KR20160072379A - Display substrate, display panel and method of manufacturing a polarizer - Google Patents

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Abstract

According to the present invention, a display substrate comprises a light shielding pattern disposed on a base substrate, and defining a plurality of opening areas; and a polarization element including a plurality of linear patterns separated from each other. The opening regions individually comprise a color region configured to transmit color light and a white region configured to transmit white light. The polarization element overlaps the color region and the white region. Therefore, the display substrate can improve a transmission rate.

Description

표시 기판, 표시 패널 및 편광 소자의 제조 방법 {DISPLAY SUBSTRATE, DISPLAY PANEL AND METHOD OF MANUFACTURING A POLARIZER} DISPLAY SUBSTRATE, DISPLAY PANEL AND METHOD OF MANUFACTURING A POLARIZER [0002]

본 발명은 표시 기판, 표시 패널 및 편광 소자의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 표시 장치용 표시 기판, 상기 표시 기판을 포함하는 표시 패널 및 편광 소자의 제조 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display substrate, a display panel, and a method of manufacturing a polarizing element, and more particularly, to a display substrate for a display device, a display panel including the display substrate, and a polarizing element.

액정 표시 장치는 액정의 특정한 분자 배열에 전압을 인가하여 분자 배열을 변환시키고, 이러한 분자 배열의 변환에 의해 발광하는 액정셀의 복굴절성, 선 광성, 2색성 및 광산란 특성 등의 광학적 성질의 변화를 시각 변화로 변환하여 영상을 표시하는 디스플레이 장치이다. The liquid crystal display device changes a molecular arrangement by applying a voltage to a specific molecular arrangement of a liquid crystal, and changes in optical properties such as birefringence, light emission, dichroism, and light scattering characteristics of a liquid crystal cell that emits light by conversion of the molecular arrangement And converts the image into a time change and displays the image.

액정 표시 장치는 액정의 특정한 분자 배열에 전압을 인가하여 분자 배열을 변환시키고, 이러한 분자 배열의 변환에 의해 발광하는 액정셀의 복굴절성, 선 광성, 2색성 및 광산란 특성 등의 광학적 성질의 변화를 시각 변화로 변환하여 영상을 표시하는 디스플레이 장치이다. The liquid crystal display device changes a molecular arrangement by applying a voltage to a specific molecular arrangement of a liquid crystal, and changes in optical properties such as birefringence, light emission, dichroism, and light scattering characteristics of a liquid crystal cell that emits light by conversion of the molecular arrangement And converts the image into a time change and displays the image.

일반적으로, 표시 장치는 표시 패널, 백라이트 어셈블리 및 수납 용기를 포함한다. 상기 표시 패널은 제1 및 제2 표시 기판들을 포함하고, 상기 백라이트 어셈블리는 내부 광원을 포함한다. 따라서, 상기 표시 패널은 상기 광원으로부터 제공되는 광을 투과시켜 영상을 표시한다.Generally, the display device includes a display panel, a backlight assembly, and a storage container. The display panel includes first and second display substrates, and the backlight assembly includes an internal light source. Therefore, the display panel transmits light provided from the light source to display an image.

최근, 상기 내부 광원을 포함하는 백라이트 어셈블리 없이, 자연광과 형광등과 같은 외부 광원을 이용하여 영상을 표시하는 투명 표시 장치가 사용되고 있다. 상기투명 표시 장치는 상기 액정의 분자 배열을 제어하기 위해 편광판을 포함한다. 일반적인 편광판은 투과축에 평행한 방향의 편광 성분을 투과하고, 투과축과 직교하는 방향의 편광 성분을 흡수한다. 상기 일반적인 편광판은 광원에서 생성된 광의 일부를 흡수하기 때문에 효율성이 떨어지는 문제가 있다. In recent years, a transparent display device for displaying an image using an external light source such as natural light and fluorescent light has been used without a backlight assembly including the internal light source. The transparent display device includes a polarizing plate for controlling the molecular arrangement of the liquid crystal. A general polarizing plate transmits a polarized component in a direction parallel to the transmission axis and absorbs a polarized component in a direction perpendicular to the transmission axis. The general polarizing plate absorbs a part of the light generated in the light source, which results in a problem that the efficiency is low.

이에 본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에서 착안된 것으로, 본 발명의 목적은 광 효율을 향상시키는 표시 기판을 제공하는 것이다. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a display substrate for improving light efficiency.

본 발명의 다른 목적은 상기 표시 기판을 포함하는 표시 패널을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a display panel including the display substrate.

본 발명의 또 다른 목적은 편광 소자의 제조 방법을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a method of manufacturing a polarizing element.

상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 표시 기판은 베이스 기판 상에 배치되어 복수의 개구 영역들을 정의하는 차광 패턴 및 서로 이격되는 복수의 선형 패턴을 포함하는 편광 소자를 포함하며, 상기 개구 영역은 컬러 광을 투과 시키는 컬러 영역 및 백색 광을 투과 시키는 백색 영역을 포함하고, 상기 편광 소자는 상기 컬러 영역 및 상기 백색 영역과 중첩한다.According to an embodiment of the present invention, a display substrate includes a polarizing element disposed on a base substrate and including a light-shielding pattern defining a plurality of aperture regions and a plurality of linear patterns spaced from each other, The aperture region includes a color region transmitting color light and a white region transmitting white light, and the polarizing element overlaps the color region and the white region.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 컬러 영역은 적색광, 녹색광 및 청색광을 투과시키는 컬러 필터를 포함하며, 상기 백색 영역은 컬러 필터가 형성되지 않은 영역일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the color area includes a color filter transmitting red light, green light, and blue light, and the white area may be an area where no color filter is formed.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 편광 소자는 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the polarizing element includes aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), chromium (Cr), iron (Fe), or nickel .

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 차광 패턴은 흑색 착색제 또는 유기 물질을 포함할 수 있다. In an embodiment of the present invention, the light shielding pattern may include a black coloring agent or an organic material.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 편광 소자는 상기 차광 패턴이 배치된 영역에 배치되지 않을 수 있다. In one embodiment of the present invention, the polarizing element may not be disposed in a region where the light-shielding pattern is disposed.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 차광 패턴은 금속을 포함하는 반사 패턴을 포함하며, 상기 반사 패턴은 상기 편광 소자와 동일한 층에 배치될 수 있다. In one embodiment of the present invention, the light-shielding pattern includes a reflection pattern including a metal, and the reflection pattern may be disposed on the same layer as the polarization element.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 반사 패턴은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the reflective pattern comprises aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), chromium (Cr), iron (Fe), or nickel .

상기한 본 발명의 다른 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 표시 패널은 제1 베이스 기판 상에 배치되어 복수의 개구 영역들을 정의하는 차광 패턴 및 서로 이격되는 복수의 선형 패턴을 포함하는 제1 편광 소자를 포함하는 제1 표시 기판 및 제2 베이스 기판, 상기 제2 베이스 기판 상에 배치된 스위칭 소자 및 상기 제1 편광 소자와 중첩하며 서로 이격되는 복수의 선형 패턴을 포함하는 제2 편광 소자를 포함하며, 상기 제1 표시 기판과 대향하는 제2 표시 기판을 포함하고, 상기 개구영역은 컬러 광을 투과 시키는 컬러 영역 및 백색 광을 투과 시키는 백색 영역을 포함하고, 상기 제1 편광 소자 및 상기 제2 편광 소자는 상기 컬러 영역 및 상기 백색 영역과 중첩한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a display panel, including: a first polarizing plate disposed on a first base substrate and including a light-shielding pattern defining a plurality of aperture regions and a plurality of linear patterns spaced from each other; A second base substrate, a switching element disposed on the second base substrate, and a second polarizing element including a plurality of linear patterns superimposed on and spaced from the first polarizing element And a second display substrate facing the first display substrate, wherein the aperture region includes a color region transmitting color light and a white region transmitting white light, wherein the first polarizing element and the second polarizing element The polarizing element overlaps the color area and the white area.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 컬러 영역은 적색광, 녹색광 및 청색광을 투과시키는 컬러 필터를 포함하며, 상기 백색 영역은 컬러 필터가 형성되지 않을 수 있다.In one embodiment of the present invention, the color region includes a color filter transmitting red light, green light and blue light, and the white region may not be formed with a color filter.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 편광 소자 및 상기 제2 편광 소자는 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first polarizing element and the second polarizing element are formed of a material selected from the group consisting of Al, Au, Ag, Cu, Cr, Or nickel (Ni).

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 차광 패턴은 흑색 착색제 또는 유기 물질을 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the light shielding pattern may include a black coloring agent or an organic material.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 편광 소자는 상기 차광 패턴이 배치된 영역에 배치되지 않을 수 있다.In one embodiment of the present invention, the polarizing element may not be disposed in a region where the light-shielding pattern is disposed.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 차광 패턴은 금속을 포함하는 반사 패턴을 포함하며, 상기 반사 패턴은 상기 제1 편광 소자와 동일한 층에 배치될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the light-shielding pattern includes a reflection pattern including a metal, and the reflection pattern may be disposed on the same layer as the first polarizing element.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 반사 패턴은 상기 스위칭 소자와 중첩할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the reflection pattern may overlap with the switching element.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 반사 패턴은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the reflective pattern comprises aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), chromium (Cr), iron (Fe), or nickel .

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 차광 패턴 상부에 배치되는 컬럼 스페이서를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the light emitting device may further include a column spacer disposed on the light blocking pattern.

상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 편광 소자의 제조 방법은 기판 상에 금속층을 형성한다. 상기 금속층 상에 하드 마스크를 형성한다. 상기 하드 마스크 상에 영역에 따라 서로 다른 양의 액적을 갖는 고분자층을 형성한다. 상기 고분자층에 몰드를 접촉시키고 압력을 가하여 상기 고분자층의 돌출부를 형성한다. 서로 다른 두께를 갖는 고분자 패턴을 형성한다. 잔류하는 고분자 패턴을 마스크로 이용하여 상기 하드 마스크 및 상기 금속층을 패터닝 한다.A method of manufacturing a polarizing element according to an embodiment for realizing the object of the present invention described above forms a metal layer on a substrate. A hard mask is formed on the metal layer. A polymer layer having different amounts of droplets is formed on the hard mask according to the regions. A mold is brought into contact with the polymer layer and a pressure is applied to form a protrusion of the polymer layer. Thereby forming polymer patterns having different thicknesses. And the hard mask and the metal layer are patterned using the remaining polymer pattern as a mask.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 고분자층은 열 또는 자외선에 의해 경화될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the polymer layer can be cured by heat or ultraviolet rays.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 고분자 패턴은 서로 이격된 복수의 선형 패턴을 포함하고, 인접하는 선형 패턴들 사이로 상기 하드 마스크의 상면이 노출 될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the polymer pattern includes a plurality of linear patterns spaced apart from each other, and an upper surface of the hard mask may be exposed between adjacent linear patterns.

본 발명의 실시예들에 따르면, 투명 디스플레이의 개구 영역에 편광 소자를 배치하여 투명 디스플레이의 기능을 할 수 있다.According to embodiments of the present invention, a polarizing element can be disposed in the aperture region of the transparent display to function as a transparent display.

본 발명의 실시예들에 따르면, 투명 디스플레이의 개구 영역에 편광 소자를 배치하여 투과율을 향상시킬 수 있다.According to embodiments of the present invention, a polarizing element can be disposed in the aperture region of the transparent display to improve the transmittance.

본 발명의 실시예들에 따르면, 투명 디스플레이의 개구 영역에 편광 소자를 배치하여 거울 역할을 하는 디스플레이의 기능을 할 수 있다.According to embodiments of the present invention, a polarizing element may be disposed in an aperture region of a transparent display to function as a mirror serving as a mirror.

본 발명의 실시예들에 따르면, 투명 디스플레이의 차광 영역에 편광 소자를 배치하여 블랙 매트릭스 및 반사 패턴의 기능을 할 수 있다.According to the embodiments of the present invention, the polarizing element can be disposed in the light shielding region of the transparent display to function as a black matrix and a reflection pattern.

또한, 유기 물질을 포함하는 차광 패턴에 의해 표시 패널의 전체 반사율을 줄일 수 있다.Further, the total reflectance of the display panel can be reduced by the light-shielding pattern including the organic material.

또한, 차광 패턴과 편광 소자를 동일한 층에 형성하여 표시 패널의 두께를 줄일 수 있다.Further, the thickness of the display panel can be reduced by forming the shielding pattern and the polarizing element in the same layer.

또한, 상기 편광 소자는 복수의 선형 패턴 및 상기 선형 패턴과 동일한 층에 형성되는 반사 패턴을 동시에 형성하여 반사 패턴을 형성하는 별도의 공정 비용을 줄일 수 있다.In addition, the polarizing element can reduce a separate processing cost for forming a plurality of linear patterns and a reflection pattern formed on the same layer as the linear pattern to form a reflection pattern.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 편광 소자의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널의 화소 구조의 평면도이다.
도 3은 도 2의 화소 구조에 적용될 수 있는 차광 패턴의 평면도이다.
도 4는 도 2의 I-I'라인을 따라 절단한 표시 패널의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 패널의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 패널의 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 패널의 단면도이다.
도 8a 내지 도 8h는 본 발명의 일 실시예에 따른 편광 소자의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 9a 내지 도 9j는 본 발명의 다른 실시예에 따른 편광 소자의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.1 is a cross-sectional view of a polarizing element according to an embodiment of the present invention.
2 is a plan view of a pixel structure of a display panel according to an embodiment of the present invention.
3 is a plan view of a light-shielding pattern that can be applied to the pixel structure of FIG.
4 is a cross-sectional view of the display panel taken along the line I-I 'in FIG.
5 is a cross-sectional view of a display panel according to another embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view of a display panel according to another embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view of a display panel according to another embodiment of the present invention.
8A to 8H are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a polarizing element according to an embodiment of the present invention.
9A to 9J are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a polarizing element according to another embodiment of the present invention.

이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 보다 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 편광 소자의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a polarizing element according to an embodiment of the present invention.

편광 소자는 기판(10), 복수의 선형 패턴(20) 및 상기 금속 패턴(20)과 동일 평면에 배치된 반사 패턴(30)을 포함한다.The polarizing element includes a substrate 10, a plurality of linear patterns 20, and a reflection pattern 30 arranged on the same plane as the metal pattern 20. [

상기 기판(10)은 투과성, 내열성, 내화학성 등이 우수한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 기판(10)은 광 투과력이 우수한 유리, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리아크릴 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The substrate 10 may include a material having excellent permeability, heat resistance, and chemical resistance. For example, the substrate 10 may include any one of glass, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, and polyacrylic which is excellent in light transmittance.

상기 선형 패턴(20)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다. The linear pattern 20 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni.

상기 선형 패턴(20)은 선폭을 갖고, 이웃하는 선형 패턴들은 이격 거리만큼 이격되어 있으며, 상기 선폭 및 이격 거리를 합한 피치(P)를 갖는다. 또한, 상기 선형 패턴들(20) 사이에 에어 갭을 포함할 수 있다. 상기 피치(P)는 약 50nm 내지 약 150nm일 수 있다.The linear pattern 20 has a line width, neighboring linear patterns are spaced apart from each other by a spacing distance, and the pitch P has a sum of the line width and the spacing distance. In addition, an air gap may be included between the linear patterns 20. The pitch P may be from about 50 nm to about 150 nm.

상기 편광 소자는 광이 투과 되어야 하는 부분에 복수의 선형 패턴(20)을 형성하고, 광이 투과되지 않는 부분에는 평탄한 면을 갖는 반사 패턴(30)을 형성한다.The polarizing element forms a plurality of linear patterns 20 at a portion through which light should be transmitted and a reflection pattern 30 having a flat surface at portions where light is not transmitted.

상기 반사 패턴(30)은 상기 선형 패턴(20)과 동일한 층에 배치된다. 상기 반사 패턴(30)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다.The reflective pattern 30 is disposed in the same layer as the linear pattern 20. [ The reflective pattern 30 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널의 화소 구조를 도시한 평면도이다. 도 3은 도 2의 화소 구조에 적용될 수 있는 차광 패턴을 도시한 평면도이다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널을 도시한 단면도이다.2 is a plan view showing a pixel structure of a display panel according to an embodiment of the present invention. 3 is a plan view showing a light-shielding pattern that can be applied to the pixel structure of FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a display panel according to an embodiment of the present invention.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 실시예에 따른 표시 패널은 제1 방향(D1) 및 상기 제1 방향(D1)과 수직한 제2 방향(D2)을 따라 매트릭스 형태로 배열되는 복수의 단위 화소들(PU)을 포함할 수 있다. 2 and 3, the display panel according to the present embodiment includes a plurality of units arranged in a matrix along a first direction D1 and a second direction D2 perpendicular to the first direction D1. And may include pixels PU.

상기 단위 화소들(PU)은, 차광 영역(BA) 및 개구 영역을 포함할 수 있다. 상기 개구 영역은, 컬러 광을 투과시키는 컬러 영역(CA) 및 백색광을 투과시키는 백색 영역(WA)을 포함할 수 있다.The unit pixels PU may include a light shielding area BA and an opening area. The opening region may include a color region CA for transmitting color light and a white region WA for transmitting white light.

예를 들어, 상기 단위 화소들(PU)은 각각, 적색광을 투과시키는 적색 영역(CA1), 녹색광을 투과시키는 녹색 영역(CA2), 청색광을 투과시키는 청색 영역(CA3) 및 백색광을 투과시키는 백색 영역(WA)을 포함할 수 있다.For example, the unit pixels PU each include a red region CA1 for transmitting red light, a green region CA2 for transmitting green light, a blue region CA3 for transmitting blue light, and a white region (WA). ≪ / RTI >

도 3을 참조하면, 상기 표시 패널은, 상기 차광 영역(BA)에 대응되는 차광 패턴(BM)을 포함한다. 상기 컬러 영역들(CA1, CA2, CA3) 및 백색 영역(WA)의 경계는 차광 패턴(BM)에 의해 정의될 수 있다. 예를 들어, 상기 차광 패턴(BM)은 게이트 라인들, 데이터 라인들 및 스위칭 소자들에 중첩할 수 있다. 상기 차광 패턴(BM)은 무기 흑색 착색제 또는 유기 흑색 착색제 등의 흑색 재질을 포함할 수 있다. 상기 흑색 착색제는, 예를 들어, 카본 블랙, 유/무기 안료, 또는 유색(R, G, B) 혼합 안료 등의 착색제를 포함함으로써 블랙을 나타낼 수 있다. 또한, 상기 차광 패턴은 유기 물질을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 차광 패턴은 상기 흑색 재질 및, 아크릴 수지 등과 같은 바인더 수지를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3, the display panel includes a light blocking pattern BM corresponding to the light blocking area BA. The boundary between the color areas CA1, CA2, and CA3 and the white area WA may be defined by a light blocking pattern BM. For example, the light blocking pattern BM may overlap the gate lines, the data lines, and the switching elements. The light blocking pattern BM may include a black material such as an inorganic black colorant or an organic black colorant. The black colorant may represent black, for example, by including coloring agents such as carbon black, organic / inorganic pigments, or colored (R, G, B) mixed pigments. The light-shielding pattern may further include an organic material. For example, the light shielding pattern may include the black material and a binder resin such as an acrylic resin.

상기 컬러 영역(CA1, CA2, CA3)에 배치된 컬러 필터(CF)는 상기 차광 패턴(BM)과 일부 중첩할 수 있다. 또한, 상기 백색 영역(WA)은 상기 제1 방향(D1)으로 연장되는 형상을 가질 수 있다.The color filter CF disposed in the color areas CA1, CA2, and CA3 may partially overlap the light blocking pattern BM. Also, the white region WA may have a shape extending in the first direction D1.

도 4를 참조하면, 표시 패널은 제1 기판(100), 상기 제1 기판(100)에 대향하는 제2 기판(200) 및 상기 제1 기판 및 제2 기판 사이에 형성되는 액정층(LC)을 포함한다. 4, the display panel includes a first substrate 100, a second substrate 200 facing the first substrate 100, and a liquid crystal layer LC formed between the first substrate and the second substrate. .

상기 제1 기판(100)은 상기 백라이트 유닛으로부터 제공되는 광을 소정의 색으로 발현시키는 컬러 필터(Color Filter; CF) 패턴들을 포함하는 컬러 필터 기판일 수 있다. The first substrate 100 may be a color filter substrate including color filter (CF) patterns that emit light from the backlight unit in a predetermined color.

상기 제2 기판은 상기 액정층(Liquid Crystal; LC)을 사이에 두고 상기 제1 기판과 대향하여 배치된다. 상기 제2 기판은 매트릭스(Matrix) 형태로 트랜지스터가 형성되어 있는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor TFT)를 포함하는 박막 트랜지스터 기판일 수 있다. 상기 제2 기판은 상기 박막 트랜지스터와 연결되는 복수의 게이트 라인(Gate Line; GL) 및 복수의 데이터 라인(Data Line; DL)을 포함할 수 있다.The second substrate is disposed to face the first substrate with the liquid crystal layer (LC) interposed therebetween. The second substrate may be a thin film transistor substrate including a thin film transistor (TFT) in which a transistor is formed in a matrix form. The second substrate may include a plurality of gate lines (GL) and a plurality of data lines (DL) connected to the thin film transistors.

상기 제2 기판(200)은 제2 베이스 기판(210), 스위칭 소자(SW), 제2 편광 소자, 절연막(240), 보호층(260) 및 화소 전극(PE)을 포함한다.The second substrate 200 includes a second base substrate 210, a switching element SW, a second polarizing element, an insulating layer 240, a passivation layer 260, and a pixel electrode PE.

상기 제2 베이스 기판(210)은 투과성, 내열성, 내화학성 등이 우수한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제2 베이스 기판(210)은 광 투과력이 우수한 유리, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리아크릴 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The second base substrate 210 may include a material having excellent permeability, heat resistance, and chemical resistance. For example, the second base substrate 210 may include any one of glass, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, and polyacryl.

상기 제2 편광 소자는 상기 제2 베이스 기판(210) 상에 배치된다. 상기 제2 편광 소자는 서로 이격된 복수의 선형 패턴(220)을 포함한다. 상기 복수의 선형 패턴(220)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다.The second polarizing element is disposed on the second base substrate 210. The second polarizing element includes a plurality of linear patterns 220 spaced from each other. The plurality of linear patterns 220 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni.

상기 제2 편광 소자의 선형 패턴(220)은 상기 제1 컬러 영역(CA1)과 중첩한다. 상기 제2 컬러 영역(CA2) 및 상기 제3 컬러 영역(CA3)은 상기 제1 컬러 영역(CA1)과 유사한 단면 구조를 갖는다. 따라서, 제2 편광 소자의 선형 패턴(220)은 상기 제2 컬러 영역(CA2) 및 상기 제3 컬러 영역(CA3)과도 중첩한다. 상기 선형 패턴(220)은 차광 영역(BA) 및 백색 영역(WA)과는 중첩하지 않는다.The linear pattern 220 of the second polarizing element overlaps the first color area CA1. The second color area CA2 and the third color area CA3 have a cross-sectional structure similar to the first color area CA1. Therefore, the linear pattern 220 of the second polarizing element also overlaps the second color area CA2 and the third color area CA3. The linear pattern 220 does not overlap the light blocking area BA and the white area WA.

상기 절연막(240)은 상기 제2 편광 소자를 커버한다. 상기 절연막(240)은 실리콘 산화물(SiOx)을 포함할 수 있다.The insulating layer 240 covers the second polarizing element. The insulating layer 240 may include silicon oxide (SiOx).

상기 화소 전극(PE)은 컬러 필터(CF)와 중첩하는 컬러 영역(CA1)과 중첩한다. 상기 스위칭 소자(SW)는 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하고, 상기 화소 전극(PE)은 상기 스위칭 소자(SW)의 드레인 전극에 전기적으로 연결된다.The pixel electrode PE overlaps the color region CA1 overlapping the color filter CF. The switching element SW includes a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode, and the pixel electrode PE is electrically connected to the drain electrode of the switching element SW.

상기 보호층(260)은 상기 스위칭 소자(SW) 및 상기 절연막(240) 상에 배치된다. 상기 보호층(260)은 실리콘 질화물(SiNx) 또는 실리콘 산화물(SiOx)등의 무기 물질로 형성될 수도 있고, 저유전율 유기 절연막으로 형성될 수도 있다. 또한, 무기 절연막과 유기 절연막의 이중 막으로 형성될 수도 있다. The protective layer 260 is disposed on the switching element SW and the insulating layer 240. The passivation layer 260 may be formed of an inorganic material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx), or may be formed of a low dielectric constant organic insulating layer. It may also be formed of a double film of an inorganic insulating film and an organic insulating film.

상기 화소 전극(PE)은 상기 보호층(260) 상에 배치된다. 상기 화소 전극(PE) 은 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 연결된다. 상기 화소 전극(PE)은 복수의 개구를 갖는 슬릿 패턴을 포함할 수 있다. 상기 화소 전극(PE)은 투명 도전 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 화소 전극(PE)은 산화 인듐 주석(indium tin oxide: ITO) 또는 산화 아연 주석(indium zinc oxide: IZO)을 포함할 수 있다.The pixel electrode PE is disposed on the passivation layer 260. The pixel electrode PE is connected to the drain electrode through a contact hole. The pixel electrode PE may include a slit pattern having a plurality of openings. The pixel electrode PE may include a transparent conductive material. For example, the pixel electrode PE may include indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

도 4를 참조하면, 제1 기판(100)은 제1 베이스 기판(110), 제1 편광 소자, 절연막(140), 차광 패턴(BM), 컬러 필터(CF), 오버 코팅층(160) 및 공통 전극(CE)을 포함한다.Referring to FIG. 4, the first substrate 100 includes a first base substrate 110, a first polarizing element, an insulating layer 140, a light shielding pattern BM, a color filter CF, an overcoat layer 160, And an electrode CE.

상기 제1 베이스 기판(110)은 투과성, 내열성, 내화학성 등이 우수한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 베이스 기판(110)은 광 투과력이 우수한 유리, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리아크릴 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The first base substrate 110 may include a material having excellent permeability, heat resistance, and chemical resistance. For example, the first base substrate 110 may include any one of glass, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, and polyacryl.

상기 제1 편광 소자는 상기 제1 베이스 기판(110) 상에 배치된다. 상기 제1 편광 소자는 서로 이격된 복수의 선형 패턴(120)을 포함한다. 상기 복수의 선형 패턴(120)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다.The first polarizing element is disposed on the first base substrate 110. The first polarizing element includes a plurality of linear patterns 120 spaced from each other. The plurality of linear patterns 120 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni.

상기 제1 편광 소자의 선형 패턴(120)은 상기 제1 컬러 영역(CA1)과 중첩한다. 상기 제2 컬러 영역(CA2) 및 상기 제3 컬러 영역(CA3)은 상기 제1 컬러 영역(CA1)과 유사한 단면 구조를 갖는다. 따라서, 제1 편광 소자의 선형 패턴(120)은 상기 제2 컬러 영역(CA2) 및 상기 제3 컬러 영역(CA3)과도 중첩한다. 상기 선형 패턴(120)은 상기 차광 영역(BA) 및 상기 백색 영역(WA)과는 중첩하지 않는다.The linear pattern 120 of the first polarizing element overlaps the first color area CA1. The second color area CA2 and the third color area CA3 have a cross-sectional structure similar to the first color area CA1. Therefore, the linear pattern 120 of the first polarizing element also overlaps the second color area CA2 and the third color area CA3. The linear pattern 120 does not overlap the light blocking area BA and the white area WA.

상기 절연막(140)은 상기 제1 편광 소자를 커버한다. 상기 절연막(140)은 실리콘 산화물(SiOx)을 포함할 수 있다.The insulating layer 140 covers the first polarizing element. The insulating layer 140 may include silicon oxide (SiOx).

상기 컬러 필터(CF)는 상기 차광 패턴(BM) 및 상기 절연막(140)의 하부에 배치된다. 상기 컬러 필터(CF)는 상기 액정층(LC)을 투과하는 광에 색을 제공하기 위한 것이다. 상기 컬러 필터(CF)는 적색 컬러 필터(red), 녹색 컬러 필터(green), 및 청색 컬러 필터(blue)일 수 있다. 상기 컬러 필터(CF)는 각 화소 영역에 대응하여 제공되며, 서로 인접한 화소 사이에서 서로 다른 색을 갖도록 배치될 수 있다. The color filter CF is disposed below the light blocking pattern BM and the insulating film 140. The color filter CF is for providing color to light transmitted through the liquid crystal layer LC. The color filter CF may be a red color filter (red), a green color filter (green), and a blue color filter (blue). The color filters CF are provided corresponding to the respective pixel regions, and may be arranged to have different colors between adjacent pixels.

상기 오버 코팅층(160)은 상기 컬러 필터(CF)와 상기 컬러 필터(CF)가 덮고 있지 않은 상기 차광 패턴(BM)의 하부에 배치된다. 상기 오버 코팅층(160)은 상기 컬러 필터(CF)를 평탄화하면서, 상기 컬러 필터(CF)를 보호하는 역할과 절연하는 역할을 하며 아크릴계 에폭시 재료를 이용하여 형성될 수 있다.The overcoat layer 160 is disposed below the color filter CF and the light blocking pattern BM not covered with the color filter CF. The overcoat layer 160 serves to protect and protect the color filter CF while flattening the color filter CF. The overcoat layer 160 may be formed using an acrylic epoxy material.

상기 공통 전극(CE)은 화소 영역에 대응되게 배치된다. 상기 공통 전극(CE)은 공통 라인(미도시)과 전기적으로 연결된다. 상기 공통 전극(CE)은 복수의 개구를 갖는 슬릿 패턴을 포함할 수 있다. 상기 공통 전극(CE)은 투명 도전 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 공통 전극(CE)은 산화 인듐 주석(indium tin oxide: ITO) 또는 산화 아연 주석(indium zinc oxide: IZO)을 포함할 수 있다.The common electrode CE is disposed corresponding to the pixel region. The common electrode CE is electrically connected to a common line (not shown). The common electrode CE may include a slit pattern having a plurality of openings. The common electrode CE may include a transparent conductive material. For example, the common electrode CE may include indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

상기 제1 기판(100)은 컬럼 스페이서(CS)를 더 포함할 수 있다. 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판의 간격을 유지하기 위한 상기 컬럼 스페이서(CS)는 상기 제1 기판의 상기 차광 패턴(BM) 상부에 배치된다. 이와 다르게, 상기 컬럼 스페이서(column spacer)(CS)는 상기 제1 기판(100)이 아닌 상기 제2 기판(200)에 포함될 수 있다.The first substrate 100 may further include a column spacer CS. The column spacer CS for maintaining the gap between the first substrate and the second substrate is disposed on the light blocking pattern BM of the first substrate. Alternatively, the column spacer CS may be included in the second substrate 200 instead of the first substrate 100.

상기 액정층(LC)은 상기 어레이 기판 및 상기 대향 기판 사이에 배치된다. 상기 액정층(LC)은 광학적 이방성을 갖는 액정 분자들을 포함한다. 상기 액정 분자들은 전계에 의해 구동되어 상기 액정층(LC)을 지나는 광을 투과시키거나 차단시켜 영상을 표시한다.The liquid crystal layer (LC) is disposed between the array substrate and the counter substrate. The liquid crystal layer LC includes liquid crystal molecules having optical anisotropy. The liquid crystal molecules are driven by an electric field to transmit or block light passing through the liquid crystal layer LC to display an image.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 패널을 도시한 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a display panel according to another embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 상기 표시 패널은 복수의 선형 패턴(320) 및 반사 패턴(330)을 포함하는 제3 편광 소자를 제외하고 도 4의 표시 패널과 실질적으로 동일하므로 중복되는 설명은 생략하거나 간략히 한다. 5, the display panel is substantially the same as the display panel of FIG. 4 except for a third polarizing element including a plurality of linear patterns 320 and a reflective pattern 330, so that redundant description is omitted or simplified do.

제1 기판은 제3 베이스 기판(310), 제3 편광 소자, 절연막(340), 컬러 필터(CF), 오버 코팅층(160), 공통 전극(CE) 및 컬럼 스페이서(CS)를 포함한다.The first substrate includes a third base substrate 310, a third polarizing element, an insulating layer 340, a color filter CF, an overcoat layer 160, a common electrode CE, and a column spacer CS.

상기 제3 베이스 기판(310)은 투과성, 내열성, 내화학성 등이 우수한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제3 베이스 기판(310)은 광 투과력이 우수한 유리, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리아크릴 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The third base substrate 310 may include a material having excellent permeability, heat resistance, and chemical resistance. For example, the third base substrate 310 may include any one of glass, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, and polyacryl.

상기 제3 편광 소자는 상기 제3 베이스 기판(310) 상에 배치된다. 상기 제3 편광 소자는 서로 이격된 복수의 선형 패턴(320) 및 상기 선형 패턴(320)과 동일한 층에 배치된 반사 패턴(330)을 포함한다.The third polarizing element is disposed on the third base substrate 310. The third polarizing element includes a plurality of linear patterns 320 spaced from each other and a reflection pattern 330 disposed on the same layer as the linear pattern 320.

상기 복수의 선형 패턴(320)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다.The plurality of linear patterns 320 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni.

상기 제3 편광 소자의 선형 패턴(320)은 상기 제1 기판(300)의 컬러 영역(CA)에 배치된다.The linear pattern 320 of the third polarizing element is disposed in the color area CA of the first substrate 300.

상기 반사 패턴(330)은 상기 제1 기판(300)의 차광 영역(BA)에 배치된다. The reflective pattern 330 is disposed in the light shielding area BA of the first substrate 300.

상기 반사 패턴(330)은 평탄한 면을 가지며, 상기 스위칭 소자(SW)와 중첩한다. 상기 반사 패턴(330)은 상기 선형 패턴(320)과 동일한 층에 배치된다. 상기 반사 패턴(330)은 상기 선형 패턴(320)과 동일한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 반사 패턴(330)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다. 다른 실시예에서, 상기 반사 패턴(330)은 복수 개의 판형 물질들이 적층된 적층 구조를 가질 수 있다.The reflection pattern 330 has a flat surface and overlaps with the switching element SW. The reflective pattern 330 is disposed on the same layer as the linear pattern 320. The reflective pattern 330 may include the same material as the linear pattern 320. For example, the reflective pattern 330 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni. . In another embodiment, the reflective pattern 330 may have a laminated structure in which a plurality of plate materials are stacked.

상기 선형 패턴(320) 및 상기 반사 패턴(330)은 백색 영역(WA)에는 배치되지 않는다.The linear pattern 320 and the reflection pattern 330 are not disposed in the white region WA.

상기 절연막(340)은 상기 제3 편광 소자를 커버한다. 상기 절연막(340)은 실리콘 산화물(SiOx)을 포함할 수 있다.The insulating layer 340 covers the third polarizing element. The insulating layer 340 may include silicon oxide (SiOx).

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 패널을 도시한 단면도이다.6 is a cross-sectional view illustrating a display panel according to another embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 상기 표시 패널은 제4 편광 소자 및 제5 편광 소자를 제외하고 도 4의 표시 패널과 실질적으로 동일하므로 중복되는 설명은 생략하거나 간략히 한다. Referring to FIG. 6, the display panel is substantially the same as the display panel of FIG. 4, except for the fourth polarizing element and the fifth polarizing element, so that redundant description is omitted or simplified.

제1 기판은 제4 베이스 기판(410), 제4 편광 소자, 절연막(440), 차광 패턴(BM), 컬러 필터(CF), 오버 코팅층(460), 공통 전극(CE) 및 컬럼 스페이서(CS)를 포함한다.The first substrate includes a fourth base substrate 410, a fourth polarizer, an insulating film 440, a light blocking pattern BM, a color filter CF, an overcoat layer 460, a common electrode CE, and a column spacer CS ).

상기 제4 베이스 기판(410)은 투과성, 내열성, 내화학성 등이 우수한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제4 베이스 기판(410)은 광 투과력이 우수한 유리, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리아크릴 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The fourth base substrate 410 may include a material having excellent permeability, heat resistance, and chemical resistance. For example, the fourth base substrate 410 may include any one of glass, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, and polyacryl.

상기 제4 편광 소자는 상기 제4 베이스 기판(410) 상에 배치된다. 상기 제3 편광 소자는 서로 이격된 복수의 선형 패턴(420)을 포함한다.The fourth polarizing element is disposed on the fourth base substrate 410. The third polarizing element includes a plurality of linear patterns 420 spaced from each other.

상기 복수의 선형 패턴(420)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다.The plurality of linear patterns 420 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni.

상기 제4 편광 소자의 선형 패턴(420)은 상기 제1 기판(600)의 컬러 영역(CA) 및 백색 영역(WA)에 배치된다. 상기 선형 패턴(420)은 차광 영역(BA)에는 배치되지 않는다.The linear pattern 420 of the fourth polarizing element is disposed in the color region CA and the white region WA of the first substrate 600. The linear pattern 420 is not disposed in the light blocking area BA.

상기 절연막(440)은 상기 제4 편광 소자를 커버한다. 상기 절연막(440)은 실리콘 산화물(SiOx)을 포함할 수 있다.The insulating film 440 covers the fourth polarizing element. The insulating layer 440 may include silicon oxide (SiOx).

상기 차광 패턴(BM)은 상기 절연막(440) 상에 배치된다. 상기 차광 패턴(BM)은 무기 흑색 착색제 또는 유기 흑색 착색제 등의 흑색 재질을 포함할 수 있다. 상기 흑색 착색제는, 예를 들어, 카본 블랙, 유/무기 안료, 또는 유색(R, G, B) 혼합 안료 등의 착색제를 포함함으로써 블랙을 나타낼 수 있다. 또한, 상기 차광 패턴은 유기 물질을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 차광 패턴은 상기 흑색 재질 및, 아크릴 수지 등과 같은 바인더 수지를 포함할 수 있다.The light blocking pattern BM is disposed on the insulating film 440. The light blocking pattern BM may include a black material such as an inorganic black colorant or an organic black colorant. The black colorant may represent black, for example, by including coloring agents such as carbon black, organic / inorganic pigments, or colored (R, G, B) mixed pigments. The light-shielding pattern may further include an organic material. For example, the light shielding pattern may include the black material and a binder resin such as an acrylic resin.

제 2 기판은 제5 베이스 기판(510), 제5 편광 소자, 절연막(540), 보호층(560) 및 화소 전극(PE)을 포함한다.The second substrate includes a fifth base substrate 510, a fifth polarizing element, an insulating layer 540, a passivation layer 560, and a pixel electrode PE.

상기 제5 베이스 기판(510)은 투과성, 내열성, 내화학성 등이 우수한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제5 베이스 기판(510)은 광 투과력이 우수한 유리, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리아크릴 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The fifth base substrate 510 may include a material having excellent permeability, heat resistance, and chemical resistance. For example, the fifth base substrate 510 may include any one of glass, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate and polyacryl.

상기 제5 편광 소자는 상기 제5 베이스 기판(510) 상에 배치된다. 상기 제2 편광 소자는 서로 이격된 복수의 선형 패턴(520)을 포함한다. 상기 복수의 선형 패턴(520)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다.The fifth polarizing element is disposed on the fifth base substrate 510. The second polarizing element includes a plurality of linear patterns 520 spaced from each other. The plurality of linear patterns 520 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni.

상기 제5 편광 소자의 선형 패턴(520)은 상기 제2 기판(500)의 컬러 영역(CA) 및 백색 영역(WA)에 배치된다. 상기 선형 패턴(520)은 차광 영역(BA)에는 배치되지 않는다.The linear pattern 520 of the fifth polarizing element is disposed in the color area CA and the white area WA of the second substrate 500. The linear pattern 520 is not disposed in the light blocking area BA.

상기 제1 기판의 선형 패턴(420)은 제1 방향으로 연장되고, 상기 제2 기판의 선형 패턴(520)은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장될 수 있다.The linear pattern 420 of the first substrate may extend in a first direction and the linear pattern 520 of the second substrate may extend in a second direction that intersects the first direction.

예를 들어, 전압이 인가되지 않았을 때 빛이 차단되어 최저 휘도를 가지는 노멀리 블랙 상태의 표시 패널에서, 상기 제1 기판의 선형 패턴(420)이 제1 방향으로 연장되고, 상기 제2 기판의 선형 패턴(520)이 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되는 경우, 전원 off 시 표시 패널의 백색 영역(WA)에 배치된 선형 패턴(420, 520)은 빛을 반사하여 거울 역할을 한다. 또한, 전원 on 상태의 표시 패널의 백색 영역(WA)에 배치된 선형 패턴(420, 520)은 빛을 투과하여 투명 디스플레이 역할을 한다.For example, in a display panel in a normally black state having a lowest luminance due to light being cut off when no voltage is applied, the linear pattern 420 of the first substrate extends in a first direction, When the linear pattern 520 extends in the second direction crossing the first direction, the linear patterns 420 and 520 arranged in the white area WA of the display panel at the time of power off reflect light and serve as mirrors do. In addition, the linear patterns 420 and 520 disposed in the white region WA of the display panel in the power-on state transmit light to function as a transparent display.

상기 제1 기판의 선형 패턴(420)은 제1 방향으로 연장되고, 상기 제2 기판의 선형 패턴(520)은 상기 제1 방향과 평행한 방향으로 연장될 수 있다.The linear pattern 420 of the first substrate may extend in a first direction and the linear pattern 520 of the second substrate may extend in a direction parallel to the first direction.

예를 들어, 전압이 인가되지 않았을 때 빛이 투과하여 최대 휘도를 가지는 노멀리 화이트 상태의 표시 패널에서, 상기 제1 기판의 선형 패턴(420)이 제1 방향으로 연장되고, 상기 제2 기판의 선형 패턴(520)이 상기 제1 방향과 평행한 방향으로 연장되는 경우, 전원 off 시 표시 패널의 백색 영역(WA)에 배치된 선형 패턴(420, 520)은 빛을 일부 반사하고 빛을 일부 투과하여 반투명 디스플레이 역할을 한다. 또한, 전원 on 상태의 표시 패널의 백색 영역(WA)에 배치된 선형 패턴(420, 520)은 빛을 투과하여 투명 디스플레이 역할을 한다.For example, in a normally white display panel having a maximum luminance through which light is transmitted when no voltage is applied, the linear pattern 420 of the first substrate extends in a first direction, When the linear pattern 520 extends in a direction parallel to the first direction, the linear patterns 420 and 520 arranged in the white area WA of the display panel at the time of power off partially reflect light partially, And serves as a translucent display. In addition, the linear patterns 420 and 520 disposed in the white region WA of the display panel in the power-on state transmit light to function as a transparent display.

상기 절연막(540)은 상기 제5 편광 소자를 커버한다. 상기 절연막(540)은 실리콘 산화물(SiOx)을 포함할 수 있다.The insulating layer 540 covers the fifth polarizing element. The insulating layer 540 may include silicon oxide (SiOx).

상기 스위칭 소자(SW) 및 상기 화소 전극(PE)은 컬러 필터(CF)와 중첩하는 컬러 영역(CA)에 배치된다. 상기 스위칭 소자(SW)는 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하고, 상기 화소 전극(PE)은 상기 스위칭 소자(SW)의 드레인 전극에 전기적으로 연결된다.The switching element SW and the pixel electrode PE are arranged in a color area CA overlapping with the color filter CF. The switching element SW includes a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode, and the pixel electrode PE is electrically connected to the drain electrode of the switching element SW.

상기 보호층(560)은 상기 스위칭 소자(SW) 및 상기 절연막(240) 상에 배치된다. 상기 보호층(560)은 실리콘 질화물(SiNx) 또는 실리콘 산화물(SiOx)등의 무기 물질로 형성될 수도 있고, 저유전율 유기 절연막으로 형성될 수도 있다. 또한, 무기 절연막과 유기 절연막의 이중 막으로 형성될 수도 있다. The protective layer 560 is disposed on the switching element SW and the insulating layer 240. The passivation layer 560 may be formed of an inorganic material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx), or may be formed of a low dielectric constant organic insulating film. It may also be formed of a double film of an inorganic insulating film and an organic insulating film.

상기 화소 전극(PE)은 상기 보호층(560) 상에 배치된다. 상기 화소 전극(PE) 은 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 연결된다. 상기 화소 전극(PE)은 복수의 개구를 갖는 슬릿 패턴을 포함할 수 있다. 상기 화소 전극(PE)은 투명 도전 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 화소 전극(PE)은 산화 인듐 주석(indium tin oxide: ITO) 또는 산화 아연 주석(indium zinc oxide: IZO)을 포함할 수 있다.The pixel electrode PE is disposed on the protective layer 560. The pixel electrode PE is connected to the drain electrode through a contact hole. The pixel electrode PE may include a slit pattern having a plurality of openings. The pixel electrode PE may include a transparent conductive material. For example, the pixel electrode PE may include indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 패널을 도시한 단면도이다.7 is a cross-sectional view illustrating a display panel according to another embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 상기 표시 패널은 제6 편광 소자 및 제7 편광 소자를 제외하고 도 4의 표시 패널과 실질적으로 동일하므로 중복되는 설명은 생략하거나 간략히 한다. Referring to FIG. 7, the display panel is substantially the same as the display panel of FIG. 4, except for the sixth polarizing element and the seventh polarizing element, so that redundant description is omitted or simplified.

제1 기판은 제6 베이스 기판(610), 제6 편광 소자, 절연막(640), 컬러 필터(CF), 오버 코팅층(660), 공통 전극(CE) 및 컬럼 스페이서(CS)를 포함한다.The first substrate includes a sixth base substrate 610, a sixth polarizing element, an insulating film 640, a color filter CF, an overcoat layer 660, a common electrode CE, and a column spacer CS.

상기 제6 베이스 기판(610)은 투과성, 내열성, 내화학성 등이 우수한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제6 베이스 기판(610)은 광 투과력이 우수한 유리, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리아크릴 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The sixth base substrate 610 may include a material having excellent permeability, heat resistance, and chemical resistance. For example, the sixth base substrate 610 may include any one of glass, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, and polyacryl.

상기 제6 편광 소자는 상기 제6 베이스 기판(610) 상에 배치된다. 상기 제6 편광 소자는 서로 이격된 복수의 선형 패턴(620) 및 상기 선형 패턴(620)과 동일한 층에 배치된 반사 패턴(630)을 포함한다.The sixth polarizing element is disposed on the sixth base substrate 610. The sixth polarizing element includes a plurality of linear patterns 620 spaced from each other and a reflection pattern 630 disposed on the same layer as the linear pattern 620.

상기 복수의 선형 패턴(620)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다.The plurality of linear patterns 620 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni.

상기 제6 편광 소자의 선형 패턴(620)은 상기 제1 기판(600)의 컬러 영역(CA) 및 백색 영역(WA)에 배치된다.The linear pattern 620 of the sixth polarizing element is disposed in the color area CA and the white area WA of the first substrate 600. [

상기 반사 패턴(630)은 상기 제1 기판(600)의 차광 영역(BA)에 배치된다. The reflective pattern 630 is disposed in the light shielding area BA of the first substrate 600.

상기 반사 패턴(630)은 평탄한 면을 가지며, 상기 스위칭 소자(SW)와 중첩한다. 상기 반사 패턴(630)은 상기 선형 패턴(620)과 동일한 층에 배치된다. 상기 반사 패턴(630)은 상기 선형 패턴(620)과 동일한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 반사 패턴(630)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다. 다른 실시예에서, 상기 반사 패턴(630)은 복수 개의 판형 물질들이 적층된 적층 구조를 가질 수 있다.The reflection pattern 630 has a flat surface and overlaps with the switching element SW. The reflective pattern 630 is disposed on the same layer as the linear pattern 620. The reflective pattern 630 may include the same material as the linear pattern 620. For example, the reflective pattern 630 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni. . In another embodiment, the reflection pattern 630 may have a laminated structure in which a plurality of plate materials are stacked.

상기 절연막(640)은 상기 제6 편광 소자를 커버한다. 상기 절연막(640)은 실리콘 산화물(SiOx)을 포함할 수 있다.The insulating layer 640 covers the sixth polarizing element. The insulating layer 640 may include silicon oxide (SiOx).

제 2 기판은 제5 베이스 기판(510), 제7 편광 소자, 절연막(540), 보호층(560) 및 화소 전극(PE)을 포함한다.The second substrate includes a fifth base substrate 510, a seventh polarization element, an insulating film 540, a protective layer 560, and a pixel electrode PE.

상기 제5 베이스 기판(510)은 투과성, 내열성, 내화학성 등이 우수한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제5 베이스 기판(510)은 광 투과력이 우수한 유리, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리아크릴 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The fifth base substrate 510 may include a material having excellent permeability, heat resistance, and chemical resistance. For example, the fifth base substrate 510 may include any one of glass, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate and polyacryl.

상기 제7 편광 소자는 상기 제5 베이스 기판(510) 상에 배치된다. 상기 제2 편광 소자는 서로 이격된 복수의 선형 패턴(520)을 포함한다. 상기 복수의 선형 패턴(520)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다.The seventh polarization element is disposed on the fifth base substrate 510. The second polarizing element includes a plurality of linear patterns 520 spaced from each other. The plurality of linear patterns 520 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni.

상기 제7 편광 소자의 선형 패턴(520)은 상기 제2 기판(500)의 컬러 영역(CA) 및 백색 영역(WA)에 배치된다. 상기 선형 패턴(520)은 차광 영역(BA)에는 배치되지 않는다.The linear pattern 520 of the seventh polarizing element is disposed in the color area CA and the white area WA of the second substrate 500. The linear pattern 520 is not disposed in the light blocking area BA.

상기 절연막(540)은 상기 제7 편광 소자를 커버한다. 상기 절연막(540)은 실리콘 산화물(SiOx)을 포함할 수 있다.The insulating film 540 covers the seventh polarizing element. The insulating layer 540 may include silicon oxide (SiOx).

상기 스위칭 소자(SW) 및 상기 화소 전극(PE)은 컬러 필터(CF)와 중첩하는 화소 영역(CA)에 배치된다. 상기 스위칭 소자(SW)는 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하고, 상기 화소 전극(PE)은 상기 스위칭 소자(SW)의 드레인 전극에 전기적으로 연결된다.The switching element SW and the pixel electrode PE are disposed in the pixel region CA overlapping the color filter CF. The switching element SW includes a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode, and the pixel electrode PE is electrically connected to the drain electrode of the switching element SW.

상기 보호층(560)은 상기 스위칭 소자(SW) 및 상기 절연막(240) 상에 배치된다. 상기 보호층(560)은 실리콘 질화물(SiNx) 또는 실리콘 산화물(SiOx)등의 무기 물질로 형성될 수도 있고, 저유전율 유기 절연막으로 형성될 수도 있다. 또한, 무기 절연막과 유기 절연막의 이중 막으로 형성될 수도 있다. The protective layer 560 is disposed on the switching element SW and the insulating layer 240. The passivation layer 560 may be formed of an inorganic material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx), or may be formed of a low dielectric constant organic insulating film. It may also be formed of a double film of an inorganic insulating film and an organic insulating film.

상기 화소 전극(PE)은 상기 보호층(560) 상에 배치된다. 상기 화소 전극(PE) 은 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 연결된다. 상기 화소 전극(PE)은 복수의 개구를 갖는 슬릿 패턴을 포함할 수 있다. 상기 화소 전극(PE)은 투명 도전 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 화소 전극(PE)은 산화 인듐 주석(indium tin oxide: ITO) 또는 산화 아연 주석(indium zinc oxide: IZO)을 포함할 수 있다.The pixel electrode PE is disposed on the protective layer 560. The pixel electrode PE is connected to the drain electrode through a contact hole. The pixel electrode PE may include a slit pattern having a plurality of openings. The pixel electrode PE may include a transparent conductive material. For example, the pixel electrode PE may include indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

도 8a 내지 도 8h는 본 발명의 일 실시예에 따른 편광 소자의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.8A to 8H are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a polarizing element according to an embodiment of the present invention.

도 8a를 참조하면, 기판(10) 상에 금속층(12)을 형성한다. 상기 기판(10)은 투과성, 내열성, 내화학성 등이 우수한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 기판(10)은 광 투과력이 우수한 유리, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리아크릴 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 상기 금속층(12)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 및 니켈(Ni) 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다. 상기 금속층(12)은 증착되어 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 금속층(12)은 화학 기상 증착(chemical vapor deposition)에 의해 형성될 수 있다. Referring to FIG. 8A, a metal layer 12 is formed on a substrate 10. The substrate 10 may include a material having excellent permeability, heat resistance, and chemical resistance. For example, the substrate 10 may include any one of glass, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, and polyacrylic which is excellent in light transmittance. The metal layer 12 may include at least one of aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), chromium (Cr), iron (Fe), and nickel (Ni). The metal layer 12 may be formed by vapor deposition. For example, the metal layer 12 may be formed by chemical vapor deposition.

도 8b를 참조하면, 상기 금속층(12) 상에 하드 마스크(14)를 형성한다. 상기 하드 마스크(14)는 실리콘 산화물(SiOx)을 포함할 수 있다. 예를 들면, 이산화 규소(SiO2)를 포함할 수 있다. 상기 하드 마스크는 증착되어 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 하드 마스크(14)는 화학 기상 증착(chemical vapor deposition)에 의해 형성될 수 있다. Referring to FIG. 8B, a hard mask 14 is formed on the metal layer 12. The hard mask 14 may comprise silicon oxide (SiOx). For example, silicon dioxide (SiO2). The hard mask may be deposited and formed. For example, the hard mask 14 may be formed by chemical vapor deposition.

도 8c를 참조하면, 상기 하드 마스크(14) 상에 고분자층을 형성한다. 상기 고분자층은 프린팅(printing) 또는 잉크젯 프린팅(inkjet printing, IKJ)하여 형성될 수 있다. 상기 고분자층이 두께 변화를 가질 수 있도록, 영역에 따라 서로 다른 양의 액적(16)이 제공될 수 있다. Referring to FIG. 8C, a polymer layer is formed on the hard mask 14. The polymer layer may be formed by printing or inkjet printing (IKJ). Depending on the region, different amounts of droplets 16 may be provided so that the polymer layer can have a thickness variation.

상기 액적(16)을 형성하는 잉크 조성물은 당해 기술 분야에서 사용되는 일반적인 열경화성 수지(thermosetting resin) 또는 광경화성 수지(photocurable resin)를 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 열경화성 수지는 요소수지, 멜라민수지 및 페놀수지 등을 포함할 수 있다. 또한 상기 광경화성 수지는 중합성 관능기를 갖는 중합성 화합물, 광조사에 의해 상기 중합성 화합물의 중합 반응을 개시시키는 광중합 개시제, 계면 활성제 및 산화 방지제 등을 포함할 수 있으며 이에 한정되는 것은 아니다.The ink composition forming the droplets 16 may comprise conventional thermosetting resins or photocurable resins used in the art. For example, the thermosetting resin may include a urea resin, a melamine resin, a phenol resin, and the like. The photocurable resin may include a polymerizable compound having a polymerizable functional group, a photopolymerization initiator that initiates the polymerization reaction of the polymerizable compound by light irradiation, a surfactant, an antioxidant, and the like, but is not limited thereto.

도 8d를 참조하면, 상기 고분자층에 몰드(M)를 접촉시키고 상기 몰드(M)를 상기 기판(10) 방향으로 압력을 가하여 고분자층(16a)의 상면에 돌출부를 형성한다. 상기 몰드(M)는 연성을 갖는 몰드 또는 필름 형태의 몰드가 이용될 수 있다. 상기 몰드(M)는 복수의 홈들이 형성되어 있다. 따라서 상기 고분자층(16a)에는 상기 몰드(M)와 반대되는 형상을 갖는 복수의 돌출부들이 형성된다.8D, a mold M is brought into contact with the polymer layer, and a pressure is applied to the mold M in the direction of the substrate 10 to form a protrusion on the upper surface of the polymer layer 16a. The mold M may be a mold having a ductility or a mold in the form of a film. The mold M is formed with a plurality of grooves. Accordingly, a plurality of protrusions having a shape opposite to the mold M are formed on the polymer layer 16a.

상기 고분자층(16a)이 열경화성 수지를 포함하는 경우, 상기 몰드(M)는 금속 또는 열팽창 계수가 낮은 물질을 포함할 수 있고, 상기 고분자층(16a)이 광경화성 수지를 포함하는 경우, 상기 몰드(M)는 투명한 고분자 물질 또는 광투과율이 높고 강도가 높은 물질을 포함할 수 있다. When the polymer layer 16a includes a thermosetting resin, the mold M may include a metal or a material having a low coefficient of thermal expansion. When the polymer layer 16a includes a photo-curable resin, (M) may comprise a transparent polymeric material or a material with high light transmittance and high strength.

상기 고분자층(16a)이 열경화성 수지를 포함하는 경우, 상기 몰드(M)를 상기 고분자층(16a)에 접촉시킨 후, 상기 고분자층(150)을 상기 열경화성 수지의 유리 전이 온도(glass transition temperature) 보다 높게 가열하여 고분자의 유동성을 제공한 후, 상기 몰드(M)를 이용해 상기 고분자층(16a)에 압력을 가하여 상기 몰드(M)의 패턴이 상기 고분자층(16a)으로 전사되도록 한다. 이후 상기 고분자층(16)을 상기 유리 전이 온도(glass transition temperature) 이하로 냉각하여 상기 고분자층(16a)을 경화시킨다.When the polymer layer 16a includes a thermosetting resin, the polymer layer 150 is brought into contact with the glass transition temperature of the thermosetting resin after the mold M is brought into contact with the polymer layer 16a, The polymer M is heated to a higher temperature to provide the fluidity of the polymer and a pressure is applied to the polymer layer 16a using the mold M so that the pattern of the mold M is transferred to the polymer layer 16a. Then, the polymer layer 16 is cooled to the glass transition temperature or less to cure the polymer layer 16a.

상기 고분자층(16a)이 광경화성 수지를 포함하는 경우, 상기 몰드(M)를 상기 고분자층(16a)에 접촉시킨 후, 상기 몰드(M)를 이용해 상기 고분자층(16)에 압력을 가하여 상기 몰드(M)의 패턴이 상기 고분자층(16)으로 전사되도록 한다. 상기 몰드(M)는 광투과율이 높은 물질을 포함하므로 상기 몰드(M)를 통해 상기 고분자층(16a)에 광을 조사할 수 있다. 상기 고분자층(16)에 광을 조사하면 상기 고분자층(16a)은 경화된다.When the polymer layer 16a includes a photo-curable resin, the mold M is contacted with the polymer layer 16a, and then the polymer layer 16 is pressed using the mold M, So that the pattern of the mold (M) is transferred to the polymer layer (16). Since the mold M includes a material having high light transmittance, light can be irradiated to the polymer layer 16a through the mold M. When the polymer layer 16 is irradiated with light, the polymer layer 16a is cured.

상기 고분자층(16a)을 형성하는 과정에서, 영역에 따라 액적의 양이 다르므로, 상기 고분자층(16a)은 두께 변화를 갖는다. 예를 들어, 제1 영역(A1)에서의 상기 고분자층(16a)의 두께는, 제2 영역(A1)의 두께보다 작을 수 있다.In the course of forming the polymer layer 16a, since the amount of the droplet varies depending on the region, the polymer layer 16a has a thickness variation. For example, the thickness of the polymer layer 16a in the first region A1 may be smaller than the thickness of the second region A1.

도 8e를 참조하면, 경화된 상기 고분자층(16a)으로부터 상기 몰드(M)를 제거한다. Referring to FIG. 8E, the mold M is removed from the cured polymer layer 16a.

도 8f를 참조하면, 상기 고분자층(16a)을 식각한다. 상기 식각에 의해 상기 고분자층(16a)의 두께는 전체적으로 감소한다. 이에 따라, 상기 제1 영역(A1)의 돌출부가 잔류하여 제1 고분자 패턴(16b1)을 형성하고, 상기 제2 영역(A2)의 고분자층(16a)이 잔류하여 제2 고분자 패턴(16b2)을 형성한다. 도 8f에서, 상기 제2 고분자 패턴(16b2)은 평탄한 상면을 갖는 것으로 도시되었으나, 실질적으로 요철 형상의 상면을 가질 수 있다. 상기 제1 고분자 패턴(16b1)은 서로 이격된 복수의 선형 패턴을 포함하고, 인접하는 선형 패턴들 사이로, 상기 하드 마스크(14)의 상면이 노출된다.Referring to FIG. 8F, the polymer layer 16a is etched. The thickness of the polymer layer 16a is entirely reduced by the etching. The protrusion of the first region A1 remains to form the first polymer pattern 16b1 and the polymer layer 16a of the second region A2 remains to form the second polymer pattern 16b2 . In FIG. 8F, the second polymer pattern 16b2 is shown as having a flat upper surface, but may have a substantially concave-convex upper surface. The first polymer pattern 16b1 includes a plurality of linear patterns spaced from each other, and an upper surface of the hard mask 14 is exposed between adjacent linear patterns.

도 8g를 참조하면, 상기 제1 고분자 패턴(16a1) 및 상기 제2 고분자 패턴(16a2)을 마스크로 이용하여, 하드 마스크(14) 및 상기 금속층(12)을 패터닝 한다. 예를 들면, 상기 하드 마스크(14) 및 상기 금속층(12)은 건식 식각될 수 있다. Referring to FIG. 8G, the hard mask 14 and the metal layer 12 are patterned using the first polymer pattern 16a1 and the second polymer pattern 16a2 as a mask. For example, the hard mask 14 and the metal layer 12 may be dry etched.

도 8h를 참조하면, 잔류하는 고분자 패턴 및 하드 마스크(14)를 제거한다. 상기 하드 마스크(14)는 제거되지 않을 수도 있다. 잔류하는 금속층은 복수의 선형 패턴(20) 및 반사 패턴(30)을 형성한다. 상기 선형 패턴(20) 및 반사 패턴(30)의 크기는 상기 금속층(12)의 두께, 및 상기 몰드(M)의 폭을 조절하여 원하는 크기로 조절될 수 있다.Referring to FIG. 8H, the residual polymer pattern and the hard mask 14 are removed. The hard mask 14 may not be removed. The remaining metal layer forms a plurality of linear patterns (20) and reflection patterns (30). The size of the linear pattern 20 and the reflection pattern 30 can be adjusted to a desired size by adjusting the thickness of the metal layer 12 and the width of the mold M. [

편광 소자는 기판(10), 복수의 선형 패턴(20) 및 상기 금속 패턴(20)과 동일한 층에 배치된 반사 패턴(30)을 포함한다.The polarizing element includes a substrate 10, a plurality of linear patterns 20, and a reflection pattern 30 disposed in the same layer as the metal pattern 20.

상기 기판(10)은 투과성, 내열성, 내화학성 등이 우수한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 기판(10)은 광 투과력이 우수한 유리, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리아크릴 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The substrate 10 may include a material having excellent permeability, heat resistance, and chemical resistance. For example, the substrate 10 may include any one of glass, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, and polyacrylic which is excellent in light transmittance.

상기 선형 패턴(20)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다. The linear pattern 20 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni.

상기 선형 패턴(20)은 선폭을 갖고, 이웃하는 선형 패턴들은 이격 거리만큼 이격되어 있으며, 상기 선폭 및 이격 거리를 합한 피치(P)를 갖는다. 또한, 상기 선형 패턴들(20) 사이에 에어 갭을 포함할 수 있다. 상기 피치(P)는 약 50nm 내지 약 150nm일 수 있다.The linear pattern 20 has a line width, neighboring linear patterns are spaced apart from each other by a spacing distance, and the pitch P has a sum of the line width and the spacing distance. In addition, an air gap may be included between the linear patterns 20. The pitch P may be from about 50 nm to about 150 nm.

상기 편광 소자는 광이 투과 되어야 하는 부분에 복수의 선형 패턴(20)을 형성하고, 광이 투과되지 않는 부분에는 평탄한 면을 갖는 반사 패턴(30)을 형성한다.The polarizing element forms a plurality of linear patterns 20 at a portion through which light should be transmitted and a reflection pattern 30 having a flat surface at portions where light is not transmitted.

상기 반사 패턴(30)은 상기 선형 패턴(20)과 동일한 층에 배치된다. 상기 반사 패턴(30)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다.The reflective pattern 30 is disposed in the same layer as the linear pattern 20. [ The reflective pattern 30 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni.

도 9a 내지 도 9j는 본 발명의 다른 실시예에 따른 편광 소자의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.9A to 9J are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a polarizing element according to another embodiment of the present invention.

도 9a를 참조하면, 기판(10) 상에 금속층(12)을 형성한다. 상기 기판(10)은 투과성, 내열성, 내화학성 등이 우수한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 기판(10)은 광 투과력이 우수한 유리, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리아크릴 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 상기 금속층(12)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 및 니켈(Ni) 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다. 상기 금속층(12)은 증착되어 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 금속층(12)은 화학 기상 증착(chemical vapor deposition)에 의해 형성될 수 있다. Referring to FIG. 9A, a metal layer 12 is formed on a substrate 10. The substrate 10 may include a material having excellent permeability, heat resistance, and chemical resistance. For example, the substrate 10 may include any one of glass, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, and polyacrylic which is excellent in light transmittance. The metal layer 12 may include at least one of aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), chromium (Cr), iron (Fe), and nickel (Ni). The metal layer 12 may be formed by vapor deposition. For example, the metal layer 12 may be formed by chemical vapor deposition.

도 9b를 참조하면, 상기 금속층(12) 상에 하드 마스크(14)를 형성한다. 상기 하드 마스크(14)는 실리콘 산화물(SiOx)을 포함할 수 있다. 예를 들면, 이산화 규소(SiO2)를 포함할 수 있다. 상기 하드 마스크는 증착되어 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 하드 마스크(14)는 화학 기상 증착(chemical vapor deposition)에 의해 형성될 수 있다. Referring to FIG. 9B, a hard mask 14 is formed on the metal layer 12. The hard mask 14 may comprise silicon oxide (SiOx). For example, silicon dioxide (SiO2). The hard mask may be deposited and formed. For example, the hard mask 14 may be formed by chemical vapor deposition.

도 9c를 참조하면 상기 하드 마스크(14) 상에 고분자층(16)을 형성한다. 상기 고분자층(16)은 당해 기술 분야에서 사용되는 일반적인 열경화성 수지(thermosetting resin) 또는 광경화성 수지(photocurable resin)를 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 열경화성 수지는 요소수지, 멜라민수지 및 페놀수지 등을 포함할 수 있다. 또한 상기 광경화성 수지는 중합성 관능기를 포함하는 중합성 화합물, 광조사에 의해 상기 중합성 화합물의 중합 반응을 개시시키는 광중합 개시제, 계면 활성제 및 산화 방지제 등을 포함할 수 있으며 이에 한정되는 것은 아니다.Referring to FIG. 9C, a polymer layer 16 is formed on the hard mask 14. The polymer layer 16 may include a conventional thermosetting resin or a photocurable resin used in the related art. For example, the thermosetting resin may include a urea resin, a melamine resin, a phenol resin, and the like. The photocurable resin may include a polymerizable compound containing a polymerizable functional group, a photopolymerization initiator that initiates polymerization reaction of the polymerizable compound by light irradiation, a surfactant, an antioxidant, and the like, but is not limited thereto.

도 9d를 참조하면, 상기 고분자층(16) 상에 몰드(M)를 접촉시키고 상기 몰드(M)를 상기 기판(10) 방향으로 압력을 가하여 상기 고분자층의 상면에 돌출부(16a)를 형성한다. 상기 몰드(M)는 복수의 홈들이 형성되어 있다. 따라서 상기 고분자층(16)에는 상기 몰드(M)와 반대되는 형상을 갖는 복수의 돌출부들이 형성된다.9D, a mold M is brought into contact with the polymer layer 16, and a pressure is applied to the mold M in the direction of the substrate 10 to form a protrusion 16a on the upper surface of the polymer layer . The mold M is formed with a plurality of grooves. Accordingly, a plurality of protrusions having a shape opposite to the mold M are formed on the polymer layer 16.

상기 고분자층(16)이 열경화성 수지를 포함하는 경우, 상기 몰드(M)는 금속 또는 열팽창 계수가 낮은 물질을 포함할 수 있고, 상기 고분자층(16)이 광경화성 수지를 포함하는 경우, 상기 몰드(M)는 투명한 고분자 물질 또는 광투과율이 높고 강도가 높은 물질을 포함할 수 있다. When the polymer layer 16 includes a thermosetting resin, the mold M may include a metal or a material having a low coefficient of thermal expansion. When the polymer layer 16 includes a photocurable resin, (M) may comprise a transparent polymeric material or a material with high light transmittance and high strength.

상기 고분자층(16)이 열경화성 수지를 포함하는 경우, 상기 몰드(M)를 상기 고분자층(16)에 접촉시킨 후, 상기 고분자층(16)을 상기 열경화성 수지의 유리 전이 온도(glass transition temperature) 보다 높게 가열하여 고분자의 유동성을 제공한 후, 상기 몰드(M)를 이용해 상기 고분자층(16)에 압력을 가하여 상기 몰드(M)의 패턴이 상기 고분자층(16)으로 전사되도록 한다. 이후 상기 고분자층(16)을 상기 유리 전이 온도(glass transition temperature) 이하로 냉각하여 상기 고분자층(16)을 경화 시킨다.When the polymer layer 16 includes a thermosetting resin, the polymer layer 16 is brought into contact with the glass transition temperature of the thermosetting resin after the mold M is brought into contact with the polymer layer 16, The mold M is heated to a higher pressure to apply the pressure to the polymer layer 16 so that the pattern of the mold M is transferred to the polymer layer 16. Thereafter, the polymer layer 16 is cooled to the glass transition temperature or less to cure the polymer layer 16.

상기 고분자층(16)이 광경화성 수지를 포함하는 경우, 상기 몰드(M)를 상기 고분자층(16)에 접촉시킨 후, 상기 몰드(M)를 이용해 상기 고분자층(M)에 압력을 가하여 상기 몰드(M)의 패턴이 상기 고분자층(16)으로 전사되도록 한다. 상기 몰드(M)는 광투과율이 높은 물질을 포함하므로 상기 몰드(M)를 통해 상기 고분자층(16)에 광을 조사할 수 있다. 상기 고분자층(16)에 광을 조사하면 상기 고분자층(16)은 경화된다.When the polymer layer 16 includes a photo-curing resin, the mold M is brought into contact with the polymer layer 16, and a pressure is applied to the polymer layer M using the mold M, So that the pattern of the mold (M) is transferred to the polymer layer (16). Since the mold M includes a material having a high light transmittance, light can be irradiated to the polymer layer 16 through the mold M. When the polymer layer 16 is irradiated with light, the polymer layer 16 is cured.

도 9e를 참조하면, 제1 영역(A1)은 고분자층(16a)의 복수의 선형 패턴이 형성되는 영역이다. 상기 제1 영역(A1)과 인접한 제2 영역(A1)은 고분자층(16a)의 복수의 선형 패턴을 형성하지 않는 영역이다.Referring to FIG. 9E, the first region A1 is a region where a plurality of linear patterns of the polymer layer 16a are formed. The second region A1 adjacent to the first region A1 is a region in which a plurality of linear patterns of the polymer layer 16a are not formed.

상기 제2 영역(A2)에 차광 마스크(BP)를 배치한다. 상기 차광 마스크(BP)는 열 또는 광 에너지를 차단한다. 따라서, 상기 차광 마스크(BP)가 배치된 제2 영역(A2)의 고분자층(16a)은 상기 차광 마스크(BP)에 의해 경화되지 않는다.A light blocking mask BP is disposed in the second area A2. The light blocking mask BP blocks heat or light energy. Therefore, the polymer layer 16a of the second region A2 in which the light-shielding mask BP is disposed is not cured by the light-shielding mask BP.

도 9f를 참조하면, 경화된 고분자층(16a)으로부터 상기 몰드(M)를 제거한다. 상기 차광 마스크(BP)가 배치된 제2 영역(A2)의 고분자층(16a)은 상기 몰드(M)가 제거될 때 함께 제거된다. 상기 차광 마스크(BP)가 배치되지 않은 제1 영역(A1)의 고분자층(16a)은 잔류하여 고분자 패턴(16b)을 형성한다.Referring to Fig. 9F, the mold M is removed from the cured polymer layer 16a. The polymer layer 16a of the second region A2 in which the light blocking mask BP is disposed is removed together when the mold M is removed. The polymer layer 16a of the first region A1 in which the light blocking mask BP is not disposed remains to form the polymer pattern 16b.

도 9g를 참조하면, 상기 고분자 패턴(16b) 상에 포토레지스트(PR)를 형성한다. 상기 포토레지스트(PR)는 포토레지스트 조성물을 코팅한 후, 하프톤 노광 등을 통하여 노광하고, 현상함으로써 형성될 수 있다.Referring to FIG. 9G, a photoresist PR is formed on the polymer pattern 16b. The photoresist PR may be formed by coating a photoresist composition and then exposing and developing the resist composition through a halftone exposure or the like.

도 9h를 참조하면, 애싱(ashing) 공정을 통하여, 상기 포토레지스트(PR)를 부분적으로 제거한다. Referring to FIG. 9H, the photoresist PR is partially removed through an ashing process.

도 9i를 참조하면, 잔류된 포토레지스트(PR)를 마스크로 이용하여 상기 고분자 패턴(16b), 상기 하드 마스크(14) 및 상기 금속층(12)을 패터닝 한다. 예를 들면, 상기 고분자 패턴(16b), 상기 하드 마스크(14) 및 상기 금속층(12)은 건식 식각될 수 있다.Referring to FIG. 9I, the polymer pattern 16b, the hard mask 14, and the metal layer 12 are patterned using the remaining photoresist PR as a mask. For example, the polymer pattern 16b, the hard mask 14, and the metal layer 12 may be dry-etched.

도 9j를 참조하면, 잔류하는 고분자 패턴(16b), 상기 하드 마스크(14) 및 포토레지스트(PR)를 제거한다. 잔류하는 금속층(12)은 복수의 선형 패턴(20) 및 반사 패턴(30)을 형성한다. 상기 선형 패턴(20) 및 반사 패턴(30)의 크기는 상기 금속층(12)의 두께, 및 상기 몰드(M)의 폭을 조절하여 원하는 크기로 조절될 수 있다.Referring to FIG. 9J, the residual polymer pattern 16b, the hard mask 14, and the photoresist PR are removed. The remaining metal layer 12 forms a plurality of linear patterns 20 and a reflective pattern 30. The size of the linear pattern 20 and the reflection pattern 30 can be adjusted to a desired size by adjusting the thickness of the metal layer 12 and the width of the mold M. [

편광 소자는 기판(10), 복수의 선형 패턴(20) 및 상기 금속 패턴(20)과 동일한 층에 배치된 반사 패턴(30)을 포함한다.The polarizing element includes a substrate 10, a plurality of linear patterns 20, and a reflection pattern 30 disposed in the same layer as the metal pattern 20.

상기 기판(10)은 투과성, 내열성, 내화학성 등이 우수한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 기판(10)은 광 투과력이 우수한 유리, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리아크릴 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The substrate 10 may include a material having excellent permeability, heat resistance, and chemical resistance. For example, the substrate 10 may include any one of glass, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, and polyacrylic which is excellent in light transmittance.

상기 선형 패턴(20)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다. The linear pattern 20 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni.

상기 선형 패턴(20)은 선폭을 갖고, 이웃하는 선형 패턴들은 이격 거리만큼 이격되어 있으며, 상기 선폭 및 이격 거리를 합한 피치(P)를 갖는다. 또한, 상기 선형 패턴들(20) 사이에 에어 갭을 포함할 수 있다. 상기 피치(P)는 약 50nm 내지 약 150nm일 수 있다.The linear pattern 20 has a line width, neighboring linear patterns are spaced apart from each other by a spacing distance, and the pitch P has a sum of the line width and the spacing distance. In addition, an air gap may be included between the linear patterns 20. The pitch P may be from about 50 nm to about 150 nm.

상기 편광 소자는 광이 투과 되어야 하는 부분에 복수의 선형 패턴(20)을 형성하고, 광이 투과되지 않는 부분에는 평탄한 면을 갖는 반사 패턴(30)을 형성한다.The polarizing element forms a plurality of linear patterns 20 at a portion through which light should be transmitted and a reflection pattern 30 having a flat surface at portions where light is not transmitted.

상기 반사 패턴(30)은 상기 선형 패턴(20)과 동일한 층에 배치된다. 상기 반사 패턴(30)은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 또는 니켈(Ni)을 포함할 수 있다.The reflective pattern 30 is disposed in the same layer as the linear pattern 20. [ The reflective pattern 30 may include Al, Au, Ag, Cu, Cr, Fe, or Ni.

본 발명의 실시예들에 따르면, 투명 디스플레이의 개구 영역 및 차광 영역에 따른 편광 소자의 유무에 따라 투과율을 향상시킬 수 있다.According to embodiments of the present invention, the transmittance can be improved according to the presence or absence of the polarizing element depending on the aperture region and the shielding region of the transparent display.

또한, 유기 물질을 포함하는 차광 패턴에 의해 표시 패널의 전체 반사율을 줄일 수 있다.Further, the total reflectance of the display panel can be reduced by the light-shielding pattern including the organic material.

또한, 차광 패턴과 편광 소자를 동일한 층에 형성하여 표시 패널의 두께를 줄일 수 있다.Further, the thickness of the display panel can be reduced by forming the shielding pattern and the polarizing element in the same layer.

또한, 상기 표시 패널은 평탄한 면을 갖는 반사 패턴을 포함하여 부분적으로 광을 반사시킬 수 있다. Further, the display panel may partially reflect light including a reflection pattern having a flat surface.

또한, 상기 편광 소자는 복수의 선형 패턴 및 상기 선형 패턴과 동일한 층에 형성되는 반사 패턴을 동시에 형성하여 반사 패턴을 형성하는 별도의 공정 비용을 줄일 수 있다.In addition, the polarizing element can reduce a separate processing cost for forming a plurality of linear patterns and a reflection pattern formed on the same layer as the linear pattern to form a reflection pattern.

이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. It will be possible.

10: 기판 20, 220, 320, 420, 520, 620: 선형 패턴
30, 230, 330, 630: 반사 패턴 PU: 단위 화소
CA1, CA2, CA3: 컬러 영역 WA: 백색 영역
D1: 제1 방향 D2: 제2 방향
BM: 차광 패턴 BA: 차광 영역
CA: 컬러 영역 CF: 컬러 필터
SW: 스위칭 소자 PE: 화소 전극
CE: 공통 전극 100, 300, 400, 600: 제1 기판
200, 500: 제2 기판
140, 240, 340, 440, 540, 640: 절연막10: substrate 20, 220, 320, 420, 520, 620: linear pattern
30, 230, 330, 630: reflection pattern PU: unit pixel
CA1, CA2, CA3: Color area WA: White area
D1: first direction D2: second direction
BM: Shading pattern BA: Shading area
CA: Color area CF: Color filter
SW: switching element PE: pixel electrode
CE: common electrode 100, 300, 400, 600: first substrate
200, 500: second substrate
140, 240, 340, 440, 540, 640:

Claims (19)

베이스 기판 상에 배치되어 복수의 개구 영역들을 정의하는 차광 패턴; 및
서로 이격되는 복수의 선형 패턴을 포함하는 편광 소자를 포함하며,
상기 개구 영역은 컬러 광을 투과 시키는 컬러 영역 및 백색 광을 투과 시키는 백색 영역을 포함하고, 상기 편광소자는 상기 컬러 영역 및 상기 백색 영역과 중첩하는 표시 기판.A light shielding pattern disposed on the base substrate to define a plurality of opening regions; And
A polarizing element including a plurality of linear patterns spaced from each other,
Wherein the opening region includes a color region transmitting color light and a white region transmitting white light, and the polarizing element superposes the color region and the white region. 제1항에 있어서, 상기 컬러 영역은 적색광, 녹색광 및 청색광을 투과시키는 컬러 필터를 포함하며, 상기 백색 영역은 컬러 필터가 형성되지 않은 영역인 것을 특징으로 하는 표시 기판.The display substrate according to claim 1, wherein the color region includes a color filter transmitting red light, green light, and blue light, and the white region is an area where no color filter is formed. 제1항에 있어서, 상기 편광 소자는 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 및 니켈(Ni) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판.The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the polarizing element includes at least one of aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), chromium (Cr), iron (Fe), and nickel And the display substrate. 제1항에 있어서, 상기 차광 패턴은 흑색 착색제 및 유기 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판.The display substrate according to claim 1, wherein the light shielding pattern comprises a black coloring agent and an organic material. 제1항에 있어서, 상기 편광 소자는 상기 차광 패턴이 배치된 영역에 배치되지 않는 것을 특징으로 하는 표시 기판.The display substrate according to claim 1, wherein the polarizing element is not disposed in a region where the light-shielding pattern is disposed. 제1항에 있어서, 상기 차광 패턴은 금속을 포함하는 반사 패턴을 포함하며, 상기 반사 패턴은 상기 편광 소자와 동일한 층에 배치되는 것을 특징으로 하는 표시 기판.The display substrate according to claim 1, wherein the light-shielding pattern includes a reflection pattern including a metal, and the reflection pattern is disposed on the same layer as the polarizing element. 제6항에 있어서 상기 반사 패턴은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 및 니켈(Ni) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판.The method according to claim 6, wherein the reflective pattern comprises at least one of aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), chromium (Cr), iron (Fe) . 제1 베이스 기판 상에 배치되어 복수의 개구 영역들을 정의하는 차광 패턴 및 서로 이격되는 복수의 선형 패턴을 포함하는 제1 편광 소자를 포함하는 제1 표시 기판; 및
제2 베이스 기판, 상기 제2 베이스 기판 상에 배치된 스위칭 소자 및 상기 제1 편광 소자와 중첩하며 서로 이격되는 복수의 선형 패턴을 포함하는 제2 편광 소자를 포함하며, 상기 제1 표시 기판과 대향하는 제2 표시 기판을 포함하고,
상기 개구 영역은 컬러 광을 투과 시키는 컬러 영역 및 백색 광을 투과 시키는 백색 영역을 포함하고, 상기 제1 편광 소자 및 상기 제2 편광 소자는 상기 컬러 영역 및 상기 백색 영역과 중첩하는 표시 패널.A first display substrate comprising a first polarizing element disposed on a first base substrate and including a light shielding pattern defining a plurality of aperture regions and a plurality of linear patterns spaced from each other; And
And a second polarizing element including a second base substrate, a switching element disposed on the second base substrate, and a plurality of linear patterns superimposed on and spaced from the first polarizing element, And a second display substrate,
Wherein the opening region includes a color region transmitting color light and a white region transmitting white light, and the first polarizing element and the second polarizing element overlap the color region and the white region. 제8항에 있어서, 상기 컬러 영역은 적색광, 녹색광 및 청색광을 투과시키는 컬러 필터를 포함하며, 상기 백색 영역은 컬러 필터가 형성되지 않은 것을 특징으로 하는 표시 패널. The display panel according to claim 8, wherein the color area includes a color filter transmitting red light, green light and blue light, and the white area is not formed with a color filter. 제8항에 있어서, 상기 제1 편광 소자 및 상기 제2 편광 소자는 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 및 니켈(Ni) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The liquid crystal display according to claim 8, wherein the first polarizing element and the second polarizing element are formed of a material selected from the group consisting of aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), chromium (Cr) Ni). ≪ / RTI > 제8항에 있어서, 상기 차광 패턴은 흑색 착색제 및 유기 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 8, wherein the light shielding pattern comprises a black colorant and an organic material. 제8항에 있어서, 상기 편광 소자는 상기 차광 패턴이 배치된 영역에 배치되지 않는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 8, wherein the polarizing element is not disposed in a region where the light-shielding pattern is disposed. 제8항에 있어서, 상기 차광 패턴은 금속을 포함하는 반사 패턴을 포함하며, 상기 반사 패턴은 상기 제1 편광 소자와 동일한 층에 배치되는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 8, wherein the light-shielding pattern includes a reflection pattern including a metal, and the reflection pattern is disposed on the same layer as the first polarizing element. 제8항에 있어서, 상기 반사 패턴은 상기 스위칭 소자와 중첩하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 8, wherein the reflection pattern overlaps with the switching element. 제14항에 있어서 상기 반사 패턴은 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe) 및 니켈(Ni) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널. 15. The method according to claim 14, wherein the reflective pattern comprises at least one of aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), chromium (Cr), iron (Fe) And the display panel. 제8항에 있어서, 상기 차광 패턴 상부에 배치되는 컬럼 스페이서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.The display panel according to claim 8, further comprising a column spacer disposed on the light shielding pattern. 기판 상에 금속층을 형성하는 단계;
상기 금속층 상에 하드 마스크를 형성하는 단계;
상기 하드 마스크 상에 영역에 따라 서로 다른 양의 액적을 갖는 고분자층을 형성하는 단계;
상기 고분자층에 몰드를 접촉시키고 압력을 가하여 상기 고분자층의 돌출부를 형성하는 단계;
서로 다른 두께를 갖는 고분자 패턴을 형성하는 단계; 및
잔류하는 고분자 패턴을 마스크로 이용하여 상기 하드 마스크 및 상기 금속층을 패터닝 하는 단계를 포함하는 편광 소자의 제조 방법.Forming a metal layer on the substrate;
Forming a hard mask on the metal layer;
Forming a polymer layer having different amounts of droplets on the hard mask according to the regions;
Forming a protrusion of the polymer layer by contacting the mold with the polymer layer and applying pressure thereto;
Forming a polymer pattern having different thicknesses; And
And patterning the hard mask and the metal layer using the remaining polymer pattern as a mask. 제17항에 있어서, 상기 고분자층은 열 또는 자외선에 의해 경화되는 것을 특징으로 하는 편광 소자의 제조 방법.The method of manufacturing a polarizing element according to claim 17, wherein the polymer layer is cured by heat or ultraviolet rays. 제17항에 있어서, 상기 고분자 패턴은 서로 이격된 복수의 선형 패턴을 포함하고, 인접하는 선형 패턴들 사이로 상기 하드 마스크의 상면이 노출 되는 것을 특징으로 하는 편광 소자의 제조 방법.
18. The method of claim 17, wherein the polymer pattern includes a plurality of linear patterns spaced from each other, and an upper surface of the hard mask is exposed between adjacent linear patterns.
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