KR20160013841A - Glass substrate cutting method and glass substrate manufacturing method - Google Patents

Glass substrate cutting method and glass substrate manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
KR20160013841A
KR20160013841A KR1020157026147A KR20157026147A KR20160013841A KR 20160013841 A KR20160013841 A KR 20160013841A KR 1020157026147 A KR1020157026147 A KR 1020157026147A KR 20157026147 A KR20157026147 A KR 20157026147A KR 20160013841 A KR20160013841 A KR 20160013841A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
glass substrate
laser beam
width direction
laser light
cut
Prior art date
Application number
KR1020157026147A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
히데유키 다카하시
도시유키 우에마츠
Original Assignee
아사히 가라스 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아사히 가라스 가부시키가이샤 filed Critical 아사히 가라스 가부시키가이샤
Publication of KR20160013841A publication Critical patent/KR20160013841A/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B33/00Severing cooled glass
    • C03B33/08Severing cooled glass by fusing, i.e. by melting through the glass
    • C03B33/082Severing cooled glass by fusing, i.e. by melting through the glass using a focussed radiation beam, e.g. laser
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/14Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring using a fluid stream, e.g. a jet of gas, in conjunction with the laser beam; Nozzles therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/38Removing material by boring or cutting
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/40Removing material taking account of the properties of the material involved
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B33/00Severing cooled glass
    • C03B33/08Severing cooled glass by fusing, i.e. by melting through the glass
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Abstract

레이저광을 조사하여 유리 기판을 절단 예정선을 따라 절단하는 유리 기판의 절단 방법으로서, 유리 기판의 한쪽 표면에 레이저광을 조사하는 레이저광의 조사 영역을 포함하는 유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역을, 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시키고, 레이저광의 조사 영역에서, 유리 기판의 한쪽 표면부터 다른 쪽 표면까지의 레이저광 조사부가 기화하는 온도 이상으로 가열하고, 레이저광의 조사 영역을 유리 기판의 절단 예정선을 따라, 유리 기판에 대하여 상대적으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 절단 방법을 제공한다.A method for cutting a glass substrate along a line along which a piece is intended to be cut by irradiating a laser beam on the glass substrate, the method comprising: A part of the width direction is curved in the width direction of the glass substrate and heated at a temperature not lower than a temperature at which the laser light irradiating portion from one surface to the other surface of the glass substrate is vaporized in the irradiation region of the laser light, Is moved relative to the glass substrate along a line along which the glass substrate is to be cut.

Description

유리 기판의 절단 방법 및 유리 기판의 제조 방법{GLASS SUBSTRATE CUTTING METHOD AND GLASS SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a glass substrate cutting method and a glass substrate manufacturing method,

본 발명은 유리 기판의 절단 방법 및 유리 기판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of cutting a glass substrate and a method of manufacturing a glass substrate.

유리 기판의 절단 방법으로서 레이저광을 사용한 절단 방법이 검토되어 왔다.As a method of cutting a glass substrate, a cutting method using laser light has been studied.

예를 들어 특허문헌 1에는, 레이저광을 조사함으로써 소정의 깊이의 절결 오목부를 형성한 직후에, 압축 가스 등에 의해 강제 냉각하는 유리 기판의 절단 방법이 개시되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses a method of cutting a glass substrate forcibly cooled with a compressed gas or the like immediately after forming a notched portion having a predetermined depth by irradiating a laser beam.

또한, 특허문헌 2에는, 유리 기판에 레이저광을 주사하면서 조사하여, 레이저광의 조사 부분에 대하여 유리를 용융시키고, 용융된 유리를 어시스트 가스에 의해 날려버리는 유리 기판의 절단 방법이 개시되어 있다.Patent Document 2 discloses a glass substrate cutting method in which a glass substrate is irradiated with a laser beam while scanning with laser light to melt the glass with respect to an irradiated portion of the laser beam, and the molten glass is blown off by the assist gas.

일본 특허 공개 제2004-059328호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-059328 일본 특허 공개 소60-251138호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 60-251138

그러나, 특허문헌 1에 기재된 유리 기판의 절단 방법에 의하면, 그 절단면에는 레이저광을 조사함으로써 형성한 절결 오목부에 대응하는 부분과, 그 후 강제 냉각을 행했을 때에 절결 오목부의 하부에 형성된 부분이 포함되고, 양자의 표면 특성은 상이하다.However, according to the cutting method of the glass substrate described in Patent Document 1, the cut surface has a portion corresponding to the notched concave portion formed by irradiating the laser beam, and a portion formed at the lower portion of the notched concave portion when forced cooling is performed thereafter And the surface characteristics of both are different.

이렇게 절단면 중에 절단 방법에 기인하는 표면 특성이 상이한 부분이 있을 경우, 제품으로 하기 위해서는 절단면을 연마하여, 표면 특성이 균일한 절단면으로 할 필요가 있었다. 이로 인해, 절단면에 관한 연마 공정에 시간을 필요로 하고 있었다.In the case where there is a part of the cut surface which is different in surface characteristics due to the cutting method, it is necessary to cut the cut surface to obtain a cut surface with uniform surface characteristics. Therefore, it takes time to perform the polishing process on the cut surface.

또한, 레이저광을 조사한 직후에 유리 기판에 대하여 압축 가스(어시스트 가스)를 분사할 필요가 있기 때문에, 유리 기판의 위치가 변위되기 쉬워 절단 정밀도가 저하하는 경우가 있었다.In addition, since it is necessary to inject a compressed gas (assist gas) to the glass substrate immediately after irradiating the laser beam, the position of the glass substrate is liable to be displaced, so that the cutting precision is sometimes lowered.

특허문헌 2에 기재된 유리 기판의 절단 방법에 의하면, 어시스트 가스의 압력에 의해 유리 기판의 위치가 변위하여, 절단할 때의 정밀도가 낮아지는 경우가 있다는 문제가 있었다. 또한, 레이저광의 에너지 밀도에 따라서는, 국소적인 유리의 열변형량이 커져 유리 기판에 균열을 발생시키는 경우가 있었다. 또한, 어시스트 가스에 의해 제거된 용융한 유리가, 절단면이나 그 주변에 부착, 응고하기 때문에, 이것을 제거하기 위하여 연마 공정에 시간을 필요로 하고 있었다.According to the cutting method of the glass substrate described in Patent Document 2, there is a problem that the position of the glass substrate is displaced by the pressure of the assist gas and the precision at the time of cutting is lowered. In addition, depending on the energy density of the laser light, the amount of thermal deformation of the localized glass is increased, and cracks are sometimes generated in the glass substrate. Further, since the molten glass removed by the assist gas adheres to and solidifies on the cut surface or the periphery thereof, it takes time for the polishing process to remove it.

본 발명은 상기 종래 기술의 과제를 감안하여, 상기 유리 기판에 어시스트 가스를 분사하는 종래의 유리 기판의 절단 방법과 비교하여 유리 기판을 고정밀도로 절단 가공할 수 있어, 유리 기판에의 균열의 발생을 억제하여, 균일한 절단면이 얻어지는 유리 기판의 절단 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems of the prior art, the present invention is capable of cutting a glass substrate with high precision compared to a conventional method of cutting a glass substrate by spraying an assist gas onto the glass substrate, And to provide a method of cutting a glass substrate which can obtain a uniform cut surface.

상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 레이저광을 조사하여 유리 기판을 절단 예정선을 따라 절단하는 유리 기판의 절단 방법으로서, 상기 유리 기판의 한쪽 표면에 상기 레이저광을 조사하는 레이저광의 조사 영역을 포함하는 상기 유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역을, 상기 유리 기판의 상기 폭 방향으로 만곡시키고, 상기 레이저광의 조사 영역에서, 상기 유리 기판의 한쪽 표면부터 다른 쪽 표면까지의 레이저광 조사부가 기화하는 온도 이상으로 가열하고, 상기 레이저광의 조사 영역을 상기 유리 기판의 절단 예정선을 따라, 상기 유리 기판에 대하여 상대적으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 절단 방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of cutting a glass substrate by cutting a glass substrate along a line along which a piece is to be cut by irradiating a laser beam, the method including irradiating a laser beam onto the one surface of the glass substrate A portion of the glass substrate in the width direction orthogonal to the line along which the glass substrate is intended to be cut is curved in the width direction of the glass substrate so that the area from one surface of the glass substrate to the other surface And irradiating the laser light onto the glass substrate along a line along which the glass substrate is to be cut, wherein the laser light irradiating portion is heated to a temperature higher than a vaporization temperature, and the region irradiated with the laser light is moved relatively to the glass substrate.

본 발명의 유리 기판의 절단 방법에 의하면, 종래의 어시스트 가스를 사용한 유리 기판의 절단 방법과 비교하여 유리 기판을 고정밀도로 절단 가공할 수 있다. 또한, 절단 시에 유리 기판에의 균열의 발생을 억제하여, 균일한 절단면으로 할 수 있다.According to the cutting method of the glass substrate of the present invention, it is possible to cut the glass substrate with high accuracy as compared with the conventional method of cutting the glass substrate by using the assist gas. Further, it is possible to suppress the occurrence of cracks on the glass substrate at the time of cutting, and to provide a uniform cut surface.

도 1은 본 발명의 실시 형태에 따른 유리 기판의 절단 방법의 설명도.
도 2a는 표면에 요철을 포함하는 유리 기판에 대하여 레이저광을 조사할 때의 레이저 발진 장치와 유리 기판의 한쪽 표면 사이의 거리의 설명도.
도 2b는 표면에 요철을 포함하는 유리 기판에 대하여 레이저광을 조사할 때의 레이저 발진 장치와 유리 기판의 한쪽 표면 사이의 거리의 설명도.
도 3은 지지 부재를 구비한 반송 롤러의 구성예의 설명도.
도 4는 지지 부재를 구비한 반송 롤러를 유리 기판의 반송 경로 상에 배치한 구성예의 설명도.
도 5는 지지 부재를 구비한 반송 롤러를 유리 기판의 반송 경로 상에 배치한 구성예의 설명도.
도 6은 유리 기판의 폭 방향의 일부의 영역을 만곡시키는 반송 롤러의 구성예의 설명도.
도 7은 본 발명의 실시 형태에 따른 유리 기판의 절단 방법에 있어서의 가열 공정의 설명도.
도 8은 본 발명의 실시 형태에 따른 유리 기판의 절단 방법에 있어서의 냉각 공정의 설명도.
도 9는 본 발명의 실시 형태에 따른 유리 기판의 절단 방법에 있어서의 냉각 공정에서의 석출물에 관한 설명도.
도 10은 본 발명의 실험예 1의 유리 기판 반송 속도 및 레이저광의 에너지 밀도와, 절단면의 평가와의 관계의 설명도.
도 11은 본 발명의 실험예 2의 유리 기판 반송 속도 및 레이저광의 에너지 밀도와, 절단면의 평가와의 관계의 설명도.
도 12는 본 발명의 실험예 3의 유리 기판 반송 속도 및 레이저광의 에너지 밀도와, 절단면의 평가와의 관계의 설명도.
도 13은 본 발명의 실험예 4의 유리 기판 반송 속도 및 레이저광의 에너지 밀도와, 절단면의 평가와의 관계의 설명도.
도 14는 유리 기판의 폭 방향의 일부의 영역을 만곡시키는 다른 방법의 설명도.
1 is an explanatory diagram illustrating a cutting method of a glass substrate according to an embodiment of the present invention;
FIG. 2A is an explanatory diagram of a distance between one surface of a glass substrate and a laser oscillating device when laser light is irradiated onto a glass substrate including irregularities on its surface; FIG.
Fig. 2B is an explanatory diagram of a distance between one surface of a glass substrate and a laser oscillation device when laser light is irradiated onto a glass substrate including irregularities on its surface; Fig.
3 is an explanatory diagram of a configuration example of a conveying roller provided with a support member;
4 is an explanatory diagram of a configuration example in which a conveying roller having a support member is disposed on a conveying path of a glass substrate;
Fig. 5 is an explanatory diagram of a configuration example in which a conveying roller having a support member is disposed on a conveying path of a glass substrate; Fig.
6 is an explanatory diagram of a configuration example of a conveying roller for bending a part of the width direction of the glass substrate.
7 is an explanatory diagram of a heating step in a cutting method of a glass substrate according to an embodiment of the present invention.
8 is an explanatory diagram of a cooling step in a glass substrate cutting method according to an embodiment of the present invention.
9 is an explanatory diagram of a precipitate in a cooling step in a glass substrate cutting method according to an embodiment of the present invention.
10 is an explanatory diagram of the relationship between the glass substrate transport speed and the energy density of the laser light of Experimental Example 1 of the present invention and the evaluation of the cut surface.
11 is an explanatory diagram of the relationship between the glass substrate transport speed and the energy density of the laser light of Experimental Example 2 of the present invention and the evaluation of the cut surface.
12 is an explanatory diagram of the relationship between the glass substrate conveying speed and the energy density of the laser beam in Experimental Example 3 of the present invention and the evaluation of the cut surface.
Fig. 13 is an explanatory diagram of the relationship between the glass substrate transport speed and the energy density of the laser light of Experimental Example 4 of the present invention and the evaluation of the cut surface. Fig.
14 is an explanatory diagram of another method of bending a part of the area in the width direction of the glass substrate;

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대하여 도면을 참조하여 설명하지만, 본 발명은 다음의 실시 형태에 제한되지 않고, 본 발명의 범위를 일탈하지 않고, 다음의 실시 형태에 다양한 변형 및 치환을 가할 수 있다.Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications and substitutions may be made without departing from the scope of the present invention. .

본 실시 형태에서는, 본 발명의 유리 기판의 절단 방법의 구성예에 대하여 설명을 행한다.In this embodiment, a structural example of the glass substrate cutting method of the present invention is described.

본 실시 형태의 유리 기판의 절단 방법은, 레이저광을 조사하여 유리 기판을 절단 예정선을 따라 절단하는 유리 기판의 절단 방법으로서, 이하의 구성을 갖고 있다.The method for cutting a glass substrate according to the present embodiment is a method for cutting a glass substrate along a line along which a piece is intended to be cut by irradiating a laser beam, and has the following configuration.

유리 기판의 한쪽 표면에 레이저광을 조사하는 레이저광의 조사 영역을 포함하는 유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향(이하, 「유리 기판의 폭 방향」이라고도 기재한다)의 일부의 영역을, 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시킨다.(Hereinafter also referred to as " the width direction of the glass substrate ") perpendicular to the line along which the object is intended to be cut in the glass substrate including the region irradiated with laser light for irradiating the laser light onto one surface of the glass substrate, And curved in the width direction of the glass substrate.

그리고, 레이저광의 조사 영역에서, 유리 기판의 한쪽 표면부터 다른 쪽 표면까지의 레이저광 조사부가 기화하는 온도 이상으로 가열한다.Then, in the irradiation area of the laser beam, the laser beam is irradiated at a temperature higher than the vaporization temperature of the laser beam irradiation part from one surface to the other surface of the glass substrate.

또한, 레이저광의 조사 영역을 유리 기판의 절단 예정선을 따라, 유리 기판에 대하여 상대적으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 절단 방법이다.Further, the present invention is a method for cutting a glass substrate, characterized in that the irradiated region of the laser beam is moved relative to the glass substrate along a line along which the glass substrate is to be cut.

도 1 내지 도 8을 사용하여 구체적으로 설명한다.Will be described in detail with reference to Figs. 1 to 8. Fig.

도 1은, 본 발명의 유리 기판의 절단 방법에 의해 유리 기판을 절단하고 있는 부분을, 레이저광을 조사하는 측(한쪽 표면측)의 유리 기판 상면으로부터 본 구성을 모식적으로 도시하고 있다.Fig. 1 schematically shows a configuration in which a portion of a glass substrate cut by a cutting method of the present invention is viewed from the top surface of a glass substrate on one side (one surface side) of a laser beam irradiation side.

유리 기판(11)은 도 1 중 화살표 A로 나타내는 방향으로 반송되고 있어, 도시하지 않은 레이저 발진 장치로부터 발진된 레이저광(12)이 조사되고 있는 부분(레이저광의 조사 영역)이 유리 기판 상의 절단 예정선(13)을 따라 이동할 수 있도록 되어 있다.The glass substrate 11 is transported in a direction indicated by an arrow A in Fig. 1, and a portion irradiated with a laser beam 12 (laser beam irradiation region) emitted from a laser oscillation device (not shown) So that it can move along the line 13.

그리고, 본 실시 형태의 유리 기판의 절단 방법에 있어서는, 레이저광의 조사 영역을 포함하는 유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역을, 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시키고 있다. 이 점에 대하여 이하에 설명한다.In the method of cutting the glass substrate according to the present embodiment, a part of the width direction orthogonal to the line along which the object is intended to be cut in the glass substrate including the region irradiated with laser light is curved in the width direction of the glass substrate. This point will be described below.

유리 기판의 판 두께가 얇고, 특히 유리 기판이 반송되고 있는 경우에, 유리 기판에 주름이 발생하는 경우가 있다. 유리 기판에 주름이 발생하면, 유리 기판의 표면이 요철을 포함하게 된다. 그리고, 표면에 요철을 포함하는 유리 기판에 대하여 레이저광을 조사할 때, 도 2a에 도시한 바와 같이 반송 롤러(21) 상에서 반송되고 있는 유리 기판(11)의 볼록부(22)에 레이저광을 조사하는 경우, 레이저 발진 장치(23)와 유리 기판(11)의 한쪽 표면 사이는 거리 D1이 된다. 이에 비해, 도 2b에 도시한 바와 같이 반송 롤러(21) 상에서 반송되고 있는 유리 기판(11)의 오목부(24)에 레이저광을 조사하는 경우, 레이저 발진 장치(23)의 위치는 변화하지 않으므로, 레이저 발진 장치(23)와 유리 기판(11)의 한쪽 표면 사이는 거리 D1보다도 길어져, 거리 D2가 된다. 이와 같이, 유리 기판 표면의 요철 때문에, 레이저 발진 장치와 유리 기판의 한쪽 표면 사이의 거리가 변화하여, 레이저광에 의해 적절하게 유리 기판을 가열할 수 없는 경우가 있었다.The thickness of the glass substrate is thin, and in particular, when the glass substrate is being conveyed, wrinkles may occur on the glass substrate. When wrinkles are generated on the glass substrate, the surface of the glass substrate includes irregularities. When irradiating the glass substrate including the concavo-convex surface with laser light, laser light is irradiated onto the convex portion 22 of the glass substrate 11, which is being conveyed on the conveying roller 21 as shown in Fig. 2A The distance between one surface of the laser oscillator 23 and one surface of the glass substrate 11 becomes a distance D1. 2B, when the laser beam is irradiated to the concave portion 24 of the glass substrate 11 being conveyed on the conveying roller 21, the position of the laser oscillator 23 does not change , The distance between one surface of the laser oscillator 23 and one surface of the glass substrate 11 becomes longer than the distance D1 and becomes the distance D2. As described above, the distance between one surface of the laser oscillator and one surface of the glass substrate changes due to the unevenness of the surface of the glass substrate, so that the glass substrate can not be appropriately heated by the laser light.

이에 비해, 레이저광의 조사 영역을 포함하는 유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역을 만곡시킴으로써, 적어도 유리 기판의 만곡된 부분에 대하여 유리 기판에 주름이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 이로 인해, 레이저광의 조사 영역에서, 유리 기판(11)의 한쪽 표면과 레이저광의 광원인 레이저 발진 장치 사이의 거리를 안정시켜서, 유리 기판의 절단 예정선을 따라 적절하게 가열을 행하는 것이 가능해진다. 그리고, 유리 기판을 고정밀도로 절단 가공할 수 있어, 균일한 절단면으로 할 수 있다.In contrast, by bending a part of the width direction perpendicular to the planned line of the glass substrate including the irradiation area of laser light, it is possible to suppress at least the occurrence of wrinkles on the glass substrate with respect to the curved part of the glass substrate have. This makes it possible to stabilize the distance between one surface of the glass substrate 11 and the laser oscillator, which is the light source of the laser light, in the irradiation area of the laser light, and appropriately perform heating along the line along which the glass substrate is to be cut. Further, the glass substrate can be cut with high accuracy, and a uniform cut surface can be obtained.

유리 기판(11)의 한쪽 표면에 레이저광(12)을 조사하는 레이저광의 조사 영역을 포함하는 유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역을, 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시키는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한, 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시킨다는 것은, 반송 방향에 수직인 유리 기판의 단면을 상방 또는 하방으로 만곡시키는 것이라고도 할 수 있다.A part of the width direction orthogonal to the planned line of the glass substrate including the area irradiated with the laser beam for irradiating the laser beam 12 on one surface of the glass substrate 11 is curved in the width direction of the glass substrate The method is not particularly limited. The curving of the glass substrate in the width direction can be also referred to as curving the end face of the glass substrate perpendicular to the carrying direction upward or downward.

여기서, 상기 유리 기판의 일부 영역을 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시키는 방법의 구성예에 대해서, 도 3 내지 도 6 및 도 14를 사용하여 설명한다. 도 3은 지지 부재(33)를 구비한 반송 롤러(32)의 구성예를 나타내고 있다. 도 4, 도 5는, 도 3에 도시한 지지 부재(33)를 구비한 반송 롤러(32)를 유리 기판의 반송 경로 상에 배치한 구성예를, 레이저광을 조사하는 측(한쪽 표면측)의 유리 기판 상면으로부터 본 구성을 모식적으로 도시하고 있다.Here, a structural example of a method of bending a portion of the glass substrate in the width direction of the glass substrate will be described with reference to Figs. 3 to 6 and Fig. 14. Fig. 3 shows a configuration example of the conveying roller 32 provided with the support member 33. As shown in Fig. Fig. 4 and Fig. 5 show an example in which the conveying roller 32 having the support member 33 shown in Fig. 3 is arranged on the conveying path of the glass substrate, Of the present invention is schematically shown from the upper surface of the glass substrate.

유리 기판의 일부 영역을 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시키는 방법으로서, 레이저광의 조사 영역을 포함하는 유리 기판의 폭 방향의 일부의 영역이 유리 기판의 다른 부분의 영역으로부터 돌출되도록, 지지 부재에 의해 유리 기판의 다른 쪽 표면측으로부터 유리 기판을 지지하는 방법을 들 수 있다.There is provided a method for curving a part of a region of a glass substrate in a width direction of the glass substrate so that a part of the region in the width direction of the glass substrate including the region irradiated with the laser beam protrudes from the region of another portion of the glass substrate, And a method of supporting the glass substrate from the other surface side of the substrate.

도 3에 도시한 바와 같이, 반송 롤러(32)의 폭 방향의 일부에 지지 부재(33)를 배치하면, 그 지지 부재(33)에 의해, 유리 기판의 일부 영역(31)의 표면이, 유리 기판의 다른 부분의 영역(34)보다도 높아지도록, 유리 기판의 하면측(다른 쪽 면측)으로부터 지지할 수 있다.3, when the supporting member 33 is disposed in a part of the conveying roller 32 in the width direction, the surface of the partial region 31 of the glass substrate is held by the supporting member 33, (The other surface side) of the glass substrate so as to be higher than the area 34 of the other portion of the substrate.

그리고, 도 4에 도시한 바와 같이, 도면 중 블록 화살표 A로 나타낸 방향으로 반송되고 있는 유리 기판의 반송 경로 상에 배치된 복수의 반송 롤러(32) 중, 적어도 일부의 반송 롤러(32)를 상기와 같이 지지 부재(33)를 구비한 반송 롤러(32)로 할 수 있다. 반송 롤러를 이렇게 구성함으로써, 도 4 중의 영역(41)으로 나타낸 범위에서 유리 기판의 폭 방향의 일부의 영역을, 만곡시킬 수 있다. 즉, 반송 방향에 수직인 유리 기판의 단면을 상방으로 만곡시킬 수 있다. 또한, 이때, 레이저광(12)의 조사 영역이 적어도, 상기 영역(41) 내에 있도록 상기 지지 부재(33)를 구비한 반송 롤러를 배치하는 장소를 선택할 수 있다.4, at least a part of the conveying rollers 32 of the plurality of conveying rollers 32 disposed on the conveying path of the glass substrate conveyed in the direction indicated by the block arrow A The conveying roller 32 having the support member 33 as shown in Fig. By constituting the conveying roller in this way, a part of the width direction of the glass substrate in the range indicated by the area 41 in Fig. 4 can be curved. That is, the end face of the glass substrate perpendicular to the carrying direction can be bent upward. At this time, it is possible to select a place where the conveying rollers provided with the support member 33 are arranged such that the irradiation area of the laser beam 12 is at least in the region 41. [

도 4에 있어서는, 반송 롤러(32)의 폭 방향의 한쪽 단부측에만 지지 부재(33)를 설치한 예를 나타내고 있지만, 이러한 형태에 한정되는 것은 아니다. 유리 기판의 절단 예정선(13)의 수에 따라, 유리 기판의 폭 방향 중 복수의 개소에 지지 부재(33)를 설치할 수 있다. 예를 들어 유리 기판의 폭 방향의 양단부를 절단하는 경우에는, 반송 롤러(32)의 폭 방향의 다른 쪽 단부측에 대해서도 지지 부재(33)를 설치할 수 있다.4 shows an example in which the supporting member 33 is provided only on one end side in the width direction of the conveying roller 32, but the present invention is not limited to this. The support members 33 can be provided at a plurality of locations in the width direction of the glass substrate in accordance with the number of the lines 13 to be cut of the glass substrate. For example, in the case of cutting both ends in the width direction of the glass substrate, the supporting member 33 can be provided also on the other end side in the width direction of the conveying roller 32. [

또한, 반송 롤러(32)에 형성하는 지지 부재(33)의 구성에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니다. 도 4에 도시한 바와 같이, 반송 롤러(32)마다 지지 부재(33)를 형성하는 경우, 예를 들어 지지 부재(33)로서 반송 롤러(32)에 O링을 배치하는 등에 의해, 반송 롤러(32) 표면의 폭 방향의 일부의 영역에 대하여 환상의 볼록부를 형성할 수 있다. 또한, 반송 롤러(32)마다 설치하는 것이 아니고, 도 5에 도시하는 바와 같이 복수의 반송 롤러 간에 감아 걸기된 테이프형 가이드 부재, 즉, 벨트에 의해 지지 부재(33)를 구성할 수도 있다. 이 경우에도, 도 5 중 영역(41)으로 나타낸 범위에서 유리 기판(11)의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역을 만곡시킬 수 있다. 즉, 반송 방향에 수직인 유리 기판의 단면을 상방으로 만곡시킬 수 있다.The configuration of the support member 33 formed on the conveying roller 32 is not particularly limited. 4, when the support member 33 is formed for each of the conveying rollers 32, for example, by placing an O-ring on the conveying roller 32 as the support member 33, An annular convex portion can be formed with respect to a part of the surface in the width direction. 5, the support member 33 may be constituted by a tape-like guide member, that is, a belt, which is wound around a plurality of conveying rollers, as shown in Fig. In this case also, it is possible to bend a part of the area in the width direction perpendicular to the line along which the glass substrate 11 is to be cut in the range shown by the area 41 in Fig. That is, the end face of the glass substrate perpendicular to the carrying direction can be bent upward.

지지 부재는, 상기와 같이 그 구성은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 도 5에 도시하는 바와 같이 복수의 반송 롤러 간에 감아 걸기된 테이프형 가이드 부재에 의해 지지 부재를 구성하는 것이 바람직하다. 지지 부재를 반송 롤러 간에 감아 걸기된 테이프형 가이드 부재에 의해 구성한 경우, 반송 롤러 간에 있어서도 그 지지 부재에 의해 유리 기판을 다른 쪽 면측에서 지지할 수 있어, 유리 기판의 만곡된 부분의 형상을 균일하게 유지하여, 주름의 발생을 보다 억제할 수 있기 때문이다.As described above, the supporting member is not particularly limited in its constitution, but it is preferable that the supporting member is constituted by a tape-shaped guide member which is wound around a plurality of conveying rollers as shown in Fig. When the support member is constituted by the tape-shaped guide member which is wound around the conveying rollers, even between the conveying rollers, the glass substrate can be supported by the support member on the other surface side, and the shape of the curved portion of the glass substrate can be uniformly So that occurrence of wrinkles can be further suppressed.

도 3에 도시한 지지 부재(33)의 높이 H에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니며, 절단하는 유리 기판의 판 두께 등에 따라서 임의로 선택할 수 있다.The height H of the support member 33 shown in Fig. 3 is not particularly limited and can be arbitrarily selected depending on the thickness of the glass substrate to be cut.

또한, 지지 부재(33)의 유리 기판과 접하는 면의 형상에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니며, 도 3에 도시한 바와 같이, 평탄한 형상이어도 되고, 또한, 반송 롤러의 폭 방향으로 만곡된 형상이어도 된다.The shape of the surface of the support member 33 in contact with the glass substrate is not particularly limited, and may be a flat shape as shown in Fig. 3, or a curved shape in the width direction of the conveying roller.

유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역을 만곡시키는 다른 방법으로서, 예를 들어 도 6에 도시한 바와 같이, 레이저광의 조사 영역 주변의 일부 반송 롤러(32)에 있어서, 다른 부분보다도 직경이 가는 부분(61)을 갖는 반송 롤러(32)로 구성하는 방법을 들 수 있다.As another method for curving a part of the width direction orthogonal to the line along which the glass substrate is intended to be cut, for example, as shown in Fig. 6, in some conveying rollers 32 around the area irradiated with laser light, And a conveying roller 32 having a portion 61 whose diameter is smaller than that of the portion.

이렇게 반송 롤러(32)에, 다른 부분보다도 직경이 가는 부분(61)을 설치함으로써, 반송 롤러(32)의 표면에 오목부(concave)가 형성되게 된다. 이로 인해, 그 오목부에서 유리 기판이 휘어서, 도 6에 도시한 바와 같이 다른 부분보다도 직경이 가는 부분(61)과 그 다른 부분과의 경계선 근방에서 유리 기판(11)을 만곡시킬 수도 있다. 즉, 반송 방향에 수직인 유리 기판의 단면을 하방으로 만곡시킬 수 있다.A concave portion is formed on the surface of the conveying roller 32 by providing the conveying roller 32 with a portion 61 whose diameter is smaller than that of the other portion. As a result, the glass substrate may bend in the concave portion, and the glass substrate 11 may be bent in the vicinity of the boundary between the portion 61 whose diameter is smaller than that of the other portion and the other portion as shown in Fig. That is, the end face of the glass substrate perpendicular to the carrying direction can be bent downward.

반송 롤러의 형상에 의존하지 않고, 유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역을 만곡시키는 방법으로서, 예를 들어 도 14에 도시한 바와 같이, 반송 롤러 또는 테이블 등의 보유 지지 부재(40)에 의해 보유 지지되어 있는 유리 기판(11)의 상기 일부의 영역을 보유 지지 부재(40)로부터 비어져 나오게 하여, 상기 일부의 영역을 자중에 의해 휘게 하여 만곡시키는 방법을 들 수 있다. 또한, 보유 지지 부재(40)가 테이블일 때는, 유리 기판(11) 및 레이저 발진 장치 중 적어도 한쪽을 이동시키고, 유리 기판(11)을 절단 가공한다.As a method of bending a part of the width direction orthogonal to the line along which the object is intended to be cut on the glass substrate without depending on the shape of the conveying roller, for example, as shown in Fig. 14, The part of the glass substrate 11 held by the member 40 is released from the holding member 40 and the area of the part is curved by bending it with its own weight . When the holding member 40 is a table, at least one of the glass substrate 11 and the laser oscillator is moved to cut the glass substrate 11.

이상과 같이 레이저광(12)의 조사 영역을 포함하는 상기 유리 기판의 폭 방향의 일부의 영역을 만곡시켰을 때, 레이저광(12)의 조사 영역은, 유리 기판의 만곡된 부분 중, 경사면 부분에 배치되어 있는 것이 바람직하다. 이것은, 도 3, 도 6 및 도 14에 도시한 바와 같이 만곡된 유리 기판의 경사면 부분에 있어서는, 유리 기판을 다른 쪽 표면(하면)측에서 지지하는 반송 롤러(32)나 지지 부재(33) 또는 보유 지지 부재(40)와, 유리 기판(11)의 사이에 간극을 발생시키게 된다. 이로 인해, 레이저광을 조사했을 때에, 반송 롤러(32)나, 지지 부재(33) 등이 가열되는 것을 억제할 수 있어, 반송 롤러(32) 등의 손상을 억제할 수 있기 때문이다.As described above, when a part of the area in the width direction of the glass substrate including the irradiated area of the laser light 12 is curved, the irradiated area of the laser light 12 is shifted from the curved part of the glass substrate to the inclined surface part Or the like. This is because, in the inclined surface portion of the curved glass substrate as shown in Figs. 3, 6 and 14, the conveying roller 32 and the supporting member 33 for supporting the glass substrate on the other surface (lower surface) The gap between the holding member 40 and the glass substrate 11 is generated. This is because it is possible to suppress heating of the conveying roller 32, the support member 33, and the like when the laser beam is irradiated, and damage to the conveying roller 32 and the like can be suppressed.

레이저광(12)의 유리 기판에 대한 입사 각도는 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어 도 3, 도 6, 도 14의 도면 중에 도시한 바와 같이, 레이저광(12)은 유리 기판의 만곡되지 않은 영역, 즉 예를 들어 도 3에 있어서의 유리 기판의 다른 부분의 영역(34)에 있어서의 유리 기판 표면과 대략 수직으로 되도록 조사할 수 있다. 또한, 레이저광(12)의 조사 영역에서의 유리 기판의 경사각에 따라, 레이저광(12)을 조사하는 각도를 조정해도 된다. 즉, 레이저광의 조사 영역에서 유리 기판(11)의 표면과 레이저광(12)이 대략 수직으로 되도록 레이저광(12)을 유리 기판(11)에 조사해도 된다.The incident angle of the laser beam 12 to the glass substrate is not particularly limited. 3, 6 and 14, the laser beam 12 is incident on the unbent area of the glass substrate, that is, the area of another part of the glass substrate in FIG. 3 (for example, 34 so as to be substantially perpendicular to the surface of the glass substrate. The angle at which the laser light 12 is irradiated may be adjusted in accordance with the inclination angle of the glass substrate in the irradiation area of the laser light 12. [ That is, the laser beam 12 may be irradiated on the glass substrate 11 so that the surface of the glass substrate 11 and the laser beam 12 are substantially perpendicular to each other in the irradiation region of the laser beam.

또한, 도 3의 경우, 유리 기판이 포물선 형상으로 만곡되어 있기 때문에, 그 만곡된 부분 중 경사면이 도면 중 우측과 도면 중 좌측에 발생한다. 이로 인해, 화살표(12')로 나타낸 바와 같이 도면 중 좌측의 경사면에 레이저광을 조사해도 된다.In the case of Fig. 3, since the glass substrate is curved in a parabolic shape, the inclined surface of the curved portion occurs on the right side of the figure and on the left side of the figure. As a result, as shown by the arrow 12 ', laser light may be irradiated on the sloped surface on the left side in the figure.

단, 유리 기판의 만곡시킨 부분이 복수의 경사면을 갖는 경우, 지지 부재(33)는 유리 기판의 다른 부분의 영역으로부터 돌출된, 유리 기판의 폭 방향의 일부의 영역 중, 유리 기판의 폭 방향의 단부측의 경사면에 레이저광의 조사 영역이 배치되도록 유리 기판을 지지하는 것이 바람직하다. 즉, 레이저광의 조사 영역은, 유리 기판의 폭 방향의 단부측의 경사면에 있는 것이 바람직하다.However, in the case where the curved portion of the glass substrate has a plurality of inclined surfaces, the support member 33 is provided on a portion of the glass substrate in the width direction, which protrudes from the region of another portion of the glass substrate, It is preferable that the glass substrate be supported so that the irradiation region of the laser beam is disposed on the inclined surface on the end side. That is, it is preferable that the irradiation area of the laser beam is on an inclined surface on the end side in the width direction of the glass substrate.

상술한 바와 같이, 적어도 레이저광의 조사 영역을 포함하는 유리 기판의 폭 방향의 일부의 영역을 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시키고 있으면 되고, 유리 기판의 길이 방향에 대해서는 유리 기판을 만곡시키는 범위는 특별히 한정되는 것은 아니다. 즉, 유리 기판의 길이 방향 중 레이저광의 조사 영역의 범위에 대해서만, 유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역을 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시키고 있어도 된다. 또한, 여기에서 말하는 유리 기판의 길이 방향이란 유리 기판의 반송 방향과 평행한 방향을 의미하고 있다.As described above, at least a region in the width direction of the glass substrate including at least the region irradiated with the laser beam may be curved in the width direction of the glass substrate, and the range of curving the glass substrate with respect to the length direction of the glass substrate is particularly limited It is not. That is, only a part of the width direction orthogonal to the line along which the glass substrate is intended to be cut may be curved in the width direction of the glass substrate only for the range of the laser light irradiation area in the longitudinal direction of the glass substrate. Here, the longitudinal direction of the glass substrate means a direction parallel to the transport direction of the glass substrate.

단, 유리 기판의 레이저광의 조사 영역으로부터, 유리 기판의 절단 예정선을 따라 소정 거리 이격한 부분까지의 범위에 걸쳐서, 유리 기판의 절단 예정선을 포함하는 유리 기판의 폭 방향의 일부의 영역을 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시키는 것이 바람직하다.However, a part of the width direction of the glass substrate including the line along which the glass substrate is intended to be cut, from the area irradiated with laser light of the glass substrate to the area spaced apart from the glass substrate by a predetermined distance along the line along which the glass substrate is to be cut, It is preferable to bend in the width direction of the substrate.

상기한 바와 같이 적어도 레이저광의 조사 영역을 포함하는 유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역에 대해서, 유리 기판을 만곡시키고 있으면, 만곡시키고 있지 않은 경우와 비교하여 레이저광의 조사 영역에서 주름의 발생을 억제할 수 있다. 그러나, 예를 들어 유리 기판을 반송하고 있는 경우에, 레이저광의 조사 영역의 직전에 유리 기판을 상기와 같이 만곡시키려고 하면 주름의 발생의 억제의 정도가 충분하지 않은 경우가 있다. 이로 인해, 레이저광의 조사 영역보다도 예를 들어 유리 기판의 반송 방향의 상류측의 소정의 범위에 걸쳐서, 유리 기판의 절단 예정선을 포함하는 유리 기판의 폭 방향의 일부의 영역에 대하여 유리 기판의 절단 예정선이 경사면 상에 배치되도록 유리 기판을 만곡시키는 것이 바람직하다.As described above, when the glass substrate is curved with respect to a part of the width direction orthogonal to the line along which the object is intended to be cut in the glass substrate including at least the laser light irradiation area, The occurrence of wrinkles can be suppressed. However, for example, in the case of transporting a glass substrate, when the glass substrate is bent as described above immediately before the region irradiated with the laser beam, the degree of suppression of the occurrence of wrinkles may not be sufficient enough. This makes it possible to cut the glass substrate with respect to a part of the width direction of the glass substrate including the line along which the glass substrate is to be cut, for example, over a predetermined range on the upstream side in the transport direction of the glass substrate, It is preferable to bend the glass substrate so that the predetermined line is disposed on the inclined plane.

예를 들어, 도 4에 도시한 바와 같이 지지 부재(33)를 구비한 반송 롤러(32)를 배치하는 경우, 유리 기판의 반송 방향의 가장 상류측에 배치된 그 지지 부재(33)를 구비한 반송 롤러(32)의 정점 위치보다도 하류측에 레이저광(12)의 조사 영역이 오도록 구성하는 것이 바람직하다. 즉, 도 4의 경우, X-X'선보다도 유리 기판의 반송 방향 하류측에 레이저광의 조사 영역이 배치되도록 구성하는 것이 바람직하다. 또한, 특히, 레이저광을 조사할 때에 반송 롤러(32) 등이 손상되는 것을 방지하기 위해서, 레이저광(12)의 조사 영역은 반송 롤러(32) 사이에 배치하는 것이 바람직하다.For example, as shown in Fig. 4, in the case of disposing the conveying roller 32 having the support member 33, the support member 33 having the support member 33 disposed at the most upstream side in the conveying direction of the glass substrate It is preferable that the irradiation area of the laser beam 12 is located on the downstream side of the vertex position of the conveying roller 32. In other words, in the case of FIG. 4, it is preferable to arrange such that the irradiation region of the laser beam is arranged on the downstream side in the transport direction of the glass substrate than the X-X 'line. In particular, in order to prevent the conveying roller 32 and the like from being damaged when the laser beam is irradiated, it is preferable to arrange the irradiation area of the laser beam 12 between the conveying rollers 32. [

이상과 같이 하여, 본 실시 형태의 유리 기판의 절단 방법에 있어서는 레이저광의 조사 영역을 포함하는 유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역을, 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시키고 있다. 그리고, 레이저광(12)이 조사되고 있는 부분(레이저광의 조사 영역)에서는 유리 기판의 한쪽 표면부터 다른 쪽 표면까지의 레이저광 조사부가 가열되고 있다(가열 공정). 또한, 레이저광이 이미 조사된 영역(14)은 유리 기판(11)이 반송됨으로써, 레이저광의 조사 영역으로부터 이격되고, 레이저광 조사 후의 레이저광 조사부(레이저광이 조사되어서 유리가 기화한 부분)(15)의 주변부가 냉각되게 된다(냉각 공정). 이 점에 대해서, 도 1, 도 7, 도 8을 사용하여 이하에 설명한다. 또한, 도 1, 도 7, 도 8에 있어서는 기재의 편의상, 레이저광의 조사 영역의 주변에 대해서도 평탄한 형상으로서 기재하고 있다. 또한, 유리 기판의 절단 예정선(13)을 도면 중에 나타내고 있지만, 실제의 유리 기판 상에 이러한 선이 마련되어 있는 것은 아니다.As described above, in the glass substrate cutting method of this embodiment, a part of the width direction orthogonal to the line along which the object is intended to be cut of the glass substrate including the area irradiated with laser light is curved in the width direction of the glass substrate . In the portion irradiated with the laser light 12 (laser light irradiation region), the laser light irradiation portion from one surface to the other surface of the glass substrate is heated (heating process). The region 14 already irradiated with the laser beam is separated from the region irradiated with the laser beam by being conveyed by the glass substrate 11 and is irradiated with the laser beam irradiated portion irradiated with the laser beam 15 are cooled (cooling process). This point will be described below with reference to Figs. 1, 7, and 8. Fig. 1, 7, and 8, the periphery of the irradiation area of the laser beam is also described as a flat shape for convenience of the substrate. Although the lines 13 to be cut of the glass substrate are shown in the figure, these lines are not provided on an actual glass substrate.

본 실시 형태의 유리 기판의 절단 방법을 적용할 수 있는 유리 기판의 조성은 특별히 한정되는 것은 아니며, 각종 유리 기판에 적용할 수 있다. 예를 들어, 무알칼리 붕규산 유리, 붕규산 유리, 소다석회 유리, 고실리카 유리, 기타의 산화규소를 주된 성분으로 하는 산화물계 유리 등을 들 수 있다.The composition of the glass substrate to which the method of cutting the glass substrate of the present embodiment can be applied is not particularly limited and can be applied to various glass substrates. Examples thereof include alkali-free borosilicate glass, borosilicate glass, soda lime glass, high silica glass, and other oxide-based glass containing silicon oxide as a main component.

또한, 유리 기판의 두께에 대해서도 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 사용하는 레이저 발진 장치의 출력 등에 따라서 임의로 선택할 수 있다.The thickness of the glass substrate is not particularly limited, and can be arbitrarily selected depending on, for example, the output of the laser oscillation apparatus to be used.

단, 유리 기판의 판 두께가 얇은 경우에 특히 유리 기판에 주름이 발생하기 쉬워진다는 것. 또한, 본 실시 형태의 유리 기판의 절단 방법에서는, 레이저광의 조사 영역에서, 유리 기판의 한쪽 표면부터 다른 쪽 표면까지의 레이저광 조사부에 대해서, 즉, 그 판 두께 방향 전체에 걸쳐서, 유리가 기화하는 온도 이상으로 가열한다는 것. 이상의 2가지 이유로부터, 유리 기판의 판 두께가 얇은 경우에 특히 효과를 발휘한다. 이로 인해, 예를 들어, 유리 기판의 판 두께는 3.0㎜ 이하인 것이 바람직하고, 1.0㎜ 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.5㎜ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 0.2㎜ 이하인 것 특히 바람직하다. 하한값에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니다.However, when the thickness of the glass substrate is small, wrinkles tend to occur particularly on the glass substrate. In the method of cutting the glass substrate according to the present embodiment, the glass is vaporized in the region irradiated with the laser beam, with respect to the laser beam irradiating portion from one surface to the other surface of the glass substrate, Heating above the temperature. From the above two reasons, it is particularly effective when the thickness of the glass substrate is thin. For this reason, for example, the thickness of the glass substrate is preferably 3.0 mm or less, more preferably 1.0 mm or less, more preferably 0.5 mm or less, particularly preferably 0.2 mm or less. The lower limit value is not particularly limited.

또한, 도 1에 도시한 유리 기판의 형상은 직사각형이지만, 유리 기판의 형상도 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 플로트법이나 다운드로법 등의 유리 기판 성형 장치에 의해 성형된 띠형의 유리 기판이어도 된다.In addition, although the shape of the glass substrate shown in Fig. 1 is rectangular, the shape of the glass substrate is not particularly limited. For example, a strip-shaped glass substrate molded by a glass substrate forming apparatus such as a float method or a down-draw method may be used.

이어서, 레이저광의 조사 영역(유리 기판에 레이저광이 조사되고 있는 부분)에서 행하여지는 가열 공정에 대하여 설명한다. 도 7은, 도 1에 있어서의 B-B'선에서의 단면 중, 레이저광(12)의 조사 영역 주변을 확대하여 도시한 것이다.Next, a heating step performed in an irradiation area of a laser beam (a part irradiated with a laser beam on the glass substrate) will be described. FIG. 7 is an enlarged view of the vicinity of the irradiation area of the laser beam 12 in the section taken along line B-B 'in FIG.

본 발명의 유리 기판의 절단 방법에 있어서는, 상기한 바와 같이 레이저광(12)을 유리 기판에 조사함으로써, 레이저광의 조사 영역에서 가열 공정이 행하여진다.In the cutting method of the glass substrate of the present invention, the heating process is performed in the irradiation region of the laser beam by irradiating the laser beam 12 onto the glass substrate as described above.

유리 기판의 레이저광의 조사 영역에 대해서, 유리 기판의 한쪽 표면으로부터 유리 기판의 다른 쪽 표면까지의 레이저광 조사부(71)가 유리가 기화하는 온도 이상으로 가열된다. 여기서, 유리 기판의 한쪽 표면이란 레이저광이 입사하는 측의 면, 다른 쪽 표면이란 그 대향면을 의미하고 있다. 이로 인해, 레이저광 조사부(71)에 대해서는, 유리가 기화되어서 단시간에 레이저광의 조사 방향(유리 기판의 두께 방향)을 따라 관통 구멍이 형성된다.The laser beam irradiating portion 71 from one surface of the glass substrate to the other surface of the glass substrate is heated to a temperature above the vaporization temperature of the glass with respect to the irradiation region of the laser beam of the glass substrate. Here, one surface of the glass substrate refers to the side on which the laser beam is incident, and the other surface means the opposite surface. As a result, with respect to the laser beam irradiating portion 71, the glass is vaporized and a through hole is formed in a short time in the irradiation direction of the laser beam (the thickness direction of the glass substrate).

그리고, 레이저광 조사부(71)의 주변부(72)에 대해서도 레이저광 조사부로부터의 전열에 의해 가열되게 된다.The peripheral portion 72 of the laser light irradiating portion 71 is also heated by the heat from the laser light irradiating portion.

이와 같이, 가열 공정이나 그 직후에 있어서, 즉, 레이저광 조사 시(유리 기화 시)나, 레이저광 조사 직후에 있어서, 상기 레이저광 조사부에 어시스트 가스를 분사하지 않고(어시스트 가스를 사용하지 않고), 단시간에 레이저광 조사부에 대하여 유리를 기화할 수 있다. 이로 인해, 유리 기판의 위치 어긋남 등을 발생시키는 일 없이 고정밀도로 가공할 수 있어, 유리 기판에의 균열의 발생을 억제할 수 있다.As described above, without supplying the assist gas to the laser beam irradiating portion (without using the assist gas) at the time of the heating process or immediately after that, that is, at the time of laser light irradiation (during the glass vaporization) , The glass can be vaporized with respect to the laser beam irradiating section in a short time. Thus, the glass substrate can be processed with high accuracy without causing positional deviation or the like, and the occurrence of cracks in the glass substrate can be suppressed.

가열 공정에서의 레이저광의 조사 조건으로서는 한정되는 것은 아니며, 유리 기판의 레이저광 조사 영역에서, 유리 기판의 한쪽 표면(레이저광이 입사하는 측의 면)측부터 다른 쪽 표면측까지의 레이저광 조사부를 유리의 기화 온도 이상으로 가열할 수 있도록 선택하면 된다.The irradiation condition of the laser beam in the heating process is not limited. The irradiation condition of the laser beam from the side of the one surface of the glass substrate (the side from which the laser beam enters) to the other side of the surface of the glass substrate It may be selected so as to be heated to a temperature higher than the vaporization temperature of the glass.

구체적으로는, 예를 들어, 피절단물인 유리 기판의 판 두께, 유리 조성, 유리 기판의 반송 속도(레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도) 등으로부터, 레이저광 조사부에 대하여 상기와 같이 가열할 수 있도록 레이저광의 에너지 밀도 등을 선택하면 된다. 예를 들어 미리 예비 시험을 행함으로써 산출할 수 있다.Concretely, for the laser light irradiating part, for example, from the plate thickness of the glass substrate to be cut, the glass composition, the transporting speed of the glass substrate (the relative moving speed of the irradiated area of the laser light to the glass substrate) The energy density of the laser light or the like may be selected so as to be heated. For example, by performing a preliminary test in advance.

특히, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도를 v(m/시간), 상기 레이저광의 에너지 밀도를 E(W/㎟), 유리 기판의 판 두께를 t(㎜)라 한 경우에,Especially when the relative moving speed of the laser beam to the glass substrate is v (m / hour), the energy density of the laser beam is E (W / mm 2) and the thickness of the glass substrate is t (mm)

E≥50×t×vE? 50 × t × v

의 관계를 만족하도록 조사하는 레이저광의 에너지 밀도를 조정하는 것이 바람직하다.It is preferable to adjust the energy density of the laser light to be irradiated so as to satisfy the relationship

이러한 규정을 충족하는 상태에서 가열 공정을 포함하는 유리 기판의 절단을 행함으로써, 레이저광의 조사 영역에서, 유리 기판의 한쪽 표면부터 유리 기판의 다른 쪽 표면까지의 레이저광 조사부를 유리가 기화하는 온도 이상으로 확실하게 가열할 수 있다.By performing cutting of the glass substrate including the heating process while satisfying these requirements, the laser light irradiating portion from one surface of the glass substrate to the other surface of the glass substrate in the irradiation region of the laser light is heated to a temperature As shown in Fig.

유리 기판에 조사하는 레이저광의 스폿 직경(유리 기판의 한쪽 표면에 있어서의 레이저광의 빔 직경)에 대해서도 한정되는 것은 아니며, 요구되는 가공 정밀도 등에 따라 선택할 수 있다.But is not limited to the spot diameter of the laser beam irradiated on the glass substrate (the beam diameter of the laser beam on one surface of the glass substrate), and can be selected in accordance with the required processing accuracy or the like.

또한, 사용하는 레이저의 종류에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니며, 유리 기판에 발진한 레이저광을 조사함으로써, 그 조사한 부분에 대하여 유리 기판을 가열할 수 있는 것이면 된다. 구체적으로는 예를 들어 CO2 레이저, 엑시머 레이저, 구리 증착 레이저, YAG 레이저 등을 사용할 수 있다.The kind of the laser to be used is not particularly limited, and any laser may be used as long as it can heat the glass substrate with respect to the irradiated portion by irradiating laser light oscillated on the glass substrate. Specifically, for example, a CO 2 laser, an excimer laser, a copper deposition laser, a YAG laser, or the like can be used.

가열 공정에 있어서는, 상기와 같이 유리 기판에 레이저광을 조사함으로써, 레이저광 조사부에 대하여 유리를 기화시킨다. 이로 인해, 레이저광 조사부 및 그 주변에는 기화한 유리 성분(기체)이 발생하게 된다. 이러한 성분이, 레이저광의 광로 상에 배치된 레이저 발진 장치의 렌즈나 미러 등의 광학계의 표면에 석출, 부착되면, 유리 기판에 대하여 충분한 에너지의 레이저광을 조사할 수 없게 되는 경우나, 원하는 장소에 레이저광을 조사할 수 없게 되는 경우 등이 있어, 유리 기판의 가공 정밀도 등에 영향을 줄 우려가 있다. 이로 인해, 유리 기판에 레이저광을 조사함으로써, 기화한 유리 성분을 제거하는 것이 바람직하다. 즉, 가열 공정에 있어서, 기화한 상기 레이저광 조사부의 유리 성분을 제거하는 것이 바람직하다. 기화한 유리 성분을 제거하는 수단에 대해서는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 기화한 유리 성분을 흡인하는 기구나, 가스에 의해 기화한 유리 성분을 날려버리는 기구 등을 사용할 수 있다. 그 배치에 대해서도 사용하는 수단에 따라서 선택하면 되고, 가열 공정을 저해하지 않고, 기화한 유리 성분이 레이저광의 광로 상에 배치된 렌즈, 미러 등에 부착되기 전에 제거할 수 있도록 배치하면 된다. 예를 들어, 도 7에 있어서, (73)으로 나타낸 바와 같이, 레이저광이 조사되고 있는 부분의 근방에 배치하는 것이 생각된다.In the heating process, the glass substrate is vaporized with respect to the laser beam irradiating unit by irradiating the glass substrate with laser light as described above. As a result, a vaporized glass component (gas) is generated in the laser light irradiating portion and its periphery. When such a component is deposited and adhered to the surface of an optical system such as a lens or a mirror of a laser oscillator disposed on the optical path of the laser beam, the laser beam can not be irradiated to the glass substrate, There is a possibility that the laser beam can not be irradiated, and there is a possibility that the processing accuracy of the glass substrate is affected. Therefore, it is preferable to remove the vaporized glass component by irradiating the glass substrate with laser light. That is, in the heating step, it is preferable to remove the glass component of the vaporized laser light irradiating portion. The means for removing the vaporized glass component is not particularly limited and a mechanism for sucking the vaporized glass component and a mechanism for blowing off the glass component vaporized by the gas can be used. The arrangement may be selected in accordance with the means to be used, and the vaporized glass component may be disposed so as to be removed before adhered to a lens, a mirror, or the like disposed on the optical path of the laser beam without hindering the heating process. For example, as shown in Fig. 7, as shown by (73), it is considered to be disposed in the vicinity of the portion irradiated with laser light.

또한, 가스에 의해 기화한 유리 성분을 날려버리는 기구를 사용하는 경우, 사용하는 가스의 종류는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 유리 기판이 레이저광에 의해 가열되어 있는 부분의 주변에서 사용하는 점에서, 불연성 가스를 사용하는 것이 바람직하다. 구체적으로는 예를 들어 질소, 아르곤 등의 불활성 가스나, 공기 등을 사용할 수 있다. 또한, 이 경우, 유리 기판의 위치 변위를 방지하기 위해서, 유리 기판에 대하여 가스가 닿지 않도록 공급하는 것이 바람직하다.When a mechanism for blowing off a glass component vaporized by a gas is used, the type of the gas to be used is not particularly limited. However, from the viewpoint that the glass substrate is used in the vicinity of a portion heated by laser light, It is preferable to use gas. Specifically, for example, an inert gas such as nitrogen or argon, or air may be used. In this case, in order to prevent the positional displacement of the glass substrate, it is preferable to supply the glass substrate such that the gas does not touch the glass substrate.

이어서, 냉각 공정에 대하여 설명한다.Next, the cooling process will be described.

냉각 공정은, 레이저광이 조사된 후, 유리 기판이 반송됨으로써, 레이저광 조사 후의 레이저광 조사부(이미 레이저광이 조사된 부분)가 레이저광의 조사 영역으로부터 멀어져서, 레이저광 조사부의 주변부가 냉각되는 것이다.In the cooling step, after the laser beam is irradiated, the glass substrate is conveyed so that the laser beam irradiating portion (already irradiated with the laser beam) after the laser beam irradiation is away from the irradiated region of the laser beam and the peripheral portion of the laser beam irradiating portion is cooled will be.

냉각 공정에 있어서는, 도 7에 도시한 바와 같이, 레이저광 조사부(가열 공정에서 레이저광이 조사되어 기화한 부분)(71)의 주변부(72)가 냉각된다. 냉각될 때, 그 주변부(72)의 적어도 일부가 도 8에 도시한 바와 같이, 대략 필라멘트의 석출물(81, 82)로서 유리 기판 표면(유리 기판의 한쪽 표면 및/또는 다른 쪽 표면)에 석출되는 경우가 있다. 이것은, 유리는 열전도율이 낮기 때문에, 가열 공정 후, 냉각 공정에 있어서 그 주변부(72) 내에 온도 구배가 발생하기 때문에, 그 주변부(72) 내에서 발생한 응력에 의해 유리 기판 상에 주변부(72)의 적어도 일부가 배제되어 석출되는 것으로 추인된다. 또한, 도면 중에서는 석출물(81, 82)이 유리 기판의 상면(한쪽 표면)에 석출되고 있지만, 하면(다른 쪽 표면)측에 석출되는 경우도 있다. 또한, 냉각 공정에 있어서 석출물이 석출되는 장소는 냉각 조건 등에 따라 변화하기 때문에 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 상기 석출물(81, 82)은 레이저광(12)의 조사 영역보다도 유리 기판의 반송 방향의 하류측이며, 레이저광(12)의 조사 영역으로부터 벗어난 위치로부터 석출된다.In the cooling step, as shown in Fig. 7, the peripheral portion 72 of the laser light irradiating portion (the portion vaporized by laser light irradiation in the heating step) 71 is cooled. At least a part of the peripheral portion 72 is precipitated on the glass substrate surface (one surface and / or the other surface of the glass substrate) as the filament precipitates 81 and 82 as shown in Fig. 8 There is a case. This is because the glass has a low thermal conductivity and a temperature gradient is generated in the peripheral portion 72 in the cooling process after the heating process so that the stress generated in the peripheral portion 72 causes a temperature gradient of the peripheral portion 72 At least a part thereof is excluded and is reported to be precipitated. Although the precipitates 81 and 82 are deposited on the upper surface (one surface) of the glass substrate in the drawing, they may precipitate on the lower surface (the other surface). For example, the precipitates 81 and 82 are more likely to be scattered in the conveying direction of the glass substrate than the area irradiated with the laser beam 12, And is deposited from a position deviated from the irradiation area of the laser beam 12. [

이와 같이, 레이저광 조사부의 주변부(72)의 적어도 일부가 레이저광을 조사한 절단면으로부터 배제되기 때문에, 최종적으로 균일한 절단면을 얻는 것이 가능해진다.As described above, since at least a part of the peripheral portion 72 of the laser light irradiating portion is excluded from the cut surface irradiated with laser light, it is possible to finally obtain a uniform cut surface.

냉각 공정에 있어서 상기 석출물을 발생시키고, 균일한 절단면을 얻기 위해서는 레이저광 조사부의 주변부가 적절한 냉각 속도로 냉각되는 것이 바람직하다. 그 냉각 속도는 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도에 의해 변화시킬 수 있다. 이로 인해, 예비 실험 등을 행하여 냉각 공정에 있어서 상기 석출물이 발생하도록, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도를 선택하는 것이 바람직하다.In order to generate the precipitate in the cooling step and obtain a uniform cut surface, it is preferable that the peripheral portion of the laser light irradiated portion is cooled at an appropriate cooling rate. The cooling rate can be changed by the relative moving speed of the irradiation area of the laser beam with respect to the glass substrate. Therefore, it is preferable to select the relative moving speed of the laser beam irradiated region with respect to the glass substrate so as to generate the precipitates in the cooling step by carrying out a preliminary experiment or the like.

레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도는 상술한 바와 같이 예비 실험 등에 의해 선택할 수 있고, 특정되는 것은 아니지만 예를 들어 144(m/시간) 이상으로 할 수 있다.The relative moving speed of the irradiated region of the laser beam with respect to the glass substrate can be selected by a preliminary experiment or the like as described above and is not specified, but can be set to, for example, 144 m / hour or more.

냉각 공정에 있어서, 석출물(81, 82)이 발생하면, 석출물(81, 82)의 온도나 양자 간의 거리 등에 따라서는, 석출물(81)과 석출물(82)이 접착되는 경우가 있다. 또한 경우에 따라서는, 석출물(81)과 석출물(82)이 접착되면 레이저광 조사부(71)의 주변부(72)로부터 그 주변부(72)의 일부가 배출되기 어려워져, 유리 기판의 절단면이 균일한 절단면이 되지 않는 경우가 있다. 그러나, 본 실시 형태의 유리 기판의 절단 방법에 있어서는, 레이저광의 조사 영역을 포함하는 유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역을, 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시키고 있다. 이로 인해, 예를 들어 도 9에 도시한 바와 같이, 석출물(81, 82)의 온도가 특히 높은 레이저광 조사부(가열 공정에서 레이저광이 조사되어 기화한 부분)(71)의 주변에 있어서, 절단된 한쪽 측의 유리 기판(91)과, 다른 쪽 측 유리 기판(92)의 높이가 상이하다. 따라서, 레이저광 조사부(71) 주변에서, 석출물(81, 82)끼리가 접착하는 것을 억제하고, 그 결과, 보다 확실하게 절단면을 균일한 절단면으로 할 수 있다.When the precipitates 81 and 82 are generated in the cooling step, the precipitates 81 and the precipitates 82 may be adhered to each other depending on the temperature of the precipitates 81 and 82, the distance between them, and the like. In some cases, when the precipitate 81 and the precipitate 82 are adhered to each other, a part of the peripheral portion 72 of the laser light irradiating portion 71 is difficult to be discharged from the peripheral portion 72, The cut surface may not be formed. However, in the method for cutting a glass substrate according to the present embodiment, a part of the width direction orthogonal to the line along which the object is intended to be cut in the glass substrate including the region irradiated with laser light is curved in the width direction of the glass substrate. Thus, as shown in Fig. 9, for example, in the vicinity of the laser light irradiating portion (portion vaporized by laser light irradiation in the heating process) 71 in which the temperature of the precipitates 81 and 82 is particularly high, The height of the glass substrate 91 on one side and the height of the glass substrate 92 on the other side are different. Therefore, it is possible to suppress adhesion of the precipitates 81 and 82 to each other around the laser beam irradiating portion 71, and as a result, it is possible to more reliably make the cut surface uniform.

또한, 석출물(81)은 반송 롤러 간에서 석출되고, 또한 다른 쪽 측 유리 기판(92)의 상면측 또는 하면측에 석출된다. 도 9에 있어서는 도면의 기재의 편의상, 석출물(81)이 반송 롤러의 하단부측으로 돌아들어가 있는 것처럼 보이지만, 석출물(81)은 다른 쪽 측 유리 기판(92)의 하면측에 석출된 경우에도, 예를 들어 유리 기판(92)과 반송 롤러 간에 위치하고 반송 롤러의 거동을 저해하는 것은 아니다.The precipitate 81 is precipitated between the conveying rollers and is deposited on the upper surface side or the lower surface side of the glass substrate 92 on the other side. 9 shows that the precipitate 81 appears to be turned to the lower end side of the conveying roller for the sake of description of the figure but even if the precipitate 81 is deposited on the lower surface side of the other glass substrate 92, It is located between the glass substrate 92 and the conveying roller and does not hinder the behavior of the conveying roller.

냉각 공정에서 발생하는 석출물(81, 82)은, 냉각의 방해가 되는 경우도 있기 때문에, 레이저광 조사부의 주변부에 발생한 석출물을 제거하는 것이 바람직하다. 그 석출물을 제거하는 수단으로서는 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 가스에 의해 날려버리거나, 흡인 제거하거나, 브러시나 방해판 등에 의해 제거하는 등의 방법에 의해 간단히 제거할 수 있다.The precipitates 81 and 82 generated in the cooling process sometimes interfere with the cooling, so it is preferable to remove precipitates formed in the peripheral portion of the laser light irradiated portion. The means for removing the precipitate is not particularly limited and can be easily removed by, for example, blowing off with a gas, removing by suction, removing by a brush, an obstruction plate, or the like.

또한, 가스로 석출물을 날려버리는 경우에는, 유리 기판에 진동 등을 주어서, 유리 기판의 절단 정밀도에 영향을 주지 않도록 저압의 가스를 사용하는 것이 바람직하다.Further, when the precipitate is blown away by the gas, it is preferable to use a low-pressure gas so as to give a vibration to the glass substrate so as not to affect the cutting accuracy of the glass substrate.

냉각 공정은, 상기와 같이 레이저광 조사 후의 레이저광 조사부의 주변부(72)를 냉각하는 것이며, 그 냉각 온도에 대해서는 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 레이저광 조사부의 주변부는, 레이저광 조사부의 가열 후, 유리 전이 온도 이하까지 냉각하는 것이 바람직하다.The cooling step is to cool the peripheral portion 72 of the laser light irradiating portion after the laser light irradiation as described above, and the cooling temperature is not limited thereto. For example, it is preferable that the peripheral portion of the laser light irradiation portion is cooled to the glass transition temperature or lower after heating the laser light irradiation portion.

이때, 가열 공정 후, 주변 분위기의 온도에 의해 냉각하는 경우에는, 주변 온도는 적어도 유리 전이 온도 이하인 것이 바람직하고, 100℃ 이하인 것이 바람직하고, 40℃ 이하인 것이 특히 바람직하다. 또한, 여기에서 말하는 주변 온도란 적어도 냉각 공정을 행하고 있는 부분의 주변 온도인데, 절단을 행하고 있는 유리 기판 전체를 포함하는 주변의 온도인 것이 바람직하다.At this time, when cooling is carried out at a temperature of the surrounding atmosphere after the heating step, the ambient temperature is preferably at least the glass transition temperature, more preferably not more than 100 캜, and particularly preferably not more than 40 캜. The ambient temperature referred to herein is at least the ambient temperature of the part undergoing the cooling step, preferably the ambient temperature including the entire glass substrate being cut.

여기까지 설명한 본 실시 형태의 유리 기판의 절단 방법은 특히 유리 기판의 반송 방향을 따른 절단선에서 유리 기판을 절단할 때에 바람직하게 사용할 수 있다.The method of cutting a glass substrate of the present embodiment described so far can be preferably used particularly when cutting a glass substrate at a cutting line along the transport direction of the glass substrate.

그리고, 일반적으로 유리 기판을 제조할 때, 유리 기판을 원하는 사이즈로 하기 위하여 유리 기판의 폭 방향의 양단부를 유리 기판의 반송 방향을 따른 절단 선에서 절단하는데, 이때에 본 실시 형태의 유리 기판의 절단 방법을 바람직하게 사용할 수 있다. 이 경우, 유리 기판의 폭 방향의 양단부를 절단 후, 폭 방향의 중앙부만이 제품으로서 사용되기 때문에, 유리 기판의 폭 방향의 양단부 즉 귀부는 절단 후, 유리 기판의 반송 경로로부터 분리되는 것이 바람직하다.In general, when manufacturing a glass substrate, both ends in the width direction of the glass substrate are cut at a cutting line along the carrying direction of the glass substrate in order to obtain a desired size of the glass substrate. At this time, Method can be preferably used. In this case, since both ends in the width direction of the glass substrate are cut and only the center portion in the width direction is used as a product, both end portions in the width direction of the glass substrate, that is, the ear portions are preferably separated from the conveying path of the glass substrate after cutting .

구체적으로는 예를 들어, 가열 공정보다도 유리 기판의 반송 방향 하류측에, 귀 이격 수단을 설치하고, 귀 이격 수단에 의해, 절단된 유리 기판의 귀부를 유리 기판의 반송 방향으로부터 이반하는 방향으로 방향 변경시켜 분리할 수 있다.Specifically, for example, ear separation means is provided on the downstream side of the heating process in the conveying direction of the glass substrate, and the ear separating means separates the ear portion of the cut glass substrate from the conveying direction of the glass substrate Can be changed and separated.

귀 이격 수단의 구체적 구성은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 유리 기판의 귀부의 방향 변경의 지지점이 되는 반송 롤러와, 지지점이 되는 반송 롤러와 반대측에 있어서 유리 기판의 귀부에 접촉하여 반송 롤러와 함께 귀부를 누르는 귀부 안정 보유 지지 수단에 의해 구성할 수 있다.The ear separating means is not particularly limited. For example, the ear separating means may include a conveying roller serving as a supporting point for changing the direction of the ear portion of the glass substrate, a conveying roller contacting the ear portion of the glass substrate on the opposite side of the conveying roller, And the ear stable holding means for pressing the ear portion together.

분리된 유리 기판의 귀부는 반송 경로와는 다른 부반송 경로에 도입하고, 유리 기판의 중앙부와는 별도 회수할 수 있다.The ear portion of the separated glass substrate can be introduced into the sub-transport path different from the transport path and can be collected separately from the central portion of the glass substrate.

이상의 본 실시 형태의 유리 기판의 절단 방법의 설명에 있어서는, 반송 롤러(32) 상에서 수평 반송되고 있는 유리 기판을 예로 들어 본 실시 형태의 유리 기판의 절단 방법에 대하여 설명해 왔다. 그러나, 본 실시 형태의 유리 기판의 절단 방법은 수평 반송되고 있는 유리 기판의 절단에 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 다운드로법 등에 의해 성형되고, 수직 반송되고 있는 유리 기판에 대해서도 적용할 수 있다. 이 경우, 예를 들어 유리 기판의 한쪽 면으로부터 가압 부재에 의해 레이저광을 조사하는 레이저광의 조사 영역을 포함하는 유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역을, 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시킬 수 있다. 그리고, 상술한 바와 같이 가열 공정, 냉각 공정을 행함으로써 수직 반송되고 있는 유리 기판에 대해서도 마찬가지로 절단할 수 있다.In the above description of the cutting method of the glass substrate according to the present embodiment, the cutting method of the glass substrate of the present embodiment has been described taking the glass substrate being horizontally transported on the transporting roller 32 as an example. However, the cutting method of the glass substrate according to the present embodiment is not limited to the cutting of the glass substrate being horizontally transported, but can also be applied to a glass substrate formed by, for example, a down-draw method or the like and vertically transported. In this case, for example, a part of the width direction orthogonal to the line along which the object is intended to be cut, of the glass substrate including the irradiation area of the laser light for irradiating the laser light by the pressing member from one side of the glass substrate, Direction. As described above, the glass substrate that is vertically transported by performing the heating process and the cooling process can be similarly cut.

또한, 유리 기판을 수직 반송하고 있는 경우에도, 유리 기판의 폭 방향 양단부를 절단할 때에 본 실시 형태의 유리 기판의 절단 방법을 바람직하게 사용할 수 있다. 이 경우에도, 절단된 유리 기판의 폭 방향의 양단부는 유리 기판의 반송 경로로부터 분리되는 것이 바람직하다.Even when the glass substrate is vertically conveyed, the method of cutting the glass substrate of the present embodiment can be preferably used when cutting both ends in the width direction of the glass substrate. Even in this case, both end portions in the width direction of the cut glass substrate are preferably separated from the conveying path of the glass substrate.

이상으로 본 발명의 유리 기판의 절단 방법에 대하여 설명해 왔지만, 이러한 유리 기판의 절단 방법에 있어서는, 어시스트 가스를 유리 기판에 분사하는 것이 아니기 때문에, 유리 기판의 위치 변위를 억제하고, 유리 기판을 고정밀도로 절단 가공할 수 있다. 또한, 절단 시에 유리 기판에의 균열의 발생을 억제하여, 표면 특성이 균일한 절단면으로 할 수 있다.The method of cutting the glass substrate of the present invention has been described above. However, in the method of cutting the glass substrate, since the assist gas is not jetted onto the glass substrate, the positional displacement of the glass substrate is suppressed, It can be cut and processed. In addition, the occurrence of cracks in the glass substrate at the time of cutting can be suppressed, and a cut surface with uniform surface characteristics can be obtained.

이상에서 설명한 본 실시 형태의 유리 기판의 절단 방법을 유리 기판의 제조 공정에 적용하여, 그 유리 기판의 절단 방법을 사용한 유리 기판의 제조 방법으로 할 수 있다.The above-described method for cutting a glass substrate according to the present embodiment can be applied to a manufacturing process for a glass substrate, and a glass substrate manufacturing method using the cutting method for the glass substrate can be employed.

이러한 유리 기판의 제조 방법에 있어서는, 유리 기판을 고정밀도로 절단 가공할 수 있어, 절단 시에 유리 기판에의 균열의 발생을 억제하여, 균일한 절단면으로 할 수 있기 때문에, 유리 기판의 제조 수율의 향상이나, 연마 공정에서의 절단면의 연마 시간의 단축 또는 연마 공정 생략의 효과가 얻어진다.In the method of manufacturing such a glass substrate, it is possible to cut the glass substrate with high precision, thereby suppressing the occurrence of cracks on the glass substrate at the time of cutting, and making the glass substrate a uniform cut surface. The effect of shortening the polishing time of the cutting face in the polishing step or omitting the polishing step can be obtained.

실시예 Example

이하에 구체적인 실시예를 들어서 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to specific examples, but the present invention is not limited to these examples.

[실험예 1][Experimental Example 1]

본 실험예에서는, 레이저광의 에너지 밀도, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도를 변화시켜서 유리 기판을 절단하고, 절단 후의 유리 기판의 절단면에 대하여 평가를 행하였다.In this Experimental Example, the glass substrate was cut by changing the energy density of the laser light and the relative moving speed of the irradiated region of the laser light to the glass substrate, and the cut surface of the glass substrate after the cutting was evaluated.

유리 기판의 절단 시에는, 도 1에 도시한 구성에 의해, 세로 100㎜, 가로 100㎜, 판 두께 0.1㎜의 무알칼리 붕규산 유리를 포함하는 유리 기판(아사히 가라스 가부시끼가이샤 제조의 상품명: AN100)에 대해서, 소정의 반송 속도로 유리 기판을 반송하면서, 절단 예정선을 따라 CO2 레이저를 사용한 레이저광을 스폿 직경이 약 0.3㎜이며, 소정의 에너지 밀도가 되도록 조사해 갔다. 절단을 행할 때 유리 기판의 주변 온도(환경 온도)는 실온(25℃)이었다.When the glass substrate was cut, a glass substrate (trade name: AN100, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) containing 100 mm in length, 100 mm in width, and 0.1 mm in thickness of the alkali-free borosilicate glass ) Was irradiated with a laser beam using a CO 2 laser along a line along which the material was to be cut, with a spot diameter of about 0.3 mm so as to have a predetermined energy density while the glass substrate was transported at a predetermined transporting speed. The ambient temperature (environmental temperature) of the glass substrate at the time of cutting was room temperature (25 DEG C).

또한, 이때, 도 3, 도 4에 도시한 바와 같이, 반송 롤러(32)에 지지 부재(33)를 설치하고, 레이저광이 조사되고 있는 레이저광의 조사 영역을 포함하는 유리 기판의 폭 방향의 일부의 영역을, 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시키면서, 레이저광의 조사를 행하였다. 이때, 레이저광(12)은 도 3 중 화살표(12)로 나타내는 바와 같이 유리 기판의 폭 방향의 단부측의 경사면에 조사하였다. 또한, 도 4에 도시한 바와 같이, 지지 부재(33)는 2개의 반송 롤러(32)에 설치하고, 지지 부재(33)를 설치한 반송 롤러(32) 사이에 레이저광(12)의 조사 영역을 배치하였다.3 and 4, a supporting member 33 is provided on the conveying roller 32, and a part of the glass substrate including the irradiation area of the laser beam irradiated with laser light in the width direction Was irradiated with a laser beam while bending the region in the width direction of the glass substrate. At this time, the laser beam 12 was irradiated to the inclined surface on the end side in the width direction of the glass substrate as indicated by the arrow 12 in Fig. 4, the supporting member 33 is provided on the two conveying rollers 32, and the conveying rollers 32 provided with the supporting members 33 are provided between the irradiation regions of the laser light 12 .

절단을 행한 후의 유리 기판에 대해서, 절단이 되지 않은 것에 대해서는 C로서, 절단은 되긴 하였지만, 레이저를 조사한 부분에 있어서 석출물이 관찰되지 않고, 절단면을 육안으로 확인한 바 균일하게 되지 않은, 또는 유리 기판에 균열이 발생한 것에 대해서는 B로서 평가하였다. 유리 기판이 절단되고, 육안으로 균일한 절단면이라고 확인된 것에 대해서는 A로서 평가를 행하였다. 결과를 표 1 및 도 10에 도시한다. 도 10은 표 1의 결과의 일부를 그래프화한 것이다.As for the glass substrate after the cutting, C for the uncut portion was cut, but it was found that no precipitate was observed in the portion irradiated with the laser, and the cut surface was not uniformized by visual inspection, B was evaluated as the occurrence of cracks. When the glass substrate was cut and it was confirmed that the glass substrate was a uniform cut surface, it was evaluated as A. The results are shown in Table 1 and FIG. FIG. 10 is a graph showing a part of the results of Table 1. FIG.

Figure pct00001
Figure pct00001

도 10에 도시한 그래프에 있어서, 직선 X는, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도(여기서는 유리 기판의 반송 속도)를 v(m/시간), 상기 레이저광의 에너지 밀도를 E(W/㎟), 유리 기판의 판 두께를 t(㎜)라 한 경우에, E=50×t×v가 되는 직선이다.In the graph shown in Fig. 10, the straight line X represents v (m / hour), the energy density of the laser light is E (W / Mm < 2 >) and the plate thickness of the glass substrate is t (mm), E = 50 x t x v.

그리고, 직선 Y는 냉각 공정에 있어서 석출물을 발생한, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도(여기서는 유리 기판의 반송 속도)의 최솟값을 나타내고 있고, 이 경우 144(m/시간)였다.The straight line Y represents the minimum value of the relative moving speed (in this case, the conveying speed of the glass substrate) of the irradiated region of the laser beam generated in the cooling step with respect to the glass substrate, and in this case, 144 (m / hour).

도 10에 의하면, 직선 X와 직선 Y로 둘러싸이는 범위에 A 평가가 분포하고 있고, 직선 X보다도 에너지 밀도가 작은 경우에는 C 평가, 직선 Y보다도 반송 속도가 느릴 경우에는 B 평가가 되어 있다.According to Fig. 10, when the A evaluation is distributed in the range surrounded by the straight line X and the straight line Y, the C evaluation is performed when the energy density is smaller than the straight line X, and the B evaluation is performed when the conveying speed is slower than the straight line Y.

이것은, 먼저, 각 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도(유리 기판의 반송 속도)에 있어서, 직선 X 이상의 에너지 밀도의 레이저광을 조사한 경우, 레이저광의 조사 영역에서의, 유리 기판의 한쪽 표면부터 다른 쪽 표면까지의 레이저광의 조사 영역에 대하여 유리가 기화하는 온도 이상으로 확실하게 가열할 수 있었기 때문이라고 생각된다.This is because when laser light having an energy density equal to or higher than a straight line X is irradiated at a relative moving speed (conveying speed of the glass substrate) of the irradiation area of each laser beam to the glass substrate, It can be surely heated to a temperature above the vaporization temperature of the glass with respect to the irradiation region of the laser light from the surface to the other surface.

그리고 또한, 직선 Y 이상의 반송 속도로 함으로써, 레이저광 조사 후의 레이저광의 조사 영역의 주변부를 충분히 냉각하고, 석출물로서 절단면 부분으로부터 배제할 수 있어서, 표면 특성이 균일한 절단면으로 할 수 있기 때문이라 생각된다.Further, by making the conveying speed equal to or higher than the straight line Y, it is considered that the peripheral portion of the irradiated region of the laser beam after irradiation with the laser beam can be sufficiently cooled and removed from the cut surface portion as the precipitate, .

즉, C 평가가 된 유리 기판에서는, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도(유리 기판의 반송 속도)에 대하여 충분한 레이저광의 에너지가 부여되어 있지 않아, 레이저광의 조사 영역에 대해서, 유리 기판의 다른 쪽 표면까지 유리가 기화하는 온도 이상으로 가열할 수 없었다(유리 기판의 판 두께 방향 모든 범위에 대하여 충분히 승온되지 않았다)고 생각된다. 이로 인해, 유리 기판을 절단하지 못하였다고 추인된다.That is, in the glass substrate subjected to the C evaluation, sufficient energy of laser light is not applied to the relative moving speed of the irradiated region of the laser beam to the glass substrate (the transporting speed of the glass substrate) (The temperature of the glass substrate was not sufficiently raised over the entire range of the thickness direction of the glass substrate). As a result, it can be concluded that the glass substrate can not be cut.

또한, B 평가가 된 유리 기판은, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도(유리 기판의 반송 속도)에 대하여 충분한 에너지 밀도의 레이저광을 조사하였기 때문에, 유리 기판의 절단을 행할 수 있었다.Further, the glass substrate subjected to the B evaluation was irradiated with laser light having a sufficient energy density with respect to the relative moving speed of the laser light irradiated region with respect to the glass substrate (conveying speed of the glass substrate), so that the glass substrate could be cut .

그러나, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도(유리 기판의 반송 속도)가 충분하지 않아, 레이저광 조사 후의 레이저광의 조사 영역의 주변부의 냉각 속도가 느려져, 그 주변부가 석출물로서 배제되지 않고 남아, 절단면이 균일하게 되지 않았기 때문이라고 추인된다. 또는 레이저광 조사 후의 레이저광의 조사 영역의 주변부의 온도가, 유리 기판이 반송됨으로써 냉각될 때, 원하는 냉각 속도가 아니기 때문에, 절단면 및 그 주변에 균열이 발생한 것이라고 추인된다.However, the relative moving speed of the irradiated region of the laser beam to the glass substrate (conveying speed of the glass substrate) is insufficient, the cooling rate at the periphery of the irradiated region of the laser beam after irradiation of the laser beam is slowed and its periphery is not excluded as a precipitate And that the cut surface was not uniform. Or when the temperature of the peripheral portion of the irradiated region of the laser beam after the laser beam irradiation is cooled by the conveyance of the glass substrate is not a desired cooling rate, it is confirmed that a crack has occurred in the cut surface and its periphery.

이에 비해, A 평가의 유리 기판은 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도(유리 기판의 반송 속도)에 맞춰서 레이저광의 에너지 밀도를 적절하게 선택할 수 있었다고 생각된다. 이로 인해, 레이저광의 조사 영역에 대하여 유리 기판의 한쪽 표면부터 다른 쪽 표면까지, 유리가 기화하는 온도 이상으로 가열되어 있다고 생각된다. 또한, 유리 기판의 반송 속도가 적절하기 때문에, 레이저광 조사 후의 레이저광의 조사 영역의 주변부가 적절한 냉각 속도로 냉각되어, 그 레이저광 조사 후의 레이저광의 조사 영역의 주변부가 석출물로서 배제되어, 균일한 절단면이 얻어진 것이라고 생각된다.On the contrary, it is considered that the glass substrate for evaluation A was able to appropriately select the energy density of the laser beam in accordance with the relative moving speed of the irradiation region of the laser beam to the glass substrate (the transporting speed of the glass substrate). Therefore, it is considered that the glass substrate is heated to a temperature higher than the vaporization temperature of the glass from one surface of the glass substrate to the other surface with respect to the irradiation region of the laser beam. In addition, since the conveying speed of the glass substrate is appropriate, the peripheral portion of the irradiated region of the laser beam irradiated with the laser beam is cooled at an appropriate cooling rate, the peripheral portion of the irradiated region of the laser beam irradiated with the laser beam is excluded as a precipitate, Is thought to have been obtained.

[실험예 2][Experimental Example 2]

본 실험예에서는, 절단을 행하는 유리 기판의 판 두께를 0.2㎜로 한 것 이외에는, 실험예 1과 동일하게 하여, 레이저광의 에너지 밀도, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도를 변화시켜서 유리 기판을 절단하고, 절단 후의 유리 기판의 절단면에 대하여 평가를 행하였다.In this experimental example, the energy density of the laser beam and the relative moving speed of the irradiated region of the laser beam to the glass substrate were changed in the same manner as in Experimental Example 1, except that the thickness of the glass substrate to be cut was changed to 0.2 mm, The substrate was cut, and the cut surface of the glass substrate after the cutting was evaluated.

결과를 표 2, 도 11에 도시한다. 도 11은 표 2의 결과를 그래프화한 것이다.The results are shown in Table 2 and Fig. 11 is a graph showing the results of Table 2.

Figure pct00002
Figure pct00002

도 11에 도시한 그래프에 있어서도, 직선 X는 상술한 E=50×t×v(t=0.2㎜)가 되는 직선이다.Also in the graph shown in Fig. 11, the straight line X is a straight line having the above-mentioned E = 50 x t x v (t = 0.2 mm).

또한, 직선 Y는 냉각 공정에 있어서 석출물을 발생한, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도(여기서는 유리 기판의 반송 속도)의 최솟값을 나타내고 있고, 이 경우 144(m/시간)였다.The straight line Y represents the minimum value of the relative moving speed (in this case, the conveying speed of the glass substrate) of the irradiated area of the laser beam generated in the cooling step with respect to the glass substrate, in this case, 144 (m / h).

이것에 의하면, 직선 X와 직선 Y로 둘러싸이는 범위에 A 평가가 분포하고 있음이 확인되었다.According to this, it was confirmed that the A evaluation was distributed in the range surrounded by the straight line X and the straight line Y.

[실험예 3][Experimental Example 3]

본 실험예에서는, 절단을 행하는 유리 기판의 판 두께를 0.3㎜로 한 것 이외에는, 실험예 1과 동일하게 하여, 레이저광의 에너지 밀도, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도를 변화시켜서 유리 기판을 절단하고, 절단 후의 유리 기판의 절단면에 대하여 평가를 행하였다.In this experimental example, the energy density of the laser beam and the relative moving speed of the irradiated region of the laser beam to the glass substrate were changed in the same manner as in Experimental Example 1, except that the thickness of the glass substrate to be cut was 0.3 mm, The substrate was cut, and the cut surface of the glass substrate after the cutting was evaluated.

결과를 표 3, 도 12에 나타내었다. 도 12는 표 3의 결과를 그래프화한 것이다.The results are shown in Table 3 and Fig. 12 is a graph showing the results of Table 3.

Figure pct00003
Figure pct00003

도 12에 나타낸 그래프에 있어서도, 직선 X는 상술한 E=50×t×v(t=0.3㎜)가 되는 직선이다.In the graph shown in Fig. 12, the straight line X is a straight line having the above-mentioned E = 50 x t x v (t = 0.3 mm).

또한, 직선 Y는 냉각 공정에 있어서 석출물을 발생한, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도(여기서는 유리 기판의 반송 속도)의 최솟값을 나타내고 있고, 이 경우 144(m/시간)였다.The straight line Y represents the minimum value of the relative moving speed (in this case, the conveying speed of the glass substrate) of the irradiated area of the laser beam generated in the cooling step with respect to the glass substrate, in this case, 144 (m / h).

본 실험예에서는 유리 기판의 반송 속도를 변화시키지 않고, 조사하는 레이저광의 에너지 밀도를 변화시켜서 유리 기판의 절단을 행하고 있다. 이것에 의하면 레이저광의 에너지 밀도를 증가시켜서 직선 X보다도 큰 에너지 밀도로 한 경우에, 레이저광의 조사 영역에 대해서, 유리 기판의 한쪽 표면부터 다른 쪽 표면까지 레이저광의 조사 영역에 대하여 유리가 기화하는 온도 이상으로 가열할 수 있어, A 평가가 되는 것을 확인할 수 있었다.In the present experimental example, the glass substrate is cut by changing the energy density of the laser light to be irradiated without changing the conveying speed of the glass substrate. According to this, when the energy density of the laser beam is increased to have an energy density higher than that of the straight line X, the temperature of the laser beam irradiated region from the one surface of the glass substrate to the other surface , And it was confirmed that the A evaluation was made.

[실험예 4][Experimental Example 4]

본 실험예에서는, 절단을 행하는 유리 기판의 판 두께를 0.6㎜로 한 것 이외에는, 실험예 1과 동일하게 하여, 레이저광의 에너지 밀도, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도를 변화시켜서 유리 기판을 절단하고, 절단 후의 유리 기판의 절단면에 대하여 평가를 행하였다.In this experimental example, the energy density of the laser beam and the relative moving speed of the laser beam irradiated area with respect to the glass substrate were changed in the same manner as in Experimental Example 1, except that the thickness of the glass substrate to be cut was changed to 0.6 mm, The substrate was cut, and the cut surface of the glass substrate after the cutting was evaluated.

결과를 표 4, 도 13에 나타내었다. 도 13은 표 4의 결과를 그래프화한 것이다.The results are shown in Table 4 and Fig. FIG. 13 is a graph showing the results of Table 4. FIG.

Figure pct00004
Figure pct00004

도 13에 나타낸 그래프에 있어서도, 직선 X는 상술한 E=50×t×v(t=0.6㎜)가 되는 직선이다.In the graph shown in Fig. 13, the straight line X is a straight line having the above-mentioned E = 50 x t x v (t = 0.6 mm).

또한, 직선 Y는 냉각 공정에 있어서 석출물을 발생한, 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도(여기서는 유리 기판의 반송 속도)의 최솟값을 나타내고 있고, 이 경우 144(m/시간)였다.The straight line Y represents the minimum value of the relative moving speed (in this case, the conveying speed of the glass substrate) of the irradiated area of the laser beam generated in the cooling step with respect to the glass substrate, in this case, 144 (m / h).

본 실험예에 있어서는, 직선 X보다도 조사하는 레이저광의 에너지 밀도가 낮았다. 이로 인해, 레이저광의 조사 영역의, 유리 기판에 대한 상대 이동 속도(유리 기판의 반송 속도)에 대하여 충분한 레이저광의 에너지를 부여할 수 없어, 레이저광 조사부에 대해서, 유리 기판의 다른 쪽 표면까지 유리 기판이 기화하는 온도 이상으로 가열하지 못하였다고 생각된다. 따라서, 유리 기판을 절단하지 못하고 C 평가가 되었다고 생각된다.In this experimental example, the energy density of the laser light irradiated from the straight line X was lower. As a result, sufficient energy of laser light can not be applied to the relative moving speed of the irradiation area of the laser beam with respect to the glass substrate (conveying speed of the glass substrate) It is considered that the temperature was not higher than the vaporization temperature. Therefore, the glass substrate could not be cut and it was considered that the C evaluation was made.

이상으로 유리 기판의 절단 방법 및 유리 기판의 제조 방법을, 실시 형태 등으로 설명했지만, 본 발명은 상기 실시 형태 등에 한정되지 않는다. 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 요지 범위 내에 있어서, 다양한 변형, 변경이 가능하다.As described above, the method of cutting the glass substrate and the method of manufacturing the glass substrate have been described with the embodiments and the like, but the present invention is not limited to the above-described embodiments and the like. Various modifications and variations are possible within the scope of the present invention described in the claims.

본 출원은, 2013년 5월 28일에 일본 특허청에 출원된 일본 특허 출원 제2013-112182호에 기초하는 우선권을 주장하는 것이며, 일본 특허 출원 제2013-112182호의 전체 내용을 본 국제 출원에 원용한다.The present application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2013-112182 filed on May 28, 2013, and claims the entire contents of Japanese Patent Application No. 2013-112182 in the present international application .

11: 유리 기판
12: 레이저광
33: 지지 부재
40: 보유 지지 부재
71: 레이저광 조사부
72: 레이저광 조사부의 주변부
81, 82: 석출물
11: glass substrate
12: Laser light
33: support member
40: holding member
71: Laser light irradiation part
72: peripheral portion of the laser light irradiating portion
81, 82: precipitate

Claims (12)

레이저광을 조사하여 유리 기판을 절단 예정선을 따라 절단하는 유리 기판의 절단 방법으로서,
상기 유리 기판의 한쪽 표면에 상기 레이저광을 조사하는 레이저광의 조사 영역을 포함하는 상기 유리 기판의 절단 예정선에 대하여 직교하는 폭 방향의 일부의 영역을, 상기 유리 기판의 상기 폭 방향으로 만곡시키고,
상기 레이저광의 조사 영역에서, 상기 유리 기판의 한쪽 표면부터 다른 쪽 표면까지의 레이저광 조사부가 기화하는 온도 이상으로 가열하고,
상기 레이저광의 조사 영역을 상기 유리 기판의 절단 예정선을 따라, 상기 유리 기판에 대하여 상대적으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 절단 방법.
A method of cutting a glass substrate by irradiating a laser beam to cut the glass substrate along a line along which a line is to be cut,
A part of the width direction orthogonal to the line along which the glass substrate is intended to be cut, including the area irradiated with laser light for irradiating the laser beam, is curved on one surface of the glass substrate in the width direction of the glass substrate,
The laser light irradiating portion from one surface to the other surface of the glass substrate is heated to a temperature higher than a vaporization temperature in the irradiation region of the laser light,
Wherein the irradiation region of the laser beam is moved relative to the glass substrate along a line along which the glass substrate is to be cut.
제1항에 있어서, 상기 레이저광의 조사 영역으로부터, 상기 유리 기판의 절단 예정선을 따라 소정 거리 이격한 부분까지의 범위에 걸쳐서,
상기 유리 기판의 절단 예정선을 포함하는 상기 유리 기판의 상기 폭 방향의 일부의 영역을 상기 유리 기판의 상기 폭 방향으로 만곡시키는, 유리 기판의 절단 방법.
2. The glass substrate according to claim 1, further comprising: a light source for emitting a laser beam,
Wherein a part of the glass substrate in the width direction including the line along which the glass substrate is to be cut is curved in the width direction of the glass substrate.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 레이저광의 조사 영역을 포함하는 상기 유리 기판의 상기 폭 방향의 일부의 영역이 유리 기판의 다른 부분의 영역으로부터 돌출되도록, 지지 부재에 의해 상기 유리 기판의 다른 쪽 표면측으로부터 상기 유리 기판을 지지함으로써,
상기 레이저광의 조사 영역을 포함하는 상기 유리 기판의 상기 폭 방향의 일부의 영역을, 상기 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시키는, 유리 기판의 절단 방법.
The glass substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein a part of the width direction of the glass substrate including the irradiation area of the laser beam is projected from a region of another part of the glass substrate, By supporting the glass substrate from the surface side of the side,
Wherein a portion of the glass substrate including the irradiation region of the laser beam in the width direction is curved in the width direction of the glass substrate.
제3항에 있어서, 상기 지지 부재는,
유리 기판의 상기 다른 부분의 영역으로부터 돌출된, 상기 유리 기판의 상기 폭 방향의 일부의 영역 중, 상기 유리 기판의 상기 폭 방향의 단부측의 경사면에 상기 레이저광의 조사 영역이 배치되도록, 상기 유리 기판을 지지하는, 유리 기판의 절단 방법.
The image forming apparatus according to claim 3,
The glass substrate is arranged so that an area irradiated with the laser beam is disposed on an inclined surface on an end side of the glass substrate in the width direction among a region of a portion of the glass substrate in the width direction, Of the glass substrate.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 레이저광의 조사 영역을 포함하는 상기 유리 기판의 상기 폭 방향의 일부의 영역이 자중에 의해 유리 기판의 다른 부분의 영역으로부터 휘도록, 보유 지지 부재에 의해 상기 유리 기판의 다른 쪽 표면측으로부터 상기 유리 기판을 보유 지지함으로써,
상기 레이저광의 조사 영역을 포함하는 상기 유리 기판의 상기 폭 방향의 일부의 영역을, 상기 유리 기판의 폭 방향으로 만곡시키는, 유리 기판의 절단 방법.
The glass substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein a part of the width direction of the glass substrate including the irradiated region of the laser beam is bent from a region of another portion of the glass substrate by its own weight, By holding the glass substrate from the other surface side of the glass substrate,
Wherein a portion of the glass substrate including the irradiation region of the laser beam in the width direction is curved in the width direction of the glass substrate.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 레이저광 조사부의 주변부는, 상기 레이저광 조사부의 가열 후, 유리 전이 온도 이하까지 냉각되는, 유리 기판의 절단 방법.The method of cutting a glass substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein a peripheral portion of the laser light irradiation portion is cooled to a temperature not higher than a glass transition temperature after heating the laser light irradiation portion. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도를 v(m/시간), 상기 레이저광의 에너지 밀도를 E(W/㎟), 유리 기판의 판 두께를 t(㎜)라 한 경우에,
E≥50×t×v
의 관계를 만족하는, 유리 기판의 절단 방법.
The laser processing method according to any one of claims 1 to 6, wherein the relative moving speed of the laser light irradiated area with respect to the glass substrate is v (m / hour), the energy density of the laser light is E (W / In the case where the thickness of the plate is t (mm)
E? 50 × t × v
Of the glass substrate.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 레이저광의 조사 영역의 유리 기판에 대한 상대 이동 속도가 144(m/시간) 이상인, 유리 기판의 절단 방법.The method of cutting a glass substrate according to any one of claims 1 to 7, wherein the relative moving speed of the laser light irradiated region with respect to the glass substrate is 144 m / hour or more. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 기화한 상기 레이저광 조사부의 유리 성분을 제거하는, 유리 기판의 절단 방법.9. The method of cutting a glass substrate according to any one of claims 1 to 8, wherein the glass component of the vaporized laser light irradiating portion is removed. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 레이저광 조사부의 주변부에 발생한 석출물을 제거하는, 유리 기판의 절단 방법.10. The method of cutting a glass substrate according to any one of claims 1 to 9, wherein a precipitate generated in a peripheral portion of the laser light irradiating portion is removed. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리 기판의 판 두께는 3.0㎜ 이하인, 유리 기판의 절단 방법.11. The method of cutting a glass substrate according to any one of claims 1 to 10, wherein the thickness of the glass substrate is 3.0 mm or less. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 유리 기판의 절단 방법을 사용한, 유리 기판의 제조 방법.A method of manufacturing a glass substrate, using the method for cutting a glass substrate according to any one of claims 1 to 11.
KR1020157026147A 2013-05-28 2014-04-28 Glass substrate cutting method and glass substrate manufacturing method KR20160013841A (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2013-112182 2013-05-28
JP2013112182 2013-05-28
PCT/JP2014/061849 WO2014192482A1 (en) 2013-05-28 2014-04-28 Glass substrate cutting method and glass substrate manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20160013841A true KR20160013841A (en) 2016-02-05

Family

ID=51988520

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157026147A KR20160013841A (en) 2013-05-28 2014-04-28 Glass substrate cutting method and glass substrate manufacturing method

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6379392B2 (en)
KR (1) KR20160013841A (en)
CN (2) CN105164073B (en)
TW (1) TWI651280B (en)
WO (1) WO2014192482A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190127656A (en) * 2017-03-13 2019-11-13 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 Manufacturing Method Of Glass Film

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105164073B (en) * 2013-05-28 2018-06-12 旭硝子株式会社 The cutting-off method of glass substrate and the manufacturing method of glass substrate
JP6738043B2 (en) * 2016-05-31 2020-08-12 日本電気硝子株式会社 Glass film manufacturing method
JP6579040B2 (en) * 2016-05-31 2019-09-25 日本電気硝子株式会社 Manufacturing method of glass roll
JP2018024536A (en) * 2016-08-08 2018-02-15 日本電気硝子株式会社 Method for cutting belt-like glass film
WO2018147111A1 (en) * 2017-02-07 2018-08-16 日本電気硝子株式会社 Method for producing glass film
JP6909403B2 (en) * 2017-07-31 2021-07-28 日本電気硝子株式会社 Glass film manufacturing method
JPWO2019065533A1 (en) * 2017-09-27 2020-11-05 三星ダイヤモンド工業株式会社 Glass substrate cutting device, cutting method, program, and storage medium
JP6883282B2 (en) 2017-11-27 2021-06-09 日本電気硝子株式会社 Glass roll manufacturing method
SG11202103948VA (en) * 2018-11-30 2021-05-28 Hoya Corp Method for manufacturing glass plate, method for chamfering glass plate, and method for manufacturing magnetic disk

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4467168A (en) * 1981-04-01 1984-08-21 Creative Glassworks International Method of cutting glass with a laser and an article made therewith
JPH05305467A (en) * 1992-04-27 1993-11-19 Central Glass Co Ltd Method for cutting optical transmission material by laser beam
WO2007020835A1 (en) * 2005-08-12 2007-02-22 Shibaura Mechatronics Corporation System for brittle material cutting process and method employed therein
DE102006018622B3 (en) * 2005-12-29 2007-08-09 H2B Photonics Gmbh Device for cutting through components made of brittle material
US8051679B2 (en) * 2008-09-29 2011-11-08 Corning Incorporated Laser separation of glass sheets
JP2010099708A (en) * 2008-10-24 2010-05-06 Japan Steel Works Ltd:The Method and apparatus for processing cut surface of cut material
CN101613180A (en) * 2009-07-24 2009-12-30 深圳市大族激光科技股份有限公司 A kind of method of cutting glass by laser
TWI524962B (en) * 2009-12-16 2016-03-11 康寧公司 Separation of glass sheets from a laser-scored curved glass ribbon
JP5532219B2 (en) * 2010-01-18 2014-06-25 日本電気硝子株式会社 Sheet glass cutting method and apparatus
JP5194076B2 (en) * 2010-08-27 2013-05-08 三星ダイヤモンド工業株式会社 Laser cleaving device
JP5202595B2 (en) * 2010-09-10 2013-06-05 三星ダイヤモンド工業株式会社 Laser cleaving device
JP2012061681A (en) * 2010-09-15 2012-03-29 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd Laser cleaving apparatus
US9790121B2 (en) * 2011-03-30 2017-10-17 Corning Incorporated Methods of fabricating a glass ribbon
JP2013014016A (en) * 2011-06-30 2013-01-24 Mitsubishi Electric Corp Splitting method
JP5861864B2 (en) * 2011-09-15 2016-02-16 日本電気硝子株式会社 Glass plate cutting method and glass plate cutting device
JP5884691B2 (en) * 2011-09-15 2016-03-15 日本電気硝子株式会社 Glass plate cutting method
CN105164073B (en) * 2013-05-28 2018-06-12 旭硝子株式会社 The cutting-off method of glass substrate and the manufacturing method of glass substrate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190127656A (en) * 2017-03-13 2019-11-13 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 Manufacturing Method Of Glass Film

Also Published As

Publication number Publication date
CN105164073B (en) 2018-06-12
JP6379392B2 (en) 2018-08-29
CN105164073A (en) 2015-12-16
WO2014192482A1 (en) 2014-12-04
TW201504173A (en) 2015-02-01
JPWO2014192482A1 (en) 2017-02-23
TWI651280B (en) 2019-02-21
CN107129137A (en) 2017-09-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20160013841A (en) Glass substrate cutting method and glass substrate manufacturing method
US9764979B2 (en) Cutting method for glass sheet and glass sheet cutting apparatus
US9010151B2 (en) Glass sheet cutting method
KR101948382B1 (en) Apparatus and methods for continuous laser cutting of flexible glass
KR100949152B1 (en) Apparatus for cutting glass using laser
KR100925287B1 (en) A scribing method and a scribing apparatus therefor
CN110740979B (en) Method for producing glass film
KR20070088588A (en) Brittle material scribing method and scribing apparatus
KR20160003151A (en) Methods and apparatus for conveying a glass ribbon
WO2017208677A1 (en) Glass film production method
US20210188690A1 (en) Method for manufacturing glass plate and manufacturing apparatus therefor
JP2014014841A (en) Substrate processing method and device
WO2018030097A1 (en) Method for cutting belt-like glass film
JP6206406B2 (en) Glass substrate cutting method and glass substrate manufacturing method
KR20140062427A (en) Method for cutting glass sheet
JP2014015352A (en) Substrate processing method and device
JPWO2004002705A1 (en) Scribing apparatus and scribing method for brittle material substrate
JP5825551B2 (en) Glass plate cutting method and glass plate cutting device
WO2019138990A1 (en) Method and apparatus for producing glass article, and glass article
JP2013075817A (en) Method of cutting glass plate
JP2014014842A (en) Substrate processing method and device
JP2013087000A (en) Laser scribing apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application