KR20150143824A - Film forming device - Google Patents
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Abstract
성막 유닛 및 그 상류측 및 하류측 유닛을 상하로 겹치지 않고 작업 스페이스를 확보할 수 있는 성막 장치가 제공된다. 성막 장치는, 성막 유닛(16)과, 그 좌우에 배치되는 상류측 및 하류측 유닛(14, 18)을 구비한다. 성막 유닛(16)은, 성막 롤러(70)와, 복수의 안내 롤러(72)와, 성막 롤러 수용부(74) 및 그 상측의 안내 롤러 수용부(76)를 갖는 메인 챔버(64)와, 성막 롤러 수용부(74)의 좌우에서 복수의 성막 프로세스용 기기(84, 86)를 수용하는 제1 및 제2 프로세스 챔버(66, 68)와, 프로세스 챔버 지지부(104)이며, 프로세스 챔버(66, 68)가 성막용의 정규 위치와 좌우에 퇴피하는 퇴피 위치 사이에서 이동 가능하고, 또한 그 퇴피 위치와 전후 방향으로 이격된 노출 위치 사이에서 이동 가능해지도록, 당해 프로세스 챔버(66, 68)를 지지하는 것을 갖는다.There is provided a film forming apparatus capable of securing a working space without overlapping a film forming unit and its upstream side and downstream side units vertically. The film forming apparatus includes a film forming unit 16 and upstream and downstream units 14 and 18 disposed on the right and left sides thereof. The film forming unit 16 includes a main chamber 64 having a film forming roller 70, a plurality of guide rollers 72, a film forming roller receiving portion 74 and an upper guide roller receiving portion 76, First and second process chambers 66 and 68 for accommodating a plurality of film forming process equipments 84 and 86 on the right and left sides of the film forming roller receiving portion 74 and a process chamber supporting portion 104, 68 are movable between a normal position for film formation and a retracted position where they are retracted to the right and left and movable between an evacuation position and an exposure position spaced back and forth, .
Description
본 발명은 띠 형상의 피성막재의 표면에 기능성 박막 등의 박막을 형성하기 위한 연속 성막 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a continuous film-forming apparatus for forming a thin film such as a functional thin film on the surface of a strip-shaped film-forming material.
종래, 장척의 필름이나 시트로 이루어지는 박육의 피성막재에 대해 연속적으로 성막을 행하기 위한 장치로서, 당해 피성막재를 진공 챔버 내에서 연속적으로 반송하고, 그 표면에 다양한 기능성 박막을 스퍼터링이나 증착에 의해 성막하는 것이 알려져 있다.2. Description of the Related Art Conventionally, as an apparatus for continuously forming a thin film on a thin film forming material composed of a long film or sheet, the film forming material is continuously conveyed in a vacuum chamber, and various functional thin films are sputtered or vapor- Is known to form a film.
이러한 성막 장치로서, 예를 들어 특허문헌 1은 상부 챔버 및 하부 챔버를 구비한 것을 개시한다. 상기 하부 챔버는, 필름 등으로 이루어지는 피성막재가 권취되는 것이 가능한 성막 롤러와, 그 피성막재에 대해 성막 처리를 실시하기 위한 복수의 스퍼터원 등을 수용한다. 이 하부 챔버는 좌우 측벽을 갖고, 이들 측벽에 개구가 형성됨과 함께, 당해 개구를 개폐하기 위한 도어가 당해 측벽에 장착된다. 당해 도어를 개방한 상태에서, 상기 개구를 통해 뱃치 처리마다에서의 타깃의 교환, 성막 영역을 구획하는 마스크의 교환이나 청소, 피성막재의 소위 통지(通紙)나 교환과 같은 각종 유지 보수 작업이 행해진다.As such a film forming apparatus, for example, Patent Document 1 discloses an apparatus having an upper chamber and a lower chamber. The lower chamber accommodates a film-forming roller capable of winding a film-forming material made of a film or the like, and a plurality of sputtering sources for performing a film-forming process on the film-forming material. The lower chamber has right and left side walls, an opening is formed in the side walls, and a door for opening and closing the opening is attached to the side wall. Various kinds of maintenance work such as exchanging the target in every batch process, replacement or cleaning of the mask for partitioning the film formation area, so-called notification (passing) or replacement of the film formation material is performed through the opening in the state in which the door is opened Is done.
상기 상부 챔버는, 상기 하부 챔버의 상방에 배치됨과 함께, 상기 피성막재를 권출하는 권출 유닛과, 권출된 피성막재를 가열하여 당해 피성막재로부터 가스를 분리하는 탈가스 유닛과, 상기 피성막재를 권취하는 권취 유닛을 수용한다. 이 장치에 있어서, 상기 상부 챔버 내의 상기 권출 유닛으로부터 권출된 피성막재는, 상기 탈가스 유닛을 통과한 후에 일단 하부 챔버 내에 반입되고, 여기에서 성막 처리된 후, 상기 상부 챔버로 되돌려져 상기 권취 유닛에 의해 권취된다.Wherein the upper chamber includes: an unwinding unit disposed above the lower chamber and configured to unwind the film formation material; a degassing unit for heating the film formation material to separate the gas from the film formation material; And a winding unit for winding the film forming material is accommodated. In this apparatus, the film forming material withdrawn from the unwinding unit in the upper chamber is conveyed into the lower chamber once after passing through the degassing unit, and after being subjected to the film forming process, it is returned to the upper chamber, .
이와 같이, 상기 성막 롤러 및 그 주변 기기를 제외한 프로세스 유닛이 상기 상부 챔버에 수용됨으로써, 하부 챔버의 좌우 양측에 상기 유지 보수 등의 작업을 행하기 위한 스페이스가 확보된다.As described above, since the process units other than the film forming roller and its peripheral devices are accommodated in the upper chamber, a space for performing maintenance or the like is secured on both the left and right sides of the lower chamber.
상기한 종래 장치에서는, 하부 챔버의 좌우의 도어의 외측에 각각 충분한 작업 스페이스를 확보할 필요가 있고, 당해 하부 챔버의 좌우에 인접하는 위치에 다른 유닛을 배치할 수 없으므로, 상기 하부 챔버의 더욱 상측에 상부 챔버를 설치하여 이 상부 챔버 내에, 성막 롤러의 상류측에 배치되어야 할 권출 유닛, 탈가스 유닛 및 성막 롤러의 하류측에 배치되어야 할 권취 유닛을 수용해야 한다. 이것은, 장치 전체의 조립 작업의 번잡화나 유지 보수 작업의 곤란화를 초래한다. 구체적으로, 상기 장치를 조립하는 데 있어서는, 호이스트 등을 사용하여 대중량의 상부 챔버를 매달아 올린 상태에서 그 하방에 하부 챔버를 설치하여 이것에 상기 상부 챔버를 연결하는 것과 같은 대규모의 작업이 필요하며, 이 작업은 용이하지 않다. 또한, 상부 챔버 내의 각 부품의 교환이나 유지 보수에 있어서는, 작업원이 높은 위치에 있는 상부 챔버의 상측으로부터 당해 상부 챔버에 액세스하여 작업을 행해야 하고, 그 작업을 위한 발판이나 안전성의 보증을 위한 설비 비용도 증대된다.In the above-described conventional apparatus, it is necessary to ensure a sufficient working space on the outer sides of the right and left doors of the lower chamber, and since different units can not be arranged at positions adjacent to the left and right of the lower chamber, An upper chamber should be provided in the upper chamber to accommodate a winding unit to be disposed on the downstream side of the film winding roller, the unwinding unit to be disposed on the upstream side of the film forming roller, and the degas unit. This results in complicated assembling work of the entire apparatus and difficulty in maintenance work. Specifically, in assembling the apparatus, a large-scale work such as attaching a lower chamber to a lower chamber in a state where an upper chamber of a larger weight is suspended by using a hoist or the like and connecting the upper chamber to the lower chamber is required , This task is not easy. Further, in the replacement and maintenance of each component in the upper chamber, the worker has to access the upper chamber from the upper side of the upper chamber at a higher position, and the work must be performed. The cost also increases.
본 발명은 성막 유닛을 포함하는 복수의 유닛을 구비한 성막 장치이며, 이들 유닛을 상하로 겹치는 일 없이 배치하면서, 상기 성막 유닛에 장비되는 각 성막 프로세스용 기기의 교환이나 유지 보수를 위한 작업 스페이스를 넓게 확보하는 것이 가능한 것을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention relates to a film forming apparatus having a plurality of units including a film forming unit and arranging these units without overlapping up and down so that a work space for replacement or maintenance of each film forming process equipment equipped in the film forming unit So that it is possible to secure a wide range.
본 발명이 제공하는 성막 장치는, 특정 방향으로 연장되는 띠 형상의 피성막재를 그 길이 방향으로 반송하면서 당해 피성막재의 표면에 성막을 실시하는 것이며, 성막 유닛과, 이 성막 유닛보다도 상기 피성막재의 반송 방향의 상류측에 배치되는 상류측 유닛과, 상기 성막 유닛보다도 상기 피성막재의 반송 방향 하류측에 배치되는 하류측 유닛을 구비한다. 상기 성막 유닛은, 수평한 회전 중심축 주위로 회전 가능한 성막 롤러와, 이 성막 롤러의 주위에 배치되는 복수의 성막 프로세스용 기기와, 상기 상류측 유닛 및 상기 하류측 유닛과 상기 성막 롤러 사이에서 상기 피성막재의 안내를 행하도록 배치되는 복수의 안내 롤러와, 상기 성막 롤러를 수용하는 성막 롤러 수용부 및 그 상측에 위치하여 상기 안내 롤러의 적어도 일부를 수용하는 안내 롤러 수용부를 갖는 메인 챔버와, 상기 성막 롤러의 중심축의 방향과 직교하는 좌우 방향에 대해 상기 성막 롤러 수용부의 양측에 각각 배치되고, 상기 성막 프로세스용 기기의 적어도 일부를 각각 수용하고, 상기 성막 롤러 수용부측을 향한 개구를 갖는 제1 프로세스 챔버 및 제2 프로세스 챔버와, 이들 제1 및 제2 프로세스 챔버를 지지하는 프로세스 챔버 지지부를 갖는다. 상기 성막 롤러 수용부는, 상기 성막 롤러의 좌우 방향의 양측에 위치하고, 상기 제1 및 제2 프로세스 챔버의 상기 성막 롤러 수용부측의 개구에 부합되는 좌우의 제1 챔버 개구 측면을 갖는다. 상기 안내 롤러 수용부는, 상기 성막 롤러 수용부의 좌우의 제1 챔버 개구 측면보다도 상기 좌우 방향의 양측으로 연장되는 부분을 갖고, 이들 부분이 상기 상류측 유닛 및 상기 하류측 유닛에 각각 접속되는 좌우의 제2 챔버 개구 측면을 갖는다. 상기 프로세스 챔버 지지부는, 상기 제1 및 제2 프로세스 챔버를, 당해 프로세스 챔버가 상기 성막 롤러 수용부의 개구를 덮어 상기 메인 챔버와 함께 성막 공간을 형성하는 정규 위치와 이 정규 위치로부터 상기 상류측 유닛 및 상기 하류측 유닛보다도 내측의 범위 내에서 좌우 방향의 외측으로 퇴피하는 퇴피 위치 사이에서 이동 가능하게 지지함과 함께, 당해 퇴피 위치와 이 퇴피 위치로부터 상기 성막 롤러의 회전 중심축과 평행한 방향인 전후 방향으로 이격된 위치이며 상기 프로세스 챔버의 내부가 노출되는 노출 위치 사이에서 이동 가능해도록 지지한다.A film forming apparatus provided by the present invention is a film forming apparatus that forms a film on a surface of a film forming material while conveying a film forming material extending in a specific direction in a longitudinal direction thereof and includes a film forming unit, An upstream-side unit disposed on the upstream side in the conveying direction of the ashes, and a downstream-side unit disposed on the downstream side of the film forming unit in the conveying direction than the film forming unit. Wherein the film forming unit includes a film forming roller that is rotatable about a horizontal rotation center axis, a plurality of film forming process equipments arranged around the film forming roller, A main chamber having a plurality of guide rollers arranged so as to guide the material to be coated and a guide roller receiving portion for receiving at least a part of the guide roller located above the film forming roller holding portion for holding the film forming roller; A first process, which is disposed at both sides of the film-forming roller receiving portion with respect to the left and right direction orthogonal to the direction of the central axis of the film-forming roller, and which has at least a part of the film- A chamber, and a second process chamber, and a process chamber support for supporting the first and second process chambers . The film-forming roller receiving portion has left and right first chamber opening side surfaces located on both sides in the left-right direction of the film-forming roller, and coinciding with the openings of the first and second process chambers on the side of the film- Wherein the guide roller receiving portion has a portion extending to both sides in the left and right direction with respect to the first chamber opening side surfaces of the left and right of the film-sheet holding portion, and the left and right guide members are connected to the upstream- 2 chamber opening side. Wherein the process chamber support portion is configured to move the first and second process chambers from a normal position in which the process chamber covers an opening of the film-sheet holding portion and forms a film-forming space together with the main chamber, And a retreat position retracted to the outside in the right and left direction within a range inward of the downstream unit, and is configured to move from the retreat position and the retracted position in a direction parallel to the rotation center axis of the film- So as to be movable between an exposure position where the interior of the process chamber is exposed.
또한, 본 발명에서 말하는 「수평」이라 함은 엄격하게 규정되는 것이 아니라, 완전한 수평면에 대해 다소 경사지는 방향도 포함하는 개념을 말한다.Further, the term " horizontal " in the present invention is not strictly defined but refers to a concept including a slightly inclined direction with respect to a complete horizontal plane.
도 1은 본 발명의 실시 형태에 관한 성막 장치의 단면 정면도이며 도 4의 I-I선 단면도이다.
도 2는 상기 성막 장치의 주요부를 도시하는 단면 정면도이다.
도 3은 도 1의 III-III선 단면도이다.
도 4는 상기 성막 장치의 평면도이다.1 is a cross-sectional front view of a deposition apparatus according to an embodiment of the present invention, and is a sectional view taken along a line II in Fig.
2 is a sectional front view showing a main part of the film forming apparatus.
3 is a sectional view taken along the line III-III in Fig.
4 is a plan view of the film forming apparatus.
본 발명의 바람직한 실시 형태를, 도면을 참조하면서 설명한다.Preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
도 1에 도시하는 성막 장치는, 예를 들어 플라스틱제의 필름으로 이루어지는 장척이며 띠 형상의 피성막재(10)를 그 길이 방향으로 반송하면서 당해 피성막재(10)의 표면에 박막을 형성하기 위한 장치이다. 이 성막 장치는, 상기 피성막재(10)의 프로세스의 순으로, 권출 유닛(12)과, 탈가스 유닛(14)과, 성막 유닛(16)과, 권취 유닛(18)을 구비한다. 상기 유닛(12, 14, 16, 18)은 상기 피성막재(10)의 반송 방향인 수평 방향을 따라 순서대로 배열되어 있다. 이 장치에서는, 후술하는 성막 롤러(70)의 회전 중심축 X와 직교하는 수평 방향(약간 경사져 있는 경우도 포함함)이 좌우 방향, 당해 회전 중심축 X와 평행한 방향이 전후 방향에 각각 상당하고, 상기 각 유닛(12, 14, 16 및 18)은 그 순서대로 좌우 방향으로(도 1에서는 좌측으로부터 우측을 향하는 방향으로) 배열되어 있다.The film forming apparatus shown in Fig. 1, for example, forms a thin film on the surface of the film-forming
상기 권출 유닛(12)은, 상기 피성막재(10)의 공급을 행하는 것이며, 권출 롤(26)과, 각각 안내 롤러로 되는 복수의 프리 롤러(28)와, 공급용 공간(22)을 둘러싸는 권출 챔버(24)와, 도어(30)를 구비한다. 권출 롤(26)은, 상기 권출 챔버(24)의 하부에 수용되고, 당해 권출 롤(26)에 권취된 피성막재(10)를 당해 권출 롤(26)의 회전에 의해 순차적으로 권출한다. 상기 각 프리 롤러(28)는, 상기 권출 챔버(24) 내에서 상기 권출 롤(26)의 상방에 배치되고, 이 권출 롤(26)로부터 권출되는 피성막재(10)를 상기 권출 챔버(24)의 상부에 형성된 출구(32)로 안내한다. 상기 권출 챔버(24)는, 상기 공급용 공간(22)을 당해 권출 챔버(24)의 외측에 개방하는 개구를 갖고, 상기 도어(30)는 당해 개구를 개폐하도록 상기 권출 챔버(24)에 힌지를 통해 설치된다. 상기 개구는, 상기 권출 롤(26)의 교환이나 피성막재(10)의 소위 통지, 그 밖의 유지 보수 작업에 이용된다.The
상기 탈가스 유닛(14)은, 성막의 전처리 공정으로서, 권출된 피성막재(10)를 가열하여 이것에 포함되는 가스를 당해 피성막재(10)로부터 분리하는 것이며, 복수의 프리 롤러(40)와, 복수매의 플레이트 히터(42)와, 탈가스용 공간(34)을 둘러싸는 탈가스 챔버(36)와, 이 탈가스 챔버(36)의 하측에 배치되는 지지 프레임(38)을 구비하고, 상기 탈가스 챔버(36) 내에 상기 프리 롤러(40) 및 플레이트 히터(42)가 수용된다.The
상기 탈가스 챔버(36)는, 상기 권출 유닛(12)의 출구(32)와 접속되는 입구(43)와, 그 반대측에 위치하는 출구(44)를 갖는다. 상기 지지 프레임(38)은, 당해 입구(43)와 상기 출구(32)가 합치하는 높이 위치에 상기 탈가스 챔버(36)를 지지한다. 상기 탈가스 챔버(36)는, 상하에 위치하는 천장 덮개(45) 및 바닥 덮개(46)를 포함하고, 각각에 유지 보수용의 개구가 형성됨과 함께 당해 개구를 개폐하기 위한 도어(47, 48)가 힌지를 통해 설치된다. 상기 지지 프레임(38)은, 상기 바닥 덮개(46)에 형성된 개구로부터의 작업을 가능하게 하기 위해, 상기 탈가스 챔버(36)의 하방에 작업자가 들어가는 것이 가능한 작업 공간(50)을 둘러싼다.The
상기 각 프리 롤러(40)는, 상기 피성막재(10)를 상기 탈가스 챔버(36) 내에서 상하로 반송하면서 상기 입구(43)로부터 상기 출구(44)로 안내하도록 상하에 교대로 배치되어 있다. 상기 각 플레이트 히터(42)는, 상기한 바와 같이 상하 방향으로 반송되면서 좌우 방향으로 진행하는 피성막재(10) 중 좌우 방향으로 서로 인접하는 부분끼리의 사이에 기립 자세로 배치되고, 당해 플레이트 히터(42) 스스로가 발열함으로써 상기 피성막재(10)를 가열하고, 탈가스 처리를 실행한다.The
상기 성막 유닛(16)은, 상기 권출 유닛(12)으로부터 상기 탈가스 유닛(14)을 경유하여 도입되는 피성막재(10)의 표면에 성막 처리(이 실시 형태에서는 스퍼터링)를 실시하는 것이며, 그 상세에 대해서는 이후에 상세하게 설명한다.The
상기 권취 유닛(18)은, 상기 성막 유닛(16)에 있어서 성막이 실시된 피성막재(10)의 권취를 행하는 것이며, 권취용 공간(52)을 둘러싸는 권취 챔버(54)와, 당해 권취 챔버(52) 내에 수용되는 권취 롤(56) 및 복수의 프리 롤러(58)와, 도어(60)를 구비한다. 권취 롤(56)은, 상기 권취 챔버(54)의 하부에 수용되고, 당해 권취 롤(56)의 회전에 의해, 상기 성막 유닛(16)으로부터 도입되는 피성막재(10)를 순차적으로 권취한다. 상기 각 프리 롤러(58)는, 상기 권취 롤(56)의 상방에 배치되고, 상기 권취 챔버(54)의 상부에 형성된 입구(62)로부터 권취용 공간(52) 내에 도입되는 피성막재(10)를 상기 권취 롤(56)에 안내한다. 상기 권취 챔버(54)는, 상기 권취용 공간(52)을 당해 권취 챔버(54)의 외측에 개방하는 개구를 갖고, 상기 도어(60)는 당해 개구를 개폐하도록 상기 권취 챔버(54)에 힌지를 통해 설치된다. 상기 개구는, 상기 권취 롤(56)의 교환이나 피성막재(10)의 소위 통지, 그 밖의 유지 보수 작업에 이용된다.The
다음으로, 상기 성막 유닛(16)의 상세를, 도 2∼도 4를 아울러 참조하면서 설명한다.Next, the
상기 성막 유닛(16)은, 메인 챔버(64)와, 좌측 프로세스 챔버(제1 프로세스 챔버)(66)와, 우측 프로세스 챔버(제2 프로세스 챔버)(68)와, 성막 롤러(70)와, 복수의 프리 롤러이며 좌우의 보조 롤러(71) 및 복수의 안내 롤러(72)를 포함하는 것과, 후술하는 스퍼터원(84)이나 압력 분리용 격벽(88)을 포함하는 복수의 성막 프로세스용 기기와, 프로세스 챔버 지지부(104)를 포함하는 챔버 지지부(20)를 구비한다.The
상기 메인 챔버(64)는, 성막 롤러 수용부(74)와 안내 롤러 수용부(76)가 일체로 연결된 것이며, 그 수용물과 함께 메인 챔버 유닛을 구성한다. 당해 수용물로서, 상기 성막 롤러 수용부(74)는, 상기 성막 롤러(70), 상기 보조 롤러(71), 복수의 성막용 마스크(203), 상기 압력 분리용 격벽(88)의 일부 등을 수용하고, 상기 안내 롤러 수용부(76)는, 상기 안내 롤러(72)를 수용한다.The
상기 성막 롤러 수용부(74)는, 좌우의 제1 챔버 개구 측면(77)을 갖고, 각 개구 측면(77)에 각각 큰 개구(80)가 형성되어 있다. 성막 롤러 수용부(74)의 내부 공간은 상기 각 개구(80)를 통해 좌우 프로세스 챔버(66, 68)의 내부 공간과 연통되는 것이 가능하다.The film forming
상기 안내 롤러 수용부(76)는 상기 성막 롤러 수용부(74)의 상측에 위치하고, 또한 당해 성막 롤러 수용부(74)보다도 좌우 방향, 즉, 피성막재(10)의 반송 방향과 평행한 방향에 대해 긴 형상을 갖는다. 바꾸어 말하면, 안내 롤러 수용부(76)의 좌우 방향의 양단부는 상기 성막 롤러 수용부(74)보다도 당해 좌우 방향으로 밀려나와 있다. 이들 부분의 단부면은 제2 챔버 개구 측면에 상당하고, 이들 제2 챔버 개구 측면에 각각 메인 챔버(64)의 입구(81) 및 출구(82)가 형성되어 있다. 상기 챔버 지지부(20)는, 상기 입구(81) 및 출구(82)가 각각 상기 탈가스 유닛(14)의 출구(44) 및 상기 권취 유닛(18)의 입구(62)에 연결되는 높이 위치에 상기 메인 챔버(64)를 지지한다.The guide
도 1 및 도 2에 도시되는 메인 챔버(64)는, 전체가 일체로 형성된 것이지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 제작의 사정으로, 성막 롤러 수용부(74)와 안내 롤러(76) 수용부가 각각 별개로 형성되고 나서 이들이 결합된 것이어도 된다.The
상기 성막 롤러(70)는, 상술한 바와 같이 장치의 전후 방향과 평행한 회전 중심축 X를 중심으로 하는 원통 형상의 외주면을 갖고, 이 외주면 상에 상기 피성막재(10)가 권취되도록 세트된 상태에서 당해 축 X 주위로 회전 가능해지도록 상기 성막 롤러 수용부(74)에 지지된다.As described above, the film-forming
상기 성막 롤러 수용부(74)에 수용되는 격벽(88)은, 후술하는 바와 같이 상기 제1 및 제2 프로세스 챔버(66, 68)에 수용되는 격벽(88)과 함께, 성막 롤러(70)의 주위의 공간을 복수의 성막 존(204)으로 구획하여 각 성막 존(204)의 압력을 서로 분리한다. 또한, 개구를 갖는 각 성막용 마스크(203)는, 상기 성막 롤러(70)의 외주면의 근방에 배치되고, 피성막재(10) 중 상기 각 성막용 마스크(203)의 개구에 대응하는 부분에만 스퍼터막이 부착되도록 부착 영역을 제한한다.The
상기 좌우의 보조 롤러(71)는, 상기 성막 롤러(70)의 바로 위쪽의 위치에 배치되고, 상기 피성막재(10)가 상기 성막 롤러(70)의 외주면 중 그 상단 부분을 제외한 면 상에 권취되도록 당해 피성막재(10)를 안내한다. 이들 보조 롤러(71)는, 상기 성막 롤러 수용부(74)가 아니라 상기 안내 롤러 수용부(76)에 수용되어도 된다. 또한, 각 보조 롤러(71)는 피성막재(10)의 장력을 검출하는 장력 검출 롤러로서 사용되는 것도 가능하다.The left and right
상기 안내 롤러(72)는, 상기 안내 롤러 수용부(76) 내에서 좌우 방향으로 늘어서듯이 배열된다. 이들 안내 롤러(72)의 일부는, 상기 탈가스 유닛(14)으로부터 상기 성막 롤러(70)로 피성막재(10)를 안내하도록 배치되고, 나머지는 상기 성막 롤러(70)로부터 상기 권취 유닛(18)으로 피성막재(10)를 안내하도록 배치된다. 이들 안내 롤러(72)에는, 구동식의 수냉 롤러가 포함되어 있어도 된다.The
또한, 이 성막 장치에 포함되는 상기한 롤러류는 모두 상기 성막 롤러(70)의 회전 중심축 X와 평행한 축(즉, 장치의 전후 방향으로 연장되는 축) 주위로 회전 가능하게 배치되고, 상기 피성막재(10)는 이들 축과 직교하는 방향으로 반송된다.All of the rollers included in the film forming apparatus are rotatably disposed about an axis parallel to the rotation center axis X of the film forming roller 70 (i.e., an axis extending in the front-rear direction of the apparatus) The
상기 좌우의 프로세스 챔버(66, 68)는, 상기 성막 롤러 수용부(74)의 좌우 개구 측면(77)에 형성된 개구(80)를 좌우 양 외측으로부터 막도록 배치됨과 함께, 상기 성막 롤러 수용부(74)와 협동하여 상기 성막 롤러(70)의 주위에 성막용의 공간, 즉, 상기 격벽(88)에 의해 구획된 복수의 성막 존(204)을 형성한다. 각 프로세스 챔버(66, 68)는, 상기 성막 프로세스용 기기의 적어도 일부를 수용하고, 그 수용물과 함께, 상기 메인 챔버 유닛에 대해 이동 가능한 프로세스 챔버 유닛을 구성한다. 각 성막 프로세스용 기기는, 상기 성막 롤러(70)의 외주면을 따라 배치되고, 당해 성막 롤러(70)의 외주면 상을 그 회전 방향으로 이동하는 피성막재(10)에 대해 성막 프로세스를 실행한다.The left and
이 실시 형태에 관한 프로세스 챔버(66, 68)가 수용하는 성막 프로세스용 기기에는, 복수의 스퍼터원(84), 복수의 터보 분자 펌프(86), 상기 복수의 격벽(88)의 일부, 도시되지 않는 콜드 트랩 등이 포함된다. 상기 각 스퍼터원(84)은, 스퍼터링을 위한 타깃(85)을 보유 지지함과 함께, 성막 유닛(16) 내의 복수의 위치에 설치된 격벽(88)에 의해 각각 둘러싸인 성막 존(204) 내에 각각 배치되고, 아르곤 가스 등의 소정의 분위기 중에서 고전압의 인가를 받음으로써, 상기 타깃(85)의 일부를 성막용 마스크를 통해 성막 롤러(70)의 외주면 상의 피성막재(10)의 표면에 스퍼터링한다. 각 터보 분자 펌프(86)는, 상기 프로세스 챔버(66, 68) 내의 배기를 행하도록 작동한다.A plurality of sputter circles 84, a plurality of turbo
상기 각 프로세스 챔버(66, 68)는, 내측으로 개구되는 형상, 즉, 상기 성막 롤러(70) 및 이것을 수용하는 상기 성막 롤러 수용부(74)를 향해 개구되는 상자 형상을 이룬다. 구체적으로, 각 프로세스 챔버(66, 68)는, 좌우 양 외측에 각각 위치하는 외측벽(90)과, 이 외측벽(90)의 주연으로부터 내측으로 연장되는 주위벽(92)을 갖는다. 따라서, 상기 성막 롤러 수용부(74)의 좌우의 제1 챔버 개구 측면(77)은 상기 각 프로세스 챔버(66, 68)의 상기 성막 롤러 수용부(74)측의 개구에 부합된다.Each of the
각 프로세스 챔버(66, 68)는, 이후에 상세하게 설명하는 챔버 지지부(20)에 지지되면서, 도 2에 실선으로 나타내는 정규 위치와, 도 2에 이점 쇄선으로 나타내는 퇴피 위치 사이에서 이동하는 것이 허용되어 있다. 상기 정규 위치에서는, 각 프로세스 챔버(66, 68)가 상기 개구(80)를 막는[이 실시 형태에서는 각 프로세스 챔버(66, 68)의 주위벽(92)의 내측 단부면이 상기 개구(80)의 주위에 배치된 시일 부재(79)(도 3)를 사이에 두고 밀착하는] 것에 의해 성막 롤러 수용부(74)의 내부를 밀폐하고, 당해 성막 롤러 수용부(74)와 협동하여 복수의 성막 존(204)을 형성한다.Each of the
상기 퇴피 위치는 상기 프로세스 챔버(66, 68)가 각각 상기 정규 위치로부터 좌우 방향의 외측에 근소한 스트로크로 퇴피한 위치이며, 이 위치로부터 당해 프로세스 챔버(66, 68)가 전후 방향으로 이동하는 경우에 당해 프로세스 챔버(66, 68)와 상기 성막 롤러(70)의 간섭을 피할 수 있는 위치이다. 상기 정규 위치로부터 상기 퇴피 위치까지의 스트로크는, 당해 퇴피 위치로부터 성막 롤러(70)와 간섭하는 일 없이 프로세스 챔버(66, 68)가 전후 방향으로 이동하는 것을 가능하게 하는 정도로 크게 설정되고, 또한 당해 퇴피 위치에 있어서 각 프로세스 챔버(66, 68)와 좌우 양 외측에 각각 인접하는 유닛[이 실시 형태에서는 상류측 유닛인 탈가스 유닛(14) 및 하류측 유닛인 권취 유닛(18)]의 간섭을 피할 수 있는 정도로 작게 설정되어 있다.The retracted position is a position where the
이 실시 형태에서는, 상기 스퍼터원(84), 상기 터보 분자 펌프(86) 및 상기 격벽(88) 중 다수는 각각 상기 프로세스 챔버(66, 68)의 외측벽(90) 및 주위벽(92)에 고정되고, 격벽(88)의 나머지는 상기 메인 챔버(64)의 내벽에 고정되어 있다.In this embodiment, many of the
상기 안내 롤러 수용부(76)는 천장 덮개(94)를 갖고, 이 천장 덮개(94)에, 복수의 개구[이 실시 형태에서는 중앙 개구(95) 및 좌우 개구(96)]가 형성됨과 함께, 각 개구(95, 96)를 각각 개폐하는 도어(97, 98)가 힌지를 통해 설치되어 있다. 상기 개구(95, 96)는, 상기 안내 롤러 수용부(76)에 수용되는 각 안내 롤러(72)를 상방으로 개방함으로써, 이들 개구(95, 96)를 통해 상기 각 안내 롤러(72)에 대해 작업원이 상방으로부터 액세스하는 것을 가능하게 한다.The guide
상기 챔버 지지부(20)는, 지반 상에 설치되는 베이스(100)와, 이 베이스(100) 상에 세워 설치되는 복수의 지주(102)와, 상기 베이스(100) 상에 조립 장착된, 후술하는 가이드 레일(110) 등을 포함하는 좌우의 프로세스 챔버 지지부(104)를 갖는다. 상기 지주(102)는 상기 성막 유닛(16) 중 메인 챔버(64)를 정지 상태로 지지한다. 상기 좌우의 프로세스 챔버 지지부(104)는, 상기 좌우의 프로세스 챔버(66, 68)를 각각 상기한 정규 위치와 이 정규 위치로부터 퇴피한 위치 사이에서 이동 가능해지도록 지지한다.The
상기 각 프로세스 챔버 지지부(104)는, 제1 지지부(106)와, 제2 지지부(108)를 포함한다. 각 제1 지지부(106)는, 상기 프로세스 챔버(66, 68)를 상기 성막 롤러(70)의 중심축과 직교하는 좌우 방향으로 안내함으로써, 당해 프로세스 챔버(66, 68)가 상기한 정규 위치, 즉, 각 프로세스 챔버(66, 68)가 상기 메인 챔버(64)의 개구(80)를 각각 막는 위치와, 이 정규 위치로부터 상기 좌우 방향의 양 외측으로 퇴피하는 퇴피 위치 사이에서 이동하는 것을 허용하도록 당해 프로세스 챔버(66, 68)를 각각 지지한다. 제2 지지부(108)는, 상기 각 프로세스 챔버(66, 68) 및 이들을 지지하는 제1 지지부(106)를 각각 상기 성막 롤러(70)의 중심축과 평행한 전후 방향으로 이동 가능하게 지지함으로써, 당해 프로세스 챔버(66, 68)가 상기 각 개구(80)에 대향하는 위치(예를 들어 상기 퇴피 위치)와, 이 위치로부터 상기 전후 방향(이 실시 형태에서는 모두 후방)으로 이격됨으로써 당해 프로세스 챔버(66, 68)의 내부를 노출시키는 노출 위치 사이에서 이동하는 것을 허용한다.Each of the process
이 실시 형태에 관한 각 제2 지지부(108)는, 한 쌍의 가이드 레일(110)과 한 쌍의 주행체(112)를 갖는다. 상기 각 가이드 레일(110)은, 전후 방향으로 연장되도록 상기 베이스(100) 상에 부설된다. 상기 각 주행체(112)는 상기 제1 지지부(106)를 하방으로부터 지지하면서 상기 각 레일(110)을 따라 주행한다. 구체적으로, 주행체(112)는, 각각의 가이드 레일(110) 상을 전동 가능한 복수의 차륜(114)과, 이들 차륜(114)을 좌우 방향의 축 주위로 회전 가능하게 보유 지지하는 보행대(116)를 갖고, 이들 보행대(116) 상에 상기 제1 지지부(106)가 지지된다. 각 주행체(112)는, 상기 차륜(114)을 구동하는 자주용 모터를 탑재해도 되고, 당해 주행체(112)의 외부에 설치되는 구동 기구(예를 들어 볼 나사 기구)에 의해 구동되어도 된다. 혹은 인력 또는 이것을 보조하는 힘에 의해 움직이게 되어도 된다.Each of the
상기 각 제1 지지부(106)는, 전후 한 쌍의 슬라이드 지지 부재(118)와, 상기 각 프로세스 챔버(66, 68)의 저면에 고정되는 복수의 슬라이더(120)를 갖는다. 상기 각 슬라이드 지지 부재(118)는, 좌우 방향으로 연장되고, 서로 전후 방향으로 이격된 위치에서 좌우의 보행대(116)에 걸치도록 이들 보행대(116)에 가설된다. 각 슬라이더(120)는, 예를 들어 LM 가이드 등으로 이루어지고, 상기 슬라이드 지지 부재(118)의 길이 방향(즉, 장치의 좌우 방향)을 따라 슬라이드 가능해지도록 당해 슬라이드 지지 부재(118)에 결합하고, 이에 의해, 대응하는 프로세스 챔버(66 또는 68)를 당해 좌우 방향으로 슬라이드 가능하게 지지한다. 이들 프로세스 챔버(66, 68)의 슬라이드는, 예를 들어 당해 프로세스 챔버(66, 68)에 연결되는 실린더의 상기 좌우 방향의 신축에 의해 행해져도 되고, 작업원에 의한 직접적인 수동 조작으로 행해져도 된다.Each of the
이와 같이, 프로세스 챔버 지지부(104)는, 상기 각 프로세스 챔버(66, 68)가 상기 정규 위치(도 1 및 도 2에 도시하는 성막용 위치)와, 상기 노출 위치[도 3 및 도 4에 도시하는 바와 같이 당해 프로세스 챔버(66, 68)가 메인 챔버(64)로부터 완전히 후방으로 이격되어 당해 프로세스 챔버(66, 68)의 내부가 노출되는 위치] 사이에서 이동하는 것을 허용한다.1 and 2) and the exposure position (as shown in Figs. 3 and 4), the process
상기 노출 위치는, 성막 유닛(16)의 유지 보수 등을 위한 위치이며, 반드시 일정한 위치에 특정될 필요는 없다. 바람직하게는, 상기 제1 및 제2 프로세스 챔버(66, 68) 중 적어도 한쪽의 프로세스 챔버가 다른 쪽의 프로세스 챔버의 전후 방향의 치수보다도 큰 거리로 상기 메인 챔버(64)로부터 전후 방향으로 이격될 수 있도록 당해 프로세스 챔버의 이동 스트로크가 설정되는 것이 바람직하다. 도 3 및 도 4에 나타내는 예에서는, 양쪽의 프로세스 챔버(66, 68)가 이들 프로세스 챔버(66, 68)의 전후 방향의 치수를 초과하는 거리로 상기 메인 챔버(64)로부터 이격되는 것이 가능해지도록, 바꾸어 말하면, 예를 들어 도 3 및 도 4에 도시하는 바와 같이 양쪽의 프로세스 챔버(66, 68)가 동시에 메인 챔버(64)로부터 이격되고 또한 서로 좌우 방향으로 겹치지 않는 배치를 취할 수 있도록, 각각의 스트로크가 충분히 크게 설정되어 있다.The exposure position is a position for maintenance or the like of the
이 실시 형태에 관한 성막 장치는, 이상의 구성 요소 외에, 도 4에 도시하는 좌우의 전원반(121, 122), 좌우의 제어반(123, 124), 좌우의 가동 배선 수용부(125, 126), 복수의 러핑 펌프(128), 성막 롤러 온도 조절 유닛(130)과 같은 부속 설비를 구비하고, 이들은 모두 상기 성막 유닛(16)의 후방의 영역, 즉, 상기 양 프로세스 챔버(66, 68)의 노출 위치가 존재하는 측의 영역에 배치되어 있다.The film forming apparatus according to this embodiment includes the left and right power supplies 121 and 122, the left and
각 전원반(121, 122) 및 제어반(123, 124)은 상기 성막 유닛(16) 내의 적당한 기기에 접속된다. 상기 러핑 펌프(128)는 도시하지 않은 러핑 배관을 통해 상기 성막 유닛(16)의 터보 분자 펌프(86)에 접속된다. 이 실시 형태에서는, 정규 위치를 향해 폐쇄 방향으로 동작하는 프로세스 챔버(66, 68)가 메인 챔버(64)와 연결될 때에 러핑 배관끼리도 연결되는 구조로 되어 있다. 상기 성막 롤러 온도 조절 유닛(130)은, 도 3에 도시되는 온도 조절용 배관(133)을 통해 상기 성막 롤러(70)에 접속되고, 열매의 순환에 의해 성막 롤러(70)의 온도를 조절한다. 각 가동 배선 수용부(125, 126)는 각 프로세스 챔버(66, 68)와 각각 일체로 이동하도록 이들에 부설되고, 당해 프로세스 챔버(66, 68)에 접속되어야 할 배관이나 배선을 한꺼번에 수용한다. 각 스퍼터원(84)의 통전은, 예를 들어 프로세스 챔버(66, 68)의 개폐 동작에 연동하여 접속이 온 오프되는 도시 생략의 소켓 삽입 구조에 의해 실현된다. 상기 러핑 펌프(128)나 성막 롤러 온도 조절 유닛(130)은, 도 4에 도시되는 바와 같이 성막 장치의 본체 부분의 근방에 배치되어도 되고, 당해 본체 부분으로부터 이격된 별실에 설치되어도 된다.Each of the
또한, 이 성막 장치는, 도 3 및 도 4에 도시하는 바와 같은 전방측 및 후방측 발판 유닛(131, 132)을 구비한다. 이들 유닛(131, 132)은, 상기 성막 유닛(16) 및 탈가스 유닛(14)의 전후에 각각 발판을 형성하는 것으로, 적당한 높이 위치에 배치되는 답입판(134), 답입판(134)에 대한 승강을 위한 계단(136), 안전용의 울타리(138) 등을 갖는다. 이들 발판 유닛(131, 132)은, 상기 메인 챔버(64)에 있어서의 안내 롤러 수용부(76)의 상측 개구인 개구(95, 96)를 통해 작업원이 상기 메인 챔버(64) 내의 통지나 각 롤러의 유지 보수의 작업을 행하는 것을 가능하게 한다.The film forming apparatus also includes front and rear
도 3에 도시하는 바와 같이, 상기 성막 유닛(16)의 후방의 공간, 즉, 상기 각 프로세스 챔버(66, 68)의 노출 위치가 존재하는 측의 공간의 상방에는, 호이스트(142)가 설치되어 있다. 이 호이스트(142)는, 공장의 천장 프레임(140)에 당해 천장 프레임(140)을 따라 수평 방향(적어도 좌우 방향)으로 이동 가능해지도록 설치되고, 훅(144)을 통해 비교적 큰 중량(예를 들어 40∼50㎏ 정도)의 타깃(85) 등의 매달아 올림을 행한다. 이 실시 형태에서는, 도 3 및 도 4에 도시되는 제1 프로세스 챔버(66)가 존재하는 위치, 즉, 프로세스 챔버가 풀 스트로크로 후퇴하는 위치[도 3 및 도 4에 도시되는 제2 프로세스 챔버(68)가 존재하는 위치]와 메인 챔버(64) 사이의 중간 위치의 상방에 상기 호이스트(142)가 좌우 방향으로 이동 가능해지도록 설치되고, 이 중간 위치에서 상기 호이스트(142)를 사용한 타깃(85) 등의 끌어올림 및 반송 작업이 행해진다. 이 작업에 대해, 상기 베이스(100)는 발판으로서도 기능한다. 당해 베이스(100)에 더하여 적절히 도 4에 도시하는 바와 같은 발판용의 디딤대(146, 148)가 추가되는 것도 가능하다.3, a hoist 142 is provided above the space behind the
다음으로, 이 성막 장치의 작용에 대해 설명한다.Next, the operation of the film forming apparatus will be described.
우선, 성막을 행하는 데 있어서는, 성막 유닛(16)의 각 프로세스 챔버(66, 68)가 도 1 및 도 2에 도시되는 정규 위치, 즉, 이들 프로세스 챔버(66, 68)가 메인 챔버(64)의 성막 롤러 수용부(74)의 좌우 개구를 막아 당해 성막 롤러 수용부(74)와 함께 성막 공간을 형성하는 위치에 세트된다. 이 상태에서, 피성막재(10)는 권출 유닛(12), 탈가스 유닛(14), 성막 유닛(16) 및 권취 유닛(18)의 순으로 좌우 방향으로 반송되고, 성막 유닛(16)에서는 상기 피성막재(10)의 표면에 대한 성막 처리가 실행된다. 이 성막 처리는, 성막 롤러(70)와, 그 주위에 배치되는 성막 프로세스용 기기[구체적으로는 프로세스 챔버(66, 68)에 수용되는 스퍼터원(84), 터보 분자 펌프(86)나, 성막 롤러 수용부(74)에 수용되는 성막용 마스크(203) 등]에 의해 실행된다.First, in the film formation, the
성막 유닛(16)에 관한 부품의 교환이나 유지 보수 시에는, 당해 성막 유닛(16)에 포함되는 메인 챔버 유닛, 즉, 메인 챔버(64) 및 그 수용물로 이루어지는 유닛을 남기고 좌우의 프로세스 챔버 유닛, 즉, 프로세스 챔버(66, 68) 및 그 수용물로 이루어지는 유닛을 상기 정규 위치로부터 예를 들어 도 3 및 도 4에 도시하는 노출 위치까지 이동시키는 것이 행해진다. 이 이동은, 상기 각 프로세스 챔버(66, 68)를 상기 정규 위치로부터 제1 지지부(108)의 슬라이드 지지 부재(112)를 따라 좌우 양 외측에 근소하게 이격된 퇴피 위치까지 이동시키는 것과, 이 퇴피 위치로부터 제2 지지부(106)의 가이드 레일(110)을 따라 전후 방향(이 실시 형태에서는 후방)으로 충분한 거리만큼 이동시키는 것, 즉, 그 프로세스 챔버(66, 68)의 내부가 완전히 노출되는 노출 위치까지 이동시키는 것에 의해 실현된다. 이 상태에서, 그 이동한 프로세스 챔버 유닛에 관한 작업, 즉, 프로세스 챔버의 내부의 성막 프로세스용 기기에 관한 작업, 예를 들어 스퍼터원(84)이 보유 지지하는 타깃(85)의 교환이나 격벽(88)의 청소 작업이 가능함과 함께, 당해 프로세스 챔버의 이동에 의해 개방된 메인 챔버(64)의 개구(80)를 통해 메인 챔버 유닛에 관한 작업, 예를 들어 뱃치마다의 성막용 마스크(203)의 교환, 성막 롤러(70)나 보조 롤러(71)의 청소 등이 가능하다.The
이러한 작업은 좌우의 프로세스 챔버(66, 68)에 대해 순서대로 행해져도 되지만, 이 프로세스 챔버(66, 68)를 동시에 노출 위치까지 이동시킴으로써, 작업 효율은 더욱 높아진다. 또한, 프로세스 챔버(66, 68)의 이동 스트로크가 충분히 크게 설정되어 있으면, 예를 들어 도 3 및 도 4에 도시하는 바와 같이, 한쪽의 프로세스 챔버[도 3 및 도 4에서는 좌측 프로세스 챔버(66)]는 최후방 위치까지 이동시키고, 다른 쪽의 프로세스 챔버[도 3 및 도 4에서는 우측 프로세스 챔버(68)]는 상기 한쪽의 프로세스 챔버와 메인 챔버(64) 사이의 위치이며 이들 챔버와 좌우 방향으로 겹치지 않는(즉, 서로 방해가 안 되는) 중간 위치로 이동시킴으로써, 양쪽의 프로세스 챔버(66, 68)에 대해 충분히 큰 작업 스페이스를 확보할 수 있다.This operation can be performed in sequence with the left and
예를 들어, 도 3 및 도 4에 도시하는 배치에서는, 중간 위치에 존재하는 우측 프로세스 챔버(68)에 대해 작업원은 파선 L1로 나타내는 경로에서 장치의 좌측으로부터 액세스하는 것이 가능하고, 당해 중간 위치에 설치되어 있는 호이스트(142)를 사용하여 동 경로를 따라 타깃(85) 등의 반입 및 반출을 행할 수 있다. 이 반입·반출물은, 예를 들어 도시 생략의 대차를 사용하여 성막 장치의 먼 곳의 개소와 도 4에 도시하는 디딤대(146) 사이에서 이송하는 것이 가능하다. 또한, 이것과 반대의 경로에서 좌측 프로세스 챔버(66), 즉, 우측 프로세스 챔버(68)를 완전히 넘는 위치까지 메인 챔버(64)로부터 이격되어 있는 프로세스 챔버에 대해서도, 마찬가지로 유지 보수 등의 작업을 행할 수도 있다. 구체적으로, 작업원은, 예를 들어 도 4에 도시되는 상태에서는, 파선 L3으로 나타내어지는 경로에서 좌측 프로세스 챔버(66)에 액세스하는 것이 가능하다. 또한, 프로세스 챔버(66, 68)의 이동에 의해 개방된 메인 챔버(64)의 개구(80)를 통해 도 4에 파선 L2로 나타내는 경로에서 성막용 마스크(203) 등의 반출입을 행하는 것이 가능하다. 또한, 좌우의 프로세스 챔버(66, 68)를 도 4에 도시되는 배치와는 반대로 배치함으로써, 예를 들어 파선 L4로 나타내어지는 경로에서 반대측의 마스크(203) 등의 반출입을 행할 수도 있다. 또한, 장치 정면측으로부터 예를 들어 파선 L5, L6으로 나타내어지는 경로에서 성막용 마스크(203)의 반출입을 행하는 것도 가능하다.For example, in the arrangement shown in Figs. 3 and 4, with respect to the
본 발명은 이상 설명한 실시 형태에 한정되지 않는다.The present invention is not limited to the embodiments described above.
예를 들어, 상기 각 프로세스 챔버(66, 68)의 전후 방향에 관한 이동의 방향은, 서로 역방향으로 설정되어도 된다. 예를 들어 좌측 프로세스 챔버(66)는 전방측, 우측 프로세스 챔버(68)는 전방측으로 이동하도록 가이드 레일(110)이 부설되어도 된다. 그러나, 양 프로세스 챔버(66, 68)의 이동의 방향을 통일하는 것, 예를 들어 도 3 및 도 4에 도시하는 바와 같이 모두 후방측으로 설정하는 것은, 장치 전체의 점유 스페이스의 대폭적인 삭감을 가능하게 하고, 또한 각 프로세스 챔버(66, 68)에 관한 유지 보수 등의 작업의 효율을 보다 높이는 것을 가능하게 한다.For example, the directions of movement of the
본 발명에 관한 장치는 복수의 성막 유닛(16)을 포함해도 된다. 이 경우, 이들 성막 유닛(16)은 예를 들어 도 1 및 도 2에 도시하는 좌우 방향으로 배열되도록 배치되어도 된다.The apparatus according to the present invention may include a plurality of
또한, 본 발명에 관한 상류측 유닛 및 하류측 유닛도 구체적으로 한정되지 않는다. 도 1∼도 4에 도시하는 실시 형태에서는, 성막 유닛(16)을 기준으로 하여, 탈가스 유닛(14)이 상류측 유닛에 상당하고, 권취 유닛(18)이 하류측 유닛에 상당하지만, 탈가스 유닛(14)이 생략되는 경우에는 권출 유닛(12)이 상류측 유닛에 상당할 가능성이 있다. 반대로, 성막 후의 처리를 행하는 후처리 유닛이 존재하는 경우에는, 당해 후처리 유닛이 하류측 유닛에 상당할 가능성이 있다.Further, the upstream unit and the downstream unit according to the present invention are not particularly limited. In the embodiment shown in Figs. 1 to 4, the degassing
상류측 및 하류측 유닛이 어떠한 유닛이라도, 본 발명은 이들 유닛을 성막 유닛의 상측에 배치하는 일 없이 그 좌우 양측에 콤팩트하게 배치하면서, 또한 유지 보수 등을 위한 충분한 작업 스페이스를 확보한다고 하는 효과를 발휘한다. 구체적으로, 본 발명에서는, 성막 유닛을 구성하는 프로세스 챔버가 그 정규 위치로부터 퇴피 위치까지 좌우 방향으로 이동할 필요가 있지만, 이 퇴피 위치는 당해 프로세스 챔버의 전후 방향의 이동에 수반하는 당해 프로세스 챔버와 성막 롤러 등의 간섭을 피할 수 있는 정도로 정규 위치로부터 근소하게 이격되는 위치라면 충분하고, 따라서 당해 성막 유닛의 좌우 양측에 인접하는 위치에 상기 상류측 및 하류측 유닛을 배치하는 것이 가능하다. 또한, 상기 퇴피 위치로부터 노출 위치까지 상기 프로세스 챔버를 전후 방향으로 크게 이동시킴으로써, 당해 프로세스 챔버 및 남겨진 메인 챔버의 양쪽에 대해 유지 보수 등의 작업을 지장없이 행할 수 있다.Even if the upstream side and the downstream side units are any unit, the present invention is advantageous in that these units are arranged compactly on both the left and right sides of the film forming unit without being disposed on the upper side of the film forming unit and a sufficient working space for maintenance or the like is ensured I will exert. Specifically, in the present invention, it is necessary for the process chamber constituting the film forming unit to move leftward and rightward from the normal position to the retreat position. However, this retreat position is not limited to the process chamber in which the process chamber and the film- It is sufficient if the position is slightly spaced apart from the normal position to such an extent as to avoid the interference of the rollers and the like. Therefore, it is possible to arrange the upstream side and the downstream side units at positions adjacent to the left and right sides of the film formation unit. Further, by moving the process chamber from the retracted position to the exposed position largely in the longitudinal direction, it is possible to perform operations such as maintenance on both the process chamber and the main chamber left without hindrance.
이상과 같이, 본 발명에 따르면, 성막 유닛을 포함하는 복수의 유닛을 구비한 성막 장치이며, 이들 유닛을 상하로 겹치는 일 없이 배치하면서, 상기 성막 유닛에 장비되는 각 성막 프로세스용 기기의 교환이나 유지 보수를 위한 작업 스페이스를 넓게 확보하는 것이 가능한 것이 제공된다. 이 성막 장치는, 특정 방향으로 연장되는 띠 형상의 피성막재를 그 길이 방향으로 반송하면서 당해 피성막재의 표면에 성막을 실시하는 것이며, 성막 유닛과, 이 성막 유닛보다도 상기 피성막재의 반송 방향의 상류측에 배치되는 상류측 유닛과, 상기 성막 유닛보다도 상기 피성막재의 반송 방향 하류측에 배치되는 하류측 유닛을 구비한다. 상기 성막 유닛은, 수평한 회전 중심축 주위로 회전 가능한 성막 롤러와, 이 성막 롤러의 주위에 배치되는 복수의 성막 프로세스용 기기와, 상기 상류측 유닛 및 상기 하류측 유닛과 상기 성막 롤러 사이에서 상기 피성막재의 안내를 행하도록 배치되는 복수의 안내 롤러와, 상기 성막 롤러를 수용하는 성막 롤러 수용부 및 그 상측에 위치하여 상기 안내 롤러의 적어도 일부를 수용하는 안내 롤러 수용부를 갖는 메인 챔버와, 상기 성막 롤러의 중심축의 방향과 직교하는 좌우 방향에 대해 상기 성막 롤러 수용부의 양측에 각각 배치되고, 상기 성막 프로세스용 기기의 적어도 일부를 각각 수용하고, 상기 성막 롤러 수용부측을 향한 개구를 갖는 제1 프로세스 챔버 및 제2 프로세스 챔버와, 이들 제1 및 제2 프로세스 챔버를 지지하는 프로세스 챔버 지지부를 갖는다. 상기 성막 롤러 수용부는, 상기 성막 롤러의 좌우 방향의 양측에 위치하고, 상기 제1 및 제2 프로세스 챔버의 상기 성막 롤러 수용부측의 개구에 부합되는 좌우의 제1 챔버 개구 측면을 갖는다. 상기 안내 롤러 수용부는, 상기 성막 롤러 수용부의 좌우의 제1 챔버 개구 측면보다도 상기 좌우 방향의 양측으로 연장되는 부분을 갖고, 이들 부분이 상기 상류측 유닛 및 상기 하류측 유닛에 각각 접속되는 좌우의 제2 챔버 개구 측면을 갖는다. 상기 프로세스 챔버 지지부는, 상기 제1 및 제2 프로세스 챔버를, 당해 프로세스 챔버가 상기 성막 롤러 수용부의 개구를 덮어 상기 메인 챔버와 함께 성막 공간을 형성하는 정규 위치와 이 정규 위치로부터 상기 상류측 유닛 및 상기 하류측 유닛보다도 내측의 범위 내에서 좌우 방향의 외측으로 퇴피하는 퇴피 위치 사이에서 이동 가능하게 지지함과 함께, 당해 퇴피 위치와 이 퇴피 위치로부터 상기 성막 롤러의 회전 중심축과 평행한 방향인 전후 방향으로 이격된 위치이며 상기 프로세스 챔버의 내부가 노출되는 노출 위치 사이에서 이동 가능해지도록 지지한다.As described above, according to the present invention, there is provided a film forming apparatus including a plurality of units including a film forming unit, wherein the units are arranged without overlapping up and down, It is possible to secure a large working space for maintenance. The film forming apparatus is a film forming apparatus that forms a film on a surface of a film forming material while conveying the film forming material extending in a specific direction in the longitudinal direction thereof and includes a film forming unit and a film forming unit, An upstream-side unit disposed upstream and a downstream-side unit disposed downstream of the film forming unit in a transport direction of the film-forming material. Wherein the film forming unit includes a film forming roller that is rotatable about a horizontal rotation center axis, a plurality of film forming process equipments arranged around the film forming roller, A main chamber having a plurality of guide rollers arranged so as to guide the material to be coated and a guide roller receiving portion for receiving at least a part of the guide roller located above the film forming roller holding portion for holding the film forming roller; A first process, which is disposed at both sides of the film-forming roller receiving portion with respect to the left and right direction orthogonal to the direction of the central axis of the film-forming roller, and which has at least a part of the film- A chamber, and a second process chamber, and a process chamber support for supporting the first and second process chambers . The film-forming roller receiving portion has left and right first chamber opening side surfaces located on both sides in the left-right direction of the film-forming roller, and coinciding with the openings of the first and second process chambers on the side of the film- Wherein the guide roller receiving portion has a portion extending to both sides in the left and right direction with respect to the first chamber opening side surfaces of the left and right of the film-sheet holding portion, and the left and right guide members are connected to the upstream- 2 chamber opening side. Wherein the process chamber support portion is configured to move the first and second process chambers from a normal position in which the process chamber covers an opening of the film-sheet holding portion and forms a film-forming space together with the main chamber, And a retreat position retracted to the outside in the right and left direction within a range inward of the downstream unit, and is configured to move from the retreat position and the retracted position in a direction parallel to the rotation center axis of the film- And is movable between an exposure position where the interior of the process chamber is exposed.
이 성막 장치에 따르면, 성막 유닛에 대해 상류측 유닛 및 하류측 유닛을 (성막 유닛의 상측)이 아니라 성막 유닛의 좌우 양측에 배치하면서, 성막 유닛에 포함되는 각 기기, 예를 들어 성막 롤러나 성막 프로세스용 용기의 유지 보수나 교환의 작업에 필요한 스페이스를 충분히 확보하는 것이 가능하다.According to this film-forming apparatus, the upstream-side unit and the downstream-side unit are disposed not on the upper side of the film-forming unit but on both left and right sides of the film-forming unit with respect to the film-forming unit, It is possible to secure a sufficient space required for the maintenance or replacement work of the process container.
구체적으로, 이 장치에서는, 성막 유닛을 구성하는 챔버가 성막 롤러 수용부 및 안내 롤러 수용부를 갖는 메인 챔버와 제1 및 제2 프로세스 챔버로 분할됨과 함께, 제1 및 제2 프로세스 챔버는, 성막을 위한 정규 위치로부터 그 좌우 방향의 외측으로 퇴피하는 퇴피 위치와 당해 제1 및 제2 프로세스 챔버의 내부가 노출되는 노출 위치 사이에서 전후 방향으로 이동 가능하므로, 당해 제1 및 제2 프로세스 챔버를 각각 상기 노출 위치, 즉, 상기 메인 챔버 및 상류측·하류측 유닛으로부터 전후 방향으로 이격된 위치로 이동시킴으로써, 당해 제1 및 제2 프로세스 챔버에 수용되는 각 성막 프로세스용 기기의 유지 보수 작업이나 교환 작업(예를 들어 타깃이나 실드판의 교환 작업, 청소 작업)을 행할 수 있음과 함께, 상기 성막 롤러 수용부에 관한 작업(예를 들어 당해 성막 롤러 수용부에 수용되어 있는 성막 롤러 등의 청소나 유지 보수의 작업이나 성막용 마스크 등의 교환 작업)을 상기 제1 챔버 개구 측면의 개구를 통해 행할 수 있고, 또한 이들 작업을 위한 스페이스를 충분히 확보할 수 있다.Specifically, in this apparatus, the chamber constituting the film forming unit is divided into the main chamber and the first and second process chambers each having the film-forming roller receiving portion and the guide roller receiving portion, and the first and second process chambers are formed The first and second process chambers can be moved in the forward and backward directions between the retreat position retracted from the normal position for the left and right directions and the exposure position for exposing the inside of the first and second process chambers, By moving the main chamber and the main chamber and the positions spaced apart from the main chamber and the upstream and downstream units in the exposure position, the maintenance work or the replacement work of each of the deposition processing apparatus accommodated in the first and second process chambers (For example, replacement of a target or a shield plate, cleaning work) can be performed, and an operation related to the film-sheet holding portion The cleaning operation and the maintenance of the film forming rollers housed in the film forming roller accommodating portion and the replacement operation of the film forming mask) can be performed through the opening in the side surface of the first chamber opening, It can be ensured sufficiently.
한편, 상기 정규 위치로부터 상기 퇴피 위치로의 좌우 방향의 프로세스 챔버의 이동량은, 당해 퇴피 위치로부터 상기 노출 위치로의 전후 방향의 이동을 가능하게 하는 정도(즉, 그 전후 방향의 이동 시에 당해 프로세스 챔버와 성막 롤러 등의 간섭을 피할 수 있는 정도)의 작은 것이면 되므로, 이 프로세스 챔버와 상기 상류측 및 하류측 유닛의 간섭을 피하면서 이들 상류측 및 하류측 유닛을 상기 성막 유닛에 대해 좌우 방향의 양측에 인접하는 위치에 배치하는 것이 가능하다.On the other hand, the amount of movement of the process chamber in the left-to-right direction from the normal position to the retracted position is determined by the degree of movement of the process chamber in the forward-backward direction from the retreat position to the exposure position It is possible to prevent interference between the process chamber and the upstream side and downstream side units while avoiding interference between the upstream side and the downstream side unit and the upstream side and the downstream side unit with respect to the film forming unit It is possible to arrange them at positions adjacent to both sides.
따라서, 이 장치에 따르면, 성막 유닛 및 그 상류측 및 하류측 유닛을 좌우 방향으로 콤팩트하게 배치하면서, 당해 성막 유닛의 전후 방향의 스페이스를 유효하게 활용하여, 당해 성막 유닛에 포함되는 각 기기의 유지 보수나 교환에 필요로 하는 작업 스페이스를 충분히 확보하는 것이 가능하다.Therefore, according to this apparatus, the film forming unit and its upstream side and downstream side unit are arranged compactly in the lateral direction, and the space in the front-rear direction of the film forming unit is effectively utilized, It is possible to secure a sufficient working space required for repair or replacement.
또한, 상기 성막 유닛을 구성하는 챔버가 상기 메인 챔버와 상기 제1 및 제2 프로세스 챔버로 분할되는 것은, 당해 챔버가 중량이나 형상, 크기에 관한 수송 제한을 클리어하는 것을 용이하게 한다.Further, the division of the chamber constituting the film forming unit into the main chamber and the first and second process chambers facilitates clearing the transportation restriction on the weight, shape, and size of the chamber.
여기서, 상기 프로세스 챔버 지지부는, 상기 제1 및 제2 프로세스 챔버가 각각 퇴피 위치로부터 전후 방향에 대해 동일한 측으로 이동하는 것을 허용하도록 지지하는 것이 바람직하다. 이와 같이, 제1 및 제2 프로세스 챔버가 전후 방향에 대해 동일한 측으로 이동하는 것, 즉, 각 제1 및 제2 프로세스 챔버의 노출 위치가 전후 방향에 대해 동일한 측에 있는 것은, 이들 프로세스 챔버에 수용되는 성막 프로세스용 기기의 유지 보수 등을 위해 필요한 설비나 그 이동을 위한 공간을 전후 방향에 대해 동일한 측에 집중시킬 수 있다. 이것은, 장치 전체의 점유 스페이스를 줄이고, 또한 상기 유지 보수 등의 작업의 효율을 높이는 것을 가능하게 한다.Here, it is preferable that the process chamber support portion supports the first and second process chambers respectively to allow movement from the retracted position to the same side in the front-rear direction. As described above, the fact that the first and second process chambers are moved to the same side with respect to the front-rear direction, that is, the exposure position of each of the first and second process chambers is on the same side with respect to the anteroposterior direction, It is possible to concentrate the equipment required for maintenance or the like of the film forming process apparatus or the space for the movement in the front and rear direction on the same side. This makes it possible to reduce the space occupied by the entire apparatus and to improve the efficiency of the maintenance work or the like.
이 경우, 상기 프로세스 챔버 지지부는, 상기 제1 및 제2 프로세스 챔버 중 적어도 한쪽의 프로세스 챔버가 다른 쪽의 프로세스 챔버의 전후 방향의 치수보다도 큰 거리로 상기 메인 챔버로부터 전후 방향으로 이격되도록 이동하는 것을 허용하도록 당해 제1 및 제2 프로세스 챔버를 지지하는 것이 바람직하다. 이것은, 양 프로세스 챔버가 각각의 퇴피 위치로부터 동시에 또한 전후 방향의 동일한 측으로 이동하고, 또한 이들 프로세스 챔버가 서로 좌우 방향으로 겹치지 않도록 위치하는 것, 즉, 상기 제1 및 제2 프로세스 챔버의 한쪽의 프로세스 챔버가 전후 방향에 대해 다른 쪽의 프로세스 챔버의 위치를 완전히 넘을 때까지 이동하는 것을 가능하게 한다. 이 배치에 따르면, 제1 및 제2 프로세스 챔버에 대해 동시에 또한 용이하게 액세스할 수 있으므로, 이들에 관한 유지 보수 등의 작업을, 이들 프로세스 챔버가 서로 방해가 되는 일 없이 동시에 효율적으로 행할 수 있다.In this case, the process chamber supporter may be configured such that at least one of the process chambers of the first and second process chambers is moved in the front-rear direction away from the main chamber at a distance larger than the length in the longitudinal direction of the other process chamber It is preferable to support the first and second process chambers. This means that both the process chambers are simultaneously moved from the respective retracted positions to the same side in the forward and backward direction and the process chambers are positioned such that they do not overlap each other in the left and right direction, that is, one of the first and second process chambers It is possible to move the chamber until it completely exceeds the position of the other process chamber with respect to the anteroposterior direction. According to this arrangement, since the first and second process chambers can be simultaneously and easily accessed, operations such as maintenance relating to them can be efficiently performed simultaneously without these process chambers interfering with each other.
상기 프로세스 챔버 지지부는, 예를 들어 상기 제1 및 제2 프로세스 챔버를 당해 프로세스 챔버가 상기 정규 위치와 상기 퇴피 위치 사이에서 좌우 방향으로 이동 가능해지도록 지지하는 제1 지지부와, 이 제1 지지부를 상기 프로세스 챔버가 상기 퇴피 위치와 상기 노출 위치 사이에서 전후 방향으로 이동 가능해지도록 지지하는 제2 지지부를 포함하는 것이 적합하다. 이 프로세스 챔버 지지부는, 상기 제1 지지부 및 상기 제2 지지부의 조합에 의해, 각 프로세스 챔버의 정규 위치로부터 노출 위치까지의 이동을 간소한 구조로 실현할 수 있다.The process chamber support portion may include a first support portion for supporting the first and second process chambers such that the process chamber can be moved laterally between the normal position and the retreat position, And a second support portion for supporting the process chamber so as to be movable in the forward and backward directions between the retreat position and the exposure position. This process chamber supporting portion can realize the movement from the normal position to the exposure position of each process chamber with a simple structure by the combination of the first supporting portion and the second supporting portion.
상기 안내 롤러 수용부는 당해 안내 롤러 수용부가 수용하는 각 안내 롤러를 상방에 개방하는 상측 개구를 갖고, 상기 성막 장치는, 상기 메인 챔버의 전후 방향 중 적어도 한쪽의 측에 배치되어 상기 상측 개구를 통해 작업원이 작업을 행하기 위한 발판을 형성하는 발판 유닛을 더 구비하는 것이 바람직하다. 이 구성은, 상기 안내 롤러에 대해 작업원이 상방으로부터 액세스하는 것, 예를 들어 상기 안내 롤러 수용부에 관한 유지 보수나 피성막재의 통지 등의 작업을 상기 개구를 통해 상측으로부터 효율적으로 행하는 것을 가능하게 한다. 보다 액세스를 용이하게 하기 위해, 상기 상측 개구는, 바람직하게는 좌우 방향으로 배열하고, 가능한 한 많이 형성되고, 상기 상측 개구를 각각 개폐하는 덮개(예를 들어 도어)를 구비하는 것이 바람직하다.Wherein the guide roller receiving portion has an upper opening for opening each of the guide rollers accommodated by the guide roller receiving portion upward, and the film forming device is disposed on at least one side of the front and rear direction of the main chamber, It is preferable to further include a foot unit for forming a scaffold for the operation of the circle. This configuration makes it possible to efficiently perform work such as access to the guide roller from above from the upper side, for example, maintenance of the guide roller receiving portion and notification of the film forming material from above through the opening . In order to facilitate access, the upper opening is preferably arranged in the left-right direction, and it is preferable to include as many lids as possible (for example, doors) for opening and closing the upper openings.
Claims (5)
성막 유닛과, 이 성막 유닛보다도 상기 피성막재의 반송 방향의 상류측에 배치되는 상류측 유닛과, 상기 성막 유닛보다도 상기 피성막재의 반송 방향 하류측에 배치되는 하류측 유닛을 구비하고,
상기 성막 유닛은, 수평한 회전 중심축 주위로 회전 가능한 성막 롤러와, 이 성막 롤러의 주위에 배치되는 복수의 성막 프로세스용 기기와, 상기 상류측 유닛 및 상기 하류측 유닛과 상기 성막 롤러 사이에서 상기 피성막재의 안내를 행하도록 배치되는 복수의 안내 롤러와, 상기 성막 롤러를 수용하는 성막 롤러 수용부 및 그 상측에 위치하여 상기 안내 롤러의 적어도 일부를 수용하는 안내 롤러 수용부를 갖는 메인 챔버와, 상기 성막 롤러의 중심축의 방향과 직교하는 좌우 방향에 대해 상기 성막 롤러 수용부의 양측에 각각 배치되고, 상기 성막 프로세스용 기기의 적어도 일부를 각각 수용하고, 상기 성막 롤러 수용부측을 향한 개구를 갖는 제1 프로세스 챔버 및 제2 프로세스 챔버와, 이들 제1 및 제2 프로세스 챔버를 지지하는 프로세스 챔버 지지부를 갖고,
상기 성막 롤러 수용부는, 상기 성막 롤러의 좌우 방향의 양측에 위치하고, 상기 제1 및 제2 프로세스 챔버의 상기 성막 롤러 수용부측의 개구에 부합되는 좌우의 제1 챔버 개구 측면을 갖고,
상기 안내 롤러 수용부는, 상기 성막 롤러 수용부의 좌우의 제1 챔버 개구 측면보다도 상기 좌우 방향의 양측으로 연장되는 부분을 갖고, 이들 부분이 상기 상류측 유닛 및 상기 하류측 유닛에 각각 접속되는 좌우의 제2 챔버 개구 측면을 갖고,
상기 프로세스 챔버 지지부는, 상기 제1 및 제2 프로세스 챔버를, 당해 프로세스 챔버가 상기 성막 롤러 수용부의 개구를 덮어 상기 메인 챔버와 함께 성막 공간을 형성하는 정규 위치와 이 정규 위치로부터 상기 상류측 유닛 및 상기 하류측 유닛보다도 내측의 범위 내에서 좌우 방향의 외측으로 퇴피하는 퇴피 위치 사이에서 이동 가능하게 지지함과 함께, 당해 퇴피 위치와 이 퇴피 위치로부터 상기 성막 롤러의 회전 중심축과 평행한 방향인 전후 방향으로 이격된 위치이며 상기 프로세스 챔버의 내부가 노출되는 노출 위치 사이에서 이동 가능해도록 지지하는, 성막 장치.A film forming apparatus for forming a film on a surface of a film forming material while conveying a film-shaped film forming material in its longitudinal direction,
An upstream-side unit disposed upstream of the film-forming unit in the transport direction of the film-forming material; and a downstream-side unit disposed downstream of the film-forming unit in the transport direction of the film-
Wherein the film forming unit includes: a film forming roller that is rotatable about a horizontal rotation center axis; a plurality of film forming process equipments disposed around the film forming roller; A main chamber having a plurality of guide rollers arranged so as to guide the material to be coated and a guide roller receiving portion for receiving at least a part of the guide roller located above the film forming roller holding portion for holding the film forming roller; A first process, which is disposed at both sides of the film-forming roller receiving portion with respect to the left and right direction orthogonal to the direction of the central axis of the film-forming roller, and which has at least a part of the film- A chamber, and a second process chamber, and a process chamber support for supporting the first and second process chambers Have,
Wherein the film-forming roller accommodating portion has left and right first chamber opening side surfaces located on both sides in the left-right direction of the film-forming roller and fitting with openings of the first and second process chambers on the side of the film-
Wherein the guide roller receiving portion has a portion extending to both sides in the left and right direction with respect to the first chamber opening side surfaces of the left and right of the film-sheet holding portion, and the left and right guide members are connected to the upstream- 2 chamber opening side,
Wherein the process chamber support portion is configured to move the first and second process chambers from a normal position in which the process chamber covers an opening of the film-sheet holding portion and forms a film-forming space together with the main chamber, And a retreat position retracted to the outside in the right and left direction within a range inward of the downstream unit, and is configured to move from the retreat position and the retracted position in a direction parallel to the rotation center axis of the film- Wherein the supporting member supports the substrate so as to be movable between a position spaced apart from the substrate and an exposure position where an interior of the process chamber is exposed.
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