 글리콜 (200) 다이아크릴레이트 및 옥시에틸렌 비스페놀 A 다이아크릴레이트로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택되는 연마재.The abrasive of claim 1, wherein the diacrylate is selected from the group consisting of polyethylene glycol (200) diacrylate and oxyethylene bisphenol A diacrylate. 제1항에 있어서, 다이아크릴레이트가 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 30 내지 60 wt.%의 양으로 존재하는 연마재.The abrasive according to claim 1, wherein the diacrylate is present in an amount of 30 to 60 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%. 제1항에 있어서, 개시제가 광개시제 및 열 라디칼 개시제로 이루어진 군으로부터의 하나 이상으로부터 선택되는 연마재.The abrasive of claim 1 wherein the initiator is selected from one or more of the group consisting of photoinitiators and thermal radical initiators. 제1항에 있어서, 개시제가 100 wt.%로서의 연마재의 총 중량을 기준으로, 0.1 내지 5 wt.%의 양으로 존재하는 연마재.The abrasive according to claim 1, wherein the initiator is present in an amount of 0.1 to 5 wt.%, Based on the total weight of the abrasive as 100 wt.%. 제1항에 있어서, 접착제 매트릭스가 계면활성제, 현탁제, 커플링제, 및 분산제로 이루어진 군으로부터의 하나 이상을 추가로 포함하는 연마재.The abrasive of claim 1, wherein the adhesive matrix further comprises at least one from the group consisting of a surfactant, a suspending agent, a coupling agent, and a dispersing agent. 제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 따른 경화된 연마재를 포함하는 연마 물품.An abrasive article comprising a cured abrasive according to any one of claims 1 to 19. 제20항에 있어서, 하나의 돌출 부재(protruding member) 또는 복수의 돌출 부재를 포함하는 연마 물품.21. The article of claim 20, comprising a protruding member or a plurality of projecting members. 제21항에 있어서, 수평 방향에서의 돌출 부재의 단면 형상이 삼각형, 사각형, 직사각형, 마름모형, 오각형, 육각형, 원형, 및 타원형으로 이루어진 군으로부터의 하나 이상을 포함하는 연마 물품.23. The article of claim 21, wherein the cross-sectional shape of the projecting member in the horizontal direction comprises at least one of the group consisting of triangular, rectangular, rectangular, rhombic, pentagonal, hexagonal, circular, and elliptical. 제21항에 있어서, 돌출 부재의 상부 표면이 수평 방향에서의 돌출 부재의 단면에 평행한 연마 물품.The article of claim 21, wherein the upper surface of the projecting member is parallel to the cross-section of the projecting member in the horizontal direction. 제21항에 있어서, 돌출 부재가 피라미드형 구조를 갖는 연마 물품.22. The article of claim 21, wherein the projecting member has a pyramid-like structure. 제21항에 있어서, 돌출 부재가 10 내지 500 μm의 높이를 갖는 연마 물품.The abrasive article of claim 21, wherein the projecting member has a height of 10 to 500 μm. 제21항에 있어서, 복수의 돌출 부재가 동일한 높이를 갖는 연마 물품.22. The article of claim 21, wherein the plurality of projecting members have the same height. 제21항에 있어서, 복수의 돌출 부재가 규칙적인 배열을 갖는 연마 물품.22. The article of claim 21, wherein the plurality of projecting members have a regular arrangement. 제21항에 있어서, 돌출 부재가 배치된 배킹(backing) 층을 추가로 포함하는 연마 물품.22. The article of claim 21, further comprising a backing layer on which the projecting members are disposed. 제28항에 있어서, 배킹 층용 재료가 폴리에틸렌 필름, 폴리에스테르 직포, 블렌디드 직포, 면 직포 및 종이로 이루어진 군으로부터의 하나 이상을 포함하는 연마 물품.29. The article of claim 28, wherein the backing layer material comprises at least one of the group consisting of a polyethylene film, a polyester woven fabric, a blended woven fabric, a cotton woven fabric and a paper. 제28항에 있어서, 프라이머 코팅 층이 돌출 부재와 배킹 층 사이에 포함된 연마 물품.29. The article of claim 28, wherein a primer coating layer is included between the projecting member and the backing layer. 제30항에 있어서, 프라이머 코팅 층용 재료가 폴리우레탄 및 에틸렌/아크릴산 공중합체로 이루어진 군으로부터의 하나 이상을 포함하는 연마 물품.31. The article of claim 30, wherein the material for the primer coating layer comprises at least one of the group consisting of a polyurethane and an ethylene / acrylic acid copolymer. 제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 따른 연마재를 경화시키는 단계를 포함하는 연마 물품의 제조 방법.A method for manufacturing an abrasive article comprising the steps of: curing an abrasive according to any one of claims 1 to 19. 제32항에 있어서, 연마재를 자외광에 의해서 경화시키는 방법.The method according to claim 32, wherein the abrasive is cured by ultraviolet light. 제33항에 있어서, 자외광의 강도가 500 내지 700 와트/데시미터인 방법.The method of claim 33, wherein the intensity of ultraviolet light is 500 to 700 watts / decimeter. 제34항에 있어서, 자외광의 강도가 600 와트/데시미터인 방법.35. The method of claim 34, wherein the intensity of ultraviolet light is 600 watts / decimeter. 제33항에 있어서, 연마재를 경화시키는 단계 전에 연마재를 먼저 배킹 층 상에 배치하는 방법.34. The method of claim 33, wherein the abrasive material is first placed on the backing layer prior to curing the abrasive material. 제36항에 있어서, 배킹 층용 재료가 폴리에틸렌 필름, 폴리에스테르 직포, 블렌디드 직포, 면 직포, 및 종이로 이루어진 군으로부터의 하나 이상을 포함하는 방법.37. The method of claim 36, wherein the backing layer material comprises at least one of the group consisting of a polyethylene film, a polyester woven fabric, a blended woven fabric, a cotton woven fabric, and paper. 제36항에 있어서, 연마재를 배킹 층 상에 배치하는 단계 전에 프라이머 코팅 층을 먼저 배킹 층 상에 배치하는 방법.37. The method of claim 36, wherein the primer coating layer is first placed on the backing layer prior to placing the abrasive on the backing layer. 제38항에 있어서, 프라이머 코팅 층용 재료가 폴리우레탄 및 에틸렌/아크릴산 공중합체로 이루어진 군으로부터의 하나 이상을 포함하는 방법.39. The method of claim 38, wherein the material for the primer coating layer comprises at least one of the group consisting of a polyurethane and an ethylene / acrylic acid copolymer.
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