KR20150109358A

KR20150109358A - 투명 기재

Info

Publication number: KR20150109358A
Application number: KR1020157018861A
Authority: KR
Inventors: 미노루 다마다
Original assignee: 아사히 가라스 가부시키가이샤
Priority date: 2013-01-21
Filing date: 2013-12-24
Publication date: 2015-10-01
Also published as: DE112013006464T5; CN104936920A; WO2014112297A1; TW201431811A; JPWO2014112297A1

Abstract

본 발명은, 광의 비침을 억제하고, 지문 부착성을 저하시키고, 번쩍임을 억제하는 것이 가능한 투명 기재를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은, 적어도 일방의 면에 대해, 표면 조도 RMS (㎛) 의 변화량에 대한 Gloss (％) 의 변화량을 나타내는 ΔGloss/ΔRMS 가 -800 이하인 투명 기재를 제공한다.

Description

투명 기재{TRANSPARENT SUBSTRATE}

본 발명은, 투명 기재에 관한 것이다.

종래부터, 액정 디스플레이 등의 각종 표시 장치에 투명 기재가 사용되고 있다.

최근에는 휴대 디바이스나, 차재용 기기에 있어서 액정 디스플레이 등의 표시 장치가 많이 사용되게 되었고, 특히 차재용 기기의 용도에 있어서, 태양광이나, 차내등 등의 광이 비쳐, 시인성에 영향을 미치기 쉬운 점에서, 광의 비침을 억제하는 것이 요구되었다. 또, 터치 패널도 많이 사용되게 되었고, 특히 사람의 손이 닿을 기회도 많은 점에서, 지문의 부착성을 억제하는 것도 요구되었다.

유리 제품 등에 있어서 광택 정도의 조정이나, 지문의 부착을 억제하는 방법으로서, 유리의 표면에 미세한 요철을 형성하는 방법이 알려져 있다.

예를 들어 특허문헌 1 에는, 유리 제품을 불화수소, 불화암모늄, 유리계의 미분으로 이루어지는 부식액에 담근 후, 수세하고, 다시 불화수소, 황산, 질산으로 이루어지는 부식 광택내기액에 담그고, 그 후 수세를 실시하는 유리 제품의 표면 가공 방법이 개시되어 있다.

일본 공개특허공보 소61-36140호

그러나, 특허문헌 1 에 있어서는, 표시 장치 등의 투명 기재로서 사용하는 것은 상정되고 있지 않기 때문에, 액정 디스플레이 등의 표면에 이러한 표면 가공이 실시된 유리 기판을 배치하면, 유리의 요철 사이즈와 액정 디스플레이의 화소 사이즈의 관계에 의존하여 광의 산란 불균일 (이하, 번쩍임이라고도 한다) 을 발생시킨다는 문제가 있었다.

본 발명은 상기 종래 기술이 갖는 문제를 감안하여, 광의 비침을 억제하고, 지문 부착성을 저하시키고, 번쩍임을 억제하는 것이 가능한 투명 기재를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 과제를 해결하기 위해 본 발명은, 적어도 일방의 면에 대해, 표면 조도 RMS (㎛) 의 변화량에 대한 Gloss (％) 의 변화량을 나타내는 ΔGloss/ΔRMS 가 -800 이하인 투명 기재를 제공한다.

본 발명의 투명 기재는, 광의 비침을 억제하고, 지문 부착성을 저하시키고, 광의 산란 불균일 (번쩍임) 을 억제할 수 있다.

도 1 은 본 발명의 실시형태에 있어서의 표면 조도를 변화시켰을 때의 Gloss 의 변화의 설명도이다.
도 2 는 실험예 2 에 있어서의 투명 기재의 레이저 현미경 화상이다.
도 3 은 실험예 8 에 있어서의 투명 기재의 레이저 현미경 화상이다.
도 4 는 실험예 2, 8 에 있어서 ΔGloss/ΔRMS 를 산출하였을 때의 회귀 직선이다.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대해 도면을 참조하여 설명하지만, 본 발명은 하기의 실시형태에 제한되지는 않으며, 본 발명의 범위를 일탈하지 않고 하기의 실시형태에 다양한 변형 및 치환을 부가할 수 있다.

본 실시형태에서는, 본 발명의 투명 기재에 대해 설명한다.

본 실시형태의 투명 기재는, 적어도 일방의 면에 대해, 표면 조도 RMS (㎛) 의 변화량에 대한 Gloss (％) 의 변화량을 나타내는 ΔGloss/ΔRMS 가 -800 이하인 것을 특징으로 한다.

본 발명의 발명자들이 광의 비침을 억제하고, 지문 부착성을 저하시키고, 번쩍임을 억제할 수 있는 투명 기재에 대해 검토를 거듭한 결과, 그 투명 기재의 표면에 적절한 요철의 미세 구조를 형성함으로써 해결할 수 있음을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.

먼저, 투명 기재에 있어서 번쩍임을 억제하기 위해서는, 상기와 같이 적절한 요철의 미세 구조를 갖고 있는 것이 바람직하다.

그리고, 적절한 요철의 미세 구조란 요철의 형상, 요철의 형상 분포, 요철의 사이즈, 요철의 사이즈 분포가 적절한 범위에 있는 것을 의미하고 있다. 종래의 수법에서는 이것들을 개개로 평가하여 번쩍임과의 상관을 조사하였지만, 명료한 관계는 얻어지지 않았다.

본 발명자들은, 이것들이 적절한 범위에 있는 것을, 표면 조도 RMS (㎛) 의 변화량에 대한 Gloss (％) 의 변화량에 의해 평가할 수 있음을 알아냈다.

여기서, Gloss (％) 는, 정반사광의 비율이나, 확산 반사광의 방향 분포 등에 주목하여, 물체 표면의 광택의 정도를 일차원적으로 나타내는 지표이다. Gloss (％) 는, JIS Z 8741 에서 규정되는 방법에 준거한 방법에 의해 경면 광택도로서 측정할 수 있다. 정반사는 입사면에 있어서 난반사나 흡수가 있으면 저하되므로, Gloss 는 요철 형상이나 그 분포, 요철 사이즈나 그 분포를 간접적으로 반영하는 양인 것으로 생각된다.

한편, 표면 조도 RMS (㎛) 란, 기준면 (여기서는 표면 처리 전의 기판 표면) 으로부터의 요철의 평균 깊이이다. 표면 조도 RMS (㎛) 는 JIS B 0601 (2001) 에서 규정되는 방법에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다. 또한, 표면 조도 RMS 는 제곱 평균 조도 Sq 로 나타내는 경우도 있다. 측정에 대해서는, 일반적으로 표면 조도의 측정에 사용되는 각종 방법을 이용할 수 있지만, 특히 측정 시야가 넓은 쪽이 투명 기재 표면의 보다 광범위한 상태를 반영할 수 있는 점에서, 예를 들어 레이저 현미경에 의해 측정을 실시하는 것이 바람직하다.

표면 조도 RMS (㎛) 의 변화량에 대한 Gloss (％) 의 변화량이란, 투명 기재의 적어도 일방의 면 (표면) 에 미세한 요철을 형성한 후, 에칭 처리를 실시하여 표면 조도 RMS (㎛) 를 근소하게 변화시키는 것에 따른 Gloss (％) 의 변화량을 의미하고 있다.

이 때의 에칭 처리의 방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 투명 기재가 유리인 경우에는 불산 (불화수소 수용액) 에 의해 에칭 처리를 실시할 수 있다. 또, 반응성 이온 에칭 등의 드라이 에칭도 이용 가능하다.

여기서, 표면 조도 RMS (㎛) 의 변화량에 대한 Gloss (％) 의 변화량의 정성적인 의미에 대해 설명한다. 도 1 에 투명 기재 표면의 요철의 미세 구조 (이하, 간단히「요철 형상」으로도 기재한다) 의 단면도를 모식적으로 나타낸다. 도면 중 실선이 에칭 처리를 실시하기 전의 투명 기재 표면의 요철 형상을 나타내고 있고, 점선이 에칭 처리 후의 요철 형상을 나타내고 있다. 도 1 의 (a) 가 미세한 오목부를 갖고, 본 실시형태에 있어서의 바람직한 요철 형상의 예이며, 도 1 의 (b) 가 도 1 의 (a) 보다 오목부의 사이즈가 큰 예이다.

도 1 의 (a) 와 도 1 의 (b) 는, 전제로서 에칭 처리 전의 초기 상태에 있어서 오목부 깊이가 상이하다. 구체적으로는, 오목부의 깊이, 즉, 곡률 반경은, 미세한 오목부를 갖는 (a) 쪽이 (b) 보다 작다. 계속해서, 도 1 의 (a), 도 1 의 (b) 의 쌍방의 케이스에 있어서 동등한 미소한 에칭량이 되는 에칭 처리를 실시하면, 오목부 깊이의 변화는 도 1 의 (a) 과 도 1 의 (b) 에서 동일한 정도가 되기 때문에, 표면 조도 RMS (㎛) 의 변화량은 동등하다.

한편, 도 1 의 (a) 에 있어서의 오목부의 곡률 반경은 도 1 의 (b) 의 케이스에 비하면 작으므로, 도 1 의 (a) 에 있어서 A 로 나타내는 에칭 처리 후의 오목부와 오목부와의 접속부에 상당하는 볼록부는, 도 1 의 (b) 에 있어서 B 로 나타내는 에칭 처리 후의 볼록부에 비해 완만한 형상이 된다. 즉 볼록부의 형상 변화로는 (a) 쪽이 커지고, Gloss (％) 의 변화량도 커진다. 이와 같이, 오목부 사이즈가 작을수록, ΔGloss/ΔRMS 의 절대값은 커진다.

이와 같이, 표면 조도 RMS (㎛) 의 변화량에 대한 Gloss (％) 의 변화량을 평가함으로써, 상기 서술한 바와 같은 적절한 요철의 미세 구조를 갖는지를 평가할 수 있다.

그리고, 도 1 에서는, 각각의 요철 형상이 균일한 경우로 설명하였지만, 예를 들어, 오목부의 형상이 큰 부분이 혼입되어 있는 경우나, 형상이 불균일한 경우에는, 도 1 의 (b) 와 같이 오목부의 곡률 반경이 큰 부분을 포함하게 되고, 도 1 의 (b) 의 경우와 동일하게 표면 조도 RMS (㎛) 의 변화량에 대한 Gloss (％) 의 변화량이 작아진다. 이 때문에, 표면 조도 RMS (㎛) 의 변화량에 대한 Gloss (％) 의 변화량을 평가함으로써, 상기 서술한 바와 같은 적절한 요철의 미세 구조를 갖는지를 평가할 수 있다.

ΔGloss/ΔRMS 는 상기와 같이 -800 이하이면 되지만, -1000 이하인 것이 보다 바람직하고, -1200 이하인 것이 특히 바람직하다.

투명 기재의 적어도 일방의 면에 대해 ΔGloss/ΔRMS 가 상기 요건을 만족시키고 있으면 된다. 또, 양면에 대해, 적절한 요철의 미세 구조를 갖고 있어도 된다. 즉, 투명 기재의 양면에 대해 ΔGloss/ΔRMS 가 상기 요건을 만족시키고 있어도 된다.

그리고, 상기와 같이 투명 기재의 표면에 적절한 요철의 미세 구조를 형성함으로써, 광의 비침을 억제하고, 지문 부착성을 저하시키는 것도 가능해진다. 이것은, 광 비침의 억제에 관해서는, 투명 기재의 표면에 요철의 미세 구조를 가짐으로써, 표면에 요철의 미세 구조를 갖고 있지 않은 투명 기재에 비하면, 기재 표면에서의 정반사를 적당히 억제하는 것이 가능해지기 때문인 것으로 생각된다. 또, 지문 부착성의 저하에 관해서도, 투명 기재의 표면에 미세한 요철을 형성함으로써, 손때나 땀 등이 패인 부분에 들어가기 어려워지기 때문인 것으로 생각된다.

또, 본 실시형태의 투명 기재는, 반사 이미지의 선명성이 낮은 것이 바람직하기 때문에, 적어도 일방의 면의 Gloss (％) 가 95 ％ 이하인 것이 바람직하고, 90 ％ 이하인 것이 보다 바람직하다.

Gloss (％) 는, 투명 기재 표면에 요철의 미세 구조를 형성한 것에 의한 광의 정반사 억제 효과를 반영하는 것인데, Gloss (％) 가 상기 범위에 있음으로써, 투명 기재 표면에서의 광의 정반사를 억제할 수 있음을 나타내고 있고, 각종 디스플레이, 터치 패널 등에 사용한 경우에 표시의 시인성을 높이는 것이 가능해지기 때문에 바람직하다. 또한, 여기서의 Gloss (％) 는, 투명 기재의 양면에 요철 형상을 형성한 경우, 적어도 일방의 면에 대해 상기 요건을 만족시키고 있는 것이 바람직하다. 또, 양면에 대해 만족시키고 있어도 된다.

표면 조도 RMS (㎛) 의 변화량에 대한 Gloss (％) 의 변화량을 측정할 때에는, 측정 대상이 되는 투명 기재에 대해 적어도 1 회 그 표면에 대해 에칭 처리를 실시함으로써, 표면 조도 RMS (㎛), Gloss (％) 의 측정을 실시하면 된다. 보다 측정 정밀도를 높이는 관점에서는, 1 회째와 동일한 조건으로 합계 2 회 이상 에칭 처리를 실시하고, 에칭 처리를 실시할 때마다 Gloss (％) 와 표면 조도 RMS (㎛) 의 측정을 실시하고, 얻어진 복수의 측정 결과에 대하여 직선 근사를 실시하여, 그 기울기로부터 ΔGloss/ΔRMS 를 산출하는 것이 바람직하다.

본 실시형태의 투명 기재의 제조 방법으로는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 임의의 방법에 의해, 투명 기재의 적어도 일방의 면의 표면에 미세한 요철을 형성함으로써 제조할 수 있다. 예를 들어, 투명 기재의 표면에 프로스트 가공이나, 샌드 블라스트법, 랩핑 등에 의해 투명 기재의 표면을 굴착하여 미세한 요철 구조를 형성하는 방법을 바람직하게 이용할 수 있다. 또, 이들 방법에 추가로 에칭 처리를 조합해도 된다.

그 중에서도, 프로스트 가공에 의해 투명 기재에 표면 처리를 실시하는, 즉, 투명 기재의 표면에 요철의 미세 구조를 형성하는 것이 바람직하다. 이것은, 프로스트 가공에 의하면, 1 회의 조작에 의해 가공 가능한 범위가 넓어, 작업 시간이 단시간이어도 되는 점, 또한, 표면에 미세한 요철을 형성하기 쉬운 점을 들 수 있다. 또, 프로스트 가공에 의해 투명 기재의 표면에 미세한 요철을 형성한 경우, 가공의 정도, 즉 요철 형상의 형상, 사이즈를 조정함으로써, Gloss (％) 및 헤이즈 (％) 를 선택할 수 있는 폭이 다른 가공 방법과 비교하여 넓어진다. 이 때문에, 프로스트 가공의 조건을 선택함으로써, 원하는 Gloss (％), 헤이즈 (％) 를 갖는 투명 기재를 공급하는 것이 가능해져 바람직하다.

본 실시형태의 투명 기재의 재료로는 특별히 한정되는 것은 아니며, 투명한 고체 재료이면 된다. 본 실시형태의 투명 기재의 재료로는, 예를 들어 플라스틱, 유리 등의 각종 재료를 들 수 있다. 그 중에서도 투명성이나 강도 등의 관점에서 투명 기재는 유리인 것이 바람직하다.

이 경우, 유리의 종류는 특별히 한정되는 것은 아니며, 무알칼리 유리나, 소다라임 유리, 알루미노실리케이트 유리 등 각종 유리를 이용할 수 있다.

투명 기재의 형상에 관해서도 특별히 한정되는 것은 아니며, 평면에서 판상일 필요는 없고, 곡면을 포함하는 것이어도 되고 이형상 (異型狀) 의 것이어도 된다.

본 실시형태의 투명 기재가 소다라임 유리나 알루미노실리케이트 유리 등인 경우, 본 실시형태의 투명 기재에 대해 추가로 공지된 방법에 의해 화학 강화 처리를 실시할 수도 있다.

화학 강화 처리란, 유리 표면의 이온 반경이 작은 알칼리 이온 (예를 들어, 나트륨 이온) 을 이온 반경이 큰 알칼리 이온 (예를 들어, 칼륨 이온) 으로 치환시키는 처리를 말한다. 예를 들어, 나트륨 이온을 함유하는 유리를 칼륨 이온을 함유하는 용융염으로 처리함으로써 실시할 수 있다. 이와 같은 이온 교환 처리가 실시됨으로써 유리 표면에 형성되는 압축 응력층의 조성은, 이온 교환 처리 전의 조성과 약간 상이하지만, 유리 기판 표면으로부터 충분히 깊은 심층부 (넓은 의미의 인장 응력층) 의 조성은 이온 교환 처리 전의 조성과 거의 동일하다.

화학 강화의 조건으로는 특별히 한정되는 것은 아니며, 화학 강화에 제공하는 유리의 종류나 요구되는 화학 강화의 정도 등에 따라 선택할 수 있다.

화학 강화 처리를 실시하기 위한 용융염으로는, 화학 강화에 제공하는 유리 기재에 따라 선택하면 된다. 예를 들어, 질산칼륨, 황산나트륨, 황산칼륨, 탄산칼륨, 염화나트륨 및 염화칼륨 등의 알칼리 황산염 및 알칼리염화염 등을 들 수 있다. 이들 용융염은 단독으로 사용해도 되고, 복수 종을 조합하여 사용해도 된다.

용융염의 가열 온도는 350 ℃ 이상이 바람직하고, 380 ℃ 이상이 보다 바람직하다. 또, 500 ℃ 이하가 바람직하고, 480 ℃ 이하가 보다 바람직하다.

용융염의 가열 온도를 350 ℃ 이상으로 함으로써, 이온 교환 속도의 저하에 의해 화학 강화가 잘 들어가지 않게 되는 것을 방지한다. 또, 500 ℃ 이하로 함으로써 용융염의 분해·열화를 억제할 수 있다.

또, 유리를 혼합 용융염에 접촉시키는 시간은, 충분한 압축 응력을 부여하기 위해서는, 1 시간 이상이 바람직하고, 2 시간 이상이 보다 바람직하다. 또, 장시간의 이온 교환에서는, 생산성이 떨어짐과 함께, 완화에 의해 압축 응력값이 저하되기 때문에, 24 시간 이하가 바람직하고, 20 시간 이하가 보다 바람직하다.

이상, 본 실시형태의 투명 기재에 대해 설명해 왔는데, 본 실시형태의 투명 기재에 있어서는, 상기 서술한 바와 같이 적어도 일방의 면에 대해, 표면 조도 RMS (㎛) 의 변화량에 대한 Gloss (％) 의 변화량을 나타내는 ΔGloss/ΔRMS 가 -800 이하이다. 이 조건을 만족시키면, 투명 기재의 표면에 형성되는 요철의 미세 구조는 적절한 형상, 사이즈를 갖는 것을 나타내고 있으며, 광의 비침을 억제하고, 지문 부착성을 저하시키고, 광의 산란 불균일 (번쩍임) 을 억제하는 것이 가능해진다.

본 실시형태의 투명 기재는 각종 용도에 있어서 사용할 수 있는데, 예를 들어, 액정 디스플레이나 유기 EL 등의 디스플레이나 터치 패널의 용도에 바람직하게 사용할 수 있다. 그 중에서도 특히 휴대 디바이스나 차재용 기기의 디스플레이나 터치 패널에 있어서 보다 바람직하게 사용할 수 있다.

실시예

이하에 구체적인 실시예를 들어 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 실험예 중, 실험예 1 ∼ 실험예 6 이 실시예, 실험예 7 ∼ 실험예 10 이 비교예이다.

(1) 평가 방법

이하의 실험예에 있어서 얻어진 투명 기재의 특성 평가 방법에 대해 이하에 설명한다.

＜Gloss (％)＞

JIS Z 8741 : 1997 에서 규정되는 방법에 준거하여 측정을 실시하였다.

구체적으로는, 측정 장치 (닛폰 전색 제조, 상품명 : PG-IIM) 를 사용하여, 워크 (투명 기재) 의 표면 처리를 실시한 면에 대하여, 60°의 각도로부터 입사시킨 광 (광원 : 텅스텐 램프) 의 경면 반사광속 (光束) 을 측정하였다.

그리고, 미세한 요철을 형성하기 전의 투명 기재 (미처리의 투명 기재) 에 대해 동일하게 측정하였을 때의 광의 반사광량을 100 ％ 로 하여, 시료에 대해 측정한 경면 반사광속을 나타내고 있다.

＜RMS (㎛)＞

JIS B 0601 : 2001 에서 규정되는 방법에 준거하여 측정을 실시하였다.

구체적으로는, 시료의 측정면에 대해 측정 범위 P 를 1 개 지점 정하고, 300 ㎛ × 200 ㎛ 의 시야 범위에 대해, 레이저 현미경 (키엔스사 제조의 상품명 : VK-9700) 을 사용하여 측정을 실시하였다. 그 때의 컷오프값은 λc ＝ 0.08 ㎜ 였다.

＜ΔGloss (％)/ΔRMS (㎛)＞

얻어진 투명 기재에 대해, 상기 방법에 의해 Gloss (％), 표면 조도 RMS (㎛) 를 미리 측정하였다.

이어서, 그 시료를 전체량에 대하여 5 wt％ 농도의 불산에 3 분간 침지시킨 후, 꺼내어 증류수에 의해 세정을 실시하고, 다시 상기 측정 방법에 의해 Gloss (％), 표면 조도 RMS (㎛) 를 측정하였다. 동일하게 그 시료를 불산에 3 분간 침지시킨 후 세정하고, Gloss (％), 표면 조도 RMS (㎛) 를 측정하는 작업을 이후 2 회 반복하였다. 또한, RMS 의 측정에 있어서는, 어느 측정시에 있어서도 동일한 측정 범위 P 에 대해 측정을 실시하였다.

그 시료의 4 회의 측정 결과에 대하여 최소 제곱법에 의해 Gloss (％), 표면 조도 RMS (㎛) 의 회귀 직선을 구하고, 그 기울기로부터 ΔGloss/ΔRMS 를 산출하였다.

또한, 이하의 헤이즈, 미세 요철 직경, 번쩍임 평가에 대해서는, 본 측정을 실시하기 전 (불산에 의한 재에칭 처리를 실시하기 전) 에 측정을 실시해 두었다.

＜헤이즈＞

JIS K 7136 에서 규정되는 방법에 준거하여 헤이즈 (HAZE) 를 측정하였다.

구체적으로는, 헤이즈미터 (스가 시험기사 제조의 상품명 : HZ-2) 를 사용하여 측정을 실시하였다.

＜미세 요철 직경＞

시료의 측정면에 대해 300 ㎛ × 200 ㎛ 의 시야 범위 P 에 있어서, 레이저 현미경을 사용하여 측정면의 높이 분포를 측정하였다. 계속해서 형상 편차에 의한 노이즈 제거를 위해, 얻어진 표면에 대해 가장 높이가 높은 점에서 1 ㎛ 뺀 값을 임계값으로 하여, 2 치화를 실시하였다. 2 치화에 의해 얻어진 화상의 각 요철에 대해 진원 근사를 실시하여, 원의 직경을 산출하였다. 얻어진 직경의 메디안 직경을 미세 요철 직경으로 하였다.

＜번쩍임 평가＞

얻어진 투명 기재를 iPhone 4S (애플사 제조) 의 액정 패널 상에 배치하고 가로세로 50 ㎜ × 50 ㎜ 의 측정 범위를 설정한 후, (A) 기판을 액정 패널에 고정시킨 후에 육안 관찰 검사를 실시하는 것, (B) 기판을 액정 패널에 대하여 1 ㎜/sec 로 움직이면서 육안 관찰 검사를 실시하는 것의 쌍방에 의해, 광의 산란 불균일의 평가를 실시하였다. 인간의 눈의 특성상, 기판을 움직이면서 육안 관찰을 실시함으로써 보다 엄밀한 측정이 가능해진다. 평가에 있어서는 발생한 번쩍임의 점의 수를 카운트하여 이하와 같이 실시하였다.

본 평가는 이하의 기준에 의해 1 ∼ 5 점으로 평가를 실시하였다. 점수가 낮은 쪽이 광의 산란 불균일 (번쩍임) 이 억제되었음을 의미하고 있으며, 3 점 이하를 합격으로 하였다.

1 점 : 기판을 움직이고 있는 경우에도 번쩍임은 확인되지 않는다

2 점 : 기판을 움직이고 있는 경우에 미세한 번쩍임이 3 점 이하 확인된다

3 점 : 기판을 고정시킨 경우에 확인된 번쩍임은 2 점 이하였지만, 기판을 움직이고 있는 경우에 미세한 번쩍임이 4 점 이상 확인된다

4 점 : 기판을 고정시킨 경우에도 번쩍임이 3 점 이상 확인된다

5 점 : 기판을 고정시킨 경우에도 전체면에 번쩍임이 확인된다

(2) 실험 순서

[실험예 1]

이하의 순서에 의해, 투명 기재인 유리 기판의 표면에 미세한 요철 형상을 형성하였다.

(1) 2.5 wt％ 의 불화수소산에 두께 1.3 ㎜, 가로세로 5 ㎝ 의 알루미노실리케이트 유리 기판을 30 초 침지시켜, 예비 세정을 실시하였다.

(2) 350 ㎖ 의 순수, 350 ㎖ 의 빙초산 혼액에 150 g 의 불화칼륨, 50 wt％ 의 불화수소 수용액 300 ㎖ 를 용해시켜 프로스트 처리액을 조제하였다.

(3) 유리 기판을 상기 프로스트 용액에 30 초 침지시켜, 프리에칭 처리를 실시하였다.

(4) 알루미노실리케이트 유리 기판을 상기 프로스트 용액으로부터 꺼내어 10 분간 유수 (流水) 로 세정한 후, 5 wt％ 의 불화수소 수용액에 6 분간 침지시킴으로써 에칭 처리를 실시하여, 투명 기재인 알루미노실리케이트 유리 기판 표면에 미세한 요철 형상을 형성하였다.

얻어진 시료에 대해, 상기 평가 방법에 의해, Gloss, 표면 조도 RMS, ΔGloss/ΔRMS, 헤이즈, 미세 요철 직경, 번쩍임 평가에 대해 각각 평가를 실시하였다.

[실험예 2]

프로스트 처리액을 순수 700 ㎖ 에 150 g 의 불화칼륨, 50 wt％ 의 불화수소 수용액 300 ㎖ 를 용해시킨 것으로 변경한 것 이외에는 실험예 1 과 동일하게 하여, 투명 기재의 표면에 미세한 요철 형상을 형성하였다.

얻어진 시료에 대해 실험예 1 과 동일하게 평가를 실시하였다.

본 실험예에 대해서는, 투명 기재의 일방의 면에 대해 레이저 현미경 (키엔스사 제조의 상품명 : VK-9700) 에 의해 표면 관찰을 실시하였다. 레이저 현미경 화상을 도 2 에 나타낸다.

또, 도 4 에 ΔGloss/ΔRMS 를 산출하였을 때의 회귀 직선을 직선 (a) 로 나타낸다.

[실험예 3]

프로스트 처리액을 400 ㎖ 의 순수, 400 ㎖ 의 빙초산 혼액에 100 g 의 불화칼륨, 50 wt％ 의 불화수소 수용액 200 ㎖ 를 용해시킨 것으로 변경한 것 이외에는 실험예 1 과 동일하게 하여, 투명 기재의 표면에 미세한 요철 형상을 형성하였다.

[실험예 4]

프로스트 처리액을 800 ㎖ 의 순수에 100 g 의 불화칼륨, 50 wt％ 의 불화수소 수용액 200 ㎖ 를 용해시킨 것으로 변경한 것 이외에는 실험예 1 과 동일하게 하여, 투명 기재의 표면에 미세한 요철 형상을 형성하였다.

[실험예 5]

프로스트 처리액을 470 ㎖ 의 순수, 470 ㎖ 의 빙초산 혼액에 30 g 의 불화칼륨, 50 wt％ 의 불화수소 수용액 60 ㎖ 를 용해시킨 것으로 변경한 것 이외에는 실험예 1 과 동일하게 하여, 투명 기재의 표면에 미세한 요철 형상을 형성하였다.

[실험예 6]

프로스트 처리액을 940 ㎖ 의 순수에 30 g 의 불화칼륨, 50 wt％ 의 불화수소 수용액 60 ㎖ 를 용해시킨 것으로 변경한 것 이외에는 실험예 1 과 동일하게 하여, 투명 기재의 표면에 미세한 요철 형상을 형성하였다.

[실험예 7]

(1) 50 wt％ 의 불화수소 수용액 1000 ㎖ 에 1500 g 의 불화암모늄과 평균 입경이 4 ㎛ 인 유리 비드 120 g 을 첨가하고 교반하여, 프로스트 처리액을 조제하였다.

(2) 두께 1.3 ㎜, 가로세로 5 ㎝ 의 알루미노실리케이트 유리 기판을 상기 프로스트 용액에 8 분간 침지시켜, 프리에칭 처리를 실시하였다.

(3) 알루미노실리케이트 유리 기판을 상기 프로스트 용액으로부터 꺼내어 10 분간 유수로 세정한 후, 20 wt％ 의 불화수소 수용액에 16 분간 침지시킴으로써 에칭 처리를 실시하여, 투명 기재인 알루미노실리케이트 유리 기판 표면에 미세한 요철을 형성하였다.

[실험예 8]

프로스트 처리액을 50 wt％ 의 불화수소 수용액 1000 ㎖ 에 500 g 의 불화암모늄과 평균 입경이 4 ㎛ 인 유리 비드 120 g 을 첨가한 것으로 변경한 것 이외에는 실험예 7 과 동일하게 하여 투명 기재의 표면에 미세한 요철을 형성하였다.

얻어진 시료에 대해 실험예 7 과 동일하게 평가를 실시하였다.

실험예 2 와 동일하게 하여, 얻어진 투명 기재의 일방의 면에 대해 표면 관찰을 실시하였다. 레이저 현미경 화상을 도 3 에 나타낸다.

또, 도 4 에 ΔGloss/ΔRMS 를 산출하였을 때의 회귀 직선을 직선 (b) 로 나타낸다.

[실험예 9]

프로스트 처리액을 50 wt％ 의 불화수소 수용액 1000 ㎖ 에 500 g 의 불화암모늄을 첨가한 것으로 변경한 것 이외에는 실험예 7 과 동일하게 하여 투명 기재의 표면에 미세한 요철을 형성하였다.

[실험예 10]

프로스트 처리액을 65 wt％ 의 불화수소 수용액 770 ㎖ 와 빙초산 230 ㎖ 혼액에 1500 g 의 불화암모늄과 평균 입경이 4 ㎛ 인 유리 비드 120 g 을 첨가한 것으로 변경한 것 이외에는 실험예 7 과 동일하게 하여 투명 기재의 표면에 미세한 요철을 형성하였다.

실험예 1 ∼ 실험예 10 의 결과를 표 1 에 나타낸다.

이들의 결과에 따르면, ΔGloss/ΔRMS 가 본원발명의 규정을 충족시키는 실험예 1 ∼ 6 에 대해서는, 번쩍임의 평가가 3 점 이하로 되어 있어, 번쩍임을 억제한 투명 기재가 얻어졌음을 알 수 있다.

또한, 실험예 1 ∼ 6 에서 얻어진 투명 기재에 있어서는 적절한 요철의 미세 구조가 형성되어 있기 때문에, 미세한 요철이 형성되기 전의 투명 기재와 비교하여 광의 비침을 억제하고, 지문 부착성을 저하시킬 수 있었다.

또, 실험예 2, 실험예 8 의 요철 형상을 관찰한 도 2, 도 3 을 비교하면, 실험예 2 의 투명 기재에 있어서는, 실험예 8 과 비교하면 매우 미세한 오목부가 형성되어 있는 것을 확인할 수 있다. 이와 같은 구조를 가짐으로써, 번쩍임을 억제하는 것을 확인할 수 있다. 또, 이것은 실험예 2, 실험예 8 을 비교하면 ΔGloss/ΔRMS 에도 반영되어 있다고 할 수 있다.

이상에 투명 기재를 실시형태 및 실시예 등으로 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시형태 및 실시예 등에 한정되지 않는다. 특허청구범위에 기재된 본 발명의 요지의 범위 내에 있어서, 다양한 변형, 변경이 가능하다.

본 출원은, 2013년 1월 21일에 일본 특허청에 출원된 일본 특허출원 2013-008275호에 기초한 우선권을 주장하는 것이고, 일본 특허출원 2013-008275호의 전체 내용을 본 국제출원에 원용한다.

Claims

적어도 일방의 면에 대해, 표면 조도 RMS (㎛) 의 변화량에 대한 Gloss (％) 의 변화량을 나타내는 ΔGloss/ΔRMS 가 -800 이하인 투명 기재.
제 1 항에 있어서,
상기 투명 기재는 유리인 투명 기재.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
적어도 일방의 면의 Gloss (％) 가 95 ％ 이하인 투명 기재.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
프로스트 가공에 의해 표면 처리가 실시된 투명 기재.