KR20150077596A - Substrate inspecting apparatus and inspecting method using the same - Google Patents

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Abstract

In accordance with an embodiment of the present invention, a substrate inspecting apparatus comprises: a substrate transmission unit to transmit a substrate; a movement focusing unit moved from an upper part of the substrate transmission unit to an inspection position of the substrate to perform focusing for photographing an image; a movement unit to move the movement focusing unit; a fixing photographing unit fixed and disposed on one side of the substrate transmission unit to acquire an image for the inspection position placed on the movement unit in accordance with the result of the focusing performed in the movement unit; and a controller to control operations of the substrate transmission unit, the movement focusing unit, the movement unit and the fixing photographing unit. In accordance with the present invention, the substrate inspecting apparatus allows the distance between an inspecting coordinate and a laser beam generator to be constantly maintained by the movement focusing unit, by which the accuracy of laser beam focusing can be uniformly maintained, and also is capable of rapidly acquiring the inspection image and securing a multiple simultaneous focusing state for several inspecting coordinates using a plurality of movement focusing units.

Description

기판검사장치 및 이를 이용한 기판검사방법{Substrate inspecting apparatus and inspecting method using the same}[0001] The present invention relates to a substrate inspecting apparatus and a substrate inspecting method using the substrate inspecting apparatus.

본 발명은 기판검사장치 및 이를 이용한 기판검사방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 사전에 개략적으로 검사된 기판을 리뷰 검사하는 기판검사장치 및 이를 이용한 기판검사방법에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate inspection apparatus and a substrate inspection method using the same, and more particularly, to a substrate inspection apparatus for reviewing and reviewing a substrate that has been roughly inspected in advance and a substrate inspection method using the same.

박막 디스플레이용 기판의 제조시에 기판에 대한 검사가 통상적으로 수행된다. 기판에 대한 검사는 초기 검사와 리뷰 검사로 구분된다. 초기 검사는 기판 전체에 대하여 빠른 시간안에 검사를 하는 과정이다. 그리고 초기 검사에서 발견된 리뷰 검사 대상들에 대해서 보다 정밀하게 리뷰 검사를 수행한다.Inspection of the substrate during the manufacture of the substrate for a thin film display is typically carried out. Substrate inspection is divided into initial inspection and review inspection. Initial inspection is the process of inspecting the whole substrate in a short time. And review inspections are performed more precisely for review inspections found in the initial inspections.

리뷰 검사는 고배율로 검사 대상을 확대하여 검사한다. 그리고 고배율로 검사 대상을 검사하기 때문에 검사 대상에 대한 초점이 정밀하게 맞추어져야 하고, 이 초점 조정은 자동으로 이루어져야 한다. Review inspections are performed by enlarging the inspections at a high magnification. Since the test object is inspected at a high magnification, the focus of the test object must be precisely adjusted, and this focus adjustment should be performed automatically.

자동으로 초점을 맞추는 작업을 오토 포커싱(Auto focusing)이라고 한다. 기판검사장치에서 오토 포커싱은 레이저가 사용될 수 있다. 레이저를 사용한 오토 포커싱은 기판의 검사 대상 위치에 레이저를 조사되고, 기판으로부터 반사된 레이저의 이미지가 이미지 센서에 도달하면, 이미지 센서에 감지된 레이저 패턴에 대한 픽셀값들(입사광의 세기 등)을 이용하여 초점 정합 여부를 판단한다. 초점 정합이 이루어졌다고 판단되면 조명광을 작동시켜 검사 위치에 대한 영상을 이미지 센서를 통하여 획득한다.
The operation of automatically focusing is called auto focusing. In a substrate inspection apparatus, a laser can be used for autofocusing. In the autofocusing using a laser, a laser beam is irradiated to an inspection target position on a substrate. When an image of the laser beam reflected from the substrate reaches the image sensor, pixel values (intensity of incident light, etc.) And determines whether the focus is matched. When it is determined that focus alignment is performed, the illumination light is operated to acquire an image of the inspection position through the image sensor.

대한민국 공개특허 제2012-0105149호(2012. 09. 25. 공개)Korea Open Patent No. 2012-0105149 (released on September 25, 2012)

본 발명의 목적은 최종 검사 이미지를 위치가 고정된 고정 촬영부를 통하여 획득하고, 이 고정 촬영부에 제공되는 검사 이미지에 대한 오토 포커싱는 검사 위치로 이동이 가능한 이동 포커싱부를 이용하여 포커싱을 수행하는 기판검사장치 및 이를 이용한 기판검사방법을 제공하기 위한 것이다.
An object of the present invention is to provide a method and an apparatus for acquiring a final inspection image through a stationary photographing unit having a fixed position and a method of performing autofocusing on the inspection image provided to the stationary photographing unit using a moving- And a substrate inspection method using the same.

본 발명에 따른 기판을 이송하는 기판이송부, 상기 기판이송부의 일측에서 상기 기판의 검사 위치로 이동하여 촬영을 위한 포커싱을 수행하는 이동 포커싱부, 상기 이동 포커싱부를 이동시키는 이동부, 상기 기판이송부의 일측에 고정 위치하며 상기 이동부에서 수행한 포커싱 결과에 따라 상기 검사 위치에 대한 이미지를 획득하는 고정 촬영부, 상기 기판이송부, 상기 이동 포커싱부, 상기 이동부 그리고 상기 고정 촬영부의 동작을 제어하는 제어부를 구비한다.A moving part for moving the moving focusing part, a moving part for moving the moving part, a moving part for moving the substrate, a moving part for moving the substrate from the one side of the transmitting part to the inspection position of the substrate, A stationary photographing unit that is fixed on one side of the transmitting unit and acquires an image of the inspection position according to a focusing result performed by the moving unit, and a controller that controls the operation of the substrate transferring unit, the moving focusing unit, And a control unit for controlling the control unit.

상기 이동 포커싱부는 상기 기판 측에 근접하는 대물렌즈, 상기 대물렌즈의 포커싱 조절을 수행하는 모터, 상기 대물렌즈를 통하여 상기 기판 측으로 레이저를 조사하는 레이저 발진부, 상기 기판에서 반사되는 레이저를 수광하는 포커싱용 이미지 센서를 구비할 수 있다.The moving focusing unit may include an objective lens near the substrate, a motor for controlling the focusing of the objective lens, a laser oscillating unit for irradiating the laser beam toward the substrate through the objective lens, An image sensor may be provided.

상기 이동 포커싱부는 상기 고정 촬영부 측으로 상기 기판에 대한 이미지가 제공 가능하도록 상기 대물렌즈와 상기 포커싱용 이미지 센서 사이에 설치되어 상기 고정 촬영부 측으로 분리된 광축을 제공하는 빔스플리터를 포함할 수 있다.The moving focusing unit may include a beam splitter installed between the objective lens and the image sensor for focusing so as to provide an image of the substrate to the fixed image pickup unit and providing an optical axis separated to the fixed image pickup unit.

상기 이동 포커싱부는 섬광램프를 구비하고, 상기 기판에 입사되는 상기 섬광램프의 광축과 상기 레이저의 광축이 상기 기판의 검사 위치에 대하여 동축을 이루도록 하는 광학계를 포함할 수 있다.The moving focusing unit may include an optical system having a flare lamp and causing an optical axis of the flare lamp and an optical axis of the laser incident on the substrate to be coaxial with respect to an inspection position of the substrate.

상기 고정 촬영부는 검사용 이미지 센서와 상기 이동 포커싱부로부터 제공되는 상기 기판의 검사 위치에 대한 영상을 상기 검사용 이미지 센서로 반사하는 반사미러와 상기 반사미러와 상기 검사용 이미지 센서 사이에 설치되는 줌광학계를 포함할 수 있다.The fixed photographing unit includes a reflection mirror for reflecting an image of the inspection position of the substrate provided from the moving image focusing sensor to the inspection image sensor, a zoom mirror provided between the reflection mirror and the inspection image sensor, Optical system.

상기 이동 포커싱부는 상기 이동부에 의하여 각각이 독립적으로 이동하는 제 1이동 포커싱부와 제 2이동 포커싱부를 포함하고, 상기 고정 촬영부의 상기 반사미러는 상기 제 1이동 포커싱부에서 제공되는 영상을 상기 검사용 이미지 센서로 반사하고, 상기 반사미러와 상기 줌 광학계 사이에는 상기 제 2이동 포커싱부에서 제공하는 영상을 상기 검사용 이미지 센서로 반사하기 위한 빔스플리터가 구비될 수 있다. Wherein the moving focusing unit includes a first moving focusing unit and a second moving focusing unit that are independently moved by the moving unit, and the reflecting mirror of the stationary photographing unit is configured to detect an image provided by the first moving focusing unit, And a beam splitter is provided between the reflection mirror and the zoom optical system for reflecting the image provided by the second moving focusing unit to the inspection image sensor.

본 발명의 실시예에 따른 기판검사방법은 외부에서 미리 검사된 기판에 대한 초기 검사정보를 수신하여 리뷰 검사에 필요한 기판의 검사좌표를 설정하는 단계, 상기 기판의 검사좌표에 이동 포커싱부가 위치하도록 상기 기판과 상기 이동 포커싱부를 선택적으로 이송시키는 단계, 상기 기판의 검사좌표에 대하여 상기 이동 포커싱부에서 레이저를 이용하여 포커싱을 수행하는 단계, 상기 포커싱이 완료되면 램프를 동작시켜 상기 기판의 검사좌표에 대한 이미지가 상기 이동 포커싱부를 거쳐서 소정 위치에 고정되어 있는 고정 촬영부에 전달되어 이미지를 촬영하도록 하는 단계를 구비한다.A method for inspecting a substrate according to an exemplary embodiment of the present invention includes the steps of: receiving initial inspection information on an externally inspected substrate and setting inspection coordinates of a substrate necessary for a review inspection; The method comprising the steps of: selectively transferring the substrate and the moving focusing unit; performing focusing using a laser in the moving focusing unit with respect to the inspection coordinates of the substrate; operating the lamp when the focusing is completed, And an image is transmitted to a fixed photographing unit fixed at a predetermined position via the moving focusing unit to photograph an image.

상기 기판의 검사좌표가 복수개로 설정되고, 각각의 상기 기판의 검사좌표를 복수개의 상기 이동 포커싱부에 개별적으로 매칭하고, 각각의 상기 이동 포커싱부를 독립적으로 이동시켜 상기 복수개의 검사좌표에 대한 포커싱을 수행할 수 있다.Wherein a plurality of inspection coordinates of the substrate are set, each inspection coordinate of each of the substrates is individually matched to a plurality of the moving focusing parts, and each of the moving focusing parts is moved independently to focus the plurality of inspection coordinates Can be performed.

각각의 상기 이동 포커싱부에서 동시에 영상을 상기 고정 촬영부에 전달되는 것이 방지되도록 각각의 상기 이동 포커싱부에서 영상을 획득하는 시각이 동일하게 진행되는 것을 방지할 수 있다.
It is possible to prevent the time for acquiring an image from each of the moving focusing units from progressing at the same time so that images are simultaneously transmitted from the moving focusing units to the fixed photographing units.

본 발명에 따른 기판검사장치와 이를 이용한 기판검사방법은 이동 포커싱부에 의하여 검사좌표와 레이저 발진부 사이의 거리가 항상 일정하게 유지되므로 레이저 포커싱의 정확도를 균일하게 유지할 수 있고, 또한 복수개의 이동 포커싱부를 사용하여 다수의 검사좌표에 대한 동시 다발적인 검사와 신속한 검사 이미지의 획득이 가능하도록 하는 효과가 있다.
The apparatus for inspecting a substrate and the method of inspecting a substrate using the apparatus according to the present invention can maintain the accuracy of laser focusing uniformly because the distance between the inspection coordinates and the laser oscillating unit is kept constant by the moving focusing unit, It is possible to perform simultaneous multiple inspection of a plurality of inspection coordinates and obtain a rapid inspection image.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판검사장치의 구성을 도시한 블록도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판검사장치의 사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판검사장치의 광학계를 도시한 도면이다.
도 4a와 도 4b는 본 발명의 실시예에 따른 기판검사장치의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판검사장치의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 기판검사방법을 설명하기 위한 도면이다.
1 is a block diagram showing the configuration of a substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view of a substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing an optical system of a substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
4A and 4B are views for explaining the operation of the substrate inspection apparatus according to the embodiment of the present invention.
5 is a view for explaining the operation of a substrate inspection apparatus according to another embodiment of the present invention.
6 is a view for explaining a substrate inspection method according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 본 발명에 따른 기판검사장치 및 이를 이용한 기판검사방법에 대한 실시예를 도면을 참조하여 설명하도록 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 이하에서 설명되는 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위하여 제공되는 것이다. Hereinafter, embodiments of a substrate inspection apparatus and a substrate inspection method using the same according to the present invention will be described with reference to the drawings. It should be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but may be embodied in various forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein, To be fully informed.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판검사장치의 구성을 도시한 블록도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판검사장치의 사시도이다.FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view of a substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 기판검사장치(10)는 최초 다른 기판검사장치에서 초기 검사가 이루어진 기판(S)에서 발견된 결함을 리뷰(review)하기 위한 리뷰 기판검사장치이다. 1차 검사인 초기 검사는 기판(S) 전체에 대하여 매우 빠른 속도로 수행된다. The substrate inspection apparatus 10 according to the embodiment of the present invention is a review substrate inspection apparatus for reviewing defects found on a substrate S having undergone initial inspection in another substrate inspection apparatus. The initial inspection, which is the primary inspection, is performed at a very high speed with respect to the entire substrate S.

그리고 초기 검사에서 발견된 결함들은 본 발명의 실시예에서와 같은 리뷰 기판검사장치(10)에서 정밀하게 2차적으로 검사된다. 그리고 이 리뷰 검사를 통하여 최종적으로 해당 검사대상에 대한 정보를 얻게 된다. 이 검사 정보는 해당 검사대상이 결함인지, 기타의 이물질인지 또는 리페어 가능한 오류인지 여부에 대한 것일 수 있고, 또한 이에 더하여 기판(S)의 수율과 관련된 다양한 정보일 수 있다.Defects found in the initial inspection are secondarily inspected precisely in the review substrate inspection apparatus 10 as in the embodiment of the present invention. Then, through this review inspection, information about the inspection target is finally obtained. This inspection information may be whether or not the inspection object is defective, other foreign matter, or repairable error, and may be various information related to the yield of the substrate (S).

이하에서는 보다 구체적으로 본 발명의 실시예에 따른 기판검사장치의 구성을 도면을 참조하여 설명한다. Hereinafter, the configuration of a substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

도 1과 도 2에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 기판검사장치(10)는 기판(S)을 이송하는 기판 이송부(20), 기판 이송부(20)의 상부에서 기판(S)의 검사 위치로 이동하여 검사대상에 대한 이미지 촬영을 위한 포커싱을 수행하는 제 1이동 포커싱부(100)와 제 2이동 포커싱부(200) 그리고 이동 포커싱부들(100)(200)을 이동시키는 이동부(30), 기판 이송부(20)의 일측에 고정 위치하며 이동부(30)에서 수행한 포커싱 결과에 따라 해당 검사 위치에 대한 이미지를 획득하는 고정 촬영부(300) 그리고 기판 이송부(20), 이동 포커싱부(100)(200), 이동부(30) 그리고 고정 촬영부(300)의 동작을 제어하는 제어부(40)를 구비한다. 1 and 2, a substrate inspection apparatus 10 according to an embodiment of the present invention includes a substrate transfer unit 20 for transferring a substrate S, a transfer unit 20 for transferring a substrate S from above the substrate transfer unit 20, A first moving focusing unit 100, a second moving focusing unit 200, and a moving unit 100 for moving the moving focusing units 100 and 200, which move to an inspection position and perform focusing for image capturing of an inspection object, A stationary photographing unit 300 which is fixed on one side of the substrate transferring unit 20 and acquires an image of the inspection position according to a focusing result performed by the moving unit 30, And a control unit 40 for controlling operations of the units 100, 200, the moving unit 30, and the fixed photographing unit 300.

그리고 제어부(40)와 연결되어 검사대상 및 검사결과에 대한 데이터가 저장되는 데이터 베이스(60)와 외부의 다른 장치들과 통신으로 연결되어 필요한 검사대상에 대한 정보를 입력받거나 또는 기판검사장치(10)에서 수행한 검사결과를 외부의 다른 제어장치로 출력하는 입출력부(50)를 구비한다.The controller 60 is connected to the control unit 40 and communicates with other external devices via a database 60 in which data on inspection objects and inspection results are stored and receives information on necessary inspection objects. And an input / output unit 50 for outputting a result of the inspection performed by the control unit 50 to another external control device.

보다 구체적으로 각각의 구성을 설명하면, 기판 이송부(110)는 다른 기판검사장치(10)로부터 개락적인 검사를 마친 기판(S)을 전달받고, 기판(S)을 일측방향으로 이송한다. 기판 이송부(110)는 롤러 컨베이어시스템, 벨트 컨베이어시스템, 에어 컨베이어시스템 또는 에어 슬라이드 유닛 등으로 실시될 수 있다. More specifically, the substrate transfer unit 110 receives the substrate S that has undergone the mutually-inspected inspection from another substrate inspection apparatus 10, and transfers the substrate S in one direction. The substrate transfer unit 110 may be implemented by a roller conveyor system, a belt conveyor system, an air conveyor system, or an air slide unit.

이동부(30)는 전술한 제 1이동 포커싱부(100)와 제 2이동 포커싱부(200)를 기판(S)이 진행하는 방향에 대한 직각 방향으로 이동시키기 위한 것이다. 이 이동부(30)는 제 1이동 포커싱부(100)와 제 2이동 포커싱부(200)가 선형으로 서로 독립적으로 동작 가능하도록 각각의 이동 포커싱부(100)(200)의 하우징(110)에 설치된 리니어 액츄에이터와 이 리니어 액츄에이터들의 직선 운동을 위하여 설치된 엘엠 가이드와 볼스크류 등을 포함할 수 있다. The moving unit 30 is for moving the first moving focusing unit 100 and the second moving focusing unit 200 in a direction perpendicular to the direction in which the substrate S advances. The moving unit 30 moves the first moving focusing unit 100 and the second moving focusing unit 200 to the housing 110 of each of the moving focusing units 100 and 200 so that the first moving focusing unit 100 and the second moving focusing unit 200 can linearly operate independently of each other. An installed linear actuator and an LM guide and a ball screw installed for linear movement of the linear actuators.

다음으로 이동 포커싱부(100)(200)와 고정 촬영부(300)의 내부 구성을 보다 상세히 설명한다. 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판검사장치의 광학계를 도시한 도면이다.Next, the internal structures of the moving focusing unit 100 and the stationary photographing unit 300 will be described in more detail. 3 is a view showing an optical system of a substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이 제 1이동 포커싱부(100)는 하우징(110) 내부에 설치되며 기판(S) 측에 근접하여 위치한 대물렌즈(120)와 이 대물렌즈(120)의 포커싱 조절을 수행하는 보이스 코일 모터(VCM: Voice Coil Motor, 130), 대물렌즈(120)를 통하여 기판(S) 측으로 레이저를 조사하는 레이저 발진부(140), 기판(S)에서 반사되는 레이저를 수광하는 포커싱용 이미지 센서(150)를 구비한다.3, the first moving focusing unit 100 includes an objective lens 120 disposed inside the housing 110 and positioned close to the substrate S, and a focus adjustment unit 120 for adjusting the focusing of the objective lens 120 A voice coil motor (VCM) 130, a laser oscillating section 140 for irradiating the substrate S with a laser beam via an objective lens 120, a focusing image for receiving a laser beam reflected from the substrate S, A sensor 150 is provided.

포커싱용 이미지 센서(150)는 하우징(110)의 내부 가장 상부에 위치하고, 그 하부에는 제 1빔스플리터(160)가 구비된다. 그리고 포커싱용 이미지 센서(150)와 제 1빔스플리터(160) 사이에는 하프미러(half mirror, 190)가 설치되고, 하프미러(190)의 측부에는 레이저 발진부(140)가 위치한다. The image sensor 150 for focusing is positioned at the uppermost portion of the interior of the housing 110 and a first beam splitter 160 is provided at a lower portion thereof. A half mirror 190 is disposed between the image sensor for focusing 150 and the first beam splitter 160 and a laser oscillating unit 140 is disposed on the side of the half mirror 190.

따라서 레이저 발진부(140)에서 발진한 레이저는 하프미러(190)에서 반사되어 대물렌즈(120) 측으로 진행하고, 기판(S)에서 반사된 레이저는 다시 대물렌즈(120)를 거쳐서 하프미러(190)로 돌아와 하프미러(190)를 투과한다. The laser beam emitted from the laser oscillating unit 140 is reflected by the half mirror 190 and travels toward the objective lens 120. The laser beam reflected by the substrate S is transmitted through the objective lens 120 to the half mirror 190, And then passes through the half mirror 190.

이때 기판(S)에서 반사된 레이저가 하프미러(190)를 투과하도록 하기 위하여 하프미러(190)의 하부에는 1/4파장판이 설치되거나. 하프미러(190)에 파장막이 코팅될 수 있다. 따라서 기판(S)에서 반사된 레이저는 편광방향이 바뀌어서 하프미러(190)를 투과하여 상부의 포커싱용 이미지 센서(150)로 진행할 수 있게 된다.At this time, a 1/4 wave plate is installed below the half mirror 190 to allow the laser reflected from the substrate S to transmit through the half mirror 190. The half mirror 190 may be coated with a wavelength film. Therefore, the laser beam reflected by the substrate S is changed in polarization direction so that it can pass through the half mirror 190 and proceed to the upper focusing image sensor 150.

포커싱용 이미지 센서(150)의 측부에는 조명용 섬광램프(170)가 구비된다. 본 발명의 실시예에서 조명용 섬광램프(170)는 제논램프로 실시될 수 있다. 그리고 조명용 섬광램프(170)의 하부에는 제 3빔스플리터(180)가 구비되고, 제 3빔스플리터(180)의 측부에는 전술한 제 1빔스플리터(160)가 위치한다. 따라서 제 3빔스플리터(180)와 제 1빔스플리터(160)에 의하여 조명용 섬광의 광축과 레이저의 광축은 기판(S)의 검사 위치에 대하여 동축을 이루게 된다.The illumination-use flash lamp 170 is provided on the side of the image sensor 150 for focusing. In an embodiment of the present invention, the illuminating glare lamp 170 may be embodied as a xenon lamp. A third beam splitter 180 is disposed below the illumination glare lamp 170 and a first beam splitter 160 is disposed on the side of the third beam splitter 180. The optical axis of the illumination flash and the optical axis of the laser are coaxial with respect to the inspection position of the substrate S by the third beam splitter 180 and the first beam splitter 160. [

계속해서 제 1빔스플리터(160)의 하부에는 제 2빔스플리터(161)가 위치하고, 제 2빔스플리터(161)의 하부에는 전술한 보이스 코일 모터(130)와 대물렌즈(120)가 차례로 위치한다. The second beam splitter 161 is disposed below the first beam splitter 160 and the voice coil motor 130 and the objective lens 120 are positioned below the second beam splitter 161 .

한편, 오토 포커싱을 위한 레이저 광은 기판(S)에서 반사된 후 포커싱용 이미지 센서(150)로 진행하지만, 조명광은 기판(S)에서 반사된 후 제 2빔스플리터(161)에서 반사되어 고정 촬영부(300)로 향한다. The laser beam for auto focusing is reflected by the substrate S and then proceeds to the image sensor 150 for focusing. The illumination light is reflected by the substrate S and then reflected by the second beam splitter 161, (300).

즉, 기판(S)에서 반사되는 레이저 광과 조명광은 편광성분이 서로 반대로 구현되어야 한다. 이를 위해서 복수개의 편광용 광학장치를 광학계에 설치하여 레이저와 조명광의 편광 성분이 P파 또는 S파로 서로 구현되도록 할 있다. 이에 따라 오토 포커싱을 위한 레이저광과 검사 이미지를 위한 조명광은 각각이 포커싱용 이미지 센서(150)와 검사용 이미지 센서(320)에서 구분되어 획득된다. In other words, the laser light and the illumination light reflected by the substrate S must have polarization components opposite to each other. To this end, a plurality of optical devices for polarization can be provided in the optical system so that the polarization components of the laser and the illumination light are realized by P waves or S waves. Accordingly, the laser light for auto focusing and the illumination light for the inspection image are separately obtained from the image sensor for focusing 150 and the image sensor for inspection 320, respectively.

제 2이동 포커싱부(200)는 제 1이동 포커싱부(100)와 그 구성은 대부분 동일하고, 제 1이동 포커싱부(100)와의 이미지 획득을 위한 광경로가 중첩되는 것을 방지하기 위하여 제 2이동 포커싱부(200)의 빔스플리터(미부호)가 제 1이동 포커싱부(100)의 제 2빔스플리터(161)와 다른 고도에 위치하도록 마련된다. 또한 제 1이동 포커싱부(100)의 하우징(110)에는 제 2이동 포커싱부(200)에서 반사되는 조명광이 고정 촬영부(300)로 진행할 수 있도록 하는 투과창(111)이 관통하여 형성될 수 있다. The second moving focusing part 200 is substantially identical in configuration to the first moving focusing part 100 and is moved in a second direction to prevent the optical path for image acquisition with the first moving focusing part 100 from overlapping. The beam splitter (not shown) of the focusing unit 200 is provided at a position different from that of the second beam splitter 161 of the first moving focusing unit 100. A transmission window 111 through which the illumination light reflected by the second moving focusing unit 200 can travel to the fixed photographing unit 300 may be formed in the housing 110 of the first movement focusing unit 100 have.

다음으로 고정 촬영부(300)는 기판검사장치(10)의 프레임(11)에 고정된 하우징(310)을 구비한다. 그리고 하우징(310) 내부의 가장 상측에 검사용 이미지 센서(320)가 위치한다. 그리고 검사용 이미지 센서(320)의 하부에는 제 1이동 포커싱부(100)로부터 제공되는 기판(S)의 검사 위치에 대한 영상을 검사용 이미지 센서(320)로 반사하는 반사미러(330)가 설치된다. Next, the fixed photographing unit 300 includes a housing 310 fixed to the frame 11 of the substrate inspection apparatus 10. [ The inspection image sensor 320 is located at the uppermost position inside the housing 310. A reflection mirror 330 for reflecting the image of the inspection position of the substrate S provided from the first moving focusing part 100 to the inspection image sensor 320 is installed under the inspection image sensor 320 do.

그리고 반사미러(330)와 검사용 이미지 센서(320) 사이에는 줌광학계(350)가 설치된다. 또한 줌광학계(350)와 반사미러(330) 사이에는 제 2이동 포커싱부(200)에서 제공하는 영상을 검사용 이미지 센서(320)로 반사하기 위한 빔스플리터(340)가 설치된다.A zoom optical system 350 is provided between the reflection mirror 330 and the inspection image sensor 320. A beam splitter 340 is provided between the zoom optical system 350 and the reflection mirror 330 to reflect the image provided by the second moving focusing unit 200 to the image sensor 320 for inspection.

데이터 베이스(60)는 입출력부(50)를 통하여 다른 기판검사장치(미도시) 또는 다른 제어장치와 유선 또는 무선으로 연결될 수 있다. 데이터 베이스(60)는 다른 기판검사장치에서 1차적으로 검사한 기판(S)에 대한 검사좌표를 수신하여 저장한다. 이때 수신받는 정보에는 해당 결함에 대한 다른 정보 예를 들어 추정되는 결함의 종류 등에 대한 것이 포함될 수 있다. The database 60 may be connected to another substrate inspection apparatus (not shown) or other control apparatus through a input / output unit 50 by wire or wirelessly. The database 60 receives and stores inspection coordinates for the substrate S primarily inspected by another substrate inspection apparatus. At this time, the received information may include other information about the defect, for example, the kind of the estimated defect, and the like.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판검사장치의 동작을 설명하기 위한 도면이다. 도 5에 도시된 바와 같이 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판검사장치(10)는 고정 촬영부(300)(600)를 2개 설치하고, 이동 포커싱부(100)(200)(400)(500)를 총 4개 설치하여 보다 빠른 검사 속도로 기판(S)에 대한 검사가 이루어지도록 할 수 있다. 이러한 본 발명의 다른 실시예는 동시에 2곳 이상의 위치에 대한 검사가 이루어지도록 할 수 있으므로 이론적으로 2배 빠른 검사 속도로 기판(S)에 대한 정밀 검사를 수행할 수 있다.5 is a view for explaining the operation of a substrate inspection apparatus according to another embodiment of the present invention. 5, the apparatus for inspecting a substrate 10 according to another embodiment of the present invention includes two fixed image pickup units 300 and 600 and a plurality of movable focusing units 100, 200, and 400 500) may be provided in total, so that the inspection of the substrate S can be performed at a faster inspection speed. In another embodiment of the present invention, inspection can be performed on two or more positions at the same time, so that the close inspection of the substrate S can be performed at an inspection speed two times faster theoretically.

이하에서는 전술한 바와 같이 구성된 본 발명의 실시예에 따른 기판검사장치(10)를 이용한 기판검사방법에 대한 실시예를 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of a substrate inspection method using the substrate inspection apparatus 10 according to an embodiment of the present invention constructed as described above will be described.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 기판검사방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 6에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 기판검사방법은 외부에서 미리 대략적으로 빠른 속도로 검사된 기판(S)에 대한 초기 검사정보를 입출력부(50)를 통하여 수신하고, 이 초기검사정보를 데이터 베이스(60)에 저장한다.6 is a view for explaining a substrate inspection method according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, the substrate inspection method according to the embodiment of the present invention receives initial inspection information about a substrate S inspected at a roughly high speed in advance from the outside through the input / output unit 50, And stores the inspection information in the database 60.

그리고 제어부(40)는 데이터 베이스(60)에 저장된 초기검사정보를 이용하여 리뷰 검사에 필요한 복수개의 리뷰 검사좌표를 생성한다(S100). 그러나 리뷰 검사좌표는 리뷰 검사 대상이 한 개인 경우에 한 개만 생성될 수 있다.Then, the control unit 40 generates a plurality of review check coordinates necessary for review review using the initial inspection information stored in the database 60 (S100). However, only one review check coordinate can be created when there is only one review check target.

이 각각의 리뷰 검사좌표들은 모두 고유한 식별자에 의하여 식별되도록 한다. 그리고 식별이 된 각각의 리뷰 검사좌표들에 대하여 복수개의 이동 포커싱부(100)(200)에 의하여 가장 검사 효율성이 높다고 판단되는 이동 포커싱부를 할당한다.(S110)Each of these review check coordinates is identified by a unique identifier. Then, a plurality of mobile focusing units 100 and 200 allocate a mobile focusing unit, which is determined to have the highest inspection efficiency, to each of the identified review check coordinates (S110)

여기서 검사 효율성은 리뷰 검사좌표의 숫자와 이동 포커싱부(100)(200)의 개수를 비교하여 이동 포커싱부(100)(200)의 이동거리를 최소화하거나, 복수개의 이동 포커싱부(100)(200) 간의 검사 시간 간격을 최소화되도록 하는 것과 같이 검시 시간 최소화와 장비 운용의 효율 극대화와 관련된 것들이다. Here, the inspection efficiency is determined by comparing the number of the review check coordinates with the number of the moving focusing units 100 and 200 to minimize the moving distance of the moving focusing units 100 and 200, ), Minimizing inspection time and maximizing the efficiency of equipment operation.

그리고 리뷰 대상 검사기판(S)이 기판 이송부(20)로 이송되면 기판 이송부(20)는 기판(S)을 전방으로 전진시킨다(S120). 그리고 기판(S)의 리뷰 검사좌표가 이동 포커싱부(100)(200)에 근접하면 제 1이동 포커싱부(100)와 제 2이동 포커싱부(200) 중에서 제어부(40)에 의하여 미리 설정된 이동 포커싱부가 선택되어 해당 검사좌표로 해당 이동 포커싱부가 이동한다.When the inspected substrate S to be inspected is transferred to the substrate transferring unit 20, the substrate transferring unit 20 advances the substrate S forward (S120). When the review inspection coordinates of the substrate S are close to the moving focusing units 100 and 200, the moving focusing unit 100 and the second moving focusing unit 200, And the corresponding focusing unit moves to the corresponding inspection coordinates.

예를 들어 제 1이동 포커싱부(100)에 기판(S)의 해당 검사좌표가 위치하면 제 1이동 포커싱부(100)의 레이저 발진부(140)에서 레이저를 발진한다. 이때의 레이저는 필터 등에 의하여 특정 패턴으로 기판(S)에 결상되도록 되어 있다. 그리고 레이저 발진부(140)에서 발진한 레이저는 반사미러(190)에서 반사된 후 대물렌즈(120)를 거쳐서 기판(S)에 입사된다. 그리고 기판(S)에 결상된 레이저의 패턴을 포커싱용 이미지 센서(150)가 촬영한다. For example, when the corresponding inspection coordinates of the substrate S are located on the first moving focusing part 100, the laser oscillating part 140 of the first moving focusing part 100 oscillates the laser. The laser beam at this time is imaged on the substrate S in a specific pattern by a filter or the like. The laser oscillated by the laser oscillating unit 140 is reflected by the reflection mirror 190 and is incident on the substrate S via the objective lens 120. Then, the image sensor 150 for focusing picks up a pattern of the laser beam formed on the substrate S.

레이저의 패턴 확인은 레이저를 촬영한 포커싱용 이미지 센서(150)에서 감지한 픽셀들에서의 광량에 대한 데이터를 얻고, 이를 토대로 초점 정합 여부를 제어부(40)에서 확인한다. 그리고 초점 정합은 계속해서 기판(S)에 결상된 레이저의 이미지를 포커싱용 이미지 센서(150)가 촬영하고, 이와 동시에 보이스 코일 모터(130)가 대물렌즈(120)의 초점을 조정한다(S130). The pattern recognition of the laser is performed by obtaining data on the amount of light in the pixels sensed by the image sensor for focusing 150 photographed with the laser, and checking whether the focus is matched on the basis of the obtained data. Then, the focusing image sensor 150 captures an image of the laser image formed on the substrate S, and at the same time, the voice coil motor 130 adjusts the focus of the objective lens 120 (S130) .

그리고 최종적으로 초점 정합이 이루어졌다고 판단되면 섬광램프(170)가 작동하여 조명광을 기판(S)에 입사하여 초점이 정합된 상태의 해당 검사 좌표에 대한 기판(S)의 이미지가 대물렌즈(120)와 제 2빔스플리터(161) 그리고 고정 촬영부(300)의 반사미러(330)와 줌광학계(350)를 거쳐서 검사용 이미지 센서(320)로 전달된다. 이에 따라 검사용 이미지 센서(320)는 최종적인 검사 이미지를 얻게 된다. (S140). When it is determined that the focus alignment is finally made, the glare lamp 170 is operated and the illumination light is incident on the substrate S, and the image of the substrate S with respect to the inspection coordinates in the focused state is focused on the objective lens 120, The second beam splitter 161 and the reflection mirror 330 of the fixed photographing unit 300 and the zooming optical system 350 to the inspection image sensor 320. Accordingly, the inspection image sensor 320 obtains the final inspection image. (S140).

한편, 해당 검사좌표에 대한 이미지의 확대 및 축소 이미지는 고정 촬영부(300)의 줌광학계(350)의 줌인과 줌아웃 동작에 의하여 손쉽게 얻을 수 있다. 이때 이미지를 얻는 방법은 전술한 이동 포커싱부(100)(200)의 포커싱 동작과 조명광 입사에 의하여 이루어진다.On the other hand, an enlarged and reduced image of the image with respect to the inspection coordinates can be easily obtained by zooming in and out of the zoom optical system 350 of the fixed photographing unit 300. At this time, a method of obtaining an image is performed by focusing operation of the above-described mobile focusing parts 100 and 200 and incidence of illumination light.

그리고 기판(S)의 검사좌표가 복수개로 설정되고, 각각의 기판(S)의 검사좌표를 복수개의 이동 포커싱부(100)(200)를 이용하여 검사하는 경우, 각각의 이동 포커싱부(100)(200)에 검사 대상인 각각의 검사좌표를 개별적으로 매칭시킨다. 그리고 각각의 이동 포커싱부(100)(200)를 독립적으로 이동시켜 복수개의 검사좌표에 대한 포커싱을 수행한다. When a plurality of inspection coordinates of the substrate S are set and inspection coordinates of the respective substrates S are inspected using a plurality of the moving focusing units 100 and 200, (200) individually match the inspection coordinates to be inspected. Then, each of the moving focusing units 100 and 200 is independently moved to perform focusing on a plurality of inspection coordinates.

복수개의 검사좌표에 대하여 거의 동시에 검사가 이루어지는 경우 해당 위치의 검사 이미지에 대해서는 하나의 고정 촬영부(300)에 복수개의 이동 포커싱부(100)(200)가 전달하는 이미지가 동시에 전달되지 않고 모두 서로 다른 시간에 전달되도록 조명광의 입사 시간을 다르게 설정하여 운용할 수 있다. When inspection is performed for a plurality of inspection coordinates at substantially the same time, images transmitted from the plurality of mobile focusing units 100 and 200 are not simultaneously transmitted to one fixed photographing unit 300, The incidence time of the illumination light can be set differently so as to be transmitted at another time.

그리고 도 5에서와 같이 복수개의 고정 촬영부(300)(600)로 실시하는 경우에는 고정 촬영부(300)(600) 각각이 동시에 검사 이미지를 얻을 수 있도록 할 수 있다.5, the fixed image pickup units 300 and 600 may simultaneously acquire inspection images when the plurality of fixed image pickup units 300 and 600 are used.

이상과 같은 본 발명의 실시예에 따른 기판검사장치(10)와 이를 이용한 기판검사방법은 이동 포커싱부에 의하여 검사좌표와 레이저 발진부 사이의 거리가 항상 일정하게 유지되므로 레이저 포커싱의 정확도를 균일하게 유지할 수 있고, 또한 복수개의 이동 포커싱부를 사용하여 다수의 검사좌표에 대한 동시 다발적인 포커싱 상태의 확보 및 신속한 검사 이미지의 획득이 가능하도록 한다.In the substrate inspection apparatus 10 according to the embodiment of the present invention and the substrate inspection method using the same, since the distance between the inspection coordinates and the laser oscillation unit is always kept constant by the moving focusing unit, the accuracy of laser focusing can be maintained uniform Also, a plurality of moving focusing units can be used to secure simultaneous focusing states for a plurality of inspection coordinates and obtain a rapid inspection image.

이상에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호 범위에 속하게 될 것이다.
The embodiments of the present invention, which are described above and shown in the drawings, should not be construed as limiting the technical idea of the present invention. The scope of protection of the present invention is limited only by the matters described in the claims, and those skilled in the art will be able to modify the technical idea of the present invention in various forms. Accordingly, such improvements and modifications will fall within the scope of the present invention as long as they are obvious to those skilled in the art.

20...기판 이송부
30...이동부
40...제어부
50...입출력부
100...제 1이동 포커싱부
200...제 2이동 포커싱부
300...고정 촬영부
20: substrate transfer section
30 ... movable part
40 ... control unit
50 ... input / output unit
100 ... first focusing point
200 ... Second moving focusing section
300 ... fixed photographing unit

Claims (9)

기판을 이송하는 기판이송부;
상기 기판이송부의 일측에서 상기 기판의 검사 위치로 이동하여 촬영을 위한 포커싱을 수행하는 이동 포커싱부;
상기 이동 포커싱부를 이동시키는 이동부;
상기 기판이송부의 일측에 고정 위치하며 상기 이동부에서 수행한 포커싱 결과에 따라 상기 검사 위치에 대한 이미지를 획득하는 고정 촬영부;
상기 기판이송부, 상기 이동 포커싱부, 상기 이동부 그리고 상기 고정 촬영부의 동작을 제어하는 제어부를 구비하는 기판검사장치.
A substrate transferring unit for transferring the substrate;
A moving focusing unit moving the substrate from one side of the transmitting unit to the inspection position of the substrate to perform focusing for photographing;
A moving part for moving the moving focusing part;
A stationary photographing unit for acquiring an image of the inspection position according to a focusing result of the moving unit, the substrate being fixed to one side of the transmitting unit;
And a control unit for controlling operations of the substrate transferring unit, the moving focusing unit, the moving unit, and the fixed photographing unit.
제 1항에 있어서, 상기 이동 포커싱부는 상기 기판 측에 근접하는 대물렌즈, 상기 대물렌즈의 포커싱 조절을 수행하는 모터, 상기 대물렌즈를 통하여 상기 기판 측으로 레이저를 조사하는 레이저 발진부; 상기 기판에서 반사되는 레이저를 수광하는 포커싱용 이미지 센서를 구비하는 기판검사장치.
[2] The apparatus of claim 1, wherein the moving focusing unit comprises: an objective lens close to the substrate; a motor for controlling the focusing of the objective lens; a laser oscillator for irradiating the laser beam toward the substrate through the objective lens; And an image sensor for focusing the laser beam reflected from the substrate.
제 2항에 있어서, 상기 이동 포커싱부는 상기 고정 촬영부 측으로 상기 기판에 대한 이미지가 제공 가능하도록 상기 대물렌즈와 상기 포커싱용 이미지 센서 사이 설치되어 상기 고정 촬영부 측으로 분리된 광축을 제공하는 빔스플리터를 포함하는 기판검사장치.
3. The apparatus according to claim 2, wherein the moving focusing unit includes a beam splitter provided between the objective lens and the image sensor for focusing to provide an optical axis to the fixed photographing unit, The substrate inspection apparatus comprising:
제 2항에 있어서, 상기 이동 포커싱부는 섬광램프를 구비하고, 상기 기판에 입사되는 상기 섬광램프의 광축과 상기 레이저의 광축이 상기 기판의 검사 위치에 대하여 동축을 이루도록 하는 광학계를 포함하는 기판검사장치.
The substrate inspection apparatus according to claim 2, wherein the moving focusing unit includes a flare lamp, and an optical system for causing an optical axis of the flare lamp and an optical axis of the laser to be coaxial with respect to an inspection position of the substrate, .
제 1항에 있어서, 상기 고정 촬영부는 검사용 이미지 센서와 상기 이동 포커싱부로부터 제공되는 상기 기판의 검사 위치에 대한 영상을 상기 검사용 이미지 센서로 반사하는 반사미러와 상기 반사미러와 상기 검사용 이미지 센서 사이에 설치되는 줌광학계를 포함하는 기판검사장치.
The apparatus according to claim 1, wherein the stationary photographing unit comprises: a reflection mirror for reflecting an image of an inspection position of the substrate provided from the moving image focusing sensor to the inspection image sensor; And a zoom optical system provided between the sensors.
제 5항에 있어서, 상기 이동 포커싱부는 상기 이동부에 의하여 각각이 독립적으로 이동하는 제 1이동 포커싱부와 제 2이동 포커싱부를 포함하고, 상기 고정 촬영부의 상기 반사미러는 상기 제 1이동 포커싱부에서 제공되는 영상을 상기 검사용 이미지 센서로 반사하고, 상기 반사미러와 상기 줌 광학계 사이에는 상기 제 2이동 포커싱부에서 제공하는 영상을 상기 검사용 이미지 센서로 반사하기 위한 빔스플리터가 구비되는 기판검사장치.
6. The apparatus according to claim 5, wherein the moving focusing portion includes a first moving focusing portion and a second moving focusing portion, each of which is independently moved by the moving portion, and wherein the reflecting mirror of the stationary photographing portion And a beam splitter is provided between the reflection mirror and the zoom optical system for reflecting the image provided by the second moving focusing unit to the inspection image sensor, .
외부에서 미리 검사된 기판에 대한 초기 검사정보를 수신하여 리뷰 검사에 필요한 기판의 검사좌표를 설정하는 단계;
상기 기판의 검사좌표에 이동 포커싱부가 위치하도록 상기 기판과 상기 이동 포커싱부를 선택적으로 이송시키는 단계;
상기 기판의 검사좌표에 대하여 상기 이동 포커싱부에서 레이저를 이용하여 포커싱을 수행하는 단계;
상기 포커싱이 완료되면 램프를 동작시켜 상기 기판의 검사좌표에 대한 이미지가 상기 이동 포커싱부를 거쳐서 소정 위치에 고정되어 있는 고정 촬영부에 전달되어 이미지를 촬영하도록 하는 단계를 구비하는 기판검사방법.
Receiving initial inspection information on a substrate previously inspected from the outside and setting inspection coordinates of the substrate necessary for a review inspection;
Selectively moving the substrate and the moving focusing unit such that the moving focusing unit is positioned at the inspection coordinates of the substrate;
Performing focusing using the laser in the moving focusing unit with respect to the inspection coordinates of the substrate;
And when the focusing is completed, operating the lamp to transmit an image of the inspection coordinates of the substrate to a stationary photographing unit fixed at a predetermined position through the moving focusing unit to photograph an image.
제 7항에 있어서, 상기 기판의 검사좌표가 복수개로 설정되고, 각각의 상기 기판의 검사좌표를 복수개의 상기 이동 포커싱부에 개별적으로 매칭하고, 각각의 상기 이동 포커싱부를 독립적으로 이동시켜 상기 복수개의 검사좌표에 대한 포커싱을 수행하는 기판검사방법.
The apparatus according to claim 7, wherein a plurality of inspection coordinates of the substrate are set, inspection coordinates of each of the substrates are individually matched to a plurality of the moving focusing parts, and each of the plurality of moving focusing parts is independently moved, A method of inspecting a substrate for performing focusing on inspection coordinates.
제 8항에 있어서, 각각의 상기 이동 포커싱부에서 동시에 영상을 상기 고정 촬영부에 전달되는 것이 방지되도록 각각의 상기 이동 포커싱부에서 영상을 획득하는 시각이 동일하게 진행되는 것을 방지하는 기판검사방법.The method according to claim 8, wherein the time for acquiring an image in each of the moving focusing portions is prevented from proceeding at the same time so that an image is prevented from being simultaneously transmitted to the fixed photographing portion in each of the moving focusing portions.
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