KR20160018169A - 박막 증착용 섀도우 프레임 및 이를 이용한 증착 방법 - Google Patents

박막 증착용 섀도우 프레임 및 이를 이용한 증착 방법 Download PDF

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KR20160018169A
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김성중
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삼성에스디아이 주식회사
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Abstract

본 발명은 섀도우 프레임의 내측 코너(corner)부 형상을 변경함에 의해 노출된 기판의 코너부에 비성막부를 감소시킬 수 있는 박막 증착용 섀도우 프레임 및 이를 이용한 증착 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 기판 상에 박막 증착 영역을 제한하도록 사용되는 섀도우 프레임은, 상기 기판이 노출되도록 중앙 영역이 개구되어, 상기 기판 상면의 가장자리를 커버하는 몸체부; 및 상기 몸체부 내측 둘레로부터 상기 기판을 향하여 하향 경사지도록 연장되는 경사부;를 포함하되, 상기 경사부의 각 모서리에 해당하는 코너부는 상기 몸체부를 향하여 만입된다. 이러한 구성에 의하여, 기판 전체에 대한 박막의 두께 균일도를 향상시킬 수 있다.

Description

박막 증착용 섀도우 프레임 및 이를 이용한 증착 방법{Shadow frame for deposition of thin film and deposition method using the same}
본 발명은 박막 증착용 섀도우 프레임 및 이를 이용한 증착 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 증착된 박막의 균일성을 향상시킬 수 있는 박막 증착용 섀도우 프레임 및 이를 이용한 증착 방법에 관한 것이다.
일반적으로 기판 상에 성막 공정 시 균일하고 빠르게 성막하기 위한 다양한 증착법이 이용된다. 이러한 증착법을 이용한 기판 성막 시 기판의 하부, 특히 히터(Heater) 상부의 가장자리에는 각종 박막이 증착되지 않아야 한다. 히터의 가장자리가 증착되면, 온도 전달이 떨어져서 성막 균일도(Uniformity)가 저하된다.
통상 이를 위하여 기판의 가장자리 상에 섀도우 프레임(Shadow frame)을 위치시킨 후, 그 상부에 박막을 증착시켜 기판 주변부에 박막이 증착되지 않도록 하는 방법을 사용한다.
이러한 증착은 챔버 내부에서 수행되며, 챔버 내부의 기판 상부에는 박막을 형성하기 위한 증착물질이 기판을 향하여 공급되도록 샤워헤드(Shower head)가 설치된다.
본 발명은 섀도우 프레임의 내측 코너(corner)부 형상을 변경함에 의해 노출된 기판의 코너부에 비성막부를 감소시킬 수 있는 박막 증착용 섀도우 프레임 및 이를 이용한 증착 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 따른 기판 상에 박막 증착 영역을 제한하도록 사용되는 섀도우 프레임은, 상기 기판이 노출되도록 중앙 영역이 개구되어, 상기 기판 상면의 가장자리를 커버하는 몸체부; 및 상기 몸체부 내측 둘레로부터 상기 기판을 향하여 하향 경사지도록 연장되는 경사부;를 포함하되, 상기 경사부의 각 모서리에 해당하는 코너부는 상기 몸체부를 향하여 만입된다.
이때, 상기 코너부는 상기 경사부로부터 일정 면적이 제거되어, 상기 기판을 외부로 노출시킬 수 있다.
그리고, 상기 코너부는 뾰족한 형상으로 만입될 수 있다.
또한, 상기 몸체부의 개구는 직사각형으로 형성될 수 있다.
더욱이, 상기 경사부의 폭은 상기 코너부로 갈수록 점점 좁아질 수 있다.
여기서, 상기 경사부의 중간 영역의 폭은 4㎜이며, 상기 경사부의 상기 코너부에 인접한 영역의 폭은 3.2㎜일 수 있다.
그리고, 상기 경사부의 상기 코너부의 대각선 길이는 5.4㎜ 이하일 수 있다.
본 발명에 따른 중앙 영역이 개구되며, 기판 상면의 가장자리를 커버하는 섀도우 프레임을 이용하여 기판 상에 박막을 증착하는 방법에 있어서, 상기 섀도우 프레임을 상기 기판 상에 장착하는 단계; 및 상기 섀도우 프레임이 장착된 기판 상에 증착을 수행하는 단계;를 포함하며, 상기 섀도우 프레임은 내측 모서리에 해당하는 코너부가 상기 기판이 노출되도록 외측을 향하여 만입된다.
이때, 상기 기판 상에 형성되는 박막은 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치를 이용하여 제조될 수 있다.
그리고, 상기 CVD 장치는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposion), MOCVD(metalorganic chemical vapor deposition) 및 LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.
또한, 상기 기판 상에 증착되는 박막은 산화주석(SnO2) 또는 산화아연(ZnO)일 수 있다.
게다가, 상기 섀도우 프레임의 내측 코너부에 위치된 상기 기판은 비성막 영역이 감소될 수 있다.
본 발명에 의하면 섀도우 프레임의 내측 코너(corner)부 형상을 변경하여, 노출된 기판의 코너부에 비성막부를 감소시킴으로써, 기판 전체에 대한 박막의 두께 균일도를 향상시킬 수 있다.
도 1은 섀도우 프레임을 이용한 증착 장치를 나타내는 모식도.
도 2a는 일반적인 섀도우 프레임을 나타내는 평면도.
도 2b는 도 2a의 A부분을 나타내는 확대도.
도 3은 도 2a의 섀도우 프레임을 이용하여 증착한 기판의 비성막 영역을 나타내는 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 상에 위치된 섀도우 프레임을 나타내는 사시도.
도 5는 도 4의 B부분을 나타내는 확대도.
도 6은 도 4의 섀도우 프레임을 이용하여 증착한 기판의 성막 균일도를 나타내는 도면.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 섀도우 프레임의 코너부를 나타내는 도면.
이하 첨부한 도면을 참고하여 본 발명의 실시예 및 그 밖에 당업자가 본 발명의 내용을 쉽게 이해하기 위하여 필요한 사항에 대하여 상세히 기재한다. 다만, 본 발명은 청구범위에 기재된 범위 안에서 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으므로 하기에 설명하는 실시예는 표현 여부에 불구하고 예시적인 것에 불과하다.
본 실시예를 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 그리고 도면에서 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 참조번호 및 부호로 나타내고 있음에 유의해야 한다. 아울러, 도면에서 각 구성의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장될 수 있으며 실제 구성의 두께나 크기와 다를 수 있다.
도 1은 섀도우 프레임을 이용한 증착 장치를 나타내는 모식도이다.
도 1을 참조하면, CVD 장치(10)의 경우, 챔버(Chamber, 11) 내의 샤워헤드(Shower Head, 12)로부터 증착물질이 기판(13)을 향하여 공급된다. 이에 의해 증착물질이 기판(13) 상에 증착될 수 있다. 이때, 기판(13) 상에는 섀도우 프레임(14)이 위치되며, 섀도우 프레임(14)은 기판(13)의 가장자리만을 커버하여 기판(13)의 나머지 영역이 노출되도록 한다.
이때, 기판(13)이 노출된 영역, 즉 박막 형성 영역의 둘레를 따라 박막이 적절히 증착되지 않는다. 즉, 기판(13)이 노출된 영역의 둘레는 기판(13)의 중앙부에 비해 얇은 두께로 박막이 증착되거나, 비성막부가 형성될 수 있다.
도 2a는 일반적인 섀도우 프레임을 나타내는 평면도이고, 도 2b는 도 2a의 A부분을 나타내는 확대도이다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 일반적으로 박막 태양전지는 기판(13) 상에 박막을 형성함으로써 이루어지며, 이때 기판(13)으로는 통상 유리기판을 이용한다. 박막은 기본적으로 광을 흡수하여 전자 및 정공을 발생시키는 실리콘 박막, 그리고 실리콘 박막의 상, 하부에는 각각 전자 및 정공을 전달하는 전극용 박막으로 이루어진다.
여기서, 상부 전극은 빛을 통과하여 실리콘 박막으로 전달해야 하므로, 투명전도성 산화막(TCO, Transparent Conductive Oxide)이 사용되며, 그 재료는 산화주석(SnO2) 또는 산화아연(ZnO) 등이다.
이와 같은 투명 전도성 산화막과 같은 박막을 기판(13)에 증착하기 위하여, 기판(13) 상에는 섀도우 프레임(14)이 위치된다. 섀도우 프레임(14)은 기판(13)이 노출되도록 중앙 영역이 개구되어, 기판(13) 상면의 가장자리를 커버하는 몸체부(14a)와, 몸체부(14a) 내측 둘레로부터 기판(13)을 향하여 하향 경사지도록 연장되는 경사부(14c)를 포함한다. 여기서, 경사부(14c)의 코너부(14b)에 위치된 부분의 대각선 길이(d2)는 경사부(14c)의 폭(d1)에 비하여 길게 형성된다.
이러한 섀도우 프레임(14)에 의해 노출된 기판(13) 상에 박막이 증착되며, 섀도우 프레임(14)에 의해 커버된 영역은 비성막부가 된다. 이때, 비성막부가 넓으면 정상적인 셀(cell)로 사용할 수 있는 면적이 작아지게 된다.
도 3은 도 2a의 섀도우 프레임을 이용하여 증착한 기판의 비성막 영역을 나타내는 도면이다.
도 3을 참조하면, 기판(13) 상에 증착된 박막의 비성막된 부분이 기판(13)의 코너 부분에 집중되어 있음을 알 수 있다. 도 3에서 기판(13) 둘레를 따라 기재된 수치는 비성막부가 형성된 부분으로, 여기서, 비성막부는 성막이 전혀 이루어지지 않은 것은 아니며, 다른 영역과 비교하여 박막이 증착된 두께가 낮음을 의미한다.
즉, 기판(13) 둘레에 기재된 수치가 클수록 비성막부가 많음을 의미하며, 수치가 작을수록 비성막부가 적음을 의미한다. 여기서, 각 수치의 단위는 ㎜이다.
도 2와 같은 일반적인 섀도우 프레임(14)을 이용하여 기판(13)에 박막을 증착하는 경우, 장축과 단축은 일정한 비성막을 유지하지만, 섀도우 프레임(14)의 코너부(14b)에서는 기판(13)이 상대적으로 많이 가려지기 때문에 비성막부가 넓어짐을 알 수 있다.
이처럼 기판(13)의 코너 부분이 기판(13)의 장축 및 단축에 비하여 상대적으로 낮은 두께로 성막되므로, 이에 의해 전체적인 공정 산포가 불량하게 된다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 상에 위치된 섀도우 프레임을 나타내는 사시도이고, 도 5는 도 4의 B부분을 나타내는 확대도이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 섀도우 프레임(24)은 기판(23) 상에 박막 증착 영역을 제한하도록 사용된다. 이러한 섀도우 프레임(24)은 기판(23)이 노출되도록 중앙 영역이 개구되어, 기판(23) 상면의 가장자리를 커버한다. 이때, 섀도우 프레임(24)의 개구는 직사각형으로 형성된 기판(23)의 가장자리를 제외하고 노출시키도록 기판(23) 크기보다 작은 직사각형으로 형성될 수 있다.
여기서, 섀도우 프레임(24)은 몸체부(24a)와, 몸체부(24a) 내측 둘레로부터 기판(23)을 향하여 하향 경사지도록 연장되는 경사부(24c)를 포함한다. 그리고, 경사부(24c)의 각 모서리에 해당하는 코너부(24b)는 몸체부(24a)를 향하여 만입되도록 형성된다. 즉, 코너부(24b)는 경사부(24c)로부터 일정 면적이 제거되어, 기판(23)을 외부로 노출시킨다.
섀도우 프레임(24)은 증착 챔버 내에서 기판(23)과 샤워헤드(미도시) 사이에 위치되어, 기판(23) 하부에 위치되는 히터(미도시)의 오염을 방지하는 기능을 할 수 있다. 하지만, 섀도우 프레임(24)에 의해 기판(23) 가장자리가 가려지는 면적이 넓어지게 되면 기판(23)의 비성막 부분 역시 넓어지게 되어, 성막 두께의 균일도가 불량하게 된다.
따라서, 본 발명에서는 섀도우 프레임(24)의 코너부(24b) 형상을 변경함에 의해 기판(23) 코너 부분의 비성막되는 부분을 줄일 수 있다. 즉, 섀도우 프레임(24)의 코너부(24b)가 몸체부(24a) 측으로 만입되도록 코너부(24b) 일부를 제거하여, 기판(23) 노출 영역을 증가시킴에 따라 기판(23) 가장자리 코너 부분의 성막 두께의 균일도를 개선할 수 있다.
섀도우 프레임(24)의 경사부(24c)의 폭은 코너부(24b)로 갈수록 점점 좁아질 수 있다. 예를 들면, 기판(23)의 장축 및 단축의 중간 영역과 대응하는 섀도우 프레임(24)의 경사부(24c)의 폭(d3)은 4㎜로 형성될 수 있다. 그리고, 경사부(24c)의 코너부(24b)에 인접한 영역의 폭은 3.2㎜로 형성될 수 있다. 여기서, 경사부(24c)의 폭은 상기 수치에 한정되는 것은 아니다.
이처럼 경사부(24c)의 폭이 코너부(24b)로 갈수록 점점 좁아지다가 코너부(24b)에 이르면 그 폭이 급격하게 좁아지며, 코너부(24b)의 대각선 길이가 5.4㎜ 이하로 형성될 수 있다.
이때, 코너부(24b)는 0에 가까울수록 기판(23) 코너 부분의 성막 균일도가 좋아지지만, 설비에 따른 제한으로 인하여 코너부(24b)를 완벽하게 제거하기는 어렵다. 하지만, 대략 5.4㎜ 이하인 경우에 기판(23) 전체의 성막 균일도가 향상될 수 있다. 그리고, 이러한 코너부(24b)의 대각선 길이가 5.4㎜ 이하일 경우 성막 균일도가 향상되는 것은 기판 크기 또는 증착된 박막의 높이와 무관하다.
도 6은 도 4의 섀도우 프레임을 이용하여 증착한 기판의 성막 균일도를 나타내는 도면이다.
도 6을 참조하면, 도 3에서 섀도우 프레임(24)의 코너부(24b)가 제거되지 않은 경우에 비하여, 기판(23)의 코너 부분에 비성막된 영역이 개선되었음을 알 수 있다. 도 6에서 기판(23) 둘레를 따라 기재된 수치는 비성막부가 형성된 부분으로, 여기서, 비성막부는 성막이 전혀 이루어지지 않은 것은 아니며, 다른 영역과 비교하여 박막이 증착된 두께가 낮음을 의미한다.
즉, 기판(13) 둘레에 기재된 수치가 클수록 비성막부가 많음을 의미하며, 수치가 작을수록 비성막부가 적음을 의미한다. 도 3과 비교하면, 기판(23)의 코너 부분에 비성막된 영역이 현저히 줄어들었으며, 기판(23)의 장축 및 단축의 비성막 영역의 평균이 줄어들었음을 알 수 있다.
실험 결과, 본 발명에 따른 섀도우 프레임(24)을 사용한 경우, 기존에 비하여 비성막 영역이 평균 2㎜ 감소되었으며, 성막 균일도가 기존에는 20.7%였지만, 본 발명에 따르면 16.5%로 개선되었다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 섀도우 프레임의 코너부를 나타내는 도면이다.
도 7을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 섀도우 프레임(24)은 기판(23) 상면의 가장자리를 커버하며, 중앙 영역이 개구되어 기판(23)이 노출되도록 형성된다. 이때, 섀도우 프레임(24)은 몸체부(24a)와, 몸체부(24a) 내측 둘레로부터 기판(23)을 향하여 하향 경사지도록 연장되는 경사부(24c)를 포함한다.
여기서, 경사부(24c)의 각 모서리에 해당하는 코너부(24b)는 몸체부(24a)를 향하여 만입된다. 즉, 섀도우 프레임(24)의 코너부(24b)는 일정 면적이 제거되며, 기판(23)의 코너 부분을 외부로 노출시킨다.
이때, 코너부(24b)는 몸체부(24a)를 향하여 뾰족한 형상으로 형성될 수 있다. 이와 같이 뾰족한 형상으로 제거된 코너부(24b가 가장 바람직한 형태이며, 설비적으로 가능하다면 코너부(24b)가 완전히 제거되어도 무관하다.
즉, 코너부(24b)에 의해 노출된 기판(23)의 코너 부분에 박막이 증착되더라도, 추후 공정에서 기판(23)의 코너 부분이 실링(sealing)된다. 이 때문에 코너부(24b)가 제거된 형태에 따라 기판(23)의 성막 균일도에 다소 차이가 있을 수는 있으나, 코너부(24b)가 어떠한 형태로 제거되더라도 상관없다. 이처럼 기판(23)의 코너 부분을 노출시킴에 의해 비성막부를 줄임으로써, 기판(23)의 성막 균일도를 향상시킬 수 있다.
이하에서는, 본 발명에 따른 섀도우 프레임(24)을 이용하여 기판(23) 상에 박막을 증착하는 방법에 대하여 설명한다.
본 발명에 따른 박막 증착 방법은 먼저, 섀도우 프레임(24)을 기판(23) 상에 장착한다. 그리고, 섀도우 프레임(24)이 장착된 기판(23) 상에 증착을 수행한다. 이때, 섀도우 프레임(24)은 직사각형을 띠는 기판(23) 상면의 가장자리를 커버하도록 중앙 영역이 개구된다. 그리고, 섀도우 프레임(24)은 내측 모서리에 해당하는 코너부(24b)가 기판(23)을 노출시키도록 외측을 향하여 만입된다.
이에 의해 기판(23)의 코너 부분에 박막이 형성되며, 기판(23)의 비성막 영역이 감소될 수 있다.
기판(23) 상에 형성되는 박막은 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치를 이용하여 제조될 수 있다. CVD 장치는 증착할 기판 상에 원료 가스를 공급하고, 외부 에너지를 부여함으로써, 원료 가스를 분해하여 기상 반응으로 기판 상에 박막을 형성하는 장치이다.
이러한 CVD 장치는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposion), MOCVD(metalorganic chemical vapor deposition) 및 LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.
PECVD는 플라즈마에 의해 반응가스를 분해하여 기판 상에 박막을 증착시키는 방법이며, MOCVD는 유기금속 가스를 가열한 기판 상에 열분해시켜 박막을 증착시키는 방법이다. 그리고, LPCVD는 저압 분위기에서 박막을 증착시키는 방법이다.
박막 태양전지의 제조 공정은 매우 복잡하며, 여러 단계의 공정이 필요하다. 이 중, 기판(23) 상에 박막을 증착하는 공정은 상기와 같은 다양한 방법을 이용하여 제조되며, 기판 상에 실리콘 박막을 형성한 뒤 전극용 박막을 형성한다.
예를 들면, 전극용 박막으로 투명 전도성 산화물(TCO, Transparent Conductive Oxide) 필름을 증착한다. 통상 투명 전도성 산화물 증착 시, 디에틸 아연(DEZ, Diethylzinc)과 같은 유기금속을 이용하거나, 박막 증착을 통해 산화주석(SnO2) 또는 산화아연(ZnO)을 증착시킨다.
여기서, 증착 소스(source)로 디에틸 아연을 이용하여 산화아연막을 증착할 수 있는데, 디에틸 아연은 CVD 공정에서 사용되는 아연 전구체(Zinc precursor)이다.
상기와 같은 방법을 이용하여, 기판(23) 상에 박막을 증착하는 경우, 섀도우 프레임(24)의 만입된 코너부(24b) 형상에 의해 기판(23) 코너 부분이 성막된다. 이에 따라, 기판(23) 전체의 성막 균일도가 향상되어, 전체적인 공정 산포를 향상시킬 수 있다.
전술한 실시예에서는 기판 상에 증착되는 박막으로 산화주석(SnO2) 또는 산화아연(ZnO)을 예를 들어 설명하였지만, 본 발명에 따른 섀도우 프레임을 이용하여 이들 외에 다양한 박막을 증착할 수 있음은 물론이다.
본 발명의 기술 사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 변형예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
전술한 발명에 대한 권리범위는 이하의 특허청구범위에서 정해지는 것으로써, 명세서 본문의 기재에 구속되지 않으며, 청구범위의 균등 범위에 속하는 변형과 변경은 모두 본 발명의 범위에 속할 것이다.
11 : 챔버 12 : 샤워헤드
13, 23 : 기판 14, 24 : 섀도우 프레임
14a, 24a : 몸체부 14b, 24b : 코너부
14c, 24c : 경사부

Claims (12)

  1. 기판 상에 박막 증착 영역을 제한하도록 사용되는 섀도우 프레임은,
    상기 기판이 노출되도록 중앙 영역이 개구되어, 상기 기판 상면의 가장자리를 커버하는 몸체부; 및
    상기 몸체부 내측 둘레로부터 상기 기판을 향하여 하향 경사지도록 연장되는 경사부;를 포함하되,
    상기 경사부의 각 모서리에 해당하는 코너부는 상기 몸체부를 향하여 만입되는 박막 증착용 섀도우 프레임.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 코너부는 상기 경사부로부터 일정 면적이 제거되어, 상기 기판을 외부로 노출시키는 박막 증착용 섀도우 프레임.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 코너부는 뾰족한 형상으로 만입되는 박막 증착용 섀도우 프레임.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 몸체부의 개구는 직사각형으로 형성되는 박막 증착용 섀도우 프레임.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 경사부의 폭은 상기 코너부로 갈수록 점점 좁아지는 박막 증착용 섀도우 프레임.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 경사부의 중간 영역의 폭은 4㎜이며, 상기 경사부의 상기 코너부에 인접한 영역의 폭은 3.2㎜인 박막 증착용 섀도우 프레임.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 경사부의 상기 코너부의 대각선 길이는 5.4㎜ 이하인 박막 증착용 섀도우 프레임.
  8. 중앙 영역이 개구되며, 기판 상면의 가장자리를 커버하는 섀도우 프레임을 이용하여 기판 상에 박막을 증착하는 방법에 있어서,
    상기 섀도우 프레임을 상기 기판 상에 장착하는 단계; 및
    상기 섀도우 프레임이 장착된 기판 상에 증착을 수행하는 단계;를 포함하며,
    상기 섀도우 프레임은 내측 모서리에 해당하는 코너부가 상기 기판이 노출되도록 외측을 향하여 만입되는 섀도우 프레임을 이용한 박막 증착 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 기판 상에 형성되는 박막은 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치를 이용하여 제조되는 섀도우 프레임을 이용한 박막 증착 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 CVD 장치는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposion), MOCVD(metalorganic chemical vapor deposition) 및 LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나인 섀도우 프레임을 이용한 박막 증착 방법.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 기판 상에 증착되는 박막은 산화주석(SnO2) 또는 산화아연(ZnO)인 섀도우 프레임을 이용한 박막 증착 방법.
  12. 제8항에 있어서,
    상기 섀도우 프레임의 내측 코너부에 위치된 상기 기판은 비성막 영역이 감소되는 섀도우 프레임을 이용한 박막 증착 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20190124862A (ko) * 2018-04-27 2019-11-06 나노스 주식회사 박막 증착용 고분자 지그
CN110923672A (zh) * 2019-12-17 2020-03-27 Tcl华星光电技术有限公司 加热装置及化学气相沉积设备

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