KR20150094536A - 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프 - Google Patents

Abstract

본 발명은 배기가스를 압축이송시킴과 동시에 배기가스에 포함된 유해물질 또는 유독물질을 습식세정하는 기능을 가짐에 따라 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비용 배기라인 상에 또는 스크러버의 유입구 측에 설치될 경우에 드라이펌프 이외의 보조진공수단으로 작용함과 동시에 배기가스가 스크러버에서 세정 및 정화되기에 앞서 사전에 배기가스를 습식세정함으로써 관내 클로깅이 효율적으로 저감됨과 동시에 배기가스의 세정 및 정화효율이 증대될 수 있도록 한 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프에 관한 것이다.
본 발명에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프는, 일측에 배기가스의 유입을 위한 유입관이 구비되고 타측에 유출관이 구비되는 수봉식펌프본체와, 상기 수봉식펌프본체로 습식세정을 위한 물을 공급하고 상기 수봉식펌프본체의 유출관에 연결되어 상기 수봉식펌프본체 내에서 습식세정된 배기가스와 물이 함께 저장되는 수조와, 상기 수조의 상측에 연결되고 상기 수조로부터 유입되는 습식세정된 배기가스를 기액분리하는 기액분리기와, 상기 기액분리기의 상측에 연결되고 상기 기액분리기에서 분리된 배기가스를 배출하는 가스배출관과, 상기 기액분리기의 하측에 연결되고 상기 기액분리기에서 분리된 폐수를 상기 수조로 배출하는 배수관을 포함한다.

Description

습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프{WATERING VACCUM PUMP WITH WET- CLEANIBG FUNCTION}

본 발명은 편심된 블레이드휠 형상의 임펠러에 의해 액체에 원심력을 줌과 동시에 인접하는 2개의 블레이드 사이에 낀 액체의 피스톤 작용으로 기체를 압축하는 수봉식 진공펌프에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가스를 압축이송시킴과 동시에 가스에 포함된 유해물질 또는 유독물질을 습식세정하는 기능을 가짐에 따라 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비용 배기라인 상에 또는 스크러버의 유입구 측에 설치될 경우에 드라이펌프 이외의 보조진공수단으로 작용함과 동시에 배기가스가 스크러버에서 세정 및 정화되기에 앞서 사전에 배기가스를 습식세정함으로써 관내 클로깅이 효율적으로 저감됨과 동시에 배기가스의 세정 및 정화효율이 증대될 수 있도록 한 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프에 관한 것이다.

일반적으로 수봉식 진공펌프는 편심된 블레이드휠 형상의 임펠러에 의해 액체에 원심력을 줌과 동시에 인접하는 2개의 블레이드 사이에 낀 액체의 피스톤 작용으로 기체를 압축하여 이송하는 것으로, 베인펌프와 루츠펌프 등과 함께 대기압 부근의 압력범위의 저진공펌프로 상용되고 있다.

수봉식 진공펌프는 원형 케이싱 내에 편심되게 배열된 블레이드휠 형상의 임펠러가 회전가능하게 설치되는 구성을 가진다.

이러한 수봉식 진공펌프는 원형 케이싱 내에 적당량의 액체를 넣은 상태에서 임펠러를 회전시킬 경우에, 질량이 큰 물이 원심력에 의해 케이싱의 내벽에 일정 두께의 수막링을 형성하게 되고, 수막링의 내벽과 임펠러의 블레이드에 의해 형성되는 공동의 용적이 회전위치에 따라 변화하면서 피스톤 작용과 유사하게 기체를 압축하면서 원형 케이싱의 내벽에 형성된 흡기구를 통해 기체가 유입되도록 함과 동시에 원형 케이싱의 내벽에 형성된 배기구를 통해 기체가 배기되도록 한다. 이 때 수막링은 흡기구를 통해 유입된 기체가 배기구를 통해서만 배기되도록 하는 패킹 링의 역할도 담당한다.

이러한 수봉식 진공펌프의 일 예로, 대한민국 특허등록공보 제10-0433185호(2004.05.17)에는, 구동모터의 모터 샤프트에 장착되는 임펠러가 리어 케이싱에 의해 후면이 커버된 실린더 내에 배치되고, 흡입구와 배출구가 일체로 형성되며 흡입실과 배출실이 구획된 프론트 케이싱과 실린더 사이에 격판이 배치되는 수봉식 진공펌프가 개시되어 있다.

또한 대한민국 특허공개공보 제10-1996-0041742호(1996.12.19. 공개)에는 상부 양측에 흡입관과 배출관이 일체로 되어 구획된 내부의 흡입실과 배기실로 각각 연통된 앞케이싱의 일측에는 일측에 흡입구와 그 타측에 다수로 된 배출구가 형성된 격판이 끼워지고, 상기 격판의 일측에는 축결합된 임펠러가 회동가능하게 내장된 뒤케이싱이 끼워져서, 상기 앞케이싱과 상호결합되어 이루어지는 수봉식 진공 펌프가 개시되어 있다.

그러나 전술한 바와 같은 수봉식 진공펌프의 경우에는 편심된 블레이드휠 형상의 임펠러에 의해 액체에 원심력을 줌과 동시에 인접하는 2개의 블레이드 사이에 낀 액체의 피스톤 작용으로 기체를 압축하여 이송하는 본연의 펌핑기능만 가능할 뿐, 기체 자체를 세정 또는 정화하는 기능은 전혀 제공되지 않음에 따라, 특히 유해물질 또는 유독물질을 포함하는 배기가스가 관류하는 배기라인, 특히 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비용 배기라인에 적용하기에 한계가 있었다.

한편, 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비로부터 배출되는 배기가스는 공정설비용 배기라인에 의해 스크러버로 이송된 후 스크러버 내에서 세정 및 정화된 다음 최종적으로 외부로 배출되는데, 이러한 공정설비용 배기라인 상에는 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비의 배기가스를 스크러버로 강제이송시키는 드라이펌프가 설치된다.

배기라인 중에서 공정설비와 드라이펌프 사이에는 일종의 진공라인이 형성됨에 따라 관내 클로깅 현상이 거의 발생되지 않지만 드라이펌프와 스크러버 사이에는 대기압 하의 통상의 라인으로 형성됨에 따라 배기가스의 이송압력 및 이송속도가 저하되고 이로 인해 배기가스의 화학반응으로 인해 생성된 분진이 관 내벽에 응착되는 관내 클로깅 현상이 발생된다.

이러한 관내 클로깅 현상은 심한 경우 배가라인이 폐색되어 배기가스가 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비로 역류됨에 따라 공정불량이 발생됨은 물론 드라이펌프의 부하 증대로 인해 성능 저하가 초래되는 문제점이 있었다.

전술한 문제점을 해소하기 위한 일환으로, 대한민국 특허등록공보 제10-0285581호(2001.01.04. 등록)에는 메인장비와 진공펌프 사이를 연결하는 펌핑라인중, 상기 메인장비에 인접한 펌핑라인 내에 설치된 제 1 가열수단과, 상기 펌프와 스크러버 사이에 연결된 펌프 배기라인 중, 상기 펌프와 인접한 배기라인 내에 설치된 제 2 가열수단과, 상기 펌핑라인 중, 상기 진공펌프에 근접한 펌핑라인에 설치되어 펌핑라인 내의 가스온도를 감지하는 제 1 온도검출센서와, 상기 펌프 배기라인중, 상기 스크러버에 인접한 펌프 배기라인 내에 설치된 제 2 온도검출센서와, 상기 제 1 및 제 2 온도검출센서의 검출온도에 따라 상기 제 1 및 제 2 가열수단의 작동을 제어하는 제어수단으로 구성됨에 따라 라인 내에 가열수단을 설치한 직접가열방식을 통해 펌핑 및 배기라인 내에 파우더가 생성되는 것이 방지될 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 파우더 생성 방지장치가 개시된다.

또한 대한민국 특허공개공보 제10-2011-0054675호(2011.05.25. 공개)에는 반도체 및 LCD, LED 소자의 제조 공정에 사용된 반응가스들이 가스처리장치로 이송되는 과정에서 폭발하는 것이 방지되도록 함과 더불어 이송배관 내부에 응축성 부산물이 발생하는 것을 방지하기 위한 질소가스 공급 시스템이 개시된다.

그러나 전술한 바와 같은 종래의 클로깅 현상 방지를 위한 공정설비용 배기라인의 경우에는 배기라인을 가열수단을 통해 가열해야 하므로 상당한 공정비용이 초래됨과 동시에 퍼지가스(질소)의 과다 사용으로 인해 공정부하가 증대됨을 물론 공정비용이 증대되는 문제점이 있었다.

본 발명은 전술한 종래기술의 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 가스를 압축이송시킴과 동시에 가스에 포함된 유해물질 또는 유독물질을 습식세정하는 기능을 가짐에 따라 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비용 배기라인 상에 또는 스크러버의 유입구 측에 설치될 경우에 드라이펌프 이외의 보조진공수단으로 작용함과 동시에 배기가스가 스크러버에서 세정 및 정화되기에 앞서 사전에 배기가스를 습식세정함으로써 관내 클로깅이 효율적으로 저감됨과 동시에 배기가스의 세정 및 정화효율이 증대될 수 있도록 한 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프를 제공하는 것을 기초로 한다.

전술한 본 발명의 과제는, 일측에 배기가스의 유입을 위한 유입관이 구비되고 타측에 유출관이 구비되는 수봉식펌프본체와, 상기 수봉식펌프본체로 습식세정을 위한 물을 공급하고 상기 수봉식펌프본체의 유출관에 연결되어 상기 수봉식펌프본체 내에서 습식세정된 배기가스와 물이 함께 저장되는 수조와, 상기 수조의 상측에 연결되고 상기 수조로부터 유입되는 습식세정된 배기가스를 기액분리하는 기액분리기와, 상기 기액분리기의 상측에 연결되고 상기 기액분리기에서 분리된 배기가스를 배출하는 가스배출관과, 상기 기액분리기의 하측에 연결되고 상기 기액분리기에서 분리된 폐수를 상기 수조로 배출하는 배수관을 포함하는 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프를 제공함에 의해 달성된다.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 수봉식펌프본체의 유입관에는 배기가스를 바이패스시키기 위한 유로전환밸브가 설치된다.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 수봉식 진공펌프는, 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비와 상기 스크러버 사이를 연결하고 상기 공정설비로부터 배출되는 가스를 상기 스크러버로 강제이송하는 드라이펌프가 설치되는 공정설비용 배기라인 상에서, 상기 드라이펌프와 상기 스크러버 사이에 설치된다.

본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 수봉식 진공펌프는, 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비로부터 배출되는 가스를 세정 또는 정화시키는 스크러버의 유입구 측에 일체로 설치된다.

본 발명에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프에 의하면, 가스를 압축이송시키는 본연의 기능 이외에 가스에 포함된 유해물질 또는 유독물질을 습식세정하는 부가기능을 가지는 장점이 있다.

또한 본 발명에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프에 의하면, 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비의 배기가스를 배기시키는 공정설비용 배기라인 상에서 드라이펌프와 스크러버 사이에 보조진공수단으로 부가적으로 설치될 경우에, 드라이펌프와 보조진공수단 사이에 추가적인 진공라인이 형성됨에 따라 별도의 공정부하나 공정비용의 증대없이도 이송압력 및 이송속도의 저하로 인한 관내 클로깅이 효율적으로 저감되고 퍼지가스(질소)의 사용량 및 그로 인한 스크러버의 에너지 사용량이 대폭 절감될 뿐만 아니라 드라이펌프의 에너지 사용량이 절감되어 배기가스의 처리효율이 증대될 수 있으며, 스크러버에 의한 배기가스의 세정 이전에 물 접촉에 따른 사전 세정이 이루어짐에 따라 배기가스의 세정효율이 대폭 증대될 수 있는 탁월한 효과가 있다.

또한 본 발명에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프에 의하면, 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비의 배기가스가 유입되는 스크러버의 유입구 측에 보조진공수단으로 일체로 구비될 경우에, 상기 공정설비와 스크러버를 연결하는 배기라인 중 드라이펌프와 스크러버 사이에 추가적인 진공라인부가 형성됨에 따라 배기라인 중 드라이펌프의 하류에서도 이송압력 및 이송속도가 저하됨없이 배기가스가 스크러버로 이송될 수 있고, 이로 인해 관내 클로깅이 효율적으로 저감되고 퍼지가스(질소)의 사용량 및 그로 인한 스크러버의 에너지 사용량이 대폭 절감될 뿐만 아니라 드라이펌프의 에너지 사용량이 절감되어 배기가스의 처리효율이 증대될 수 있으며, 스크러버에 의한 배기가스의 세정 또는 정화 이전에 물 접촉에 따른 사전 세정이 이루어짐에 따라 배기가스의 세정 또는 정화효율이 대폭 증대될 수 있는 탁월한 효과가 있다.

도 1a 및 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프의 개략구조도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프가 보조진공수단이 설치된 공정설비용 배기라인의 개략구조도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프가 유입구 측에 보조진공수단으로 설치된 스크러버의 개략구조도.

이하에는, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세하게 설명하되, 이는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세하게 설명하기 위한 것이지, 이로 인해 본 발명의 기술적인 사상 및 범주가 한정되는 것을 의미하지는 않는다.

본 발명의 일 실시예에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프(1)는, 가스를 압축이송시키는 펌프 본연의 기능을 가짐과 동시에 가스에 포함된 유해물질 또는 유독물질을 습식세정하는 부가기능도 가지는 것으로, 도 1a 내지 도 3에 도시되는 바와 같이, 일측에 배기가스의 유입을 위한 유입관(11)이 구비되고 타측에 유출관(13)이 구비되는 수봉식펌프본체(10)와, 수봉식펌프본체(10)로 습식세정을 위한 물을 공급하고 수봉식펌프본체(10)의 유출관(13)에 연결되어 수봉식펌프본체(10) 내에서 습식세정된 배기가스와 물이 함께 저장되는 수조(20)와, 수조(20)의 상측에 연결되고 수조(20)로부터 유입되는 습식세정된 배기가스를 기액분리하는 기액분리기(30)와, 기액분리기(30)의 상측에 연결되고 기액분리기(30)에서 분리된 배기가스를 배출하는 가스배출관(40)과, 기액분리기(40)의 하측에 연결되고 기액분리기(30)에서 분리된 폐수를 외부로 배출하는 배수관(도시되지 않음)을 포함한다.

여기서, 수봉식펌프본체(10)는 회전하는 편심블레이드휠에 의해 물에 원심력을 줌과 동시에 인접하는 2개의 블레이드 사이에 낀 액의 피스톤 작용으로 배기가스를 압축하는 공지의 수봉식 펌프구조로 형성된다.

이러한 수봉식펌프본체(10)는 원형 케이싱 내에 적당량의 물이 제공된 상태에서 편심블레이드휠(임펠러)를 회전시킬 경우에, 질량이 큰 물이 원심력에 의해 원형 케이싱의 내벽에 일정 두께의 수막링을 형성하게 되고, 수막링의 내벽과 편심블레이드휠(임펠러)의 인접 블레이드들에 의해 형성되는 공동의 용적이 편심블레이드휠(임펠러)의 회전위치에 따라 변화하면서 피스톤 작용과 유사하게 가스를 압축함에 따라 원형 케이싱의 일측에 형성된 유입관(11)을 통해 가스가 유입되도록 함과 동시에 원형 케이싱의 타측에 형성된 유출구(13)를 통해 가스가 배기되도록 한다. 이 때 수막링은 유입관(11)을 통해 유입된 가스가 유출구(13)를 통해서만 배기되도록 하는 실링링의 역할도 담당한다.

수봉식펌프본체(10)의 일측에는 배기가스의 유입을 위한 유입관(11)이 구비되고 수봉식펌프본체(10)의 타측에는 수봉식펌프본체(10) 내에서 습식세정된 배기가스와 물이 함께 수조(20)로 배출되는 유출관(13)이 구비된다. 또한 유입관(11)에는 고장발생 또는 유지보수시에 배기가스를 바이패스시키기 위한 유로전환밸브(15)가 설치된다.

수조(20)는 물공급튜브(도시되지 않음)에 의해 수봉식펌프본체(10)와 연결되어 수봉식펌프본체(10) 내로 습식세정을 위한 물을 공급함과 동시에 수봉식펌프본체(10)의 유출관(13)에 연결되어 수봉식펌프본체(10) 내에서 습식세정된 습식세정된 배기가스와 물이 함께 수용된다.

수조(20)는 물공급튜브(도시되지 않음)에 의해 수봉식펌프본체(21)와 연결되는데, 이 물공급튜브(도시되지 않음)를 통해 수조(20) 내의 물은 수봉식펌프본체(10) 내로 제공되어 배기가스에 접촉함에 따라 배기가스를 습식세정하게 된다. 수조(20) 내의 물은 수봉식펌프본체(21)의 펌핑압에 의해 자연적으로 수봉식펌프본체(10)로 제공된다.

또한 수조(20) 내의 물이 과도하게 오염된 경우 이를 외부로 배수시켜 폐수처리함과 동시에 깨끗한 물을 수조(20) 내로 공급할 필요가 있는데, 이를 위해 수조(20)에는 드레임펌프가 구비된 드레인관(도시되지 않음)과, 물공급원에 연결되는 급수관(도시되지 않음)이 별도 연결된다.

수봉식펌프본체(10)의 유출구(13)에 연결되는 기액분리기(30)는 수봉식펌프본체(10)로부터 배출되는 습식세정된 배기가스를 기액분리하는 역할을 하는 것으로, 비중의 차이를 이용하여 자연적으로 가스와 물을 서로 분리하는 어큐뮬레이터식 기액분리기 또는 강제회전을 통한 원심분리를 이용하는 강제회전식 기액분리기로 형성될 수 있다.

결과적으로, 물에 의해 1차적으로 습식세정된 가스는 기액분리기(30) 내에서 상측으로 분리된 후 가스배출관(40)를 통해 배출되고, 가스를 습식세정한 폐수는 기액분리기(30) 내에서 하측으로 분리된 후 배수관(도시되지 않음)을 통해 가스와 분리배출된 후 별도 정화처리된다.

전술한 바와 같은 본 발명에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프(1)는 수봉식펌프본체(10)의 자체 구성에 의해 가스를 압축이송시키는 본연의 기능을 가질 뿐만 아니라 수조(20) 및 기액분리기(30)의 부가구성을 통해 가스에 포함된 유해물질 또는 유독물질을 습식세정하는 부가기능을 가진다.

전술한 본 발명의 일 실시예에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프(1)는, 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비(3)와 스크러버(5) 사이를 연결하고 공정설비(3)로부터 배출되는 배기가스를 스크러버(5)로 강제이송하는 드라이펌프(9)가 설치되는 공정설비용 배기라인(7) 상에서, 드라이펌프(9)와 스크러버(5) 사이에 보조진공수단으로 설치되는 것이 바람직하다.

이 때, 공정설비(3)는 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비를 말한다.

또한 스크러버(5)는 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에서 발생하는 배기가스에 포함된 유해물질 또는 유독물질을 제거 및 정화시키는 장치로서, 크게 배기가스와 세척액이 충전탑에서 서로 향류 방향으로 흐르면서 기액 접촉을 통하여 유독가스를 중화시키거나 흡수처리하는 습식 스크러버와, 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에서 발생하는 배기가스에 포함된 유해물질 또는 유독물질을 간접 또는 직접 고온으로 열분해하거나 또는 활성탄이나 이온교환체와 같은 흡착제를 이용하여 흡착 제거하는 건식 스크러버로 분류된다.

이러한 공정설비(3)와 스크러버(5)는 배기라인(7)에 의해 연결되는데, 이 배기라인(7)은 일단은 공정설비(3)에 연결되고 타단은 스크러버(5)에 연결되어 공정설비(3)로부터 방출되는 배기가스를 스크러버(5)로 이송하기 위한 가스이송관로에 해당한다.

배기라인(7) 상에는 드라이펌프(9)가 설치되는데, 이 드라이펌프(9)는 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비(3)와의 사이에 진공라인부를 형성하여 공정설비(3)의 배기가스를 스크러버(5)로 강제이송시키는 역할을 하는 건식 진공펌프로, 왕복 운동 피스톤 펌프와 다익(多翼) 날개형 회전 펌프로도 형성될 수 있지만 루츠로터를 이용한 건식 진공펌프, 스크류로터를 이용한 건식 진공펌프 또는 루츠로터와 스크류로터를 복합적으로 이용하는 건식 진공펌프로도 형성될 수 있다.

전술한 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비(3), 스크러버(5), 배기라인(7) 및 드라이펌프(9)는 이미 공지되어 있는 바, 여기서는 명세서의 간략화를 위해 상세설명은 생략하기로 한다.

본 발명의 일 실시예에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프(1)가 드라이펌프(9)와 스크러버(5) 사이에 보조진공수단으로 설치되는 경우에, 드라이펌프(9)에 의해 드라이펌프(9)의 전단에 형성되는 진공라인부 이외에 드라이펌프(9)의 후단에 추가적인 진공라인부가 형성됨으로써, 관내 클로깅이 진공 유지에 의해 효율적으로 저감되고 퍼지가스(질소)의 사용량 및 그로 인한 스크러버(5)의 에너지 사용량이 대폭 감소될 뿐만 아니라 드라이펌프(9)에 가해지는 부하를 분산시켜 드라이펌프(9)의 에너지 사용량이 절감되어 전체적으로 배기가스의 처리효율이 증대될 수 있다.

또한 전술한 본 발명의 일 실시예에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프(1)는, 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비(3)로부터 배출되는 배기가스를 세정 또는 정화시키는 스크러버(5)의 유입구 측에 일체로 설치될 수도 있다.

이 경우에도 본 발명의 일 실시예에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프(1)에 의해 공정설비(3)와 스크러버(5)를 연결하는 배기라인(7) 중 드라이펌프(9)와 스크러버(5) 사이에 추가적인 진공라인이 형성됨에 따라, 배기라인(7) 중 드라이펌프(9)의 하류에서도 이송압력 및 이송속도가 저하됨없이 배기가스가 스크러버(5)로 이송될 수 있고, 이로 인해 별도의 공정부하나 공정비용의 증대없이도 이송압력 및 이송속도의 저하로 인한 배기라인(7)의 관내 클로깅이 효율적으로 저감되고 퍼지가스(질소)의 사용량 및 그로 인한 스크러버(5)의 에너지 사용량이 대폭 절감될 뿐만 아니라 드라이펌프(9)의 부하 감소로 인해 최고의 배기성능이 유지됨에 따라 전체적으로 배기가스의 처리효율이 증대될 수 있다.

뿐만 아니라 본 발명의 일 실시예에 따른 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프(1)는 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비(3)로부터 배출되는 배기가스를 스크러버(5)에 의한 세정 이전에 사전 습식세정함에 따라 스크러버(5)의 부하가 대폭적으로 감소되고 배기가스의 세정효율이 대폭 증대될 수 있다.

1 : 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프
3 : 공정설비
5 : 스크러버
7 : 배기라인
9 : 드라이펌프
10 : 수봉식펌프본체
11 : 유입관
13 : 유출구
20 : 수조
30 : 기액분리기
40 : 가스배출관

Claims (4)

1. 일측에 배기가스의 유입을 위한 유입관이 구비되고 타측에 유출관이 구비되는 수봉식펌프본체;
   상기 수봉식펌프본체로 습식세정을 위한 물을 공급하고 상기 수봉식펌프본체의 유출관에 연결되어 상기 수봉식펌프본체 내에서 습식세정된 배기가스와 물이 함께 저장되는 수조;
   상기 수조의 상측에 연결되고 상기 수조로부터 유입되는 습식세정된 배기가스를 기액분리하는 기액분리기;
   상기 기액분리기의 상측에 연결되고 상기 기액분리기에서 분리된 배기가스를 배출하는 가스배출관; 및
   상기 기액분리기의 하측에 연결되고 상기 기액분리기에서 분리된 폐수를 상기 수조로 배출하는 배수관을 포함하는 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프.
2. 청구항 1에 있어서,
   상기 수봉식펌프본체의 유입관에는 배기가스를 바이패스시키기 위한 유로전환밸브가 설치되는 것을 특징으로 하는 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프.
3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
   상기 수봉식 진공펌프는, 반도체소자, LCD 또는 OLED의 제조공정에 사용되는공정설비와 스크러버 사이를 연결하고 상기 공정설비로부터 배출되는 배기가스를 상기 스크러버로 강제이송하는 드라이펌프가 설치되는 공정설비용 배기라인 상에서, 상기 드라이펌프와 상기 스크러버 사이에 설치되는 것을 특징으로 하는 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프.
4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
   상기 수봉식 진공펌프는, 반도체소자, LCD 또는 OLED의 제조공정으로부터 배출되는 배기가스를 세정 또는 정화시키는 스크러버의 유입구 측에 일체로 설치되는 것을 특징으로 하는 습식세정기능을 가지는 수봉식 진공펌프.

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