KR20160091936A - Polyimide precursor composition, polyimide production method, polyimide, polyimide film, and substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 폴리이미드 전구체와 이미다졸계 화합물을 함유하고, 이미다졸계 화합물의 함유량이, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해 4 몰 미만인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 전구체 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a polyimide precursor composition containing a polyimide precursor and an imidazole-based compound, wherein the content of the imidazole-based compound is less than 4 moles per 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor.

Description

폴리이미드 전구체 조성물, 폴리이미드의 제조 방법, 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 및 기판{POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION, POLYIMIDE PRODUCTION METHOD, POLYIMIDE, POLYIMIDE FILM, AND SUBSTRATE}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a polyimide precursor composition, a method for producing polyimide, a polyimide, a polyimide film, and a substrate,

본 발명은, 두께 방향 위상차 (리타데이션) 가 작고, 기계적 특성도 우수하고, 또한 투명성도 우수한 폴리이미드가 얻어지는 폴리이미드 전구체를 함유하는 용액 조성물 (폴리이미드 전구체 조성물), 및 폴리이미드의 제조 방법에 관한 것이다. 또, 본 발명은, 투명성이 우수하고, 두께 방향 위상차가 작고, 기계적 특성도 우수한 폴리이미드, 폴리이미드 필름, 및 기판에도 관한 것이다.The present invention relates to a solution composition (polyimide precursor composition) containing a polyimide precursor capable of obtaining a polyimide having small retardation in the thickness direction (retardation), excellent mechanical properties, and excellent transparency, and a process for producing a polyimide . The present invention also relates to a polyimide, a polyimide film, and a substrate which are excellent in transparency, small in retardation in the thickness direction, and excellent in mechanical properties.

최근, 고도 정보화 사회의 도래에 수반하여, 광 통신 분야의 광 파이버나 광 도파로 등, 표시 장치 분야의 액정 배향막이나 컬러 필터용 보호막 등의 광학 재료의 개발이 진행되고 있다. 특히 표시 장치 분야에서, 유리 기판의 대체로서 경량이고 플렉시블성이 우수한 플라스틱 기판의 검토나, 구부리거나 둥글리거나 하는 것이 가능한 디스플레이의 개발이 활발히 이루어지고 있다. 이 때문에, 그와 같은 용도로 사용할 수 있는, 보다 고성능의 광학 재료가 요구되고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, along with the advent of a highly information-oriented society, optical materials such as optical alignment films for liquid crystal display devices and protective films for color filters, such as optical fibers and optical waveguides in the field of optical communication, have been developed. Particularly in the field of display devices, there has been actively studied a plastic substrate which is lightweight and excellent in flexibility as a substitute for a glass substrate, and development of a display capable of bending or rounding. For this reason, there is a demand for a higher-performance optical material that can be used for such applications.

방향족 폴리이미드는, 분자 내 공액이나 전하 이동 착물의 형성에 의해, 본질적으로 황갈색으로 착색된다. 이 때문에 착색을 억제하는 수단으로서, 예를 들어 분자 내로의 불소 원자의 도입, 주사슬에 대한 굴곡성의 부여, 측사슬로서 벌크한 기의 도입 등에 의해, 분자 내 공액이나 전하 이동 착물의 형성을 저해하여, 투명성을 발현시키는 방법이 제안되어 있다.The aromatic polyimide is essentially colored yellowish brown by the formation of an intramolecular conjugate or a charge transfer complex. Therefore, as means for suppressing coloring, for example, introduction of fluorine atoms into a molecule, imparting flexibility to the main chain, introduction of a bulk group as a side chain, and the like inhibit intramolecular conjugation or formation of a charge transfer complex And a method of expressing transparency has been proposed.

또, 원리적으로 전하 이동 착물을 형성하지 않는 반지환식 또는 전지환식 폴리이미드를 사용함으로써 투명성을 발현시키는 방법도 제안되어 있다. Also, a method of expressing transparency by using a ring-cyclic or battery cyclic polyimide which does not form a charge-transfer complex in principle is also proposed.

예를 들어, 특허문헌 1 ∼ 3 에, 테트라카르복실산 성분으로서 방향족 테트라카르복실산 2 무수물, 디아민 성분으로서 지환식 디아민을 사용한, 투명성이 높은 반지환식 폴리이미드가 개시되어 있다.For example, Patent Documents 1 to 3 disclose a ring-cyclic polyimide having high transparency using an aromatic tetracarboxylic acid dianhydride as a tetracarboxylic acid component and an alicyclic diamine as a diamine component.

또, 예를 들어, 특허문헌 4 ∼ 7 에는, 테트라카르복실산 성분으로서 지환식 테트라카르복실산 2 무수물, 디아민 성분으로서 방향족 디아민을 사용한 여러 가지의, 투명성이 높은 반지환식 폴리이미드가 개시되어 있다.Also, for example, Patent Documents 4 to 7 disclose various ring-cyclic polyimides having high transparency using alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride as the tetracarboxylic acid component and aromatic diamine as the diamine component .

비특허문헌 1 에는, 테트라카르복실산 성분으로서, 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산 2 무수물을 사용한 폴리이미드가 개시되어 있다. 또한, 여기서 사용하고 있는 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산 2 무수물은 6 종류의 입체 이성체를 함유하고 있는 것이 기재되어 있다. 특허문헌 8 에도, 테트라카르복실산 성분으로서, 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산 2 무수물을 사용한 폴리이미드가 개시되어 있다.Non-Patent Document 1 discloses that a tetracarboxylic acid component such as norbornane-2-spiro-a-cyclopentanone-a'-spiro-2'-norbornane-5,5 ' '-Tetracarboxylic acid dianhydride is disclosed. Further, the norbornane-2-spiro-a-cyclopentanone-a'-spiro-2''-norbornane-5,5 '', 6,6 "-tetracarboxylic acid 2 It is described that an anhydride contains six kinds of stereoisomers. Patent Document 8 also discloses that, as a tetracarboxylic acid component, norbornane-2-spiro-a-cyclopentanone-a'-spiro-2'-norbornane-5,5 ' -Tetracarboxylic acid dianhydride. ≪ / RTI >

그러나, 용도에 따라서는, 특히 표시 장치 등의 분야에 있어서는, 투명성이 높은 것에 더하여 두께 방향 위상차를 저하시키는 것이 요망되고 있다. 두께 방향 위상차가 큰 필름을 투과함으로써, 색이 올바르게 표시되지 않는, 색의 번짐이나 시야각이 좁아진다는 문제가 일어나는 경우가 있다. 그 때문에, 특히 표시 장치 등의 분야에 있어서는, 두께 방향 위상차가 작은 폴리이미드 필름이 요구되고 있다.However, depending on the application, in particular, in the fields of display devices and the like, it is desired to lower the retardation in the thickness direction in addition to high transparency. There is a case that the color is not correctly displayed and the blurring of the color or the viewing angle is narrowed due to transmission of a film having a large retardation in the thickness direction. Therefore, in the fields of display devices and the like, a polyimide film having a small retardation in the thickness direction is required.

한편, 특허문헌 9 에는, 폴리이미드 전구체 (폴리아미드산) 에 이미다졸린계 화합물 및/또는 이미다졸계 화합물을 배합하여 이루어지는 도포액을 가열함으로써 형성되어 이루어지는 폴리이미드가 개시되어 있다. 보다 구체적으로는, 실시예 1 에서는, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 2 무수물과 4,4'-디아미노비페닐에테르로부터 얻어지는 폴리아미드산의 용액에 2,4-디메틸이미다졸린을 첨가한 용액을 기판 상에 도포하고, 200 ℃, 1 시간 가열하여, 막두께 1000 Å (0.1 ㎛) 의 방향족 폴리이미드 피막을 얻고 있다. 실시예 2 에서는, 피로멜리트산 2 무수물과 4,4'-디아미노비페닐에테르로부터 얻어지는 폴리아미드산의 용액에 2-에틸이미다졸린 및 1,2-디메틸이미다졸을 첨가한 용액을 기판 상에 도포하고, 150 ℃, 1 시간 가열하여, 막두께 800 Å (0.08 ㎛) 의 방향족 폴리이미드 피막을 얻고 있다. 특허문헌 9 에는, 이미다졸린계 화합물 및/또는 이미다졸계 화합물의 첨가에 의해 다갈색의 현저한 착색은 면하게 되어, 광선 투과율이 높은 투명성이 우수한 액정 표시 소자를 얻는 것이 가능해졌다, 고 기재되어 있다. 그러나, 실시예 1 의 폴리이미드 피막 (액정 배향막) 을 사용한 액정 표시 소자의 파장 400 nm 의 광 투과율은 82 % (폴리이미드 막두께 : 0.1 ㎛), 실시예 2 의 폴리이미드 피막 (액정 배향막) 을 사용한 액정 표시 소자의 파장 400 nm 의 광 투과율은 83 % (폴리이미드 막두께 : 0.08 ㎛) 이고, 이 폴리이미드는 충분한 투명성을 갖는 것은 아니다.On the other hand, Patent Document 9 discloses a polyimide formed by heating a coating liquid formed by blending a polyimide precursor (polyamic acid) with an imidazoline-based compound and / or an imidazole-based compound. More specifically, in Example 1, a solution of polyamic acid obtained from 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride and 4,4'-diaminobiphenyl ether was added with 2,4 -Dimethylimidazoline was coated on the substrate and heated at 200 占 폚 for 1 hour to obtain an aromatic polyimide film having a thickness of 1000 占 (0.1 占 퐉). In Example 2, a solution prepared by adding 2-ethylimidazoline and 1,2-dimethylimidazole to a solution of a polyamic acid obtained from pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminobiphenyl ether was placed on a substrate And heated at 150 占 폚 for 1 hour to obtain an aromatic polyimide film having a film thickness of 800 占 (0.08 占 퐉). Patent Document 9 discloses that the addition of an imidazoline compound and / or an imidazole-based compound prevents significant coloration of brownish brown, thereby making it possible to obtain a liquid crystal display device having high transparency and high light transmittance. However, the liquid crystal display device using the polyimide coating (liquid crystal alignment film) of Example 1 had a light transmittance of 82% (polyimide film thickness: 0.1 占 퐉) and a polyimide coating film (liquid crystal alignment film) of Example 2 at a wavelength of 400 nm The liquid crystal display element used had a light transmittance of 400% at a wavelength of 400 nm (polyimide film thickness: 0.08 占 퐉), and this polyimide does not have sufficient transparency.

또, 투명성이 낮은 방향족 폴리이미드의 제조 방법으로서, 특허문헌 10 에는, 폴리이미드 전구체 수지, 및, 이미다졸, N-메틸이미다졸 등의 폴리이미드 전구체 수지의 경화 촉진제를 유기 극성 용매에 용해한 폴리이미드 전구체 수지 함유 용액을 기재 상에 도포하고, 계속되는 열처리로 건조 및 이미드화에 의한 폴리이미드 수지층의 형성을 280 ∼ 380 ℃ 의 범위 내에서 완결하는 폴리이미드 수지층의 형성 방법이 개시되어 있고, 이들의 경화 촉진제를 사용함으로써, 열선팽창 계수를 낮게 제어할 수 있는 것이 기재되어 있다. 특허문헌 10 에는, 또, 경화 촉진제는, 그 비점이 120 ℃ 를 초과하는 것을 사용하는 것이 바람직하고, 비점이, 열처리의 상한 온도를 초과하지 않는 것을 선택하는 것이 바람직한 것이 기재되어 있고, 비점이, 예를 들어 400 ℃ 이상의 경화 촉진제는, 이미드화 후의 폴리이미드 수지층 중에 잔존하는 비율이 높아져, 폴리이미드 수지층의 기능에 영향을 주는 경향이 있는 것이 기재되어 있다.As a process for producing an aromatic polyimide having low transparency, Patent Document 10 discloses a process for producing a polyimide precursor resin and a polyimide precursor resin such as imidazole, N-methylimidazole and the like, in which a curing accelerator is dissolved in an organic polar solvent A method of forming a polyimide resin layer by applying a solution containing a polyimide precursor resin on a substrate and completing the formation of a polyimide resin layer by drying and imidization in a subsequent heat treatment within a range of 280 to 380 ° C, It is described that by using these curing accelerators, the thermal expansion coefficient can be controlled to be low. Patent Document 10 describes that it is preferable to use a curing accelerator having a boiling point of more than 120 ° C. and to select a curing accelerator having a boiling point that does not exceed the upper limit temperature of the heat treatment, For example, it is described that a curing accelerator having a temperature of 400 占 폚 or higher tends to have an influence on the function of the polyimide resin layer because the proportion of the curing accelerator remaining after the imidization in the polyimide resin layer increases.

일본 공개특허공보 2003-192787호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-192787 일본 공개특허공보 2004-83814호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-83814 일본 공개특허공보 2008-308550호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2008-308550 일본 공개특허공보 2003-168800호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-168800 국제 공개 제2008/146637호International Publication No. 2008/146637 일본 공개특허공보 2002-69179호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2002-69179 일본 공개특허공보 2002-146021호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-146021 국제 공개 제2011/099518호International Publication No. 2011/099518 일본 공개특허공보 소61-267030호Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-267030 일본 공개특허공보 2008-115378호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2008-115378

고분자 논문집, Vol. 68, No. 3, P. 127-131 (2011) Polymer Journal, Vol. 68, No. 3, P. 127-131 (2011)

본 발명은, 이상과 같은 상황을 감안하여 이루어진 것이며, 투명성이 우수한 폴리이미드로서, 동일 조성으로도 두께 방향 위상차가 보다 작은 폴리이미드, 또는, 두께 방향 위상차가 작고, 기계적 특성도 우수하고, 또한 투명성도 우수한 폴리이미드가 얻어지는 폴리이미드 전구체 조성물 (폴리이미드 전구체를 함유하는 용액 조성물), 및 폴리이미드의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances and has as its object to provide a polyimide excellent in transparency having a smaller retardation in the thickness direction even in the same composition or a polyimide having a small retardation in the thickness direction, (A solution composition containing a polyimide precursor) and a process for producing a polyimide, which can obtain a polyimide excellent also in the properties of a polyimide precursor.

본 발명은, 이하의 각 항에 관한 것이다.The present invention relates to each of the following items.

1. 하기 화학식 (1) 로 나타내는 반복 단위, 또는 하기 화학식 (2) 로 나타내는 반복 단위를 함유하는 폴리이미드 전구체와, 1. A polyimide precursor comprising a polyimide precursor containing a repeating unit represented by the following formula (1) or a repeating unit represented by the following formula (2)

이미다졸계 화합물을 함유하고,Containing compound,

이미다졸계 화합물의 함유량이, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해 4 몰 미만인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 전구체 조성물.Wherein the content of the imidazole compound is less than 4 moles relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 중, X1 은 지환 구조를 갖는 4 가의 기이며, Y1 은 방향족 고리를 갖는 2 가의 기이며, R1, R2 는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 탄소수 3 ∼ 9 의 알킬실릴기이다.)(Wherein X < 1 > Is a quadrivalent group having an alicyclic structure, Y 1 And R < 2 > are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl silyl group having 3 to 9 carbon atoms.

[화학식 2](2)

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 중, X2 는 방향족 고리를 갖는 4 가의 기이며, Y2 는 지환 구조를 갖는 2 가의 기이며, R3, R4 는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 탄소수 3 ∼ 9 의 알킬실릴기이다.)(Wherein X 2 is a tetravalent group having an aromatic ring, Y 2 is a divalent group having an alicyclic structure, R 3 and R 4 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 9 < / RTI >

2. 이 폴리이미드 전구체 조성물로부터 얻어지는 폴리이미드가, 두께 10 ㎛ 의 필름에서의 파장 400 nm 의 광 투과율이 75 % 이상인 것을 특징으로 하는 상기 항 1 에 기재된 폴리이미드 전구체 조성물.2. The polyimide precursor composition according to item 1, wherein the polyimide obtained from the polyimide precursor composition has a light transmittance of at least 75% at a wavelength of 400 nm in a film having a thickness of 10 占 퐉.

3. 상기 이미다졸계 화합물의 함유량이, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해 0.05 몰 이상 2 몰 이하인 것을 특징으로 하는 상기 항 1 또는 2 에 기재된 폴리이미드 전구체 조성물.3. The polyimide precursor composition according to item 1 or 2 above, wherein the content of the imidazole compound is 0.05 mol or more and 2 mol or less per mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

4. 상기 이미다졸계 화합물의 1 기압에 있어서의 비점이 340 ℃ 미만인 것을 특징으로 하는 상기 항 1 ∼ 3 중 어느 한 항에 기재된 폴리이미드 전구체 조성물.4. The polyimide precursor composition according to any one of items 1 to 3, wherein the imidazole compound has a boiling point of less than 340 占 폚 at 1 atm.

5. 상기 이미다졸계 화합물이, 1,2-디메틸이미다졸, 1-메틸이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 이미다졸, 또는 벤조이미다졸 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 상기 항 1 ∼ 4 중 어느 한 항에 기재된 폴리이미드 전구체 조성물.Wherein the imidazole compound is at least one compound selected from the group consisting of 1,2-dimethylimidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, imidazole, And the polyimide precursor composition according to any one of claims 1 to 4.

6. 상기 항 1 ∼ 5 중 어느 한 항에 기재된 폴리이미드 전구체 조성물을, 최고 가열 온도 350 ℃ 초과에서 가열 처리하여, 폴리이미드 전구체를 이미드화하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드의 제조 방법.6. A process for producing a polyimide precursor composition, characterized by heat-treating the polyimide precursor composition according to any one of items 1 to 5 at a maximum heating temperature of 350 DEG C to imidize the polyimide precursor.

7. 상기 항 1 ∼ 5 중 어느 한 항에 기재된 폴리이미드 전구체 조성물을 기재 상에 도포하는 공정과, 7. A process for producing a polyimide precursor composition comprising the steps of applying the polyimide precursor composition described in any one of items 1 to 5 on a substrate,

기재 상의 폴리이미드 전구체 조성물을, 최고 가열 온도 350 ℃ 초과에서 가열 처리하여, 폴리이미드 전구체를 이미드화하는 공정A step of heat-treating the polyimide precursor composition on the substrate at a maximum heating temperature of 350 DEG C to imidize the polyimide precursor

을 갖는 것을 특징으로 하는 상기 항 6 에 기재된 폴리이미드의 제조 방법.Wherein the polyimide precursor is a polyimide precursor.

8. 상기 가열 처리의 최고 가열 온도가 400 ℃ 를 초과하는 것을 특징으로 하는 상기 항 6 또는 7 에 기재된 폴리이미드의 제조 방법.8. The process for producing a polyimide according to item 6 or 7, wherein the maximum heating temperature of the heat treatment exceeds 400 占 폚.

9. 상기 항 6 ∼ 8 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 폴리이미드.9. A polyimide produced by the method according to any one of items 6 to 8 above.

10. 두께 10 ㎛ 의 필름에서의 파장 400 nm 의 광 투과율이 75 % 이상인 것을 특징으로 하는 상기 항 9 에 기재된 폴리이미드.10. The polyimide according to item 9, characterized in that the light transmittance at a wavelength of 400 nm in a film having a thickness of 10 mu m is 75% or more.

11. 상기 항 6 ∼ 8 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 폴리이미드 필름.11. A polyimide film produced by the method according to any one of items 6 to 8 above.

12. 상기 항 9 또는 10 에 기재된 폴리이미드, 또는 상기 항 11 에 기재된 폴리이미드 필름을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용, 터치 패널용, 또는 태양 전지용의 기판.12. A substrate for a display, a touch panel, or a solar cell, which comprises the polyimide described in the above item 9 or 10, or the polyimide film described in the above item 11.

본 발명에 의해, 투명성이 우수한 폴리이미드로서, 동일 조성으로도 두께 방향 위상차가 보다 작은 폴리이미드, 또는, 두께 방향 위상차가 작고, 기계적 특성도 우수하고, 또한 투명성도 우수한 폴리이미드가 얻어지는 폴리이미드 전구체 조성물 (폴리이미드 전구체를 함유하는 용액 조성물), 및 폴리이미드의 제조 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a polyimide excellent in transparency, a polyimide having a smaller retardation in the thickness direction even in the same composition, or a polyimide precursor having an excellent mechanical property and a high transparency, A composition (a solution composition containing a polyimide precursor), and a process for producing a polyimide.

본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물로부터 얻어지는 폴리이미드 (본 발명의 폴리이미드) 는, 투명성이 높고, 또한 두께 방향 위상차가 작고, 또, 저선열팽창 계수로서 미세한 회로의 형성이 용이하고, 디스플레이 용도 등의 기판을 형성하기 위해서 바람직하게 사용할 수 있다. 또, 본 발명의 폴리이미드는, 터치 패널용, 태양 전지용의 기판을 형성하기 위해서도 바람직하게 사용할 수 있다.The polyimide (polyimide of the present invention) obtained from the polyimide precursor composition of the present invention has a high transparency, a small retardation in the thickness direction, a low thermal expansion coefficient, and is easy to form a fine circuit. Can be preferably used. The polyimide of the present invention can also be preferably used for forming a substrate for a touch panel or a solar cell.

본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물은, 상기 화학식 (1) 로 나타내는 반복 단위, 또는 상기 화학식 (2) 로 나타내는 반복 단위 중 적어도 1 종을 함유하는 폴리이미드 전구체와 이미다졸계 화합물을 함유하고, 이미다졸계 화합물의 함유량은, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해 4 몰 미만이다.The polyimide precursor composition of the present invention contains a polyimide precursor and an imidazole-based compound containing at least one of repeating units represented by the above-mentioned formula (1) or repeating units represented by the above-mentioned formula (2) The content of the sol-based compound is less than 4 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

상기 화학식 (1) 로 나타내는 반복 단위, 또는 상기 화학식 (2) 로 나타내는 반복 단위 중 적어도 1 종을 함유하는 폴리이미드 전구체로부터 얻어지는 폴리이미드, 즉 반지환식 폴리이미드는, 투명성이 높다. 이와 같은 투명성이 높은 폴리이미드의 경우, 착색의 요인이 될 수 있는 첨가물의 사용은 선호되지 않는다. 그러나, 이미다졸계 화합물을, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해 4 몰 미만, 바람직하게는 0.05 몰 이상 2 몰 이하의 비율로, 폴리이미드 전구체 조성물에 첨가함으로써, 높은 투명성을 유지한 채로, 두께 방향 위상차가 작은 폴리이미드가 얻어진다. 즉, 본 발명에 의하면, 동일 조성의 폴리이미드 전구체로부터, 높은 투명성을 유지하면서, 두께 방향 위상차가 보다 작은 폴리이미드가 얻어진다. 또, 1 기압에 있어서의 비점이 340 ℃ 미만인 이미다졸계 화합물을 사용한 경우, 얻어지는 폴리이미드의 투명성이 한층 더 향상되는 경우가 있다.The polyimide obtained from the polyimide precursor containing the repeating unit represented by the above-mentioned formula (1) or the repeating unit represented by the above formula (2), that is, the ring-cyclic polyimide has high transparency. In the case of such a highly transparent polyimide, the use of additives which may cause coloring is not preferred. However, by adding the imidazole-based compound to the polyimide precursor composition at a ratio of less than 4 mol, preferably from 0.05 mol to 2 mol, per mol of the repeating unit of the polyimide precursor, A polyimide having a small retardation in the thickness direction can be obtained. That is, according to the present invention, a polyimide having a retardation in thickness direction can be obtained from a polyimide precursor having the same composition while maintaining high transparency. When an imidazole compound having a boiling point of less than 340 占 폚 at 1 atmosphere is used, the transparency of the obtained polyimide may be further improved.

또한, 투명성이 높은 폴리이미드를 얻기 위해서는, 폴리이미드 전구체를 비교적 저온도에서 가열 처리하여 이미드화를 완료하는 편이 바람직하다고 일반적으로 생각되고 있지만, 본 발명에 의하면, 최고 가열 온도가 350 ℃ 를 초과하는, 특히 바람직하게는 400 ℃ 를 초과하는 가열 처리에 의해 폴리이미드 전구체를 이미드화해도, 투명성이 높은 폴리이미드를 제조할 수 있다. 그 결과, 이미드화를 위한 가열 처리의 최고 가열 온도를, 350 ℃ 를 초과하는 고온, 특히 바람직하게는 400 ℃ 를 초과하는 고온으로 하는 것이 가능하게 되므로, 얻어지는 폴리이미드의 기계적 특성이 향상된다. 즉, 본 발명에 의하면, 투명성이 높고, 두께 방향 위상차가 작고, 기계적 특성도 우수한 폴리이미드가 얻어진다.In order to obtain polyimide with high transparency, it is generally considered to be preferable to heat-treat the polyimide precursor at a relatively low temperature to complete imidization. According to the present invention, however, , Particularly preferably 400 占 폚 or more, even if the polyimide precursor is imidized by heating treatment. As a result, since the maximum heating temperature of the heat treatment for imidization can be set to a high temperature exceeding 350 캜, particularly preferably to a high temperature exceeding 400 캜, the mechanical properties of the obtained polyimide are improved. That is, according to the present invention, polyimide having high transparency, small retardation in the thickness direction, and excellent mechanical properties can be obtained.

상기와 같이, 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물은, 상기 화학식 (1) 로 나타내는 반복 단위, 또는 상기 화학식 (2) 로 나타내는 반복 단위 중 적어도 1 종을 함유하는 폴리이미드 전구체를 함유한다.As described above, the polyimide precursor composition of the present invention contains a polyimide precursor containing at least one of repeating units represented by the above-mentioned formula (1) or repeating units represented by the above formula (2).

상기 화학식 (1) 중의 X1 로서는, 탄소수가 4 ∼ 40 의 지환 구조를 갖는 4 가의 기가 바람직하고, Y1 로서는, 탄소수가 6 ∼ 40 의 방향족 고리를 갖는 2 가의 기가 바람직하다.X 1 in the above formula (1) is preferably a tetravalent group having an alicyclic structure having 4 to 40 carbon atoms, and Y 1 is preferably a divalent group having an aromatic ring having 6 to 40 carbon atoms.

상기 화학식 (1) 의 반복 단위를 부여하는 테트라카르복실산 성분으로서는, 예를 들어, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산, 이소프로필리덴디페녹시비스프탈산, 시클로헥산-1,2,4,5-테트라카르복실산,[1,1'-비(시클로헥산)]-3,3',4,4'-테트라카르복실산,[1,1'-비(시클로헥산)]-2,3,3',4'-테트라카르복실산,[1,1'-비(시클로헥산)]-2,2',3,3'-테트라카르복실산, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 4,4'-(프로판-2,2-디일)비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 4,4'-옥시비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 4,4'-티오비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 4,4'-술포닐비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 4,4'-(디메틸실란디일)비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 4,4'-(테트라플루오로프로판-2,2-디일)비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 옥타하이드로펜타렌-1,3,4,6-테트라카르복실산, 비시클로[2.2.1]헵탄-2,3,5,6-테트라카르복실산, 6-(카르복시메틸)비시클로[2.2.1]헵탄-2,3,5-트리카르복실산, 비시클로[2.2.2]옥탄-2,3,5,6-테트라카르복실산, 비시클로[2.2.2]옥타-5-엔-2,3,7,8-테트라카르복실산, 트리시클로[4.2.2.02,5]데칸-3,4,7,8-테트라카르복실산, 트리시클로[4.2.2.02,5]데카-7-엔-3,4,9,10-테트라카르복실산, 9-옥사트리시클로[4.2.1.02,5]노난-3,4,7,8-테트라카르복실산, 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난5,5'',6,6''-테트라카르복실산, (4arH,8acH)-데카하이드로-1t,4t : 5c,8c-디메타노나프탈렌-2c,3c,6c,7c-테트라카르복실산, (4arH,8acH)-데카하이드로-1t,4t : 5c,8c-디메타노나프탈렌-2t,3t,6c,7c-테트라카르복실산이나, 이들의 테트라카르복실산 2 무수물, 테트라카르복실산실릴에스테르, 테트라카르복실산에스테르, 테트라카르복실산클로라이드 등의 유도체를 들 수 있다. 테트라카르복실산 성분은, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.Examples of the tetracarboxylic acid component imparting the repeating unit of the above formula (1) include 1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic acid, isopropylidenediphenoxy bisphthalic acid, cyclohexane-1 , 2,4,5-tetracarboxylic acid, [1,1'-non (cyclohexane)] -3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid, [1,1'- )] - 2,3,3 ', 4'-tetracarboxylic acid, [1,1'-non (cyclohexane)] - 2,2', 3,3'-tetracarboxylic acid, (Cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4 '- (propane-2,2-diyl) bis (cyclohexane- (Cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4'-thiobis (cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4'-sulfonylbis (cyclohexane- Dicarboxylic acid), 4,4 '- (dimethylsilanediyl) bis (cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4' - (tetrafluoropropane- -Diyl) bis (cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), octahydropentalene-1,3,4,6-tetra Heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, 6- (carboxymethyl) bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5-tricarboxylic acid Acid, bicyclo [2.2.2] octane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, bicyclo [2.2.2] octa-5-ene-2,3,7,8-tetracarboxylic acid, Tricyclo [4.2.2.02,5] decane-3,4,7,8-tetracarboxylic acid, tricyclo [4.2.2.02,5] deca-7-ene-3,4,9,10-tetracarboxylic Tetracarboxylic acid, norbornane-2-spiro-a-cyclopentanone-a'-spiro-2 ', 4'- '-Norbornane 5,5' ', 6,6 "-tetracarboxylic acid, (4arH, 8acH) -decahydro-1t, 4t: 5c, 8c-dimethanonaphthalene-2c, 3c, 6c, Tetracarboxylic acid, (4arH, 8acH) -decahydro-1t, 4t: 5c, 8c-dimethanonaphthalene-2t, 3t, 6c, 7c-tetracarboxylic acid or their tetracarboxylic acid 2 Anhydrides, tetracarboxylic acid silyl esters, tetracarboxylic acid esters , It may be a derivative, such as tetracarboxylic acid chloride. The tetracarboxylic acid component may be used singly or in combination of a plurality of species.

상기 화학식 (1) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분으로서는, 예를 들어, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 벤지딘, 3,3'-디아미노-비페닐, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 3,3'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, m-톨리딘, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드, 3,4'-디아미노벤즈아닐리드, N,N'-비스(4-아미노페닐)테레프탈아미드, N,N'-p-페닐렌비스(p-아미노벤즈아미드), 4-아미노페녹시-4-디아미노벤조에이트, 비스(4-아미노페닐)테레프탈레이트, 비페닐-4,4'-디카르복실산비스(4-아미노페닐)에스테르, p-페닐렌비스(p-아미노벤조에이트), 비스(4-아미노페닐)-[1,1'-비페닐]-4,4'-디카르복실레이트, [1,1'-비페닐]-4,4'-디일비스(4-아미노벤조에이트), 4,4'-옥시디아닐린, 3,4'-옥시디아닐린, 3,3'-옥시디아닐린, p-메틸렌비스(페닐렌디아민), 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)비페닐, 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 비스(4-아미노페닐)술폰, 3,3'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 3,3'-비스((아미노페녹시)페닐)프로판, 2,2'-비스(3-아미노-4-하이드록시페닐)헥사플루오로프로판, 비스(4-(4-아미노페녹시)디페닐)술폰, 비스(4-(3-아미노페녹시)디페닐)술폰, 옥타플루오로벤지딘, 3,3'-디메톡시-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디클로로-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디플루오로-4,4'-디아미노비페닐, 2술폰술폰, 4-비스(4-아미노아닐리노)-6-아미노-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(4-아미노아닐리노)-6-메틸아미노-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(4-아미노아닐리노)-6-에틸아미노-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(4-아미노아닐리노)-6-아닐리노-1,3,5-트리아진을 들 수 있다. 디아민 성분은, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.Examples of the diamine component giving the repeating unit of the above formula (1) include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, benzidine, 3,3'-diamino-biphenyl, 2,2'-bis (Trifluoromethyl) benzidine, 3,3'-bis (trifluoromethyl) benzidine, m-tolidine, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,4'- diaminobenzanilide, N, N (4-aminophenyl) terephthalamide, N, N'-p-phenylenebis (p- aminobenzamide), 4-aminophenoxy-4-diaminobenzoate, bis (P-aminobenzoate), bis (4-aminophenyl) - [1,1 '] thiophene, terephthalate, biphenyl-4,4'- dicarboxylic acid bis -Biphenyl] -4,4'-dicarboxylate, [1,1'-biphenyl] -4,4'-diyl bis (4-aminobenzoate), 4,4'-oxydianiline, 3 , 4'-oxydianiline, 3,3'-oxydianiline, p-methylenebis (phenylenediamine), 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, Bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) Bis (4-aminophenyl) sulfone, 3, 4-aminophenyl) sulfone, 2, , 3'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 3,3'-bis ((aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2'-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane , Bis (4- (4-aminophenoxy) diphenyl) sulfone, bis (4- (3-aminophenoxy) diphenyl) sulfone, octafluorobenzidine, 3,3'-dimethoxy- Diaminobiphenyl, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminobiphenyl, 2-sulfone sulfone, 4- 4-aminoanilino) -6-amino-1,3,5-triazine, 2,4-bis (4-aminoanilino) -6- -Bis (4-aminoanilino) -6-ethylamino-1,3,5-triazine, 2,4-bis (4- Mino anilino) and the Lino-1,3,5-triazine-6-not. The diamine component may be used singly or in combination of plural kinds.

이 상기 화학식 (1) 로 나타내는 반복 단위 중 적어도 1 종을 함유하는 폴리이미드 전구체는, 상기 화학식 (1) 로 나타내는 반복 단위 이외의, 다른 반복 단위를 함유할 수 있다. 다른 반복 단위를 부여하는 테트라카르복실산 성분 및 디아민 성분으로서는, 특별히 한정되지 않고, 다른 공지된 방향족 또는 지방족 테트라카르복실산류, 공지된 방향족 또는 지방족 디아민류 모두 사용할 수 있다. 다른 테트라카르복실산 성분도, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다. 다른 디아민 성분도, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.The polyimide precursor containing at least one of the repeating units represented by the above formula (1) may contain other repeating units other than the repeating unit represented by the above formula (1). The tetracarboxylic acid component and the diamine component for imparting other repeating units are not particularly limited and other known aromatic or aliphatic tetracarboxylic acids, known aromatic or aliphatic diamines can be used. Other tetracarboxylic acid components may be used alone, or a plurality of species may be used in combination. The other diamine components may be used singly or in combination of plural kinds.

상기 화학식 (1) 로 나타내는 반복 단위 이외의, 다른 반복 단위의 함유량은, 전체 반복 단위에 대해, 바람직하게는 30 몰% 이하 또는 30 몰% 미만, 보다 바람직하게는 20 몰% 이하, 더욱 바람직하게는 10 몰% 이하인 것이 바람직하다.The content of other repeating units other than the repeating unit represented by the above formula (1) is preferably 30 mol% or less, or 30 mol% or less, more preferably 20 mol% or less, Is preferably 10 mol% or less.

상기 화학식 (2) 중의 X2 로서는, 탄소수가 6 ∼ 40 의 방향족 고리를 갖는 4 가의 기가 바람직하고, Y2 로서는, 탄소수가 4 ∼ 40 의 지환 구조를 갖는 2 가의 기가 바람직하다.X 2 in the formula (2) is preferably a tetravalent group having an aromatic ring having 6 to 40 carbon atoms, and Y 2 is preferably a divalent group having an alicyclic structure having 4 to 40 carbon atoms.

상기 화학식 (2) 의 반복 단위를 부여하는 테트라카르복실산 성분으로서는, 예를 들어, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판, 4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카르복실산, 피로멜리트산, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산, 4,4'-옥시디프탈산, 비스(3,4-디카르복시페닐)술폰 2 무수물, m-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실산 2 무수물, p-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실산 2 무수물, 비스카르복시페닐디메틸실란, 비스디카르복시페녹시디페닐술파이드, 술포닐디프탈산이나, 이들의 테트라카르복실산 2 무수물, 테트라카르복실산실릴에스테르, 테트라카르복실산에스테르, 테트라카르복실산클로라이드 등의 유도체를 들 수 있다. 테트라카르복실산 성분은, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.Examples of the tetracarboxylic acid component for imparting the repeating unit of the above formula (2) include 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane, 4- (2,5-dioxo Yl) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic acid, pyromellitic acid, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid , 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3,3', 4'-biphenyltetracarboxylic acid, 4,4'-oxydiphthalic acid, bis (3,4- Dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, m-terphenyl-3,4,3 ', 4'-tetracarboxylic acid dianhydride, p-terphenyl-3,4,3'4'-tetracarboxylic acid 2 A tetracarboxylic acid dianhydride, a tetracarboxylic acid silyl ester, a tetracarboxylic acid ester, a tetracarboxylic acid chloride or the like can be used as the anhydride, biscarboxyphenyldimethylsilane, bisdicarboxyphenoxydiphenylsulfide and sulfonyldiphthalic acid. And derivatives thereof. The tetracarboxylic acid component may be used singly or in combination of a plurality of species.

상기 화학식 (2) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분으로서는, 예를 들어, 1,4-디아미노시클로헥산, 1,4-디아미노-2-메틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-에틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-n-프로필시클로헥산, 1,4-디아미노-2-이소프로필시클로헥산, 1,4-디아미노-2-n-부틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-이소부틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-sec-부틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-tert-부틸시클로헥산, 1,2-디아미노시클로헥산, 1,3-디아미노시클로부탄, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 디아미노비시클로헵탄, 디아미노메틸비시클로헵탄, 디아미노옥시비시클로헵탄, 디아미노메틸옥시비시클로헵탄, 이소포론디아민, 디아미노트리시클로데칸, 디아미노메틸트리시클로데칸, 비스(아미노시클로헥실)메탄, 비스(아미노시클로헥실)이소프로필리덴6,6'-비스(3-아미노페녹시)-3,3,3',3'-테트라메틸-1,1'-스피로비인단, 6,6'-비스(4-아미노페녹시)-3,3,3',3'-테트라메틸-1,1'-스피로비인단을 들 수 있다. 디아민 성분은, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.Examples of the diamine component giving the repeating unit of the above formula (2) include 1,4-diaminocyclohexane, 1,4-diamino-2-methylcyclohexane, 1,4- 1,4-diamino-2-n-propylcyclohexane, 1,4-diamino-2-n-propylcyclohexane, 1,4-diamino-2-sec-butylcyclohexane, 1,4-diamino-2-tert-butylcyclohexane, 1,2-diaminocyclohexane , 1,3-diaminocyclobutane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, diaminobicycloheptane, diaminomethylbicycloheptane, diaminooxy (Aminocyclohexyl) methane, bis (aminocyclohexyl) isopropylidene 6, bis (aminocyclohexyl) aminocycloheptane, diaminocyclododecane, Bis (3-aminophenoxy) -3,3,3 ', 3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane, 6,6'-bis 3,3 ', 3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane. The diamine component may be used singly or in combination of plural kinds.

이 상기 화학식 (2) 로 나타내는 반복 단위 중 적어도 1 종을 함유하는 폴리이미드 전구체는, 상기 화학식 (2) 로 나타내는 반복 단위 이외의, 다른 반복 단위를 함유할 수 있다. 다른 반복 단위를 부여하는 테트라카르복실산 성분 및 디아민 성분으로서는, 특별히 한정되지 않고, 다른 공지된 방향족 또는 지방족 테트라카르복실산류, 공지된 방향족 또는 지방족 디아민류 모두 사용할 수 있다. 다른 테트라카르복실산 성분도, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다. 다른 디아민 성분도, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.The polyimide precursor containing at least one of the repeating units represented by the above formula (2) may contain other repeating units other than the repeating unit represented by the above formula (2). The tetracarboxylic acid component and the diamine component for imparting other repeating units are not particularly limited and other known aromatic or aliphatic tetracarboxylic acids, known aromatic or aliphatic diamines can be used. Other tetracarboxylic acid components may be used alone, or a plurality of species may be used in combination. The other diamine components may be used singly or in combination of plural kinds.

상기 화학식 (2) 로 나타내는 반복 단위 이외의, 다른 반복 단위의 함유량은, 전체 반복 단위에 대해, 바람직하게는 30 몰% 이하 또는 30 몰% 미만, 보다 바람직하게는 20 몰% 이하, 더욱 바람직하게는 10 몰% 이하인 것이 바람직하다.The content of other repeating units other than the repeating units represented by the above-mentioned general formula (2) is preferably 30 mol% or less, or 30 mol% or less, more preferably 20 mol% or less, Is preferably 10 mol% or less.

폴리이미드 전구체는, 상기 화학식 (1) 로 나타내는 반복 단위의 적어도 1 종과 상기 화학식 (2) 로 나타내는 반복 단위의 적어도 1 종을 함유하는 것이어도 된다. 그 경우도, 상기 화학식 (1) 및 (2) 로 나타내는 반복 단위 이외의, 다른 반복 단위의 함유량은, 전체 반복 단위에 대해, 바람직하게는 30 몰% 이하 또는 30 몰% 미만, 보다 바람직하게는 20 몰% 이하, 더욱 바람직하게는 10 몰% 이하인 것이 바람직하다.The polyimide precursor may contain at least one repeating unit represented by the above-mentioned formula (1) and at least one repeating unit represented by the above-mentioned formula (2). In this case, the content of other repeating units other than the repeating units represented by the above-mentioned formulas (1) and (2) is preferably 30 mol% or less or 30 mol% or less, 20 mol% or less, more preferably 10 mol% or less.

어느 실시양태에 있어서는, 폴리이미드 전구체로서는, 예를 들어, 하기 화학식 (1-1) 로 나타내는 반복 단위를 함유하는 폴리이미드 전구체가 바람직하고, 하기 화학식 (1-2) 및 하기 화학식 (1-3) 으로 나타내는 반복 단위를 적어도 1 종 함유하고, 화학식 (1-2) 및 화학식 (1-3) 으로 나타내는 반복 단위의 합계 함유량이, 전체 반복 단위에 대해, 80 몰% 이상인 폴리이미드 전구체가 보다 바람직하다.In one embodiment, the polyimide precursor is preferably a polyimide precursor containing a repeating unit represented by the following formula (1-1), and is preferably a polyimide precursor represented by the following formula (1-2) and the following formula 1-3 ), More preferably a polyimide precursor having a total content of repeating units represented by formulas (1-2) and (1-3) of 80 mol% or more with respect to all repeating units Do.

[화학식 3](3)

Figure pct00003
Figure pct00003

(식 중, A 는 방향족 고리를 갖는 2 가의 기이며, R1, R2 는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 탄소수 3 ∼ 9 의 알킬실릴기이다.)(Wherein A is a divalent group having an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms.)

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

(식 중, A 는 방향족 고리를 갖는 2 가의 기이며, R1, R2 는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 탄소수 3 ∼ 9 의 알킬실릴기이다.)(Wherein A is a divalent group having an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms.)

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

(식 중, A 는 방향족 고리를 갖는 2 가의 기이며, R1, R2 는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 탄소수 3 ∼ 9 의 알킬실릴기이다.)(Wherein A is a divalent group having an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms.)

단, 상기 화학식 (1-1), 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 은, 2 개의 노르보르난 고리 (비시클로[2.2.1]헵탄) 의 5 위치 또는 6 위치의 일방의 산기가 아미노기와 반응하여 아미드 결합 (-CONH-) 을 형성하고 있고, 일방이 아미드 결합을 형성하고 있지 않은 -COOR1 로 나타내는 기, 또는 -COOR2 로 나타내는 기인 것을 나타낸다. 즉, 상기 화학식 (1-1), 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 에는, 4 개의 구조 이성체, 즉 (i) 5 위치에 -COOR1 로 나타내는 기를, 6 위치에 -CONH- 로 나타내는 기를 가지며, 5'' 위치에 -COOR2 로 나타내는 기를, 6'' 위치에 -CONH-A- 로 나타내는 기를 갖는 것, (ii) 6 위치에 -COOR1 로 나타내는 기를, 5 위치에 -CONH- 로 나타내는 기를 가지며, 5'' 위치에 -COOR2 로 나타내는 기를, 6'' 위치에 -CONH-A- 로 나타내는 기를 갖는 것, (iii) 5 위치에 -COOR1 로 나타내는 기를, 6 위치에 -CONH- 로 나타내는 기를 가지며, 6'' 위치에 -COOR2 로 나타내는 기를, 5'' 위치에 -CONH-A- 로 나타내는 기를 갖는 것, (iv) 6 위치에 -COOR1 로 나타내는 기를, 5 위치에 -CONH- 로 나타내는 기를 가지며, 6'' 위치에 -COOR2 로 나타내는 기를, 5'' 위치에 -CONH-A- 로 나타내는 기를 갖는 것 모두가 포함된다.In the above formulas (1-1), (1-2) and (1-3), the 5th or 6th position of two norbornane rings (bicyclo [2.2.1] heptane) An acid group of one side reacts with an amino group to form an amide bond (-CONH-), a group represented by -COOR 1 in which one side does not form an amide bond, or a group represented by -COOR 2 . (I) the group represented by -COOR 1 at the 5-position is substituted at the 6-position with the group represented by -COOR 1 in the formula (1-1), the formula (1-2) and the formula CONH-, a group represented by -COOR 2 at the 5 'position and a group represented by -CONH-A- at the 6' position, (ii) a group represented by -COOR 1 at the 6-position, to have a group represented by -CONH-, "a group represented by -COOR 2 in position, 6 ', 5''having a group represented by -CONH-A- in position, (iii) a group represented by -COOR 1 in the 5 position, having a group represented by -CONH- position 6, 6 'having' a group represented by -COOR 2 in position, the 5 'group represented by -CONH-A- on' position, (iv) represented by -COOR 1 in the 6-position Group having a group represented by -CONH- at the 5-position, a group represented by -COOR 2 at the 6 '' position and -CONH-A- at the 5 '-position.

또한, 폴리이미드 전구체는, A 가 하기 화학식 (1-A) 로 나타내는 기인 화학식 (1-1) 로 나타내는 반복 단위, 보다 바람직하게는 A 가 하기 화학식 (1-A) 로 나타내는 기인 화학식 (1-2) 및/또는 화학식 (1-3) 으로 나타내는 반복 단위를 적어도 1 종 함유하는 것이 바람직하다.The polyimide precursor is preferably a repeating unit represented by the formula (1-1) wherein A is a group represented by the following formula (1-A), more preferably a repeating unit represented by the formula (1-A) 2) and / or the repeating unit represented by the formula (1-3).

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

(식 중, m 은 0 ∼ 3 의 정수를, n 은 0 ∼ 3 의 정수를 각각 독립적으로 나타낸다. V, U, T 는 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기, 트리플루오로메틸기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종을 나타내고, Z, W 는 각각 독립적으로 직접 결합, 또는 식 : -NHCO-, -CONH-, -COO-, -OCO- 로 나타내는 기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종을 나타낸다.)(Wherein m is an integer of 0 to 3 and n is an integer of 0 to 3. V, U, and T are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a methyl group, and a trifluoromethyl group Z and W each independently represent a direct bond or a group selected from the group consisting of groups represented by the formula: -NHCO-, -CONH-, -COO-, and -OCO-.

바꾸어 말하면, 어느 실시양태에 있어서는, 폴리이미드 전구체는, 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등, 보다 바람직하게는 trans-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등 및/또는 cis-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등 (테트라카르복실산류 등이란, 테트라카르복실산과 테트라카르복실산 2 무수물, 테트라카르복실산실릴에스테르, 테트라카르복실산에스테르, 테트라카르복실산클로라이드 등의 테트라카르복실산 유도체를 나타낸다) 을 함유하는 테트라카르복실산 성분과 방향족 고리를 갖는 디아민 성분, 보다 바람직하게는 A 가 상기 화학식 (1-A) 로 나타내는 기인 화학식 (1-1), 화학식 (1-2) 또는 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분을 함유하는 디아민 성분으로부터 얻어지는 폴리이미드 전구체이다.In other words, in some embodiments, the polyimide precursor is selected from the group consisting of norbornane-2-spiro-a-cyclopentanone-a'-spiro- '' -Tetracarboxylic acids and the like, more preferably trans-endo-endo-norbornane-2-spiro-a-cyclopentanone- ', 6,6' '- tetracarboxylic acids and / or cis-endo-endo-norbornane-2-spiro-a-cyclopentanone-a'-spiro- , 5 '', 6,6 '' - tetracarboxylic acids (such as tetracarboxylic acids and the like, tetracarboxylic acid and tetracarboxylic acid dianhydride, tetracarboxylic acid silylester, tetracarboxylic acid ester, A tetracarboxylic acid component containing a tetracarboxylic acid derivative such as a tetracarboxylic acid chloride, and a tetracarboxylic acid derivative such as a tetracarboxylic acid chloride, and a diamine component having an aromatic ring, more preferably a group represented by the formula (1-A) Formula (1-1), a polyamic acid obtained from a diamine component containing a diamine component which imparts a repeating unit represented by the formula (1-2) or (1-3).

상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위를 부여하는 테트라카르복실산 성분으로서는, 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등의, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다. 상기 화학식 (1-2) 의 반복 단위를 부여하는 테트라카르복실산 성분으로서는, trans-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등의, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다. 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 테트라카르복실산 성분으로서는, cis-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등의, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.Examples of the tetracarboxylic acid component imparting the repeating unit of the above formula (1-1) include norbornane-2-spiro-a-cyclopentanone-a'-spiro-2''-norbornane- , And 6,6 "-tetracarboxylic acids may be used alone or in combination of two or more. Examples of the tetracarboxylic acid component giving the repeating unit of the above formula (1-2) include trans-endo-endo-norbornane-2-spiro-a-cyclopentanone-a'-spiro- Borane-5,5 " and 6,6 " -tetracarboxylic acids may be used singly or in combination of plural kinds. Examples of the tetracarboxylic acid component for imparting the repeating unit of the above formula (1-3) include cis-endo-endo-norbornane-2-spiro-a-cyclopentanone-a'-spiro- Borane-5,5 " and 6,6 " -tetracarboxylic acids may be used singly or in combination of plural kinds.

또한, 보다 바람직한 형태의 폴리이미드 전구체에 있어서는, 상기 화학식 (1-2) 의 반복 단위를 부여하는 테트라카르복실산 성분 (trans-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등) 의 1 종 이상만을 사용해도 되고, 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 테트라카르복실산 성분 (cis-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등) 의 1 종 이상만을 사용해도 되고, 상기 화학식 (1-2) 의 반복 단위를 부여하는 테트라카르복실산 성분 (trans-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등) 의 1 종 이상과, 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 테트라카르복실산 성분 (cis-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등) 의 1 종 이상의 양방을 사용해도 된다.In a polyimide precursor of a more preferable form, a tetracarboxylic acid component (trans-endo-endo-norbornane-2-spiro-a-cyclopentanone -α'-spiro-2 "'-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acids, etc.), or repeating the above formula (1-3) (Cis-endo-endo-norbornane-2-spiro-a-cyclopentanone-a'-spiro-2 " -norbornane-5,5 ", 6 , 6 " -tetracarboxylic acids, etc.), or a tetracarboxylic acid component (trans-endo-endo-norbornane-2) - spiro-? -Cyclopentanone-? '- spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acids and the like) -3) to give a tetracarboxylic acid component (cis-endo-endono Spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acids, etc.) May be used.

폴리이미드 전구체는, 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 으로 나타내는 반복 단위의 합계 함유량이, 전체 반복 단위에 대해, 80 몰% 이상인 것이 바람직하고, 즉, 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 으로 나타내는 반복 단위를 적어도 1 종 함유하고, 그 반복 단위를 전체 반복 단위 중에, 합계로, 바람직하게는 80 몰% 이상, 보다 바람직하게는 90 몰% 이상, 더욱 바람직하게는 95 몰% 이상, 특히 바람직하게는 99 몰% 이상 함유하는 것이 바람직하다. 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 으로 나타내는 반복 단위를 적어도 1 종 함유하고, 그 반복 단위를 전체 반복 단위 중에, 합계로, 바람직하게는 80 몰% 이상 함유함으로써, 얻어지는 폴리이미드의 선열팽창 계수가 작아진다.The polyimide precursor preferably has a total content of the repeating units represented by the above formulas (1-2) and (1-3) in the polyimide precursor of 80 mol% or more with respect to the total repeating units, 2) and the repeating unit represented by the above formula (1-3), and the repeating unit thereof is contained in the total repeating units in a total amount, preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, , More preferably at least 95 mol%, particularly preferably at least 99 mol%. (2) and the repeating unit represented by the above formula (1-3), and the repeating unit is contained in the total repeating units in a total amount, preferably 80 mol% or more, The coefficient of linear thermal expansion of the mead becomes small.

상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2), 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분은, A 가 상기 화학식 (1-A) 로 나타내는 기인 것을 부여하는 디아민을 함유하는 것이 바람직하다.The diamine component giving the repeating unit of the above formula (1-1), or the repeating unit of the above formula (1-2) or the above formula (1-3) is a diamine which gives A a group represented by the above formula (1-A) Is preferably contained.

A 가 상기 화학식 (1-A) 의 구조인 화학식 (1-1), 또는 화학식 (1-2), 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분은, 방향 고리를 가지며, 방향 고리를 복수 갖는 경우에는 방향 고리끼리를 각각 독립적으로, 직접 결합, 아미드 결합, 또는 에스테르 결합으로 연결한 것이다. 방향 고리끼리의 연결 위치는 특별히 한정되지 않지만, 아미노기 혹은 방향 고리끼리의 연결기에 대해 4 위치에서 결합함으로써 직선적인 구조가 되고, 얻어지는 폴리이미드가 저선열팽창이 되는 경우가 있다. 또, 방향 고리에 메틸기나 트리플루오로메틸기가 치환되어 있어도 된다. 또한, 치환 위치는 특별히 한정되지 않는다.A diamine component giving a repeating unit represented by the formula (1-1) or the formula (1-2) or (1-3), which is a structure of the formula (1-A), has an aromatic ring, , The aromatic rings are connected to each other independently by a direct bond, an amide bond, or an ester bond. The connection position of the directional rings is not particularly limited, but the structure is linearized by bonding at the four positions with respect to the connecting group of the amino group or the aromatic ring, and the obtained polyimide may undergo low-line thermal expansion. The aromatic ring may be substituted with a methyl group or a trifluoromethyl group. The substitution position is not particularly limited.

A 가 상기 화학식 (1-A) 의 구조인 화학식 (1-1), 또는 화학식 (1-2), 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분으로서는, 특별히 한정하는 것은 아니지만, 예를 들어, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 벤지딘, 3,3'-디아미노-비페닐, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 3,3'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, m-톨리딘, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드, 3,4'-디아미노벤즈아닐리드, N,N'-비스(4-아미노페닐)테레프탈아미드, N,N'-p-페닐렌비스(p-아미노벤즈아미드), 4-아미노페녹시-4-디아미노벤조에이트, 비스(4-아미노페닐)테레프탈레이트, 비페닐-4,4'-디카르복실산비스(4-아미노페닐)에스테르, p-페닐렌비스(p-아미노벤조에이트), 비스(4-아미노페닐)-[1,1'-비페닐]-4,4'-디카르복실레이트, [1,1'-비페닐]-4,4'-디일비스(4-아미노벤조에이트) 등을 들 수 있고, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 중, p-페닐렌디아민, m-톨리딘, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드, 4-아미노페녹시-4-디아미노벤조에이트, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 벤지딘, N,N'-비스(4-아미노페닐)테레프탈아미드, 비페닐-4,4'-디카르복실산비스(4-아미노페닐)에스테르가 바람직하고, p-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘이 보다 바람직하다. 디아민 성분으로서, p-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘을 사용함으로써, 얻어지는 폴리이미드가 고내열성과 고투과율을 양립한다. 이들의 디아민은, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다. 또한, o-톨리딘은 위험성이 높은 점에서 바람직하지 않다.The diamine component to which the repeating unit represented by formula (1-1), or the repeating unit represented by formula (1-2) or (1-3), in which A is the structure of formula (1-A) is not particularly limited, For example, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, benzidine, 3,3'-diamino-biphenyl, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, N, N'-bis (4-aminophenyl) terephthalamide, N, N'-tetramethylbenzenediamine, aminophenoxy-4-diaminobenzoate, bis (4-aminophenyl) terephthalate, biphenyl-4,4'-dicarboxylic acid bis (4-aminophenyl) - [1,1'-biphenyl] -4,4'-dicarboxylate, p-phenylenebis (p- aminobenzoate) 1,1'-biphenyl] -4,4'-diylbis (4-aminobenzoate), and the like. And a plurality of species may be used in combination. Of these, p-phenylenediamine, m-tolidine, 4,4'-diaminobenzanilide, 4-aminophenoxy-4-diaminobenzoate, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (4-aminophenyl) terephthalamide and biphenyl-4,4'-dicarboxylic acid bis (4-aminophenyl) ester are preferable, and p-phenylenediamine, 4, 4'-diaminobenzanilide, and 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine are more preferable. By using p-phenylenediamine, 4,4'-diaminobenzanilide and 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine as the diamine component, the obtained polyimide has both high heat resistance and high transmittance. These diamines may be used singly or in combination of plural kinds. In addition, o-tolidine is not preferable in view of high risk.

상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2), 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분으로서는, A 가 상기 화학식 (1-A) 의 구조의 것을 부여하는 디아민 성분 이외의, 다른 디아민을 병용할 수 있다. 다른 디아민 성분으로서는, 다른 방향족 또는 지방족 디아민류를 사용할 수 있다. 다른 디아민 성분으로서, 예를 들어, 4,4'-옥시디아닐린, 3,4'-옥시디아닐린, 3,3'-옥시디아닐린, 비스(4-아미노페닐)술파이드, p-메틸렌비스(페닐렌디아민), 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 비스(4-아미노페닐)술폰, 3,3-비스((아미노페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-아미노-4-하이드록시페닐)헥사플루오로프로판, 비스(4-(4-아미노페녹시)디페닐)술폰, 비스(4-(3-아미노페녹시)디페닐)술폰, 옥타플루오로벤지딘, 3,3'-디메톡시-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디클로로-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디플루오로-4,4'-디아미노비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)비페닐, 1,4-디아미노시클로헥산, 1,4-디아미노-2-메틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-에틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-n-프로필시클로헥산, 1,4-디아미노-2-이소프로필시클로헥산, 1,4-디아미노-2-n-부틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-이소부틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-sec-부틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-tert-부틸시클로헥산, 1,2-디아미노시클로헥산, 1,4-디아미노시클로헥산, 1,3-디아미노시클로부탄, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 디아미노비시클로헵탄, 디아미노메틸비시클로헵탄, 디아미노옥시비시클로헵탄, 디아미노메틸옥시비시클로헵탄, 이소포론디아민, 디아미노트리시클로데칸, 디아미노메틸트리시클로데칸, 비스(아미노시클로헥실)메탄, 비스(아미노시클로헥실)이소프로필리덴6,6'-비스(3-아미노페녹시)-3,3,3',3'-테트라메틸-1,1'-스피로비인단, 6,6'-비스(4-아미노페녹시)-3,3,3',3'-테트라메틸-1,1'-스피로비인단 등이나 이들의 유도체를 들 수 있고, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다. Examples of the diamine component giving the repeating unit of the above formula (1-1), or the repeating unit of the above formula (1-2) and the above formula (1-3) include diamines in which A is a group of the formula (1-A) Other diamines other than the component can be used in combination. As other diamine components, other aromatic or aliphatic diamines can be used. As other diamine components, for example, 4,4'-oxydianiline, 3,4'-oxydianiline, 3,3'-oxydianiline, bis (4-aminophenyl) sulfide, p- (Phenylenediamine), 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, Bis (4-aminophenyl) sulfone, 3,3-bis (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2- Bis (4-aminophenoxy) phenyl) propane, bis (4-aminophenoxy) - (3-aminophenoxy) diphenyl) sulfone, octafluorobenzidine, 3,3'-dimethoxy-4,4'- diaminobiphenyl, 3,3'-dichloro-4,4'-diamino Biphenyl, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminobiphenyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 4,4'- Phenyl, 4,4'-bis (3-aminophenoxy) Phenyl, 1,4-diaminocyclohexane, 1,4-diamino-2-methylcyclohexane, 1,4-diamino-2-ethylcyclohexane, 1,4-diamino-2-isobutylcyclohexane, 1,4-diamino-2-n-butylcyclohexane, 1,4-diamino- 2-sec-butylcyclohexane, 1,4-diamino-2-tert-butylcyclohexane, 1,2-diaminocyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, Butane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, diaminobicycloheptane, diaminomethylbicycloheptane, diaminooxybicycloheptane, diaminomethyloxy (Aminocyclohexyl) methane, bis (aminocyclohexyl) isopropylidene 6,6'-bis (3-aminophenoxy) aminocycloheptane, isophoronediamine, diaminotricyclodecane, diaminomethyltricyclodecane, bis ) -3,3,3 ', 3 ' -tetramethyl-1 , 1'-spirobiindane, 6,6'-bis (4-aminophenoxy) -3,3,3 ', 3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane, and derivatives thereof And may be used alone, or a plurality of species may be used in combination.

본 발명의 폴리이미드 전구체는, A 가 상기 화학식 (1-A) 로 나타내는 것인 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위를 적어도 1 종, 보다 바람직하게는, A 가 상기 화학식 (1-A) 로 나타내는 것인 상기 화학식 (1-2) 의 반복 단위를 적어도 1 종 및/또는 A 가 상기 화학식 (1-A) 로 나타내는 것인 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 적어도 1 종 함유하는 것이 바람직하다. 바꾸어 말하면, 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위, 보다 바람직하게는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분이, A 가 상기 화학식 (1-A) 의 구조의 것을 부여하는 디아민 성분을 함유하는 것이 바람직하다. 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위, 보다 바람직하게는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 중의 A 를 부여하는 디아민 성분이 상기 화학식 (1-A) 의 구조의 것을 부여하는 디아민 성분임으로써, 얻어지는 폴리이미드의 내열성이 향상된다.The polyimide precursor of the present invention preferably contains at least one repeating unit of the above formula (1-1) wherein A is represented by the above formula (1-A), more preferably A is a repeating unit of the above formula (1-A) , At least one repeating unit of the above formula (1-2) and / or at least one repeating unit of the above formula (1-3) wherein A is represented by the above formula (1-A) . In other words, when the diamine component giving the repeating unit of the above formula (1-1), more preferably the repeating unit of the above formula (1-2) and the above formula (1-3) A). ≪ / RTI > The diamine component giving A in the above formulas (1-2) and (1-3) is preferably a repeating unit of the above formula (1-1), more preferably a repeating unit of the above formula (1-A) , The heat resistance of the obtained polyimide is improved.

본 발명의 폴리이미드 전구체는, 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 중의 A 를 부여하는 디아민 성분 100 몰% 중, 상기 화학식 (1-A) 의 구조를 부여하는 디아민 성분의 비율이, 합계로, 바람직하게는 50 몰% 이상, 보다 바람직하게는 70 몰% 이상, 보다 바람직하게는 80 몰% 이상, 더욱 바람직하게는 90 몰% 이상, 특히 바람직하게는 100 몰% 인 것이 바람직하다. 바꾸어 말하면, A 가 상기 화학식 (1-A) 의 구조인 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위의 1 종 이상의 비율이, 합계로, 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 으로 나타내는 전체 반복 단위 중, 바람직하게는 50 몰% 이상, 보다 바람직하게는 70 몰% 이상, 보다 바람직하게는 80 몰% 이상, 더욱 바람직하게는 90 몰% 이상, 특히 바람직하게는 100 몰% 인 것이 바람직하다. 상기 화학식 (1-A) 의 구조를 부여하는 디아민 성분의 비율이, 50 몰% 보다 작은 경우, 얻어지는 폴리이미드의 선열팽창 계수가 커지는 경우가 있다. 어느 실시양태에 있어서는, 얻어지는 폴리이미드의 기계적 특성의 점에서, 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 중의 A 를 부여하는 디아민 성분 100 몰% 중, 상기 화학식 (1-A) 의 구조를 부여하는 디아민 성분의 비율이, 합계로, 바람직하게는 80 몰% 이하, 보다 바람직하게는 90 몰% 이하 또는 90 몰% 미만인 것이 바람직한 경우가 있다. 예를 들어, 4,4'-옥시디아닐린 등의 다른 방향족 또는 지방족 디아민류를, 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분 100 몰% 중, 바람직하게는 20 몰% 미만, 보다 바람직하게는 10 몰% 이하, 보다 바람직하게는 10 몰% 미만으로 사용할 수 있다.The polyimide precursor of the present invention is a polyimide precursor of the formula (1-A) or the formula (1-A) in 100 mol% of the diamine component giving A in the above formula (1-2) ) Is preferably 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, still more preferably 90 mol% or more, and still more preferably 90 mol% or more, And particularly preferably 100 mol%. In other words, when A represents the ratio of at least one of the repeating units of the formula (1-1) or the repeating units of the formulas (1-2) and (1-3), which is the structure of the formula (1-A) , Preferably 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, of the total repeating units represented by the above formula (1-1) or the above formulas (1-2) and (1-3) , More preferably 80 mol% or more, further preferably 90 mol% or more, particularly preferably 100 mol%. When the ratio of the diamine component giving the structure of the formula (1-A) is smaller than 50 mol%, the coefficient of linear thermal expansion of the obtained polyimide may be increased. In one embodiment, from the viewpoint of the mechanical properties of the obtained polyimide, the diamine component giving A in the formula (1-1) or the formula (1-2) and the formula (1-3) is 100 mol% , The proportion of the diamine component giving the structure of the above formula (1-A) is preferably 80 mol% or less, more preferably 90 mol% or less or 90 mol% or less in total. For example, it is possible to use other aromatic or aliphatic diamines such as 4,4'-oxydianiline or the like with a repeating unit of the above formula (1-1) or the above formula (1-2) and the above formula (1-3) The diamine component may be used in an amount of 100 mol%, preferably less than 20 mol%, more preferably less than 10 mol%, and more preferably less than 10 mol%.

어느 실시양태에 있어서는, 본 발명의 상기 화학식 (1-1) 로 나타내는 반복 단위를 함유하는 폴리이미드 전구체는, A 가 상기 화학식 (1-A) 로 나타내는 것인 화학식 (1-1) 의 반복 단위를 적어도 2 종 함유하는 것이 바람직한 경우가 있다. 어느 실시양태에 있어서는, 본 발명의 상기 화학식 (1-2) 로 나타내는 반복 단위 및/또는 상기 화학식 (1-3) 으로 나타내는 반복 단위를 함유하는 폴리이미드 전구체는, A 가 상기 화학식 (1-A) 로 나타내는 것인 화학식 (1-2) 또는 화학식 (1-2) 의 반복 단위를 적어도 2 종 함유하는 것이 바람직한 경우가 있다. 바꾸어 말하면, 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분, 또는, 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분이, A 가 상기 화학식 (1-A) 의 구조인 것을 부여하는 디아민 성분을 적어도 2 종 함유하는 것이 바람직한 경우가 있다. 상기 화학식 (1-1) 중의 A, 또는, 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 중의 A 를 부여하는 디아민 성분이 상기 화학식 (1-A) 의 구조의 것을 부여하는 디아민 성분 중 적어도 2 종류를 함유함으로써, 얻어지는 폴리이미드의 고투명성과 저선열팽창성의 밸런스가 잡힌다 (즉, 투명성이 높고, 또한, 저선열팽창 계수인 폴리이미드가 얻어진다).In one embodiment, the polyimide precursor containing the repeating unit represented by the above formula (1-1) of the present invention is a repeating unit of the formula (1-1) wherein A is represented by the above formula (1-A) May be preferably contained in at least two species. In one embodiment, the polyimide precursor containing the repeating unit represented by the above formula (1-2) and / or the repeating unit represented by the above formula (1-3) of the present invention is represented by the formula (1-A (1-2) or (1-2), which is a repeating unit represented by the following general formula (1). In other words, the diamine component giving the repeating unit of the above formula (1-1) or the diamine component giving the repeating unit of the above formula (1-2) and the above formula (1-3) And at least two diamine components which give a structure of the formula (1-A). A diamine component giving a structure represented by the above formula (1-A), or a diamine component giving A in the above formula (1-2) and the above formula (1-3) (That is, a polyimide having a high transparency and a low coefficient of linear thermal expansion can be obtained).

또한, 본 발명의 폴리이미드 전구체는, A 가 상기 화학식 (1-A) 의 구조인 상기 화학식 (1-2) 의 반복 단위를 적어도 2 종 함유하는 것이어도 되고, 또, A 가 상기 화학식 (1-A) 의 구조인 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 적어도 2 종 함유하는 것이어도 되고, 또, A 가 상기 화학식 (1-A) 의 구조인 상기 화학식 (1-2) 의 반복 단위를 적어도 1 종과, A 가 상기 화학식 (1-A) 의 구조인 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 적어도 1 종 함유하는 것이어도 된다.The polyimide precursor of the present invention may contain at least two repeating units of the above formula (1-2) wherein A is the structure of the above formula (1-A) (1-2), wherein A is the structure of the above formula (1-A), and the repeating unit of the above formula (1-2) And at least one repeating unit represented by the above formula (1-3) wherein A is the structure of the above formula (1-A).

어느 실시양태에 있어서는, 본 발명의 폴리이미드 전구체는,In one embodiment, the polyimide precursor of the present invention is a polyimide precursor,

(i) A 가, m 및/또는 n 이 1 ∼ 3 이며, Z 및/또는 W 가, 각각 독립적으로, -NHCO-, -CONH-, -COO-, 또는 -OCO- 중 어느 하나인 상기 화학식 (1-A) 의 구조인 상기 화학식 (1-1), 바람직하게는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위 (I) 을 적어도 1 종 함유하고,(i) A is a group represented by any one of the above formulas (1) and (2), wherein m and / or n is 1 to 3 and Z and / or W are each independently -NHCO-, -CONH-, -COO-, (I) of the above formula (1-1), preferably the repeating unit (I) of the above formula (1-2) and the above formula (1-3)

(ii) A 가, m 및 n 이 0 인 상기 화학식 (1-A) 의 구조이거나, 또는, m 및/또는 n 이 1 ∼ 3 이며, Z 및 W 가 직접 결합인 상기 화학식 (1-A) 의 구조인 상기 화학식 (1-1), 바람직하게는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위 (II) 를 적어도 1 종 함유하는 것이 보다 바람직한 경우가 있다.(1-A) wherein A is a structure of the above formula (1-A) wherein m and n are 0, or m and / or n is 1 to 3, and Z and W are direct bonds; (1-1), preferably the repeating unit (II) of the formula (1-2) and the repeating unit (II-3)

이 실시양태에 있어서, 상기 반복 단위 (I) 로서는, 예를 들어, A 가 하기 화학식 (D-1) ∼ (D-3) 중 어느 하나로 나타내는 것인 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위가 바람직하고, A 가 하기 화학식 (D-1) ∼ (D-2) 중 어느 하나로 나타내는 것인 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위가 보다 바람직하다. 또한, A 가 하기 화학식 (D-1) 또는 하기 화학식 (D-2) 로 나타내는 것인 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분은 4,4'-디아미노벤즈아닐리드이며, A 가 하기 화학식 (D-3) 으로 나타내는 것인 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분은 비스(4-아미노페닐)테레프탈레이트이며, 이들의 디아민은, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.In this embodiment, examples of the repeating unit (I) include repeating units of the above formula (1-1) wherein A is represented by any one of the following formulas (D-1) to (D-3) And more preferably a repeating unit of the above formula (1-1) wherein A is represented by any one of the following formulas (D-1) to (D-2). The diamine component giving the repeating unit of the above formula (1-1) wherein A is represented by the following formula (D-1) or (D-2) is 4,4'-diaminobenzanilide, The diamine component giving the repeating unit of the above formula (1-1) wherein A is represented by the following formula (D-3) is bis (4-aminophenyl) terephthalate, and these diamines may be used alone , Or a combination of plural species may be used.

[화학식 7](7)

Figure pct00007
Figure pct00007

이 실시양태에 있어서, 상기 반복 단위 (II) 로서는, 예를 들어, A 가 하기 화학식 (D-4) ∼ (D-6) 중 어느 하나로 나타내는 것인 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위가 바람직하고, A 가 하기 화학식 (D-4) ∼ (D-5) 중 어느 하나로 나타내는 것인 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위가 보다 바람직하다. 또한, A 가 하기 화학식 (D-4) 로 나타내는 것인 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분은 p-페닐렌디아민이며, A 가 하기 화학식 (D-5) 로 나타내는 것인 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분은 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘이며, A 가 하기 화학식 (D-6) 으로 나타내는 것인 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분은 m-톨리딘이며, 이들의 디아민은, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.In this embodiment, examples of the repeating unit (II) include repeating units represented by the formula (1-1) wherein A is represented by any one of the following formulas (D-4) to , More preferably a repeating unit of the above formula (1-1) wherein A is represented by any one of the following formulas (D-4) to (D-5). The diamine component giving the repeating unit of the above formula (1-1) wherein A is represented by the following formula (D-4) is p-phenylenediamine and A is represented by the following formula (D-5) Wherein the diamine component giving the repeating unit of the formula (1-1) is 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine and A is represented by the following formula (D-6) 1) is m-tolidine, and these diamines may be used alone or in combination of plural kinds.

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

이 실시양태의 폴리이미드 전구체에 있어서, 상기 반복 단위 (I) 1 종 이상의 비율이, 합계로, 상기 화학식 (1-1) 로 나타내는 전체 반복 단위 중, 30 몰% 이상 70 몰% 이하이며, 상기 반복 단위 (II) 1 종 이상의 비율이, 합계로, 상기 화학식 (1-1) 로 나타내는 전체 반복 단위 중, 30 몰% 이상 70 몰% 이하인 것이 바람직하고, 상기 반복 단위 (I) 1 종 이상의 비율이, 합계로, 상기 화학식 (1-1) 로 나타내는 전체 반복 단위 중, 40 몰% 이상 60 몰% 이하이며, 상기 반복 단위 (II) 1 종 이상의 비율이, 합계로, 상기 화학식 (1-1) 로 나타내는 전체 반복 단위 중, 40 몰% 이상 60 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다. 어느 실시양태에 있어서는, 상기 반복 단위 (I) 의 비율이, 합계로, 상기 화학식 (1-1) 로 나타내는 전체 반복 단위 중, 60 몰% 미만인 것이 보다 바람직하고, 50 몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 40 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다. 또, 어느 실시양태에 있어서는, 상기 반복 단위 (I) 및 상기 반복 단위 (II) 이외의, 다른 상기 화학식 (1-1) 로 나타내는 반복 단위 (예를 들어, A 가 복수의 방향 고리를 가지며, 방향 고리끼리가 에테르 결합 (-O-) 으로 연결되어 있는 것) 를, 상기 화학식 (1-1) 로 나타내는 전체 반복 단위 중, 바람직하게는 20 몰% 미만, 보다 바람직하게는 10 몰% 이하, 특히 바람직하게는 10 몰% 미만으로 함유하는 것이 바람직한 경우가 있다. 또한, 어느 실시양태에 있어서는, 상기 반복 단위 (I) 1 종 이상의 비율이, 합계로, 상기 화학식 (1-1) 로 나타내는 전체 반복 단위 중, 20 몰% 이상 80 몰% 이하이며, 상기 반복 단위 (II) 1 종 이상의 비율이, 합계로, 상기 화학식 (1-1) 로 나타내는 전체 반복 단위 중, 20 몰% 이상 80 몰% 이하인 것이 바람직한 경우도 있다.In the polyimide precursor of this embodiment, the proportion of one or more of the above-mentioned repeating units (I) is, in total, 30 mol% or more and 70 mol% or less in the total repeating units represented by the above formula (1-1) It is preferable that the proportion of one or more kinds of the repeating units (II) is, in total, from 30 mol% to 70 mol% of the total repeating units represented by the above formula (1-1) Of the repeating unit (II) is at least 40 mol% or more and 60 mol% or less of the total repeating units represented by the formula (1-1) ) Is particularly preferably from 40 mol% to 60 mol%. In one embodiment, the proportion of the repeating unit (I) in the total repeating units represented by the above formula (1-1) is more preferably less than 60 mol%, more preferably not more than 50 mol% , And particularly preferably 40 mol% or less. In one embodiment, the other repeating unit represented by the above-mentioned formula (1-1) (for example, A has a plurality of aromatic rings other than the repeating unit (I) and the repeating unit (II) Is preferably 20 mol% or less, more preferably 10 mol% or less, and most preferably 10 mol% or less, of all the repeating units represented by the above formula (1-1) , And particularly preferably less than 10 mol%. In one embodiment, the proportion of one or more of the repeating units (I) is 20 mol% or more and 80 mol% or less of the total repeating units represented by the formula (1-1) It is preferable that the proportion of one or more of the repeating units (II) is, in total, 20 mol% or more and 80 mol% or less among the total repeating units represented by the above formula (1-1).

어느 실시양태에 있어서는, 본 발명의 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및/또는 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 함유하는 폴리이미드 전구체는, 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 중의 A 를 부여하는 디아민 성분 (상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위, 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분) 이 상기 화학식 (1-A) 의 구조를 부여하는 디아민 성분 중 적어도 2 종류를 함유하고, 그 중의 1 종이 4,4'-디아미노벤즈아닐리드인 것이 바람직하다. 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 중의 A 를 부여하는 디아민 성분이 상기 화학식 (1-A) 의 구조를 부여하는 디아민 성분 중 적어도 2 종류를 함유하고, 그 중의 1 종이 4,4'-디아미노벤즈아닐리드임으로써, 고투명성과 저선열팽창성에 더하여 높은 내열성도 겸비한 폴리이미드가 얻어진다.In one embodiment, the polyimide precursor containing the repeating unit of the above formula (1-1), or the repeating unit of the above formula (1-2) and / or the repeating unit of the above formula (1-3) -1), or a diamine component (the repeating unit of the above formula (1-1)) or the repeating unit of the above formula (1-2) and the above formula (1-A)) having a repeating unit represented by the general formula (1-A) contains at least two kinds of diamine components giving the structure of the above formula (1-A), wherein one of them is a 4,4'-diaminobenzanilide . The diamine component imparting A in the above formula (1-1) or the above formula (1-2) and the above formula (1-3) is at least two kinds of diamine components giving the structure of the above formula (1-A) And one of them is 4,4'-diaminobenzanilide, polyimide having both high transparency and low heat expansion and high heat resistance is obtained.

어느 실시양태에 있어서는, 본 발명의 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및/또는 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 함유하는 폴리이미드 전구체는, 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 중의 A 를 부여하는 디아민 성분 (상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위, 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분) 이 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘 및 p-페닐렌디아민에서 선택되는 적어도 1 종류와, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드를 함유하는 것이 특히 바람직하다. 이들의 디아민 성분을 조합함으로써, 높은 투명성과 저선열팽창성, 내열성을 겸비한 폴리이미드가 얻어진다.In one embodiment, the polyimide precursor containing the repeating unit of the above formula (1-1), or the repeating unit of the above formula (1-2) and / or the repeating unit of the above formula (1-3) -1), or a diamine component (the repeating unit of the above formula (1-1)) or the repeating unit of the above formula (1-2) and the above formula (Diamine component giving a repeating unit of the formula (1-3)) is at least one selected from the group consisting of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine and p-phenylenediamine, It is particularly preferable to contain anilide. By combining these diamine components, a polyimide having high transparency, low heat expansion, and heat resistance is obtained.

이 실시양태에 있어서는, 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 중의 A 를 부여하는 디아민 성분 (상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위, 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분) 으로서는, 바람직하게는 4,4'-디아미노벤즈아닐리드를 20 몰% 이상, 80 몰% 이하로 함유하고, 또한, p-페닐렌디아민과 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘 중 어느 일방, 또는 양방에서 20 몰% 이상, 80 몰% 이하로 함유하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 4,4'-디아미노벤즈아닐리드를 30 몰% 이상, 70 몰% 이하로 함유하고, 또한, p-페닐렌디아민과 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘 중 어느 일방, 또는 양방에서 30 몰% 이상, 70 몰% 이하로 함유하는 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 4,4'-디아미노벤즈아닐리드를 40 몰% 이상, 60 몰% 이하로 함유하고, 또한, p-페닐렌디아민과 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘 중 어느 일방, 또는 양방에서 40 몰% 이상, 60 몰% 이하로 함유하는 것이 보다 바람직하다. 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 중의 A 를 부여하는 디아민 성분으로서 4,4'-디아미노벤즈아닐리드를 30 몰% 이상, 70 몰% 이하로 함유하고, 또한, p-페닐렌디아민과 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘 중 어느 일방, 또는 양방에서 30 몰% 이상, 70 몰% 이하로 함유함으로써, 높은 투명성과 저선열팽창성, 내열성을 겸비한 폴리이미드가 얻어진다. 어느 실시양태에 있어서는, 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 중의 A 를 부여하는 디아민 성분 (상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위, 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분) 으로서는, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드를 60 몰% 미만으로 함유하는 것이 보다 바람직하고, 50 몰% 이하로 함유하는 것이 보다 바람직하고, 40 몰% 이하로 함유하는 것이 특히 바람직하다.In this embodiment, the diamine component (the repeating unit of the above-mentioned formula (1-1) or the repeating unit of the above formula (1-1)) which gives the above formula (1-1) The diamine component giving the repeating units of the above formulas (1-2) and (1-3)) preferably contains 20 mol% or more and 80 mol% or less of 4,4'-diaminobenzanilide , More preferably 20 mol% or more and 80 mol% or less in either or both of p-phenylenediamine and 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, (B) a polyimide film which contains 4,4'-diaminobenzanilide in an amount of not less than 30 mol% and not more than 70 mol%, and further contains at least one of p-phenylenediamine and 2,2'-bis (trifluoromethyl) , More preferably 30 mol% or more and 70 mol% or less, and particularly preferably 4,4'-diaminobenzanilide 40 mol% or more and 60 mol% or less in any one or both of p-phenylenediamine and 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, Is more preferable. Diaminobenzanilide as a diamine component imparting A in the formula (1-1) or the formula (1-2) and the formula (1-3) in an amount of 30 mol% or more and 70 mol% Or more and 30 mol% or more and 70 mol% or less in either one or both of p-phenylenediamine and 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, Polyimide having heat-expandability and heat-resistance can be obtained. In one embodiment, the diamine component (the repeating unit of the above formula (1-1) or the repeating unit of the above formula (1-1)) which gives the above formula (1-1) or A in the above formulas As the diamine component giving the repeating units of the above formulas (1-2) and (1-3)), it is more preferable to contain less than 60 mol% of 4,4'-diaminobenzanilide, more preferably 50 mol % Or less, and particularly preferably 40 mol% or less.

본 발명의 폴리이미드 전구체는, 상기 화학식 (1-1), 또는 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 으로 나타내는 반복 단위 이외의, 다른 반복 단위를 함유할 수 있다.The polyimide precursor of the present invention may contain other repeating units other than the repeating units represented by the above formula (1-1) or the repeating units represented by the above formulas (1-2) and (1-3).

다른 반복 단위를 부여하는 테트라카르복실산 성분으로서는, 다른 방향족 또는 지방족 테트라카르복실산류를 사용할 수 있다. 예를 들어, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판, 4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카르복실산, 피로멜리트산, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산, 4,4'-옥시디프탈산, 비스(3,4-디카르복시페닐)술폰 2 무수물, m-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실산 2 무수물, p-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실산 2 무수물, 비스카르복시페닐디메틸실란, 비스디카르복시페녹시디페닐술파이드, 술포닐디프탈산, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산, 이소프로필리덴디페녹시비스프탈산, 시클로헥산-1,2,4,5-테트라카르복실산,[1,1'-비(시클로헥산)]-3,3',4,4'-테트라카르복실산,[1,1'-비(시클로헥산)]-2,3,3',4'-테트라카르복실산,[1,1'-비(시클로헥산)]-2,2',3,3'-테트라카르복실산, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 4,4'-(프로판-2,2-디일)비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 4,4'-옥시비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 4,4'-티오비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 4,4'-술포닐비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 4,4'-(디메틸실란디일)비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 4,4'-(테트라플루오로프로판-2,2-디일)비스(시클로헥산-1,2-디카르복실산), 옥타하이드로펜타렌-1,3,4,6-테트라카르복실산, 비시클로[2.2.1]헵탄-2,3,5,6-테트라카르복실산, 6-(카르복시메틸)비시클로[2.2.1]헵탄-2,3,5-트리카르복실산, 비시클로[2.2.2]옥탄-2,3,5,6-테트라카르복실산, 비시클로[2.2.2]옥타-5-엔-2,3,7,8-테트라카르복실산, 트리시클로[4.2.2.02,5]데칸-3,4,7,8-테트라카르복실산, 트리시클로[4.2.2.02,5]데카-7-엔-3,4,9,10-테트라카르복실산, 9-옥사트리시클로[4.2.1.02,5]노난-3,4,7,8-테트라카르복실산, (4arH,8acH)-데카하이드로-1t,4t : 5c,8c-디메타노나프탈렌-2c,3c,6c,7c-테트라카르복실산, (4arH,8acH)-데카하이드로-1t,4t : 5c,8c-디메타노나프탈렌-2t,3t,6c,7c-테트라카르복실산 등의 유도체나, 이들의 산 2 무수물을 들 수 있고, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 중에서는, 비시클로[2.2.1]헵탄-2,3,5,6-테트라카르복실산, 비시클로[2.2.2]옥탄-2,3,5,6-테트라카르복실산, (4arH,8acH)-데카하이드로-1t,4t : 5c,8c-디메타노나프탈렌-2c,3c,6c,7c-테트라카르복실산, (4arH,8acH)-데카하이드로-1t,4t : 5c,8c-디메타노나프탈렌-2t,3t,6c,7c-테트라카르복실산 등의 유도체나, 이들의 산 2 무수물이, 폴리이미드의 제조가 용이하고, 얻어지는 폴리이미드의 내열성이 우수한 점에서 보다 바람직하다. 이들의 산 2 무수물은, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.As the tetracarboxylic acid component for imparting other repeating units, other aromatic or aliphatic tetracarboxylic acids may be used. For example, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane, 4- (2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) Hydroxynaphthalene-1,2-dicarboxylic acid, pyromellitic acid, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, m-terphenyl-3,4,3, 4,3'-biphenyltetracarboxylic acid, 4,4'-oxydiphthalic acid, ', 4'-tetracarboxylic acid dianhydride, p-terphenyl-3,4,3', 4'-tetracarboxylic acid dianhydride, biscarboxyphenyldimethylsilane, bisdicarboxyphenodydiphenylsulfide, sulfo 1,2,4-cyclobutanetetracarboxylic acid, isopropylidene diphenoxy bisphthalic acid, cyclohexane-1,2,4,5-tetracarboxylic acid, [1,1'-bis (Cyclohexane)] -3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid, [1,1'-non (cyclohexane)] - 2,3,3' 1,1'-bis (cyclohexane)] - 2,2 ', 3,3'-te (Cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4'- (propane-2,2-diyl) bis (cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid (Cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4'-thiobis (cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4'-oxybis (Cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4'- (dimethylsilanediyl) bis (cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4'- (Tetrafluoropropane-2,2-diyl) bis (cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), octahydropentalene-1,3,4,6-tetracarboxylic acid, bicyclo [2.2. Heptane-2,3,5-tricarboxylic acid, bicyclo [2.2.2] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, 6- (carboxymethyl) bicyclo [ Octane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, bicyclo [2.2.2] octa-5-ene-2,3,7,8-tetracarboxylic acid, tricyclo [4.2.2.02,5] Decane-3,4,7,8-tetracarboxylic acid, tricyclo [4.2.2.02,5] deca-7-ene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid , 9-oxatricyclo [4.2.1.02,5] nonane-3,4,7,8-tetracarboxylic acid, (4arH, 8acH) -decahydro-1t, 4t: 5c, 8c-dimethanonaphthalene- Derivatives such as 2c, 3c, 6c, 7c-tetracarboxylic acid, (4arH, 8acH) -decahydro-1t, 4t: 5c, 8c-dimethanonaphthalene-2t, 3t, 6c, 7c-tetracarboxylic acid , And acid anhydrides thereof. These acid anhydrides may be used singly or in combination. Of these, bicyclo [2.2.1] heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, bicyclo [2.2.2] octane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, (4arH , 8cH) -decahydro-1t, 4t: 5c, 8c-dimethanonaphthalene-2c, 3c, 6c, 7c-tetracarboxylic acid, (4arH, 8acH) Derivatives such as dimethanonaphthalene-2t, 3t, 6c, 7c-tetracarboxylic acid and the like, and acid dianhydrides thereof are more preferable because of easy production of polyimide and excellent heat resistance of the obtained polyimide. These acid dianhydrides may be used singly or in combination of plural kinds.

또, 상기 화학식 (1-2) 및/또는 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 함유하는 폴리이미드 전구체의 경우, 다른 반복 단위를 부여하는 테트라카르복실산 성분으로서 cis-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등, 및 trans-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등 이외의, 다른 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등 (예를 들어, 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산 2 무수물) 의 4 종류의 입체 이성체를 사용할 수도 있다.In the case of the polyimide precursor containing the repeating unit represented by the above formula (1-2) and / or the above formula (1-3), the cis-endo-endo-norbornene as the tetracarboxylic acid component imparting another repeating unit Spiro-? -Cyclopentanone-? '- spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acids and the like, and trans-endo-endo -Norbornene-2-spiro- [alpha] -cyclopentanone-a'-spiro-2 " -norbornane-5,5 ", 6,6 " -tetracarboxylic acids, Spiro-? -Cyclopentanone-? '- spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acids and the like (for example, Spiro- [alpha] -cyclopentanone-alpha ' -spiro-2 " -norbornane-5,5 ", 6,6 "- tetracarboxylic acid dianhydride) May be used.

다른 반복 단위를 부여하는 디아민 성분은, 상기 화학식 (1-A) 의 구조를 부여하는 디아민 성분이어도 된다. 바꾸어 말하면, 다른 반복 단위를 부여하는 디아민 성분으로서 A 가 상기 화학식 (1-A) 의 구조인 상기 화학식 (1-1) 의 반복 단위, 또는 A 가 상기 화학식 (1-A) 의 구조인 상기 화학식 (1-2) 및 상기 화학식 (1-3) 의 반복 단위를 부여하는 디아민 성분으로서 예시한 디아민을 사용할 수 있다. 이들의 디아민은, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.The diamine component giving another repeating unit may be a diamine component that gives the structure of the above formula (1-A). In other words, when the repeating unit represented by the above formula (1-1) wherein A is the structure of the above formula (1-A), or the repeating unit of the above formula (1-1) (1-2) and diamines exemplified as the diamine component giving the repeating unit of the above formula (1-3). These diamines may be used singly or in combination of plural kinds.

다른 반복 단위를 부여하는 디아민 성분으로서는, 다른 방향족 또는 지방족 디아민류를 사용할 수 있다. 예를 들어, 4,4'-옥시디아닐린, 3,4'-옥시디아닐린, 3,3'-옥시디아닐린, 비스(4-아미노페닐)술파이드, p-메틸렌비스(페닐렌디아민), 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐)헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 비스(4-아미노페닐)술폰, 3,3-비스((아미노페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-아미노-4-하이드록시페닐)헥사플루오로프로판, 비스(4-(4-아미노페녹시)디페닐)술폰, 비스(4-(3-아미노페녹시)디페닐)술폰, 옥타플루오로벤지딘, 3,3'-디메톡시-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디클로로-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디플루오로-4,4'-디아미노비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)비페닐, 1,4-디아미노시클로헥산, 1,4-디아미노-2-메틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-에틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-n-프로필시클로헥산, 1,4-디아미노-2-이소프로필시클로헥산, 1,4-디아미노-2-n-부틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-이소부틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-sec-부틸시클로헥산, 1,4-디아미노-2-tert-부틸시클로헥산, 1,2-디아미노시클로헥산, 1,4-디아미노시클로헥산, 1,3-디아미노시클로부탄, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 디아미노비시클로헵탄, 디아미노메틸비시클로헵탄, 디아미노옥시비시클로헵탄, 디아미노메틸옥시비시클로헵탄, 이소포론디아민, 디아미노트리시클로데칸, 디아미노메틸트리시클로데칸, 비스(아미노시클로헥실)메탄, 비스(아미노시클로헥실)이소프로필리덴6,6'-비스(3-아미노페녹시)-3,3,3',3'-테트라메틸-1,1'-스피로비인단, 6,6'-비스(4-아미노페녹시)-3,3,3',3'-테트라메틸-1,1'-스피로비인단 등이나 이들의 유도체를 들 수 있고, 단독으로 사용해도 되고, 또 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.As the diamine component giving another repeating unit, other aromatic or aliphatic diamines can be used. (4-aminophenyl) sulfide, p-methylenebis (phenylenediamine), p-methylenebis (phenylenediamine) Benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2- Bis (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, bis (Phenyl) propane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, bis 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxy- 4,4'-diaminobiphenyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'- '-Bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 1,4-diaminocyclo Diamino-2-ethylcyclohexane, 1,4-diamino-2-n-propylcyclohexane, 1,4-diamino-2-methylcyclohexane, 2-n-butylcyclohexane, 1,4-diamino-2-isobutylcyclohexane, 1,4-diamino-2-sec-butylcyclohexane , 1,4-diamino-2-tert-butylcyclohexane, 1,2-diaminocyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, 1,3-diaminocyclobutane, 1,4- Methyl) cyclohexane, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, diaminobicycloheptane, diaminomethylbicycloheptane, diaminooxybicycloheptane, diaminomethyloxybicycloheptane, isophoronediamine, (Aminocyclohexyl) methane, bis (aminocyclohexyl) isopropylidene 6,6'-bis (3-aminophenoxy) -3,3,3 ' 3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane, 6,6'-bis (4-aminophenoxy) -3,3,3 ', 3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane, and derivatives thereof, and they may be used singly or in combination of plural species .

또한, 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등의 합성 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 특허문헌 8 에 기재된 방법 등으로 합성할 수 있다. 비특허문헌 1 에 기재되어 있는 바와 같이, 합성 방법에 따라서는 입체 이성체를 여러 종류 함유하는 경우도 있다. 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등, 혹은, 그 중간체를 칼럼 등으로 정제함으로써, 입체 이성체를 각각 단독으로, 혹은, 여러 종의 혼합물을 분취할 수 있다.The synthesis method of norbornane-2-spiro- [alpha] -cyclopentanone- [alpha] ' -spiro-2 " -norbornane-5,5 ", 6,6 " -tetracarboxylic acids, , Although not particularly limited, can be synthesized by the method described in Patent Document 8 or the like. As described in Non-Patent Document 1, various kinds of stereoisomers may be contained depending on the synthesis method. Spiro-? -Cyclopentanone-? '- spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acids, or the like, or an intermediate thereof Column or the like, the stereoisomer can be used alone or in the form of a mixture of various species.

trans-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등, 및 cis-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등의 단독물, 혹은 그들의 혼합물에 대해서도, 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산류 등, 혹은, 그 중간체를 칼럼 등으로 정제함으로써 얻어진다.trans-endo-endo-norbornane-2-spiro- [alpha] -cyclopentanone- [alpha] ' -spiro-2 " -norbornane-5,5 ", 6,6 " -tetracarboxylic acids , And cis-endo-endo-norbornane-2-spiro- [alpha] -cyclopentanone-a'-spiro-2 " -norbornane-5,5 ", 6,6 & Spiro-? -Cyclopentanone? '- spiro-2' '- norbornane-5,5' ', 6,6' '- spiro- -Tetracarboxylic acids, and the like, or an intermediate thereof by a column or the like.

테트라카르복실산 성분 및 디아민 성분이 이성체를 함유하는 경우, 그 이성체를 단리하여 중합 등에 사용해도 되고, 또, 이성체를 혼합물인 채 중합 등에 사용해도 된다.When the tetracarboxylic acid component and the diamine component contain an isomer, the isomer may be isolated and used for polymerization or the isomer may be used as a mixture for polymerization or the like.

본 발명의 폴리이미드 전구체에 있어서, 상기 화학식 (1) 의 R1, R2, 상기 화학식 (2) 의 R3, R4 는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 ∼ 6, 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기, 또는 탄소수 3 ∼ 9 의 알킬실릴기 중 어느 하나이다. R1 및 R2, R3 및 R4 는, 후술하는 제조 방법에 의해, 그 관능기의 종류, 및, 관능기의 도입률을 변화시킬 수 있다.In the polyimide precursor of the present invention, R 1 and R 2 in the above formula (1) and R 3 and R 4 in the above formula (2) are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms Or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms. R 1 and R 2 , R 3 and R 4 can change the kind of the functional group and the introduction ratio of the functional group by the production method described below.

R1 및 R2, R3 및 R4 가 수소인 경우, 폴리이미드의 제조가 용이한 경향이 있다.When R 1 and R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen, production of polyimide tends to be easy.

또, R1 및 R2, R3 및 R4 가 탄소수 1 ∼ 6, 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기인 경우, 폴리이미드 전구체의 보존 안정성이 우수한 경향이 있다. 이 경우, R1 및 R2, R3 및 R4 는 메틸기 혹은 에틸기인 것이 보다 바람직하다.When R 1 and R 2 , R 3 and R 4 are an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, the storage stability of the polyimide precursor tends to be excellent. In this case, it is more preferable that R 1 and R 2 , R 3 and R 4 are a methyl group or an ethyl group.

또한, R1 및 R2, R3 및 R4 가 탄소수 3 ∼ 9 의 알킬실릴기인 경우, 폴리이미드 전구체의 용해성이 우수한 경향이 있다. 이 경우, R1 및 R2, R3 및 R4 는 트리메틸실릴기 혹은 t-부틸디메틸실릴기인 것이 보다 바람직하다.When R 1 and R 2 , R 3 and R 4 are alkylsilyl groups having 3 to 9 carbon atoms, solubility of the polyimide precursor tends to be excellent. In this case, it is more preferable that R 1 and R 2 , R 3 and R 4 are a trimethylsilyl group or a t-butyldimethylsilyl group.

관능기의 도입률은, 특별히 한정되지 않지만, 알킬기 혹은 알킬실릴기를 도입하는 경우, R1 및 R2, R3 및 R4 는 각각, 25 % 이상, 바람직하게는 50 % 이상, 보다 바람직하게는 75 % 이상을 알킬기 혹은 알킬실릴기로 할 수 있다.R 1 and R 2 , R 3 and R 4 each have an introduction rate of not less than 25%, preferably not less than 50%, more preferably not less than 75%, in the case of introduction of an alkyl group or an alkylsilyl group, Or more may be an alkyl group or an alkylsilyl group.

본 발명의 폴리이미드 전구체는, R1 및 R2, R3 및 R4 가 취하는 화학 구조에 의해, 1) 폴리아미드산 (R1 및 R2, R3 및 R4 가 수소), 2) 폴리아미드산에스테르 (R1 및 R2, R3 및 R4 중 적어도 일부가 알킬기), 3) 4) 폴리아미드산실릴에스테르 (R1 및 R2, R3 및 R4 중 적어도 일부가 알킬실릴기) 로 분류할 수 있다. 그리고, 본 발명의 폴리이미드 전구체는, 이 분류마다, 이하의 제조 방법에 의해 용이하게 제조할 수 있다. 단, 본 발명의 폴리이미드 전구체의 제조 방법은, 이하의 제조 방법으로 한정되는 것은 아니다.The polyimide precursor of the present invention, R 1 and R 2, R 3 and R 4 is by taking the chemical structure, 1) a polyamic acid (R 1 and R 2, R 3 and R 4 is hydrogen), 2) a poly amide esters (at least a portion of R 1 and R 2, R 3 and R 4 alkyl group), 3), 4) a polyamic acid silyl ester (R 1 and R 2, R 3 and R 4 at least some of the alkylsilyl group ). The polyimide precursor of the present invention can be easily produced by the following production method for each classification. However, the method for producing the polyimide precursor of the present invention is not limited to the following production method.

1) 폴리아미드산1) Polyamic acid

본 발명의 폴리이미드 전구체는, 용매 중에서 테트라카르복실산 성분으로서의 테트라카르복실산 2 무수물과 디아민 성분을 대략 등몰, 바람직하게는 테트라카르복실산 성분에 대한 디아민 성분의 몰비[디아민 성분의 몰수/테트라카르복실산 성분의 몰수]가 바람직하게는 0.90 ∼ 1.10, 보다 바람직하게는 0.95 ∼ 1.05 의 비율로, 예를 들어 120 ℃ 이하의 비교적 저온도에서 이미드화를 억제하면서 반응함으로써, 폴리이미드 전구체 용액 조성물로서 바람직하게 얻을 수 있다.The polyimide precursor of the present invention is a polyimide precursor having a molar ratio of the tetracarboxylic acid dianhydride and the diamine component as the tetracarboxylic acid component in the solvent to the diamine component relative to the tetracarboxylic acid component [mol of the diamine component / tetra The molar number of the carboxylic acid component] of the polyimide precursor solution composition is preferably from 0.90 to 1.10, more preferably from 0.95 to 1.05, for example, while suppressing imidization at a relatively low temperature of 120 DEG C or less, .

한정하는 것은 아니지만, 보다 구체적으로는, 유기 용제에 디아민을 용해하고, 이 용액에 교반하면서, 테트라카르복실산 2 무수물을 서서히 첨가하고, 0 ∼ 120 ℃, 바람직하게는 5 ∼ 80 ℃ 의 범위에서 1 ∼ 72 시간 교반함으로써, 폴리이미드 전구체가 얻어진다. 80 ℃ 이상에서 반응시키는 경우, 분자량이 중합 시의 온도 이력에 의존하여 변동하고, 또 열에 의해 이미드화가 진행되는 점에서, 폴리이미드 전구체를 안정적으로 제조할 수 없게 될 가능성이 있다. 상기 제조 방법에서의 디아민과 테트라카르복실산 2 무수물의 첨가 순서는, 폴리이미드 전구체의 분자량이 오르기 쉽기 때문에, 바람직하다. 또, 상기 제조 방법의 디아민과 테트라카르복실산 2 무수물의 첨가 순서를 반대로 하는 것도 가능하고, 석출물이 저감되는 점에서 바람직하다.More specifically, the diamine is dissolved in an organic solvent, the tetracarboxylic acid dianhydride is gradually added while stirring the solution, and the solution is stirred at a temperature of 0 to 120 ° C, preferably 5 to 80 ° C By stirring for 1 to 72 hours, a polyimide precursor is obtained. When the reaction is carried out at 80 占 폚 or higher, there is a possibility that the polyimide precursor can not be stably produced because the molecular weight varies depending on the temperature history at the time of polymerization and the imidization proceeds by heat. The order of addition of the diamine and the tetracarboxylic acid dianhydride in the above production method is preferable because the molecular weight of the polyimide precursor tends to rise. In addition, the order of addition of the diamine and the tetracarboxylic acid dianhydride in the above-described production method can be reversed, and the precipitate is preferably reduced.

또, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분의 몰비가 디아민 성분 과잉인 경우, 필요에 따라, 디아민 성분의 과잉 몰수에 대략 상당하는 양의 카르복실산 유도체를 첨가하고, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분의 몰비를 대략 당량에 근접시킬 수 있다. 여기서의 카르복실산 유도체로서는, 실질적으로 폴리이미드 전구체 용액의 점도를 증가시키지 않는, 요컨대 실질적으로 분자 사슬 연장에 관여하지 않는 테트라카르복실산, 혹은 말단 정지제로서 기능하는 트리카르복실산과 그 무수물, 디카르복실산과 그 무수물 등이 바람직하다.When the molar ratio of the tetracarboxylic acid component to the diamine component is excessive, a carboxylic acid derivative in an amount substantially equivalent to the excess moles of the diamine component is added, if necessary, and the tetracarboxylic acid component and the diamine component Can be approximated to approximately equivalent. Examples of the carboxylic acid derivative herein include a tetracarboxylic acid which does not substantially increase the viscosity of the polyimide precursor solution, that is substantially not involved in molecular chain extension, or a tricarboxylic acid which functions as a terminal terminator and anhydrides thereof, Dicarboxylic acid and its anhydride are preferable.

2) 폴리아미드산에스테르2) Polyamide acid ester

테트라카르복실산 2 무수물을 임의의 알코올과 반응시켜, 디에스테르디카르복실산을 얻은 후, 염소화 시약 (티오닐클로라이드, 옥살릴클로라이드 등) 과 반응시켜, 디에스테르디카르복실산클로라이드를 얻는다. 이 디에스테르디카르복실산클로라이드와 디아민을 -20 ∼ 120 ℃, 바람직하게는 -5 ∼ 80 ℃ 의 범위에서 1 ∼ 72 시간 교반함으로써, 폴리이미드 전구체가 얻어진다. 80 ℃ 이상에서 반응시키는 경우, 분자량이 중합 시의 온도 이력에 의존하여 변동하고, 또 열에 의해 이미드화가 진행되는 점에서, 폴리이미드 전구체를 안정적으로 제조할 수 없게 될 가능성이 있다. 또, 디에스테르디카르복실산과 디아민을, 인계 축합제나, 카르보디이미드 축합제 등을 사용하여 탈수 축합하는 것으로도, 간편하게 폴리이미드 전구체가 얻어진다.The tetracarboxylic acid dianhydride is reacted with an arbitrary alcohol to obtain a diester dicarboxylic acid and then reacted with a chlorinating reagent (thionyl chloride, oxalyl chloride, etc.) to obtain diester dicarboxylic acid chloride. The polyimide precursor is obtained by stirring the diester dicarboxylic acid chloride and the diamine at a temperature of -20 to 120 ° C, preferably -5 to 80 ° C for 1 to 72 hours. When the reaction is carried out at 80 占 폚 or higher, there is a possibility that the polyimide precursor can not be stably produced because the molecular weight varies depending on the temperature history at the time of polymerization and the imidization proceeds by heat. Also, a polyimide precursor can be easily obtained by dehydrating and condensing a diester dicarboxylic acid and a diamine using a phosphorus-containing condensing agent, a carbodiimide condensing agent or the like.

이 방법으로 얻어지는 폴리이미드 전구체는, 안정적이기 때문에, 물이나 알코올 등의 용제를 첨가하여 재침전 등의 정제를 실시할 수도 있다.Since the polyimide precursor obtained by this method is stable, it is also possible to carry out refining such as re-precipitation by adding a solvent such as water or alcohol.

3) 폴리아미드산실릴에스테르 (간접법)3) Polyamidic acid silyl ester (indirect method)

미리, 디아민과 실릴화제를 반응시켜, 실릴화된 디아민을 얻는다. 필요에 따라, 증류 등에 의해, 실릴화된 디아민의 정제를 실시한다. 그리고, 탈수된 용제 중에 실릴화된 디아민을 용해시켜 두고, 교반하면서, 테트라카르복실산 2 무수물을 서서히 첨가하고, 0 ∼ 120 ℃, 바람직하게는 5 ∼ 80 ℃ 의 범위에서 1 ∼ 72 시간 교반함으로써, 폴리이미드 전구체가 얻어진다. 80 ℃ 이상에서 반응시키는 경우, 분자량이 중합 시의 온도 이력에 의존하여 변동하고, 또 열에 의해 이미드화가 진행되는 점에서, 폴리이미드 전구체를 안정적으로 제조할 수 없게 될 가능성이 있다.A silylating agent is reacted with a diamine in advance to obtain a silylated diamine. If necessary, the silylated diamine is purified by distillation or the like. Then, the silylated diamine is dissolved in the dehydrated solvent, the tetracarboxylic acid dianhydride is gradually added while stirring, and the mixture is stirred at 0 to 120 ° C, preferably 5 to 80 ° C for 1 to 72 hours , A polyimide precursor is obtained. When the reaction is carried out at 80 占 폚 or higher, there is a possibility that the polyimide precursor can not be stably produced because the molecular weight varies depending on the temperature history at the time of polymerization and the imidization proceeds by heat.

여기서 사용하는 실릴화제로서, 염소를 함유하지 않는 실릴화제를 사용하는 것은, 실릴화된 디아민을 정제할 필요가 없기 때문에, 바람직하다. 염소 원자를 함유하지 않는 실릴화제로서는, N,O-비스(트리메틸실릴)트리플루오로아세트아미드, N,O-비스(트리메틸실릴)아세트아미드, 헥사메틸디실라잔을 들 수 있다. 불소 원자를 함유하지 않고 저비용인 점에서, N,O-비스(트리메틸실릴)아세트아미드, 헥사메틸디실라잔이 특히 바람직하다.As the silylating agent used herein, the use of a silylating agent containing no chlorine is preferable because it is not necessary to purify the silylated diamine. Examples of the silylating agent containing no chlorine atom include N, O-bis (trimethylsilyl) trifluoroacetamide, N, O-bis (trimethylsilyl) acetamide and hexamethyldisilazane. Particularly preferred are N, O-bis (trimethylsilyl) acetamide and hexamethyldisilazane in that they do not contain fluorine atoms and are inexpensive.

또, 디아민의 실릴화 반응에는, 반응을 촉진하기 위해서, 피리딘, 피페리딘, 트리에틸아민 등의 아민계 촉매를 사용할 수 있다. 이 촉매는 폴리이미드 전구체의 중합 촉매로서 그대로 사용할 수 있다.An amine catalyst such as pyridine, piperidine or triethylamine can be used for the silylation reaction of the diamine in order to accelerate the reaction. This catalyst can be used as it is as a polymerization catalyst for the polyimide precursor.

4) 폴리아미드산실릴에스테르 (직접법)4) Polyamide acid silyl ester (direct method)

1) 의 방법에서 얻어진 폴리아미드산 용액과 실릴화제를 혼합하고, 0 ∼ 120 ℃, 바람직하게는 5 ∼ 80 ℃ 의 범위에서 1 ∼ 72 시간 교반함으로써, 폴리이미드 전구체가 얻어진다. 80 ℃ 이상에서 반응시키는 경우, 분자량이 중합 시의 온도 이력에 의존하여 변동하고, 또 열에 의해 이미드화가 진행되는 점에서, 폴리이미드 전구체를 안정적으로 제조할 수 없게 될 가능성이 있다.The polyamic acid solution obtained in the method 1) and the silylating agent are mixed and stirred at 0 to 120 캜, preferably 5 to 80 캜 for 1 to 72 hours to obtain a polyimide precursor. When the reaction is carried out at 80 占 폚 or higher, there is a possibility that the polyimide precursor can not be stably produced because the molecular weight varies depending on the temperature history at the time of polymerization and the imidization proceeds by heat.

여기서 사용하는 실릴화제로서, 염소를 함유하지 않는 실릴화제를 사용하는 것은, 실릴화된 폴리아미드산, 혹은, 얻어진 폴리이미드를 정제할 필요가 없기 때문에, 바람직하다. 염소 원자를 함유하지 않는 실릴화제로서는, N,O-비스(트리메틸실릴)트리플루오로아세트아미드, N,O-비스(트리메틸실릴)아세트아미드, 헥사메틸디실라잔을 들 수 있다. 불소 원자를 함유하지 않고 저비용인 점에서, N,O-비스(트리메틸실릴)아세트아미드, 헥사메틸디실라잔이 특히 바람직하다.As the silylating agent used herein, the use of a silylating agent containing no chlorine is preferable because it is not necessary to purify the silylated polyamic acid or the obtained polyimide. Examples of the silylating agent containing no chlorine atom include N, O-bis (trimethylsilyl) trifluoroacetamide, N, O-bis (trimethylsilyl) acetamide and hexamethyldisilazane. Particularly preferred are N, O-bis (trimethylsilyl) acetamide and hexamethyldisilazane in that they do not contain fluorine atoms and are inexpensive.

상기 제조 방법은, 모두 유기 용매 중에서 바람직하게 실시할 수 있으므로, 그 결과로서, 폴리이미드 전구체를 함유하는 용액 또는 용액 조성물을 용이하게 얻을 수 있다.Since the above production method can be preferably carried out in an organic solvent, as a result, a solution or a solution composition containing the polyimide precursor can be easily obtained.

폴리이미드 전구체를 조제할 때에 사용하는 용매는, 예를 들어 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 디메틸술폭시드 등의 비프로톤성 용매가 바람직하고, 특히 N,N-디메틸아세트아미드가 바람직하지만, 원료 모노머 성분과 생성되는 폴리이미드 전구체가 용해되면, 어떤 종류의 용매여도 문제 없이 사용할 수 있으므로, 특히 그 구조에는 한정되지 않는다. 용매로서 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드 용매, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, δ-발레로락톤, γ-카프로락톤, ε-카프로락톤, α-메틸-γ-부티로락톤 등의 고리형 에스테르 용매, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트 용매, 트리에틸렌글리콜 등의 글리콜계 용매, m-크레졸, p-크레졸, 3-클로로페놀, 4-클로로페놀 등의 페놀계 용매, 아세토페논, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 술포란, 디메틸술폭시드 등이 바람직하게 채용된다. 또한, 그 밖의 일반적인 유기 용제, 즉 페놀, o-크레졸, 아세트산부틸, 아세트산에틸, 아세트산이소부틸, 프로필렌글리콜메틸아세테이트, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 2-메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 테트라하이드로푸란, 디메톡시에탄, 디에톡시에탄, 디부틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 메틸이소부틸케톤, 디이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸에틸케톤, 아세톤, 부탄올, 에탄올, 자일렌, 톨루엔, 클로르벤젠, 터펜, 미네랄 스피릿, 석유 나프타계 용매 등도 사용할 수 있다. 또한, 용매는, 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.Examples of the solvent to be used for preparing the polyimide precursor include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide is particularly preferable. However, when the raw material monomer component and the resulting polyimide precursor are dissolved, any kind of solvent can be used without any problem So that the structure is not particularly limited. Examples of the solvent include amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone,? -Butyrolactone,? -Valerolactone,? -Valerolactone, Cyclic ester solvents such as lactone, -caprolactone and -methyl- -butyrolactone, carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate, glycol solvents such as triethylene glycol, m-cresol, p-cresol, Phenol-based solvents such as 3-chlorophenol and 4-chlorophenol, acetophenone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, sulfolane, dimethylsulfoxide and the like are preferably employed. It is also possible to use other common organic solvents such as phenol, o-cresol, butyl acetate, ethyl acetate, isobutyl acetate, propylene glycol methyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, But are not limited to, benzoic acid, benzoic acid, benzoic acid, benzoic acid, benzoic acid, benzoic acid, benzoic acid, isophthalic acid, Methyl ethyl ketone, acetone, butanol, ethanol, xylene, toluene, chlorbenzene, terpene, mineral spirits, and petroleum naphtha type solvents. Further, a plurality of kinds of solvents may be used in combination.

본 발명에 있어서, 폴리이미드 전구체의 대수 점도는, 특별히 한정되지 않지만, 30 ℃ 에서의 농도 0.5 g/㎗ 의 N,N-디메틸아세트아미드 용액에 있어서의 대수 점도가 0.2 ㎗/g 이상, 보다 바람직하게는 0.3 ㎗/g 이상, 특히 바람직하게는 0.4 ㎗/g 이상인 것이 바람직하다. 대수 점도가 0.2 ㎗/g 이상에서는, 폴리이미드 전구체의 분자량이 높아, 얻어지는 폴리이미드의 기계 강도나 내열성이 우수하다.In the present invention, the logarithmic viscosity of the polyimide precursor is not particularly limited, but the logarithmic viscosity in the N, N-dimethylacetamide solution at a concentration of 0.5 g / dl at 30 캜 is preferably 0.2 dl / g or more, Is preferably 0.3 dl / g or more, particularly preferably 0.4 dl / g or more. When the logarithmic viscosity is 0.2 dl / g or more, the molecular weight of the polyimide precursor is high, and the obtained polyimide has excellent mechanical strength and heat resistance.

본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물은, 폴리이미드 전구체와 이미다졸계 화합물을 함유하는 것이며, 상기 제조 방법에 의해 얻어지는 폴리이미드 전구체 용액 또는 용액 조성물에 이미다졸계 화합물을 첨가하여 조제할 수 있다. 또, 필요에 따라, 용매를 제거 또는 첨가해도 되고, 이미다졸계 화합물 이외의 원하는 성분을 첨가해도 된다. 또, 용매에 테트라카르복실산 성분 (테트라카르복실산 2 무수물 등) 과 디아민 성분과 이미다졸계 화합물을 첨가하고, 이미다졸계 화합물의 존재하에서, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분을 반응시켜, 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물 (폴리이미드 전구체와 이미다졸계 화합물을 함유하는 용액 조성물) 을 얻을 수도 있다.The polyimide precursor composition of the present invention contains a polyimide precursor and an imidazole-based compound, and can be prepared by adding an imidazole-based compound to a polyimide precursor solution or solution composition obtained by the above production method. If necessary, the solvent may be removed or added, or a desired component other than the imidazole compound may be added. It is also possible to add a tetracarboxylic acid component (tetracarboxylic acid dianhydride, etc.), a diamine component and an imidazole compound to the solvent, react the tetracarboxylic acid component with the diamine component in the presence of an imidazole compound, The polyimide precursor composition of the present invention (a solution composition containing a polyimide precursor and an imidazole-based compound) can be obtained.

본 발명에 있어서 사용하는 이미다졸계 화합물은, 이미다졸 골격을 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 이미다졸계 화합물을 첨가함으로써, 두께 방향 위상차가 작은 폴리이미드가 얻어진다.The imidazole-based compound used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having an imidazole skeleton. By adding an imidazole-based compound, a polyimide having a small thickness direction retardation is obtained.

어느 실시양태에 있어서는, 이미다졸계 화합물로서 1 기압에 있어서의 비점이 340 ℃ 미만, 바람직하게는 330 ℃ 이하, 보다 바람직하게는 300 ℃ 이하, 특히 바람직하게는 270 ℃ 이하의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 1 기압에 있어서의 비점이 340 ℃ 미만, 바람직하게는 330 ℃ 이하, 보다 바람직하게는 300 ℃ 이하, 특히 바람직하게는 270 ℃ 이하의 이미다졸계 화합물을 첨가함으로써, 보다 투명성이 높은 폴리이미드가 얻어지는 경우가 있다.In any of the embodiments, it is preferable to use a compound having a boiling point of less than 340 ° C, preferably not more than 330 ° C, more preferably not more than 300 ° C, particularly preferably not more than 270 ° C at 1 atm as the imidazole compound desirable. By adding an imidazole compound having a boiling point of less than 340 deg. C, preferably not more than 330 deg. C, more preferably not more than 300 deg. C, particularly preferably not more than 270 deg. C at 1 atmosphere, polyimide having higher transparency is obtained There is a case.

본 발명에 있어서 사용하는 이미다졸계 화합물로서는, 특별히 한정되지 않지만, 1,2-디메틸이미다졸, 1-메틸이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 이미다졸, 벤조이미다졸 등을 들 수 있다. 1,2-디메틸이미다졸 (1 기압에 있어서의 비점 : 205 ℃), 1-메틸이미다졸 (1 기압에 있어서의 비점 : 198 ℃), 2-메틸이미다졸 (1 기압에 있어서의 비점 : 268 ℃), 이미다졸 (1 기압에 있어서의 비점 : 256 ℃) 등이 바람직하고, 1,2-디메틸이미다졸, 1-메틸이미다졸이 특히 바람직하다. 이미다졸계 화합물은, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.Examples of the imidazole compound used in the present invention include, but are not limited to, 1,2-dimethylimidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, imidazole, Benzoimidazole and the like. Methylimidazole (boiling point at 1 atm: 198 deg. C), 2-methylimidazole (boiling point at 1 atm: 205 deg. C), 2-methylimidazole (Boiling point: 268 占 폚), imidazole (boiling point at 1 atmosphere: 256 占 폚), and 1,2-dimethylimidazole and 1-methylimidazole are particularly preferable. The imidazole-based compound may be used singly or in combination of plural species.

본 발명에 있어서, 폴리이미드 전구체 조성물의 이미다졸계 화합물의 함유량은, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해 4 몰 미만이다. 이미다졸계 화합물의 함유량이 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해 4 몰 이상이 되면, 폴리이미드 전구체 조성물의 보존 안정성이 나빠진다. 이미다졸계 화합물의 함유량은, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해 0.05 몰 이상인 것이 바람직하고, 또, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해 2 몰 이하인 것이 바람직하다. 또한, 여기서, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰은, 테트라카르복실산 성분 1 몰에 대응한다.In the present invention, the content of the imidazole-based compound in the polyimide precursor composition is less than 4 moles per 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor. When the content of the imidazole-based compound is 4 mol or more per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor, the storage stability of the polyimide precursor composition deteriorates. The content of the imidazole-based compound is preferably 0.05 mol or more with respect to 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor, and is preferably 2 mol or less per mol of the repeating unit of the polyimide precursor. Here, 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor corresponds to 1 mole of the tetracarboxylic acid component.

본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물은, 통상적으로, 용매를 함유한다. 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물에 사용하는 용매로서는, 폴리이미드 전구체가 용해되면 문제는 없고, 특별히 그 구조는 한정되지 않는다. 용매로서 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈 등의 아미드 용매, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, δ-발레로락톤, γ-카프로락톤, ε-카프로락톤, α-메틸-γ-부티로락톤 등의 고리형 에스테르 용매, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트 용매, 트리에틸렌글리콜 등의 글리콜계 용매, m-크레졸, p-크레졸, 3-클로로페놀, 4-클로로페놀 등의 페놀계 용매, 아세토페논, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 술포란, 디메틸술폭시드 등이 바람직하게 채용된다. 또한, 그 밖의 일반적인 유기 용제, 즉 페놀, o-크레졸, 아세트산부틸, 아세트산에틸, 아세트산이소부틸, 프로필렌글리콜메틸아세테이트, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 2-메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 테트라하이드로푸란, 디메톡시에탄, 디에톡시에탄, 디부틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 메틸이소부틸케톤, 디이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸에틸케톤, 아세톤, 부탄올, 에탄올, 자일렌, 톨루엔, 클로르벤젠, 터펜, 미네랄 스피릿, 석유 나프타계 용매 등도 사용할 수 있다. 또, 이들을 복수종 조합하여 사용할 수도 있다. 또한, 폴리이미드 전구체 조성물의 용매는, 폴리이미드 전구체를 조제할 때에 사용한 용매를 그대로 사용할 수 있다.The polyimide precursor composition of the present invention usually contains a solvent. As the solvent used in the polyimide precursor composition of the present invention, there is no problem when the polyimide precursor is dissolved, and the structure thereof is not particularly limited. Examples of the solvent include amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone,? -Butyrolactone,? -Valerolactone, a cyclic ester solvent such as? -caprolactone,? -caprolactone and? -methyl-? -butyrolactone, a carbonate solvent such as ethylene carbonate and propylene carbonate, a glycol solvent such as triethylene glycol, m-cresol, p Phenol-based solvents such as cresol, 3-chlorophenol and 4-chlorophenol, acetophenone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, sulfolane, dimethylsulfoxide and the like are preferably employed. It is also possible to use other common organic solvents such as phenol, o-cresol, butyl acetate, ethyl acetate, isobutyl acetate, propylene glycol methyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, But are not limited to, benzoic acid, benzoic acid, benzoic acid, benzoic acid, benzoic acid, benzoic acid, benzoic acid, isophthalic acid, Methyl ethyl ketone, acetone, butanol, ethanol, xylene, toluene, chlorbenzene, terpene, mineral spirits, and petroleum naphtha type solvents. A plurality of these may be used in combination. As the solvent of the polyimide precursor composition, the solvent used in preparing the polyimide precursor may be used as it is.

본 발명에 있어서, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분의 합계량은, 용매와 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분의 합계량에 대해, 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상의 비율인 것이 바람직하다. 또한, 통상적으로는, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분의 합계량은, 용매와 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분의 합계량에 대해, 60 질량% 이하, 바람직하게는 50 질량% 이하인 것이 바람직하다. 이 농도는, 폴리이미드 전구체에서 기인하는 고형분 농도에 거의 근사되는 농도이지만, 이 농도가 너무 낮으면, 예를 들어 폴리이미드 필름을 제조할 때에 얻어지는 폴리이미드 필름의 막두께의 제어가 어려워지는 경우가 있다.In the present invention, the total amount of the tetracarboxylic acid component and the diamine component is at least 5% by mass, preferably at least 10% by mass, more preferably at least 15% by mass, based on the total amount of the solvent, the tetracarboxylic acid component and the diamine component By mass or more. In general, the total amount of the tetracarboxylic acid component and the diamine component is preferably 60 mass% or less, more preferably 50 mass% or less, based on the total amount of the solvent, the tetracarboxylic acid component, and the diamine component. This concentration is a concentration that approximates to the solid content concentration originating from the polyimide precursor. However, when the concentration is too low, it is difficult to control the film thickness of the polyimide film obtained when the polyimide film is produced, for example have.

본 발명에 있어서, 폴리이미드 전구체 조성물의 점도 (회전 점도) 는, 특별히 한정되지 않지만, E 형 회전 점도계를 사용하여, 온도 25 ℃, 전단 속도 20 sec-1 로 측정한 회전 점도가, 0.01 ∼ 1000 Pa·sec 가 바람직하고, 0.1 ∼ 100 Pa·sec 가 보다 바람직하다. 또, 필요에 따라, 틱소성을 부여할 수도 있다. 상기 범위의 점도에서는, 코팅이나 제막을 실시할 때, 핸들링하기 쉽고, 또, 크레이터링이 억제되고, 레벨링성이 우수하기 때문에, 양호한 피막이 얻어진다.In the present invention, the viscosity (rotational viscosity) of the polyimide precursor composition is not particularly limited, but a rotational viscosity measured at a temperature of 25 DEG C and a shear rate of 20 sec < -1 > Pa · sec is preferable, and 0.1 to 100 Pa · sec is more preferable. If necessary, a tin-plasticity may be imparted. When the viscosity is within the above-mentioned range, it is easy to handle, and the film is suppressed from being cratered and the leveling property is excellent when coating or film formation is carried out.

본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물은, 필요에 따라, 화학 이미드화제 (무수 아세트산 등의 산무수물이나, 피리딘, 이소퀴놀린 등의 아민 화합물), 산화 방지제, 필러 (실리카 등의 무기 입자 등), 염료, 안료, 실란 커플링제 등의 커플링제, 프라이머, 난연재, 소포제, 레벨링제, 레올로지 컨트롤제 (유동 보조제), 박리제 등을 함유할 수 있다.The polyimide precursor composition of the present invention may contain, if necessary, a chemical imidization agent (an acid anhydride such as acetic anhydride, an amine compound such as pyridine or isoquinoline), an antioxidant, a filler (inorganic particles such as silica) , A coupling agent such as a pigment and a silane coupling agent, a primer, a flame retardant, a defoaming agent, a leveling agent, a rheology control agent (flow aid), a release agent and the like.

본 발명의 폴리이미드는, 상기와 같은 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물을 이미드화함 (즉, 폴리이미드 전구체를 탈수 폐환 반응한다) 으로써 얻을 수 있다. 이미드화의 방법은 특별히 한정되지 않고, 공지된 열이미드화, 또는 화학 이미드화의 방법을 바람직하게 적용할 수 있다. 얻어지는 폴리이미드의 형태는, 필름, 폴리이미드 필름과 다른 기재의 적층체, 코팅막, 분말, 비즈, 성형체, 발포체 등을 바람직하게 들 수 있다.The polyimide of the present invention can be obtained by imidizing the polyimide precursor composition of the present invention as described above (i.e., dehydrating and cyclizing the polyimide precursor). The method of imidization is not particularly limited, and a known method of heat imidization or chemical imidization can be suitably applied. The form of the obtained polyimide is preferably a film, a laminate of a polyimide film and another substrate, a coating film, a powder, a bead, a molded article, a foam, and the like.

본 발명에 있어서는, 폴리이미드 전구체 조성물을, 최고 가열 온도 350 ℃ 초과에서 가열 처리하여, 폴리이미드 전구체를 이미드화하는 것이 바람직하다. 이미드화를 위한 가열 처리의 최고 가열 온도는, 380 ℃ 를 초과하는 것이 보다 바람직하고, 400 ℃ 를 초과하는 것이 특히 바람직하다. 이미드화를 위한 가열 처리의 최고 가열 온도를, 350 ℃ 를 초과하는 온도, 보다 바람직하게는 380 ℃ 를 초과하는 온도, 특히 바람직하게는 400 ℃ 를 초과하는 온도로 함으로써, 얻어지는 폴리이미드의 기계적 특성이 향상된다. 가열 처리의 최고 가열 온도의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로, 500 ℃ 이하가 바람직하다.In the present invention, it is preferable that the polyimide precursor composition is subjected to a heat treatment at a maximum heating temperature of 350 DEG C or higher to imidize the polyimide precursor. The maximum heating temperature of the heat treatment for imidization is more preferably higher than 380 ° C, and particularly preferably higher than 400 ° C. By setting the maximum heating temperature of the heat treatment for imidization to a temperature higher than 350 ° C, more preferably higher than 380 ° C, particularly preferably higher than 400 ° C, the mechanical properties of the obtained polyimide . The upper limit of the maximum heating temperature in the heat treatment is not particularly limited, but is preferably 500 ° C or lower.

예를 들어, 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물을 기재 상에 유연·도포하고, 이 기재 상의 폴리이미드 전구체 조성물을 최고 가열 온도 350 ℃ 초과, 보다 바람직하게는 380 ℃ 초과, 특히 바람직하게는 400 ℃ 를 초과하는 온도에서 가열 처리하여, 폴리이미드 전구체를 이미드화함으로써, 폴리이미드를 바람직하게 제조 할 수 있다. 또한, 가열 프로파일은 특별히 한정되지 않고, 적절히 선택할 수 있지만, 생산성의 점에서는, 가열 처리하는 시간은 짧은 것이 바람직하다.For example, the polyimide precursor composition of the present invention may be applied and softened on a substrate, and the polyimide precursor composition on the substrate may be heated to a temperature higher than 350 DEG C, more preferably higher than 380 DEG C, particularly preferably 400 DEG C The polyimide can be preferably prepared by heat-treating the polyimide precursor at an excess temperature to imidize the polyimide precursor. The heating profile is not particularly limited and can be appropriately selected. However, from the viewpoint of productivity, it is preferable that the heating treatment time is short.

또, 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물을 기재 상에 유연·도포하고, 바람직하게는 180 ℃ 이하의 온도 범위에서 건조시켜, 기재 상에 폴리이미드 전구체 조성물의 막을 형성하고, 얻어진 폴리이미드 전구체 조성물의 막을 기재 상으로부터 박리하고, 그 막의 단부를 고정한 상태로, 최고 가열 온도 350 ℃ 초과, 보다 바람직하게는 380 ℃ 초과, 특히 바람직하게는 400 ℃ 를 초과하는 온도에서 가열 처리하여, 폴리이미드 전구체를 이미드화하는 것에 의해서도, 폴리이미드를 바람직하게 제조할 수 있다.In addition, the polyimide precursor composition of the present invention is applied on the substrate in a flexible manner and preferably dried at a temperature of 180 캜 or lower to form a film of the polyimide precursor composition on the substrate, and the film of the obtained polyimide precursor composition The polyimide precursor is imidized by heat treatment at a temperature at which the maximum heating temperature is higher than 350 DEG C, more preferably higher than 380 DEG C, particularly preferably higher than 400 DEG C, , Polyimide can be preferably produced.

보다 구체적인 본 발명의 폴리이미드 (폴리이미드 필름/기재 적층체, 혹은 폴리이미드 필름) 의 제조 방법의 일례에 대해서는, 후술한다.An example of a more specific process for producing the polyimide (polyimide film / substrate laminate or polyimide film) of the present invention will be described later.

본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물로부터 얻어지는 폴리이미드 (본 발명의 폴리이미드) 는, 특별히 한정되지 않지만, 필름으로 했을 때의 150 ℃ 내지 250 ℃ 까지의 선열팽창 계수가, 바람직하게는 60 ppm/K 이하, 보다 바람직하게는 50 ppm/K 이하, 더욱 바람직하게는 45 ppm/K 이하, 더욱 바람직하게는 40 ppm/K 이하, 특히 바람직하게는 35 ppm/K 이하일 수 있다. 선열팽창 계수가 크면, 금속 등의 도체와의 선열팽창 계수의 차가 커, 회로 기판을 형성할 때에 휨이 증대하는 등의 문제가 생기는 경우가 있다.The polyimide (the polyimide of the present invention) obtained from the polyimide precursor composition of the present invention is not particularly limited, but the coefficient of linear thermal expansion of the film to 150 deg. C to 250 deg. C is preferably 60 ppm / K or less , More preferably not more than 50 ppm / K, still more preferably not more than 45 ppm / K, still more preferably not more than 40 ppm / K, particularly preferably not more than 35 ppm / K. When the coefficient of linear thermal expansion is large, a difference in coefficient of linear thermal expansion from a conductor such as a metal is large, and there arises a problem that warpage increases when a circuit board is formed.

본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물로부터 얻어지는 폴리이미드 (본 발명의 폴리이미드) 는, 특별히 한정되지 않지만, 두께 10 ㎛ 의 필름에서의 전체 광 투과율 (파장 380 nm ∼ 780 nm 의 평균 광 투과율) 이, 바람직하게는 86 % 이상, 보다 바람직하게는 87 % 이상, 특히 바람직하게는 88 % 이상일 수 있다. 디스플레이 용도 등으로 사용하는 경우, 전체 광 투과율이 낮으면 광원을 강하게 할 필요가 있어, 에너지가 소요된다는 문제 등을 일으키는 경우가 있다.The polyimide (polyimide of the present invention) obtained from the polyimide precursor composition of the present invention is not particularly limited, but it is preferable that the total light transmittance (average light transmittance at a wavelength of 380 nm to 780 nm) , Preferably not less than 86%, more preferably not less than 87%, particularly preferably not less than 88%. When it is used for a display purpose or the like, if the total light transmittance is low, it is necessary to make the light source strong, which may cause energy consumption.

특히 디스플레이 용도 등의 폴리이미드 필름을 광이 투과하는 용도로 사용하는 경우, 폴리이미드 필름은 투명성이 높은 것이 바람직하다. 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물로부터 얻어지는 폴리이미드 (본 발명의 폴리이미드) 는, 특별히 한정되지 않지만, 두께 10 ㎛ 의 필름에서의 파장 400 nm 에 있어서의 광 투과율이, 바람직하게는 75 % 이상, 바람직하게는 80 % 이상, 보다 바람직하게는 80 % 초과, 더욱 바람직하게는 81 % 이상, 특히 바람직하게는 82 % 이상일 수 있다.Particularly, when a polyimide film such as a display purpose is used for the purpose of transmitting light, the polyimide film preferably has high transparency. The polyimide (polyimide of the present invention) obtained from the polyimide precursor composition of the present invention is not particularly limited, but preferably has a light transmittance at a wavelength of 400 nm in a film having a thickness of 10 占 퐉, preferably at least 75% , Preferably 80% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 81% or more, particularly preferably 82% or more.

또한, 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물로부터 얻어지는 폴리이미드 (본 발명의 폴리이미드) 로 이루어지는 필름은, 용도에 따라 다르기도 하지만, 필름의 두께로서는, 바람직하게는 0.1 ㎛ ∼ 250 ㎛, 보다 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 150 ㎛, 더욱 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 50 ㎛, 특히 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 30 ㎛ 이다. 폴리이미드 필름을 광이 투과하는 용도로 사용하는 경우, 폴리이미드 필름이 너무 두꺼우면 광 투과율이 낮아질 우려가 있다.The film made of the polyimide (polyimide of the present invention) obtained from the polyimide precursor composition of the present invention may differ depending on the application, but the thickness of the film is preferably 0.1 to 250 占 퐉, 1 mu m to 150 mu m, more preferably 1 mu m to 50 mu m, and particularly preferably 1 mu m to 30 mu m. When the polyimide film is used for the purpose of transmitting light, when the polyimide film is too thick, the light transmittance may be lowered.

본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물로부터 얻어지는 폴리이미드 (본 발명의 폴리이미드) 는, 특별히 한정되지 않지만, 폴리이미드 필름의 내열성의 지표인 1 % 중량 감소 온도가, 바람직하게는 395 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 430 ℃ 이상, 더욱 바람직하게는 440 ℃ 이상, 특히 바람직하게는 470 ℃ 이상일 수 있다. 폴리이미드 상에 트랜지스터를 형성하는 등으로, 폴리이미드 상에 가스 배리어막 등을 형성하는 경우, 내열성이 낮으면 폴리이미드와 배리어막의 사이에서, 폴리이미드의 분해에 수반되는 아웃 가스에 의해 팽윤이 생기는 경우가 있다.The polyimide (the polyimide of the present invention) obtained from the polyimide precursor composition of the present invention is not particularly limited, but the 1% weight reduction temperature which is an index of the heat resistance of the polyimide film is preferably 395 DEG C or higher, May be 430 DEG C or higher, more preferably 440 DEG C or higher, and particularly preferably 470 DEG C or higher. When a gas barrier film or the like is formed on a polyimide by forming a transistor on the polyimide or the like, if the heat resistance is low, swelling occurs due to the outgass accompanying the decomposition of the polyimide between the polyimide and the barrier film There is a case.

본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물로부터 얻어지는 폴리이미드 (본 발명의 폴리이미드) 는, 특별히 한정되지 않지만, 폴리이미드 필름의 두께 방향 위상차가, 바람직하게는 1000 nm 이하, 보다 바람직하게는 800 nm 이하, 더욱 바람직하게는 700 nm 이하, 특히 바람직하게는 600 nm 이하일 수 있다. 두께 방향의 위상차가 크면 투과광의 색이 올바르게 표시되지 않는, 색의 번짐이나 시야각이 좁아진다는 문제가 일어나는 경우가 있다.The polyimide (the polyimide of the present invention) obtained from the polyimide precursor composition of the present invention is not particularly limited, but the retardation in the thickness direction of the polyimide film is preferably 1000 nm or less, more preferably 800 nm or less Preferably 700 nm or less, particularly preferably 600 nm or less. If the retardation in the thickness direction is large, the color of the transmitted light may not be displayed correctly, and the blurring of the color or the viewing angle may become narrow.

본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물로부터 얻어지는 폴리이미드, 즉 본 발명의 폴리이미드는, 막두께 방향의 위상차가 작고, 높은 투명성, 절곡(折曲) 내성, 고내열성 등의 우수한 특성을 가지며, 또한 매우 낮은 선열팽창 계수를 갖는 점에서, 디스플레이용 투명 기판, 터치 패널용 투명 기판, 혹은 태양 전지용 기판의 용도에 있어서, 바람직하게 사용할 수 있다.The polyimide obtained from the polyimide precursor composition of the present invention, that is, the polyimide of the present invention has a small retardation in the film thickness direction, excellent properties such as high transparency, bending resistance and high heat resistance, Can be suitably used in the applications of a transparent substrate for display, a transparent substrate for a touch panel, or a substrate for a solar cell because of its linear thermal expansion coefficient.

이하에서는, 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물을 사용한, 폴리이미드 필름/기재 적층체, 혹은 폴리이미드 필름의 제조 방법의 일례에 대해 기술한다. 단, 이하의 방법으로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, an example of a method for producing a polyimide film / substrate laminate or a polyimide film using the polyimide precursor composition of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to the following method.

예를 들어 세라믹 (유리, 실리콘, 알루미나 등), 금속 (구리, 알루미늄, 스테인리스 등), 내열 플라스틱 필름 (폴리이미드 필름 등) 등의 기재에, 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물 (바니시) 을 유연하고, 진공 중, 질소 등의 불활성 가스 중, 혹은 공기 중에서, 열풍 혹은 적외선을 사용하여, 20 ∼ 180 ℃, 바람직하게는 20 ∼ 150 ℃ 의 온도 범위에서 건조시킨다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 전구체 필름을 기재 상에서, 혹은 폴리이미드 전구체 필름을 기재 상으로부터 박리하고, 그 필름의 단부를 고정한 상태에서, 진공 중, 질소 등의 불활성 가스 중, 혹은 공기 중에서, 열풍 혹은 적외선을 사용하여, 예를 들어 200 ∼ 500 ℃, 바람직하게는 최고 가열 온도 350 ℃ 초과, 보다 바람직하게는 380 ℃ 초과, 특히 바람직하게는 400 ℃ 를 초과하는 온도에서 가열 이미드화함으로써 폴리이미드 필름/기재 적층체, 혹은 폴리이미드 필름을 제조할 수 있다. 또한, 얻어지는 폴리이미드 필름이 산화 열화되는 것을 방지하기 위해, 가열 이미드화는, 진공 중, 혹은 불활성 가스 중에서 실시하는 것이 바람직하다. 여기서의 폴리이미드 필름 (폴리이미드 필름/기재 적층체의 경우에는, 폴리이미드 필름층) 의 두께는, 이후의 공정의 반송성을 위해, 바람직하게는 1 ∼ 250 ㎛, 보다 바람직하게는 1 ∼ 150 ㎛ 이다.The polyimide precursor composition (varnish) of the present invention is softened and applied to a substrate such as a ceramic (glass, silicon, alumina, etc.), metal (copper, aluminum, stainless steel, etc.), heat resistant plastic film (polyimide film, , In a vacuum, in an inert gas such as nitrogen, or in air, using hot air or infrared rays, at a temperature of 20 to 180 ° C, preferably 20 to 150 ° C. Next, the obtained polyimide precursor film is peeled off from the base material, or the polyimide precursor film is peeled off from the base material, hot air or infrared rays are irradiated in an inert gas such as nitrogen, Imidization is carried out at a temperature of, for example, 200 to 500 ° C, preferably a maximum heating temperature of more than 350 ° C, more preferably more than 380 ° C, particularly preferably more than 400 ° C, Or a polyimide film can be produced. Further, in order to prevent oxidization deterioration of the obtained polyimide film, the heat imidization is preferably carried out in vacuum or in an inert gas. The thickness of the polyimide film (polyimide film layer in the case of the polyimide film / substrate laminate) herein is preferably 1 to 250 占 퐉, more preferably 1 to 150 占 퐉, Mu m.

또, 폴리이미드 전구체의 이미드화 반응은, 상기와 같은 가열 처리에 의한 가열 이미드화 대신에, 폴리이미드 전구체를 피리딘이나 트리에틸아민 등의 3 급 아민 존재하, 무수 아세트산 등의 탈수 고리화 시약을 함유하는 용액에 침지하는 등의 화학적 처리에 의해 실시하는 것도 가능하다. 또, 이들의 탈수 고리화 시약을 미리, 폴리이미드 전구체 조성물 (바니시) 중에 투입·교반하고, 그것을 기재 상에 유연·건조시킴으로써, 부분적으로 이미드화한 폴리이미드 전구체를 제작할 수도 있고, 이것을 추가로 상기와 같은 가열 처리함으로써, 폴리이미드 필름/기재 적층체, 혹은 폴리이미드 필름을 얻을 수 있다.The imidization reaction of the polyimide precursor can be carried out in the same manner as in the case of the polyimide precursor in the presence of a tertiary amine such as pyridine or triethylamine in the presence of a dehydrating cyclization reagent such as acetic anhydride Or by chemical treatment such as immersion in a solution containing a surfactant. In addition, these dehydrating and cyclization reagents may be added and stirred in advance in a polyimide precursor composition (varnish), and the mixture may be plied and dried on a substrate to partially imidize the polyimide precursor. , A polyimide film / base laminate or a polyimide film can be obtained.

이와 같이 하여 얻어진 폴리이미드 필름/기재 적층체, 혹은 폴리이미드 필름은, 그 편면 혹은 양면에 도전성층을 형성함으로써, 플렉시블한 도전성 기판을 얻을 수 있다.A flexible conductive substrate can be obtained by forming a conductive layer on one side or both sides of the polyimide film / substrate laminate or polyimide film thus obtained.

플렉시블한 도전성 기판은, 예를 들어 다음의 방법에 의해 얻을 수 있다. 즉, 제 1 방법으로서는, 폴리이미드 필름/기재 적층체를 기재로부터 폴리이미드 필름을 박리하지 않고, 그 폴리이미드 필름 표면에, 스퍼터, 증착, 인쇄 등에 의해, 도전성 물질 (금속 혹은 금속 산화물, 도전성 유기물, 도전성 탄소 등) 의 도전층을 형성시켜, 도전성층/폴리이미드 필름/기재의 도전성 적층체를 제조한다. 그 후 필요에 따라, 기재로부터 도전성층/폴리이미드 필름 적층체를 박리함으로써, 도전성층/폴리이미드 필름 적층체로 이루어지는 투명하고 플렉시블한 도전성 기판을 얻을 수 있다.The flexible conductive substrate can be obtained, for example, by the following method. That is, as a first method, a polyimide film / base layered product is formed on the surface of the polyimide film by sputtering, vapor deposition, printing, or the like without peeling the polyimide film from the base material and a conductive material (metal or metal oxide, , Conductive carbon, or the like) is formed to prepare a conductive laminate of a conductive layer / polyimide film / substrate. Thereafter, if necessary, the conductive layer / polyimide film laminate is peeled off from the substrate to obtain a transparent and flexible conductive substrate comprising the conductive layer / polyimide film laminate.

제 2 방법으로서는, 폴리이미드 필름/기재 적층체의 기재로부터 폴리이미드 필름을 박리하여, 폴리이미드 필름을 얻고, 그 폴리이미드 필름 표면에, 도전성 물질 (금속 혹은 금속 산화물, 도전성 유기물, 도전성 탄소 등) 의 도전층을, 제 1 방법과 동일하게 하여 형성시켜, 도전성층/폴리이미드 필름 적층체, 도전성층/폴리이미드 필름 적층체/도전성층으로 이루어지는 투명하고 플렉시블한 도전성 기판을 얻을 수 있다.As a second method, a polyimide film is peeled from a substrate of a polyimide film / substrate laminate to obtain a polyimide film, and a conductive material (metal or metal oxide, conductive organic material, conductive carbon, etc.) Can be formed in the same manner as in the first method to obtain a transparent and flexible conductive substrate made of the conductive layer / polyimide film laminate and the conductive layer / polyimide film laminate / conductive layer.

또한, 제 1, 제 2 방법에 있어서, 필요에 따라, 폴리이미드 필름의 표면에 도전층을 형성하기 전에, 스퍼터, 증착이나 겔-졸법 등에 의해, 수증기, 산소 등의 가스 배리어층, 광 조정층 등의 무기층을 형성해도 상관없다.In addition, in the first and second methods, a gas barrier layer such as water vapor or oxygen, a light-shielding layer such as oxygen, or the like may be formed by sputtering, vapor deposition or gel-sol method before forming the conductive layer on the surface of the polyimide film, Or the like may be formed.

또, 도전층은, 포토리소그래피법이나 각종 인쇄법, 잉크젯법 등의 방법에 의해, 회로가 바람직하게 형성된다.The conductive layer is preferably formed by a method such as a photolithography method, various printing methods, and an inkjet method.

이와 같이 하여 얻어지는 본 발명의 기판은, 본 발명의 폴리이미드에 의해 구성된 폴리이미드 필름의 표면에, 필요에 따라 가스 배리어층이나 무기층을 개재하여, 도전층의 회로를 갖는 것이다. 이 기판은, 플렉시블하고, 높은 투명성, 절곡성, 내열성이 우수하고, 추가로 매우 낮은 선열팽창 계수나 우수한 내용제성을 아울러 가지므로 미세한 회로의 형성이 용이하다. 따라서, 이 기판은, 디스플레이용, 터치 패널용, 또는 태양 전지용의 기판으로서 바람직하게 사용할 수 있다.The substrate of the present invention thus obtained has a circuit of a conductive layer on the surface of a polyimide film constituted by the polyimide of the present invention, optionally with a gas barrier layer or an inorganic layer interposed therebetween. This substrate is flexible, has excellent transparency, bending property, heat resistance, further has a very low coefficient of linear thermal expansion and excellent solvent resistance, so that it is easy to form a fine circuit. Therefore, this substrate can be preferably used as a substrate for a display, a touch panel, or a solar cell.

즉, 이 기판에, 증착, 각종 인쇄법, 혹은 잉크젯법 등에 의해, 추가로 트랜지스터 (무기 트랜지스터, 유기 트랜지스터) 가 형성되어 플렉시블 박막 트랜지스터가 제조되고, 그리고, 표시 디바이스용의 액정 소자, EL 소자, 광전 소자로서 바람직하게 사용된다.That is, a transistor (an inorganic transistor or an organic transistor) is further formed on the substrate by vapor deposition, various printing methods, ink jetting or the like to produce a flexible thin film transistor, and a liquid crystal element, And is preferably used as a photoelectric element.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예에 의해 본 발명을 추가로 설명한다. 또한, 본 발명은 이하의 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be further described with reference to examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following examples.

이하의 각 예에 있어서 평가는 다음의 방법으로 실시했다.In each of the following examples, evaluation was carried out in the following manner.

<폴리이미드 전구체 용액 (바니시) 의 평가>≪ Evaluation of polyimide precursor solution (varnish) >

[보존 안정성][Storage stability]

23 ℃ 에서 바니시를 보존하고, 3 일 후에 유동성이 있는 균일한 상태이면 ○, 3 일 후에 백탁, 혹은 겔화되어 있으면 × 로 한다.The varnish was stored at 23 占 폚. When the varnish was in a homogeneous state with fluidity after 3 days, it was evaluated as opaque after 3 days, or when the varnish was gelled.

<폴리이미드 필름의 평가>≪ Evaluation of polyimide film &

[400 nm 광 투과율, 전체 광 투과율][400 nm light transmittance, total light transmittance]

자외 가시 분광 광도계/V-650DS (닛폰 분광 제조) 를 사용하여, 막두께 약 10 ㎛ 의 폴리이미드막의 400 nm 에 있어서의 광 투과율과, 전체 광 투과율 (380 nm ∼ 780 nm 에 있어서의 평균 투과율) 을 측정했다. 측정한 400 nm 에 있어서의 광 투과율과, 전체 광 투과율을 반사율을 10 % 로 하여 람베르트·비어식을 사용하여, 10 ㎛ 두께의 400 nm 에 있어서의 광 투과율과 전체 광 투과율을 산출했다. 산출식을 하기에 나타낸다.(Light transmittance at 380 nm to 780 nm) of the polyimide film having a thickness of about 10 mu m at 400 nm was measured using an ultraviolet visible spectrophotometer / V-650DS (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) . The light transmittance at 400 nm and the total light transmittance were calculated using a Lambert-Beer equation with a reflectance of 10% and a total light transmittance at 400 nm measured. The calculation formula is shown below.

Log10 ((T1 + 10)/100) = 10/L × (Log10 ((T1' + 10)/100))Log 10 ((T 1 + 10) / 100) = 10 / L (Log 10 ((T 1 '+ 10) / 100)

Log10 ((T2 + 10)/100) = 10/L × (Log10 ((T2' + 10)/100))Log 10 ((T 2 + 10) / 100) = 10 / L (Log 10 ((T 2 '+ 10) / 100)

T1 : 반사율을 10 % 로 했을 때의 10 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름의 400 nm 에 있어서의 광 투과율 (%) T 1: light transmittance (%) at 400 nm of a 10 탆 thick polyimide film with a reflectance of 10%

T1' : 측정한 400 nm 에 있어서의 광 투과율 (%) T 1 ': light transmittance (%) at 400 nm measured

T2 : 반사율을 10 % 로 했을 때의 10 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름의 전체 광 투과율 (%) T 2: total light transmittance (%) of a polyimide film of 10 탆 thickness with a reflectance of 10%

T2' : 측정한 전체 광 투과율 (%) T 2 ': Total light transmittance (%) measured

L : 측정한 폴리이미드 필름의 막두께 (㎛)L: film thickness of measured polyimide film (mu m)

[탄성률, 파단점 신도][Modulus of elasticity, elongation at break]

막두께 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 IEC450 규격의 덤벨 형상으로 타발하여 시험편으로 하고, ORIENTEC 사 제조 TENSILON 을 사용하여, 척간 길이 30 mm, 인장 속도 2 mm/분으로, 초기의 탄성률, 파단점 신도를 측정했다.A polyimide film having a film thickness of about 10 탆 was struck in a dumbbell shape conforming to IEC 450 standard and used as a test piece. Tensilon manufactured by ORIENTEC Co., Ltd. was used to measure the initial modulus of elasticity and elongation at break at a chuck length of 30 mm and a tensile rate of 2 mm / .

[선열팽창 계수 (CTE)][Linear Thermal Expansion Coefficient (CTE)]

막두께 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 폭 4 mm 의 단책(短冊)상으로 잘라내어 시험편으로 하고, TMA/SS6100 (에스아이아이·나노테크놀로지 주식회사 제조) 을 사용하여, 척간 길이 15 mm, 하중 2 g, 승온 속도 20 ℃/분으로 500 ℃ 까지 승온했다. 얻어진 TMA 곡선으로부터, 150 ℃ 에서 250 ℃ 까지의 선열팽창 계수를 구했다.A polyimide film having a film thickness of about 10 탆 was cut out into a short strip of 4 mm in width and used as a test piece and a test piece of 15 mm in length between chucks and 2 g in weight was prepared using TMA / SS6100 (manufactured by SII Ai Nanotechnology Co., Ltd.) , And the temperature was raised to 500 ° C at a heating rate of 20 ° C / min. From the obtained TMA curve, the coefficient of linear thermal expansion from 150 deg. C to 250 deg. C was obtained.

[1 % 중량 감소 온도][1% weight reduction temperature]

막두께 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 시험편으로 하고, TA 인스투르먼트사 제조 열량계 측정 장치 (Q5000IR) 를 사용하여, 질소 기류 중, 승온 속도 10 ℃/분으로 25 ℃ 에서 600 ℃ 까지 승온했다. 얻어진 중량 곡선으로부터, 1 % 중량 감소 온도를 구했다.Using a polyimide film having a film thickness of about 10 占 퐉 as a test piece, the temperature was raised from 25 占 폚 to 600 占 폚 at a heating rate of 10 占 폚 / min in a nitrogen stream using a calorimeter apparatus (Q5000IR) manufactured by TA Instruments. From the weight curve obtained, a 1% weight reduction temperature was determined.

[필름의 두께 방향 위상차 (Rth)][Thickness phase difference (R th ) of the film]

막두께 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 시험편으로 하고, 오지 계측기사 제조 위상차 측정 장치 (KOBRA-WR) 를 사용하여, 입사각을 40 °로 하여 필름의 위상차 측정을 실시했다. 얻어진 위상차로부터, 막두께 10 ㎛ 의 필름의 두께 방향의 위상차를 구했다.Using a polyimide film having a film thickness of 10 占 퐉 as a test piece and using an out-of-phase measurement article manufacturing phase difference measurement device (KOBRA-WR), the phase difference of the film was measured at an incident angle of 40 °. From the obtained retardation, the retardation in the thickness direction of the film having a film thickness of 10 mu m was determined.

이하의 각 예에서 사용한 원재료의 약칭, 순도 등은, 다음과 같다.The abbreviations, purity and the like of the raw materials used in the following examples are as follows.

[디아민 성분][Diamine component]

tra-DACH : 트랜스-1,4-디아미노시클로헥산〔순도 : 99.1 % (GC 분석)〕tra-DACH: trans-1,4-diaminocyclohexane [purity: 99.1% (GC analysis)]

DABAN : 4,4'-디아미노벤즈아닐리드〔순도 : 99.90 % (GC 분석)〕DABAN: 4,4'-diaminobenzanilide [Purity: 99.90% (GC analysis)]

PPD : p-페닐렌디아민〔순도 : 99.9 % (GC 분석)〕PPD: p-phenylenediamine [purity: 99.9% (GC analysis)]

4,4'-ODA : 4,4'-옥시디아닐린〔순도 : 99.9 % (GC 분석)〕4,4'-ODA: 4,4'-oxydianiline [Purity: 99.9% (GC analysis)]

BAPB : 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐〔순도 : 99.93 % (HPLC 분석)〕BAPB: 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl [purity: 99.93% (HPLC analysis)]

[테트라카르복실산 성분][Component of tetracarboxylic acid]

s-BPDA : 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 2 무수물〔순도 99.9 % (H-NMR 분석)〕s-BPDA: 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride [purity 99.9% (1 H-NMR analysis)]

a-BPDA : 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산 2 무수물〔순도 99.6 % (H-NMR 분석)〕a-BPDA: 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride [purity 99.6% (1 H-NMR analysis)]

PMDA-HS : 1R,2S,4S,5R-시클로헥산테트라카르복실산 2 무수물〔순도 : 99.9 % (GC 분석)〕PMDA-HS: 1R, 2S, 4S, 5R-Cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride [Purity: 99.9% (GC analysis)]

CpODA-tee : trans-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산 2 무수물 CpODA-tee: trans-endo-endo-norbornane-2-spiro- [alpha] -cyclopentanone-a'- spiro-2 " -norbornane-5,5 ", 6,6 & Carboxylic acid dianhydride

CpODA-cee : cis-endo-endo-노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2''-노르보르난-5,5'',6,6''-테트라카르복실산 2 무수물 CpODA-cee: cis-endo-endo-norbornane-2-spiro- [alpha] -cyclopentanone-a'- spiro-2 " -norbornane-5,5 ", 6,6 & Carboxylic acid dianhydride

CpODA : CpODA-tee 와 CpODA-cee 의 혼합물CpODA: a mixture of CpODA-tee and CpODA-cee

PACDA : N,N'-(1,4-페닐렌)비스(1,3-디옥소옥타하이드로이소벤조푸란-5-카르복시아미드)PACDA: N, N '- (1,4-phenylene) bis (1,3-dioxoctahydroisobenzofuran-5-carboxamide)

[표 1][Table 1]

Figure pct00009
Figure pct00009

[용매][menstruum]

NMP : N-메틸-2-피롤리돈NMP: N-methyl-2-pyrrolidone

표 1-1 에 실시예, 비교예에서 사용한 테트라카르복실산 성분, 표 1-2 에 실시예, 비교예에서 사용한 디아민 성분, 표 1-3 에 실시예, 비교예에서 사용한 이미다졸·이미다졸린 화합물의 구조식을 기재한다.Examples of the tetracarboxylic acid component used in Examples and Comparative Examples, the diamine components used in Examples and Comparative Examples in Table 1-2, the imidazole imide used in Examples and Comparative Examples in Table 1-3, Describe the structural formula of the zolinic compound.

[표 1-1][Table 1-1]

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Figure pct00010

[표 1-2][Table 1-2]

Figure pct00011
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[표 1-3][Table 1-3]

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Figure pct00012

〔합성예 1〕[Synthesis Example 1]

질소 가스로 치환한 반응 용기 중에 DABAN 90.91 g (0.4 몰) 과 PPD 64.88 g (0.6 몰) 을 넣고, N-메틸-2-피롤리돈을, 주입 모노머 총질량 (디아민 성분과 카르복실산 성분의 총합) 이 16 질량% 가 되는 양인 2835.90 g 을 첨가하여 실온에서 1 시간 교반했다. 이 용액에 CpODA 384.38 g (1.0 몰) 을 서서히 첨가했다. 실온에서 12 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액 (바니시 A) 을 얻었다.90.91 g (0.4 mol) of DABAN and 64.88 g (0.6 mol) of PPD were placed in a reaction vessel which was substituted with nitrogen gas and N-methyl-2-pyrrolidone was added to the total monomer 2835.90 g as a total amount of 16% by mass) was added to the mixture, followed by stirring at room temperature for 1 hour. 384.38 g (1.0 mole) of CpODA was gradually added to this solution. Followed by stirring at room temperature for 12 hours to obtain a homogeneous and viscous polyimide precursor solution (varnish A).

〔합성예 2〕[Synthesis Example 2]

질소 가스로 치환한 반응 용기 중에 DABAN 90.91 g (0.4 몰) 과 PPD 54.07 g (0.5 몰) 과 BAPB 36.84 g (0.1 몰) 을 넣고, N-메틸-2-피롤리돈을, 주입 모노머 총질량 (디아민 성분과 카르복실산 성분의 총합) 이 16 질량% 가 되는 양인 2972.56 g 을 첨가하여 실온에서 1 시간 교반했다. 이 용액에 CpODA 384.38 g (1.0 몰) 을 서서히 첨가했다. 실온에서 12 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액 (바니시 B) 을 얻었다.90.91 g (0.4 mole) of DABAN, 54.07 g (0.5 mole) of PPD and 36.84 g (0.1 mole) of BAPB were placed in a reaction vessel substituted with nitrogen gas, and N-methyl-2-pyrrolidone was added to the total monomer 2972.56 g which is a total amount of the diamine component and the carboxylic acid component) of 16% by mass was added and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 384.38 g (1.0 mole) of CpODA was gradually added to this solution. Followed by stirring at room temperature for 12 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution (varnish B).

〔합성예 3〕[Synthesis Example 3]

질소 가스로 치환한 반응 용기 중에 DABAN 22.73 g (0.100 몰) 을 넣고, N-메틸-2-피롤리돈을, 주입 모노머 총질량 (디아민 성분과 카르복실산 성분의 총합) 이 16 질량% 가 되는 양인 3211.16 g 을 첨가하여 실온에서 1 시간 교반했다. 이 용액에 CpODA 38.44 g (0.100 몰) 을 서서히 첨가했다. 실온에서 12 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액 (바니시 C) 을 얻었다.22.73 g (0.100 mol) of DABAN was placed in a reaction vessel substituted with nitrogen gas, and N-methyl-2-pyrrolidone was added to the reactor so that the total mass of the injected monomers (the total of the diamine component and the carboxylic acid component) And the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 38.44 g (0.100 mol) of CpODA was slowly added to this solution. Followed by stirring at room temperature for 12 hours to obtain a homogeneous and viscous polyimide precursor solution (varnish C).

〔합성예 4〕[Synthesis Example 4]

질소 가스로 치환한 반응 용기 중에 DABAN 15.91 g (0.070 몰) 과 PPD 3.24 g (0.030 몰) 을 넣고, N-메틸-2-피롤리돈을, 주입 모노머 총질량 (디아민 성분과 카르복실산 성분의 총합) 이 16 질량% 가 되는 양인 302.35 g 을 첨가하여 실온에서 1 시간 교반했다. 이 용액에 CpODA 38.44 g (0.100 몰) 을 서서히 첨가했다. 실온에서 12 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액 (바니시 D) 을 얻었다.15.91 g (0.070 mol) of DABAN and 3.24 g (0.030 mol) of PPD were placed in a reaction vessel substituted with nitrogen gas, and N-methyl-2-pyrrolidone was added to the total monomer 302.35 g, which is a total amount of 16% by mass, was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 38.44 g (0.100 mol) of CpODA was slowly added to this solution. Followed by stirring at room temperature for 12 hours to obtain a homogeneous and viscous polyimide precursor solution (varnish D).

〔합성예 5〕[Synthesis Example 5]

질소 가스로 치환한 반응 용기 중에 DABAN 11.36 g (0.050 몰) 과 PPD 4.34 g (0.040 몰) 과 4,4'-ODA 2.00 g (0.010 몰) 을 넣고, N-메틸-2-피롤리돈을, 주입 모노머 총질량 (디아민 성분과 카르복실산 성분의 총합) 이 16 질량% 가 되는 양인 294.74 g 을 첨가하여 실온에서 1 시간 교반했다. 이 용액에 CpODA 38.44 g (0.100 몰) 을 서서히 첨가했다. 실온에서 12 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액 (바니시 E) 을 얻었다.11.36 g (0.050 mol) of DABAN, 4.34 g (0.040 mol) of PPD and 2.00 g (0.010 mol) of 4,4'-ODA were placed in a reactor which was substituted with nitrogen gas and N-methyl- 294.74 g of the total amount of the injected monomers (the sum of the diamine component and the carboxylic acid component) was adjusted to 16 mass%, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 38.44 g (0.100 mol) of CpODA was slowly added to this solution. Followed by stirring at room temperature for 12 hours to obtain a homogeneous and viscous polyimide precursor solution (varnish E).

〔합성예 6〕[Synthesis Example 6]

질소 가스로 치환한 반응 용기 중에 4,4'-ODA 20.02 g (0.100 몰) 을 넣고, N-메틸-2-피롤리돈을, 주입 모노머 총질량 (디아민 성분과 카르복실산 성분의 총합) 이 17 질량% 가 되는 양인 207.21 g 을 첨가하여 실온에서 1 시간 교반했다. 이 용액에 PMDA-HS 22.41 g (0.100 밀리몰) 을 서서히 첨가했다. 실온에서 12 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액 (바니시 F) 을 얻었다.20.02 g (0.100 mol) of 4,4'-ODA was placed in a reaction vessel which was substituted with nitrogen gas, and N-methyl-2-pyrrolidone was added to the reactor under the conditions of the total mass of the injected monomers (total of diamine component and carboxylic acid component) 207.21 g, which was a content of 17% by mass, was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. To this solution was slowly added 22.41 g (0.100 mmol) of PMDA-HS. Followed by stirring at room temperature for 12 hours to obtain a homogeneous and viscous polyimide precursor solution (varnish F).

〔합성예 7〕[Synthesis Example 7]

질소 가스로 치환한 반응 용기 중에 DABAN 22.73 g (0.100 몰) 을 넣고, N-메틸-2-피롤리돈을, 주입 모노머 총질량 (디아민 성분과 카르복실산 성분의 총합) 이 20 질량% 가 되는 양인 296.29 g 을 첨가하여 실온에서 1 시간 교반했다. 이 용액에 PACDA 51.35 g (0.100 몰) 을 서서히 첨가했다. 실온에서 12 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액 (바니시 G) 을 얻었다.22.73 g (0.100 mol) of DABAN was placed in a reaction vessel substituted with nitrogen gas, and N-methyl-2-pyrrolidone was added to the reaction vessel in such a manner that the total mass of the injected monomers (total sum of diamine component and carboxylic acid component) 296.29 g was added thereto, followed by stirring at room temperature for 1 hour. To this solution was slowly added 51.35 g (0.100 mol) of PACDA. Followed by stirring at room temperature for 12 hours to obtain a homogeneous and viscous polyimide precursor solution (varnish G).

〔합성예 8〕[Synthesis Example 8]

질소 가스로 치환한 반응 용기 중에 tra-DACH 10.81 g (0.100 몰) 을 넣고, N-메틸-2-피롤리돈을, 주입 모노머 총질량 (디아민 성분과 카르복실산 성분의 총합) 이 12 질량% 가 되는 양인 2950.64 g 을 첨가하여 실온에서 1 시간 교반했다. 이 용액에 s-BPDA 28.69 g (0.0975 몰) 과 a-BPDA 0.74 g (0.0025 몰) 을 서서히 첨가했다. 50 ℃ 에서 12 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액 (바니시 H) 을 얻었다.10.81 g (0.100 mol) of tra-DACH was placed in a reaction vessel substituted with nitrogen gas and N-methyl-2-pyrrolidone was added in an amount of 12 mass% (total sum of diamine component and carboxylic acid component) , And the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 28.69 g (0.0975 mol) of s-BPDA and 0.74 g (0.0025 mol) of a-BPDA were gradually added to this solution. Followed by stirring at 50 DEG C for 12 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution (varnish H).

〔실시예 1〕[Example 1]

1,2-디메틸이미다졸 0.05 g (0.5 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.05 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해, 1,2-디메틸이미다졸은 0.05 몰이다.0.05 g (0.5 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.05 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 1,2-dimethylimidazole is 0.05 mol based on 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔실시예 2〕[Example 2]

1,2-디메틸이미다졸 0.15 g (1.6 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.15 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해, 1,2-디메틸이미다졸은 0.16 몰이다.0.15 g (1.6 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.15 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 1,2-dimethylimidazole is 0.16 moles per mole of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔실시예 3〕[Example 3]

1,2-디메틸이미다졸 0.19 g (2.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.19 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해, 1,2-디메틸이미다졸은 0.2 몰이다.0.19 g (2.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.19 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 1,2-dimethylimidazole is 0.2 moles per mole of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔실시예 4〕[Example 4]

1,2-디메틸이미다졸 0.96 g (10.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.38 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한 1,2-디메틸이미다졸은 1.0 몰이다.0.96 g (10.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.38 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the 1,2-dimethylimidazole is 1.0 mole relative to 1 mole of the repeat unit of the polyimide precursor.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔실시예 5〕[Example 5]

1,2-디메틸이미다졸 1.92 g (20.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.38 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한 1,2-디메틸이미다졸은 2.0 몰이다.1.92 g (20.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.38 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 1,2-dimethylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 2.0 moles.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔실시예 6〕[Example 6]

1-메틸이미다졸 0.04 g (0.5 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.04 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한 1-메틸이미다졸은 0.05 몰이다.0.04 g (0.5 mmol) of 1-methylimidazole and 0.04 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the injection amount, the 1-methylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.05 mole.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔실시예 7〕[Example 7]

1-메틸이미다졸 0.08 g (1.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.08 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한 1-메틸이미다졸은 0.1 몰이다.0.08 g (1.0 mmol) of 1-methylimidazole and 0.08 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the injection amount, the 1-methylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.1 mole.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔실시예 8〕[Example 8]

1-메틸이미다졸 0.16 g (2.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.16 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한 1-메틸이미다졸은 0.2 몰이다.0.16 g (2.0 mmol) of 1-methylimidazole and 0.16 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the injection amount, 1-methylimidazole is 0.2 mole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔실시예 9〕[Example 9]

1-메틸이미다졸 0.33 g (4.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.33 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한 1-메틸이미다졸은 0.4 몰이다.0.33 g (4.0 mmol) of 1-methylimidazole and 0.33 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the injection amount, the 1-methylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.4 mole.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔실시예 10〕[Example 10]

2-메틸이미다졸 0.16 g (2.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.16 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한 2-메틸이미다졸은 0.2 몰이다.0.16 g (2.0 mmol) of 2-methylimidazole and 0.16 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the injection amount, the amount of 2-methylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.2 mole.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔실시예 11〕[Example 11]

이미다졸 0.14 g (2.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.14 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 이미다졸은 0.2 몰이다.0.14 g (2.0 mmol) of imidazole and 0.14 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the injection amount, the imidazole is 0.2 mole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔실시예 12〕[Example 12]

2-페닐이미다졸 0.29 g (2.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.29 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 2-페닐이미다졸은 0.2 몰이다.0.29 g (2.0 mmol) of 2-phenylimidazole and 0.29 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the injection amount, the amount of 2-phenylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.2 mole.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔실시예 13〕[Example 13]

벤조이미다졸 0.24 g (2.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.24 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 벤조이미다졸은 0.2 몰이다.0.24 g (2.0 mmol) of benzimidazole and 0.24 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the injection amount, the benzimidazole is 0.2 moles per mole of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔비교예 1〕[Comparative Example 1]

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 를 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The varnish A obtained in Synthetic Example 1 filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidated by heating from room temperature to 410 ° C on a glass substrate under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) To obtain a colorless transparent polyimide film / glass laminate. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔비교예 2〕[Comparative Example 2]

1,2-디메틸이미다졸 1.92 g (40.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.38 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 1,2-디메틸이미다졸은 4.0 몰이다. 얻어진 폴리이미드 전구체 용액을 23 ℃ 에서 보관하자, 3 일째까지 폴리이미드 전구체 용액이 겔화되었다.1.92 g (40.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.38 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the injection amount, the amount of 1,2-dimethylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 4.0 moles. The resulting polyimide precursor solution was stored at 23 占 폚, and the polyimide precursor solution was gelled by the third day.

〔참고예 1〕[Referential Example 1]

1,2-디메틸이미다졸 0.19 g (2.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.19 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 1 에서 얻어진 바니시 A 33.76 g (바니시 A 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 1,2-디메틸이미다졸은 0.2 몰이다.0.19 g (2.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.19 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.76 g of the varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 1,2-dimethylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.2 moles.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 350 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidated by heating from room temperature to 350 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-1 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-1.

〔실시예 14〕[Example 14]

1,2-디메틸이미다졸 0.05 g (0.5 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.05 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 2 에서 얻어진 바니시 B 35.39 g (바니시 B 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 1,2-디메틸이미다졸은 0.05 몰이다.0.05 g (0.5 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.05 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 35.39 g of varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the injection amount, the amount of 1,2-dimethylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.05 mole.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-2 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-2.

〔실시예 15〕[Example 15]

1,2-디메틸이미다졸 0.10 g (1.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.10 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 2 에서 얻어진 바니시 B 35.39 g (바니시 B 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 1,2-디메틸이미다졸은 0.1 몰이다.0.10 g (1.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.10 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 35.39 g of varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 1,2-dimethylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.1 mole.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-2 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-2.

〔실시예 16〕[Example 16]

1,2-디메틸이미다졸 0.19 g (2.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.19 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 2 에서 얻어진 바니시 B 35.39 g (바니시 B 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 1,2-디메틸이미다졸은 0.2 몰이다.0.19 g (2.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.19 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 35.39 g of varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 1,2-dimethylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.2 moles.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-2 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-2.

〔실시예 17〕[Example 17]

1-메틸이미다졸 0.16 g (2.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.16 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 2 에서 얻어진 바니시 B 35.39 g (바니시 B 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 1-메틸이미다졸은 0.2 몰이다.0.16 g (2.0 mmol) of 1-methylimidazole and 0.16 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 35.39 g of varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the injection amount, 1-methylimidazole is 0.2 mole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-2 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-2.

〔비교예 3〕[Comparative Example 3]

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 합성예 2 에서 얻어진 바니시 B 를 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The varnish B obtained in Synthesis Example 2 filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and heated to a temperature of from room temperature to 410 deg. C on a glass substrate under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) To obtain a colorless transparent polyimide film / glass laminate. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-2 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-2.

〔비교예 4〕[Comparative Example 4]

2-에틸-2-이미다졸린 0.10 g (1.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.20 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 2 에서 얻어진 바니시 B 35.39 g (바니시 B 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 2-에틸-2-이미다졸린은 0.1 몰이다.0.10 g (1.0 mmol) of 2-ethyl-2-imidazoline and 0.20 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 35.39 g of varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the injection amount, the amount of 2-ethyl-2-imidazoline relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.1 mole.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-2 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-2.

〔비교예 5〕[Comparative Example 5]

2-에틸-2-이미다졸린 0.20 g (2.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.40 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 2 에서 얻어진 바니시 B 35.39 g (바니시 B 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하자 바니시가 겔화되었다. 그대로 실온에서 3 시간 교반해도, 균일한 폴리이미드 전구체 용액이 얻어지지 않았다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 2-에틸-2-이미다졸린은 0.2 몰이다.0.20 g (2.0 mmol) of 2-ethyl-2-imidazoline and 0.40 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 35.39 g of varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish B) was added to the solution, and the varnish became gelled. Even if the solution was stirred at room temperature for 3 hours, a uniform polyimide precursor solution could not be obtained. Calculated from the amount of injection, the amount of 2-ethyl-2-imidazoline relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.2 mole.

〔비교예 6〕[Comparative Example 6]

2-에틸-2-이미다졸린 0.49 g (5.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.98 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 2 에서 얻어진 바니시 B 35.39 g (바니시 B 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하자 바니시가 겔화되었다. 그대로 실온에서 3 시간 교반해도, 균일한 폴리이미드 전구체 용액이 얻어지지 않았다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 2-에틸-2-이미다졸린은 0.5 몰이다.0.49 g (5.0 mmol) of 2-ethyl-2-imidazoline and 0.98 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 35.39 g of varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish B) was added to the solution, and the varnish became gelled. Even if the solution was stirred at room temperature for 3 hours, a uniform polyimide precursor solution could not be obtained. Calculated from the amount of injection, the amount of 2-ethyl-2-imidazoline relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.5 mole.

〔비교예 7〕[Comparative Example 7]

2-메틸-2-이미다졸린 0.25 g (3.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.25 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 2 에서 얻어진 바니시 B 35.39 g (바니시 B 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 2-메틸-2-이미다졸린은 0.3 몰이다.0.25 g (3.0 mmol) of 2-methyl-2-imidazoline and 0.25 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 35.39 g of varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 2-methyl-2-imidazoline relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.3 mole.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-2 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-2.

〔비교예 8〕[Comparative Example 8]

2-페닐이미다졸린 0.44 g (3.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.44 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 2 에서 얻어진 바니시 B 35.39 g (바니시 B 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 2-페닐이미다졸린은 0.3 몰이다.0.44 g (3.0 mmol) of 2-phenylimidazoline and 0.44 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 35.39 g of varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the injection amount, the amount of 2-phenylimidazoline relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.3 mole.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-2 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-2.

〔실시예 18〕[Example 18]

1,2-디메틸이미다졸 0.10 g (1.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.10 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 3 에서 얻어진 바니시 C 38.23 g (바니시 C 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 1,2-디메틸이미다졸은 0.1 몰이다.0.10 g (1.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.10 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 38.23 g of varnish C obtained in Synthesis Example 3 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish C) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 1,2-dimethylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.1 mole.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-3 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-3.

〔비교예 9〕[Comparative Example 9]

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 합성예 3 에서 얻어진 바니시 C 를 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The varnish C obtained in Synthesis Example 3 filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and heated to a temperature of from room temperature to 410 deg. C on a glass substrate under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) To obtain a colorless transparent polyimide film / glass laminate. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-3 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-3.

〔실시예 19〕[Example 19]

1,2-디메틸이미다졸 0.10 g (1.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.10 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 4 에서 얻어진 바니시 D 35.99 g (바니시 D 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 1,2-디메틸이미다졸은 0.1 몰이다.0.10 g (1.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.10 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 35.99 g of varnish D obtained in Synthesis Example 4 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish D) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 1,2-dimethylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.1 mole.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-3 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-3.

〔비교예 10〕[Comparative Example 10]

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 합성예 4 에서 얻어진 바니시 D 를 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The varnish D obtained in Synthesis Example 4 filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate, and the substrate was heated from room temperature to 410 占 폚 on a glass substrate under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) To obtain a colorless transparent polyimide film / glass laminate. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-3 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-3.

〔실시예 20〕[Example 20]

1,2-디메틸이미다졸 0.10 g (1.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.10 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 5 에서 얻어진 바니시 E 35.09 g (바니시 E 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 1,2-디메틸이미다졸은 0.1 몰이다.0.10 g (1.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.10 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 35.09 g of the varnish E obtained in Synthesis Example 5 (10 mmol of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish E) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 1,2-dimethylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.1 mole.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-3 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-3.

〔비교예 11〕[Comparative Example 11]

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 합성예 5 에서 얻어진 바니시 E 를 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 410 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The varnish E obtained in Synthetic Example 5 filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidized by heating from room temperature to 410 ° C on a glass substrate under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) To obtain a colorless transparent polyimide film / glass laminate. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-3 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-3.

〔실시예 21〕[Example 21]

1,2-디메틸이미다졸 0.19 g (2.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.19 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 6 에서 얻어진 바니시 F 24.97 g (바니시 F 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 1,2-디메틸이미다졸은 0.2 몰이다.0.19 g (2.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.19 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 24.97 g of the varnish F obtained in Synthesis Example 6 (10 mmol of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish F) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 1,2-dimethylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.2 moles.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 400 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidated by heating from room temperature to 400 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-3 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-3.

〔비교예 12〕[Comparative Example 12]

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 합성예 6 에서 얻어진 바니시 F 를 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 400 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The varnish F obtained in Synthesis Example 6 filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and heated from room temperature to 400 deg. C on a glass substrate under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) to thermally imidize To obtain a colorless transparent polyimide film / glass laminate. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-3 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-3.

〔실시예 22〕[Example 22]

1,2-디메틸이미다졸 0.19 g (2.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.19 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 7 에서 얻어진 바니시 G 37.04 g (바니시 G 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 1,2-디메틸이미다졸은 0.2 몰이다.0.19 g (2.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.19 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 37.04 g of varnish G obtained in Synthesis Example 7 (10 millimoles of the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish G) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 1,2-dimethylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.2 moles.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 350 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidated by heating from room temperature to 350 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-3 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-3.

〔비교예 13〕[Comparative Example 13]

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 합성예 7 에서 얻어진 바니시 G 를 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 350 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The varnish G obtained in Synthetic Example 7 filtered with a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidated by heating from room temperature to 350 DEG C on a glass substrate in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) To obtain a colorless transparent polyimide film / glass laminate. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-3 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-3.

〔실시예 23〕[Example 23]

1,2-디메틸이미다졸 0.19 g (2.0 밀리몰) 과 N-메틸-2-피롤리돈 0.19 g 을 반응 용기에 첨가하여 균일한 용액을 얻었다. 그 용액에 합성예 8 에서 얻어진 바니시 H 33.53 g (바니시 H 중의 폴리이미드 전구체의 반복 유닛의 분자량에 대해, 10 밀리몰) 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반하여, 균일하고 점조한 폴리이미드 전구체 용액을 얻었다. 주입량으로부터 계산하면, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대한, 1,2-디메틸이미다졸은 0.2 몰이다.0.19 g (2.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.19 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a homogeneous solution. 33.53 g of the varnish H obtained in Synthesis Example 8 (10 millimoles of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish H) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution . Calculated from the amount of injection, the amount of 1,2-dimethylimidazole relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor is 0.2 moles.

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 폴리이미드 전구체 용액을 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 370 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The polyimide precursor solution filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidated by heating from room temperature to 370 占 폚 in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) on a glass substrate as it was, A polyimide film / glass laminate was obtained. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-3 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-3.

〔비교예 14〕[Comparative Example 14]

PTFE 제 멤브레인 필터로 여과한 합성예 8 에서 얻어진 바니시 H 를 유리 기판에 도포하고, 질소 분위기하 (산소 농도 200 ppm 이하), 그대로 유리 기판 상에서 실온으로부터 370 ℃ 까지 가열하여 열적으로 이미드화를 실시하여, 무색 투명한 폴리이미드 필름/유리 적층체를 얻었다. 이어서, 얻어진 폴리이미드 필름/유리 적층체를 물에 침지한 후 박리하고, 건조시켜, 막두께가 약 10 ㎛ 의 폴리이미드 필름을 얻었다.The varnish H obtained in Synthetic Example 8 filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and thermally imidated by heating from room temperature to 370 占 폚 in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) To obtain a colorless transparent polyimide film / glass laminate. Then, the obtained polyimide film / glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 mu m.

이 폴리이미드 필름의 특성을 측정한 결과를 표 2-3 에 나타낸다.The properties of the polyimide film were measured and the results are shown in Table 2-3.

[표 2-1][Table 2-1]

Figure pct00013
Figure pct00013

[표 2-2][Table 2-2]

Figure pct00014
Figure pct00014

[표 2-3][Table 2-3]

Figure pct00015
Figure pct00015

표 2-1 ∼ 2-3 에 나타낸 결과로부터, 이미다졸계 화합물 (1,2-디메틸이미다졸, 1-메틸이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 벤조이미다졸, 또는 이미다졸) 을 함유하는 폴리이미드 전구체 조성물로부터 얻어진 폴리이미드는, 두께 방향 위상차가 작은 것을 알 수 있다 (실시예 1 ∼ 13 과 비교예 1, 실시예 14 ∼ 17 과 비교예 3, 실시예 18 과 비교예 9, 실시예 19 와 비교예 10, 실시예 20 과 비교예 11, 실시예 21 과 비교예 12, 실시예 22 와 비교예 13, 실시예 23 과 비교예 14). 또, 1,2-디메틸이미다졸, 1-메틸이미다졸, 2-메틸이미다졸, 또는 이미다졸을 사용한 경우에는, 투과율도 향상되어 있는 것을 알 수 있다 (실시예 1 ∼ 11 과 비교예 1, 실시예 14 ∼ 17 과 비교예 3, 실시예 18 과 비교예 9, 실시예 19 와 비교예 10, 실시예 20 과 비교예 11, 실시예 21 과 비교예 12, 실시예 22 와 비교예 13, 실시예 23 과 비교예 14). 또한, 이미다졸계 화합물의 함유량이, 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해 4 몰 미만이면, 보존 안정성도 우수한 것을 알 수 있다 (실시예 1 ∼ 13 과 비교예 2). 또, 기계적 특성에 관해서, 이미드화를 위한 가열 처리의 최고 가열 온도를 350 ℃ 를 초과하여 410 ℃ 로 함으로써, 파단점 신도가 커지는 것을 알 수 있다 (실시예 3 과 참고예 1).From the results shown in Tables 2-1 to 2-3, it was confirmed that the imidazole compound (1,2-dimethylimidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, (Examples 1 to 13 and Comparative Example 1, Examples 14 to 17 and Comparative Example 3, and Practical Example) were used as the polyimide precursor composition containing the polyimide precursor composition Example 18 and Comparative Example 9, Example 19 and Comparative Example 10, Example 20 and Comparative Example 11, Example 21 and Comparative Example 12, Example 22 and Comparative Example 13, Example 23 and Comparative Example 14). In addition, when 1,2-dimethylimidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, or imidazole is used, the transmittance is also improved (compared with Examples 1 to 11 Comparison with Example 1, Examples 14 to 17 and Comparative Example 3, Example 18 and Comparative Example 9, Example 19 and Comparative Example 10, Example 20 and Comparative Example 11, Example 21 and Comparative Example 12, and Example 22 Example 13, Example 23 and Comparative Example 14). When the content of the imidazole-based compound is less than 4 moles relative to 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor, the storage stability is also excellent (Examples 1 to 13 and Comparative Example 2). With respect to the mechanical properties, it can be seen that the breaking point elongation is increased by setting the maximum heating temperature of the heat treatment for imidization to more than 350 ° C to 410 ° C (Example 3 and Reference Example 1).

상기와 같이, 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물로부터 얻어진 폴리이미드는, 두께 방향 위상차가 작은 것에 더하여, 우수한 광 투과성, 기계적 특성, 저선열팽창 계수를 가지고 있어, 본 발명의 폴리이미드 필름은, 디스플레이 용도 등의 무색 투명하고 미세한 회로 형성 가능한 투명 기판으로서 바람직하게 사용할 수 있다.As described above, the polyimide film obtained from the polyimide precursor composition of the present invention has excellent light transmittance, mechanical properties and low coefficient of linear thermal expansion in addition to a small retardation in the thickness direction, Can be preferably used as a transparent substrate capable of forming a colorless transparent and fine circuit.

산업상 이용가능성Industrial availability

본 발명에 의해, 투명성이 우수한 폴리이미드로서, 동일 조성으로도 두께 방향 위상차가 보다 작은 폴리이미드, 또는, 두께 방향 위상차가 작고, 투명성이 우수하고, 기계적 특성도 우수한 폴리이미드가 얻어지는 폴리이미드 전구체 조성물 (폴리이미드 전구체를 함유하는 용액 조성물), 및 폴리이미드의 제조 방법을 제공할 수 있다. 이 폴리이미드 전구체 조성물로부터 얻어지는 폴리이미드는, 투명성이 높고, 또한 두께 방향 위상차가 작고, 또, 저선열팽창 계수로서 미세한 회로의 형성이 용이하므로, 특히 디스플레이용, 터치 패널용, 태양 전지용 등의 기판을 형성하기 위해서 바람직하게 사용할 수 있다.According to the present invention, there is provided a polyimide having excellent transparency, a polyimide having a smaller retardation in the thickness direction even in the same composition, or a polyimide precursor composition capable of obtaining a polyimide having a small retardation in thickness direction, (A solution composition containing a polyimide precursor), and a process for producing a polyimide. The polyimide obtained from the polyimide precursor composition has a high transparency, a small retardation in the thickness direction, and a low thermal expansion coefficient, thereby facilitating the formation of a fine circuit. Particularly, the polyimide obtained from the polyimide precursor composition can be used for a display, a touch panel, Can be preferably used.

Claims (12)

하기 화학식 (1) 로 나타내는 반복 단위, 또는 하기 화학식 (2) 로 나타내는 반복 단위를 함유하는 폴리이미드 전구체와,
이미다졸계 화합물을 함유하고,
이미다졸계 화합물의 함유량이 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해 4 몰 미만인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 전구체 조성물.
[화학식 1]
Figure pct00016

(식 중, X1 은 지환 구조를 갖는 4 가의 기이며, Y1 은 방향족 고리를 갖는 2 가의 기이며, R1, R2 는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 탄소수 3 ∼ 9 의 알킬실릴기이다.)
[화학식 2]
Figure pct00017

(식 중, X2 는 방향족 고리를 갖는 4 가의 기이며, Y2 는 지환 구조를 갖는 2 가의 기이며, R3, R4 는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 탄소수 3 ∼ 9 의 알킬실릴기이다.)
A polyimide precursor containing a repeating unit represented by the following formula (1) or a repeating unit represented by the following formula (2)
Containing compound,
Wherein the content of the imidazole-based compound is less than 4 moles per 1 mole of the repeating unit of the polyimide precursor.
[Chemical Formula 1]
Figure pct00016

(Wherein X < 1 > Is a quadrivalent group having an alicyclic structure, Y 1 And R < 2 > are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl silyl group having 3 to 9 carbon atoms.
(2)
Figure pct00017

(Wherein X 2 is a tetravalent group having an aromatic ring, Y 2 is a divalent group having an alicyclic structure, R 3 and R 4 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 9 < / RTI >
제 1 항에 있어서,
이 폴리이미드 전구체 조성물로부터 얻어지는 폴리이미드가 두께 10 ㎛ 의 필름에서의 파장 400 nm 의 광 투과율이 75 % 이상인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 전구체 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein a polyimide obtained from the polyimide precursor composition has a light transmittance of at least 75% at a wavelength of 400 nm in a film having a thickness of 10 占 퐉.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 이미다졸계 화합물의 함유량이 폴리이미드 전구체의 반복 단위 1 몰에 대해 0.05 몰 이상 2 몰 이하인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 전구체 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the content of the imidazole compound is 0.05 mol or more and 2 mol or less based on 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이미다졸계 화합물의 1 기압에 있어서의 비점이 340 ℃ 미만인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 전구체 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the imidazole compound has a boiling point of less than 340 占 폚 at 1 atm.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 이미다졸계 화합물이 1,2-디메틸이미다졸, 1-메틸이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 이미다졸, 또는 벤조이미다졸 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 전구체 조성물.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the imidazole compound is any one of 1,2-dimethylimidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, imidazole or benzimidazole Lt; / RTI >
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 폴리이미드 전구체 조성물을, 최고 가열 온도 350 ℃ 초과에서 가열 처리하여, 폴리이미드 전구체를 이미드화하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드의 제조 방법.A process for producing a polyimide precursor composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the polyimide precursor composition is subjected to a heat treatment at a maximum heating temperature of 350 DEG C to imidize the polyimide precursor. 제 6 항에 있어서,
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 폴리이미드 전구체 조성물을 기재 상에 도포하는 공정과,
기재 상의 폴리이미드 전구체 조성물을, 최고 가열 온도 350 ℃ 초과에서 가열 처리하여, 폴리이미드 전구체를 이미드화하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 폴리이미드의 제조 방법.
The method according to claim 6,
A process for producing a polyimide precursor composition, comprising the steps of: applying the polyimide precursor composition according to any one of claims 1 to 5 on a substrate;
A method for producing a polyimide, which comprises a step of heat-treating the polyimide precursor composition on a substrate at a maximum heating temperature of 350 DEG C to imidize the polyimide precursor.
제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
상기 가열 처리의 최고 가열 온도가 400 ℃ 를 초과하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드의 제조 방법.
8. The method according to claim 6 or 7,
Wherein the maximum heating temperature of the heat treatment is higher than 400 占 폚.
제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 폴리이미드.9. A polyimide produced by the method according to any one of claims 6 to 8. 제 9 항에 있어서,
두께 10 ㎛ 의 필름에서의 파장 400 nm 의 광 투과율이 75 % 이상인 것을 특징으로 하는 폴리이미드.
10. The method of claim 9,
Wherein the polyimide has a light transmittance of at least 75% at a wavelength of 400 nm in a film having a thickness of 10 占 퐉.
제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 폴리이미드 필름.A polyimide film produced by the method according to any one of claims 6 to 8. 제 9 항 또는 제 10 항에 기재된 폴리이미드, 또는 제 11 항에 기재된 폴리이미드 필름을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용, 터치 패널용, 또는 태양 전지용의 기판.A substrate for a display, a touch panel, or a solar cell, comprising the polyimide according to claim 9 or 10, or the polyimide film according to claim 11.
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