KR20150090544A - 격벽 구조물, 이의 제조 방법 및 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널 - Google Patents

격벽 구조물, 이의 제조 방법 및 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널 Download PDF

Info

Publication number
KR20150090544A
KR20150090544A KR1020140011329A KR20140011329A KR20150090544A KR 20150090544 A KR20150090544 A KR 20150090544A KR 1020140011329 A KR1020140011329 A KR 1020140011329A KR 20140011329 A KR20140011329 A KR 20140011329A KR 20150090544 A KR20150090544 A KR 20150090544A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
width
barrier
bank
barrier rib
center
Prior art date
Application number
KR1020140011329A
Other languages
English (en)
Inventor
박성균
이정수
전준
박정민
김지현
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical 삼성디스플레이 주식회사
Priority to KR1020140011329A priority Critical patent/KR20150090544A/ko
Priority to US14/548,111 priority patent/US20150213755A1/en
Publication of KR20150090544A publication Critical patent/KR20150090544A/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/281—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/286—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polysulphones; polysulfides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/38—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising epoxy resins
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/412—Transparent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
    • H01L21/84—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being other than a semiconductor body, e.g. being an insulating body
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24273—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including aperture
    • Y10T428/24298—Noncircular aperture [e.g., slit, diamond, rectangular, etc.]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

격벽 구조물은 제1 방향으로 배열되는 제1 격벽 및 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 배열되는 제2 격벽을 포함한다. 제1 격벽의 폭과 제2 격벽의 폭은 제1 격벽과 제2 격벽이 교차하는 교차 영역의 중심으로 갈수록 증가한다.

Description

격벽 구조물, 이의 제조 방법 및 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널 {WALL STRUCTURE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND DISPLAY PANEL INCLUDING THE WALL STRUCTURE}
본 발명은 표시 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 표시 장치에 적용되는 격벽 구조물, 격벽 구조물의 제조 방법 및 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널에 관한 것이다.
표시 패널은 전기적 신호를 시각적 정보로 변환하여 이를 표시하는 패널로서, 각종 전자 장비의 표시부로 적용된다. 표시 패널은 시각적 정보를 표시하는 방법에 따라 액정 표시(Liquid Crystal Display: LCD) 패널, 유기 발광 표시(Organic Light Emitting Display: OLED) 패널, 플라즈마 표시 패널(Plasma Display Panel: PDP), 전기 영동 표시(Electrophoretic Display: EPD) 패널, 전기 습윤 표시(Electrowetting Display: EWD) 패널 등으로 구분될 수 있고, 그 외형적 형태에 따라 평면 표시 패널, 라운드(round) 표시 패널, 플렉서블(flexible) 표시 패널 등으로 분류될 수 있다.
표시 패널은 복수의 화소들을 포함하며, 각각의 화소들은 격벽 구조물에 의해 구분될 수 있다. 일반적으로, 격벽 구조물은 화소들을 구분하기 위해 복수의 격벽들을 포함하는데, 격벽들의 교차 영역이 응력에 취약하고 균열이 쉽게 발생한다는 문제점이 있다.
본 발명의 일 목적은 향상된 내구성을 갖는 격벽 구조물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 향상된 내구성을 갖는 격벽 구조물을 제조할 수 있는 격벽 구조물의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 향상된 내구성을 갖는 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예들에 따른 격벽 구조물은 제1 방향으로 배열되는 제1 격벽 및 상기 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 배열되는 제2 격벽을 포함할 수 있다. 여기서, 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽이 교차하는 교차 영역의 중심으로 갈수록 증가할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향은 서로 수직할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 교차 영역에서 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 기 설정된 폭으로 각각 증가할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 중심으로 갈수록 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 선형적으로 증가할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 중심으로 갈수록 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 비선형적으로 증가할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 교차 영역은 상기 중심을 기준으로 오목한 형태를 가질 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 교차 영역은 상기 중심을 기준으로 볼록한 형태를 가질 수 있다.
본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예들에 따른 격벽 구조물의 제조 방법은 제1 기판 상에 절연층을 형성하고, 상기 절연층 상에 포토 레지스트층을 형성하며, 모서리가 함몰된 형태를 갖는 화소 영역을 노출시키기 위한 마스크(mask)를 상기 포토 레지스트층 상에 배치하고, 상기 포토 레지스트층을 패터닝하여 패턴들을 형성하며, 상기 패턴들에 기초하여 상기 절연층을 식각(etching)하고, 상기 패턴들을 제거할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 화소 영역은 상기 모서리가 함몰된 사각형 형태를 가질 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 모서리는 상기 화소 영역의 중심을 기준으로 오목하게 함몰될 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 모서리는 상기 화소 영역의 중심을 기준으로 볼록하게 함몰될 수 있다.
본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예들에 따른 표시 패널은 제1 기판, 상기 제1 기판 상에 배치된 화소들을 구분하는 격벽 구조물 및 상기 제1 기판에 대향하는 제2 기판을 포함할 수 있다. 여기서, 상기 격벽 구조물은 제1 방향으로 배열되는 제1 격벽 및 상기 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 배열되는 제2 격벽을 포함하고, 상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽이 교차하는 교차 영역의 중심으로 갈수록 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 증가할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향은 서로 수직할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 교차 영역에서 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 기 설정된 폭으로 각각 증가할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 중심으로 갈수록 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 선형적으로 증가할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 중심으로 갈수록 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 비선형적으로 증가할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 교차 영역은 상기 중심을 기준으로 오목한 형태를 가질 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 교차 영역은 상기 중심을 기준으로 볼록한 형태를 가질 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 격벽 구조물은 균열의 발생이 최소화되어 내구성이 향상될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 격벽 구조물의 제조 방법은 균열의 발생이 최소화되어 향상된 내구성을 갖는 격벽 구조물을 제조할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 표시 패널은 향상된 내구성을 갖는 격벽 구조물을 구비함으로써, 화소들을 안전하게 보호할 수 있다.
다만, 본 발명의 효과는 상술한 효과들에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예들에 따른 격벽 구조물을 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1의 격벽 구조물을 나타내는 평면도이다.
도 3a 내지 도 3f는 도 1의 격벽 구조물의 교차 영역의 다양한 예들을 나타내는 평면도들이다.
도 4는 본 발명의 실시예들에 따른 격벽 구조물의 제조 방법을 나타내는 순서도이다.
도 5 내지 도 10은 도 4의 제조 방법에 의해 격벽 구조물이 제조되는 일 예를 나타내는 단면도들이다.
도 11은 본 발명의 실시예들에 따른 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널을 나타내는 단면도이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 사용하고 동일한 구성요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다.
도 1은 본 발명의 실시예들에 따른 격벽 구조물을 나타내는 도면이고, 도 2는 도 1의 격벽 구조물을 나타내는 평면도이며, 도 3a 내지 도 3f는 도 1의 격벽 구조물의 교차 영역의 다양한 예들을 나타내는 평면도들이다.
도 1 내지 도 3f를 참조하면, 격벽 구조물(100)은 제1 격벽(110), 제2 격벽(130)을 포함할 수 있다. 격벽 구조물(100)은 예를 들어, 표시 패널에서 각각의 화소들을 셀 단위로 분리하는 구조물일 수 있다. 이 경우, 제1 격벽(110)과 제2 격벽(130)이 교차하여 형성되는 셀 영역(DA)은 표시 패널의 화소 영역에 대응될 수 있다. 화소 영역(즉, 셀 영역)(DA)에는 화소들이 배치될 수 있으며, 상기 화소들은 예를 들어, 유기 발광 다이오드를 포함할 수 있다.
제1 격벽(110) 및 제2 격벽(130)은 기 설정된 방향으로 배열될 수 있다. 예를 들어, 제1 격벽(110)은 제1 방향(D1)으로 배열될 수 있으며, 제2 격벽(130)은 제2 방향(D2)으로 배열될 수 있다. 일 실시예에서, 격벽 구조물(100)은 제1 격벽(110)과 이격되어 제1 방향(D1)으로 배열되는 제3 격벽을 더 포함할 수 있다. 또한, 격벽 구조물(100)은 제3 격벽 및 제1 격벽(110)과 이격되어 제1 방향(D1)으로 배열되는 제4 격벽을 더 포함할 수 있다. 즉, 격벽 구조물(100)은 제1 방향(D1)으로 배열되는 복수의 격벽(110)들을 포함할 수 있다. 설명의 편의를 위해 제1 방향(D1)으로 배열되는 복수의 격벽(110)들을 모두 제1 격벽(110)들로 명명한다. 일 실시예에서, 격벽 구조물(100)은 제2 격벽(130)과 이격되어 제2 방향(D2)으로 배열되는 제5 격벽을 더 포함할 수 있다. 또한, 격벽 구조물(100)은 제5 격벽 및 제2 격멱(130)과 이격되어 제2 방향(D2)으로 배열되는 제6 격벽을 더 포함할 수 있다. 즉, 격벽 구조물(100)은 제2 방향(D2)으로 배열되는 복수의 격벽(130)들을 포함할 수 있다. 설명의 편의를 위해 제2 방향(D2)으로 배열되는 복수의 격벽(130)들을 모두 제2 격벽(130)들로 명명한다. 일 실시예에서, 제1 방향(D1)과 제2 방향(D2)은 서로 상이한 방향일 수 있다. 예를 들어, 도 1 내지 도 3f에 도시된 바와 같이, 제1 방향(D1)과 제2 방향(D2)은 서로 수직할 수 있다. 다만, 이것은 예시적인 것으로서 제1 방향(D1)과 제2 방향(D2)은 요구되는 조건에 따라 다양하게 결정될 수 있다.
제1 격벽(110)들과 제2 격벽(130)들은 기판 상에 배치될 수 있다. 기판은 예를 들어, 제1 격벽(110)들과 제2 격벽(130)들은 표시 패널의 제1 기판 상에 배치될 수 있다. 상기 제1 기판은 표시 패널의 화소들을 지지하는 베이스 기판일 수 있다. 일 실시예에서, 제1 기판은 실질적으로 평평한 기판일 수 있다. 이 경우, 제1 격벽(110)들과 제2 격벽(130)들은 제1 기판을 기준으로 실질적으로 동일한 높이를 가질 수 있다. 다른 실시예에서, 제1 기판은 실질적으로 곡면을 갖는 기판일 수 있다. 이 경우, 제1 격벽(110)들과 제2 격벽(130)들은 제1 기판의 곡면을 따라 실질적으로 동일한 높이를 가질 수 있다. 또 다른 실시예에서, 제1 기판은 유연성(flexibility)을 가지는 기판일 수 있다. 이 경우, 제1 격벽(110)들과 제2 격벽(130)들 또한 유연성을 가질 수 있다.
제1 격벽(110)들과 제2 격벽(130)들은 서로 교차할 수 있다. 제1 격벽(110)들과 제2 격벽(130)들은 서로 교차하여 교차 영역(150)을 형성할 수 있다.
제1 격벽(110)들은 모두 제1 폭(W1)을 가질 수 있으며, 제2 격벽(130)들은 모두 제2 폭(W2)을 가질 수 있다. 일 실시예에서 제1 폭(W1)과 제2 폭(W2)은 서로 동일할 수 있다. 다른 실시예에서, 제1 격벽(110)들은 서로 상이한 폭을 가질 수 있으며, 제2 격벽(130)들 또한 서로 상이한 폭을 가질 수 있다. 일 실시예에서, 제1 폭(W1)과 제2 폭(W2)은 각각 교차 영역(150)에서 증가될 수 있다. 예를 들면, 제1 폭(W1)은 교차 영역(150)의 중심으로 갈수록 제3 폭(W3)으로 증가될 수 있고, 제2 폭(W2)은 교차 영역(150)의 중심으로 갈수록 제4 폭(W4)으로 증가될 수 있다. 교차 영역(150)의 중심으로 갈수록 제1 폭(W1)과 제2 폭(W2)이 증가되므로 평면상에서 격벽 구조물(100)을 보았을 때, 교차 영역(150) 단면의 모서리는 보강될 수 있고, 상기 단면의 모서리 부분의 물리적 강도는 향상될 수 있다. 종래의 격벽 구조물의 경우에는, 제1 격벽들과 제2 격벽들의 폭이 모든 영역에서 일정하게 형성된다. 이에, 제1 격벽들과 제2 격벽들이 교차하는 교차 영역에서 균열(crack)이 발생될 수 있다. 예를 들어, 격벽 구조물을 평면상에서 보았을 때, 교차 영역의 단면은 날카로운 모서리를 갖는데, 상기 모서리 부분은 응력(stress)에 취약하므로, 공정 과정에서 균열이 발생될 수 있다. 균열은 재료의 일 부분에 응력이 집중될 때, 재료 내의 원자들의 결합이 끊어지면서 발생될 수 있다. 일반적으로, 응력은 곡률반경이 작은 부분에서 집중되는데, 모서리의 경우 다른 부분에 비해 곡률반경이 상대적으로 작으므로 응력이 쉽게 집중될 수 있다. 그 결과, 다른 부분에 비해 모서리 부분에 균열이 쉽게 발생될 수 있다. 균열이 한번 발생되면, 균열의 팁(tip)부분에 응력이 집중되면서 균열이 점차 성장하게 되고 전파될 수 있다. 이러한 균열의 성장과 전파로 격벽 구조물은 파괴될 수 있고, 내구성이 취약한 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널의 신뢰도는 저하될 수 있다. 그러나, 본 발명의 실시예들에 따른 격벽 구조물(100)은 교차 영역(150)의 중심으로 갈수록 격벽들(110, 130)의 폭(W1, W2)이 상대적으로 두꺼워지므로 균열의 발생을 효과적으로 방지할 수 있다. 특히, 응력이 집중되는 모서리 부분을 보강하여 물리적 강도를 향상시키거나, 기하학적 구조로 응력을 분산시켜 균열의 발생을 방지할 수 있다.
격벽(110, 130)들의 폭(W1, W2)은 교차 영역(150)의 중심으로 갈수록 선형적 또는 비선형적으로 증가될 수 있다.
일 실시예에서, 도 3a에 도시된 바와 같이, 제1 격벽(110)의 제1 폭(W1)은 제3 폭(W3)으로 비선형적으로 증가될 수 있고, 제2 격벽(130)의 제2 폭(W2)은 제4 폭(W4)으로 비선형적으로 증가될 수 있다. 이 경우, 격벽 구조물(100)의 교차 영역(150)은 평면상에서 보았을 때, 그 단면이 사각형일 수 있다. 예를 들면, 제3 폭(W3)은 제1 폭(W1)의 약 두 배의 길이일 수 있으며, 제4 폭(W4)는 제2 폭(W2)의 약 두 배의 길이일 수 있다. 이 경우, 격벽 구조물(100)의 교차 영역(150)의 면적이 상대적으로 증가되므로 교차 영역(150)의 물리적 강도가 향상될 수 있다.
다른 실시예에서, 도 3b에 도시된 바와 같이, 제1 격벽(110)의 제1 폭(W1)은 제5 폭(W5)으로 선형적으로 증가될 수 있고, 제2 격벽(130)의 제2 폭(W2)은 제6 폭(W6)으로 선형적으로 증가될 수 있다. 이 경우, 격벽 구조물(100)의 교차 영역(152)은 평면상에서 보았을 때, 그 단면이 팔각형일 수 있다. 예를 들면, 제5 폭(W3)은 제1 폭(W1)의 약 두 배의 길이일 수 있으며, 제6 폭(W4)은 제2 폭(W2)의 약 두 배의 길이일 수 있다. 이 경우, 격벽 구조물(100)의 교차 영역(152)의 면적이 상대적으로 증가되므로 교차 영역(152)의 물리적 강도가 향상될 수 있으며, 교차 영역(152)의 모서리 개수가 상대적으로 많아지고 모서리의 각도가 상대적으로 커지므로 기하학적으로 응력의 집중을 방지할 수 있다.
또 다른 실시예에서, 도 3c에 도시된 바와 같이, 제1 격벽(110)의 제1 폭(W1)은 제7 폭(W7)으로 비선형적으로 증가될 수 있고, 제2 격벽(130)의 제2 폭(W2)은 제8 폭(W6)으로 비선형적으로 증가될 수 있다. 이 경우, 격벽 구조물(100)의 교차 영역(154)은 평면상에서 보았을 때, 그 단면이 십이각형일 수 있다. 예를 들면, 제7 폭(W3)은 제1 폭(W1)의 약 두 배의 길이일 수 있으며, 제8 폭(W4)는 제2 폭(W2)의 약 두 배의 길이일 수 있다. 이 경우, 격벽 구조물(100)의 교차 영역(154)의 면적이 상대적으로 증가되므로 교차 영역(154)의 물리적 강도가 향상될 수 있으며, 교차 영역(154)의 모서리 개수가 상대적으로 많아지고 모서리의 각도가 상대적으로 커지므로 기하학적으로 응력의 집중을 방지할 수 있다.
또 다른 실시예에서, 도 3d에 도시된 바와 같이, 제1 격벽(110)의 제1 폭(W1)은 제9 폭(W9)으로 비선형적으로 증가될 수 있고, 제2 격벽(130)의 제2 폭(W2)은 제10 폭(W10)으로 비선형적으로 증가될 수 있다. 이 경우, 격벽 구조물(100)의 교차 영역(156)은 평면상에서 보았을 때, 그 단면이 모서리의 일부가 잘려진 사각형일 수 있다. 예를 들어, 교차 영역(156)의 단면은 모서리의 일부가 기울어지게 잘려진 사각형일 수 있다. 일 실시예에서, 제9 폭(W9)은 제1 폭(W1)의 약 두 배의 길이일 수 있으며, 제10 폭(W10)은 제2 폭(W2)의 약 두 배의 길이일 수 있다. 이 경우, 격벽 구조물(100)의 교차 영역(156)의 면적이 상대적으로 증가되므로 교차 영역(156)의 물리적 강도가 향상될 수 있으며, 교차 영역(156)의 모서리 개수가 상대적으로 많아지고 모서리의 각도가 상대적으로 커지므로 기하학적으로 응력의 집중을 방지할 수 있다.
또 다른 실시예에서, 도 3e에 도시된 바와 같이, 제1 격벽(110)의 제1 폭(W1)은 제11 폭(W11)으로 비선형적으로 증가될 수 있고, 제2 격벽(130)의 제2 폭(W2)은 제12 폭(W12)으로 비선형적으로 증가될 수 있다. 이 경우, 격벽 구조물(100)의 교차 영역(158)은 평면상에서 보았을 때, 그 단면이 모서리의 일부가 잘려진 사각형일 수 있다. 예를 들어, 교차 영역(158)의 단면은 교차 중심을 기준으로 오목한 형태일 수 있다. 일 실시예에서, 제11 폭(W11)은 제1 폭(W1)의 약 두 배의 길이일 수 있으며, 제12 폭(W12)은 제2 폭(W2)의 약 두 배의 길이일 수 있다. 이 경우, 격벽 구조물(100)의 교차 영역(158)의 면적이 상대적으로 증가되므로 교차 영역(158)의 물리적 강도가 향상될 수 있으며, 교차 영역(158)의 단면은 완만하게 굴곡진 모서리를 포함하므로 기하학적으로 응력의 집중을 방지할 수 있다.
또 다른 실시예에서, 도 3f에 도시된 바와 같이, 제1 격벽(110)의 제1 폭(W1)은 제13 폭(W13)으로 비선형적으로 증가될 수 있고, 제2 격벽(130)의 제2 폭(W2)은 제14 폭(W14)으로 비선형적으로 증가될 수 있다. 이 경우, 격벽 구조물(100)의 교차 영역(159)은 평면상에서 보았을 때, 그 단면이 모서리가 둥근 사각형일 수 있다. 즉, 교차 영역(159)의 단면은 교차 중심을 기준으로 볼록한 형태일 수 있다. 일 실시예에서, 제13 폭(W13)은 제1 폭(W1)의 약 두 배의 길이일 수 있으며, 제14 폭(W12)은 제2 폭(W2)의 약 두 배의 길이일 수 있다. 이 경우, 격벽 구조물(100)의 교차 영역(159)의 면적이 상대적으로 증가되므로 교차 영역(159)의 물리적 강도가 향상될 수 있으며, 교차 영역(159)의 단면은 완만하게 굴곡진 모서리를 포함하므로 기하학적으로 응력의 집중을 방지할 수 있다.
교차 영역(150, 152, 154, 156, 158, 159)에서 증가되는 격벽의 폭(W3 내지 W14)은 화소 영역(DA)의 축소를 고려하여 적절한 길이를 가질 수 있다. 화소 영역(DA)의 면적은 표시 패널에서 화소의 면적을 의미하며, 화소의 면적이 줄어들게 되면 표시 패널의 화질은 저하될 수 있다. 따라서, 제1 폭(W1)과 제2 폭(W2)은 교차 영역(150, 152, 154, 156, 158, 159)에서 적절한 길이로 증가될 수 있다. 일 실시예에 의하면, 제1 폭(W1) 및 제2 폭(W2)은 각각 교차 영역(150, 152, 154, 156, 158, 159)에서 약 두 배의 길이로 증가될 수 있다. 이 경우, 화소 영역(DA)의 면적은 실질적으로 미소하게 감소될 수 있다. 예를 들어, 도 3a에 도시된 바와 같이, 제1 폭(W1)과 제2 폭(W2)이 모두 12 마이크로미터(μm)이고, 제1 폭(W1)과 제2 폭(W2)이 각각 24μm의 크기를 갖는 제3 폭(W3)과 제4 폭(W4)으로 비선형적으로 증가될 때, 160μm × 160μm의 면적을 갖는 화소 영역(DA)은 약 0.66% 감소될 수 있다. 또한, 도 3b에 도시된 바와 같이, 제1 폭(W1)과 제2 폭(W2)이 모두 12μm이고, 제1 폭(W1)과 제2 폭(W2)이 각각 24μm의 크기를 갖는 제5 폭(W5)과 제6 폭(W6)으로 선형적으로 증가될 때, 160μm × 160μm의 면적을 갖는 화소 영역(DA)은 약 0.33% 감소될 수 있다. 한편, 도 3c 내지 도 3f에 도시된 바와 같이, 제1 폭(W1)과 제2 폭(W2)이 교차 영역(154, 156, 158, 159)에서 증가 되더라도 화소 영역(DA)의 면적 감소는 약 1% 미만일 수 있다. 따라서, 표시 패널의 화소 영역(DA)의 면적 감소는 매우 작을 수 있으며, 화소 영역(DA)의 면적은 실질적으로 동일하게 유지될 수 있다.
일 실시예에서, 제1 격벽(110) 및 제2 격벽(130)은 동일한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 격벽(110) 및 제2 격벽(130)은 유기물 또는 무기물을 포함할 수 있다. 이 경우, 제1 격벽(110) 및 제2 격벽(130)은 하나의 공정으로 동시에 형성될 수 있다.
일 실시예에서, 제1 격벽(110) 및 제2 격벽(130)은 모두 무기물을 포함할 수 있다. 상기 무기물은 예를 들어, 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산질화물 등을 포함할 수 있다. 다른 실시예에서, 제1 격벽(110) 및 제2 격벽(130)은 모두 유기물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 격벽(110) 및 제2 격벽(130)은 유기 고분자 수지를 포함할 수 있다. 유기 고분자 수지의 경우에는 소정의 탄성력을 가지므로, 격벽 구조물(100)이 제1 기판과 제2 기판 사이에서 완충 부재의 기능을 담당할 수 있다. 또한, 제1 격벽(110) 및 제2 격벽(130)은 유연한 유기 고분자 수지를 포함할 수 있다. 이 경우, 제1 격벽(110) 및 제2 격벽(130)은 유연성(flexibility)을 가지므로 유연한 표시 패널 또는 라운드(round) 표시 패널에 적용될 수 있다. 유기 고분자 수지는 예를 들어, 아크릴계 수지(acryl-based resin), 에폭시계 수지(epoxy-based resin), 페놀계 수지(phenol-based resin), 폴리아미드계 수지(polyamide-based resin), 폴리이미드계 수지(polyimide-based resin), 불포화 폴리에스테르계 수지(unsaturated polyester-based resin), 폴리페닐렌계 수지(polyphenylene-based resin), 폴리페닐렌설파이드계 수지(polyphenylene surfide-based resin) 또는 벤조사이클로부텐계 수지(benzocyclobutene-based resin)를 포함할 수 있다. 상기 아크릴계 수지는 예를 들어, 에틸헥실 아크릴레이트(ethylhexyl acrylate), 에톡시에틸 아크릴레이트(ethoxylethyl acrylate), 이소부틸 아크릴레이트(isobutyl acrylate), 옥타데실아크릴레이트 (octadecyl acrylate), 에틸 아크릴레이트(ethyl acrylate), 로울리 아크릴레이트(Lauryl acrylate), 헥사플루오르이소프로필 아크릴레이트(hexafluoroisopropyl acrylate), 비스페놀 A 다이메틸 아크릴레이트(bisphenol A dimeth acrylate), 트리메틸프로판 프록실레이트 트라이 아크릴레이트(trimethylpropane propoxylate tri acrylate), 메톡시 폴리에틸렌 글루코 아크릴레이트 (methoxy polyethylene glycol acrylate), 페녹시 폴리에틸렌 글루코 아크릴레이트 (phenoxy polyethylene glycol acrylate), 또는 이들의 결합을 포함할 수 있다. 또한, 상기 에폭시계 수지는 비스페놀(bisphenol) A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 노블락(novolac)형 에폭시 수지, 브롬화 에폭시 수지, 시클로알라파틱(cycloaliphatic)형 에폭시 수지, 고무 개질(rubber modified)형 에폭시 수지, 알라파틱 폴리글리시딜(aliphatic polyglycidyl)형 에폭시 수지, 글리시딜 아민(glycidyl amine)형 에폭시 수지, 비페닐(biphenyl)형 에폭시 수지, 나프탈렌(naphthalene)형 에폭시 수지, 트리스 페놀 메탄(tris-phenol methane)형 에폭시 수지 또는 이들의 결합을 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 제1 격벽(110) 및 제2 격벽(130)은 서로 다른 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 격벽(110)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산질화물 등과 같은 무기물을 포함하고, 제2 격벽(130)은 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 페놀계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 불포화 폴리에스테르계 수지, 폴리페닐렌계 수지, 폴리페닐렌설파이드계 수지 또는 벤조사이클로부텐계 수지 등과 같은 유기물을 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 제1 격벽(110) 및 제2 격벽(130)은 흡습제 또는 흡착제를 더 포함할 수 있다. 이 때, 흡습제 또는 흡착제는 수분을 흡수하므로 화소 영역(DA) 내부에 존재하는 화소들이 외부 수분에 의해 변질되는 것을 방지할 수 있다. 흡습제 또는 흡착제는 제습 능력이 있는 재료를 포함할 수 있다. 예를 들면, 염화나트륨(NaCl), 염화칼슘(CaCl2), 탄산칼슘(NaCO3), 무수 실리카 등을 포함할 수 있다. 염화나트륨, 염화칼슘, 탄산칼슘, 무수 실리카 등은 작은 캡슐(capsule)형태로 포함될 수 있다. 이 경우, 염화나트륨, 염화칼슘, 탄산칼슘, 무수 실리카 등의 표면적이 증가되므로 흡습제 또는 흡착제의 제습 능력이 극대화될 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 실시예들에 따른 격벽 구조물(100)의 교차 영역(150, 152, 154, 156, 158, 159)은 평면상에서 보았을 때, 그 면적이 상대적으로 증가되므로 교차 영역(150, 152, 154, 156, 158, 159)의 물리적 강도가 향상될 수 있다. 또한, 교차 영역(152, 154, 156) 단면은 상대적으로 많은 모서리를 포함하거나, 교차 영역(158, 159) 단면은 굴곡진 모서리를 포함하므로 기하학적으로 응력의 집중을 방지할 수 있다. 따라서, 격벽 구조물(100)은 균열의 발생이 최소화되어 내구성이 향상될 수 있다.
도 4는 본 발명의 실시예들에 따른 격벽 구조물의 제조 방법을 나타내는 순서도이고, 도 5 내지 도 10은 도 4의 제조 방법에 의해 격벽 구조물이 제조되는 일 예를 나타내는 단면도들이다.
도 4 내지 도 10을 참조하면, 도 4의 제조 방법은 제1 기판 상에 절연층을 형성(S110)하고, 절연층 상에 포토 레지스트층을 형성(S120)하며, 포토 레지스트층 상에 마스크를 배치(S130)하고, 마스크를 통해 노출된 포토 레지스트층을 패터닝하여 패턴들을 형성(S140)하며, 패턴들에 기초하여 절연층을 식각(S150)하고, 식각 후 남은 패턴들을 제거(S160)할 수 있다.
도 5에 도시된 바와 같이, 제1 기판(200) 상에 절연층(170)이 형성될 수 있다. 일 실시예에서 절연층(170)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산질화물 등과 같은 무기물로 형성될 수 있다. 다른 실시예에서, 절연층(170)은 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 페놀계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 불포화 폴리에스테르계 수지, 폴리페닐렌계 수지, 폴리페닐렌설파이드계 수지 또는 벤조사이클로부텐계 수지 등과 같은 유기물을 사용하여 형성될 수 있다. 예를 들어, 절연층(170)이 유기물로 형성되는 경우, 절연층(170)을 형성하는 과정에서 다른 첨가물들이 더 첨가될 수 있다. 예를 들어, 열 경화제 또는 광 경화제가 더 첨가될 수 있으며, 흡습제 또는 흡착제가 더 첨가될 수 있다. 절연층(170)은 상기 유기물 또는 무기물을 제1 기판(200) 상에 도포하여 형성될 수 있다. 상기 도포는 예를 들어, 스핀 코팅법, 침지법, 스프레이 코팅법, 잉크젯 프린팅법 등을 통해 수행될 수 있다.
일 실시예에서, 절연층(170) 상에 포토 레지스트층(180)이 형성될 수 있다. 포토 레지스트층(180)은 절연층(170) 상에 포토 레지스트를 도포하여 형성될 수 있다. 상기 도포는 예를 들어, 스핀 코팅법, 침지법, 스프레이 코팅법, 잉크젯 프린팅법 등을 통해 수행될 수 있다. 포토 레지스트층(180)은 예를 들어, 양성(positive) 포토 레지스트를 사용하여 형성될 수 있다. 양성 포토 레지스트는 노광된 부분이 현상 과정을 거치면서 제거될 수 있다. 포토 레지스트층(180)은 산의 작용에 의해 극성이 증가하는 수지를 포함할 수 있다. 예를 들면, 포토 레지스트층(180)은 산 분해성 보호기를 포함하는 수지와, PAG(Poly Alkylen Glycol)를 포함하는 화학증폭용 포토 레지스트를 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 절연층(170)과 포토 레지스트층(180)을 제1 기판(200) 상에 도포하고 예비 건조를 실시할 수 있다. 예를 들어, 절연층(170)과 포토 레지스트층(180)을 60℃ 내지 160℃의 온도에서 예비 건조할 수 있다. 예비 건조를 실시할 경우, 후속 공정이 용이하게 진행될 수 있다.
다른 실시예에서, 절연층(170)과 포토 레지스트층(180)은 혼합되어 하나의 층으로 형성될 수 있다. 즉, 유기 고분자 수지와 포토 레지스트를 혼합하여 제1 기판(200) 상에 도포하여 포토 레지스트를 포함한 절연층(170)이 형성될 수 있다.
도 6에 도시된 바와 같이, 포토 레지스트층(180) 상에 마스크(190)가 배치될 수 있다. 마스크(190)는 노광 공정에서 광이 투과되는 투과 영역과 광을 차단하는 차단 영역을 포함할 수 있다. 예를 들어, 포토 레지스트가 양성 포토 레지스트인 경우, 상기 투과 영역은 화소 영역(DA)에 대응될 수 있다. 이 경우, 노광 공정을 통해 화소 영역(DA)에 대응되는 포토 레지스트층(180)이 제거되므로, 화소 영역(DA) 내의 절연층(170)이 식각될 수 있다. 일 실시예에서, 마스크(190)의 투과 영역(즉, 화소 영역(DA))은 평면상에서 보았을 때, 모서리가 함몰된 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 단면의 모서리는 화소 영역(DA)의 중심을 기준으로 함몰된 사각형일 수 있다. 예를 들어, 도 2 및 도 3a에 도시된 바와 같이, 상기 단면의 모서리는 직각으로 함몰된 형상일 수 있다. 또한, 도 3b에 도시된 바와 같이, 상기 단면의 모서리는 기울어지게 함몰될 수 있다. 또한, 도 3c 및 도 3d에 도시된 바와 같이, 상기 단면의 모서리는 기울어지게 및/또는 직각으로 함몰된 형태일 수 있다. 또한, 도 3e에 도시된 바와 같이, 상기 단면의 모서리는 화소 영역(DA)의 중심을 기준으로 볼록하게 함몰된 형태일 수 있다. 또한, 도 3f에 도시된 바와 같이, 상기 단면의 모서리는 화소 영역(DA)의 중심을 기준으로 볼록하게 함몰된 형태일 수 있다. 화소 영역(DA)의 기하학적 형태에 대해서는 도 2 내지 도 3f를 참조하여 상세히 설명하였으므로 중복된 설명은 생략하기로 한다.
도 7에 도시된 바와 같이, 도 4의 제조 방법은 마스크(190) 상에 광을 조사하여 노광을 실시할 수 있다. 광은 예를 들어 고강도(high intensity) 자외선(ultraviolet ray)이 사용될 수 있다. 마스크(190)의 투과 영역에 존재하는 포토 레지스트층(180)은 광에 노출되어 특정 화학 결합이 끊어지거나 특정 용매에 대한 용해도가 증가될 수 있다.
도 8에 도시된 바와 같이, 마스크(190)를 제거한 후, 포토 레지스트층(180)이 현상(development)될 수 있다. 현상액은 포토 레지스트의 종류에 따라 그 종류가 결정될 수 있다. 예를 들어, 양성 포토 레지스트가 사용된 경우, 양성 포토 레지스트의 현상액이 사용될 수 있다. 현상을 통해 포토 레지스트층(180)은 특정 패턴으로 패터닝되어 패턴(182)들을 형성할 수 있다. 예를 들어, 현상 공정에서 포토 레지스트가 제거되면서 절연층(170)에 균열이 발생될 수 있다. 특히, 화소 영역(DA)의 모서리 부분의 절연층(170)에서 상기 균열이 쉽게 발생될 수 있다. 그러나, 도 4의 제조 방법으로 형성된 패턴(182)들은 화소 영역(DA)의 중심을 기준으로 모서리 부분이 함몰되어 있으므로 모서리 부분 절연층(170)의 균열 발생을 방지할 수 있다. 또한, 격벽 구조물(100)이 형성된 이후, 상기 모서리 부분의 격벽(즉, 격벽의 교차 영역)은 상대적으로 두꺼운 두께를 가지므로 격벽 구조물(100)의 내구성이 상대적으로 향상될 수 있다.
도 9에 도시된 바와 같이, 패턴들(182) 사이로 노출된 절연층(170)이 식각될 수 있다. 이 경우, 패턴들(182)은 패턴들(182) 하부에 배치되는 절연층(170)의 식각을 방지하므로 절연층(170)은 패턴들(182)과 실질적으로 동일한 패턴으로 식각될 수 있다. 상기 식각은 예를 들어, 불산(HF) 또는 염산(HCl)과 같은 산(acid)을 포함하는 용액을 사용한 습식 식각(wet etching)이거나, 예를 들어, 반응성 이온(reactive-ion) 또는 플라즈마를 이용한 건식 식각(dry etching)일 수 있다.
도 10에 도시된 바와 같이, 패턴들(182)이 완전이 제거되어 격벽 구조물(100)이 수득될 수 있다. 패턴들(182)은 제거 용액을 사용하여 습식으로 제거되거나, 에싱(ashing)공정을 통해 건식으로 제거될 수 있다.
이와 같이, 균열의 발생이 최소화되어 향상된 내구성을 갖는 격벽 구조물(100)은 마스크(190)의 투과 영역(즉, 화소 영역(DA))의 형태를 간단히 변형시킴으로써 용이하게 제조될 수 있다.
도 11은 본 발명의 실시예들에 따른 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널을 나타내는 단면도이다.
도 11을 참조하면, 표시 패널(10)은 제1 기판(200), 복수의 화소(400)들, 격벽 구조물(100) 및 제2 기판(300)을 포함할 수 있다. 표시 패널(10)은 전기적 신호에 기초하여 시각적 정보를 표시하는 패널이다. 예를 들어, 표시 패널(10)은 시각적 정보를 표시하는 방법에 따라 액정 표시 패널, 유기 발광 표시 패널, 플라즈마 표시 패널, 전기 영동 표시 패널 또는 전기 습윤 표시 패널일 수 있다. 또한, 표시 패널(10)은 외형적 모습에 따라 평면 표시 패널, 라운드 표시 패널 또는 플렉서블 표시 패널일 수 있다.
제1 기판(200)은 화소(400)들을 지지하며, 표시 패널(10)의 메인 기판이 될 수 있다. 제1 기판(200)은 화학적 안정성과 물리적 강도를 유지하기 위해 유리 기판 또는 플라스틱 기판일 수 있다. 제1 기판(200)이 유리 기판인 경우, 제1 기판(200)은 예를 들어, 산화규소(SiOx)를 포함할 수 있다. 제1 기판(200)이 플라스틱 기판인 경우, 제1 기판(200)은 예를 들어, 폴리아크릴레이트(polyacrylate: PAR) 폴리에테르이미드(polyetherimide: PEI), 폴리에틸렌 테라프탈레이트(polyethylen terephthalate: PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylen naphthalate: PEN), 폴리페닐렌 설파이드(polyphenylene sulfide: PPS), 폴리이미드(Polyimide), 폴리카보네이트(PC) 등을 포함할 수 있다.
화소(400)들은 제1 기판(200) 상에 배치되고, 시각 정보를 표시할 수 있다. 화소(400)들 각각은 시각 정보의 구현 방식에 따라 다양한 표시 소자를 포함할 수 있다. 예를 들면, 화소(400)들은 액정, 유기 발광 다이오드, 플라즈마, 전기 영동 입자 등을 포함할 수 있다. 화소(400)들 각각은 셀 단위로 분리될 수 있으며, 화소(400)들 각각은 예를 들어, 적색, 녹색 및 청색으로 구분되는 서브 화소(sub pixel)들을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 서브 화소들은 화소 전극, 공통 전극, 액정, 컬러 필터 및 백라이트 유닛을 포함할 수 있다. 이 경우, 표시 패널(10)은 액정 표시 패널일 수 있다. 다른 실시예에서, 서브 화소들은 화소 전극, 대향 전극 및 유기 발광층을 포함할 수 있다. 이 경우, 표시 패널(10)은 유기 발광 표시 패널 일 수 있다. 또 다른 실시예에서, 서브 화소들은 어드레스 전극, 형광체층, 유전체층, 스캔 전극 및 유지 전극을 포함할 수 있다. 이 경우, 표시 패널(10)은 플라즈마 표시 패널일 수 있다. 또 다른 실시예에서, 서브 화소는 화소 전극, 공통 전극 및 전기 영동 입자들을 포함할 수 있다. 이 경우, 표시 패널(10)은 전기 영동 표시 패널 일 수 있다. 화소(400)들 각각은 서브 화소들과 전기적으로 연결되는 스위칭 소자를 더 포함할 수 있다. 상기 스위칭 소자는 예를 들면, 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)일 수 있다.
제2 기판(300)은 제1 기판(200)에 대향하고, 화소(400)들을 외부 환경으로부터 보호할 수 있다. 제2 기판(300)은 화소(400)들에서 발생되는 광을 잘 투과하도록 투명한 유리 또는 투명한 플라스틱을 포함할 수 있다.
격벽 구조물(100)은 화소(400)들을 서로 구분 지을 수 있다. 예를 들어, 격벽 구조물(100)은 서로 교차하는 복수의 격벽들을 포함할 수 있다. 상기 격벽들은 서로 교차하여 복수의 화소 영역들을 형성할 수 있으며, 상기 화소 영역에 화소(400)들이 배치될 수 있다. 상기 격벽들은 특정 방향으로 배열될 수 있다. 예를 들어, 격벽들은 제1 방향으로 배열되는 제1 격벽들 과 제2 방향으로 배열되는 제2 격벽들을 포함할 수 있다. 제1 격벽들과 제2 격벽들은 교차 영역에서 서로 교차할 수 있으며, 교차 영역에서 제1 격벽과 제2 격벽의 폭은 증가될 수 있다. 예를 들어, 제1 격벽의 폭과 제2 격벽의 폭은 교차 영역의 중심으로 갈수록 기 설정된 폭으로 증가될 수 있다. 제1 격벽의 폭과 제2 격벽의 폭은 선형적 또는 비선형적으로 증가될 수 있다. 제1 격벽의 폭과 제2 격벽의 폭이 증가되는 모습에 따라 교차 영역의 형태가 달라질 수 있으며, 교차 영역의 형태에 따라 교차 영역에서 발생되는 응력의 집중을 방지할 수 있다. 따라서, 격벽 구조물(100)의 균열 발생이 최소화될 수 있고, 표시 패널(10)의 내구성은 향상될 수 있다. 제1 격벽의 폭과 제2 격벽의 폭이 증가되는 모습은 도 1 내지 도 3f를 참조하여 설명한 제1 격벽(110)의 제1 폭(W1)과 제2 격벽(130)의 제2 폭(W2)이 증가되는 모습과 실질적으로 동일하므로 이에 대한 중복된 설명은 생략하기로 한다.
이와 같이, 표시 패널(10)의 격벽 구조물(100)은 교차 영역의 중심으로 갈수록 격벽들의 폭이 증가될 수 있고, 격벽들의 폭이 증가되는 모습에 따라 응력의 집중이 방지될 수 있다. 따라서, 격벽 구조물(100)의 교차 영역에서 균열 발생이 최소화 되고, 교차 영역의 내구성이 향상될 수 있다. 따라서, 표시 패널(10)은 향상된 내구성을 갖는 격벽 구조물(100)을 구비함으로써, 화소(400)들을 안전하게 보호할 수 있다.
이상, 본 발명의 실시예들에 따른 격벽 구조물, 이의 제조 방법 및 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널에 대하여 도면을 참조하여 설명하였지만, 상기 설명은 예시적인 것으로서 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위에서 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 수정 및 변경될 수 있을 것이다.
본 발명은 다양한 표시 장치들에 적용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명은 액정 표시 장치, 유기 발광 표시 장치, 플라즈마 표시 장치, 전기 영동 표시 장치, 전기 습윤 표시 장치 등에 적용될 수 있다.
10: 표시 패널 100: 격벽 구조물
110: 제1 격벽 130: 제2 격벽
150: 교차 영역 170: 절연층
180: 포토 레지스트층 190: 마스크
200: 제1 기판 300: 제2 기판
400: 화소 W1: 제1 폭
W2: 제2 폭 W3: 제3 폭
W4: 제4 폭 DA: 화소 영역
D1: 제1 방향 D2: 제2 방향

Claims (18)

  1. 제1 방향으로 배열되는 제1 격벽; 및
    상기 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 배열되는 제2 격벽을 포함하고,
    상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽이 교차하는 교차 영역의 중심으로 갈수록 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭이 증가하는 것을 특징으로 하는 격벽 구조물.
  2. 제1 항에 있어서, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향은 서로 수직한 것을 특징으로 하는 격벽 구조물.
  3. 제1 항에 있어서, 상기 교차 영역에서 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 기 설정된 폭으로 각각 증가하는 것을 특징으로 하는 격벽 구조물.
  4. 제3 항에 있어서, 상기 중심으로 갈수록 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 선형적으로 증가하는 것을 특징으로 하는 격벽 구조물.
  5. 제3 항에 있어서, 상기 중심으로 갈수록 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 비선형적으로 증가하는 것을 특징으로 하는 격벽 구조물.
  6. 제5 항에 있어서, 상기 교차 영역은 상기 중심을 기준으로 오목한 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 격벽 구조물.
  7. 제5 항에 있어서, 상기 교차 영역은 상기 중심을 기준으로 볼록한 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 격벽 구조물.
  8. 제1 기판 상에 절연층을 형성하는 단계;
    상기 절연층 상에 포토 레지스트층을 형성하는 단계;
    모서리가 함몰된 형태를 갖는 화소 영역을 노출시키기 위한 마스크(mask)를 상기 포토 레지스트층 상에 배치하는 단계;
    상기 포토 레지스트층을 패터닝하여 패턴들을 형성하는 단계;
    상기 패턴들에 기초하여 상기 절연층을 식각(etching)하는 단계; 및
    상기 패턴들을 제거하는 단계를 포함하는 격벽 구조물의 제조 방법.
  9. 제8 항에 있어서, 상기 화소 영역은 상기 모서리가 함몰된 사각형 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 격벽 구조물의 제조 방법.
  10. 제8 항에 있어서, 상기 모서리는 상기 화소 영역의 중심을 기준으로 오목하게 함몰된 것을 특징으로 하는 격벽 구조물의 제조 방법.
  11. 제8 항에 있어서, 상기 모서리는 상기 화소 영역의 중심을 기준으로 볼록하게 함몰된 것을 특징으로 하는 격벽 구조물의 제조 방법.
  12. 제1 기판;
    상기 제1 기판 상에 배치된 화소들을 구분하는 격벽 구조물; 및
    상기 제1 기판에 대향하는 제2 기판을 포함하고,
    상기 격벽 구조물은 제1 방향으로 배열되는 제1 격벽 및 상기 제1 방향과 상이한 제2 방향으로 배열되는 제2 격벽을 포함하며,
    상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽이 교차하는 교차 영역의 중심으로 갈수록 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭이 증가하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.
  13. 제12 항에 있어서, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향은 서로 수직한 것을 특징으로 하는 표시 패널.
  14. 제12 항에 있어서, 상기 교차 영역에서 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 기 설정된 폭으로 각각 증가하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.
  15. 제14 항에 있어서, 상기 중심으로 갈수록 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 선형적으로 증가하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.
  16. 제14 항에 있어서, 상기 중심으로 갈수록 상기 제1 격벽의 폭과 상기 제2 격벽의 폭은 비선형적으로 증가하는 것을 특징으로 하는 표시 패널.
  17. 제16 항에 있어서, 상기 교차 영역은 상기 중심을 기준으로 오목한 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 표시 패널.
  18. 제16 항에 있어서, 상기 교차 영역은 상기 중심을 기준으로 볼록한 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 표시 패널.
KR1020140011329A 2014-01-29 2014-01-29 격벽 구조물, 이의 제조 방법 및 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널 KR20150090544A (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140011329A KR20150090544A (ko) 2014-01-29 2014-01-29 격벽 구조물, 이의 제조 방법 및 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널
US14/548,111 US20150213755A1 (en) 2014-01-29 2014-11-19 Wall structure, method of manufacturing the same, and display panel including the wall structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140011329A KR20150090544A (ko) 2014-01-29 2014-01-29 격벽 구조물, 이의 제조 방법 및 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20150090544A true KR20150090544A (ko) 2015-08-06

Family

ID=53679571

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140011329A KR20150090544A (ko) 2014-01-29 2014-01-29 격벽 구조물, 이의 제조 방법 및 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20150213755A1 (ko)
KR (1) KR20150090544A (ko)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL278551A (ko) * 1961-06-02
US6391420B1 (en) * 1992-02-28 2002-05-21 Leucadia, Inc. Bicomponent elastomeric netting
US9046682B2 (en) * 2013-11-05 2015-06-02 Amazon Technologies, Inc. Mechanical stress mitigation in electrowetting display structures

Also Published As

Publication number Publication date
US20150213755A1 (en) 2015-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6010282B2 (ja) 表示パネル
KR102113622B1 (ko) 표시 장치 및 그 제조 방법
KR101201304B1 (ko) 액정표시장치 및 그의 제조방법
CN104090405B (zh) 一种拼接显示面板及显示装置
US10319751B2 (en) Display substrate and manufacturing method thereof, and flexible display device having display substrate
CN108777266B (zh) 一种显示面板及显示装置
KR102058233B1 (ko) 플렉서블 표시 장치
WO2014174891A1 (ja) 表示装置
KR20230066141A (ko) 분할된 배선 패턴을 갖는 디스플레이 디바이스
CN107994050B (zh) 显示装置
US20180130966A1 (en) Display device and method of manufacturing the same
KR20170001844A (ko) 표시 장치
CN110426879A (zh) 一种基板及液晶显示面板
US11443659B2 (en) Display apparatus and method of manufacturing the same
US10770688B2 (en) Display device
US20130187839A1 (en) Organic light emitting display devices and methods of manufacturing organic light emitting display devices
KR20210086284A (ko) 디스플레이 장치
CN113130588B (zh) 显示设备
US11108016B2 (en) Display screens and display devices
KR102555404B1 (ko) 플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법
KR20150090544A (ko) 격벽 구조물, 이의 제조 방법 및 격벽 구조물을 포함하는 표시 패널
KR102247790B1 (ko) 곡면형 표시 장치 및 그 제조 방법
KR102200337B1 (ko) 표시 장치 및 그 제조 방법
KR102583231B1 (ko) 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법
KR102513199B1 (ko) 표시장치

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid