KR101138648B1 - High speed substrate inspection apparatus and method using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 이동중인 기판에 대하여 오토포커싱을 하면서 동시에 고속으로 기판화상을 획득할 수 있는 고속기판검사장치 및 고속기판검사방법에 대한 것이다. 이를 위하여 기판을 적재하여 이송 가능한 기판스테이지와, 기판스테이지에 초점조정용 제1조명광을 조사하는 제1광원과, 기판스테이지에 기판화상획득용 제2조명광을 조사하는 제2광원과, 제1조명광과 제2조명광을 감지하는 광센서와, 제1조명광과 제2조명광의 광경로상에 마련되어 제1조명광과 제2조명광이 기판에서 반사되어 광센서에 도달하도록 유도하는 광학계와, 광센서에 도입된 제1조명광을 통하여 초점정합여부를 판단하는 초점정합판단부 및 초점정합판단부의 초점부정합신호를 받으면 광학계와 기판간의 초점맞춤을 수행하는 초점정합수단을 포함하며, 광학계는 기판 평면상에서 이동가능한 가동광학계를 포함한다.The present invention relates to a high speed board inspection apparatus and a high speed board inspection method capable of autofocusing a moving substrate and at the same time obtaining a substrate image at a high speed. To this end, a substrate stage capable of loading and transporting a substrate, a first light source for irradiating a first stage illumination light for focusing the substrate stage, a second light source for irradiating a second stage illumination light for acquiring a substrate image, and a first illumination light; An optical sensor for detecting the second illumination light, an optical system provided on the optical path of the first illumination light and the second illumination light to guide the first illumination light and the second illumination light to be reflected from the substrate to reach the optical sensor, and introduced into the optical sensor A focus matching determination unit for determining whether the focus is matched through the first illumination light and a focus matching means for performing focusing between the optical system and the substrate upon receiving the focus misalignment signal, the optical system includes a movable optical system that is movable on the substrate plane. It includes.

Description

고속기판검사장치 및 이를 이용한 고속기판검사방법 {HIGH SPEED SUBSTRATE INSPECTION APPARATUS AND METHOD USING THE SAME}High speed board inspection device and high speed board inspection method using the same {HIGH SPEED SUBSTRATE INSPECTION APPARATUS AND METHOD USING THE SAME}

본 발명은 고속기판검사장치 및 이를 이용한 고속기판검사방법에 관한 것이다.The present invention relates to a high speed board inspection apparatus and a high speed board inspection method using the same.

기판에 결함이 있는지 정밀하게 검사하기 위해서는 고배율의 카메라로 확대한 화상을 통하여 검사하게 된다.In order to precisely inspect the substrate for defects, inspection is performed through an image enlarged by a high magnification camera.

고배율의 카메라로 기판의 일부분을 촬영하기 위해서는 초점이 정확하여야 명확한 화상을 얻을 수 있다.In order to capture a portion of the substrate with a high magnification camera, the focus must be accurate to obtain a clear image.

초점을 맞추는 오토포커싱 작업은 레이저 광원을 이용할 수 있다. 레이저를 기판에 조사하여 반사된 레이저의 화상이 센서에 도달하면, 센서에 감지된 레이저의 화상을 통하여 초점이 정합되었는지 판단할 수 있다. Focusing autofocusing operations can use a laser light source. When the image of the reflected laser reaches the sensor by irradiating the laser onto the substrate, it may be determined whether the focus is matched through the image of the laser detected by the sensor.

초점이 맞추어지면 조명광원을 작동시켜 카메라를 통하여 기판면을 촬영하여 확대화상을 얻게 된다.When the focus is achieved, the illumination light source is activated to capture an enlarged image by photographing the substrate surface through the camera.

이러한 종래기술의 경우, 오토포커싱 작업을 위하여 사용되는 레이저의 화상을 감지하기 위한 센서와, 확대화상을 얻기 위한 카메라가 별개로 각각 필요하다. 이는 제조원가가 상승한다는 문제가 있다.In the prior art, a sensor for detecting an image of a laser used for an autofocusing operation and a camera for obtaining an enlarged image are separately required. This has a problem of rising manufacturing costs.

또한, 일반적으로 기판이 정지된 상태에서 기판검사를 진행하게 된다. 즉 검사장치쪽으로 기판을 이동시켜서 정지시킨 후에 촬영을 하고 다시 이동시켜서 다음 검사영역에서 정지시킨 후에 또 촬영을 하는 단계를 거친다.In addition, substrate inspection is generally performed while the substrate is stopped. In other words, the substrate is moved to the inspection apparatus to stop and photographed, and then moved again to stop at the next inspection region and then photographed again.

이렇게 정지상태에서의 검사진행은 검사효율이 떨어진다는 문제가 있다.Thus, the inspection progress in the stationary state has a problem that the inspection efficiency is lowered.

이동중인 검사체에 대하여 고속으로 오토포커싱 및 리뷰화상을 획득할 수 있는 고속기판검사장치 및 기판검사방법이 요구된다.There is a need for a high speed board inspection apparatus and a board inspection method capable of obtaining autofocusing and review images at high speed for a moving specimen.

또한, 이동중인 검사체에 대하여 검사체 평면을 기준으로 검사장치가 검사영역으로 이동하면서 오토포커싱 및 리뷰화상을 획득할 수 있는 기판검사장치 및 기판검사방법이 요구된다.There is also a need for a substrate inspection apparatus and a substrate inspection method capable of obtaining autofocusing and review images while the inspection apparatus moves to an inspection region with respect to a moving specimen.

본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자가 명확하게 이해할 수 있을 것이다.Technical problems of the present invention are not limited to the above-mentioned technical problems, and other technical problems that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 고속기판검사장치는, 기판을 적재하여 이송 가능한 기판스테이지; 상기 기판스테이지에 초점조정용 제1조명광을 조사하는 제1광원; 상기 기판스테이지에 기판화상획득용 제2조명광을 조사하는 제2광원; 상기 제1조명광과 제2조명광을 감지하는 광센서; 상기 제1조명광과 제2조명광의 광경로상에 마련되어 상기 제1조명광과 제2조명광이 기판에서 반사되어 상기 광센서에 도달하도록 유도하는 광학계; 상기 광센서에 도입된 제1조명광을 통하여 초점정합여부를 판단하는 초점정합판단부; 및 상기 초점정합판단부의 초점부정합신호를 받으면 상기 광학계와 기판간의 초점맞춤을 수행하는 초점정합수단;을 포함하 며, 상기 광학계는 상기 기판 평면상에서 이동가능한 가동광학계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a high speed board inspection apparatus comprising: a substrate stage capable of loading and transporting a substrate; A first light source for irradiating a focusing first illumination light to the substrate stage; A second light source for irradiating a second illumination light for acquiring a substrate image on the substrate stage; An optical sensor for sensing the first and second illumination lights; An optical system provided on an optical path of the first illumination light and the second illumination light to guide the first illumination light and the second illumination light to be reflected from a substrate to reach the optical sensor; A focus matching determination unit determining whether the focus is matched through the first illumination light introduced into the optical sensor; And focusing means for performing focusing between the optical system and the substrate when receiving the focus misalignment signal of the focus matching determining unit, wherein the optical system includes a movable optical system that is movable on the substrate plane.

또한, 상기 가동광학계에는 상기 제1광원이 결합되어 동시에 상기 기판 평면상에서 이동가능할 수 있다.In addition, the first optical source may be coupled to the movable optical system to be movable on the substrate plane at the same time.

또한, 상기 제1광원은 직접 기판에 도달하여 반사된 상기 제1조명광이 상기 가동광학계에 유입되도록 상기 가동광학계에 마련될 수 있다.In addition, the first light source may be provided in the movable optical system such that the first illumination light reflected by reaching the substrate directly flows into the movable optical system.

또한, 상기 가동광학계는 대물렌즈와, 상기 제1조명광과 제2조명광의 광경로상에 위치하여 빛을 반사시키는 광학부재를 포함할 수 있다.The movable optical system may include an objective lens and an optical member positioned on an optical path of the first illumination light and the second illumination light to reflect light.

또한, 하나의 검사영역의 검사가 완료되면 상기 기판의 이동방향을 기준선으로 하여 다음 검사할 검사영역과 동일선상으로 상기 대물렌즈를 이동하도록 상기 가동광학계를 제어하는 가동광학계제어부를 포함할 수 있다.Also, when the inspection of one inspection region is completed, the movable optical system controller may be configured to control the movable optical system to move the objective lens in line with the inspection region to be inspected, based on the moving direction of the substrate.

또한, 상기 제1광원은 레이저를 조사하는 레이저광원일 수 있다.In addition, the first light source may be a laser light source for irradiating a laser.

또한, 상기 제1광원은 라인 형태의 광을 조사하는 슬릿조명광원일 수 있다.In addition, the first light source may be a slit illumination light source for irradiating light in the form of a line.

또한, 상기 광센서는 CCD(Charged coupled device)를 포함할 수 있다.In addition, the optical sensor may include a charged coupled device (CCD).

또한, 상기 제1조명광의 ON 상태의 지속시간 동안 상기 CCD에 의해 감지되는 기판 이미지가 상기 CCD의 1 픽셀 보다 작게 변화되도록 상기 기판스테이지를 제어하는 기판스테이지제어부를 포함할 수 있다.The apparatus may further include a substrate stage controller configured to control the substrate stage such that the substrate image sensed by the CCD is changed to be smaller than 1 pixel of the CCD during the duration of the ON state of the first illumination light.

또한, 상기 기판에서 검사가 필요한 검사좌표를 저장하는 검사좌표저장부를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include an inspection coordinate storage unit configured to store inspection coordinates requiring inspection on the substrate.

또한, 상기 초점정합판단부의 초점정합신호를 받으면 상기 광센서에 도달한 제2조명광을 전기적 신호로 전환하여 기판화상을 획득하는 기판화상획득부와, 상기 기판화상획득부에서 획득된 기판화상을 확대 디스플레이하는 디스플레이부를 더 포함할 수 있다.Also, when the focus matching signal is received, the substrate image acquisition unit converts the second illumination light reaching the optical sensor into an electrical signal to obtain a substrate image, and enlarges the substrate image obtained by the substrate image acquisition unit. The display unit may further include a display unit.

또한, 상기 초점정합판단부가 초점정합여부를 판단하는 경우에는 상기 제2광원을 OFF시키는 제2광원제어부를 더 포함할 수 있다.In addition, the focus matching determination unit may further include a second light source control unit for turning off the second light source when determining whether to focus.

또한, 상기 제2광원이 상기 광센서에 의하여 감지되는 동안 상기 제1광원을 OFF시키는 제1광원제어부를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a first light source controller to turn off the first light source while the second light source is detected by the optical sensor.

또한, 상기 광센서는 상기 제1조명광과 제2조명광 모두를 감지하는 공용의 광센서일 수 있다.In addition, the optical sensor may be a common optical sensor for detecting both the first illumination light and the second illumination light.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 고속기판검사방법은, 기판을 적재하여 이송 가능한 기판스테이지와, 상기 기판스테이지에 초점조정용 제1조명광을 조사하는 제1광원과, 상기 기판스테이지에 기판화상획득용 제2조명광을 조사하는 제2광원과, 상기 제1조명광과 제2조명광을 감지하는 광센서와, 상기 제1조명광과 제2조명광의 광경로상에 마련되어 상기 제1조명광과 제2조명광이 기판에서 반사되어 상기 광센서에 도달하도록 유도하는 광학계를 포함하는 기판검사장치를 이용한 기판검사방법에 있어서, (a) 상기 기판에서 반사되어 상기 광센서에 도달한 제1조명광을 분석하여 초점 정합을 판단하는 단계; (b) 초점부정합이라고 판단된 경우, 상기 광학계를 제어하여 초점조정을 행하는 단계; 및 (c) 초점조정이 완료되거나 초점정합으로 판단되면, 상기 제2조명광이 상기 기판에서 반사되어 상기 광센서에 도달하도록 하는 단계; 및 (d) 상기 광학계는 상기 기판 평면상에서 이동가능한 가동광학계와 고정광학계를 포함하며, 상기 (c)단계 이후에는 다음 검사할 검사영역 으로 상기 가동광학계만을 이동시키는 단계;를 포함하고, 상기 (a)단계 내지 (d)단계에서 상기 기판은 이동중인 것을 특징으로 한다.The high speed board inspection method according to the present invention for solving the above problems includes a substrate stage capable of loading and transporting a substrate, a first light source for irradiating a first illumination light for focusing the substrate stage, and acquiring a substrate image on the substrate stage. A second light source for irradiating the second illumination light, an optical sensor for detecting the first illumination light and the second illumination light, and an optical path of the first illumination light and the second illumination light, the first illumination light and the second illumination light A substrate inspection method using a substrate inspection apparatus including an optical system that is reflected from a substrate and guides the optical sensor, the method comprising: (a) analyzing a first illumination light reflected from the substrate and reaching the optical sensor to perform focus matching; Determining; (b) if it is determined that focus misalignment is performed, adjusting focus by controlling the optical system; And (c) when the focus adjustment is completed or determined to be in focus alignment, the second illumination light is reflected from the substrate to reach the optical sensor; And (d) the optical system includes a movable optical system and a fixed optical system that are movable on the substrate plane. After step (c), only the movable optical system is moved to the next inspection region to be inspected. In step) to (d), the substrate is moving.

또한, 상기 (b)단계 이전 또는 동시에 상기 가동광학계를 기판의 검사영역으로 접근시켜서, 상기 검사영역으로의 접근과 동시에 초점정합여부를 판단하고 상기 (c)단계 이전에 초점 정합 판단을 완료할 수 있는 단계(e단계)를 포함할 수 있다.In addition, by accessing the movable optical system to the inspection area of the substrate before or at the same time as the step (b), it is possible to determine whether the focus is coincident with the access to the inspection area and to complete the focus matching determination before the step (c). Step (e).

또한, 상기 (e)단계의 경우, 상기 검사영역으로의 접근과 동시에 상기 제1조명광을 반복 조사하고, 반복하여 초점 정합 여부를 판단하는 단계일 수 있다.In addition, in the step (e), it may be a step of repeatedly irradiating the first illumination light at the same time as the approach to the inspection area, and repeatedly determining whether the focus match.

또한, 상기 (d)단계의 경우, 상기 기판의 이동방향을 기준선으로 하여 직교방향으로 상기 가동광학계를 이동시켜서 다음 검사할 검사영역과 동일선상에 상기 가동광학계를 위치시키는 단계일 수 있다.In addition, in the step (d), the movable optical system may be moved in the orthogonal direction using the moving direction of the substrate as a reference line to position the movable optical system on the same line as the next inspection region to be inspected.

또한, 상기 광센서는 CCD(Charged coupled device)를 포함하며, 상기 제1광원의 제1조명광의 ON 상태의 지속시간 동안 상기 CCD에 의해 감지되는 기판 이미지가 상기 CCD의 1 픽셀 보다 작게 변화되도록 상기 기판스테이지가 상기 기판을 이동시킬 수 있다.In addition, the optical sensor includes a Charged Coupled Device (CCD), wherein the substrate image detected by the CCD is changed to be smaller than 1 pixel of the CCD during the duration of the ON state of the first illumination light of the first light source. The substrate stage may move the substrate.

또한, 상기 (a)단계는 초점정합여부를 판단하는 동안 상기 제1광원을 OFF시키는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the step (a) may be characterized in that the first light source is turned off while determining whether to focus.

또한, 상기 (c)단계는 상기 제2광원이 상기 광센서에 의하여 감지되는 동안 상기 제1광원을 OFF시키는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the step (c) may be characterized in that the first light source is turned off while the second light source is detected by the optical sensor.

또한, 상기 (a) 단계의 이전에 상기 기판에 있어서 검사가 필요한 검사좌표를 저장하는 단계를 포함하고, 상기 (a) 내지 (d) 단계는 상기 검사좌표에 대하여 수행될 수 있다.The method may further include storing inspection coordinates that need to be inspected in the substrate before step (a), and steps (a) to (d) may be performed with respect to the inspection coordinates.

가동광학계가 기판면 위를 왕복동작이 가능한 구성을 하고 있으며, 광학계 전체가 이동하는 경우에는 이동하는 부재가 많으므로 이동속도, 동작의 정확성 또는 에너지효율 등의 다양한 측면에서 비효율적이므로 최소한의 구성요소만 이동하는 구성이다. 이에 따라, 보다 정확하고도 고속으로 기판검사가 가능한 효과가 있다.The movable optical system is configured to reciprocate on the substrate surface, and when the whole optical system moves, there are many moving members, so it is inefficient in various aspects such as moving speed, operation accuracy, or energy efficiency. It is a moving structure. Accordingly, there is an effect that the substrate inspection can be more accurately and at high speed.

기판이 이동중에 기판검사를 하는 구성으로서, 종래와 같이 기판검사시에 기판이동속도를 정지시켰다가 다시 이동시키는 동작에 따른 기판검사속도의 저하현상이 방지되므로 검사효율이 향상될 수 있다.As the substrate is inspected while the substrate is being moved, the inspection efficiency can be improved since the degradation of the substrate inspection speed due to the operation of stopping and moving the substrate movement speed during the substrate inspection as in the prior art is prevented.

또한, 기판검사영역에 도달할 때까지 초점정합단계를 거치므로 정해진 검사영역에 도달하면 바로 기판화상을 획득하는 단계가 진행될 수 있어서 검사과정에 소요되는 시간이 감소하게 되는 효과가 있다.In addition, since the focus matching step is performed until the substrate inspection area is reached, the step of acquiring the substrate image may be performed immediately when the predetermined inspection area is reached, thereby reducing the time required for the inspection process.

본 발명의 광센서는 레이저을 수광하는 광센서로도 기능할 수 있고, 동시에 조명광을 수광하는 광센서로도 기능할 수 있어서, 종래의 레이저센서와 조명광센서를 각각 별개로 구비하여야 하는 구성보다 보다 간단하게 구현이 가능하며, 이에 따라 작업공수의 절감과 원가절감의 효과가 있다.The optical sensor of the present invention can also function as an optical sensor for receiving a laser, and at the same time can also function as an optical sensor for receiving illumination light, which is simpler than a configuration in which a conventional laser sensor and an illumination light sensor must be provided separately. It is possible to implement it, thereby reducing the labor cost and cost.

본 발명의 기술적 효과는 이상에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical effects of the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and other technical effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 실시예는 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 위하여 과장되게 표현된 부분이 있을 수 있으며, 도면상에서 동일 부호로 표시된 요소는 동일 요소를 의미한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present embodiment is not limited to the embodiments disclosed below, but can be implemented in various forms, and only this embodiment makes the disclosure of the present invention complete, and the scope of the invention to those skilled in the art. It is provided for complete information. Shapes of the elements in the drawings may be exaggerated parts for a more clear description, elements denoted by the same reference numerals in the drawings means the same element.

도 1은 본 실시예에 따른 고속기판검사장치의 개략적인 구성도이다. 1 is a schematic configuration diagram of a high speed board inspection apparatus according to the present embodiment.

도 3 내지 도 5는 다른 실시예에 따른 고속기판검사장치의 개략적인 구성도이다. 도 1에서와 동일한 도면번호의 구성은 유사한 기능을 수행하므로 중복되는 설명은 생략한다.3 to 5 are schematic diagrams of a high speed board inspection apparatus according to another embodiment. The same reference numerals as in FIG. 1 perform similar functions, and thus redundant descriptions thereof will be omitted.

도 1에 도시된 바와 같이, 기판(S)는 기판스테이지(101)에 놓이게 되며, 기판스테이지(101)는 기판스테이지제어부(102)에 의하여 기판면, 즉 XY평면상에서 X축방향이나 Y축방향으로 기판(S)를 이동시키는 구성을 가질 수 있다. 또는 Z축방향으로 기판(S)를 상하 이동시키는 구성을 가질 수도 있다.As shown in FIG. 1, the substrate S is placed on the substrate stage 101, and the substrate stage 101 is controlled by the substrate stage control unit 102 on the substrate surface, that is, on the XY plane in the X-axis direction or the Y-axis direction. It can have a structure to move the substrate (S). Or it may have a structure which moves the board | substrate S up and down in a Z-axis direction.

제1광원(123a)에서 조사된 제1조명광과 제2광원(121a)에서 조사된 제2조명광은 광학계(110)를 통하여 광센서(125)에 도달할 수 있다.The first illumination light emitted from the first light source 123a and the second illumination light emitted from the second light source 121a may reach the optical sensor 125 through the optical system 110.

제1광원(123a)은 레이저를 조사하는 레이저광원일 수 있고, 또는 라인 형태 의 광을 조사하는 슬릿조명광원일 수도 있다. The first light source 123a may be a laser light source for irradiating a laser, or may be a slit illumination light source for irradiating a line-shaped light.

광학계(110)는 대물렌즈(111), 제1광학부재(113), 제2광학부재(115), 튜브렌즈(117)를 포함할 수 있다. 제1광학부재(113)와 제2광학부재(115)는 프리즘, 하프미러 또는 빔스플리터로 마련될 수 있다.The optical system 110 may include an objective lens 111, a first optical member 113, a second optical member 115, and a tube lens 117. The first optical member 113 and the second optical member 115 may be provided as a prism, a half mirror or a beam splitter.

기판(S)의 상부에는 제1광원(123a)이 위치할 수 있고, 제1광원(123a)에서 조사된 제1조명광은 직접 기판(S)에 도달하여 반사된 후에 대물렌즈(111), 제1광학부재(113), 제2광학부재(115), 튜브렌즈(117)을 거쳐서 광센서(125)에 도달할 수 있다.The first light source 123a may be positioned above the substrate S, and the first illumination light irradiated from the first light source 123a may directly reach and reflect the substrate S, and then may be the objective lens 111 and the first light source. The optical sensor 125 may be reached through the first optical member 113, the second optical member 115, and the tube lens 117.

도 4는 다른 실시예로서, 제1광원(123c)에서 조사된 제1조명광은 제2광학부재(115)를 통과한 후에 제1광학부재(113)에 도달하여 반사될 수 있다. 제1광학부재(113)에서 반사된 제1조명광은 대물렌즈(111)를 통과하여 기판(S)에서 반사된 후에 다시 대물렌즈(111), 제1광학부재(113), 제2광학부재(115), 튜브렌즈(117)를 차례로 지나서 광센서(125)에 도달할 수도 있다.4 is another embodiment, the first illumination light irradiated from the first light source 123c may reach the first optical member 113 and be reflected after passing through the second optical member 115. The first illumination light reflected by the first optical member 113 passes through the objective lens 111 and is reflected by the substrate S, and then again the objective lens 111, the first optical member 113, and the second optical member ( 115, the tube lens 117 may be sequentially passed to the optical sensor 125.

튜브렌즈(117)는 광의 단면적이 감소되거나 확장되는 경우에 평행광으로 조절하도록 마련된다.The tube lens 117 is provided to adjust to parallel light when the cross sectional area of the light is reduced or expanded.

제1광원(123a,123b,123c,123d)은 이동중인 기판(S)의 초점거리 측정을 위하여 레이저광원으로 마련된 경우에는, 짧은 주기 또는 짧은 지속시간을 가지는 레이저 펄스를 조사할 수 있다. 상황에 따라 다양한 레이저 펄스를 조사할 수 있으며, 대략 600 헤르쯔의 주기를 가지게 하거나, 지속시간을 수십 마이크로 초 만큼 되도록 마련될 수 있다.When the first light sources 123a, 123b, 123c, and 123d are provided as laser light sources for measuring the focal length of the moving substrate S, the first light sources 123a, 123b, 123c, and 123d may emit laser pulses having a short period or a short duration. Depending on the situation, various laser pulses may be irradiated, and may be arranged to have a period of approximately 600 Hertz or have a duration of several tens of microseconds.

제2광원(121a,121b,121c,121d)은 초점정합이 이루어진 경우에 제2조명광을 조사하며, 제2조명광은 광학계(110)를 거쳐서 기판(S)에 도달하여 반사된 후에 다시 광학계(110)를 거쳐서 광센서(125)에 도달하여 기판(S)의 화상을 제공하게 된다.The second light sources 121a, 121b, 121c, and 121d irradiate the second illumination light when the focus is matched, and the second illumination light reaches the substrate S through the optical system 110 and is reflected thereafter. The optical sensor 125 reaches through the photo sensor 125 to provide an image of the substrate S.

이동중인 기판(S)의 화상을 또렷하게 촬영하기 위하여 셔터속도는 비교적 빠르게 설정될 수 있으며, 이에 따라 제2조명광의 지속시간은 수 마이크로 초 만큼만 지속될 수도 있다. 제2광원은 스트로브 타입의 조명으로 마련될 수도 있다.In order to clearly capture the image of the moving substrate S, the shutter speed may be set relatively fast, and thus the duration of the second illumination light may last only a few microseconds. The second light source may be provided with strobe type illumination.

도 1에 도시된 바와 같이, 광학계(110)는 기판평면상에서 이동가능한 가동광학계(118a)와 고정광학계(119)로 마련될 수 있다. 도 1의 실시예에서는 제1광원(123a)는 가동광학계(118a)에 결합되어 같이 이동가능하다. As shown in FIG. 1, the optical system 110 may be provided as a movable optical system 118a and a fixed optical system 119 that are movable on a substrate plane. In the embodiment of FIG. 1, the first light source 123a is coupled to the movable optical system 118a and is movable together.

도 2는 본 실시예에 따른 고속기판검사장치의 가동광학계의 동작을 나타낸 그림이다.2 is a diagram showing the operation of the movable optical system of the high speed board inspection apparatus according to the present embodiment.

가동광학계(118a)가 Y축선상으로 기판면 위를 왕복동작이 가능한 구성을 하고 있다. 광학계 전체가 이동하는 경우에는 이동하는 부재가 많으므로 이동속도, 동작의 정확성 또는 에너지효율 등의 다양한 측면에서 비효율적이므로 최소한의 구성요소만 이동하는 구성이다. 이에 따라, 보다 정확하고도 고속으로 기판검사가 가능한 효과가 있다.The movable optical system 118a has a configuration in which the movable optical system 118a can reciprocate on the substrate surface. When the whole optical system is moved, there are many moving members, so it is inefficient in various aspects such as moving speed, accuracy of operation, or energy efficiency, so that only the minimum components are moved. Accordingly, there is an effect that the substrate inspection can be more accurately and at high speed.

도 5는 다른 실시예로서, 제1광원(123d)과 제2광원(121d)이 제2광학부재(115) 후면에 위치하여 제1조명광 및 제2조명광을 조사하면 제1광학부재(113)에서 반사되어 대물렌즈(111)도달하는 구성이다. 이러한 구성의 경우에는 가동광학 계(118d)에 제1광원(123d)이 결합되어 같이 이동할 필요는 없다.5 is another embodiment, when the first light source 123d and the second light source 121d are located behind the second optical member 115 to irradiate the first illumination light and the second illumination light, the first optical member 113. Reflected from the objective lens 111 reaches the configuration. In this case, the first light source 123d is coupled to the movable optical system 118d and does not need to move together.

도 1에서 도시된 바와 같이, 대물렌즈(111) 및 제1광학부재(113)를 Y축방향으로 이동가능하도록 가동광학계가동수단(127)이 마련될 수 있다. 가동광학계가동수단(127)은 다음 기판검사영역의 위치로 대물렌즈 및 광학계의 일부를 이동시키는 역할을 수행할 수 있다. As shown in FIG. 1, the movable optical system moving means 127 may be provided to move the objective lens 111 and the first optical member 113 in the Y-axis direction. The movable optical system operating means 127 may serve to move a part of the objective lens and the optical system to the position of the next substrate inspection region.

경우에 따라 X방향이나 Z축방향으로도 이동가능하도록 마련될 수도 있다. 가동광학계가동수단(127)은 전자적으로 제어되는 엑츄에이터 등을 포함하도록 마련될 수 있다.In some cases, it may be provided to be movable in the X direction or the Z axis direction. The movable optical system actuating means 127 may be provided to include an electronically controlled actuator or the like.

한편, 상기 가동광학계가동수단(127)을 제어하는 가동광학계제어부(137)가 마련될 수 있다.On the other hand, the movable optical system control unit 137 for controlling the movable optical system operating means 127 may be provided.

도 1에 도시된 바와 같이, 대물렌즈(111), 제1광학부재(113) 및 제1광원(123a)만 Y축방향으로 이동하고 제2광원(121a)은 제2광학부재(115) 뒤쪽에 마련되어 제2광학부재(115) 뒤쪽에서 제2조명광을 조사할 수 있다.As shown in FIG. 1, only the objective lens 111, the first optical member 113, and the first light source 123a move in the Y-axis direction, and the second light source 121a is behind the second optical member 115. A second illumination light may be irradiated from the rear side of the second optical member 115.

도 3은 다른 실시예로서, 가동광학계(118b)는 대물렌즈와 제1광학부재로 구성되며, 제2광원(121b)은 가동광학계(118b)의 외측에 고정되어 있고 광섬유 등을 통하여 제2조명광이 전달되어 제1광학부재(113)을 향하여 제2조명광을 조사하는 구성이다.3 is another embodiment, the movable optical system 118b is composed of an objective lens and a first optical member, the second light source 121b is fixed to the outside of the movable optical system 118b and the second illumination light through an optical fiber or the like. Is transmitted to irradiate the second illumination light toward the first optical member 113.

초점정합을 위하여 대물렌즈(111)을 Z축방향으로 상하로 이동시키는 초점정합수단(126)이 마련될 수 있다. 초점정합수단(126)은 전자적으로 제어되는 엑츄에이터 등을 포함하도록 마련될 수 있으며, 초점정합수단(126)을 제어하는 초점정합 수단제어부(136)가 마련될 수 있다.Focus matching means 126 may be provided to move the objective lens 111 up and down in the Z-axis direction for focus matching. The focus matching means 126 may be provided to include an actuator that is electronically controlled, and the focus matching means controller 136 may be provided to control the focus matching means 126.

다른 실시예로서 가동광학계가동수단이 초점정합수단의 기능을 겸하도록 구성할 수도 있다.In another embodiment, the movable optical system actuating means may be configured to function as a focusing means.

한편, 광센서(125)는 CCD(Charged coupled device)로 마련될 수 있다. CCD는 빛을 전하로 변환시켜 화상을 얻어내는 센서로서, CCD칩은 많은 광다이오드들이 모여 이루어질 수 있으며, 각각의 다이오드에 조사되는 빛의 양에 따라 해당 다이오드의 전자량이 빛의 밝기를 뜻하게 된다.The optical sensor 125 may be provided as a charged coupled device (CCD). A CCD is a sensor that converts light into electric charges to obtain an image. A CCD chip can be made up of many photodiodes, and the amount of electrons of the corresponding diode means brightness of light depending on the amount of light irradiated to each diode.

이에 따라 본 실시예의 광센서(125)는 레이저을 수광하는 광센서로도 기능할 수 있고, 동시에 일반적인 스트로브 타입의 LED, 제논 램프 등을 수광하는 광센서로도 기능할 수 있다. 따라서, 종래의 레이저센서와 조명광센서를 각각 별개로 구비하여야 하는 구성보다 보다 간단하게 구현이 가능하며, 이에 따라 작업공수의 절감과 원가절감의 효과가 있다.Accordingly, the optical sensor 125 of the present embodiment may also function as an optical sensor for receiving a laser, and may also function as an optical sensor for receiving a general strobe type LED, xenon lamp, and the like. Therefore, the conventional laser sensor and the illumination light sensor can be more simply implemented than the configuration that must be provided separately, thereby reducing the labor and cost.

광센서제어부(135)에 의해서 광센서(125)의 동작이 제어되며, 초점정합이 이루어졌는지 확인하기 위하여 광센서(125)의 신호가 초점정합판단부(138)로 보낼 수 있다.The operation of the optical sensor 125 is controlled by the optical sensor control unit 135, and a signal of the optical sensor 125 may be sent to the focus matching determination unit 138 in order to check whether focus matching is performed.

초점정합판단부(138)에서 초점정합이 양호하다는 신호가 발생되면 광센서(125)에 도달된 조명광에 의한 전기적 신호를 기판화상획득부(134)로 전달하게 된다.  When a signal indicating that the focus match is good in the focus match determination unit 138 is generated, the electrical signal generated by the illumination light reaching the optical sensor 125 is transferred to the substrate image acquisition unit 134.

초점정합판단부(138)에서 초점정합이 불량이라는 신호가 발생되면 초점정합수단제어부(136)로 신호를 보내어 초점정합수단(126)을 다시 제어하도록 유도할 수 있다. When a signal indicating that the focus matching is bad is generated by the focus matching determination unit 138, a signal may be sent to the focus matching means controller 136 to induce the control of the focus matching means 126 again.

검사좌표저장부(132)는 사전에 조사대상이 되는 검사영역의 좌표를 저장할 수 있으며 가동광학계제어부(137)에 위치정보를 제공하여 제어량에 대한 신호를 전달하게 된다.The inspection coordinate storage unit 132 may store the coordinates of the inspection area to be irradiated in advance and provide position information to the movable optical system control unit 137 to transmit a signal for the control amount.

그리고, 검사영역에 대물렌즈가 도달했는지 여부의 판단 및 기타 종합적인 제어를 중앙처리부(139)가 수행하게 된다.In addition, the central processing unit 139 determines whether the objective lens has reached the inspection area and performs other comprehensive control.

도 6은 본 실시예에 따른 고속기판검사방법에 대한 순서도이다.6 is a flowchart illustrating a high speed board inspection method according to the present embodiment.

도 6에 도시된 바와 같이, 우선 기판검사영역에 대한 좌표를 검사좌표저장부(132)에 저장하는 단계(S10)가 수행될 수 있다. 다른 기판검사장치에서 개괄적인 기판결함을 검사하여 기판검사를 추가적으로 상세하게 할 필요가 있다고 판단한 영역에 대한 좌표를 전자적으로 전달받을 수도 있다.As shown in FIG. 6, first, the step S10 of storing the coordinates of the substrate inspection region in the inspection coordinate storage unit 132 may be performed. The other substrate inspection apparatus may also receive the general substrate defects and receive electronically coordinates for the area determined to be further detailed.

다음으로, 기판을 이동시키는 단계(S12)가 수행될 수 있다. 기판의 이동은 기판검사종료 이전까지 계속 유지될 수 있다. 기판의 이동속도는 일정 속도로 유지될 수도 있다. 이에 따라 기판검사시에 기판이동속도를 정지시켰다가 다시 이동시키는 동작에 따른 기판검사속도의 저하현상이 방지되므로 검사효율이 향상될 수 있다.Next, step S12 of moving the substrate may be performed. The movement of the substrate can be maintained until the end of the substrate inspection. The moving speed of the substrate may be maintained at a constant speed. As a result, the degradation of the substrate inspection speed due to the operation of stopping and moving the substrate movement speed again during the substrate inspection may be prevented, thereby improving inspection efficiency.

또한, 상기 저장된 기판검사영역으로 가동광학계가 이동되며, 동시에 제1광원이 ON 상태로 전환되면서 제1조명광으로서 레이저 펄스를 조사하는 단계(S14)가 수행될 수 있다. In addition, the movable optical system is moved to the stored substrate inspection area, and at the same time, a step (S14) of irradiating a laser pulse as the first illumination light may be performed while the first light source is turned on.

이를 위하여 가동광학계가동수단을 통하여 대물렌즈, 제1광학부재, 제2광원 및 제1광원을 Y축방향으로 이동가능하며, 기판검사영역이 위치하는 Y축좌표축선상에 위치하도록 가동광학계제어부가 가동광학계가동수단을 제어할 수 있다.For this purpose, the movable optical system control unit is movable so that the objective lens, the first optical member, the second light source, and the first light source can be moved in the Y axis direction through the movable optical system moving means, and are positioned on the Y axis coordinate axis where the substrate inspection area is located. The optical system operating means can be controlled.

제1광원에서는 조사된 레이저 펄스는 기판에서 반사되어 광센서에 도달하게 된다.In the first light source, the irradiated laser pulse is reflected from the substrate to reach the optical sensor.

다음으로, 초점정합여부를 판단하는 단계(S16)가 수행될 수 있다. S16단계에서 초점 정합불량으로 판단되면, 다시 초점조정을 수행하는 단계(S18)로 진행할 수 있다.Next, the step S16 of determining whether the focus is matched may be performed. If it is determined that the focus misalignment in step S16, it can proceed to step S18 to perform the focus adjustment again.

초점정합판단부에서는 일반적인 초점정합판단 알고리즘이 실행될 수 있으며, 하나의 예로서 레이저 화상을 일 방향으로 압축시켜 형성되는 라인 형상의 레이저 화상의 위치 및 변화정도 등을 분석하여 초점정합여부를 판단할 수도 있다.In the focus matching decision unit, a general focus matching determination algorithm may be executed. For example, the focus matching determination unit may determine whether the focus matching is performed by analyzing the position and the degree of change of the line-shaped laser image formed by compressing the laser image in one direction. have.

다음으로, S16단계에서 초점 정합으로 판단되면, 저장된 기판검사영역에 도달하였는지 판단하는 단계(S20)가 진행될 수 있다. Next, if it is determined in step S16 that the focus is matched, the step S20 of determining whether the stored substrate inspection area has been reached may proceed.

도달하지 않았다고 판단하면, 저장된 검사영역으로 이동을 계속하게 된다(S22).If it is determined that it has not reached, it continues to move to the stored inspection area (S22).

저장된 검사영역에 도달할 때까지 제1광원에서는 지속적으로 레이저 펄스를 조사하게 되며 계속 초점정합여부를 판단하는 단계가 실행될 수 있다.(S16)Until the stored inspection area is reached, the first light source continuously irradiates the laser pulses and determines whether the focus alignment is continued (S16).

이에 따라 정해진 검사영역에 도달하면 바로 기판화상을 획득하는 단계가 진행될 수 있어서 검사과정에 소요되는 시간이 감소하게 되는 효과가 있다.As a result, the step of acquiring the substrate image may be performed immediately upon reaching the predetermined inspection area, thereby reducing the time required for the inspection process.

다음으로, 검사영역에 도달했다고 판단되며 조명광원제어부에 의하여 제2광 원이 ON 상태로 전환되며, 제1광원은 OFF 상태로 전환되고, 기판에서 반사된 조명광이 광센서에 도달되며 기판화상을 획득하는 단계(S24)가 진행될 수 있다.Next, it is determined that the inspection area has been reached, the second light source is switched to the ON state by the illumination light source control unit, the first light source is turned to the OFF state, and the illumination light reflected from the substrate reaches the optical sensor to display the substrate image. Acquisition step S24 may proceed.

이 경우에는, 상기 제2광원은 제2조명광을 조사할 수 있으며, 제2조명광의 ON 상태의 지속시간 동안 상기 CCD에 의해 감지되는 기판 이미지가 상기 CCD의 1 픽셀 보다 작게 변화되도록 기판스테이지의 이동속도와 셔터노출속도를 조절할 수 있다. 이에 따라 이동중이더라도 기판화상이 선명하게 기록될 수 있다.In this case, the second light source can irradiate the second illumination light and move the substrate stage such that the substrate image detected by the CCD changes smaller than 1 pixel of the CCD during the duration of the ON state of the second illumination light. You can adjust the speed and shutter speed. As a result, the substrate image can be recorded clearly even while moving.

다음으로, 광센서에 도달하여 획득된 기판의 화상에 대한 전기적 신호를 디스플레이부(141)를 통하여 디스플레이되도록 하거나 저장장치(143)에 보내어 저장할 수 있다(S26).Next, an electrical signal for the image of the substrate obtained by reaching the optical sensor may be displayed through the display unit 141 or sent to the storage device 143 to store the electrical signal (S26).

다음으로, 추가로 검사할 기판검사영역이 있는지를 판단하는 단계(S28)가 실행될 수 있다. 검사좌표저장부(132)에 저장된 검사좌표중에서 미검사된 좌표가 있는지 판단하는 방식으로 수행될 수 있다.Next, step S28 may be performed to determine whether there is a substrate inspection region to be inspected further. The inspection coordinate storage unit 132 may be performed in a manner of determining whether there are unchecked coordinates among the inspection coordinates.

여기서, 추가로 검사할 기판검사영역이 있는 경우에는, 다음 기판검사영역으로 가동광학계를 이동시키는 단계(S30)가 수행될 수 있다. 그리고, S16단계로 다시 진행될 수 있다. 이에 따라 기판검사영역 마다 새로이 초점정합여부를 판단하는 단계가 진행할 수 있다. In this case, when there is a substrate inspection region to be additionally inspected, a step S30 of moving the movable optical system to the next substrate inspection region may be performed. Then, the process may proceed to step S16 again. Accordingly, the step of determining whether the focus registration is newly performed for each substrate inspection region may be performed.

추가로 검사할 기판검사영역이 없는 경우에는, 검사를 종료할 수 있다.If there is no substrate inspection region to be inspected further, the inspection can be terminated.

도 7는 본 실시예에 따른 고속기판검사방법에 의한 기판검사과정에 대한 그림이다.  7 is a diagram illustrating a board inspection process by the high speed board inspection method according to the present embodiment.

도 7에 도시된 바와 같이, (A)단계에서 첫 번째 검사영역에서 초점정합여부 를 판단하여, 초점정합불량이라고 판단되면 초점조정을 거친 후에 기판화상을 촬영하게 되고, 완료되면 Y축방향 기준으로 하방으로 d1만큼 이동하여 두 번째 검사영역으로 이동할 수 있다. As shown in FIG. 7, in step (A), it is determined whether the focus is matched in the first inspection area, and if it is determined that the focus is poor, the board image is photographed after the focus is adjusted. It can be moved downward by d1 to the second inspection area.

이 경우, 기판의 수평상태가 균일하다고 본다면 첫 번째 검사영역에서 한 번만 초점조정을 거치고 다음 검사영역에서는 기판화상촬영단계만을 실시할 수 있다.In this case, if the horizontal state of the substrate is uniform, only the focus adjustment may be performed once in the first inspection area, and only the substrate imaging step may be performed in the next inspection area.

기판스테이지는 일정한 속도로 X축방향의 반대방향으로 이동하게 되며, 그 동안 가동광학계는 가동광학계가동수단에 의하여 Y축의 반대방향으로 d1만큼 하방으로 이동하게 된다.The substrate stage is moved in the opposite direction of the X axis direction at a constant speed, during which the movable optical system is moved downward by d1 in the opposite direction of the Y axis by the movable optical system operating means.

두 번째 검사영역에서 기판화상의 촬영이 이루어지면 다음으로 d2만큼 상방으로 이동하여 세 번째 검사영역의 검사진행될 수 있다.When the substrate image is photographed in the second inspection area, the next inspection area may be moved upward by d2 to inspect the third inspection area.

앞에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 일 실시예는, 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다.An embodiment of the present invention described above and illustrated in the drawings should not be construed as limiting the technical idea of the present invention. The scope of protection of the present invention is limited only by the matters described in the claims, and those skilled in the art will be able to modify the technical idea of the present invention in various forms. Accordingly, such improvements and modifications will fall within the scope of the present invention as long as they are obvious to those skilled in the art.

도 1은 본 실시예에 따른 고속기판검사장치의 개략적인 구성도이다. 1 is a schematic configuration diagram of a high speed board inspection apparatus according to the present embodiment.

도 2는 본 실시예에 따른 고속기판검사장치의 가동광학계의 동작을 나타낸 그림이다.2 is a diagram showing the operation of the movable optical system of the high speed board inspection apparatus according to the present embodiment.

도 3 내지 도 5는 다른 실시예에 따른 고속기판검사장치의 개략적인 구성도이다. 3 to 5 are schematic diagrams of a high speed board inspection apparatus according to another embodiment.

도 6은 본 실시예에 따른 고속기판검사방법에 대한 순서도이다.6 is a flowchart illustrating a high speed board inspection method according to the present embodiment.

도 7는 본 실시예에 따른 고속기판검사방법에 의한 기판검사과정에 대한 그림이다. 7 is a diagram illustrating a board inspection process by the high speed board inspection method according to the present embodiment.

Claims (22)

기판을 적재하여 이송 가능한 기판스테이지;A substrate stage capable of loading and transferring a substrate; 상기 기판스테이지에 초점조정용 제1조명광을 조사하는 제1광원;A first light source for irradiating a focusing first illumination light to the substrate stage; 상기 기판스테이지에 기판화상획득용 제2조명광을 조사하는 제2광원;A second light source for irradiating a second illumination light for acquiring a substrate image on the substrate stage; 상기 제1조명광을 감지하는 센서와 제2조명광을 감지하는 센서를 포함하는 광센서;An optical sensor including a sensor detecting the first illumination light and a sensor detecting the second illumination light; 상기 제1조명광과 상기 제2조명광의 광경로상에 마련되어 상기 제1조명광과 상기 제2조명광이 기판에서 반사되어 상기 광센서에 도달하도록 유도하는 광학계;An optical system provided on an optical path between the first illumination light and the second illumination light to guide the first illumination light and the second illumination light to be reflected from a substrate to reach the optical sensor; 상기 광센서에 도입된 상기 제1조명광을 통하여 초점정합여부를 판단하는 초점정합판단부;및A focus matching determination unit determining whether or not focus matching is performed through the first illumination light introduced into the optical sensor; and 상기 초점정합판단부의 초점부정합신호를 받으면 상기 광학계와 기판간의 초점맞춤을 수행하는 초점정합수단;을 포함하며,And focus matching means for performing focusing between the optical system and the substrate when receiving the focus misalignment signal of the focus matching determination unit. 상기 광학계는 상기 기판 평면상에서 검사가 필요한 검사영역으로 이동할 수 있는 가동광학계를 포함하는 고속기판검사장치.The optical system is a high speed substrate inspection apparatus including a movable optical system that can move to the inspection area that requires inspection on the substrate plane. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가동광학계에는 상기 제1광원이 결합되어 동시에 상기 기판 평면상에서 이동가능한 고속기판검사장치.And a first light source coupled to the movable optical system to simultaneously move on the substrate plane. 제2항에 있어서,3. The method of claim 2, 상기 제1광원은 직접 기판에 도달하여 반사된 상기 제1조명광이 상기 가동광학계에 유입되도록 상기 가동광학계에 마련된 고속기판검사장치.And the first light source is provided in the movable optical system such that the first illumination light reflected by reaching the substrate is introduced into the movable optical system. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가동광학계는 대물렌즈와, 상기 제1조명광과 제2조명광의 광경로상에 위치하여 빛을 반사시키는 광학부재를 포함하는 고속기판검사장치.The movable optical system includes an objective lens and an optical member positioned on an optical path of the first illumination light and the second illumination light to reflect light. 제4항에 있어서,5. The method of claim 4, 하나의 검사영역의 검사가 완료되면 상기 기판의 이동방향을 기준선으로 하여 다음 검사할 검사영역과 동일선상으로 상기 대물렌즈를 이동하도록 상기 가동광학계를 제어하는 가동광학계제어부를 포함하는 고속기판검사장치.And a movable optical system controller configured to control the movable optical system to move the objective lens on the same line as the next inspection region to be inspected, when the inspection of one inspection region is completed. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1광원은 레이저를 조사하는 레이저광원인 것을 특징으로 하는 고속기판검사장치.And said first light source is a laser light source for irradiating a laser. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1광원은 라인 형태의 광을 조사하는 슬릿조명광원인 것을 특징으로 하는 고속기판검사장치.The first light source is a high speed substrate inspection apparatus, characterized in that the slit illumination light source for irradiating light in the form of a line. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 광센서는 CCD(Charged coupled device)를 포함하는 고속기판검사장치.The optical sensor is a high speed substrate inspection device comprising a CCD (Charged coupled device). 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 제1조명광의 ON 상태의 지속시간 동안 상기 CCD에 의해 감지되는 기판 이미지가 상기 CCD의 1 픽셀 보다 작게 변화되도록 상기 기판스테이지를 제어하는 기판스테이지제어부를 포함하는 고속기판검사장치.And a substrate stage controller configured to control the substrate stage such that the substrate image sensed by the CCD changes smaller than one pixel of the CCD during the duration of the ON state of the first illumination light. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판에서 검사가 필요한 검사좌표를 저장하는 검사좌표저장부를 더 포함하는 고속기판검사장치.High speed substrate inspection apparatus further comprises an inspection coordinate storage unit for storing the inspection coordinates that need to be inspected on the substrate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 초점정합판단부의 초점정합신호를 받으면 상기 광센서에 도달한 제2조명광을 전기적 신호로 전환하여 기판화상을 획득하는 기판화상획득부와, 상기 기판화상획득부에서 획득된 기판화상을 확대 디스플레이하는 디스플레이부를 더 포함하는 고속기판검사장치.When receiving the focus matching signal of the focus matching determination unit, the substrate image acquisition unit for converting the second illumination light reaching the optical sensor into an electrical signal to obtain a substrate image and to enlarge and display the substrate image obtained by the substrate image acquisition unit High speed substrate inspection device further comprising a display unit. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 초점정합판단부가 초점정합여부를 판단하는 경우에는 상기 제2광원을 OFF시키는 제2광원제어부를 더 포함하는 고속기판검사장치.And a second light source controller to turn off the second light source when the focus matching decision unit determines whether to focus. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2광원이 상기 광센서에 의하여 감지되는 동안 상기 제1광원을 OFF시키는 제1광원제어부를 더 포함하는 고속기판검사장치.And a first light source controller to turn off the first light source while the second light source is detected by the optical sensor. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 광센서는 상기 제1조명광과 제2조명광 모두를 감지하는 공용의 광센서인 것을 특징으로 하는 고속기판검사장치.The optical sensor is a high speed substrate inspection apparatus, characterized in that the common optical sensor for detecting both the first illumination light and the second illumination light. 기판을 적재하여 이송 가능한 기판스테이지와, 상기 기판스테이지에 초점조정용 제1조명광을 조사하는 제1광원과, 상기 기판스테이지에 기판화상획득용 제2조명광을 조사하는 제2광원과, 상기 제1조명광과 제2조명광을 감지하는 광센서와, 상기 제1조명광과 제2조명광의 광경로상에 마련되어 상기 제1조명광과 제2조명광이 기판에서 반사되어 상기 광센서에 도달하도록 유도하는 광학계를 포함하는 기판검사장치를 이용한 기판검사방법에 있어서,A substrate stage capable of loading and transferring a substrate, a first light source for irradiating a first illumination light for focusing to the substrate stage, a second light source for irradiating a second illumination light for acquiring a substrate image onto the substrate stage, and the first illumination light And an optical sensor for sensing a second illumination light, and an optical system provided on an optical path of the first illumination light and the second illumination light to guide the first illumination light and the second illumination light to be reflected from a substrate to reach the optical sensor. In the substrate inspection method using a substrate inspection apparatus, (a) 상기 기판에서 반사되어 상기 광센서에 도달한 제1조명광을 분석하여 초점 정합을 판단하는 단계;(a) determining a focus match by analyzing first illumination light reflected from the substrate and reaching the optical sensor; (b) 초점부정합이라고 판단된 경우, 상기 광학계를 제어하여 초점조정을 행하는 단계; 및(b) if it is determined that focus misalignment is performed, adjusting focus by controlling the optical system; And (c) 초점조정이 완료되거나 초점정합으로 판단되면, 상기 제2조명광이 상기 기판에서 반사되어 상기 광센서에 도달하도록 하는 단계; 및 (c) if focus adjustment is completed or determined to be in focus alignment, causing the second illumination light to be reflected from the substrate to reach the optical sensor; And (d) 상기 광학계는 상기 기판 평면상에서 이동가능한 가동광학계와 고정광학계를 포함하며, 상기 (c)단계 이후에는 다음 검사할 검사영역으로 상기 가동광학계만을 이동시키는 단계;를 포함하고,(d) the optical system includes a movable optical system and a fixed optical system that are movable on the substrate plane, and after step (c), move only the movable optical system to the inspection region to be inspected next. 상기 (a)단계 내지 (d)단계에서 상기 기판은 이동중인 것을 특징으로 하는 고속기판검사방법.The high speed board inspection method, characterized in that the substrate in the (a) to (d) step is moving. 제15항에 있어서,The method of claim 15, 상기 (b)단계 이전 또는 동시에 상기 가동광학계를 기판의 검사영역으로 접근시켜서, 상기 검사영역으로의 접근과 동시에 초점정합여부를 판단하고 상기 (c)단계 이전에 초점 정합 판단을 완료할 수 있는 단계(e단계)를 포함하는 고속기판검사방법.Approaching the inspection optical field of the substrate before or at the same time as the step (b), determining whether the focus is coincident with the access to the inspection area and completing the focus matching determination before the step (c). A high speed board inspection method comprising the step (e). 제16항에 있어서,The method of claim 16, 상기 (e)단계의 경우, 상기 검사영역으로의 접근과 동시에 상기 제1조명광을 반복 조사하고, 반복하여 초점 정합 여부를 판단하는 단계인 것을 특징으로 하는 고속기판검사방법.In the case of step (e), the first substrate is irradiated with the first illumination light at the same time as the approach to the inspection area, and the step of determining whether the focus match repeatedly. 제15항에 있어서,The method of claim 15, 상기 (d)단계의 경우, 상기 기판의 이동방향을 기준선으로 하여 직교방향으로 상기 가동광학계를 이동시켜서 다음 검사할 검사영역과 동일선상에 상기 가동광학계를 위치시키는 단계인 것을 특징으로 하는 고속기판검사방법.In the step (d), the high speed substrate inspection comprises moving the movable optical system in the orthogonal direction using the moving direction of the substrate as a reference line to position the movable optical system on the same line as the next inspection region to be inspected. Way. 제15항에 있어서,The method of claim 15, 상기 광센서는 CCD(Charged coupled device)를 포함하며, 상기 제1광원의 제1조명광의 ON 상태의 지속시간 동안 상기 CCD에 의해 감지되는 기판 이미지가 상기 CCD의 1 픽셀 보다 작게 변화되도록 상기 기판스테이지가 상기 기판을 이동시키는 것을 특징으로 하는 고속기판검사방법.The optical sensor includes a Charged Coupled Device (CCD), the substrate stage such that the substrate image sensed by the CCD changes smaller than 1 pixel of the CCD during the duration of the ON state of the first illumination light of the first light source. High speed substrate inspection method, characterized in that for moving the substrate. 제15항에 있어서,The method of claim 15, 상기 (a)단계는 초점정합여부를 판단하는 동안 상기 제1광원을 OFF시키는 것을 특징으로 하는 고속기판검사방법.In the step (a), the first light source is turned off while determining whether the focus is matched. 제15항에 있어서,The method of claim 15, 상기 (c)단계는 상기 제2광원이 상기 광센서에 의하여 감지되는 동안 상기 제1광원을 OFF시키는 것을 특징으로 하는 고속기판검사방법.In the step (c), the first light source is turned off while the second light source is detected by the optical sensor. 제15항에 있어서,The method of claim 15, 상기 (a) 단계의 이전에 상기 기판에 있어서 검사가 필요한 검사좌표를 저장 하는 단계를 포함하고, 상기 (a) 내지 (d) 단계는 상기 검사좌표에 대하여 수행되는 고속기판검사방법.And storing the inspection coordinates to be inspected in the substrate prior to the step (a), wherein the steps (a) to (d) are performed on the inspection coordinates.
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