JP2017142382A - Color filter substrate with electrode and liquid crystal display - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure with a high yield while avoiding complicated processes, particularly capable of responding to a demand for reducing thickness of a liquid crystal cell, and to provide a color filter substrate with an electrode, which stably operates, generally for the purpose of a tough sensor function, and a liquid crystal display including a touch sensor function.SOLUTION: The color filter substrate with an electrode includes at least a transparent substrate 1, a first electrode 2, a first transparent insulation layer 3 and a color filter layer 150 in the described order. The color filter layer 150 includes a black resin 4, a second electrode 5, a colored resin 6 and a protective layer 7. A surface of the color filter substrate 100 opposite to the transparent substrate 1 is covered with the protective layer 7 except for a certain part. The first electrode 2 and the second electrode 5 comprise a plurality of patterned electrodes extending in directions orthogonal to each other, in which the first electrode 2 is covered with the first transparent insulation layer 3 except for a certain part, and the second electrode 5 is disposed at a position overlapping a pattern of the black resin 4. The protective layer 7 has an opening that does not cover the first electrode 2 or the second electrode 5.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、電極付きカラーフィルタ基板、およびそれを用いた液晶ディスプレイに関する。本発明の電極付きカラーフィルタの電極は静電容量式タッチセンサの電極として作用し、タッチセンサ内蔵型液晶ディスプレイを提供する。   The present invention relates to a color filter substrate with electrodes and a liquid crystal display using the same. The electrode of the color filter with an electrode of the present invention acts as an electrode of a capacitive touch sensor to provide a touch sensor built-in type liquid crystal display.

近年、様々な電子機器のディスプレイ上に、入力デバイスとして透明なタッチパネルが用いられている。タッチパネルの方式としては、抵抗膜式、静電容量式などが挙げられる。抵抗膜式では上下の電極が接触することでタッチ位置を検出する。また静電容量式では指先などが触れた際の表面の静電容量の変化でタッチ位置を検出する。   In recent years, transparent touch panels have been used as input devices on displays of various electronic devices. Examples of the touch panel system include a resistance film type and a capacitance type. In the resistive film type, the touch position is detected by contacting the upper and lower electrodes. In the capacitance type, the touch position is detected by a change in the surface capacitance when a fingertip or the like touches.

静電容量式タッチパネルのセンサーはPETフィルムなどの樹脂基板やガラス基板に電極パターンとして作製し、ディスプレイ構造の外側に配置されるアウトセル構造が一般的に用いられている。(例えば、特許文献1参照)   A sensor for a capacitive touch panel is generally used as an out-cell structure that is manufactured as an electrode pattern on a resin substrate such as a PET film or a glass substrate and is arranged outside the display structure. (For example, see Patent Document 1)

一方、近年ではタッチセンサをディスプレイ構造に組み込むインセル構造やオンセル構造が採用され始めており、タッチセンサ付きディスプレイをより薄型・軽量化する取り組みがなされている。(例えば、特許文献2、特許文献3、特許文献4、特許文献5参照)   On the other hand, recently, an in-cell structure or an on-cell structure in which a touch sensor is incorporated into a display structure has begun to be adopted, and efforts have been made to make the display with a touch sensor thinner and lighter. (For example, see Patent Document 2, Patent Document 3, Patent Document 4, and Patent Document 5)

特開2007−178758号公報JP 2007-178758 A 特許第4816668号Japanese Patent No. 4816668 特許第4584342号Japanese Patent No. 4584342 特開2014−063484号公報JP 2014-063484 A 特開2015−111318号公報JP 2015-1111318 A 特開平6−273936号公報JP-A-6-273936 特開平10−98266号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-98266 特開2003−122004号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-122004 特開昭48−89003号公報JP 48-89003 A 特開昭60−3625号公報JP 60-3625 A 特開昭63−27829号公報JP 63-27829 A

しかしながら、インセル構造はディプレイ表示の駆動回路であるTFT基板にタッチセンサの回路を組み込む必要があり、従来から設計やプロセスの煩雑さとそれに伴う良品収率の悪化が伴うことが指摘されていた(特許文献3、5)。またオンセル構造は、特に液晶ディスプレイの場合、液晶を封入したセルの状態でタッチセンサを形成するため、熱などのプロセス条件による液晶へのダメージを考慮したプロセス設計に課題があり、また薄型化した液晶セルに対し、複雑なタッチセンサ形成工程を経ることで良品収率の悪化が生じていた(特許文献2および特許文献4参照)。   However, it has been pointed out that the in-cell structure requires the touch sensor circuit to be incorporated in the TFT substrate, which is a display display drive circuit, and that the design and process are complicated and the yield of non-defective products is accompanied by this. Patent Documents 3 and 5). In addition, the on-cell structure, especially in the case of liquid crystal displays, has a problem in process design that takes into account damage to the liquid crystal due to process conditions such as heat because the touch sensor is formed in the state of the cell in which the liquid crystal is sealed, and has become thinner. The yield of non-defective products has deteriorated due to the complicated touch sensor formation process for the liquid crystal cell (see Patent Document 2 and Patent Document 4).

そこで本発明は、煩雑なプロセスを回避し歩留まりよく、特に液晶セル厚の薄型化に対応可能な構造を提供し、安定に動作する主にタッチセンサ機能に向けた電極付きカラーフィルタ基板、およびタッチセンサ機能を内蔵した液晶ディスプレイを提供するものである。   Accordingly, the present invention provides a structure that can avoid complicated processes and has a high yield, and in particular, can cope with the thinning of the liquid crystal cell thickness. The color filter substrate with electrodes mainly for the touch sensor function that operates stably, and the touch A liquid crystal display with a built-in sensor function is provided.

本発明の電極付きカラーフィルタ基板は、少なくとも透明基材、第一電極、第一透明絶縁層、カラーフィルタ層をこの順に備え、
前記カラーフィルタ層は黒色樹脂、第二電極、着色樹脂、保護層を含み、
前記カラーフィルタ基板の前記透明基材と反対側に位置する表面は一部を除いて前記保護層に覆われており、
前記第一電極および前記第二電極は互いが直交する方向に延伸する複数のパターン化された電極からなり、
前記第一電極は一部を除いて前記第一透明絶縁層に覆われており、
前記第二電極は前記黒色樹脂のパターンと重なる位置に配置され、
前記保護層は前記第一電極または前記第二電極を覆わない開口部を有することを特徴とする。
The color filter substrate with an electrode of the present invention comprises at least a transparent substrate, a first electrode, a first transparent insulating layer, and a color filter layer in this order,
The color filter layer includes a black resin, a second electrode, a colored resin, a protective layer,
The surface located on the opposite side of the transparent substrate of the color filter substrate is covered with the protective layer except for a part thereof,
The first electrode and the second electrode are composed of a plurality of patterned electrodes extending in directions perpendicular to each other,
The first electrode is covered with the first transparent insulating layer except for a part,
The second electrode is disposed at a position overlapping the black resin pattern,
The protective layer has an opening that does not cover the first electrode or the second electrode.

本発明の一実施態様において、第一透明絶縁層は厚さが1〜25μmであることが好ましく、比誘電率が3.3以下であり、の屈折率が1.60以上2.00以下であってもよい。   In one embodiment of the present invention, the first transparent insulating layer preferably has a thickness of 1 to 25 μm, a relative dielectric constant of 3.3 or less, and a refractive index of 1.60 or more and 2.00 or less. There may be.

また、本発明の他の実施態様において、第一電極の複数のパターン化された電極は、電極間に電気的に接続されていないダミーパターンを有し、該第一電極およびダミーパターンは、第一電極が延伸する方向に連続する形状が、黒色樹脂の前記第一電極が延伸する方向に連続する形状とピッチが一致する。   Further, in another embodiment of the present invention, the plurality of patterned electrodes of the first electrode have a dummy pattern that is not electrically connected between the electrodes, and the first electrode and the dummy pattern have the first electrode The pitch of the shape that continues in the direction in which one electrode extends is the same as the pitch that continues in the direction in which the first electrode of the black resin extends.

本発明の一実施態様において、第一透明絶縁層は、第一電極を覆わない開口部を有してもよく、また、第一透明絶縁層の第一電極を覆わない開口部が、保護層の第二電極を覆わない開口部と同じ位置に配置されていてもよい。さらに、第一透明絶縁層の第一電極を覆わない開口部は、その上に第二電極と同じ材料で構成された第一導電層が形成されていてもよい。   In one embodiment of the present invention, the first transparent insulating layer may have an opening that does not cover the first electrode, and the opening that does not cover the first electrode of the first transparent insulating layer is a protective layer. The second electrode may be disposed at the same position as the opening that does not cover the second electrode. Furthermore, the first conductive layer made of the same material as the second electrode may be formed on the opening of the first transparent insulating layer that does not cover the first electrode.

本発明の他の実施態様において、保護層は、第一導電層を覆わない開口部を有してもよく、また、保護層の第一電極または第二電極または第一導電層を覆わない開口部は、第一導電層の上部にさらに第二導電層が積層されており、第二導電層は第一電極または第二電極または第一導電層と電気的に接続することができる。   In another embodiment of the present invention, the protective layer may have an opening that does not cover the first conductive layer, and the opening that does not cover the first electrode or the second electrode of the protective layer or the first conductive layer. The part further includes a second conductive layer laminated on the first conductive layer, and the second conductive layer can be electrically connected to the first electrode, the second electrode, or the first conductive layer.

また、本発明の一実施態様では、保護層上にさらにスペーサが形成されており、スペーサは黒色樹脂と重なる位置に配置され、透明基材の保護層と反対側の表面からスペーサの頂点までの距離は、保護層の透明基材と反対側の面から第二導電層の頂点までの距離と一致するか、または短くてもよい。   Further, in one embodiment of the present invention, a spacer is further formed on the protective layer, the spacer is disposed at a position overlapping with the black resin, and from the surface opposite to the protective layer of the transparent substrate to the apex of the spacer. The distance may be equal to or shorter than the distance from the surface of the protective layer opposite to the transparent substrate to the vertex of the second conductive layer.

さらに本発明は、上記電極付きカラーフィルタ基板を用いた表示装置に関する。本発明の一実施態様において、表示装置は液晶ディスプレイであり、(i)少なくとも共通電極と画素電極を有し、表示の点灯をする薄膜トランジスタを有するTFT基板と、(ii)電極付きカラーフィルタ基板と、(iii)TFT基板の画素電極上および電極付きカラーフィルタ基板の保護層上に形成された配向膜と、(iv)液晶とを含み、電極付きカラーフィルタ基板の第一電極および第二電極がタッチセンサとして作用するタッチパネル内蔵液晶ディスプレイを提供する。好ましくは、TFT基板の画素電極とカラーフィルタ基板の第二電極とが、透明基材から該基板の積層方向に向かって観察した際に重なり合わない位置に存在する。また、第一電極または第二電極がTFT基板上に形成された配線と電気的に接続されていてもよい。   Furthermore, the present invention relates to a display device using the color filter substrate with electrodes. In one embodiment of the present invention, the display device is a liquid crystal display, and (i) a TFT substrate having at least a common electrode and a pixel electrode and having a thin film transistor for lighting a display; (ii) a color filter substrate with an electrode; (Iii) an alignment film formed on the pixel electrode of the TFT substrate and on the protective layer of the color filter substrate with an electrode; and (iv) a liquid crystal, and the first electrode and the second electrode of the color filter substrate with an electrode are Provided is a liquid crystal display with a built-in touch panel that acts as a touch sensor. Preferably, the pixel electrode of the TFT substrate and the second electrode of the color filter substrate are present at a position where they do not overlap when observed from the transparent base material in the stacking direction of the substrate. Further, the first electrode or the second electrode may be electrically connected to a wiring formed on the TFT substrate.

本発明の他の実施態様において、本発明は、上記電極付きカラーフィルタ基板を用いた液晶ディスプレイであり、少なくとも共通電極と画素電極を有し、表示の点灯をする薄膜トランジスタを有するTFT基板と、前記電極付きカラーフィルタ基板と、前記TFT基板の画素電極上および前記電極付きカラーフィルタ基板の保護層上に形成された配向膜と、液晶を含み、前記電極付きカラーフィルタ基板の第一電極および第二電極がタッチセンサとして作用するタッチパネル内蔵液晶ディスプレイであって、第一電極または第二電極が第二導電層を経由してTFT基板上に形成された配線と電気的に接続されており、第二導電層が銀ペーストまたは金属層を表面に有するポリマー微粒子を混入させた接着剤であることを特徴とする。   In another embodiment of the present invention, the present invention provides a liquid crystal display using the above-described color filter substrate with an electrode, comprising at least a common electrode and a pixel electrode, a TFT substrate having a thin film transistor for lighting a display, A color filter substrate with electrodes; an alignment film formed on a pixel electrode of the TFT substrate and a protective layer of the color filter substrate with electrodes; and a liquid crystal, and a first electrode and a second electrode of the color filter substrate with electrodes A liquid crystal display with a built-in touch panel in which an electrode functions as a touch sensor, wherein the first electrode or the second electrode is electrically connected to the wiring formed on the TFT substrate via the second conductive layer, The conductive layer is an adhesive mixed with silver paste or polymer fine particles having a metal layer on the surface.

好ましくは、本発明の液晶は横電界またはフリンジ電界により配向方向を制御するIPS液晶またはFFS液晶であり、また負の誘電率異方性を有してもよい。   Preferably, the liquid crystal of the present invention is an IPS liquid crystal or an FFS liquid crystal whose orientation direction is controlled by a lateral electric field or a fringe electric field, and may have a negative dielectric anisotropy.

本発明の他の実施態様において、タッチセンサおよびTFTの駆動回路がいずれもTFT基板上の配線を経由してTFT基板上に実装されたドライバLSIに接続されており、ドライバLSIは液晶表示およびタッチセンサ駆動のそれぞれを動作させる統合型ドライバLSIであってもよい。   In another embodiment of the present invention, both the touch sensor and the TFT drive circuit are connected to a driver LSI mounted on the TFT substrate via wiring on the TFT substrate, and the driver LSI is connected to the liquid crystal display and touch. It may be an integrated driver LSI that operates each sensor drive.

また、本発明において、透明基材またはTFT基板に用いた基材のいずれかの厚みは150μm未満であることができる。   In the present invention, the thickness of either the transparent substrate or the substrate used for the TFT substrate can be less than 150 μm.

本発明によれば、煩雑なプロセスを回避し歩留まりよく、特に液晶セル厚の薄型化に対応可能な構造を提供し、安定に動作する主にタッチセンサ機能に向けた電極付きカラーフィルタ基板、およびタッチセンサ機能を内蔵した液晶ディスプレイを提供する。   According to the present invention, a color filter substrate with an electrode mainly for a touch sensor function that stably operates and provides a structure capable of avoiding complicated processes and having a high yield, particularly capable of dealing with thinning of the liquid crystal cell thickness, and A liquid crystal display with a built-in touch sensor function is provided.

本発明の実施例における電極付きカラーフィルタ基板の電極配置を模式的に表した平面図の一例を示す。An example of the top view which represented typically the electrode arrangement | positioning of the color filter substrate with an electrode in the Example of this invention is shown. 本発明の実勢例における電極付きカラーフィルタ基板の図1の点線Aに対応する箇所の断面図の一例を示す。An example of the sectional view of the part corresponding to the dotted line A of Drawing 1 of the color filter substrate with an electrode in the example of practice of the present invention is shown. 本発明の実勢例における電極付きカラーフィルタ基板の図1の点線Bに対応する箇所の断面図の一例を示す。An example of the sectional view of the portion corresponding to the dotted line B of Drawing 1 of the color filter substrate with an electrode in the example of practice of the present invention is shown. 本発明の実施例における液晶セルの模式的な断面図の例を示す。The example of typical sectional drawing of the liquid crystal cell in the Example of this invention is shown. 本発明の実施例における電極付きカラーフィルタ基板の第一電極を第二導電層と電気的に接続した構造を表す模式的な部分断面図の例を示す。The example of the typical fragmentary sectional view showing the structure which electrically connected the 1st electrode of the color filter substrate with an electrode in the Example of this invention with the 2nd conductive layer is shown. 本発明の実施例における電極付きカラーフィルタ基板の第二電極を第二導電層と電気的に接続した構造を表す模式的な部分断面図の例を示す。The example of typical fragmentary sectional drawing showing the structure which electrically connected the 2nd electrode of the color filter substrate with an electrode in the Example of this invention with the 2nd conductive layer is shown. 本発明の実施例における電極付きカラーフィルタ基板の第一電極を第二導電層経由でTFT基板上の第一配線と電気的に接続した構造を表す模式的な部分断面図の例を示す。The example of the typical fragmentary sectional view showing the structure which electrically connected the 1st electrode of the color filter substrate with an electrode in the Example of this invention with the 1st wiring on a TFT substrate via a 2nd conductive layer is shown. 本発明の実施例における電極付きカラーフィルタ基板の第二電極を第二導電層経由でTFT基板上の第二配線と電気的に接続した構造を表す模式的な部分断面図の例を示す。The example of the typical fragmentary sectional view showing the structure which electrically connected the 2nd electrode of the color filter substrate with an electrode in the Example of this invention with the 2nd wiring on a TFT substrate via a 2nd conductive layer is shown. 本発明の実施例における液晶ディスプレイの模式的な断面図の例を示す。The example of typical sectional drawing of the liquid crystal display in the Example of this invention is shown.

以下、本発明を実施するための形態を、図面を用いて説明する。なお、以下に示す実施形態は、本発明の単なる一例であって、当業者であれば、適宜設計変更可能である。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. The following embodiment is merely an example of the present invention, and those skilled in the art can change the design as appropriate.

[電極付きカラーフィルタ基板]
本発明の電極付きカラーフィルタ基板100は、第一透明基材1、第一電極2、第一透明絶縁層3、黒色樹脂4、第二電極5、着色樹脂6、保護層7を備え、着色樹脂に対応する色の光を透過するカラーフィルタとして機能する(図1〜3参照)。さらに、本発明の電極付きカラーフィルタ基板100は、図4のように液晶17およびTFT基板200と組み合わせることで表示セル300を提供できる。
[Color filter substrate with electrodes]
The color filter substrate 100 with an electrode of the present invention includes a first transparent substrate 1, a first electrode 2, a first transparent insulating layer 3, a black resin 4, a second electrode 5, a colored resin 6, and a protective layer 7, and is colored. It functions as a color filter that transmits light of a color corresponding to the resin (see FIGS. 1 to 3). Furthermore, the color filter substrate 100 with an electrode of the present invention can provide the display cell 300 by combining with the liquid crystal 17 and the TFT substrate 200 as shown in FIG.

<透明基材>
第一透明基材1および第二透明基材16は、成膜工程および後工程において十分な強度があり、優れた透明性を有し、表面の平滑性が良好であれば特に限定されない。第一透明基材1および第二透明基材16として、ガラスまたはプラスチックフィルムを用いることができる。ガラスとしてはディスプレイ用途の無アルカリガラスが好適に使用される。プラスチックフィルムとしては例えば、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリアリレートフィルム、環状ポリオレフィンフィルム、ポリイミドフィルムなどが挙げられる。また、第一透明基材1および第二透明基材16は、典型的には表示装置のカラーフィルタおよびTFT基板に用いられるため、高い透明性を有する。好ましくは、全光透過率が85%以上のものが使用される。また非常に低いリタデーションを持つことが好ましく、深さ方向のリタデーションRthが10nm以下であるものが好適に使用される。第一透明基材1および第二透明基材16は、各層との密着性を改善するために、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理、薬品処理などを施してもよい。
<Transparent substrate>
The first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 16 are not particularly limited as long as they have sufficient strength in the film forming step and the subsequent step, have excellent transparency, and have good surface smoothness. As the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 16, glass or a plastic film can be used. As the glass, alkali-free glass for display is preferably used. Examples of the plastic film include a polycarbonate film, a polyethersulfone film, a polysulfone film, a polyarylate film, a cyclic polyolefin film, and a polyimide film. Moreover, since the 1st transparent base material 1 and the 2nd transparent base material 16 are typically used for the color filter and TFT substrate of a display apparatus, they have high transparency. Preferably, the total light transmittance is 85% or more. Moreover, it is preferable to have a very low retardation, and those having a retardation Rth in the depth direction of 10 nm or less are suitably used. The first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 16 may be subjected to corona treatment, low-temperature plasma treatment, ion bombardment treatment, chemical treatment, etc. as pretreatment in order to improve adhesion with each layer.

<第一電極>
第一電極2は、後述する第二電極5と共にタッチセンサ部の電極を形成する。第一電極2には、実質的に透明な導電材を用いることができる。例えば、酸化インジウムスズ(ITO)のような薄膜をパターニングしたもの、銀ナノワイヤーのように塗工したのちパターニングしたもの、あるいは銅や銀のような金属材料をメッシュ状にパターニングしたものを使用することができる。その他の材料としては酸化錫や酸化亜鉛にドープ材料を添加したもの、カーボンナノチューブや導電性高分子なども使用することができる。また、銀薄膜の上下をITOのような金属酸化物で挟んだ積層構造も用いることができる。ITOを第一電極2として用いる場合、酸化インジウムにドープされる酸化スズの含有比はデバイスに求められる仕様に応じて、任意の割合を選択してもよい。例えば、機械強度を高める目的で薄膜を結晶化させる場合、用いるスパッタリングターゲット材料は、酸化スズの含有比が10重量%未満であることが好ましい。一方、薄膜をアモルファス化しフレキシブル性を持たせるためには、酸化スズの含有比は10重量%以上が好ましい。また、薄膜に低抵抗が求められる場合は、酸化スズの含有比は2重量%から20重量%の範囲が好ましい。
<First electrode>
The 1st electrode 2 forms the electrode of a touch sensor part with the 2nd electrode 5 mentioned later. A substantially transparent conductive material can be used for the first electrode 2. For example, a thin film such as indium tin oxide (ITO) patterned, a silver nanowire coated and patterned, or a metal material such as copper or silver patterned in mesh be able to. As other materials, tin oxide or zinc oxide to which a doping material is added, carbon nanotubes, conductive polymers, and the like can also be used. A laminated structure in which the upper and lower sides of a silver thin film are sandwiched between metal oxides such as ITO can also be used. When ITO is used as the first electrode 2, the content ratio of tin oxide doped in indium oxide may be selected in any proportion according to the specifications required for the device. For example, when the thin film is crystallized for the purpose of increasing mechanical strength, the sputtering target material used preferably has a tin oxide content of less than 10% by weight. On the other hand, in order to make the thin film amorphous and have flexibility, the content ratio of tin oxide is preferably 10% by weight or more. Moreover, when low resistance is calculated | required by a thin film, the content rate of a tin oxide has the preferable range of 2 to 20 weight%.

第一電極2としてITOのような薄膜を用いる場合の製造方法としては、膜厚の制御が可能であればいかなる成膜方法でもよく、中でも乾式の真空蒸着法、スパッタリングなどの物理的気相析出法やCVD法のような化学的気相析出法を好適に用いることができる。特に大面積に均一な膜質の薄膜を形成するために、プロセスが安定し、薄膜が緻密化するスパッタリング法が好ましい。   As a manufacturing method when a thin film such as ITO is used as the first electrode 2, any film forming method can be used as long as the film thickness can be controlled. Among them, physical vapor deposition such as dry vacuum deposition and sputtering is possible. A chemical vapor deposition method such as a CVD method or a CVD method can be preferably used. In particular, in order to form a thin film having a uniform film quality over a large area, a sputtering method in which the process is stable and the thin film becomes dense is preferable.

第一電極2として銀ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、グラフェン、導電性高分子のような材料を用いる場合は、これらを有機溶剤やアルコール、水などに溶解あるいは分散させることで、塗工、乾燥により所望の形状を有する電極を形成することができる。詳細には、スプレーコート、バーコート、ロールコート、ダイコート、インクジェットコート、スクリーンコート、ディップコートなど公知の塗布方法を用いることができる。形成した銀ナノワイヤーは互いに絡み合って網の目状となることで、少ない量の導電性物質であっても良好な電気伝導経路を形成することができ、抵抗値をより低下させることができる。さらにこのような網の目状を形成した場合、網の目の隙間部分の開口が大きいので、たとえ繊維状の導電性物質そのものが透明でなかったとしても、塗膜として良好な透明性を達成することが可能である。   When materials such as silver nanowires, carbon nanotubes, graphene, and conductive polymers are used as the first electrode 2, they can be dissolved or dispersed in an organic solvent, alcohol, water, etc., and then desired by coating and drying. An electrode having the following shape can be formed. Specifically, a known coating method such as spray coating, bar coating, roll coating, die coating, ink jet coating, screen coating, dip coating can be used. The formed silver nanowires are entangled with each other to form a network, so that even with a small amount of conductive material, a good electrical conduction path can be formed and the resistance value can be further reduced. Furthermore, when such a mesh-like shape is formed, since the opening of the gap portion of the mesh is large, even if the fibrous conductive material itself is not transparent, it achieves good transparency as a coating film. Is possible.

また、第一電極2として銅や銀のような金属材料をメッシュ状にパターニングして用いる場合は、予めスパッタリングなどで成膜するか金属箔を貼り合わせたものをエッチングにより開口の大きなメッシュ状にパターニングすることで形成することができる。銅や銀の代わりに、その他の材料としてアルミニウムも好適に使用される。メッシュの線幅や開口率は透過率やパターンの露出に影響するため、線幅は5μm以下、開口率は透過率が90%以上になるように設定することが好ましい。また金属メッシュの最表面は光の反射により視認されやくなるため、反射防止層や遮光層を設けてもよい。好ましくは、第一電極2の表面反射率が20%以下になるように設けることができる。   In addition, when a metal material such as copper or silver is used for the first electrode 2 by patterning in a mesh shape, a film having a large opening is formed by etching in advance by sputtering or by attaching a metal foil. It can be formed by patterning. Instead of copper or silver, aluminum is also preferably used as another material. Since the line width and aperture ratio of the mesh affect the transmittance and pattern exposure, it is preferable to set the line width to 5 μm or less and the aperture ratio to be 90% or more. Further, since the outermost surface of the metal mesh is easily recognized by light reflection, an antireflection layer or a light shielding layer may be provided. Preferably, it can provide so that the surface reflectance of the 1st electrode 2 may be 20% or less.

第一電極2の膜厚は薄すぎると導体としての十分な導電性が達成出来なくなる傾向にあり、厚すぎるとヘイズ値の上昇、全光線透過率の低下等で透明性が損なわれる傾向にある。例えば、10nm〜500nmの膜厚で形成されるが、これらに限定されるものではない。第一電極2の材料が金属ナノワイヤーのように透明でない場合には、膜厚の増加によって透明性が失われやすく、より薄い膜厚の導電層が形成されることが好ましい。この場合開口部の面積を大きくする一方、接触式の膜厚計で測定したときに平均膜厚として10nm〜500nmの膜厚範囲が好ましく、30nm〜300nmがより好ましく、50nm〜150nmが最も好ましい。   If the film thickness of the first electrode 2 is too thin, sufficient conductivity as a conductor tends not to be achieved. If it is too thick, transparency tends to be impaired due to an increase in haze value, a decrease in total light transmittance, and the like. . For example, it is formed with a film thickness of 10 nm to 500 nm, but is not limited thereto. When the material of the first electrode 2 is not transparent like metal nanowires, the transparency is easily lost due to the increase in the film thickness, and it is preferable that a thinner conductive layer is formed. In this case, while increasing the area of the opening, the average film thickness is preferably 10 nm to 500 nm, more preferably 30 nm to 300 nm, and most preferably 50 nm to 150 nm when measured with a contact-type film thickness meter.

<第一透明絶縁層>
第一透明絶縁層3は第一電極2と第二電極5に挟まれた位置に形成され、第一電極2および第二電極5を静電容量式のタッチセンサとして用いる場合、電極間の容量を決める層の一つとなる。
<First transparent insulating layer>
The first transparent insulating layer 3 is formed at a position sandwiched between the first electrode 2 and the second electrode 5. When the first electrode 2 and the second electrode 5 are used as a capacitive touch sensor, the capacitance between the electrodes It becomes one of the layers that decides.

電極間容量は静電容量式タッチセンサの重要なパラメータであり、電極の重なり面積、電極間距離、電極間絶縁層の誘電率により決定される値である。電極間容量が大きくなりすぎるとタッチセンシング感度が悪化することから第一透明絶縁層3の比誘電率は3.3以下であることが好ましい。また、第一電極2のパターンの露出を抑制し、十分な光の透過率を得るために第一透明絶縁層3の屈折率は1.60以上2.00以下であることが好ましい。   The interelectrode capacitance is an important parameter of the capacitive touch sensor, and is a value determined by the overlapping area of the electrodes, the interelectrode distance, and the dielectric constant of the interelectrode insulating layer. Since the touch sensing sensitivity deteriorates when the interelectrode capacitance becomes too large, the relative dielectric constant of the first transparent insulating layer 3 is preferably 3.3 or less. Further, in order to suppress the exposure of the pattern of the first electrode 2 and obtain a sufficient light transmittance, the refractive index of the first transparent insulating layer 3 is preferably 1.60 or more and 2.00 or less.

第一透明絶縁層3には透明で絶縁性に優れ、パターニング可能で表面の平坦性に優れる材料が使用できる。   The first transparent insulating layer 3 can be made of a material that is transparent and excellent in insulation, can be patterned, and has excellent surface flatness.

樹脂材料を用いる場合、例えば感光性樹脂を露光して硬化させ、形成してもよい。感光性樹脂は、ネガ型感光性樹脂であっても、ポジ型感光性樹脂であってもよい。ネガ型感光性樹脂は、一般的に、バインダー材料、光重合性材料、光重合開始剤を少なくとも含有する材料から構成されるが、特に限定されない。ネガ型感光性樹脂として、例えば特許文献6〜8に記載の材料を用いることができる。また、ポジ型感光性樹脂は、一般的に、アルカリ可溶性樹脂材料、光酸発生材料、酸分解性官能基含有化合物等を含有する材料から形成されるが、特に限定されない。ポジ型感光性樹脂として、例えば特許文献9〜11に記載の材料を用いることができる。   When using a resin material, for example, a photosensitive resin may be exposed and cured to form. The photosensitive resin may be a negative photosensitive resin or a positive photosensitive resin. The negative photosensitive resin is generally composed of a binder material, a photopolymerizable material, and a material containing at least a photopolymerization initiator, but is not particularly limited. For example, the materials described in Patent Documents 6 to 8 can be used as the negative photosensitive resin. The positive photosensitive resin is generally formed from a material containing an alkali-soluble resin material, a photoacid generating material, an acid-decomposable functional group-containing compound, etc., but is not particularly limited. As the positive photosensitive resin, for example, materials described in Patent Documents 9 to 11 can be used.

感光性樹脂は、ダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター、マイクログラビアコーターなどの公知の塗布方法で上記材料を塗布した後、乾燥することで膜形成できる。さらに、フォトマスクを介した光照射により、現像液に可溶な部分と不溶な部分ができる。感光性樹脂の現像液に可溶な部分は現像により溶解し、不溶な部分からなるパターンを形成できる。現像液は感光性樹脂またはその材料の種類により適宜選択でき、一般的にアルカリ水溶液または有機溶剤とすることができる。   The photosensitive resin is dried after applying the above materials by a known coating method such as a die coater, curtain flow coater, roll coater, reverse roll coater, gravure coater, knife coater, bar coater, spin coater, micro gravure coater, etc. Thus, a film can be formed. Furthermore, light irradiation through a photomask produces a part soluble in the developer and an insoluble part. A portion soluble in the developer of the photosensitive resin is dissolved by development, and a pattern composed of an insoluble portion can be formed. The developer can be appropriately selected depending on the kind of the photosensitive resin or its material, and can generally be an alkaline aqueous solution or an organic solvent.

第一透明絶縁層3に無機材料を用いる場合、例えば窒化珪素、酸窒化珪素、酸化アルミを用いることができる。これら無機材料を用いた第一透明絶縁層3の形成には乾式の真空蒸着法、スパッタリングなどの物理的気相析出法やCVD法のような化学的気相析出法を好適に用いることができる。特に絶縁性に優れ、平坦性の高い緻密な薄膜を形成することが可能なCVD法が好適に使用されるが、近年開発が進んだ原子層堆積法(ALD法)を使用してもよい。これらの無機材料のパターニングには、これらに限定されないが、CF4やCl2など腐食性のガスを含むプラズマを用いるドライエッチング法を用いることができる。 When an inorganic material is used for the first transparent insulating layer 3, for example, silicon nitride, silicon oxynitride, or aluminum oxide can be used. For the formation of the first transparent insulating layer 3 using these inorganic materials, a dry vapor deposition method, a physical vapor deposition method such as sputtering, or a chemical vapor deposition method such as a CVD method can be suitably used. . In particular, a CVD method that can form a dense thin film having excellent insulating properties and high flatness is preferably used, but an atomic layer deposition method (ALD method) that has recently been developed may be used. For the patterning of these inorganic materials, a dry etching method using plasma containing a corrosive gas such as CF 4 or Cl 2 can be used, although not limited thereto.

また、本発明の電極付きカラーフィルタ基板を液晶ディスプレイとして用いる場合、第一透明絶縁層3は第一電極2と液晶配向を決めるTFT基板上の画素電極13との間の距離を決定する。電極間距離を決定する構成は黒色樹脂4、着色樹脂6、保護層7、液晶17なども存在するが、これらの形状は液晶表示の透過率、色度、画素間の混色、視野角の最適化により決定されており、柔軟に層厚の変更ができない。そこで本発明では、第一透明絶縁層3によって第一電極2と画素電極13の間の距離を調整する。   When the color filter substrate with electrodes of the present invention is used as a liquid crystal display, the first transparent insulating layer 3 determines the distance between the first electrode 2 and the pixel electrode 13 on the TFT substrate that determines the liquid crystal alignment. There are black resin 4, colored resin 6, protective layer 7, liquid crystal 17 and the like that determine the distance between the electrodes, but these shapes are optimal for liquid crystal display transmittance, chromaticity, color mixture between pixels, and viewing angle. The layer thickness cannot be changed flexibly. Therefore, in the present invention, the distance between the first electrode 2 and the pixel electrode 13 is adjusted by the first transparent insulating layer 3.

第一透明絶縁層3の厚さは、誘電率等の形成する材料の性質にもよるが、1〜25μmが好ましく、より好ましくは1〜10μmである。第一透明絶縁層3が薄すぎるとTFT基板上の電極とのカップリングにより寄生容量が大きくなり、タッチセンサおよび液晶駆動が制御困難になる他、画素電極とコモン電極間で生じる電界を乱すため液晶の配向制御が難しくなる。また、厚すぎるとカラーフィルタ基板の層厚が厚くなり、またパターニングおよび位置合わせプロセスに困難が生じる。   The thickness of the first transparent insulating layer 3 is preferably 1 to 25 μm, more preferably 1 to 10 μm, although it depends on the properties of the material to be formed such as dielectric constant. If the first transparent insulating layer 3 is too thin, the parasitic capacitance increases due to coupling with the electrode on the TFT substrate, the touch sensor and the liquid crystal drive become difficult to control, and the electric field generated between the pixel electrode and the common electrode is disturbed. It becomes difficult to control the alignment of the liquid crystal. On the other hand, if it is too thick, the layer thickness of the color filter substrate becomes thick, and the patterning and alignment process becomes difficult.

<カラーフィルタ層>
第一透明絶縁層3の上部には、カラーフィルタ層150が形成されている。カラーフィルタ層150は、黒色樹脂4からなるブラックマトリクスと、赤、緑および青色の各色の着色樹脂6を少なくとも含む層をいう。カラーフィルタ層150はブラックマトリクスにより区分され、ブラックマトリクスの開口部のそれぞれが着色樹脂6を保持する副画素41を形成する。
<Color filter layer>
A color filter layer 150 is formed on the first transparent insulating layer 3. The color filter layer 150 is a layer including at least a black matrix made of the black resin 4 and colored resins 6 of red, green, and blue colors. The color filter layer 150 is divided by a black matrix, and each of the openings of the black matrix forms a sub-pixel 41 that holds the colored resin 6.

カラーフィルタ層150を構成する各樹脂は、例えば、スピンコート、スピンレスコート、インクジェット等の方式で着色感光性インキを塗工した後、露光、焼成することにより形成することができる。黒色樹脂4は、例えば黒色顔料を分散させた厚み0.5〜3.0μmのアクリル系樹脂により形成される。着色樹脂6は、例えば赤、緑および青、各色の顔料を分散させた厚み0.5〜3.0μmのアクリル系樹脂により形成してもよい。着色樹脂6には、黄色、シアン、マゼンダ、あるいは白色(無色)層を用いてもよい。   Each resin constituting the color filter layer 150 can be formed, for example, by applying a colored photosensitive ink by a method such as spin coating, spinless coating, or inkjet, and then exposing and baking. The black resin 4 is formed of, for example, an acrylic resin having a thickness of 0.5 to 3.0 μm in which a black pigment is dispersed. The colored resin 6 may be formed of, for example, an acrylic resin having a thickness of 0.5 to 3.0 μm in which pigments of red, green, and blue are dispersed. As the colored resin 6, a yellow, cyan, magenta, or white (colorless) layer may be used.

また、カラーフィルタ層150上には、平坦化や保護を目的に保護層7を形成する。さらにブラックマトリクスおよび着色樹脂層を覆うように透明電極が形成されていてもよい。   Further, the protective layer 7 is formed on the color filter layer 150 for the purpose of planarization and protection. Further, a transparent electrode may be formed so as to cover the black matrix and the colored resin layer.

<第二電極>
第二電極5は、第一電極2と共にタッチセンサ部の電極を形成する。第二電極5は、電極として十分な導電性を有するものであれば、特に限定されない。
<Second electrode>
The second electrode 5 forms an electrode of the touch sensor unit together with the first electrode 2. The second electrode 5 is not particularly limited as long as it has sufficient conductivity as an electrode.

具体的には、第二電極5には、導電性に優れた金属材料を用いることができ、例えば銅、銀、金、アルミニウム、モリブデン、またはこれらに異種元素を添加した合金等を数十nm〜1μm厚の薄膜にして用いることができる。第二電極5の形成方法は、第一電極2と同様に膜厚の制御が可能であればいかなる成膜方法でもよく、なかでも乾式の薄膜形成法が好ましい。これには真空蒸着法、スパッタリングなどの物理的気相析出法やCVD法のような化学的気相析出法を用いることができる。特に大面積に均一な膜質の薄膜を形成するために、プロセスが安定し、薄膜が緻密化するスパッタリング法が好ましい。   Specifically, a metal material having excellent conductivity can be used for the second electrode 5. For example, copper, silver, gold, aluminum, molybdenum, or an alloy obtained by adding a different element to these materials is several tens of nm. A thin film having a thickness of ˜1 μm can be used. The method for forming the second electrode 5 may be any film forming method as long as the film thickness can be controlled in the same manner as the first electrode 2, and the dry thin film forming method is particularly preferable. For this, a vacuum vapor deposition method, a physical vapor deposition method such as sputtering, or a chemical vapor deposition method such as a CVD method can be used. In particular, in order to form a thin film having a uniform film quality over a large area, a sputtering method in which the process is stable and the thin film becomes dense is preferable.

また、第二電極5は、金属材料の前駆体を導電性処理することにより形成してもよい。金属材料の前駆体は、粒子径100nm以下、例えば粒子径60nmの金属ナノ粒子、あるいは金属酸化物ナノ粒子、あるいはサブミクロンから数μmサイズ、あるいはフレーク状、繊維状、粉状の粒子を主原料としたインク、ペーストあるいは分散液、または金属錯体を含むインク、溶液等を用いることができる。金属材料の前駆体のインク等の濃度(固形分濃度)は、前駆体材料を基準として10wt%以上90wt%以下、例えば50wt%である。金属としては、好ましくは金、銀、銅、アルミニウム、鉄、チタン、モリブデン、インジウム、錫、およびニオブからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を用いることができる。金属酸化物を用いる場合、酸化インジウムスズが好適に使用され、他に酸化スズ、酸化亜鉛等を用いることができる。   The second electrode 5 may be formed by conducting a conductive treatment on a metal material precursor. The precursor of the metal material is mainly composed of metal nanoparticles having a particle diameter of 100 nm or less, for example, metal nanoparticles having a particle diameter of 60 nm, metal oxide nanoparticles, or submicron to several μm size, or flaky, fibrous or powdery particles. Ink, paste or dispersion, or ink containing a metal complex, solution, or the like can be used. The concentration (solid content concentration) of the metal material precursor, such as ink, is 10 wt% or more and 90 wt% or less, for example, 50 wt%, based on the precursor material. As the metal, preferably, at least one element selected from the group consisting of gold, silver, copper, aluminum, iron, titanium, molybdenum, indium, tin, and niobium can be used. In the case of using a metal oxide, indium tin oxide is preferably used, and tin oxide, zinc oxide and the like can also be used.

金属材料の前駆体のインク等は、ダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター、マイクログラビアコーターなどの公知の塗布方法で塗布した後、焼成により導電性となり、第二電極5を形成する。焼成方法は、前駆体の材料や性質に応じて適宜選択できる。熱焼成には熱風オーブン、IRヒータ、ホットプレートなどを用いることができ、光焼成としてはキセノンフラッシュランプを用いることが一般的である。また、薬液処理により導電性を付与してもよい。   The ink of the precursor of the metal material is applied by a known coating method such as a die coater, curtain flow coater, roll coater, reverse roll coater, gravure coater, knife coater, bar coater, spin coater, micro gravure coater, The second electrode 5 is formed by becoming conductive by firing. The firing method can be appropriately selected according to the material and properties of the precursor. A hot air oven, an IR heater, a hot plate, or the like can be used for the thermal firing, and a xenon flash lamp is generally used for the light firing. Moreover, you may provide electroconductivity by a chemical | medical solution process.

また、金属材料の前駆体のインク等はスクリーン印刷、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷など公知の方法でパターン形成した後、焼成して導電性とすることができる。   The metal material precursor ink and the like can be made conductive by forming a pattern by a known method such as screen printing, gravure printing, gravure offset printing, flexographic printing, and ink jet printing, and then baking.

第二電極5はまた、第一電極2のようにITOなどを用いた、いわゆる薄膜透明電極であってもよい。薄膜透明電極は、第一電極2と同様に形成することができる。   The second electrode 5 may also be a so-called thin film transparent electrode using ITO or the like like the first electrode 2. The thin film transparent electrode can be formed in the same manner as the first electrode 2.

第二電極5は複数の導電材料を積層して用いてもよく、例えばMo/Al/MoやITO/Cu/ITOなどを用いることができる。   The second electrode 5 may be used by laminating a plurality of conductive materials. For example, Mo / Al / Mo or ITO / Cu / ITO can be used.

上述したように、第一電極2および第二電極5は、一方向に複数形成された第一電極2と、これと交差する方向に形成された第二電極5とを対にして、静電容量式タッチセンサの電極として用いることができる。   As described above, the first electrode 2 and the second electrode 5 are formed by pairing the first electrode 2 formed in one direction with the second electrode 5 formed in a direction intersecting with the first electrode 2. It can be used as an electrode of a capacitive touch sensor.

典型的には、第一電極2をタッチ検知電極、第二電極5を駆動電極として用いる。   Typically, the first electrode 2 is used as a touch detection electrode, and the second electrode 5 is used as a drive electrode.

図1に示した例の場合、第一電極2および第二電極5は矩形パターンをベースとした電極形状であるが、これらに限定されない。例えば、第一電極2および第二電極5のパターンは、黒色樹脂4の形状に合わせて梯子状やメッシュ状など、適宜変形してもよい。   In the case of the example shown in FIG. 1, the first electrode 2 and the second electrode 5 are electrode shapes based on a rectangular pattern, but are not limited thereto. For example, the pattern of the first electrode 2 and the second electrode 5 may be appropriately modified such as a ladder shape or a mesh shape according to the shape of the black resin 4.

本発明の一実施態様において、第一電極2および第二電極5は、平面視でダイヤモンドパターンの形状を黒色樹脂4の形状をなぞる様に組み替えることで擬似ダイヤモンドパターンとすることができる。この時、これらの電極を金属材料で形成する場合は、擬似ダイヤモンドパターン内部が黒色樹脂4と同じかそれ以下の線幅の細線状電極により構成される。   In one embodiment of the present invention, the first electrode 2 and the second electrode 5 can be formed into a pseudo diamond pattern by rearranging the shape of the diamond pattern so as to trace the shape of the black resin 4 in plan view. At this time, when these electrodes are formed of a metal material, the inside of the pseudo diamond pattern is constituted by a thin line electrode having a line width equal to or less than that of the black resin 4.

このように、第一電極2および第二電極5の形状は黒色樹脂4と重ねたり、ピッチを合わせたりすることで電極のパターンの露出や黒色樹脂4のパターンとの干渉で生じるモアレなどの外観不具合を回避することができる。   As described above, the shapes of the first electrode 2 and the second electrode 5 are overlapped with the black resin 4 or adjusted in pitch so that the appearance of the moire generated by the exposure of the electrode pattern or the interference with the pattern of the black resin 4 is obtained. The trouble can be avoided.

また、第一電極2および第二電極5は電極パターンの間に電気的に接続されていないダミーパターンを有していてもよい。ダミーパターンも電極と同様に黒色樹脂4の形状に応じた形状やピッチを選択することで電極パターンの露出やモアレ等の外観不具合を回避することができる。   Moreover, the 1st electrode 2 and the 2nd electrode 5 may have the dummy pattern which is not electrically connected between electrode patterns. Similarly to the electrodes, the dummy pattern can be selected from a shape and pitch corresponding to the shape of the black resin 4, thereby avoiding appearance defects such as exposure of the electrode pattern and moire.

本発明の一実施態様において、任意の方向に延伸する複数のパターンを有する第一電極2は、電極間に電気的に接続されていないダミーパターンを有し、これらの第一電極2およびダミーパターンの上記延伸する方向に連続する形状が、黒色樹脂4が該方向に連続する形状とピッチが一致する。例えば、図1において、Y方向に延伸する第一電極2のパターン形状は、Y方向に延伸する黒色樹脂4のパターン形状とピッチが一致する。   In one embodiment of the present invention, the first electrode 2 having a plurality of patterns extending in an arbitrary direction has a dummy pattern that is not electrically connected between the electrodes, and the first electrode 2 and the dummy pattern The shape that continues in the extending direction is the same as the shape in which the black resin 4 continues in the direction. For example, in FIG. 1, the pattern shape of the first electrode 2 extending in the Y direction matches the pattern shape of the black resin 4 extending in the Y direction.

本発明の一実施態様において、図3に示すように、第二電極5はカラーフィルタ層150の一部を構成する。第二電極5は、黒色樹脂4の形状と一致またはそれ以下の線幅であれば、黒色樹脂4の上側(保護層7側)であっても、下側(第1透明基板1側)のいずれに設置されてもよい。第二電極5が金属材料で形成されている場合、金属反射による外観不具合を回避するため、黒色樹脂4の上側に設置するか、または反射防止処置を施すことが好ましい。第二電極5が透明薄膜電極で形成されている場合には、黒色樹脂4の上側でも下側でもいずれに設置されてもよい。   In one embodiment of the present invention, as shown in FIG. 3, the second electrode 5 constitutes a part of the color filter layer 150. As long as the second electrode 5 has a line width equal to or less than the shape of the black resin 4, even if it is on the upper side (protective layer 7 side) of the black resin 4, it is on the lower side (first transparent substrate 1 side). You may install in either. When the second electrode 5 is formed of a metal material, it is preferable to install the second electrode 5 on the upper side of the black resin 4 or to perform an antireflection treatment in order to avoid appearance defects due to metal reflection. When the second electrode 5 is formed of a transparent thin film electrode, it may be installed either on the upper side or the lower side of the black resin 4.

<保護層>
カラーフィルタ層150は、黒色樹脂4、着色樹脂6、および第二電極5の上部に設置された保護層7を含む(図2および図3参照)。保護層7には透明で絶縁性に優れ、パターニング可能で表面の平坦性に優れる材料が使用できる。保護層7は、上述した第一透明絶縁層3と同様に形成することができる。保護層7の膜厚は、0.1μm以上25μm以下であることが好ましい。
<Protective layer>
The color filter layer 150 includes a black resin 4, a colored resin 6, and a protective layer 7 disposed on the second electrode 5 (see FIGS. 2 and 3). The protective layer 7 can be made of a material that is transparent and excellent in insulation, can be patterned, and has excellent surface flatness. The protective layer 7 can be formed in the same manner as the first transparent insulating layer 3 described above. The thickness of the protective layer 7 is preferably 0.1 μm or more and 25 μm or less.

保護層7は、後述するように、該カラーフィルタ基板を用いて表示装置を組み立てた際に第一電極2および/または第二電極5を上部層と電気的に接合するため、第一電極2または第二電極5を覆わない開口部を有する。   As will be described later, the protective layer 7 is configured to electrically connect the first electrode 2 and / or the second electrode 5 to the upper layer when the display device is assembled using the color filter substrate. Alternatively, an opening that does not cover the second electrode 5 is provided.

<第一導電層、第二導電層>
第一導電層8および第二導電層9は第一電極2または第二電極5と電気的に接合し、該カラーフィルタ基板を用いて表示装置を組み立てた際にコンタクトホールを通じて上部層に導電経路を形成するための導電層である。
<First conductive layer, second conductive layer>
The first conductive layer 8 and the second conductive layer 9 are electrically joined to the first electrode 2 or the second electrode 5, and when the display device is assembled using the color filter substrate, a conductive path is formed through the contact hole to the upper layer. It is a conductive layer for forming.

コンタクトホールは第一電極2あるいは第二電極5の一部を露出するように、第一透明絶縁層3、黒色樹脂4、着色樹脂6、保護層7などをパターニングすることで開口させて作製する。   The contact hole is formed by opening the first transparent insulating layer 3, the black resin 4, the colored resin 6, the protective layer 7 and the like so as to expose a part of the first electrode 2 or the second electrode 5. .

第一導電層8および第二導電層9は、コンタクトホールを通じて第一電極2や第二電極5と同様の材料を同様の手法で形成およびパターニングすることで作製できる。第一導電層8は第二電極5と同時に形成してもよい。第一導電層8および第二導電層9は図2、図3に示したように1段階で保護層7上部まで導電経路を形成しても構わないし、図5に示したように、黒色樹脂上の第一導電層8を経由して第二導電層9を経由するように2段階以上の階層を経て保護層7上部まで導電経路を形成してもよい。   The first conductive layer 8 and the second conductive layer 9 can be produced by forming and patterning the same material as that of the first electrode 2 and the second electrode 5 through the contact hole in the same manner. The first conductive layer 8 may be formed simultaneously with the second electrode 5. The first conductive layer 8 and the second conductive layer 9 may form a conductive path up to the upper part of the protective layer 7 in one step as shown in FIGS. 2 and 3, and as shown in FIG. A conductive path may be formed up to the upper part of the protective layer 7 through two or more levels so as to pass through the second conductive layer 9 via the first conductive layer 8 above.

第二導電層9は、図5あるいは図6に示した9bのように樹脂成分を含んだ銀ペーストまたは金属層を表面に有するポリマー微粒子(ミクロパール(積水化学工業)など)を混入させた接着ペーストなどのような導電性ペーストを用いて保護層7の上面より突出した部分を含んで形成できる。第二導電層9は導電性ペースト9bのみから構成されてもよいし(図5(b)および図6(b)参照)、導電性の薄膜層である9aとその上部に形成された9bから構成されてもよい(図5(a)および図6(a)参照)。   The second conductive layer 9 is an adhesive mixed with silver paste containing a resin component or polymer fine particles (Micropearl (Sekisui Chemical Co., Ltd.), etc.) having a metal layer on the surface as shown in FIG. 5 or 9b shown in FIG. A conductive paste such as a paste can be used to include a portion protruding from the upper surface of the protective layer 7. The second conductive layer 9 may be composed only of the conductive paste 9b (see FIG. 5B and FIG. 6B), or from the conductive thin film layer 9a and the 9b formed thereon. You may comprise (refer FIG. 5 (a) and FIG. 6 (a)).

以上のとおり作製した電極付きカラーフィルタ基板100は、1枚のガラス基板上に複数面付けしていてもよい。この場合、電極付きカラーフィルタ基板100、またはこれとTFT基板200とを貼り合せた状態のものを断裁して個片化することで、効率的に複数製造することができる。個片化の手法としては、ダイヤカッタースクライブ加工、ダイシング加工、ウォータージェット加工、エッチング加工、レーザー加工等が挙げられる。   The electrode-attached color filter substrate 100 manufactured as described above may be provided with a plurality of surfaces on a single glass substrate. In this case, by cutting the electrode-attached color filter substrate 100 or the state in which the color filter substrate 100 and the TFT substrate 200 are bonded together into individual pieces, a plurality of pieces can be efficiently manufactured. Examples of the singulation method include diamond cutter scribe processing, dicing processing, water jet processing, etching processing, and laser processing.

後述するように、電極付きカラーフィルタ基板100上の第一電極2および第二電極5はそれぞれ対向基板上の配線と電気的に接続されることにより、対向基板上で駆動IC等に接続し、静電容量式タッチパネルとして動作させることができる。また、対向基板上の配線は対向基板上で異方導電性フィルム(ACF)を介してFPCに接続し、FPC経由で駆動IC等に接続することができる。   As described later, the first electrode 2 and the second electrode 5 on the electrode-attached color filter substrate 100 are electrically connected to the wiring on the counter substrate, respectively, so that they are connected to the driving IC on the counter substrate, It can be operated as a capacitive touch panel. Further, the wiring on the counter substrate can be connected to the FPC via the anisotropic conductive film (ACF) on the counter substrate, and can be connected to a driving IC or the like via the FPC.

[表示装置]
本発明の電極付きカラーフィルタ基板100は、対向基板と組み合わせることにより表示セル300を形成する。これを組み込むことにより、例えば液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、電子ペーパー、MEMSディスプレイ、反射型または半透過型液晶ディスプレイなどの表示装置を形成することができる。
[Display device]
The color filter substrate 100 with an electrode of the present invention forms a display cell 300 by combining with a counter substrate. By incorporating this, a display device such as a liquid crystal display, an organic EL display, electronic paper, a MEMS display, a reflective type or a transflective type liquid crystal display can be formed.

図4は、本発明による表示セル300の一実施態様を示したものである。図4の表示セル300においては、電極付きカラーフィルタ基板100とTFT基板200との間に液晶17が設置されている。一般的にはカラーフィルタ基板100とTFT基板200の液晶側表面には配向膜が形成されるが、図4では省略した。   FIG. 4 illustrates one embodiment of a display cell 300 according to the present invention. In the display cell 300 of FIG. 4, the liquid crystal 17 is installed between the color filter substrate 100 with electrodes and the TFT substrate 200. In general, an alignment film is formed on the liquid crystal side surfaces of the color filter substrate 100 and the TFT substrate 200, but they are omitted in FIG.

<TFT基板>
TFT基板200には、複数の走査線が一定間隔を隔てて形成されている。また、走査線の上には、複数の信号線が一定間隔を隔てて形成されている(走査線および信号線は図示せず)。走査線と信号線とは、絶縁膜を介して交差するよう配置されている。そして、走査線と信号線との交差点の近傍にスイッチング素子である薄膜トランジスタ(TFT)が配置される(TFTは図示せず)。このTFTを介して、画素電極に信号線から表示信号が供給される。
<TFT substrate>
A plurality of scanning lines are formed on the TFT substrate 200 at regular intervals. In addition, a plurality of signal lines are formed at regular intervals on the scanning lines (the scanning lines and the signal lines are not shown). The scanning line and the signal line are arranged so as to intersect with each other via an insulating film. Then, a thin film transistor (TFT) as a switching element is disposed in the vicinity of the intersection of the scanning line and the signal line (TFT is not shown). A display signal is supplied from the signal line to the pixel electrode via the TFT.

画素電極13は、例えばITOなどの透明導電膜から形成される。本発明の表示セル300は、典型的には横電界またはフリンジ電界により配向方向を制御するIPS液晶またはFFS液晶を用いるため、図4に示したような櫛歯状のITO電極を画素電極13として形成することが好ましい。図4に示した画素電極13の場合、コモン電極15と画素電極13の間に電界が形成され液晶層はフリンジ電界により配向制御される。本発明では、フリンジ電界を利用するFFS液晶を用いることが、画素電極上の液晶配向を利用できることから、透過率、コントラストに優れ、より好ましい。   The pixel electrode 13 is formed from a transparent conductive film such as ITO. Since the display cell 300 of the present invention typically uses an IPS liquid crystal or an FFS liquid crystal whose orientation direction is controlled by a lateral electric field or a fringe electric field, a comb-like ITO electrode as shown in FIG. It is preferable to form. In the case of the pixel electrode 13 shown in FIG. 4, an electric field is formed between the common electrode 15 and the pixel electrode 13, and the orientation of the liquid crystal layer is controlled by a fringe electric field. In the present invention, it is more preferable to use an FFS liquid crystal that uses a fringe electric field because the liquid crystal alignment on the pixel electrode can be used, and the transmittance and contrast are excellent.

第二透明絶縁層14は透明で絶縁性に優れ、パターニング可能で表面の平坦性に優れる材料が使用できる。第二透明絶縁層14は、上述した第一透明絶縁層3と同様に形成することができる。第二透明絶縁層14の膜厚は、0.1μm以上25μm以下であることが好ましい。   The second transparent insulating layer 14 can be made of a material that is transparent and excellent in insulation, can be patterned, and has excellent surface flatness. The second transparent insulating layer 14 can be formed in the same manner as the first transparent insulating layer 3 described above. The film thickness of the second transparent insulating layer 14 is preferably 0.1 μm or more and 25 μm or less.

液晶表示素子の表示領域は複数の画素により構成される。表示領域は通常、矩形に近い形状で形成される。さらに表示素子には、表示領域を囲むように設けられた額縁領域が配置される。   The display area of the liquid crystal display element is composed of a plurality of pixels. The display area is usually formed in a shape close to a rectangle. Furthermore, a frame area provided so as to surround the display area is arranged in the display element.

TFT基板200上には、電極付きカラーフィルタ基板100上の電極に接続するため第一配線10および第二配線11が形成されている(図7および8参照)。また、TFTに用いる半導体は低温ポリシリコン、微結晶シリコン、アモルファスシリコン、インジウム−ガリウム−亜鉛酸化物(IGZO)に代表される酸化物半導体、有機半導体など一般に知られる半導体のいずれを用いてもよい。   A first wiring 10 and a second wiring 11 are formed on the TFT substrate 200 to connect to the electrodes on the electrode-equipped color filter substrate 100 (see FIGS. 7 and 8). The semiconductor used for the TFT may be any of generally known semiconductors such as low-temperature polysilicon, microcrystalline silicon, amorphous silicon, an oxide semiconductor typified by indium-gallium-zinc oxide (IGZO), and an organic semiconductor. .

<液晶>
液晶17は、公知の材料を用いて形成でき、電極付きカラーフィルタ基板100とTFT基板200との間に封入される。例えば、電極付きカラーフィルタ基板100の保護層7およびTFT基板30の表面に対してフレキソ印刷等の方法により配向膜(図示せず)を形成し、ラビング処理を行った後にシール剤18をディスペンサ等で塗布し、液晶17を滴下後、電極付きカラーフィルタ基板100とTFT基板200を真空熱ラミネートで貼り合わせ、同時に液晶封入することで、表示セル300内で液晶分子を一定方向に配列することができる。
<LCD>
The liquid crystal 17 can be formed using a known material and is sealed between the color filter substrate 100 with electrodes and the TFT substrate 200. For example, an alignment film (not shown) is formed on the protective layer 7 of the electrode-attached color filter substrate 100 and the surface of the TFT substrate 30 by a method such as flexographic printing, and after the rubbing process is performed, the sealant 18 is dispensed. After the liquid crystal 17 is dropped and the liquid crystal 17 is dropped, the electrode-attached color filter substrate 100 and the TFT substrate 200 are bonded together by vacuum heat lamination, and liquid crystal is sealed at the same time, whereby liquid crystal molecules can be arranged in a certain direction in the display cell 300. it can.

本発明の液晶ディスプレイに用いる液晶は、横電界またはフリンジ電界により配向方向を制御するIPS液晶またはFFS液晶を用いることが好ましく、フリンジ電界を利用するFFS液晶を用いることが、画素電極上の液晶配向を利用できることから、透過率、コントラストに優れ、より好ましい。また、本発明の液晶ディスプレイに用いる液晶は、より好ましくは負の誘電率異方性を持つ液晶を用いる。負の誘電率異方性を持つ液晶を用いることで、液晶を挟む基板間の電界によって液晶分子の長軸方向が基板間を結ぶ方向に配向することを回避するので、電極付きカラーフィルタ基板100に内蔵するタッチセンサを動作させる時の液晶表示不良を防止することができる。   The liquid crystal used in the liquid crystal display of the present invention is preferably an IPS liquid crystal or an FFS liquid crystal whose orientation direction is controlled by a lateral electric field or a fringe electric field, and an FFS liquid crystal utilizing a fringe electric field is preferably used for the liquid crystal alignment on the pixel electrode. Can be utilized, and thus the transmittance and contrast are excellent and more preferable. The liquid crystal used in the liquid crystal display of the present invention is more preferably a liquid crystal having negative dielectric anisotropy. By using a liquid crystal having negative dielectric anisotropy, it is avoided that the major axis direction of the liquid crystal molecules is aligned in the direction connecting the substrates due to the electric field between the substrates sandwiching the liquid crystal. It is possible to prevent a liquid crystal display defect when operating the touch sensor built in the LCD.

<表示セル>
本発明の表示セル300では、カラーフィルタ基板100の第二電極5とTFT基板200の画素電極13とが、カラーフィルタの透明基材から該基板の積層方向(厚み方向)に向かって観察した場合に重ならないように、カラーフィルタ基板100とTFT基板200とが張り合わされる(図4参照)。
<Display cell>
In the display cell 300 of the present invention, when the second electrode 5 of the color filter substrate 100 and the pixel electrode 13 of the TFT substrate 200 are observed from the transparent base material of the color filter toward the stacking direction (thickness direction) of the substrate. The color filter substrate 100 and the TFT substrate 200 are bonded together so as not to overlap each other (see FIG. 4).

本発明の表示セル300はシールド層を有しないため、画素電極13から発生するフリンジ電界はカラーフィルタ層150を突き抜けると考えられる。しかしながら、本発明では、上述するようにカラーフィルタ基板100の第二電極5とTFT基板200の画素電極13とが重なり合わないように配置されているため、第二電極5は画素電極13からのフリンジ電界の影響を受けない。したがって、本発明では、シールド層を設けなくとも、タッチセンサ部とTFT部との電界の干渉が回避され、誤作動や誤表示を抑制することができる。   Since the display cell 300 of the present invention does not have a shield layer, it is considered that the fringe electric field generated from the pixel electrode 13 penetrates the color filter layer 150. However, in the present invention, as described above, since the second electrode 5 of the color filter substrate 100 and the pixel electrode 13 of the TFT substrate 200 are arranged so as not to overlap, the second electrode 5 is separated from the pixel electrode 13. Unaffected by fringing electric field. Therefore, in the present invention, even if no shield layer is provided, the interference of the electric field between the touch sensor portion and the TFT portion can be avoided, and malfunctions and display errors can be suppressed.

さらに本発明は、カラーフィルタ基板100の第一透明絶縁層3の厚さを調整することによっても第一電極2と画素電極13またはコモン電極15との電界の干渉を回避でき、より安定した表示を提供することができる。   Furthermore, according to the present invention, interference of the electric field between the first electrode 2 and the pixel electrode 13 or the common electrode 15 can also be avoided by adjusting the thickness of the first transparent insulating layer 3 of the color filter substrate 100, and more stable display. Can be provided.

表示セル300において、第二導電層9は、図7または図8に示したように、対向基板上に形成された配線とコンタクトホールを通じて導電経路を形成する。本発明において、対向基板は典型的にはTFT基板である。   In the display cell 300, the second conductive layer 9 forms a conductive path through a wiring and a contact hole formed on the counter substrate, as shown in FIG. 7 or FIG. In the present invention, the counter substrate is typically a TFT substrate.

電極付きカラーフィルタ基板100とTFT基板200の距離は保護層7上に形成されたスペーサ12の高さに規定される。予めスペーサ12よりわずかに高い位置まで形成された第二導電層9は、TFT基板200との貼り合わせ時に掛かる熱と圧力によってTFT基板200上の第一配線10あるいは第二配線11と電気的に接続される。貼り合わせ時にはシール剤18も同時に形成する。この時、シール剤18と第二導電層9は同一かつ一体で形成されてもよい。その際には金属層を表面に有するポリマー微粒子を混入させた接着ペーストを用いて基板間の方向のみに導通する導電異方性を利用して第一電極2と第一配線10、あるいは第二電極5と第二配線11を電気的に接続することができる。   The distance between the electrode-equipped color filter substrate 100 and the TFT substrate 200 is defined by the height of the spacer 12 formed on the protective layer 7. The second conductive layer 9 formed in advance up to a position slightly higher than the spacer 12 is electrically connected to the first wiring 10 or the second wiring 11 on the TFT substrate 200 by heat and pressure applied at the time of bonding to the TFT substrate 200. Connected. At the time of bonding, the sealing agent 18 is also formed at the same time. At this time, the sealing agent 18 and the second conductive layer 9 may be formed integrally and integrally. In that case, the first electrode 2 and the first wiring 10 or the second electrode 2 using the conductive anisotropy conducted only in the direction between the substrates using an adhesive paste mixed with polymer fine particles having a metal layer on the surface. The electrode 5 and the second wiring 11 can be electrically connected.

<液晶ディスプレイ>
上記のようにして本発明により製造された表示セル300は表示装置に組み込まれる。本発明の表示装置の一例として、液晶ディスプレイ400が挙げられる(図9参照)。図9の液晶ディスプレイ400においては、電極付きカラーフィルタ基板100とTFT基板200との間に液晶17が形成されている。一般的にはカラーフィルタ基板とTFT基板の液晶側表面には配向膜が形成されるが、図9では省略した。電極付きカラーフィルタ基板100の液晶17と反対側の面に、偏光板50およびカバーガラス70が順に形成されている。TFT基板200の液晶17と反対側の面には偏光板50およびバックライト60が順に形成されている。一般的には液晶表示品質を高めるため、光学補償板や位相差板が形成されるが、図9では省略した。
<LCD display>
The display cell 300 manufactured according to the present invention as described above is incorporated into a display device. An example of the display device of the present invention is a liquid crystal display 400 (see FIG. 9). In the liquid crystal display 400 of FIG. 9, the liquid crystal 17 is formed between the color filter substrate 100 with electrodes and the TFT substrate 200. In general, an alignment film is formed on the liquid crystal side surfaces of the color filter substrate and the TFT substrate, but they are omitted in FIG. A polarizing plate 50 and a cover glass 70 are sequentially formed on the surface of the color filter substrate with electrode 100 opposite to the liquid crystal 17. A polarizing plate 50 and a backlight 60 are sequentially formed on the surface of the TFT substrate 200 opposite to the liquid crystal 17. In general, an optical compensator and a retardation plate are formed to improve the liquid crystal display quality, but are omitted in FIG.

電極付きカラーフィルタ基板100およびTFT基板200を貼り合わせ、同時に液晶17を封入した表示セル300は、第一透明基材1および第二透明基材16としてガラスを用いた場合、それらをフッ酸等の薬液により化学研磨することでより薄い液晶セルを提供することができる。本発明の液晶ディスプレイは、表示セル300に対して特許文献2のように後から電極形成する必要が無いことから表示セル300をより薄型にすることができる点で優れている。化学研磨により表示セル300の厚みは任意に設定することが可能で、好適には500μm以下とし、より好適には300μm以下とする。第一透明基材1および第二透明基材16の厚さは異なっていてもよく、好適にはいずれかの基材厚が150μm未満である。   The display cell 300 in which the color filter substrate 100 with electrodes and the TFT substrate 200 are bonded together and the liquid crystal 17 is sealed at the same time is used when the glass is used as the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 16. A thinner liquid crystal cell can be provided by chemical polishing with the chemical solution. The liquid crystal display of the present invention is excellent in that the display cell 300 can be made thinner because it is not necessary to form electrodes later on the display cell 300 as in Patent Document 2. The thickness of the display cell 300 can be arbitrarily set by chemical polishing, and is preferably 500 μm or less, more preferably 300 μm or less. The thicknesses of the first transparent substrate 1 and the second transparent substrate 16 may be different, and any one of the substrate thicknesses is preferably less than 150 μm.

表示セル300を所望の厚さにした後、ダイヤカッタースクライブ加工、ダイシング加工、ウォータージェット加工、エッチング加工、レーザー加工等の方法により表示セル300を個片化することができる。   After the display cell 300 has a desired thickness, the display cell 300 can be singulated by a method such as diamond cutter scribe processing, dicing processing, water jet processing, etching processing, or laser processing.

続いて表示セル300に偏光板50を形成する。表示セル300の両面に配置される偏光板50は、それぞれほぼ直交する方向に吸収軸を有している。液晶によって制御された直線偏光の向きによって各画素の点灯、グレースケール、消灯が決定される。TFT基板200上の配線はTFT基板上に実装されたドライバLSIに接続されている。また、前記ドライバLSIとして液晶表示およびタッチセンサ駆動のそれぞれを動作させる統合型ドライバLSIを用いることができる点は本発明の優れた点である。液晶表示駆動およびタッチセンサ駆動は1フレームに対応する画像書込みの時間を分割し、交互に駆動することで画像表示とタッチセンシングを両立する。典型的には1フレームは60Hzに相当し、タッチセンシングのリフレッシュレートは60Hzあるいは120Hzとする。   Subsequently, the polarizing plate 50 is formed in the display cell 300. The polarizing plates 50 arranged on both surfaces of the display cell 300 have absorption axes in directions almost orthogonal to each other. The lighting, gray scale, and extinguishing of each pixel are determined by the direction of linearly polarized light controlled by the liquid crystal. The wiring on the TFT substrate 200 is connected to a driver LSI mounted on the TFT substrate. In addition, it is an excellent point of the present invention that an integrated driver LSI that operates liquid crystal display and touch sensor drive can be used as the driver LSI. The liquid crystal display drive and the touch sensor drive divide the image writing time corresponding to one frame and drive them alternately to achieve both image display and touch sensing. Typically, one frame corresponds to 60 Hz, and the refresh rate of touch sensing is 60 Hz or 120 Hz.

バックライト60は、反視認(背面)側の偏光板50に接着材などにより取り付けられている。バックライト60は、偏光板50に対して面状の光を照射する。バックライト60としては、例えば、光源、導光板、プリズムシートなどを備えた一般的な構成のものを用いる。   The backlight 60 is attached to the anti-visible (back) side polarizing plate 50 with an adhesive or the like. The backlight 60 irradiates the polarizing plate 50 with planar light. As the backlight 60, the thing of the general structure provided with the light source, the light-guide plate, the prism sheet etc. is used, for example.

カバーガラス70は、視認側の偏光板50の四辺またはディスプレイ筐体の四辺に両面テープなどにより接着してもよいし、透明光学粘着を用いて液晶ディスプレイの表示部を含めた全面を貼り合せてもよい。カバーガラス70は、化学強化したガラスや透明樹脂により形成される。これにより、液晶ディスプレイ400が完成する。   The cover glass 70 may be adhered to the four sides of the polarizing plate 50 on the viewing side or the four sides of the display housing with a double-sided tape or the like, or the entire surface including the display portion of the liquid crystal display is bonded using a transparent optical adhesive. Also good. The cover glass 70 is made of chemically strengthened glass or transparent resin. Thereby, the liquid crystal display 400 is completed.

液晶ディスプレイ400を製造する際には、例えば電極付きカラーフィルタ基板100、TFT基板200、および液晶層17とから形成された表示セル300を偏光板50で挟み込む。その後、裏面にバックライト60、表示面にカバーガラス70を配置することで、静電容量式タッチセンサ内蔵液晶ディスプレイを提供することができるが、これに限定されない。   When manufacturing the liquid crystal display 400, for example, the display cell 300 formed of the color filter substrate 100 with electrodes, the TFT substrate 200, and the liquid crystal layer 17 is sandwiched between the polarizing plates 50. Thereafter, the backlight 60 on the back surface and the cover glass 70 on the display surface can be provided to provide a liquid crystal display with a built-in capacitive touch sensor, but is not limited thereto.

以下、具体的な実施例によって本発明を詳細に説明する。実施例は説明を目的としたもので、本発明は実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of specific examples. The examples are for illustrative purposes and the invention is not limited to the examples.

<実施例1>
以下の方法に基づき、図9の液晶ディスプレイ400に対応するタッチセンサ内蔵型液晶ディスプレイを作製した。
<Example 1>
Based on the following method, a touch sensor built-in type liquid crystal display corresponding to the liquid crystal display 400 of FIG. 9 was produced.

第一透明基材1として0.5mm厚のアルミノ珪酸ガラスを使用し、一方面上に、ITOをスパッタリング法により40Ω/□で形成し、フォトリソグラフィーで塩酸と硝酸の混合水溶液でエッチングすることによりパターンを有する第一電極2を作製した。電極の間は電気的に接続していないダミーパターンとした。続いて感光性透明組成物をスピンコーターにて塗布し、ホットプレートにて100℃で5分間乾燥を行い、塗膜を乾燥した。その後、得られた塗膜に光源として高圧水銀ランプを用いて100mJ/cm2でITO電極パッドの一部を開口部とするパターンをフォトマスクを介して露光を実施した後、0.2質量%の炭酸水素ナトリウム水溶液にて、30秒間シャワー現像を実施し、パターンされた第一透明絶縁層3を膜厚5μmで形成した。さらに感光性黒色組成物を上記と同様に塗布し、画素部とITO電極パッドの一部を開口部とするパターンを形成し、水洗後、熱風循環式オーブンにて230℃で30分間加熱処理を実施して、ブラックマトリクスパターンを形成した。 By using 0.5 mm-thick aluminosilicate glass as the first transparent base material 1, ITO is formed at 40 Ω / □ on one surface by sputtering and etched with a mixed aqueous solution of hydrochloric acid and nitric acid by photolithography. A first electrode 2 having a pattern was produced. A dummy pattern in which the electrodes were not electrically connected was used. Then, the photosensitive transparent composition was apply | coated with the spin coater, and it dried for 5 minutes at 100 degreeC with the hotplate, and dried the coating film. Then, after exposing the pattern which makes a part of ITO electrode pad an opening part at 100 mJ / cm < 2 > using a high pressure mercury lamp as a light source as a light source through a photomask after that, 0.2 mass% Shower development was carried out with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution for 30 seconds to form a patterned first transparent insulating layer 3 with a film thickness of 5 μm. Further, the photosensitive black composition is applied in the same manner as described above to form a pattern with the pixel portion and a part of the ITO electrode pad as an opening, washed with water, and then heat-treated at 230 ° C. for 30 minutes in a hot air circulation oven. As a result, a black matrix pattern was formed.

続いて、ブラックマトリクスパターン上からスパッタリング法によりITO/Cu/ITOをシート抵抗0.2Ω/□となるように形成し、フォトリソグラフィーで硫酸と過酸化水素の混合溶液でエッチングすることにより、ブラックマトリクスパターンと重なる位置に梯子状のパターンを有する第二電極5を作製した。   Subsequently, ITO / Cu / ITO is formed by sputtering on the black matrix pattern so as to have a sheet resistance of 0.2Ω / □, and etched with a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide by photolithography to obtain a black matrix. The 2nd electrode 5 which has a ladder-like pattern in the position which overlaps with a pattern was produced.

その後、感光性着色組成物の種類を変更した以外は感光性黒色組成物と同様に、赤色、緑色、青色パターンを順次形成し、カラーフィルタ層150を形成した。さらに感光性透明組成物を用いて保護層7およびスペーサ12を同様に形成し、透明基材1とITO電極2およびITO/Cu/ITO電極5、カラーフィルタ層150とを含む電極付きカラーフィルタ基板100を形成した。この時、ITO電極およびITO/Cu/ITO電極の一部は最上層から電気的にコンタクトできるようなパッド部が形成された。また、保護層7の厚さは1.5μmであった。   Thereafter, except that the type of the photosensitive coloring composition was changed, red, green, and blue patterns were sequentially formed in the same manner as the photosensitive black composition, and the color filter layer 150 was formed. Furthermore, the protective layer 7 and the spacer 12 are similarly formed using the photosensitive transparent composition, and the color filter substrate with an electrode including the transparent substrate 1, the ITO electrode 2, the ITO / Cu / ITO electrode 5, and the color filter layer 150 is provided. 100 was formed. At this time, a pad portion was formed so that the ITO electrode and a part of the ITO / Cu / ITO electrode could be electrically contacted from the uppermost layer. The thickness of the protective layer 7 was 1.5 μm.

続いて、カラーフィルタ基板の保護層7およびTFT回路が形成されたTFT基板の表面に対して印刷により配向膜を形成した後、230℃で焼成し、その後ラビング処理を行った。電極付きカラーフィルタ基板100の電極パッド部に熱可塑性樹脂を含む銀ペーストをディスペンサにより形成した。その後、カラーフィルタ基板100とTFT基板200を、カラーフィルタ基板100の第二電極5とTFT基板の画素電極13が垂直に重なり合わないような位置でシール材により貼り合せ、同時に負の誘電異方性を持つFFS液晶を滴下して液晶層17を形成し、表示セル300を作製した。この時、電極パッド部は銀ペーストを介してTFT基板200側の配線パッドに接続するようにした。得られた表示セル300は周囲をテフロンシールで保護して35℃のフッ酸水溶液に浸漬することにより、ガラス部分を化学研磨し、トータル厚みを250μmとした。   Subsequently, an alignment film was formed by printing on the surface of the TFT substrate on which the protective layer 7 of the color filter substrate and the TFT circuit were formed, and then baked at 230 ° C., followed by a rubbing treatment. A silver paste containing a thermoplastic resin was formed by a dispenser on the electrode pad portion of the color filter substrate with electrode 100. Thereafter, the color filter substrate 100 and the TFT substrate 200 are bonded with a sealing material at a position where the second electrode 5 of the color filter substrate 100 and the pixel electrode 13 of the TFT substrate do not overlap each other vertically, and at the same time negative dielectric anisotropy A liquid crystal layer 17 was formed by dropping an FFS liquid crystal having a property, and a display cell 300 was manufactured. At this time, the electrode pad portion was connected to the wiring pad on the TFT substrate 200 side via silver paste. The obtained display cell 300 was protected by a Teflon seal and immersed in a hydrofluoric acid aqueous solution at 35 ° C., whereby the glass portion was chemically polished to a total thickness of 250 μm.

続いて、表示セル300の上面と下面に偏光板を、それぞれ粘着材を用いて貼り付けた。TFT基板の端部には、FPCと液晶駆動LSIを接続した。この時、LSIは液晶駆動とタッチセンサ駆動を統合したドライバを用いることもできる。さらに、反視認(背面)側の偏光板にバックライトを取り付け、視認側(上面)偏光板の上にカバーガラスとして化学強化ガラスを光学粘着剤を用いて貼り合わせた。以上により非常に薄型の静電容量式タッチセンサ内蔵型液晶ディスプレイ400を作製した。   Subsequently, polarizing plates were attached to the upper and lower surfaces of the display cell 300 using adhesive materials, respectively. An FPC and a liquid crystal drive LSI were connected to the end of the TFT substrate. At this time, the LSI can use a driver in which liquid crystal driving and touch sensor driving are integrated. Furthermore, a backlight was attached to the polarizing plate on the anti-visible (back) side, and chemically strengthened glass was bonded as a cover glass on the visual side (upper) polarizing plate using an optical adhesive. In this way, a very thin liquid crystal display 400 with a built-in capacitive touch sensor was produced.

液晶表示とタッチセンシングを時間分割で駆動することにより、表示は良好でタッチセンサを良好に動作させることができた。   By driving the liquid crystal display and touch sensing by time division, the display was good and the touch sensor could be operated well.

<比較例1>
実施例1の方法において、第一透明絶縁層3の厚さを0.8μmとした以外は同様に液晶ディスプレイ400を作成した。
<Comparative Example 1>
A liquid crystal display 400 was prepared in the same manner as in the method of Example 1, except that the thickness of the first transparent insulating layer 3 was 0.8 μm.

得られたディスプレイは、液晶層の透過率が低下することによりコントラストが低く、表示が不鮮明で、タッチセンシングの反応が不十分で、タッチ検出しない場合や直線性良く反応しない場合があった。   The obtained display has a low contrast due to a decrease in the transmittance of the liquid crystal layer, the display is unclear, the touch sensing reaction is insufficient, and the touch detection may not be performed or the linearity may not be reacted.

<比較例2>
実施例1の方法において、第一透明絶縁層3の厚さを28μmとした以外は同様に液晶ディスプレイ400を作成した。
<Comparative example 2>
A liquid crystal display 400 was prepared in the same manner as in the method of Example 1, except that the thickness of the first transparent insulating layer 3 was 28 μm.

得られたディスプレイは、タッチセンシングが反応しない箇所があった。第一透明絶縁層3の開口部に樹脂残渣が残るか、第一導電層8による層間の導通が断線することにより、第一電極2が駆動ICに接続できていないためであった。   The obtained display had a part where touch sensing did not respond. This is because the resin residue remains in the opening of the first transparent insulating layer 3 or the conduction between layers by the first conductive layer 8 is disconnected, so that the first electrode 2 cannot be connected to the driving IC.

なお、本発明は、上記された実施形態および実施例に限定されない。配線層、電極層、樹脂層等の形状も図示されたものに限定されない。本発明は、当業者の知識に基づいて適宜設計変更可能である。ある図面に記載された構成要素を、他の図面に記載された構成要素に替えて、あるいは他の図面に記載された構成要素に追加して採用できる。特に限定されない限りにおいて、任意の2層の間または外にさらなる層を追加してもよい。   The present invention is not limited to the embodiments and examples described above. The shapes of the wiring layer, electrode layer, resin layer, etc. are not limited to those shown in the figure. The design of the present invention can be changed as appropriate based on the knowledge of those skilled in the art. A component described in one drawing can be used in place of the component described in another drawing or in addition to the component described in another drawing. Unless otherwise limited, additional layers may be added between or outside any two layers.

本発明の電極付きカラーフィルタ基板は、例えばカラーフィルタを用いる液晶ディスプレイまたは有機ELディスプレイと、静電容量式タッチセンサとが一体化したタッチパネルディスプレイとして用いることができる。またさらにスマートフォンやタブレット、ノートPCなどのディスプレイおよびユーザーインターフェースとして利用可能である。   The color filter substrate with an electrode of the present invention can be used as a touch panel display in which, for example, a liquid crystal display or an organic EL display using a color filter and a capacitive touch sensor are integrated. Furthermore, it can be used as a display and user interface for smartphones, tablets, notebook PCs and the like.

1 第一透明基材
2 第一電極
3 第一透明絶縁層
4 黒色樹脂
5 第二電極
6 着色樹脂
7 保護層
8 第一導電層
9 第二導電層
10 第一配線
11 第二配線
12 スペーサ
13 画素電極
14 第二透明絶縁層
15 コモン電極
16 第二透明基材
17 液晶
18 シール材
41 黒色樹脂開口部、副画素
50 偏光板
60 バックライト
70 カバーガラス
100 電極付きカラーフィルタ基板
101 電極付きカラーフィルタ基板A部断面
102 電極付きカラーフィルタ基板B部断面
150 カラーフィルタ層
200 TFT基板
300 表示セル
400 液晶ディスプレイ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st transparent base material 2 1st electrode 3 1st transparent insulating layer 4 Black resin 5 2nd electrode 6 Colored resin 7 Protective layer 8 First conductive layer 9 Second conductive layer 10 First wiring 11 Second wiring 12 Spacer 13 Pixel electrode 14 Second transparent insulating layer 15 Common electrode 16 Second transparent substrate 17 Liquid crystal 18 Sealing material 41 Black resin opening, subpixel 50 Polarizing plate 60 Backlight 70 Cover glass 100 Color filter substrate 101 with electrode Color filter with electrode Substrate A section 102 Color filter substrate with electrode B section 150 Color filter layer 200 TFT substrate 300 Display cell 400 Liquid crystal display

Claims (20)

少なくとも透明基材、第一電極、第一透明絶縁層、カラーフィルタ層をこの順に備える電極付きカラーフィルタ基板であって、
前記カラーフィルタ層は黒色樹脂、第二電極、着色樹脂、保護層を含み、
前記カラーフィルタ基板の前記透明基材と反対側に位置する表面は一部を除いて前記保護層に覆われており、
前記第一電極および前記第二電極は互いが直交する方向に延伸する複数のパターン化された電極からなり、
前記第一電極は一部を除いて前記第一透明絶縁層に覆われており、
前記第二電極は前記黒色樹脂のパターンと重なる位置に配置され、
前記保護層は前記第一電極または前記第二電極を覆わない開口部を有することを特徴とする電極付きカラーフィルタ基板。
A color filter substrate with an electrode comprising at least a transparent substrate, a first electrode, a first transparent insulating layer, and a color filter layer in this order,
The color filter layer includes a black resin, a second electrode, a colored resin, a protective layer,
The surface located on the opposite side of the transparent substrate of the color filter substrate is covered with the protective layer except for a part thereof,
The first electrode and the second electrode are composed of a plurality of patterned electrodes extending in directions perpendicular to each other,
The first electrode is covered with the first transparent insulating layer except for a part,
The second electrode is disposed at a position overlapping the black resin pattern,
The color filter substrate with an electrode, wherein the protective layer has an opening that does not cover the first electrode or the second electrode.
前記第一透明絶縁層の厚さが1〜25μmであることを特徴とする請求項1に記載の電極付きカラーフィルタ基板。   2. The color filter substrate with an electrode according to claim 1, wherein the first transparent insulating layer has a thickness of 1 to 25 μm. 前記第一透明絶縁層の比誘電率が3.3以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の電極付きカラーフィルタ基板。   The color filter substrate with an electrode according to claim 1 or 2, wherein the first transparent insulating layer has a relative dielectric constant of 3.3 or less. 前記第一透明絶縁層の屈折率が1.60以上2.00以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の電極付きカラーフィルタ基板。   The color filter substrate with an electrode according to any one of claims 1 to 3, wherein the refractive index of the first transparent insulating layer is 1.60 or more and 2.00 or less. 前記第一電極の複数のパターン化された電極は、電極間に電気的に接続されていないダミーパターンを有し、前記第一電極および前記ダミーパターンは、前記第一電極が延伸する方向に連続する形状が、前記黒色樹脂の前記第一電極が延伸する方向に連続する形状とピッチが一致することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の電極付きカラーフィルタ基板。   The plurality of patterned electrodes of the first electrode have a dummy pattern that is not electrically connected between the electrodes, and the first electrode and the dummy pattern are continuous in a direction in which the first electrode extends. 5. The electrode-attached color filter substrate according to claim 1, wherein the shape of the black resin coincides with a shape of a continuous shape in a direction in which the first electrode of the black resin extends. 前記第一透明絶縁層は、前記第一電極を覆わない開口部を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の電極付きカラーフィルタ基板。   The color filter substrate with an electrode according to claim 1, wherein the first transparent insulating layer has an opening that does not cover the first electrode. 前記第一透明絶縁層の前記第一電極を覆わない開口部が、前記保護層の前記第二電極を覆わない開口部と同じ位置に配置されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の電極付きカラーフィルタ基板。   The opening of the first transparent insulating layer that does not cover the first electrode is disposed at the same position as the opening of the protective layer that does not cover the second electrode. The color filter substrate with an electrode according to any one of the above. 前記第一透明絶縁層の前記第一電極を覆わない開口部は、その上に前記第二電極と同じ材料で構成された第一導電層が形成されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の電極付きカラーフィルタ基板。   The first conductive layer made of the same material as that of the second electrode is formed on the opening of the first transparent insulating layer that does not cover the first electrode. The color filter substrate with an electrode according to any one of 7. 前記保護層は、前記第一導電層を覆わない開口部を有することを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の電極付きカラーフィルタ基板。   The color filter substrate with an electrode according to claim 1, wherein the protective layer has an opening that does not cover the first conductive layer. 前記保護層の前記第一電極または前記第二電極または前記第一導電層を覆わない開口部は、前記第一導電層の上部にさらに第二導電層が積層されており、前記第二導電層は前記第一電極または前記第二電極または前記第一導電層と電気的に接続されていることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の電極付きカラーフィルタ基板。   The opening that does not cover the first electrode, the second electrode, or the first conductive layer of the protective layer has a second conductive layer laminated on the first conductive layer, and the second conductive layer The electrode-attached color filter substrate according to claim 1, wherein the electrode filter is electrically connected to the first electrode, the second electrode, or the first conductive layer. 請求項1〜10のいずれかに記載の電極付きカラーフィルタ基板の、前記保護層上にさらにスペーサが形成されており、前記スペーサは前記黒色樹脂と重なる位置に配置され、前記透明基材の前記保護層と反対側の表面から前記スペーサの頂点までの距離は、前記保護層の透明基材と反対側の面から前記第二導電層の頂点までの距離と一致するか、または短いことを特徴とする電極付きカラーフィルタ基板。   The color filter substrate with an electrode according to any one of claims 1 to 10, wherein a spacer is further formed on the protective layer, the spacer is disposed at a position overlapping the black resin, and the transparent substrate The distance from the surface opposite to the protective layer to the apex of the spacer is equal to or shorter than the distance from the surface of the protective layer opposite to the transparent substrate to the apex of the second conductive layer. A color filter substrate with electrodes. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の電極付きカラーフィルタ基板を用いた表示装置。   The display apparatus using the color filter substrate with an electrode of any one of Claims 1-11. 請求項12に記載の前記表示装置が液晶ディスプレイであり、(i)少なくとも共通電極と画素電極を有し、表示の点灯をする薄膜トランジスタを有するTFT基板と、(ii)前記電極付きカラーフィルタ基板と、(iii)前記TFT基板の画素電極上および前記電極付きカラーフィルタ基板の保護層上に形成された配向膜と、(iv)液晶とを含み、前記電極付きカラーフィルタ基板の第一電極および第二電極がタッチセンサとして作用するタッチパネル内蔵液晶ディスプレイ。   The display device according to claim 12, which is a liquid crystal display, (i) a TFT substrate having at least a common electrode and a pixel electrode and having a thin film transistor for lighting a display; (ii) a color filter substrate with an electrode; (Iii) an alignment film formed on the pixel electrode of the TFT substrate and on the protective layer of the color filter substrate with electrode, and (iv) liquid crystal, and the first electrode and the first electrode of the color filter substrate with electrode A liquid crystal display with a built-in touch panel in which two electrodes act as touch sensors. 前記画素電極と前記第二電極とが、前記透明基材から前記基板の積層方向に向かって観察した際に重なり合わない位置に存在することを特徴とする請求項13に記載のタッチパネル内蔵液晶ディスプレイ。   14. The liquid crystal display with a built-in touch panel according to claim 13, wherein the pixel electrode and the second electrode are present at positions that do not overlap when observed from the transparent base material in a direction in which the substrate is laminated. . 前記第一電極または前記第二電極が前記TFT基板上に形成された配線と電気的に接続されていることを特徴とする請求項13または14に記載のタッチパネル内蔵液晶ディスプレイ。   The liquid crystal display with a built-in touch panel according to claim 13 or 14, wherein the first electrode or the second electrode is electrically connected to a wiring formed on the TFT substrate. 請求項10または11に記載の電極付きカラーフィルタ基板を用いた液晶ディスプレイであり、少なくとも共通電極と画素電極を有し、表示の点灯をする薄膜トランジスタを有するTFT基板と、前記電極付きカラーフィルタ基板と、前記TFT基板の画素電極上および前記電極付きカラーフィルタ基板の保護層上に形成された配向膜と、液晶を含み、前記電極付きカラーフィルタ基板の第一電極および第二電極がタッチセンサとして作用するタッチパネル内蔵液晶ディスプレイであって、前記第一電極または前記第二電極が前記第二導電層を経由して前記TFT基板上に形成された配線と電気的に接続されており、前記第二導電層が銀ペーストまたは金属層を表面に有するポリマー微粒子を混入させた接着剤であることを特徴とするタッチパネル内蔵液晶ディスプレイ。   A liquid crystal display using the electrode-attached color filter substrate according to claim 10 or 11, comprising at least a common electrode and a pixel electrode, a TFT substrate having a thin film transistor for lighting a display, and the electrode-attached color filter substrate, An alignment film formed on the pixel electrode of the TFT substrate and on the protective layer of the color filter substrate with the electrode, and a liquid crystal, and the first electrode and the second electrode of the color filter substrate with the electrode function as a touch sensor A liquid crystal display with a built-in touch panel, wherein the first electrode or the second electrode is electrically connected to a wiring formed on the TFT substrate via the second conductive layer, and the second conductive The touch is characterized in that the layer is an adhesive mixed with silver fine particles or polymer fine particles having a metal layer on the surface. Channel built-in liquid crystal display. 前記液晶は横電界またはフリンジ電界により配向方向を制御するIPS液晶またはFFS液晶であることを特徴とする請求項13〜16のいずれかに記載のタッチパネル内蔵液晶ディスプレイ。   The liquid crystal display with a built-in touch panel according to claim 13, wherein the liquid crystal is an IPS liquid crystal or an FFS liquid crystal whose orientation direction is controlled by a lateral electric field or a fringe electric field. 前記液晶は負の誘電率異方性を持つことを特徴とする請求項13〜17のいずれかに記載のタッチパネル内蔵液晶ディスプレイ。   The liquid crystal display with a built-in touch panel according to claim 13, wherein the liquid crystal has negative dielectric anisotropy. 前記タッチセンサおよび前記TFTの駆動回路がいずれも前記TFT基板上の配線を経由して前記TFT基板上に実装されたドライバLSIに接続されており、前記ドライバLSIは液晶表示およびタッチセンサ駆動のそれぞれを動作させる統合型ドライバLSIであることを特徴とする請求項13〜18のいずれかに記載のタッチパネル内蔵液晶ディスプレイ。   The touch sensor and the TFT drive circuit are both connected to a driver LSI mounted on the TFT substrate via wiring on the TFT substrate, and the driver LSI is used for liquid crystal display and touch sensor drive, respectively. The touch panel built-in liquid crystal display according to claim 13, wherein the liquid crystal display is an integrated driver LSI that operates the touch panel. 前記透明基材または前記TFT基板に用いた基材のいずれかの厚みが150μm未満であることを特徴とする請求項13〜19のいずれかに記載のタッチパネル内蔵液晶ディスプレイ。   The liquid crystal display with a built-in touch panel according to any one of claims 13 to 19, wherein the thickness of either the transparent substrate or the substrate used for the TFT substrate is less than 150 µm.
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