KR20160060359A - Apparatus to provide liquid chemical and apparatus to clean substrate having the same - Google Patents

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Abstract

A liquid chemical supplying apparatus according to the embodiment of the present invention may include an apparatus housing having an internal space; at least one liquid chemical supply tank which is installed to the apparatus housing, accommodates a liquid chemical in each inner side, and supplies the liquid chemical for cleansing the substrate in a cleaning bath; and a neutralizing agent injecting part which is installed in the apparatus housing, injects a neutralizing agent to the leaked liquid chemical when the liquid chemical is leaked from the liquid chemical supply tank, and neutralizes it. According to the embodiment of the present invention, even though the liquid chemical is leaked from the liquid chemical supply tank to exceed the capacity of the apparatus housing, the leaked liquid chemical can be neutralized by the neutralizing agent. Therefore, damage to equipment and casualties can be prevented.

Description

약액 공급 장치 및 그를 구비한 기판 세정 장치{Apparatus to provide liquid chemical and apparatus to clean substrate having the same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a chemical liquid supply apparatus and a substrate cleaning apparatus having the same,

약액 공급 장치 및 그를 구비한 기판 세정 장치가 개시된다. 보다 상세하게는, 약액 공급 탱크로부터 약액이 누설되더라도 누설된 약액을 중화제에 의해 중화시킴으로써 인명피해 및 장비의 손상 등을 방지할 수 있는 약액 공급 장치 및 그를 구비한 기판 세정 장치가 개시된다.
A chemical liquid supply apparatus and a substrate cleaning apparatus having the chemical liquid supply apparatus are disclosed. More particularly, the present invention relates to a chemical liquid supply apparatus and a substrate cleaning apparatus having the chemical liquid supply apparatus capable of preventing damage to human life and damage to equipment by neutralizing a leaked chemical liquid with a neutralizing agent even if chemical liquid leaks from the chemical liquid supply tank.

일반적으로 반도체 소자는 기판, 예를 들어 실리콘 웨이퍼를 이용하여 증착, 사진 및 식각 공정 등을 반복 수행함으로써 제조될 수 있다. 공정들을 거치는 동안 기판 상에는 각종 파티클, 금속 불순물, 유기 불순물 등과 같은 오염 물질이 잔존할 수 있다. 오염 물질은 반도체 소자의 수율 및 신뢰성에 악영향을 미치기 때문에, 반도체 제조 시에는 기판에 잔존하는 오염 물질을 제거하는 세정 공정이 수행될 수 있다.In general, a semiconductor device can be manufactured by repeatedly performing a deposition, a photolithography and an etching process using a substrate, for example, a silicon wafer. Contaminants such as various kinds of particles, metal impurities, organic impurities and the like may remain on the substrate during the processes. Since contaminants adversely affect the yield and reliability of semiconductor devices, a cleaning process for removing contaminants remaining on the substrate during semiconductor manufacturing can be performed.

세정 공정을 위한 세정 방식은 크게 건식(dry) 세정 방식 및 습식(wet) 세정 방식으로 구분될 수 있으며, 이 중에서 습식 세정 방식은 여러 가지 약액을 이용한 세정 방식으로서, 복수의 기판을 동시에 세정하는 배치식(batch type) 기판 세정 장치와, 낱장 단위로 기판을 세정하는 매엽식(single wafer type) 기판 세정 장치로 구분된다.The cleaning method for the cleaning process can be roughly divided into a dry cleaning method and a wet cleaning method. Among them, the wet cleaning method is a cleaning method using various chemical solutions, A batch type substrate cleaning apparatus, and a single wafer type substrate cleaning apparatus for cleaning a substrate in a sheet unit.

이 중 배치식 기판 세정 장치는 세정액이 수용된 세정조에 복수의 기판을 한번에 침지시켜서 오염 물질을 제거한다. 통상적으로 웨트 스테이션(wet station)으로 불리는 배치 타입 세정 장치는 웨이퍼가 세정처리부의 처리 경로를 따라 이송되면서 일련의 처리 공정을 거치게 된다. 세정처리부에는 여러 가지 약액이 일정 비율로 혼합된 세정액이 수용되어 웨이퍼에 대한 세정 공정이 수행될 수 있을 뿐만 아니라 웨이퍼에서 약액을 제거하기 위해 린스 공정이 수행될 수 있다. 이러한 배치식 기판 세정 장치는 25 내지 50매씩 복수의 웨이퍼가 동시에 세정되는 구조를 갖는다. In the batch type substrate cleaning apparatus, a plurality of substrates are immersed in a cleaning tank containing a cleaning liquid at one time to remove contaminants. A batch type scrubber, commonly referred to as a wet station, undergoes a series of processing steps as the wafer is transferred along the treatment path of the cleaning treatment section. The rinsing process can be performed in order to remove the chemical liquid from the wafer as well as the rinsing process for the wafers can be performed by receiving the rinsing liquid in which various chemical liquids are mixed at a certain ratio. Such a batch type substrate cleaning apparatus has a structure in which a plurality of wafers are simultaneously cleaned by 25 to 50 pieces.

한편, 이러한 배치식 기판 세정 장치는, 기판을 세정하기 위한 약액을 공급하는 약액 공급 장치가 구비된다.On the other hand, such a batch type substrate cleaning apparatus is provided with a chemical liquid supply device for supplying a chemical liquid for cleaning the substrate.

도 1은 종래의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이다.1 is a view showing a schematic configuration of a chemical liquid supply apparatus according to a conventional example.

이에 도시된 것처럼, 종래의 약액 공급 장치(1)는, 장치 하우징(10)과, 하우징(10) 내에 구비되며 약액을 수용하는 복수 개의 탱크(20)와, 배관과, 밸브 그리고 팬 드레인(50, Pan Drain) 등을 포함한다. 그리고 탱크(20)들 중 가장 큰 탱크(20)를 기준으로 탱크 용량의110퍼센트까지 대응 가능하도록 하우징(10) 자체의 하부 용량을 정하여 제작하는 구조를 갖는다. As shown in the figure, a conventional chemical liquid supply apparatus 1 includes a device housing 10, a plurality of tanks 20 provided in the housing 10 to receive a chemical liquid, a pipe, a valve, and a fan drain 50 , Pan Drain), and the like. And a lower capacity of the housing 10 itself is determined so as to be able to accommodate up to 110 percent of the tank capacity based on the largest tank 20 among the tanks 20.

그런데, 이러한 종래의 약액 공급 장치(1)에 있어서는, 가령 하우징(1) 자체의 하부 용량을 넘어서는 탱크(20)로부터의 약액(3)의 누설(leakage)이 발생되는 경우(예를 들면, 복수 개의 탱크(20)가 동시에 약액(3)을 누설하는 경우), 하우징(10) 외부로 약액(3)이 누설될 수 있어 큰 사고를 발생시킬 수 있다. 즉, 화학 물질로 이루어진 약액(3)이 외부로 누설됨으로 인해 인명 피해를 비롯하여 장치의 손상 나아가 주변의 오염까지 발생시킬 수 있는 것이다.
In such a conventional chemical liquid supply device 1, when leakage of the chemical liquid 3 from the tank 20 occurs beyond the lower capacity of the housing 1 itself (for example, a plurality of The chemical liquid 3 leaks to the outside of the housing 10, which can cause a serious accident. That is, the chemical liquid 3 made of a chemical may leak to the outside, causing damage to the apparatus, damage to the apparatus, and even contamination of the surroundings.

본 발명의 실시예에 따른 목적은, 약액 공급 탱크로부터 가령 장치 하우징의 용량을 초과하도록 약액이 누설되더라도 누설된 약액을 중화제에 의해 중화시킬 수 있으며, 따라서 인명피해 및 장비의 손상 등을 방지할 수 있는 약액 공급 장치 및 그를 구비한 기판 세정 장치를 제공하는 것이다.
An object of an embodiment of the present invention is to provide an apparatus and a method for preventing leakage of a chemical liquid from a chemical liquid supply tank such that the chemical liquid is leaked beyond the capacity of the apparatus housing, And a substrate cleaning apparatus having the same.

본 발명의 실시예에 따른 약액 공급 장치는, 내부 공간을 갖는 장치 하우징; 상기 장치 하우징에 장착되며, 각각의 내부에는 약액을 수용하여 상기 세정조에 기판 세정을 위한 약액을 공급하는 적어도 하나의 약액 공급 탱크; 및 상기 장치 하우징의 내부에 장착되어, 상기 약액 공급 탱크로부터 상기 약액이 누설되는 경우 누설된 상기 약액을 향하여 중화제를 분사하여 상기 약액을 중화시키는 중화제 분사부;를 포함할 수 있으며, 이러한 구성에 의해서, 약액 공급 탱크로부터 가령 장치 하우징의 용량을 초과하도록 약액이 누설되더라도 누설된 약액을 중화제에 의해 중화시킬 수 있으며, 따라서 인명피해 및 장비의 손상 등을 방지할 수 있다. A chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention includes an apparatus housing having an inner space; At least one chemical liquid supply tank installed in the apparatus housing, each of the chemical liquid supply tanks receiving a chemical liquid and supplying a chemical liquid for cleaning the substrate to the cleaning tank; And a neutralizing agent spraying unit installed inside the apparatus housing and spraying a neutralizing agent toward the leaked drug solution when the drug solution is leaked from the drug solution supply tank to neutralize the drug solution. Even if the chemical liquid leaks out of the chemical liquid supply tank beyond the capacity of the apparatus housing, the chemical liquid that has leaked can be neutralized by the neutralizing agent, thereby preventing damage to persons and equipment.

일측에 따르면, 상기 장치 하우징에 장착되어 상기 약액 공급 탱크로부터의 상기 약액의 누설을 감지하는 감지부; 및 상기 감지부에 감지된 정보에 기초하여 상기 중화제 분사부를 통한 상기 중화제 분사 여부를 제어하는 제어부;를 더 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for detecting a leakage of a chemical liquid from a chemical liquid supply tank, And a control unit for controlling whether the neutralizing agent is injected through the neutralizing agent injecting unit based on the information sensed by the sensing unit.

일측에 따르면, 상기 중화제 분사부와 중화제 공급 라인으로 연결되어 상기 중화제 분사부로 상기 중화제를 공급하는 중화제 공급 탱크; 및 상기 중화제 공급 라인과 기체 공급 라인으로 연결되어, 상기 중화제 분사부로 기체를 공급하는 기체 공급 탱크를 더 포함할 수 있다.According to one aspect of the present invention, a neutralizing agent supply tank connected to the neutralizing agent spraying part and a neutralizing agent supply line to supply the neutralizing agent to the neutralizing agent spraying part; And a gas supply tank connected to the neutralizing agent supply line and the gas supply line to supply gas to the neutralizer spraying unit.

일측에 따르면, 상기 중화제 공급 라인과 상기 기체 공급 라인이 연결되는 부분에는 상기 중화제 분사부로의 상기 중화제 또는 상기 기체의 공급 유무를 조절하는 조절 밸브가 장착될 수 있다.According to one aspect of the present invention, a control valve for controlling the supply of the neutralizing agent or the gas to the neutralizing agent delivery portion may be installed at a portion where the neutralizing agent supply line and the gas supply line are connected.

일측에 따르면, 상기 장치 하우징의 하단부는 팬 드레인과 연결되어 상기 중화제 분사부로부터 제공된 상기 중화제에 의해 중화된 상기 약액을 외부로 배출할 수 있다.According to one aspect, the lower end of the device housing may be connected to the fan drain to discharge the chemical liquid neutralized by the neutralizing agent provided from the neutralizing agent spraying unit to the outside.

일측에 따르면, 상기 장치 하우징은, 상기 약액 공급 탱크를 지지하는 지지 프레임; 및 상기 지지 프레임의 하부에 배치되어, 상기 약액 공급 탱크로부터 상기 약액이 누설되는 경우 누설된 상기 약액이 수용되는 누설 방지 프레임을 포함하며, 상기 누설 방지 프레임의 수용 용량을 초과하도록 상기 약액이 누설되는 경우 상기 중화제 분사부는 상기 약액을 향해 상기 중화제를 분사할 수 있다.According to one aspect, the apparatus housing includes: a support frame for supporting the chemical liquid supply tank; And a leakage preventing frame disposed at a lower portion of the support frame and receiving the chemical liquid leaked when the chemical liquid is leaked from the chemical liquid supply tank. The chemical liquid is leaked to exceed the capacity of the leakage preventing frame The neutralizing agent injecting unit may inject the neutralizing agent toward the chemical liquid.

한편, 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정 장치는, 기판에 대한 세정 공정이 진행되는 세정조; 및 상기 세정조에 연결되어 상기 세정조로 상기 기판을 세정하기 위한 약액을 공급하는 약액 공급 장치;를 포함하며, 상기 약액 공급 장치는, 내부 공간을 갖는 장치 하우징; 상기 장치 하우징에 장착되며, 각각의 내부에는 약액을 수용하여 상기 세정조에 기판 세정을 위한 약액을 공급하는 적어도 하나의 약액 공급 탱크; 및 상기 장치 하우징의 내부에 장착되어, 상기 약액 공급 탱크로부터 상기 약액이 누설되는 경우 누설된 상기 약액을 향하여 중화제를 분사하여 상기 약액을 중화시키는 중화제 분사부;를 포함할 수 있다.Meanwhile, a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention includes: a cleaning tank for performing a cleaning process on a substrate; And a chemical liquid supply device connected to the cleaning tank and supplying a chemical liquid for cleaning the substrate to the cleaning tank, wherein the chemical liquid supply device includes: an apparatus housing having an internal space; At least one chemical liquid supply tank installed in the apparatus housing, each of the chemical liquid supply tanks receiving a chemical liquid and supplying a chemical liquid for cleaning the substrate to the cleaning tank; And a neutralizing agent spraying unit installed inside the apparatus housing and spraying a neutralizing agent toward the leaked drug solution when the drug solution is leaked from the drug solution supply tank to neutralize the drug solution.

일측에 따르면, 상기 약액 공급 장치는, 상기 장치 하우징에 장착되어 상기 약액 공급 탱크로부터의 상기 약액의 누설을 감지하는 감지부; 및 상기 감지부에 감지된 정보에 기초하여 상기 중화제 분사부를 통한 상기 중화제 분사 여부를 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다.According to one aspect of the present invention, the chemical liquid supply device includes a sensing unit mounted on the apparatus housing and sensing leakage of the chemical liquid from the chemical liquid supply tank; And a control unit for controlling whether the neutralizing agent is injected through the neutralizing agent injection unit based on the information sensed by the sensing unit.

일측에 따르면, 상기 장치 하우징은, 상기 약액 공급 탱크를 지지하는 지지 프레임; 및 상기 지지 프레임의 하부에 배치되어, 상기 약액 공급 탱크로부터 상기 약액이 누설되는 경우 누설된 상기 약액이 수용되는 누설 방지 프레임을 포함하며, 상기 누설 방지 프레임의 수용 용량을 초과하도록 상기 약액이 누설되는 경우 상기 중화제 분사부는 상기 약액을 향해 상기 중화제를 분사할 수 있다.
According to one aspect, the apparatus housing includes: a support frame for supporting the chemical liquid supply tank; And a leakage preventing frame disposed at a lower portion of the support frame and receiving the chemical liquid leaked when the chemical liquid is leaked from the chemical liquid supply tank. The chemical liquid is leaked to exceed the capacity of the leakage preventing frame The neutralizing agent injecting unit may inject the neutralizing agent toward the chemical liquid.

본 발명의 실시예에 따르면, 약액 공급 장치에 구비되는 약액 공급 탱크로부터 가령 장치 하우징의 용량을 초과하도록 약액이 누설되더라도 누설된 약액을 중화제에 의해 중화시킬 수 있으며, 따라서 인명피해 및 장비의 손상 등을 방지할 수 있다.
According to the embodiment of the present invention, even if the chemical liquid leaks out of the chemical liquid supply tank provided in the chemical liquid supply device, for example, to exceed the capacity of the apparatus housing, the leakage chemical liquid can be neutralized by the neutralizing agent, Can be prevented.

도 1은 종래의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치에 약액 공급 장치가 연결된 상태를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이다.
도 4는 도 3의 중화제 분사부로의 중화제 공급 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.1 is a view showing a schematic configuration of a chemical liquid supply apparatus according to a conventional example.
2 is a schematic view illustrating a state in which a chemical liquid supply device is connected to a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a view schematically showing a neutralizing agent supply structure to the neutralizing agent spraying portion of FIG.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 구성 및 적용에 관하여 상세히 설명한다. 이하의 설명은 특허 청구 가능한 본 발명의 여러 태양(aspects) 중 하나이며, 하기의 기술(description)은 본 발명에 대한 상세한 기술(detailed description)의 일부를 이룬다. Hereinafter, configurations and applications according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The following description is one of many aspects of the claimed invention and the following description forms part of a detailed description of the present invention.

다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 관한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail for the sake of clarity and conciseness.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치를 구비한 기판 세정 장치의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.2 is a view schematically showing a configuration of a substrate cleaning apparatus having a chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention.

이에 도시된 바와 같이, 본 실시예의 기판 세정 장치(100)는, 기판(W)에 대한 세정 공정이 진행되는 세정조(170)와, 세정조(170)에 연결되어 세정조(170)로 기판 세정을 위한 약액(103), 즉 세정액을 공급하는 약액 공급 장치(101)를 포함할 수 있다. The substrate cleaning apparatus 100 according to the present embodiment includes a cleaning tank 170 on which a cleaning process for the substrate W proceeds and a cleaning tank 170 connected to the cleaning tank 170, And a chemical liquid supply apparatus 101 for supplying a chemical liquid 103 for cleaning, that is, a cleaning liquid.

이러한 기판 세정 장치(100)의 세정조(170)는 웨트 스테이션(wet station) 타입으로 마련될 수 있다. 세정조(170)에 수용된 약액(103)에 기판(W)을 잠기게 하여 특정 반응을 통한 세정 공정을 진행시킬 수 있다. 척킹부(180)가 복수 개의 기판(W)을 파지한 상태로 복수 개의 기판(W)을 약액(103)에 잠그거나 끄집어냄으로써 복수 개의 기판(W)에 대한 세정이 동시에 진행될 수 있다.The cleaning tank 170 of the substrate cleaning apparatus 100 may be provided in a wet station type. The substrate W may be immersed in the chemical solution 103 contained in the cleaning tank 170 to advance the cleaning process through a specific reaction. The plurality of substrates W can be simultaneously cleaned by locking or pulling the plurality of substrates W into the chemical solution 103 while the chucking unit 180 grasps the plurality of substrates W. [

여기서, 세정 대상물인 기판(W)은 반도체 기판이 되는 실리콘 웨이퍼일 수 있다. 그러나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 기판(W)은 LCD(liquid crystal display), PDP(plasma display panel)와 같은 평판 디스플레이 장치용으로 사용하는 유리와 같은 투명 기판일 수 있다. 또한, 기판(W)은 형상 및 크기가 도면에 의해 한정되는 것은 아니며, 원형 및 사각형 플레이트 등 실질적으로 다양한 형상과 크기를 가질 수 있다. 기판(W)의 형상 및 크기에 따라 세정조(170)의 크기와 형상 역시 변경될 수 있다.Here, the substrate W to be cleaned may be a silicon wafer to be a semiconductor substrate. However, the present invention is not limited thereto, and the substrate W may be a transparent substrate such as a glass used for a flat panel display device such as a liquid crystal display (LCD) or a plasma display panel (PDP). Further, the shape and size of the substrate W are not limited by the drawings, and may have substantially various shapes and sizes such as circular and rectangular plates. The size and shape of the washing tub 170 may be changed according to the shape and size of the substrate W. [

한편, 이러한 세정조(170)는 약액 공급 장치(101)와 연결 라인에 의해 연결됨으로써 세정조(170)에 약액(103)을 일정 높이까지 채울 수 있다. 아울러 세정조(170)에는 배출부(미도시)가 구비됨으로써 세정조(170)의 약액(103)을 바꾸어야 하는 경우 배출부를 통해 약액(103)을 세정조(170)로부터 비운 후, 다시 새로운 약액(103)을 채울 수도 있다.The cleaning tank 170 is connected to the chemical liquid supply device 101 by a connection line so that the cleaning liquid tank 170 can be filled up to a predetermined height. When the chemical solution 103 of the cleaning tank 170 needs to be changed, the cleaning tank 170 is emptied of the chemical solution 103 from the cleaning tank 170 through the discharge unit, (103).

본 실시예의 경우 세정조(170)에서 기판(W)에 대한 세정이 이루어진다고 상술하였으나, 이러한 구성에 한정되는 것은 아니며, 기판(W)에 대한 세정 및 건조 공정이 순차적으로 이루어지는 구조를 가질 수도 있음은 당연하다.Although the cleaning tank 170 is described as cleaning the substrate W in the present embodiment, the cleaning process is not limited to such a structure, and the cleaning and drying processes may be sequentially performed on the substrate W Of course.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이고, 도 4는 도 3의 중화제 분사부로의 중화제 공급 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.FIG. 3 is a view showing a schematic configuration of a chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a view schematically showing a neutralizing agent supply structure to the neutralizer spraying portion of FIG.

도 3을 참조하면, 본 실시예의 약액 공급 장치(101)는, 내부 공간을 갖는 장치 하우징(110)과, 장치 하우징(110)의 내부에 장착되며 각각의 내부에는 약액을 수용하는 복수 개의 약액 공급 탱크(120)와, 장치 하우징(110)의 내부에 장착되어 약액 공급 탱크(120)로부터 약액(103)이 누설되는 경우 누설된 약액(103)을 향하여 중화제를 분사하는 중화제 분사부(130)를 포함할 수 있다.3, the chemical liquid supply apparatus 101 according to the present embodiment includes an apparatus housing 110 having an internal space, and a plurality of chemical liquid supply apparatuses 110 installed inside the apparatus housing 110, A tank 120 and a neutralizer spray unit 130 installed inside the apparatus housing 110 for spraying the neutralizer toward the leaked chemical liquid 103 when the chemical liquid 103 leaks from the chemical liquid supply tank 120 .

먼저 장치 하우징(110)은, 약액 공급 장치(101)의 프레임을 이루는 부분으로서, 약액 공급 탱크(120)가 지지되는 지지 프레임(111)과, 가령 약액 공급 탱크(120)로부터 약액(103)이 누설되는 경우 약액(103)이 수용되는 용기 모양의 누설 방지 프레임(115)을 포함할 수 있다.First, the apparatus housing 110 includes a support frame 111 on which a chemical solution supply tank 120 is supported and a support frame 111 for supporting a chemical solution 103 from a chemical solution supply tank 120, And may include a container-shaped leak-barrier frame 115 in which the chemical liquid 103 is leaked when it is leaked.

지지 프레임(111) 및 누설 방지 프레임(115)은 약액 공급 탱크(120)로부터 누설 가능한 약액(103)에 의해 부식되지 않는 내부식성을 가지면서도 내구성을 구비한 재질, 예를 들면 스테인레스 스틸 등으로 마련될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.The support frame 111 and the leakage preventing frame 115 are made of durable material such as stainless steel or the like having corrosion resistance that is not corroded by the chemical liquid 103 leakable from the chemical liquid supply tank 120 . However, the present invention is not limited thereto.

누설 방지 프레임(115)의 하부에는 홀(116)이 형성되어 있고, 이 홀(116)은 팬 드레인(117)에 의해 외부의 배출 시설(140)과 연결된다. 따라서, 누설 방지 프레임(115)에 가령 약액(103)과 같은 액체가 차는 경우 팬 드레인(117)을 통해 배출 시설(140)로 액체를 제거할 수 있다.A hole 116 is formed in a lower portion of the leakage preventing frame 115. The hole 116 is connected to an external exhausting facility 140 by a fan drain 117. Therefore, when the liquid such as the chemical solution 103 is filled in the leakage preventing frame 115, the liquid can be removed to the discharge facility 140 through the fan drain 117. [

한편, 본 실시예의 약액 공급 탱크(120)는, 도 2에 도시된 것처럼, 기판 세정 장치(100)와 연결 라인에 의해 각각 연결되어 세정조(170)로 약액(103)을 제공하는 것으로서, 소정의 용량을 갖고 있다. 약액(103)으로는 기판에 잔존 가능한 오염물들을 제거하기 위해서 일반적으로 산 또는 알칼리 등의 세정액일 수 있다.2, the chemical liquid supply tank 120 of the present embodiment is connected to the substrate cleaning apparatus 100 by a connection line to supply the chemical liquid 103 to the cleaning tank 170, Respectively. The chemical liquid 103 may be generally a cleaning liquid such as an acid or an alkali to remove contaminants remaining on the substrate.

약액 공급 탱크(120)는 상호 다른 크기를 가질 수 있으며, 따라서 용량의 차이 또한 가질 수 있다. 부연하면, 국제 반도체 장비 재료협회(SEMI, Semiconductor Equipment and Materials International)의 규정에 근거하면, 전술한 장치 하우징(110)의 누설 방지 프레임(115)은, 가령 약액 공급 탱크(120)로부터 약액(103)의 누설이 발생되는 경우 누설된 약액(103)을 수용하되 약액 공급 탱크(120) 중 가장 큰 약액 공급 탱크(120)의 용량 기준으로 110퍼센트의 용량의 약액(103)을 수용할 수 있도록 제작될 수 있다.The chemical liquid supply tank 120 may have mutually different sizes, and thus may also have a difference in capacity. In addition, based on the provisions of the International Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI), the leakage prevention frame 115 of the above-described device housing 110 can be removed from the chemical liquid supply tank 120, The leakage of the drug solution 103 is made so as to accommodate the drug solution 103 having the capacity of 110 percent based on the capacity of the largest chemical solution supply tank 120 among the chemical solution supply tanks 120 .

따라서 약액 공급 탱크(120)로부터 약액(103)이 누설되더라도 누설 방지 프레임(115)에 의해 약액(103)이 외부로 노출되는 것을 방지할 수 있지만, 이에는 한계가 있다. 즉, 가장 큰 탱크(120)의 110퍼센트의 용량까지는 장치 하우징(110) 외부로 약액(103)이 누설되는 것을 방지할 수 있으나, 가령 110퍼센트의 용량을 초과하는 경우 약액(103)이 외부로 노출될 수 있는 것이다. 예를 들면, 하나의 약액 공급 탱크(120)가 아니라 복수 개의 약액 공급 탱크(120)에서 동시에 누설이 발생되는 경우 설정된 용량을 초과할 수 있을 것이다. 약액(103)이 장치 하우징(110)의 외부로 노출되는 경우, 약액(103)은 화학 물질이기 때문에 인명 피해를 발생시킬 수 있음은 물론 주변을 오염시키는 등의 2차 및 3차 사고를 발생시킬 수 있다.Therefore, even if the chemical liquid 103 leaks from the chemical liquid supply tank 120, the chemical liquid 103 can be prevented from being exposed to the outside by the leakage preventing frame 115, but this is limited. That is, it is possible to prevent the liquid medicine 103 from leaking to the outside of the apparatus housing 110 up to the capacity of 110% of the largest tank 120, but when the capacity of the liquid medicine 103 exceeds 110% It can be exposed. For example, if leakage occurs simultaneously in a plurality of chemical liquid supply tanks 120 instead of one chemical liquid supply tank 120, the set capacity may be exceeded. When the chemical solution 103 is exposed to the outside of the apparatus housing 110, since the chemical solution 103 is a chemical substance, it may cause personal injury and may cause secondary and tertiary accidents .

그런데, 본 실시예의 약액 공급 장치(101)는, 약액(103)이 혹시 용량을 초과하여 누설되더라도 전술한 문제가 발생되는 것을 방지할 수 있는데, 이는 중화제 분사부(130)를 구비하기 때문이다.However, the chemical liquid supply apparatus 101 of the present embodiment can prevent the aforementioned problem from occurring even if the chemical liquid 103 leaks beyond the capacity, because it has the neutralizer spraying unit 130.

본 실시예의 중화제 분사부(130)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 장치 하우징(110)의 지지 프레임(111)의 하부에 장착되어 가령 약액 공급 탱크(120)로부터 약액(103)이 누설되는 경우 누설 방지 프레임(115)에 채워지는 약액(103)을 향해 중화제를 분사함으로써 약액(103)을 중화시킨다. 따라서 누설 방지 프레임(115)으로부터 약액(103)이 넘쳐 흐르더라도 중화된 약액(103)이 노출되는 것이기 때문에 전술한 인명 피해 또는 장비의 손상을 비롯하여 주변 지역이 오염되는 등의 사고를 방지할 수 있다.3, the neutralizer spray unit 130 of the present embodiment is mounted on the lower portion of the support frame 111 of the apparatus housing 110 so that the chemical liquid 103 leaks from the chemical liquid supply tank 120 The chemical solution 103 is neutralized by injecting a neutralizing agent toward the chemical solution 103 filled in the leakage preventing frame 115. [ Therefore, even if the chemical solution 103 overflows from the leakage preventing frame 115, the neutralized chemical solution 103 is exposed, so that it is possible to prevent an accident such as the above-mentioned personal injury or damage to the equipment, .

이러한 중화제 분사부(130)는, 지지 프레임(111)의 하부에서 양측에 장착되어 중화제를 분사한다. 이 때 중화제가 누설 방지 프레임(115)의 내측에 채워지는 약액에 골고루 분사될 수 있도록 중화제 분사부(130)의 분사 방향은 하방 내측 방향을 향할 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 중화제 분사부(130)는 소정 각도 회동하며 중화제를 분사시킬 수 있는 구조를 가질 수 있을 것이다.The neutralizer sprayer 130 is mounted on both sides of the lower portion of the support frame 111 to spray the neutralizer. At this time, the injection direction of the neutralizing agent spraying unit 130 may be directed downward inward so that the neutralizing agent can be uniformly injected into the chemical solution filled in the leakage preventing frame 115. However, the present invention is not limited to this, and the neutralizing agent spraying unit 130 may rotate at a predetermined angle and may have a structure capable of spraying the neutralizing agent.

이러한 중화제 분사부(130)는, 도 4에 도시된 바와 같이, 중화제 분사부(130)로 중화제를 공급하는 중화제 공급 탱크(131) 및 기체를 공급하는 기체 공급 탱크(135)와 연결될 수 있다. 기체 공급 탱크(135)는 공기(Air) 또는 질소가스(N2)를 공급하는 탱크일 수 있다. 다만, 기체 공급 탱크(135)를 통해 제공되는 기체의 종류가 이에 한정되는 것은 아니다.4, the neutralizer sprayer 130 may be connected to a neutralizer supply tank 131 for supplying a neutralizer to the neutralizer sprayer 130 and a gas supply tank 135 for supplying a gas. The gas supply tank 135 may be a tank for supplying air or nitrogen gas N2. However, the type of gas supplied through the gas supply tank 135 is not limited thereto.

먼저, 중화제 분사부(130)와 중화제 공급 탱크(131)는 중화제 공급 라인(132)에 의해 연결되고, 중화제 공급 라인(132)에 기체 공급 탱크(135)와 연결된 기체 공급 라인(136)이 연결되는 구조를 갖는다. The neutralizing agent spraying unit 130 and the neutralizing agent supply tank 131 are connected by the neutralizing agent supply line 132 and the gas supply line 136 connected to the gas supply tank 135 is connected to the neutralizing agent supply line 132 .

그리고 중화제 공급 라인(132)과 기체 공급 라인(136)이 연결되는 부분에는 중화제 및 기체의 공급 유무 및 공급 정도를 조절하는 조절 밸브(138)가 장착될 수 있다. 이를 통해, 약액(103)의 누설 정도에 따라 중화제의 분사량을 적절히 조절하여 분사할 수 있다. The neutralizing agent supply line 132 and the gas supply line 136 may be connected to each other by a control valve 138 for controlling the supply and supply of the neutralizing agent and the gas. Accordingly, the injection amount of the neutralizing agent can be controlled appropriately according to the degree of leakage of the chemical liquid 103.

한편, 본 실시예의 약액 공급 장치(101)는, 중화제 분사부(130)의 자동 제어를 위해, 약액 공급 탱크(120)로부터의 약액(103)의 누설을 감지하는 감지부(미도시)와, 감지부에 감지된 정보에 기초하여 중화제 분사부(130)를 통한 중화제의 공급 여부를 제어하는 제어부(미도시)를 더 포함한다.On the other hand, the chemical liquid supply apparatus 101 of this embodiment includes a sensing unit (not shown) for sensing leakage of the chemical liquid 103 from the chemical liquid supply tank 120 for automatic control of the neutralizer spraying unit 130, And a control unit (not shown) for controlling the supply of the neutralizing agent through the neutralizer spray unit 130 based on the information sensed by the sensing unit.

이러한 구성에 의해서, 약액 공급 탱크(120)로부터 약액(103)이 누설되는 경우, 특히 누설 방지 프레임(115)의 용량을 초과하여 약액(103)이 누설되는 경우, 감지부가 누설 여부 및 누설의 정도를 감지한 후 감지된 정보를 제어부로 보내고, 제어부는 받은 정보에 기초하여 중화제 분사부(130)의 작동을 제어할 수 있다. 즉, 감지부의 정보에 따라 중화제 분사부(130)의 작동 여부 및 중화제의 분사량 등을 조절할 수 있는 것이다.With this configuration, when the chemical liquid 103 leaks from the chemical liquid supply tank 120, particularly when the chemical liquid 103 leaks beyond the capacity of the leakage preventing frame 115, And transmits the sensed information to the control unit, and the control unit can control the operation of the neutralizer spray unit 130 based on the received information. That is, depending on the information of the sensing unit, it is possible to control the operation of the neutralizer spray unit 130 and the amount of neutralizer spray.

이와 같이, 본 발명의 실시예에 따르면, 약액 공급 장치(101)에 구비되는 약액 공급 탱크(120)로부터 가령 장치 하우징(110)의 용량을 초과하도록 약액(103)이 누설되더라도 누설된 약액(103)을 중화제에 의해 중화시킬 수 있으며, 따라서 인명피해 및 장비의 손상 등을 방지할 수 있는 장점이 있다.Thus, even if the chemical liquid 103 leaks from the chemical liquid supply tank 120 provided in the chemical liquid supply apparatus 101 so as to exceed the capacity of the apparatus housing 110, the leaked chemical liquid 103 ) Can be neutralized by a neutralizing agent, which is advantageous in preventing damage to human life and equipment.

한편, 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, such modifications or variations are intended to fall within the scope of the appended claims.

100 : 기판 세정 장치
101 : 약액 공급 장치
110 : 장치 하우징
120 : 약액 공급 탱크
130 : 중화제 분사부
131 : 중화제 공급 탱크
135 : 기체 공급 탱크
170 : 세정조100: substrate cleaning apparatus
101: chemical liquid supply device
110: Device housing
120: chemical liquid supply tank
130: Neutralizer dispenser
131: Neutralizing agent supply tank
135: gas supply tank
170:

Claims (9)

기판 세정 장치에 구비되어 기판 세정 장치의 세정조로 약액을 공급하는 약액 공급 장치에 있어서,
내부 공간을 갖는 장치 하우징;
상기 장치 하우징에 장착되며, 각각의 내부에는 약액을 수용하여 상기 세정조에 기판 세정을 위한 약액을 공급하는 적어도 하나의 약액 공급 탱크; 및
상기 장치 하우징의 내부에 장착되어, 상기 약액 공급 탱크로부터 상기 약액이 누설되는 경우 누설된 상기 약액을 향하여 중화제를 분사하여 상기 약액을 중화시키는 중화제 분사부;
를 포함하는 약액 공급 장치.
A chemical liquid supply apparatus provided in a substrate cleaning apparatus for supplying a chemical liquid to a cleaning tank of a substrate cleaning apparatus,
An apparatus housing having an inner space;
At least one chemical liquid supply tank installed in the apparatus housing, each of the chemical liquid supply tanks receiving a chemical liquid and supplying a chemical liquid for cleaning the substrate to the cleaning tank; And
A neutralizing agent spraying unit installed inside the apparatus housing and spraying a neutralizing agent toward the leaked drug solution when the drug solution is leaked from the drug solution supply tank to neutralize the drug solution;
And a chemical liquid supply device.
제1항에 있어서,
상기 장치 하우징에 장착되어 상기 약액 공급 탱크로부터의 상기 약액의 누설을 감지하는 감지부; 및
상기 감지부에 감지된 정보에 기초하여 상기 중화제 분사부를 통한 상기 중화제 분사 여부를 제어하는 제어부;
를 더 포함하는 약액 공급 장치.
The method according to claim 1,
A sensing unit mounted on the apparatus housing for sensing leakage of the chemical liquid from the chemical liquid supply tank; And
A control unit for controlling whether the neutralizing agent is injected through the neutralizing agent injecting unit based on the information sensed by the sensing unit;
Further comprising:
제1항에 있어서,
상기 중화제 분사부와 중화제 공급 라인으로 연결되어 상기 중화제 분사부로 상기 중화제를 공급하는 중화제 공급 탱크; 및
상기 중화제 공급 라인과 기체 공급 라인으로 연결되어, 상기 중화제 분사부로 기체를 공급하는 기체 공급 탱크를 더 포함하는 약액 공급 장치.
The method according to claim 1,
A neutralizing agent supply tank connected to the neutralizing agent spraying part and a neutralizing agent supply line to supply the neutralizing agent to the neutralizing agent spraying part; And
And a gas supply tank connected to the neutralizing agent supply line and the gas supply line to supply gas to the neutralizing agent spraying unit.
제3항에 있어서,
상기 중화제 공급 라인과 상기 기체 공급 라인이 연결되는 부분에는 상기 중화제 분사부로의 상기 중화제 또는 상기 기체의 공급 유무를 조절하는 조절 밸브가 장착되는 약액 공급 장치.
The method of claim 3,
And a regulating valve for regulating the supply of the neutralizing agent or the gas to the neutralizing agent delivery portion is mounted at a portion where the neutralizing agent supply line and the gas supply line are connected.
제1항에 있어서,
상기 장치 하우징의 하단부는 팬 드레인과 연결되어 상기 중화제 분사부로부터 제공된 상기 중화제에 의해 중화된 상기 약액을 외부로 배출하는 약액 공급 장치.
The method according to claim 1,
And a lower end of the apparatus housing is connected to a fan drain to discharge the chemical liquid neutralized by the neutralizing agent provided from the neutralizing agent spraying unit to the outside.
제1항에 있어서,
상기 장치 하우징은,
상기 약액 공급 탱크를 지지하는 지지 프레임; 및
상기 지지 프레임의 하부에 배치되어, 상기 약액 공급 탱크로부터 상기 약액이 누설되는 경우 누설된 상기 약액이 수용되는 누설 방지 프레임을 포함하며,
상기 누설 방지 프레임의 수용 용량을 초과하도록 상기 약액이 누설되는 경우 상기 중화제 분사부는 상기 약액을 향해 상기 중화제를 분사하는 약액 공급 장치.
The method according to claim 1,
The device housing comprises:
A support frame for supporting the chemical liquid supply tank; And
And a leakage preventing frame disposed at a lower portion of the support frame and receiving the leakage of the chemical solution when the chemical solution is leaked from the chemical solution supply tank,
Wherein the neutralizing agent injecting unit injects the neutralizing agent toward the chemical liquid when the chemical liquid is leaked so as to exceed the capacity of the leakage preventing frame.
기판에 대한 세정 공정이 진행되는 세정조; 및
상기 세정조에 연결되어 상기 세정조로 상기 기판을 세정하기 위한 약액을 공급하는 약액 공급 장치;
를 포함하며,
상기 약액 공급 장치는,
내부 공간을 갖는 장치 하우징;
상기 장치 하우징에 장착되며, 각각의 내부에는 약액을 수용하여 상기 세정조에 기판 세정을 위한 약액을 공급하는 적어도 하나의 약액 공급 탱크; 및
상기 장치 하우징의 내부에 장착되어, 상기 약액 공급 탱크로부터 상기 약액이 누설되는 경우 누설된 상기 약액을 향하여 중화제를 분사하여 상기 약액을 중화시키는 중화제 분사부;
를 포함하는 기판 세정 장치.
A cleaning tank in which a cleaning process for the substrate proceeds; And
A chemical liquid supply device connected to the cleaning tank to supply a chemical liquid for cleaning the substrate with the cleaning tank;
/ RTI >
The chemical liquid supply device includes:
An apparatus housing having an inner space;
At least one chemical liquid supply tank installed in the apparatus housing, each of the chemical liquid supply tanks receiving a chemical liquid and supplying a chemical liquid for cleaning the substrate to the cleaning tank; And
A neutralizing agent spraying unit installed inside the apparatus housing and spraying a neutralizing agent toward the leaked drug solution when the drug solution is leaked from the drug solution supply tank to neutralize the drug solution;
And a substrate cleaning apparatus.
제7항에 있어서,
상기 약액 공급 장치는,
상기 장치 하우징에 장착되어 상기 약액 공급 탱크로부터의 상기 약액의 누설을 감지하는 감지부; 및
상기 감지부에 감지된 정보에 기초하여 상기 중화제 분사부를 통한 상기 중화제 분사 여부를 제어하는 제어부를 더 포함하는 기판 세정 장치.
8. The method of claim 7,
The chemical liquid supply device includes:
A sensing unit mounted on the apparatus housing for sensing leakage of the chemical liquid from the chemical liquid supply tank; And
And a control unit for controlling whether the neutralizing agent is injected through the neutralizing agent injecting unit based on the information sensed by the sensing unit.
제7항에 있어서,
상기 장치 하우징은,
상기 약액 공급 탱크를 지지하는 지지 프레임; 및
상기 지지 프레임의 하부에 배치되어, 상기 약액 공급 탱크로부터 상기 약액이 누설되는 경우 누설된 상기 약액이 수용되는 누설 방지 프레임을 포함하며,
상기 누설 방지 프레임의 수용 용량을 초과하도록 상기 약액이 누설되는 경우 상기 중화제 분사부는 상기 약액을 향해 상기 중화제를 분사하는 기판 세정 장치.8. The method of claim 7,
The device housing comprises:
A support frame for supporting the chemical liquid supply tank; And
And a leakage preventing frame disposed at a lower portion of the support frame and receiving the leakage of the chemical solution when the chemical solution is leaked from the chemical solution supply tank,
Wherein the neutralizing agent injecting unit injects the neutralizing agent toward the chemical liquid when the chemical liquid is leaked so as to exceed the capacity of the leakage preventing frame.
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