KR101432569B1 - Liquid crystal display device having touch screen and method for fabricating the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 터치스크린을 구비한 액정표시장치에 관한 것으로서, 그 구성은 제1 투명기판상에 박막트랜지스터와 이 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소전극이 형성된 하부어레이기판과, 제2 투명기판상에 블랙매트릭스와 칼라필터층이 형성된 상부어레이기판 및, 이들 기판사이에 형성된 액정층으로 구성된 액정표시패널; 상기 액정표시패널을 구성하는 상부어레이기판의 제2투명기판배면에 형성된 투명도전막과, 상기 투명도전막상에 적층된 위치감지센서필름 및 투명도전필름으로 구성된 터치스크린; 및 상기 액정표시패널하부에 형성되고, 상기 액정표시패널에 광을 제공하는 백라이트 어셈블리를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a liquid crystal display device having a touch screen, which comprises a lower array substrate on which a thin film transistor and a pixel electrode electrically connected to the thin film transistor are formed on a first transparent substrate, An upper array substrate on which a black matrix and a color filter layer are formed, and a liquid crystal layer formed between these substrates; A touch screen including a transparent conductive film formed on a rear surface of a second transparent substrate of the upper array substrate constituting the liquid crystal display panel, a position sensing film laminated on the transparent conductive film, and a transparent conductive film; And a backlight assembly disposed under the liquid crystal display panel and providing light to the liquid crystal display panel.

터치스크린, 위치감지센서필름, 투명도전막, 투명도전필름 Touch screen, position sensing film, transparent conductive film, transparent conductive film

Description

터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING TOUCH SCREEN AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a liquid crystal display device having a touch screen and a method of manufacturing the same,

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 투과율 상승 및 패널 두께의 슬림화(slim)를 구현할 수 있는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device having a touch screen capable of increasing a transmittance and slimming a panel thickness, and a method of manufacturing the same.

터치 스크린이란 키보드와 마우스를 대체하는 최첨단 입력장치로써, 터치 스크린을 모니터상에 장착한후 사용자가 손 또는 터치 펜(touch pen)을 이용하여 모니터상에 접촉하여 원하는 작업을 수행하는 장치이다.The touch screen is a state-of-the-art input device replacing a keyboard and a mouse. The touch screen is mounted on a monitor, and then the user touches the monitor using a hand or a touch pen to perform a desired operation.

이러한 터치 스크린은 GUI(Graphic User Interface) 환경 (윈도우 운영체계)하에서 직관적인 업무 수행이 가능한 이상적인 장치이다.Such a touch screen is an ideal device that can perform intuitive work under GUI (Graphic User Interface) environment (Windows operating system).

따라서, 터치스크린은 컴퓨터 기판 훈련, 시뮬레이션 응용분야, 사무 자동화 응용분야, 교육 응용분야 및 게임 응용분야 등에서 널리 사용될 수 있다.Accordingly, the touch screen can be widely used in computer board training, simulation application field, office automation application field, educational application field, and game application field.

이러한 터치 스크린은 접촉되는 물체 예를 들어, 손가락 또는 터치 펜에 반사되는 빛에 따른 광전류(photo current)를 생성하고, 그에 따라 발생된 전하를 충전하며, 충전된 전하에 따른 전압을 출력함에 따라 접촉되는 물체의 위치를 검출한 다.Such a touch screen generates a photo current corresponding to a light reflected from a contacted object, for example, a finger or a touch pen, charges the generated electric charge, and outputs a voltage corresponding to the charged electric charge. The position of the object to be detected is detected.

일반적으로, 터치 스크린은 박막의 필름 형태로 구성되므로, 액정표시패널상부에 장착되어 사용된다.Generally, since the touch screen is formed as a thin film, it is mounted on the upper part of the liquid crystal display panel.

이러한 종래의 터치 스크린을 구비한 액정표시장치에 대해 도 1 및 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.A conventional liquid crystal display device having a touch screen will now be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG.

도 1은 종래기술에 따른 터치 스크린이 접착된 액정표시장치의 개략적인 구성도이다.FIG. 1 is a schematic view of a conventional liquid crystal display device to which a touch screen is adhered.

도 2는 종래기술에 따른 터치 스크린이 접착되기 전 액정표시장치의 개략적인 분해도이다.2 is a schematic exploded view of a liquid crystal display device before a touch screen according to the related art is adhered.

종래기술에 따른 터치 스크린이 구비된 액정표시장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 액정표시패널(10)과; 상기 액정표시패널(10)의 하면과 상면에 각각 형성된 하부편광판(15)과 상부편광판(17); 상기 상부편광판(17)상에 접착된 박막 필름 형태의 터치스크린(20);을 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 1, a liquid crystal display device provided with a touch screen according to the related art includes a liquid crystal display panel 10; A lower polarizer 15 and an upper polarizer 17 formed on the lower surface and the upper surface of the liquid crystal display panel 10; And a thin film-type touch screen 20 adhered on the upper polarizer 17.

여기서, 상기 액정표시패널(10)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 투명한 재질로 구성되고, 스위칭소자가 형성된 하부어레이기판(11)과; 다양한 색상의 이미지가 구현되는 상부어레이기판(13)과; 이들 기판사이에 형성되어 전계에 의해 배열방향이 조절되는 액정층(미도시)으로 구성된다. 2, the liquid crystal display panel 10 includes a lower array substrate 11 formed of a transparent material and having a switching element formed thereon; An upper array substrate 13 on which images of various colors are realized; And a liquid crystal layer (not shown) formed between these substrates and whose alignment direction is adjusted by an electric field.

또한, 상기 박막 필름 형태의 터치스크린(20)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 투명한 ITO기판(Indium Tin Oxide substrate)(21)과; 상기 ITO기판(21)상에 접착되고 액정표시패널에 접촉되는 물체의 X,Y 위치좌표를 인식하는 위치센서필름(23)과; 상기 위치센서필름(23)상에 접착된 ITO필름(25)으로 구성된다.As shown in FIG. 2, the touch screen 20 of the thin film type includes a transparent ITO substrate (Indium Tin Oxide substrate) 21; A position sensor film 23 for recognizing X and Y position coordinates of an object adhered on the ITO substrate 21 and contacting the liquid crystal display panel; And an ITO film 25 adhered on the position sensor film 23.

상기 구성으로 이루어진 종래기술에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치의 제조방법에 대해 도 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.A method of manufacturing a liquid crystal display device having a touch screen according to the related art having the above structure will be described with reference to FIG.

도면에는 도시하지 않았지만, 먼저 상기 하부어레이기판(도 2의 11 참조)에 스위칭소자인 TFT 형성공정을 진행하고, 이 TFT(미도시)와 전기적으로 연결되는 화소전극(미도시)과 함께 배향막(미도시)을 형성하는 공정을 진행한다. Although not shown in the figure, a TFT forming process, which is a switching device, is performed on the lower array substrate (see 11 in FIG. 2), and a pixel electrode (not shown) electrically connected to the TFT (not shown) (Not shown).

그다음, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 상부어레이기판(도 2의 13 참조)에 화상표시영역을 정의해 주는 블랙매트릭스(미도시)와 복수개의 색상을 구현하는 칼라필터층 (미도시)과 공통전극(미도시) 및 배향막(미도시)을 형성하는 공정을 진행한다.Although not shown in the drawing, a black matrix (not shown) defining an image display region on the upper array substrate (see 13 in FIG. 2), a color filter layer (not shown) implementing a plurality of colors, (Not shown) and an alignment film (not shown) are formed.

이어서, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 하부어레이기판(11) 또는 상부어레이기판(13)의 화소표시영역을 정의하는 실패턴(seal pattern)(미도시)을 형성하고, 이어 이 실패턴(미도시)내에 액정층(미도시)을 형성한후 상기 하부어레이기판(11)과 상부어레이기판(13)을 합착시킨다.2, a seal pattern (not shown) for defining a pixel display region of the lower array substrate 11 or the upper array substrate 13 is formed, and then a seal pattern (not shown) A liquid crystal layer (not shown) is formed in the upper array substrate 11 and the upper array substrate 13.

그다음, 상기 합착된 하부어레이기판과 상부어레이기판의 외면에 각각 하부편광판(15)과 상부편광판(17)을 형성하여 액정표시패널의 제조공정을 완료한다.Subsequently, the lower polarizer plate 15 and the upper polarizer plate 17 are formed on the outer surfaces of the lower array substrate and the upper array substrate to complete the manufacturing process of the liquid crystal display panel.

이어서, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 상부편광판(17)상면에 터치스크린 (20)을 접착하는 공정을 진행하여 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조공정을 완료한다.Next, as shown in FIG. 2, the process of bonding the touch screen 20 to the upper surface of the upper polarizer 17 is performed to complete the process of manufacturing a liquid crystal display device having a touch screen.

이때, 상기 터치스크린(20)은 상기 액정표시패널(10)상면에 접착되는 ITO기 판(21)과, 상기 ITO기판(21)상에 접착되고 물체의 X,Y 위치좌표를 인식하는 위치센서필름(23)과 ITO필름(25)으로 구성된다.The touch screen 20 includes an ITO substrate 21 adhered to the upper surface of the liquid crystal display panel 10 and a position sensor 21 attached to the ITO substrate 21 for recognizing X, Y position coordinates of the object. Film 23 and an ITO film 25 as shown in Fig.

이상과 같이, 종래기술에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면 다음과 같은 문제점이 있다.As described above, the liquid crystal display device having the touch screen according to the related art and the manufacturing method thereof have the following problems.

종래기술에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 터치스크린은 액정표시패널에 장착되기 전에 별도의 ITO기판상에 접착되기 때문에 상기 ITO기판에 의해 투과율이 감소하게 된다.According to the conventional liquid crystal display device having a touch screen and the method of manufacturing the same, the transmittance of the touch screen is reduced by the ITO substrate because the touch screen is bonded to a separate ITO substrate before being mounted on the liquid crystal display panel.

또한, 종래기술에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, ITO기판이 액정표시패널상부에 있음으로 인해 칼라필터 자체의 색재현율이 저하될 수 있다.In addition, according to the conventional liquid crystal display having a touch screen and the method of manufacturing the same, the color reproduction ratio of the color filter itself may be lowered due to the ITO substrate being on the liquid crystal display panel.

그리고, 종래기술에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 터치스크린이 별도의 ITO기판과 위치센서필름 및 ITO필름으로 구성되어 있어 액정표시패널과 터치스크린의 결합된 액정표시장치 전체의 두께 및 무게가 증가하게 된다.According to a conventional liquid crystal display device having a touch screen and a method of manufacturing the same, the touch screen is composed of a separate ITO substrate, a position sensor film, and an ITO film, so that a liquid crystal display Thereby increasing the thickness and weight of the entire device.

더우기, 종래기술에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 액정표시패널과 터치스크린을 별도로 제작하고, 이렇게 제작된 액정표시패널과 터치스크린을 서로 합착하여 액정표시장치를 구성하기 때문에 부품 비용이 증가하게 된다.Further, according to the liquid crystal display device having a touch screen and the method of manufacturing the same according to the related art, a liquid crystal display panel and a touch screen are manufactured separately, and the liquid crystal display panel and the touch screen are bonded to each other, The cost of parts is increased.

이에 본 발명은 상기 종래기술에 따른 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 액정표시장치의 두께를 슬림화하면서 투과율을 증가시키고 색재현율을 개선시킬 수 있는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공함에 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device having a touch screen capable of increasing the transmittance and improving the color reproduction rate while reducing the thickness of the liquid crystal display device. And a method of manufacturing the same.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치는, 제1 투명기판상에 박막트랜지스터와 이 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소전극이 형성된 하부어레이기판과, 제2 투명기판상에 블랙매트릭스와 칼라필터층이 형성된 상부어레이기판 및, 이들 기판사이에 형성된 액정층으로 구성된 액정표시패널; 상기 액정표시패널을 구성하는 상부어레이기판의 제2투명기판배면에 형성된 투명도전막과, 상기 투명도전막상에 적층된 위치감지센서필름 및 투명도전필름으로 구성된 터치스크린; 및 상기 액정표시패널하부에 형성되고, 상기 액정표시패널에 광을 제공하는 백라이트 어셈블리를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device having a touch screen, including a thin film transistor on a first transparent substrate, a lower array substrate on which pixel electrodes electrically connected to the thin film transistor are formed, A liquid crystal display panel comprising an upper array substrate on which a black matrix and a color filter layer are formed, and a liquid crystal layer formed between these substrates; A touch screen including a transparent conductive film formed on a rear surface of a second transparent substrate of the upper array substrate constituting the liquid crystal display panel, a position sensing film laminated on the transparent conductive film, and a transparent conductive film; And a backlight assembly disposed under the liquid crystal display panel and providing light to the liquid crystal display panel.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법은 제1 투명기판상에 박막트랜지스터와 이 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소전극을 형성하는 단계; 제2 투명기판상에 블랙매트릭스와 칼라필터층을 형성하는 단계; 상기 제2투명기판의 배면에 투명도전막을 형성하는 단계; 상기 제1투명기판과 제2투명기판사이에 액정층을 형성하는 단계; 상기 투명도전막상에 위치감지센서필름과 투명도전필름을 순차적으로 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device having a touch screen, including: forming a thin film transistor on a first transparent substrate and a pixel electrode electrically connected to the thin film transistor; Forming a black matrix and a color filter layer on a second transparent substrate; Forming a transparent conductive film on a back surface of the second transparent substrate; Forming a liquid crystal layer between the first transparent substrate and the second transparent substrate; And sequentially forming a position sensing film and a transparent conductive film on the transparent conductive film.

본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면 다음과 같은 효과가 있다.The liquid crystal display device having a touch screen and the method of manufacturing the same according to the present invention have the following effects.

본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 기존과 같이 터치스크린을 액정표시패널에 장착되기 전에 별도의 투명기판상에 접착하지 않고 별도의 투명기판대신에 칼라필터기판 (즉, 상부어레이기판)에 형성하기 때문에 별도의 투명기판이 필요없게 되므로써 투과율이 향상된다.According to the liquid crystal display device having a touch screen and the method of manufacturing the same according to the present invention, the touch screen is not adhered to a separate transparent substrate before being mounted on the liquid crystal display panel, (That is, on the upper array substrate), a separate transparent substrate is not required, and the transmittance is improved.

또한, 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 기존과 같이 별도의 ITO기판이 액정표시패널의 상부에 있음으로 인해 발생할 수 있는 칼라필터 자체의 색재현율 저하를 줄일 수 있다.In addition, according to the liquid crystal display device having a touch screen and the method of manufacturing the same according to the present invention, it is possible to reduce the color reproducibility reduction of the color filter itself, which is caused by the fact that a separate ITO substrate is present on the liquid crystal display panel .

그리고, 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 기존과 같이 터치스크린이 별도의 ITO기판에 형성하지 않고 칼라필터기판 (즉, 상부어레이기판)에 형성하기 때문에 기존에 비해 액정표시패널과 터치스크린의 결합된 액정표시장치 전체의 두께가 얇아지고 무게가 작아지게 된다.According to the liquid crystal display device having a touch screen and the method of manufacturing the same according to the present invention, since the touch screen is not formed on a separate ITO substrate but is formed on a color filter substrate (i.e., an upper array substrate) The total thickness of the liquid crystal display device combined with the liquid crystal display panel and the touch screen is reduced and the weight is reduced.

따라서, 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 터치스크린을 별도로 제작하지 않고 액정표시패널의 칼라필터기판에 형성하기 때문에 별도의 투명기판이 필요없게 되므로써 부품 비용이 절감된다.Therefore, according to the liquid crystal display device having the touch screen and the method of manufacturing the same according to the present invention, since the touch screen is formed on the color filter substrate of the liquid crystal display panel without separately manufacturing, a separate transparent substrate is not needed, .

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a liquid crystal display device having a touch screen according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치의 개략적인 구성도이다.3 is a schematic block diagram of a liquid crystal display device having a touch screen according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치의 개략적인 분해도이다.4 is a schematic exploded view of a liquid crystal display device having a touch screen according to the present invention.

본 발명에 따른 터치스크린이 구비된 액정표시장치는, 도 3에 도시된 바와 같이, 액정표시패널(100)과; 상기 액정표시패널(100)의 상면에 접착된 터치스크린 (160)과; 상기 액정표시패널(100)의 하면 및 상기 터치스크린(160)의 상면에 각각 형성된 하부편광판(171)과 상부편광판(173); 그리고 상기 액정표시패널(100)하부에 마련되어 상기 액정표시패널에 광을 보내는 백라이트 어셈블리(미도시)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 3, a liquid crystal display device provided with a touch screen according to the present invention includes a liquid crystal display panel 100; A touch screen 160 adhered to the upper surface of the liquid crystal display panel 100; A lower polarizer plate 171 and an upper polarizer plate 173 formed on the lower surface of the liquid crystal display panel 100 and the upper surface of the touch screen 160; And a backlight assembly (not shown) provided under the liquid crystal display panel 100 to transmit light to the liquid crystal display panel.

여기서, 상기 액정표시패널(100)은, 도 4에 도시된 바와 같이, 투명한 재질로 구성된 하부기판(미도시)상에 스위칭소자(미도시)와 이 소자와 전기적으로 연결되는 화소전극(미도시)이 형성된 하부어레이기판 (110)과; 광을 차단하는 블랙매트릭스(미도시)와 이 블랙매트릭스(미도시)가 한정하는 화소영역에 다양한 색상의 칼라필터층(미도시)이 형성되어 이미지가 구현되는 상부어레이기판(130)과; 이들 기판사이에 형성되어 전계에 의해 배열방향이 조절되는 액정층(미도시)으로 구성된다. 또한, 상기 화소전극(미도시)과 전계를 발생시키는 공통전극(미도시)는 상부어레이기판(130) 또는 하부어레이기판(110)에 형성된다. 이때, 상기 공통전극(미도시)는 TN모드의 경우 상부어레이기판(130)상에 형성되며, IPS모드의 경우 하부어레이기판(110)상에 형성된다.  4, the liquid crystal display panel 100 includes a switching element (not shown) and a pixel electrode (not shown) electrically connected to the element on a lower substrate (not shown) made of a transparent material A lower array substrate 110 on which a plurality of pixel electrodes are formed; An upper array substrate 130 on which an image is formed by forming a black matrix (not shown) blocking light and a color filter layer (not shown) of various colors in a pixel region defined by the black matrix (not shown); And a liquid crystal layer (not shown) formed between these substrates and whose alignment direction is adjusted by an electric field. A common electrode (not shown) for generating an electric field with the pixel electrode (not shown) is formed on the upper array substrate 130 or the lower array substrate 110. In this case, the common electrode (not shown) is formed on the upper array substrate 130 in the case of the TN mode and on the lower array substrate 110 in the case of the IPS mode.

또한, 상기 박막 필름 형태의 터치스크린(160)은, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 상부어레이기판(130)의 상부표면에 형성되고, ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명재질로 이루어진 투명도전막(141)과; 상기 투명도전막(141)표면에 접착되고 액정표시패널에 접촉되는 물체의 위치, 즉 X,Y 위치좌표를 인식하는 위치감지센서필름(161)과; 상기 위치감지센서필름(161)상에 접착된 ITO필름(163)으로 구성된다.4, the touch screen 160 in the form of a thin film is formed on the upper surface of the upper array substrate 130 and includes a transparent conductive film made of a transparent material such as ITO (Indium Tin Oxide) (141); A position detection sensor film 161 for recognizing the position of an object which is adhered to the surface of the transparent conductive film 141 and is in contact with the liquid crystal display panel, that is, X, Y position coordinates; And an ITO film 163 bonded on the position sensing film 161.

상기 구성으로 이루어진 본 발명에 따른 터치스크린을 내장한 액정표시장치의 제조방법에 대해 도 5a 내지 도 5f를 참조하여 설명하면 다음과 같다.A method of manufacturing a liquid crystal display device having a built-in touch screen according to the present invention will be described with reference to FIGS. 5A to 5F.

도 5a 내지 도 5f는 본 발명에 따른 터치스크린을 내장한 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도이다.5A to 5F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device incorporating a touch screen according to the present invention.

여기서는 TN (Twist nemetic) 모드의 액정표시장치 제조방법에 대해 설명하지만, 본 발명은 이 TN모드에 한정되지 않고 IPS (In-Plane Switching) 모드, VA (Vertical Alignment) 모드 또는 기타 다른 모드에도 적용가능하다.Although the method of manufacturing a TN (Twist nemetic) mode liquid crystal display device is described here, the present invention is applicable not only to the TN mode but also to an IPS (In-Plane Switching) mode, VA (Vertical Alignment) Do.

도 5a에 도시된 바와 같이, 투명한 유리 등으로 이루어진 하부기판(111)상에 금속물질을 스퍼터링방법으로 증착한후 이를 마스크공정에 의해 선택적으로 패터닝하여 게이트라인(미도시)과, 상기 게이트라인(미도시)에서 연장되어 돌출된 게이트전극(113)을 형성한다. As shown in FIG. 5A, a metal material is deposited on a lower substrate 111 made of transparent glass or the like by a sputtering method and selectively patterned by a mask process to form a gate line (not shown) (Not shown) to form the protruding gate electrode 113. [

이때, 상기 게이트라인 형성용 금속물질로는 Al과 Al합금등의 Al 계열 금속, Ag과 Ag합금 등의 Ag 계열금속, Mo과 Mo 합금 등의 Mo 계열금속, Cr, Ti, Ta 중에서 선택하여 사용한다. At this time, the metal material for forming the gate line may be selected from Al-based metals such as Al and Al alloys, Ag-based metals such as Ag and Ag alloys, Mo-based metals such as Mo and Mo alloys, Cr, Ti and Ta do.

또한, 이들은 물질적 성질이 다른 두개의 막, 즉 하부막과 그 위의 상부막을 포함할 수도 있다. 여기서, 상부막은 게이트라인의 신호지연이나 전압강하를 줄일 수 있도록 낮은 비저항(resistivity)의 금속, 예를들면 Al 계열금속 또는 Ag 계열 금속으로 이루어진다.In addition, they may comprise two membranes of different material properties, namely a bottom membrane and a top membrane thereon. Here, the upper film is made of a metal having a low resistivity, for example, an Al-based metal or an Ag-based metal so as to reduce signal delay and voltage drop of the gate line.

이와는 달리, 하부막은 다른 물질, 특히 ITO(indium tin oxide)나 IZO (indium zinc oxide)와의 물리적, 화학적 및 전기적 접촉 특성이 우수한 물질, 예를들어 Ti, Ta, Cr, Mo 계열 금속 등으로 이루어지거나, 또는 하부막과 상부막의 조합의 예로는 Cr/Al-Nd 합금을 들 수 있다.Alternatively, the lower film may be made of a material having excellent physical, chemical and electrical contact properties with other materials, particularly indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), such as Ti, Ta, Cr, , Or an example of a combination of the lower film and the upper film is Cr / Al-Nd alloy.

그다음, 상기 게이트라인(미도시)과 게이트전극(113)을 포함한 하부기판(111)상에 질화규소(SiNx) 와 같은 무기 절연물질로 이루어진 게이트절연막(115)을 형성한다.Next, a gate insulating film 115 made of an inorganic insulating material such as silicon nitride (SiNx) is formed on the lower substrate 111 including the gate line (not shown) and the gate electrode 113.

이어서, 상기 게이트절연막(115)상부에는 수소화 비정질실리콘층(hydroge-nated amorphous silicon) 등으로 이루어진 반도체층(미도시)을 형성한다.Next, a semiconductor layer (not shown) made of a hydrogenated amorphous silicon layer is formed on the gate insulating layer 115.

그다음, 상기 반도체층(미도시) 상부에는 실리사이드(silicide) 또는 n형 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 n+ 수소화 비정질실리콘 등의 물질로 이루어진 오믹콘택층(미도시)을 형성한다.Next, an ohmic contact layer (not shown) made of a material such as silicide or n + hydrogenated amorphous silicon with high concentration of n-type impurity is formed on the semiconductor layer (not shown).

이어서, 상기 오믹콘택층과 반도체층을 포토리소그라피 공정기술을 이용한 마스크공정에 의해 선택적으로 패터닝하여 액티브패턴(117)과 오믹콘택패턴(118)을 형성한다.Then, the ohmic contact layer and the semiconductor layer are selectively patterned by a mask process using a photolithography process technique to form the active pattern 117 and the ohmic contact pattern 118.

그다음, 상기 액티브패턴(117)과 오믹콘택패턴(118)을 포함한 하부기판(111)상에 데이터라인 형성용 금속물질을 스퍼터링방법으로 증착한후 이를 포토리소그라피 공정기술을 이용한 마스크공정에 의해 선택적으로 패터닝하여 데이터라인(미도시)과, 이 데이터라인(미도시)에서 돌출된 소스전극(119)과, 이 소스전극(119)과 일정간격만큼 이격된 드레인전극(121)을 각각 형성한다. Next, a metal material for forming a data line is deposited on the lower substrate 111 including the active pattern 117 and the ohmic contact pattern 118 by a sputtering method, and then a metal material for forming a data line is selectively deposited by a mask process using a photolithography process technique. A source electrode 119 protruding from the data line (not shown), and a drain electrode 121 spaced apart from the source electrode 119 by a predetermined distance are formed.

이때, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 데이터라인(미도시)은 상기 게이트라인(미도시)과 서로 교차되게 형성되어 있으며, 상기 소스전극(119)과 드레인전극(121)은 그 아래의 게이트전극(113)과 함께 스위칭소자인 박막트랜지스터(미도시)를 구성한다. Although not shown in the figure, the data line (not shown) is formed so as to intersect with the gate line (not shown), and the source electrode 119 and the drain electrode 121 are formed in the gate electrode 113 constitute a thin film transistor (not shown) as a switching element.

또한, 상기 박막트랜지스터(미도시)의 채널은 상기 소스전극(119)과 드레인전극(121)사이의 액티브패턴(117)내에 형성된다.A channel of the thin film transistor (not shown) is formed in the active pattern 117 between the source electrode 119 and the drain electrode 121.

그리고, 상기 데이터라인(미도시)을 형성하기 위한 금속물질로는 Al 계열 금속, Ag 계열 금속, Mo 계열 금속, Cr, Ti, Ta 등의 물질을 사용하며, 다중층으로 형성할 수도 있다.As the metal material for forming the data line (not shown), a material such as an Al-based metal, an Ag-based metal, a Mo-based metal, Cr, Ti, or Ta may be used.

그다음, 상기 데이터라인(미도시)과 소스/드레인전극(119, 121)을 포함한 하부기판(111) 전면에 평탄화 특성이 우수하며 감광성을 가지는 유기물질, 또는 저유전율 특성을 가지는 절연물질, 또는 무기물질인 질화 규소로 이루어진 보호막(123)을 형성한다.Next, an organic material having excellent planarization characteristics and having a photosensitive property, an insulating material having a low dielectric constant property, or a material having a low dielectric constant is formed on the entire surface of the lower substrate 111 including the data line (not shown) and the source / drain electrodes 119 and 121 A protective film 123 made of silicon nitride is formed.

이어서, 상기 보호막(123)을 포토리소그라피 공정기술을 이용한 마스크공정 에 의해 선택적으로 패터닝하여 상기 보호막(123)내에 상기 드레인전극(121)의 일부를 노출시키는 콘택홀(미도시)을 형성한다.The protective film 123 is selectively patterned by a mask process using a photolithography process technique to form a contact hole (not shown) exposing a part of the drain electrode 121 in the protective film 123.

그다음, 도 5b에 도시된 바와 같이, 상기 콘택홀(미도시)을 포함한 보호막(123)상에 ITO (indium tin oxide) 또는 IZO (indiumn zic oxide) 등의 투명한 도전물질으로 이루어진 금속물질층(미도시)을 스퍼터링방법으로 증착한후 이를 포토리소그라피 공정기술을 이용한 마스크공정에 의해 선택적으로 제거하여 화소전극(125)을 형성한다. 5B, a metal material layer (not shown) made of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide) or IZO (indium tin oxide) is formed on the protective film 123 including the contact hole Is formed by a sputtering method and then selectively removed by a mask process using a photolithography process technique to form a pixel electrode 125. [

이때, 상기 화소전극(113)은 데이터전압이 인가되면, 공통전압(common voltage)을 인가받은 상부어레이기판(미도시; 도 5c 의 130 참조)의 공통전극(미도시; 도 5c의 137 참조)과 함께 전기장을 생성하므로써 화소전극(125)과 공통전극(127)사이의 액정층(미도시; 도 5e의 150 참조)의 액정분자들을 배열시키게 된다. When the data voltage is applied to the pixel electrode 113, a common electrode (not shown in FIG. 5C, not shown) of the upper array substrate (not shown in FIG. 5C) The liquid crystal molecules of the liquid crystal layer (not shown in FIG. 5E, 150) between the pixel electrode 125 and the common electrode 127 are arranged.

도면에는 도시하지 않았지만, 상기 화소전극(125)을 포함한 보호막(123)상부에 액정분자를 일정 방향으로 배열되도록 하는 배향막(미도시)을 형성하는 공정을 진행한다. Although not shown in the drawing, a process of forming an alignment film (not shown) for aligning liquid crystal molecules in a predetermined direction is performed on the protective film 123 including the pixel electrode 125.

한편, 도 5c에 도시된 바와 같이, 상부기판(131)상에는 Cr과 같은 불투명 금속물질로 복수개의 단위셀영역을 한정하는 블랙매트릭스(133)를 형성한다. On the other hand, as shown in FIG. 5C, a black matrix 133 is formed on the upper substrate 131 to define a plurality of unit cell regions using an opaque metal material such as Cr.

이때, 상기 블랙매트릭스(133)는 인접한 셀로부터 입사되는 빛을 흡수함으로써 콘트라스트의 저하를 방지하게 된다.At this time, the black matrix 133 absorbs light incident from adjacent cells, thereby preventing the contrast from lowering.

그다음, 상기 블랙매트릭스(133)사이의 상부기판(131)표면에는 적색(R), 녹 색(G), 청색(B)의 컬러필터층(135)을 형성한다.A color filter layer 135 of red (R), green (G), and blue (B) is formed on the surface of the upper substrate 131 between the black matrices 133.

이때, 상기 컬러필터층(135)는 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 컬러필터를 포함하여 특정 파장대역의 빛을 투과시키므로써 컬러표시를 가능하게 한다.At this time, the color filter layer 135 includes color filters of red (R), green (G), and blue (B) to transmit light in a specific wavelength band, thereby enabling color display.

이어서, 상기 컬러필터층(135) 및 블랙매트릭스(133)를 포함한 상부기판(131)상에 투명도전물질로 구성된 공통전극(137)을 형성한다. 여기서, 상기 공통전극(137)은 상부기판(131)에 형성된 경우에 대해 설명하였지만, 액정표시패널의 구동모드에 따라 하부기판(111)에 형성할 수도 있다. 즉, 액정표시패널의 구동모드가 IPS모드(In-Plane Switching mode)일 경우에는 상기 공통전극(137)은 상기 하부기판(111)상에 형성된다.Next, a common electrode 137 made of a transparent conductive material is formed on the upper substrate 131 including the color filter layer 135 and the black matrix 133. Although the common electrode 137 is formed on the upper substrate 131, the common electrode 137 may be formed on the lower substrate 111 according to the driving mode of the liquid crystal display panel. That is, when the driving mode of the liquid crystal display panel is the IPS mode (In-Plane Switching mode), the common electrode 137 is formed on the lower substrate 111.

도면에는 도시하지 않았지만, 상기 공통전극(137)상부에 액정분자를 일정 방향으로 배열되도록 하는 배향막(미도시)을 형성하는 공정을 진행한다.Although not shown in the drawing, a process of forming an alignment film (not shown) for arranging liquid crystal molecules in a predetermined direction is performed on the common electrode 137.

그다음, 도 5d에 도시된 바와 같이, 상기 상부기판(131)의 배면에 투명한 재질로 구성된 도전물질을 스퍼터링방법으로 증착하여 투명도전막(141)을 형성한다. 이때, 상기 투명도전막(141)을 형성하는 재질로는, ITO (indium tin oxide), IZO (indiumn zic oxide) 또는 투명한 도전물질이면 모두 가능하다.Next, as shown in FIG. 5D, a transparent conductive film 141 is formed on the rear surface of the upper substrate 131 by depositing a conductive material made of a transparent material by a sputtering method. At this time, the transparent conductive film 141 may be formed of ITO (indium tin oxide), IZO (indium tin oxide), or a transparent conductive material.

이어서, 앞에서 어레이 형성공정을 수행한 하부어레이기판(110)상면에 각 픽셀영역을 정의하는 실패턴(seal pattern)(미도시)을 각 픽셀영역주위에 형성한다.Next, a seal pattern (not shown) defining each pixel region is formed on the upper surface of the lower array substrate 110, which has been subjected to the array forming process, around each pixel region.

그다음, 상기 실패턴(seal pattern)내의 픽셀영역에 액정을 적하하여 액정층(150)을 형성한다.Then, a liquid crystal layer 150 is formed by dropping liquid crystal in a pixel region in the seal pattern.

이어서, 상기 액정층(15)이 형성된 하부어레이기판(110)상에 상부어레이기 판(130)을 일정간격만큼 이격시킨 상태에서 합착시켜 액정표시패널(100)을 형성한다. 이때, 상기 하부어레이기판(110)과 상부어레이기판(130)사이에는 이들간에 균일한 간격이 유지될 수 있도록 스페이서(미도시)가 형성된다.Subsequently, the liquid crystal display panel 100 is formed by attaching the upper array substrate 130 on the lower array substrate 110 on which the liquid crystal layer 15 is formed while being spaced apart from each other by a predetermined distance. At this time, a spacer (not shown) is formed between the lower array substrate 110 and the upper array substrate 130 so that a uniform gap therebetween can be maintained.

그다음, 이렇게 합착공정이 진행된 액정표시패널(100)을 구성하는 상부어레이기판(130)의 배면에 형성된 투명도전막(141)에 액정표시패널(100)에 접촉하는 물체의 위치, 즉 X, Y 좌표를 인식하는 위치감지센서필름(161)을 접착시킨후 다시 위치감지센서필름(161)상에 ITO필름(163)을 접착시킨다. 이때, 상기 ITO필름(163)의 재질로는 ITO 이외에 IZO 또는 투명한 도전물질이면 사용이 가능하다.The position of an object in contact with the liquid crystal display panel 100, that is, the position of the object contacting the liquid crystal display panel 100, that is, the XY coordinate (Y coordinate) of the liquid crystal display panel 100, And then the ITO film 163 is adhered to the position detection sensor film 161 again. At this time, as the material of the ITO film 163, IZO or a transparent conductive material may be used in addition to ITO.

이어서, 상기 하부어레이기판(110)의 하면과 ITO필름(163)의 상면에 하부편광판(171)과 상부편광판(173)을 각각 형성한다.Subsequently, a lower polarizer plate 171 and an upper polarizer plate 173 are formed on the lower surface of the lower array substrate 110 and the upper surface of the ITO film 163, respectively.

그다음, 상기 하부어레이기판(110)의 하부편광판(171)하측에 상기 액정표시패널(100)에 광을 보내는 백라이트 어셈블리(미도시)를 장착한다.A backlight assembly (not shown) for transmitting light to the liquid crystal display panel 100 is mounted below the lower polarizer plate 171 of the lower array substrate 110.

이렇게 하여, 상기 하부어레이기판(110) 및 상부어레이기판(130)의 어레이공정을 진행한후 이들 하부어레이기판(110)과 상부어레이기판(130)사이에 액정층 (150)을 형성하는 공정과 더불어 상부어레이기판(130)배면에 직접 터치스크린(160)을 형성하는 공정을 수행하므로써 터치스크린(160)이 내장된 액정표시장치 제조공정을 완료한다.After the array process of the lower array substrate 110 and the upper array substrate 130 is performed, a liquid crystal layer 150 is formed between the lower array substrate 110 and the upper array substrate 130 In addition, the process of forming the touch screen 160 directly on the back surface of the upper array substrate 130 completes the process of manufacturing the liquid crystal display device with the touch screen 160 embedded therein.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments.

따라서, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것이 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Therefore, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concept of the present invention defined in the following claims are also within the scope of the present invention.

도 1은 종래기술에 따른 터치 스크린이 접착된 액정표시장치의 개략적인 구성도이다.FIG. 1 is a schematic view of a conventional liquid crystal display device to which a touch screen is adhered.

도 2는 종래기술에 따른 터치 스크린이 접착되기 전 액정표시장치의 개략적인 분해도이다.2 is a schematic exploded view of a liquid crystal display device before a touch screen according to the related art is adhered.

도 3은 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치의 개략적인 구성도이다.3 is a schematic block diagram of a liquid crystal display device having a touch screen according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치의 개략적인 분해도이다.4 is a schematic exploded view of a liquid crystal display device having a touch screen according to the present invention.

도 5a 내지 도 5f는 본 발명에 따른 터치스크린을 내장한 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도이다.5A to 5F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device incorporating a touch screen according to the present invention.

*** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ***DESCRIPTION OF THE REFERENCE SYMBOLS

100: 액정표시패널 110 : 하부어레이기판100: liquid crystal display panel 110: lower array substrate

111 : 하부기판 113 : 게이트전극111: lower substrate 113: gate electrode

115 : 게이트절연막 117 : 액티브패턴115: gate insulating film 117: active pattern

118 : 오믹콘택패턴 119 : 소스전극118: Ohmic contact pattern 119: Source electrode

121 : 드레인전극 123 : 보호막121: drain electrode 123: protective film

125 : 화소전극 130 : 상부어레이기판125: pixel electrode 130: upper array substrate

131 ; 상부기판 133 : 블랙매트릭스131; Upper substrate 133: black matrix

135 : 칼라필터층 137 : 공통전극135: color filter layer 137: common electrode

141 : 투명도전막 161 ; 위치감지센서필름141: transparent conductive film 161; Position sensor film

163 : 투명도전필름 171 : 하부편광판163: Transparent conductive film 171: Lower polarizer plate

173 : 상부편광판173: Upper polarizer

Claims (13)

제1 투명기판상에 박막트랜지스터와 이 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소전극이 형성된 하부 어레이 기판과, 제2 투명기판상에 블랙매트릭스와 칼라필터층이 형성된 상부어레이기판 및, 이들 기판사이에 형성된 액정층으로 구성된 액정표시패널; A lower array substrate on which a thin film transistor and pixel electrodes electrically connected to the thin film transistor are formed on a first transparent substrate; an upper array substrate on which a black matrix and a color filter layer are formed on a second transparent substrate; A liquid crystal display panel comprising a plurality of layers; 상기 액정표시패널을 구성하는 상부어레이기판의 제2투명기판배면에 형성된 투명도전막과, 상기 투명도전막상에 적층된 위치감지센서필름 및 투명도전필름으로 구성된 터치스크린; 및A touch screen including a transparent conductive film formed on a rear surface of a second transparent substrate of the upper array substrate constituting the liquid crystal display panel, a position sensing film laminated on the transparent conductive film, and a transparent conductive film; And 상기 액정표시패널하부에 형성되고, 상기 액정표시패널에 광을 제공하는 백라이트 어셈블리를 포함하여 구성되며, And a backlight assembly disposed under the liquid crystal display panel and providing light to the liquid crystal display panel, 상기 하부 어레이 기판의 상기 제1 투명기판 배면에 하부 편광판이 형성되고, A lower polarizer is formed on a back surface of the first transparent substrate of the lower array substrate, 상기 터치스크린의 상기 투명도전필름 상면에 상부 편광판이 형성된 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치.Wherein an upper polarizer is formed on an upper surface of the transparent conductive film of the touch screen. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 투명도전막은 ITO, IZO 또는 투명한 재질의 금속물질로 형성된 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치.The liquid crystal display of claim 1, wherein the transparent conductive film is formed of a metal material such as ITO, IZO, or a transparent material. 제 1항에 있어서, 상기 투명도전필름은 ITO, IZO 또는 투명한 재질의 금속물질로 형성된 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치. The liquid crystal display of claim 1, wherein the transparent conductive film is formed of a metal material such as ITO, IZO, or a transparent material. 제 1항에 있어서, 상기 하부 어레이 기판 또는 상부 어레이 기판상에 형성된 공통전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치. The liquid crystal display of claim 1, further comprising a common electrode formed on the lower array substrate or the upper array substrate. 하부 어레이 기판상에 박막트랜지스터와 이 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소전극을 형성하는 단계;Forming a thin film transistor on the lower array substrate and a pixel electrode electrically connected to the thin film transistor; 상기 하부 어레이 기판과 합착되는 상부 어레이 기판상에 블랙매트릭스와 칼라필터층을 형성하는 단계;Forming a black matrix and a color filter layer on an upper array substrate bonded to the lower array substrate; 상기 상부 어레이 기판의 배면에 투명도전막을 형성하는 단계;Forming a transparent conductive film on a rear surface of the upper array substrate; 상기 하부 어레이 기판과 상부 어레이 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계;Forming a liquid crystal layer between the lower array substrate and the upper array substrate; 상기 투명도전막 상에 위치감지센서필름과 투명도전필름을 순차적으로 형성하여 상기 투명도전막과 위치감지센서필름 및 투명도전필름으로 이루어진 터치스크린을 형성하는 단계; 및 Sequentially forming a position sensing film and a transparent conductive film on the transparent conductive film to form a touch screen including the transparent conductive film, the position sensing film, and the transparent conductive film; And 상기 하부 어레이 기판의 배면에 하부 편광판을 형성하고, 상기 터치스크린의 상기 투명도전필름의 상면에 상부 편광판을 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법.Forming a lower polarizer on a rear surface of the lower array substrate and forming an upper polarizer on an upper surface of the transparent conductive film of the touch screen; . 삭제delete 제 6항에 있어서, 상기 투명도전막은 ITO, IZO 또는 투명한 재질의 금속물질로 형성하는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법.The method of claim 6, wherein the transparent conductive film is formed of a metal material such as ITO, IZO, or a transparent material. 제 6항에 있어서, 상기 투명도전필름은 ITO, IZO 또는 투명한 재질의 금속물질로 형성하는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법. 7. The method of claim 6, wherein the transparent conductive film is formed of a metal material such as ITO, IZO, or a transparent material. 삭제delete 제 6항에 있어서, 상기 하부편광판의 하측에 상기 하부 어레이 기판과 상부 어레이 기판에 광을 제공하는 백라이트 어셈블리를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법.7. The method of claim 6, further comprising forming a backlight assembly below the lower polarizer plate to provide light to the lower array substrate and the upper array substrate. 제 6항에 있어서, 상기 화소전극을 형성한 후 상기 하부 어레이 기판상에 제1배향막을 형성하는 단계와, 상기 상부 어레이 기판상에 제2배향막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법.The method of claim 6, further comprising: forming a first alignment layer on the lower array substrate after forming the pixel electrode; and forming a second alignment layer on the upper array substrate A method for manufacturing a liquid crystal display device having a screen. 제 6항에 있어서, 상기 하부 어레이 기판 또는 상부 어레이 기판상에 공통전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법.7. The method of claim 6, further comprising forming a common electrode on the lower array substrate or the upper array substrate.
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