JP2017004367A - Electrode-attached color filter substrate, display device including the same substrate, as well as manufacturing method of the same substrate and display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電極付きカラーフィルタ基板、電極付きカラーフィルタ基板を含む表示装置、ならびに電極付きカラーフィルタ基板及び電極付きカラーフィルタ基板を含む表示装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a color filter substrate with electrodes, a display device including a color filter substrate with electrodes, and a method for manufacturing a display device including a color filter substrate with electrodes and a color filter substrate with electrodes.
近年、カラー液晶表示装置は、液晶カラーテレビおよびノート型パーソナルコンピュータなどの用途において、大きな市場を形成するに至っている。また、携帯電話機、携帯情報端末、カーナビゲーションシステムなどの用途において、タッチパネルを液晶表示パネルと一体型で構成して、タッチパネルを画像情報の入力装置として使用する、タッチパネル式液晶ディスプレイが市場に普及してきた。 In recent years, color liquid crystal display devices have formed a large market in applications such as liquid crystal color televisions and notebook personal computers. In applications such as mobile phones, personal digital assistants, car navigation systems, etc., touch panel type liquid crystal displays that use a touch panel as an input device for image information, with the touch panel integrated with the liquid crystal display panel, have become popular in the market. It was.
タッチパネルは、その構造および検出方式の差異により、抵抗膜方式、静電容量方式、超音波方式、光学方式などの様々なタイプに分類される。静電容量方式タッチパネルは、1枚の基板上に配置され、複数の部分に分割された透光性導電膜(透光性電極)を有する。静電容量方式タッチパネルは、指またはペンが接触(タッチ)することによって形成される静電容量を介して流れる微弱電流量の変化を検出して、接触位置を特定する。タッチパネルは接触位置を入力信号として処理装置(パーソナルコンピュータ)に送信し、処理装置の出力信号に応じた内容を液晶表示装置に表示する。動作時の変形を伴わない静電容量型タッチパネルは、動作時の変形を伴う抵抗膜方式タッチパネルに比較して、優れた光学特性(高い透過率)、高い耐久性、優れた動作温度特性を有する。 The touch panel is classified into various types such as a resistive film method, a capacitance method, an ultrasonic method, and an optical method depending on the structure and detection method. The capacitive touch panel has a translucent conductive film (translucent electrode) arranged on a single substrate and divided into a plurality of portions. A capacitive touch panel detects a change in the amount of weak current flowing through a capacitance formed by contact (touch) of a finger or a pen, and specifies a contact position. The touch panel transmits the contact position as an input signal to a processing device (personal computer), and displays the content corresponding to the output signal of the processing device on the liquid crystal display device. Capacitive touch panels without deformation during operation have superior optical characteristics (high transmittance), high durability, and excellent operating temperature characteristics compared to resistive touch panels with deformation during operation. .
しかしながら、従来のタッチパネル式液晶ディスプレイは、タッチパネル電極を有するタッチパネル基板と、カラーフィルタを有するカラーフィルタ基板とを別個に作製し、それら基板を貼り合わせて製造されることが一般的であった(たとえば、特許文献1参照)。従来のタッチパネル式液晶ディスプレイでは、タッチパネル電極とカラーフィルタとの間に偏光板等が設けられていることから、タッチパネル電極とカラーフィルタとが異なる深さに形成されることに起因する斜め方向から操作したときの視差の発生のような表示性能面での問題点があった。 However, a conventional touch panel type liquid crystal display is generally manufactured by separately manufacturing a touch panel substrate having a touch panel electrode and a color filter substrate having a color filter, and bonding the substrates together (for example, , See Patent Document 1). In a conventional touch panel type liquid crystal display, since a polarizing plate is provided between the touch panel electrode and the color filter, the touch panel electrode and the color filter are operated from an oblique direction due to being formed at different depths. There is a problem in display performance such as generation of parallax.
また、従来のタッチパネル式液晶表示装置では、カラーフィルタ基板及び表示素子の基板について、それぞれ別個に基板の膜厚を減少させるスリミング加工を実施した後に両者を貼り合わせる場合、カラーフィルタ基板及び表示素子の基板自体が非常に薄いため、カラーフィルタ基板への電極形成の際に基板を破損してしまうおそれがあり、歩留まりよく表示装置の小型化を図ることができなかった。 Further, in the conventional touch panel type liquid crystal display device, when the color filter substrate and the display element substrate are bonded together after performing slimming processing to reduce the thickness of the substrate separately, Since the substrate itself is very thin, there is a possibility that the substrate may be damaged when the electrodes are formed on the color filter substrate, and the display device cannot be downsized with a high yield.
本発明は、カラーフィルタにタッチパネル用電極が取り付けられた構造体の外側に偏光板を配置することが可能であるため、カラーフィルタとタッチパネル用電極との間の距離を従来よりも短くすることが可能となり、それによって、斜め方向から操作したときの視差の発生を抑制することができる電極付きカラーフィルタ基板及びそれを用いた表示装置を提供することを目的とする。また、本発明は、カラーフィルタ基板及び表示素子を貼り合せた状態でスリミング加工を実施することで、基板を破損させずに小型化が可能な電極付きカラーフィルタ基板及びそれを用いた表示装置を提供することを目的とする。 In the present invention, since the polarizing plate can be disposed outside the structure in which the touch panel electrode is attached to the color filter, the distance between the color filter and the touch panel electrode can be made shorter than before. An object of the present invention is to provide a color filter substrate with an electrode and a display device using the same, which are capable of suppressing the occurrence of parallax when operated from an oblique direction. In addition, the present invention provides a color filter substrate with an electrode and a display device using the same that can be reduced in size without damaging the substrate by performing slimming processing with the color filter substrate and the display element bonded to each other. The purpose is to provide.
上記課題を解決するために、請求項1に記載の電極付きカラーフィルタ基板は、第1面と、前記第1面の反対側に設けられた第2面とを有する透明基板と、前記第2面上に設けられたカラーフィルタと、前記第1面上に形成された1または複数の第1電極と、前記第1面上に形成された1または複数の第2電極と、1または複数の絶縁膜と、を備えた電極付きカラーフィルタ基板であって、前記1または複数の第1電極の各々は、複数の第1拡張部及び1つまたは複数の第1接続部を有する第1タッチセンサ部と、第1取出配線部とを含み、隣接する2つの前記第1拡張部は前記第1接続部により接続され、前記1または複数の第2電極の各々は、複数の第2拡張部及び1つまたは複数の第2接続部を有する第2タッチセンサ部と、第2取出配線部とを含み、隣接する2つの前記第2拡張部は前記第2接続部により接続され、前記第1タッチセンサ部及び前記第2タッチセンサ部は、前記第1接続部および前記第2接続部において交差するように形成され、前記1または複数の絶縁膜の各々は、前記第1接続部および前記第2接続部が交差する部分において前記第1接続部を覆うように前記第1接続部上に形成され、前記第2接続部は、前記絶縁膜をまたぐように前記絶縁膜上に形成されていることを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problem, a color filter substrate with an electrode according to claim 1, a transparent substrate having a first surface and a second surface provided on the opposite side of the first surface, and the second A color filter provided on the surface, one or more first electrodes formed on the first surface, one or more second electrodes formed on the first surface, and one or more An electrode-equipped color filter substrate comprising an insulating film, wherein each of the one or more first electrodes includes a plurality of first extension portions and one or more first connection portions. And two first extension portions adjacent to each other are connected by the first connection portion, and each of the one or more second electrodes includes a plurality of second extension portions and A second touch sensor unit having one or a plurality of second connection units; Two adjacent second extension parts including the line part are connected by the second connection part, and the first touch sensor part and the second touch sensor part are the first connection part and the second connection part. Each of the one or more insulating films covers the first connection portion at a portion where the first connection portion and the second connection portion cross each other. The second connection part is formed on the insulating film so as to straddle the insulating film.
請求項2に記載の電極付きカラーフィルタ基板は、請求項1に記載の電極付きカラーフィルタ基板であって、前記透明基板は、ガラスおよび有機樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の材料を含むことを特徴とする。 The color filter substrate with an electrode according to claim 2 is the color filter substrate with an electrode according to claim 1, wherein the transparent substrate is made of at least one material selected from the group consisting of glass and organic resin. It is characterized by including.
請求項3に記載の電極付きカラーフィルタ基板は、請求項1又は2に記載の電極付きカラーフィルタ基板であって、前記透明基板は、複数のサブ基板の積層構造を有することを特徴とする。 A color filter substrate with an electrode according to claim 3 is the color filter substrate with an electrode according to claim 1 or 2, wherein the transparent substrate has a laminated structure of a plurality of sub-substrates.
請求項4に記載の電極付きカラーフィルタ基板は、請求項1乃至3のいずれかに記載の電極付きカラーフィルタ基板であって、前記サブ基板は、環状オレフィンコポリマーであることを特徴とする。 The color filter substrate with an electrode according to claim 4 is the color filter substrate with an electrode according to any one of claims 1 to 3, wherein the sub-substrate is a cyclic olefin copolymer.
請求項5に記載の電極付きカラーフィルタ基板は、請求項1乃至4のいずれかに記載の電極付きカラーフィルタ基板であって、前記第1タッチセンサ部及び前記第2タッチセンサ部は、スズドープ酸化インジウムからなることを特徴とする。 The color filter substrate with an electrode according to claim 5 is the color filter substrate with an electrode according to any one of claims 1 to 4, wherein the first touch sensor unit and the second touch sensor unit are tin-doped oxidation. It consists of indium.
請求項6に記載の表示装置は、請求項1乃至5のいずれかに記載の電極付きカラーフィルタ基板と、前記カラーフィルタの底面に取り付けられた表示素子と、を備えたことを特徴とする。 A display device according to a sixth aspect includes the electrode-attached color filter substrate according to any one of the first to fifth aspects, and a display element attached to a bottom surface of the color filter.
請求項7に記載の表示装置は、請求項6に記載の表示装置であって、前記表示素子の底面に取り付けられた第1偏光板と、前記透明基板の第1面上に取り付けられた第2偏光板と、をさらに備えたことを特徴とする。 The display device according to claim 7 is the display device according to claim 6, wherein the first polarizing plate attached to the bottom surface of the display element and the first polarizing plate attached to the first surface of the transparent substrate. And two polarizing plates.
請求項8に記載の表示装置は、請求項6又は7に記載の表示装置であって、前記1又は複数の第1電極、前記1又は複数の第2電極及び前記1又は複数の絶縁膜が前記第1面上に形成される前に、前記カラーフィルタと前記表示素子とが取り付けられており、当該取り付けられた状態において、前記透明基板の前記第1面と前記表示素子の底面とに対してスリミング加工が実施されていることを特徴とする。 The display device according to claim 8 is the display device according to claim 6 or 7, wherein the one or more first electrodes, the one or more second electrodes, and the one or more insulating films are included. Before being formed on the first surface, the color filter and the display element are attached, and in the attached state, the first surface of the transparent substrate and the bottom surface of the display element. The slimming process is performed.
請求項9に記載の表示装置は、請求項6乃至8のいずれかに記載の表示装置であって、前記表示素子は、液晶素子又はEL素子からなることを特徴とする。 A display device according to a ninth aspect is the display device according to any one of the sixth to eighth aspects, wherein the display element includes a liquid crystal element or an EL element.
請求項10に記載の製造方法は、電極付きカラーフィルタ基板の製造方法であって、第1面と、前記第1面の反対側に設けられた第2面とを有する透明基板の前記第2面にカラーフィルタを形成する第1の工程と、第1タッチセンサ部及び第1取出配線部を含む1又は複数の第1電極と、複数の第2拡張部および第2取出配線部を含む1又は複数の第2電極前駆体とを前記第1面上に形成する第2の工程であって、前記第1タッチセンサ部は、複数の第1拡張部と、1又は複数の第1接続部とを有し、隣接する2つの前記第1拡張部は前記第1接続部により接続される、第2の工程と、前記1又は複数の第1電極の前記第1接続部上にそれぞれ絶縁膜を形成する第3の工程と、前記絶縁膜をまたぐように前記絶縁膜上に1又は複数の第2接続部を形成することにより、前記1又は複数の第2電極前駆体から1又は複数の第2電極を得る第4の工程であって、前記第2電極前駆体の隣接する2つの前記第2拡張部は前記第2接続部により接続され、前記複数の第2拡張部と前記1又は複数の第2接続部とにより第2タッチセンサ部が構成される、第4の工程と、を含み、前記絶縁膜を形成する工程は、前記第1接続部および前記第2接続部が交差する部分において前記第1接続部を覆うように前記第1接続部上に前記絶縁膜を形成する工程であり、前記第1タッチセンサ部及び前記第2タッチセンサ部は、前記第1接続部および前記第2接続部において交差するように形成されていることを特徴とする。 The manufacturing method of Claim 10 is a manufacturing method of the color filter substrate with an electrode, Comprising: The 2nd surface of the transparent substrate which has a 1st surface and the 2nd surface provided in the other side of the said 1st surface. A first step of forming a color filter on the surface; one or a plurality of first electrodes including a first touch sensor portion and a first extraction wiring portion; and a first step including a plurality of second extension portions and a second extraction wiring portion. Or a second step of forming a plurality of second electrode precursors on the first surface, wherein the first touch sensor unit includes a plurality of first extension portions and one or more first connection portions. And two adjacent first extension portions are connected by the first connection portion, and an insulating film is formed on each of the first connection portions of the one or more first electrodes. And a third step of forming one or more second connections on the insulating film so as to straddle the insulating film A second step of obtaining one or more second electrodes from the one or more second electrode precursors by forming two adjacent second extension parts of the second electrode precursors Is connected by the second connection portion, and a fourth touch sensor portion is configured by the plurality of second extension portions and the one or more second connection portions, and includes a fourth step, and the insulation The step of forming a film is a step of forming the insulating film on the first connection portion so as to cover the first connection portion at a portion where the first connection portion and the second connection portion intersect. The first touch sensor unit and the second touch sensor unit are formed so as to intersect at the first connection unit and the second connection unit.
請求項11に記載の製造方法は、表示装置の製造方法であって、第1面と、前記第1面の反対側に設けられた第2面とを有する透明基板の前記第2面にカラーフィルタを形成する第1の工程と、第1タッチセンサ部及び第1取出配線部を含む1又は複数の第1電極と、複数の第2拡張部および第2取出配線部を含む1又は複数の第2電極前駆体とを前記第1面上に形成する第2の工程であって、前記第1タッチセンサ部は、複数の第1拡張部と、1又は複数の第1接続部とを有し、隣接する2つの前記第1拡張部は前記第1接続部により接続される、第2の工程と、前記1又は複数の第1電極の前記第1接続部上にそれぞれ絶縁膜を形成する第3の工程と、前記絶縁膜をまたぐように前記絶縁膜上に1又は複数の第2接続部を形成することにより、前記1又は複数の第2電極前駆体から1又は複数の第2電極を得る第4の工程であって、前記第2電極前駆体の隣接する2つの前記第2拡張部は前記第2接続部により接続され、前記複数の第2拡張部と前記1又は複数の第2接続部とにより第2タッチセンサ部が構成される、第4の工程と、を含み、前記絶縁膜を形成する工程は、前記第1接続部および前記第2接続部が交差する部分において前記第1接続部を覆うように前記第1接続部上に前記絶縁膜を形成する工程であり、前記第1タッチセンサ部及び前記第2タッチセンサ部は、前記第1接続部および前記第2接続部において交差するように形成され、前記製造方法は、前記第1の工程の後であって前記第2の工程の前に、又は前記第4の工程の後に、前記カラーフィルタの底面に表示素子を取り付ける工程をさらに含むことを特徴とする。 The manufacturing method according to claim 11 is a method for manufacturing a display device, wherein the second surface of the transparent substrate having a first surface and a second surface provided on the opposite side of the first surface is colored. A first step of forming a filter; one or more first electrodes including a first touch sensor portion and a first extraction wiring portion; and one or more including a plurality of second extension portions and a second extraction wiring portion. A second step of forming a second electrode precursor on the first surface, wherein the first touch sensor unit has a plurality of first extension portions and one or a plurality of first connection portions. Then, two adjacent first extension portions are connected by the first connection portion, and an insulating film is formed on each of the second step and the first connection portion of the one or more first electrodes. Third step and forming one or a plurality of second connection parts on the insulating film so as to straddle the insulating film A second step of obtaining one or more second electrodes from the one or more second electrode precursors, wherein two adjacent second extensions of the second electrode precursor are the second And a fourth step in which a second touch sensor unit is configured by the plurality of second extension units and the one or plurality of second connection units, and the insulating film is formed. The step is a step of forming the insulating film on the first connection portion so as to cover the first connection portion at a portion where the first connection portion and the second connection portion intersect, and the first touch sensor And the second touch sensor unit are formed so as to intersect at the first connection unit and the second connection unit, and the manufacturing method is performed after the first step and in the second step. Before or after the fourth step, the bottom of the color filter Characterized in that it further comprises a step of mounting the display element.
請求項12に記載の製造方法は、請求項11に記載の製造方法であって、前記製造方法は、前記表示素子を取り付ける工程の後、前記表示素子の底面に第1偏光板を取り付け、前記透明基板の前記第1面に第2偏光板を取り付ける工程をさらに含むことを特徴とする。 The manufacturing method according to claim 12 is the manufacturing method according to claim 11, wherein the manufacturing method attaches a first polarizing plate to a bottom surface of the display element after the step of attaching the display element, The method further includes a step of attaching a second polarizing plate to the first surface of the transparent substrate.
請求項13に記載の製造方法は、請求項11又は12に記載の製造方法であって、前記表示素子を取り付ける工程は、前記第1の工程の後であって前記第2の工程の前に、前記カラーフィルタ上に前記表示素子を取り付ける工程であり、前記製造方法は、前記表示素子を取り付ける工程の後であって前記第2の工程の前に、当該取り付けられた状態において、前記透明基板の第1面及び前記表示素子の底面に対してスリミング加工を実施する工程をさらに含むことを特徴とする。 The manufacturing method according to claim 13 is the manufacturing method according to claim 11 or 12, wherein the step of attaching the display element is after the first step and before the second step. , The step of attaching the display element on the color filter, and the manufacturing method includes the transparent substrate in the attached state after the step of attaching the display element and before the second step. The method further includes a step of performing a slimming process on the first surface and the bottom surface of the display element.
請求項14に記載の製造方法は、請求項11乃至13のいずれかに記載の製造方法であって、前記表示素子は、液晶素子又はEL素子からなることを特徴とする。 A manufacturing method according to a fourteenth aspect is the manufacturing method according to any one of the eleventh to thirteenth aspects, wherein the display element is composed of a liquid crystal element or an EL element.
請求項15に記載の製造方法は、請求項11乃至14のいずれかに記載の製造方法であって、前記透明基板の前記第1面上には、他の領域と独立した複数の素子領域が設けられ、前記複数の素子領域の各々には、前記1又は複数の第1の電極及び前記1又は複数の第2の電極が形成されており、前記製造方法は、前記透明基板を前記素子領域毎に断裁する工程をさらに含むことを特徴とする。 The manufacturing method according to claim 15 is the manufacturing method according to any of claims 11 to 14, wherein a plurality of element regions independent of other regions are formed on the first surface of the transparent substrate. Each of the plurality of element regions is provided with the one or more first electrodes and the one or more second electrodes, and the manufacturing method may include the transparent substrate as the element region. The method further includes a step of cutting each time.
請求項16に記載の製造方法は、請求項11乃至15のいずれかに記載の製造方法であって、前記透明基板は、ガラスおよび有機樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の材料を含むことを特徴とする。 The manufacturing method of Claim 16 is a manufacturing method in any one of Claim 11 thru | or 15, Comprising: The said transparent substrate contains at least 1 sort (s) of material selected from the group which consists of glass and organic resin. It is characterized by that.
請求項17に記載の製造方法は、請求項11乃至16のいずれかに記載の製造方法であって、前記透明基板は、複数のサブ基板の積層構造を有することを特徴とする。 The manufacturing method according to claim 17 is the manufacturing method according to any of claims 11 to 16, wherein the transparent substrate has a laminated structure of a plurality of sub-substrates.
請求項18に記載の製造方法は、請求項11乃至17のいずれかに記載の製造方法であって、前記第1タッチセンサ部及び前記第2タッチセンサ部は、スズドープ酸化インジウムからなることを特徴とする。 The manufacturing method according to claim 18 is the manufacturing method according to any one of claims 11 to 17, wherein the first touch sensor part and the second touch sensor part are made of tin-doped indium oxide. And
請求項19に記載の製造方法は、請求項11乃至18のいずれかに記載の製造方法であって、前記第2の工程は、フォトリソグラフィー、印刷から選択される1つまたは複数の技術を用いて実施されることを特徴とする。 The manufacturing method according to claim 19 is the manufacturing method according to any of claims 11 to 18, wherein the second step uses one or more techniques selected from photolithography and printing. It is characterized by being implemented.
本発明の電極付きカラーフィルタ基板及びそれを使用した表示装置は、カラーフィルタとタッチパネル用電極との間に偏光板を配置せずにカラーフィルタとタッチパネル用電極が取り付けられた構造体の外側に偏光板を配置することが可能であるため、カラーフィルタとタッチパネル用電極との間の距離を従来よりも短くすることが可能となり、それによって、斜め方向から操作したときの視差の発生を抑制することができる。 The color filter substrate with an electrode of the present invention and the display device using the same are polarized outside the structure in which the color filter and the touch panel electrode are attached without disposing a polarizing plate between the color filter and the touch panel electrode. Since it is possible to place a plate, the distance between the color filter and the touch panel electrode can be made shorter than before, thereby suppressing the occurrence of parallax when operated from an oblique direction. Can do.
また、電極形成前に透明基板に表示素子を取り付けることにより、基板同士が貼り合わさった厚い状態でスリミング加工を実施できるため、従来のようにカラーフィルタ基板と表示素子の基板をそれぞれ別個にスリミング加工していた場合と比較して基板を破損させずに表示装置の小型化を図ることが可能となる。 Also, by attaching the display element to the transparent substrate before electrode formation, slimming can be performed in a thick state where the substrates are bonded together, so the color filter substrate and the display element substrate are separately slimmed as in the past. Compared with the case where it is doing, it becomes possible to achieve size reduction of a display apparatus, without damaging a board | substrate.
<第1の実施形態>
以下、本発明の第1の実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板を説明する。ここで、電極付きカラーフィルタ基板とは、タッチパネル用電極が形成されたカラーフィルタ基板を指す。本発明では、カラーフィルタ基板上にタッチパネル用電極を設けた電極付きカラーフィルタ基板を用いることにより、電極付きカラーフィルタ基板の外側に偏光板を配置することが可能となり、カラーフィルタとタッチパネル用電極との間の距離を従来よりも短くすることが可能となり、それによって、斜め方向から操作したときの視差の発生を抑制することができる。
<First Embodiment>
Hereinafter, the color filter substrate with electrodes according to the first embodiment of the present invention will be described. Here, the electrode-attached color filter substrate refers to a color filter substrate on which a touch panel electrode is formed. In the present invention, by using a color filter substrate with an electrode in which a touch panel electrode is provided on the color filter substrate, a polarizing plate can be disposed outside the color filter substrate with an electrode. The distance between the two can be made shorter than before, and thereby the occurrence of parallax when operated from an oblique direction can be suppressed.
本実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板の構成例を図1〜図3に示した。図1は、本発明の第1の実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板の模式的上面図である。図1には、透明基板10と、透明基板10の第1面10a上に設けられた第1電極20a及び第2電極20bと、絶縁膜23とを備えた電極付きカラーフィルタ基板110が示されている。 The structural example of the color filter board | substrate with an electrode which concerns on this embodiment was shown in FIGS. FIG. 1 is a schematic top view of a color filter substrate with an electrode according to the first embodiment of the present invention. FIG. 1 shows a color filter substrate 110 with an electrode including a transparent substrate 10, a first electrode 20 a and a second electrode 20 b provided on the first surface 10 a of the transparent substrate 10, and an insulating film 23. ing.
図1に示されるように、第1電極20aは、第1タッチセンサ部21aと、第1取出配線部22aとを含み、第1タッチセンサ電極部21aは、第1拡張部25aと、隣接する第1拡張部25aの間を接続する第1接続部24aとを含む。また、第2電極20bは、第2タッチセンサ部21bと、第2取出配線部22bとを含み、第2タッチセンサ部21bは、第2拡張部25bと、隣接する第2拡張部25bの間を接続する第2接続部24bとを含む。第1タッチセンサ部21a及び第2タッチセンサ部21bは、互いに略直交する方向に形成されている。第1電極20a及び第2電極20bは、表示装置のタッチパネル用電極として機能する。 As shown in FIG. 1, the first electrode 20a includes a first touch sensor portion 21a and a first extraction wiring portion 22a, and the first touch sensor electrode portion 21a is adjacent to the first extension portion 25a. And a first connection part 24a for connecting the first extension parts 25a. The second electrode 20b includes a second touch sensor portion 21b and a second lead-out wiring portion 22b. The second touch sensor portion 21b is located between the second extension portion 25b and the adjacent second extension portion 25b. 2nd connection part 24b which connects. The first touch sensor unit 21a and the second touch sensor unit 21b are formed in directions substantially orthogonal to each other. The first electrode 20a and the second electrode 20b function as touch panel electrodes of the display device.
図2は本発明の第1の実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板における切断線II−IIに沿った模式的断面図であり、図3は切断線III−IIIに沿った模式的断面図である。図2及び図3に示されるように、透明基板10において第1面10aの反対側の第2面10bにカラーフィルタ30が形成されている。 2 is a schematic cross-sectional view along the cutting line II-II in the color filter substrate with electrodes according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a schematic cross-sectional view along the cutting line III-III. is there. As shown in FIGS. 2 and 3, the color filter 30 is formed on the second surface 10b of the transparent substrate 10 opposite to the first surface 10a.
透明基板10は、無色であっても有色であってもよい。本発明における「透明」とは、可視領域全体にわたって80%以上、好ましくは95%以上の透過率を有することを意味する。特段の制限なしに、液晶表示装置に一般的に用いられている基板を、本発明の透明基板10として使用することができる。透明基板10の非制限的な例は、ガラスなどの無機基板、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、環状オレフィンコポリマー(COP)などの有機樹脂基板を含む。本発明に係る電極付きカラーフィルタ基板をタッチパネルの構成要素として用いる場合、タッチパネルは静電容量方式のものとすることができる。静電容量方式のタッチパネルでは、抵抗膜方式のタッチパネルのように外力の印加によるひずみを考慮する必要がないため、透明基板10の材料および厚さの選択肢が広くなる。製造過程における耐熱性を考慮すると、透明基板10をガラスで形成することが望ましい。 The transparent substrate 10 may be colorless or colored. “Transparent” in the present invention means having a transmittance of 80% or more, preferably 95% or more over the entire visible region. Without particular limitation, a substrate generally used in a liquid crystal display device can be used as the transparent substrate 10 of the present invention. Non-limiting examples of the transparent substrate 10 include inorganic substrates such as glass, organic resin substrates such as polycarbonate, polymethyl methacrylate (PMMA), polyethylene terephthalate (PET), and cyclic olefin copolymer (COP). When the color filter substrate with an electrode according to the present invention is used as a constituent element of a touch panel, the touch panel can be of a capacitive type. Since the capacitive touch panel does not need to consider the strain due to the application of external force unlike the resistive touch panel, the choice of the material and thickness of the transparent substrate 10 is wide. In consideration of heat resistance in the manufacturing process, it is desirable to form the transparent substrate 10 with glass.
透明基板として有機樹脂基板を用いる場合、基板の120℃30分間加熱による熱収縮率が0.1%よりも小さいことが好ましい。この範囲である場合、電極および絶縁膜のパターニングにおいて加わる熱による収縮を抑えることができ、第1電極20aおよび第2電極20bに形成したパターンとカラーフィルタのパターンとの位置のずれを防止することができる。熱収縮率は、加熱する前後での基板の寸法を測定し、収縮による寸法変化した百分率を算出した。 When an organic resin substrate is used as the transparent substrate, it is preferable that the thermal shrinkage rate of the substrate by heating at 120 ° C. for 30 minutes is smaller than 0.1%. In this range, shrinkage due to heat applied during patterning of the electrode and the insulating film can be suppressed, and displacement of the pattern formed on the first electrode 20a and the second electrode 20b and the pattern of the color filter can be prevented. Can do. The thermal shrinkage rate was obtained by measuring the size of the substrate before and after heating and calculating the percentage of dimensional change due to shrinkage.
また、透明基板10は、複数のサブ基板の積層構造であってもよい。それぞれのサブ基板は、前述の材料を用いて形成してもよい自立性基板であることができる。たとえば2つのサブ基板の積層構造を用いる場合、第1電極20a及び第2電極20bを形成する第1面側のサブ基板を、電極の形成に適した材料で形成し、カラーフィルタ30を設ける第2面側のサブ基板を、カラーフィルタ30の形成に適した特性を有する材料で形成することができる。複数のサブ基板の積層構造を有する透明基板10において、少なくとも1つのサブ基板は自立性を有することが望ましい。その他のサブ基板は、非自立性のいわゆる「層」であってもよい。言い換えると、透明基板10は、自立性サブ基板の上に1つまたは複数の層を設けた積層構造であってもよい。 Further, the transparent substrate 10 may have a laminated structure of a plurality of sub-substrates. Each sub-substrate can be a self-supporting substrate that may be formed using the materials described above. For example, when a stacked structure of two sub-substrates is used, the first substrate 20 on which the first electrode 20a and the second electrode 20b are formed is formed of a material suitable for electrode formation, and the color filter 30 is provided. The two-sided sub-substrate can be formed of a material having characteristics suitable for forming the color filter 30. In the transparent substrate 10 having a laminated structure of a plurality of sub-substrates, it is desirable that at least one sub-substrate has a self-supporting property. Other sub-substrates may be non-self-supporting so-called “layers”. In other words, the transparent substrate 10 may have a laminated structure in which one or more layers are provided on a self-supporting sub-substrate.
第1電極20aは、第1タッチセンサ部21aおよび第1取出配線部22aからなり、第1タッチセンサ部21aは第1拡張部25aおよび第1接続部24aからなる。第1タッチセンサ部21aは、静電容量式タッチセンサの一部をなし、スズドープ酸化インジウムのような透明の金属材料を用いて可視光透過性を付与することが望ましい。 The 1st electrode 20a consists of the 1st touch sensor part 21a and the 1st extraction wiring part 22a, and the 1st touch sensor part 21a consists of the 1st expansion part 25a and the 1st connection part 24a. It is desirable that the first touch sensor unit 21a is part of a capacitive touch sensor and imparts visible light transparency using a transparent metal material such as tin-doped indium oxide.
第1拡張部25aのそれぞれは、第1電極20aと第2電極20bの間の静電容量の変化を読み取ることでタッチ位置を検出するための電極である。第1拡張部25aの形状としては、線状又は平面的に広がりのある形状であればよい。平面形状の例としては、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、(正)六角形、(正)八角形、(正)十二角形、(正)二十角形などの(正)n角形(nは3以上の整数)、円、楕円、星型などの幾何学図形のものであってもよい。また、線状その他の形状の例としては、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、(正)六角形、(正)八角形、(正)十二角形、(正)二十角形などの(正)n角形(nは3以上の整数)、円、楕円、星型などの幾何学図形又はこれらを適宜組み合わせた模様を描くようにしてもよい。これらの単位は、単独で又は2種類以上組み合わせて繰り返されることが可能である。一例として、図1に示す第1拡張部25aは四角形の形状とすることができる。 Each of the first extension portions 25a is an electrode for detecting a touch position by reading a change in capacitance between the first electrode 20a and the second electrode 20b. As a shape of the 1st expansion part 25a, what is necessary is just the shape which expands linearly or planarly. Examples of planar shapes include triangles such as regular triangles, isosceles triangles, right triangles, squares, rectangles, rhombuses, parallelograms, trapezoids, etc., (positive) hexagons, (positive) octagons, (positive) It may be of a geometrical figure such as a dodecagon, a (positive) n-gon (eg, an integer of 3 or more), a circle, an ellipse, or a star. Examples of linear and other shapes include triangles such as regular triangles, isosceles triangles, right triangles, squares, rectangles, rhombuses, parallelograms, trapezoids and other quadrangles, (positive) hexagons, (positive) eights Geometric figures such as squares, (positive) dodecagons, (positive) n-gons (n is an integer of 3 or more), circles, ellipses, stars, etc., or a combination of these as appropriate You may make it draw. These units can be repeated alone or in combination of two or more. As an example, the first extension part 25a shown in FIG. 1 can have a rectangular shape.
第1接続部24aは、隣接する第1拡張部25aを接続することにより、1つの方向に延びる第1タッチセンサ部21aが構成される。第1接続部24aは、一般的に表示領域内に形成されるため、第1拡張部25aと同様に不可視性を有することが望ましい。また、第1接続部24aと第2接続部24bとが交差する領域はセンサの不感領域となるため、所望の導電性が得られる限りにおいて、第1接続部24aを細くすることが望ましい。 The first connecting part 24a connects the first extending parts 25a adjacent to each other, thereby forming a first touch sensor part 21a extending in one direction. Since the first connection part 24a is generally formed in the display area, it is desirable that the first connection part 24a be invisible like the first extension part 25a. Moreover, since the area | region where the 1st connection part 24a and the 2nd connection part 24b cross | intersect becomes an insensitive area | region of a sensor, as long as desired electroconductivity is obtained, it is desirable to make the 1st connection part 24a thin.
第1取出配線部22aは、第1タッチセンサ部21aを外部回路(不図示)に電気的に接続する。第1取出配線部22aは、例えば金、銀、銅、アルミニウム、鉄、インジウムからなる群から選択される1種または複数種の元素を含む金属材料から構成される。第1取出配線部22aは表示領域以外の領域に存在するため、不可視性の維持よりも低い電気抵抗値の達成を目的として、5〜50μm、好ましくは10〜30μmの幅を有してもよい。 The first extraction wiring portion 22a electrically connects the first touch sensor portion 21a to an external circuit (not shown). The first extraction wiring portion 22a is made of, for example, a metal material containing one or more elements selected from the group consisting of gold, silver, copper, aluminum, iron, and indium. Since the first extraction wiring portion 22a exists in a region other than the display region, the first extraction wiring portion 22a may have a width of 5 to 50 μm, preferably 10 to 30 μm for the purpose of achieving a lower electrical resistance value than maintaining invisibility. .
第2電極20bは、第2タッチセンサ部21bおよび第2取出配線部22bからなり、第2タッチセンサ部21bは第2拡張部25bおよび第2接続部24bからなる。第2電極20bは、第1接続部24aに代えて第2接続部24bを用いること、ならびに第2タッチセンサ部22bの延びる方向が異なることを除いて、第1電極20aと同等の構成を有してもよい。第2電極20bにおいて、第2接続部24bは、第1電極20aの第1接続部24a上に設けられた絶縁膜23の上面および側面に設けられる。第2電極20bの第2拡張部25bおよび第2取出配線部22bは、それぞれ、第1電極20aの第1拡張部25aおよび第1取出配線部22aと同様の構成を有する。 The 2nd electrode 20b consists of the 2nd touch sensor part 21b and the 2nd extraction wiring part 22b, and the 2nd touch sensor part 21b consists of the 2nd expansion part 25b and the 2nd connection part 24b. The second electrode 20b has the same configuration as the first electrode 20a except that the second connection portion 24b is used instead of the first connection portion 24a and that the extending direction of the second touch sensor portion 22b is different. May be. In the second electrode 20b, the second connection portion 24b is provided on the upper surface and the side surface of the insulating film 23 provided on the first connection portion 24a of the first electrode 20a. The second extended portion 25b and the second extraction wiring portion 22b of the second electrode 20b have the same configuration as the first expansion portion 25a and the first extraction wiring portion 22a of the first electrode 20a, respectively.
絶縁膜23は、第1電極20aと第2電極20bとが電気的に接触することを防止するために、第1接続部24aおよび第2接続部24bが交差する部分において第1接続部24aを覆うように第1接続部24a上に設けられる。絶縁膜23は、表示領域内に設けられるため、可視領域の光に対して透明であることが望ましい。また、絶縁膜23は、後述するパターニングを行う必要性から、感光性材料を用いて形成することが望ましい。可視領域の光に対して透明である感光性材料の例は、重合性基含有オリゴマー、モノマー、紫外線重合開始剤および添加剤を含有するUV硬化型コーティング組成物などを含む。あるいはまた、感光性材料は、光照射により可溶性が増大するポジ型感光性材料であってもよい。 In order to prevent the first electrode 20a and the second electrode 20b from being in electrical contact, the insulating film 23 forms the first connection portion 24a at a portion where the first connection portion 24a and the second connection portion 24b intersect. It is provided on the first connection part 24a so as to cover it. Since the insulating film 23 is provided in the display region, it is desirable that the insulating film 23 be transparent to light in the visible region. The insulating film 23 is preferably formed using a photosensitive material because of the necessity of performing patterning described later. Examples of photosensitive materials that are transparent to light in the visible range include polymerizable group-containing oligomers, monomers, UV curable coating compositions containing ultraviolet polymerization initiators and additives, and the like. Alternatively, the photosensitive material may be a positive photosensitive material whose solubility is increased by light irradiation.
第2接続部24bは、導電性材料から形成され、隣接する第2拡張部25bを電気的に接続することにより、第2タッチセンサ部21bが構成される。第2接続部24bの1つの構成材料例は、スズドープ酸化インジウムである。図1〜図3に示すように、第2タッチセンサ部21bは、第1タッチセンサ部21aと直交する方向に延びる。第2接続部24bの幅および膜厚は、不可視性の実現、所望の導電性の維持などを考慮して決定することができる。 The second connection part 24b is formed of a conductive material, and the second touch sensor part 21b is configured by electrically connecting the adjacent second extension parts 25b. One constituent material example of the second connection portion 24b is tin-doped indium oxide. As shown in FIGS. 1-3, the 2nd touch sensor part 21b is extended in the direction orthogonal to the 1st touch sensor part 21a. The width and film thickness of the second connection portion 24b can be determined in consideration of realization of invisibility and maintenance of desired conductivity.
カラーフィルタ30は、当該技術において知られている任意の材料を用いて形成することができる。カラーフィルタ30は、異なる色領域の光を透過させる複数の部分を有してもよい。たとえば、カラーフィルタ30は、赤色(R)着色層、緑色(G)着色層、および青色(B)着色層を有してもよい。各着色層は、たとえば、各色の顔料を分散させたアクリル系樹脂を用いて形成することができる。各着色層は、典型的には、0.5〜3.0μmの膜厚を有する。また、カラーフィルタ30は、高いコントラストの実現および混色の防止を目的として、可視領域の光を遮断するブラックマトリクス(BM)をさらに有してもよい。ブラックマトリクスは、黒色顔料を分散させたアクリル系樹脂を用いて形成することができる。黒色顔料分散アクリル系樹脂を用いる場合、ブラックマトリクスは、典型的には、0.5〜3.0μmの膜厚を有する。あるいはまた、ブラックマトリクスは、10〜200nmの膜厚を有する金属膜であってもよい。当該技術において知られているように、カラーフィルタ30においては、組み合わせられる表示素子の画素(副画素)部に対応してそれぞれの着色層が配置され、その間隙にブラックマトリクスが配置される。 The color filter 30 can be formed using any material known in the art. The color filter 30 may have a plurality of portions that transmit light of different color regions. For example, the color filter 30 may have a red (R) colored layer, a green (G) colored layer, and a blue (B) colored layer. Each colored layer can be formed using, for example, an acrylic resin in which a pigment of each color is dispersed. Each colored layer typically has a thickness of 0.5 to 3.0 μm. The color filter 30 may further include a black matrix (BM) that blocks light in the visible region for the purpose of achieving high contrast and preventing color mixing. The black matrix can be formed using an acrylic resin in which a black pigment is dispersed. When the black pigment-dispersed acrylic resin is used, the black matrix typically has a film thickness of 0.5 to 3.0 μm. Alternatively, the black matrix may be a metal film having a thickness of 10 to 200 nm. As known in the art, in the color filter 30, each colored layer is arranged corresponding to a pixel (subpixel) portion of a display element to be combined, and a black matrix is arranged in the gap.
<第1の実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板の製造方法>
以下、本発明の第1の実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板の製造方法を説明する。
<Method for Producing Color Filter Substrate with Electrode According to First Embodiment>
Hereinafter, the manufacturing method of the color filter substrate with an electrode which concerns on the 1st Embodiment of this invention is demonstrated.
図4は、本発明に係る電極付きカラーフィルタ基板の製造方法を示すフロー図である。図4に示されるように、最初に、ステップ401で、第1面と、第1面と反対側の第2面とを有する透明基板10を準備する。透明基板10は、第1の実施形態で説明した通りの構成を有する。透明基板10は、単一材料からなる自立性基板であってもよいし、2つの異種の自立性のサブ基板を貼り合わせた積層構造であってもよいし、自立性サブ基板に1つまたは複数のコーティングを施した多層構造であってもよい。 FIG. 4 is a flowchart showing a method for manufacturing a color filter substrate with electrodes according to the present invention. As shown in FIG. 4, first, in step 401, a transparent substrate 10 having a first surface and a second surface opposite to the first surface is prepared. The transparent substrate 10 has the configuration as described in the first embodiment. The transparent substrate 10 may be a self-supporting substrate made of a single material, may be a laminated structure in which two different types of self-supporting sub-substrates are bonded together, or one or two of the self-supporting sub-substrates may be used. A multilayer structure with a plurality of coatings may be used.
次に、ステップ402で、透明基板10の第2面上にカラーフィルタ30を形成する。透明基板10の第2面上へのカラーフィルタ30の形成は、当該技術において知られている任意の方法により形成することができる。たとえば、感光性を有するコーティング組成物を用いてカラーフィルタ30の各着色層およびブラックマトリクスの形成を行う場合、第2面に対するコーティング組成物の塗布、フォトマスクを通した露光、および現像を含む方法を用いることができる。必要に応じて、ポストベークなどの追加工程を実施してもよい。 Next, in step 402, the color filter 30 is formed on the second surface of the transparent substrate 10. The color filter 30 can be formed on the second surface of the transparent substrate 10 by any method known in the art. For example, when each colored layer of the color filter 30 and the black matrix are formed using a photosensitive coating composition, the method includes application of the coating composition to the second surface, exposure through a photomask, and development. Can be used. Additional steps such as post-baking may be performed as necessary.
次に、ステップ403で、透明基板10の第1面上に、1つ又は複数の第1電極20aと、複数の第2拡張部25bと、第2取出し配線部22bとを形成する。ステップ403で形成される複数の第2拡張部25b及び第2取出し配線部22bは、第2電極20bの前駆体となるものであり、以下、これらを第2電極前駆体と称する。透明基板10の第1面上への第1タッチセンサ部21a及び第2拡張部25bの形成は、金属材料の付着後にパターニングを行うことや印刷法により形成することができる。第1タッチセンサ部21a及び第2拡張部25bへの金属材料の付着は、蒸着法、スパッタ法などによって透明基板10の全面に対して金属材料を堆積させ、次いでパターニングを行って不要部分の金属材料を除去することにより実施することができる。必要に応じて、金属材料の堆積は、複数種の金属材料を用いて、積層構造を有する金属膜を形成してもよい。パターニングは、たとえばポジ型フォトレジストを用いるフォトリソグラフィー法などの当該技術において知られている任意の手段により実施することができる。第1タッチセンサ部21a及び第2拡張部25bは、静電容量式タッチセンサの一部をなし、スズドープ酸化インジウムのような透明の金属材料を用いて可視光透過性を付与することが望ましい。 Next, in Step 403, one or a plurality of first electrodes 20a, a plurality of second extended portions 25b, and a second extraction wiring portion 22b are formed on the first surface of the transparent substrate 10. The plurality of second extended portions 25b and second extraction wiring portions 22b formed in step 403 serve as precursors of the second electrode 20b, and are hereinafter referred to as second electrode precursors. The first touch sensor part 21a and the second extension part 25b can be formed on the first surface of the transparent substrate 10 by patterning after the metal material is attached or by a printing method. The adhesion of the metal material to the first touch sensor portion 21a and the second extension portion 25b is performed by depositing a metal material on the entire surface of the transparent substrate 10 by vapor deposition, sputtering, or the like, and then patterning the metal material. This can be done by removing the material. If necessary, the metal material may be deposited using a plurality of types of metal materials to form a metal film having a stacked structure. The patterning can be performed by any means known in the art such as a photolithography method using a positive photoresist. It is desirable that the first touch sensor unit 21a and the second extension unit 25b are part of a capacitive touch sensor and impart visible light transparency using a transparent metal material such as tin-doped indium oxide.
一方、第1取出配線部22a及び第2取出し配線部22bは、例えば、第1タッチセンサ部21a及び第2拡張部25bの形成後に、それぞれ第1タッチセンサ部21a及び第2拡張部24bを外部回路(不図示)に電気的に接続するように金属材料を含む導電性ペーストを印刷法でパターン状に塗布することで形成される。図1に示されるように、第1取出配線部22aは、複数の第1拡張部25aのうちの端部にある拡張部と外部回路とを接続し、第2取出し配線部22bは、複数の第2の拡張部25bのうちの端部にある拡張部と外部回路とを接続するように形成される。第1取出配線部22a及び第2取出し配線部22bの形成は、後述する絶縁膜23と第2接続部24bの形成後に行っても良い。 On the other hand, the first extraction wiring portion 22a and the second extraction wiring portion 22b are connected to the first touch sensor portion 21a and the second expansion portion 24b, respectively, after the first touch sensor portion 21a and the second expansion portion 25b are formed. It is formed by applying a conductive paste containing a metal material in a pattern by a printing method so as to be electrically connected to a circuit (not shown). As shown in FIG. 1, the first extraction wiring portion 22 a connects the expansion portion at the end of the plurality of first expansion portions 25 a and an external circuit, and the second extraction wiring portion 22 b includes a plurality of extraction wiring portions 22 b. The extension part at the end of the second extension part 25b is formed to be connected to an external circuit. The formation of the first extraction wiring portion 22a and the second extraction wiring portion 22b may be performed after the formation of an insulating film 23 and a second connection portion 24b described later.
第1タッチセンサ部21a及び第1取出配線部22aが形成された段階で、第1タッチセンサ部21aおよび第1取出配線部22aからなる1又は複数の第1電極20aは完成形となる。一方、第2電極20bは、複数の第2拡張部25bを接続する第2接続部24bが形成されておらず、この段階では第2電極前駆体の形態にある。 At the stage where the first touch sensor portion 21a and the first extraction wiring portion 22a are formed, the one or more first electrodes 20a including the first touch sensor portion 21a and the first extraction wiring portion 22a are completed. On the other hand, the second electrode 20b is not formed with the second connection portion 24b for connecting the plurality of second extension portions 25b, and is in the form of a second electrode precursor at this stage.
次に、ステップ404で、第1接続部24aを覆うように第1接続部24aの上に絶縁膜23を形成する。絶縁膜23は、上述したような感光性材料を透明基板10の第1面全体に塗布し、第1接続部24a直上を含む所定の領域に感光性材料が残存するようにパターン状に光を照射し、次いで現像を行うことによって形成される。たとえば、絶縁膜23の感光性材料としてUV硬化型コーティング組成物を用いる場合、第1接続部24a直上を含む領域にUV光を照射する。一方、絶縁膜23の感光性材料としてポジ型感光性材料を用いる場合、第1接続部24a直上を含む領域を除く第1面の大部分に所与の波長の光を照射する。現像は、用いた感光性材料に応じて、適当な液体を用いて実施することができる。 Next, in step 404, the insulating film 23 is formed on the first connection portion 24a so as to cover the first connection portion 24a. The insulating film 23 is formed by applying a photosensitive material as described above to the entire first surface of the transparent substrate 10 and emitting light in a pattern so that the photosensitive material remains in a predetermined region including immediately above the first connection portion 24a. It is formed by irradiating and then developing. For example, when a UV curable coating composition is used as the photosensitive material of the insulating film 23, the UV light is irradiated to the region including the portion directly above the first connection portion 24a. On the other hand, when a positive photosensitive material is used as the photosensitive material of the insulating film 23, light having a given wavelength is irradiated on most of the first surface excluding the region including just above the first connection portion 24a. Development can be performed using an appropriate liquid depending on the photosensitive material used.
次に、ステップ405で、絶縁膜23上に金属材料を付着させて、絶縁膜23をまたぐように絶縁膜23上に第2接続部24bを形成し、隣接する第2拡張部25bを第2接続部24bを介して接続することにより、第2電極前駆体から第2電極20bを得る。金属材料の付着は、蒸着法、スパッタ法などによって透明基板10の全面(絶縁膜23の上面および側面を含む)に対して金属材料を堆積させ、次いでパターニングを行って不要部分の金属材料を除去することにより実施することができる。必要に応じて、金属材料の堆積は、複数種の金属材料を用いて、積層構造を有する金属膜を形成してもよい。パターニングは、たとえばポジ型フォトレジストを用いるフォトリソグラフィー法などの当該技術において知られている任意の手段により実施することができる。 Next, in step 405, a metal material is deposited on the insulating film 23 to form the second connection part 24b on the insulating film 23 so as to straddle the insulating film 23, and the second extension part 25b adjacent to the second extending part 25b is second. By connecting via the connection part 24b, the 2nd electrode 20b is obtained from a 2nd electrode precursor. The metal material is deposited by depositing the metal material on the entire surface of the transparent substrate 10 (including the upper surface and side surfaces of the insulating film 23) by vapor deposition or sputtering, and then performing patterning to remove the unnecessary metal material. Can be implemented. If necessary, the metal material may be deposited using a plurality of types of metal materials to form a metal film having a stacked structure. The patterning can be performed by any means known in the art such as a photolithography method using a positive photoresist.
ここで、本実施形態において、1つの透明基板10の上に分割可能な複数の素子領域を形成してもよい。「素子領域」とは、他の領域と独立したカラーフィルタ30、1つまたは複数の第1電極20a及び第2電極20bを有し、断裁することによって電極付きカラーフィルタ基板として機能し得る領域を意味する。そして、複数の素子領域及びカラーフィルタ30が形成された1つの透明基板10を各素子領域について断裁することにより、複数の電極付きカラーフィルタ基板100を形成することができる。それにより、1つの透明基板10を用いて複数の電極付きカラーフィルタ基板110を効率的に形成することができる。 Here, in this embodiment, a plurality of element regions that can be divided may be formed on one transparent substrate 10. The “element region” is a region that has a color filter 30 independent of other regions, one or a plurality of first electrodes 20a and second electrodes 20b, and can function as a color filter substrate with electrodes by cutting. means. A plurality of color filter substrates 100 with electrodes can be formed by cutting one transparent substrate 10 on which a plurality of element regions and color filters 30 are formed for each element region. Thereby, a plurality of electrode-attached color filter substrates 110 can be efficiently formed using one transparent substrate 10.
ここで、従来のタッチパネル式液晶ディスプレイでは、上述のように別個に作製したタッチパネル基板及びカラーフィルタ基板を貼り合わせて製造されることが一般的であったため(たとえば、特許文献1参照)、タッチパネル基板とカラーフィルタ基板をそれぞれ断裁して複数の基板を作製した後に貼り合せることから、貼り合わせ工程の作業効率が悪かった。 Here, in the conventional touch panel type liquid crystal display, since it was generally manufactured by bonding the touch panel substrate and the color filter substrate separately manufactured as described above (see, for example, Patent Document 1), the touch panel substrate And the color filter substrate were cut to produce a plurality of substrates and then bonded together, so that the working efficiency of the bonding process was poor.
本発明の方法によると、複数の素子領域が形成された1つの透明基板10を各素子領域について断裁して複数の電極付きカラーフィルタ基板110を形成することにより、タッチパネル基板とカラーフィルタ基板をそれぞれ断裁して複数の基板を作製した後に貼り合せる従来の方法と比較して、貼り合せ工程の作業効率を向上させることができる。 According to the method of the present invention, the touch panel substrate and the color filter substrate are respectively formed by cutting the transparent substrate 10 formed with a plurality of element regions for each element region to form a plurality of electrode-attached color filter substrates 110. Compared with the conventional method of cutting and producing a plurality of substrates and then bonding them, the working efficiency of the bonding process can be improved.
素子領域が形成された透明基板10の断裁は、ダイヤカッタースクライブ法、ダイシング法、ウォータージェット法、エッチング法、レーザー法などの当該技術において知られている任意の手段を用いて実施してもよい。また、素子領域の断裁は、後述するように、表示装置の製造時に実施してもよい。 The cutting of the transparent substrate 10 in which the element region is formed may be performed using any means known in the art such as a diamond cutter scribe method, a dicing method, a water jet method, an etching method, and a laser method. . Further, the cutting of the element region may be performed at the time of manufacturing the display device, as will be described later.
<第2の実施形態>
以下、本発明の第の実施形態に係る表示装置を説明する。
<Second Embodiment>
Hereinafter, a display device according to the embodiment of the present invention will be described.
第2の実施形態に係る表示装置において、表示素子としては液晶素子又はEL素子を用いることができる。最初に、第2の実施形態において、表示素子として液晶素子を用いる場合を説明する。図5に、第2の実施形態の表示装置の1つの構成例を示した。 In the display device according to the second embodiment, a liquid crystal element or an EL element can be used as the display element. First, a case where a liquid crystal element is used as a display element in the second embodiment will be described. FIG. 5 shows one configuration example of the display device according to the second embodiment.
図5には、第1の実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板110と、カラーフィルタ基板110の底面に設けられた液晶素子200と、液晶素子200の底面に設けられた第1偏光板400と、第1偏光板400の底面に設けられたバックライト500と、カラーフィルタ基板110の上面に設けられた第2偏光板700と、第2偏光板700の上面に設けられたカバー800と、を備えた本発明の第2の実施形態に係る表示装置が示されている。図5に示されるように、第1の実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板110の上面側に第2偏光板700およびカバー800が積層され、底面側に液晶素子200、第1偏光板400およびバックライト500が積層されている。 FIG. 5 shows a color filter substrate 110 with electrodes according to the first embodiment, a liquid crystal element 200 provided on the bottom surface of the color filter substrate 110, and a first polarizing plate 400 provided on the bottom surface of the liquid crystal element 200. A backlight 500 provided on the bottom surface of the first polarizing plate 400, a second polarizing plate 700 provided on the top surface of the color filter substrate 110, and a cover 800 provided on the top surface of the second polarizing plate 700. A display device according to a second embodiment of the present invention is shown. As shown in FIG. 5, the second polarizing plate 700 and the cover 800 are laminated on the upper surface side of the electrode-attached color filter substrate 110 according to the first embodiment, and the liquid crystal element 200, the first polarizing plate 400, and A backlight 500 is stacked.
液晶素子200は、1対の基板210および220の間に液晶層230を配置した構造を有する。基板210および220は、液晶に電界を印加するための電極、ならびに液晶を配向させるための配向膜(不図示)をさらに含んでもよい。 The liquid crystal element 200 has a structure in which a liquid crystal layer 230 is disposed between a pair of substrates 210 and 220. Substrates 210 and 220 may further include an electrode for applying an electric field to the liquid crystal and an alignment film (not shown) for aligning the liquid crystal.
たとえば、基板210の上に、第1の方向に延びる複数のストライプ状部分電極からなる電極を設け、基板220の上に、第1の方向と交差する第2の方向に延びる複数のストライプ状部分電極からなる電極を設けて、パッシブマトリクス駆動型の液晶素子を形成することができる。好ましくは、第1の方向は、第2の方向と直交する。 For example, an electrode composed of a plurality of stripe-shaped partial electrodes extending in the first direction is provided on the substrate 210, and a plurality of stripe-shaped portions extending in the second direction intersecting the first direction is provided on the substrate 220. A passive matrix driving type liquid crystal element can be formed by providing an electrode formed of an electrode. Preferably, the first direction is orthogonal to the second direction.
あるいはまた、基板210の上に、スイッチング素子と接続された複数の画素電極を設け、基板220の上に、表示領域全体にわたって一体に形成される共通電極を設けることによって、アクティブマトリクス駆動型の液晶素子200を得ることができる。スイッチング素子は、薄膜トランジスタ(TFT)など当該技術分野において知られている任意の素子を含んでもよい。基板210の上には、スイッチング素子を駆動するための走査線および信号線などの配線、ならびに液晶のスイッチング状態を維持するためのキャパシタなどをさらに設けることができる。 Alternatively, a plurality of pixel electrodes connected to the switching element are provided on the substrate 210, and a common electrode integrally formed over the entire display region is provided on the substrate 220, whereby active matrix driving type liquid crystal The element 200 can be obtained. The switching element may include any element known in the art such as a thin film transistor (TFT). On the substrate 210, wirings such as scanning lines and signal lines for driving the switching elements, capacitors for maintaining a liquid crystal switching state, and the like can be further provided.
液晶素子200に配向膜を形成する場合、配向膜は、液晶層230と接触するように、基板210および220の最表面を構成することが好ましい。配向膜は、ポリイミドなどの当該技術において知られている任意の材料を用いて形成することができる。配向膜にラビング処理を行うことによって、液晶層230中の液晶分子を所定の方向に配向させることができる。 When forming an alignment film on the liquid crystal element 200, the alignment film preferably forms the outermost surfaces of the substrates 210 and 220 so as to be in contact with the liquid crystal layer 230. The alignment film can be formed using any material known in the art such as polyimide. By performing rubbing treatment on the alignment film, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 230 can be aligned in a predetermined direction.
液晶素子200は、TN型、STN型、VA型、MVA型、IPS型、OCB型などの当該技術で知られている任意の方式の素子であってもよい。液晶層230を構成する液晶材料は、素子の方式に適合することが当該技術において知られている任意の材料を含む。 The liquid crystal element 200 may be an element of any type known in the art, such as a TN type, STN type, VA type, MVA type, IPS type, OCB type. The liquid crystal material constituting the liquid crystal layer 230 includes any material known in the art to be compatible with the device type.
本実施形態の変形例において、液晶素子200中の基板220を省略して、本発明の電極付きカラーフィルタ基板110のカラーフィルタ30の上に液晶駆動用電極および配向膜を設けてもよい。図6に本変形例の構成例を示した。図6に示す構成では、バックライト500、第1偏光板400、基板210及び液晶層230を含む液晶素子200’、液晶スイッチング用の電極および配向膜を含む電極付きカラーフィルタ基板110、第2偏光板700、並びにカバー800がこの順に積層されている。基板210は画素電極を含む。なお、カラーフィルタ30と液晶駆動用電極との間に、カラーフィルタ30に起因する凹凸を解消するための平坦化層をさらに設けてもよい。 In the modification of this embodiment, the substrate 220 in the liquid crystal element 200 may be omitted, and a liquid crystal driving electrode and an alignment film may be provided on the color filter 30 of the electrode-attached color filter substrate 110 of the present invention. FIG. 6 shows a configuration example of this modification. In the configuration shown in FIG. 6, the backlight 500, the first polarizing plate 400, the liquid crystal element 200 ′ including the substrate 210 and the liquid crystal layer 230, the color filter substrate 110 with an electrode including an electrode for liquid crystal switching and an alignment film, the second polarization A plate 700 and a cover 800 are laminated in this order. The substrate 210 includes a pixel electrode. A flattening layer for eliminating unevenness caused by the color filter 30 may be further provided between the color filter 30 and the liquid crystal driving electrode.
また、液晶分子を平面内でスイッチングするIPS型の素子について図5に示す構成を適用する場合は、基板210または基板220の一方のみに電極を設け、他方の基板の電極を省略することができる。また、IPS型の素子では、電極を省略した他方の基板を、本発明の電極付きカラーフィルタ基板110で代替することができる。たとえば、基板210のみに電極を設ける場合、図5に示す構成から基板220を省略した図6に示す構成を採ってもよい。この場合、カラーフィルタ30の上に配向膜を設けて、配向膜を液晶層230と接触させる構成が好ましい。 In the case of applying the configuration shown in FIG. 5 to an IPS type element that switches liquid crystal molecules in a plane, an electrode may be provided on only one of the substrate 210 and the substrate 220 and the electrode on the other substrate may be omitted. . In the IPS-type element, the other substrate from which the electrode is omitted can be replaced by the electrode-attached color filter substrate 110 of the present invention. For example, when an electrode is provided only on the substrate 210, the configuration shown in FIG. 6 in which the substrate 220 is omitted from the configuration shown in FIG. In this case, a configuration in which an alignment film is provided on the color filter 30 and the alignment film is in contact with the liquid crystal layer 230 is preferable.
液晶素子200は、基板210および/または220上に設けた電極と外部駆動回路とを接続するためのフレキシブルプリント回路(FPC)基板、異方性導電膜(ACF)、TABモジュール、COFモジュール、COGモジュールなどをさらに含んでもよい。 The liquid crystal element 200 includes a flexible printed circuit (FPC) substrate, an anisotropic conductive film (ACF), a TAB module, a COF module, and a COG for connecting an electrode provided on the substrate 210 and / or 220 and an external driving circuit. A module or the like may be further included.
第1偏光板400および第2偏光板700は、特定方向に偏光した光を選択的に透過させる特性を有する。液晶表示装置に用いる場合、第1偏光板400および第2偏光板700は、特定方向の直線偏光を透過させる特性を有する。また、第1偏光板400を透過する直線偏光の偏光方向と、第2偏光板700を透過する直線偏光の偏光方向となす角度は、使用する液晶材料の配向状態および素子の方式に依存して決定することができる。また、上記角度は、表示装置を、電界無印加状態でバックライトの光を透過させるノーマリー・ホワイト・モードで動作させるか、電界無印加状態でバックライトの光を透過させないノーマリー・ブラック・モードで動作させるかにも依存する。たとえば、TN方式またはSTN方式の表示装置をノーマリー・ホワイト・モードで動作させる場合、第1偏光板400の偏光方向と第2偏光板700の偏光方向とのなす角は、通常90°に設定される。 The first polarizing plate 400 and the second polarizing plate 700 have a characteristic of selectively transmitting light polarized in a specific direction. When used in a liquid crystal display device, the first polarizing plate 400 and the second polarizing plate 700 have a characteristic of transmitting linearly polarized light in a specific direction. The angle between the polarization direction of the linearly polarized light transmitted through the first polarizing plate 400 and the polarization direction of the linearly polarized light transmitted through the second polarizing plate 700 depends on the alignment state of the liquid crystal material to be used and the method of the element. Can be determined. In addition, the above-mentioned angle may be set so that the display device is operated in a normally white mode that transmits the light of the backlight without applying an electric field, or in a normally black mode that does not transmit the light of the backlight without applying an electric field. It depends on whether it works. For example, when a TN or STN display device is operated in a normally white mode, the angle between the polarization direction of the first polarizing plate 400 and the polarization direction of the second polarizing plate 700 is normally set to 90 °. The
第1偏光板400および第2偏光板700は、ヨウ素化合物、二色性分子などを含む、当該技術において知られている任意の材料で形成することができる。 The first polarizing plate 400 and the second polarizing plate 700 can be formed of any material known in the art, including iodine compounds, dichroic molecules, and the like.
バックライト500は、当該技術において知られている任意の光源を含む。たとえば、冷陰極蛍光管(CCFL)、発光ダイオード(LED)などをバックライト500として用いることができる。バックライト500は、表示装置の表示領域に配置してもよいし(直下型)、表示装置の周縁部に配置してもよい(サイドライト型またはエッジライト型)。サイドライト型またはエッジライト型の場合、導光板、プリズムシートなどを用いてバックライト500が発する光を、表示装置の表示領域全体に導くことができる。また、バックライト500は、単一の光源であってもよいし、複数の光源からなってもよい。複数の光源からなるバックライト500を用いる場合、表示内容に依存して、各光源のオン・オフを独立的に制御してもよい。 The backlight 500 includes any light source known in the art. For example, a cold cathode fluorescent tube (CCFL), a light emitting diode (LED), or the like can be used as the backlight 500. The backlight 500 may be arranged in a display area of the display device (directly under type) or may be arranged in a peripheral portion of the display device (side light type or edge light type). In the case of the side light type or the edge light type, light emitted from the backlight 500 can be guided to the entire display region of the display device using a light guide plate, a prism sheet, or the like. The backlight 500 may be a single light source or a plurality of light sources. When the backlight 500 including a plurality of light sources is used, on / off of each light source may be controlled independently depending on display contents.
カバー800は、その下に存在する各層を保護することを目的とする。また、カバー800を通して液晶素子200の表示内容を視認することになるため、カバー800は、可視光領域において透明であることが望ましい。カバー800は、ガラス、有機樹脂(ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)など)などの材料で形成することができる。 The purpose of the cover 800 is to protect the layers existing below it. In addition, since the display content of the liquid crystal element 200 is visually recognized through the cover 800, the cover 800 is preferably transparent in the visible light region. The cover 800 can be formed of a material such as glass or organic resin (polyethylene terephthalate (PET), polymethyl methacrylate (PMMA), or the like).
本実施形態において、電極付きカラーフィルタ基板110に形成された第1電極20aおよび第2電極20bは、投影型静電容量方式タッチパネルのタッチセンサ電極として機能する。 In the present embodiment, the first electrode 20a and the second electrode 20b formed on the electrode-attached color filter substrate 110 function as touch sensor electrodes of the projection capacitive touch panel.
次に、表示素子としてEL素子を用いる第2の実施形態の表示装置の他の例を説明する。表示素子としてEL素子を用いる第2の実施形態の表示装置においては、電極付きカラーフィルタ基板110の底面にEL素子が取り付けられる。必要に応じて、電極付きカラーフィルタ基板110上に設けられた第2偏光板700上にカバー800を取り付けてもよい。 Next, another example of the display device according to the second embodiment using an EL element as a display element will be described. In the display device according to the second embodiment that uses an EL element as the display element, the EL element is attached to the bottom surface of the color filter substrate 110 with electrodes. If necessary, a cover 800 may be attached on the second polarizing plate 700 provided on the color filter substrate 110 with electrodes.
EL素子は、1対の基板の間に有機活性層が挟まれた構造を有する。1対の基板のそれぞれは、独立的に駆動可能な複数の発光部を形成するような配置で電極が形成されている。1対の基板のそれぞれに、交差する方向に延びる複数のストライプ状電極を設けて、パッシブマトリクス駆動型のEL素子を形成してもよい。あるいは、一方の基板にスイッチング素子と1対1で接続される複数の画素電極を設け、他方の基板に一体型の共通電極を設けて、アクティブマトリクス駆動型のEL素子を形成してもよい。さらに、有機活性層は、少なくとも発光層を含み、任意選択的に正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層などを含んでもよい。また、有機活性層は、白色に発光する1つの層であってもよいし、複数の色(たとえば、RGB)に発光する複数の区域がマトリクス状に配列された層であってもよい。 The EL element has a structure in which an organic active layer is sandwiched between a pair of substrates. Each of the pair of substrates has electrodes formed in an arrangement that forms a plurality of light-emitting portions that can be driven independently. A passive matrix driving type EL element may be formed by providing a plurality of striped electrodes extending in intersecting directions on each of a pair of substrates. Alternatively, an active matrix driving type EL element may be formed by providing a plurality of pixel electrodes connected to a switching element in one-to-one correspondence on one substrate and providing an integrated common electrode on the other substrate. Further, the organic active layer includes at least a light emitting layer, and may optionally include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like. The organic active layer may be one layer that emits white light, or may be a layer in which a plurality of areas that emit light of a plurality of colors (for example, RGB) are arranged in a matrix.
この場合にも、電極付きカラーフィルタ基板110に形成された第1電極20aおよび第2電極20bは、投影型静電容量方式タッチパネルのタッチセンサ電極として機能する。 Also in this case, the first electrode 20a and the second electrode 20b formed on the electrode-attached color filter substrate 110 function as touch sensor electrodes of the projection capacitive touch panel.
<第2の実施形態に係る表示装置の製造方法>
以下、本発明の第2の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する。
<Method for Manufacturing Display Device According to Second Embodiment>
Hereinafter, a method for manufacturing a display device according to the second embodiment of the present invention will be described.
第2の実施形態に係る表示装置の製造方法は、電極付きカラーフィルタ基板110の透明基板10の第2面10b側に液晶素子200などの表示素子を取り付ける工程を含む。当該取り付ける工程は、接着剤による貼り合わせなどを含む当該技術において知られている任意の手段で実施することができる。 The manufacturing method of the display device according to the second embodiment includes a step of attaching a display element such as the liquid crystal element 200 to the second surface 10b side of the transparent substrate 10 of the electrode-attached color filter substrate 110. The attaching step can be performed by any means known in the art, including bonding with an adhesive.
第2の実施形態に係る表示装置の製造方法はさらに、電極付きカラーフィルタ基板110に表示素子を取り付けた後、表示素子の底面に第1偏光板400を取り付け、電極付きカラーフィルタ基板110の透明基板10の第1面10aに第2偏光板700を取り付ける工程を含む。また、第1偏光板400の底面にバックライト500をさらに設け、第2偏光板700の上面にカバー800をさらに設けることもできる。第1偏光板400、第2偏光板700、バックライト500、カバー800などについても、当該技術において知られている任意の手段による製造および取り付けが可能である。 In the method for manufacturing the display device according to the second embodiment, after the display element is attached to the color filter substrate 110 with electrode, the first polarizing plate 400 is attached to the bottom surface of the display element, and the transparent color filter substrate 110 with electrode is transparent. A step of attaching the second polarizing plate 700 to the first surface 10a of the substrate 10 is included. Further, the backlight 500 may be further provided on the bottom surface of the first polarizing plate 400, and the cover 800 may be further provided on the top surface of the second polarizing plate 700. The first polarizing plate 400, the second polarizing plate 700, the backlight 500, the cover 800, and the like can also be manufactured and attached by any means known in the art.
本実施形態において、第1の実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板の製造方法で説明したように、1つの透明基板10の上に分割可能な複数の素子領域を形成した構造体を用いてもよい。この場合、たとえば、1つの透明基板10の上に分割可能な複数の素子領域を形成した構造体に対して複数の表示素子を取り付け、その後に透明基板10を断裁することにより、複数の表示装置を製造することができる。あるいはまた、前述の構造体に対して、1つの基板上に複数の表示素子が形成された表示素子構造体を取り付けて、透明基板10および表示素子構造体の基板の断裁を行うことにより、複数の表示装置を製造してもよい。表示素子構造体の基板の断裁は、透明基板10と同様の手段で実施してもよい。 In the present embodiment, as described in the method for manufacturing the electrode-attached color filter substrate according to the first embodiment, a structure in which a plurality of element regions that can be divided are formed on one transparent substrate 10 may be used. Good. In this case, for example, a plurality of display devices are attached by attaching a plurality of display elements to a structure in which a plurality of element regions that can be divided are formed on one transparent substrate 10 and then cutting the transparent substrate 10. Can be manufactured. Alternatively, by attaching a display element structure in which a plurality of display elements are formed on one substrate to the above-described structure, and cutting the substrate of the transparent substrate 10 and the display element structure, a plurality of The display device may be manufactured. The cutting of the substrate of the display element structure may be performed by the same means as the transparent substrate 10.
本実施形態の変形例として、第1の実施形態に係る電極付きカラーフィルタ基板の製造方法において、第1面10a上での電極形成の前に、カラーフィルタ30の上(透明基板10の第2面10b側)に表示素子を取り付けてもよい。この変形例では、電極形成前に透明基板10に表示素子を取り付けることにより、透明基板10と表示素子の基板220とを貼り合わせた状態で、透明基板10の第2面10b上および基板210の底面にスリミング加工を実施することができる。そのため、基板同士が貼り合わさった厚い状態でスリミング加工を実施できるため、従来のようにカラーフィルタ基板と表示素子の基板をそれぞれ別個にスリミング加工していた場合と比較して基板を破損させずに表示装置の小型化を図ることが可能となるという利点を有する。例えば、基板同士が貼り合わされた状態で0.6〜1.0mm程度の厚さのものを、スリミングにより0.3〜0.5mm程度の厚さに薄くすることができる。 As a modification of the present embodiment, in the method for manufacturing a color filter substrate with an electrode according to the first embodiment, before the electrode is formed on the first surface 10a, the color filter 30 (the second of the transparent substrate 10) is formed. A display element may be attached to the surface 10b side). In this modification, the display element is attached to the transparent substrate 10 before electrode formation, and the transparent substrate 10 and the substrate 220 of the display element are bonded to each other on the second surface 10b of the transparent substrate 10 and the substrate 210. Slimming can be performed on the bottom surface. Therefore, since the slimming process can be performed in a thick state where the substrates are bonded to each other, the substrate is not damaged as compared with the case where the color filter substrate and the display element substrate are separately slimmed as in the past. There is an advantage that the display device can be miniaturized. For example, a substrate having a thickness of about 0.6 to 1.0 mm with the substrates bonded together can be thinned to a thickness of about 0.3 to 0.5 mm by slimming.
(実施例1)
以下、本発明の実施例1について説明する。実施例1では、第1の実施形態に係る電極付きカラーフィルタの製造工程について例示する。まず、透明基板10の第2面10b上にカラーフィルタ30を形成する。ここでは、厚さ300μmのアルミノシリケートガラス製の透明基板10の第2面10b上に、スピンコーターを用いて黒色感光性組成物を塗布した。得られた塗膜を、ホットプレート上で5分間にわたって100℃に加熱して乾燥させた。次いで、所望するパターンを有するフォトマスクを通した100mJ/cm2の高圧水銀灯光の照射、0.2質量%の炭酸水素ナトリウム水溶液を用いた30秒間にわたるシャワー現像、水洗、および熱風循環式オーブン中で30分間にわたる230℃での加熱乾燥を実施して、透明基板10の第2面10b上にブラックマトリクスを形成した。続いて、黒色感光性組成物に代えて赤色感光性組成物、緑色感光性組成物または青色感光性組成物を用いたこと、および各色に対応したフォトマスクを用いたことを除いて同様の手順により、赤色着色層、緑色着色層、および青色着色層を順次形成し、第2面上にカラーフィルタ30を形成した。
Example 1
Embodiment 1 of the present invention will be described below. Example 1 illustrates the manufacturing process of the electrode-attached color filter according to the first embodiment. First, the color filter 30 is formed on the second surface 10 b of the transparent substrate 10. Here, the black photosensitive composition was applied to the second surface 10b of the transparent substrate 10 made of aluminosilicate glass having a thickness of 300 μm using a spin coater. The obtained coating film was dried by heating to 100 ° C. for 5 minutes on a hot plate. Next, irradiation with high-pressure mercury lamp light of 100 mJ / cm 2 through a photomask having a desired pattern, shower development for 30 seconds using a 0.2% by mass aqueous sodium hydrogen carbonate solution, water washing, and in a hot air circulation oven Then, heat drying at 230 ° C. for 30 minutes was performed to form a black matrix on the second surface 10 b of the transparent substrate 10. Subsequently, the same procedure except that a red photosensitive composition, a green photosensitive composition or a blue photosensitive composition was used instead of the black photosensitive composition, and a photomask corresponding to each color was used. Thus, a red colored layer, a green colored layer, and a blue colored layer were sequentially formed, and the color filter 30 was formed on the second surface.
次に、透明基板10の第1面10a上に第1電極20a及び第2電極前駆体を形成する。ここでは、スパッタ法によって、透明基板10の第1面10a上に、膜厚30nmのスズドープ酸化インジウム(ITO)膜を形成した。得られたITO膜は、80Ω/□のシート抵抗値を有した。続いて、スピンコーターを用いて第1面10a全面にポジ型レジストを塗布した。得られた塗膜を、ホットプレート上で5分間にわたって100℃に加熱して乾燥させた。次いで、絶縁膜23および隣接する拡張部25bの一部に相当する位置に遮光部を有するフォトマスクを通した100mJ/cm2の高圧水銀灯光の照射、2.3質量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)水溶液を用いた60秒間にわたるシャワー現像、水洗を行い、塩化第二鉄のエッチング液を用い、露出したITO膜を除去した。続いて、2%水酸化カリウム水溶液であるレジスト剥離液を用いるレジスト膜の除去を行い、第1面10a上に、第1電極20a(第1拡張部25aおよび第1接続部24aからなる第1タッチセンサ部21a、ならびに第1配線部22a)、ならびに第1拡張部25bおよび第1配線部22bからなる第2電極前駆体を形成した。 Next, the first electrode 20 a and the second electrode precursor are formed on the first surface 10 a of the transparent substrate 10. Here, a tin-doped indium oxide (ITO) film having a film thickness of 30 nm was formed on the first surface 10a of the transparent substrate 10 by sputtering. The obtained ITO film had a sheet resistance value of 80Ω / □. Subsequently, a positive resist was applied to the entire first surface 10a using a spin coater. The obtained coating film was dried by heating to 100 ° C. for 5 minutes on a hot plate. Next, irradiation with 100 mJ / cm 2 of high-pressure mercury lamp light through a photomask having a light-shielding portion at a position corresponding to a part of the insulating film 23 and the adjacent extended portion 25b, 2.3 mass% of tetramethylammonium hydroxide Shower development and water washing for 60 seconds using (TMAH) aqueous solution were performed, and the exposed ITO film was removed using an etching solution of ferric chloride. Subsequently, the resist film is removed using a resist stripping solution that is a 2% potassium hydroxide aqueous solution, and the first electrode 20a (the first extension portion 25a and the first connection portion 24a including the first connection portion 24a is formed on the first surface 10a. The second electrode precursor including the touch sensor unit 21a, the first wiring unit 22a), the first extension unit 25b, and the first wiring unit 22b was formed.
続いて、第1面10a上に絶縁膜23を形成する。ここでは、スピンコーターを用いて第1面10a全面にネガ型レジストを塗布した。得られた塗膜を、ホットプレート上で5分間にわたって100℃に加熱して乾燥させた。次いで、第1電極20aの第1接続部24aの位置に開口部を有するフォトマスクを通した100mJ/cm2の高圧水銀灯光の照射、0.2質量%の炭酸水素ナトリウム水溶液を用いた30秒間にわたるシャワー現像、水洗、および熱風循環式オーブン中で30分間にわたる120℃での加熱乾燥を実施して、第1面10a上に絶縁膜23を形成した。得られた絶縁膜23は、第1電極20aの第1接続部24aの上に配置され、60μmの幅および100μmの長さ、ならびに2μmの膜厚を有した。 Subsequently, an insulating film 23 is formed on the first surface 10a. Here, a negative resist was applied to the entire first surface 10a using a spin coater. The obtained coating film was dried by heating to 100 ° C. for 5 minutes on a hot plate. Next, irradiation with 100 mJ / cm 2 high-pressure mercury lamp light through a photomask having an opening at the position of the first connection portion 24a of the first electrode 20a, 30 seconds using a 0.2 mass% sodium bicarbonate aqueous solution Insulating film 23 was formed on first surface 10a by performing shower development, washing with water, and heat drying at 120 ° C. for 30 minutes in a hot air circulation oven. The obtained insulating film 23 was disposed on the first connection portion 24a of the first electrode 20a, and had a width of 60 μm, a length of 100 μm, and a film thickness of 2 μm.
続いて、透明基板10の第1面10a上に第2接続部24bを形成して第2電極20bを得る。ここでは、スパッタ法を用いて、膜厚30nmのスズドープ酸化インジウム(ITO)膜を、第1面10aの全面に形成した。スピンコーターを用いて第1面10a全面にポジ型レジストを塗布した。得られた塗膜を、ホットプレート上で5分間にわたって100℃に加熱して乾燥させた。次いで、絶縁膜23および隣接する拡張部25bの一部に相当する位置に遮光部を有するフォトマスクを通した100mJ/cm2の高圧水銀灯光の照射、2.3質量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)水溶液を用いた60秒間にわたるシャワー現像、水洗を行い、絶縁膜23および隣接する拡張部25bの一部に相当する位置に配置された複数の部分からなるレジスト膜を形成した。次いで、塩化第二鉄のエッチング液を用い、露出したITO膜を除去した。続いて、2%水酸化カリウム水溶液であるレジスト剥離液を用いるレジスト膜の除去、および熱風循環式オーブン中で30分間にわたる120℃での加熱乾燥を実施して、第1面10a上に第2接続部24bを形成して第2電極20bを得た。得られた第2接続部24bは、絶縁膜23をまたいで隣接する第2拡張部25bに接続され、5μmの幅、150μmの長さ、および絶縁膜23上において270μmの膜厚を有した。また、得られた第2接続部24bは、80Ω/□のシート抵抗値を有した。 Then, the 2nd connection part 24b is formed on the 1st surface 10a of the transparent substrate 10, and the 2nd electrode 20b is obtained. Here, a tin-doped indium oxide (ITO) film having a thickness of 30 nm was formed on the entire first surface 10a by sputtering. A positive resist was applied to the entire first surface 10a using a spin coater. The obtained coating film was dried by heating to 100 ° C. for 5 minutes on a hot plate. Next, irradiation with 100 mJ / cm 2 of high-pressure mercury lamp light through a photomask having a light-shielding portion at a position corresponding to a part of the insulating film 23 and the adjacent extended portion 25b, 2.3 mass% of tetramethylammonium hydroxide Shower development and water washing for 60 seconds using (TMAH) aqueous solution were performed, and a resist film composed of a plurality of portions arranged at positions corresponding to a part of the insulating film 23 and the adjacent extended portion 25b was formed. Next, the exposed ITO film was removed using an etching solution of ferric chloride. Subsequently, the resist film is removed using a resist stripping solution that is a 2% potassium hydroxide aqueous solution, and is heated and dried at 120 ° C. for 30 minutes in a hot-air circulating oven, so that the second surface is formed on the first surface 10a. The connection part 24b was formed and the 2nd electrode 20b was obtained. The obtained second connection portion 24 b was connected to the adjacent second extension portion 25 b across the insulating film 23, and had a width of 5 μm, a length of 150 μm, and a film thickness of 270 μm on the insulating film 23. Further, the obtained second connection portion 24b had a sheet resistance value of 80Ω / □.
続いて、印刷法を用いて、膜厚2μmの銀ペーストを塗布し、第1及び第2取出配線部22a及び22bを形成した。以上の方法により、電極付きカラーフィルタ基板110が得られた。 Subsequently, a silver paste having a film thickness of 2 μm was applied using a printing method to form first and second extraction wiring portions 22a and 22b. The color filter substrate 110 with an electrode was obtained by the above method.
(実施例2)
以下、本発明の実施例2について説明する。実施例2では、図6に示す第1の実施形態に係る表示装置の製造工程について例示する。まず、実施例1で得られた電極付きカラーフィルタ基板110の透明基板10の第2面10bに、印刷法を用いて配向膜を形成した。一方、TFTを含むスイッチング回路および液晶駆動用電極を有する基板210を準備し、基板210の電極側の面に、印刷法を用いて配向膜を形成した。続いて、両基板の配向膜にラビング処理を行った。さらに、シール材を用いて電極付きカラーフィルタ基板110および基板210を、配向膜が対向するように貼り合わせ、両基板の間隙に液晶材料を注入して液晶層230を形成し、電極付きカラーフィルタ基板110に取り付けられた液晶素子200’を得た。
(Example 2)
Embodiment 2 of the present invention will be described below. In Example 2, the manufacturing process of the display device according to the first embodiment shown in FIG. 6 is illustrated. First, an alignment film was formed on the second surface 10b of the transparent substrate 10 of the electrode-attached color filter substrate 110 obtained in Example 1 using a printing method. On the other hand, a substrate 210 having a switching circuit including TFTs and a liquid crystal driving electrode was prepared, and an alignment film was formed on the electrode side surface of the substrate 210 using a printing method. Subsequently, rubbing treatment was performed on the alignment films of both substrates. Furthermore, the color filter substrate 110 with an electrode and the substrate 210 are bonded using a sealing material so that the alignment films face each other, and a liquid crystal material is injected into the gap between the two substrates to form a liquid crystal layer 230. A liquid crystal element 200 ′ attached to the substrate 110 was obtained.
続いて、基板210の液晶駆動用電極の液晶駆動用外部回路への接続、ならびに電極付きカラーフィルタ基板110の第1電極20aおよび第2電極20bのタッチセンサ駆動用外部回路への接続を行った。 Subsequently, the liquid crystal driving electrode of the substrate 210 was connected to the liquid crystal driving external circuit, and the first electrode 20a and the second electrode 20b of the electrode-attached color filter substrate 110 were connected to the touch sensor driving external circuit. .
さらに、電極付きカラーフィルタ基板110の透明基板10の第1面10aに、接着剤を用いて、第2偏光板700、ならびにアルミノシリケートガラス製のカバー800をこの順に貼り合わせた。そして、液晶素子200’において電極付きカラーフィルタ基板110が設けられている面とは反対側の面に、接着剤を用いて第1偏光板400およびバックライト500をこの順に貼り合わせて、図6に示す構成を有する、IPS液晶素子を用いた表示装置を得た。得られた表示装置は、不良部分を含まず、正常な表示およびタッチ位置検出機能を提供した。 Furthermore, the 2nd polarizing plate 700 and the cover 800 made from aluminosilicate glass were bonded together in this order to the 1st surface 10a of the transparent substrate 10 of the color filter substrate 110 with an electrode using the adhesive agent. Then, the first polarizing plate 400 and the backlight 500 are bonded together in this order on the surface of the liquid crystal element 200 ′ opposite to the surface on which the electrode-attached color filter substrate 110 is provided using an adhesive. A display device using the IPS liquid crystal element having the structure shown in FIG. The obtained display device did not include a defective portion and provided a normal display and touch position detection function.
(実施例3)
以下、本発明の実施例3について説明する。実施例3では、アルミノシリケートガラス/COPの積層構造を有する透明基板10’を含む電極付きカラーフィルタ基板110の製造工程を例示する。まず、実施例1と同様の手順を用いて、厚さ300μmのアルミノシリケートガラス製の透明基板10の第2面10bに、ブラックマトリクスおよびRGB着色層からなるカラーフィルタ30を形成した。
(Example 3)
Embodiment 3 of the present invention will be described below. In Example 3, the manufacturing process of the color filter substrate 110 with an electrode including the transparent substrate 10 ′ having a laminated structure of aluminosilicate glass / COP is illustrated. First, using the same procedure as in Example 1, a color filter 30 composed of a black matrix and an RGB colored layer was formed on the second surface 10b of the transparent substrate 10 made of aluminosilicate glass having a thickness of 300 μm.
別途、厚さ50μmのCOPフィルムを準備し、COPフィルムの一方の面にITO膜を成膜後、フォトリソ法によりパターニングを行った。この際に使用したCOPフィルムの熱収縮率は、流れ方向が0.05%、幅方向が0.02%であった。ITO膜の形成位置、ならびに膜厚やパターニング条件は実施例1において透明基板10の第1面10a上に施したものと同様である。その後、実施例1と同様の手順を用いて、第1電極20aおよび第2電極20bを形成した。 Separately, a COP film having a thickness of 50 μm was prepared, and after forming an ITO film on one surface of the COP film, patterning was performed by a photolithography method. The thermal shrinkage of the COP film used at this time was 0.05% in the flow direction and 0.02% in the width direction. The ITO film formation position, film thickness, and patterning conditions are the same as those applied to the first surface 10a of the transparent substrate 10 in Example 1. Thereafter, the same procedure as in Example 1 was used to form the first electrode 20a and the second electrode 20b.
最後に、接着剤を用いて、透明基板10の第1面10aと、COPフィルムの他方の面とを貼り合わせて、アルミノシリケートガラス/COPの積層構造を有する透明基板10’を含む電極付きカラーフィルタ基板110を得た。 Finally, using an adhesive, the first surface 10a of the transparent substrate 10 and the other surface of the COP film are bonded to each other, and a color with electrodes including a transparent substrate 10 'having a laminated structure of aluminosilicate glass / COP A filter substrate 110 was obtained.
(実施例4)
本発明の実施例4について説明する。実施例4では、実施例3で得られた電極付きカラーフィルタ基板110’を用いた表示装置の製造工程を例示する。実施例3で得られた電極付きカラーフィルタ基板110’を用いたことを除いて実施例2と同様の手順により、IPS液晶素子を含む表示装置を形成した。得られた表示装置は、不良部分を含まず、正常な表示およびタッチ位置検出機能を提供した。また、電極パターンとカラーフィルタのパターンとの位置ずれなく基板を貼り合せることができた。
Example 4
Embodiment 4 of the present invention will be described. In Example 4, a manufacturing process of a display device using the electrode-attached color filter substrate 110 ′ obtained in Example 3 is illustrated. A display device including an IPS liquid crystal element was formed by the same procedure as in Example 2 except that the electrode-attached color filter substrate 110 ′ obtained in Example 3 was used. The obtained display device did not include a defective portion and provided a normal display and touch position detection function. Further, the substrates could be bonded together without any positional deviation between the electrode pattern and the color filter pattern.
(実施例5)
以下、本発明の実施例5について説明する。実施例5では、図5に示す第1の実施形態に係る表示装置の製造工程について例示する。まず、実施例1と同様の手順を用いて、厚さ300μmのアルミノシリケートガラス製の透明基板10の第2面10bに、カラーフィルタ30を形成した。続いて、第2面10bのカラーフィルタ30の上に、印刷法を用いて配向膜を形成した。
(Example 5)
Embodiment 5 of the present invention will be described below. In Example 5, the manufacturing process of the display device according to the first embodiment shown in FIG. 5 is illustrated. First, using the same procedure as in Example 1, the color filter 30 was formed on the second surface 10b of the transparent substrate 10 made of aluminosilicate glass having a thickness of 300 μm. Subsequently, an alignment film was formed on the color filter 30 on the second surface 10b using a printing method.
次に、TFTを含むスイッチング回路および液晶駆動用電極を有する基板210を準備した。基板210の電極側の面に、印刷法を用いて配向膜を形成した。続いて、両基板の配向膜にラビング処理を行った。さらに、シール材を用いて透明基板10および基板210を、配向膜が対向するように貼り合わせ、両基板の間隙に液晶材料を注入して液晶層230を形成し、電極付きカラーフィルタ基板110に取り付けられた液晶素子200を得た。 Next, a substrate 210 having a switching circuit including TFTs and a liquid crystal driving electrode was prepared. An alignment film was formed on the electrode side surface of the substrate 210 by a printing method. Subsequently, rubbing treatment was performed on the alignment films of both substrates. Further, the transparent substrate 10 and the substrate 210 are bonded together using a sealing material so that the alignment films face each other, and a liquid crystal material is injected into a gap between the two substrates to form a liquid crystal layer 230. The attached liquid crystal element 200 was obtained.
続いて、透明基板10の第1面10aに、実施例1と同様の手順を用いて、第1電極20aおよび第2電極20bを形成し、液晶素子200が取り付けられた電極付きカラーフィルタ基板110を得た。 Subsequently, the first electrode 20a and the second electrode 20b are formed on the first surface 10a of the transparent substrate 10 using the same procedure as in Example 1, and the electrode-attached color filter substrate 110 to which the liquid crystal element 200 is attached. Got.
さらに、実施例2と同様の手順を用いて、基板210の液晶駆動用電極の液晶駆動用外部回路への接続、電極付きカラーフィルタ基板110の第1電極20aおよび第2電極20bのタッチセンサ駆動用外部回路への接続、接着剤による第1偏光板400、第2偏光板700、バックライト500、およびアルミノシリケートガラス製のカバー800の貼り合わせを行い、IPS液晶素子を含む表示装置を得た。得られた表示装置は、不良部分を含まず、正常な表示およびタッチ位置検出機能を提供した。 Further, using the same procedure as in the second embodiment, the liquid crystal driving electrode of the substrate 210 is connected to the liquid crystal driving external circuit, and the first sensor 20a and the second electrode 20b of the electrode-attached color filter substrate 110 are driven by the touch sensor. The first polarizing plate 400, the second polarizing plate 700, the backlight 500, and the cover 800 made of aluminosilicate glass were bonded to each other, and a display device including an IPS liquid crystal element was obtained. . The obtained display device did not include a defective portion and provided a normal display and touch position detection function.
(実施例6)
以下、本発明の実施例6について説明する。実施例6では、アルミノシリケートガラス/COPの積層構造を有する透明基板10’を含む電極付きカラーフィルタ基板110を用いた表示装置の製造工程を例示する。まず、実施例1と同様の手順を用いて、厚さ300μmのアルミノシリケートガラス製の透明基板10の第2面10bに、ブラックマトリクスおよびRGB着色層からなるカラーフィルタ30を形成した。続いて、カラーフィルタ30の上に、印刷法を用いて配向膜を形成した。
(Example 6)
Embodiment 6 of the present invention will be described below. In Example 6, a manufacturing process of a display device using the electrode-attached color filter substrate 110 including the transparent substrate 10 ′ having a laminated structure of aluminosilicate glass / COP is illustrated. First, using the same procedure as in Example 1, a color filter 30 composed of a black matrix and an RGB colored layer was formed on the second surface 10b of the transparent substrate 10 made of aluminosilicate glass having a thickness of 300 μm. Subsequently, an alignment film was formed on the color filter 30 by using a printing method.
次に、TFTを含むスイッチング回路および液晶駆動用電極を有する基板210を準備した。基板210の電極側の面に、印刷法を用いて配向膜を形成した。続いて、両基板の配向膜にラビング処理を行った。さらに、シール材を用いて透明基板10および基板210を、配向膜が対向するように貼り合わせ、両基板の間隙に液晶材料を注入して液晶層230を形成し、透明基板10に取り付けられた液晶素子200を得た。 Next, a substrate 210 having a switching circuit including TFTs and a liquid crystal driving electrode was prepared. An alignment film was formed on the electrode side surface of the substrate 210 by a printing method. Subsequently, rubbing treatment was performed on the alignment films of both substrates. Further, the transparent substrate 10 and the substrate 210 are bonded together using a sealing material so that the alignment films face each other, and a liquid crystal material is injected into a gap between the two substrates to form a liquid crystal layer 230 and attached to the transparent substrate 10. A liquid crystal element 200 was obtained.
別途、厚さ50μmのCOPフィルムを準備した。COPフィルムの一方の面にITO膜を成膜後、フォトリソ法によりパターニングを行った。COPフィルムの熱収縮率、ITO膜の形成位置、ならびに膜厚やパターニング条件は実施例1と同様である。その後、実施例1と同様の手順を用いて、第1電極20aおよび第2電極20bを形成した。 Separately, a COP film having a thickness of 50 μm was prepared. After forming an ITO film on one surface of the COP film, patterning was performed by a photolithography method. The thermal contraction rate of the COP film, the formation position of the ITO film, the film thickness and the patterning conditions are the same as in Example 1. Thereafter, the same procedure as in Example 1 was used to form the first electrode 20a and the second electrode 20b.
最後に、接着剤を用いて、透明基板10の第2面10bと、COPフィルムの他方の面とを貼り合わせて、アルミノシリケートガラス/COPの積層構造を有する透明基板10’を含む電極付きカラーフィルタ基板110に取り付けられた液晶素子200を得た。 Finally, using an adhesive, the second surface 10b of the transparent substrate 10 and the other surface of the COP film are bonded to each other, and a color with an electrode including a transparent substrate 10 'having a laminated structure of aluminosilicate glass / COP A liquid crystal element 200 attached to the filter substrate 110 was obtained.
さらに、実施例2と同様の手順を用いて、基板210の液晶駆動用電極の液晶駆動用外部回路への接続、電極付きカラーフィルタ基板110の第1電極20aおよび第2電極20bのタッチセンサ駆動用外部回路への接続、接着剤による第1偏光板400、第2偏光板700、バックライト500、およびアルミノシリケートガラス製のカバー800の貼り合わせを行い、IPS液晶素子を含む表示装置を得た。得られた表示装置は、不良部分を含まず、正常な表示およびタッチ位置検出機能を提供した。また、電極パターンとカラーフィルタのパターンとの位置ずれなく基板を貼り合せることができた。 Further, using the same procedure as in the second embodiment, the liquid crystal driving electrode of the substrate 210 is connected to the liquid crystal driving external circuit, and the first sensor 20a and the second electrode 20b of the electrode-attached color filter substrate 110 are driven by the touch sensor. The first polarizing plate 400, the second polarizing plate 700, the backlight 500, and the cover 800 made of aluminosilicate glass were bonded to each other, and a display device including an IPS liquid crystal element was obtained. . The obtained display device did not include a defective portion and provided a normal display and touch position detection function. Further, the substrates could be bonded together without any positional deviation between the electrode pattern and the color filter pattern.
10 透明基板
20a 第1電極
20b 第2電極
21a 第1タッチセンサ部
21b 第2タッチセンサ部
22a 第1取出配線部
22b 第2取出配線部
23 絶縁膜
24a 第1接続部
24b 第2接続部
25a 第1拡張部
25b 第2拡張部
30 カラーフィルタ
110 電極付きカラーフィルタ基板
200 液晶素子
210、220 基板
230 液晶層
400 第1偏光板
500 バックライト
700 第2偏光板
800 カバー
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transparent substrate 20a 1st electrode 20b 2nd electrode 21a 1st touch sensor part 21b 2nd touch sensor part 22a 1st extraction wiring part 22b 2nd extraction wiring part 23 Insulating film 24a 1st connection part 24b 2nd connection part 25a 2nd 1 extended portion 25b second extended portion 30 color filter 110 color filter substrate with electrode 200 liquid crystal element 210, 220 substrate 230 liquid crystal layer 400 first polarizing plate 500 backlight 700 second polarizing plate 800 cover
Claims (19)
前記第2面上に設けられたカラーフィルタと、
前記第1面上に形成された1または複数の第1電極と、
前記第1面上に形成された1または複数の第2電極と、
1または複数の絶縁膜と、
を備えた電極付きカラーフィルタ基板であって、
前記1または複数の第1電極の各々は、複数の第1拡張部及び1つまたは複数の第1接続部を有する第1タッチセンサ部と、第1取出配線部とを含み、隣接する2つの前記第1拡張部は前記第1接続部により接続され、
前記1または複数の第2電極の各々は、複数の第2拡張部及び1つまたは複数の第2接続部を有する第2タッチセンサ部と、第2取出配線部とを含み、隣接する2つの前記第2拡張部は前記第2接続部により接続され、
前記第1タッチセンサ部及び前記第2タッチセンサ部は、前記第1接続部および前記第2接続部において交差するように形成され、
前記1または複数の絶縁膜の各々は、前記第1接続部および前記第2接続部が交差する部分において前記第1接続部を覆うように前記第1接続部上に形成され、
前記第2接続部は、前記絶縁膜をまたぐように前記絶縁膜上に形成されていることを特徴とする電極付きカラーフィルタ基板。 A transparent substrate having a first surface and a second surface provided on the opposite side of the first surface;
A color filter provided on the second surface;
One or more first electrodes formed on the first surface;
One or more second electrodes formed on the first surface;
One or more insulating films;
A color filter substrate with an electrode comprising:
Each of the one or more first electrodes includes a first touch sensor unit having a plurality of first extension parts and one or more first connection parts, and a first lead-out wiring part. The first extension part is connected by the first connection part,
Each of the one or more second electrodes includes a second touch sensor unit having a plurality of second extension parts and one or more second connection parts, and a second lead-out wiring part. The second extension part is connected by the second connection part,
The first touch sensor unit and the second touch sensor unit are formed so as to intersect at the first connection unit and the second connection unit,
Each of the one or more insulating films is formed on the first connection portion so as to cover the first connection portion at a portion where the first connection portion and the second connection portion intersect,
The color filter substrate with an electrode, wherein the second connection portion is formed on the insulating film so as to straddle the insulating film.
前記カラーフィルタの底面に取り付けられた表示素子と、
を備えたことを特徴とする表示装置。 A color filter substrate with an electrode according to any one of claims 1 to 5,
A display element attached to the bottom surface of the color filter;
A display device comprising:
前記透明基板の第1面上に取り付けられた第2偏光板と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項6に記載の表示装置。 A first polarizing plate attached to the bottom surface of the display element;
A second polarizing plate attached on the first surface of the transparent substrate;
The display device according to claim 6, further comprising:
当該取り付けられた状態において、前記透明基板の前記第1面と前記表示素子の底面とに対してスリミング加工が実施されていることを特徴とする請求項6又は7に記載の表示装置。 The color filter and the display element are attached before the one or more first electrodes, the one or more second electrodes, and the one or more insulating films are formed on the first surface. And
The display device according to claim 6, wherein in the attached state, slimming is performed on the first surface of the transparent substrate and the bottom surface of the display element.
第1面と、前記第1面の反対側に設けられた第2面とを有する透明基板の前記第2面にカラーフィルタを形成する第1の工程と、
第1タッチセンサ部及び第1取出配線部を含む1又は複数の第1電極と、複数の第2拡張部および第2取出配線部を含む1又は複数の第2電極前駆体とを前記第1面上に形成する第2の工程であって、前記第1タッチセンサ部は、複数の第1拡張部と、1又は複数の第1接続部とを有し、隣接する2つの前記第1拡張部は前記第1接続部により接続される、第2の工程と、
前記1又は複数の第1電極の前記第1接続部上にそれぞれ絶縁膜を形成する第3の工程と、
前記絶縁膜をまたぐように前記絶縁膜上に1又は複数の第2接続部を形成することにより、前記1又は複数の第2電極前駆体から1又は複数の第2電極を得る第4の工程であって、前記第2電極前駆体の隣接する2つの前記第2拡張部は前記第2接続部により接続され、前記複数の第2拡張部と前記1又は複数の第2接続部とにより第2タッチセンサ部が構成される、第4の工程と、
を含み、
前記絶縁膜を形成する工程は、前記第1接続部および前記第2接続部が交差する部分において前記第1接続部を覆うように前記第1接続部上に前記絶縁膜を形成する工程であり、
前記第1タッチセンサ部及び前記第2タッチセンサ部は、前記第1接続部および前記第2接続部において交差するように形成されていることを特徴とする製造方法。 A method of manufacturing a color filter substrate with electrodes,
A first step of forming a color filter on the second surface of the transparent substrate having a first surface and a second surface provided on the opposite side of the first surface;
One or a plurality of first electrodes including a first touch sensor unit and a first extraction wiring portion, and one or a plurality of second electrode precursors including a plurality of second extension portions and a second extraction wiring portion are the first. 2nd process formed on a surface, Comprising: The said 1st touch sensor part has a some 1st extension part, and a 1 or several 1st connection part, and two said 1st extension that adjoins. Part is connected by the first connection part, a second step,
A third step of forming an insulating film on each of the first connection portions of the one or more first electrodes;
Fourth step of obtaining one or a plurality of second electrodes from the one or a plurality of second electrode precursors by forming one or a plurality of second connection portions on the insulating film so as to straddle the insulating film. Two adjacent second extension portions of the second electrode precursor are connected by the second connection portion, and the second extension portions and the one or more second connection portions are connected to each other by the second connection portion. A fourth step in which a two-touch sensor unit is configured;
Including
The step of forming the insulating film is a step of forming the insulating film on the first connection portion so as to cover the first connection portion at a portion where the first connection portion and the second connection portion intersect. ,
The manufacturing method, wherein the first touch sensor unit and the second touch sensor unit are formed so as to intersect at the first connection unit and the second connection unit.
第1面と、前記第1面の反対側に設けられた第2面とを有する透明基板の前記第2面にカラーフィルタを形成する第1の工程と、
第1タッチセンサ部及び第1取出配線部を含む1又は複数の第1電極と、複数の第2拡張部および第2取出配線部を含む1又は複数の第2電極前駆体とを前記第1面上に形成する第2の工程であって、前記第1タッチセンサ部は、複数の第1拡張部と、1又は複数の第1接続部とを有し、隣接する2つの前記第1拡張部は前記第1接続部により接続される、第2の工程と、
前記1又は複数の第1電極の前記第1接続部上にそれぞれ絶縁膜を形成する第3の工程と、
前記絶縁膜をまたぐように前記絶縁膜上に1又は複数の第2接続部を形成することにより、前記1又は複数の第2電極前駆体から1又は複数の第2電極を得る第4の工程であって、前記第2電極前駆体の隣接する2つの前記第2拡張部は前記第2接続部により接続され、前記複数の第2拡張部と前記1又は複数の第2接続部とにより第2タッチセンサ部が構成される、第4の工程と、
を含み、
前記絶縁膜を形成する工程は、前記第1接続部および前記第2接続部が交差する部分において前記第1接続部を覆うように前記第1接続部上に前記絶縁膜を形成する工程であり、
前記第1タッチセンサ部及び前記第2タッチセンサ部は、前記第1接続部および前記第2接続部において交差するように形成され、
前記製造方法は、前記第1の工程の後であって前記第2の工程の前に、又は前記第4の工程の後に、前記カラーフィルタの底面に表示素子を取り付ける工程をさらに含むことを特徴とする製造方法。 A method for manufacturing a display device, comprising:
A first step of forming a color filter on the second surface of the transparent substrate having a first surface and a second surface provided on the opposite side of the first surface;
One or a plurality of first electrodes including a first touch sensor unit and a first extraction wiring portion, and one or a plurality of second electrode precursors including a plurality of second extension portions and a second extraction wiring portion are the first. 2nd process formed on a surface, Comprising: The said 1st touch sensor part has a some 1st extension part, and a 1 or several 1st connection part, and two said 1st extension that adjoins. Part is connected by the first connection part, a second step,
A third step of forming an insulating film on each of the first connection portions of the one or more first electrodes;
Fourth step of obtaining one or a plurality of second electrodes from the one or a plurality of second electrode precursors by forming one or a plurality of second connection portions on the insulating film so as to straddle the insulating film. Two adjacent second extension portions of the second electrode precursor are connected by the second connection portion, and the second extension portions and the one or more second connection portions are connected to each other by the second connection portion. A fourth step in which a two-touch sensor unit is configured;
Including
The step of forming the insulating film is a step of forming the insulating film on the first connection portion so as to cover the first connection portion at a portion where the first connection portion and the second connection portion intersect. ,
The first touch sensor unit and the second touch sensor unit are formed so as to intersect at the first connection unit and the second connection unit,
The manufacturing method further includes a step of attaching a display element to the bottom surface of the color filter after the first step and before the second step or after the fourth step. Manufacturing method.
前記製造方法は、前記表示素子を取り付ける工程の後であって前記第2の工程の前に、当該取り付けられた状態において、前記透明基板の第1面及び前記表示素子の底面に対してスリミング加工を実施する工程をさらに含むことを特徴とする請求項11又は12に記載の製造方法。 The step of attaching the display element is a step of attaching the display element on the color filter after the first step and before the second step.
In the manufacturing method, after the step of attaching the display element and before the second step, the slimming process is performed on the first surface of the transparent substrate and the bottom surface of the display element in the attached state. The manufacturing method according to claim 11, further comprising a step of performing the step.
前記製造方法は、前記透明基板を前記素子領域毎に断裁する工程をさらに含むことを特徴とする請求項11乃至14のいずれかに記載の製造方法。 A plurality of element regions independent of other regions are provided on the first surface of the transparent substrate, and each of the plurality of element regions includes the one or more first electrodes and the one or more element regions. A second electrode is formed,
15. The manufacturing method according to claim 11, further comprising a step of cutting the transparent substrate for each element region.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2015119384A JP2017004367A (en) | 2015-06-12 | 2015-06-12 | Electrode-attached color filter substrate, display device including the same substrate, as well as manufacturing method of the same substrate and display device |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019009360A1 (en) * | 2017-07-06 | 2019-01-10 | Jsr株式会社 | Light emission device, organic electroluminescence device and method for manufacturing light emission device and organic electroluminescence device |
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2015
- 2015-06-12 JP JP2015119384A patent/JP2017004367A/en active Pending
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