KR20160078471A - 리소그래피에서의 대상물 위치설정 - Google Patents

Abstract

대상물 위치설정 시스템은, 대상물(P); 대상물의 위치(APOS)를 측정하는 측정 시스템(MS); 대상물을 위치설정하는 액추에이터 시스템(AS); 액추에이터 시스템을 구동하도록 구성되는 제어 시스템(CU, OBS)을 포함하고, 측정 시스템의 각각의 센서는 대상물 상의 연계된 측정 영역을 가지며, 대상물 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치는 대상물의 위치에 의존적이며, 제어 시스템(CU, OBS)은 대상물의 내부 동적 거동(IDB)을 추산(estimate)하기 위해 대상물의 동적 모델을 갖는 관측기(OBS)를 포함하고, 동적 모델은 대상물의 위치 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치의 의존도를 포함하며, 또한 제어 시스템(CU, OBS)은 관측기(OBS)의 출력(IDB)에 의존도를 갖고 액추에이터 시스템(AS)을 구동하도록 구성된다.

Description

리소그래피에서의 대상물 위치설정{OBJECT POSITIONING IN LITHOGRAPHY}

본 출원은 2013년 10월 30일에 출원된 미국 가출원 61/897,693의 이익을 주장하며, 이는 본 명세서에서 전문이 인용 참조된다.

본 발명은 대상물 위치설정 시스템, 이러한 대상물 위치설정 시스템을 포함하는 리소그래피 장치, 대상물 위치설정 방법 및 디바이스 제조 방법에 관한 것이다.

리소그래피 장치는 기판 상으로, 통상적으로는 기판의 타겟부 상으로 의도한 패턴을 적용시키는 기계이다. 리소그래피 장치는, 예를 들어 집적 회로(IC)의 제조에 사용될 수 있다. 이러한 경우, 대안적으로 마스크 또는 레티클이라 칭하는 패터닝 디바이스가 IC의 개별 층에 형성될 회로 패턴을 생성하기 위해 사용될 수 있다. 이 패턴은 기판(예컨대, 실리콘 웨이퍼)의 (예를 들어, 다이의 일부분, 한 개 또는 수 개의 다이들을 포함하는) 타겟부 상으로 전사(transfer)될 수 있다. 패턴의 전사는 통상적으로 기판에 제공된 방사선-감응재(레지스트)층 상으로의 이미징(imaging)을 통해 수행된다. 일반적으로, 단일 기판은 연속하여 패터닝되는 인접한 타겟부들의 네트워크를 포함할 것이다. 종래의 리소그래피 장치는, 한번에 타겟부 상으로 전체 패턴을 노광함으로써 각각의 타겟부가 조사(irradiate)되는, 소위 스테퍼들, 및 방사선 빔을 통해 주어진 방향("스캐닝"- 방향)으로 패턴을 스캐닝하는 한편, 이 방향과 평행한 방향(같은 방향으로 평행한 방향) 또는 역-평행 방향(반대 방향으로 평행한 방향)으로 기판을 동기적으로 스캐닝함으로써 각각의 타겟부가 조사되는, 소위 스캐너들을 포함한다. 또한, 기판 상으로 패턴을 임프린트(imprint)함으로써, 패터닝 디바이스로부터 기판으로 패턴을 전사할 수도 있다.

리소그래피 장치는 통상적으로 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성되는 지지체 및/또는 기판을 유지하도록 구성되는 기판 테이블과 같이 정확히 위치되어야 할 필요가 있는 하나 이상의 대상물들을 포함한다. 그러므로, 리소그래피 장치는 일반적으로 대상물을 위치설정하는 대상물 위치설정 시스템을 포함하고, 대상물 위치설정 시스템은 기준(reference)에 대해 하나 이상의 자유도(degree of freedom)로 대상물의 위치를 측정하는 하나 이상의 센서들을 갖는 측정 시스템; 대상물을 위치설정하는 하나 이상의 액추에이터들을 갖는 액추에이터 시스템; 및 대상물의 의도한 위치를 나타내는 설정점 및 측정 시스템의 출력의 의존도(dependency)로 액추에이터 시스템을 구동하도록 구성되는 제어 시스템을 포함한다.

더 높은 스루풋(throughput)에 대한 요구가 증가함에 따라, 대상물에 적용되는 가속도 또한 증가한다. 이는 토션 모드(torsion mode) 및 엄브렐라 모드(umbrella mode)와 같은 대상물의 내부 동적 모드(internal dynamical mode)의 여기(excitation)를 유도할 것이다. 내부 동적 모드가 비교적 저-주파수이고, 측정 시스템에 의해 관측가능할 때, 이러한 모드는 폐쇄-루프 대상물 위치설정 시스템의 획득가능한 대역폭을 제한할 수 있음에 따라, 대상물 위치설정 시스템의 성능, 즉 속도 및 정확성을 제한할 수 있다.

또 다른 단점은, 측정 시스템의 타입에 따라, 내부 동역학(internal dynamics)이 측정 시스템에 의해 대상물의 상이한 위치에 대해 상이하게 관측될 수 있다는 것이다. 그러므로, 제어 설계는 획득가능한 대역폭을 훨씬 더 제한하는 대상물의 모든 위치에 대해 강건(robust)하기 위해 최악의 시나리오에 기초한다.

개선된 성능, 즉 더 높은 대역폭을 갖는, 특히 리소그래피 장치를 위한 대상물 위치설정 시스템을 제공하는 것이 바람직하다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 대상물 위치설정 시스템이 제공되고, 상기 시스템은: 위치설정될 대상물; 기준에 대해 하나 이상의 자유도로 대상물의 위치를 측정하는 하나 이상의 센서들을 갖는 측정 시스템; 대상물을 위치설정하는 하나 이상의 액추에이터들을 갖는 액추에이터 시스템; 대상물의 의도한 위치를 나타내는 설정점 및 측정 시스템의 출력에 의존도를 갖고(in dependency of) 액추에이터 시스템을 구동하도록 구성되는 제어 시스템 또는 제어기를 포함하고, 측정 시스템의 각각의 센서는 대상물 상의 연계된 측정 영역을 가지며, 이의 위치는 기준에 대해 하나 이상의 자유도로 측정되고, 대상물 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치는 적어도 하나의 자유도로 대상물의 위치에 의존적이며, 제어 시스템은 측정 시스템의 출력 및 대상물에 대한 입력에 기초하여 대상물의 내부 동적 거동(internal dynamic behavior)을 추산(estimate)하기 위해 대상물의 동적 모델을 갖는 관측기(observer)를 포함하고, 동적 모델은 적어도 하나의 자유도로 대상물의 위치 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치의 의존도를 포함하며, 또한 제어 시스템은 관측기의 출력에 의존도를 갖고 액추에이터를 구동하도록 구성된다.

또 다른 실시예에 따르면, 본 발명의 일 실시예에 따른 대상물 위치설정 시스템을 포함하는 리소그래피 장치가 제공된다.

또 다른 실시예에 따르면, 대상물을 위치설정하는 방법이 제공되고, 상기 방법은:

a. 기준에 대해 하나 이상의 자유도로 대상물의 위치를 측정하는 하나 이상의 센서들을 갖는 측정 시스템을 제공하는 단계 - 측정 시스템의 각각의 센서는 대상물 상의 연계된 측정 영역을 가지며, 이의 위치는 기준에 대해 하나 이상의 자유도로 측정되고, 대상물 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치는 적어도 하나의 자유도로 대상물의 위치에 의존적임 -;

b. 대상물을 위치설정하는 하나 이상의 액추에이터들을 갖는 액추에이터 시스템을 제공하는 단계;

c. 대상물의 의도한 위치를 나타내는 설정점을 제공하는 단계;

d. 대상물의 내부 동적 거동을 추산하기 위해 대상물의 동적 모델을 제공하는 단계 - 동적 모델은 적어도 하나의 자유도로 대상물의 위치 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치의 의존도를 포함함 -;

e. 동적 모델에 대한 대상물의 측정 시스템에 의해 측정된 위치 및 대상물에 대한 입력을 제공함으로써 동적 모델을 이용하여 대상물의 내부 동적 거동을 추산하는 단계; 및

f. 내부 동적 거동을 고려하면서 대상물의 측정 시스템에 의해 측정된 위치 및 설정점에 기초하여 액추에이터 시스템으로 대상물을 위치설정하는 단계를 포함한다.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 대상물 위치측정 시스템을 이용하는 디바이스 제조 방법이 제공된다.

이제, 대응하는 참조 부호들이 대응하는 부분들을 나타내는 첨부된 개략적인 도면들을 참조하여, 단지 예시로만 본 발명의 실시예들을 설명할 것이다:
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치를 도시한 도면;
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 대상물 위치설정 시스템을 개략적으로 도시한 도면;
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 대상물 위치설정 시스템에 적용될 수 있는 측정 시스템을 더 자세히 도시한 도면;
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 대상물 위치설정 시스템에 적용될 수 있는 또 다른 측정 시스템을 더 자세히 도시한 도면;
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 대상물 위치설정 시스템에 대한 제어 방식을 도시한 도면;
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 대상물 위치설정 시스템에 적용될 수 있는 관측기를 더 자세히 도시한 도면;
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대상물 위치설정 시스템에 대한 측정 보상을 갖는 제어 방식을 도시한 도면; 및
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 대상물 위치설정 시스템에 대한 능동 댐핑(active damping)을 갖는 제어 방식을 도시한 도면이다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 리소그래피 장치(LA)를 개략적으로 도시한다. 장치는: 방사선 빔(B)(예를 들어, UV 방사선 또는 DUV 방사선)을 컨디셔닝하도록 구성된 조명 시스템(일루미네이터)(IL); 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 지지하도록 구성되고, 소정 파라미터들에 따라 패터닝 디바이스를 정확히 위치시키도록 구성된 제 1 위치설정기(PM)에 연결된 패터닝 디바이스 지지체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT); 기판(예를 들어, 레지스트-코팅된 웨이퍼)(W)을 유지하도록 구성되고, 소정 파라미터들에 따라 기판을 정확히 위치시키도록 구성된 제 2 위치설정기(PW)에 연결된 기판 테이블(예를 들어, 웨이퍼 테이블)(WTa 또는 WTb); 및 기판(W)의 타겟부(C)(예를 들어, 1 이상의 다이를 포함함) 상으로 패터닝 디바이스(MA)에 의하여 방사선 빔(B)에 부여된 패턴을 투영하도록 구성된 투영 시스템(예를 들어, 굴절 투영 렌즈 시스템)(PS)을 포함한다.

조명 시스템은 방사선을 지향, 성형 또는 제어하기 위하여, 굴절, 반사, 자기, 전자기, 정전기 또는 여하한의 타입의 광학 구성요소들, 또는 이의 여하한의 조합과 같은 다양한 타입의 광학 구성요소를 포함할 수 있다.

지지 구조체는 패터닝 디바이스를 지지, 즉 그 무게를 견딘다. 이는 패터닝 디바이스의 방위, 리소그래피 장치의 디자인, 및 예를 들어 패터닝 디바이스가 진공 환경에서 유지되는지의 여부와 같은 다른 조건들에 의존하는 방식으로 패터닝 디바이스를 유지한다. 지지 구조체는 패터닝 디바이스를 유지하기 위해 기계적, 진공, 정전기, 또는 다른 클램핑 기술들을 이용할 수 있다. 지지 구조체는, 예를 들어 필요에 따라 고정되거나 이동가능할 수 있는 프레임 또는 테이블일 수 있다. 지지 구조체는, 패터닝 디바이스가 예를 들어 투영 시스템에 대해 원하는 위치에 있을 것을 보장할 수 있다. 본 명세서의 "레티클" 또는 "마스크"라는 용어의 어떠한 사용도 "패터닝 디바이스"라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.

본 명세서에서 사용되는 "패터닝 디바이스"라는 용어는, 기판의 타겟부에 패턴을 생성하기 위해서, 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하는데 사용될 수 있는 여하한의 디바이스를 언급하는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 방사선 빔에 부여된 패턴은, 예를 들어 상기 패턴이 위상-시프팅 피처(phase-shifting feature) 또는 소위 어시스트 피처(assist feature)들을 포함하는 경우, 기판의 타겟부의 의도한 패턴에 정확히 대응하지 않을 수도 있다는 것을 유의하여야 한다. 일반적으로, 방사선 빔에 부여된 패턴은 집적 회로와 같이 타겟부에 생성될 디바이스 내의 특정 기능 층에 대응할 것이다.

패터닝 디바이스는 투과형 또는 반사형일 수 있다. 패터닝 디바이스의 예로는 마스크, 프로그램가능한 거울 어레이, 및 프로그램가능한 LCD 패널들을 포함한다. 마스크는 리소그래피 분야에서 잘 알려져 있으며, 바이너리(binary)형, 교번 위상-시프트형 및 감쇠 위상-시프트형과 같은 마스크 타입뿐만 아니라, 다양한 하이브리드(hybrid) 마스크 타입들을 포함한다. 프로그램가능한 거울 어레이의 일 예시는 작은 거울들의 매트릭스 구성을 채택하며, 그 각각은 입사하는 방사선 빔을 상이한 방향으로 반사시키도록 개별적으로 기울어질 수 있다. 기울어진 거울들은 거울 매트릭스에 의해 반사되는 방사선 빔에 패턴을 부여한다.

본 명세서에서 사용되는 "투영 시스템"이라는 용어는, 사용되는 노광 방사선에 대하여, 또는 침지 액체의 사용 또는 진공의 사용과 같은 다른 인자들에 대하여 적절하다면, 굴절, 반사, 카타디옵트릭(catadioptric), 자기, 전자기 및 정전기 광학 시스템, 또는 이의 여하한의 조합을 포함하는 여하한의 타입의 투영 시스템을 내포하는 것으로서 폭넓게 해석되어야 한다. 본 명세서의 "투영 렌즈"라는 용어의 어떠한 사용도 "투영 시스템"이라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.

본 명세서에 도시된 바와 같이, 장치는 (예를 들어, 투과 마스크를 채택하는) 투과형으로 구성된다. 대안적으로, 장치는 (예를 들어, 앞서 언급된 것과 같은 타입의 프로그램가능한 거울 어레이를 채택하거나, 반사 마스크를 채택하는) 반사형으로 구성될 수 있다.

리소그래피 장치는 2 개(듀얼 스테이지) 이상의 기판 테이블(및/또는 2 이상의 마스크 테이블) 또는 하나의 기판 테이블 및 하나의 캘리브레이션 스테이지(calibration stage)를 갖는 형태로 구성될 수 있다. 이러한 "다수 스테이지" 기계에서는 추가 테이블이 병행하여 사용될 수 있거나, 하나 이상의 테이블이 노광에 사용되고 있는 동안 하나 이상의 다른 테이블에서는 준비작업 단계가 수행될 수 있다. 도 1의 예시에서의 2 개의 기판 테이블들(WTa 및 WTb)은 이를 예시한다. 본 명세서에 기재된 본 발명은 독립적으로 사용될 수 있지만, 특히 단일- 또는 다수-스테이지 장치들의 노광전(pre-exposure) 측정 스테이지에서 추가 기능들을 제공할 수 있다.

또한, 리소그래피 장치는 투영 시스템과 기판 사이의 공간을 채우기 위해서, 기판의 적어도 일부분이 비교적 높은 굴절률을 갖는 액체, 예컨대 물로 덮일 수 있는 형태로도 구성될 수 있다. 또한, 침지 액체는 리소그래피 장치 내의 다른 공간들, 예를 들어 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)와 투영 시스템 사이에도 적용될 수 있다. 침지 기술은 투영 시스템의 개구수(numerical aperture)를 증가시키는 기술로 당업계에 잘 알려져 있다. 본 명세서에서 사용되는 "침지"라는 용어는 기판과 같은 구조체가 액체에 담가져야 함을 의미하는 것이라기보다는, 노광 시 액체가 투영 시스템과 기판 사이에 놓이기만 하면 된다는 것을 의미한다.

도 1을 참조하면, 일루미네이터(IL)는 방사선 소스(SO)로부터 방사선 빔을 수용한다. 예를 들어, 소스가 엑시머 레이저(excimer laser)인 경우, 상기 소스 및 리소그래피 장치는 별도의 개체일 수 있다. 이러한 경우, 소스는 리소그래피 장치의 일부분을 형성하는 것으로 간주되지 않으며, 방사선 빔은 예를 들어 적절한 지향 거울 및/또는 빔 익스팬더(beam expander)를 포함하는 빔 전달 시스템(BD)의 도움으로, 소스(SO)로부터 일루미네이터(IL)로 통과된다. 다른 경우, 예를 들어 소스가 수은 램프인 경우, 상기 소스는 리소그래피 장치의 통합부일 수 있다. 상기 소스(SO) 및 일루미네이터(IL)는, 필요에 따라 빔 전달 시스템(BD)과 함께 방사선 시스템이라고도 칭해질 수 있다.

일루미네이터(IL)는 방사선 빔의 각도 세기 분포를 조정하는 조정기(AD)를 포함할 수 있다. 일반적으로, 일루미네이터의 퓨필 평면의 세기 분포의 적어도 외반경 및/또는 내반경 크기(통상적으로, 각각 외측-σ 및 내측-σ라 함)가 조정될 수 있다. 또한, 일루미네이터(IL)는 인티그레이터(IN) 및 콘덴서(CO)와 같이, 다양한 다른 구성요소들을 포함할 수도 있다. 일루미네이터는 방사선 빔의 단면에 원하는 균일성(uniformity) 및 세기 분포를 갖기 위해, 방사선 빔을 컨디셔닝하는 데 사용될 수 있다.

방사선 빔(B)은 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)에 유지되어 있는 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)에 입사되며, 패터닝 디바이스에 의해 패터닝된다. 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 가로질렀으면, 방사선 빔(B)은 투영 시스템(PS)을 통과하며, 이는 기판(W)의 타겟부(C) 상에 상기 빔을 포커스한다. 제 2 위치설정기(PW) 및 위치 센서(IF)[예를 들어, 간섭계 디바이스(interferometric device), 리니어 인코더(linear encoder) 또는 용량성 센서(capacitive sensor)]의 도움으로, 기판 테이블(WTa/WTb)은 예를 들어 방사선 빔(B)의 경로에 상이한 타겟부(C)들을 위치시키도록 정확하게 이동될 수 있다. 이와 유사하게, 제 1 위치설정기(PM) 및 (도 1에 명확히 도시되지 않은) 또 다른 위치 센서는, 예를 들어 마스크 라이브러리(mask library)로부터의 기계적인 회수 후에, 또는 스캔하는 동안, 방사선 빔(B)의 경로에 대해 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)를 정확히 위치시키는 데 사용될 수 있다. 일반적으로, 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)의 이동은 장-행정 모듈(long-stroke module: 개략 위치설정) 및 단-행정 모듈(short-stroke module: 미세 위치설정)의 도움으로 실현될 수 있으며, 이는 제 1 위치설정기(PM)의 일부분을 형성한다. 이와 유사하게, 기판 테이블(WTa/WTb)의 이동은 장-행정 모듈 및 단-행정 모듈을 이용하여 실현될 수 있으며, 이는 제 2 위치설정기(PW)의 일부분을 형성한다. (스캐너와는 대조적으로) 스테퍼의 경우, 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)은 단-행정 액추에이터에만 연결되거나 고정될 수 있다. 패터닝 디바이스(예를 들어,마스크)(MA) 및 기판(W)은 패터닝 디바이스 정렬 마크들(M1 및 M2) 및 기판 정렬 마크들(P1 및 P2)을 이용하여 정렬될 수 있다. 비록, 예시된 기판 정렬 마크들은 지정된(dedicated) 타겟부들을 차지하고 있지만, 그들은 타겟부들 사이의 공간들 내에 위치될 수도 있다[이들은 스크라이브-레인 정렬 마크(scribe-lane alignment mark)들로 알려져 있음]. 이와 유사하게, 패터닝 디바이스(예를 들어, 마스크)(MA)에 하나 이상의 다이가 제공되는 상황들에서, 패터닝 디바이스 정렬 마크들은 다이들 사이에 위치될 수 있다.

도시된 장치는 다음 모드들 중 적어도 하나에 사용될 수 있다:

1. 스텝 모드에서, 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 및 기판 테이블(WTa/WTb)은 기본적으로 정지 상태로 유지되는 한편, 방사선 빔에 부여된 전체 패턴은 한번에 타겟부(C) 상에 투영된다[즉, 단일 정적 노광(single static exposure)]. 그 후, 기판 테이블(WTa/WTb)은 상이한 타겟부(C)가 노광될 수 있도록 X 및/또는 Y 방향으로 시프트된다. 스텝 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 정적 노광 시에 이미징되는 타겟부(C)의 크기를 제한한다.

2. 스캔 모드에서, 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 및 기판 테이블(WTa/WTb)은 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C) 상에 투영되는 동안에 동기적으로 스캐닝된다[즉, 단일 동적 노광(single dynamic exposure)]. 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)에 대한 기판 테이블(WTa/WTb)의 속도 및 방향은 투영 시스템(PS)의 확대(축소) 및 이미지 반전 특성에 의하여 결정될 수 있다. 스캔 모드에서, 노광 필드의 최대 크기는 단일 동적 노광 시 타겟부의 (스캐닝 되지 않는 방향으로의) 폭을 제한하는 반면, 스캐닝 동작의 길이는 타겟부의 (스캐닝 방향으로의) 높이를 결정한다.

3. 또 다른 모드에서, 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT)은 프로그램가능한 패터닝 디바이스를 유지하여 기본적으로 정지된 상태로 유지되며, 방사선 빔에 부여된 패턴이 타겟부(C) 상에 투영되는 동안 기판 테이블(WTa/WTb)이 이동되거나 스캐닝된다. 이 모드에서는, 일반적으로 펄스화된 방사선 소스(pulsed radiation source)가 채택되며, 프로그램가능한 패터닝 디바이스는 기판 테이블(WTa/WTb)의 매 이동 후, 또는 스캔 중에 계속되는 방사선 펄스 사이사이에 필요에 따라 업데이트된다. 이 작동 모드는 앞서 언급된 바와 같은 타입의 프로그램가능한 거울 어레이와 같은 프로그램가능한 패터닝 디바이스를 이용하는 마스크없는 리소그래피(maskless lithography)에 용이하게 적용될 수 있다.

또한, 상술된 사용 모드들의 조합 및/또는 변형, 또는 완전히 다른 사용 모드들이 채택될 수도 있다.

리소그래피 장치(LA)는 2 개의 기판 테이블(WTa 및 WTb), 및 기판 테이블들이 교환될 수 있는 2 개의 스테이션(station) - 노광 스테이션 및 측정 스테이션 - 을 갖는 소위 듀얼 스테이지 타입으로 이루어진다. 하나의 기판 테이블 상의 하나의 기판이 노광 스테이션에서 노광되고 있는 동안, 또 다른 기판은 측정 스테이션에서 다른 기판 테이블 상에 로딩되어 다양한 준비작업 단계들이 수행되도록 할 수 있다. 준비작업 단계들은 레벨 센서(LS)를 이용하여 기판의 표면을 맵핑(map)하는 단계, 및 정렬 센서(AS)를 이용하여 기판 상의 정렬 마커들의 위치를 측정하는 단계를 포함할 수 있다. 이는 장치의 스루풋을 상당히 증가시킬 수 있다. 위치 센서(IF)가 노광 스테이션뿐만 아니라 측정 스테이션에 있는 동안 기판 테이블의 위치를 측정할 수 없는 경우, 두 스테이션들에서 기판 테이블의 위치들이 추적될 수 있도록 제 2 위치 센서가 제공될 수 있다. 대안적으로, 리소그래피 장치는 기판 테이블(WTa) 및 캘리브레이션 테이블(calibration table)을 가질 수 있고, 기판 테이블(WTa)은 웨이퍼를 유지하도록 구성되며, 캘리브레이션 테이블은 기판 테이블의 능동 센서 부분(active sensor part)들을 유지하도록 구성된다.

또한, 장치는 설명된 다양한 액추에이터들 및 센서들의 이동들 및 측정들을 모두 제어하는 리소그래피 장치 제어 유닛 또는 제어기(LACU)를 포함한다. 또한, LACU는 장치의 작동에 관련된 의도한 계산들을 실행하기 위해 신호 처리 및 데이터 처리 능력을 포함한다(예를 들어, 이는 하나 이상의 물리적인 프로세서를 포함함). 실제로, 제어 유닛(LACU)은 다수의 서브-유닛들의 시스템으로서 실현될 것이며, 각각은 장치 내의 서브시스템 또는 구성요소의 실시간 데이터 수집, 처리, 및 제어를 다룬다. 예를 들어, 하나의 처리 서브시스템이 기판 위치설정기(PW)의 서보 제어(servo control)에 지정될 수 있다. 별도의 유닛들이 개략 및 미세 액추에이터들, 또는 상이한 축들을 다룰 수도 있다. 또 다른 유닛이 위치 센서(IF)의 판독(readout)에 지정될 수 있다. 장치의 전체 제어는 이러한 서브-시스템들의 처리 유닛들, 조작자들, 및 리소그래피 제조 공정에 관련된 다른 장치들과 통신하는 중앙 처리 유닛 또는 중앙 프로세서에 의해 제어될 수 있다.

앞서 설명된 바와 같이, 지지 구조체(예를 들어, 마스크 테이블)(MT) 및 기판 테이블(WTa/WTb)은 기준, 예를 들어 투영 시스템(PS)에 대해 (정확히) 위치되어야 할 필요가 있을 수 있는 리소그래피 장치 내의 대상물들의 예시이다. 위치가능할 수 있는 대상물들의 다른 예시들은 캘리브레이션 테이블 및 투영 렌즈들의 광학 요소들이다.

리소그래피 장치 내의 기준에 대해 대상물들을 위치시키기 위해, 리소그래피 장치는 본 발명에 따른 하나 이상의 대상물 위치설정 시스템들을 포함하며, 이는 아래에 더 자세히 설명될 것이다. 본 설명의 나머지 부분에서 일반적인 용어 "대상물"이 사용될 것이지만, 이 용어는 적용가능하다면 기판 테이블, 마스크 테이블, 테이블, 광학 요소, 투영 렌즈 등으로 대체될 수 있음을 이해할 것이다.

본 발명의 일 실시예에 따른 대상물 위치설정 시스템은 도 2에 개략적으로 도시되고, 기준(RE), 예를 들어 투영 시스템에 대해 위치될 대상물(OB), 예를 들어 도 1에 도시된 바와 같은 기판 테이블 또는 마스크 테이블; 기준(RE)에 대해 하나 이상의 자유도로, 예를 들어 병진 방향(X, Y) 또는 회전 방향(Rz)으로 대상물의 위치를 측정하기 위해, 하나 이상의 센서들, 예를 들어 도 1의 위치 센서들(IF)을 갖는 측정 시스템(MS); 예를 들어, 대상물(OB)에 힘(F)을 인가함으로써 대상물(OB)을 위치시키는 하나 이상의 액추에이터들을 갖는 액추에이터 시스템(AS); 및 대상물(OB)의 의도한 위치를 나타내는 설정점(SP) 및 측정 시스템(MS)의 출력(OP)에 의존도를 갖고 액추에이터 시스템(AS)을 구동하도록 구성된 제어 시스템(CS)을 포함한다.

도 2에서, 액추에이터 시스템(AS)은 대상물(OB)과 기준(RE) 사이에 힘(F)을 인가하는 것으로 나타나 있지만, 본질적으로는 힘이 기준(RE)에 인가되는 것이 필수적인 것은 아니다. 인가된 힘의 결과인 외란(disturbance)을 최소화하기 위해, 기준(RE)을 외란시키지 않고 대상물에 힘(F)을 인가하게 하는, 기준(RE)으로부터 커플링되지 않은 소위 별도의 힘 프레임(separate force frame)이 제공될 수 있고, 이는 측정 시스템(MS)에 의해 사용되어 기준(RE)에 대해 대상물의 위치를 결정한다.

도 2에서, 측정 시스템(MS)은 기준(RE)에 대해 대상물(OB)의 위치를 측정하는 것으로 나타나 있다. 이 도면은 직접적인 측정이 수행된다고 여겨질 수 있지만, 측정 시스템은 또 다른 구조체에 대해 대상물의 위치를 측정하도록 구성되는 것 또한 가능하다. 측정 시스템(MS)은 대상물의 위치가 측정 시스템(MS)의 출력(OP)으로부터 공제(deduct)될 수 있는 한 기준(RE)에 대해 하나 이상의 자유도로 대상물의 위치를 측정하도록 고려된다. 측정 시스템(MS)에 의해 측정될 수 있는 자유도의 예시는 X-방향, X-방향에 수직인 Y-방향, 및 보편적으로 Z-방향이라고 칭해지는 X- 및 Y-방향 둘 모두에 수직인 축에 대한 회전 방향(Rz)이다.

설정점(SP)은 설정점 발생기(SPG)에 의해 제어 시스템(CS)에 제공될 수 있다. 설정점 발생기와 제어 시스템(CS) 둘 모두는 도 1에 도시된 바와 같은 리소그래피 장치 제어 유닛(LACU)의 일부분일 수 있다.

도 3은 도 2의 측정 시스템(MS)의 일부분일 수 있는 센서(SE)를 개략적으로 도시한다. 센서는 대상물(OB)을 향해 방사선 빔(RB)을 방출하는 방사선 소스를 갖는 센서 헤드(SH)를 포함한다.

방사선 빔(RB)은 광학 요소(OE), 예를 들어 빔 스플리터에 의해 대상물(OB)을 향해 적어도 부분적으로 지향되고, 표면(SU)에서 광학 요소(OE)를 향해 반사되어 기준 빔, 예를 들어 초기 방사선 빔(RB)의 일부분을 간섭하며, 이 간섭은 검출기(DE)에 의해 검출되어 X-방향으로 대상물(OB)의 위치를 결정한다. 방사선 빔이 대상물에서 반사한 영역은 대상물 상의 측정 영역(MSA)을 형성하고, 이의 위치가 실제적으로 측정되어 대상물(OB)의 위치를 결정한다.

대상물(OB)이 X-방향으로만 이동될 때, 검출기(DE)의 출력은 X-방향으로의 이동에 대응하여 변동할 것이지만, 대상물(OB)에 대한 대상물 상의 측정 영역(MSA)의 위치는 일정하게 유지된다. 하지만, 대상물(OB)이 Z-방향으로만 이동될 때, 검출기(DE)의 출력은 변하지 않을 것이지만, 대상물 상의 측정 영역(MSA)의 위치는 Z-방향으로의 이동과 함께 변할 것이다. 따라서, 대상물(OB) 상의 측정 영역(MSA)의 위치는 적어도 하나의 자유도, 즉 이 경우 Z-방향으로 대상물의 위치에 의존적이다.

도 4는 도 2의 측정 시스템(MS)의 일부분일 수 있는 센서(SE)를 도시한다. 센서는 대상물(OB)을 향해 방사선 빔(RB)을 방출하는 방사선 소스를 갖는 센서 헤드(SH)를 포함한다. 또한, 대상물(OB)은 대상물(OB)이 실선의 대상물(OB)에 대해 Z-방향으로 변위된 점선으로 표시된 바와 같은 또 다른 위치(OB')에 나타내어진다.

방사선 빔(RB)은 위치 OB'에 대한 기준 부호 SU'로 나타내어진 표면(SU)에서 검출기(DE)를 향해 반사되고, 이는 입사하는 반사된 방사선 빔을 처리하여 대상물(OB)의 위치를 도출한다. 표면(SU)은, 예를 들어 검출기(DE) 및 센서 헤드(SH)의 구성 및 타입에 따라 X-방향 및/또는 Z-방향으로 대상물의 위치를 결정하게 하는 격자(도시되지 않음)를 포함할 수 있다.

실선으로 나타내어진 대상물(OB)에 대해, 방사선 빔(RB)은 대상물(OB) 상의 측정 영역(MSA)에서 반사된다. 대상물(OB)이 X-방향으로만 이동될 때, 검출기(DE)의 출력은 X-방향으로의 이동에 대응하여 변동할 수 있고, 대상물(OB) 상의 측정 영역(MSA)의 위치 또한 X-방향으로의 이동과 함께 변할 것이다.

대상물(OB)이 점선으로 도시된 위치 OB'를 향해 Z-방향으로만 이동될 때, 측정 영역의 위치는 이에 따라 위치 MSA'로 바뀌었다.

따라서, 도 4에서 대상물 상의 측정 영역의 위치는 적어도 2 개의 자유도, 즉 이 경우 X-방향 및 Z-방향으로 대상물의 위치에 의존적이다.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 대상물 위치설정 시스템을 나타내는 블록도의 일부분을 개략적으로 도시한다. 블록도는 위치될 대상물의 실제 거동을 나타내는 블록(P)을 포함한다. 블록(P)로의 입력은 신호 u이며, 이는 작동 시스템의 액추에이터들에 의해 인가되는 힘일 수 있다. 신호 u는 의도한 위치 및 측정된 위치(MPOS)를 나타내는 설정점에 기초할 수 있고, 전체가 도시되지 않은 제어 시스템(CS)에 의해 계산될 수 있다. 또한, 신호 u는 대상물에 대한 입력으로서 지칭될 수도 있다.

입력 u는 대상물의 실제 위치(APOS)를 유도한다. 실제 위치(APOS)는 블록(P)의 출력인 것으로 고려된다. 실제 위치(APOS)는 측정 시스템(MS)에 의해 측정된다. 측정 시스템(MS)은, 예를 들어 관심 자유도에 반드시 대응할 필요는 없는 간섭계 빔 길이의 형태로 출력(OP)을 제공하여, 출력(OP)이 계산 유닛(CAL)에 의해 의도한 자유도로의 측정된 위치(MPOS)로 변환되어야 할 수 있다.

제어 시스템(CS)은 대상물의 동적 모델(dynamic model)을 갖는 관측기(OBS)를 포함하여, 설정점[이는 이 실시예에서 신호 u를 통해 관측기(OBS)에 간접적으로 제공됨] 및 측정 시스템(MS)의 출력에 기초하여 대상물의 내부 동적 거동을 추산하고, 이 출력(OP)은 신호 e 및 이득(gain: L)을 통해 관측기(OBS)에 제공되며, 이는 아래에 더 자세히 설명될 것이다.

또한, 이 실시예에서 관측기(OBS)는 측정 시스템의 모델을 포함하고, 측정 시스템(MS)의 출력(OP)에 대응하는 추산된 출력(EOP)을 출력한다. 대상물의 실제 동적 거동과 대상물에 인가된 동적 모델 및/또는 외부 외란 간의 차이로 인해, 추산된 출력(EOP)은 실제 출력(OP)과 상이할 수 있다. 신호 e는 출력(OP)과 추산된 출력(EOP) 간의 차이이다. 오차 신호는 이득(L)을 통해 관측기로 피드백되어 차이를 보상하여 추산된 출력(EOP)과 출력(OP)을 같게 한다.

본 발명의 일 실시예에 따른 대상물 위치설정 시스템에서, 측정 시스템은 기준에 대해 하나 이상의 자유도로 대상물의 위치를 측정하는 하나 이상의 센서들을 포함하고, 측정 시스템의 각각의 센서는 대상물 상의 연계된 측정 영역을 가지며, 이의 위치는 기준에 대해 하나 이상의 자유도로 측정되고, 대상물 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치는 예를 들어 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같은 적어도 하나의 자유도로 대상물의 위치에 의존적이다.

동적 모델은 적어도 하나의 자유도로 대상물의 위치 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치의 의존도를 포함한다.

도 6은 개략적인 블록도로 도시된 관측기(OBS)의 가능한 상태 공간 표현(state space representation)을 도시한다. 관측기의 상태는 기준 부호 x_OBS로 나타내어진다. 측정 시스템(MS) 및 플랜트(P)의 동적 모델은 행렬 A', B' 및 C'로 나타내어진다.

따라서, 관측기를 통제(govern)하는 방정식들이 산출된다:

항 L(OP-EPO)은 보정 항이고, 이는 예를 들어 실제 시스템의 A 및 B 행렬과 동적 모델의 A' 및 B' 간의 불일치(discrepancy)가 각각 존재할 때 동적 모델과 실제 시스템(P, MS) 간의 차이로 인한 효과들을 감소시키는 데 도움을 준다. 행렬 L은 가중 행렬(weighting matrix)로서 역할한다.

본 발명의 가능한 실시예에서, 적어도 하나의 자유도로 대상물의 위치 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치의 의존도는, 적어도 하나의 자유도로 대상물의 위치에 의존적인 출력 방정식의 적어도 하나의 계수, 이 경우 C' 행렬의 적어도 하나의 계수를 제공함으로써 동적 모델 내로 포함될 수 있다. 이는 C'(p)로 나타내어질 수 있고, p는 적어도 하나의 자유도로의 대상물의 위치이다. 위치 p는 대상물의 측정된 위치(MPOS)일 수 있거나, 설정점(SP)일 수 있다(도 1 참조). 설정점(SP)이 위치 p - 출력 방정식은 위치 p에 의존적임 - 이면, 더 안정한 시스템이 얻어지는 장점을 갖는다.

일 실시예에서는, 가중 행렬(L) 또한 적어도 하나의 자유도로 대상물의 위치에 의존적이다. 따라서, 방정식들은 다음과 같이 기록될 수 있다:

e = OP-EOP일 때, 다음의 오차 방정식이 만들어질 수 있다:

대상물의 위치에 의존적인 가중 행렬 그리고 출력 방정식 둘 모두를 만드는 장점은, A' 및 C'(p)가 주어지면, (A'-L(p)*C'(p))의 고유값(eigenvalue)들이 일정하도록 L(p)가 선택될 수 있다는 것이며, 이는 오차 거동이 대상물의 위치에 독립적임을 의미한다.

다시 도 5를 참조하면, 예를 들어 내부 동적 모드들의 형태로 내부 동적 거동(IDB)을 추산하기 위해 개선된 관측기가 사용될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 관측기의 출력으로서 내부 동적 거동은 액추에이터 시스템을 구동하는 데 사용된다. 내부 동적 거동을 이용하는 2 개의 예시가 아래에서 도 7 및 도 8을 참조하여 설명될 것이다.

도 7은 대응하는 대상물의 내부 동적 거동을 나타내는 출력(IDB)을 갖는 관측기(OBS) 및 출력(OP)을 갖는 도 5에 따른 측정 시스템(MS)을 갖는 개략적인 블록도이다. 내부 동적 거동은 상기에 설명된 바와 같이 결정된다. 예를 들어, 내부 동적 모드들의 형태로 내부 동적 거동은 출력(OP)에 기여(contribution)를 갖고, 이는 내부 동적 거동이 측정 시스템의 각각의 센서 출력에 영향을 줄 수 있음을 의미한다. 내부 동적 거동(IDB)을 출력(OP)의 기여(ΔOP)로 변환시키는 변환 행렬(conversion matrix: CM)이 도시된다. 기여(ΔOP)는 센서당 기여를 포함하고, 출력(OP)으로부터 감산될 수 있어, 내부 동적 거동이 덜 존재하는 보상된 출력(COP)을 얻는다. 따라서, 대상물의 측정된 위치에 관한 내부 동적 거동의 효과가 최소화된다. 결과적으로, 작동 시스템을 구동하는 제어 시스템은 내부 동적 거동을 덜 보아, 대역폭이 증가될 수 있다.

도 8은 도 5와 유사하지만, 내부 동적 거동을 위한 능동 댐핑 피드백(active damping feedback)이 추가된 개략적인 블록도를 도시한다. 관측기의 내부 동적 거동(IDB) 출력은 액추에이터 시스템(AS)에 제어 신호(COS)를 제공하는 제어 유닛(CU)에 제공되어, 내부 동적 거동을 감쇠(dampen)시킨다. 내부 동적 거동이 능동적으로 감쇠될 때, 대상물을 위치시키기 위해 작동 시스템을 구동하는 제어 시스템은 내부 동적 거동을 덜 보아, 대역폭이 증가될 수 있다. 대안으로서 또는 조합하여, 내부 동적 거동을 댐핑하기 위해 수동 댐핑이 사용될 수 있다.

본 발명의 일 실시예의 또 다른 장점은, 피드포워드가, 만약 존재한다면, 개선될 수 있다는 것이다. 일 실시예에서, 시스템에 적용된 피드포워드는 시스템의 역(inverse)이다. 내부 동적 거동이 덜 존재할 때, 즉 제어 시스템이 내부 동적 거동을 덜 볼 때, 피드포워드가 대상물의 위치와 독립적으로 설계될 수 있다.

본 명세서에서는, IC 제조에 있어서 리소그래피 장치의 특정 사용예에 대하여 언급되지만, 본 명세서에 서술된 리소그래피 장치는 집적 광학 시스템, 자기 도메인 메모리용 안내 및 검출 패턴, 평판 디스플레이(flat-panel display), 액정 디스플레이(LCD), 박막 자기 헤드 등의 제조와 같이 다른 적용들을 가질 수도 있음을 이해하여야 한다. 당업자라면, 이러한 대안적인 적용예와 관련하여, 본 명세서의 "웨이퍼" 또는 "다이"라는 용어의 어떠한 사용도 각각 "기판" 또는 "타겟부"라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수도 있음을 이해할 것이다. 본 명세서에서 언급되는 기판은 노광 전후에, 예를 들어 트랙(전형적으로, 기판에 레지스트 층을 도포하고 노광된 레지스트를 현상하는 툴), 메트롤로지 툴 및/또는 검사 툴에서 처리될 수 있다. 적용가능하다면, 이러한 기판 처리 툴과 다른 기판 처리 툴에 본 명세서의 기재내용이 적용될 수 있다. 또한, 예를 들어 다층 IC를 생성하기 위하여 기판이 한번 이상 처리될 수 있으므로, 본 명세서에 사용되는 기판이라는 용어는 이미 여러번 처리된 층들을 포함한 기판을 칭할 수도 있다.

이상, 광학 리소그래피와 관련하여 본 발명의 실시예들의 특정 사용예를 언급하였지만, 본 발명은 다른 적용예들, 예를 들어 임프린트 리소그래피에 사용될 수 있으며, 본 명세서가 허용한다면 광학 리소그래피로 제한되지 않는다는 것을 이해할 것이다. 임프린트 리소그래피에서, 패터닝 디바이스 내의 토포그래피(topography)는 기판 상에 생성된 패턴을 정의한다. 패터닝 디바이스의 토포그래피는 전자기 방사선, 열, 압력 또는 그 조합을 인가함으로써 레지스트가 경화되는 기판에 공급된 레지스트 층으로 가압될 수 있다. 패터닝 디바이스는 레지스트로부터 이동되며, 레지스트는 레지스트가 경화된 후에 그 안에 패턴을 남긴다.

본 명세서에서 사용된 "방사선" 및 "빔"이라는 용어는 이온 빔 또는 전자 빔과 같은 입자 빔뿐만 아니라, (예를 들어, 365, 248, 193, 157 또는 126 nm, 또는 그 정도의 파장을 갖는) 자외(UV) 방사선 및 (예를 들어, 5 내지 20 nm 범위의 파장을 갖는) 극자외(EUV) 방사선을 포함하는 모든 형태의 전자기 방사선을 포괄한다.

본 명세서가 허용하는 "렌즈"라는 용어는, 굴절, 반사, 자기, 전자기 및 정전기 광학 구성요소들을 포함하는 다양한 형태의 광학 구성요소들 중 어느 하나 또는 그 조합으로 언급될 수 있다.

이상, 본 발명의 특정 실시예가 설명되었지만, 본 발명은 설명된 것과 다르게 실시될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 예를 들어, 본 발명은 앞서 개시된 바와 같은 방법을 구현하는 기계-판독가능한 명령어의 하나 이상의 시퀀스를 포함하는 컴퓨터 프로그램, 또는 이러한 컴퓨터 프로그램이 저장되어 있는 데이터 저장 매체(예를 들어, 반도체 메모리, 자기 또는 광학 디스크)의 형태를 취할 수 있다.

앞선 서술내용은 예시를 위한 것이지, 제한하려는 것이 아니다. 따라서, 당업자라면 아래에 설명되는 청구항들의 범위를 벗어나지 않고 서술된 본 발명에 대한 변형예가 행해질 수 있다는 것을 분명히 알 것이다.

Claims (15)

1. 대상물 위치설정 시스템에 있어서,
   위치설정될 대상물;
   기준(reference)에 대해 하나 이상의 자유도(degree of freedom)로 상기 대상물의 위치를 측정하는 하나 이상의 센서들을 갖는 측정 시스템;
   상기 대상물을 위치설정하는 하나 이상의 액추에이터들을 갖는 액추에이터 시스템; 및
   상기 대상물의 의도한 위치를 나타내는 설정점 및 상기 측정 시스템의 출력에 의존도를 갖고(in dependency of) 상기 액추에이터 시스템을 구동하도록 구성되는 제어 시스템을 포함하고,
   상기 측정 시스템의 상기 하나 이상의 센서들의 각각은 상기 대상물 상의 연계된 측정 영역을 가지며, 상기 대상물의 위치는 상기 기준에 대해 하나 이상의 자유도로 측정되고,
   상기 대상물 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치는 적어도 하나의 자유도로 상기 대상물의 위치에 의존적이며,
   상기 제어 시스템은 상기 측정 시스템의 출력 및 상기 대상물에 대한 입력에 기초하여 상기 대상물의 내부 동적 거동(internal dynamic behavior)을 추산(estimate)하기 위해 상기 대상물의 동적 모델을 갖는 관측기(observer)를 포함하고,
   상기 동적 모델은 적어도 하나의 자유도로 상기 대상물의 위치 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치의 의존도를 포함하며,
   상기 제어 시스템은 상기 관측기의 출력에 의존도를 갖고 상기 액추에이터 시스템을 구동하도록 구성되는 대상물 위치설정 시스템.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 대상물의 상기 동적 모델은 상기 내부 동적 거동을 추산하는 상태 방정식, 및 추산된 내부 동적 거동에 기초하여 상기 측정 시스템의 출력을 추산하는 출력 방정식을 갖는 미분 방정식으로서 나타내어지고, 상기 미분 방정식의 상기 출력 방정식의 적어도 하나의 계수는 상기 적어도 하나의 자유도로 상기 대상물의 위치에 의존적인 상기 적어도 하나의 측정 영역의 위치에 의존하는 대상물 위치설정 시스템.
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 관측기는 상기 측정 시스템의 출력과 상기 관측기에 의해 추산된 상기 측정 시스템의 출력 간의 차이와 가중 행렬(weighting matrix)의 곱으로서 나타내어질 수 있는 추산된 내부 동적 거동에 대한 보정 항을 생성하는 피드백 루프를 포함하고, 상기 가중 행렬은 상기 적어도 하나의 자유도로 상기 대상물의 위치에 의존적인 상기 적어도 하나의 측정 영역의 위치에 의존하는 적어도 하나의 계수를 포함하는 대상물 위치설정 시스템.
4. 제 3 항에 있어서,
   상기 가중 행렬은 상기 측정 시스템의 출력과 상기 관측기에 의해 정의된 대로의 상기 측정 시스템의 추산된 출력 간의 차이의 동적 거동이 상기 적어도 하나의 자유도로 상기 대상물의 위치에 의존적인 상기 적어도 하나의 측정 영역의 위치에 덜 의존적이도록 선택되는 대상물 위치설정 시스템.
5. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
   상기 적어도 하나의 자유도로 상기 대상물의 위치에 의존적인 상기 적어도 하나의 측정 영역의 위치는 상기 설정점으로부터 결정되는 대상물 위치설정 시스템.
6. 제 1 항에 있어서,
   상기 제어 시스템은 상기 추산된 내부 동적 거동을 이용하여 상기 내부 동적 거동에 대한 상기 측정 시스템의 출력을 보상하도록 구성되는 대상물 위치설정 시스템.
7. 제 1 항에 있어서,
   상기 제어 시스템은 상기 추산된 내부 동적 거동을 이용하여 내부 동적 거동을 감쇠(dampen)시키도록 구성되는 대상물 위치설정 시스템.
8. 제 1 항에 있어서,
   상기 측정 시스템은 상기 대상물이 위치가능한 자유도보다 더 많은 센서들을 포함하는 대상물 위치설정 시스템.
9. 제 1 항에 있어서,
   상기 측정 시스템의 상기 하나 이상의 센서들은 상기 기준에 대해 정지 상태로 배치된 방사선 소스를 갖는 간섭계(interferometer)들이고, 상기 방사선 소스로부터의 방사선은 상기 대상물 상의 상기 측정 영역을 향해 지향되는 대상물 위치설정 시스템.
10. 제 1 항에 있어서,
    상기 측정 시스템의 상기 하나 이상의 센서들은 센서 헤드 및 격자를 갖는 인코더 타입 센서(encoder type sensor)들이고, 상기 센서 헤드는 상기 기준에 대해 정지 상태로 배치되며, 상기 격자는 상기 대상물 상에 배치되는 대상물 위치설정 시스템.
11. 제 10 항에 있어서,
    상기 측정 시스템의 격자들은 상기 대상물의 최상부 표면과 최하부 표면 둘 모두에 배치되는 대상물 위치설정 시스템.
12. 제 1 항에 따른 대상물 위치설정 시스템을 포함하는 리소그래피 장치.
13. 제 12 항에 있어서,
    방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성되는 조명 시스템;
    패터닝 디바이스를 지지하도록 구성되는 지지체 - 상기 패터닝 디바이스는 패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해 방사선의 단면에 패턴을 부여할 수 있음 -;
    기판을 유지하도록 구성되는 기판 테이블; 및
    타겟부 상으로 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성되는 투영 시스템을 더 포함하고,
    상기 대상물은 상기 지지체 및 상기 기판 테이블 중 하나인 리소그래피 장치.
14. 대상물을 위치설정하는 방법에 있어서,
    기준에 대해 하나 이상의 자유도로 상기 대상물의 위치를 측정하는 하나 이상의 센서들을 갖는 측정 시스템을 제공하는 단계 - 상기 측정 시스템의 상기 하나 이상의 센서들의 각각은 상기 대상물 상의 연계된 측정 영역을 가지며, 상기 대상물의 위치는 상기 기준에 대해 하나 이상의 자유도로 측정되고, 상기 대상물 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치는 적어도 하나의 자유도로 상기 대상물의 위치에 의존적임 -;
    a. 상기 대상물을 위치설정하는 하나 이상의 액추에이터들을 갖는 액추에이터 시스템을 제공하는 단계;
    b. 상기 대상물의 의도한 위치를 나타내는 설정점을 제공하는 단계;
    c. 상기 대상물의 내부 동적 거동을 추산하기 위해 상기 대상물의 동적 모델을 제공하는 단계 - 상기 동적 모델은 적어도 하나의 자유도로 상기 대상물의 위치 상의 적어도 하나의 측정 영역의 위치의 의존도를 포함함 -;
    d. 상기 동적 모델에 대한 상기 대상물의 상기 측정 시스템에 의해 측정된 위치 및 상기 대상물에 대한 입력을 제공함으로써 상기 동적 모델을 이용하여 상기 대상물의 상기 내부 동적 거동을 추산하는 단계; 및
    e. 상기 내부 동적 거동을 고려하면서 상기 대상물의 상기 측정 시스템에 의해 측정된 위치 및 상기 설정점에 기초하여 상기 액추에이터 시스템으로 상기 대상물을 위치설정하는 단계를 포함하는 대상물 위치설정 방법.
15. 제 1 항에 따른 대상물 위치설정 시스템을 이용하는 디바이스 제조 방법.

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