KR20150114790A - 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물 및 이로부터 얻어지는 입체 조형물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 입체 리소그래피성 올리고머 조성물에 관한 것으로, 구체적으로는 틱소트로피 특성을 통해 유동성의 제어가 용이한 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물 및 이로부터 얻어지는 입체 조형물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물은 분자량 300 내지 10,000의 올리고머; 및 틱소트로피화제;를 포함한다.

Description

입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물 및 이로부터 얻어지는 입체 조형물 {Thixotropic oligomer composition for stereolithography and three dimensional article prepared therefrom}
본 발명은 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물에 관한 것으로, 구체적으로는 틱소트로피 특성을 통해 유동성의 제어가 용이한 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물 및 이로부터 얻어지는 입체 조형물에 관한 것이다.
입체 조형물을 생성하는 방법 중 하나인 압출 기반 적층식 증착 시스템은 유동성 생성 재료를 압출함으로써 적층식(layer-by-layer)으로 3D 물체를 생성하는데 사용된다. 생성 재료는 압출 헤드에 의해 지지되는 노즐을 통해 압출되며, x-y 평면의 기판 상에 경로의 순서대로 증착된다. 압출된 생성 재료는 앞서 증착된 생성 재료까지 용융되며, 온도 하강시 고화된다. 이때 기재에 대한 압출 헤드의 위치는 z-축(x-y 평면에 수직함)을 따라 증가하며, 다음, CAD 모델과 유사한 3차원 물체를 형성하도록 프로세스가 반복된다.
기부에 대한 압출 헤드의 이동은 컴퓨터 제어 하에서, 3D 물체를 나타내는 생성 데이터(build data)에 따라서 실행된다. 생성 데이터는 초기에 3D 물체의 CAD 모델을 복수의 수평으로 얇게 분할된 층으로 분할함으로써 얻어진다. 이때, 각각의 얇게 분할된 층에 대해, 호스트 컴퓨터는 생성 재료의 로드(roads)를 증착하기 위한 생성 경로를 발생시켜서 3D 물체를 형성하게 된다.
이와 같은 공정에서 사용되는 생성 재료는 열에 의해 용융 및 고화되는 물질로 제한이 되며, 열처리와 관련된 복잡한 장치 및 까다로운 공정을 수반하게 된다.
이와 다른 방법으로서 광중합체의 층방향 경화를 이용한 입체 리소그래피 방법이 알려져 있으며, 이는 UV 레이저 및 액체 감광성 광중합성 수지 혼합물을 사용하여 입체 조형물을 제조할 수 있으나 이와 같은 장치는 고비용이며, 숙련된 이용자를 필요로 하는 것 외에 감광성 광중합성 수지 혼합물의 특성상 적층의 높이가 제한적이어서 입체 조형물 제조 속도가 늦다는 문제가 있다.
일반적으로 틱소트로피(thixotropy)는 전단 유동화(shear thinning), 유사-플라스틱(pseudo-plastic), 항복 응력(yield stress)이라는 용어들과도 기술적으로 혼용되기도 하는데 전단응력이 가해진 상태에서는 흐름성을 유지하나 전단응력이 제거되면 흐름성이 감소 또는 제거되어 고체 혹은 반고체의 형상으로 전환되는 유체의 특성을 통칭한다.
현존하는 3-D 프린터 기술의 단점 중 하나는 입체 조형물을 형성하기 위하여 사용되는 소재가 몇가지 열가소성 수지로 제한되어 있다는 점이다. 이에 따라 입체물의 인쇄는 용융 상태의 열가소성 수지를 노즐을 통하여 토출하고 이를 적층하는 동시에 이루어지는 수지의 냉각에 의해 입체 조형물의 기계적 물성을 발현하는 원리에 근간을 두게 된다.
상기와 같은 인쇄 방법은 제조 속도, 해상도의 측면에서의 제약은 물론 기본적으로 최종 제품의 물성이 원료로 사용된 몇가지 열가소성 수지의 물성이 그대로 반영될 수 밖에 없고, 수십종 이상의 수지가 일상 생활에 사용되고 있음을 고려하면 3D 프린팅의 실용화/상업화에 근본적인 장애라고 할 수 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 올리고머와 틱소트로피 특성을 병합하여 적층 구조물의 안정성을 부여하는 동시에 적층 후 경화를 통한 최종 입체물을 제조할 수 있는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 상기 올리고머 조성물로부터 얻어진 입체 조형물을 제공하는 것이다.
상기 과제를 달성하기 위하여 본 발명은,
틱소트로피화제;를 포함하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물을 제공한다.
상기 다른 과제를 달성하기 위하여 본 발명은,
상기 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물로부터 얻어지는 입체 조형물을 제공한다.
본 발명에 따른 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물은 틱소그래피 특성을 이용하여 입체 적층물의 구성과 경화 공정을 함으로써 새로운 3D 인쇄 공정에 사용 가능한 소재 구성물을 제공한다.
이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명하기로 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정 실시 형태로 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 기술사상 및 범위에 포함되는 변형물, 균등물 또는 대체물을 모두 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명에 따른 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물은 틱소트로피화제;를 포함하며, 상기 올리고머로서는 분자량 300 내지 10,000의 올리고머를 사용할 수 있다. 상기 분자량은 수평균 분자량 또는 중량 평균 분자량일 수 있다.
본 발명에 따른 상기 올리고머 조성물은 틱소트로피 특성을 이용하여 유동성을 용이하게 조절할 수 있는 바 입체 조형물을 제조하는데 유용하게 사용할 수 있다. 즉, 3D 프린터등의 노즐로부터 토출되기 이전에는 교반이나 진동과 같은 기계적 수단에 의해 유동성을 가지며, 상기 노즐로부터 토출되어 입체 조형물을 형성시에는 고점도 및 틱소트로피 현상에 의해 소정 시간 동안 고화시킬 수 있어 이어지는 2차적인 경화 혹은 고분자량화 반응에 의해 기계적 강도를 부여할 수 있게 된다.
상기 올리고머 조성물의 틱소트로피(thixotropy) 특성은 흔들기/교반/진동 등의 기계적 에너지에 의해 저점도를 유지하여 노즐로부터 원활한 토출이 가능하도록 충분한 유동성을 가지나, 상기 기계적 에너지가 존재하지 않는 상태에서는 소정 형상의 물리적 구조를 유지할 수 있기에 충분한 고점도를 회복하게 되는 특성을 의미한다.
3차원 인쇄 공정에서는 조형물 생성 재료가 입체 형상을 만들기에 충분한 유동성을 부여해야 하는 바, 이를 위해 용융 등의 방법을 이용하였으나, 본 발명에서는 틱소트로피 성질을 이용해 생성 재료에 유동성을 부여할 수 있으며, 특히 주재료로서 소정 분자량 범위를 갖는 올리고머를 사용함으로써 점도 등의 다양한 물성을 용이하게 조절할 수 있게 된다. 즉, 완전한 경화 상태 이전의 3차원 조형물을 형성하는 공정에서 상기 올리고머는 증발이 억제될 수 있다는 장점을 갖는다.
상기 조성물에 사용되는 올리고머는 단량체 또는 고분자와 대별되는 개념으로서 일반적으로 단량체 보다는 분자량이 크고 고분자보다는 분자량이 적은 중간 분자량을 갖는 물질을 의미한다. 본 발명에서는 분자량 약 300 내지 약 10,000의 올리고머를 사용할 수 있으며, 예를 들어 축합형 올리고머, 또는 부가형 올리고머를 사용할 수 있다. 상기 부가형 올리고머로서는 그룹 전이 중합법(Group transfer polymerization), 원자 전이 라디칼 중합법(atomic transfer radical polymerization), 가역적 첨가-분절 연쇄 전이 중합법(reversible addition-fragmentation chain transfer polymerization), 니트록시드-매개 중합법(nitroxide-mediated polymerization) 등에 의해 얻어진 것을 사용할 수 있다.
상기 올리고머의 예로서는 2개 이상의 관능기를 갖는 반응성 또는 비반응성 올리고머를 사용할 수 있으며, 구체적으로는 비닐계 올리고머, 에테르계 올리고머, 에스테르계 올리고머, 또는 우레탄계 올리고머 중 하나 이상을 사용할 수 있다.
보다 구체적으로 상기 올리고머로서는 아크릴아미도메틸 치환 셀룰로오스 에스테르 올리고머(Bomar Specialties 제조, Jaylink™ 106E, 103M), 방향족 폴리에테르 우레탄 메타크릴레이트(Dymax Corporation 제조, Bomar™ BR-116), 방향족 폴리에테르 우레탄 디메타크릴레이트(Dymax Corporation 제조, Bomar™ BR-204), 30중량%의 반응성 희석제로 희석된 변성 폴리에스테르 아크릴레이트 올리고머(Allnex 제조, IRR 608), 3관능성 아크릴레이티드 희석 올리고머(Allnex 제조, Ebecryl 2047), 방향족 우레탄 헥사아크릴레이트 올리고머(Qualipoly Chemical 제조, Qualicure™ GU6600Y), 지방족 우레탄 아크릴레이트(Eternal Chemical CO.,LTD 제조, Etercure 6101), 6관능성 방향족 우레탄 아크릴레이트 올리고머(Sartomer 제조, CN 975), 불화 아크릴레이트 올리고머(Sartomer 제조, CN 4002), 에폭시 아크릴레이트 올리고머(Sartomer 제조, CN 152), 헥산디올 디아크릴레이트와 블렌딩된 지방족 폴리에스테르계 우레탄 디아크릴레이트 올리고머(Sartomer 제조, CN 985B88), EOTMPTA로 희석한 에폭시 아크릴레이트 올리고머(IGM Resins 제조, PHOTOMER
Figure pat00001
3524) 등을 하나 이상 사용할 수 있다.
상기 올리고머에 틱소트로피 특성을 부여하는 틱소트로피화제로서는 비극성 유체에 대해 입자형 및/또는 수지형 물질을 사용할 수 있으며, 수계 시스템에 대해서는 이와 다른 종류의 물질을 사용할 수 있다. 이들 틱소트로피화제는 상기 올리고머 100중량부에 대하여 1 내지 50중량부의 함량으로 사용할 수 있다.
상기 비극성 유체에 대해 사용되는 입자형 틱소트로피화제로서는 친수성 흄드 실리카(Evonik사 제조, AEROSIL
Figure pat00002
200), 고밀도 친수성 흄드 실리카(Evonik사 제조, AEROSIL
Figure pat00003
200 V), 유기 변성 스멕타이트(CLiQ SwissTech사 제조, CLiQFLOW
Figure pat00004
LED, CLiQFLOW
Figure pat00005
LP), 활성화 스멕타이트 클레이(CLiQ SwissTech사 제조, CLiQFLOW
Figure pat00006
601), 고표면 흄드 실리카(Cabot사 제조, Cab-o-sil
Figure pat00007
HS-5), 친수성 합성 비정질, 화성 흄드 실리카(Cabot사 제조, CAB-O-SIL
Figure pat00008
CLARUS™ 3160), 테트라알킬 암모늄 벤토나이트(Celeritas Chemicals사 제조, CELCHEM 31743-09, CELCHEM 31744-09L), 선택적으로 채굴된 칼슘 벤토나이트 클레이(Cimbar사 제조, CAL-BEN™), 메틸 벤질 4급/벤토나이트 클레이 복합물(Cimbar사 제조, Organotrol 1665) 등을 하나 이상 사용할 수 있다.
상기 비극성 유체에 대해 사용되는 수지형 틱소트로피화제로서는 변성 우레아 용액(BYK Inc. 제조, Byk
Figure pat00009
-411), UCD
Figure pat00010
2106N (Chromaflo Technologies LLC 제조), 오버베이스드 칼슘 설포네이트 콤플렉스(Ciba사 제조, Efka
Figure pat00011
6950), 100% 활성 미분화 캐스터 왁스 레올로지 개질제(Cray Valley Acrylics사 제조, Antisettle CVP), 아미드-변성 수소화 캐스터 오일 레올로지 개질제(Cray Valley Acrylics사 제조, Crayvallac
Figure pat00012
FD), 수소화 캐스터 오일(Alberdingk사 제조, Alberdingk
Figure pat00013
HCO Flakes 52), 크실렌에 분산된 산화 폴리에틸렌(Arkema사 제조, Crayvallac
Figure pat00014
60X), 미분화 수소화 캐스터 오일(Arkema사 제조, Crayvallac
Figure pat00015
Antisettle CVP), 고성능 미분화 아미드 왁스(Arkema사 제조, Crayvallac
Figure pat00016
EXTRA), 디메틸설폭사이드에 공급된 액상 레올로지 개질제(Arkema사 제조, Crayvallac
Figure pat00017
LA-150), 폴리히드록시카르복실산 아미드 용액(BRK사 제조, BYK
Figure pat00018
-405) 등을 하나 이상 사용할 수 있다.
상기 수계 시스템에 대해 사용가능한 틱소트로피화제로서는 수용성 비이온성 폴리우레탄(Arkema사 제조, Coatex, Coapur™ 2025, 3025, 6050, 830W), PATCHAM (FZC) (Patcham사 제조), (Patcham사 제조), (20 Microns사 제조), 아크릴계 코폴리머계 수에멀젼(20 Microns사 제조, ), (AirProduct사 제조), 비이온성 저점도 등급의 에틸 히드록시에틸 셀룰로오스(Akzo Nobel사 제조, , 255, 257), 크산탄검(Archer Daniels Midland Company 제조, ), 소수성으로 개질된 알칼리-용해성 에멀젼(Ashland사 제조, Aquaflow
Figure pat00019
ALS-400), 카르복실기 함유 아크릴계 코폴리머의 수분산액(BASF사 제조, Latekoll
Figure pat00020
D), 변성 에틸렌-비닐-아세테이트 코폴리머 왁스의 비이온성 에멀젼(BYK사 제조, Aquatix
Figure pat00021
8421), 크산탄 검(CP Kelco사 제조, Kelzan
Figure pat00022
), 폴리우레탄 폴리머(Cognis사 제조, DSX
Figure pat00023
1514) 등을 하나 이상 사용할 수 있다.
상기와 같은 틱소트로피화제는 상기 올리고머에 틱소트로피 특성을 부여하는 역할을 할 수 있으며, 이들을 포함하는 상기 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물의 틱소트로피 지수는 약 1.0 내지 약 15.0의 범위를 가질 수 있다.
상기 틱소트로피 지수는 E형 회전 점도계를 사용하여 25℃, 회전수 1rpm의 조건으로 측정했을 때의 값과, 25℃, 회전수 10rpm의 조건에서 측정했을 때의 값의 비로 정의할 수 있다.
틱소트로피 지수 = 1rpm에서의 점도 / 10rpm에서의 점도
일구현예에 따르면, 상기 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물은 단량체를 더 포함할 수 있다. 이와 같은 단량체는 입체 조형물 형성을 위해 상기 조성물을 노즐로부터 토출한 후 이를 경화시키는 과정에서 중합될 수 있으며, 점도를 조절하거나 반응성을 조절하는 역할을 수행하게 된다. 이와 같은 단량체로서는 중합가능한 단량체를 사용할 수 있으며, 예를 들어 에틸렌, 이소부틸렌, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 3-메틸-1-펜텐, 4-메틸-1-펜텐, 및 1-옥텐, 비공액 디엔, 폴리엔, 부타디엔, 이소프렌, 펜타디엔, 헥사디엔 (예를 들어, 1,4-헥사디엔), 옥타디엔, 데카디엔 (예를 들어, 1,9-데카디엔), 스티렌, 할로-치환 스티렌, 알킬-치환 스티렌, 테트라플루오로에틸렌, 비닐벤조시클로부텐, 나프텐산, 시클로알켄 (예를 들어, 시클로펜텐, 시클로헥센, 시클로옥텐), 및 이들의 혼합물이 포함되나 이에 제한되지 않는다. 이들은 상기 올리고머 100중량부에 대하여 약 0.1 내지 20중량부의 함량으로 사용될 수 있다.
일구현예에 따르면, 상기 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물은 용매를 더 포함할 수 있으며, 이들은 점도를 조절하거나 틱소트로피 특성의 조절을 위해 첨가될 수 있다. 이와 같은 용매로서는 비반응성 유기용매 혹은 물을 사용할 수 있다. 이들은 상기 올리고머 100중량부에 대하여 0.1 내지 20중량부의 함량으로 사용할 수 있다.
일구현예에 따르면, 상기 입체 리소그래피용 조성물은 중합개시제를 더 포함할 수 있으며, 이와 같은 중합 개시제로서는 열중합 개시제, 혹은 광중합 개시제를 사용할 수 있다. 상기 중합 개시제는 상기 올리고머 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부의 함량으로 사용할 수 있다.
상기 상기 광중합개시제로서는, 예를 들면, 벤조인메틸에테르 등의 벤조인에테르류, 디에톡시아세토페논 등의 아세토페논류, 벤질디메틸케탈 등의 벤질케탈류 등을 들 수 있다. 상기 광중합개시제는 1종 단독이어도 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.
상기 열중합개시제로서는, 예를 들면, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 등을 들 수 있다. 열중합개시제는 1종 단독으로도 복수종을 조합하여 사용할 수도 있다.
또한, 상기 광중합개시제는 열중합개시제와 조합하여 사용할 수 있다.
일구현예에 따르면, 상기 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물은 중합촉매를 더 포함할 수 있으며, 예를 들어 삼산화안티몬, 안티몬아세테이트 등의 안티몬계 촉매 또는 테트라노말부톡시티타네이트, 테트라이소프로필티타네이트, 티탄옥사이드/실리카옥사이드마이크로코폴리머, 나노티타네이트 등의 티타늄(Ti)계 촉매를 사용할 수 있다. 이와 같은 중합촉매는 상기 올리고머 100 중량부에 대하여 0.0001 내지 0.1중량부의 범위로 사용할 수 있다.
상술한 바와 같은 조성을 갖는 본 발명에 따른 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물은 전단력, 예를 들어 흔들기/교반/진동 등의 기계적 에너지가 가해지기 전에는 약 250Pa·S 이상의 점도를 갖지만, 기계적 에너지가 가해지면, 예를 들어 10 (1/s) 이상의 전단 속도에서 저점도를 갖게 되는 바, 이때의 점도로서는 50Pa·S 이하, 예를 들어 1 내지 50Pa·S의 범위를 예로 들 수 있다. 상기 진동을 위해서는 초음파 처리 등의 기계적 에너지를 예로 들 수 있다.
상술한 바와 같은 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물은 각종 3D 프린터에 사용되어 입체 조형물을 생성하는데 사용될 수 있으며, 예를 들어 압출 기반 적층식 인쇄 방식에 사용될 수 있다. 이와 같은 인쇄 방식에서는 상기 올리고머 조성물이 노즐로부터 충분히 토출될 수 있도록 유동성을 부여한 후, 이를 노즐을 통해 압출함으로써 적층식으로 입체 조형물을 생성하게 된다. 즉, 기계적 에너지를 이용해 유동성이 부여된 상기 올리고머 조성물은 압출 헤드에 의해 지지되는 노즐을 통해 압출되며, xy평면의 기판 상에 경로의 순서대로 적층된다. 압출된 올리고머 조성물은 고점도 및 틱소트로피 특성에 의해 소정 시간, 예를 들어 수초 내지 수분 동안 물리적으로 고화되어 원하는 형상을 유지할 수 있게 된다. 이와 같은 시간 간격은 상기 토출 속도나 조형물의 물리적 크기에 따라 달라질 수 있다. 상기 토출 공정에서 보다 충분한 유동성을 상기 조성물에 부여하기 위하여 소정의 열을 가하는 것도 가능하다.
상기 적층 공정에서 기재에 대한 압출 헤드의 위치는 z-축(xy 평면에 수직)을 따라 증가하며, 다음 CAD 모델과 유사한 3차원 물체를 형성하도록 프로세스가 반복된다. 기재에 대한 압출 헤드의 이동은 컴퓨터 제어 하에서, 3D 물체를 나타내는 생성 데이터(build data)에 따라서 실행될 수 있다.
이와 같이 적층된 적층 구조체는 적층 과정에서 경화 공정 혹은 중합 공정을 수행하게 되며, 이에 의해 최종적으로 원하는 강도를 갖는 입체 조형물을 형성하게 된다. 이와 같은 경화 공정 혹은 중합 공정은 상기 적층 과정에서 반복적으로 수행할 수 있으며, 상기 틱소트로피 특성이 유지되는 시간 내에 수행하는 것이 바람직하다.
상기 경화 공정으로서는 UV 레이저 조사에 의한 광경화, 혹은 가열 공정에 의한 열경화 모두 가능하며, 상기 중합 공정은 상기 조성물 내에 단량체 등이 포함된 경우 보다 유용하다.
본 발명에 따른 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물은 상술한 리소그래피 방식 외에 해당 분야의 기술자에게 인식될 수 있는 다양한 입체 조형물 생성 공정에 사용할 수 있으며, 별도의 제한은 없다.

Claims (23)

  1. 틱소트로피화제;를 포함하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 올리고머가 300 내지 10,000의 중량 평균 분자량을 갖는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 올리고머 조성물의 틱소트로피 지수가 1.0 내지 15.0이며,
    상기 틱소트로피 지수가 1rpm에서의 점도 / 10rpm에서의 점도의 값인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    기계적 에너지에 의해 점도가 낮아지는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  5. 제1항에 있어서,
    10 (1/s)의 전단속도에서 50 Pa·S 이하의 점도를 갖는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 올리고머가 축합형 올리고머, 또는 부가형 올리고머인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 부가형 올리고머가 그룹 전이 중합법, 원자 전이 라디칼 중합법, 가역적 첨가-분절 연쇄 전이 중합법 또는 니트록시드-매개 중합법에 의해 얻어진 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 올리고머가 2개 이상의 관능기를 포함하는 반응성 또는 비반응성 올리고머인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 올리고머가 비닐계 올리고머, 에테르계 올리고머, 에스테르계 올리고머, 및 우레탄계 올리고머 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 리소그패리용 올리고머 조성물.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 올리고머가 아크릴아미도메틸 치환 셀룰로오스 에스테르 올리고머, 방향족 폴리에테르 우레탄 메타크릴레이트 올리고머, 방향족 폴리에테르 우레탄 디메타크릴레이트 올리고머, 변성 폴리에스테르 아크릴레이트 올리고머, 3관능성 아크릴레이트 올리고머, 방향족 우레탄 헥사아크릴레이트 올리고머, 지방족 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 6관능성 방향족 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 불화 아크릴레이트 올리고머, 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 헥산디올 디아크릴레이트와 블렌딩된 지방족 폴리에스테르계 우레탄 디아크릴레이트 올리고머, 및 아세트산 2-(2-아크릴로일옥시-에톡시메틸)-2-아크릴로일옥시메틸-부틸 에스테르로 희석한 에폭시 아크릴레이트 올리고머 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 틱소트로피화제가 비극성 용매용 입자형 물질, 비극성 용매용 수지형 물질, 또는 수계 시스템용 물질인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 틱소트로피화제의 함량이 상기 올리고머 100중량부에 대하여 1 내지 50중량부인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 틱소트로피화제가 친수성 흄드 실리카, 고밀도 친수성 흄드 실리카, 유기 변성 스멕타이트, 활성화 스멕타이트 클레이, 고표면 흄드 실리카, 친수성 합성 비정질-화성 흄드 실리카, 테트라알킬 암모늄 벤토나이트, 칼슘 벤토나이트 클레이, 및 메틸 벤질 4급/벤토나이트 클레이 복합물 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 틱소트로피화제가 변성 우레아 용액, UCD
    Figure pat00024
    2106N, 오버베이스드 칼슘 설포네이트 콤플렉스, 100% 활성 미분화 캐스터 왁스 레올로지 개질제, 아미드-변성 수소화 캐스터 오일 레올로지 개질제, 수소화 캐스터 오일, 크실렌에 분산된 산화 폴리에틸렌, 미분화 수소화 캐스터 오일, 고성능 미분화 아미드 왁스, 디메틸설폭사이드에 공급된 액상 레올로지 개질제, 및 폴리히드록시카르복실산 아미드 용액을 하나 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 틱소트로피화제가 수용성 비이온성 폴리우레탄, PATCHAM (FZC), , , 아크릴계 코폴리머계 수에멀젼, , 비이온성 저점도 등급의 에틸 히드록시에틸 셀룰로오스, 크산탄검, 소수성으로 개질된 알칼리-용해성 에멀젼, 카르복실기 함유 아크릴계 코폴리머의 수분산액, 변성 에틸렌-비닐-아세테이트 코폴리머 왁스의 비이온성 에멀젼, 크산탄 검, 및 폴리우레탄 폴리머 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  16. 제1항에 있어서,
    상기 올리고머 100중량부에 대하여 0.1 내지 20중량부의 단량체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  17. 제1항에 있어서,
    상기 올리고머 100중량부에 대하여 0.1 내지 20중량부의 비반응성 유기용매 혹은 물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  18. 제1항에 있어서,
    상기 올리고머 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부의 광중합 개시제 혹은 열중합개시제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 광중합 개시제가 벤조인에테르류, 아세토페논류, 및 벤질케탈류 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  20. 제18항에 있어서,
    상기 열중합 개시제가 2,2'-아조비스이소부티로니트릴인 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  21. 제1항에 있어서,
    상기 올리고머 100중량부에 대하여 0.0001 내지 0.1중량부의 중합 촉매를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물.
  22. 제1항 내지 제21항 중 어느 한 항에 따른 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물에 기계적 에너지를 가하여 점도를 저하시키는 단계;
    상기 올리고머 조성물을 3D 프린터에 장착된 압출 헤드의 노즐을 통해 토출시켜 입체 형상의 고점도 적층 구조체를 형성하는 단계; 및
    상기 적층 구조체를 경화 또는 중합시키는 단계;를 포함하는 입체 조형물의 제조방법.
  23. 제1항 내지 제21항 중 어느 한 항에 따른 입체 리소그래피용 틱소트로피성 올리고머 조성물로부터 얻어진 입체 조형물.
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