JP6721070B2 - Polyimide precursor composition, method for producing polyimide, polyimide, polyimide film, and substrate - Google Patents

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Description

本発明は、厚み方向位相差(レタデーション)が小さく、機械的特性にも優れ、さらに透明性にも優れるポリイミドが得られるポリイミド前駆体を含む溶液組成物(ポリイミド前駆体組成物)、及びポリイミドの製造方法に関する。また、本発明は、透明性に優れ、厚み方向位相差が小さく、機械的特性にも優れたポリイミド、ポリイミドフィルム、及び基板にも関する。 The present invention has a small thickness direction retardation (retardation), is excellent in mechanical properties, and further has a polyimide precursor solution solution which is excellent in transparency (polyimide precursor composition), and polyimide. It relates to a manufacturing method. The present invention also relates to a polyimide, a polyimide film, and a substrate that have excellent transparency, a small thickness direction retardation, and excellent mechanical properties.

近年、高度情報化社会の到来に伴い、光通信分野の光ファイバーや光導波路等、表示装置分野の液晶配向膜やカラーフィルター用保護膜等の光学材料の開発が進んでいる。特に表示装置分野で、ガラス基板の代替として軽量でフレキシブル性に優れたプラスチック基板の検討や、曲げたり丸めたりすることが可能なディスプレイの開発が盛んに行われている。このため、その様な用途に用いることができる、より高性能の光学材料が求められている。 In recent years, with the advent of the advanced information society, optical materials such as optical fibers and optical waveguides in the field of optical communication, liquid crystal alignment films in the field of display devices, protective films for color filters, and the like have been developed. In the field of display devices, in particular, as a substitute for a glass substrate, a lightweight and highly flexible plastic substrate is being studied, and a display that can be bent or rolled is being actively developed. Therefore, there is a demand for higher performance optical materials that can be used for such applications.

芳香族ポリイミドは、分子内共役や電荷移動錯体の形成により、本質的に黄褐色に着色する。このため着色を抑制する手段として、例えば分子内へのフッ素原子の導入、主鎖への屈曲性の付与、側鎖として嵩高い基の導入などによって、分子内共役や電荷移動錯体の形成を阻害して、透明性を発現させる方法が提案されている。 Aromatic polyimides are essentially tan colored due to intramolecular conjugation and charge transfer complex formation. Therefore, as a means of suppressing coloring, for example, introduction of a fluorine atom into the molecule, imparting flexibility to the main chain, introduction of a bulky group as a side chain, or the like inhibits intramolecular conjugation or formation of a charge transfer complex. Then, the method of expressing transparency is proposed.

また、原理的に電荷移動錯体を形成しない半脂環式または全脂環式ポリイミドを用いることにより透明性を発現させる方法も提案されている。 In addition, a method of developing transparency by using a semi-alicyclic or wholly alicyclic polyimide that does not form a charge transfer complex in principle has also been proposed.

例えば、特許文献1〜3に、テトラカルボン酸成分として芳香族テトラカルボン酸二無水物、ジアミン成分として脂環式ジアミンを用いた、透明性が高い半脂環式ポリイミドが開示されている。 For example, Patent Documents 1 to 3 disclose highly transparent semi-alicyclic polyimides that use an aromatic tetracarboxylic dianhydride as a tetracarboxylic acid component and an alicyclic diamine as a diamine component.

また、例えば、特許文献4〜7には、テトラカルボン酸成分として脂環式テトラカルボン酸二無水物、ジアミン成分として芳香族ジアミンを用いた種々の、透明性が高い半脂環式ポリイミドが開示されている。 Further, for example, Patent Documents 4 to 7 disclose various highly transparent semi-alicyclic polyimides using an alicyclic tetracarboxylic dianhydride as a tetracarboxylic acid component and an aromatic diamine as a diamine component. Has been done.

非特許文献1には、テトラカルボン酸成分として、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物を用いたポリイミドが開示されている。さらに、ここで用いているノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物は6種類の立体異性体を含んでいることが記載されている。特許文献8にも、テトラカルボン酸成分として、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物を用いたポリイミドが開示されている。 In Non-Patent Document 1, as a tetracarboxylic acid component, norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic A polyimide using an acid dianhydride is disclosed. Further, the norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride used here is 6 It is stated to contain a class of stereoisomers. Also in Patent Document 8, norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acid is used as the tetracarboxylic acid component. Polyimides using dianhydrides are disclosed.

しかしながら、用途によっては、特に表示装置などの分野においては、透明性が高いことに加え、厚み方向位相差を低下させることが望まれている。厚み方向位相差が大きいフィルムを透過することで、色が正しく表示されない、色のにじみや視野角が狭くなるといった問題が起こることがある。そのため、特に表示装置などの分野においては、厚み方向位相差が小さいポリイミドフィルムが求められている。 However, depending on the application, particularly in the field of display devices and the like, in addition to high transparency, it is desired to reduce the thickness direction retardation. Transmission through a film having a large thickness direction retardation may cause problems such as incorrect display of colors, color bleeding, and narrow viewing angle. Therefore, in the field of display devices in particular, a polyimide film having a small thickness direction retardation is required.

一方、特許文献9には、ポリイミド前駆体(ポリアミド酸)にイミダゾリン系化合物および/またはイミダゾール系化合物を配合してなる塗液を加熱することによって形成されてなるポリイミドが開示されている。より具体的には、実施例1では、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と4,4’−ジアミノビフェニルエーテルから得られるポリアミド酸の溶液に2,4−ジメチルイミダゾリンを加えた溶液を基板上に塗布し、200℃、1時間加熱して、膜厚1000Å(0.1μm)の芳香族ポリイミド皮膜を得ている。実施例2では、ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジアミノビフェニルエーテルから得られるポリアミド酸の溶液に2−エチルイミダゾリンおよび1,2−ジメチルイミダゾールを加えた溶液を基板上に塗布し、150℃、1時間加熱して、膜厚800Å(0.08μm)の芳香族ポリイミド皮膜を得ている。特許文献9には、イミダゾリン系化合物および/またはイミダゾール系化合物の添加により茶褐色の著しい着色は免れることになり、光線透過率の高い透明性に優れた液晶表示素子を得ることが可能となった、と記載されている。しかしながら、実施例1のポリイミド皮膜(液晶配向膜)を用いた液晶表示素子の波長400nmの光透過率は82%(ポリイミド膜厚:0.1μm)、実施例2のポリイミド皮膜(液晶配向膜)を用いた液晶表示素子の波長400nmの光透過率は83%(ポリイミド膜厚:0.08μm)であり、このポリイミドは十分な透明性を有するものではない。 On the other hand, Patent Document 9 discloses a polyimide formed by heating a coating liquid prepared by mixing a polyimide precursor (polyamic acid) with an imidazoline compound and/or an imidazole compound. More specifically, in Example 1, 2,4-dimethyl was added to a solution of a polyamic acid obtained from 3,3′,4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 4,4′-diaminobiphenyl ether. A solution containing imidazoline is applied onto a substrate and heated at 200° C. for 1 hour to obtain an aromatic polyimide film having a film thickness of 1000 Å (0.1 μm). In Example 2, a solution of 2-ethylimidazoline and 1,2-dimethylimidazole added to a solution of a polyamic acid obtained from pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminobiphenyl ether was coated on a substrate, By heating at 150° C. for 1 hour, an aromatic polyimide film having a film thickness of 800 Å (0.08 μm) is obtained. In Patent Document 9, the addition of an imidazoline-based compound and/or an imidazole-based compound avoids the remarkable dark brown coloring, and a liquid crystal display device having a high light transmittance and excellent transparency can be obtained. Is described. However, the light transmittance at a wavelength of 400 nm of the liquid crystal display device using the polyimide film (liquid crystal alignment film) of Example 1 was 82% (polyimide film thickness: 0.1 μm), and the polyimide film (liquid crystal alignment film) of Example 2 was used. The liquid crystal display device using is having a light transmittance of 83% at a wavelength of 400 nm (polyimide film thickness: 0.08 μm), and this polyimide does not have sufficient transparency.

また、透明性が低い芳香族ポリイミドの製造方法として、特許文献10には、ポリイミド前駆体樹脂、及び、イミダゾール、N−メチルイミダゾール等のポリイミド前駆体樹脂の硬化促進剤を有機極性溶媒に溶解したポリイミド前駆体樹脂含有溶液を基材上に塗布し、続く熱処理で乾燥及びイミド化によるポリイミド樹脂層の形成を280〜380℃の範囲内で完結するポリイミド樹脂層の形成方法が開示されており、これらの硬化促進剤を使用することで、熱線膨張係数を低く制御できることが記載されている。特許文献10には、また、硬化促進剤は、その沸点が120℃を越えるものを使用することが好ましく、沸点が、熱処理の上限温度を超えないものを選択することが好ましいことが記載されており、沸点が、例えば400℃以上の硬化促進剤は、イミド化後のポリイミド樹脂層中に残存する割合が高くなり、ポリイミド樹脂層の機能に影響を与える傾向にあることが記載されている。 In addition, as a method for producing an aromatic polyimide having low transparency, in Patent Document 10, a polyimide precursor resin and a curing accelerator for the polyimide precursor resin such as imidazole and N-methylimidazole are dissolved in an organic polar solvent. A method for forming a polyimide resin layer is disclosed, in which a polyimide precursor resin-containing solution is applied on a substrate, and the formation of the polyimide resin layer by drying and imidization in the subsequent heat treatment is completed within the range of 280 to 380° C., It is described that the coefficient of linear thermal expansion can be controlled low by using these curing accelerators. Patent Document 10 also describes that it is preferable to use a curing accelerator having a boiling point of higher than 120° C., and it is preferable to select a curing accelerator having a boiling point not higher than the upper limit temperature of the heat treatment. However, it is described that a curing accelerator having a boiling point of, for example, 400° C. or higher has a high rate of remaining in the polyimide resin layer after imidization, and tends to affect the function of the polyimide resin layer.

特開2003−192787号公報JP, 2003-192787, A 特開2004−83814号公報JP, 2004-83814, A 特開2008−308550号公報JP, 2008-308550, A 特開2003−168800号公報JP, 2003-168800, A 国際公開第2008/146637号International Publication No. 2008/146637 特開2002−69179号公報JP-A-2002-69179 特開2002−146021号公報JP, 2002-146021, A 国際公開第2011/099518号International Publication No. 2011/099518 特開昭61−267030号公報JP 61-267030 A 特開2008−115378号公報JP, 2008-115378, A

高分子論文集,Vol.68,No.3,P.127−131(2011)Polymers Collection, Vol. 68, No. 3, P.I. 127-131 (2011)

本発明は、以上のような状況に鑑みてなされたものであり、透明性に優れるポリイミドであって、同一組成でも厚み方向位相差がより小さいポリイミド、または、厚み方向位相差が小さく、機械的特性にも優れ、さらに透明性にも優れたポリイミドが得られるポリイミド前駆体組成物(ポリイミド前駆体を含む溶液組成物)、及びポリイミドの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above situation, is a polyimide having excellent transparency, the thickness direction retardation is smaller polyimide in the same composition, or the thickness direction retardation is small, mechanical An object of the present invention is to provide a polyimide precursor composition (a solution composition containing a polyimide precursor) that provides a polyimide having excellent properties and excellent transparency, and a method for producing the polyimide.

本発明は、以下の各項に関する。
1. 下記化学式(1)で表される繰り返し単位、または下記化学式(2)で表される繰り返し単位を含むポリイミド前駆体と、
イミダゾール系化合物を含み、
イミダゾール系化合物の含有量が、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して4モル未満であることを特徴とするポリイミド前駆体組成物。
The present invention relates to the following items.
1. A repeating unit represented by the following chemical formula (1) or a polyimide precursor containing a repeating unit represented by the following chemical formula (2),
Including imidazole compounds,
Content of an imidazole type compound is less than 4 mol with respect to 1 mol of repeating units of a polyimide precursor, The polyimide precursor composition characterized by the above-mentioned.

Figure 0006721070
Figure 0006721070
(式中、Xは脂環構造を有する4価の基であり、Yは芳香族環を有する2価の基であり、R、Rはそれぞれ独立に水素、炭素数1〜6のアルキル基、または炭素数3〜9のアルキルシリル基である。)
Figure 0006721070
Figure 0006721070
(In the formula, X 1 is a tetravalent group having an alicyclic structure, Y 1 is a divalent group having an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, and have 1 to 6 carbon atoms. Or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms.)

Figure 0006721070
(式中、Xは芳香族環を有する4価の基であり、Yは脂環構造を有する2価の基であり、R、Rはそれぞれ独立に水素、炭素数1〜6のアルキル基、または炭素数3〜9のアルキルシリル基である。)
Figure 0006721070
(In the formula, X 2 is a tetravalent group having an aromatic ring, Y 2 is a divalent group having an alicyclic structure, and R 3 and R 4 are each independently hydrogen, and have 1 to 6 carbon atoms. Or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms.)

2. このポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミドが、厚さ10μmのフィルムでの波長400nmの光透過率が75%以上であることを特徴とする前記項1に記載のポリイミド前駆体組成物。
3. 前記イミダゾール系化合物の含有量が、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して0.05モル以上2モル以下であることを特徴とする前記項1又は2に記載のポリイミド前駆体組成物。
4. 前記イミダゾール系化合物の1気圧における沸点が340℃未満であることを特徴とする前記項1〜3のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物。
5. 前記イミダゾール系化合物が、1,2−ジメチルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、イミダゾール、またはベンゾイミダゾールのいずれかであることを特徴とする前記項1〜4のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物。
6. 前記項1〜5のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物を、最高加熱温度350℃超で加熱処理して、ポリイミド前駆体をイミド化することを特徴とするポリイミドの製造方法。
7. 前記項1〜5のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物を基材上に塗布する工程と、
基材上のポリイミド前駆体組成物を、最高加熱温度350℃超で加熱処理して、ポリイミド前駆体をイミド化する工程と
を有することを特徴とする前記項6に記載のポリイミドの製造方法。
8. 前記加熱処理の最高加熱温度が400℃を超えることを特徴とする前記項6又は7に記載のポリイミドの製造方法。
9. 前記項6〜8のいずれかに記載の方法により製造されるポリイミド。
10. 厚さ10μmのフィルムでの波長400nmの光透過率が75%以上であることを特徴とする前記項9に記載のポリイミド。
11. 前記項6〜8のいずれかに記載の方法により製造されるポリイミドフィルム。
12. 前記項9又は10に記載のポリイミド、又は前記項11に記載のポリイミドフィルムを含むことを特徴とするディスプレイ用、タッチパネル用、または太陽電池用の基板。
2. The polyimide obtained from this polyimide precursor composition has a light transmittance of 400% at a wavelength of 400 nm in a film having a thickness of 10 μm of 75% or more.
3. Content of the said imidazole type compound is 0.05 mol or more and 2 mol or less with respect to 1 mol of repeating units of a polyimide precursor, The polyimide precursor composition of said claim|item 1 or 2 characterized by the above-mentioned.
4. The boiling point of the imidazole-based compound at 1 atm is less than 340° C., The polyimide precursor composition according to any one of Items 1 to 3 above.
5. Any of the above items 1 to 4, wherein the imidazole compound is any one of 1,2-dimethylimidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, imidazole, or benzimidazole. A polyimide precursor composition as described in.
6. Item 6. A method for producing a polyimide, wherein the polyimide precursor composition according to any one of Items 1 to 5 is heat-treated at a maximum heating temperature of higher than 350°C to imidize the polyimide precursor.
7. A step of applying the polyimide precursor composition according to any one of Items 1 to 5 on a substrate,
The polyimide precursor composition on a base material is heat-processed at a maximum heating temperature of higher than 350° C. to imidize the polyimide precursor, and the method for producing a polyimide according to the above item 6.
8. The method for producing a polyimide according to Item 6 or 7, wherein the maximum heating temperature of the heat treatment exceeds 400°C.
9. A polyimide produced by the method according to any one of items 6 to 8.
10. Item 10. The polyimide according to Item 9, wherein the film having a thickness of 10 µm has a light transmittance of 400% or more at a wavelength of 400 nm.
11. Item 9. A polyimide film produced by the method according to any one of items 6 to 8.
12. A substrate for a display, a touch panel, or a solar cell, which comprises the polyimide according to Item 9 or 10 or the polyimide film according to Item 11.

本発明によって、透明性に優れるポリイミドであって、同一組成でも厚み方向位相差がより小さいポリイミド、または、厚み方向位相差が小さく、機械的特性にも優れ、さらに透明性にも優れたポリイミドが得られるポリイミド前駆体組成物(ポリイミド前駆体を含む溶液組成物)、及びポリイミドの製造方法を提供することができる。 According to the present invention, a polyimide having excellent transparency, a polyimide having a smaller thickness direction retardation even with the same composition, or a thickness direction retardation being smaller, having excellent mechanical properties, and further having excellent transparency. It is possible to provide the obtained polyimide precursor composition (solution composition containing a polyimide precursor) and a method for producing a polyimide.

本発明のポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミド(本発明のポリイミド)は、透明性が高く、且つ厚み方向位相差が小さく、また、低線熱膨張係数であって微細な回路の形成が容易であり、ディスプレイ用途などの基板を形成するために好適に用いることができる。また、本発明のポリイミドは、タッチパネル用、太陽電池用の基板を形成するためにも好適に用いることができる。 The polyimide obtained from the polyimide precursor composition of the present invention (polyimide of the present invention) has high transparency, a small thickness direction retardation, and a low linear thermal expansion coefficient, which facilitates formation of fine circuits. And can be preferably used for forming a substrate for display applications and the like. In addition, the polyimide of the present invention can be preferably used for forming a substrate for a touch panel or a solar cell.

本発明のポリイミド前駆体組成物は、前記化学式(1)で表される繰り返し単位、または前記化学式(2)で表される繰り返し単位の少なくとも1種を含むポリイミド前駆体と、イミダゾール系化合物を含み、イミダゾール系化合物の含有量は、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して4モル未満である。 A polyimide precursor composition of the present invention contains a polyimide precursor containing at least one repeating unit represented by the chemical formula (1) or the repeating unit represented by the chemical formula (2), and an imidazole compound. The content of the imidazole compound is less than 4 mol based on 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

前記化学式(1)で表される繰り返し単位、または前記化学式(2)で表される繰り返し単位の少なくとも1種を含むポリイミド前駆体から得られるポリイミド、すなわち半脂環式ポリイミドは、透明性が高い。このような透明性が高いポリイミドの場合、着色の要因となりえる添加物の使用は好まれない。しかしながら、イミダゾール系化合物を、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して4モル未満、好ましくは0.05モル以上2モル以下の割合で、ポリイミド前駆体組成物に加えることにより、高い透明性を保ったまま、厚み方向位相差が小さいポリイミドが得られる。すなわち、本発明によれば、同一組成のポリイミド前駆体から、高い透明性を維持しながら、厚み方向位相差がより小さいポリイミドが得られる。また、1気圧における沸点が340℃未満であるイミダゾール系化合物を用いた場合、得られるポリイミドの透明性がさらに向上することがある。 A polyimide obtained from a polyimide precursor containing the repeating unit represented by the chemical formula (1) or at least one repeating unit represented by the chemical formula (2), that is, a semi-alicyclic polyimide has high transparency. .. In the case of such a highly transparent polyimide, the use of additives that may cause coloring is not preferred. However, by adding the imidazole compound to the polyimide precursor composition in a ratio of less than 4 mol, preferably 0.05 mol or more and 2 mol or less, relative to 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor, high transparency can be obtained. A polyimide having a small retardation in the thickness direction can be obtained while keeping it. That is, according to the present invention, a polyimide having a smaller thickness direction retardation while maintaining high transparency can be obtained from a polyimide precursor having the same composition. Moreover, when an imidazole compound having a boiling point of less than 340° C. at 1 atm is used, the transparency of the obtained polyimide may be further improved.

さらに、透明性が高いポリイミドを得るためには、ポリイミド前駆体を比較的低温度で加熱処理してイミド化を完了する方が好ましいと一般に考えられているが、本発明によれば、最高加熱温度が350℃を超える、特に好ましくは400℃を超える加熱処理によってポリイミド前駆体をイミド化しても、透明性が高いポリイミドを製造することができる。その結果、イミド化のための加熱処理の最高加熱温度を、350℃を超える高温、特に好ましくは400℃を超える高温とすることが可能になるので、得られるポリイミドの機械的特性が向上する。すなわち、本発明によれば、透明性が高く、厚み方向位相差が小さく、機械的特性にも優れたポリイミドが得られる。 Furthermore, in order to obtain a highly transparent polyimide, it is generally considered that it is preferable to complete the imidization by heat-treating the polyimide precursor at a relatively low temperature. Even if the polyimide precursor is imidized by a heat treatment at a temperature higher than 350° C., particularly preferably higher than 400° C., a highly transparent polyimide can be produced. As a result, the maximum heating temperature of the heat treatment for imidization can be set to a high temperature exceeding 350° C., particularly preferably a high temperature exceeding 400° C., so that the mechanical properties of the obtained polyimide are improved. That is, according to the present invention, a polyimide having high transparency, a small thickness direction retardation, and excellent mechanical properties can be obtained.

前記のとおり、本発明のポリイミド前駆体組成物は、前記化学式(1)で表される繰り返し単位、または前記化学式(2)で表される繰り返し単位の少なくとも1種を含むポリイミド前駆体を含む。 As described above, the polyimide precursor composition of the present invention includes a polyimide precursor containing at least one repeating unit represented by the chemical formula (1) or the repeating unit represented by the chemical formula (2).

前記化学式(1)中のXとしては、炭素数が4〜40の脂環構造を有する4価の基が好ましく、Yとしては、炭素数が6〜40の芳香族環を有する2価の基が好ましい。 X 1 in the chemical formula (1) is preferably a tetravalent group having an alicyclic structure having 4 to 40 carbon atoms, and Y 1 is a divalent group having an aromatic ring having 6 to 40 carbon atoms. Groups of are preferred.

前記化学式(1)の繰り返し単位を与えるテトラカルボン酸成分としては、例えば、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、イソプロピリデンジフェノキシビスフタル酸、シクロヘキサン−1,2,4,5−テトラカルボン酸、[1,1’−ビ(シクロヘキサン)]−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸、[1,1’−ビ(シクロヘキサン)]−2,3,3’,4’−テトラカルボン酸、[1,1’−ビ(シクロヘキサン)]−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、4,4’−メチレンビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−(プロパン−2,2−ジイル)ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−オキシビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−チオビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−スルホニルビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−(ジメチルシランジイル)ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−(テトラフルオロプロパン−2,2−ジイル)ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、オクタヒドロペンタレン−1,3,4,6−テトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸、6−(カルボキシメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5−トリカルボン酸、ビシクロ[2.2.2]オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.2]オクタ−5−エン−2,3,7,8−テトラカルボン酸、トリシクロ[4.2.2.02,5]デカン−3,4,7,8−テトラカルボン酸、トリシクロ[4.2.2.02,5]デカ−7−エン−3,4,9,10−テトラカルボン酸、9−オキサトリシクロ[4.2.1.02,5]ノナン−3,4,7,8−テトラカルボン酸、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸、(4arH,8acH)−デカヒドロ−1t,4t:5c,8c−ジメタノナフタレン−2c,3c,6c,7c−テトラカルボン酸、(4arH,8acH)−デカヒドロ−1t,4t:5c,8c−ジメタノナフタレン−2t,3t,6c,7c−テトラカルボン酸や、これらのテトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸シリルエステル、テトラカルボン酸エステル、テトラカルボン酸クロライド等の誘導体が挙げられる。テトラカルボン酸成分は、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。 Examples of the tetracarboxylic acid component providing the repeating unit of the chemical formula (1) include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid, isopropylidenediphenoxybisphthalic acid, cyclohexane-1,2,4,5- Tetracarboxylic acid, [1,1'-bi(cyclohexane)]-3,3',4,4'-tetracarboxylic acid, [1,1'-bi(cyclohexane)]-2,3,3',4 '-Tetracarboxylic acid, [1,1'-bi(cyclohexane)]-2,2',3,3'-tetracarboxylic acid, 4,4'-methylenebis(cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4 ,4'-(Propane-2,2-diyl)bis(cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4'-oxybis(cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4'-thiobis(cyclohexane -1,2-dicarboxylic acid), 4,4'-sulfonylbis(cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4'-(dimethylsilanediyl)bis(cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4 , 4'-(Tetrafluoropropane-2,2-diyl)bis(cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), octahydropentalene-1,3,4,6-tetracarboxylic acid, bicyclo[2.2. 1]Heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, 6-(carboxymethyl)bicyclo[2.2.1]heptane-2,3,5-tricarboxylic acid, bicyclo[2.2.2]octane -2,3,5,6-tetracarboxylic acid, bicyclo[2.2.2]oct-5-ene-2,3,7,8-tetracarboxylic acid, tricyclo[4.2.2.02,5] ] Decane-3,4,7,8-tetracarboxylic acid, tricyclo[4.2.2.02,5]deca-7-ene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid, 9-oxatricyclo [4.2.1.02,5] Nonane-3,4,7,8-tetracarboxylic acid, norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane 5,5 '',6,6''-Tetracarboxylic acid, (4arH,8acH)-decahydro-1t,4t:5c,8c-dimethanonaphthalene-2c,3c,6c,7c-tetracarboxylic acid, (4arH,8acH) -Decahydro-1t,4t:5c,8c-dimethanonaphthalene-2t,3t,6c,7c-tetracarboxylic acid, tetracarboxylic acid dianhydrides thereof, tetracarboxylic acid silyl ester, tetracarboxylic acid ether Examples thereof include derivatives such as stell and tetracarboxylic acid chloride. The tetracarboxylic acid component may be used alone or in combination of two or more.

前記化学式(1)の繰り返し単位を与えるジアミン成分としては、例えば、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、ベンジジン、3,3'−ジアミノ−ビフェニル、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、3,3’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、m−トリジン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、3,4’−ジアミノベンズアニリド、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)テレフタルアミド、N,N’−p−フェニレンビス(p−アミノベンズアミド)、4−アミノフェノキシ−4−ジアミノベンゾエート、ビス(4−アミノフェニル)テレフタレート、ビフェニル−4,4’−ジカルボン酸ビス(4−アミノフェニル)エステル、p−フェニレンビス(p−アミノベンゾエート)、ビス(4−アミノフェニル)-[1,1'-ビフェニル]-4,4'-ジカルボキシレート、[1,1'-ビフェニル]-4,4'-ジイル ビス(4-アミノベンゾエート)、4,4’−オキシジアニリン、3,4’−オキシジアニリン、3,3’−オキシジアニリン、p−メチレンビス(フェニレンジアミン)、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、3,3'−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、3,3’−ビス((アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)ジフェニル)スルホン、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)ジフェニル)スルホン、オクタフルオロベンジジン、3,3'−ジメトキシ−4,4'−ジアミノビフェニル、3,3'−ジクロロ−4,4'−ジアミノビフェニル、3,3'−ジフルオロ−4,4'−ジアミノビフェニル、2スルホンスルホン,4−ビス(4−アミノアニリノ)−6−アミノ−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(4−アミノアニリノ)−6−メチルアミノ−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(4−アミノアニリノ)−6−エチルアミノ−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(4−アミノアニリノ)−6−アニリノ−1,3,5−トリアジンが挙げられる。ジアミン成分は、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。 Examples of the diamine component that provides the repeating unit of the chemical formula (1) include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, benzidine, 3,3′-diamino-biphenyl, 2,2′-bis(trifluoromethyl)benzidine. , 3,3'-bis(trifluoromethyl)benzidine, m-tolidine, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,4'-diaminobenzanilide, N,N'-bis(4-aminophenyl)terephthalamide , N,N'-p-phenylene bis(p-aminobenzamide), 4-aminophenoxy-4-diaminobenzoate, bis(4-aminophenyl)terephthalate, biphenyl-4,4'-dicarboxylic acid bis(4-amino) Phenyl) ester, p-phenylene bis(p-aminobenzoate), bis(4-aminophenyl)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-dicarboxylate, [1,1'-biphenyl]- 4,4'-diylbis(4-aminobenzoate), 4,4'-oxydianiline, 3,4'-oxydianiline, 3,3'-oxydianiline, p-methylenebis(phenylenediamine), 1 ,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 4,4′-bis(4-aminophenoxy) Biphenyl, 4,4'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, 2,2-bis(4-(4-aminophenoxy)phenyl)hexafluoropropane, 2,2-bis(4-aminophenyl)hexafluoropropane , Bis(4-aminophenyl) sulfone, 3,3′-bis(trifluoromethyl)benzidine, 3,3′-bis((aminophenoxy)phenyl)propane, 2,2′-bis(3-amino-4) -Hydroxyphenyl)hexafluoropropane, bis(4-(4-aminophenoxy)diphenyl)sulfone, bis(4-(3-aminophenoxy)diphenyl)sulfone, octafluorobenzidine, 3,3'-dimethoxy-4,4 '-Diaminobiphenyl, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminobiphenyl, 2 sulfone sulfone, 4-bis(4-aminoanilino)-6- Amino-1,3,5-triazine, 2,4-bis(4-aminoanilino)-6-methylamino-1,3,5-triazine, 2,4-bis(4 Examples include -aminoanilino)-6-ethylamino-1,3,5-triazine and 2,4-bis(4-aminoanilino)-6-anilino-1,3,5-triazine. The diamine component may be used alone or in combination of two or more.

この前記化学式(1)で表される繰り返し単位の少なくとも1種を含むポリイミド前駆体は、前記化学式(1)で表される繰り返し単位以外の、他の繰り返し単位を含むことができる。他の繰り返し単位を与えるテトラカルボン酸成分およびジアミン成分としては、特に限定されず、他の公知の芳香族または脂肪族テトラカルボン酸類、公知の芳香族または脂肪族ジアミン類いずれも使用することができる。他のテトラカルボン酸成分も、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。他のジアミン成分も、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。 The polyimide precursor containing at least one kind of the repeating unit represented by the chemical formula (1) may include other repeating unit other than the repeating unit represented by the chemical formula (1). The tetracarboxylic acid component and the diamine component that give other repeating units are not particularly limited, and any other known aromatic or aliphatic tetracarboxylic acid or known aromatic or aliphatic diamine can be used. .. Other tetracarboxylic acid components may be used alone or in combination of two or more. Other diamine components may be used alone or in combination of two or more.

前記化学式(1)で表される繰り返し単位以外の、他の繰り返し単位の含有量は、全繰り返し単位に対して、好ましくは30モル%以下または30モル%未満、より好ましくは20モル%以下、さらに好ましくは10モル%以下であることが好ましい。 The content of other repeating units other than the repeating unit represented by the chemical formula (1) is preferably 30 mol% or less or less than 30 mol%, more preferably 20 mol% or less, based on all repeating units. More preferably, it is 10 mol% or less.

前記化学式(2)中のXとしては、炭素数が6〜40の芳香族環を有する4価の基が好ましく、Yとしては、炭素数が4〜40の脂環構造を有する2価の基が好ましい。 X 2 in the chemical formula (2) is preferably a tetravalent group having an aromatic ring having 6 to 40 carbon atoms, and Y 2 is a divalent group having an alicyclic structure having 4 to 40 carbon atoms. Groups of are preferred.

前記化学式(2)の繰り返し単位を与えるテトラカルボン酸成分としては、例えば、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1,2−ジカルボン酸、ピロメリット酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、4,4’−オキシジフタル酸、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、m−ターフェニル−3,4,3’,4’−テトラカルボン酸二無水物、p−ターフェニル−3,4,3’,4’−テトラカルボン酸二無水物、ビスカルボキシフェニルジメチルシラン、ビスジカルボキシフェノキシジフェニルスルフィド、スルホニルジフタル酸や、これらのテトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸シリルエステル、テトラカルボン酸エステル、テトラカルボン酸クロライド等の誘導体が挙げられる。テトラカルボン酸成分は、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。 Examples of the tetracarboxylic acid component giving the repeating unit of the chemical formula (2) include 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluoropropane and 4-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3- Yl)-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic acid, pyromellitic acid, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid, 3,3',4,4'- Biphenyltetracarboxylic acid, 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic acid, 4,4'-oxydiphthalic acid, bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfone dianhydride, m-terphenyl-3, 4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride, p-terphenyl-3,4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride, biscarboxyphenyldimethylsilane, bisdicarboxyphenoxydiphenyl sulfide, Examples thereof include sulfonyldiphthalic acid and derivatives thereof such as tetracarboxylic acid dianhydride, tetracarboxylic acid silyl ester, tetracarboxylic acid ester, and tetracarboxylic acid chloride. The tetracarboxylic acid component may be used alone or in combination of two or more.

前記化学式(2)の繰り返し単位を与えるジアミン成分としては、例えば、1,4−ジアミノシクロへキサン、1,4−ジアミノ−2−メチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−エチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−n−プロピルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−イソプロピルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−n−ブチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−イソブチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2―sec―ブチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2―tert―ブチルシクロヘキサン、1,2−ジアミノシクロへキサン、1,3−ジアミノシクロブタン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ジアミノビシクロヘプタン、ジアミノメチルビシクロヘプタン、ジアミノオキシビシクロヘプタン、ジアミノメチルオキシビシクロヘプタン、イソホロンジアミン、ジアミノトリシクロデカン、ジアミノメチルトリシクロデカン、ビス(アミノシクロへキシル)メタン、ビス(アミノシクロヘキシル)イソプロピリデン6,6'-ビス(3-アミノフェノキシ)-3,3,3',3'-テトラメチル-1,1'-スピロビインダン、6,6'-ビス(4-アミノフェノキシ)-3,3,3',3'-テトラメチル-1,1'-スピロビインダンが挙げられる。ジアミン成分は、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。 Examples of the diamine component giving the repeating unit of the chemical formula (2) include 1,4-diaminocyclohexane, 1,4-diamino-2-methylcyclohexane, 1,4-diamino-2-ethylcyclohexane, 1, 4-diamino-2-n-propylcyclohexane, 1,4-diamino-2-isopropylcyclohexane, 1,4-diamino-2-n-butylcyclohexane, 1,4-diamino-2-isobutylcyclohexane, 1,4- Diamino-2-sec-butylcyclohexane, 1,4-diamino-2-tert-butylcyclohexane, 1,2-diaminocyclohexane, 1,3-diaminocyclobutane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1 ,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, diaminobicycloheptane, diaminomethylbicycloheptane, diaminooxybicycloheptane, diaminomethyloxybicycloheptane, isophoronediamine, diaminotricyclodecane, diaminomethyltricyclodecane, bis(aminocyclohexyl) ) Methane, bis(aminocyclohexyl)isopropylidene 6,6'-bis(3-aminophenoxy)-3,3,3',3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane, 6,6'-bis( 4-aminophenoxy)-3,3,3',3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane. The diamine component may be used alone or in combination of two or more.

この前記化学式(2)で表される繰り返し単位の少なくとも1種を含むポリイミド前駆体は、前記化学式(2)で表される繰り返し単位以外の、他の繰り返し単位を含むことができる。他の繰り返し単位を与えるテトラカルボン酸成分およびジアミン成分としては、特に限定されず、他の公知の芳香族または脂肪族テトラカルボン酸類、公知の芳香族または脂肪族ジアミン類いずれも使用することができる。他のテトラカルボン酸成分も、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。他のジアミン成分も、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。 The polyimide precursor containing at least one kind of the repeating unit represented by the chemical formula (2) can contain other repeating unit other than the repeating unit represented by the chemical formula (2). The tetracarboxylic acid component and the diamine component that give other repeating units are not particularly limited, and any other known aromatic or aliphatic tetracarboxylic acid or known aromatic or aliphatic diamine can be used. .. Other tetracarboxylic acid components may be used alone or in combination of two or more. Other diamine components may be used alone or in combination of two or more.

前記化学式(2)で表される繰り返し単位以外の、他の繰り返し単位の含有量は、全繰り返し単位に対して、好ましくは30モル%以下または30モル%未満、より好ましくは20モル%以下、さらに好ましくは10モル%以下であることが好ましい。 The content of other repeating units other than the repeating unit represented by the chemical formula (2) is preferably 30 mol% or less or less than 30 mol%, more preferably 20 mol% or less, based on all repeating units. More preferably, it is 10 mol% or less.

ポリイミド前駆体は、前記化学式(1)で表される繰り返し単位の少なくとも1種と前記化学式(2)で表される繰り返し単位の少なくとも1種とを含むものであってもよい。その場合も、前記化学式(1)及び(2)で表される繰り返し単位以外の、他の繰り返し単位の含有量は、全繰り返し単位に対して、好ましくは30モル%以下または30モル%未満、より好ましくは20モル%以下、さらに好ましくは10モル%以下であることが好ましい。 The polyimide precursor may include at least one type of repeating unit represented by the chemical formula (1) and at least one type of repeating unit represented by the chemical formula (2). Also in that case, the content of other repeating units other than the repeating units represented by the chemical formulas (1) and (2) is preferably 30 mol% or less or less than 30 mol% based on all repeating units, It is more preferably 20 mol% or less, and further preferably 10 mol% or less.

ある実施態様においては、ポリイミド前駆体としては、例えば、下記化学式(1−1)で表される繰り返し単位を含むポリイミド前駆体が好ましく、下記化学式(1−2)及び下記化学式(1−3)で表される繰り返し単位を少なくとも1種含み、化学式(1−2)及び化学式(1−3)で表される繰り返し単位の合計含有量が、全繰り返し単位に対して、80モル%以上であるポリイミド前駆体がより好ましい。 In one embodiment, as the polyimide precursor, for example, a polyimide precursor containing a repeating unit represented by the following chemical formula (1-1) is preferable, and the following chemical formula (1-2) and the following chemical formula (1-3) The total content of the repeating units represented by the chemical formula (1-2) and the chemical formula (1-3) is at least 80 mol% based on all the repeating units. A polyimide precursor is more preferred.

Figure 0006721070
(式中、Aは芳香族環を有する2価の基であり、R、Rはそれぞれ独立に水素、炭素数1〜6のアルキル基、または炭素数3〜9のアルキルシリル基である。)
Figure 0006721070
(In the formula, A is a divalent group having an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms. .)

Figure 0006721070
(式中、Aは芳香族環を有する2価の基であり、R、Rはそれぞれ独立に水素、炭素数1〜6のアルキル基、または炭素数3〜9のアルキルシリル基である。)
Figure 0006721070
(In the formula, A is a divalent group having an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms. .)

Figure 0006721070
(式中、Aは芳香族環を有する2価の基であり、R、Rはそれぞれ独立に水素、炭素数1〜6のアルキル基、または炭素数3〜9のアルキルシリル基である。)
Figure 0006721070
(In the formula, A is a divalent group having an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms. .)

ただし、前記化学式(1−1)、前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)は、2つのノルボルナン環(ビシクロ[2.2.1]ヘプタン)の5位または6位の一方の酸基がアミノ基と反応してアミド結合(−CONH−)を形成しており、一方がアミド結合を形成していない−COORで表される基、または−COORで表される基であることを示す。すなわち、前記化学式(1−1)、前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)には、4つの構造異性体、すなわち(i)5位に−COORで表される基を、6位に−CONH−で表される基を有し、5’’位に−COORで表される基を、6’’位に−CONH−A−で表される基を有するもの、(ii)6位に−COORで表される基を、5位に−CONH−で表される基を有し、5’’位に−COORで表される基を、6’’位に−CONH−A−で表される基を有するもの、(iii)5位に−COORで表される基を、6位に−CONH−で表される基を有し、6’’位に−COORで表される基を、5’’位に−CONH−A−で表される基を有するもの、(iv)6位に−COORで表される基を、5位に−CONH−で表される基を有し、6’’位に−COORで表される基を、5’’位に−CONH−A−で表される基を有するもの全てが含まれる。 However, the chemical formula (1-1), the chemical formula (1-2), and the chemical formula (1-3) are one of the 5-position and the 6-position of two norbornane rings (bicyclo[2.2.1]heptane). Group represented by -COOR 1 or a group represented by -COOR 2 in which an acid group of 1 forms an amide bond (-CONH-) by reacting with an amino group, and one of which does not form an amide bond. Is shown. That is, in the chemical formula (1-1), the chemical formula (1-2), and the chemical formula (1-3), four structural isomers, that is, (i) a group represented by —COOR 1 at the 5 position is represented. A group having a group represented by -CONH- at the 6-position, a group represented by -COOR 2 at the 5'' position, and a group represented by -CONH-A- at the 6'' position, (Ii) a group represented by -COOR 1 at the 6-position, a group represented by -CONH- at the 5 position, and a group represented by -COOR 2 at the 5'' position by 6''position; Having a group represented by -CONH-A- in (iii) a group represented by -COOR 1 in the 5-position, a group represented by -CONH- in the 6-position, and a 6''-position. Having a group represented by -COOR 2 at 5''-position and a group represented by -CONH-A- at the 5'' position, (iv) a group represented by -COOR 1 at the 6-position at the 5-position All of those having a group represented by CONH-, a group represented by -COOR 2 at the 6" position, and a group represented by -CONH-A- at the 5" position are included.

さらに、ポリイミド前駆体は、Aが下記化学式(1−A)で表される基である化学式(1−1)で表される繰り返し単位、より好ましくはAが下記化学式(1−A)で表される基である化学式(1−2)および/または化学式(1−3)で表される繰り返し単位を少なくとも1種含むことが好ましい。 Furthermore, in the polyimide precursor, A is a repeating unit represented by the chemical formula (1-1), which is a group represented by the following chemical formula (1-A), and more preferably A is represented by the following chemical formula (1-A). It is preferable that at least one repeating unit represented by the chemical formula (1-2) and/or the chemical formula (1-3) which is a group represented by

Figure 0006721070
(式中、mは0〜3の整数を、nは0〜3の整数をそれぞれ独立に示す。V、U、Tはそれぞれ独立に水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基よりなる群から選択される1種を示し、Z、Wはそれぞれ独立に直接結合、または 式:−NHCO-、−CONH-、−COO-、−OCO-で表される基よりなる群から選択される1種を示す。)
Figure 0006721070
(In the formula, m independently represents an integer of 0 to 3, and n independently represents an integer of 0 to 3. V, U, and T are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a methyl group, and a trifluoromethyl group. Z and W each independently represent a direct bond, or one selected from the group consisting of groups represented by the formula: -NHCO-, -CONH-, -COO-, -OCO-. Show.)

換言すれば、ある実施態様においては、ポリイミド前駆体は、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等、より好ましくはtrans−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等および/またはcis−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等(テトラカルボン酸類等とは、テトラカルボン酸と、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸シリルエステル、テトラカルボン酸エステル、テトラカルボン酸クロライド等のテトラカルボン酸誘導体を表す)を含むテトラカルボン酸成分と、芳香族環を有するジアミン成分、より好ましくはAが前記化学式(1−A)で表される基である化学式(1−1)、化学式(1−2)または化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるジアミン成分を含むジアミン成分から得られるポリイミド前駆体である。 In other words, in some embodiments, the polyimide precursor is norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-. Tetracarboxylic acids and the like, more preferably trans-endo-endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetra Carboxylic acids and/or cis-endo-endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acids And the like (the tetracarboxylic acids and the like represent tetracarboxylic acid and tetracarboxylic acid dianhydride, tetracarboxylic acid silyl ester, tetracarboxylic acid ester, tetracarboxylic acid derivative such as tetracarboxylic acid chloride) Component, a diamine component having an aromatic ring, and more preferably a chemical formula (1-1), a chemical formula (1-2) or a chemical formula (1-3) in which A is a group represented by the chemical formula (1-A). Is a polyimide precursor obtained from a diamine component containing a diamine component giving the repeating unit of

前記化学式(1−1)の繰り返し単位を与えるテトラカルボン酸成分としては、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等の、1種を単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。前記化学式(1−2)の繰り返し単位を与えるテトラカルボン酸成分としては、trans−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等の、1種を単独で使用してもよく、複数種を組み合わせて使用することもできる。前記化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるテトラカルボン酸成分としては、cis−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等の、1種を単独で使用してもよく、複数種を組み合わせて使用することもできる。 Examples of the tetracarboxylic acid component giving the repeating unit of the chemical formula (1-1) include norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6. One type such as 6″-tetracarboxylic acids may be used alone, or a plurality of types may be used in combination. Examples of the tetracarboxylic acid component that provides the repeating unit represented by the chemical formula (1-2) include trans-endo-endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α′-spiro-2″-norbornane-5. One type such as 5″,6,6″-tetracarboxylic acids may be used alone, or a plurality of types may be used in combination. Examples of the tetracarboxylic acid component that gives the repeating unit of the chemical formula (1-3) include cis-endo-endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5. One type such as 5″,6,6″-tetracarboxylic acids may be used alone, or a plurality of types may be used in combination.

なお、より好ましい形態のポリイミド前駆体においては、前記化学式(1−2)の繰り返し単位を与えるテトラカルボン酸成分(trans−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等)の1種以上のみを使用してもよく、前記化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるテトラカルボン酸成分(cis−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等)の1種以上のみを使用してもよく、前記化学式(1−2)の繰り返し単位を与えるテトラカルボン酸成分(trans−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等)の1種以上と、前記化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるテトラカルボン酸成分(cis−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等)の1種以上の両方を使用してもよい。 In addition, in the polyimide precursor of a more preferable form, the tetracarboxylic acid component (trans-endo-endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α′-) that gives the repeating unit of the chemical formula (1-2) is obtained. Spiro-2″-norbornane-5,5″,6,6″-tetracarboxylic acids and the like) may be used alone, and a tetravalent unit giving the repeating unit of the above chemical formula (1-3) may be used. Carboxylic acid component (cis-endo-endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acids, etc.) One or more of the above may be used, and a tetracarboxylic acid component (trans-endo-endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α′-, which gives the repeating unit of the chemical formula (1-2), may be used. Spiro-2″-norbornane-5,5″,6,6″-tetracarboxylic acids and the like) and a tetracarboxylic acid component (cis-) that gives the repeating unit of the chemical formula (1-3). endo-endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acids, etc.) May be used.

ポリイミド前駆体は、前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)で表される繰り返し単位の合計含有量が、全繰り返し単位に対して、80モル%以上であることが好ましく、すなわち、前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)で表される繰り返し単位を少なくとも1種含み、その繰り返し単位を全繰り返し単位中に、合計で、好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上、さらに好ましくは95モル%以上、特に好ましくは99モル%以上含むことが好ましい。前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)で表される繰り返し単位を少なくとも1種含み、その繰り返し単位を全繰り返し単位中に、合計で、好ましくは80モル%以上含むことで、得られるポリイミドの線熱膨張係数が小さくなる。 In the polyimide precursor, the total content of the repeating units represented by the chemical formulas (1-2) and (1-3) is preferably 80 mol% or more based on all repeating units, that is, , At least one type of repeating unit represented by the chemical formula (1-2) and the chemical formula (1-3), the total of the repeating units in all repeating units, preferably 80 mol% or more, more preferably Is preferably 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, and particularly preferably 99 mol% or more. By containing at least one type of repeating unit represented by the chemical formula (1-2) and the chemical formula (1-3), the total number of the repeating units in all repeating units, preferably by 80 mol% or more, The coefficient of linear thermal expansion of the obtained polyimide becomes small.

前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)、前記化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるジアミン成分は、Aが前記化学式(1−A)で表される基であるものを与えるジアミンを含むことが好ましい。 In the diamine component which gives the repeating unit of the chemical formula (1-1), the chemical formula (1-2), or the chemical formula (1-3), A is a group represented by the chemical formula (1-A). It is preferable to include a diamine that gives

Aが前記化学式(1−A)の構造である化学式(1−1)、または化学式(1−2)、化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるジアミン成分は、芳香環を有し、芳香環を複数有する場合は芳香環同士をそれぞれ独立に、直接結合、アミド結合、またはエステル結合で連結したものである。芳香環同士の連結位置は特に限定されないが、アミノ基もしくは芳香環同士の連結基に対して4位で結合することで直線的な構造となり、得られるポリイミドが低線熱膨張になることがある。また、芳香環にメチル基やトリフルオロメチル基が置換されていてもよい。なお、置換位置は特に限定されない。 The diamine component that gives the repeating unit of the chemical formula (1-1) or the chemical formula (1-2) or the chemical formula (1-3) in which A is the structure of the chemical formula (1-A) has an aromatic ring, and When it has a plurality of rings, the aromatic rings are independently linked by a direct bond, an amide bond or an ester bond. The linking position of the aromatic rings is not particularly limited, but a linear structure may be formed by bonding at the 4-position to the amino group or the linking group of the aromatic rings, and the resulting polyimide may have low linear thermal expansion. .. Further, the aromatic ring may be substituted with a methyl group or a trifluoromethyl group. The substitution position is not particularly limited.

Aが前記化学式(1−A)の構造である化学式(1−1)、または化学式(1−2)、化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるジアミン成分としては、特に限定するものではないが、例えば、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、ベンジジン、3,3’−ジアミノ−ビフェニル、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、3,3’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、m−トリジン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、3,4’−ジアミノベンズアニリド、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)テレフタルアミド、N,N’−p−フェニレンビス(p−アミノベンズアミド)、4−アミノフェノキシ−4−ジアミノベンゾエート、ビス(4−アミノフェニル)テレフタレート、ビフェニル−4,4’−ジカルボン酸ビス(4−アミノフェニル)エステル、p−フェニレンビス(p−アミノベンゾエート)、ビス(4−アミノフェニル)−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジカルボキシレート、[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジイルビス(4−アミノベンゾエート)等が挙げられ、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。これらのうち、p−フェニレンジアミン、m−トリジン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、4−アミノフェノキシ−4−ジアミノベンゾエート、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、ベンジジン、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)テレフタルアミド、ビフェニル−4,4’−ジカルボン酸ビス(4−アミノフェニル)エステルが好ましく、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンがより好ましい。ジアミン成分として、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンを使用することで、得られるポリイミドが高耐熱性と高透過率を両立する。これらのジアミンは、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。なお、o−トリジンは危険性が高いことから好ましくない。 The diamine component that gives the repeating unit of the chemical formula (1-1) or the chemical formula (1-2) or the chemical formula (1-3) in which A is the structure of the chemical formula (1-A) is not particularly limited. Is, for example, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, benzidine, 3,3′-diamino-biphenyl, 2,2′-bis(trifluoromethyl)benzidine, 3,3′-bis(trifluoromethyl)benzidine , M-tolidine, 4,4′-diaminobenzanilide, 3,4′-diaminobenzanilide, N,N′-bis(4-aminophenyl)terephthalamide, N,N′-p-phenylenebis(p- Aminobenzamide), 4-aminophenoxy-4-diaminobenzoate, bis(4-aminophenyl)terephthalate, biphenyl-4,4′-dicarboxylic acid bis(4-aminophenyl) ester, p-phenylenebis(p-aminobenzoate) ), bis(4-aminophenyl)-[1,1′-biphenyl]-4,4′-dicarboxylate, [1,1′-biphenyl]-4,4′-diylbis(4-aminobenzoate), etc. And may be used alone or in combination of two or more. Among these, p-phenylenediamine, m-tolidine, 4,4′-diaminobenzanilide, 4-aminophenoxy-4-diaminobenzoate, 2,2′-bis(trifluoromethyl)benzidine, benzidine, N,N '-Bis(4-aminophenyl)terephthalamide and biphenyl-4,4'-dicarboxylic acid bis(4-aminophenyl)ester are preferable, p-phenylenediamine, 4,4'-diaminobenzanilide and 2,2'. -Bis(trifluoromethyl)benzidine is more preferred. By using p-phenylenediamine, 4,4'-diaminobenzanilide and 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine as the diamine component, the resulting polyimide has both high heat resistance and high transmittance. .. These diamines may be used alone or in combination of two or more. It should be noted that o-tolidine is not preferred because of its high risk.

前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)、前記化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるジアミン成分としては、Aが前記化学式(1−A)の構造のものを与えるジアミン成分以外の、他のジアミンを併用することができる。他のジアミン成分としては、他の芳香族または脂肪族ジアミン類を使用することができる。他のジアミン成分として、例えば、4,4’−オキシジアニリン、3,4’−オキシジアニリン、3,3’−オキシジアニリン、ビス(4-アミノフェニル)スルフィド、p−メチレンビス(フェニレンジアミン)、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、3,3−ビス((アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)ジフェニル)スルホン、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)ジフェニル)スルホン、オクタフルオロベンジジン、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジフルオロ−4,4’−ジアミノビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、1,4−ジアミノシクロへキサン、1,4−ジアミノ−2−メチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−エチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−n−プロピルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−イソプロピルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−n−ブチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−イソブチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−sec−ブチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−tert−ブチルシクロヘキサン、1,2−ジアミノシクロへキサン、1,4−ジアミノシクロへキサン、1,3−ジアミノシクロブタン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ジアミノビシクロヘプタン、ジアミノメチルビシクロヘプタン、ジアミノオキシビシクロヘプタン、ジアミノメチルオキシビシクロヘプタン、イソホロンジアミン、ジアミノトリシクロデカン、ジアミノメチルトリシクロデカン、ビス(アミノシクロへキシル)メタン、ビス(アミノシクロヘキシル)イソプロピリデン6,6'-ビス(3-アミノフェノキシ)-3,3,3',3'-テトラメチル-1,1'-スピロビインダン、6,6'-ビス(4-アミノフェノキシ)-3,3,3',3'-テトラメチル-1,1'-スピロビインダン等やこれらの誘導体が挙げられ、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。 As the diamine component that provides the repeating unit of the chemical formula (1-1), the chemical formula (1-2), or the chemical formula (1-3), A is a diamine that provides the repeating unit of the chemical formula (1-A). Other diamines other than the components can be used together. As the other diamine component, other aromatic or aliphatic diamines can be used. Other diamine components include, for example, 4,4′-oxydianiline, 3,4′-oxydianiline, 3,3′-oxydianiline, bis(4-aminophenyl)sulfide, p-methylenebis(phenylenediamine). ), 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 2,2-bis[4-( 4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane, 2,2-bis(4-aminophenyl)hexafluoropropane, bis(4-aminophenyl)sulfone, 3,3-bis((aminophenoxy)phenyl)propane, 2 , 2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane, bis(4-(4-aminophenoxy)diphenyl)sulfone, bis(4-(3-aminophenoxy)diphenyl)sulfone, octafluorobenzidine, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminobiphenyl, 9,9-bis (4-Aminophenyl)fluorene, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 4,4'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, 1,4-diaminocyclohexane, 1,4-diamino 2-methylcyclohexane, 1,4-diamino-2-ethylcyclohexane, 1,4-diamino-2-n-propylcyclohexane, 1,4-diamino-2-isopropylcyclohexane, 1,4-diamino-2-n -Butylcyclohexane, 1,4-diamino-2-isobutylcyclohexane, 1,4-diamino-2-sec-butylcyclohexane, 1,4-diamino-2-tert-butylcyclohexane, 1,2-diaminocyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, 1,3-diaminocyclobutane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, diaminobicycloheptane, diaminomethylbicycloheptane, diaminooxybicyclo Heptane, diaminomethyloxybicycloheptane, isophoronediamine, diaminotricyclodecane, diaminomethyltricyclodecane, bis(aminocyclohexyl)methane, bis(aminocyclohexyl)isopropylidene 6,6'-bis(3-aminophenoxy) -3 ,3,3',3'-Tetramethyl-1,1'-spirobiindane, 6,6'-bis(4-aminophenoxy)-3,3,3',3'-tetramethyl-1,1'- Examples thereof include spirobiindane and derivatives thereof, and they may be used alone or in combination of two or more.

本発明のポリイミド前駆体は、Aが前記化学式(1−A)で表されるものである前記化学式(1−1)の繰り返し単位を少なくとも1種、より好ましくは、Aが前記化学式(1−A)で表されるものである前記化学式(1−2)の繰り返し単位を少なくとも1種および/またはAが前記化学式(1−A)で表されるものである前記化学式(1−3)の繰り返し単位を少なくとも1種含むことが好ましい。換言すれば、前記化学式(1−1)の繰り返し単位、より好ましくは前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるジアミン成分が、Aが前記化学式(1−A)の構造のものを与えるジアミン成分を含むことが好ましい。前記化学式(1−1)の繰り返し単位、より好ましくは前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)中のAを与えるジアミン成分が前記化学式(1−A)の構造のものを与えるジアミン成分であることで、得られるポリイミドの耐熱性が向上する。 In the polyimide precursor of the present invention, A is at least one repeating unit of the chemical formula (1-1) represented by the chemical formula (1-A), and more preferably, A is the chemical formula (1-). At least one repeating unit of the chemical formula (1-2) represented by A) and/or A of the chemical formula (1-3) represented by the chemical formula (1-A); It is preferable to include at least one repeating unit. In other words, the diamine component giving the repeating unit of the chemical formula (1-1), more preferably the repeating unit of the chemical formula (1-2) and the chemical formula (1-3), A is the chemical formula (1-A It is preferable to include a diamine component which gives a structure of (1). The repeating unit of the chemical formula (1-1), more preferably the diamine component giving A in the chemical formula (1-2) and the chemical formula (1-3) has the structure of the chemical formula (1-A). The heat resistance of the obtained polyimide improves by being a diamine component.

本発明のポリイミド前駆体は、前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)中のAを与えるジアミン成分100モル%中、前記化学式(1−A)の構造を与えるジアミン成分の割合が、合計で、好ましくは50モル%以上、より好ましくは70モル%以上、より好ましくは80モル%以上、さらに好ましくは90モル%以上、特に好ましくは100モル%であることが好ましい。換言すれば、Aが前記化学式(1−A)の構造である前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)の繰り返し単位の1種以上の割合が、合計で、前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)で表される全繰り返し単位中、好ましくは50モル%以上、より好ましくは70モル%以上、より好ましくは80モル%以上、さらに好ましくは90モル%以上、特に好ましくは100モル%であることが好ましい。前記化学式(1−A)の構造を与えるジアミン成分の割合が、50モル%より小さい場合、得られるポリイミドの線熱膨張係数が大きくなることがある。ある実施態様においては、得られるポリイミドの機械的特性の点から、前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)中のAを与えるジアミン成分100モル%中、前記化学式(1−A)の構造を与えるジアミン成分の割合が、合計で、好ましくは80モル%以下、より好ましくは90モル%以下または90モル%未満であることが好ましいことがある。例えば、4,4’−オキシジアニリン等の他の芳香族または脂肪族ジアミン類を、前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるジアミン成分100モル%中、好ましくは20モル%未満、より好ましくは10モル%以下、より好ましくは10モル%未満で使用することができる。 The polyimide precursor of the present invention contains the chemical formula (1-A) in 100 mol% of the diamine component giving A in the chemical formula (1-1) or the chemical formulas (1-2) and (1-3). The ratio of the diamine component giving the structure is preferably 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, further preferably 90 mol% or more, particularly preferably 100 mol%. % Is preferable. In other words, A is a ratio of one or more kinds of the chemical formula (1-1) in which A is the structure of the chemical formula (1-A), or the repeating units of the chemical formula (1-2) and the chemical formula (1-3). Is, in total, preferably 50 mol% or more, more preferably 70 mol, in all the repeating units represented by the chemical formula (1-1) or the chemical formulas (1-2) and (1-3). % Or more, more preferably 80 mol% or more, further preferably 90 mol% or more, and particularly preferably 100 mol%. When the proportion of the diamine component giving the structure of the chemical formula (1-A) is less than 50 mol %, the coefficient of linear thermal expansion of the obtained polyimide may increase. In one embodiment, from the viewpoint of mechanical properties of the obtained polyimide, 100 mol of a diamine component giving A in the chemical formula (1-1) or the chemical formulas (1-2) and (1-3). %, the total proportion of the diamine components giving the structure of the chemical formula (1-A) is preferably 80 mol% or less, more preferably 90 mol% or less, or less than 90 mol%. .. For example, other aromatic or aliphatic diamines such as 4,4′-oxydianiline are added to the repeating unit represented by the chemical formula (1-1) or the chemical formula (1-2) and the chemical formula (1-3). It can be used in 100 mol% of the diamine component that gives the above, preferably less than 20 mol%, more preferably 10 mol% or less, more preferably less than 10 mol%.

ある実施態様においては、本発明の前記化学式(1−1)で表される繰り返し単位を含むポリイミド前駆体は、Aが前記化学式(1−A)で表されるものである化学式(1−1)の繰り返し単位を少なくとも2種含むことが好ましいことがある。ある実施態様においては、本発明の前記化学式(1−2)で表される繰り返し単位および/または前記化学式(1−3)で表される繰り返し単位を含むポリイミド前駆体は、Aが前記化学式(1−A)で表されるものである化学式(1−2)または化学式(1−2)の繰り返し単位を少なくとも2種含むことが好ましいことがある。換言すれば、前記化学式(1−1)の繰り返し単位を与えるジアミン成分、または、前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるジアミン成分が、Aが前記化学式(1−A)の構造であるものを与えるジアミン成分を少なくとも2種含むことが好ましいことがある。前記化学式(1−1)中のA、または、前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)中のAを与えるジアミン成分が前記化学式(1−A)の構造のものを与えるジアミン成分の少なくとも2種類を含むことで、得られるポリイミドの高透明性と低線熱膨張性のバランスが取れる(すなわち、透明性が高く、且つ、低線熱膨張係数であるポリイミドが得られる)。 In one embodiment, in the polyimide precursor containing a repeating unit represented by the chemical formula (1-1) of the present invention, A is a compound represented by the chemical formula (1-A). It may be preferable to include at least two kinds of repeating units of (1). In one embodiment, in the polyimide precursor containing the repeating unit represented by the chemical formula (1-2) and/or the repeating unit represented by the chemical formula (1-3) of the present invention, A has the chemical formula ( It may be preferable to include at least two repeating units of the chemical formula (1-2) or the chemical formula (1-2) represented by 1-A). In other words, in the diamine component giving the repeating unit of the chemical formula (1-1), or the diamine component giving the repeating unit of the chemical formulas (1-2) and (1-3), A is the chemical formula ( It may be preferred to include at least two diamine components that give the structure 1-A). A in the chemical formula (1-1), or a diamine component that gives a diamine component giving A in the chemical formulas (1-2) and (1-3) has the structure of the chemical formula (1-A). By containing at least two kinds of components, the high transparency and low linear thermal expansion of the obtained polyimide can be balanced (that is, a polyimide having high transparency and a low linear thermal expansion coefficient can be obtained).

なお、本発明のポリイミド前駆体は、Aが前記化学式(1−A)の構造である前記化学式(1−2)の繰り返し単位を少なくとも2種含むものであってもよく、また、Aが前記化学式(1−A)の構造である前記化学式(1−3)の繰り返し単位を少なくとも2種含むものであってもよく、また、Aが前記化学式(1−A)の構造である前記化学式(1−2)の繰り返し単位を少なくとも1種と、Aが前記化学式(1−A)の構造である前記化学式(1−3)の繰り返し単位を少なくとも1種含むものであってもよい。 In the polyimide precursor of the present invention, A may include at least two repeating units of the chemical formula (1-2) having the structure of the chemical formula (1-A), and A is the above. It may include at least two repeating units of the chemical formula (1-3), which is the structure of the chemical formula (1-A), and the chemical formula (A) is a structure of the chemical formula (1-A). It may contain at least one repeating unit of 1-2) and at least one repeating unit of the chemical formula (1-3), wherein A is the structure of the chemical formula (1-A).

ある実施態様においては、本発明のポリイミド前駆体は、
(i)Aが、mおよび/またはnが1〜3であり、Zおよび/またはWが、それぞれ独立に、−NHCO−、−CONH−、−COO−、または−OCO−のいずれかである前記化学式(1−A)の構造である前記化学式(1−1)、好ましくは前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)の繰り返し単位(I)を少なくとも1種含み、
(ii)Aが、mおよびnが0である前記化学式(1−A)の構造であるか、または、mおよび/またはnが1〜3であり、ZおよびWが直接結合である前記化学式(1−A)の構造である前記化学式(1−1)、好ましくは前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)の繰り返し単位(II)を少なくとも1種含むことがより好ましいことがある。
In one embodiment, the polyimide precursor of the present invention is
(I) A is m and/or n is 1 to 3, and Z and/or W are each independently -NHCO-, -CONH-, -COO-, or -OCO-. The chemical formula (1-1), which is the structure of the chemical formula (1-A), preferably contains at least one repeating unit (I) of the chemical formula (1-2) and the chemical formula (1-3),
(Ii) A is the structure of the chemical formula (1-A) in which m and n are 0, or the chemical formula in which m and/or n is 1 to 3 and Z and W are direct bonds. It is more preferable to include at least one repeating unit (II) of the chemical formula (1-1), preferably the chemical formula (1-2) and the chemical formula (1-3), which is the structure of (1-A). There is.

この実施態様において、前記繰り返し単位(I)としては、例えば、Aが下記化学式(D−1)〜(D−3)のいずれかで表されるものである前記化学式(1−1)の繰り返し単位が好ましく、Aが下記化学式(D−1)〜(D−2)のいずれかで表されるものである前記化学式(1−1)の繰り返し単位がより好ましい。なお、Aが下記化学式(D−1)または下記化学式(D−2)で表されるものである前記化学式(1−1)の繰り返し単位を与えるジアミン成分は4,4’−ジアミノベンズアニリドであり、Aが下記化学式(D−3)で表されるものである前記化学式(1−1)の繰り返し単位を与えるジアミン成分はビス(4−アミノフェニル)テレフタレートであり、これらのジアミンは、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。 In this embodiment, as the repeating unit (I), for example, A is a repeating unit of the chemical formula (1-1) represented by any one of the following chemical formulas (D-1) to (D-3). A unit is preferable, and A is more preferably a repeating unit of the chemical formula (1-1) represented by any of the following chemical formulas (D-1) to (D-2). The diamine component which gives the repeating unit of the above chemical formula (1-1), in which A is represented by the following chemical formula (D-1) or the following chemical formula (D-2), is 4,4′-diaminobenzanilide. And the diamine component that gives the repeating unit of the chemical formula (1-1) in which A is represented by the chemical formula (D-3) is bis(4-aminophenyl)terephthalate, and these diamines are independent. May be used, or a plurality of types may be used in combination.

Figure 0006721070
Figure 0006721070

この実施態様において、前記繰り返し単位(II)としては、例えば、Aが下記化学式(D−4)〜(D−6)のいずれかで表されるものである前記化学式(1−1)の繰り返し単位が好ましく、Aが下記化学式(D−4)〜(D−5)のいずれかで表されるものである前記化学式(1−1)の繰り返し単位がより好ましい。なお、Aが下記化学式(D−4)で表されるものである前記化学式(1−1)の繰り返し単位を与えるジアミン成分はp−フェニレンジアミンであり、Aが下記化学式(D−5)で表されるものである前記化学式(1−1)の繰り返し単位を与えるジアミン成分は2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンであり、Aが下記化学式(D−6)で表されるものである前記化学式(1−1)の繰り返し単位を与えるジアミン成分はm−トリジンであり、これらのジアミンは、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。 In this embodiment, as the repeating unit (II), for example, A is a repeating unit of the chemical formula (1-1) represented by any one of the following chemical formulas (D-4) to (D-6). A unit is preferable, and A is more preferably a repeating unit of the chemical formula (1-1) represented by any of the following chemical formulas (D-4) to (D-5). In addition, the diamine component which gives the repeating unit of said chemical formula (1-1) whose A is represented by the following chemical formula (D-4) is p-phenylenediamine, and A is the following chemical formula (D-5). The diamine component which gives the repeating unit of the chemical formula (1-1) represented is 2,2′-bis(trifluoromethyl)benzidine, and A is represented by the following chemical formula (D-6). The diamine component that gives the repeating unit of the above chemical formula (1-1) is m-tolidine, and these diamines may be used alone or in combination of two or more.

Figure 0006721070
Figure 0006721070

この実施態様のポリイミド前駆体において、前記繰り返し単位(I)1種以上の割合が、合計で、前記化学式(1−1)で表される全繰り返し単位中、30モル%以上70モル%以下であり、前記繰り返し単位(II)1種以上の割合が、合計で、前記化学式(1−1)で表される全繰り返し単位中、30モル%以上70モル%以下であることが好ましく、前記繰り返し単位(I)1種以上の割合が、合計で、前記化学式(1−1)で表される全繰り返し単位中、40モル%以上60モル%以下であり、前記繰り返し単位(II)1種以上の割合が、合計で、前記化学式(1−1)で表される全繰り返し単位中、40モル%以上60モル%以下であることが特に好ましい。ある実施態様においては、前記繰り返し単位(I)の割合が、合計で、前記化学式(1−1)で表される全繰り返し単位中、60モル%未満であることがより好ましく、50モル%以下であることがより好ましく、40モル%以下であることが特に好ましい。また、ある実施態様においては、前記繰り返し単位(I)及び前記繰り返し単位(II)以外の、他の前記化学式(1−1)で表される繰り返し単位(例えば、Aが複数の芳香環を有し、芳香環同士がエーテル結合(−O−)で連結されているもの)を、前記化学式(1−1)で表される全繰り返し単位中、好ましくは20モル%未満、より好ましくは10モル%以下、特に好ましくは10モル%未満で含むことが好ましいことがある。さらに、ある実施態様においては、前記繰り返し単位(I)1種以上の割合が、合計で、前記化学式(1−1)で表される全繰り返し単位中、20モル%以上80モル%以下であり、前記繰り返し単位(II)1種以上の割合が、合計で、前記化学式(1−1)で表される全繰り返し単位中、20モル%以上80モル%以下であることが好ましいこともある。 In the polyimide precursor of this embodiment, the ratio of the one or more repeating units (I) is 30 mol% or more and 70 mol% or less in total of all the repeating units represented by the chemical formula (1-1). It is preferable that the proportion of the one or more repeating units (II) is 30 mol% or more and 70 mol% or less in total of all the repeating units represented by the chemical formula (1-1). The total proportion of the unit (I) of 1 or more is 40 mol% or more and 60 mol% or less in all the repeating units represented by the chemical formula (1-1), and 1 or more of the repeating unit (II). It is particularly preferable that the total ratio is 40 mol% or more and 60 mol% or less in all the repeating units represented by the chemical formula (1-1). In one embodiment, the total proportion of the repeating unit (I) is more preferably less than 60 mol%, and preferably 50 mol% or less, in all the repeating units represented by the chemical formula (1-1). Is more preferable, and 40 mol% or less is particularly preferable. Further, in one embodiment, a repeating unit represented by the above chemical formula (1-1) other than the repeating unit (I) and the repeating unit (II) (for example, A has a plurality of aromatic rings). The aromatic rings are linked by an ether bond (-O-)), preferably in an amount of less than 20 mol%, more preferably 10 mol% in all repeating units represented by the chemical formula (1-1). % Or less, particularly preferably less than 10 mol %. Furthermore, in an embodiment, the ratio of the one or more repeating units (I) is 20 mol% or more and 80 mol% or less in total of all the repeating units represented by the chemical formula (1-1). It may be preferable that the ratio of the one or more repeating units (II) is 20 mol% or more and 80 mol% or less in the total of all repeating units represented by the chemical formula (1-1).

ある実施態様においては、本発明の前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)および/または前記化学式(1−3)の繰り返し単位を含むポリイミド前駆体は、前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)中のAを与えるジアミン成分(前記化学式(1−1)の繰り返し単位、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるジアミン成分)が前記化学式(1−A)の構造を与えるジアミン成分の少なくとも2種類を含み、そのうちの1種が4,4’−ジアミノベンズアニリドであることが好ましい。前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)中のAを与えるジアミン成分が前記化学式(1−A)の構造を与えるジアミン成分の少なくとも2種類を含み、そのうちの1種が4,4’−ジアミノベンズアニリドであることで、高透明性と低線熱膨張性に加え、高い耐熱性も兼ね備えたポリイミドが得られる。 In one embodiment, the polyimide precursor containing the repeating unit of the chemical formula (1-1) or the chemical formula (1-2) and/or the chemical formula (1-3) of the present invention has the chemical formula (1- 1), or a diamine component that gives A in the chemical formula (1-2) and the chemical formula (1-3) (a repeating unit of the chemical formula (1-1), or the chemical formula (1-2) and the chemical formula ( The diamine component which gives the repeating unit of 1-3) contains at least two kinds of diamine components which give the structure of the chemical formula (1-A), and one of them is 4,4′-diaminobenzanilide. preferable. The chemical formula (1-1), or the diamine component giving A in the chemical formulas (1-2) and (1-3) is at least two kinds of diamine components giving the structure of the chemical formula (1-A). By including one of them, 4,4'-diaminobenzanilide, a polyimide having high heat resistance in addition to high transparency and low linear thermal expansion can be obtained.

ある実施態様においては、本発明の前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)および/または前記化学式(1−3)の繰り返し単位を含むポリイミド前駆体は、前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)中のAを与えるジアミン成分(前記化学式(1−1)の繰り返し単位、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるジアミン成分)が2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン及びp−フェニレンジアミンから選択される少なくとも1種類と、4,4’−ジアミノベンズアニリドを含むことが特に好ましい。これらのジアミン成分を組み合わせることで、高い透明性と低線熱膨張性、耐熱性を兼ね備えたポリイミドが得られる。 In one embodiment, the polyimide precursor containing the repeating unit of the chemical formula (1-1) or the chemical formula (1-2) and/or the chemical formula (1-3) of the present invention has the chemical formula (1- 1), or a diamine component that gives A in the chemical formula (1-2) and the chemical formula (1-3) (a repeating unit of the chemical formula (1-1), or the chemical formula (1-2) and the chemical formula ( The diamine component which gives the repeating unit 1-3) contains at least one selected from 2,2′-bis(trifluoromethyl)benzidine and p-phenylenediamine, and 4,4′-diaminobenzanilide. Is particularly preferable. By combining these diamine components, a polyimide having high transparency, low linear thermal expansion and heat resistance can be obtained.

この実施態様においては、前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)中のAを与えるジアミン成分(前記化学式(1−1)の繰り返し単位、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるジアミン成分)としては、好ましくは4,4’−ジアミノベンズアニリドを20モル%以上、80モル%以下で含み、且つ、p−フェニレンジアミンと2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンのどちらか一方、又は両方で20モル%以上、80モル%以下で含むことが好ましく、より好ましくは4,4’−ジアミノベンズアニリドを30モル%以上、70モル%以下で含み、且つ、p−フェニレンジアミンと2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンのどちらか一方、又は両方で30モル%以上、70モル%以下で含むことが好ましく、特に好ましくは4,4’−ジアミノベンズアニリドを40モル%以上、60モル%以下で含み、且つ、p−フェニレンジアミンと2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンのどちらか一方、又は両方で40モル%以上、60モル%以下で含むことがより好ましい。前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)中のAを与えるジアミン成分として、4,4’−ジアミノベンズアニリドを30モル%以上、70モル%以下で含み、且つ、p−フェニレンジアミンと2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンのどちらか一方、又は両方で30モル%以上、70モル%以下で含むことにより、高い透明性と低線熱膨張性、耐熱性を兼ね備えたポリイミドが得られる。ある実施態様においては、前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)中のAを与えるジアミン成分(前記化学式(1−1)の繰り返し単位、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるジアミン成分)としては、4,4’−ジアミノベンズアニリドを60モル%未満で含むことがより好ましく、50モル%以下で含むことがより好ましく、40モル%以下で含むことが特に好ましい。 In this embodiment, the diamine component that gives A in the chemical formula (1-1), or the chemical formula (1-2) and the chemical formula (1-3) (a repeating unit of the chemical formula (1-1), or The diamine component that provides the repeating unit of the chemical formulas (1-2) and (1-3)) preferably contains 4,4′-diaminobenzanilide in an amount of 20 mol% or more and 80 mol% or less, and , P-phenylenediamine and 2,2′-bis(trifluoromethyl)benzidine, or both, preferably contained in an amount of 20 mol% or more and 80 mol% or less, and more preferably 4,4′-diamino. Benzanilide in an amount of 30 mol% or more and 70 mol% or less, and one or both of p-phenylenediamine and 2,2′-bis(trifluoromethyl)benzidine, 30 mol% or more, 70 mol% It is preferable that the content of p-phenylenediamine and 2,2′-bis(trifluoromethyl)benzidine be 40% by mole or more and 60% by mole or less of 4,4′-diaminobenzanilide. It is more preferable that one or both of them be contained in an amount of 40 mol% or more and 60 mol% or less. As the diamine component that gives A in the chemical formula (1-1) or the chemical formulas (1-2) and (1-3), 4,4′-diaminobenzanilide is 30 mol% or more, 70 mol% High transparency and low transparency by including below, and by containing 30 mol% or more and 70 mol% or less of either or both of p-phenylenediamine and 2,2′-bis(trifluoromethyl)benzidine. A polyimide having both linear thermal expansion and heat resistance can be obtained. In one embodiment, the diamine component (A repeating unit of the chemical formula (1-1), or the repeating unit of the chemical formula (1-1), which gives A in the chemical formula (1-1) or the chemical formula (1-2) and the chemical formula (1-3), As the diamine component that gives the repeating unit of the chemical formulas (1-2) and (1-3)), it is more preferable that the diamine component contains 4,4′-diaminobenzanilide in an amount of less than 60 mol %, and 50 mol% or less. Is more preferable, and it is particularly preferable that the content is 40 mol% or less.

本発明のポリイミド前駆体は、前記化学式(1−1)、または前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)で表される繰り返し単位以外の、他の繰り返し単位を含むことができる。 The polyimide precursor of the present invention may include other repeating units other than the repeating units represented by the chemical formula (1-1) or the chemical formulas (1-2) and (1-3). ..

他の繰り返し単位を与えるテトラカルボン酸成分としては、他の芳香族または脂肪族テトラカルボン酸類を使用することができる。例えば、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1,2−ジカルボン酸、ピロメリット酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、4,4’−オキシジフタル酸、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、m−ターフェニル−3,4,3’,4’−テトラカルボン酸二無水物、p−ターフェニル−3,4,3’,4’−テトラカルボン酸二無水物、ビスカルボキシフェニルジメチルシラン、ビスジカルボキシフェノキシジフェニルスルフィド、スルホニルジフタル酸、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、イソプロピリデンジフェノキシビスフタル酸、シクロヘキサン−1,2,4,5−テトラカルボン酸、[1,1’−ビ(シクロヘキサン)]−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸、[1,1’−ビ(シクロヘキサン)]−2,3,3’,4’−テトラカルボン酸、[1,1’−ビ(シクロヘキサン)]−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、4,4’−メチレンビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−(プロパン−2,2−ジイル)ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−オキシビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−チオビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−スルホニルビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−(ジメチルシランジイル)ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、4,4’−(テトラフルオロプロパン−2,2−ジイル)ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)、オクタヒドロペンタレン−1,3,4,6−テトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸、6−(カルボキシメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5−トリカルボン酸、ビシクロ[2.2.2]オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.2]オクタ−5−エン−2,3,7,8−テトラカルボン酸、トリシクロ[4.2.2.02,5]デカン−3,4,7,8−テトラカルボン酸、トリシクロ[4.2.2.02,5]デカ−7−エン−3,4,9,10−テトラカルボン酸、9−オキサトリシクロ[4.2.1.02,5]ノナン−3,4,7,8−テトラカルボン酸、(4arH,8acH)−デカヒドロ−1t,4t:5c,8c−ジメタノナフタレン−2c,3c,6c,7c−テトラカルボン酸、(4arH,8acH)−デカヒドロ−1t,4t:5c,8c−ジメタノナフタレン−2t,3t,6c,7c−テトラカルボン酸等の誘導体や、これらの酸二無水物が挙げられ、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。これらのうちでは、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.2]オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸、(4arH,8acH)−デカヒドロ−1t,4t:5c,8c−ジメタノナフタレン−2c,3c,6c,7c−テトラカルボン酸、(4arH,8acH)−デカヒドロ−1t,4t:5c,8c−ジメタノナフタレン−2t,3t,6c,7c−テトラカルボン酸等の誘導体や、これらの酸二無水物が、ポリイミドの製造が容易であり、得られるポリイミドの耐熱性に優れることからより好ましい。これらの酸二無水物は、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。 Other aromatic or aliphatic tetracarboxylic acids can be used as the tetracarboxylic acid component that provides another repeating unit. For example, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluoropropane, 4-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2. -Dicarboxylic acid, pyromellitic acid, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3,3',4'-biphenyltetra Carboxylic acid, 4,4'-oxydiphthalic acid, bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfone dianhydride, m-terphenyl-3,4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride, p- Terphenyl-3,4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride, biscarboxyphenyldimethylsilane, bisdicarboxyphenoxydiphenyl sulfide, sulfonyldiphthalic acid, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid , Isopropylidene diphenoxybisphthalic acid, cyclohexane-1,2,4,5-tetracarboxylic acid, [1,1'-bi(cyclohexane)]-3,3',4,4'-tetracarboxylic acid, [ 1,1'-bi(cyclohexane)]-2,3,3',4'-tetracarboxylic acid, [1,1'-bi(cyclohexane)]-2,2',3,3'-tetracarboxylic acid 4,4′-methylenebis(cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4′-(propane-2,2-diyl)bis(cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4′-oxybis (Cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4′-thiobis(cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4′-sulfonylbis(cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4′ -(Dimethylsilanediyl)bis(cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), 4,4'-(tetrafluoropropane-2,2-diyl)bis(cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid), octahydropentalene -1,3,4,6-Tetracarboxylic acid, bicyclo[2.2.1]heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, 6-(carboxymethyl)bicyclo[2.2.1]heptane -2,3,5-tricarboxylic acid, bicyclo[2.2.2]octane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, bicyclo[2.2.2]oct-5-ene-2,3 7,8-Tetracarboxylic acid, tricyclo[4.2.2.02,5]decane-3,4,7,8-tetracarboxylic acid, tricyclo[4.2.2.02] ,5]Deca-7-ene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid, 9-oxatricyclo[4.2.1.02,5]nonane-3,4,7,8-tetracarboxylic acid , (4arH,8acH)-decahydro-1t,4t:5c,8c-dimethanonaphthalene-2c,3c,6c,7c-tetracarboxylic acid, (4arH,8acH)-decahydro-1t,4t:5c,8c-di Examples thereof include derivatives of methanonaphthalene-2t,3t,6c,7c-tetracarboxylic acid and the like, and acid dianhydrides thereof, which may be used alone or in combination of two or more. Among these, bicyclo[2.2.1]heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, bicyclo[2.2.2]octane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, ( 4arH,8acH)-decahydro-1t,4t:5c,8c-dimethanonaphthalene-2c,3c,6c,7c-tetracarboxylic acid, (4arH,8acH)-decahydro-1t,4t:5c,8c-dimethanonaphthalene Derivatives of -2t,3t,6c,7c-tetracarboxylic acid and the like, and acid dianhydrides thereof are more preferable because the polyimide can be easily produced and the resulting polyimide has excellent heat resistance. These acid dianhydrides may be used alone or in combination of two or more.

また、前記化学式(1−2)および/または前記化学式(1−3)の繰り返し単位を含むポリイミド前駆体の場合、他の繰り返し単位を与えるテトラカルボン酸成分として、cis−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等、及びtrans−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等以外の、他のノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等(例えば、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物)の4種類の立体異性体を使用することもできる。 In the case of a polyimide precursor containing a repeating unit represented by the chemical formula (1-2) and/or the chemical formula (1-3), cis-endo-endo-norbornane- 2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acids and the like, and trans-endo-endo-norbornane-2-spiro Other α-cyclopentanone-α′-spiro-2″-norbornane-5,5″,6,6″-tetracarboxylic acids and the like, other norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone -Α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acids and the like (for example, norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2' It is also possible to use the four stereoisomers of'-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride).

他の繰り返し単位を与えるジアミン成分は、前記化学式(1−A)の構造を与えるジアミン成分であってもよい。換言すれば、他の繰り返し単位を与えるジアミン成分として、Aが前記化学式(1−A)の構造である前記化学式(1−1)の繰り返し単位、またはAが前記化学式(1−A)の構造である前記化学式(1−2)及び前記化学式(1−3)の繰り返し単位を与えるジアミン成分として例示したジアミンを使用することができる。これらのジアミンは、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。 The diamine component which gives another repeating unit may be a diamine component which gives the structure of the chemical formula (1-A). In other words, as the diamine component that gives another repeating unit, A is the repeating unit of the chemical formula (1-1), which is the structure of the chemical formula (1-A), or A is the structure of the chemical formula (1-A). The diamine exemplified as the diamine component that gives the repeating unit of the chemical formulas (1-2) and (1-3) can be used. These diamines may be used alone or in combination of two or more.

他の繰り返し単位を与えるジアミン成分としては、他の芳香族または脂肪族ジアミン類を使用することができる。例えば、4,4’−オキシジアニリン、3,4’−オキシジアニリン、3,3’−オキシジアニリン、ビス(4-アミノフェニル)スルフィド、p−メチレンビス(フェニレンジアミン)、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、3,3−ビス((アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)ジフェニル)スルホン、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)ジフェニル)スルホン、オクタフルオロベンジジン、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジフルオロ−4,4’−ジアミノビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、1,4−ジアミノシクロへキサン、1,4−ジアミノ−2−メチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−エチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−n−プロピルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−イソプロピルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−n−ブチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−イソブチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−sec−ブチルシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−2−tert−ブチルシクロヘキサン、1,2−ジアミノシクロへキサン、1,4−ジアミノシクロへキサン、1,3−ジアミノシクロブタン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ジアミノビシクロヘプタン、ジアミノメチルビシクロヘプタン、ジアミノオキシビシクロヘプタン、ジアミノメチルオキシビシクロヘプタン、イソホロンジアミン、ジアミノトリシクロデカン、ジアミノメチルトリシクロデカン、ビス(アミノシクロへキシル)メタン、ビス(アミノシクロヘキシル)イソプロピリデン6,6'-ビス(3-アミノフェノキシ)-3,3,3',3'-テトラメチル-1,1'-スピロビインダン、6,6'-ビス(4-アミノフェノキシ)-3,3,3',3'-テトラメチル-1,1'-スピロビインダン等やこれらの誘導体が挙げられ、単独で使用してもよく、また複数種を組み合わせて使用することもできる。 Other aromatic or aliphatic diamines can be used as the diamine component that provides the other repeating unit. For example, 4,4′-oxydianiline, 3,4′-oxydianiline, 3,3′-oxydianiline, bis(4-aminophenyl)sulfide, p-methylenebis(phenylenediamine), 1,3- Bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl ] Hexafluoropropane, 2,2-bis(4-aminophenyl)hexafluoropropane, bis(4-aminophenyl)sulfone, 3,3-bis((aminophenoxy)phenyl)propane, 2,2-bis(3 -Amino-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane, bis(4-(4-aminophenoxy)diphenyl)sulfone, bis(4-(3-aminophenoxy)diphenyl)sulfone, octafluorobenzidine, 3,3'-dimethoxy -4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminobiphenyl, 9,9-bis(4-aminophenyl) Fluorene, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 4,4'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, 1,4-diaminocyclohexane, 1,4-diamino-2-methylcyclohexane, 1,4-diamino-2-ethylcyclohexane, 1,4-diamino-2-n-propylcyclohexane, 1,4-diamino-2-isopropylcyclohexane, 1,4-diamino-2-n-butylcyclohexane, 1, 4-diamino-2-isobutylcyclohexane, 1,4-diamino-2-sec-butylcyclohexane, 1,4-diamino-2-tert-butylcyclohexane, 1,2-diaminocyclohexane, 1,4-diaminocyclo Hexane, 1,3-diaminocyclobutane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, diaminobicycloheptane, diaminomethylbicycloheptane, diaminooxybicycloheptane, diaminomethyloxybicyclo Heptane, isophoronediamine, diaminotricyclodecane, diaminomethyltricyclodecane, bis(aminocyclohexyl)methane, bis(aminocyclohexyl)isopropylidene 6,6'-bis(3-aminophenoxy)-3,3,3 ',3'-Tetra Methyl-1,1'-spirobiindane, 6,6'-bis(4-aminophenoxy)-3,3,3',3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane and derivatives thereof, They may be used alone or in combination of two or more.

なお、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等の合成方法は、特に限定されないが、特許文献8に記載の方法等で合成できる。非特許文献1に記載されているように、合成方法によっては立体異性体を数種類含むこともある。ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等、もしくは、その中間体をカラム等で精製することで、立体異性体をそれぞれ単独で、もしくは、数種の混合物を分取することが出来る。 The method for synthesizing norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α′-spiro-2″-norbornane-5,5″,6,6″-tetracarboxylic acids and the like is not particularly limited. Can be synthesized by the method described in Patent Document 8 or the like. As described in Non-Patent Document 1, some stereoisomers may be contained depending on the synthesis method. Norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acids and the like, or intermediates thereof are purified by a column and the like. By doing so, it is possible to separate the stereoisomers individually or to collect a mixture of several kinds.

trans−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等、及びcis−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等の単独物、もしくはそれらの混合物についても、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸類等、もしくは、その中間体をカラム等で精製することで得られる。 trans-endo-endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acids and the like, and cis-endo. -Endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acids and the like, or a mixture thereof. Also, regarding norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acids or the like, or an intermediate thereof is used as a column. And the like.

テトラカルボン酸成分及びジアミン成分が異性体を含む場合、その異性体を単離して重合等に使用してもよく、また、異性体を混合物のまま重合等に使用してもよい。 When the tetracarboxylic acid component and the diamine component contain isomers, the isomers may be isolated and used for polymerization or the like, or the isomers may be used as they are as a mixture for polymerization or the like.

本発明のポリイミド前駆体において、前記化学式(1)のR、R、前記化学式(2)のR、Rはそれぞれ独立に水素、炭素数1〜6、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基、または炭素数3〜9のアルキルシリル基のいずれかである。R及びR、R及びRは、後述する製造方法によって、その官能基の種類、及び、官能基の導入率を変化させることができる。 In the polyimide precursor of the present invention, R 1 and R 2 in the chemical formula (1) and R 3 and R 4 in the chemical formula (2) are each independently hydrogen, carbon number 1 to 6, preferably carbon number 1 to 3. Or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms. The types of R 1 and R 2 , R 3 and R 4 can be changed by the production method described later, and the introduction rate of the functional group can be changed.

及びR、R及びRが水素である場合、ポリイミドの製造が容易である傾向がある。 When R 1 and R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen, it tends to be easy to produce a polyimide.

また、R及びR、R及びRが炭素数1〜6、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である場合、ポリイミド前駆体の保存安定性に優れる傾向がある。この場合、R及びR、R及びRはメチル基もしくはエチル基であることがより好ましい。 When R 1 and R 2 , R 3 and R 4 are alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, the polyimide precursor tends to have excellent storage stability. In this case, R 1 and R 2 , and R 3 and R 4 are more preferably a methyl group or an ethyl group.

更に、R及びR、R及びRが炭素数3〜9のアルキルシリル基である場合、ポリイミド前駆体の溶解性が優れる傾向がある。この場合、R及びR、R及びRはトリメチルシリル基もしくはt−ブチルジメチルシリル基であることがより好ましい。 Furthermore, when R 1 and R 2 , R 3 and R 4 are alkylsilyl groups having 3 to 9 carbon atoms, the solubility of the polyimide precursor tends to be excellent. In this case, R 1 and R 2 , R 3 and R 4 are more preferably trimethylsilyl groups or t-butyldimethylsilyl groups.

官能基の導入率は、特に限定されないが、アルキル基もしくはアルキルシリル基を導入する場合、R及びR、R及びRはそれぞれ、25%以上、好ましくは50%以上、より好ましくは75%以上をアルキル基もしくはアルキルシリル基にすることができる。 The introduction rate of the functional group is not particularly limited, but when introducing an alkyl group or an alkylsilyl group, R 1 and R 2 , R 3 and R 4 are each 25% or more, preferably 50% or more, and more preferably 75% or more can be an alkyl group or an alkylsilyl group.

本発明のポリイミド前駆体は、R及びR、R及びRが取る化学構造によって、1)ポリアミド酸(R及びR、R及びRが水素)、2)ポリアミド酸エステル(R及びR、R及びRの少なくとも一部がアルキル基)、3)4)ポリアミド酸シリルエステル(R及びR、R及びRの少なくとも一部がアルキルシリル基)に分類することができる。そして、本発明のポリイミド前駆体は、この分類ごとに、以下の製造方法により容易に製造することができる。ただし、本発明のポリイミド前駆体の製造方法は、以下の製造方法に限定されるものではない。 Polyimide precursors of the present invention, the chemical structure R 1 and R 2, R 3 and R 4 take, 1) a polyamic acid (R 1 and R 2, R 3 and R 4 is hydrogen), 2) a polyamic acid ester (R 1 and R 2 , at least a part of R 3 and R 4 are alkyl groups), 3) 4) Polyamic acid silyl ester (At least a part of R 1 and R 2 , R 3 and R 4 is an alkylsilyl group) Can be classified into. And the polyimide precursor of this invention can be easily manufactured by the following manufacturing method for every classification. However, the method for producing the polyimide precursor of the present invention is not limited to the following production method.

1)ポリアミド酸
本発明のポリイミド前駆体は、溶媒中でテトラカルボン酸成分としてのテトラカルボン酸二無水物とジアミン成分とを略等モル、好ましくはテトラカルボン酸成分に対するジアミン成分のモル比[ジアミン成分のモル数/テトラカルボン酸成分のモル数]が好ましくは0.90〜1.10、より好ましくは0.95〜1.05の割合で、例えば120℃以下の比較的低温度でイミド化を抑制しながら反応することによって、ポリイミド前駆体溶液組成物として好適に得ることができる。
1) Polyamic Acid In the polyimide precursor of the present invention, the tetracarboxylic acid dianhydride as a tetracarboxylic acid component and the diamine component are substantially equimolar in a solvent, preferably the molar ratio of the diamine component to the tetracarboxylic acid component [diamine The number of moles of component/the number of moles of tetracarboxylic acid component] is preferably 0.90 to 1.10, more preferably 0.95 to 1.05, for example, imidization at a relatively low temperature of 120° C. or less. By reacting while suppressing the above, a polyimide precursor solution composition can be suitably obtained.

限定するものではないが、より具体的には、有機溶剤にジアミンを溶解し、この溶液に攪拌しながら、テトラカルボン酸二無水物を徐々に添加し、0〜120℃、好ましくは5〜80℃の範囲で1〜72時間攪拌することで、ポリイミド前駆体が得られる。80℃以上で反応させる場合、分子量が重合時の温度履歴に依存して変動し、また熱によりイミド化が進行することから、ポリイミド前駆体を安定して製造できなくなる可能性がある。上記製造方法でのジアミンとテトラカルボン酸二無水物の添加順序は、ポリイミド前駆体の分子量が上がりやすいため、好ましい。また、上記製造方法のジアミンとテトラカルボン酸二無水物の添加順序を逆にすることも可能であり、析出物が低減することから、好ましい。 More specifically, but not limited to, diamine is dissolved in an organic solvent, and tetracarboxylic dianhydride is gradually added to the solution while stirring, and the temperature is 0 to 120° C., preferably 5 to 80° C. A polyimide precursor is obtained by stirring in the range of 0 to 72 hours. When the reaction is carried out at 80° C. or higher, the molecular weight fluctuates depending on the temperature history at the time of polymerization, and imidization progresses by heat, so that the polyimide precursor may not be stably manufactured. The addition order of the diamine and the tetracarboxylic dianhydride in the above production method is preferable because the molecular weight of the polyimide precursor is likely to increase. Further, it is possible to reverse the order of addition of the diamine and the tetracarboxylic dianhydride in the above production method, and it is preferable since the precipitate is reduced.

また、テトラカルボン酸成分とジアミン成分のモル比がジアミン成分過剰である場合、必要に応じて、ジアミン成分の過剰モル数に略相当する量のカルボン酸誘導体を添加し、テトラカルボン酸成分とジアミン成分のモル比を略当量に近づけることができる。ここでのカルボン酸誘導体としては、実質的にポリイミド前駆体溶液の粘度を増加させない、つまり実質的に分子鎖延長に関与しないテトラカルボン酸、もしくは末端停止剤として機能するトリカルボン酸とその無水物、ジカルボン酸とその無水物などが好適である。 Further, when the molar ratio of the tetracarboxylic acid component and the diamine component is an excess of the diamine component, if necessary, an amount of a carboxylic acid derivative substantially equivalent to the excess molar number of the diamine component is added, and the tetracarboxylic acid component and the diamine are added. The molar ratio of the components can be brought close to the equivalent. The carboxylic acid derivative here does not substantially increase the viscosity of the polyimide precursor solution, that is, a tetracarboxylic acid that does not substantially participate in molecular chain extension, or a tricarboxylic acid that functions as a terminal terminating agent and an anhydride thereof, Dicarboxylic acid and its anhydride are preferable.

2)ポリアミド酸エステル
テトラカルボン酸二無水物を任意のアルコールと反応させ、ジエステルジカルボン酸を得た後、塩素化試薬(チオニルクロライド、オキサリルクロライドなど)と反応させ、ジエステルジカルボン酸クロライドを得る。このジエステルジカルボン酸クロライドとジアミンを−20〜120℃、好ましくは−5〜80℃の範囲で1〜72時間攪拌することで、ポリイミド前駆体が得られる。80℃以上で反応させる場合、分子量が重合時の温度履歴に依存して変動し、また熱によりイミド化が進行することから、ポリイミド前駆体を安定して製造できなくなる可能性がある。また、ジエステルジカルボン酸とジアミンを、リン系縮合剤や、カルボジイミド縮合剤などを用いて脱水縮合することでも、簡便にポリイミド前駆体が得られる。
2) Polyamic acid ester Tetracarboxylic acid dianhydride is reacted with any alcohol to obtain a diester dicarboxylic acid, and then reacted with a chlorinating reagent (thionyl chloride, oxalyl chloride, etc.) to obtain a diester dicarboxylic acid chloride. The polyimide precursor is obtained by stirring the diester dicarboxylic acid chloride and the diamine in the range of -20 to 120°C, preferably -5 to 80°C for 1 to 72 hours. When the reaction is carried out at 80° C. or higher, the molecular weight fluctuates depending on the temperature history at the time of polymerization, and imidization progresses by heat, so that the polyimide precursor may not be stably manufactured. Also, the polyimide precursor can be easily obtained by dehydration condensation of diester dicarboxylic acid and diamine using a phosphorus-based condensing agent or a carbodiimide condensing agent.

この方法で得られるポリイミド前駆体は、安定なため、水やアルコールなどの溶剤を加えて再沈殿などの精製を行うこともできる。 Since the polyimide precursor obtained by this method is stable, a solvent such as water or alcohol can be added for purification such as reprecipitation.

3)ポリアミド酸シリルエステル(間接法)
あらかじめ、ジアミンとシリル化剤を反応させ、シリル化されたジアミンを得る。必要に応じて、蒸留等により、シリル化されたジアミンの精製を行う。そして、脱水された溶剤中にシリル化されたジアミンを溶解させておき、攪拌しながら、テトラカルボン酸二無水物を徐々に添加し、0〜120℃、好ましくは5〜80℃の範囲で1〜72時間攪拌することで、ポリイミド前駆体が得られる。80℃以上で反応させる場合、分子量が重合時の温度履歴に依存して変動し、また熱によりイミド化が進行することから、ポリイミド前駆体を安定して製造できなくなる可能性がある。
3) Polyamic acid silyl ester (indirect method)
In advance, a diamine and a silylating agent are reacted to obtain a silylated diamine. If necessary, the silylated diamine is purified by distillation or the like. Then, the silylated diamine is dissolved in a dehydrated solvent, and tetracarboxylic dianhydride is gradually added to the solution with stirring, and the temperature is 1 to 120°C, preferably 5 to 80°C. A polyimide precursor is obtained by stirring for ~72 hours. When the reaction is carried out at 80° C. or higher, the molecular weight fluctuates depending on the temperature history at the time of polymerization, and imidization progresses by heat, so that the polyimide precursor may not be stably manufactured.

ここで用いるシリル化剤として、塩素を含有しないシリル化剤を用いることは、シリル化されたジアミンを精製する必要がないため、好適である。塩素原子を含まないシリル化剤としては、N,O−ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、ヘキサメチルジシラザンが挙げられる。フッ素原子を含まず低コストであることから、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、ヘキサメチルジシラザンが特に好ましい。 It is preferable to use a chlorine-free silylating agent as the silylating agent used here because it is not necessary to purify the silylated diamine. Examples of the silylating agent containing no chlorine atom include N,O-bis(trimethylsilyl)trifluoroacetamide, N,O-bis(trimethylsilyl)acetamide, and hexamethyldisilazane. N,O-bis(trimethylsilyl)acetamide and hexamethyldisilazane are particularly preferable because they do not contain a fluorine atom and are low in cost.

また、ジアミンのシリル化反応には、反応を促進するために、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミンなどのアミン系触媒を用いることができる。この触媒はポリイミド前駆体の重合触媒として、そのまま使用することができる。 Further, in the silylation reaction of diamine, an amine catalyst such as pyridine, piperidine or triethylamine can be used in order to accelerate the reaction. This catalyst can be used as it is as a polymerization catalyst for a polyimide precursor.

4)ポリアミド酸シリルエステル(直接法)
1)の方法で得られたポリアミド酸溶液とシリル化剤を混合し、0〜120℃、好ましくは5〜80℃の範囲で1〜72時間攪拌することで、ポリイミド前駆体が得られる。80℃以上で反応させる場合、分子量が重合時の温度履歴に依存して変動し、また熱によりイミド化が進行することから、ポリイミド前駆体を安定して製造できなくなる可能性がある。
4) Polyamic acid silyl ester (direct method)
The polyimide precursor is obtained by mixing the polyamic acid solution obtained by the method 1) and the silylating agent, and stirring the mixture at 0 to 120° C., preferably 5 to 80° C. for 1 to 72 hours. When the reaction is carried out at 80° C. or higher, the molecular weight fluctuates depending on the temperature history at the time of polymerization, and imidization progresses by heat, so that the polyimide precursor may not be stably manufactured.

ここで用いるシリル化剤として、塩素を含有しないシリル化剤を用いることは、シリル化されたポリアミド酸、もしくは、得られたポリイミドを精製する必要がないため、好適である。塩素原子を含まないシリル化剤としては、N,O−ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、ヘキサメチルジシラザンが挙げられる。フッ素原子を含まず低コストであることから、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、ヘキサメチルジシラザンが特に好ましい。 It is preferable to use a chlorine-free silylating agent as the silylating agent used here because it is not necessary to purify the silylated polyamic acid or the obtained polyimide. Examples of the silylating agent containing no chlorine atom include N,O-bis(trimethylsilyl)trifluoroacetamide, N,O-bis(trimethylsilyl)acetamide, and hexamethyldisilazane. N,O-bis(trimethylsilyl)acetamide and hexamethyldisilazane are particularly preferable because they do not contain a fluorine atom and are low in cost.

前記製造方法は、いずれも有機溶媒中で好適に行なうことができるので、その結果として、ポリイミド前駆体を含む溶液または溶液組成物を容易に得ることができる。 Since any of the above production methods can be suitably performed in an organic solvent, as a result, a solution or solution composition containing a polyimide precursor can be easily obtained.

ポリイミド前駆体を調製する際に使用する溶媒は、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性溶媒が好ましく、特にN,N−ジメチルアセトアミドが好ましいが、原料モノマー成分と生成するポリイミド前駆体が溶解すれば、どんな種類の溶媒であっても問題はなく使用できるので、特にその構造には限定されない。溶媒として、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド溶媒、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、ε−カプロラクトン、α−メチル−γ−ブチロラクトン等の環状エステル溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート溶媒、トリエチレングリコール等のグリコール系溶媒、m−クレゾール、p−クレゾール、3−クロロフェノール、4−クロロフェノール等のフェノール系溶媒、アセトフェノン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシドなどが好ましく採用される。さらに、その他の一般的な有機溶剤、即ちフェノール、o−クレゾール、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールメチルアセテート、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、2−メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロへキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、ブタノール、エタノール、キシレン、トルエン、クロルベンゼン、ターペン、ミネラルスピリット、石油ナフサ系溶媒なども使用できる。なお、溶媒は、複数種を組み合わせて使用することもできる。 The solvent used in preparing the polyimide precursor is, for example, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, or dimethylsulfoxide. And the like, and N,N-dimethylacetamide is particularly preferable, but any type of solvent can be used without any problem as long as the raw material monomer component and the polyimide precursor to be formed are dissolved. The structure is not limited. As the solvent, amide solvents such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, δ-valerolactone, γ-caprolactone, ε-caprolactone, α- Cyclic ester solvents such as methyl-γ-butyrolactone, carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate, glycol solvents such as triethylene glycol, m-cresol, p-cresol, 3-chlorophenol, phenol such as 4-chlorophenol and the like. A system solvent, acetophenone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, sulfolane, dimethyl sulfoxide and the like are preferably adopted. In addition, other common organic solvents such as phenol, o-cresol, butyl acetate, ethyl acetate, isobutyl acetate, propylene glycol methyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, 2-methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, tetrahydrofuran. , Dimethoxyethane, diethoxyethane, dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, butanol, ethanol, xylene, toluene, chlorobenzene, terpenes, mineral spirits, petroleum A naphtha type solvent or the like can also be used. The solvent may be used in combination of plural kinds.

本発明において、ポリイミド前駆体の対数粘度は、特に限定されないが、30℃での濃度0.5g/dLのN,N−ジメチルアセトアミド溶液における対数粘度が0.2dL/g以上、より好ましくは0.3dL/g以上、特に好ましくは0.4dL/g以上であることが好ましい。対数粘度が0.2dL/g以上では、ポリイミド前駆体の分子量が高く、得られるポリイミドの機械強度や耐熱性に優れる。 In the present invention, the logarithmic viscosity of the polyimide precursor is not particularly limited, but the logarithmic viscosity in a N,N-dimethylacetamide solution having a concentration of 0.5 g/dL at 30° C. is 0.2 dL/g or more, more preferably 0. It is preferably at least 0.3 dL/g, particularly preferably at least 0.4 dL/g. When the logarithmic viscosity is 0.2 dL/g or more, the polyimide precursor has a high molecular weight, and the resulting polyimide has excellent mechanical strength and heat resistance.

本発明のポリイミド前駆体組成物は、ポリイミド前駆体と、イミダゾール系化合物とを含むものであり、前記製造方法により得られるポリイミド前駆体溶液または溶液組成物にイミダゾール系化合物を加えて調製することができる。また、必要に応じて、溶媒を除去または加えてもよく、イミダゾール系化合物以外の所望の成分を添加してもよい。また、溶媒にテトラカルボン酸成分(テトラカルボン酸二無水物等)とジアミン成分とイミダゾール系化合物を加え、イミダゾール系化合物の存在下で、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを反応させて、本発明のポリイミド前駆体組成物(ポリイミド前駆体と、イミダゾール系化合物とを含む溶液組成物)を得ることもできる。 The polyimide precursor composition of the present invention contains a polyimide precursor and an imidazole compound, and may be prepared by adding an imidazole compound to the polyimide precursor solution or solution composition obtained by the above production method. it can. Further, if necessary, the solvent may be removed or added, and desired components other than the imidazole compound may be added. Further, a tetracarboxylic acid component (tetracarboxylic dianhydride, etc.), a diamine component and an imidazole compound are added to a solvent, and the tetracarboxylic acid component and the diamine component are reacted in the presence of the imidazole compound to give the present invention. It is also possible to obtain the polyimide precursor composition of (a solution composition containing a polyimide precursor and an imidazole compound).

本発明において用いるイミダゾール系化合物は、イミダゾール骨格を有する化合物であれば特に限定されない。イミダゾール系化合物を添加することによって、厚み方向位相差が小さいポリイミドが得られる。 The imidazole compound used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having an imidazole skeleton. By adding the imidazole compound, a polyimide having a small thickness direction retardation can be obtained.

ある実施態様においては、イミダゾール系化合物として、1気圧における沸点が340℃未満、好ましくは330℃以下、より好ましくは300℃以下、特に好ましくは270℃以下の化合物を用いることが好ましい。1気圧における沸点が340℃未満、好ましくは330℃以下、より好ましくは300℃以下、特に好ましくは270℃以下のイミダゾール系化合物を添加することによって、より透明性が高いポリイミドが得られることがある。 In one embodiment, as the imidazole compound, it is preferable to use a compound having a boiling point at 1 atm of less than 340°C, preferably 330°C or less, more preferably 300°C or less, and particularly preferably 270°C or less. By adding an imidazole compound having a boiling point at 1 atm of less than 340° C., preferably 330° C. or less, more preferably 300° C. or less, particularly preferably 270° C. or less, a polyimide having higher transparency may be obtained. ..

本発明において用いるイミダゾール系化合物としては、特に限定されないが、1,2−ジメチルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾールなどが挙げられる。1,2−ジメチルイミダゾール(1気圧における沸点:205℃)、1−メチルイミダゾール(1気圧における沸点:198℃)、2−メチルイミダゾール(1気圧における沸点:268℃)、イミダゾール(1気圧における沸点:256℃)などが好ましく、1,2−ジメチルイミダゾール、1−メチルイミダゾールが特に好ましい。イミダゾール系化合物は、1種を単独で使用してもよく、複数種を組み合わせて使用することもできる。 The imidazole compound used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include 1,2-dimethylimidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, imidazole and benzimidazole. 1,2-Dimethylimidazole (boiling point at 1 atm: 205°C), 1-methylimidazole (boiling point at 1 atm: 198°C), 2-methylimidazole (boiling point at 1 atm: 268°C), imidazole (boiling point at 1 atm) : 256° C.) and the like are preferable, and 1,2-dimethylimidazole and 1-methylimidazole are particularly preferable. The imidazole compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明において、ポリイミド前駆体組成物のイミダゾール系化合物の含有量は、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して4モル未満である。イミダゾール系化合物の含有量がポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して4モル以上になると、ポリイミド前駆体組成物の保存安定性が悪くなる。イミダゾール系化合物の含有量は、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して0.05モル以上であることが好ましく、また、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して2モル以下であることが好ましい。なお、ここで、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルは、テトラカルボン酸成分1モルに対応する。 In the present invention, the content of the imidazole compound in the polyimide precursor composition is less than 4 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor. When the content of the imidazole compound is 4 mol or more per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor, the storage stability of the polyimide precursor composition is deteriorated. The content of the imidazole compound is preferably 0.05 mol or more with respect to 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor, and is 2 mol or less with respect to 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor. preferable. Here, 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor corresponds to 1 mol of the tetracarboxylic acid component.

本発明のポリイミド前駆体組成物は、通常、溶媒を含む。本発明のポリイミド前駆体組成物に用いる溶媒としては、ポリイミド前駆体が溶解すれば問題はなく、特にその構造は限定されない。溶媒として、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド溶媒、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、ε−カプロラクトン、α−メチル−γ−ブチロラクトン等の環状エステル溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート溶媒、トリエチレングリコール等のグリコール系溶媒、m−クレゾール、p−クレゾール、3−クロロフェノール、4−クロロフェノール等のフェノール系溶媒、アセトフェノン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシドなどが好ましく採用される。さらに、その他の一般的な有機溶剤、即ちフェノール、o−クレゾール、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールメチルアセテート、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、2−メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロへキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、ブタノール、エタノール、キシレン、トルエン、クロルベンゼン、ターペン、ミネラルスピリット、石油ナフサ系溶媒なども使用できる。また、これらを複数種組み合わせて使用することもできる。なお、ポリイミド前駆体組成物の溶媒は、ポリイミド前駆体を調製する際に使用した溶媒をそのまま使用することができる。 The polyimide precursor composition of the present invention usually contains a solvent. The solvent used for the polyimide precursor composition of the present invention has no problem as long as the polyimide precursor is dissolved, and its structure is not particularly limited. As the solvent, an amide solvent such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, δ-valerolactone, γ-caprolactone, ε-caprolactone. , Cyclic ester solvents such as α-methyl-γ-butyrolactone, carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate, glycol solvents such as triethylene glycol, m-cresol, p-cresol, 3-chlorophenol, 4-chlorophenol Phenol solvents such as acetophenone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, sulfolane and dimethyl sulfoxide are preferably used. In addition, other common organic solvents such as phenol, o-cresol, butyl acetate, ethyl acetate, isobutyl acetate, propylene glycol methyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, 2-methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, tetrahydrofuran. , Dimethoxyethane, diethoxyethane, dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, butanol, ethanol, xylene, toluene, chlorobenzene, terpenes, mineral spirits, petroleum A naphtha type solvent or the like can also be used. Moreover, these can also be used in combination of multiple types. As the solvent for the polyimide precursor composition, the solvent used when preparing the polyimide precursor can be used as it is.

本発明において、テトラカルボン酸成分とジアミン成分との合計量は、溶媒とテトラカルボン酸成分とジアミン成分との合計量に対して、5質量%以上、好ましくは10質量%以上、より好ましくは15質量%以上の割合であることが好適である。なお、通常は、テトラカルボン酸成分とジアミン成分との合計量は、溶媒とテトラカルボン酸成分とジアミン成分との合計量に対して、60質量%以下、好ましくは50質量%以下であることが好適である。この濃度は、ポリイミド前駆体に起因する固形分濃度にほぼ近似される濃度であるが、この濃度が低すぎると、例えばポリイミドフィルムを製造する際に得られるポリイミドフィルムの膜厚の制御が難しくなることがある。 In the present invention, the total amount of the tetracarboxylic acid component and the diamine component is 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass with respect to the total amount of the solvent, the tetracarboxylic acid component and the diamine component. It is preferable that the proportion is at least mass %. In addition, usually, the total amount of the tetracarboxylic acid component and the diamine component is 60% by mass or less, preferably 50% by mass or less, with respect to the total amount of the solvent, the tetracarboxylic acid component, and the diamine component. It is suitable. This concentration is a concentration that is approximately approximated to the solid content concentration due to the polyimide precursor, but if this concentration is too low, it becomes difficult to control the film thickness of the polyimide film obtained when producing a polyimide film, for example. Sometimes.

本発明において、ポリイミド前駆体組成物の粘度(回転粘度)は、特に限定されないが、E型回転粘度計を用い、温度25℃、せん断速度20sec−1で測定した回転粘度が、0.01〜1000Pa・secが好ましく、0.1〜100Pa・secがより好ましい。また、必要に応じて、チキソ性を付与することもできる。上記範囲の粘度では、コーティングや製膜を行う際、ハンドリングしやすく、また、はじきが抑制され、レベリング性に優れるため、良好な被膜が得られる。 In the present invention, the viscosity (rotational viscosity) of the polyimide precursor composition is not particularly limited, but the rotational viscosity measured with an E-type rotational viscometer at a temperature of 25° C. and a shear rate of 20 sec −1 is 0.01 to. 1000 Pa·sec is preferable, and 0.1-100 Pa·sec is more preferable. Moreover, thixotropy can be imparted, if necessary. When the viscosity is in the above range, it is easy to handle during coating or film formation, repellency is suppressed, and the leveling property is excellent, so that a good film can be obtained.

本発明のポリイミド前駆体組成物は、必要に応じて、化学イミド化剤(無水酢酸などの酸無水物や、ピリジン、イソキノリンなどのアミン化合物)、酸化防止剤、フィラー(シリカ等の無機粒子など)、染料、顔料、シランカップリング剤などのカップリング剤、プライマー、難燃材、消泡剤、レベリング剤、レオロジーコントロール剤(流動補助剤)、剥離剤などを含有することができる。 The polyimide precursor composition of the present invention is, if necessary, a chemical imidizing agent (an acid anhydride such as acetic anhydride or an amine compound such as pyridine or isoquinoline), an antioxidant, a filler (inorganic particles such as silica, etc.). ), a dye, a pigment, a coupling agent such as a silane coupling agent, a primer, a flame retardant, an antifoaming agent, a leveling agent, a rheology control agent (flow aid), and a release agent.

本発明のポリイミドは、前記のような本発明のポリイミド前駆体組成物をイミド化する(すなわち、ポリイミド前駆体を脱水閉環反応する)ことで得ることができる。イミド化の方法は特に限定されず、公知の熱イミド化、または化学イミド化の方法を好適に適用することができる。得られるポリイミドの形態は、フィルム、ポリイミドフィルムと他の基材との積層体、コーティング膜、粉末、ビーズ、成型体、発泡体などを好適に挙げることができる。 The polyimide of the present invention can be obtained by imidizing the above-described polyimide precursor composition of the present invention (that is, subjecting the polyimide precursor to a dehydration ring closure reaction). The imidization method is not particularly limited, and a known thermal imidization method or chemical imidization method can be suitably applied. Suitable forms of the obtained polyimide include a film, a laminate of a polyimide film and another substrate, a coating film, powder, beads, a molded body, a foamed body, and the like.

本発明においては、ポリイミド前駆体組成物を、最高加熱温度350℃超で加熱処理して、ポリイミド前駆体をイミド化することが好ましい。イミド化のための加熱処理の最高加熱温度は、380℃を超えることがより好ましく、400℃を超えることが特に好ましい。イミド化のための加熱処理の最高加熱温度を、350℃を超える温度、より好ましくは380℃を超える温度、特に好ましくは400℃を超える温度とすることにより、得られるポリイミドの機械的特性が向上する。加熱処理の最高加熱温度の上限は特に限定されないが、通常、500℃以下が好ましい。 In the present invention, the polyimide precursor composition is preferably heat-treated at a maximum heating temperature of higher than 350°C to imidize the polyimide precursor. The maximum heating temperature of the heat treatment for imidization is more preferably higher than 380°C, and particularly preferably higher than 400°C. By setting the maximum heating temperature of the heat treatment for imidization to a temperature higher than 350°C, more preferably higher than 380°C, and particularly preferably higher than 400°C, the mechanical properties of the obtained polyimide are improved. To do. The upper limit of the maximum heating temperature of the heat treatment is not particularly limited, but usually 500° C. or lower is preferable.

例えば、本発明のポリイミド前駆体組成物を基材上に流延・塗布し、この基材上のポリイミド前駆体組成物を最高加熱温度350℃超、より好ましくは380℃超、特に好ましくは400℃を超える温度で加熱処理して、ポリイミド前駆体をイミド化することにより、ポリイミドを好適に製造することができる。なお、加熱プロファイルは特に限定されず、適宜選択することができるが、生産性の点からは、加熱処理する時間は短い方が好ましい。 For example, the polyimide precursor composition of the present invention is cast and coated on a substrate, and the polyimide precursor composition on this substrate has a maximum heating temperature of higher than 350°C, more preferably higher than 380°C, and particularly preferably 400. By heat-treating at a temperature higher than °C to imidize the polyimide precursor, the polyimide can be suitably produced. The heating profile is not particularly limited and may be appropriately selected. However, from the viewpoint of productivity, it is preferable that the heating time is short.

また、本発明のポリイミド前駆体組成物を基材上に流延・塗布し、好ましくは180℃以下の温度範囲で乾燥して、基材上にポリイミド前駆体組成物の膜を形成し、得られたポリイミド前駆体組成物の膜を基材上から剥離して、その膜の端部を固定した状態で、最高加熱温度350℃超、より好ましくは380℃超、特に好ましくは400℃を超える温度で加熱処理して、ポリイミド前駆体をイミド化することによっても、ポリイミドを好適に製造することができる。 Further, the polyimide precursor composition of the present invention is cast/coated on a substrate, and preferably dried at a temperature range of 180° C. or lower to form a film of the polyimide precursor composition on the substrate, The film of the obtained polyimide precursor composition is peeled off from the substrate, and the maximum heating temperature is higher than 350° C., more preferably higher than 380° C., particularly preferably higher than 400° C. with the end portion of the film fixed. The polyimide can also be suitably produced by heat-treating at a temperature to imidize the polyimide precursor.

より具体的な本発明のポリイミド(ポリイミドフィルム/基材積層体、もしくはポリイミドフィルム)の製造方法の一例については、後述する。 A more specific example of the method for producing the polyimide of the present invention (polyimide film/substrate laminate, or polyimide film) will be described later.

本発明のポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミド(本発明のポリイミド)は、特に限定されないが、フィルムにしたときの150℃から250℃までの線熱膨張係数が、好ましくは60ppm/K以下、より好ましくは50ppm/K以下、さらに好ましくは45ppm/K以下、さらに好ましくは40ppm/K以下、特に好ましくは35ppm/K以下であることができる。線熱膨張係数が大きいと、金属などの導体との線熱膨張係数の差が大きく、回路基板を形成する際に反りが増大するなどの不具合が生じることがある。 Polyimide obtained from the polyimide precursor composition of the present invention (polyimide of the present invention) is not particularly limited, the linear thermal expansion coefficient from 150 ℃ to 250 ℃ when formed into a film, preferably 60ppm / K or less, It can be more preferably 50 ppm/K or less, still more preferably 45 ppm/K or less, still more preferably 40 ppm/K or less, and particularly preferably 35 ppm/K or less. If the coefficient of linear thermal expansion is large, the difference in coefficient of linear thermal expansion from the conductor such as metal is large, which may cause problems such as an increase in warpage when forming a circuit board.

本発明のポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミド(本発明のポリイミド)は、特に限定されないが、厚さ10μmのフィルムでの全光透過率(波長380nm〜780nmの平均光透過率)が、好ましくは86%以上、より好ましくは87%以上、特に好ましくは88%以上であることができる。ディスプレイ用途等で使用する場合、全光透過率が低いと光源を強くする必要があり、エネルギーがかかるといった問題等を生じることがある。 The polyimide obtained from the polyimide precursor composition of the present invention (polyimide of the present invention) is not particularly limited, but the total light transmittance (average light transmittance at a wavelength of 380 nm to 780 nm) in a film having a thickness of 10 μm is preferably Can be 86% or more, more preferably 87% or more, and particularly preferably 88% or more. When used for a display application or the like, if the total light transmittance is low, it is necessary to strengthen the light source, which may cause a problem such as energy consumption.

特にディスプレイ用途などのポリイミドフィルムを光が透過する用途に使用する場合、ポリイミドフィルムは透明性が高い方が望ましい。本発明のポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミド(本発明のポリイミド)は、特に限定されないが、厚さ10μmのフィルムでの波長400nmにおける光透過率が、好ましくは75%以上、好ましくは80%以上、より好ましくは80%超、さらに好ましくは81%以上、特に好ましくは82%以上であることができる。 In particular, when using a polyimide film such as a display for transmitting light, it is desirable that the polyimide film has high transparency. The polyimide (polyimide of the present invention) obtained from the polyimide precursor composition of the present invention is not particularly limited, but the light transmittance at a wavelength of 400 nm in a film having a thickness of 10 μm is preferably 75% or more, and preferably 80%. The above can be more preferably more than 80%, further preferably 81% or more, particularly preferably 82% or more.

なお、本発明のポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミド(本発明のポリイミド)からなるフィルムは、用途にもよるが、フィルムの厚みとしては、好ましくは0.1μm〜250μm、より好ましくは1μm〜150μm、さらに好ましくは1μm〜50μm、特に好ましくは1μm〜30μmである。ポリイミドフィルムを光が透過する用途に使用する場合、ポリイミドフィルムが厚すぎると光透過率が低くなる恐れがある。 The film made of the polyimide (polyimide of the present invention) obtained from the polyimide precursor composition of the present invention has a thickness of preferably 0.1 μm to 250 μm, more preferably 1 μm to depending on the use. It is 150 μm, more preferably 1 μm to 50 μm, and particularly preferably 1 μm to 30 μm. When the polyimide film is used for transmitting light, if the polyimide film is too thick, the light transmittance may decrease.

本発明のポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミド(本発明のポリイミド)は、特に限定されないが、ポリイミドフィルムの耐熱性の指標である1%重量減少温度が、好ましくは395℃以上、より好ましくは430℃以上、さらに好ましくは440℃以上、特に好ましくは470℃以上であることができる。ポリイミド上にトランジスタを形成する等で、ポリイミド上にガスバリア膜等を形成する場合、耐熱性が低いと、ポリイミドとバリア膜との間で、ポリイミドの分解に伴うアウトガスにより膨れが生じることがある。 The polyimide obtained from the polyimide precursor composition of the present invention (polyimide of the present invention) is not particularly limited, 1% weight loss temperature is an index of the heat resistance of the polyimide film, preferably 395 ℃ or more, more preferably It can be 430°C or higher, more preferably 440°C or higher, and particularly preferably 470°C or higher. When a gas barrier film or the like is formed on polyimide by forming a transistor on polyimide or the like, if heat resistance is low, swelling may occur between the polyimide and the barrier film due to outgas due to decomposition of the polyimide.

本発明のポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミド(本発明のポリイミド)は、特に限定されないが、ポリイミドフィルムの厚み方向位相差が、好ましくは1000nm以下、より好ましくは800nm以下、さらに好ましくは700nm以下、特に好ましくは600nm以下であることができる。厚み方向の位相差が大きいと、透過光の色が正しく表示されない、色のにじみや視野角が狭くなるといった問題が起こることがある。 The polyimide obtained from the polyimide precursor composition of the present invention (polyimide of the present invention) is not particularly limited, but the thickness direction retardation of the polyimide film is preferably 1000 nm or less, more preferably 800 nm or less, further preferably 700 nm or less. , Particularly preferably 600 nm or less. If the phase difference in the thickness direction is large, problems may occur such that the color of transmitted light is not displayed correctly, color bleeding and the viewing angle are narrowed.

本発明のポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミド、すなわち本発明のポリイミドは、膜厚方向の位相差が小さく、高い透明性、折り曲げ耐性、高耐熱性などの優れた特性を有し、さらに極めて低い線熱膨張係数を有することから、ディスプレイ用透明基板、タッチパネル用透明基板、或いは太陽電池用基板の用途において、好適に用いることができる。 Polyimide obtained from the polyimide precursor composition of the present invention, that is, the polyimide of the present invention has a small retardation in the film thickness direction, has excellent properties such as high transparency, bending resistance, and high heat resistance, and further extremely Since it has a low coefficient of linear thermal expansion, it can be suitably used in applications such as a transparent substrate for displays, a transparent substrate for touch panels, or a substrate for solar cells.

以下では、本発明のポリイミド前駆体組成物を用いた、ポリイミドフィルム/基材積層体、もしくはポリイミドフィルムの製造方法の一例について述べる。ただし、以下の方法に限定されるものではない。 Hereinafter, an example of a method for producing a polyimide film/substrate laminate or a polyimide film using the polyimide precursor composition of the present invention will be described. However, the method is not limited to the following.

例えばセラミック(ガラス、シリコン、アルミナなど)、金属(銅、アルミニウム、ステンレスなど)、耐熱プラスチックフィルム(ポリイミドフィルムなど)等の基材に、本発明のポリイミド前駆体組成物(ワニス)を流延し、真空中、窒素等の不活性ガス中、或いは空気中で、熱風もしくは赤外線を用いて、20〜180℃、好ましくは20〜150℃の温度範囲で乾燥する。次いで、得られたポリイミド前駆体フィルムを基材上で、もしくはポリイミド前駆体フィルムを基材上から剥離し、そのフィルムの端部を固定した状態で、真空中、窒素等の不活性ガス中、或いは空気中で、熱風もしくは赤外線を用い、例えば200〜500℃、好ましくは最高加熱温度350℃超、より好ましくは380℃超、特に好ましくは400℃を超える温度で加熱イミド化することでポリイミドフィルム/基材積層体、もしくはポリイミドフィルムを製造することができる。なお、得られるポリイミドフィルムが酸化劣化するのを防ぐため、加熱イミド化は、真空中、或いは不活性ガス中で行うことが望ましい。ここでのポリイミドフィルム(ポリイミドフィルム/基材積層体の場合は、ポリイミドフィルム層)の厚さは、以後の工程の搬送性のため、好ましくは1〜250μm、より好ましくは1〜150μmである。 For example, the polyimide precursor composition (varnish) of the present invention is cast on a substrate such as ceramic (glass, silicon, alumina, etc.), metal (copper, aluminum, stainless steel, etc.), heat-resistant plastic film (polyimide film, etc.), etc. In a vacuum, in an inert gas such as nitrogen, or in air, it is dried in a temperature range of 20 to 180° C., preferably 20 to 150° C. by using hot air or infrared rays. Then, the obtained polyimide precursor film on the substrate, or peeled the polyimide precursor film from the substrate, in a state in which the end portion of the film is fixed, in vacuum, in an inert gas such as nitrogen, Alternatively, by using hot air or infrared rays in the air, the polyimide film is heated to imidization at a temperature of, for example, 200 to 500° C., preferably a maximum heating temperature of more than 350° C., more preferably more than 380° C., and particularly preferably more than 400° C. /A substrate laminate or a polyimide film can be produced. In order to prevent the resulting polyimide film from being oxidized and deteriorated, it is desirable that the thermal imidization is performed in vacuum or in an inert gas. The thickness of the polyimide film (polyimide film layer in the case of a polyimide film/base material laminate) here is preferably 1 to 250 μm, more preferably 1 to 150 μm, for transportability in the subsequent steps.

また、ポリイミド前駆体のイミド化反応は、前記のような加熱処理による加熱イミド化に代えて、ポリイミド前駆体をピリジンやトリエチルアミン等の3級アミン存在下、無水酢酸等の脱水環化試薬を含有する溶液に浸漬するなどの化学的処理によって行うことも可能である。また、これらの脱水環化試薬をあらかじめ、ポリイミド前駆体組成物(ワニス)中に投入・攪拌し、それを基材上に流延・乾燥することで、部分的にイミド化したポリイミド前駆体を作製することもでき、これを更に前記のような加熱処理することで、ポリイミドフィルム/基材積層体、もしくはポリイミドフィルムを得ることができる。 In addition, the imidization reaction of the polyimide precursor includes the dehydration cyclization reagent such as acetic anhydride in the presence of a tertiary amine such as pyridine or triethylamine in place of the heat imidization by the heat treatment as described above. It is also possible to perform it by a chemical treatment such as dipping in a solution. Further, by preliminarily introducing and stirring these dehydration cyclization reagents into a polyimide precursor composition (varnish), and casting and drying it on a substrate, a partially imidized polyimide precursor is obtained. It can also be produced, and by further subjecting this to a heat treatment as described above, a polyimide film/base material laminate or a polyimide film can be obtained.

この様にして得られたポリイミドフィルム/基材積層体、もしくはポリイミドフィルムは、その片面もしくは両面に導電性層を形成することによって、フレキシブルな導電性基板を得ることができる。 A flexible conductive substrate can be obtained by forming a conductive layer on one side or both sides of the polyimide film/substrate laminate or the polyimide film thus obtained.

フレキシブルな導電性基板は、例えば次の方法によって得ることができる。すなわち、第一の方法としては、ポリイミドフィルム/基材積層体を基材からポリイミドフィルムを剥離せずに、そのポリイミドフィルム表面に、スパッタ、蒸着、印刷などによって、導電性物質(金属もしくは金属酸化物、導電性有機物、導電性炭素など)の導電層を形成させ、導電性層/ポリイミドフィルム/基材の導電性積層体を製造する。その後必要に応じて、基材より導電性層/ポリイミドフィルム積層体を剥離することによって、導電性層/ポリイミドフィルム積層体からなる透明でフレキシブルな導電性基板を得ることができる。 The flexible conductive substrate can be obtained, for example, by the following method. That is, the first method is to remove the polyimide film/base material laminate from the base material on the surface of the polyimide film by sputtering, vapor deposition, printing, or the like to form a conductive material (metal or metal oxide). A conductive layer of a conductive layer/a polyimide film/a substrate is manufactured by forming a conductive layer of a conductive material/a conductive organic material, a conductive carbon, or the like). Thereafter, if necessary, the conductive layer/polyimide film laminate is peeled off from the base material to obtain a transparent and flexible conductive substrate composed of the conductive layer/polyimide film laminate.

第二の方法としては、ポリイミドフィルム/基材積層体の基材からポリイミドフィルムを剥離して、ポリイミドフィルムを得、そのポリイミドフィルム表面に、導電性物質(金属もしくは金属酸化物、導電性有機物、導電性炭素など)の導電層を、第一の方法と同様にして形成させ、導電性層/ポリイミドフィルム積層体、導電性層/ポリイミドフィルム積層体/導電性層からなる透明でフレキシブルな導電性基板を得ることができる。 As a second method, the polyimide film is peeled from the base material of the polyimide film/base material laminate to obtain a polyimide film, and a conductive material (metal or metal oxide, conductive organic material, A conductive layer of (conductive carbon, etc.) is formed in the same manner as in the first method, and the conductive layer/polyimide film laminate, the conductive layer/polyimide film laminate/conductive layer is transparent and has a flexible conductivity. A substrate can be obtained.

なお、第一、第二の方法において、必要に応じて、ポリイミドフィルムの表面に導電層を形成する前に、スパッタ、蒸着やゲル−ゾル法などによって、水蒸気、酸素などのガスバリヤ層、光調整層などの無機層を形成しても構わない。 In the first and second methods, if necessary, before forming a conductive layer on the surface of the polyimide film, a gas barrier layer such as water vapor and oxygen by a sputtering, vapor deposition, gel-sol method, or the like, and light adjustment. An inorganic layer such as a layer may be formed.

また、導電層は、フォトリソグラフィ法や各種印刷法、インクジェット法などの方法によって、回路が好適に形成される。 A circuit is preferably formed in the conductive layer by a method such as a photolithography method, various printing methods, an inkjet method, or the like.

このようにして得られる本発明の基板は、本発明のポリイミドによって構成されたポリイミドフィルムの表面に、必要に応じてガスバリヤ層や無機層を介し、導電層の回路を有するものである。この基板は、フレキシブルであり、高い透明性、折り曲げ性、耐熱性が優れ、さらに極めて低い線熱膨張係数や優れた耐溶剤性を併せ有するので微細な回路の形成が容易である。したがって、この基板は、ディスプレイ用、タッチパネル用、または太陽電池用の基板として好適に用いることができる。 The substrate of the present invention thus obtained has a circuit of a conductive layer on the surface of a polyimide film composed of the polyimide of the present invention, with a gas barrier layer or an inorganic layer interposed if necessary. This substrate is flexible, has high transparency, bendability and heat resistance, and has an extremely low coefficient of linear thermal expansion and excellent solvent resistance, so that a fine circuit can be easily formed. Therefore, this substrate can be suitably used as a substrate for a display, a touch panel, or a solar cell.

すなわち、この基板に、蒸着、各種印刷法、或いはインクジェット法などによって、さらにトランジスタ(無機トランジスタ、有機トランジスタ)が形成されてフレキシブル薄膜トランジスタが製造され、そして、表示デバイス用の液晶素子、EL素子、光電素子として好適に用いられる。 That is, a flexible thin film transistor is manufactured by further forming a transistor (inorganic transistor, organic transistor) on this substrate by vapor deposition, various printing methods, an inkjet method, or the like, and then a liquid crystal element for display device, EL element, photoelectric device. It is preferably used as an element.

以下、実施例及び比較例によって本発明を更に説明する。尚、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be further described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the examples below.

以下の各例において評価は次の方法で行った。 In each of the following examples, evaluation was performed by the following method.

<ポリイミド前駆体溶液(ワニス)の評価>
[保存安定性]
23℃でワニスを保存し、3日後に流動性のある均一な状態であれば○、
3日後に白濁、もしくはゲル化していれば×とする。
<Evaluation of polyimide precursor solution (varnish)>
[Storage stability]
If the varnish is stored at 23° C. and is in a fluid and uniform state after 3 days, ○,
If cloudy or gelled after 3 days, mark x.

<ポリイミドフィルムの評価>
[400nm光透過率、全光透過率]
紫外可視分光光度計/V−650DS(日本分光製)を用いて、膜厚約10μmのポリイミド膜の400nmにおける光透過率と、全光透過率(380nm〜780nmにおける平均透過率)を測定した。測定した400nmにおける光透過率と、全光透過率を反射率を10%としてランベルト・ベール式を用いて、10μm厚の400nmにおける光透過率と、全光透過率を算出した。算出式を下記に示す。
<Evaluation of polyimide film>
[400 nm light transmittance, total light transmittance]
An ultraviolet-visible spectrophotometer/V-650DS (manufactured by JASCO Corporation) was used to measure the light transmittance at 400 nm and the total light transmittance (average transmittance at 380 nm to 780 nm) of a polyimide film having a thickness of about 10 μm. The measured light transmittance at 400 nm and the light transmittance at 400 nm with a thickness of 10 μm and the total light transmittance were calculated by using the Lambert-Beer equation with the total light transmittance set to 10%. The calculation formula is shown below.

Log10((T+10)/100)=10/L×(Log10((T’+10)/100))
Log10((T+10)/100)=10/L×(Log10((T’+10)/100))
:反射率を10%としたときの10μm厚のポリイミドフィルムの400nmにおける光透過率(%)
’:測定した400nmにおける光透過率(%)
:反射率を10%としたときの10μm厚のポリイミドフィルムの全光透過率(%)
’:測定した全光透過率(%)
L:測定したポリイミドフィルムの膜厚(μm)
Log 10 ((T 1 +10)/100)=10/L×(Log 10 ((T 1 '+10)/100))
Log 10 ((T 2 +10)/100)=10/L×(Log 10 ((T 2 '+10)/100))
T 1 : light transmittance (%) at 400 nm of a 10 μm-thick polyimide film when the reflectance is 10%.
T 1 ': measured light transmittance at 400 nm (%)
T 2 : Total light transmittance (%) of a polyimide film having a thickness of 10 μm when the reflectance is 10%
T 2 ': Measured total light transmittance (%)
L: Thickness of measured polyimide film (μm)

[弾性率、破断点伸度]
膜厚約10μmのポリイミドフィルムをIEC450規格のダンベル形状に打ち抜いて試験片とし、ORIENTEC社製TENSILONを用いて、チャック間長30mm、引張速度2mm/分で、初期の弾性率、破断点伸度を測定した。
[Elastic modulus, elongation at break]
A polyimide film having a film thickness of about 10 μm was punched out into a dumbbell shape of IEC450 standard to obtain a test piece, and using TENSILON manufactured by ORIENTEC, a chuck gap length of 30 mm, a pulling speed of 2 mm/min, an initial elastic modulus and an elongation at break were measured. It was measured.

[線熱膨張係数(CTE)]
膜厚約10μmのポリイミドフィルムを幅4mmの短冊状に切り取って試験片とし、TMA/SS6100 (エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製)を用い、チャック間長15mm、荷重2g、昇温速度20℃/分で500℃まで昇温した。得られたTMA曲線から、150℃から250℃までの線熱膨張係数を求めた。
[Coefficient of linear thermal expansion (CTE)]
A polyimide film having a film thickness of about 10 μm was cut into a strip shape having a width of 4 mm to obtain a test piece, and using TMA/SS6100 (manufactured by SII Nano Technology Co., Ltd.), a chuck gap length of 15 mm, a load of 2 g, and a heating rate of 20°C The temperature was raised to 500° C. in minutes. The linear thermal expansion coefficient from 150° C. to 250° C. was obtained from the obtained TMA curve.

[1%重量減少温度]
膜厚約10μmのポリイミドフィルムを試験片とし、TAインスツルメント社製 熱量計測定装置(Q5000IR)を用い、窒素気流中、昇温速度10℃/分で25℃から600℃まで昇温した。得られた重量曲線から、1%重量減少温度を求めた。
[1% weight loss temperature]
A polyimide film having a film thickness of about 10 μm was used as a test piece, and the temperature was raised from 25° C. to 600° C. at a heating rate of 10° C./min in a nitrogen stream using a calorimeter measuring device (Q5000IR) manufactured by TA Instruments. The 1% weight loss temperature was determined from the obtained weight curve.

[フィルムの厚み方向位相差(Rth)]
膜厚10μmのポリイミドフィルムを試験片とし、王子計測器社製 位相差測定装置(KOBRA−WR)を用い、入射角を40°としてフィルムの位相差測定を行った。得られた位相差より、膜厚10μmのフィルムの厚み方向の位相差を求めた。
[Film thickness direction retardation (R th )]
A polyimide film having a film thickness of 10 μm was used as a test piece, and a phase difference measurement device (KOBRA-WR) manufactured by Oji Scientific Instruments was used to measure the phase difference of the film at an incident angle of 40°. From the obtained retardation, the retardation in the thickness direction of the film having a film thickness of 10 μm was obtained.

以下の各例で使用した原材料の略称、純度等は、次のとおりである。 Abbreviations and purities of raw materials used in the following examples are as follows.

[ジアミン成分]
tra−DACH:トランス−1,4−ジアミノシクロヘキサン〔純度:99.1%(GC分析)〕
DABAN: 4,4’−ジアミノベンズアニリド〔純度:99.90%(GC分析)〕
PPD: p−フェニレンジアミン〔純度:99.9%(GC分析)〕
4,4’−ODA: 4,4’−オキシジアニリン〔純度:99.9%(GC分析)〕
BAPB: 4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル〔純度:99.93%(HPLC分析)〕
[テトラカルボン酸成分]
s−BPDA:3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物〔純度99.9%(H−NMR分析)〕
a−BPDA:2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物〔純度99.6%(H−NMR分析)〕
PMDA−HS: 1R,2S,4S,5R−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物〔純度:99.9%(GC分析)〕
CpODA−tee:trans−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物
CpODA−cee:cis−endo−endo−ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物
CpODA:CpODA−teeとCpODA−ceeの混合物
PACDA:N,N’−(1,4−フェニレン)ビス(1,3−ジオキソオクタヒドロイソベンゾフラン−5−カルボキシアミド)
[Diamine component]
tra-DACH: trans-1,4-diaminocyclohexane [Purity: 99.1% (GC analysis)]
DABAN: 4,4′-diaminobenzanilide [Purity: 99.90% (GC analysis)]
PPD: p-phenylenediamine [Purity: 99.9% (GC analysis)]
4,4'-ODA: 4,4'-oxydianiline [Purity: 99.9% (GC analysis)]
BAPB: 4,4′-bis(4-aminophenoxy)biphenyl [Purity: 99.93% (HPLC analysis)]
[Tetracarboxylic acid component]
s-BPDA: 3,3′,4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride [Purity 99.9% (H-NMR analysis)]
a-BPDA: 2,3,3′,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride [purity 99.6% (H-NMR analysis)]
PMDA-HS: 1R,2S,4S,5R-Cyclohexanetetracarboxylic dianhydride [Purity: 99.9% (GC analysis)]
CpODA-tee: trans-endo-endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride Product CpODA-cee: cis-endo-endo-norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acid di Anhydride CpODA: Mixture of CpODA-tee and CpODA-cee PACDA: N,N'-(1,4-phenylene)bis(1,3-dioxooctahydroisobenzofuran-5-carboxamide)

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[溶媒]
NMP: N−メチル−2−ピロリドン
[solvent]
NMP: N-methyl-2-pyrrolidone

表1−1に実施例、比較例で使用したテトラカルボン酸成分、表1−2に実施例、比較例で使用したジアミン成分、表1−3に実施例、比較例で使用したイミダゾール・イミダゾリン化合物の構造式を記す。 The tetracarboxylic acid components used in Examples and Comparative Examples in Table 1-1, the diamine components used in Examples and Comparative Examples in Table 1-2, and the imidazole/imidazolines used in Examples and Comparative Examples in Table 1-3. The structural formula of the compound is shown.

Figure 0006721070
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Figure 0006721070
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〔合成例1〕
窒素ガスで置換した反応容器中にDABAN 90.91g(0.4モル)とPPD 64.88g(0.6モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 16質量%となる量の2835.90gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にCpODA 384.38g(1.0モル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスA)を得た。
[Synthesis Example 1]
DABAN 90.91 g (0.4 mol) and PPD 64.88 g (0.6 mol) were placed in a reaction vessel substituted with nitrogen gas, and N-methyl-2-pyrrolidone was charged to the total mass of charged monomers (diamine component and diamine component). 2835.90 g was added in an amount such that the total amount of carboxylic acid components was 16% by mass, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. To this solution, 384.38 g (1.0 mol) of CpODA was gradually added. The mixture was stirred at room temperature for 12 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution (varnish A).

〔合成例2〕
窒素ガスで置換した反応容器中にDABAN 90.91g(0.4モル)とPPD 54.07g(0.5モル)とBAPB 36.84g(0.1モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 16質量%となる量の2972.56gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にCpODA 384.38g(1.0モル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスB)を得た。
[Synthesis example 2]
90.91 g (0.4 mol) of DABAN, 54.07 g (0.5 mol) of PPD and 36.84 g (0.1 mol) of BAPB were placed in a reaction vessel substituted with nitrogen gas, and N-methyl-2- Pyrrolidone was added in an amount of 2972.56 g such that the total mass of charged monomers (sum of diamine component and carboxylic acid component) was 16% by mass, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. To this solution, 384.38 g (1.0 mol) of CpODA was gradually added. The mixture was stirred at room temperature for 12 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution (varnish B).

〔合成例3〕
窒素ガスで置換した反応容器中にDABAN 22.73g(0.100モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 16質量%となる量の3211.16gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にCpODA 38.44g(0.100モル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスC)を得た。
[Synthesis Example 3]
22.73 g (0.100 mol) of DABAN was placed in a reaction vessel purged with nitrogen gas, and N-methyl-2-pyrrolidone was added so that the total mass of charged monomers (the sum of the diamine component and the carboxylic acid component) was 16% by mass. The amount of 3211.16 g was added and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 38.44 g (0.100 mol) of CpODA was gradually added to this solution. The mixture was stirred at room temperature for 12 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution (varnish C).

〔合成例4〕
窒素ガスで置換した反応容器中にDABAN 15.91g(0.070モル)とPPD 3.24g(0.030モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 16質量%となる量の302.35gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にCpODA 38.44g(0.100モル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスD)を得た。
[Synthesis Example 4]
15.91 g (0.070 mol) of DABAN and 3.24 g (0.030 mol) of PPD were placed in a reaction vessel replaced with nitrogen gas, and N-methyl-2-pyrrolidone was charged to the total mass of charged monomers (with diamine component). 302.35 g of an amount such that the total amount of carboxylic acid components) was 16% by mass was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 38.44 g (0.100 mol) of CpODA was gradually added to this solution. The mixture was stirred at room temperature for 12 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution (varnish D).

〔合成例5〕
窒素ガスで置換した反応容器中にDABAN 11.36g(0.050モル)とPPD 4.34g(0.040モル)と4,4’−ODA 2.00g(0.010モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 16質量%となる量の294.74gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にCpODA 38.44g(0.100モル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスE)を得た。
[Synthesis example 5]
11.36 g (0.050 mol) of DABAN, 4.34 g (0.040 mol) of PPD, and 2.00 g (0.010 mol) of 4,4′-ODA were placed in a reaction vessel substituted with nitrogen gas, and N was added. -Methyl-2-pyrrolidone was added in an amount of 294.74 g in which the total mass of charged monomers (sum of diamine component and carboxylic acid component) was 16% by mass, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 38.44 g (0.100 mol) of CpODA was gradually added to this solution. The mixture was stirred at room temperature for 12 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution (varnish E).

〔合成例6〕
窒素ガスで置換した反応容器中に4,4’−ODA 20.02g(0.100モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 17質量%となる量の207.21gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にPMDA−HS 22.41g(0.100ミリモル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスF)を得た。
[Synthesis Example 6]
20.02 g (0.100 mol) of 4,4′-ODA was placed in a reaction vessel substituted with nitrogen gas, and N-methyl-2-pyrrolidone was charged, and the total mass of charged monomers (sum of diamine component and carboxylic acid component) was charged. Of 207.21 g in an amount of 17 mass% was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 22.41 g (0.100 mmol) of PMDA-HS was gradually added to this solution. The mixture was stirred at room temperature for 12 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution (varnish F).

〔合成例7〕
窒素ガスで置換した反応容器中にDABAN 22.73g(0.100モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 20質量%となる量の296.29gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にPACDA 51.35g(0.100モル)を徐々に加えた。室温で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスG)を得た。
[Synthesis Example 7]
22.73 g (0.100 mol) of DABAN was placed in a reaction vessel replaced with nitrogen gas, and N-methyl-2-pyrrolidone was added, and the total mass of charged monomers (the sum of the diamine component and the carboxylic acid component) was 20% by mass. The amount of 296.29 g was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. To this solution, 51.35 g (0.100 mol) of PACDA was gradually added. The mixture was stirred at room temperature for 12 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution (varnish G).

〔合成例8〕
窒素ガスで置換した反応容器中にtra−DACH 10.81g(0.100モル)を入れ、N−メチル−2−ピロリドンを、仕込みモノマー総質量(ジアミン成分とカルボン酸成分の総和)が 12質量%となる量の2950.64gを加え、室温で1時間攪拌した。この溶液にs−BPDA 28.69g(0.0975モル)とa−BPDA 0.74g(0.0025モル)を徐々に加えた。50℃で12時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液(ワニスH)を得た。
[Synthesis Example 8]
10.81 g (0.100 mol) of tra-DACH was put into a reaction vessel replaced with nitrogen gas, and N-methyl-2-pyrrolidone was added, and the total mass of charged monomers (total of diamine component and carboxylic acid component) was 12 mass. % Of 2950.64 g was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 28.69 g (0.0975 mol) of s-BPDA and 0.74 g (0.0025 mol) of a-BPDA were gradually added to this solution. The mixture was stirred at 50° C. for 12 hours to obtain a uniform and viscous polyimide precursor solution (varnish H).

〔実施例1〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.05g(0.5ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.05gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して、1,2−ジメチルイミダゾールは0.05モルである。
[Example 1]
0.05 g (0.5 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.05 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to a reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole is 0.05 mol with respect to 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔実施例2〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.15g(1.6ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.15gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して、1,2−ジメチルイミダゾールは0.16モルである。
[Example 2]
0.15 g (1.6 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.15 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole was 0.16 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔実施例3〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.19g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.19gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して、1,2−ジメチルイミダゾールは0.2モルである。
[Example 3]
0.19 g (2.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.19 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole is 0.2 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔実施例4〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.96g(10.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.38gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する1,2−ジメチルイミダゾールは1.0モルである。
[Example 4]
0.96 g (10.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.38 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole was 1.0 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔実施例5〕
1,2−ジメチルイミダゾール 1.92g(20.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.38gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する1,2−ジメチルイミダゾールは2.0モルである。
[Example 5]
1.92 g (20.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.38 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole is 2.0 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔実施例6〕
1−メチルイミダゾール 0.04g(0.5ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.04gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する1−メチルイミダゾールは0.05モルである。
[Example 6]
1-Methylimidazole (0.04 g, 0.5 mmol) and N-methyl-2-pyrrolidone (0.04 g) were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1-methylimidazole is 0.05 mol with respect to 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔実施例7〕
1−メチルイミダゾール 0.08g(1.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.08gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する1−メチルイミダゾールは0.1モルである。
[Example 7]
1-Methylimidazole (0.08 g, 1.0 mmol) and N-methyl-2-pyrrolidone (0.08 g) were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1-methylimidazole is 0.1 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔実施例8〕
1−メチルイミダゾール 0.16g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.16gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する1−メチルイミダゾールは0.2モルである。
[Example 8]
0.16 g (2.0 mmol) of 1-methylimidazole and 0.16 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1-methylimidazole is 0.2 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔実施例9〕
1−メチルイミダゾール 0.33g(4.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.33gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する1−メチルイミダゾールは0.4モルである。
[Example 9]
0.33 g (4.0 mmol) of 1-methylimidazole and 0.33 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1-methylimidazole was 0.4 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔実施例10〕
2−メチルイミダゾール 0.16g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.16gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する2−メチルイミダゾールは0.2モルである。
[Example 10]
2-Methylimidazole (0.16 g, 2.0 mmol) and N-methyl-2-pyrrolidone (0.16 g) were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 2-methylimidazole is 0.2 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔実施例11〕
イミダゾール 0.14g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.14gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、イミダゾールは0.2モルである。
[Example 11]
0.14 g (2.0 mmol) of imidazole and 0.14 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, imidazole was 0.2 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔実施例12〕
2−フェニルイミダゾール 0.29g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.29gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、2−フェニルイミダゾールは0.2モルである。
[Example 12]
0.29 g (2.0 mmol) of 2-phenylimidazole and 0.29 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 2-phenylimidazole is 0.2 mol based on 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔実施例13〕
ベンゾイミダゾール 0.24g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.24gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、ベンゾイミダゾールは0.2モルである。
[Example 13]
Benzimidazole (0.24 g, 2.0 mmol) and N-methyl-2-pyrrolidone (0.24 g) were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, benzimidazole is 0.2 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔比較例1〕
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例1で得られたワニスAをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
[Comparative Example 1]
The varnish A obtained in Synthesis Example 1 filtered with a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) from room temperature to 410° C. to thermally heat the imide. To obtain a colorless and transparent polyimide film/glass laminate. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔比較例2〕
1,2−ジメチルイミダゾール 1.92g(40.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.38gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは4.0モルである。得られたポリイミド前駆体溶液を23℃で保管すると、3日目までにポリイミド前駆体溶液がゲル化した。
[Comparative Example 2]
1.92 g (40.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.38 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole was 4.0 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor. When the obtained polyimide precursor solution was stored at 23° C., the polyimide precursor solution gelled by the third day.

〔参考例1〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.19g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.19gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例1で得られたワニスA 33.76g(ワニスA中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.2モルである。
[Reference Example 1]
0.19 g (2.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.19 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.76 g of varnish A obtained in Synthesis Example 1 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish A) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole is 0.2 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から350℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate, and under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less), the glass substrate is heated as it is from room temperature to 350° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−1に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-1.

〔実施例14〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.05g(0.5ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.05gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.05モルである。
[Example 14]
0.05 g (0.5 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.05 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 35.39 g of the varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole is 0.05 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−2に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-2.

〔実施例15〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.10g(1.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.10gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.1モルである。
[Example 15]
0.10 g (1.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.10 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 35.39 g of the varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole is 0.1 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−2に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-2.

〔実施例16〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.19g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.19gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.2モルである。
Example 16
0.19 g (2.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.19 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 35.39 g of the varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole is 0.2 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−2に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-2.

〔実施例17〕
1−メチルイミダゾール 0.16g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.16gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1−メチルイミダゾールは0.2モルである。
Example 17
0.16 g (2.0 mmol) of 1-methylimidazole and 0.16 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 35.39 g of the varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1-methylimidazole is 0.2 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−2に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-2.

〔比較例3〕
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例2で得られたワニスBをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
[Comparative Example 3]
The varnish B obtained in Synthesis Example 2 filtered with a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) from room temperature to 410° C. to thermally heat the imide. To obtain a colorless and transparent polyimide film/glass laminate. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−2に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-2.

〔比較例4〕
2−エチル−2−イミダゾリン 0.10g(1.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.20gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、2−エチル−2−イミダゾリンは0.1モルである。
[Comparative Example 4]
2-Ethyl-2-imidazoline (0.10 g, 1.0 mmol) and N-methyl-2-pyrrolidone (0.20 g) were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 35.39 g of the varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 2-ethyl-2-imidazoline is 0.1 mol with respect to 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−2に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-2.

〔比較例5〕
2−エチル−2−イミダゾリン 0.20g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.40gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加えるとワニスがゲル化した。そのまま室温で3時間攪拌しても、均一なポリイミド前駆体溶液を得られなかった。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、2−エチル−2−イミダゾリンは0.2モルである。
[Comparative Example 5]
0.20 g (2.0 mmol) of 2-ethyl-2-imidazoline and 0.40 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. When 35.39 g of varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish B) was added to the solution, the varnish gelated. Even if it was stirred at room temperature for 3 hours as it was, a uniform polyimide precursor solution could not be obtained. When calculated from the charged amount, 2-ethyl-2-imidazoline is 0.2 mol based on 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

〔比較例6〕
2−エチル−2−イミダゾリン 0.49g(5.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.98gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加えるとワニスがゲル化した。そのまま室温で3時間攪拌しても、均一なポリイミド前駆体溶液を得られなかった。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、2−エチル−2−イミダゾリンは0.5モルである。
[Comparative Example 6]
2-Ethyl-2-imidazoline 0.49 g (5.0 mmol) and N-methyl-2-pyrrolidone 0.98 g were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. When 35.39 g of varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish B) was added to the solution, the varnish gelated. Even if it was stirred at room temperature for 3 hours as it was, a uniform polyimide precursor solution could not be obtained. When calculated from the charged amount, 2-ethyl-2-imidazoline is 0.5 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

〔比較例7〕
2−メチル−2−イミダゾリン 0.25g(3.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.25gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、2−メチル−2−イミダゾリンは0.3モルである。
[Comparative Example 7]
0.25 g (3.0 mmol) of 2-methyl-2-imidazoline and 0.25 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 35.39 g of the varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 2-methyl-2-imidazoline is 0.3 mol based on 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−2に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-2.

〔比較例8〕
2−フェニルイミダゾリン 0.44g(3.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.44gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例2で得られたワニスB 35.39g(ワニスB中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、2−フェニルイミダゾリンは0.3モルである。
[Comparative Example 8]
0.44 g (3.0 mmol) of 2-phenylimidazoline and 0.44 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 35.39 g of the varnish B obtained in Synthesis Example 2 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish B) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 2-phenylimidazoline is 0.3 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−2に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-2.

〔実施例18〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.10g(1.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.10gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例3で得られたワニスC 38.23g(ワニスC中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.1モルである。
[Example 18]
0.10 g (1.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.10 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. To the solution was added 38.23 g of varnish C obtained in Synthesis Example 3 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish C), and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole is 0.1 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−3に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-3.

〔比較例9〕
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例3で得られたワニスCをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
[Comparative Example 9]
The varnish C obtained in Synthesis Example 3 filtered with a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate, and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) from room temperature to 410° C. to thermally heat the imide. To obtain a colorless and transparent polyimide film/glass laminate. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−3に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-3.

〔実施例19〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.10g(1.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.10gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例4で得られたワニスD 35.99g(ワニスD中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.1モルである。
Example 19
0.10 g (1.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.10 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 35.99 g of the varnish D obtained in Synthesis Example 4 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish D) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole is 0.1 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−3に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-3.

〔比較例10〕
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例4で得られたワニスDをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
[Comparative Example 10]
The varnish D obtained in Synthesis Example 4 filtered with a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate, and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally heat the imide. To obtain a colorless and transparent polyimide film/glass laminate. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−3に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-3.

〔実施例20〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.10g(1.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.10gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例5で得られたワニスE 35.09g(ワニスE中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.1モルである。
Example 20
0.10 g (1.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.10 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 35.09 g of the varnish E obtained in Synthesis Example 5 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish E) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole is 0.1 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−3に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-3.

〔比較例11〕
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例5で得られたワニスEをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から410℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
[Comparative Example 11]
The varnish E obtained in Synthesis Example 5 filtered through a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate, and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 410° C. to thermally heat the imide. To obtain a colorless and transparent polyimide film/glass laminate. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−3に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-3.

〔実施例21〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.19g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.19gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例6で得られたワニスF 24.97g(ワニスF中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.2モルである。
Example 21
0.19 g (2.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.19 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 24.97 g of the varnish F obtained in Synthesis Example 6 (10 mmol based on the repeating unit molecular weight of the polyimide precursor in the varnish F) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole is 0.2 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から400℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) from room temperature to 400° C. to thermally imidize it, thereby producing colorless A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−3に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-3.

〔比較例12〕
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例6で得られたワニスFをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から400℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
[Comparative Example 12]
The varnish F obtained in Synthesis Example 6 filtered with a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate, and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it was from room temperature to 400° C. to thermally heat the imide. To obtain a colorless and transparent polyimide film/glass laminate. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−3に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-3.

〔実施例22〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.19g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.19gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例7で得られたワニスG 37.04g(ワニスG中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.2モルである。
Example 22
0.19 g (2.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.19 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. To the solution, 37.04 g of varnish G obtained in Synthesis Example 7 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in varnish G) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole is 0.2 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から350℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate, and under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less), the glass substrate is heated as it is from room temperature to 350° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−3に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-3.

〔比較例13〕
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例7で得られたワニスGをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から350℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
[Comparative Example 13]
The varnish G obtained in Synthesis Example 7 filtered with a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate, and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) from room temperature to 350° C. to thermally heat the imide. To obtain a colorless and transparent polyimide film/glass laminate. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−3に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-3.

〔実施例23〕
1,2−ジメチルイミダゾール 0.19g(2.0ミリモル)とN−メチル−2−ピロリドン 0.19gを反応容器に加え均一な溶液を得た。その溶液に合成例8で得られたワニスH 33.53g(ワニスH中のポリイミド前駆体の繰返しユニットの分子量に対して、10ミリモル)加え、室温で3時間攪拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。仕込み量から計算すると、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対する、1,2−ジメチルイミダゾールは0.2モルである。
[Example 23]
0.19 g (2.0 mmol) of 1,2-dimethylimidazole and 0.19 g of N-methyl-2-pyrrolidone were added to the reaction vessel to obtain a uniform solution. 33.53 g of the varnish H obtained in Synthesis Example 8 (10 mmol based on the molecular weight of the repeating unit of the polyimide precursor in the varnish H) was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to give a uniform and viscous polyimide. A precursor solution was obtained. When calculated from the charged amount, 1,2-dimethylimidazole is 0.2 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor.

PTFE製メンブレンフィルターでろ過したポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から370℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。 A polyimide precursor solution filtered with a PTFE membrane filter is applied to a glass substrate, and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 370° C. to thermally imidize, and is colorless. A transparent polyimide film/glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−3に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-3.

〔比較例14〕
PTFE製メンブレンフィルターでろ過した合成例8で得られたワニスHをガラス基板に塗布し、窒素雰囲気下(酸素濃度200ppm以下)、そのままガラス基板上で室温から370℃まで加熱して熱的にイミド化を行い、無色透明なポリイミドフィルム/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミドフィルム/ガラス積層体を水に浸漬した後剥離し、乾燥して、膜厚が約10μmのポリイミドフィルムを得た。
[Comparative Example 14]
The varnish H obtained in Synthesis Example 8 filtered with a PTFE membrane filter was applied to a glass substrate, and heated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) as it is from room temperature to 370° C. to thermally heat the imide. To obtain a colorless and transparent polyimide film/glass laminate. Next, the obtained polyimide film/glass laminate was immersed in water, peeled off, and dried to obtain a polyimide film having a thickness of about 10 μm.

このポリイミドフィルムの特性を測定した結果を表2−3に示す。 The results of measuring the properties of this polyimide film are shown in Table 2-3.

Figure 0006721070
Figure 0006721070

Figure 0006721070
Figure 0006721070

Figure 0006721070
Figure 0006721070

表2−1〜2−3に示した結果から、イミダゾール系化合物(1,2−ジメチルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール、またはイミダゾール)を含むポリイミド前駆体組成物から得られたポリイミドは、厚み方向位相差が小さいことが分かる(実施例1〜13と比較例1、実施例14〜17と比較例3、実施例18と比較例9、実施例19と比較例10、実施例20と比較例11、実施例21と比較例12、実施例22と比較例13、実施例23と比較例14)。また、1,2−ジメチルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、またはイミダゾールを用いた場合には、透過率も向上していることが分かる(実施例1〜11と比較例1、実施例14〜17と比較例3、実施例18と比較例9、実施例19と比較例10、実施例20と比較例11、実施例21と比較例12、実施例22と比較例13、実施例23と比較例14)。さらに、イミダゾール系化合物の含有量が、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して4モル未満であると、保存安定性にも優れることが分かる(実施例1〜13と比較例2)。また、機械的特性に関して、イミド化のための加熱処理の最高加熱温度を350℃を超えて410℃とすることで、破断点伸度が大きくなることが分かる(実施例3と参考例1)。 From the results shown in Tables 2-1 to 2-3, a polyimide precursor containing an imidazole compound (1,2-dimethylimidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, benzimidazole, or imidazole) It can be seen that the polyimide obtained from the body composition has a small thickness direction retardation (Examples 1 to 13 and Comparative Example 1, Examples 14 to 17 and Comparative Example 3, Example 18 and Comparative Example 9, and Example). 19 and Comparative Example 10, Example 20 and Comparative Example 11, Example 21 and Comparative Example 12, Example 22 and Comparative Example 13, and Example 23 and Comparative Example 14). Further, it can be seen that the transmittance is also improved when 1,2-dimethylimidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, or imidazole is used (Examples 1 to 11 and Comparative Example 1, Example 1). Examples 14 to 17 and Comparative Example 3, Example 18 and Comparative Example 9, Example 19 and Comparative Example 10, Example 20 and Comparative Example 11, Example 21 and Comparative Example 12, Example 22 and Comparative Example 13, and Example. Example 23 and Comparative Example 14). Further, it can be seen that the storage stability is excellent when the content of the imidazole compound is less than 4 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyimide precursor (Examples 1 to 13 and Comparative Example 2). Regarding the mechanical properties, it can be seen that the elongation at break becomes large by setting the maximum heating temperature of the heat treatment for imidization to 350° C. to 410° C. (Example 3 and Reference Example 1). ..

前記のとおり、本発明のポリイミド前駆体組成物から得られたポリイミドは、厚み方向位相差が小さいことに加え、優れた光透過性、機械的特性、低線熱膨張係数を有しており。本発明のポリイミドフィルムは、ディスプレイ用途などの無色透明で微細な回路形成可能な透明基板として好適に用いることができる。 As described above, the polyimide obtained from the polyimide precursor composition of the present invention has a small retardation in the thickness direction, and also has excellent light transmittance, mechanical properties, and a low linear thermal expansion coefficient. INDUSTRIAL APPLICABILITY The polyimide film of the present invention can be suitably used as a transparent substrate which is colorless and transparent and capable of forming fine circuits.

本発明によって、透明性に優れるポリイミドであって、同一組成でも厚み方向位相差がより小さいポリイミド、または、厚み方向位相差が小さく、透明性に優れ、機械的特性にも優れたポリイミドが得られるポリイミド前駆体組成物(ポリイミド前駆体を含む溶液組成物)、及びポリイミドの製造方法を提供することができる。このポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミドは、透明性が高く、且つ厚み方向位相差が小さく、また、低線熱膨張係数であって微細な回路の形成が容易であるので、特にディスプレイ用、タッチパネル用、太陽電池用などの基板を形成するために好適に用いることができる。 According to the present invention, a polyimide having excellent transparency, in which the thickness direction retardation is smaller even in the same composition, or the thickness direction retardation is small, the transparency is excellent, and the polyimide having excellent mechanical properties is obtained. A polyimide precursor composition (solution composition containing a polyimide precursor) and a method for producing a polyimide can be provided. Polyimide obtained from this polyimide precursor composition has high transparency, and a small thickness direction retardation, and also because it is easy to form a fine circuit with a low linear thermal expansion coefficient, especially for displays, It can be suitably used for forming a substrate for a touch panel, a solar cell or the like.

Claims (10)

下記化学式(1)で表される繰り返し単位、または下記化学式(2)で表される繰り返し単位を含むポリイミド前駆体と、
イミダゾール系化合物として、2−フェニルイミダゾールおよびベンゾイミダゾールから選ばれる少なくとも1種を含み、
イミダゾール系化合物の含有量が、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して4モル未満であることを特徴とするポリイミド前駆体組成物。
Figure 0006721070
(式中、Xは脂環構造を有する4価の基であり、Yは芳香族環を有する2価の基であり、R、Rはそれぞれ独立に水素、炭素数1〜6のアルキル基、または炭素数3〜9のアルキルシリル基である。)
Figure 0006721070
(式中、Xは芳香族環を有する4価の基であり、Yは脂環構造を有する2価の基であり、R、Rはそれぞれ独立に水素、炭素数1〜6のアルキル基、または炭素数3〜9のアルキルシリル基である。)
A repeating unit represented by the following chemical formula (1) or a polyimide precursor containing a repeating unit represented by the following chemical formula (2),
The imidazole-based compound contains at least one selected from 2-phenylimidazole and benzimidazole ,
Content of an imidazole type compound is less than 4 mol with respect to 1 mol of repeating units of a polyimide precursor, The polyimide precursor composition characterized by the above-mentioned.
Figure 0006721070
(In the formula, X 1 is a tetravalent group having an alicyclic structure, Y 1 is a divalent group having an aromatic ring, and R 1 and R 2 are each independently hydrogen, and have 1 to 6 carbon atoms. Or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms.)
Figure 0006721070
(In the formula, X 2 is a tetravalent group having an aromatic ring, Y 2 is a divalent group having an alicyclic structure, and R 3 and R 4 are each independently hydrogen, and have 1 to 6 carbon atoms. Or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms.)
このポリイミド前駆体組成物から得られるポリイミドが、厚さ10μmのフィルムでの波長400nmの光透過率が75%以上であることを特徴とする請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。 2. The polyimide precursor composition according to claim 1, wherein the polyimide obtained from this polyimide precursor composition has a light transmittance of 75% or more at a wavelength of 400 nm in a film having a thickness of 10 μm. 前記イミダゾール系化合物の含有量が、ポリイミド前駆体の繰り返し単位1モルに対して0.05モル以上2モル以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のポリイミド前駆体組成物。 Content of the said imidazole type compound is 0.05 mol or more and 2 mol or less with respect to 1 mol of repeating units of a polyimide precursor, The polyimide precursor composition of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物を、最高加熱温度350℃超で加熱処理して、ポリイミド前駆体をイミド化することを特徴とするポリイミドの製造方法。 The polyimide precursor composition according to any one of claims 1 to 3, the heat treatment at the maximum heating temperature 350 ° C. greater than the production method of the polyimide, wherein the imidizing a polyimide precursor. 請求項1〜のいずれかに記載のポリイミド前駆体組成物を基材上に塗布する工程と、
基材上のポリイミド前駆体組成物を、最高加熱温度350℃超で加熱処理して、ポリイミド前駆体をイミド化する工程と
を有することを特徴とする請求項6に記載のポリイミドの製造方法。
A step of applying a polyimide precursor composition according to the substrate to any one of claims 1 to 3
The polyimide precursor composition on a base material is heat-processed at the maximum heating temperature of more than 350 degreeC, and the process of imidizing a polyimide precursor is included, The manufacturing method of the polyimide of Claim 6 characterized by the above-mentioned.
前記加熱処理の最高加熱温度が400℃を超えることを特徴とする請求項又はに記載のポリイミドの製造方法。 The method for producing a polyimide according to claim 4 or 5 , wherein the maximum heating temperature of the heat treatment exceeds 400°C. 請求項4〜6のいずれかに記載の方法により製造されるポリイミド。 A polyimide produced by the method according to claim 4 . 厚さ10μmのフィルムでの波長400nmの光透過率が75%以上であることを特徴とする請求項に記載のポリイミド。 The polyimide according to claim 7 , which has a light transmittance of 75% or more at a wavelength of 400 nm in a film having a thickness of 10 μm. 請求項4〜6のいずれかに記載の方法により製造されるポリイミドフィルム。 A polyimide film produced by the method according to claim 4 . 請求項7又は8に記載のポリイミド、又は請求項に記載のポリイミドフィルムを含むことを特徴とするディスプレイ用、タッチパネル用、または太陽電池用の基板。 A substrate for a display, a touch panel, or a solar cell, comprising the polyimide according to claim 7 or 8 , or the polyimide film according to claim 9 .
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