KR20150069524A - Switching valve and liquid processing apparatus - Google Patents

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KR20150069524A
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Abstract

The purpose of the present invention is to provide a switching valve capable of supplying processing liquid with an adjusted temperature of a plurality kinds of processing liquid at a stable temperature. The switching valve (8) comprises: a main body (81) including a discharging port (802) from which the plurality of kinds of processing liquid is changed and discharged; first and second accommodating ports (801, 803) receiving first processing liquid and second processing liquid; first passages (83a-83d) connecting the first accommodating port (801) and the discharging port (802); second passages (84a-84c) having an upper end connected with the second accommodating port (803) and connected with the first passage (83c); a first valve unit (821) opening a first valve sheet installed on an upper side than a joining unit in which the first passage (83c) and the second passage (84c) meet; a second valve unit (822) opening and closing a second valve sheet installed on the second passage (84b); and a recycling passage (85a) branched from the upper side than the first valve sheet and connected with an outlet (804) discharging the first processing liquid.

Description

전환 밸브, 액 처리 장치{SWITCHING VALVE AND LIQUID PROCESSING APPARATUS}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a switching valve,

본 발명은 기판에 공급되는 복수 종류의 처리액이 흐르는 유로를 전환하는 기술에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a technique for switching a flow path through which a plurality of types of process liquids supplied to a substrate flow.

기판인 반도체 웨이퍼(이하, 웨이퍼라고 함)에 대하여 각종의 처리액을 공급하여 액 처리를 행하는 처리 유닛(액 처리 장치)에서는, 회전하는 웨이퍼의 표면에 알칼리성이나 산성의 약액을 공급하여, 웨이퍼 표면의 먼지나 자연 산화물 등을 제거하고 있다. 그 후, 웨이퍼의 표면에 린스액을 공급하여, 웨이퍼 표면에 잔존하는 약액을 씻어 버린다. 그리고, 웨이퍼 표면에 잔존하는 약액은 린스액에 의해 제거되고, 웨이퍼를 회전시킨 채 린스액의 공급을 중지하면, 남은 린스액이 뿌리쳐져 건조한 웨이퍼가 얻어진다. In a processing unit (liquid processing apparatus) for supplying various kinds of processing liquid to a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer) serving as a substrate to perform liquid processing, an alkaline or acidic chemical liquid is supplied to the surface of the rotating wafer, Dust and natural oxides are removed. Thereafter, the rinsing liquid is supplied to the surface of the wafer, and the chemical solution remaining on the wafer surface is washed away. Then, the chemical liquid remaining on the wafer surface is removed by the rinsing liquid, and when the supply of the rinsing liquid is stopped while rotating the wafer, the remaining rinsing liquid is roughened to obtain a dried wafer.

이와 같이, 복수 종류의 처리액을 이용하여 액 처리를 실행하는 액 처리 장치는, 처리액을 토출하는 노즐(토출부)로의 공급 경로 상에, 처리액의 종류를 전환하면서 웨이퍼에 대한 처리액의 토출, 정지를 실행하는 전환 밸브가 설치된다.As described above, the liquid processing apparatus that performs the liquid processing using a plurality of kinds of processing liquids is capable of changing the type of the processing liquid on the supply path to the nozzles (discharge units) And a switching valve for performing discharge and stop is provided.

그러나 전술한 전환 밸브는 비교적 열용량이 크고, 장기간의 대기 기간 중 등에 그 온도가 저하(또는 상승)하면, 그 후의 재가동시에 전환 밸브를 통과한 처리액의 온도를 저하(또는 상승)시키는 요인이 된다.However, the above-described switching valve has a relatively large heat capacity, and when the temperature is lowered (or raised) during a long period of the waiting period, the ash is lowered (or raised) the temperature of the processing liquid that has passed through the switching valve .

이 때문에, 대기 상태에 있던 처리액을 재가동시킬 때에는, 웨이퍼의 처리를 행하지 않고 노즐로부터 처리액을 토출하는 더미 디스펜스를 행하여 전환 밸브의 온도를 처리액의 온도에 가깝게 하는 조작을 행하는 경우가 있다. 그러나 이 조작의 완료까지는 웨이퍼의 처리를 개시할 수 없기 때문에 생산성이 저하되는 것 외에, 더미 디스펜스로 소비되는 약액이 증가한다.Therefore, when restarting the processing liquid in the standby state, dummy dispensing for discharging the processing liquid from the nozzles is performed without performing the processing of the wafer, so that the temperature of the switching valve is made close to the temperature of the processing liquid. However, since the processing of the wafer can not be started until the completion of this operation, the productivity is lowered, and the amount of the chemical solution consumed by the dummy dispensation is increased.

여기서 인용문헌 1에는, 웨이퍼의 처리에 이용되는 혼합액의 공급을 행하는 분기관, 린스액의 공급을 행하는 린스액 공급관, 및 배관 내의 액체의 폐기용의 폐액관 사이에서, 처리 유닛에 접속되는 배관을 전환하는 다연(多連; multiple) 개폐 밸브(다연 밸브)를 구비한 액 처리 장치가 기재되어 있다.Here, in Reference 1, a pipe connected to the processing unit is connected between a branch pipe for supplying mixed liquid used for processing wafers, a rinse liquid supply pipe for supplying the rinse liquid, and a waste liquid pipe for discharging the liquid in the pipe (Multi-stage valve) for switching the multi-stage valve (multi-stage valve).

또한, 인용문헌 2에는, 온도 조절된 액을 공급하는 액 공급 기구와, 웨이퍼에의 액의 토출을 행하는 토출 개구 사이에 접속된 공급 라인의 도중으로부터, 액 공급 기구를 향해 액을 복귀시키는 복귀 라인을 분기시키고, 이 분기부에 삼방 밸브를 설치한 액 처리 장치가 기재되어 있다. 이 액 처리 장치에 있어서는, 웨이퍼에의 액의 토출을 하고 있지 않을 때에는, 상기 삼방 밸브를 통해, 공급 라인으로부터 복귀 라인으로 온도 조절된 액을 계속 흘려, 열용량이 큰 삼방 밸브를 액으로 예열해 둠으로써, 웨이퍼 처리시의 액의 온도 변동을 방지하고 있다.Reference 2 also discloses a liquid supply mechanism for supplying a liquid with a controlled temperature and a return line for returning the liquid from the middle of the supply line connected between the discharge opening for discharging the liquid to the wafer, And a three-way valve is provided in the branching portion. In this liquid processing apparatus, when the liquid is not discharged to the wafer, the temperature-controlled liquid is continuously flowed from the supply line to the return line through the three-way valve, and the three-way valve having a large heat capacity is preheated Thereby preventing temperature fluctuation of the liquid at the time of wafer processing.

[특허문헌 1] 일본 특허 공개 제2011-049526호 공보: 단락 0015, 0022, 0027∼0028, 도 1[Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2011-049526: paragraphs 0015, 0022, 0027 to 0028, Fig. 1 [특허문헌 2] 일본 특허 공개 제2011-035128호 공보: 단락 0063∼0065, 0074, 도 2[Patent Document 2] Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2011-035128: paragraphs 0063 to 0065, 0074, Fig. 2

그러나 인용문헌 1에 기재된 다연 개폐 밸브에는, 이미 서술한 온도 변화의 문제에 대한 대책은 나타나 있지 않다. 한편, 인용문헌 2에는, 다연 개폐 밸브의 온도 조정을 행하는 수법에 관한 언급은 없다. However, the multi-layer on / off valve disclosed in the cited document 1 does not show a measure against the problem of the temperature change already described. On the other hand, cited document 2 does not mention a method of performing temperature adjustment of the multiple-opening opening / closing valve.

본 발명은 이러한 사정하에 이루어진 것으로, 그 목적은, 복수 종류의 처리액 중, 적어도 온도 조정된 처리액을 안정된 온도 상태로 공급하는 것이 가능한 전환 밸브, 액 처리 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a switching valve and a liquid processing apparatus capable of supplying at least a temperature-regulated processing liquid among a plurality of processing liquids in a stable temperature state.

본 발명의 전환 밸브는, 복수의 처리액을 전환하여 불출구(拂出口)로부터 불출하는 전환 밸브에 있어서, The switching valve of the present invention is a switching valve for switching a plurality of treatment liquids and dispensing from a discharge outlet,

상기 전환 밸브의 본체부와,A main body portion of the switching valve,

상기 본체부에 형성되고, 제1 처리액을 받아들이는 제1 수용구와, 제2 처리액을 받아들이는 제2 수용구와, A first receptacle formed in the main body portion for receiving the first processing liquid, a second receptacle for receiving the second processing liquid,

상기 본체부에 형성되고, 상기 제1 수용구와 상기 불출구를 접속하는 제1 유로와, A first flow path formed in the main body and connecting the first receptacle and the discharge port,

상기 본체부에 형성되고, 상기 제1 유로에 합류하며, 상류단이 상기 제2 수용구에 접속된 제2 유로와, A second flow path formed in the main body and joined to the first flow path and having an upstream end connected to the second receiving port,

상기 본체부에 형성되고, 상기 제1 유로에 있어서, 상기 제1 유로와 제2 유로가 합류하는 합류부보다 상류측에 설치된 제1 밸브 시트, 및 이 제1 밸브 시트를 개폐하는 상기 본체부와는 별체(別體)의 제1 밸브체부와, A first valve seat formed in the main body portion and provided on an upstream side of a merging portion where the first flow path and the second flow path join together in the first flow path and the main valve portion opening and closing the first valve seat A first valve body of a separate body,

상기 본체부에 형성되고, 상기 제2 유로에 설치된 제2 밸브 시트, 및 이 제2 밸브 시트를 개폐하는 상기 본체부와는 별체의 제2 밸브체부와, A second valve seat formed in the main body and provided in the second flow passage, and a second valve body separate from the main body for opening and closing the second valve seat,

상기 본체부에 형성되고, 상기 제1 유로에 있어서, 상기 제1 밸브 시트보다 상류측, 또는 상기 제1 밸브체부를 수용하는 상기 제1 유로에 형성된 제1 밸브실로부터 분기되는 분기 유로와,A branch flow path formed in the main body portion and branched from a first valve chamber formed on the upstream side of the first valve seat or in the first flow path accommodating the first valve body portion in the first flow path,

상기 본체부에 형성되고, 분기 유로의 하류단에 형성되며, 제1 처리액을 배출하는 배출구를 구비한 것을 특징으로 한다.And a discharge port formed in the main body and formed at a downstream end of the branch flow passage for discharging the first process liquid.

상기 전환 밸브는, 하기의 구성을 구비하고 있어도 좋다. The switching valve may have the following configuration.

상기 분기 유로는, 상기 분기 유로가 분기되는 위치보다 하류측의 제1 유로를 따라 연장되어 있고, 상기 제1 밸브 시트 및 상기 제2 밸브 시트는, 상기 제1 유로를 따라 배치되어 있는 것. 또한, 상기 본체부는 직육면체 형상으로 형성되고, 상기 제1 수용구는, 상기 본체부의 일측면에 형성되며, 상기 불출구는, 상기 일측면에 대향하는 본체부의 측면에 형성되고, 상기 제2 수용구는, 상기 제1 수용구 및 불출구가 형성되어 있는 측면과는 다른 본체부의 측면에 형성되며, 상기 배출구는, 본체부의 바닥면에 형성되어 있는 것. Wherein the branch passage extends along a first passage on a downstream side of a branching position of the branch passage and the first valve seat and the second valve seat are disposed along the first passage. The first receptacle is formed on one side surface of the main body, the non-discharge port is formed on a side surface of the main body facing the one side surface, and the second receptacle is formed in a substantially rectangular shape, And the discharge port is formed on the bottom surface of the main body part. The discharge port is formed on the side surface of the main body part different from the side surface on which the first receiving port and the discharge port are formed.

또한, 본 발명의 액 처리 장치는, 전술한 것 중 어느 하나의 전환 밸브와, Further, the liquid processing apparatus of the present invention is characterized in that any one of the above-

상기 전환 밸브의 제1 수용구에 접속되는 제1 처리액 공급로와, A first processing liquid supply path connected to the first receiving port of the switching valve,

상기 전환 밸브의 제2 수용구에 접속되는 제2 처리액 공급로와, A second processing liquid supply path connected to a second receiving port of the switching valve,

상기 전환 밸브의 불출구로부터 불출된 처리액을 기판에 토출하여 처리를 행하는 토출부와, A discharge portion for discharging the processing liquid dispensed from the discharge port of the switching valve to the substrate to perform processing,

상기 제1 처리액 공급로에 흐르는 제1 처리액을 온도 조정하는 온도 조정부와, A temperature adjusting section for adjusting a temperature of the first processing liquid flowing in the first processing liquid supply path,

상기 분기 유로로부터 상기 배출구에 제1 처리액을 흘린 상태에서, 상기 전환 밸브의 제1 밸브 시트 및 제2 밸브 시트 중 한쪽을 개방하고, 다른쪽을 폐쇄하기 위한 제어 신호를 출력하는 제어부를 구비한 것을 특징으로 한다. And a control unit for opening one of the first valve seat and the second valve seat of the switching valve and outputting a control signal for closing the other valve seat in a state in which the first processing liquid is flowed from the branching flow path to the discharge port .

또한, 상기 제1 처리액 공급로에 제1 처리액을 공급하는 제1 처리액 공급부와, 상기 배출구에 접속되고, 상기 배출구로부터 배출된 제1 처리액을 상기 제1 처리액 공급부로 복귀시키는 리사이클로를 구비해도 좋다.A first processing liquid supply section that supplies the first processing liquid to the first processing liquid supply path and a second processing liquid supply section that is connected to the discharge port and that recovers the first processing liquid discharged from the discharge port to the first processing liquid supply section, As shown in FIG.

이 외에, 상기 전환 밸브는 이하의 특징을 구비하고 있어도 좋다.In addition, the switching valve may have the following features.

상기 본체부에 형성되고, 상기 제1 유로에 있어서, 상기 합류부와 불출구 사이로부터 분기된 폐액 유로와, 상기 본체부에 형성되고, 상기 폐액 유로에 있어서의 제1 유로측과 반대측의 단부에 형성된 폐액구와, 상기 본체부에 형성되고, 상기 폐액 유로에 설치된 제3 밸브 시트, 및 상기 제3 밸브 시트를 개폐하는 상기 본체부와는 별체의 제3 밸브체부를 구비한 것. 이때, 상기 폐액 유로는, 상기 제1 유로로부터 하방측을 향해 처리액을 배출하도록 분기되어 있는 것.A waste liquid flow path formed in the main body portion and branched from the merging portion and the non-discharge port in the first flow path; and a waste liquid flow path formed in the main body portion and having an end opposite to the first flow path side in the waste liquid flow path A third valve seat formed in the main body and provided in the waste fluid channel, and a third valve body separate from the main body for opening and closing the third valve seat. At this time, the waste liquid flow path is branched so as to discharge the processing liquid downward from the first flow path.

여기서, 상기 액 처리 장치에 설치되어 있는 상기 전환 밸브는, 상기 폐액 유로, 폐액구 및 제3 밸브체부를 구비하고, 상기 제어부는, 상기 제1 밸브 시트 및 제2 밸브 시트 중 어느 한쪽을 개방할 때에는, 제3 밸브 시트를 폐쇄하고, 제3 밸브 시트를 개방할 때에는, 상기 제1 밸브 시트 및 제2 밸브 시트를 폐쇄하도록 제어 신호를 출력하는 것이어도 좋다. Here, the switching valve provided in the liquid processing apparatus may include the waste liquid flow path, the waste liquid port, and the third valve body portion, and the control section may open any one of the first valve seat and the second valve seat The third valve seat is closed, and when the third valve seat is opened, a control signal may be outputted so as to close the first valve seat and the second valve seat.

또한, 상기 액 처리 장치는, 기판을 수평으로 유지하는 기판 유지부와, 상기 기판 유지부를 연직축 주위로 회전시키는 회전 기구를 구비하고, 상기 토출부는, 회전하는 기판에 처리액을 토출하는 것. The liquid processing apparatus may further include a substrate holding section for holding the substrate horizontally and a rotating mechanism for rotating the substrate holding section about the vertical axis, and the discharging section discharging the processing liquid onto the rotating substrate.

본 발명은 복수 종류의 처리액 중, 적어도 온도 조정된 처리액을 안정된 상태로 공급할 수 있다. The present invention is capable of supplying, in a stable state, at least a temperature-adjusted treatment liquid among a plurality of kinds of treatment liquids.

도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 처리 유닛을 구비한 기판 처리 시스템의 개요를 도시한 평면도이다.
도 2는 상기 처리 유닛의 개요를 도시한 종단 측면도이다.
도 3은 상기 처리 유닛에 처리액을 공급하기 위한 처리액 공급 계통의 설명도이다.
도 4는 상기 처리액 공급 계통에 설치되어 있는 제1 실시형태에 따른 다연(多連; multiple) 밸브의 외관 사시도이다.
도 5는 상기 제1 실시형태에 따른 다연 밸브의 종단 측면도이다.
도 6은 상기 제1 실시형태에 따른 다연 밸브의 제1 작용도이다.
도 7은 상기 제1 실시형태에 따른 다연 밸브의 제2 작용도이다.
도 8은 상기 제1 실시형태에 따른 다연 밸브의 제3 작용도이다.
도 9는 상기 제1 실시형태의 변형예에 따른 다연 밸브의 외관 사시도이다.
도 10은 상기 변형예에 따른 다연 밸브의 종단 측면도이다.
도 11은 제2 실시형태에 따른 다연 밸브의 외관 사시도이다.
도 12는 상기 제2 실시형태에 따른 다연 밸브의 종단 측면도이다.
도 13은 상기 제2 실시형태에 따른 다연 밸브의 제1 작용도이다.
도 14는 상기 제2 실시형태에 따른 다연 밸브의 제2 작용도이다.
도 15는 상기 제2 실시형태에 따른 다연 밸브의 제3 작용도이다.
도 16은 제3 실시형태에 따른 다연 밸브의 외관 사시도이다.
도 17은 상기 제3 실시형태에 따른 다연 밸브를 다른 방향에서 본 외관 사시도이다.
도 18은 상기 제3 실시형태에 따른 다연 밸브의 본체부의 내부를 도시한 투시도이다.
도 19는 상기 제3 실시형태에 따른 다연 밸브의 제1 작용도이다.
도 20은 상기 제3 실시형태에 따른 다연 밸브의 제2 작용도이다.
도 21은 상기 제3 실시형태에 따른 다연 밸브의 제3 작용도이다.
도 22는 제4 실시형태에 따른 다연 밸브의 외관 사시도이다.
도 23은 상기 제4 실시형태에 따른 다연 밸브의 종단 측면도이다.
도 24는 상기 제4 실시형태에 따른 다연 밸브의 제1 작용도이다.
도 25는 상기 제4 실시형태에 따른 다연 밸브의 제2 작용도이다.
도 26은 상기 제4 실시형태에 따른 다연 밸브의 제3 작용도이다.
도 27은 본 예의 다연 밸브의 기본 구성을 도시한 모식도이다. 1 is a plan view showing an outline of a substrate processing system provided with a processing unit according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a longitudinal side view showing the outline of the processing unit. Fig.
3 is an explanatory diagram of a treatment liquid supply system for supplying a treatment liquid to the treatment unit.
4 is an external perspective view of a multiple valve according to the first embodiment installed in the processing liquid supply system.
Fig. 5 is a longitudinal side view of the four-way valve according to the first embodiment. Fig.
6 is a first action diagram of the multi-burner valve according to the first embodiment.
7 is a second action diagram of the multi-burner valve according to the first embodiment.
8 is a third function diagram of the multi-burner valve according to the first embodiment.
9 is an external perspective view of a four-way valve according to a modification of the first embodiment.
10 is a longitudinal side view of the multi-valve according to the modification.
11 is an external perspective view of a four-way valve according to the second embodiment.
12 is a longitudinal side view of the multi-valve according to the second embodiment.
13 is a first function diagram of the multi-burner valve according to the second embodiment.
Fig. 14 is a second action diagram of the multi-burner valve according to the second embodiment. Fig.
15 is a third operational view of the multi-burner valve according to the second embodiment.
16 is an external perspective view of a four-way valve according to the third embodiment.
17 is an external perspective view of the multi-burner valve according to the third embodiment viewed from the other direction.
18 is a perspective view showing the inside of the main body of the multi-valve according to the third embodiment.
19 is a first function diagram of the multi-burner valve according to the third embodiment.
20 is a second function diagram of the multi-burner valve according to the third embodiment.
21 is a third operational diagram of the multi-burner valve according to the third embodiment.
22 is an external perspective view of a four-way valve according to the fourth embodiment.
23 is a longitudinal side view of the four-way valve according to the fourth embodiment.
24 is a first function diagram of the four-way valve according to the fourth embodiment.
25 is a second action diagram of the four-way valve according to the fourth embodiment.
26 is a third function diagram of the four-way valve according to the fourth embodiment.
Fig. 27 is a schematic diagram showing the basic configuration of the multi-valve system of this embodiment.

도 1은 본 실시형태에 따른 기판 처리 시스템의 개략 구성을 도시한 도면이다. 이하에서는, 위치 관계를 명확하게 하기 위해, 서로 직교하는 X축, Y축 및 Z축을 규정하고, Z축 정방향을 연직 상향 방향으로 한다.Fig. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a substrate processing system according to the present embodiment. Hereinafter, X-axis, Y-axis and Z-axis orthogonal to each other are defined and the Z-axis normal direction is set as a vertical upward direction for clarifying the positional relationship.

도 1에 도시한 바와 같이, 기판 처리 시스템(1)은, 반입 반출 스테이션(2)과, 처리 스테이션(3)을 구비한다. 반입 반출 스테이션(2)과 처리 스테이션(3)은 인접하여 설치된다. As shown in Fig. 1, the substrate processing system 1 includes a loading / unloading station 2 and a processing station 3. The loading and unloading station 2 and the processing station 3 are installed adjacent to each other.

반입 반출 스테이션(2)은, 캐리어 배치부(11)와, 반송부(12)를 구비한다. 캐리어 배치부(11)에는, 복수 매의 기판, 본 실시형태에서는 반도체 웨이퍼[이하 웨이퍼(W)]를 수평 상태로 수용하는 복수의 캐리어(C)가 배치된다. The loading and unloading station 2 includes a carrier arrangement section 11 and a carrying section 12. [ The carrier arrangement section 11 is provided with a plurality of substrates, in this embodiment, a plurality of carriers C that horizontally accommodate a semiconductor wafer (hereinafter, the wafer W).

반송부(12)는, 캐리어 배치부(11)에 인접하여 설치되고, 내부에 기판 반송 장치(13)와, 전달부(14)를 구비한다. 기판 반송 장치(13)는, 웨이퍼(W)를 유지하는 웨이퍼 유지 기구를 구비한다. 또한, 기판 반송 장치(13)는, 수평 방향 및 연직 방향으로의 이동 및 연직축을 중심으로 하는 선회가 가능하고, 웨이퍼 유지 기구를 이용하여 캐리어(C)와 전달부(14) 사이에서 웨이퍼(W)의 반송을 행한다. The carry section 12 is provided adjacent to the carrier arrangement section 11 and includes a substrate transfer apparatus 13 and a transfer section 14 therein. The substrate transfer device 13 is provided with a wafer holding mechanism for holding the wafer W. The substrate transfer device 13 is capable of moving in the horizontal and vertical directions and turning around the vertical axis and is capable of transferring the wafer W between the carrier C and the transfer part 14 by using the wafer holding mechanism. .

처리 스테이션(3)은, 반송부(12)에 인접하여 설치된다. 처리 스테이션(3)은, 반송부(15)와, 복수의 처리 유닛(16)을 구비한다. 복수의 처리 유닛(16)은, 반송부(15)의 양측에 나란히 설치된다. The processing station 3 is installed adjacent to the carry section 12. [ The processing station 3 includes a carry section 15 and a plurality of processing units 16. A plurality of processing units 16 are installed side by side on both sides of the carry section 15. [

반송부(15)는, 내부에 기판 반송 장치(17)를 구비한다. 기판 반송 장치(17)는, 웨이퍼(W)를 유지하는 웨이퍼 유지 기구를 구비한다. 또한, 기판 반송 장치(17)는, 수평 방향 및 연직 방향으로의 이동 및 연직축을 중심으로 하는 선회가 가능하고, 웨이퍼 유지 기구를 이용하여 전달부(14)와 처리 유닛(16) 사이에서 웨이퍼(W)의 반송을 행한다.The carry section (15) has a substrate transfer apparatus (17) inside. The substrate transfer device 17 is provided with a wafer holding mechanism for holding the wafer W. The substrate transfer apparatus 17 is capable of moving in the horizontal and vertical directions and turning around the vertical axis and is capable of transferring the wafer W between the transfer unit 14 and the processing unit 16 W).

처리 유닛(16)은, 기판 반송 장치(17)에 의해 반송되는 웨이퍼(W)에 대하여 소정의 기판 처리를 행한다. The processing unit 16 performs predetermined substrate processing on the wafer W carried by the substrate transfer device 17. [

또한, 기판 처리 시스템(1)은, 제어 장치(4)를 구비한다. 제어 장치(4)는, 예컨대 컴퓨터이며, 제어부(18)와 기억부(19)를 구비한다. 기억부(19)에는, 기판 처리 시스템(1)에 있어서 실행되는 각종의 처리를 제어하는 프로그램이 저장된다. 제어부(18)는, 기억부(19)에 기억된 프로그램을 판독하여 실행함으로써 기판 처리 시스템(1)의 동작을 제어한다. In addition, the substrate processing system 1 includes a control device 4. The control device 4 is, for example, a computer and includes a control unit 18 and a storage unit 19. [ A program for controlling various processes executed in the substrate processing system 1 is stored in the storage unit 19. [ The control unit 18 controls the operation of the substrate processing system 1 by reading and executing the program stored in the storage unit 19. [

한편, 이러한 프로그램은, 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체에 기록되어 있던 것이며, 그 기억 매체로부터 제어 장치(4)의 기억부(19)에 인스톨된 것이어도 좋다. 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체로서는, 예컨대 하드 디스크(HD), 플렉시블 디스크(FD), 컴팩트 디스크(CD), 마그넷 옵티컬 디스크(MO), 메모리 카드 등이 있다.On the other hand, such a program is recorded in a storage medium readable by a computer, and may be installed in the storage unit 19 of the control apparatus 4 from the storage medium. Examples of the storage medium readable by a computer include a hard disk (HD), a flexible disk (FD), a compact disk (CD), a magnet optical disk (MO), a memory card and the like.

상기한 바와 같이 구성된 기판 처리 시스템(1)에서는, 먼저, 반입 반출 스테이션(2)의 기판 반송 장치(13)가, 캐리어 배치부(11)에 배치된 캐리어(C)로부터 웨이퍼(W)를 취출하고, 취출한 웨이퍼(W)를 전달부(14)에 배치한다. 전달부(14)에 배치된 웨이퍼(W)는, 처리 스테이션(3)의 기판 반송 장치(17)에 의해 전달부(14)로부터 취출되고, 처리 유닛(16)에 반입된다.The substrate transfer apparatus 13 of the loading and unloading station 2 first takes out the wafer W from the carrier C arranged in the carrier arrangement section 11 And the taken-out wafer W is placed in the transfer part 14. [ The wafer W placed on the transfer section 14 is taken out from the transfer section 14 by the substrate transfer apparatus 17 of the processing station 3 and is carried into the processing unit 16.

처리 유닛(16)에 반입된 웨이퍼(W)는, 처리 유닛(16)에 의해 처리된 후, 기판 반송 장치(17)에 의해 처리 유닛(16)으로부터 반출되고, 전달부(14)에 배치된다. 그리고, 전달부(14)에 배치된 처리가 끝난 웨이퍼(W)는, 기판 반송 장치(13)에 의해 캐리어 배치부(11)의 캐리어(C)로 복귀된다. The wafer W carried into the processing unit 16 is processed by the processing unit 16 and then taken out of the processing unit 16 by the substrate transfer device 17 and placed in the transfer part 14 . The processed wafers W placed on the transfer unit 14 are returned to the carrier C of the carrier placement unit 11 by the substrate transfer device 13. [

도 2에 도시한 바와 같이, 처리 유닛(16)은, 챔버(20)와, 기판 유지 기구(30)와, 처리 유체 공급부(40)와, 회수컵(50)을 구비한다. 2, the processing unit 16 includes a chamber 20, a substrate holding mechanism 30, a processing fluid supply unit 40, and a recovery cup 50.

챔버(20)는, 기판 유지 기구(30)와 처리 유체 공급부(40)와 회수컵(50)을 수용한다. 챔버(20)의 천장부에는, FFU(Fan Filter Unit)(21)가 설치된다. FFU(21)는, 챔버(20) 내에 다운플로우를 형성한다.The chamber 20 accommodates the substrate holding mechanism 30, the processing fluid supply unit 40, and the recovery cup 50. An FFU (Fan Filter Unit) 21 is provided on the ceiling portion of the chamber 20. The FFU 21 forms a downflow in the chamber 20.

기판 유지 기구(30)는, 유지부(31)와, 지주부(32)와, 구동부(33)를 구비한다. 유지부(31)는, 웨이퍼(W)를 수평으로 유지한다. 지주부(32)는, 연직 방향으로 연장되는 부재이며, 기단부가 구동부(33)에 의해 회전 가능하게 지지되고, 선단부에 있어서 유지부(31)를 수평으로 지지한다. 구동부(33)는, 지주부(32)를 연직축 주위로 회전시킨다. 이러한 기판 유지 기구(30)는, 구동부(33)를 이용하여 지주부(32)를 회전시킴으로써 지주부(32)에 지지된 유지부(31)를 회전시키고, 이에 의해, 유지부(31)에 유지된 웨이퍼(W)를 회전시킨다. The substrate holding mechanism 30 includes a holding portion 31, a holding portion 32, and a driving portion 33. The holding portion 31 holds the wafer W horizontally. The support portion 32 is a member extending in the vertical direction and the base end portion is rotatably supported by the drive portion 33 and horizontally supports the holding portion 31 at the tip end portion. The driving unit 33 rotates the support member 32 around the vertical axis. The substrate holding mechanism 30 rotates the holding portion 31 supported by the holding portion 32 by rotating the holding portion 32 by using the driving portion 33 to thereby rotate the holding portion 31 Thereby rotating the held wafer W.

처리 유체 공급부(40)는, 웨이퍼(W)에 대하여 처리 유체를 공급한다. 처리 유체 공급부(40)는, 처리 유체 공급원(70)에 접속된다. The treatment fluid supply part 40 supplies a treatment fluid to the wafer W. The treatment fluid supply part 40 is connected to the treatment fluid supply source 70.

회수컵(50)은, 유지부(31)를 둘러싸도록 배치되고, 유지부(31)의 회전에 의해 웨이퍼(W)로부터 비산하는 처리액을 포집한다. 회수컵(50)의 바닥부에는, 배액구(排液口; 51)가 형성되어 있고, 회수컵(50)에 의해 포집된 처리액은, 이러한 배액구(51)로부터 처리 유닛(16)의 외부로 배출된다. 또한, 회수컵(50)의 바닥부에는, FFU(21)로부터 공급되는 기체를 처리 유닛(16)의 외부로 배출하는 배기구(52)가 형성된다. The recovery cup 50 is disposed so as to surround the holding portion 31 and collects the treatment liquid scattering from the wafer W by the rotation of the holding portion 31. [ A treatment liquid collected by the recovery cup 50 is discharged from the drain port 51 through the drain port 51 of the treatment unit 16 And is discharged to the outside. An exhaust port 52 for discharging the gas supplied from the FFU 21 to the outside of the processing unit 16 is formed at the bottom of the recovery cup 50.

도 3은, 이상에 설명한 처리 유닛(액 처리 장치)(16)의 처리 유체 공급부(40)에 처리 유체를 공급하는 처리 유체 공급원(70)의 상세한 구성을 도시하고 있다.Fig. 3 shows a detailed configuration of the processing fluid supply source 70 for supplying the processing fluid to the processing fluid supply unit 40 of the processing unit (liquid processing apparatus) 16 described above.

본 실시형태의 처리 유닛(16)에 설치되어 있는 처리 유체 공급부(40)는, 회전하는 웨이퍼(W)에 대하여 처리 유체인 처리액을 토출하는 노즐부(토출부)(41)를 구비하고 있다. 처리 유체 공급부(40)는, 토출 라인(42)을 통해 전환 밸브인 다연(多連; multiple) 밸브(8)와 접속되고, 이 다연 밸브(8)가 제1 처리액인 약액을 공급하는 약액 탱크(701), 및 제2 처리액인 DIW(DeIonized Water)를 공급하는 린스액 공급부(702)에 접속되어 있다. The processing fluid supply unit 40 provided in the processing unit 16 of the present embodiment is provided with a nozzle unit (discharge unit) 41 for discharging the processing liquid as the processing fluid to the rotating wafer W . The treatment fluid supply part 40 is connected to a multiple valve 8 which is a switching valve through a discharge line 42. The multiphase valve 8 supplies a chemical solution And is connected to a tank 701 and a rinsing liquid supply unit 702 for supplying DIW (Deionized Water), which is a second process liquid.

약액 탱크(701)에는, 웨이퍼(W)의 표면에 공급되어, 웨이퍼 표면의 먼지나 자연 산화물의 제거 등을 행하는 알칼리성이나 산성의 약액이 저류되어 있다. 약액 탱크(701)는, 약액 탱크(701) 내의 약액의 송액을 행하는 약액 펌프(71), 및 약액의 온도를 미리 설정된 온도로 조정하기 위한 온도 조정부(72)가 개재된 약액 순환 라인(731)에 접속되어 있다. 온도 조정부(72)는, 약액을 가열하는 가열기여도 좋고, 약액을 냉각하는 냉각기여도 좋다.In the chemical liquid tank 701, an alkaline or acidic chemical liquid which is supplied to the surface of the wafer W to remove dust or natural oxide from the surface of the wafer is stored. The chemical liquid tank 701 is provided with a chemical liquid pump 71 for feeding the chemical liquid in the chemical liquid tank 701 and a chemical liquid circulating line 731 interposed between the temperature regulating portion 72 for adjusting the temperature of the chemical liquid to a preset temperature. Respectively. The temperature adjusting unit 72 may be a heating unit for heating the chemical liquid, and may also be a cooling unit for cooling the chemical liquid.

이 약액 순환 라인(731)으로부터는, 약액 공급 라인(제1 처리액 공급로)(732)이 분기되고, 약액 공급 라인(732)의 말단과 접속된 다연 밸브(8)를 통해 각 처리 유닛(16)의 처리 유체 공급부(40)에 약액이 공급된다.From the chemical liquid circulation line 731, a chemical liquid supply line (first processing liquid supply path) 732 is branched and connected to each processing unit (not shown) via a multi- 16 is supplied with the chemical liquid.

약액 순환 라인(731)의 말단부는, 다시 약액 탱크(701)에 접속되고, 약액 탱크(701)로부터 빼내지고, 온도 조정되어 각 처리 유닛(16)에 공급된 후의 나머지 약액은, 약액 탱크(701)로 복귀된다.The distal end of the chemical liquid circulating line 731 is connected to the chemical liquid tank 701 again and is withdrawn from the chemical liquid tank 701. The remaining chemical liquid after the temperature is adjusted and supplied to each processing unit 16 is supplied to the chemical liquid tank 701 ).

약액 탱크(701), 약액 순환 라인(731)이나 약액 펌프(71)는, 제1 처리액 공급부를 구성하고 있다.The chemical liquid tank 701, the chemical liquid circulating line 731 and the chemical liquid pump 71 constitute a first processing liquid supply section.

또한 후술하는 바와 같이, 각 처리 유닛(16)의 다연 밸브(8)로부터는, 다연 밸브(8)의 온도 조정에 이용된 약액이 배출된다. 이 약액은, 복귀 라인(742)을 통해 각 다연 밸브(8)로부터 유출되고, 리사이클 라인(741)에 합류한 후, 약액 탱크(701)로 복귀된다. 복귀 라인(742), 리사이클 라인(741)은 본 예의 리사이클로에 상당한다. 한편, 다연 밸브(8)로부터 배출된 온도 조정용의 약액을 약액 탱크(701)로 복귀시키는 것은 필수적이지 않고, 처리 유체 공급원(70)의 외부로 배출해도 좋다.As will be described later, the chemical liquid used for temperature control of the multiple valve 8 is discharged from the multiple valve 8 of each processing unit 16. This chemical liquid flows out from each smell-check valve 8 through the return line 742, merges with the recycle line 741, and then returns to the chemical liquid tank 701. The return line 742 and the recycle line 741 correspond to the recycle line of this example. On the other hand, it is not necessary to return the chemical liquid for temperature adjustment, which is discharged from the multi-valve valve 8, to the chemical liquid tank 701, and may be discharged outside the treatment fluid supply source 70.

린스액 공급부(702)는, 약액에 의한 처리 후의 린스액으로서 이용되는 DIW를 저류한 DIW 탱크(도시하지 않음)나 린스액의 송액 펌프(도시하지 않음)를 구비하고, 린스액 이송 라인(751)에 대하여 린스액을 송액한다. 린스액 이송 라인(751)으로부터는, 각 처리 유닛(16)의 처리 유체 공급부(40)에 린스액을 공급하는 린스액 공급 라인(제2 처리액 공급로)(752)이 분기되고, 각 린스액 공급 라인(752)은 다연 밸브(8)에 접속되어 있다. The rinsing liquid supply unit 702 is provided with a DIW tank (not shown) and a rinsing liquid transfer pump (not shown) for storing the DIW used as a rinsing liquid after treatment with the chemical liquid, and a rinsing liquid transfer line 751 ) Of the rinsing liquid. A rinsing liquid supply line (second processing liquid supply path) 752 for supplying a rinsing liquid to the processing fluid supply unit 40 of each processing unit 16 is branched from the rinsing liquid transfer line 751, The liquid supply line 752 is connected to the multiple valve 8.

이상에 설명한 구성을 구비한 처리 유체 공급원(70)에 있어서, 노즐부(41)와 약액 공급 라인(732), 린스액 공급 라인(752) 사이에 설치된 다연 밸브(8)는, 노즐부(41)로부터 웨이퍼(W)에 토출되는 처리액의 종류를 약액과 린스액 사이에서 전환하고, 온도 조정부(72)에서 온도 조정된 약액을 이용하여 다연 밸브(8) 자체의 온도 조정을 행하는 기능을 구비한다. 이하, 도 4의 외관 사시도, 및 도 5 내지 도 8의 종단 측면도를 참조하면서 하나의 실시형태인 다연 밸브[8a(8)]의 상세한 구성에 대해서 설명한다.In the processing fluid supply source 70 having the above-described configuration, the multi-burner valve 8 provided between the nozzle unit 41 and the chemical liquid supply line 732 and the rinsing liquid supply line 752 is connected to the nozzle unit 41 The function of switching the type of the treatment liquid discharged from the wafer W to the wafer W between the chemical liquid and the rinsing liquid and adjusting the temperature of the multi-stage valve 8 itself using the chemical liquid whose temperature is adjusted by the temperature adjusting unit 72 do. Hereinafter, the detailed configuration of the four-way valve 8a (8), which is one embodiment, will be described with reference to an external perspective view of Fig. 4 and a longitudinal side view of Fig. 5 to Fig.

한편, 특기(特記)한 경우를 제외하고, 이하의 설명에서 이용하는 각 외관 사시도나 종단 측면도에 나타낸 다연 밸브(8)에 있어서, 각 도면을 향해 좌측(각 도면에 병기한 X축의 원점측)을 기단측, 우측(X축의 화살표측)을 선단측으로 한다. On the other hand, in the multi-valve 8 shown in the external view and the longitudinal side view used in the following explanation, the left side (the origin side of the X-axis indicated in each drawing) The proximal side and the right side (arrow side of the X axis) are referred to as the tip side.

도 4에 도시한 바와 같이 다연 밸브(8a)는, 기단측에서 보아 좌우로 편평한 직육면체 형상으로 형성된 예컨대 금속이나 수지제의 본체부(81)를 구비한다. 본체부(81)의 기단측의 측벽면에는, 약액 공급 라인(732)과 접속되는 제1 수용구인 약액 포트(801)가 형성되어 있다. 또한, 선단측의 측벽면에는 토출 라인(42)과 접속되는 불출구인 불출 포트(802)가 형성되어 있다.As shown in Fig. 4, the twisted-pair valve 8a includes a body 81 made of, for example, metal or resin, which is formed in a rectangular parallelepiped shape flat from side to side as seen from the base end side. A liquid medicine port 801, which is a first receptacle to be connected to the chemical liquid supply line 732, is formed on the sidewall of the base end of the main body 81. A discharge port 802, which is a discharge port connected to the discharge line 42, is formed on the sidewall of the leading end side.

한편, 기단측에서 보아 우측의 본체부(81)의 측벽면에는, 린스액 공급 라인(752)과 접속되는 제2 수용구인 린스액 포트(803)와, 노즐부(41) 내의 처리액의 액면의 위치를 후퇴시키는 자중(自重) 드레인시에 토출 라인(42)측으로부터 복귀된 처리액을 배출하기 위한 폐액구인 드레인 포트(805)가 형성되어 있다. 자중 드레인은, 노즐부(41)로부터의 액 떨어짐을 방지하기 위해서 행해진다. 드레인 포트(805)는, 다연 밸브(8a)로부터 배출된 처리액을 외부로 배출하는 폐액 라인(76)과 접속되어 있다(도 3, 도 4).A rinsing liquid port 803 which is a second receptacle connected to the rinsing liquid supply line 752 and a rinsing liquid port 803 connected to the rinsing liquid supply line 752 are formed on the side wall surface of the right main body portion 81 viewed from the base end side, A drain port 805 as a waste solution port for discharging the treatment liquid returned from the discharge line 42 side at the time of self-weight drain is formed. The self-weight drain is performed in order to prevent the liquid from falling off from the nozzle unit 41. The drain port 805 is connected to a waste liquid line 76 for discharging the processing liquid discharged from the multi-flow valve 8a to the outside (Figs. 3 and 4).

또한 본체부(81)의 바닥면에는, 복귀 라인(742)과 접속되는 배출구인 리사이클 포트(804)가 형성되어 있다. 또한, 도 4에 도시한 바와 같이 리사이클 포트(804)에 접속된 복귀 라인(742) 상에는, 온도 조정에 이용되는 약액의 흐름을 정지하기 위한 개폐 밸브(743)가 설치되어 있다.A recycle port 804, which is a discharge port connected to the return line 742, is formed on the bottom surface of the main body portion 81. As shown in Fig. 4, on the return line 742 connected to the recycle port 804, there is provided an on-off valve 743 for stopping the flow of the chemical solution used for temperature adjustment.

도 5에 도시한 바와 같이, 본체부(81)의 내부에는, 약액 포트(801)에 접속되고, 기단측으로부터 선단측을 향해 전후 방향으로 연장되는 약액 공급로(83a)가 형성되어 있다. 이 약액 공급로(83a)는, 본체부(81)의 중앙부에서 약액 공급로(83b)와 리사이클 유로(85a)로 분기되어 있다. 약액 공급로(83b)는, 본체부(81) 내를 상방측을 향해 연장되고, 약액 밸브실(83c)에 합류하고 있다. 약액 밸브실(83c)은, 후술하는 약액 밸브체부(821)가 수용된 원통 형상의 공간이며, 상기 약액 공급로(83b)는, 상기 약액 밸브실(83c)의 바닥면을 향해 개구되어 있다. 또한, 약액 밸브실(83c)에 있어서의 상기 선단측의 내측면에는, 처리액 공급로(83d)가 접속되어 있다. 5, a chemical liquid supply passage 83a is formed in the main body 81, which is connected to the chemical liquid port 801 and extends in the front-rear direction from the base end side toward the tip end side. The chemical liquid supply path 83a is branched from the central portion of the main body 81 to the chemical liquid supply path 83b and the recycle line 85a. The chemical solution supply path 83b extends upward in the main body portion 81 and joins the chemical solution valve chamber 83c. The liquid medicine valve chamber 83c is a cylindrical space in which a liquid medicine valve body portion 821 to be described later is accommodated and the liquid medicine supply path 83b is opened toward the bottom surface of the liquid medicine valve chamber 83c. A treatment liquid supply path 83d is connected to the inner surface on the tip side of the chemical liquid valve chamber 83c.

처리액 공급로(83d)는, 본체부(81)의 선단측을 향해 비스듬히 하방으로 연장된 후, 불출 포트(802)가 배치되어 있는 높이 위치에서 연장되는 방향을 가로 방향으로 바꾸며, 그 선단부는 불출 포트(802)에 접속되어 있다.The treatment liquid supply path 83d extends obliquely downward toward the distal end side of the main body part 81 and then changes the direction extending from the height position where the dispensing port 802 is disposed to the transverse direction, And is connected to the dispensing port 802.

가로 방향으로 연장되는 처리액 공급로(83d)의 중앙 위치로부터는 상방측을 향해 드레인 유로(86a)가 분기되고, 상기 드레인 유로(86a)는, 후술하는 드레인 밸브체부(823)(도 6 참조)가 수용된 원통 형상의 공간인 드레인 밸브실(86b)의 바닥면을 향해 개구되어 있다. 또한 드레인 밸브실(86b)은, 이미 서술한 드레인 포트(805)와 접속되고, 드레인 밸브실(86b)의 내측면에는 상기 드레인 포트(805)를 향해 개구가 형성되어 있다. The drain passage 86a is branched from the central position of the process liquid supply passage 83d extending in the transverse direction toward the upper side and the drain passage 86a is connected to the drain valve body portion 823 Is opened toward the bottom surface of the drain valve chamber 86b which is a cylindrical space accommodated in the drain valve chamber 86b. The drain valve chamber 86b is connected to the previously described drain port 805 and an opening is formed in the inner side surface of the drain valve chamber 86b toward the drain port 805. [

약액 공급로(83a)로부터 분기된 다른 한쪽측의 리사이클 유로(85a)는, 약액 공급로(83a)가 연장되는 방향을 따라 선단측으로 연장된 후, 이미 서술한 드레인 밸브실(86b)의 하방 위치에서 방향을 하방측으로 바꿔, 본체부(81)의 바닥면에서 리사이클 포트(804)와 접속되어 있다. The recycling passage 85a on the other side branched from the chemical liquid supply path 83a extends to the tip end side along the direction in which the chemical liquid supply path 83a extends and is then moved to the lower side of the drain valve chamber 86b And is connected to the recycle port 804 at the bottom surface of the main body portion 81. As shown in Fig.

또한, 약액 밸브실(83c)의 기단측의 내측면에는 린스액 공급로(84c)가 접속되고, 이 린스액 공급로(84c)는 본체부(81)의 기단측을 향해 비스듬히 하방으로 연장되어 있다. 그리고, 린스액 공급로(84c)는, 그 방향을 기단측 비스듬히 상방으로 바꿔, 약액 밸브실(83c)의 기단측의 측방 위치에 배치된 린스액 밸브실(84b)의 내측면에 접속되어 있다. 린스액 밸브실(84b)은, 후술하는 린스액 밸브체부(822)(도 6 참조)가 수용된 원통 형상의 공간이며, 그 바닥면으로부터는 하방측을 향해 린스액 공급로(84a)가 연장되어 있다. 린스액 공급로(84a)는, 약액 공급로(83a)에 합류하기 직전의 높이 위치에서, 연장되는 방향을 본체부(81)의 측벽면측으로 바꿔, 이미 서술한 린스액 포트(803)에 접속되어 있다. A rinsing liquid supply path 84c is connected to the inner side surface of the base end side of the liquid medicine valve chamber 83c and the rinsing liquid supply path 84c extends obliquely downward toward the base end side of the main body 81 have. The rinsing liquid supply path 84c is connected to the inner surface of the rinsing liquid valve chamber 84b disposed at the side of the base end side of the chemical liquid valve chamber 83c with its direction shifted upward toward the base end side . The rinsing liquid valve chamber 84b is a cylindrical space in which a rinsing liquid valve body portion 822 (to be described later) (see Fig. 6) described later is accommodated. A rinsing liquid supply passage 84a extends downward from the bottom surface have. The rinsing liquid supply path 84a changes the direction in which the rinsing liquid supply path 84a extends from the height position immediately before joining the chemical liquid supply path 83a to the sidewall surface side of the main body 81 and connects the rinsing liquid port 803 .

이상에 설명한 다연 밸브(8a)의 본체부(81) 내의 구조를 정리하면, 종단면 형상이 가로로 긴 직사각형으로 형성된 본체부(81)의 상단(上段)에는 기단측으로부터 순서대로, 린스액 밸브실(84b), 약액 밸브실(83c), 드레인 밸브실(86b)이 직선 형상으로 나란히 배치되어 있다. 그리고, 린스액 포트(803)와 불출 포트(802) 사이가, 린스액 밸브실(84b), 약액 밸브실(83c)을 통해 린스액 공급로(84a), 린스액 공급로(84c), 처리액 공급로(83d)에 의해 접속되어 있다. 또한, 불출 포트(802)와 드레인 포트(805) 사이가, 처리액 공급로(83d), 드레인 유로(86a)에 의해 접속되어 있다.The structure of the main body 81 of the coarse valve 8a described above is summarized in the order from the base end to the upper end of the main body 81 having a longitudinally long rectangular shape, A liquid valve chamber 84b, a chemical liquid valve chamber 83c, and a drain valve chamber 86b are arranged side by side in a straight line. The rinsing liquid supply port 84a and the rinsing liquid supply path 84c are connected to the rinsing liquid port 803 and the dispensing port 802 through the rinsing liquid valve chamber 84b and the chemical liquid valve chamber 83c, And is connected by a liquid supply path 83d. Further, between the dispensing port 802 and the drain port 805, the processing liquid supply path 83d and the drain path 86a are connected.

또한, 각 밸브실(84b, 83c, 86b)이 직선 형상으로 나란히 배치되어 있는 영역의 하방측에는, 약액 포트(801)와 리사이클 포트(804) 사이를 잇는 약액 공급로(83a), 리사이클 유로(85a)가 상기 밸브실(84b, 83c, 86b)의 배치 방향을 따라 연장되어 있다. 그리고, 이 하단(下段)의 유로(83a, 85a)는 약액 공급로(83b)를 통해 상단의 약액 밸브실(83c)에 접속되어 있다.A chemical solution supply path 83a and a recycle flow path 85a that connect the chemical solution port 801 and the recycle port 804 are provided below the region where the valve chambers 84b, 83c, and 86b are arranged in a straight line, Extend along the arrangement direction of the valve chambers 84b, 83c, 86b. The flow paths 83a and 85a in the lower stage are connected to the upper chemical liquid valve chamber 83c through the chemical liquid supply path 83b.

여기서, 약액 포트(801)와 불출 포트(802)를 접속하는 약액 공급로(83a)-약액 공급로(83b)-약액 밸브실(83c)-처리액 공급로(83d)는 제1 유로를 구성하고 있다. 또한, 린스액 포트(803)와 접속된, 린스액 공급로(84a)-린스액 밸브실(84b)-린스액 공급로(84c)는 제2 유로를 구성하며, 약액 밸브실(83c)(합류부)에 합류하고 있다. 또한, 약액 공급로(83a)로부터 분기되어 리사이클 포트(804)에 접속되는 리사이클 유로(85a)는 분기 유로를 구성하며, 약액 밸브실(83c)(합류부)과 불출 포트(802) 사이의 제1 유로[처리액 공급로(83d)]로부터 분기되어 드레인 포트(805)에 접속된 드레인 유로(86a)-드레인 밸브실(86b)은 폐액 유로를 구성하고 있다.Here, the chemical liquid supply path 83a, the chemical liquid supply path 83b, the chemical liquid valve chamber 83c, and the process liquid supply path 83d, which connect the chemical liquid port 801 and the discharge port 802, . The rinsing liquid supply path 84a-rinsing liquid valve chamber 84b-rinsing liquid supply path 84c connected to the rinsing liquid port 803 constitute the second flow path and the chemical liquid valve chamber 83c Merging section). The recycle passage 85a branched from the chemical liquid supply passage 83a and connected to the recycle port 804 constitutes a branch passage and is connected to the chemical liquid valve chamber 83c The drain passage 86a and the drain valve chamber 86b branched from the one flow passage (processing liquid supply passage 83d) and connected to the drain port 805 constitute a waste liquid flow passage.

여기서 도 5에서는, 본체부(81) 내의 유로의 구성을 명료하게 도시하기 위해, 각 밸브실(84b, 83c, 86b)에 배치되어 있는 밸브체부(822, 821, 823)의 기재를 생략하고 있다(도 10, 도 12, 도 18, 도 23에 있어서도 동일함).5, the description of the valve body portions 822, 821, and 823 disposed in the respective valve chambers 84b, 83c, and 86b is omitted in order to clearly show the configuration of the flow path in the main body portion 81 (The same also applies to Figs. 10, 12, 18, and 23).

즉, 도 6 내지 도 8에 도시한 바와 같이, 약액 밸브실(83c)에는, 약액 밸브실(83c)의 바닥면(제1 밸브 시트)에 개구되어 있는 약액 공급로(83b)의 개폐를 행하는 약액 밸브체부(제1 밸브체부)(821)가 배치되어 있다. 또한, 린스액 밸브실(84b)에는, 린스액 밸브실(84b)의 바닥면(제2 밸브 시트)에 개구되어 있는 린스액 공급로(84a)의 개폐를 행하는 린스액 밸브체부(제2 밸브체부)(822)가 배치되어 있다. 그리고, 드레인 밸브실(86b)에는, 드레인 밸브실(86b)의 바닥면(제3 밸브 시트)에 개구되어 있는 드레인 유로(86a)의 개폐를 행하는 드레인 밸브체부(제3 밸브체부)(823)가 배치되어 있다.6 to 8, the chemical solution valve chamber 83c is opened and closed with respect to the chemical solution supply path 83b opened in the bottom surface (first valve seat) of the chemical solution valve chamber 83c And a chemical liquid valve body (first valve body) 821 are disposed. The rinsing liquid valve chamber 84b is provided with a rinsing liquid valve body portion for opening and closing the rinsing liquid supply passage 84a opened to the bottom surface (second valve seat) of the rinsing liquid valve chamber 84b Body portion) 822 is disposed. The drain valve chamber 86b is provided with a drain valve body portion (third valve body portion) 823 that opens and closes the drain passage 86a opened to the bottom surface (third valve seat) of the drain valve chamber 86b, Respectively.

각 밸브체부(821∼823)는, 본체부(81)의 상면측에 배치된 구동부(82)에 접속되고, 밸브체부(821∼823)를 강하시켜, 이들 밸브체부(821∼823)의 하면을 밸브실(83c, 84b, 86b)의 바닥면에 접촉시킴으로써, 각 유로(83b, 84a, 86a)의 개구를 폐쇄한다(폐쇄 상태). 또한, 밸브체부(821∼823)를 상승시켜 유로(83b, 84a, 86a)의 개구를 개방한다(개방 상태).Each of the valve body portions 821 to 823 is connected to a drive portion 82 disposed on the upper surface side of the main body portion 81 to lower the valve body portions 821 to 823, 84b, 86b to close the openings of the flow paths 83b, 84a, 86a (closed state). Further, the valve body portions 821 to 823 are raised to open the openings of the flow paths 83b, 84a, and 86a (open state).

이들 각 밸브체부(821∼823) 중, 예컨대 약액 밸브체부(821)는, 하면측의 원의 면적이 상면측보다 작은 원뿔대 형상으로 되어 있고, 약액 밸브체부(821)의 하면에서 약액 공급로(83b)의 개구를 폐쇄한 폐쇄 상태일 때, 약액 밸브실(83c)의 내측면과 약액 밸브체부(821)의 외측면 사이에 간극이 형성된다. 이 결과, 약액 밸브체부(821)가 약액 공급로(83b)의 개구를 폐쇄한 상태에서, 약액 밸브실(83c)의 내측면에 접속된 린스액 공급로(84c)의 개구로부터 린스액을 받아들이고, 마찬가지로 약액 밸브실(83c)의 내측면에 접속된 처리액 공급로(83d)의 개구를 통해 상기 처리액 공급로(83d)에 린스액을 공급할 수 있다(도 8 참조).The liquid valve body portion 821 of each of the valve body portions 821 to 823 has a truncated conical shape in which the area of the lower surface side circle is smaller than the upper surface side and the chemical liquid valve body portion 821 83b are closed, a gap is formed between the inner surface of the chemical liquid valve chamber 83c and the outer surface of the liquid medicine valve body portion 821. As shown in Fig. As a result, in a state in which the chemical liquid valve body portion 821 closes the opening of the chemical liquid supply path 83b, the rinse liquid is received from the opening of the rinse liquid supply path 84c connected to the inner side of the chemical liquid valve chamber 83c The rinse liquid can be supplied to the process liquid supply path 83d through the opening of the process liquid supply path 83d connected to the inner surface of the liquid medicine valve chamber 83c (see FIG. 8).

한편 본 예에서는, 다른 린스액 밸브체부(822), 드레인 밸브체부(823)나 후술하는 실시형태에 기재된 리사이클 밸브체부(824)도 약액 밸브체부(821)와 동일한 형상으로 형성되어 있다. 그러나, 약액 밸브체부(821)와는 달리, 폐쇄 상태 중의 처리액의 통류를 행하지 않는 경우에는, 밸브체부(822, 823, 824)의 형상은 원뿔대 형상에 한정되는 것은 아니며, 예컨대 원기둥 형상의 것을 이용해도 좋다.On the other hand, in this example, the other rinse liquid valve body portion 822, the drain valve body portion 823, and the recycle valve body portion 824 described in the following embodiments are formed in the same shape as the liquid medicine valve body portion 821. However, unlike the liquid medicine valve body portion 821, when the flow of the processing liquid in the closed state is not performed, the shape of the valve body portions 822, 823, and 824 is not limited to the truncated cone shape, It is also good.

이상에 설명한 구성을 구비하는 처리 유체 공급원(70) 및 다연 밸브(8a)는, 도 3 및 도 5에 도시한 바와 같이 제어 장치(제어부)(4)와 접속되어 있다. 이 제어 장치(4)로부터 출력되는 제어 신호에 기초하여, 약액 펌프(71)의 기동이나 온도 조정부(72)에 의한 약액의 온도 조정, 린스액 공급부(702)로부터의 린스액의 공급이나 다연 밸브(8a) 내의 밸브체부(821∼823)의 승강 동작이 실행된다. The processing fluid supply source 70 and the multi-flow valve 8a having the above-described configuration are connected to the controller (control unit) 4 as shown in Figs. 3 and 5. The control of the chemical liquid pump 71, the temperature control of the chemical liquid by the temperature regulating unit 72, the supply of the rinse liquid from the rinse liquid supply unit 702, The valve body portions 821 to 823 in the valve body 8a are lifted and lowered.

이하, 도 3, 도 6 내지 도 8을 참조하면서 처리 유체 공급원(70) 및 다연 밸브(8a)의 동작에 대해서 설명한다. Hereinafter, the operation of the treatment fluid supply source 70 and the multi-stage valve 8a will be described with reference to Figs. 3 and 6 to 8. Fig.

각 처리 유닛(16)에서 웨이퍼(W)의 액 처리를 개시할 때, 처리 유체 공급원(70)에 있어서는 약액 펌프(71)를 기동하여 약액 순환 라인(731)에 약액을 순환시키고, 온도 조정부(72)에서 약액 순환 라인(731) 및 약액 탱크(701) 내의 약액의 온도를 미리 설정한 온도로 조정해 둔다. 또한, 린스액 공급부(702)로부터도 린스액을 공급하는 것이 가능한 상태로 되어 있다. The chemical liquid pump 71 is activated in the processing fluid supply source 70 to circulate the chemical liquid in the chemical liquid circulating line 731 and the temperature adjusting unit 72, the temperature of the chemical solution in the chemical solution circulation line 731 and the chemical solution tank 701 is adjusted to a predetermined temperature. It is also possible to supply the rinse liquid from the rinse liquid supply unit 702. [

그리고, 하나의 처리 유닛(16)에 웨이퍼(W)가 반송되고, 유지부(기판 유지부)(31)에 유지된 후, 구동부(회전 기구)(33)의 회전에 의해 웨이퍼(W)가 회전하면, 회전하는 웨이퍼(W)의 상방으로 노즐부(41)를 이동시킨다. After the wafer W is transferred to one processing unit 16 and held in the holding unit (substrate holding unit) 31, the wafer W is transferred by the rotation of the driving unit When the wafer W is rotated, the nozzle unit 41 is moved to the upper side of the rotating wafer W.

한편, 다연 밸브(8a)에 있어서는, 도 6에 도시한 바와 같이 약액 밸브체부(821)를 개방 상태, 린스액 밸브체부(822), 드레인 밸브체부(823)를 폐쇄 상태로 한다. 이에 의해, 약액 포트(801)로부터 유입된 약액이 제1 유로인 약액 공급로(83a)→약액 공급로(83b)→약액 밸브실(83c)→처리액 공급로(83d)를 흘러 불출 포트(802)로부터 불출된다. 이 결과, 약액이 노즐부(41)로부터 웨이퍼(W)에 토출되고, 약액에 의한 액 처리가 실행된다.6, the chemical liquid valve body portion 821 is opened, and the rinse liquid valve body portion 822 and the drain valve body portion 823 are closed. The chemical liquid flowing from the chemical liquid port 801 flows through the chemical liquid supply path 83a, the chemical liquid supply path 83b, the chemical liquid valve chamber 83c and the processing liquid supply path 83d, 802. As a result, the chemical liquid is ejected from the nozzle unit 41 onto the wafer W, and liquid processing by the chemical liquid is performed.

이때, 도 4에 도시한 복귀 라인(742)의 개폐 밸브(743)를 폐쇄하여 리사이클 유로(85a)에 있어서의 약액의 통류를 정지한다[도 6 중, 개폐 밸브(743)의 폐쇄 상태를 「S」의 부호로 나타내고 있다]. 이 결과, 제1 유로[약액 공급로(83a)-약액 공급로(83b)-약액 밸브실(83c)-처리액 공급로(83d)]를 흐르는 약액으로부터의 전열에 의해, 본체부(81)나 약액 밸브체부(821) 등의 온도가, 미리 온도 조정된 약액의 온도에 가까운 온도 상태로 유지된다. 한편, 복귀 라인(742)의 개폐 밸브(743)를 개방 상태인 채로 하여, 약액 공급로(83a)로부터 분기된 리사이클 유로(85a)에도 웨이퍼(W)에 공급되는 약액과 공통의 약액을 흘려도 좋다. 이 경우에는, 이미 서술한 제1 유로에 더하여, 리사이클 유로(85a)를 흐르는 약액으로부터의 전열에 의해서도 전술한 온도 조정이 행해진다.At this time, the open / close valve 743 of the return line 742 shown in Fig. 4 is closed to stop the flow of the chemical liquid in the recycle line 85a (in Fig. 6, the closed state of the open / S "). As a result, the heat generated from the chemical liquid flowing through the first flow path (the chemical liquid supply path 83a, the chemical liquid supply path 83b, the chemical liquid valve chamber 83c, and the process liquid supply path 83d) And the chemical liquid valve body portion 821 are maintained at a temperature state close to the temperature of the chemical liquid whose temperature has been adjusted in advance. On the other hand, the chemical liquid common to the chemical liquid supplied to the wafer W may be supplied to the recycle line 85a branched from the chemical liquid supply path 83a while the open / close valve 743 of the return line 742 is kept open . In this case, in addition to the above-described first flow path, the aforementioned temperature adjustment is also performed by heat transfer from the chemical liquid flowing through the recycle passage 85a.

계속해서, 약액의 공급을 정지할 때에는, 도 7에 도시한 바와 같이 약액 밸브체부(821), 린스액 밸브체부(822)를 폐쇄 상태로 하는 한편, 드레인 밸브체부(823)를 개방 상태로 하는 자중 드레인 동작이 행해진다. 또한, 복귀 라인(742)의 개폐 밸브(743)는 개방 상태로 한다. 이 자중 드레인 동작에 있어서, 노즐부(41) 내의 약액은, 자중에 의해 노즐부(41)측으로부터 불출 포트(802)에 그 일부가 유입되고, 상기 약액은 폐액 유로인 드레인 유로(86a)→드레인 밸브실(86b)을 흘러, 드레인 포트(805)를 통해 폐액 라인(76)으로 배출된다. 이 결과, 노즐부(41)의 선단측의 약액을 끌어들일 수 있다.7, the chemical liquid valve body portion 821 and the rinse liquid valve body portion 822 are closed while the drain valve body portion 823 is opened Self-weight drain operation is performed. Further, the open / close valve 743 of the return line 742 is opened. In this self-weighted drain operation, a part of the chemical liquid in the nozzle unit 41 flows into the dispensing port 802 from the nozzle unit 41 side due to its own weight, and the chemical liquid flows through the drain channels 86a, Flows through the drain valve chamber 86b and is discharged to the waste liquid line 76 through the drain port 805. [ As a result, the chemical liquid at the tip end side of the nozzle unit 41 can be drawn.

약액 밸브체부(821)를 폐쇄 상태로 해도 약액 공급로(83b)와의 분기 위치보다 상류측의 약액 공급로(83a) 및 리사이클 유로(85a)에는 약액이 계속 흐르기 때문에, 상기 약액에 의한 다연 밸브(8a)의 온도 조정은 계속된다. Even when the chemical liquid valve body portion 821 is in the closed state, the chemical liquid continuously flows into the chemical liquid supply passage 83a and the recycle line 85a on the upstream side of the branched position with respect to the chemical liquid supply passage 83b. 8a is continued.

자중 드레인 동작 실행 후, 도 8에 도시한 바와 같이 린스액 밸브체부(822)를 개방 상태, 약액 밸브체부(821), 드레인 밸브체부(823)를 폐쇄 상태로 한다. 또한, 복귀 라인(742)의 개폐 밸브(743)는 개방 상태로 되어 있다. 이 동작에 의해, 린스액 포트(803)로부터 린스액이 유입되고, 제2 유로로부터 합류부의 하류측의 제1 유로를 향해, 린스액 공급로(84a)→린스액 밸브실(84b)→린스액 공급로(84c)→약액 밸브실(83c)→처리액 공급로(83d)를 린스액이 흐르며, 불출 포트(802)로부터 불출된다. 이 결과, 노즐부(41)로부터 웨이퍼(W)에 린스액이 토출되고, 웨이퍼의 린스 세정이 실행된다.8, the rinsing liquid valve body portion 822 is opened and the liquid medicine valve body portion 821 and the drain valve body portion 823 are closed. The opening / closing valve 743 of the return line 742 is in the open state. With this operation, the rinsing liquid flows from the rinsing liquid port 803 and flows from the second flow path toward the first flow path on the downstream side of the confluence portion, from the rinsing liquid supply path 84a to the rinsing liquid valve chamber 84b, The rinse liquid flows through the liquid supply path 84c, the chemical liquid valve chamber 83c, and the process liquid supply path 83d, and is discharged from the dispensing port 802. [ As a result, the rinse liquid is discharged from the nozzle unit 41 to the wafer W, and rinse cleaning of the wafer is performed.

웨이퍼(W)에 린스액을 공급하고 있는 기간 중에 있어서도 약액 공급로(83a) 및 리사이클 유로(85a)에는 약액이 계속 흐르기 때문에, 본체부(81) 내를 린스액이 통류하는 것에 의한 온도 변동의 폭이 억제된다.The chemical solution continues to flow into the chemical solution supply path 83a and the recycle path 85a even during the period in which the rinsing liquid is supplied to the wafer W. This causes the temperature fluctuation caused by the rinsing liquid to flow through the main body 81 Width is suppressed.

그리고, 다시 각 밸브체부(821∼823)의 개폐 상태를 도 7의 상태로 하여, 린스액의 자중 드레인 동작을 실행한 후, 모든 밸브체부(821∼823)를 폐쇄 상태로 하여, 처리액(약액 및 린스액)의 공급을 종료한다. Then, after the valve body portions 821 to 823 are opened and closed in the state shown in Fig. 7 and the self-weight drain operation of the rinsing liquid is performed, all the valve body portions 821 to 823 are closed, The chemical solution and the rinsing liquid).

처리액의 공급이 정지된 후에도 웨이퍼(W)의 회전을 계속해서 뿌리침 건조를 행한다. 그리고 처리를 끝낸 웨이퍼(W)를 처리 유닛(16)으로부터 반출하고 다음의 웨이퍼(W)의 반입을 기다린다.Even after the supply of the treatment liquid is stopped, the spinning of the wafer W is continued to dry the root. Then, the processed wafer W is taken out of the processing unit 16 and waited for the next wafer W to be carried.

다음의 웨이퍼(W)가 반입되기까지의 기간 중, 노즐부(41)로부터 처리액을 토출하고 있지 않은 상태에 있어서도, 약액 공급로(83a) 및 리사이클 유로(85a)에는 온도 조정부(72)에서 온도 조정된 약액이 계속 흐르기 때문에, 다연 밸브(8a)의 온도는 노즐부(41)로부터 토출되는 약액의 온도에 가까운 상태로 유지된다. 또한, 상기 처리 유닛(16)에 다음의 웨이퍼(W)가 반입되기까지의 대기 기간이 장기간이 되는 경우라도, 상기 유로(83a, 85a)에 온도 조정된 약액을 계속 흘림으로써, 다연 밸브(8a)의 온도를 약액의 설정 온도에 가까운 상태로 계속 유지할 수 있다.The chemical solution supply path 83a and the recycling flow path 85a are provided with the temperature adjustment unit 72 in the state in which the treatment liquid is not discharged from the nozzle unit 41 during the period until the next wafer W is carried The temperature of the miscellaneous valve 8a is maintained close to the temperature of the chemical liquid discharged from the nozzle portion 41 since the temperature adjusted chemical liquid continues to flow. Further, even when the waiting period until the next wafer W is carried into the processing unit 16 is long, the chemical liquid whose temperature has been adjusted is continuously flown to the flow paths 83a and 85a, ) Can be maintained in a state close to the set temperature of the chemical liquid.

특히, 도 5 내지 도 8에 도시한 구성의 다연 밸브(8a)에 있어서는, 분기 유로인 리사이클 유로(85a)는, 상기 리사이클 유로(85a)가 분기되는 위치보다 하류측의 제1 유로인 처리액 공급로(83d)를 따라 연장되어 있다. 그리고 제1 밸브 시트를 구성하는 약액 밸브실(83c)의 바닥면, 및 제2 밸브 시트를 구성하는 린스액 밸브실(84b)의 바닥면은, 제1 유로인 약액 공급로(83a)를 따라 배치되어 있다. 또한, 제3 밸브 시트인 드레인 밸브실(86b)의 바닥면은, 분기 유로인 리사이클 유로(85a)의 상방에 배치되어 있다. 이 결과, 밸브체부(821∼823)의 배열 방향을 향해 가로로 긴 형상의 본체부(81)에 대하여 약액에 의한 온도 조정을 구석구석까지 실행할 수 있다.Particularly, in the multi-valve 8a having the configuration shown in Figs. 5 to 8, the recycling passage 85a, which is the branch passage, is connected to the processing liquid (the first passage on the downstream side of the position where the recycle passage 85a is branched) And extends along the supply path 83d. The bottom surface of the chemical liquid valve chamber 83c constituting the first valve seat and the bottom surface of the rinse liquid valve chamber 84b constituting the second valve sheet are disposed along the chemical liquid supply path 83a Respectively. The bottom surface of the drain valve chamber 86b, which is the third valve seat, is disposed above the recycling passage 85a, which is a branch passage. As a result, temperature adjustment by the chemical liquid can be performed to every corner of the main body portion 81, which is elongated transversely toward the array direction of the valve body portions 821 to 823.

또한 도 4에 도시한 바와 같이, 상기 다연 밸브(8a)는, 직육면체 형상의 본체부(81)에 대하여, 약액 포트(제1 수용구)(801)와 불출 포트(불출구)(802)는, 서로 대향하는 측면에 형성되어 있다. 또한 본체부(81)에 있어서, 린스액 포트(제2 수용구)(803)는, 약액 포트(801) 및 불출 포트(802)가 형성되어 있는 측면과는 다른 측면에 형성되어 있다. 그리고 리사이클 포트(배출구)(804)는, 본체부(81)의 바닥면에 형성되어 있다. 4, the four-way valve 8a has a liquid medicine port (first receiving port) 801 and a dispensing port (dispensing port) 802 with respect to a rectangular parallelepiped- And are formed on the side surfaces facing each other. The rinsing liquid port (second receiving port) 803 is formed on the side of the main body portion 81 that is different from the side surface on which the chemical liquid port 801 and the dispensing port 802 are formed. The recycling port (discharge port) 804 is formed on the bottom surface of the main body portion 81.

본 실시형태에 따른 다연 밸브(8a)에 의하면, 이하의 효과가 있다. 약액(제1 처리액)을 받아들이는 제1 유로[약액 공급로(83a)-약액 공급로(83b)-약액 밸브실(83c)-처리액 공급로(83d)]와 린스액(제2 처리액)을 받아들이는 제2 유로[린스액 공급로(84a)-린스액 밸브실(84b)-린스액 공급로(84c)]의 합류부[약액 밸브실(83c) 내]보다 상류측에, 이들 유로를 개폐하는 약액 밸브체부(제1 밸브체부)(821) 및 린스액 밸브체부(제2 밸브체부)(822)가 설치되어 있다. 그리고, 약액 밸브체부(821)에 의해 개폐되는 약액 공급로(83b)의 개구(제1 밸브 시트)보다 상류측의 위치에서 리사이클 유로(분기 유로)(85a)가 분기되어 있다. The four-stroke valve 8a according to the present embodiment has the following effects. (Chemical liquid supply path 83a, chemical liquid supply path 83b, chemical liquid valve chamber 83c, and process liquid supply path 83d) for receiving the chemical liquid (the first process liquid) and the rinse liquid (In the chemical liquid valve chamber 83c) of the second flow path (the rinsing liquid supply path 84a, the rinsing liquid valve chamber 84b, and the rinsing liquid supply path 84c) (First valve body portion) 821 and a rinse liquid valve body portion (second valve body portion) 822 for opening and closing these flow paths. The recycling passage (branching passage) 85a is branched at a position on the upstream side of the opening (first valve seat) of the chemical liquid supply passage 83b opened and closed by the chemical liquid valve body portion 821. [

이 때문에, 약액 밸브체부(821), 린스액 밸브체부(822)의 개폐 동작에 의해, 처리액 공급로(83d)의 불출구로부터 불출되는 처리액을 약액과 린스액으로 전환하면서, 약액 공급로(83a), 리사이클 유로(85a)에 온도 조정된 약액을 계속 흘려 다연 밸브(8a)의 온도 조정을 행할 수 있다. 또한, 각 약액 밸브체부(821), 린스액 밸브체부(822)를 폐쇄하여, 노즐부(41)로부터 처리액을 토출하고 있지 않은 상태라도 약액 공급로(83a), 리사이클 유로(85a)에 약액을 흘림으로써, 대기 기간 중에 있어서의 다연 밸브(8a)의 온도 변화를 억제할 수 있다.Therefore, while the chemical liquid valve body portion 821 and the rinsing liquid valve body portion 822 are opened and closed, the processing liquid dispensed from the discharge port of the processing liquid supply path 83d is converted into the chemical liquid and the rinsing liquid, The temperature of the twisted valve 8a can be adjusted by continuously flowing the chemical solution whose temperature has been adjusted to the recirculation valve 83a and the recycle passage 85a. Even if the chemical liquid valve body portion 821 and the rinsing liquid valve body portion 822 are closed and the processing liquid is not discharged from the nozzle portion 41, the chemical liquid supply path 83a and the recycle flow path 85a are filled with the chemical liquid It is possible to suppress the temperature change of the multi-stage valve 8a during the waiting period.

특히, 웨이퍼(W)의 액 처리시의 온도로 온도 조정된 약액 그 자체를 이용하여 다연 밸브(8a)의 온도 조정을 행함으로써, 히터나 펠티에 소자 등의 다른 온도 조정 수단을 사용하는 경우에 비해서 정밀도가 높은 온도 조정을 할 수 있다.Particularly, compared with the case of using other temperature adjusting means such as a heater or a Peltier element by adjusting the temperature of the multi-stage valve 8a by using the chemical liquid whose temperature is adjusted by the temperature during the liquid processing of the wafer W High-precision temperature adjustment is possible.

도 9 및 도 10의 다연 밸브(8b)는, 도 4 내지 도 8에 도시한 다연 밸브(8a)의 변형예를 도시하고 있다. 한편 이하, 도 9 내지 도 27을 이용하여 설명하는 각 실시형태에 있어서, 도 4 내지 도 8에 도시한 다연 밸브(8a)와 공통의 구성 요소에는, 이들 도면에서 이용한 것과 동일한 부호를 붙이고 있다.The multiplying valve 8b of Figs. 9 and 10 shows a modification of the multiplying valve 8a shown in Figs. 4 to 8. As shown in Fig. 9 to 27, the same components as those of the multi-burner valve 8a shown in Figs. 4 to 8 are denoted by the same reference numerals as those used in these figures.

도 9에 도시한 바와 같이 다연 밸브(8b)의 리사이클 포트(804)는, 본체부(81)의 측벽면이며 드레인 포트(805)의 하방 위치에 형성되어 있다. 이 때문에, 도 10에 도시한 바와 같이 리사이클 유로(85a)는, 드레인 밸브실(86b)의 하방 위치에서 본체부(81)의 측벽면측으로 방향을 바꿔, 리사이클 포트(804)와 접속되어 있다. 9, the recycle port 804 of the multi-burner valve 8b is formed on the side wall surface of the main body 81 and at a position below the drain port 805. As shown in Fig. Therefore, as shown in Fig. 10, the recycle passage 85a is connected to the recycle port 804 by changing the direction from the lower position of the drain valve chamber 86b to the side wall surface side of the main body portion 81. [

본체부(81)의 측면에 각 유로(83a, 83d, 85a, 84a, 86b)의 개구(801∼805)를 형성함으로써, 본체부(81)의 바닥면이 평탄하게 되기 때문에, 처리 유체 공급원(70)에 다연 밸브(8b)를 설치, 고정할 때의 자유도가 높아진다.Since the bottom surface of the main body portion 81 is made flat by forming the openings 801 to 805 of the flow paths 83a to 83d on the side surfaces of the main body portion 81, The degree of freedom in installing and fixing the coarse-gravity valve 8b to the coils 70 is increased.

또한, 상기 다연 밸브(8b)는, 린스액 포트(803), 드레인 포트(805) 및 리사이클 포트(804)가 형성되어 있는 본체부(81)의 측벽면과는 반대측의 측벽면도 평탄하게 되어 있다. 그래서, 선단측에서 보아 시계 방향으로 90°만큼 X축 주위로 다연 밸브(8b)를 회전시키면, 약액 포트(801), 불출 포트(802)가 본체부(81)의 측면에 개구되고, 린스액 포트(803), 드레인 포트(805) 및 리사이클 포트(804)가 본체부(81)의 상면에 개구된 상태가 된다. 이 경우에도 본체부(81)의 바닥면이 평탄하게 되기 때문에, 처리 유체 공급원(70)에 다연 밸브(8b)를 설치, 고정할 때의 자유도가 높다.The side wall surface on the opposite side of the sidewall surface of the body portion 81 in which the rinsing liquid port 803, the drain port 805 and the recycle port 804 are formed is also flattened . Thus, when the multiple valve 8b is rotated around the X axis by 90 degrees in the clockwise direction as viewed from the tip end, the chemical liquid port 801 and the dispensing port 802 are opened on the side surface of the main body 81, The port 803, the drain port 805 and the recycle port 804 are opened on the upper surface of the main body portion 81. Even in this case, since the bottom surface of the main body 81 becomes flat, the degree of freedom in installing and fixing the multi-valve 8b in the processing fluid supply source 70 is high.

다음으로, 도 11 및 도 12를 참조하면서, 제2 실시형태에 따른 다연 밸브(8c)의 구성에 대해서 설명한다. Next, the configuration of the multiple valve 8c according to the second embodiment will be described with reference to Figs. 11 and 12. Fig.

도 11에 도시한 바와 같이, 다연 밸브(8c)는 선단측에서 보아 좌측의 본체부(81)의 측벽면에, 리사이클 포트(804), 약액 포트(801), 드레인 포트(805)가 기단측으로부터 이 순서로 가로 방향으로 나란히 배치되어 있다. 또한, 선단측에서 보아 우측의 본체부(81)의 측벽면에는, 린스액 포트(803)가 형성되어 있다. 또한, 본체부(81)의 선단측의 측벽면에는 불출 포트(802)가 형성되어 있다.11, the multiple valve 8c is provided with a recycle port 804, a chemical liquid port 801, and a drain port 805 on the side wall surface of the left main body portion 81 as viewed from the front end side, Are arranged side by side in the horizontal direction in this order. A rinsing liquid port 803 is formed on a sidewall of the right main body portion 81 viewed from the tip end side. A dispensing port 802 is formed on the side wall of the front end of the main body 81.

도 12에 도시한 바와 같이, 본체부(81)의 종단면 형상은, 상하 방향으로 편평한 T자형으로 형성되고, T자의 가로대의 중앙 위치에는 약액 밸브체부(제1 밸브체부)(821)를 수용한 약액 밸브실(83c)이 형성되어 있다. 약액 밸브실(83c)의 내측면에는, 약액 포트(801)를 향해 개구가 형성되어 있는 한편, 약액 밸브실(83c)의 바닥면(제1 밸브 시트)에는 약액 밸브체부(821)에 의해 개폐되는 연결 유로(87)가 접속되어 있다. 연결 유로(87)는 약액 밸브실(83c)의 바닥면으로부터 하방측을 향해 연장되며, 약액 밸브실(83c)의 하방측에 배치되고, 린스액 밸브체부(제2 밸브체부)(822)를 수용한 린스액 밸브실(84b)의 상면에 접속되어 있다.12, a longitudinal section of the main body 81 is formed in a T-shape flat in the up-and-down direction, and a chemical liquid valve body (first valve body) 821 is accommodated in the central position of the T- And a chemical liquid valve chamber 83c is formed. An opening is formed in the inner surface of the liquid medicament valve chamber 83c toward the liquid medicament port 801 while an opening is formed in the bottom surface (first valve seat) of the liquid medicament valve chamber 83c by the medicament valve body portion 821 And a connection channel 87 is connected. The connection passage 87 extends downward from the bottom surface of the chemical liquid valve chamber 83c and is disposed on the lower side of the chemical liquid valve chamber 83c and has a rinsing liquid valve body portion (second valve body portion) And is connected to the upper surface of the rinsing liquid valve chamber 84b accommodated therein.

연결 유로(87)의 중앙의 높이 위치에 있어서의 선단측의 측면으로부터는, 처리액 공급로(83d)가 분기되고, 이 처리액 공급로(83d)는 본체부(81)의 선단측을 향해 가로 방향으로 연장되며, 그 말단부는 불출 포트(802)에 접속되어 있다. The treatment liquid supply path 83d is branched from the side of the distal end side at the height position in the center of the connection channel 87 and the treatment liquid supply path 83d is directed toward the distal end side of the main body 81 And its distal end is connected to the dispensing port 802. [

또한 처리액 공급로(83d)로부터는 드레인 유로(86a)가 분기되고, 이 드레인 유로(86a)는 드레인 밸브체부(제3 밸브체부)(823)를 수용한 드레인 밸브실(86b)의 바닥면(제3 밸브 시트)을 향해 개구되어 있는 것, 및 드레인 밸브실(86b)의 내벽면은 드레인 포트(805)를 향해 개구되어 있는 것은, 도 5에 도시한 이미 서술한 다연 밸브(8a)와 동일하다.The drain passage 86a is branched from the process liquid supply passage 83d and the drain passage 86a is connected to the bottom surface of the drain valve chamber 86b accommodating the drain valve body portion (third valve body portion) (The third valve seat) and the inner wall surface of the drain valve chamber 86b are opened toward the drain port 805 is the same as the above-described four-way valve 8a shown in Fig. 5 same.

또한, 린스액 밸브실(84b)의 내측면에는, 린스액 포트(803)를 향해 개구가 형성된다. 그리고 린스액 밸브실(84b)의 상면(제2 밸브 시트)에 개구되는 전술한 연결 유로(87)는, 린스액 밸브실(84b) 내에 수용된 린스액 밸브체부(822)에 의해 개폐된다. An opening is formed in the inner surface of the rinsing liquid valve chamber 84b toward the rinsing liquid port 803. [ The aforementioned connecting passage 87 opened to the upper surface (second valve seat) of the rinse liquid valve chamber 84b is opened and closed by the rinse liquid valve body portion 822 housed in the rinse liquid valve chamber 84b.

또한, 약액 밸브실(83c)의 내측면에는, 리사이클 유로(85a)가 접속되고, 이 리사이클 유로(85a)는, 비스듬히 상방으로 연장된 후, 약액 밸브실(83c)의 기단측의 위치에 인접하여 배치된 리사이클 밸브실(85b)의 내벽면에 접속되어 있다. 리사이클 밸브실(85b)은, 리사이클 밸브체부(824)를 수용하고, 그 바닥면으로부터는 하방측을 향해 리사이클 유로(85c)가 연장되어 있다. 리사이클 유로(85c)는, 본체부(81)의 측벽면측으로 도중에서 방향을 바꿔, 리사이클 포트(804)에 접속되어 있다.A recycle passage 85a is connected to the inner side surface of the chemical liquid valve chamber 83c and the recycle passage 85a extends obliquely upward and then is located adjacent to the base end side of the chemical liquid valve chamber 83c And is connected to the inner wall surface of the recycle valve chamber 85b. The recycle valve chamber 85b accommodates the recycle valve body portion 824, and the recycle passage 85c extends downward from the bottom surface thereof. The recycling passage 85c is connected to the recycle port 804 by changing the direction to the side wall surface side of the main body portion 81 on the way.

리사이클 밸브실(85b)에 수용되어 있는 리사이클 밸브체부(824)(도 13 내지 도 15 참조)는, 리사이클 밸브실(85b)의 바닥면(밸브 시트)에 개구되어 있는 리사이클 유로(85c)의 개폐를 행한다. 리사이클 밸브체부(824)는, 도 4에 도시한 복귀 라인(742)의 개폐 밸브(743)를 본체부(81) 내에 설치한 것이며, 다연 밸브(8c)의 온도 조정용 약액의 흐름을 정지할 때에 폐쇄된다.The recycle valve body portion 824 (see Figs. 13 to 15) accommodated in the recycle valve chamber 85b is opened and closed in the recycle valve 85c opened on the bottom surface (valve seat) of the recycle valve chamber 85b . The recycle valve body portion 824 is provided with the opening / closing valve 743 of the return line 742 shown in Fig. 4 in the main body portion 81. When the flow of the temperature adjusting liquid for the twin-cylinder valve 8c is stopped Lt; / RTI >

이상에 설명한 다연 밸브(8c)의 본체부(81) 내의 구조를 정리하면, T자형의 본체부(81)의 상단에는 기단측으로부터 순서대로, 리사이클 밸브실(85b), 약액 밸브실(83c), 드레인 밸브실(86b)이 직선 형상으로 나란히 배치되어 있다. 또한 중앙의 약액 밸브실(83c)의 하방측에는 린스액 밸브실(84b)이 배치되어 있다. The recycle valve chamber 85b and the chemical liquid valve chamber 83c are arranged in this order from the base end side in the upper end of the T-shaped main body portion 81, And the drain valve chamber 86b are arranged side by side in a straight line. A rinsing liquid valve chamber 84b is disposed below the central chemical liquid valve chamber 83c.

본 예에 있어서, 약액 포트(801)와 불출 포트(802)를 접속하는 약액 밸브실(83c)-연결 유로(87)-처리액 공급로(83d)는 제1 유로를 구성하고 있다. 또한, 린스액 포트(803)와 접속되고, 연결 유로(87)(합류부)에 합류하는, 린스액 밸브실(84b)은, 제2 유로를 구성하고 있다. 또한, 약액 밸브실(83c)로부터 분기되어 리사이클 포트(804)에 접속되는 리사이클 유로(85a)-리사이클 밸브실(85b)-리사이클 유로(85c)는 분기 유로를 구성하고 있다. 연결 유로(87)(합류부)와 불출 포트(802) 사이의 제1 유로[처리액 공급로(83d)]로부터 분기되어 드레인 포트(805)에 접속된 드레인 유로(86a)-드레인 밸브실(86b)이 폐액 유로를 구성하고 있는 점은, 도 5의 다연 밸브(8a)와 동일하다.In this embodiment, the chemical liquid valve chamber 83c, the connection path 87, and the process liquid supply path 83d that connect the liquid medicament port 801 and the dispensing port 802 constitute a first flow path. The rinsing liquid valve chamber 84b connected to the rinsing liquid port 803 and joined to the connecting flow path 87 (merging portion) constitutes the second flow path. The recycle passage 85a-recycle valve chamber 85b-recycle passage 85c branched from the chemical agent valve chamber 83c and connected to the recycle port 804 constitutes a branch passage. A drain flow path 86a branched from the first flow path (process liquid supply path 83d) between the connection flow path 87 (merging portion) and the discharge port 802 and connected to the drain port 805, 86b constitute the waste fluid passage, which is the same as the multi-valve 8a of Fig.

다음으로 도 13 내지 도 15를 참조하면서 다연 밸브(8c)의 동작에 대해서 설명한다.Next, the operation of the coarse valve 8c will be described with reference to Figs. 13 to 15. Fig.

도 13에 도시한 바와 같이, 약액 공급시에는 약액 밸브체부(821)를 개방 상태, 린스액 밸브체부(822), 드레인 밸브체부(823), 리사이클 밸브체부(824)를 폐쇄 상태로 한다. 이 결과, 약액 포트(801)로부터 유입된 약액이 제1 유로인 약액 밸브실(83c)→연결 유로(87)→처리액 공급로(83d)를 흘러 불출 포트(802)로부터 불출되고, 노즐부(41)를 통해 웨이퍼(W)에 토출된다.13, the chemical liquid valve body portion 821 is opened, the rinsing liquid valve body portion 822, the drain valve body portion 823, and the recycle valve body portion 824 are closed during chemical liquid supply. As a result, the chemical liquid flowing from the chemical liquid port 801 flows through the chemical liquid valve chamber 83c, the connection channel 87, and the process liquid supply channel 83d, which are the first channels, and is discharged from the discharge port 802, And is discharged to the wafer W through the discharge port 41.

이때, 온도 조정된 약액이 제1 유로[약액 밸브실(83c)-연결 유로(87)-처리액 공급로(83d)]를 흐르고, 약액으로부터의 전열에 의해, 본체부(81)나 약액 밸브체부(821) 등의 온도가 조정된다. 한편, 리사이클 밸브체부(824)를 개방 상태로 하여, 약액 밸브실(83c)로부터 분기된 분기 유로[리사이클 유로(85a)-리사이클 밸브실(85b)-리사이클 유로(85c)]에도 약액을 흘려도 좋다. 이 경우에는, 이미 서술한 제1 유로에 더하여, 분기 유로를 흐르는 약액으로부터의 전열에 의해서도 전술한 온도 조정이 행해진다. At this time, the temperature-adjusted chemical liquid flows through the first flow path (the chemical liquid valve chamber 83c, the connection path 87, and the process liquid supply path 83d), and the heat is transferred from the chemical liquid to the main body 81, The temperature of the body portion 821 and the like is adjusted. On the other hand, the chemical liquid may be also flowed into the branch passage (recycle passage 85a - recycle valve chamber 85b - recycle passage 85c) branched from the chemical liquid valve chamber 83c by opening the recycle valve body portion 824 . In this case, in addition to the above-described first flow path, the aforementioned temperature adjustment is also performed by heat transfer from the chemical liquid flowing through the branch flow path.

또한, 자중 드레인 동작시에는 도 14에 도시한 바와 같이 약액 밸브체부(821)를 폐쇄 상태로 하는 한편, 드레인 밸브체부(823)를 개방 상태로 하여, 노즐부(41)측의 처리액을 끌어들이는 점은 도 7의 다연 밸브(8a)와 동일하다. 또한, 리사이클 밸브체부(824)도 개방 상태로 한다. 이에 의해, 약액 밸브체부(821)를 폐쇄 상태로 해도 약액 밸브실(83c)로부터 리사이클 포트(804)를 향해 약액이 계속 흐르기 때문에, 상기 약액에 의한 다연 밸브(8c)의 온도 조정은 계속된다.14, the liquid chemical valve body portion 821 is closed and the drain valve body portion 823 is opened to draw the processing liquid on the nozzle portion 41 side 7 is the same as the multi-valve 8a in Fig. Further, the recycle valve body portion 824 is also opened. Thus, even if the liquid medicine valve body portion 821 is in the closed state, since the chemical liquid continuously flows from the chemical liquid valve chamber 83c toward the recycle port 804, the temperature adjustment of the multicylinder valve 8c by the chemical liquid continues.

린스액 공급시에는 도 15에 도시한 바와 같이 린스액 밸브체부(822)를 개방 상태, 약액 밸브체부(821), 드레인 밸브체부(823)를 폐쇄 상태로 한다. 이 결과, 린스액 포트(803)로부터 린스액이 유입되고, 제2 유로로부터 합류부의 하류측의 제1 유로를 향해, 린스액 밸브실(84b)→연결 유로(87)→처리액 공급로(83d)로 린스액이 흐르며, 불출 포트(802)로부터 불출되어 노즐부(41)로부터 웨이퍼(W)에 린스액이 공급된다. When the rinsing liquid is supplied, the rinsing liquid valve body portion 822 is opened and the chemical liquid valve body portion 821 and the drain valve body portion 823 are closed as shown in Fig. As a result, the rinsing liquid flows from the rinsing liquid port 803 and flows from the second flow path toward the first flow path on the downstream side of the confluence portion, from the rinsing liquid valve chamber 84b to the connecting flow path 87, And the rinsing liquid is supplied from the nozzle portion 41 to the wafer W. [

웨이퍼(W)에 린스액을 공급하고 있는 기간 중에 있어서도 리사이클 밸브체부(824)를 개방 상태로 해 둠으로써, 약액 공급로(83a)로부터 리사이클 포트(804)를 향해 약액이 계속 흐르기 때문에, 본체부(81) 내를 린스액이 통류하는 것에 의한 온도 변동의 폭이 억제된다.Since the chemical liquid continues to flow from the chemical liquid supply path 83a toward the recycle port 804 by keeping the recycle valve body portion 824 open during the period in which the rinsing liquid is supplied to the wafer W, The width of the temperature fluctuation caused by the passage of the rinsing liquid through the opening 81 is suppressed.

또한, 약액 밸브체부(821), 린스액 밸브체부(822), 드레인 밸브체부(823)를 폐쇄해도, 리사이클 밸브체부(824)를 개방 상태로 해 두면, 대기 기간 중에도 약액을 이용한 다연 밸브(8c)의 온도 조정을 계속할 수 있다. If the recycle valve body portion 824 is opened even when the chemical liquid valve body portion 821, the rinsing liquid valve body portion 822 and the drain valve body portion 823 are closed, the multi-burner valve 8c ) Can be continued.

제2 실시형태에 따른 다연 밸브(8c)는, 각 약액 밸브체부(821), 린스액 밸브체부(822), 드레인 밸브체부(823)의 측방측에 각 유로[제1 유로의 약액 포트(801), 제2 유로의 린스액 포트(803), 폐액 유로의 드레인 포트(805)]를 개구시키고 있기 때문에, 각 유로(87, 83d, 86a, 85a, 85c)의 구성이 간소해진다. 이 결과, 본체부(81)의 가공이 비교적 용이해진다.The four-way valve 8c according to the second embodiment is provided with the flow paths (the first flow path 801 (first flow path), the second flow path (second flow path), and the second flow path) on the side of each of the medicament valve body portion 821, the rinse liquid valve body portion 822, and the drain valve body portion 823 The rinsing liquid port 803 of the second flow path and the drain port 805 of the waste liquid flow path are opened to simplify the structure of the flow paths 87, 83d, 86a, 85a, 85c. As a result, the processing of the main body 81 becomes relatively easy.

또한, 약액과 린스액의 쌍방이 흐르는 연결 유로(87)-처리액 공급로(83d)의 유로가 비교적 짧기 때문에, 약액을 린스액으로 전환한 후의 처리액의 치환성이 좋다.Further, since the flow path of the connection channel 87 and the treatment liquid supply path 83d through which both the chemical liquid and the rinse liquid flow is relatively short, the replacement property of the treatment liquid after the chemical liquid is converted into the rinse liquid is good.

다음으로 도 16 내지 도 18을 참조하면서 제3 실시형태에 따른 다연 밸브(8d)의 구성에 대해서 설명한다. 도 16은 다연 밸브(8d)를 도 4에 도시한 다연 밸브(8a)와 동일한 방향에서 본 외관 사시도이고, 도 17은 도 16에 도시한 다연 밸브(8d)를, 상면측에서 보아 X축 주위로 시계 방향으로 90°만큼 회전시킨 외관 사시도이다. 또한 도 18은, 본체부(81)의 내부 구조를 도시한 투시도이다.Next, the configuration of the multiple valve 8d according to the third embodiment will be described with reference to Figs. 16 to 18. Fig. Fig. 16 is an external perspective view of the multi-valve 8d in the same direction as the multi-valve 8a shown in Fig. 4, and Fig. 17 is a cross- Which is rotated clockwise by 90 [deg.]. Fig. 18 is a perspective view showing the internal structure of the main body 81. Fig.

도 16 및 도 18에 도시한 바와 같이, 다연 밸브(8d)의 본체부(81)는, 대략 정육면체 형상으로 형성되고, 그 선단측의 측벽면에는 불출 포트(802) 및 리사이클 포트(804)가 좌우에 나란히 배치되어 있다. 한편, 본체부(81)의 기단측의 측벽면에는 린스액 포트(803) 및 약액 포트(801)가 좌우에 나란히 배치되어 있다. 또한 도 17에 도시한 바와 같이, 선단측에서 보아 본체부(81)의 하면의 우측 전방 위치에는, 드레인 포트(805)가 형성되어 있다.16 and 18, the main body 81 of the multi-burner valve 8d is formed in a substantially cubic shape, and a discharge port 802 and a recycle port 804 are formed on the side wall on the leading end side And are arranged side by side on the left and right. On the other hand, a rinse liquid port 803 and a chemical liquid port 801 are arranged side by side on the sidewall of the base end of the main body 81. 17, a drain port 805 is formed at the right front position of the lower surface of the main body portion 81 when seen from the tip end side.

도 18에 도시한 바와 같이, 약액 포트(801)의 개구가 형성되어 있는 위치에는, 약액 밸브체부(제1 밸브체부)(821)를 수용한 약액 밸브실(83c)이 형성되어 있다. 약액 밸브실(83c)의 바닥면(제1 밸브 시트)에는, 약액 밸브체부(821)에 의해 개폐되는 연결 유로(87)가 접속되어 있다. 연결 유로(87)는 약액 밸브실(83c)의 바닥면으로부터 하방측을 향해 연장되며, 약액 밸브실(83c)의 하방측에 배치되고, 린스액 밸브체부(제2 밸브체부)(822)를 수용한 린스액 밸브실(84b)의 상면에 접속되어 있다.18, a chemical liquid valve chamber 83c containing a chemical liquid valve body portion (first valve body portion) 821 is formed at a position where an opening of the chemical liquid port 801 is formed. A connection passage 87 that is opened and closed by the chemical liquid valve body portion 821 is connected to the bottom surface (first valve seat) of the chemical liquid valve chamber 83c. The connection passage 87 extends downward from the bottom surface of the chemical liquid valve chamber 83c and is disposed on the lower side of the chemical liquid valve chamber 83c and has a rinsing liquid valve body portion (second valve body portion) And is connected to the upper surface of the rinsing liquid valve chamber 84b accommodated therein.

연결 유로(87)의 중앙의 높이 위치에 있어서의 선단측의 측면으로부터는, 처리액 공급로(83d)가 분기되고, 이 처리액 공급로(83d)는 본체부(81)의 선단측을 향해 가로 방향으로 연장된 후, 그 말단부가 불출 포트(802)에 접속되어 있다.The treatment liquid supply path 83d is branched from the side of the distal end side at the height position in the center of the connection channel 87 and the treatment liquid supply path 83d is directed toward the distal end side of the main body 81 And extends in the transverse direction, and its distal end is connected to the dispensing port 802.

처리액 공급로(83d)로부터는 드레인 유로(86a)가 하방측을 향해 분기되고, 이 드레인 유로(86a)는 드레인 밸브체부(제3 밸브체부)(823)를 수용한 드레인 밸브실(86b)의 상면(제3 밸브 시트)을 향해 개구되어 있다. 또한, 드레인 밸브실(86b)의 내측면에는, 본체부(81)의 바닥면에 개구되는 드레인 포트(805)와 접속된 드레인 유로(86c)의 기단부가 개구되어 있다.The drain passage 86a branches downward from the process liquid supply passage 83d and the drain passage 86a is connected to the drain valve chamber 86b accommodating the drain valve body portion (third valve body portion) (The third valve seat). A base end portion of a drain flow path 86c connected to a drain port 805 opened on the bottom surface of the main body portion 81 is opened on the inner side surface of the drain valve chamber 86b.

또한, 린스액 밸브실(84b)의 내측면에는, 본체부(81)의 기단측의 측벽면에 개구되는 린스액 포트(803)와 접속된 린스액 공급로(84a)가 접속되어 있다.A rinsing liquid supply path 84a connected to a rinsing liquid port 803 opened to the side wall surface of the base end side of the main body portion 81 is connected to the inner side surface of the rinsing liquid valve chamber 84b.

한편, 린스액 밸브실(84b)의 상면(제2 밸브 시트)에 접속된 연결 유로(87)는, 린스액 밸브실(84b) 내에 수용된 린스액 밸브체부(822)에 의해 개폐된다.On the other hand, the connection passage 87 connected to the upper surface (second valve seat) of the rinsing liquid valve chamber 84b is opened and closed by the rinsing liquid valve body portion 822 housed in the rinsing liquid valve chamber 84b.

다음으로, 약액 밸브실(83c)의 내측면에는, 리사이클 유로(85a)가 접속되고, 이 리사이클 유로(85a)는, 본체부(81)의 상단의 앞쪽측, 우측 위치에 배치된 리사이클 밸브실(85b)의 내벽면에 접속되어 있다. 리사이클 밸브실(85b)은, 리사이클 밸브체부(824)를 수용하고, 그 바닥면으로부터는 본체부(81)의 선단측의 측벽면에 개구되는 리사이클 포트(804)를 향해 리사이클 유로(85c)가 연장되어 있다.Next, a recycle passage 85a is connected to the inner side surface of the chemical liquid valve chamber 83c, and the recycle passage 85a is connected to the recycle valve chamber 85c disposed on the front side and the right side of the upper end of the main body 81, And is connected to the inner wall surface of the second electrode 85b. The recycling valve chamber 85b accommodates the recycle valve body portion 824 and is provided with a recycling passage 85c from the bottom surface thereof toward the recycle port 804 which is opened at the side wall of the front end side of the main body portion 81 Extended.

이상에 설명한 다연 밸브(8d)의 본체부(81) 내의 구조를 정리하면, 정육면체 형상의 본체부(81)의 상단에는, 선단측에서 보아 기단측의 좌측 위치, 및 선단측의 우측 위치에, 각각 약액 밸브실(83c), 리사이클 밸브실(85b)이 대각선 상에 나란히 배치되어 있다. 또한 본체부(81)의 하단에는, 기단측 및 선단측의 좌측 위치에 린스액 밸브실(84b), 드레인 밸브실(86b)이 전후로 나란히 배치되어 있다.The structure of the main body 81 of the coarse valve 8d described above is summarized in that the upper end of the main body 81 in the shape of a cube is provided at the left side position on the base end side as seen from the tip end side and the right side position on the tip end side, The chemical liquid valve chamber 83c and the recycle valve chamber 85b are arranged side by side on the diagonal line. A rinse liquid valve chamber 84b and a drain valve chamber 86b are arranged side by side at the left and right positions on the base end side and the tip end side of the main body 81 at the lower end thereof.

본 예에 있어서, 약액 포트(801)와 불출 포트(802)를 접속하는 약액 밸브실(83c)-연결 유로(87)-처리액 공급로(83d)는 제1 유로를 구성하고 있다. 또한, 린스액 포트(803)와, 연결 유로(87)(합류부)를 접속하는 린스액 공급로(84a)-린스액 밸브실(84b)은 제2 유로를 구성하고 있다. 또한, 약액 밸브실(83c)로부터 분기되어 리사이클 포트(804)에 접속되는 리사이클 유로(85a)-리사이클 밸브실(85b)-리사이클 유로(85c)는 분기 유로를 구성하고 있다. 그리고 연결 유로(87)(합류부)와 불출 포트(802) 사이의 제1 유로[처리액 공급로(83d)]로부터 분기되어 드레인 포트(805)에 접속된 드레인 유로(86a)-드레인 밸브실(86b)-드레인 유로(86c)는 폐액 유로를 구성하고 있다. In this embodiment, the chemical liquid valve chamber 83c, the connection path 87, and the process liquid supply path 83d that connect the liquid medicament port 801 and the dispensing port 802 constitute a first flow path. The rinsing liquid supply path 84a and the rinsing liquid valve chamber 84b connecting the rinsing liquid port 803 and the connecting flow path 87 (merging portion) constitute the second flow path. The recycle passage 85a-recycle valve chamber 85b-recycle passage 85c branched from the chemical agent valve chamber 83c and connected to the recycle port 804 constitutes a branch passage. The drain flow path 86a branched from the first flow path (processing liquid supply path 83d) between the connection flow path 87 (merging section) and the discharge port 802 and connected to the drain port 805, The drain passage 86b and the drain passage 86c constitute a waste liquid flow passage.

다음으로 도 19 내지 도 21을 참조하면서 다연 밸브(8d)의 동작에 대해서 설명한다.Next, the operation of the multi-stage valve 8d will be described with reference to Figs. 19 to 21. Fig.

도 19에 도시한 바와 같이, 약액 공급시에는 약액 밸브체부(821)를 개방 상태, 린스액 밸브체부(822), 드레인 밸브체부(823), 리사이클 밸브체부(824)를 폐쇄 상태로 한다. 이 결과, 약액 포트(801)로부터 유입된 약액이 제1 유로인 약액 밸브실(83c)→연결 유로(87)→처리액 공급로(83d)를 흘러 불출 포트(802)로부터 불출되고, 노즐부(41)를 통해 웨이퍼(W)에 토출된다.19, when the chemical liquid is supplied, the chemical liquid valve body portion 821 is opened, the rinse liquid valve body portion 822, the drain valve body portion 823, and the recycle valve body portion 824 are closed. As a result, the chemical liquid flowing from the chemical liquid port 801 flows through the chemical liquid valve chamber 83c, the connection channel 87, and the process liquid supply channel 83d, which are the first channels, and is discharged from the discharge port 802, And is discharged to the wafer W through the discharge port 41.

이때, 온도 조정된 약액이 제1 유로[약액 밸브실(83c)-연결 유로(87)-처리액 공급로(83d)]를 흐르고, 약액으로부터의 전열에 의해, 본체부(81)나 약액 밸브체부(821) 등의 온도가 조정된다. 한편 이때, 리사이클 밸브체부(824)를 개방 상태로 하여, 약액 밸브실(83c)로부터 분기된 분기 유로[리사이클 유로(85a)-리사이클 밸브실(85b)-리사이클 유로(85c)]에도 약액을 흘려도 좋다. 이 경우에는, 이미 서술한 제1 유로에 더하여, 분기 유로를 흐르는 약액으로부터의 전열에 의해서도 전술한 온도 조정이 행해진다. At this time, the temperature-adjusted chemical liquid flows through the first flow path (the chemical liquid valve chamber 83c, the connection path 87, and the process liquid supply path 83d), and the heat is transferred from the chemical liquid to the main body 81, The temperature of the body portion 821 and the like is adjusted. On the other hand, at this time, even if the recycle valve body portion 824 is opened and the chemical liquid is also flowed into the branch passage (recycle passage 85a - recycle valve chamber 85b - recycle passage 85c) branching from the chemical liquid valve chamber 83c good. In this case, in addition to the above-described first flow path, the aforementioned temperature adjustment is also performed by heat transfer from the chemical liquid flowing through the branch flow path.

또한, 자중 드레인 동작시에는 도 20에 도시한 바와 같이 약액 밸브체부(821), 린스액 밸브체부(822)를 폐쇄 상태로 하는 한편, 드레인 밸브체부(823)를 개방 상태로 하여, 노즐부(41)측의 처리액을 처리액 공급로(83d)에 끌어들이고, 드레인 유로(86a)→드레인 밸브실(86b)→드레인 유로(86c)를 통해 처리액을 드레인 포트(805)로부터 배출한다. 또한, 리사이클 밸브체부(824)도 개방 상태로 한다. 이에 의해, 약액 밸브체부(821)를 폐쇄 상태로 해도 약액 밸브실(83c)로부터 리사이클 포트(804)를 향해 약액이 계속 흐르기 때문에, 상기 약액에 의한 다연 밸브(8d)의 온도 조정은 계속된다. 20, the chemical liquid valve body portion 821 and the rinsing liquid valve body portion 822 are closed while the drain valve body portion 823 is opened to open the nozzle portion 41 to the process liquid supply path 83d and the process liquid is discharged from the drain port 805 through the drain path 86a, the drain valve chamber 86b, and the drain path 86c. Further, the recycle valve body portion 824 is also opened. Thereby, even when the chemical liquid valve body portion 821 is in the closed state, since the chemical liquid flows continuously from the chemical liquid valve chamber 83c toward the recycle port 804, the temperature adjustment of the multicylinder valve 8d by the chemical liquid continues.

린스액 공급시에는 도 21에 도시한 바와 같이 린스액 밸브체부(822)를 개방 상태, 약액 밸브체부(821), 드레인 밸브체부(823)를 폐쇄 상태로 한다. 이 결과, 린스액 포트(803)로부터 린스액이 유입되고, 제2 유로로부터 합류부의 하류측의 제1 유로를 향해, 린스액 공급로(84a)→린스액 밸브실(84b)→연결 유로(87)→처리액 공급로(83d)로 린스액이 흐르며, 불출 포트(802)로부터 불출되어 노즐부(41)로부터 웨이퍼(W)에 린스액이 공급된다. When the rinse liquid is supplied, the rinsing liquid valve body portion 822 is opened and the chemical liquid valve body portion 821 and the drain valve body portion 823 are closed as shown in Fig. As a result, the rinsing liquid flows from the rinsing liquid port 803 and flows from the second flow path toward the first flow path on the downstream side of the confluence portion, from the rinsing liquid supply path 84a to the rinsing liquid valve chamber 84b, The rinse liquid flows from the dispensing port 802 to the processing liquid supply path 83d and the rinse liquid is supplied to the wafer W from the nozzle unit 41. [

웨이퍼(W)에 린스액을 공급하고 있는 기간 중에 있어서도 리사이클 밸브체부(824)를 개방 상태로 해 둠으로써, 약액 밸브실(83c)로부터 리사이클 포트(804)를 향해 약액이 계속 흐르기 때문에, 본체부(81) 내를 린스액이 통류하는 것에 의한 온도 변동의 폭이 억제된다. Since the chemical liquid continues to flow from the chemical liquid valve chamber 83c toward the recycle port 804 by keeping the recycle valve body portion 824 open during the period in which the rinsing liquid is supplied to the wafer W, The width of the temperature fluctuation caused by the passage of the rinsing liquid through the opening 81 is suppressed.

또한, 약액 밸브체부(821), 린스액 밸브체부(822), 드레인 밸브체부(823)를 폐쇄해도, 리사이클 밸브체부(824)를 개방 상태로 해 두면, 대기 기간 중에도 약액을 이용한 다연 밸브(8d)의 온도 조정을 계속할 수 있다. If the recycle valve body portion 824 is opened even when the chemical liquid valve body portion 821, the rinsing liquid valve body portion 822 and the drain valve body portion 823 are closed, the multi-burner valve 8d ) Can be continued.

제3 실시형태에 따른 다연 밸브(8d)에 있어서는, 분기 유로인 리사이클 유로(85a)는, 상기 리사이클 유로(85a)가 분기되는 위치보다 하류측의 제1 유로인 처리액 공급로(83d)를 따라 연장되어 있다. 그리고 제1 밸브 시트를 구성하는 약액 밸브실(83c)의 바닥면, 및 제2 밸브 시트를 구성하는 린스액 밸브실(84b)의 바닥면은, 제1 유로인 연결 유로(87)를 따라 배치되어 있다. 이 결과, 리사이클 유로(85a) 내를 흐르는 약액에 의한, 처리액 공급로(83d)를 흐르는 처리액의 온도 조정 성능이 높다. In the multiple valve 8d according to the third embodiment, the recycling passage 85a, which is the branch passage, is connected to the process liquid supply passage 83d, which is the first passage on the downstream side of the position where the recycle passage 85a is branched . The bottom surface of the chemical liquid valve chamber 83c constituting the first valve seat and the bottom surface of the rinse liquid valve chamber 84b constituting the second valve seat are arranged along the connection path 87 which is the first flow path . As a result, the temperature adjusting ability of the processing liquid flowing through the processing liquid supply path 83d due to the chemical liquid flowing in the recycle line 85a is high.

다음으로 도 22 내지 도 23을 참조하면서 제4 실시형태에 따른 다연 밸브(8e)의 구성에 대해서 설명한다.Next, the configuration of the multiple valve 8e according to the fourth embodiment will be described with reference to Figs. 22 to 23. Fig.

도 22 및 도 23에 도시한 바와 같이, 다연 밸브(8e)의 본체부(81)는, 중앙부로부터 위, 우측 아래, 좌측 아래의 3방향을 향해 뻗는 세 갈래 형상으로 형성되고, 상기 중앙부의 측벽면에 불출 포트(802)가 접속되어 있다. 한편, 상부측으로 돌출된 본체부(81)의 기단측 및 선단측의 측벽면에는 약액 포트(801) 및 리사이클 포트(804)가 접속되어 있다. 또한 본체부(81)의 하면은 평탄하게 되어 있고, 이 하면으로부터는 린스액 포트(803) 및 드레인 포트(805)가 기단측으로부터 선단측을 향해 이 순서로 형성되어 있다.As shown in Figs. 22 and 23, the main body portion 81 of the multi-valve 8e is formed in a triangular shape extending in three directions from the center to the upper, lower right and left lower sides, And a port 802 is connected to the wall surface. On the other hand, the chemical liquid port 801 and the recycle port 804 are connected to the base end side and the tip end side wall surface of the main body portion 81 protruding to the upper side. The lower surface of the main body portion 81 is flat and a rinsing liquid port 803 and a drain port 805 are formed in this order from the base end side to the tip end side.

도 23에 도시한 바와 같이, 약액 포트(801)와 리사이클 포트(804) 사이에 끼워지는 위치에는, 약액 밸브체부(제1 밸브체부)(821)를 수용한 약액 밸브실(제1 밸브실)(83c)이 형성되어 있다. 약액 밸브실(83c)의 내측면에는, 약액 포트(801)에 접속된 약액 공급로(83a), 및 리사이클 포트(804)에 접속된 리사이클 유로(85a)가 접속되어 있다. 약액 밸브실(83c)의 바닥면(제1 밸브 시트)에는, 약액 밸브체부(821)에 의해 개폐되는 약액 공급로(83b)가 접속되어 있다. 약액 공급로(83b)의 하단부는, 본체부(81)의 측면에 개구되는 불출 포트(802)에 접속되어 있다. (First valve chamber) housing the chemical liquid valve body portion (first valve body portion) 821 is provided at a position sandwiched between the chemical liquid port 801 and the recycle port 804, (83c) is formed. A chemical solution supply path 83a connected to the chemical solution port 801 and a recycle path 85a connected to the recycle port 804 are connected to the inner surface of the chemical solution valve chamber 83c. A liquid supply path 83b opened and closed by the liquid medicine valve body portion 821 is connected to the bottom surface (first valve seat) of the liquid medicine valve chamber 83c. The lower end of the chemical liquid supply path 83b is connected to a dispensing port 802 that is opened to the side surface of the main body 81. [

약액 공급로(83b)의 하단부로부터는, 좌측 아래 방향 및 우측 아래 방향을 향해 각각 린스액 공급로(84c), 드레인 유로(86a)가 연장되어 있다.From the lower end of the chemical solution supply path 83b, the rinsing liquid supply path 84c and the drain path 86a extend toward the lower left direction and the lower right direction, respectively.

린스액 공급로(84c)는, 린스액 밸브체부(제2 밸브체부)(822)를 수용한 린스액 밸브실(84b)의 단부면(제2 밸브 시트)에 접속되고, 린스액 공급로(84c)는 린스액 밸브체부(822)에 의해 개폐된다. 또한, 린스액 밸브실(84b)의 내측면에는 린스액 공급로(84a)가 개구되고, 이 린스액 공급로(84a)는, 본체부(81)의 하면에 개구되는 린스액 포트(803)와 접속되어 있다.The rinsing liquid supply path 84c is connected to the end surface (second valve seat) of the rinsing liquid valve chamber 84b containing the rinsing liquid valve body portion (second valve body portion) 822 and is connected to the rinsing liquid supply path 84c are opened and closed by the rinse liquid valve body portion 822. [ A rinsing liquid supply passage 84a is opened on the inner surface of the rinsing liquid valve chamber 84b and the rinsing liquid supply port 84a is connected to a rinsing liquid port 803 opened on the lower surface of the main body portion 81, Respectively.

드레인 유로(86a)는, 드레인 밸브체부(제3 밸브체부)(823)를 수용한 드레인 밸브실(86b)의 단부면(제3 밸브 시트)에 접속되고, 드레인 유로(86a)는 드레인 밸브체부(823)에 의해 개폐된다. 또한, 드레인 밸브실(86b)의 내측면에는 드레인 유로(86c)가 개구되고, 이 드레인 유로(86c)는, 본체부(81)의 하면에 개구되는 드레인 포트(805)와 접속되어 있다.The drain passage 86a is connected to the end face (third valve seat) of the drain valve chamber 86b that houses the drain valve body portion (third valve body portion) 823, and the drain passage 86a is connected to the drain valve body 86b (Not shown). A drain passage 86c is opened in the inner side surface of the drain valve chamber 86b and is connected to a drain port 805 which is opened in the lower surface of the main body portion 81. [

이상에 설명한 다연 밸브(8e)의 본체부(81) 내의 구조를 정리하면, 불출 포트(802)의 개구 위치를 중심으로 하여, 상방측, 좌측 아래쪽 및 우측 아래쪽의 위치에 방사상으로 3개의 약액 밸브실(83c), 린스액 밸브실(84b), 드레인 밸브실(86b)이 배치되어 있다. The structure of the body portion 81 of the four-way valve 8e described above is summarized in that the three chemical liquid valves 78 are radially arranged at the upper, lower left, and lower right positions with the opening position of the dispensing port 802 as the center. A chamber 83c, a rinse liquid valve chamber 84b, and a drain valve chamber 86b.

본 예에 있어서, 약액 포트(801)와 불출 포트(802)를 접속하는 약액 공급로(83a)-약액 밸브실(83c)-약액 공급로(83b)는 제1 유로를 구성하고 있다. 또한, 린스액 포트(803)와 약액 공급로(83b)의 하단부(합류부)를 접속하는 린스액 공급로(84a)-린스액 밸브실(84b)-린스액 공급로(84c)는 제2 유로를 구성하고 있다. 또한, 약액 밸브실(83c)로부터 분기되어 리사이클 포트(804)에 접속되는 리사이클 유로(85a)는 분기 유로를 구성하고 있다. 그리고 약액 공급로(83b)의 하단부(합류부)로부터 분기되어 드레인 포트(805)에 접속된 드레인 유로(86a)-드레인 밸브실(86b)-드레인 유로(86c)는 폐액 유로를 구성하고 있다.In this example, the chemical liquid supply path 83a, the chemical liquid valve chamber 83c, and the chemical liquid supply path 83b that connect the chemical liquid port 801 and the dispensing port 802 constitute the first flow path. The rinsing liquid supply path 84a, the rinsing liquid valve chamber 84b and the rinsing liquid supply path 84c for connecting the rinsing liquid port 803 and the lower end of the chemical liquid supply path 83b (merging portion) It constitutes the euro. The recycle passage 85a branched from the chemical agent valve chamber 83c and connected to the recycle port 804 constitutes a branch passage. The drain passage 86a, the drain valve chamber 86b, and the drain passage 86c branched from the lower end (junction) of the chemical solution supply passage 83b and connected to the drain port 805 constitute a waste fluid passage.

다음으로 도 24 내지 도 26을 참조하면서 다연 밸브(8e)의 동작에 대해서 설명한다. Next, the operation of the coarse valve 8e will be described with reference to Figs. 24 to 26. Fig.

도 24에 도시한 바와 같이, 약액 공급시에는 약액 밸브체부(821)를 개방 상태, 린스액 밸브체부(822), 드레인 밸브체부(823)를 폐쇄 상태로 한다. 이 결과, 약액 포트(801)로부터 유입된 약액이 제1 유로인 약액 공급로(83a)→약액 밸브실(83c)→약액 공급로(83b)를 흘러 불출 포트(802)로부터 불출되고, 노즐부(41)를 통해 웨이퍼(W)에 토출된다. 24, when the chemical liquid is supplied, the chemical liquid valve body portion 821 is opened, and the rinse liquid valve body portion 822 and the drain valve body portion 823 are closed. As a result, the chemical liquid flowing from the chemical liquid port 801 flows through the chemical liquid supply path 83a, the chemical liquid valve chamber 83c, the chemical liquid supply path 83b, and is discharged from the discharge port 802, And is discharged to the wafer W through the discharge port 41.

또한, 복귀 라인(742)의 개폐 밸브(743)를 폐쇄하여 리사이클 유로(85a)에 있어서의 약액의 통류를 정지한다.Further, the opening / closing valve 743 of the return line 742 is closed to stop the flow of the chemical liquid in the recycle line 85a.

이때, 온도 조정된 약액이 제1 유로[약액 공급로(83a)-약액 밸브실(83c)-약액 공급로(83b)]를 흐르고, 약액으로부터의 전열에 의해, 본체부(81)나 약액 밸브체부(821) 등의 온도가 조정된다. 한편, 복귀 라인(742)의 개폐 밸브(743)를 개방 상태로 하여, 약액 밸브실(83c)로부터 분기된 분기 유로[리사이클 유로(85a)]에도 약액을 흘려도 좋다. 이 경우에는, 이미 서술한 제1 유로에 더하여, 분기 유로를 흐르는 약액으로부터의 전열에 의해서도 전술한 온도 조정이 행해진다.At this time, the temperature-adjusted chemical liquid flows through the first flow path (chemical liquid supply path 83a), the chemical liquid valve chamber 83c, and the chemical liquid supply path 83b, The temperature of the body portion 821 and the like is adjusted. On the other hand, the open / close valve 743 of the return line 742 may be opened to allow the chemical liquid to flow into the branch flow path (recycle flow path 85a) branching from the chemical liquid valve chamber 83c. In this case, in addition to the above-described first flow path, the aforementioned temperature adjustment is also performed by heat transfer from the chemical liquid flowing through the branch flow path.

또한, 자중 드레인 동작시에는 도 25에 도시한 바와 같이 약액 밸브체부(821), 린스액 밸브체부(822)를 폐쇄 상태로 하는 한편, 드레인 밸브체부(823)를 개방 상태로 하여, 노즐부(41)측의 처리액을 드레인 유로(86a)에 끌어들이고, 드레인 유로(86a)→드레인 밸브실(86b)→드레인 유로(86c)를 통해 처리액을 드레인 포트(805)로부터 배출한다. 또한, 복귀 라인(742)의 개폐 밸브(743)는 개방 상태로 한다. 이에 의해, 약액 밸브체부(821)를 폐쇄 상태로 해도 약액 공급로(83a)→약액 밸브실(83c)→리사이클 유로(85a)를 통해 리사이클 포트(804)를 향해 약액이 계속 흐르기 때문에, 상기 약액에 의한 다연 밸브(8e)의 온도 조정은 계속된다. 25, the chemical liquid valve body portion 821 and the rinse liquid valve body portion 822 are closed while the drain valve body portion 823 is opened to open the nozzle portion 41 is drawn into the drain passage 86a and the process liquid is discharged from the drain port 805 through the drain passage 86a, the drain valve chamber 86b and the drain passage 86c. Further, the open / close valve 743 of the return line 742 is opened. Thus, even when the chemical liquid valve body portion 821 is in the closed state, the chemical liquid continues to flow toward the recycle port 804 through the chemical liquid supply path 83a, the chemical liquid valve chamber 83c, and the recycle line 85a. The temperature adjustment of the multi-stage valve 8e is continued.

린스액 공급시에는 도 26에 도시한 바와 같이 린스액 밸브체부(822)를 개방 상태, 약액 밸브체부(821), 드레인 밸브체부(823)를 폐쇄 상태로 한다. 이 결과, 린스액 포트(803)로부터 린스액이 유입되고, 제2 유로로부터 합류부를 향해, 린스액 공급로(84a)→린스액 밸브실(84b)→린스액 공급로(84c)로 린스액이 흐르며, 불출 포트(802)로부터 불출되어 노즐부(41)로부터 웨이퍼(W)에 린스액이 공급된다.When the rinse liquid is supplied, the rinse liquid valve body portion 822 is opened and the chemical liquid valve body portion 821 and the drain valve body portion 823 are closed as shown in Fig. As a result, the rinsing liquid flows from the rinsing liquid port 803 and flows from the second flow path toward the merging portion through the rinsing liquid supply path 84a, the rinsing liquid valve chamber 84b, and the rinsing liquid supply path 84c, And is discharged from the dispensing port 802 to supply the rinsing liquid to the wafer W from the nozzle unit 41. [

웨이퍼(W)에 린스액을 공급하고 있는 기간 중에 있어서도 복귀 라인(742)의 개폐 밸브(743)를 개방 상태로 해 둠으로써, 약액 공급로(83a)→약액 밸브실(83c)→리사이클 유로(85a)를 통해 리사이클 포트(804)를 향해 약액이 계속 흐르기 때문에, 본체부(81) 내를 린스액이 통류하는 것에 의한 온도 변동의 폭이 억제된다. Closing valve 743 of the return line 742 is opened while the rinse liquid is being supplied to the wafer W so that the chemical liquid supply passage 83a, the chemical liquid valve chamber 83c, the recycle line The width of the temperature fluctuation due to the passage of the rinsing liquid through the main body portion 81 is suppressed because the chemical solution continues to flow toward the recycle port 804 through the main body portion 85a.

또한, 약액 밸브체부(821), 린스액 밸브체부(822), 드레인 밸브체부(823)를 폐쇄해도, 약액 포트(801)로부터 리사이클 포트(804)를 향해 약액이 계속 흐르기 때문에, 대기 기간 중에도 약액을 이용한 다연 밸브(8c)의 온도 조정을 계속할 수 있다. Even when the chemical liquid valve body portion 821, the rinse liquid valve body portion 822 and the drain valve body portion 823 are closed, the chemical liquid flows continuously from the chemical liquid port 801 toward the recycle port 804, It is possible to continue the temperature adjustment of the multi-stage valve 8c.

제4 실시형태에 따른 다연 밸브(8e)는, 린스액의 공급 전에 자중 드레인 동작으로 배출된 약액이 드레인 유로(86c)를 통해 하방측을 향해 빼내지기 때문에, 자중에 의해 약액을 빼내기 쉬우며, 약액과 린스액과의 치환성이 높다.In the four-stroke valve 8e according to the fourth embodiment, since the chemical liquid discharged by the self-weight drain operation is taken out through the drain passage 86c before the rinse liquid is supplied, the chemical liquid is liable to be taken out by its own weight, The substitution property of the chemical solution and the rinsing liquid is high.

이상, 도 4 내지 도 26을 참조하면서, 여러 가지 구성을 구비하는 다연 밸브(8a∼8e)에 대해서 설명하였다. 이들 다연 밸브(8a∼8e)는, 제1 유로, 제2 유로, 분기 유로, 폐액 유로가 연장되는 방향이나 유로의 길이가 여러 가지로 상이하지만, 공통의 기본 구조를 구비하고 있다. 그래서 도 27의 (a)에 이들 실시형태에 따른 다연 밸브(8)의 기본 구조를 모식적으로 도시한다.The four-way valves 8a to 8e having various configurations have been described above with reference to Figs. 4 to 26. Fig. These multiple valves 8a to 8e have a common basic structure although the first flow path, the second flow path, the branch flow path, and the waste fluid flow path have different directions and the lengths of the flow paths. 27 (a) schematically shows the basic structure of the twin-cylinder valve 8 according to these embodiments.

도 27의 (a)에 도시한 바와 같이, 다연 밸브(8)는 상류측의 제1 수용구(901)로부터 하류측의 불출구(902)를 향해 본체부(81) 내에 형성된 제1 유로(91)에는, 상기 제1 유로(91)에 형성된 제1 밸브 시트(도시하지 않음)의 개폐를 행하는 제1 밸브체부(911)가 설치되어 있다. 또한 제1 밸브체부(911)의 하류측의 위치에는, 제2 유로(92)가 합류하고, 이 제2 유로(92)에 형성된 제2 밸브 시트(도시하지 않음)의 개폐를 행하는 제2 밸브체부(921)가 설치되어 있다. 또한 제2 유로(92)의 상류단은 제2 수용구(903)에 접속되어 있다. 그리고, 제1 유로(91)에 있어서의 제1 밸브체부(911)보다 상류측의 위치로부터는 분기 유로(93)가 분기되고, 이 분기 유로(93)의 하류측은 배출구(904)에 접속되어 있다. As shown in Fig. 27 (a), the multi-burner valve 8 includes a first flow path 901 formed in the main body 81 toward the discharge port 902 on the downstream side from the first reception port 901 on the upstream side 91 are provided with a first valve body portion 911 for opening and closing a first valve seat (not shown) formed in the first flow passage 91. [ A second valve 92 is provided at a position downstream of the first valve body 911 to open and close a second valve seat (not shown) formed in the second flow passage 92, A body portion 921 is provided. The upstream end of the second flow path 92 is connected to the second receiving port 903. The branch passage 93 is branched from a position on the upstream side of the first valve body 911 of the first flow passage 91 and the downstream side of the branch passage 93 is connected to the discharge port 904 have.

이와 같이 본체부(81)는, 반드시 폐액 유로(94)를 구비하고 있지 않아도 좋다.In this way, the main body portion 81 does not necessarily have the waste liquid flow path 94.

도 27의 (b)에는, 도 12 및 도 18에 도시한 다연 밸브(8c, 8e)에 대응하는 다연 밸브(8)의 구성을 모식적으로 도시하고 있다. 자중 드레인 동작시의 노즐부(41)로부터의 폐액을 배출하는 폐액 유로(94)를 형성하는 경우에는, 제1 유로(91)와 제2 유로(92)의 합류부보다 하류측의 제1 유로(91)로부터 폐액 유로(94)를 분기시킨다. 그리고, 폐액 유로(94)에 설치된 제3 밸브 시트(도시하지 않음)를 개폐하는 제3 밸브체부(941)를 설치해도 좋다. 이에 의해, 폐액구(905)로부터 배출되는 처리액이 상기 합류부보다 상류측의 처리액에 혼입되는 것을 방지할 수 있다.Fig. 27 (b) schematically shows the configuration of the multiple valve 8 corresponding to the multi-stage valves 8c and 8e shown in Figs. 12 and 18. Fig. When the waste liquid flow path 94 for discharging the waste liquid from the nozzle unit 41 in the self-weighted drain operation is formed, the first flow path 91 and the second flow path 92, which are located downstream of the merging portion of the first flow path 91 and the second flow path 92, The waste liquid flow path 94 is branched from the waste liquid flow path 91. A third valve body portion 941 for opening and closing a third valve seat (not shown) provided in the waste fluid passage 94 may be provided. This makes it possible to prevent the treatment liquid discharged from the waste solution port 905 from being mixed into the treatment liquid on the upstream side of the merging portion.

또한, 도 27의 (b)의 다연 밸브(8)와 같이, 분기 유로(93)에 설치된 밸브 시트(도시하지 않음)의 개폐를 행하는 밸브체부(931)를 본체부(81) 내에 설치해도 좋다. A valve body portion 931 for opening and closing a valve seat (not shown) provided in the branch passage 93 may be provided in the main body portion 81 as in the case of the multi-valve 8 in Fig. 27 (b) .

또한, 도 27의 (c)에 도시한 바와 같이, 제1 유로(91)에 대하여 복수의 제2 유로(92a), 제2 유로(92b)를 합류시켜도 좋다. 이 경우에는, 처리액의 공급을 행하지 않는 제2 유로(92b, 92a)의 제2 밸브체부(921)를 폐쇄한 상태로 해 두고, 처리액의 공급을 행하는 제2 유로(92a, 92b)의 제2 밸브체부(921)와 제1 유로(91)의 제1 밸브체부(911)에 주목하면, 제어 장치(4)는, 제1 밸브체부(911), 제2 밸브체부(921) 중 한쪽을 개방하고, 다른쪽을 폐쇄하는 제어를 행하고 있다고 할 수 있다. 27 (c), a plurality of second flow paths 92a and a plurality of second flow paths 92b may be joined to the first flow path 91. Further, as shown in Fig. In this case, the second valve bodies 921 of the second flow paths 92b and 92a, which are not to be supplied with the processing liquid, are closed and the second flow paths 92a and 92b Paying attention to the second valve body portion 921 and the first valve body portion 911 of the first flow path 91, the control device 4 controls the first valve body portion 911, the second valve body portion 921, And the other side is closed.

또한, 노즐부(41)로부터만 온도 조정된 처리액을 토출하고 있을 때와, 상기 처리액의 토출을 행하고 있지 않을 때[분기 유로(93)에만 온도 조정된 처리액을 통류시키고 있을 때]에서, 다연 밸브(8)에 공급하는 상기 처리액의 양을 변화시켜도 좋다. 예컨대, 노즐부(41)로부터 토출하는 처리액이 소량인 경우에, 노즐부(41)로부터 처리액의 토출을 행하고 있지 않을 때에는, 분기 유로(93)에 흘리는 처리액의 양을 토출량보다 많게 함으로써, 보다 확실하게 다연 밸브(8)의 온도 조정을 행할 수 있다.Further, when the processing liquid whose temperature is adjusted only from the nozzle unit 41 is being discharged and when the processing liquid is not being discharged (when the processing liquid whose temperature has been adjusted only in the branching flow path 93 is flowing) , The amount of the processing liquid supplied to the multi-stage valve (8) may be changed. For example, when the amount of the processing liquid discharged from the nozzle unit 41 is small and the processing liquid is not being discharged from the nozzle unit 41, the amount of the processing liquid that flows into the branching flow path 93 is made larger than the discharge amount , The temperature of the multi-stage valve 8 can be more reliably adjusted.

여기서, 본 발명의 각 실시형태에 따른 다연 밸브(8, 8a∼8e)가 접속되는 토출부는, 회전하는 웨이퍼(W)의 상면측으로부터 처리액을 공급하는 노즐부(41)에 한정되지 않는다. 예컨대, 도 2에 도시한 처리 유닛(16)의 유지부(31)의 상면과의 사이에 간극을 두고, 유지부(31)의 상방에 유지된 웨이퍼(W)의 하면을 향해 처리액을 토출하기 위해, 지주부(32)를 상하 방향 관통하는 토출 라인(42)에 본 실시형태의 다연 밸브(8, 8a∼8e)를 구비하는 처리 유체 공급원(70)을 접속해도 좋다. 이 경우에는, 예컨대 유지부(31)의 상면에 형성된 개구부가 처리액의 토출부가 된다.Here, the discharge portion to which the multiple valves 8, 8a to 8e according to the respective embodiments of the present invention are connected is not limited to the nozzle portion 41 for supplying the process liquid from the upper surface side of the rotating wafer W. [ The processing liquid is discharged toward the lower surface of the wafer W held above the holding portion 31 with a gap between the upper surface of the holding portion 31 of the processing unit 16 shown in Fig. The processing fluid supply source 70 having the multiple valves 8 and 8a to 8e of the present embodiment may be connected to the discharge line 42 passing through the support portion 32 in the up and down direction. In this case, for example, an opening portion formed on the upper surface of the holding portion 31 is a discharging portion of the process liquid.

또한, 처리 유닛(16)을 이용하여 처리되는 기판의 종류는, 반도체 웨이퍼에 한정되는 것은 아니다. 예컨대 플랫 패널 디스플레이용의 유리 기판의 액 처리를 행하는 처리 유닛(16)의 처리 유체 공급원(70)에 대해서도 본 발명은 적용할 수 있다. The type of the substrate to be processed using the processing unit 16 is not limited to a semiconductor wafer. The present invention is also applicable to the processing fluid supply source 70 of the processing unit 16 that performs the liquid processing of a glass substrate for a flat panel display, for example.

8, 8a∼8e: 다연 밸브 801: 약액 포트
802: 불출 포트 803: 린스액 포트
804: 리사이클 포트 81: 본체부
821: 약액 밸브체부 822: 린스액 밸브체부
83a, 83b: 약액 공급로 83d: 처리액 공급로
84a, 84c: 린스액 공급로 85a, 85c: 분기 유로8, 8a to 8e: multiple valve 801: chemical liquid port
802: Outgoing port 803: Rinse port
804: recycling port 81:
821: Chemical liquid valve body part 822: Rinse liquid valve body part
83a, 83b: Chemical liquid supply path 83d: Process liquid supply path
84a, 84c: rinsing liquid supply path 85a, 85c:

Claims (9)

복수의 처리액을 전환하여 불출구(拂出口)로부터 불출하는 전환 밸브에 있어서,
상기 전환 밸브의 본체부와,
상기 본체부에 형성되고, 제1 처리액을 받아들이는 제1 수용구와, 제2 처리액을 받아들이는 제2 수용구와,
상기 본체부에 형성되고, 상기 제1 수용구와 상기 불출구를 접속하는 제1 유로와,
상기 본체부에 형성되고, 상기 제1 유로에 합류하며, 상류단이 상기 제2 수용구에 접속된 제2 유로와,
상기 본체부에 형성되고, 상기 제1 유로에 있어서, 상기 제1 유로와 제2 유로가 합류하는 합류부보다 상류측에 설치된 제1 밸브 시트, 및 상기 제1 밸브 시트를 개폐하는 상기 본체부와는 별체(別體)의 제1 밸브체부와,
상기 본체부에 형성되고, 상기 제2 유로에 설치된 제2 밸브 시트, 및 상기 제2 밸브 시트를 개폐하는 상기 본체부와는 별체의 제2 밸브체부와,
상기 본체부에 형성되고, 상기 제1 유로에 있어서, 상기 제1 밸브 시트보다 상류측으로부터 분기되거나, 또는 상기 제1 밸브체부를 수용하는 상기 제1 유로에 형성된 제1 밸브실에 접속되는 분기 유로와,
상기 본체부에 형성되고, 분기 유로의 하류단에 형성되며, 제1 처리액을 배출하는 배출구를 구비한 것을 특징으로 하는 전환 밸브. In a switching valve for switching a plurality of treatment liquids and dispensing from a discharge port,
A main body portion of the switching valve,
A first receptacle formed in the main body portion for receiving the first processing liquid, a second receptacle for receiving the second processing liquid,
A first flow path formed in the main body and connecting the first receptacle and the discharge port,
A second flow path formed in the main body and joined to the first flow path and having an upstream end connected to the second receiving port,
A first valve seat formed in the main body portion and provided on an upstream side of a merging portion where the first flow path and the second flow path join together in the first flow path and the main valve portion opening and closing the first valve seat A first valve body of a separate body,
A second valve seat formed in the main body and provided in the second flow passage and a second valve body separate from the main body for opening and closing the second valve seat,
A branch valve which is formed in the main body and branches from an upstream side of the first valve seat in the first flow path or connected to a first valve chamber formed in the first flow path for accommodating the first valve body, Wow,
And a discharge port formed in the main body and formed at a downstream end of the branch flow passage for discharging the first treatment liquid. 제1항에 있어서, 상기 분기 유로는, 상기 분기 유로가 분기되는 위치보다 하류측의 제1 유로를 따라 연장되어 있고, 상기 제1 밸브 시트 및 상기 제2 밸브 시트는, 상기 제1 유로를 따라 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 전환 밸브. 2. The apparatus according to claim 1, wherein the branch passage extends along a first passage downstream of the branching passage, and the first valve seat and the second valve seat extend along the first passage Wherein the first and second flow paths are arranged in the first direction. 제1항에 있어서, 상기 본체부는 직육면체 형상으로 형성되고, 상기 제1 수용구는 상기 본체부의 일측면에 형성되며, 상기 불출구는 상기 일측면에 대향하는 본체부의 측면에 형성되고, 상기 제2 수용구는 상기 제1 수용구 및 불출구가 형성되어 있는 측면과는 다른 본체부의 측면에 형성되며, 상기 배출구는 본체부의 바닥면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 전환 밸브. 2. The apparatus according to claim 1, wherein the body portion is formed in a rectangular parallelepiped shape, the first receptacle is formed on one side surface of the main body portion, the non-discharge port is formed on a side surface of the main body portion facing the one side surface, Wherein the sphere is formed on a side surface of the main body different from a side surface on which the first receiving port and the non-discharge port are formed, and the discharge port is formed on the bottom surface of the main body portion. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 본체부에 형성되고, 상기 제1 유로에 있어서, 상기 합류부와 불출구 사이로부터 분기된 폐액 유로와,
상기 본체부에 형성되고, 상기 폐액 유로에 있어서의 제1 유로측과 반대측의 단부에 형성된 폐액구와,
상기 본체부에 형성되고, 상기 폐액 유로에 설치된 제3 밸브 시트, 및 상기 제3 밸브 시트를 개폐하는 상기 본체부와는 별체의 제3 밸브체부를 구비한 것을 특징으로 하는 전환 밸브. 4. The method according to any one of claims 1 to 3,
A waste liquid flow path formed in the main body portion and branched from the merging portion and the non-discharge port in the first flow path,
A waste liquid port formed in the main body portion and formed in an end portion of the waste liquid flow path opposite to the first flow path side,
A third valve seat formed in the main body portion and provided in the waste fluid channel; and a third valve body separate from the main body portion opening and closing the third valve seat. 제4항에 있어서, 상기 폐액 유로는, 상기 제1 유로로부터 하방측을 향해 처리액을 배출하도록 분기되어 있는 것을 특징으로 하는 전환 밸브. The switching valve according to claim 4, wherein the waste liquid flow path is branched so as to discharge the processing liquid from the first flow path to the downward side. 액 처리 장치에 있어서,
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 전환 밸브와,
상기 전환 밸브의 제1 수용구에 접속되는 제1 처리액 공급로와,
상기 전환 밸브의 제2 수용구에 접속되는 제2 처리액 공급로와,
상기 전환 밸브의 불출구로부터 불출된 처리액을 기판에 토출하여 처리를 행하는 토출부와,
상기 제1 처리액 공급로에 흐르는 제1 처리액을 온도 조정하는 온도 조정부와,
상기 분기 유로로부터 상기 배출구에 제1 처리액을 흘린 상태에서, 상기 전환 밸브의 제1 밸브 시트 및 제2 밸브 시트 중 한쪽을 개방하고, 다른쪽을 폐쇄하기 위한 제어 신호를 출력하는 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 액 처리 장치. A liquid processing apparatus comprising:
A liquid ejecting apparatus comprising: the switching valve according to any one of claims 1 to 3;
A first processing liquid supply path connected to the first receiving port of the switching valve,
A second processing liquid supply path connected to a second receiving port of the switching valve,
A discharge portion for discharging the processing liquid dispensed from the discharge port of the switching valve to the substrate to perform processing,
A temperature adjusting section for adjusting a temperature of the first processing liquid flowing in the first processing liquid supply path,
And a control unit for opening one of the first valve seat and the second valve seat of the switching valve and outputting a control signal for closing the other valve seat in a state in which the first processing liquid is flowed from the branching flow path to the discharge port And the liquid processing apparatus. 제6항에 있어서,
상기 전환 밸브는,
상기 본체부에 형성되고, 상기 제1 유로에 있어서, 상기 합류부와 불출구 사이로부터 분기된 폐액 유로와,
상기 본체부에 형성되고, 상기 폐액 유로에 있어서의 제1 유로측과 반대측의 단부에 형성된 폐액구와,
상기 본체부에 형성되고, 상기 폐액 유로에 설치된 제3 밸브 시트, 및 상기 제3 밸브 시트를 개폐하는 상기 본체부와는 별체의 제3 밸브체부를 구비하고,
상기 제어부는, 상기 제1 밸브 시트 및 제2 밸브 시트 중 어느 한쪽을 개방할 때에는 제3 밸브 시트를 폐쇄하고, 제3 밸브 시트를 개방할 때에는 상기 제1 밸브 시트 및 제2 밸브 시트를 폐쇄하도록 제어 신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 액 처리 장치. The method according to claim 6,
The switching valve includes:
A waste liquid flow path formed in the main body portion and branched from the merging portion and the non-discharge port in the first flow path,
A waste liquid port formed in the main body portion and formed in an end portion of the waste liquid flow path opposite to the first flow path side,
A third valve seat formed in the main body portion and provided in the waste liquid flow passage, and a third valve body separate from the main body portion opening and closing the third valve seat,
Wherein the control unit closes the third valve seat when the first valve seat and the second valve seat are opened and closes the first valve seat and the second valve seat when the third valve seat is opened And outputs a control signal. 제6항에 있어서,
상기 제1 처리액 공급로에 제1 처리액을 공급하는 제1 처리액 공급부와,
상기 배출구에 접속되고, 상기 배출구로부터 배출된 제1 처리액을 상기 제1 처리액 공급부로 복귀시키는 리사이클로를 구비한 것을 특징으로 하는 액 처리 장치. The method according to claim 6,
A first processing liquid supply section for supplying the first processing liquid to the first processing liquid supply path,
And a recycle furnace connected to the discharge port and returning the first process liquid discharged from the discharge port to the first process liquid supply unit. 제6항에 있어서,
기판을 수평으로 유지하는 기판 유지부와,
상기 기판 유지부를 연직축 주위로 회전시키는 회전 기구를 구비하고,
상기 토출부는, 회전하는 기판에 처리액을 토출하는 것을 특징으로 하는 액 처리 장치. The method according to claim 6,
A substrate holding unit for holding the substrate horizontally,
And a rotating mechanism for rotating the substrate holding part about a vertical axis,
Wherein the discharging portion discharges the treatment liquid onto the rotating substrate.
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