KR20160051888A - 미정제 디니트로톨루엔으로부터 hcn를 제거하는 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 디니트로톨루엔의 제조 공정으로서 (a) 톨루엔을 하나 이상의 니트로화 단계에서 질산과 황산의 혼합물인 니트로화 산으로 니트로화하고, 이렇게 형성된 공정 스트림으로부터 그 니트로화 산을 분리하는 단계로서, 디니트로톨루엔 및 용해된 상기 니트로화 산의 일정 분율을 포함하는 미정제 혼합물이 얻어지고, 이 미정제 혼합물이 50 ppm 이상의 HCN를 추가로 포함하는 것인 단계, 및 (b) 그 미정제 디니트로톨루엔 함유 혼합물을 하나 이상의 세척 단계에서 세척하는 단계로서, 제1 세척 단계가 수행되기 전에, 미정제 혼합물이 증류 및/또는 스트립핑되어 그 혼합물로부터 HCN를 제거하게 되고, 실질적으로 HCN를 함유하지 않은 미정제 디니트로톨루엔 함유 혼합물이 얻어지는 것인 단계를 포함하는 제공 공정에 관한 것이다.

Description

미정제 디니트로톨루엔으로부터 HCN를 제거하는 방법{METHOD FOR REMOVING HCN FROM CRUDE DINITROTOLUENE}

본 발명은 디니트로톨루엔의 제조 공정에 관한 것이다.

디니트로톨루엔(DNT) 또는 모노니트로벤젠(NNB)과 같은 방향족 니트로 화합물은 질산과 황산의 혼합물에 의한 방향족의 니트로화를 통해 상업적으로 제조되고 있다. 그 반응은 2상 반응이며, 전형적으로 반응 속도는 2개의 상 사이의 질량 이동에 의해 결정된다. 톨루엔 니트로화의 경우, 그 반응은 전형적으로 등온적으로 수행되고, 톨루엔은 톨루엔에 대한 질산의 몰비가 ＞ 1, 전형적으로 1.01 -1.2임을 의미하는 몰 아화학양론(molar substochiometry)으로 존재한다. 제1 단계에서는, 톨루엔이 니트로화되어 모노니트로톨루엔(MNT)을 형성하게 된다. 그 2상 반응 혼합물은 황산의 주요 부분을 함유하는 수상 및 MNT의 주요 부분을 함유하는 유기상으로 상 분리를 수행한다. 이어서, 그 유기상은 추가의 2상 반응에서 DNT로의 니트로화 반응을 수행한다. 마찬가지로, 그 반응 혼합물은 수상과 DNT를 함유하는 유기상으로 상 분리를 수행한다.

니트로화 반응 동안, 피크르산, 크레졸 또는 니트로크레졸의 형성과 같은 상이한 원하지 않은 부반응이 일어난다. 하지만, 가장 해로운 부생성물 중 하나가 HCN이다.

DNT를 형성하는 톨루엔의 연속적 등온 또는 단열 니트로화에서, 미정제 니트로방향족 생성물이 항상 상 분리 후에 얻어지는데, 이 생성물은 추가 사용하기 전에 거기에 용해된 불순물을 함유하지 않아야 한다. 질산, 황산 및 용해된 형태로 존재하거나 니트로방향족 중의 마이크로에멀션으로서 존재하는 질소 산화물로 구성되는 최종 니트로화 산(nitrating acid)과는 별도로, 니트로화 하고자 하는 방향족에 의한 부수적인 반응으로부터 유래된 산화 생성물, 예를 들면 모노니트로크레졸, 디니트로크레졸 및 트리니트로크레졸, 또는 방향족 카르복실산, 예를 들면 모노니트로벤조산 및 디니트로벤조산 및 이들의 분해 성성물이 또한 그 미정제 DNT 중에 포함되어 있다.

종래 기술에서, 이러한 불순물은 니트로방향족이 직접적인 사용, 이성질체 분리 또는 상응하는 아민을 형성하는 수소화로 이송되기 전에 다단 스크러브에 의해 미정제 생성물로부터 제거된다.

DNT와 같은 미정제 니트로방향족이 니트로화 혼합물 중의 용해되어 현탁된 산, 니트로크레졸, 및 스크러빙 매질에 의해 추출될 수 있는 다른 산성의 추가 불순물을 제거하기 위해 수행되는 스크러브는 일반적으로 하기 3 단계를 포함한다:

1. 황산, 질산 및 질소 산화물과 같은 용해되어 현탁된 미네랄 산을 제거하는 스크러브(산 스크러브);

2. 미정제 니트로방향족 중에 용해된 약 산성 불순물, 예를 들면 니트로크레졸, 니트로벤조산, 및 니트로크레졸의 산화적 분해 또는 지방족 또는 시클릭 탄화수소의 산화적 분해로부터 유래된 분해 생성물, 예컨대 옥살산을 제거하는 염기, 예컨대 탄산나트륨(소다), 중탄산나트륨, 암모니아, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 존재 하에서의 스크러브(알칼리 스크러브);

3. 잔류 미량의 알칼리를 제거하고 생성물 중에 미량으로 잔류하는 불순물을 추가 감소시키는 중성 스크러브. 이러한 목적을 위해서 물은 보통 스크러빙 매질로서 사용되고, 그 스크러브는 스크러빙하고자 하는 니트로방향족이 액체로서 존재하는 온도에서 액체/액체 스크러브로서 수행된다.

이들 스크러브의 목적은 순수한 생성물 뿐만 아니라 생성물 미터 톤 당 가능한 소량의 폐수를 얻는 것이며 상기 불순물의 처분이 저렴하게 수행되는 것을 가능하게 하는 폐수 중의 스크러빙된 불순물의 일정 수준을 달성하는 것이다.

이러한 스크러브에 요구된 물의 양을 최소화하기 위해서, 스크러브는 알칼리 스크러브에서, 염기의 첨가 후, 이용 중인 중성 스크러브에 사용된 물에 의해 역류 방식으로 수행되거나(문헌[A.B.　Quakenbush et. al., The Olin Dinitrotoluene (DNT) Process, Polyurethane World Congr. Proc.1993, Publish.: Technomic Lancaster, p.　485] 참조) 또는 EP　0　279　312, EP　0　736　514 및 EP　1　780　195에 기술되어 있는 바와 같이 니트로화에 직접 재순환될 수 있거나 추가 농축 후에 니트로화에 재순환될 수 있는 농축 산을 생성하도록 미량의 물을 사용하여 수행되는 산 스크러브에 의해 역류 방식으로 수행된다. 스크러빙 물의 농축에서 얻어지는 증기 응축물은 각 스크러브로 재순환된다.

DNT를 형성하는 톨루엔의 니트로화를 위한 플랜트로부터의 폐수, 미정제 DNT의 스크러빙으로부터의 스크러빙 물 및 최종 산 및 스크러빙 산의 농축으로부터의 증기 응축물이 배출될 수 있기 전에, 이들은 배수구로 도입하기 전에 예를 들어 COD, 질소, 중금속 및 생물학적 매개변수에 대한 폐수 규제에서 적시되어 있는 바와 같은 적용가능한 배출 매개변수를 달성하기 위해서 복잡한 처리를 수행해야 한다.

니트로화 플랜트로부터의 처리를 요구하는 폐수 스트림은 최종 니트로화 산의 농축으로부터의 증기 응축물(SAC 폐수라고도 칭함)이고, 이것은 항상 산성이며, 특히 7-10의 범위에 있는 pH를 갖는 염기에 의한 스크러빙으로부터의 폐수이다. 배출구 내로의 배출 전에, 모든 독성, 유전자 독성 또는 정세균성 물질은 부과된 배출 매개변수가 충족되도록 하기 위해서 그러한 폐수 스트림으로부터 가능한 멀리 제거되어야 한다.

염기에 의한 DNT의 스크러빙으로부터의 폐수는 페놀성 니트로 화합물, 니트로벤조산 및 다른 유기 산, 및 미정제 생성물 중에 용해된 저분자량 분해 생성물과 함께 그 용해도에 상응하는 0.5% 이하의 양으로 용해된 생성물을 포함한다.

염기, 바람직하게는 탄산나트륨 또는 수산화나트륨에 의한 DNT 스크러브의 폐수로부터 니트로크레졸의 순전한 기계적 분리와는 별도로, 활성탄 또는 이온 교환 수지에 의한 처리 공정, 니트로화 하고자 하는 방향족에 의한 추출 공정, 오존 또는 펜톤 시약과 같은 산화제에 의한 처리 공정 또는 300℃ 이하의 고온에서의 처리 공정은, 니트로 분자, 주로 생성물 뿐만 아니라 특히 페놀성 니트로 분자, 예컨대 디니트로페놀 및 트리니트로페놀(피크르산), 및 디니트로크레졸 및 트리니트로크레졸(TNC)의 양을 폐수로부터/폐수 중에서, 그 폐수가 수 처리 플랜트에서의 후속적인 후처리로 이송되기 전에, 제거 또는 감소시키기 위해서, 기술되어 있다.

현재, 폐수 스트림에 대한 HCN/CN^- 규격이 점점 엄격해지고, 특히 중국에서 그러하다. 폐수 스트림에 대한 규제는 종종 10 ppm 이하, 경우에 따라서는 1 ppm 이하의 HCN/CN^- 농도를 규정하고, 일부 지역(예를 들면, 중국 상하이)에서는 0.3 ppm 이하의 수준을 요구한다. 그러므로, HCN 함유 폐수 스트림은 처리되어 요구하는 낮은 HCN/CN^- 농도를 달성해야 한다. 이는 전형적으로 H₂O₂ 또는 산화제를 첨가함으로써 또는 펜톤 반응기와 같은 산성 유닛에서 폐수를 처리함으로써 또는 오존 분해를 수행함으로써 시아나이드 함유 수성 스트림에 대하여 수행된다. 다량의 폐수 스트림의 경우, 다량의 산화성 화학물질이 필요한데, 이것은 화학물질에 대한 높은 비용을 수반한다. 게다가, DNT는 전형적으로 톨루일렌디아민(TDA)이 DNT로부터 생성되는 수소화 반응기로 이송된다. 그러나, DNT에 존재하는 시아나이드/HCN으로 인하여, 그 시아나이드가 DNT 수소화 촉매에 대하여 해로울 수 있는 위험이 존재한다. 그러므로, 폐수 스트림으로부터 뿐만 아니라 DNT 생성물 스트림으로부터 HCN/CN^-의 제거가 바람직하다.

본 발명의 목적은 톨루엔의 니트로화에 의한 디니트로톨루엔의 제조 공정으로서 HCN은 공정 스트림으로부터 단순하고 효율적인 방식으로 제거됨으로써, 번잡한 폐수 후처리 절차의 필요성을 피하게 하는 것인 제조 공정을 제공하는 것이다.

상기 목적은, 디니트톨루엔의 제조 공정으로서, (a) 톨루엔을 하나 이상의 니트로화 단계에서 질산과 황산의 혼합물인 니트로화 산(nitrating acid)으로 니트로화하고, 이렇게 형성된 공정 스트림으로부터 그 니트로화 산을 분리하는 단계로서, 디니트로톨루엔 및 용해된 상기 니트로화 산의 일정 분율을 포함하는 미정제 혼합물이 얻어지고, 이 미정제 혼합물이 50 ppm 이상의 HCN를 추가로 포함하는 것인 단계, 및 (b) 그 미정제 디니트로톨루엔 함유 혼합물을 하나 이상의 세척 단계에서 세척하는 단계로서, 제1 세척 단계가 수행되기 전에, 미정제 혼합물이 증류 및/또는 스트립핑되어 그 혼합물로부터 HCN를 제거하게 되고, 실질적으로 HCN을 함유하지 않은 미정제 디니트로톨루엔 함유 혼합물이 얻어지는 것인 단계를 포함하는 제조 공정에 의해 달성된다.

이로써, 미정제 DNT 함유 혼합물 내에 함유되어 있는 HCN는 그 미정제 혼합물이 반응 구역으로부터 세척 구역을 통과하기 전에 유기 DNT 상으로부터 스트립핑된다. 세척 구역 전에 HCN의 제거가 없다면, HCN은 유기 DNT 상 중에 그리고 제1 세척 단계에서 세척 수상 중에 용해되고, 상이한 상들 중에 분포되는데, 하나 이상의 공정 스트림의 처리가 필요하기 때문에 훨씬 더 제거하기가 어렵다. 휘발성인 HCN은 유기 상 또는 수상으로부터 용이하게 스트립핑될 수 있다. 그러나, 일단 HCN이 알칼리 매질, 예를 들면 알칼리 세척 단계에서의 알킬리 매질과 반응된 후에, HCN은 수용해성 시안화 염으로 변형되고 더 이상 스트립핑될 수 없다. 이어서, 시아나이드를 스트립핑 전에 다시 HCN로 양성자화하기 위해 화학물질을 첨가함으로써 산성 조건을 생성시키는 것이 필요하다.

미정제 DNT 함유 혼합물은 50 ppm 이상의 HCN, 바람직하게는 75 ppm 이상의 HCN을 포함한다. 미정제 DNT 혼합물은 일반적으로 최대 500 ppm의 HCN, 바람직하게는 최대 200 ppm의 HCN을 포함한다. 전형적인 범위는 50 내지 500 ppm, 특히 75 내지 200 ppm이다.

HCN이 제1 세척 단계 전에 미정제 DNT 상으로부터 제거되기 때문에, 세척수 스트림이 높은 수준의 HCN 또는 시안화 염으로 오염되지 않으며, HCN/시안화 염의 제거를 위한 폐수 스트림의 추가 처리가 전혀 필요하지 않다.

증류는 감압 하에서의 단순 플래시 증발일 수 있거나, 1개 이상의 이론 단을 갖는 증류 컬럼을 사용하는 환류 하에서의 증류일 수 있다. 스트립핑 가스가 추가로 사용될 수 있다.

미정제 DNT 함유 혼합물의 증류는 바람직하게는 10개 이하의 이론 단, 보다 바람직하게는 5개 이하의 이론 단, 특히 2 내지 4개의 이론 단을 갖는 증류 컬럼에서 수행될 수 있다. 증류는 플래시 증발기에서 환류 없이 수행될 수 있다.

본 발명의 한 실시양태에서, 미정제 DNT 함유 혼합물의 증류는 플래시 증발기에서 수행된다. 그 플래시 증발기는 반응 혼합물이 수상과 DNT를 주로 함유하는 유기상으로 분리되는 상 분리 유닛보다 더 낮은 압력에서 작동된다. 상기 상 분리 유닛과 플래시 증발기 간의 압력차는 400 mbar 이상인 것이 바람직하다. 증류는 동일한 압력 또는 상이한 압력에서 작동될 수 있는 2개 이상의 연속적 플래시 증발기에서 수행될 수 있다. 한 실시양태에서, 증류는 연속적으로 감소하는 압력에서 작동된 복수의(2개 이상의) 연속적 플래시 증발기에서 수행된다.

미정제 DNT 함유 혼합물의 증류는 10 mbar 내지 2 bar, 바람직하게는 10 mbar 내지 500 mbar의 압력 하에 수행될 수 있다. 하나의 바람직한 실시양태에서는, 진공 증류가 100 mbar 내지 200 mbar의 압력 하에 수행될 수 있다.

또다른 바람직한 실시양태에서는, 스트립핑 작동, 즉 스트립핑 가스와 HCN의 비말동반에 의한 분리가 수행된다. 바람직하게는, 임의의 컬럼에서 증류가 스트립핑 가스를 사용하는 스트립핑 조작과 조합된다. 증류가 스트립핑 가스의 존재 하에 수행되는 증류 컬럼이 또한 용어상 스트립핑 컬럼이라고도 칭한다. 적합한 스트립핑 가스는 질소, 공기 또는 스팀이다.

바람직한 실시양태에서, 공기가 스트립핑 가스로서 사용된다. 공기는 스트립핑 가스로서 질소를 사용하는 경우에 바하여 비용상 이점을 갖는다.

또다른 바람직한 실시양태에서는, 스팀이 스트립핑 가스로서 사용된다. 이는, 스트립핑 가스로서 스팀이 공기 또는 질소를 스트립핑 가스로서 사용하는 경우와 비교하여 후속적인 부분 응축 유닛에서 보다 높은 온도를 허용하기 때문에, 스트립핑 유닛의 낮은 작동 압력에서 특히 유리하다.

증류 및/또는 스트립핑 구역으로부터 얻어지는 디니트로톨루엔을 포함하는 미정제 혼합물은 실질적으로 HCN를 함유하지 않는다. 본 발명의 내용에서 "HCN를 실질적으로 함유하지 않는"이란 증류 및/또는 스트립핑 단계가 수행되기 전에 미정제 혼합물 중에 존재하는 HCN의 70% 이상, 바람직하게는 90% 이상이 그 증류 및/또는 스트립핑 단계에 의해 제거된다는 것을 의미한다. 일반적으로, 미정제 DNT 혼합물은 증류 및/또는 스트립핑 단계 후에 하지만 제1 세척 단계 전에 일반적으로 최대 25 ppm의 HCN, 바람직하게는 최대 15 ppm의 HCN를 포함한다.

미정제 DNT 함유 혼합물의 HCN 함량은 하기 단계 (1)-(3)으로 구성되는 절차에 의해 결정될 수 있다:

(1) 새롭게 인출된 미정제 DNT 샘플을 탈염수와 2 중량% Na₂CO₃ 수용액과의 혼합물과 강력하게 혼합함으로써 수상으로 HCN 및 CN을 추출하는 단계. 이 추출을 위해서는, 미정제 DNT 함유 샘플 1g 당 2 중량% Na₂CO₃ 수용액 0.5 g과 탈염수 0.75 g을 미정제 DNT 샘플에 첨가한다.

(2) 미정제 DNT 상으로부터 수상을 분리하는 단계.

(3) 미국 환경 보호국의 기준 방법 ME355.01에 따른 질량 선택적 검출을 구비한 헤드스페이스 가스 크로마토그래피(HS-GC/MS)를 사용하여 수상을 분석하는 단계.

플래시 증발기, 스트립핑 또는 증류 컬럼의 정상부로부터 얻어지는 가스 상은 대부분의 HCN이 가스 상 내에 유지되면서 응축물로서 그 가그 상 내에 함유된 질산, 황산 및 유기 화합물(주로 DNT)을 회수하기 위해서 부분적으로 응축될 수 있다. 일반적으로, HCN의 50% 이상이 가스 상 내에 유지되고, 바람직하게는 HCN의 70% 이상, 보다 바람직하게는 HCN의 80% 이상이 가스 상 내에 유지된다. 그 부분적인 응축은 마찬가지로 단지 단일 이론 단만을 포함하는 장치, 예컨대 단순 응축기 내에서 수행될 수 있거나, 또는 1개 초과의 이론 단을 함유하는 장치, 예컨대 다단 응축기, 증류 컬럼 또는 스트립핑 컬럼 내에서 수행될 수 있다. 그 부분적인 응축은 일반적으로 10 내지 300 mbar의 압력 및 15 내지 50℃의 온도에서 수행된다. 한 실시양태에서, 그 부분적인 응축은 2 단계로 수행되는데, 제1 단계는 20 내지 50 mbar의 압력 및 20 내지 40℃의 온도에서 수행되고, 제2 단계는 50 내지 300 mbar의 압력 및 30 내지 50℃의 온도에서 수행된다.

중질 보일러의 부분적인 응축 후에, DNT, 질산 및 황산을 주로 함유하는 부분 응축물은 반응으로 재순환될 수 있다. 그 응축물은 니트로화 단계들(a) 중 하나 이상에, 즉 모노니트로톨루엔을 유도하는 모노니트로화 단계에, 디니트로톨루엔을 유도하는 디니트로화 단계에, 또는 상기 단계 둘 다에 적어도 부분적으로 재순환될 수 있다. 비응축된 HCN 농후 기스 스트림은 추가 (부분적인) 응축을 임의로 수행할 수 있으며, 이어서 화학물질, 에컨대 과산화수소, 오존 또는 산소에 의해 처리될 수 있거나, 시안화 염으로서 HCN를 제거하기 위해 알칼리 용액 내로 흡수될 수 있거나, 또는 소각로로 이송될 수 있다.

이어서, HCN를 제거하는데 사용된 증류 또는 스트립핑 용기의 바닥에서 회수된 스트림은 DNT, 황산 및 유기 부산물을 주로 포함하는 스트림으로서 황산 및 부산물로부터 DNT를 분리하기 위해서 하나 이상의 세척 단계를 수행하게 된다.

본 발명의 한 실시양태에서는, 물에 의한 세척의 제1 단계가 존재하는 황산의 대부분을 제거하기 위해 수행된다. 그 얻어지는 희석된 황산은 공정 내로 유리하게 재순환될 수 있다. 예를 들면, 그것은 니트로화 공정 내로 적절히, 바람직하게는 농축 단계로 수행된 후에, 그 자체로 또는 특히 잔류 모노니트로화 산과 같은 또다른 공정 스트림과의 조합으로 재도입될 수 있다. 마찬가지로, 그것은 세척 단계 자체 내로 재순환될 수 있다.

임의의 제2 단계에서는, 니트로화된 화합물의 스트림이 알칼리제의 수용액의 존재 하에 세척된다(염기성 세척). 그러한 조작의 목적은 황산 및 주로 히드록시니트로방향족 화합물인 부산물을 수상 중에 용해성인 염으로 전환시키는 것이다.

이러한 알칼리제는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 수산화물 및 탄산염으로부터 선택되는 것이 유리하다.

물에 의한 제1 세척 조작에 관한 것이든 또는 알칼리제의 존재 하에서의 임의의 제2 조작에 관한 것이든, 이들 조작은, 복수의 단계를 포함하는 옵션이 선택되는 경우, 하나 이상의 단계로, 바람직하게는 역류식 단계로 수행될 수 있다.

이어서, 염기성 세척 단계를 수행한 방향족 니트로화 화합물은, 임의의 미량의 알칼리제를 제거하기 위해서, 오직 물만을 사용하여 다시 세척될 수 있다.

본 발명은 다음의 실시예에 의해 예시된다.

실시예

도 1에 도시된 바와 같은 공정은 수치적 시뮬레이션으로 수행된다.

니트로화기/상 분리기(도시되어 있지 않음)으로부터 유래하는 미정제 DNT 스트림(1)이 1개의 이론 단을 갖고 30 mbar 및 70℃에서 작동된 진공 컬럼(C1)에 공급된다. DNT 및 미량의 HCN, H₂SO₄ 및 HNO₃을 주로 함유하는, C1로부터 바닥 배출된 액체 스트림(3)이 하류 세척 부분으로 공급된다. 미정제 DNT 스트림(1) 중에 함유된 HNO₃, NO₂/NO_x 및 대부분의 HCN를 주로 함유하는, C1로부터 정상부 배출된 증기 스트림(2)이 30 mbar 내지 29℃에서 조작된 부분 응축기(C2)로 공급된다. HNO₃ 및 미량의 HCN를 주로 함유하는, C2로부터의 액체 응축물 스트림(5)이 니트로화기(도시되어 있지 않음)로 재순환된다. HCN, NO_x 및 비교적 소량의 HNO₃을 주로 함유하는, C2로부터의 비응축된 증기 스트림(4)이 진공 펌프(P1)(P1은 제트 펌프, 액체 링 펌프, 스크류 펌프 등일 수 있음)에 공급되고, 여기서 그것이 30 mbar 내지 200 mbar으로 압축된다. 그 압축된 스트림(6)이 200 mbar 내지 40℃에서 조작된 부분 응축기(C3)로 공급된다. HNO₃ 및 미량의 HCN를 주로 함유하는, C3으로부터의 액체 응축물 스트림(8)이 HNO₃ 회수를 위해 니트로화기(도시되어 있지 않음)로 다시 공급된다. HCN, HNO₃ 및 NO_x를 주로 함유하는, C3으로부터의 비응축된 증기 스트림(7)이 추가의 오프 가스 처리로 공급된다. 그 오프 가스(7)는 미정제 DNT 스트림(1) 중에 함유된 총 HCN의 약 86% HCN를 함유하고, 나머지 약 14% HCN은 니트로화기로 재순환된다.

수치적 시뮬레이션의 결과가 하기 표 1에 제시되어 있으며, 그 표에는 각 공정 스트림(1-8)에 있어서 성분 H₂O, H₂SO₄, HNO₃, HCN, HNO₂, NO₂/NO_x, DNT 및 크레졸/유기물 각각에 대한 질량 흐름 및 질량 분율이 제시되어 있다.

[표 1]

Claims (12)

1. 디니트로톨루엔의 제조 방법으로서,
   (a) 톨루엔을 하나 이상의 니트로화 단계에서 질산과 황산의 혼합물인 니트로화 산으로 니트로화하고, 이렇게 형성된 공정 스트림으로부터 그 니트로화 산을 분리하는 단계로서, 디니트로톨루엔 및 용해된 상기 니트로화 산의 일정 분율을 포함하는 미정제 혼합물이 얻어지고, 이 미정제 혼합물이 50 ppm 이상의 HCN를 추가로 포함하는 것인 단계, 및
   (b) 그 미정제 디니트로톨루엔 함유 혼합물을 하나 이상의 세척 단계에서 세척하는 단계로서, 제1 세척 단계가 수행되기 전에, 미정제 혼합물이 증류 및/또는 스트립핑되어 그 혼합물로부터 HCN를 제거하게 되고, 실질적으로 HCN를 함유하지 않은 미정제 디니트로톨루엔 함유 혼합물이 얻어지는 것인 단계
   를 포함하는 제조 방법.
2. 제1항에 있어서, 미정제 디니트로톨루엔 함유 혼합물은 10개 이하의 이론 단을 갖는 컬럼에서 증류되는 것인 제조 방법.
3. 제2항에 있어서, 미정제 디니트로톨루엔 함유 혼합물은 2 내지 4개의 이론 단을 갖는 컬럼에서 증류되는 것인 제조 방법.
4. 제1항에 있어서, 미정제 디니트로톨루엔 함유 혼합물은 플래시 증발기에서 증류되는 것인 제조 방법.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 증류는 10 내지 200 mbar의 압력에서 진공 증류로서 수행되는 것인 제조 방법.
6. 제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 증류는 스트립핑 가스를 사용하는 스트립핑 조작과 조합되는 것인 제조 방법.
7. 제6항에 있어서, 스트립핑 조작은 스트립핑 가스로서 공기 또는 질소를 사용하여 수행되는 것인 제조 방법.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 항에 있어서, 미정제 디니트로톨루엔 함유 혼합물의 증류 및/또는 스트립핑에서 얻어지는 가스 상은 부분적으로 응축되어 디니트로톨루엔, 질산 및 황산을 포함하는 액체 응축물 상과 HCN를 포함하는 비응축된 가스 상을 생성하는 것인 제조 방법.
9. 제8항에 있어서, 증류 및/또는 스트립핑에서 얻어지는 가스 상은 다단계 응축기에서 부분적으로 응축되는 것인 제조 방법.
10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 디니트로톨루엔, 질산 및 황산을 포함하는 액체 응축물 상은 니트로화 단계들(a) 중 하나 이상에 적어도 부분적으로 재순환되는 것인 제조 방법.
11. 제1항 내지 제10항 중 어느 하나의 항에 있어서, 미정제 디니트로톨루엔 함유 혼합물 중에 존재하는 HCN의 90% 이상이 제1 세척 단계 전에 증류 및/또는 스트립핑에 의해 제거되는 것인 제조 방법.
12. 제1항 내지 제11항 중 어느 하나의 항에 있어서, 증류 및/또는 스트립핑이 수행된 후에 하지만 제1 세척 단계가 수행되기 전에 미정제 디니트로톨루엔 함유 혼합물은 최대 15 ppm의 HCN를 함유하는 것인 제조 방법.