KR101640395B1 - 보조진공수단이 구비된 스크러버 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 공정설비의 배기가스가 유입되는 스크러버본체의 유입구 측에 보조진공수단이 일체로 구비됨에 따라 공정설비와 스크러버본체를 연결하는 배기라인 중 드라이펌프와 스크러버본체 사이에 추가적인 진공라인부가 형성됨으로써 관내 클로깅이 저감되고 퍼지가스(질소)의 사용량 및 그로 인한 스크러버의 에너지 사용량이 대폭 감소될 뿐만 아니라 드라이펌프의 부하가 감소되어 전체적으로 배기가스의 처리효율이 증대될 수 있도록 한 보조진공수단이 구비된 스크러버에 관한 것이다.
본 발명에 따른 보조진공수단이 구비된 스크러버는, 드라이펌프가 설치된 배기라인을 통해 공정설비에 연결되어 상기 공정설비로부터 배출되는 배기가스를 세정 또는 정화시키는 스크러버본체와, 상기 스크러버본체의 유입구 측에 구비되고 상기 드라이펌프와 상기 스크러버본체 사이에 추가적인 진공라인부를 형성하여 상기 배기라인 내의 클로깅 현상을 억제하는 보조진공수단을 포함한다.
본 발명에 따른 보조진공수단이 구비된 스크러버는, 드라이펌프가 설치된 배기라인을 통해 공정설비에 연결되어 상기 공정설비로부터 배출되는 배기가스를 세정 또는 정화시키는 스크러버본체와, 상기 스크러버본체의 유입구 측에 구비되고 상기 드라이펌프와 상기 스크러버본체 사이에 추가적인 진공라인부를 형성하여 상기 배기라인 내의 클로깅 현상을 억제하는 보조진공수단을 포함한다.
Description
본 발명은 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비의 배기가스를 세정 또는 정화하는 스크러버에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비의 배기가스가 유입되는 스크러버본체의 유입구 측에 보조진공수단이 일체로 구비됨에 따라 공정설비와 스크러버본체를 연결하는 배기라인 중 드라이펌프와 스크러버본체 사이에 추가적인 진공라인부가 형성됨으로써 관내 클로깅이 저감되고 퍼지가스(질소)의 사용량 및 그로 인한 스크러버의 에너지 사용량이 대폭 감소될 뿐만 아니라 드라이펌프의 부하가 감소되어 전체적으로 배기가스의 처리효율이 증대될 수 있도록 한 보조진공수단이 구비된 스크러버에 관한 것이다.
일반적으로 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 작용되는 공정설비로부터는 각종 유해물질과 유독물질이 배기가스가 발생된다.
이러한 공정설비의 배기가스는 배기라인에 설치된 드라이펌프의 진공압에 의해 스크러버로 강제이송된 후 스크러버 내에서 세정 또는 정화된 다음 최종적으로 외부로 배출된다.
스크러버는 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비로부터 발생하는 배기가스에 포함된 유해물질 또는 유독물질을 제거 및 정화시키는 장치로서, 크게 배기가스와 세척액의 기액 접촉을 통하여 유독가스를 중화시키거나 흡수처리하는 습식 스크러버와, 반도체 제조공정에서 발생하는 배기가스에 포함된 유해물질 또는 유독물질을 간접 또는 직접 고온으로 열분해하거나 또는 활성탄이나 이온교환체와 같은 흡착제를 이용하여 흡착 제거하는 건식 스크러버로 분류된다.
습식 스크러버의 일 예로, 대한민국 특허등록공보 제10-0884286호(2009.02.11)에, 반도체 공정에서 폐가스를 처리하는 습식 스크러버 시스템이 개시되어 있으며, 건식 스크러버의 일 예로, 대한민국 특허등록공보 제10-0623368호(2006.09.05. 등록)에 반도체 제조 장비용 직접 연소식 스크러버가 개시되어 있다.
그러나 전술한 바와 같은 종래의 스크러버의 경우에는 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비로부터 배출되는 배기가스가 배기라인에 설치된 드라이펌프의 진공압에 의해서만 스크러버로 강제이송됨에 따라, 배기라인 중 공정설비로부터 드라이펌프까지는 진공라인부가 형성되어 관내 클로깅 현상이 거의 발생되지 않지만, 배기라인 중 드라이펌프로부터 스크러버까지는 대기압 하에 있게 되므로 배기가스의 이송압력 및 이송속도가 저하되고 이로 인해 배기가스의 화학반응으로 인해 생성된 분진이 관 내벽에 응착되는 관내 클로깅 현상이 발생된다.
이러한 관내 클로깅 현상은 심한 경우 배가라인이 폐색되어 배기가스가 공정설비로 역류됨에 따라 공정불량이 발생됨은 물론 드라이펌프의 부하 증대로 인해 성능 저하가 초래되는 문제점이 있었다.
본 발명은 전술한 종래기술의 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비의 배기가스가 유입되는 스크러버본체의 유입구 측에 보조진공수단이 일체로 구비됨에 따라 공정설비와 스크러버본체를 연결하는 배기라인 중 드라이펌프와 스크러버본체 사이에 추가적인 진공라인부가 형성됨으로써 관내 클로깅이 저감되고 퍼지가스(질소)의 사용량 및 그로 인한 스크러버의 에너지 사용량이 대폭 감소될 뿐만 아니라 드라이펌프의 부하가 감소되어 전체적으로 배기가스의 처리효율이 증대될 수 있도록 한 보조진공수단이 구비된 스크러버를 제공하는 것을 기초로 한다.
전술한 본 발명의 과제는, 드라이펌프가 설치된 배기라인을 통해 공정설비에 연결되어 상기 공정설비로부터 배출되는 배기가스를 세정 또는 정화시키는 스크러버본체와, 상기 스크러버본체의 유입구 측에 구비되고 상기 드라이펌프와 상기 스크러버본체 사이에 추가적인 진공라인부를 형성하여 상기 배기라인 내의 클로깅 현상을 억제하는 보조진공수단을 포함하는 스크러버를 제공함에 의해 달성된다.
본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 상기 보조진공수단은 수봉식 진공펌프로 형성된다.
본 발명의 더 바람직한 특징에 따르면, 상기 보조진공수단은, 일측에 배기가스의 유입을 위한 유입관이 구비되고 타측에 유출관이 구비되는 수봉식펌프본체와, 상기 수봉식펌프본체로 습식세정을 위한 물을 공급하고 상기 수봉식펌프본체의 유출관에 연결되어 상기 수봉식펌프본체 내에서 습식세정된 배기가스와 물이 함께 저장되는 수조와, 상기 수조의 상측에 연결되고 상기 수조로부터 유입되는 습식세정된 배기가스를 기액분리하는 기액분리기와, 상기 기액분리기의 상측에 연결되고 상기 기액분리기에서 분리된 배기가스를 상기 스크러버로 배출하는 가스배출관과, 상기 기액분리기의 하측에 연결되고 상기 기액분리기에서 분리된 폐수를 상기 수조로 배출하는 배수관을 포함한다.
본 발명에 따른 보조진공수단이 구비된 스크러버에 의하면, 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비의 배기가스가 유입되는 스크러버본체의 유입구 측에 보조진공수단이 일체로 구비되어 공정설비와 스크러버본체를 연결하는 배기라인 중 드라이펌프와 스크러버 사이에 추가적인 진공라인부가 형성됨에 따라 배기라인 중 드라이펌프의 하류에서도 이송압력 및 이송속도가 저하됨없이 배기가스가 스크러버로 이송될 수 있고, 이로 인해 관내 클로깅이 효율적으로 저감되고 퍼지가스(질소)의 사용량 및 그로 인한 스크러버의 에너지 사용량이 대폭 절감될 뿐만 아니라 드라이펌프의 에너지 사용량이 절감되어 배기가스의 처리효율이 증대될 수 있는 탁월한 효과가 있다.
또한 본 발명에 따른 보조진공수단을 포함하는 공정설비용 배기라인에 의하면, 보조진공수단이 배기가스의 습식세정을 가능하게 하는 수봉식 진공펌프로 형성되어 스크러버본체에 의한 배기가스의 세정 또는 정화 이전에 보조진공수단에 의한 사전 세정이 이루어짐에 따라 배기가스의 세정 또는 정화효율이 대폭 증대될 수 있는 탁월한 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 보조진공수단이 구비된 스크러버의 배기라인 연결구성도.
도 2a 및 도 2b은 본 발명의 일 실시예에 따른 보조진공수단이 구비된 스크러버에 있어서, 수봉식 진공펌프로 형성되는 보조진공수단의 사시도.
도 3은 퍼지가스(N2)의 저감량에 따른 사불화가스(CF4)의 처리효율을 나타내는 그래프.
도 4는 퍼지가스(N2)의 저감량에 따른 스크러버의 액화천연가스(LNG)와 산소(O2) 사용량을 나타내는 그래프.
도 2a 및 도 2b은 본 발명의 일 실시예에 따른 보조진공수단이 구비된 스크러버에 있어서, 수봉식 진공펌프로 형성되는 보조진공수단의 사시도.
도 3은 퍼지가스(N2)의 저감량에 따른 사불화가스(CF4)의 처리효율을 나타내는 그래프.
도 4는 퍼지가스(N2)의 저감량에 따른 스크러버의 액화천연가스(LNG)와 산소(O2) 사용량을 나타내는 그래프.
이하에는, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세하게 설명하되, 이는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세하게 설명하기 위한 것이지, 이로 인해 본 발명의 기술적인 사상 및 범주가 한정되는 것을 의미하지는 않는다.
본 발명의 일 실시예에 따른 보조진공수단이 구비된 스크러버(1)는 별도의 공정부하나 공정비용의 증대없이 관내 클로깅이 효율적으로 저감되고 퍼지가스(질소)의 사용량 및 그로 인한 스크러버의 에너지 사용량이 대폭 감소될 뿐만 아니라 드라이펌프(10)의 에너지 사용량이 절감되어 전체적으로 배기가스의 처리효율이 증대될 수 있도록 하기 위한 것으로, 도 1 및 도 2b에 도시되는 바와 같이, 드라이펌프(7)가 설치된 배기라인(5)을 통해 공정설비(3)에 연결되어 공정설비(3)로부터 배출되는 배기가스를 세정 또는 정화시키는 스크러버본체(10)와, 스크러버본체(10)의 유입구 측에 구비되고 드라이펌프(7)와 스크러버본체(10) 사이에 추가적인 진공라인부를 형성하여 배기라인(5) 내의 클로깅 현상을 억제하는 보조진공수단(20)을 포함한다.
여기서 공정설비(3)는 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비를 말한다.
또한 배기라인(5)은 일단은 공정설비(3)에 연결되고 타단은 본 발명의 일 실시예에 따른 보조진공수단이 구비된 스크러버(1)에 연결되어 공정설비(3)로부터 방출되는 배기가스를 본 발명의 일 실시예에 따른 보조진공수단이 구비된 스크러버(1)로 이송하기 위한 가스이송관로에 해당한다.
또한 배기라인(5) 상에 설치되는 드라이펌프(7)는 공정설비(3)와의 사이에 진공라인부를 형성하여 공정설비(3)의 배기가스를 본 발명의 일 실시예에 따른 보조진공수단이 구비된 스크러버(1)로 강제이송시키는 역할을 하는 건식 진공펌프로, 왕복 운동 피스톤 펌프와 다익(多翼) 날개형 회전 펌프로도 형성될 수 있지만 루츠로터를 이용한 건식 진공펌프, 스크류로터를 이용한 건식 진공펌프 또는 루츠로터와 스크류로터를 복합적으로 이용하는 건식 진공펌프로도 형성될 수 있다.
스크러버본체(10)는 공정설비(3)로부터 배출되는 배기가스를 세정 또는 정화시키는 장치로, 드라이펌프(7)가 설치된 배기라인(5)을 통해 공정설비(3)에 연결된다. 스크러버본체(10)는 배기라인(5)에 직결되는 유입구(11)를 포함한다.
스크러버본체(10)는 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에서 발생하는 배기가스에 포함된 유해물질 또는 유독물질을 제거 및 정화시키는 장치로, 배기가스와 세척액의 기액 접촉을 통하여 유독가스를 중화시키거나 흡수처리하는 공지된 모든 종류의 습식 스크러버와, 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에서 발생하는 배기가스에 포함된 유해물질 또는 유독물질을 간접 또는 직접 고온으로 열분해하거나 또는 활성탄이나 이온교환체와 같은 흡착제를 이용하여 흡착 제거하는 공지된 모든 종류의 건식 스크러버 중 하나로 형성될 수 있다.
습식 스크러버의 일 예로, 대한민국 특허등록공보 제10-0884286호(2009.02.11)에, 반도체 제조공정에서 폐가스를 처리하는 습식 스크러버 시스템에 있어서, 상부에 폐가스가 유입되는 폐가스 유입구를 구비하며 박스 형상으로 형성되는 타워 하우징과, 상기 타워 하우징의 내부에 배치되어 물을 분사하는 제1분사노즐과, 상기 제1분사노즐의 하부에 수평방향으로 배치되는 다수의 분산봉을 구비하는 습식타워와, 일측에 형성되며 상기 타워하우징의 하부가 결합되는 유입구와 타측에 형성되는 유출구를 구비하며 박스 형상으로 형성되는 탱크 하우징과, 상기 탱크 하우징의 물을 상기 제1분사노즐로 공급하는 공급펌프와, 상기 공급펌프와 상기 제1분사노즐을 연결하는 제1공급관을 구비하는 물공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 스크러버 시스템이 개시되어 있다.
건식 스크러버의 일 예로, 대한민국 특허등록공보 제10-0623368호(2006.09.05. 등록)에는, 처리 대상 폐 가스를 유입시키기 위한 하나 이상의 폐 가스 유입관과, 상기 폐 가스 유입관에 연결되어 상기 폐 가스를 연소하기 위한 버너와, 상기 버너와 연결되어 상기 폐 가스의 연소 공간을 제공하는 연소 챔버와, 상기 연소 챔버와 연결되어 상기 연소 챔버에서 연소된 후 생성되는 가스를 정화 처리하기 위한 습식 정화조와, 상기 연소 챔버 및 습식 정화조와 연결되어 연소된 후 생성되는 부산물을 침전 처리하기 위한 침전 탱크와, 상기 연소 챔버와 침전 탱크 사이에 제공되어 상기 연소 챔버를 상기 버너로부터 분리시키는 분리대를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장비용 직접 연소식 스크러버가 개시되어 있다.
전술한 공정설비(3), 배기라인(5), 드라이펌프(7) 및 스크러버본체(10)의 기능 및 구성은 이미 공지되어 있는 바, 여기서는 명세서의 간략화를 위해 상세설명은 생략하기로 한다.
전술한 스크러버본체(10)의 유입구 측에는 보조진공수단(20)이 설치되는데, 이 보조진공수단(20)은 배기라인(5) 상에서 드라이펌프(7)에 의해 드라이펌프(7)의 전단에 형성되는 진공라인부 이외에 드라이펌프(7)와 스크러버본체(10) 사이에 추가적인 진공라인부를 형성함으로써, 관내 클로깅이 진공 유지에 의해 효율적으로 저감되고 퍼지가스(질소)의 사용량 그로 인한 스크러버의 에너지 사용량이 대폭 감소될 뿐만 아니라 드라이펌프(7)에 가해지는 부하를 분산시켜 드라이펌프(7)의 에너지 사용량이 절감되도록 하는 것으로, 다양한 진공펌프로 형성될 수 있지만, 도 2에 도시되는 바와 같은 수봉식 진공펌프로 형성되는 것이 바람직하다.
수봉식 진공펌프로 형성되는 보조진공수단(20)은 특히 배기가스의 습식세정이 가능해 지도록, 도 2a 및 도 2b에 도시되는 바와 같이, 일측에 배기가스의 유입을 위한 유입관(21a)이 구비되고 타측에 유출관(21b)이 구비되는 수봉식펌프본체(21)와, 수봉식펌프본체(21)로 습식세정을 위한 물을 공급하고 수봉식펌프본체(21)의 유출관(21a)에 연결되어 수봉식펌프본체(21) 내에서 배기가스와 물이 함께 저장되는 수조(23)와, 수조(23)의 상측에 연결되고 수조(23)로부터 유입되는 습식세정된 배기가스를 기액분리하는 기액분리기(25)와, 기액분리기(25)의 상측에 연결되고 기액분리기(25)에서 분리된 배기가스를 스크러버(5)로 배출하는 가스배출관(27)과, 기액분리기(25)의 하측에 연결되고 기액분리기(25)에서 분리된 폐수를 외부로 배출하는 배수관(도시되지 않음)을 포함한다.
수봉식펌프본체(21)는 회전하는 편심블레이드휠(임펠러)에 의해 물에 원심력을 줌과 동시에 인접하는 2개의 블레이드 사이에 낀 액의 피스톤 작용으로 배기가스를 압축하는 공지의 수봉식 펌프구조로 형성된다.
수봉식펌프본체(21)의 일측에는 배기가스의 유입을 위한 유입관(21a)이 구비되고 수봉식펌프본체(21)의 타측에는 수봉식펌프본체(21) 내에서 습식세정된 배기가스와 물이 함께 수조(23)로 배출되는 유출관(21b)이 구비된다. 또한 유입관(21a)에는 또한 제 1 보조진공수단(20)의 고장발생 또는 유지보수시에 배기가스를 바이패스시키기 위한 유로전환밸브(21c)가 설치된다.
수조(23)는 수봉식펌프본체(21) 내에서 습식세정된 배기가스와 물이 함께 수용되는 것으로, 수봉식펌프본체(21)의 유출관(21b)에 연결된다. 또한 수조(23)는 물공급튜브(도시되지 않음)에 의해 수봉식펌프본체(21)와 연결되는데, 이 물공급튜브(도시되지 않음)를 통해 수조(23) 내의 물은 수봉식펌프본체(21) 내로 제공되어 배기가스에 접촉함에 따라 배기가스를 습식세정하게 된다. 수조(23) 내의 물은 수봉식펌프본체(21)의 펌핑압에 의해 자연적으로 수봉식펌프본체(21)로 제공된다.
또한 수조(23) 내의 물이 과도하게 오염된 경우 이를 외부로 배수시켜 폐수처리함과 동시에 깨끗한 물을 수조(23) 내로 공급할 필요가 있는데, 이를 위해 수조(23)에는 드레임펌프가 구비된 드레인관(도시되지 않음과, 물공급원에 연결되는 급수관(도시되지 않음)이 별도 연결된다.
기액분리기(25)는 수조(23)의 상측으로부터 배출되는 습식세정된 배기가스를기액분리하는 역할을 하는 것으로, 비중의 차이를 이용하여 자연적으로 기체와 액체를 서로 분리하는 어큐뮬레이터식 기액분리기 또는 강제회전을 통한 원심분리를 이용하는 강제회전식 기액분리기로 형성될 수 있다.
결과적으로, 물에 의해 1차적으로 습식세정된 배기가스는 기액분리기(25) 내에서 상측으로 분리된 후 가스배출관(27)를 통해 스크러버(5)로 제공되고, 배기가스를 습식세정한 폐수는 기액분리기(25) 내에서 하측으로 분리된 후 배수관(도시되지 않음)을 통해 배출된 후 별도 정화처리된다.
전술한 바와 같은 보조진공수단(20)의 효과를 설명을 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 보조진공수단을 포함하는 스크러버(1)에 사용되는 에너지 사용량, 즉 액화천연가스(LNG)와 산소(O2) 사용량을 각각 33LPM, 66LPM으로 동일하게 유지시킨 상태에서 퍼지가스(질소)의 저감량에 따른 사불화가스(CF4)의 처리효율을 측정한 결과를 아래 표 1에 나타냄과 동시에 도 3에 그래프로 도시하였다.
표 1 및 도 3으로부터, 퍼지가스(질소)의 사용량을 절감시킬수록 본 발명의 일 실시예에 따른 보조진공수단을 포함하는 스크러버(1)에 동일한 양의 에너지를 사용함에도 불구하고 본 발명의 일 실시예에 따른 보조진공수단을 포함하는 스크러버(1)에 의한 사불화가스(CF4)의 처리효율, 즉 배기가스 처리효율이 점점 더 증대됨을 알 수 있다.
표 1 및 도 3에 도시된 퍼지가스(질소)의 저감량에 따른 사불화가스(CF4)의 처리효율의 결과를 다른 각도로 해석하면, 일정한 배기가스 처리효율을 만족하는 경우에 본 발명의 일 실시예에 따른 보조진공수단을 포함하는 스크러버(1)에 사용되는 에너지 사용량, 즉 액화천연가스(LNG)와 산소(O2) 사용량을 줄일 수 있음을 알 수 있다.
이를 입증하기 위하여 사불화가스(CF4)의 처리효율을 최소 90% 이상으로 설정한 상태에서 퍼지가스(질소)의 저감량에 따라 본 발명의 일 실시예에 따른 보조진공수단을 포함하는 스크러버(1)에서 사용되는 에너지 사용량, 즉 액화천연가스(LNG)와 산소(O2) 사용량을 측정한 결과를 표 2에 나타냄과 동시에, 도 4에 그래프로 도시하였다.
표 2 및 도 4로부터, 퍼지가스(N2)의 사용량을 줄일수록 본 발명의 일 실시예에 따른 보조진공수단을 포함하는 스크러버(1)에서 사용되는 에너지 사용량, 즉 액화천연가스(LNG)와 산소(O2) 사용량도 비례하여 저감됨을 알 수 있다.
전술한 바와 같은 본 발명에 따른 보조진공수단을 포함하는 스크러버(1)는, 반도체소자, LCD, OLED 등의 제조공정에 사용되는 공정설비(3)의 배기가스가 유입되는 스크러버본체(10)의 유입구(11) 측에 보조진공수단(20)이 일체로 구비되어 공정설비(3)와 스크러버본체(10)를 연결하는 배기라인 중 드라이펌프(7)와 스크러버본체(10) 사이에도 추가적인 진공라인이 형성됨에 따라, 배기라인(5) 중 드라이펌프(7)의 하류에서도 이송압력 및 이송속도가 저하됨없이 배기가스가 스크러버본체(10)로 이송될 수 있다.
이로 인해 본 발명에 따른 보조진공수단을 포함하는 스크러버(1)는, 별도의 공정부하나 공정비용의 증대없이도 이송압력 및 이송속도의 저하로 인한 배기라인(5)의 관내 클로깅이 효율적으로 저감되고 퍼지가스(질소)의 사용량 및 그로 인한 스크러버의 에너지 사용량이 대폭 절감될 뿐만 아니라 드라이펌프(7)의 부하 감소로 인해 최고의 배기성능이 유지됨에 따라 전체적으로 배기가스의 처리효율이 증대될 수 있다.
또한 전술한 보조진공수단(20)이 배기가스의 습식세정을 가능하게 하는 수봉식 진공펌프로 형성될 경우에는 스크러버본체(10)에 의한 배기가스의 세정 또는 정화 이전에 보조진공수단(20)에 의한 사전 세정이 이루어짐에 따라 스크러버본체(10)의 부하가 대폭적으로 감소되고 배기가스의 세정 또는 정화효율이 대폭 증대될 수 있다.
1 : 보조진공수단이 구비된 스크러버
3 : 공정설비
5 : 배기라인
7 : 드라이펌프
10 : 스크러버본체
11 : 유입구
20 : 보조진공수단
21 : 수봉식펌프본체
21a : 유입관
21b : 유출관
23 : 수조
25 : 기액분리기
27 : 가스배출관
3 : 공정설비
5 : 배기라인
7 : 드라이펌프
10 : 스크러버본체
11 : 유입구
20 : 보조진공수단
21 : 수봉식펌프본체
21a : 유입관
21b : 유출관
23 : 수조
25 : 기액분리기
27 : 가스배출관
Claims (3)
- 드라이펌프가 설치된 배기라인을 통해 공정설비에 연결되어 상기 공정설비로부터 배출되는 배기가스를 세정 또는 정화시키는 스크러버본체; 및
상기 스크러버본체의 유입구 측에 구비되고 상기 드라이펌프와 상기 스크러버본체 사이에 추가적인 진공라인부를 형성하여 상기 배기라인 내의 클로깅 현상을 억제하는 보조진공수단을 포함하고,
상기 보조진공수단은 수봉식 진공펌프로 형성되며,
상기 보조진공수단은, 일측에 배기가스의 유입을 위한 유입관이 구비되고 타측에 유출관이 구비되는 수봉식펌프본체와, 상기 수봉식펌프본체로 습식세정을 위한 물을 공급하고 상기 수봉식펌프본체의 유출관에 연결되어 상기 수봉식펌프본체 내에서 습식세정된 배기가스와 물이 함께 저장되는 수조와, 상기 수조의 상측에 연결되고 상기 수조로부터 유입되는 습식세정된 배기가스를 기액분리하는 기액분리기와, 상기 기액분리기의 상측에 연결되고 상기 기액분리기에서 분리된 배기가스를 상기 스크러버로 배출하는 가스배출관과, 상기 기액분리기의 하측에 연결되고 상기 기액분리기에서 분리된 폐수를 상기 수조로 배출하는 배수관을 포함하는 것을 특징으로 하는 보조진공수단이 구비된 스크러버. - 삭제
- 삭제
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