KR20150065710A - 마크로시클릭 뎁시펩티드의 제조를 위한 알데히드 아세탈 기반 공정 및 신규 중간체 - Google Patents

마크로시클릭 뎁시펩티드의 제조를 위한 알데히드 아세탈 기반 공정 및 신규 중간체 Download PDF

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Abstract

본 발명은 알데히드 아세탈 중간체 화학식 I를 사용하는 하기 화학식 I의 뎁시펩티드의 화학 제조를 위한 방법 또는 공정, 신규 중간체 및 그의 제조, 뿐만 아니라 관련된 발명 실시양태에 관한 것이다.
<화학식 I>
Figure pct00131

상기 식에서, 기호는 본 명세서에 정의된 의미를 갖는다.

Description

마크로시클릭 뎁시펩티드의 제조를 위한 알데히드 아세탈 기반 공정 및 신규 중간체 {ALDEHYDE ACETAL BASED PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OF MACROCYCLIC DEPSIPEPTIDES AND NEW INTERMEDIATES}
본 발명은 마크로시클릭 뎁시펩티드의 제조를 위한 방법 또는 공정, 신규 중간체 및 그의 제조, 뿐만 아니라 관련된 발명 실시양태에 관한 것이다.
시클릭 뎁시펩티드는 약리학에서 수많은 용도를 갖는다. 예로서, WO 2009/024527에 개시된 뎁시펩티드는 다양한 질환의 치료에 유용하다. 예를 들어, WO 2009/024527에 언급된 화학식 II의 화합물은 염증성 및/또는 과다증식성 및 소양성 피부 질환, 예컨대 아토피성 피부염, 건선, 농포성 건선, 장미증, 켈로이드, 비후성 반흔, 여드름, 네더톤 증후군 또는 다른 소양성 피부병, 예컨대 결절성 양진, 노인의 상세불명의 가려움증, 뿐만 아니라 상피 장벽 기능장애를 동반한 다른 질환, 예컨대 노화 피부의 치료 및 예방에 유용하다.
이전에 시아노박테리움 노스톡(Nostoc)으로부터 단리된 노스토펩틴 BN920이 또한 마이크로시스티스(Microcystis)로부터 단리되었다. 노스토펩틴(Nostopeptin) BN920은 31 nM의 IC50 값으로 키모트립신을 억제하였다 (문헌 [J. Nat. Prod. 68(9), 1324-7 (2005)] 참조).
이들 화합물은, 각각 소위 ahp-하위구조 (ahp: 3-아미노-6-히드록시-피페리딘-2-온) 및 상응하는 데히드로-ahp 하위구조 (데히드로-ahp: 3-아미노-3,4-디히드로-1H-피리딘-2-온) (또한 본원에서 "탈수화물"이라 함)를 포함하는 다른 뎁시펩티드와 함께 발효 (콘드로미세스 크로악투스(Chondromyces croactus), 믹소박테리아 사용)에 의해 생산될 수 있다. 따라서, 이들 화합물 중 임의의 단일의 것과 관련된 발효의 수율은 다소 낮다.
지금까지, 이러한 화합물의 합성은 용액 화학 접근법을 기반으로 하거나, 또는 고체 상 및 용액 펩티드 화학의 조합에 의한 동시계류 중인 PCT 출원 번호 PCT/IB2012/051977에 있었다.
결정적 단계는 ahp-하위구조의 형성이다. 이는, 공개된 선행 기술에 따라, 주로 불안정성 알데히드 중간체를 통한 산화 처리에 의해 폐쇄된 거대락톤 고리 내에서 개방 쇄 전구체 아미노산 2-아미노-5-히드록시-펜탄산의 산화에 의해 형성된다 (예를 들어, 문헌 [Yokohama et al., Tetrahedron 61 (2005), pp. 1459-80, compound 23; Yokohama et al., Pept. Sci. 38 (2002). Pp. 33-36; 및 Yokohama et al., Tetrahedron Lett. 42 (2001), 5903-8] 참조).
알데히드는 단리시키기에는 너무 불안정하다. 따라서 그의 직접적인 사용 및 합성은 권고되지 않는다.
알데히드 유도체, 예컨대 아세탈은 또한, 특히 아세탈 및 (특별히 유리) 카르복실산 관능기가 동시에 또는 (심지어 단지 경미하게) 산성 조건 하에 존재하는 경우에, 불안정한 것으로 공지되어 있다.
보다 높은 수율의 공정, 및 ahp 모이어티를 포함하는 거대락톤 고리계의 제조를 위한 취급에서 보다 용이한 공정을 찾을 필요가 있다.
전구체를 2-아미노-5-히드록시펜탄산 빌딩 블록으로 대체하고 그의 아세탈 형태의 5-옥소-유사체를 대신에 사용하는 것이 가능한 것으로 본 발명에 이르러 밝혀졌다.
본 발명은 따라서, 증가된 수율 및/또는 우수한 순도로 및 보다 적은 수의 단계로 이러한 시클릭 뎁시펩티드를 수득하도록 하는 공정 또는 방법에 관한 것이다.
다수의 가능한 이성질체와의 복합 분자의 합성에 있어서, 많은 위험, 예컨대 라세미화, 호변이성질체화 등의 관점에서, 화학식 I의 시클릭 뎁시펩티드를 우수한 수율 및/또는 필요한 입체이성질적 순도, 특히 둘 다로 제조하도록 하고, 전구체 분자에서 히드록실 기의 산화 단계를 회피하는, 바람직하게는 고체 상 펩티드 합성 및 용액에서의 반응의 혼합을 포함하는 제조 방법을 발견하는 것이 가능하였다. 부산물의 양을 감소시키고, 심지어 이러한 부산물, 특히 데히드로-ahp 하위구조 및/또는 ahp 대신에 5원 고리를 갖는 목적하는 ahp-포함 생성물의 유사체를 목적하는 최종 생성물로 전환시킴으로써 수율을 개선하는 것이 가능하다. 지금까지 이러한 분야에서 고체 상 펩티드 합성을 사용하는 합성은 본 발명자들의 관심 대상이 아니었다. 또한, 산화 단계의 제거는 비싸고 제조하기 어려운 보호된 변이체, 예컨대 t-부틸-에테르 또는 그의 유사체 대신에 N-Me-티로신 또는 유사체를 사용하는 것을 가능하게 한다.
(i/a) 제1 실시양태에서, 본 발명은, 하기 화학식 I, 특히 하기 화학식 IA의 시클릭 뎁시펩티드 화합물 또는 그의 염을 제조하기 위한 방법 또는 공정이며,
<화학식 I>
Figure pct00001
<화학식 IA>
Figure pct00002
(상기 식에서,
A1은 말단 카르복시 또는 카르바모일 기를 갖는 아미노산, 특히 아스파라긴 또는 글루타민의 2가 모이어티이고, 그의 우측에서 카르보닐 (바람직하게는 그의 α-카르복실 기의 카르보닐)을 통해 화학식 I에서 분자의 나머지 부분에 결합되거나; 또는 C1-8-알카노일 또는 인산화 히드록시-C1-8-알카노일이고;
X는 A1의 N을 통해 결합되고 아실이거나, 또는 A1이 C1-8-알카노일 또는 인산화 히드록시-C1-8-알카노일인 경우에는 부재하고;
R2는 C1-8-알킬, 특히 메틸이고;
R3은 아미노산, 특히 류신, 이소류신 또는 발린의 측쇄이고;
R5는 아미노산, 바람직하게는 페닐알라닌, 류신, 이소류신 또는 발린의 측쇄이고;
R6은 히드록시 아미노산, 특히 티로신의 측쇄이고;
R7은 아미노산, 바람직하게는 아미노산 류신, 이소류신 또는 발린의 측쇄이고;
Y는 수소 또는 C1-8-알킬임)
상기 방법은
하기 화학식 II, 특히 하기 화학식 IIA의 화합물을 탈보호시켜
<화학식 II>
Figure pct00003
<화학식 IIA>
Figure pct00004
(상기 식에서, 알데히드 보호기(들) Rk 및 Rl은 서로 독립적으로 비치환 또는 치환된 알킬이거나, 또는 2개의 결합 O 원자, 및 2개의 O 원자가 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 비치환 또는 치환된 고리를 형성하고 (Rk 및 Rl은 이어서 바람직하게는 비치환 또는 치환된 알킬렌 가교, 특히 비치환 또는 치환된 에틸렌, 예컨대 -CH2-CH2- 또는 -CH2-CH2-CH2-를 형성함), Y는 화학식 I의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, X*, A1*, R2*, R3*, R5*, R6* 및 R7*는 각각 화학식 I에서의 X, A1, R2, R3, R5, R6 및 R7에 상응하나, 단 이들 모이어티 상의 반응성 관능기 (예컨대 아미노, 이미노, 히드록시, 카르복시, 술프히드릴, 아미디노, 구아니디노, O-포스포노 (-O-P(=O)(OH)2))는 적어도 이들이 목적하지 않은 부반응에 참여할 수 있는 경우에는 보호된 형태로 존재함)
화학식 I, 또는 특히 IA의 화합물을 생성하고;
원하는 경우에, 화학식 I, 또는 특히 IA의 유리 화합물을 염으로, 화학식 I의 화합물의 염을 화학식 I, 또는 특히 IA의 화합물의 상이한 염으로 또는 화학식 I, 또는 특히 IA의 유리 화합물로 전환시키고/거나 화학식 I, 또는 특히 IA의 화합물의 탈수화물 유사체 및/또는 5원 고리 유사체를 화학식 I, 또는 특히 IA의 상응하는 화합물로 전환시키는 것을 포함하는 방법 또는 공정에 관한 것이다.
(ii/a) 본 발명의 추가 실시양태는, 고체 상 펩티드 합성 (특히 하기 제공된 화학식 III 또는 III* 또는 특히 IIIA 또는 IIIA*의 전구체의 합성을 위해) 및 용액 상 합성 (특히 최종 생성물에 대해 상기 언급된 화합물로부터)의 조합에 의해 상응하는 출발 아미노산 및 측쇄 전구체로부터 화학식 II 또는 특히 IIA의 화합물을 제조하는 것을 추가로 포함하는, 상기 기재된 방법 또는 공정에 관한 것이다.
(i/b) 본 발명의 추가 실시양태는, 상기 화학식 II의 화합물의 합성을 위해, N-말단 아미노 기 및 C-말단 카르복시 기를 보유하는 화학식 II 또는 특히 화학식 IIA의 화합물의 선형 전구체 펩티드의 락탐화 (거대락탐화) 하에서, 상기 아미노 기 및 상기 카르복시 기로부터 아미드 결합의 형성을 허용하는 반응 조건 하에, 바람직하게는 용액 상 화학을 사용하는 고리화를 추가로 포함하는, 상기 기재된 바와 같은 방법 또는 공정에 관한 것이다.
(ii/b) 본 발명의 추가 실시양태는, 선형 전구체 펩티드가 하기 화학식 III, 특히 하기 IIIA를 갖고,
<화학식 III>
Figure pct00005
<화학식 IIIA>
Figure pct00006
(상기 식에서, Rk, Rl, X*, A1*, R2*, R3*, R5*, R6* 및 R7*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같음)
이는 고체 상 펩티드 합성 (예를 들어 단계 (iii/b) 하에 기재된 바와 같음)으로부터 직접적으로 또는 하기 화학식 III*, 특히 하기 IIIA*의 상응하는 화합물로부터
<화학식 III*>
Figure pct00007
<화학식 IIIA*>
Figure pct00008
(상기 식에서, Rk, Rl, X*, A1*, R2*, R3*, R5*, R6* 및 R7*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, 각각의 Prot** 모이어티는 (iii/b) 하에서의 절단의 조건과 상이한 조건 하에 제거될 수 있는 (바람직하게는 제거되어야만 하는) 보호기이고, 특히 각각은 화학식 IV의 화합물에 대해 정의된 바와 같은 아릴알킬 아미노 보호기임)
보호된 아미노를 탈보호시킴으로써 탈보호에 의해 수득될 수 있는 것인, 이전 단락 (i/b)에 따른 방법 또는 공정에 관한 것이다.
(iii/b) 또 다른 실시양태는, 화학식 III 또는 특히 IIIA의 화합물 또는 화학식 III*, 특히 IIIA*의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 IV, 특히 하기 IVA의 화합물을 절단하는 것
<화학식 IV>
Figure pct00009
<화학식 IVA>
Figure pct00010
(상기 식에서, Rk, Rl, X*, A1*, R2*, R3*, R5*, R6* 및 R7*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수이고,
Z는 화학식 III, 특히 IIIA의 화합물을 수득하기 위한 화학식 NHProt* (여기서 Prot*는 절단 반응 전에 또는 절단 반응 동안 또는 추가로 이에 후속적으로 제거되는 보호기임)의 보호된 아미노 기이거나; 또는 Z는 화학식 III*, 특히 IIIA*의 화합물을 수득하기 위한 화학식 N(Prot**)2 (여기서 각각의 Prot**는 절단 반응의 조건과 상이한 조건 하에 제거될 수 있는 (특히 단독 제거될 수 있는) 아미노 보호기이고, 특히 각각은 아릴알킬 아미노 보호기임)의 보호된 아미노 기임)
을 추가로 포함하는, 이전 단락 (ii/b)에 따른 방법 또는 공정을 지칭한다.
(iv/b) 본 발명의 추가의 실시양태는, 화학식 IV, 특히 IVA의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 V, 특히 하기 VA의 아미노산,
<화학식 V>
Figure pct00011
<화학식 VA>
Figure pct00012
(상기 식에서, Rk 및 Rl은 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, Z는 화학식 NHProt* (여기서 Prot*는 (iii/b) 하에서의 절단 반응 전에 또는 절단 반응 동안 또는 추가로 후속적으로 제거될 수 있는 (및 제거되는) 보호기임)의 보호된 아미노 기이거나; 또는 Z는 화학식 N(Prot**)2 (여기서 각각의 Prot**는 (iii/b) 하에서의 절단 반응의 조건과 상이한 조건 하에 제거될 수 있는 아미노 보호기이고, 특히 각각은 아릴알킬 아미노 보호기임)의 보호된 아미노 기임)
또는 화학식 V 또는 VA의 상기 아미노산의 활성화된 유도체를 하기 화학식 VI, 특히 하기 VIA의 화합물과 커플링시키는 것
<화학식 VI>
Figure pct00013
<화학식 VIA>
Figure pct00014
(상기 식에서, X*, A1*, R2*, R3*, R5*, R6* 및 R7*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수임)
을 추가로 포함하는, 이전 단락 (iii/b)에 따른 방법 또는 공정에 관한 것이다.
(v/b) 본 발명의 또한 추가의 실시양태는, 화학식 VI, 특히 VIA의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 VII, 특히 하기 VIIA의 아미노산,
<화학식 VII>
Figure pct00015
<화학식 VIIA>
Figure pct00016
(상기 식에서, R5*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, Prot***는, 존재하는 다른 보호기에 영향을 미치지 않고 생성물은 수지 상에 잔류시키면서 선택적으로 절단될 수 있는 아미노 보호기임)
또는 상기 아미노산의 반응성 유도체를 하기 화학식 VIII, 특히 하기 VIIIA의 화합물과 커플링시키고,
<화학식 VIII>
Figure pct00017
<화학식 VIIIA>
Figure pct00018
(상기 식에서, X*, A1*, R2*, R3*, R6* 및 R7*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수임)
보호기 Prot***를 제거하는 것
을 추가로 포함하는, 이전 단락 (iv/b)에 따른 방법 또는 공정에 관한 것이다.
(vi/b) 또한 추가 실시양태에서, 본 발명은, 화학식 VIII, 특히 VIIIA의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 IX, 특히 하기 IXA의 아미노산,
<화학식 IX>
Figure pct00019
<화학식 IXA>
Figure pct00020
(상기 식에서, R6* 및 Y는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, Prot***는, 존재하는 다른 보호기에 영향을 미치지 않고 생성물은 수지 상에 잔류시키면서 선택적으로 절단될 수 있는 아미노 보호기임)
또는 상기 아미노산의 반응성 유도체를 하기 화학식 X, 특히 하기 XA의 화합물과 커플링시키고,
<화학식 X>
Figure pct00021
<화학식 XA>
Figure pct00022
(상기 식에서, X*, A1*, R2*, R3* 및 R7*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수임)
보호기 Prot***를 제거하는 것
을 추가로 포함하는, 이전 단락 (v/b)에 따른 방법 또는 공정에 관한 것이다.
(vii/b) 본 발명의 또 다른 실시양태는, 화학식 X, 특히 XA의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 XI, 특히 하기 XIA의 아미노산,
<화학식 XI>
Figure pct00023
<화학식 XIA>
Figure pct00024
(상기 식에서, Prot***는, 존재하는 다른 보호기에 영향을 미치지 않고 생성물은 수지 상에 잔류시키면서 선택적으로 절단될 수 있는 아미노 보호기이고, R7*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같음)
또는 상기 아미노산의 반응성 유도체를
하기 화학식 XII, 특히 하기 XIIA의 화합물의 히드록실 기와 반응시키고,
<화학식 XII>
Figure pct00025
<화학식 XIIA>
Figure pct00026
(상기 식에서, X*, A1*, R2* 및 R3*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수임)
보호기 Prot***를 제거하는 것
을 추가로 포함하는, 이전 단락 (vi/b)에 따른 방법 또는 공정에 관한 것이다.
(viii/b) 추가 실시양태에서, 본 발명은, 화학식 XII, 특히 XIIA의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 XIII, 특히 하기 XIIIA에 의해 나타내어진 수지 결합된 디펩티드를
<화학식 XIII>
Figure pct00027
<화학식 XIIIA>
Figure pct00028
(상기 식에서, Prot****는, 상기 정의된 바와 같은 화학식 II의 화합물에 존재하는 다른 보호기에 영향을 미치지 않고 생성물은 수지 상에 잔류시키면서 선택적으로 절단될 수 있는 아미노 보호기이고, R2* 및 R3*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수임)
보호기 Prot****의 제거 후에 이에 따라 수득가능한 유리 아미노기를 통해, 하기 화학식 XIV, 특히 하기 화학식 XIV*, 보다 특히 하기 화학식 XIV**의 아미노산,
<화학식 XIV>
Figure pct00029
<화학식 XIV*>
Figure pct00030
<화학식 XIV**>
Figure pct00031
(상기 식에서, X**는 아미노 보호기이거나 또는 X*이고, 여기서 X* 및 A1*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같음)
또는 상기 산의 반응성 유도체와 커플링시키고;
X**가 아미노 보호기인 경우에, 상기 아미노 보호기 X**를 제거하여, X* 대신에 H가 존재하는 화학식 II의 유도체를 수득하고, 생성된 아미노 기를 상응하는 산 X*-OH (여기서 X*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같음) 또는 상기 산의 반응성 유도체를 사용하여 아실 기 X*와 커플링시키는 것
을 추가로 포함하는, 이전 단락 (vii/b)에 따른 방법 또는 공정에 관한 것이다.
(ix/b) 본 발명의 추가 실시양태는, 화학식 XIII, 특히 XIIIA의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 XV, 특히 하기 XVA에 의해 나타내어진 수지 결합된 아미노산을
<화학식 XV>
Figure pct00032
<화학식 XVA>
Figure pct00033
(상기 식에서, R3*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수임)
하기 화학식 XVI, 특히 하기 XVIA의 아미노산,
<화학식 XVI>
Figure pct00034
<화학식 XVIA>
Figure pct00035
(상기 식에서, Prot****는, 존재하는 다른 보호기에 영향을 미치지 않고 생성물은 수지 상에 잔류시키면서 선택적으로 절단될 수 있는 아미노 보호기이고, R2*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같음)
또는 상기 아미노산의 반응성 유도체와 커플링시키는 것
을 추가로 포함하는, 이전 단락 (viii/b)에 따른 방법 또는 공정에 관한 것이다.
(x/b) 본 발명의 추가 실시양태는, 화학식 XV, 특히 XVA의 수지 결합된 아미노산을 수득하기 위해, 하기 화학식 XVII, 특히 하기 XVIIA의 아미노산,
<화학식 XVII>
Figure pct00036
<화학식 XVIIA>
Figure pct00037
(상기 식에서, R3*은 상기 또는 하기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, Prot***는, 존재하는 다른 보호기에 영향을 미치지 않고 생성물은 수지 상에 잔류시키면서 선택적으로 절단될 수 있는 아미노 보호기임)
또는 화학식 IX의 상기 아미노산의 반응성 유도체를 고체 수지 RES에 결합되어 있는 절단가능한 링커 L에 커플링시키고, 보호기 Prot***를 제거하는 것
추가로 포함하는, 이전 단락 (ix/b)에 따른 방법 또는 공정에 관한 것이다.
(i/c) 본 발명의 또 다른 실시양태는, 기호 A1, R2, R3, R5, R6, R7, X 및 Y 또는 상응하는 비보호 또는 보호된 모이어티 R2*, R3*, R5*, R6*, R7*, X* 및 Y가, 생성된 화학식 I의 화합물 또는 그의 염에서,
A1이 그의 α-카르복실 기의 카르보닐을 통해 화학식 I에서 A1의 우측에서 아미노 기에 및 그의 α-아미노 기를 통해 X에 결합된 L-글루타민의 2가 라디칼이거나, 또는 2S-(2-히드록시-3-포스포노옥시)-프로피오닐이고;
R2가 메틸이고;
R3이 이소프로필, 이소부틸 (사용되는 경우에 2-메틸-n-프로필), 특히 이소부틸이고;
R5가 sec-부틸 또는 벤질, 특히 sec-부틸이고;
R6이 4-히드록시벤질이고;
R7이 이소프로필 또는 sec-부틸 (사용되는 경우에 1-메틸-n-프로필), 특히 sec-부틸이고;
X가 아세틸 또는 이소부티릴이거나, 또는 A1이 2S-(2-히드록시-3-포스포노옥시)-프로피오닐인 경우에는 부재하고;
Y가 메틸이 되도록
선택되는 것인, 이전 단락 (i/a) 내지 (x/b) 중 어느 하나에 따른 방법 또는 공정에 관한 것이다.
(i/d) 또 다른 특정한 실시양태에서, 본 발명은, 상기 또는 특히 이전 단락 (i/c)에 정의된 바와 같은 치환기를 갖는 화학식 II의 화합물로부터 수득된 주어진 화학식 I의 화합물의, 화학식 II, 특히 IIa의 화합물로부터 수득된 탈수화물을 화학식 I의 상응하는 화합물로 전환시키며, 여기서 탈수화물은 하기 화학식 XVIII, 특히 하기 XVIIIA를 갖거나,
<화학식 XVIII>
Figure pct00038
<화학식 XVIIIA>
Figure pct00039
(상기 식에서, Y, X, A1, R2, R3, R5, R6 및 R7은 상기 화학식 I의 화합물에 대해 정의된 바와 같음)
및/또는 부산물로서 형성될 수 있고 하기 화학식 XIX, 특히 하기 화학식 XIXA를 갖는, 화학식 I에서 ahp 구조 대신에 5원 고리를 갖는 그의 상응하는 헤미아미날 유사체인 방법 또는 공정,
<화학식 XIX>
Figure pct00040
<화학식 XIXA>
Figure pct00041
(상기 식에서, Y, X, A1, R2, R3, R5, R6 및 R7은 각각 상기 화학식 I의 화합물에 대해 정의된 바와 같음)
또는 특히 화학식 I의 화합물 및 그의 상응하는 탈수화물의 혼합물의 평형을 화학식 I의 화합물에 우세하게 이동시키는 방법 또는 공정이며,
수성 산을 반응성 용매로서 사용하여 반응을 구동하는 것을 포함하는 방법 또는 공정에 관한 것이다. 이 방법은 상기 및 하기 기재된 다른 공정 또는 방법에 추가로 사용되어, 수율을 증가시키거나 화학식 V, 특히 VA의 화합물, 및/또는 화학식 I에서의 ahp 구조 대신에 5원 고리를 갖는 유사체를 화학식 I의 상응하는 화합물로 재-전환시킨다.
탈수화물 및/또는 5원 고리 유사체 (항상 목적하는 ahp 고리에 대하여)의 목적하는 화학식 I 또는 특히 IA의 화합물로의 전환, 예를 들어 실시예 3 B로부터의 화합물 A-탈수화물의 화합물 A로의 전환에 대해 기재된 방법은, 이러한 부류의 화합물의 간단한 합성을 가능하게 한다. 지금까지, 최종 단계로서의 산 처리는 생성물의 탈수를 피하기 위해 회피되어야 했다.
(i/e) 본 발명의 추가 실시양태는, 산이 카르복실산, 특히 할로 치환된 C1- 8알칸산, 보다 특히 트리플루오로아세트산 또는 트리클로로아세트산인, 이전 단락 (i/d)에 따른 방법에 관한 것이다.
(i/f) 본 발명은, 추가 실시양태에서, 하기 화학식 II, 특히 하기 화학식 IIA의 화합물에 관한 것이다.
<화학식 II>
Figure pct00042
<화학식 XXA>
Figure pct00043
상기 식에서, Rk 및 Rl은 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, Y는 상기 첫번째 예에서 또는 특히 (i/c) 하에 정의된 바와 같은 화학식 I의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, X*, A1*, R2*, R3*, R5*, R6* 및 R7*는 각각 상기 또는 하기, 또는 단락 (ia)에서 또는 특히 상기 주어진 (ic) 하에 정의된 바와 같은 화학식 I에서의 X, A1, R2, R3, R5, R6 및 R7에 상응하나, 단 이들 모이어티 상의 반응성 관능기는 보호된 형태로 존재한다.
(i/g) 추가 실시양태에서, 본 발명은 화학식 II, III, III*, IV 및 V, 특히 화학식 IIA, IIIA, IIIA*, IV 및 VA의 화합물로 이루어진 군, 보다 특히 하기 (특히 거울상이성질체적으로 풍부한 또는 순수한) 화합물: 화합물 2*, 화합물 3*, 화합물 5*, 바람직하게는 화합물 2A*, 화합물 3A*, 화합물 4A*, 화합물 5A*, 특히 실시예에 주어진 형태: 화합물 2, 화합물 3, 화합물 5, 화합물 6, 화합물 7, 화합물 8, 화합물 A, 화합물 9 및 화합물 10, 및 거울상이성질체적으로 풍부한 또는 특히 순수한 화합물 4, 뿐만 아니라 화합물 12, 14, 15, 16 및 17로 이루어진 군으로부터 선택되는 신규 화합물에 관한 것이다. 또한 Rl 및 Rk가 서로 독립적으로 1-아르알킬, 예컨대 1-(C6-C12아릴)-C1-C7알킬, 보다 특히 벤질인 하기 주어진 화학식 12*, 12A*, 14*, 14A*, 15*, 15A*, 16*, 16A*, 17* 또는 17A*의 화합물, 뿐만 아니라 Rl 및 Rk가 함께 비치환 또는 치환된 알킬렌, 특히 -CH2-CH2- 또는 -CH2-CH2-CH2-를 형성하는 것인 상응하는 화합물이 바람직하다.
(i/h) 추가 실시양태에서, 본 발명은,
(a) (특히) Rk 및 Rl이 함께 비치환 또는 치환된 저급 알킬렌 가교, 특히 -CH2-CH2- 또는 -CH2-CH2-CH2-를 형성하는 것인 화학식 V의 화합물의 합성의 경우에는, 대안적으로 경로 (i) 1* -> 2* -> 3*, (ii) 1* -> 2* -> 4* -> 5* 또는 (iii) 1* -> 2* -> 3* -> 5*를 통해, 하기 반응식에 따른,
Figure pct00044
(상기 식에서, Rk, Rl은 상기 나타낸 의미를 갖고, Z는 화학식 V의 화합물에 대해 상기 정의된 의미를 갖고, 특히 화합물 1*, 2* 및 3*에서는 화학식 V의 화합물에 대해 정의된 바와 같은 N(Prot**)2, 특히 1-(C6-C12-아릴)- C1-C6-알킬, 특히 벤질이고, 화합물 5*에서는 화학식 V의 화합물에 대해 정의된 바와 같은 NHProt*이고, Prot*는 특히 아실 보호기, 예를 들어 플루오렌-9-일-메톡시카르보닐이고, 화학식 3* 및 5*의 화합물 각각은 화학식 V의 화합물에 상응함)
또는 특히, 화학식 VA의 화합물을 수득하기 위해, 대안적으로 경로 (i) 1A* -> 2A* -> 3A*, (ii) 1A* -> 2A* -> 4A* -> 5A* 또는 (iii) 1A* -> 2A* -> 3A* -> 5A*를 통해, 하기 반응식에 따른,
Figure pct00045
(상기 식에서, Rk, Rl은 상기 나타낸 의미를 갖고, Z 및 Prot*는 화학식 V의 화합물에 대해 상기 언급된 의미를 갖고, 특히 화합물 1A*, 2A* 및 3A*에서 Z는 1-(C6-C12-아릴)- C1-C6-알킬아미노, 특히 벤질아미노이고, 화합물 5A*에서 Prot*는 아실 보호기, 예를 들어 플루오렌-9-일-메톡시카르보닐이고, 여기서 화학식 3A* 및 5A*의 화합물 각각은 화학식 VA의 화합물에 상응하고;
여기서 1* 또는 1A*에서 2* 또는 2A*로의 반응은, 예를 들어 적절한 용매, 예컨대 디클로로메탄 중에서, 산, 예컨대 톨루엔 술폰산의 존재 하에, 예를 들어 분자체의 존재 하에, 비치환 또는 치환된 저급 알킬렌디올, 특히 에틸렌 글리콜과의 아세탈 형성 반응이고; 2* 또는 2A*에서 3A 또는 3A*로의 반응은 염기, 예컨대 알칼리 금속 수산화물, 예를 들어 LiOH의 존재 하에, 에테르, 예를 들어 디옥산, 및 물 중에서의 가수분해에 의한 것이거나; 또는 카르복시 및 아미노 기의 탈보호 하에서의 2*, 특히 2A*에서 4*, 특히 4A*로의 대안 방법은, 예를 들어 촉매 수소화, 예를 들어 담체 예컨대 산화알루미늄 또는 탄소 상의 귀금속 촉매, 예를 들어 Pd 또는 Pt, 적절한 용매, 예를 들어 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올 또는 이소프로판올을 사용하는, 예를 들어 수소화에 이어서, 예를 들어 아실화 조건 하에, 또는 아미노산에 대해 하기 언급되는 바와 같은 커플링제 또는 아미노 기에 대한 산 커플링의 존재 하에, 특히 (예를 들어 Fmoc-) HOSU-에스테르, 3급 염기, 예를 들어 트리에틸아민, 및 적절한 용매, 예를 들어 물 및/또는 아세토니트릴을 사용하는 아미노 보호기 Prot**, 특히 아실 보호기, 예컨대 플루오렌-9-일-메톡시카르보닐의 재도입으로 이루어지고; 여기서 대안적으로 화학식 4*, 특히 4A*의 화합물은 상기 언급된 촉매 수소화에 의해 화학식 3*, 특히 3A*의 화합물로부터 수득될 수 있고;
여기서 화합물 1* 또는 1A*는 문헌 [Rodriguez and Taddei, Synthesis 2005, 3, pp. 493-495]에 언급된 방법에 의해 또는 이와 유사하게 수득될 수 있음)
또는
(b) (특히 각각의 Rk 및 Rl이 비치환 또는 치환된 알킬 모이어티, 특히 1-아르알킬, 예컨대 1-(C6-C12아릴)-C1-C7알킬, 보다 특히 벤질인 상기 언급된 화학식 V, 특히 VA의 화합물의 합성의 경우에는) 하기 반응식에 따른,
Figure pct00046
(상기 식에서, Rk, Rl은 상기 나타낸 의미를 갖고, Prot*는 화학식 V의 화합물에 대해 상기 언급된 의미를 갖고, 특히 화합물 17*에서는 아실 보호기, 예를 들어 플루오렌-9-일-메톡시카르보닐이고, 화학식 17*의 화합물은 화학식 V의 화합물에 상응함)
또는 특히, 화학식 VA의 화합물을 수득하기 위해, 하기 반응식에 따른,
Figure pct00047
(상기 식에서, Rk, Rl은 상기 나타낸 의미를 갖고, Prot*는 화학식 V의 화합물에 대해 상기 언급된 의미를 갖고, 특히 화합물 17A*에서는 아실 보호기, 예를 들어 플루오렌-9-일-메톡시카르보닐이고, 화학식 17A*의 화합물은 화학식 VA의 화합물에 상응하고;
여기서 바람직하게는 11에서 12 또는 12A*로의 반응은 적절한 용매, 예를 들어 메틸렌 클로라이드 중에서, 브로민화제, 예를 들어 트리메틸브로모실란을 사용하고, 이어서 화학식 Rk-OH 및 Rl-OH (이들은 바람직하게는 동일함)의 화합물 및 혼합물 또는 3급 염기, 예를 들어 피리딘 및 N,N-디메틸아미노피리딘, 및 산 무수물, 예를 들어 아세트산 무수물의 첨가에 의해 수행되고; 적절한 용매, 예를 들어 산 아미드, 예컨대 디메틸포름아미드, 강염기, 예를 들어 포타슘 tert-부톡시드 중에서 화합물 12* 또는 12*를 화학식 13* 또는 13A*의 화합물과 반응시키고; 화학식 14*, 특히 14A*의 생성된 화합물을 적절한 용매, 예를 들어 알콜, 예컨대 에탄올 중에서 알칼리 금속 수산화물, 예컨대 수산화나트륨을 사용하여 가수분해시키고, 후속적으로 탈카르복실화를 위해 가온하여 화학식 15*, 특히 15A*의 화합물을 수득하고, 예를 들어 pH 7 내지 10 범위의 적절한 완충제 중에서, 예를 들어 알칼리 금속 수산화물, 예컨대 수산화나트륨으로 적정된 수성 시트레이트 완충제 중에서 아실라제를 사용하여, 필요한 경우에 보조인자, 예컨대 염화코발트의 존재 하에 아세틸 기를 제거하여 화학식 16*, 특히 16A*의 화합물을 수득하고; 보호기 Prot**, 예를 들어 아실, 예를 들어 9-플루오레닐메톡시카르보닐을 적절한 시약, 예를 들어 Fmoc-OSU을 사용하여 적절한 용매, 예를 들어 물 및/또는 아세토니트릴 중에서 도입함)
상기 언급된 화학식 V, 특히 화학식 VA의 화합물의 합성을 위한 방법 또는 공정에 관한 것이다.
하기 정의 (또는 또한 상기 이미 포함된 정의)는, 본 발명의 추가의 실시양태를 정의하기 위해 상기 및 하기 발명 실시양태에서 사용되는 보다 일반적 용어로 대체될 수 있으며, 여기서 이러한 발명 실시양태를 정의하기 위해 1개, 2개 또는 그 초과 또는 모든 일반적 용어는 보다 구체적인 용어로 대체될 수 있다:
모든 반응에서, 보호 기체, 예컨대 질소 또는 아르곤이 적절한 또는 필요한 경우에 사용될 수 있고, 온도는 통상의 기술자를 공지된 바와 같이, 예를 들어 -25℃ 내지 각 반응 혼합물의 환류 온도의 범위, 예를 들어 -20 내지 +90℃이다.
Rk 및 Rl이 각각 서로 독립적으로 비치환 또는 치환된 알킬인 경우에, 이는 특히 C1-C7-알킬 또는 특히 1-아르알킬, 예컨대 1-(C6-C12아릴)-C1-C7알킬, 보다 특히 벤질을 지칭한다.
Rk 및 Rl이 2개의 결합 O 원자 및 2개의 O 원자가 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 비치환 또는 치환된 고리를 형성하는 경우에, Rk 및 Rl은 바람직하게는 비치환 또는 치환된 알킬렌 가교, 특히 비치환 또는 치환된 에틸렌, 예컨대 -CH2-CH2-를 형성하고, 여기서 치환기(들)는 바람직하게는 C1-C7-알킬, 특히 2개의 이러한 치환기, 예컨대 메틸, 에틸, n-프로필 또는 이소프로필로부터 선택될 수 있다.
말단 카르복시 또는 카르바모일 기를 갖는 아미노산의 2가 모이어티는 바람직하게는 알파-카르바모일 또는 카르복실-C1-8-치환된 아미노산, 특히 아스파라긴 또는 글루타민의 2가 모이어티이고, 그의 우측에서 카르보닐 (바람직하게는 그의 α-카르복실 기의 카르보닐)을 통해 화학식 I에서 분자의 나머지 부분에 결합된다.
C1-8-알카노일 또는 인산화 히드록시-C1-8-알카노일 (히드록실 및 포스포노 (-O-P(=O)(OH)2) 기 둘 다를 보유하는 C1-8-알카노일) A1은, 예를 들어 2,3-디히드록시-프로파노일 (바람직하게는 S-형태) 또는 2-히드록시-3-포스포노-프로파노일 (바람직하게는 S-형태)이다.
R2 및 R2*는 언급되는 경우에 C1-8-알킬, 특히 메틸이다.
R3은 아미노산, 특히 천연 아미노산의 측쇄이다. 바람직하게는, 이는 분지형 또는 선형일 수 있는 C1- 8알킬이다. 가장 특히, C1-8-알킬은 n-(2-메틸)프로필 (이소부틸), n-(1-메틸프로필 (sec-부틸) 또는 메틸이고, 즉, 모이어티를 보유하는 아미노산은 류신, 이소류신 또는 발린이다.
R3*는, 반응에 참여하기 위해 가려져야 하는 관능기가 존재하는 경우에 보호된 형태의 상응하는 측쇄이다. 바람직하게는, 이는, 특히 상기 단락에 정의된 바와 같은 분지형 또는 선형일 수 있는 C1-8-알킬이다.
"아미노산의 측쇄"는 임의의 모이어티, 예를 들어 모노- 또는 폴리시클릭, 선형, 포화, 불포화 (예를 들어 공액 이중 결합을 가짐) 또는 부분 포화 유기 모이어티 (예를 들어 기본 구조 내에 최대 20개의 탄소 원자 및 상응하는 수의 탄소 원자를 대체하는 N, O 및 S로부터 독립적으로 선택된 0 내지 5개의 헤테로원자를 가짐)로부터 선택될 수 있고, 아미노, 이미노, 히드록시, 카르복시, 카르바모일, 술프히드릴, 아미디노, 구아니디노, O-포스포노 (-O-P(=O)(OH)2)로부터 선택된 최대 3개의 모이어티에 의해 치환될 수 있다. 바람직하게는, 측쇄는 20종의 표준 알파-아미노산 아르기닌, 히스티딘, 리신, 아스파르트산, 글루탐산, 세린, 트레오닌, 아스파라긴, 글루타민, 시스테인, 글리신, 알라닌, 류신, 이소류신, 메티오닌, 페닐알라닌, 트립토판, 티로신, 발린 및 추가로 프롤린 (이어서 알파-아미노 기를 포함하는 내부 고리화를 가짐)의 것들로부터 선택된다.
아미노산에 대해, 이들의 명칭 또는 통상적인 3 문자 코드가 하기 표에 따라 본 개시내용에서 사용된다:
Figure pct00048
R5는 아미노산, 바람직하게는 표준 아미노산의 측쇄이다. 바람직하게는, 이는 분지형 또는 선형일 수 있고 비치환되거나 또는 페닐에 의해 치환된 C1-8-알킬이다. 가장 특히 이는 벤질, n-(2-메틸)프로필, 이소부틸 또는 메틸이고, 즉 상기 모이어티를 보유하는 아미노산은 페닐알라닌, 류신, 이소류신 또는 발린이다.
R6은 히드록시 아미노산, 특히 티로신의 측쇄이다.
R7은 아미노산, 특히 천연 아미노산의 측쇄이다. 바람직하게는, 이는 분지형 또는 선형일 수 있는 C1- 8알킬이다. 가장 특히 이는 n-(2-메틸)프로필 (이소부틸), n-(1-메틸)프로필 (sec-부틸) 또는 메틸이고, 즉 상기 모이어티를 보유하는 아미노산은 류신, 이소류신 또는 발린이다.
C1-8-알킬은 선형이거나 1회 이상 분지화될 수 있고; 예를 들어, 이는 n-(2-메틸)프로필, n-(1-메틸)프로필 또는 메틸일 수 있다.
모든 화합물은, 염-형성 기, 예컨대 염기성 기, 예를 들어 아미노 또는 이미노, 또는 산성 기, 예를 들어 카르복실 또는 페놀계 히드록실이 존재하는 경우에, 유리 형태로 또는 염으로서 또는 염 및 유리 형태의 혼합물로서 사용될 수 있다. 따라서 화합물이 언급된 경우에, 이는 모든 이들 변형물을 포함한다. 예를 들어, 염기성 기는 산, 예컨대 할로겐화수소산, 예를 들어 HCl, 황산 또는 유기 산, 예컨대 아세트산 또는 트리플루오로아세트산과의 염을 형성할 수 있고, 산성 기는 양성 이온, 예를 들어 암모늄, 알킬암모늄, 트리에틸아민, N-메틸모르폴린, 디메틸아미노피리딘, 알칼리 또는 알칼리-토금속 염 양이온, 예를 들어 Ca, Mg, Na, K 또는 Li 양이온 등과의 염을 형성할 수 있거나, 또는 화합물의 쯔비터이온성 염 또는 내부 염이 존재할 수 있다.
본 개시내용에서 사용되는 경우에 "또는 기타" 또는 "및 기타"는, 이러한 표현 앞에 언급된 것들에 대한 다른 대안이 통상의 기술자에게 공지되어 있으며 구체적으로 언급된 그러한 표현에 추가될 수 있다는 사실을 나타내며; 다른 실시양태에서, "또는 기타" 또는 "및 기타"는 하나 이상 또는 모든 발명 실시양태에서 삭제될 수 있다.
아세탈 보호기는 산성 조건에 대해, 특히 물의 존재 하에 매우 감수성이다. 고체 상 펩티드 합성 동안 또는 고체 지지체로부터의 절단 동안 아세탈 보호기의 절단은 유리 알데히드 관능기를 생성할 것이고, 이는 유리 아미노 기와 반응하고 다른 부반응을 겪을 수 있다. 따라서, 올리고펩티드의 고리화가 수행되어 마크로시클릭 화합물 II 또는 IIA를 수득할 때까지 아세탈 보호기를 유지하는 것은 중요하다.
보호기 Prot**, Prot***, Prot**** 및 모이어티 A*, R2*, R3*, R5*, R6*, R7*, X* 상에 존재하는 임의의 추가적 보호기는, 본 명세서 및 특허청구범위 전반에 걸쳐 언급되는 경우에, 이들이 직교 보호를 허용하도록 선택된다.
직교 보호는, 다른 보호기(들) 또는 예를 들어 고체 합성 수지 상의 링커를 통한 수지에 대한 결합에 영향을 미치지 않으면서 제공된 반응 조건의 세트로 원하는 경우에 하나씩 (또는 그 초과, 그러나 전부는 아님) 다수의 보호기의 탈보호를 허용하는 전략이다. 달리 말하면: 전략은 상이한 화학적 메카니즘에 의해, 또한 고체 상 펩티드 합성의 경우에는 적절한 링커를 사용하여 (링커-수지 결합이 함께 카르복시 보호기로서 고려될 수 있음) 제거되는 다양한 부류의 보호기를 사용한다.
바람직하게는, 보호기는 하기와 같이 선택된다:
Prot*는 IV, 특히 IVA의 절단 동안, (iii/b) 하의 반응 동안 또는 후속적으로 제거될 수 있는 (= 제거에 적합한), 그러나 다른 한편으로는, 다른 결합을 절단하지 않으면서 (그의 카르보닐 (특히 하기 언급된 링커 L을 통한 결합에 대한 α-카르복실 기)을 통해 결합된 아미노산 또는 펩티드의 절단 없음; 또한 존재하는 다른 보호기를 절단하지 않으면서) 제거될 수 있는 보호기, 특히 존재하는 경우에 수지 RES에 대한 링커를 통한 결합을 보존하면서, 뎁시펩티드 또는 뎁시펩티드 전구체에서의 에스테르 (아미드 대신) 결합의 절단 없이 및 존재하는 다른 보호기에 대한 조건 이외의 조건 하에 제거가능한 보호기이고; 이는 바람직하게는 온화한 염기, 예를 들어 피페리딘, 모르폴린, 디시클로헥실아민, p-디메틸아미노-피리딘, 디이소프로필아민, 피페라진, 트리스-(2-아미노에틸)아민에 의해, 적절한 용매, 예를 들어 N,N-디메틸포름아미드, 메틸렌 클로라이드 중에서 제거가능하고; Prot**는, 예를 들어, 플루오렌-9-일메톡시카르보닐 (Fmoc); 2-(2' 또는 4'-피리딜)에톡시카르보닐 및 2,2-비스(4'니트로페닐)에톡시카르보닐로 이루어진 군으로부터 선택된다.
Prot**는 (iii/b) 하에서의 절단 반응의 조건과 상이한 조건 하에 (특히 화학식 III* 또는 특히 IIIA*의 화합물로부터) 제거될 수 있는 보호기, 특히 아릴알킬, 특히 1-(C6-C12아릴)-C1-C4알킬, 보다 특히 벤질이고, 이는, 예를 들어 촉매 수소화에 의해, 예를 들어 담체, 예컨대 산화알루미늄 또는 특히 탄소 상에 있을 수 있는 귀금속 촉매, 예컨대 Pd 또는 Pt의 존재 하에 수소를 사용하여 제거될 수 있다.
Prot *** (존재하는 다른 보호기에 영향을 미치지 않고 생성물은 수지 상에 잔류시키면서 선택적으로 절단될 수 있는 아미노 보호기)는 Prot*에 대해 언급된 것들로부터 선택되고, 예를 들어 플루오렌-9-일메톡시카르보닐 (Fmoc)이며, 이들 각각은, 예를 들어 상기 또는 하기 언급된 바와 같이 제거될 수 있다.
Prot****는, 존재하는 다른 보호기에 영향을 미치지 않고 선택적으로 제거될 수 있는, 특히 Prot***에 대해 정의된 바와 같은 보호기이다.
이 경우에 바람직한 직교 합성 방법은 고체 상 및 액체 상 펩티드 합성을 사용하는 펩티드 합성에 대해 일반적으로 공지된 Fmoc-보호기 전략을 사용한다.
알데히드 보호기(들) Rk 및 Rl (이들은 결합 O 원자 및 이들을 결합시키는 탄소와 함께, 보호된 알데히드 기 (아세탈)를 형성함)은 물의 존재 하에 산촉매작용, 특히 알파-할로 치환된 알칸산, 예컨대 트리플루오로아세트산 또는 트리클로로아세트산에 의해 제거될 수 있다.
존재하는 다른 보호기, 뿐만 아니라 존재하는 경우에 수지 RES에 대한 결합 링커는 바람직하게는 Prot*, Prot**, Prot*** 및 Prot****가 제거될 수 있는 조건 하에 제거가능하지 않으며, 예를 들어 A*에서, 카르바모일은, 예를 들어 트리틸 (트리페닐메틸)로 N-보호될 수 있고 (예를 들어 트리플루오로 아세트산 (TFA)을 사용하여 절단); (예를 들어 R6*에서) 티로신 히드록시는 Boc (tert-부톡시카르보닐) 보호되거나 또는 tert-부틸디메틸실릴, 메톡시메틸 또는 아릴아세테이트에 의해 보호되고 (예를 들어 TFA를 사용하여 절단), 보다 바람직하게는 수지 RES에 대한 링커에의 결합이 바람직하게는 절단되지 않거나 또는 (탈보호 및 결합에 대해 수지로부터의 절단이 동시에 필요한 경우에는) 또한 절단되는 (예를 들어 산, 예컨대 TFA를 사용하여 절단) 조건 하에 보호될 수 있다.
적절한 보호기, 또한 이들의 도입 및 제거 방법은 관련 기술분야에 공지되어 있다. 예를 들어, 보호기, 이들의 도입 및 제거 방법은 표준 교본, 예컨대 문헌 ["Protective Groups in Organic Synthesis", 3rd ed., T.W. Green and P.G.M. Wuts (Eds.). J. Wiley & Sons, Inc., New York etc. 1999]에 기재된 것들로부터 선택될 수 있다.
따라서, 보호기 Prot*, Prot**, Prot***, Prot**** 및 다른 보호기는 상기 언급된 것들로 제한되지는 않고 - 오히려 이들은, 예를 들어 상기 또는 하기 기재된 바와 같이 이들이 직교 보호에 적절하게 되도록 하는 조건을 충족시켜야 한다.
뎁시펩티드 (에스테르) 결합의 절단을 피하기 위해서는 지나치게 염기성인 조건 (Fmoc 절단에 대해 기재된 염기, 예컨대 피페리딘이 통상적으로 허용가능하지만)을 피하는 것이 권고된다.
탈보호 단계 동안 유용한 적절한 용매 또는 용매 혼합물은, 예를 들어, 통상의 용매, 예를 들어 N,N 디알킬포름아미드, 예컨대 디메틸포름아미드, 할로겐화 탄화수소, 예를 들어 디클로로메탄, 알칸올, 예컨대 에탄올, 프로판올 또는 이소프로판올, 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 알칸산 아미드, 예컨대 디메틸포름아미드 또는 디에틸포름아미드, 또는 추가로 방향족 탄화수소, 예를 들어 톨루엔, 또는 2종 이상의 혼합물로부터 선택될 수 있고, 또한 물이 존재할 수 있다. 온도는 주위 온도 또는 더 낮거나 또는 더 높은, 예를 들어 -20℃ 내지 50℃의 범위일 수 있다.
고체 상 펩티드 합성 (SPPS)을 위해 가능한 고체 지지체 중, 하기의 것들이 언급될 수 있다:
- 스페이서 존재 또는 부재 하의 겔-유형 지지체: 이들은 관능기의 균등 분배를 갖는 용매화된 중합체이다. 이 유형의 지지체가 가장 통상적이고, 하기를 포함한다:
폴리스티렌: 예를 들어 1-2% 디비닐벤젠과 가교된 스티렌; 폴리아크릴아미드 또는 폴리메타크릴아미드: 폴리스티렌에 대해 대안적인 친수성으로서; 폴리에틸렌 글리콜 (PEG): PEG-폴리스티렌 (PEG-PS)은 폴리스티렌보다 더 안정하고, 중합체 백본으로부터 합성 부위에 간격을 가짐; PEG-기재 지지체: PEG-폴리프로필렌 글리콜 네트워크 또는 폴리아미드 또는 폴리스티렌 (이들이 이미 스페이서, PEG를 포함함)을 갖는 PEG로 구성됨;
- 표면-유형 지지체: 제어된 다공성 유리, 셀룰로스 섬유 및 고도로 가교된 폴리스티렌을 포함하는, 표면 관능화를 위해 개발된 물질.
- 복합체: 경질 매트릭스에 의해 지지된 겔-유형 중합체.
통상적으로 이들 겔은, 상기 및 하기 다양한 전구체에 대해 언급된 바와 같은 링커 L이 결합될 수 있는 반응성 기를 보유한다. 예를 들어, 이러한 기는 아미노메틸 기, 말단 히드록시를 갖는 폴리에틸렌글리콜 기 등을 포함한다.
임의의 이러한 지지체가 본 발명의 실시양태에서 사용될 수 있다.
겔 유형 지지체는 본 발명의 또 다른 특정한 실시양태에 사용되고, 이들 중, 폴리스티렌 (가교된 디비닐벤젠); 폴리아크릴아미드 및 폴리메타크릴아미드 수지가 특히 바람직하다.
가능한 링커 중, 통상적으로 공지되고 적절한 모든 것이 사용될 수 있다.
본 발명의 가능한 실시양태에서의 예는, 2-메톡시-4-벤질옥시-벤질 알콜 링커 (사스린(Sasrin)-링커, 사스린은 초강산 감수성 수지를 나타내고, 알콜성 OH를 통해 아미노산 또는 펩티드에 결합됨); 트리틸 링커 패밀리 (예를 들어, 트리틸, 2Cl-트리틸, 이는 OH를 통해 아미노산 또는 펩티드에 결합됨); 4-(2,4-디메톡시페닐히드록시-메틸)페녹시메틸-링커 (링크-애시드-링커(Rink-Acid-Linker), 이는 OH를 통해 아미노산 또는 펩티드에 결합됨); 또는 트리스(알콕시)벤질 에스테르 링커 (HAL-링커, 이는 OH를 통해 아미노산 또는 펩티드에 결합됨)이다.
링커 기의 도입 및 아미노산과의 그의 커플링은 본질적으로 실시예에 기재된 바와 같이 또는 이와 유사하게 수행할 수 있다. 예를 들어, 트리틸 에스테르 형성의 경우에, 수지 (예를 들어 디비닐벤젠 가교 아미노메틸폴리스티렌 수지)는 적절한 용매, 예컨대 디알킬 산 아미드, 예를 들어 디메틸포름아미드 및/또는 알콜, 예컨대 에탄올, 프로판올 또는 이소프로판올 중에 현탁시킬 수 있고, 예를 들어 산의 커플링을 위해 하기 언급되는 커플링제, 예를 들어 1-히드록시벤조트라아졸 및 디시클로헥실카르보디이미드의 존재 하에 히드록시아릴-산 링커, 예를 들어 4-(디페닐히드록시메틸)-벤조산과 반응시킬 수 있거나; 또는, 클로로-(2'클로로)트리틸-폴리스티렌 수지의 제조를 위해, 수지는 적절한 용매, 예를 들어 디클로로메탄 중에 현탁시키고, 염소화제, 예를 들어 아세틸 클로라이드를 첨가하고, 이어서 아미노산 (이 용어는 항상 비보호 또는 보호된 아미노산을 포함함)의 카르복실 기와, 예를 들어 염기, 예를 들어 3급 아미노 염기, 예컨대 N-메틸-모르폴린의 존재 하에 반응시킨다.
예를 들어 화학식 III, 특히 IIIA, 또는 III*, 특히 III*A의 선형 전구체 펩티드를 달성하기 위한 완료된 (보호 또는 비보호된) 펩티드의 절단은, 이어서 적절한 용매, 예를 들어 디클로로메탄 또는 트리플루오로에탄올 중에서, 예를 들어 유기 알칸산, 예컨대 아세트산의 존재 하에, 온화한 산성 조건에서 수행될 수 있다.
고체 지지체로부터의 절단 조건은 분자에 존재하는 다른 보호기, 예컨대 트리틸-, t-부틸- 및 특히 아세탈-보호기가 절단되지 않도록 선택되어야 한다. 아세탈 보호기는 산성 조건에 대해, 특히 물의 존재 하에 대단히 감수성이다. 고체 상 펩티드 합성 동안 또는 고체 지지체로부터의 절단 동안 아세탈 보호기의 절단은 유리 알데히드 관능기를 생성할 것이고, 이는 유리 아미노 기와 반응할 수 있고 다른 부반응을 겪을 수 있다.
산의 반응성 유도체, 특히 아미노산, 또는 펩티드, 예를 들어 디펩티드가 언급되는 경우에, 이들은 계내 형성될 수 있거나 또는 그대로 사용될 수 있다.
사용되는 반응성 (또는 활성) 유도체는 할로겐화물, 예를 들어 클로라이드, 또는 니트로페닐 에스테르, 예를 들어 2,4-디니트로페닐 에스테르, 또는 반응시킬 산의 카르복시 기의 산 무수물 (대칭성 또는 예를 들어, 아세트산과 함께)을 포함한다.
계내 형성의 경우에, 통상적인 커플링제가 적용될 수 있다. 이러한 시약은 통상의 기술자에게 공지되어 있고, 많은 공급원, 예를 들어 [Aldrich ChemFiles - Peptide Synthesis (Aldrich Chemical Co., Inc., Sigma-Aldrich Corporation, Milwaukee, WI, USA) Vol. 7 No. 2, 2007] (http://www.sigmaaldrich.com/etc/medialib/docs/Aldrich/Brochure/al_chemfile_v7_n2.Par.0001.File.tmp/al_chemfile_v7_n2.pdf 참조)로부터 편리하게 구입할 수 있다. 아미드 및 에스테르 결합 합성을 위한 가능한 커플링제 중에는 하기가 언급될 수 있다:
트리아졸, 우로늄 또는 헥사플루오로포스포늄 유도체, 예를 들어 1-히드록시-벤조트리아졸 (HOBt), 1-히드록시-7-아자-벤조트리아졸 (HOAt), 에틸 2-시아노-2-(히드록시이미노)아세테이트, 2-(1H-7-아자벤조트리아졸-1-일)-1,1,3,3-테트라메틸우로늄 헥사플루오로포스페이트 메탄아미늄 (HATU), 벤조트리아졸-1-일-옥시트리피롤리디노포스포늄 헥사플루오로포스페이트 (PyBOP), 1-(메시틸렌-2-술포닐)-3-니트로-1,2,4-트리아졸 (MSNT), 2-(1H-벤조트리아졸-1-일)-1,1,3,3-테트라메틸우로늄-헥사플루오로포스페이트 (HBTU), 2-(1H-벤조트리아졸-1-일)-1,1,3,3-테트라메틸우로늄-헥사플루오로보레이트 (TBTU), 2-숙신이미도-1,1,3,3-테트라메틸우로늄-테트라플루오로보레이트 (TSTU), 2-(5-노르보르넨-2,3-디카르복스이미도)-1,1,3,3-테트라메틸우로늄-테트라플루오로보레이트 (TNTU), O-[(시아노(에톡시카르보닐)-메틸리덴)아미노]-1,1,3,3-테트라메틸우로늄-테트라플루오로보레이트 (TOTU), O-(벤조트리아졸-1-일)-1,3-디메틸-1,3-디메틸렌 우로늄 헥사플루오로포스페이트 (HBMDU), O-(벤조트리아졸-1-일)-1,1,3,3-비스(테트라메틸렌)우로늄 헥사플루오로포스페이트 (HBPyU), O-(벤조트리아졸-1-일)-1,1,3,3-비스(펜타메틸렌)우로늄 헥사플루오로포스페이트 (HBPipU), 3-히드록시-4-옥소-3,4-디히드로-1,2,3-벤조트리아진 (HODhbt), 1-히드록시-7-아자-벤조트리아졸 및 그의 상응하는 우로늄 또는 포스포늄 염, 지정된 HAPyU 및 AOP, 1-시아노-2-에톡시-2-옥소에틸리덴아미노옥시-디메틸아미노-모르폴리노-카르베늄 헥사플루오로포스페이트 (COMU), 클로로트리피롤리디노포스포늄 헥사플루오로포스페이트 (PyCloP) 등;
카르보디이미드, 예를 들어 디시클로헥실카르보디이미드, N-(3-디메틸아미노프로필)-N'-에틸카르보디이미드, 1-tert-부틸-3-에틸카르보디이미드, N-시클로헥실-N'-2-모르폴리노에틸)카르보디이미드 또는 디이소프로필카르보디이미드 (특히 에스테르 형성의 경우에 카르복실 기의 O-아실 우레아 형성을 통해); 또는
활성 에스테르 형성제, 예를 들어 2-메르캅토벤조티아졸 (2-MBT),
아지드 형성제, 예를 들어 디페닐 포스포릴 아지드,
산 무수물, 예컨대 프로판 포스폰산 무수물,
산 할로겐화제, 예를 들어 1-클로로-N,N,2-트리메틸-1-프로페닐아민, 클로로-N,N, N',N'-비스(테트라메틸렌)포름아미디늄 테트라플루오로보레이트 또는 헥사플루오로포스페이트, 클로로-N,N,N',N'-테트라메틸포름아미디늄 헥사플루오로포스페이트, 플루오로-N,N,N',N'-테트라메틸포름아미디늄 헥사플루오로포스페이트, 플루오로-N,N,N',N'-비스(테트라메틸렌)포름아미디늄 헥사플루오로포스페이트
또는 기타, 또는 2종 이상의 상기 작용제의 혼합물.
또한 각각 화학식 XII 또는 XIIA의 화합물과 화학식 XI 또는 XIA의 화합물과의 에스테르 커플링을 위해, 상응하는 반응성 카르복실 화합물은 계내 사용되거나 형성될 수 있다. 여기서, 특히 MSNT가 높은 입체특이성의 유지를 허용하기 때문에 커플링제로서 바람직하다.
화학식 III, 특히 IIIA의 화합물의 거대락톤화를 위해, 또한 아미노산의 커플링에 대해 기재된 바와 같은 커플링 시약 및 조건이 사용될 수 있다.
반응은 각 경우에서, 적절한 경우에, 온화한 염기, 예를 들어 N-메틸모르폴린, 트리알킬아민, 예를 들어 에틸디이소프로필아민, 디-(알킬)아미노피리딘, 예컨대 N,N-디메틸아미노피리딘 등의 존재 하에 (조건이 화학식 I의 화합물의 전구체 내에 존재하는 에스테르 기, 예를 들어 뎁시펩티드 에스테르 기의 가수분해를 허용할 만큼 지나치게 염기성이 되지 않도록 주의함), 적절한 또는 필요한 경우에, 적절한 용매 또는 용매 혼합물, 예를 들어 N,N-디알킬-포름아미드, 예컨대 디메틸포름아미드, 할로겐화 탄화수소, 예를 들어 디클로로메탄, N-알킬피롤리돈, 예컨대 N-메틸피롤리돈, 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 에테르, 예컨대 디옥산 또는 테트라히드로푸란, 또는 추가의 방향족 탄화수소, 예를 들어 톨루엔, 또는 2종 이상의 혼합물의 존재 하에 수행될 수 있으며, 단 과량의 커플링제가 존재하는 경우에는 또한 물이 존재할 수 있다. 온도는 주위 온도 또는 보다 낮거나 보다 높은, 예를 들어 -20℃ 내지 50℃의 범위일 수 있다.
화학식 VII, VIIA, IX, IXA, XI, XIA, XV, XVA, XVI, XVIA, XVII, XVIIA의 아미노산 (예를 들어 액체 상 펩티드 합성에 의해 수득가능함)은 공지되어 있거나, 또는 이들은 관련 기술분야에 공지된 방법에 따라 합성될 수 있고/거나, 이들은 상업적으로 입수가능하고/거나, 이들은 관련 기술분야에 공지된 방법과 유사하게 합성될 수 있다.
또한 나머지 출발 물질, 예를 들어 화학식 XIV의 산은 공지되어 있거나, 또는 이들은 관련 기술분야에 공지된 방법에 따라 합성될 수 있고/거나, 이들은 상업적으로 입수가능하고/거나, 이들은 관련 기술분야에 공지된 방법과 유사하게 합성될 수 있다.
디펩티드에 대한 커플링 반응은 본 발명자들이 유리 형태 또는 활성화된 형태의 아미노산의 상응하는 카르복실 기를 활용하게 한다.
실시예: 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것이며, 본 발명의 범위를 제한하지는 않는다.
약어
aq. 수성
Boc/BOC tert-부톡시카르보닐
염수 물 중 염화나트륨 용액 (RT에서 포화)
Bzl 벤질
COMU 1-시아노-2-에톡시-2-옥소에틸리덴아미노옥시-디메틸아미노-모르폴리노-카르베늄 헥사플루오로포스페이트
DCM 디클로로메탄
DIPEA N,N-디이소프로필에틸아민
DMAP 4-디메틸아미노피리딘
DMF N,N-디메틸포름아미드
Fmoc/FMOC 9-플루오레닐메톡시카르보닐
Fmoc-OSu N-(9-플루오레닐메톡시카르보닐옥시)숙신이미드
Et 에틸
h 시간
HATU 2-(1H-7-아자벤조트리아졸-1-일)--1,1,3,3-테트라메틸우로늄 헥사플루오로포스페이트 메탄아미늄
HOSU N-히드록시숙신이미드
HPLC 고성능 액체 크로마토그래피
HR-MS 고해상도 질량 분광분석법
IPC 공정 중 제어
IR 적외선 분광분석법
IT 내부 온도
카이저(Kaiser) 시험 SPPS에서의 탈보호를 모니터링하기 위한 닌히드린-기반 검사 (문헌 [E. Kaiser, R. L. Colescott, C. D. Bossinger, P. I. Cook, Analytical Biochemistry 34 595 (1970)] 참조); OK인 것으로 언급된 경우에, 이는 성공적 탈보호를 의미한다.
Me 메틸
MED 디클로로메탄
MS 질량 분광분석법
MSNT 1-(메시틸렌-2-술포닐)-3-니트로-1,2,4-트리아졸
NMR 핵 자기 공명 분광분석법
PyBOP 벤조트리아졸-1-일-옥시트리피롤리디노포스포늄 헥사플루오로포스페이트
RP 역상
RT/rt 실온
SPPS 고체 상 펩티드 합성
TBME tert-부틸 메틸 에테르
TFA 트리플루오로아세트산
아미노산 약어에 대해서는 상기 표를 참조한다.
달리 언급되지 않는 한, 반응은 실온에서 수행한다.
하기 언급된 화합물 A의 합성은 하기 간소화된 반응식에 따라 용액에서 이루어지고, 보다 상세사항은 하기에 주어진다:
Figure pct00049
용액 상에서의 2 단계는 거대고리화 및 탈보호/평형이다. 이러한 및 상기 반응의 상세사항은 하기 실시예에서 주어진다:
하기 반응식 및 실시예에서 주어진 2004 IUPAC 권고에 따른 화합물의 명칭은 다음과 같다:
화합물 1: 벤질 (2S)-2-(디벤질아미노)-5-옥소펜타노에이트;
화합물 2: 벤질 (2S)-2-(디벤질아미노)-4-(1,3-디옥솔란-2-일)부타노에이트;
화합물 3: (2S)-2-(디벤질아미노)-4-(1,3-디옥솔란-2-일)부탄산;
화합물 4: (2S)-2-아미노-4-(1,3-디옥솔란-2-일)부탄산;
화합물 5: (2S)-4-(1,3-디옥솔란-2-일)-2-{[(9H-플루오렌-9-일메톡시)카르보닐]아미노}부탄산;
화합물 6: N2-(2-메틸프로파노일)-N5-(트리페닐메틸)-L-글루타미닐-O-{N-[(2S)-2-(디벤질아미노)-4-(1,3-디옥솔란-2-일)부타노일]-L-이소류실-O-(tert-부틸)-N-메틸-L-티로시닐-L-이소류실}-L-트레오닐-L-류신;
화합물 7: N2-(2-메틸프로파노일)-N5-(트리페닐메틸)-L-글루타미닐-O-{N-[(2S)-2-아미노-4-(1,3-디옥솔란-2-일)부타노일]-L-이소류실-O-(tert-부틸)-N-메틸-L-티로시닐-L-이소류실}-L-트레오닐-L-류신;
화합물 8: 2S)-N-[(3S,6S,9S,12S,15S,18S,19R)-3,9-디[(2S)-부탄-2-일]-6-{[4-(tert-부톡시)페닐]메틸}-12-[2-(1,3-디옥솔란-2-일)에틸]-7,19-디메틸-15-(2-메틸프로필)-2,5,8,11,14,17-헥사옥소-1-옥사-4,7,10,13,16-펜타아자시클로노나데칸-18-일]-2-(2-메틸프로판아미도)-N'-(트리페닐메틸)펜탄디아미드;
화합물 9: N2-(2-메틸프로파노일)-N5-(트리페닐메틸)-L-글루타미닐-O-{N-[(2S)-2-아미노-5,5-비스(벤질옥시)펜타노일]-L-이소류실-O-(tert-부틸)-N-메틸-L-티로시닐-L-이소류실}-L-트레오닐-L-류신;
화합물 10: (2S)-N-[(3S,6S,9S,12S,15S,18S,19R)-12-[3,3-비스(벤질옥시)프로필]-3,9-디[(2S)-부탄-2-일]-6-{[4-(tert-부톡시)페닐]메틸}-7,19-디메틸-15-(2-메틸프로필)-2,5,8,11,14,17-헥사옥소-1-옥사-4,7,10,13,16-펜타아자시클로노나데칸-18-일]-2-(2-메틸프로판아미도)-N'-(트리페닐메틸)펜탄디아미드;
화합물 12: 1,1'-[(3-브로모프로판-1,1-디일)비스(옥시메탄디일)]디벤젠;
화합물 13: 1,3-디에틸 2-아세트아미도프로판디오에이트;
화합물 14: 1,3-디에틸 2-아세트아미도-2-[3,3-비스(벤질옥시)프로필]프로판디오에이트;
화합물 15: 2-아세트아미도-5,5-비스(벤질옥시)펜탄산;
화합물 16: (2S)-2-아미노-5,5-비스(벤질옥시)펜탄산;
화합물 17: (2S)-5,5-비스(벤질옥시)-2-{[(9H-플루오렌-9-일메톡시)카르보닐]아미노}펜탄산;
화합물 A: (2S)-N-[(2S,5S,8S,11R,12S,15S,18S,21R)-2,8-디[(2S)-부탄-2-일]-21-히드록시-5-[(4-히드록시페닐)메틸]-4,11-디메틸-15-(2-메틸프로필)-3,6,9,13,16,22-헥사옥소-10-옥사-1,4,7,14,17-펜타아자비시클로[16.3.1]도코산-12-일]-2-(2-메틸프로판아미도)펜탄디아미드.
실시예 1: 화합물 A의 합성
1 A) 에틸렌글리콜-아세탈 합성단위체 화합물 3 및 화합물 5의 합성:
<반응식 1>
Figure pct00050
에틸렌글리콜-아세탈 보호기를 갖는 비천연 아미노산을 알데히드-중간체 1로부터 출발하여 합성하였으며 (반응식 1), 이는 문헌 [Rodriguez and Taddei, Synthesis 2005, 3, pp. 493-495]에 기재된 절차에 따라 제조하였다. 알데히드 1을 촉매로서의 p-TsOH 및 분자체의 존재 하에 에틸렌글리콜로 처리함으로써 에틸렌글리콜-아세탈 2로 전환시켰다. 화합물 2 내의 벤질-에스테르를 LiOH로 가수분해시켜 유리 산 화합물 3을 수득하였으며, 이를 상응하는 올리고펩티드, 화합물 6의 제조를 위해 사용하였다. 대안적으로, 화합물 2 내의 벤질-보호기를 목탄상 팔라듐 (10%)을 사용하는 수소화에 의해 절단하고, 유리 아미노-산 중간체 4를 상업적으로 이용가능한 Fmoc-HOSU 에스테르로 처리하여 비천연 아미노산 (화합물 5)의 N-Fmoc-보호된 에틸렌글리콜-아세탈을 수득하였다. 안정성 문제가 화합물 3 및 5의 안정성과 관하여 직면되지 않는 것으로 언급하는 것이 주목할 만하다. 이 안정성은 아세탈 및 유리 카르복실산 관능기를 포함하는 이러한 분자에서는 당연한 것으로 여겨지지 않을 수 있다.
a) 화합물 2의 합성:
DCM (700 mL) 중 화합물 1 (29g; 72.23 mmol)의 용액에, 에틸렌 글리콜 (133g, 2.14 mol), p-톨루엔-술폰산 1수화물 (15g; 78.86 mmol) 및 분자체 (3옹스트룀, 40g)를 순차적으로 첨가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 18시간 동안 교반하였다. 분자체를 여과에 의해 제거하고, 필터 케이크를 에틸 아세테이트로 세척하고, 여과물을 감압 하에 증발시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트 (1L) 중에 용해시키고, 물 (3x300mL)로 추출하고, 유기 상을 감압 하에 증발시켜 33.3g 조 생성물을 수득하였다. 조 생성물을 실리카 겔 상에서 크로마토그래피에 의해 에틸 아세테이트/헥산 (4:6)을 사용하여 정제하여 순수한 화합물 2 (87% 수율) 28.0g을 수득하였다.
생성물의 1H-NMR은 제안된 구조를 확인하였다.
Figure pct00051
b) 화합물 3의 합성:
화합물 2 (26.8g; 60.15 mmol)를 디옥산 (250 mL) 중에 용해시켰다. LiOH (10.1g; 241.05 mmol) 및 물 (150 mL)을 첨가하고, 혼합물을 실온에서 72시간 동안 교반하였다. 형성된 현탁액을 물 (200 mL) 및 아세트산 (32g)으로 처리하여 2개의 투명한 상을 수득하였다. 2상 혼합물을 에틸 아세테이트 (500 mL)로 희석하고, 상을 분리하였다. 수성 상을 분리하고, 에틸 아세테이트 (300 mL)로 추출하였다. 유기 상을 합하고, 물 (300 mL)로 세척하였다. 용매를 감압 하에 증발시켜 29g 조 생성물을 점성 액체로서 수득하였다. 조 생성물을 실리카 겔 상의 플래쉬 크로마토그래피에 의해 DCM/이소프로판올 (9:1)을 용리액으로서 사용하여 정제하여 1H-NMR에 따라 약 10 mol% 이소프로판올을 포함하는 17.3g 생성물을 수득하였다.
잔류 이소프로판올을, 이소프로필 아세테이트 (200 mL) 중에 용해시키고 이소프로필 아세테이트 용액을 물 (3x50 mL)로 추출함으로써 생성물로부터 제거하였다. 최종적으로, 용매를 감압 하에 제거하고, 생성물을 진공 하에 70℃에서 건조시켜 화합물 3 (16g; 74.8% 수율)을 수득하였다.
생성물의 1H- 및 13C-NMR 스펙트럼은 제안된 구조를 확인하였다.
Figure pct00052
c) 화합물 3으로부터의 화합물 4의 합성:
화합물 3 (2.7g; 7.596 mmol)을 이소프로판올 (60 mL) 중에 용해시키고, 촉매 (목탄상 10% Pd; 300mg)을 첨가하였다. 반응 혼합물을 23시간 동안 실온에서 대기압 하에 수소화시켰으며, 그 시간 후에 수소화가 완결되었다. 반응 혼합물을 물 (60 mL)로 희석하고, 1시간 동안 실온에서 교반하여 침전된 생성물을 용해시켰다. 이어서, 반응 혼합물을 여과하여 촉매를 제거하고, 필터 케이크를 물/이소프로판올 (1:1) (45 mL)로 세척하였다. 용매를 감압 하에 증발시키고, 생성물을 진공 하에 40℃에서 밤새 후속 건조시켜 화합물 4 (1.24g; 93.18% 수율)를 수득하였다.
1H- 및 13C-NMR-스펙트럼은 화합물 4에 대해 제안된 구조를 확인하였다.
Figure pct00053
d) 화합물 2로부터의 화합물 4의 합성:
화합물 4를 대기 수소압 하에 목탄상 10% 팔라듐을 촉매로서 사용하여 용매로서의 에탄올/물 (1:1 v/v) 중에서 실온에서 화합물 2의 수소화에 의해 제조하였다. 후처리를 위해, 촉매를 여과에 의해 제거하고, 용매를 감압 하에 증발시켰다. 생성물을 진공 하에 45℃에서 후속 건조시켜 화합물 4를 정량적 수율로 수득하였다.
생성물은 상기 화합물 3으로부터 수득된 화합물 4와 동일하였다.
e) 화합물 5의 합성:
화합물 4 (1.2g; 6.85 mmol)를 물 (7mL) 중에 용해시키고, 트리에틸아민 (0.692g)을 첨가하였다. 이 교반 혼합물에, 아세토니트릴 (6g) 중 Fmoc-HOSU-에스테르 (= (9H-플루오렌-9-일)메틸 2,5-디옥소피롤리딘-1-일 카르보네이트) (2.31g; 6.85 mmol)의 용액을 첨가하고, 반응 혼합물을 실온에서 약 1시간 동안 교반하였다. 생성된 반응 혼합물의 pH 값을 트리에틸아민을 여러 부분으로 첨가함으로써 8.5-9.0으로 조정하였다. 전체적으로, 약 0.7g 트리에틸아민의 첨가가 8.5-9.0의 pH를 유지하는데 필요하였다. 후처리를 위해, 반응 혼합물을 실리카겔 칼럼 상의 반응 혼합물의 직접 전달에 의해 실리카 겔 상의 플래쉬 크로마토그래피에 적용하였다. 에틸 아세테이트/아세트산 (98:2)으로 용리시키고, 생성물 분획을 조합하고, 용매를 증발시켜 습윤 화합물 5를 수득하였다. 습윤 생성물을 헥산 중에 현탁시키고, 실온에서 1시간 동안 교반하고, 침전물을 여과에 의해 단리시켰다. 침전물을 진공 하에 50℃에서 밤새 건조시켜 약 20 mol%의 아세트산을 포함하는 생성물을 수득하였다. 이 생성물을 60℃에서 에틸 아세테이트 (50 mL) 중에 용해시키고, 용액을 실온으로 냉각시켰다. 시드 결정 (화합물 5)을 실온에서 첨가하고, 현탁액을 묽은 현탁액이 형성될 때까지 교반하였다. 현탁액의 부피를 40℃에서 감압 하에 용매의 부분 증발에 의해 약 15mL로 감소시키고, 헥산 (89 mL)을 현탁액에 실온에서 30분에 걸쳐 첨가하였다. 현탁액을 실온에서 추가 1시간 동안 교반하고, 생성물을 여과에 의해 단리시켰다. 생성물을 진공 하에 50℃에서 밤새 건조시켜 화합물 5 (2.31g; 84.85% 수율)를 수득하였다.
Figure pct00054
Figure pct00055
1 B) SPPS에 의한 화합물 7의 합성
Figure pct00056
화합물 7을 고체 상 펩티드 합성 (SPPS)에 의해 합성하였고, 최종 단계는 하기 간소화된 반응식 2에 간단하게 나타내었다:
<반응식 2>
Figure pct00057
대안적 반응에서, N-디벤질-보호된 화합물 3 뿐만 아니라 N-Fmoc-보호된 화합물 5 둘 다는, 알데히드 관능기를 갖는 비천연 아미노산을 포함하고 에틸렌글리콜-아세탈로서 보호된, 각각의 상응하는 올리고펩티드 6 및 7의 SPPS 합성에 사용하였다 (반응식 2). 화합물 6의 벤질-보호기를 용액 중 목탄상 팔라듐 (10%)을 사용하는 수소화에 의해 제거하여 화합물 7을 수득하였다 (반응식 2). 대안적으로, 화합물 5가 마지막 커플링 단계에서 비천연 아미노산을 위한 합성단위체로서 사용되는 경우에, 화합물 7을 또한 클로로트리틸-수지 상에서 SPPS에 의해 직접 수득하였다. 놀랍게도, SPPS 동안 아세탈 보호기의 안정성, 및 고체 지지체로부터의 올리고펩티드 6 및 7의 후속적 산 촉매화 절단에 관하여 어떠한 문제도 직면하지 않았다. 세부사항은 하기 제공된다.:
장치:
하부에 여과포를 갖춘 펩티드 반응기. 질소 매니폴드는 여과포 및 하부 밸브를 통해 반응기를 비어있게 한다.
링커-수지 결합된 화합물 B를 하기와 같이 제조하였다:
1 B) (A) 트리틸-링커의 고체 지지체에의 커플링:
200g 아미노메틸-폴리스티렌 수지 (1% 디비닐 벤젠과 가교됨, 아미노메틸 기 1mmol/g 로딩) (공급업체: 센 케미칼스 아게(Senn Chemicals AG), 디엘스도르프/스위스)를 여러 부분의 디메틸포름아미드 (1600mL) 및 이소프로판올 (1600mL)과 함께 교대로 교반하였다. 디메틸포름아미드를 사용한 2회의 최종 세척 후, 수지를 디메틸포름아미드 (1600mL) 중 4-(디페닐히드록시메틸)-벤조산 (91.3g 300mmol), 1-히드록시-벤조트리아졸 1수화물 (45.9g, 300mmol) 및 디이소프로필카르보디이미드 (75.7g, 600mmol)의 사전 제조된 용액으로 처리하였다. 반응 혼합물을 1.5시간 동안 교반하고, 닌히드린 시험을 수행하였다. 시험은 여전히 유리 아미노 기를 나타내었고, 따라서 추가의 디이소프로필카르보디이미드 (7.6g, 60mmol)를 첨가하고, 반응물을 밤새 교반하였다. 아침의 후속적 닌히드린 시험은 음성이었고, 반응 혼합물을 여과하였다. 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대로 세척하였다. 수지를 진공 하에 건조시켜 건조 링커-수지 257g을 수득하였다. 물질을 후속 합성 단계에 추가 분석 없이 사용하였다.
1 B) (B) Fmoc-Leu-OH의 커플링
Fmoc-Leu-링커-수지의 제조
이전 단계로부터의 링커-수지 (190g, 147.8mmol)를 톨루엔 (1400mL) 중에 교반함으로써 팽윤시켰다. 용매를 여과하고, 톨루엔 (1400mL) 및 아세틸 클로라이드 (53mL, 1478mmol)의 용액에 의해 대체하였다. 이 혼합물을 2시간 동안 교반하고, 여과하고, 동일한 혼합물에 의해 대체하고, 이를 추가로 2시간 동안 교반한 후에, 여과하였다. 염소화 수지를 톨루엔으로 2회 및 디클로로메탄으로 3회 세척하였다.
둥근 바닥 플라스크에서, 디클로로메탄 (600mL) 중 Fmoc-Leu-OH (104.8g, 296mmol) 및 N-메틸-모르폴린 (49mL, 444mmol)의 용액을 제조하였다. 이 용액을 수지에 첨가하고, 밤새 교반하였다. 아침에, 용액을 여과하고, 수지를 디클로로메탄 및 이소프로판올로 교대로 세척하였다. 수지를 진공 하에 건조시키고, 건조 Fmoc-Leu-링커-수지 234.7g을 수득하였다. Fmoc-기로의 로딩을 185mmol의 수율 (이론치의 125%)을 유도하는 0.787mmol/g에서 결정하였다. 외부 계약자에서의 아미노산 분석은 <0.1% D-Leu 대장체를 확인하였다.
1 B) (C) Fmoc-Thr-OH 의 커플링
Fmoc-Thr-Leu-링커-수지의 제조
이전 단계로부터의 Fmoc-Leu-링커-수지 (140g, 109mmol)를 2 연속 부분의 디메틸포름아미드 (1100mL) 중에 각각 30분 동안 교반함으로써 팽윤시켰다.
Fmoc 보호기를 각각 5분 및 15분 동안 디메틸포름아미드 중 20% 피페리딘으로 2회 후속 세척함으로써 절단하였다. 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 수회의 교대 세척에 의해 세척하였다. 페놀프탈레인 및 물을 최종 세척 용액 샘플에 첨가하였다. 분홍색의 부재는 피페리딘의 성공적인 제거를 입증하였다.
수지를 테트라히드로푸란 (1200mL)으로 3회 세척하여 다음 커플링 단계를 위해 준비하였다.
둥근 바닥 플라스크에서, 테트라히드로푸란 (600mL) 중 Fmoc-Thr-OH (112.1g, 328mmol), 히드록시벤조트리아졸 1수화물 (51.25g, 334mmol) 및 디이소프로필카르보디이미드 (51mL, 655mmol)의 용액을 제조하였다.
용액을 수지에 첨가하고, pH를 즉시 체크하였다 (pH= 6.5). 반응 혼합물을 닌히드린 시험이 완전한 반응을 나타낼 때까지 1.5시간 동안 교반하였다. 용액을 여과하고, 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대로 세척하였다. 소량 샘플의 수지를 건조시키고, 아미노산 분석을 위해 보내고 (0.13% D-Leu, <0.1% D-Thr, <0.1% L-allo-Thr, <0.1% D-allo-Thr), 벌크의 물질을 추가 건조 없이 후속 단계에 적용하였다.
1 B) (D) Fmoc-Gln(Trt)-OH의 커플링
Fmoc-Gln(Trt)-Thr-Leu-링커-수지의 제조
이전 단계로부터의 Fmoc-Thr-Leu-링커-수지를 2 연속 부분의 디메틸포름아미드 (1100mL) 중에서 각각 30분 동안 교반함으로써 팽윤시켰다.
Fmoc 보호기를 각각 5분 및 15분 동안 디메틸포름아미드 중 20% 피페리딘으로 2회 후속 세척함으로써 절단하였다. 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 수회의 교대 세척에 의해 세척하였다. 페놀프탈레인 및 물을 최종 세척 용액 샘플에 첨가하였다. 분홍색의 부재는 피페리딘의 성공적인 제거를 입증하였다.
수지를 디메틸포름아미드 (1100mL)로 3회 세척하여 다음 커플링 단계를 위해 준비하였다.
둥근 바닥 플라스크에서, 디메틸포름아미드 (400mL) 중 Fmoc-Gln(Trt)-OH (138.6g, 226mmol), HATU (86.2g, 226mmol) 및 에틸디이소프로필아민 (58.4g, 452mmol)의 용액을 제조하였다.
용액을 수지에 첨가하고, pH를 즉시 체크하였다 (pH= 10). 반응 혼합물을 닌히드린 시험이 완전한 반응을 나타낼 때까지 3시간 동안 교반하였다. 용액을 여과하고, 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대로 세척하였다.
수지를 진공 하에 건조시키고, 170g의 건조 Fmoc-Gln(Trt)-Thr-Leu-링커-수지를 수득하였다. Fmoc-기로의 로딩을 102mmol의 수율 (최종 2 단계에 걸쳐 이론치의 94%)을 나타내는 0.60 mmol/g에서 결정하였다. 외부 계약자에서의 아미노산 분석은 하기 값을 유도하였다: (0.13% D-Leu, <0.1% D-Thr, <0.1% L-allo-Thr, <0.1% D-allo-Thr, <0.8% D-Gln).
1 B) (E) 이소부티르산의 커플링
이소부티릴-Gln(Trt)-Thr-Leu-링커-수지의 제조
이전 단계로부터의 Fmoc-Gln(Trt)-Thr-Leu-링커-수지 (169g, 101mmol)를 2 후속 부분의 디메틸포름아미드 (1300mL) 중에 각각 30분 동안 교반함으로써 팽윤시켰다.
Fmoc 보호기를 각각 5분 및 15분 동안 디메틸포름아미드 중 20% 피페리딘 (1300mL)으로 2회 후속 세척함으로써 절단하였다. 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 수회의 교대 세척에 의해 세척하였다. 페놀프탈레인 및 물을 최종 세척 용액 샘플에 첨가하였다. 분홍색의 부재는 피페리딘의 성공적인 제거를 입증하였다.
수지를 디메틸포름아미드 (1100mL)로 3회 세척하여 다음 커플링 단계를 위해 준비하였다.
둥근 바닥 플라스크에서, 디메틸포름아미드 (550mL) 중 이소부티르산 (17.9g, 203mmol), PyBOP (105.5g, 203mmol) 및 에틸디이소프로필아민 (52.4g, 406mmol)의 용액을 제조하였다.
용액을 수지에 첨가하고, pH를 즉시 체크하였다 (pH= 9.5). 반응 혼합물을 닌히드린 시험이 완전한 반응을 나타낼 때까지 2.5시간 동안 교반하였다. 용액을 여과하고, 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대로 세척하였다.
배치를 건조 및 추가 분석 없이 다음 단계에 직접적으로 적용하였다.
1 B) (F) Fmoc-Ile-OH (에스테르화)의 커플링
이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Fmoc)-Leu-링커-수지의 제조
이소부티릴-Gln(Trt)-Thr-Leu-링커-수지 (이전 단계로부터의 습윤물, 101mmol)를 3 후속 부분의 디클로로메탄 (1200mL) 중에 각각 20분 동안 교반함으로써 팽윤시켰다.
용매를 여과하고, MSNT (88g, 297mmol) 및 Fmoc-Ile-OH (105g, 297mmol)를 고체로서 첨가하였다. 디클로로메탄 (500mL), 뿐만 아니라 디클로로메탄 (100mL) 중 N-메틸 이미다졸 (18.2g, 223mmol) 및 에틸디이소프로필아민 (51.2g, 396mmol)의 용액을 첨가하였다. 반응 혼합물을 HPLC 공정 중 제어는 완전한 반응을 나타낼 때까지 2시간 동안 교반하였다. 용액을 여과하고, 수지를 3 부분의 디클로로메탄, 3 부분의 디메틸포름아미드 및 3 부분의 이소프로판올로 연속으로 세척하였다. 수지를 진공 하에 건조시키고, 172g의 건조 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Fmoc)-Leu-링커-수지를 수득하였다. Fmoc 로딩을 0.418mmol/g에서 결정하였고, 따라서 72mmol의 수율 (최종 2 단계에 걸쳐 71%)을 나타내었다.
1 B) (G) Fmoc-N-메틸-Tyr(tBu)-OH의 커플링
이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Tyr(tBu)Me-Fmoc)-Leu-링커-수지
이전 단계로부터의 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Fmoc)-Leu-링커-수지 (172g, 72mmol)를 2 후속 부분의 디메틸포름아미드 (1300mL) 중에 각각 30분 동안 교반함으로써 팽윤시켰다.
Fmoc 보호기를 각각 5분 및 15분 동안 디메틸포름아미드 중 20% 피페리딘 (1400mL)으로 2회 후속 세척함으로써 절단하였다. 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 수회의 교대 세척에 의해 세척하였다. 페놀프탈레인 및 물을 최종 세척 용액 샘플에 첨가하였다. 분홍색의 부재는 피페리딘의 성공적인 제거를 입증하였다.
수지를 디메틸포름아미드 (1100mL)로 3회 세척하여 다음 커플링 단계를 위해 준비하였다.
디메틸포름아미드 (700mL) 중 Fmoc-N-메틸-Tyr(tBu)-OH (68.7g, 144mmol) 및 HATU (55.1g, 144mmol)의 용액을 제조하고, 수지에 첨가하였다. 직후에 디메틸포름아미드 (100mL) 중 에틸디이소프로필아민 (37.5g 289mmol)의 용액을 교반 하에 첨가하였다. 커플링 용액의 첨가 직후에 pH를 체크하고, 반응 1시간 후에 동일한 결과를 얻었다 (pH 10). 용액을 닌히드린 시험이 완전한 반응을 나타낼 때까지 2시간 동안 교반하였다. 용액을 여과하고, 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대로 세척하였다.
배치를 건조 및 추가 분석 없이 다음 단계에 직접적으로 적용하였다.
1 B) (H) Fmoc-Ile-OH 의 커플링
이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Tyr(tBu)Me-Ile-Fmoc)-Leu-링커-수지 (링커-수지 결합된 화합물 B)의 제조.
이전 단계로부터의 습윤 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Tyr(tBu)Me-Fmoc)-Leu-링커-수지 (72mmol)를 2 후속 부분의 디메틸포름아미드 (1200mL 및 1300mL) 중에 각각 30분 동안 교반함으로써 팽윤시켰다. Fmoc 보호기를 각각 5분 및 15분 동안 디메틸포름아미드 중 20% 피페리딘 (1400mL)으로 2회 후속 세척함으로써 절단하였다. 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 수회의 교대 세척에 의해 세척하였다. 페놀프탈레인 및 물을 최종 세척 용액 샘플에 첨가하였다. 분홍색의 부재는 피페리딘의 성공적인 제거를 입증하였다.
수지를 디메틸포름아미드 (1100mL)로 3회 세척하여 다음 커플링 단계를 위해 준비하였다.
둥근 바닥 플라스크에서, 디클로로메탄 (440mL) 및 디메틸포름아미드 (440mL) 중 Fmoc-Ile-OH (103.9g, 294mmol) COMU (125.9g, 294mmol) 및 에틸디이소프로필아민 (76g, 588mmol)의 용액을 제조하였다.
용액을 수지에 첨가하고, 반응 혼합물을 20시간 동안 교반하였다. 그 후, 닌히드린 시험을 수행하였고, 완전한 반응을 나타내었다. 용액을 여과하고, 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대로 세척하였다.
수지를 진공 하에 건조시키고, 185.5g의 건조 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Tyr(tBu)Me-Ile-Fmoc)-Leu-링커-수지를 수득하였다. Fmoc 기로의 로딩은 0.4 mmol/g인 것으로 결정되었다. 따라서 74mmol의 정량적 수율을 생성하였다.
1 C) 화합물 7의 용액 상 합성
1 C) (A) 화합물 6의 합성
a) 이전 단계로부터의 화합물 3 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Tyr(tBu)Me-Ile-Fmoc)-Leu-링커-수지 (10.4g, 4.37 mmol)의 커플링을 2 후속 부분의 디메틸포름아미드 (50mL) 중에 각각 30분 동안 교반함으로써 팽윤시켰다. FMOC 보호기를 각각 5분 및 15분 동안 디메틸포름아미드 중 20% 피페리딘 (50mL)로 2회 후속 처리에 의해 절단하였다. 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올의 수회의 교대 순서로 세척하였다. 최종적으로, 수지를 디메틸포름아미드 (2x50mL)로 세척하여 후속 커플링 단계를 위해 준비하였다. 100mL 유리 병에서, 디메틸포름아미드 (50mL) 중 화합물 3 (3.1g, 8.74mmol), PyBOP (4.55g, 8.74mmol) 및 에틸-디이소프로필아민 (2.2g, 17.0mmol)의 용액을 제조하였다. 염기성 용액 (pH11)을 5분 동안 교반한 후, 이를 수지에 첨가하였다. 반응 혼합물을 3시간 동안 교반하였다. 이어서, 용액을 여과하고, 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 세척하였다. 최종적으로, 수지를 디클로로메탄 (50mL)으로 3회 세척하여 펩티드의 절단을 위해 준비하였다.
b) 수지로부터의 절단
상기 화합물 3의 커플링 후에 수득된 습윤 펩티드-수지에, 아세트산 (40mL) 및 디클로로메탄 (10mL)의 혼합물을 첨가하고, 현탁액을 5시간 동안 교반하였다. 현탁액을 여과하고, 여과물을 둥근 바닥 플라스크 내에 수집하였다 (여과물 1). 수지를 디클로로메탄 (20mL)으로 2회 세척하고, 세척물을 여과물 1과 합하였다. 수지를 신선한 부분의 아세트산 (40mL) 및 디클로로메탄 (10mL)으로 처리하고, 혼합물을 밤새 교반하였다. 현탁액을 여과하고, 여과물을 둥근 바닥 플라스크 내에 수집하였다 (여과물 2). 수지를 디클로로메탄 (20mL)으로 2회 세척하고, 세척물을 여과물 2와 합하였다. 모든 여과물을 합하고, 회전 증발기에서 농축시켰다. 잔류 아세트산을 톨루엔 (100mL)과의 공비 증류에 의해 제거하였다. 용매의 완전한 증발로 유리질 적갈색 잔류물 4.5g을 조 생성물로서 수득하였다. 조 물질을 RP-크로마토그래피에 의해 YMC ODS-AQ 칼럼을 사용하여 정제하였다. 분획을 HPLC을 사용하여 평가하고, 풍부한 분획을 회전 증발기에서 농축시키고, 농축물을 동결 건조시켰다. 수율: 2.86g 화합물 6 (마지막 2 단계 동안 44%).
Figure pct00058
1H-NMR-스펙트럼은 제안된 구조를 확인하였다.
1 C) (B) 화합물 7의 합성 (화합물 6의 탈보호를 갖는 변형법)
화합물 6 (0.5g, 0.34 mmol)을 이소프로판올/물 (95:5 v/v, 15mL) 중에 용해시키고, 용액을 아르곤으로 플러싱하였다. 목탄상 팔라듐 (10% Pd; 0.25g)을 아르곤의 스트림 하에 첨가하고, 현탁액을 IT 35-40℃로 가열하였다. 수소 기체를 기체 상 내로 도입하고, IPC (HPLC)가 반응의 완결을 나타낼 때까지 (<5% 출발 물질) 혼합물을 수소의 대기압 하에 교반하였다.
후처리를 위해, 촉매를 여과에 의해 제거하고, 여과 잔류물을 이소프로판올로 세척하였다. 여과물을 증발시켜 500mg 조 생성물을 수득하였다. 조 생성물을 실리카 겔 상의 플래쉬 크로마토그래피에 의해 에틸 아세테이트/메탄올 (93:7)을 사용하여 정제하여 348mg 화합물 7을 수득하였다. 수율: 79.3%.
Figure pct00059
1 D) 화합물 7의 SPPS 합성 (화합물 5의 커플링을 갖는 변형법)
클로르트리틸수지 결합된 화합물 C를 하기와 같이 제조하고 사용하였다:
1 D) (A): Fmoc-Leu-OH의 클로르트리틸-수지에의 커플링 - Fmoc-Leu-클로르트리틸수지의 제조
클로르-(2'-클로르)트리틸-폴리스티렌 수지 (47.15g, 50 mmol)를 디클로로메탄 (350mL) 중에 밤새 교반함으로써 팽윤시켰다. 용매를 여과하고, 디클로로메탄 (330mL) 및 아세틸 클로라이드 (19.75g, 250mmol)의 용액에 의해 대체하였다. 이 혼합물을 3시간 45분 동안 교반하고, 여과하고, 동일한 혼합물에 의해 대체하였으며, 이를 추가로 90분 동안 교반한 후에 여과하였다. 이 처리를 1시간 45분 동안 1회 더 반복하였다. 염소화 수지를 디클로로메탄으로 3회 세척하였다.
둥근 바닥 플라스크에서, 디클로로메탄 (120mL) 중 Fmoc-Leu-OH (35.4g, 100mmol) 및 N-메틸-모르폴린 (15.2g, 150mmol)의 용액을 제조하였다. 이 용액을 수지에 첨가하고, 밤새 교반하였다. 아침에, 용액을 여과하고, 수지를 디클로로메탄 및 이소프로판올로 교대로 세척하였다. 수지를 진공 하에 건조시켜 건조 Fmoc-Leu-클로르트리틸수지 69.1g을 수득하였다. Fmoc-기로의 로딩을 51mmol의 수율 (정량적 수율)을 유도하는 0.74mmol/g에서 결정하였다.
1 D) (B): Fmoc-Thr-OH의 커플링 - Fmoc-Thr-Leu-클로르트리틸수지의 제조
이전 단계로부터의 Fmoc-Leu-클로르트리틸수지 (67.1g, 49.7mmol)를 2 후속 부분의 디메틸포름아미드 (400mL 및 350mL) 중에 각각 30분 및 75분 동안 교반함으로써 팽윤시켰다.
Fmoc 보호기를 각각 5분 및 15분 동안 디메틸포름아미드 중 20% 피페리딘의 2회 후속 세척함으로써 절단하였다. 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 수회의 교대 세척에 의해 세척하였다. 페놀프탈레인 및 물을 최종 세척 용액의 샘플에 첨가하였다. 분홍색의 부재는 피페리딘의 성공적 제거를 입증하였다.
수지를 테트라히드로푸란 (330mL)으로 3회 세척하여 다음의 커플링 단계를 위해 준비하였다.
둥근 바닥 플라스크에서, 테트라히드로푸란 (285mL) 중 Fmoc-Thr-OH (33.95g, 99.4mmol), 히드록실벤조트리아졸 1수화물 (23.31g, 152mmol) 및 디이소프로필카르보디이미드 (37.6g, 298mmol)의 용액을 제조하였다.
용액을 수지에 첨가하고, 반응 혼합물을 밤새 교반하였다. HPLC는 완전한 반응을 나타내었다. 용액을 여과하고, 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대로 세척하였다. 최종적으로, 수지를 TBME로 5회 세척하고, 진공 하에 건조시키고, 건조 Fmoc-Thr-Leu-클로르트리틸수지 67.5g을 수득하였다. Fmoc-기로의 로딩을 39mmol의 수율 (이론치의 79%)을 유도하는 0.58mmol/g에서 결정하였다.
1 D) (C): Fmoc-Gln(Trt)-OH의 커플링 - Fmoc-Gln(Trt)-Thr-Leu-클로르트리틸수지의 제조
이전 단계로부터의 Fmoc-Thr-Leu-클로르트리틸수지 (49.4g, 28.7mmol)를 2 후속 부분의 디메틸포름아미드 (각각 350mL) 중에 각각 30분 및 70분 동안 교반함으로써 팽윤시켰다.
Fmoc 보호기를 각각 5분 및 15분 동안 디메틸포름아미드 중 20% 피페리딘으로 2회 후속 세척함으로써 절단하였다. 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 수회의 교대 세척에 의해 세척하였다. 페놀프탈레인 및 물을 최종 세척 용액의 샘플에 첨가하였다. 분홍색의 부재는 피페리딘의 성공적인 제거를 입증하였다.
수지를 디메틸포름아미드 (250mL)로 3회 세척하여 다음의 커플링 단계를 위해 준비하였다.
둥근 바닥 플라스크에서, 디메틸포름아미드 (190mL) 중 Fmoc-Gln(Trt)-OH (34.4g, 57.3mmol), HATU (21.5g, 57.3mmol) 및 에틸디이소프로필아민 (14.8g, 114.6mmol)의 용액을 제조하였다.
용액을 수지에 첨가하고, pH을 즉시 체크하였다 (pH= >8). 반응 혼합물을 2시간 30분 동안 교반한 후, HPLC 공정 중 제어는 완전한 반응을 나타내었다. 용액을 여과하고, 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대로 세척하였다.
수지는 건조되지 않았지만, 후속 단계에 직접 도입되었다.
1 D) (D): 이소부틸화 - 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr-Leu-클로르트리틸수지의 제조
Fmoc-Gln(Trt)-Thr-Leu-클로르트리틸수지 (이전 단계로부터의 습윤물, 28.7mmol)를 디메틸포름아미드 (300mL)로 30분 동안 세척하였다.
Fmoc 보호기를 각각 5분 및 15분 동안 디메틸포름아미드 중 20% 피페리딘 (400mL)으로 2회 후속 세척함으로써 절단하였다. 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 수회의 교대 세척에 의해 세척하였다. 페놀프탈레인 및 물을 최종 세척 용액의 샘플에 첨가하였다. 분홍색의 부재는 피페리딘의 성공적인 제거를 입증하였다.
수지를 디메틸포름아미드 (250mL)로 3회 세척하여 다음의 커플링 단계를 위해 준비하였다.
둥근 바닥 플라스크에서, 디메틸포름아미드 (190mL) 중 이소부티르산 (5.01g, 56.9mmol), PyBOP (29.33g, 56.4mmol) 및 에틸디이소프로필아민 (15.55, 120mmol)의 용액을 제조하였다.
용액을 수지에 첨가하고, pH을 즉시 체크하였다 (pH= 11). 반응 혼합물을 1시간 동안 교반한 후, HPLC 공정 중 제어는 완전한 반응을 나타내었다. 용액을 여과하고, 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대로 세척하였다.
배치를 건조 및 추가 분석 없이 후속 단계에 직접 적용하였다.
1 D) (E): Fmoc-Ile-OH의 커플링 (에스테르화) - 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Fmoc)-Leu-클로르트리틸수지의 제조
이소부티릴-Gln(Trt)-Thr-Leu-클로르트리틸수지 (이전 단계로부터의 습윤물, 28.7mmol)를 실온에서 2 부분의 디클로로메탄 및 2 추가 부분의 차가운 (0℃) 디클로로메탄으로 질소 하에 세척하였다.
둥근 바닥 플라스크에서, MED (210mL) 중 Fmoc-Ile-OH (37.65g, 106.5mmol), N-메틸 이미다졸 (10.00g, 121.8mmol) 및 MSNT (31.65g, 106.8mmol)의 용액을 0℃에서 질소 하에 제조하였다. 커플링 용액을 차가운 수지에 첨가하고, 반응 혼합물을 30분 동안 교반한 후, 추가량의 N-메틸 이미다졸 (5.33g, 64.9mmol)을 첨가하였다. 반응물을 추가로 30분 동안 교반한 후, HPLC 공정 중 제어는 완전한 반응을 나타내었다. 용액을 여과하고, 수지를 디메틸포름아미드 이소프로판올로 교대로 세척하였다. 최종적으로, 수지를 TBME로 5회 세척하고, 진공 하에 건조시켜 건조 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Fmoc)-Leu-클로르트리틸수지 55.7g을 수득하였다. Fmoc 로딩을 24.2mmol의 수율 (마지막 세 단계에 걸쳐 84%)을 유도하는 0.43mmol/g에서 결정하였다.
1 D) (F): Fmoc-N-Me-Tyr(tBu)-OH의 커플링 - 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Tyr(tBu)Me-Fmoc)-Leu-클로르트리틸수지의 제조
이전 단계로부터의 건조 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Fmoc)-Leu-클로르트리틸수지 (55.5g, 24.1mmol)를 2 후속 부분의 디메틸포름아미드 (각각 400mL) 중에 각각 30분 동안 교반함으로써 팽윤시켰다.
Fmoc 보호기를 각각 5분 및 15분 동안 디메틸포름아미드 중 20% 피페리딘 (450mL)의 2회 후속 세척함으로써 절단하였다. 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 수회의 교대 세척에 의해 세척하였다. 페놀프탈레인 및 물을 최종 세척 용액의 샘플에 첨가하였다. 분홍색의 부재는 피페리딘의 성공적인 제거를 입증하였다.
수지를 디메틸포름아미드 (280mL)로 3회 세척하여 다음의 커플링 단계를 위해 준비하였다.
디메틸포름아미드 (280mL) 중 Fmoc-N-메틸-Tyr(tBu)-OH (22.12g, 47.7mmol) 및 HATU (17.81g, 46.8mmol) 및 에틸디이소프로필아민 (12.09g 93.5mmol)의 용액을 제조하고, 수지에 첨가하였다. 반응 혼합물의 pH를 커플링 용액의 첨가 직후에 체크하였다 (pH >8). 용액을 2시간 동안 교반한 후, HPLC 공정 중 제어는 완전한 반응을 나타내었다. 용액을 여과하고, 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대로 세척하였다.
배치를 건조 및 추가 분석 없이 후속 단계에 직접 적용하였다.
1 D) (G): Fmoc-Ile-OH의 커플링 - 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Tyr(tBu)Me-Ile-Fmoc)-Leu-클로르트리틸수지의 제조
이전 단계로부터의 습윤 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Tyr(tBu)Me-Fmoc)-Leu-클로르트리틸수지 (24.1mmol)를 30분 동안 디메틸포름아미드 (400mL)로 세척하였다. Fmoc 보호기를 각각 5분 및 15분 동안 디메틸포름아미드 중 20% 피페리딘 (450mL)의 2회 후속 세척함으로써 절단하였다. 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 수회의 교대 세척에 의해 세척하였다. 페놀프탈레인 및 물을 최종 세척 용액의 샘플에 첨가하였다. 분홍색의 부재는 피페리딘의 성공적인 제거를 입증하였다.
수지를 디메틸포름아미드 (280mL)로 3회 세척하여 다음의 커플링 단계를 위해 준비하였다.
둥근 바닥 플라스크에서, 디클로로메탄 (110mL) 및 디메틸포름아미드 (110mL) 중 Fmoc-Ile-OH (33.01, 93.4mmol), COMU (39.99g, 93.4mmol) 및 에틸디이소프로필아민 (24.16g, 187mmol)의 용액을 제조하였다.
용액을 수지에 첨가하고, pH을 체크하였다 (pH>8). 반응 혼합물을 2시간 동안 교반하였다. 그 시간 후, HPLC 공정 중 제어는 완전한 반응을 나타내었다. 용액을 여과하고, 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대로 세척하였다. 최종적으로, 수지를 TBME로 5회 세척하였다.
수지를 진공 하에 건조시켜 건조 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Tyr(tBu)Me-Ile-Fmoc)-Leu-클로르트리틸수지 61.1g을 수득하였다. Fmoc 기로의 로딩을 0.30mmol/g이 되도록 결정하였다. 따라서, 18.3mmol의 수율을 생성하였고, 이는 마지막 두 단계에 걸쳐 76%에 상응하였다.
1 D) (H) 화합물 5의 커플링: 화합물 7의 제조
a) 커플링
이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Tyr(tBu)Me-Ile-Fmoc)-Leu-클로르트리틸수지 (6.5g, 1.89mmol)를 2 후속 부분의 디메틸포름아미드 (45mL 및 40mL) 중에 각각 30분 동안 교반함으로써 팽윤시켰다.
FMOC 보호기를 각각 5분 및 15분 동안 디메틸포름아미드 중 20% 피페리딘 (50mL 및 55mL)으로의 2회 후속 처리에 의해 절단하였다. 수지를 여러 부분의 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대 순서로 세척하였다. 페놀프탈레인/물을 사용한 색상 시험은 염기의 부재 하에 확인하였다. 최종적으로, 수지를 디메틸포름아미드 (3x30mL)로 세척하여 다음의 커플링 단계를 위해 준비하였다.
둥근 바닥 플라스크에서, 디메틸포름아미드 (20mL) 중 화합물 5 (1.50g, 3.77mmol), PyBOP (1.96g, 3.77mmol) 및 에틸-디이소프로필아민 (0.98g, 7.54mmol)의 용액을 제조하였다. 염기성 용액 (pH8)을 5분 동안 교반한 후, 이를 수지에 첨가하였다. 반응 혼합물을 2시간 동안 교반하고, 반응의 진행을, 샘플을 수지로부터 절단함으로써 모니터링하였다. 샘플의 HPLC는 완전한 전환을 나타내었다. 용액을 여과하고, 수지를 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대 순서로 세척하였다. 디메틸포름아미드 습윤 수지로부터, FMOC 보호기를 각각 5분 및 15분 동안 디메틸포름아미드 중 20% 피페리딘 (60mL)으로 2회 후속 처리에 의해 절단하였다. 수지를 여러 부분의 디메틸포름아미드 및 이소프로판올로 교대 순서로 세척하였다. 세척의 유효성을 페놀프탈레인 / 물로 체크하였다. 최종적으로, 수지를 디클로로메탄 (40mL)으로 3회 세척하여 펩티드의 절단을 위해 준비하였다.
b) 수지로부터의 절단
습윤 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Tyr(tBu)Me-Ile-화합물 5-H)-Leu-링커-수지에 디클로로메탄 (40mL), 아세트산 (4.99mL) 및 트리플루오로에탄올 (4.96mL)의 혼합물을 첨가하고, 현탁액을 3시간 동안 교반하였다. 현탁액을 여과하고, 여과물을 둥근 바닥 플라스크에 수집하였다. 절단 단계를 동일한 양의 절단 칵테일로 각각 2시간 동안 2회 반복하였다. 여기서 모든 여과물을 합하였다. 수지를 톨루엔 (40mL)으로 3회 세척하고, 세척물을 여과물과 합하였다.
생성물을 함유하는 용액을 회전 증발기에서 증발 건조시켰다. 잔류 고체를 아세토니트릴/물 중에 용해시키고, 동결건조시켰다. 동결건조된 분말 2.95g을 조 생성물로서 단리시켰다.
조 물질을 RP-크로마토그래피에 의해 크로마실 RP 4 10um 칼럼 (에카 케미칼스 AB(Eka Chemicals AB), 스웨덴 보후스)을 사용하여 정제하였다. 분획을 HPLC를 사용하여 평가하고, 생성물-풍부한 분획을 합하고, 회전 증발기에서 농축시키고, 농축물을 동결 건조시켜 1.0g 화합물 7 (마지막 두 단계에 대해서 41% 수율)을 수득하였다. 순도: 92 %a.
생성물의 1H-NMR 스펙트럼은 회전이성질체의 혼합물로서 제안된 구조를 확인하였다.
Figure pct00060
1 E) 화합물 A의 합성
합성 중 최종 단계는 후속 반응식에 제시된다:
<반응식 3>
Figure pct00061
상세하게는 합성은 하기에 기재되어 있다:
1 E) (A) 거대고리화: 화합물 8의 제조
4-DMAP (100 mg, 0.82 mmol) 및 HATU (205.4 mg, 0.54 mmol)를 아세토니트릴 (15 mL) 중에 용해시켰다. 용액을 0℃로 냉각시켰다. 이 용액에, 아세토니트릴 (20 mL) 중 화합물 7 (348 mg, 0.27 mmol)의 용액을 10분 내에 적가하였다. 반응 혼합물을 추가로 10분 동안 0℃에서 교반하여 고리화를 완결하였다. 후처리를 위해, 반응 혼합물을 물 (50 mL)에 붓고, 이소프로필 아세테이트 (150 mL)를 첨가하고, 이어서 염수 (10 mL)를 첨가하였다. 상을 분리하고, 유기 상을 묽은 수성 NaCl-용액 (60 mL)으로 다시 추출하였다. 유기 상을 분리하고, 용매를 회전증발기에서 감압 하에 증발시켜 523mg 조 생성물을 수득하였다. 조 생성물을 실리카 겔 상의 플래쉬 크로마토그래피에 의해 에틸 아세테이트를 이동상으로서 사용하여 정제하여 278.9 mg 화합물 8 (81.3% 수율)을 수득하였다.
Figure pct00062
1 E) (B) 탈보호 및 평형
화합물 8 (200mg, 0.157 mmol)을 디클로로메탄 (40 mL) 중에 용해시키고, 용액을 0℃로 냉각시켰다. 트리플루오로아세트산 (11.5g)을 용액에 0℃에서 적가하고, 반응 혼합물을 0℃에서 추가로 3시간 동안 교반하였다. 이어서, 반응 혼합물을 디클로로메탄 (40 mL)으로 희석하고, 물 (2mL)을 첨가하였다. 반응 온도를 20-25℃로 상승시키고, 혼합물을 이 온도에서 16시간 동안 교반하였다. 이어서, 반응 혼합물을 물 (80 mL) 중 아세트산나트륨 (16.3g)의 용액에 붓고, 에틸 아세테이트 (40 mL)를 첨가하였다. 2상 혼합물을 철저하게 교반하고, 상을 분리하였다. 유기 상을 물 (2x20 mL)로 세척하고, 수상을 에틸 아세테이트 (40 mL)로 추출하였다. 유기 상을 합하고, 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 40-45℃에서 감압 하에 증발시켜 조 생성물 270mg을 수득하였다. 조 생성물을 실리카 겔 상의 플래쉬 크로마토그래피에 의해 에틸 아세테이트/이소프로판올 (9:1)을 용리액으로서 사용하여 정제하여 화합물 A 105mg을 수득하였다. 수율: 71.8%.
구조를 NMR 데이터에 의해 확인하였다.
Figure pct00063
실시예 2: 비-시클릭 아세탈 보호기를 사용한 화합물 A의 합성: 벤질 아세탈의 사용
하기 반응식은 실시예 1에서 화합물 7에 대한 대체물로서 화합물 9의 사용을 제시한다.
<반응식 4>
Figure pct00064
상세하게는, 반응식에서 상응하는 전구체 및 반응물은 하기와 같이 나타내었다:
2 A) 디벤질-아세탈 합성단위체 (화합물 17)의 합성
화합물 17을 하기 제시된 합성 반응식에 따라 제조하였다:
<반응식 5>
Figure pct00065
2 B) 화합물 12의 합성:
0℃에서 질소 하에 3L-반응기에서, 메틸렌 클로라이드 (1.15 kg) 중 건조된 아크롤레인 (105.3 g, 1.78 mol)을 도입하였다. 트리메틸브로모실란 (281.7 g, 1.78 mol)을 적하 깔때기를 사용하여 30분에 걸쳐 적가하면서, 온도를 5℃ 미만으로 유지하였다. 1시간 30분 동안 교반한 후, 벤질 알콜 (311.1 g, 2.85 mol)을 45분에 걸쳐 적가하고, 혼합물을 0℃에서 16시간 동안 교반하였다. 오렌지색 용액에, 피리딘 (29 g, 0.36 mol), 아세트산 무수물 (38 g, 0.36 mol) 및 DMAP (4.4 g, 0.04 mol)를 첨가하였다. 혼합물을 실온에서 24시간 동안 교반하고, 10℃로 냉각시키고, NaHCO3 10% 용액 (750 mL)을 pH=7까지 첨가하였다. 유기 층을 물 (2 x 500 mL)로 세척하고, 무수 황산나트륨 상에서 건조시켰다. 용매를 증발시켜 화합물 12 (428 g, 90%)를 조 황색 오일로서 수득하였으며, 이를 냉장고 내에서 약간의 시간 정치시켜 건조시켰다. 점성 오렌지색 하부 상을 제거한 후, 6%의 벤질 아세테이트가 조 물질 중에 여전히 존재하였다.
Figure pct00066
2 C) 화합물 14의 합성:
3L-반응기에서, 디에틸아세트아미도말로네이트 (화합물 13, 275 g, 1.241 mol)를 무수 DMF (800 g) 중 N2 하에 도입하였다. 무수 DMF (424 g) 중에 용해시킨 포타슘 tert-부톡시드 (144g, 1.241 mol)를 10분에 걸쳐 적하 깔때기에 의해 첨가하였다. 온도는 45℃로 상승하였다. 혼합물을 80℃로 가열하고, 조 화합물 12 (428 g, 1.034 mol)를 1시간에 걸쳐 적가하였다. 추가의 DMF (125 g)를 사용하고, 혼합물을 불활성 분위기 하에 80℃에서 2시간 동안 교반하였다. 이어서, 용매를 증발시켰다. 에틸 아세테이트 (1.2 L) 및 물 (2.5 L)을 첨가하였다. 유기 층을 수성 NaCl 10% (3 x 1.5 L)로 세척하고, 유기 용매를 증류시켰다. t-부틸-메틸 에테르/헵탄으로부터, 약간의 잔류 에틸 아세테이트를 함유하는 잔류물을 결정화시켜 화합물 14를 백색 고체로서 87% 수율로 수득하였다 (423 g, 순도: 97%).
Figure pct00067
2 D) 화합물 15의 합성:
3L-반응기에, 화합물 14 (211 g, 434 mmol) 및 950 mL 에탄올 95%를 도입하였다. 150 mL 에탄올 95% 중 수산화칼륨 (30 g, 477 mmol)을 25분에 걸쳐 적하 깔때기로 첨가하였다. 슬러리는 투명한 용액이 되었다. 혼합물을 실온에서 3시간 30분 동안 교반하였다. 모노산/모노에스테르 중간체의 완전한 전환은 HPLC에 의해 달성되었다. 혼합물을 탈카르복실화를 위해 2시간 30분 동안 환류로 가열하였다. 이어서, 150 mL 에탄올 95% 중 추가의 수산화칼륨 (34 g, 564 mmol)을 첨가하고, 혼합물을 75℃에서 2시간 동안 교반하였다. 이어서, 에탄올을 1시간에 걸쳐 증류시켰다. 혼합물을 실온으로 냉각시키고; 물에 이어서 t-부틸-메틸-에테르를 첨가하여 불용성 부산물을 추출하였다. 이어서, 수성 층을 아세트산을 사용하여 pH 5.0으로 산성화시키고, 생성물을 t-부틸-메틸-에테르로 다시 추출하고, 유기 층을 물로 세척하고, 진공 하에 농축시켰다. 온화한 농축은 보다 정확하게는 50℃ 미만의 온도를, 우수한 진공 및 매우 신속함과 함께 필요로 하며; 다르게는 시클릭 유도체로의 분해가 발생한다는 것을 주목한다. 회수된 오일을 매우 신속하게 결정화시켰다. t-부틸-메틸-에테르/헵탄 (1:2)으로부터 재결정화시켜 148.6 g의 화합물 15를 백색 고체로서 수득하였다 (수율: 87%, 순도: 98%a).
Figure pct00068
2 E) 화합물 16의 합성:
3L-반응기에 시트레이트 완충제 (1 L, pH=5)를 도입하였다. 아미노산, 화합물 15 (146 g, 385 mmol)를 첨가하고, pH을 수산화나트륨 30% (84 g) 및 추가의 시트레이트 완충제 (130 mL)를 사용하여 8.0-8.5로 조정하였다. 염화코발트 1 mM (150 mL)을 첨가하여 0.1 mM의 보조인자의 농도를 수득하였다. 효소 (아실라제 "아마노(Amano)" ACV12502 (아마노 엔자임 인크.(Amano Enzyme Inc.), 일본 나고야), 7.25 g, 5% w/w)를 30℃에서 최종적으로 첨가하였다. 갈색 혼합물을 HPLC가 50% 전환율을 나타낼 때까지 (약 24시간) 교반하였다. 백색 슬러리를 pH 7.0으로 산성화시키고, 여과하였다. 조 고체의 여과는 상당히 느리며 적절하게 진행시키기 위해 큰 깔때기를 필요로 한다는 것을 주목한다. 고체를 물 (3x) 및 아세톤 (3x)으로 세척하고, 진공 하에 점차 건조시켰다. 메탄올/물 중 재결정화시켜 화합물 16 51.6 g을 백색 고체로서 수득하였다 (41% 단리 수율, 순도: 99%). mp 190℃ (분해).
Figure pct00069
2 F) 화합물 17의 합성:
750mL-반응기에서, 불활성 분위기 하에 물 (320 mL) 및 아세토니트릴 (80 mL) 중 화합물 16 (40.2 g, 120 mmol)을 도입하였다. 이 백색 슬러리에 35분에 걸쳐 트리에틸아민 (24.3 g, 240 mmol)을 첨가하였다. 고체의 완전한 용해 후, Fmoc-OSu (40.5 g, 120 mmol)를 첨가하였다. 혼합물을 실온에서 3시간 30분 동안 교반하였다. 추출을 에틸아세테이트를 사용하여 수행하였다. 유기 층을 물로 세척하고, 다량의 용매를 증류시켰다. 소량의 물을 첨가하고, 혼합물을 pH 4.6로 산성화시켰다. 유기 층을 유지하고, 물 (2x)로 세척하고, 최종적으로 진공 하에 농축시켰다. t-부틸-메틸-에테르/헵탄 (1/3) 중 잔류물을 재결정화시켜 화합물 17을 백색 고체로서 수득하였다 (58.2g, 88% 수율, 순도: 92 %a, ee: 100%, 키랄 HPLC에 의해 달성됨).
Figure pct00070
2 G) 화합물 9의 합성:
화합물 17 (8.388g, 15.21 mmol)을 이소부티릴-Gln(Trt)-Thr(Ile-Tyr(tBu)Me-Ile-Fmoc)-Leu-링커-수지 (10.3g, 4.33 mmol) 상에 커플링시키고, Fmoc 보호기를 링커-수지-결합 펩티드 상에서 절단하고, 생성물을 화합물 6의 제조에 대해 상기 기재된 절차에 따라 링커-수지로부터 절단하였다. 조 생성물을 RP-크로마토그래피에 의해 YMC-ODS AQ 칼럼을 사용하여 정제하였다. 분획을 HPLC를 사용하여 평가하고, 생성물-풍부한 분획을 합하고, 회전 증발기에서 농축시키고, 농축물을 동결 건조시켜 화합물 9 2.3g (마지막 두 단계에 대해서 36.8% 수율)를 수득하였다. HPLC-순도: 92.9 %a.
1H-NMR은 회전이성질체의 혼합물로서 제안된 구조를 확인하였다.
Figure pct00071
2 H) 화합물 10의 합성 (거대고리화):
4-DMAP (256 mg, 2.09 mmol) 및 HATU (527 mg, 1.39 mmol)를 아세토니트릴 (20 mL) 중에 용해시켰다. 용액을 0℃로 냉각시켰다. 이 용액에, 아세토니트릴 (30 mL) 중 화합물 9 (1.00 g, 0.693 mmol)의 용액을 10분 내에 적가하였다. 반응 혼합물을 추가로 15분 동안 0℃에서 교반하여 고리화를 완결시켰다. 후처리를 위해, 반응 혼합물을 물 (100 mL)에 붓고, 이소프로필 아세테이트 (250 mL)를 첨가하고, 이어서 염수 (20 mL)를 첨가하였다. 상을 분리하고, 유기 상을 묽은 수성 NaCl-용액 (60 mL)으로 다시 추출하였다. 유기 상을 무수 황산마그네슘 상에서 건조시키고, 용매를 40-45℃에서 감압 하에 증발시켜 1.08g 조 생성물을 수득하였다. 조 생성물을 실리카 겔 상의 플래쉬 크로마토그래피에 의해 에틸 아세테이트를 용리액으로서 사용하여 정제하고, 생성물을 진공 하에 40-45℃에서 건조시켜 0.62 g 화합물 10을 수득하였다.
Figure pct00072
2 I) 화합물 10로부터의 화합물 A의 합성 (탈보호 및 평형):
화합물 10 (400 mg, 0.281 mmol)을 디클로로메탄 (80 mL) 중에 용해시키고, 용액을 0℃로 냉각시켰다. 트리플루오로아세트산 (20.5g)을 철저한 교반 하에 0℃에서 첨가하였다. 반응 혼합물을 이 온도에서 추가로 3시간 동안 교반하고, 디클로로메탄 (80 mL)으로 희석한 다음, 물 (4.0 mL)을 첨가하였다. 이어서, 온도를 실온으로 상승하도록 하고, 반응물을 실온에서 20시간 동안 철저하게 교반하였다.
이어서, 반응 혼합물을 물 (160 mL) 중 아세트산나트륨 (29.3g)의 용액에 붓고, 에틸 아세테이트 (80 mL)를 첨가하였다. 2상 혼합물을 철저하게 교반하고, 상을 분리하였다. 유기 상을 물 (2x40 mL)로 세척하고, 수상을 에틸 아세테이트 (80 mL)로 추출하였다. 유기 상을 합하고, 황산마그네슘 상에서 건조시켰다. 용매를 40-45℃에서 감압 하에 증발시켜 조 생성물 520mg을 수득하였다. 조 생성물을 실리카 겔 상의 플래쉬 크로마토그래피에 의해 에틸 아세테이트/이소프로판올 (9:1)을 용리액으로서 사용하여 정제하여 화합물 A 171mg을 수득하였다. 수율: 65.5%.
NMR 및 HR-MS 데이터는 제안된 구조를 확인하였다.
Figure pct00073
실시예 3: 평형의 이동
아세탈 절단 및 ahp의 형성의 가능한 부반응은 화합물 A의 탈수화물 형태를 생성할 수 있다. 이는 하기 반응식에 도시된 탈수화물 형태의 수화를 위한 간단한 절차를 사용하여 화합물 A로 용이하게 (다시) 전환될 수 있다:
<반응식 6>
Figure pct00074
이는 임의의 유형의 합성에서 (본 개시내용에서와 같은 화학적 합성의 경우 또는 WO 2009/024527에서와 같은 발효를 이용하여) 화합물 A의 수율의 개선을 허용한다.
예를 들어, ahp-서브유닛을 포함하는 화합물, 예를 들어 실시예 1 이전의 반응식에서의 화합물 A에서 산 감수성 보호기의 절단 동안, 다량의 상응하는 탈수화된 부산물 (화합물 A-탈수화물)의 형성이 관찰된다. 이 부산물은 통상적으로, 예를 들어 크로마토그래피에 의해 분리되고 폐기된다. 이는 이 단계 동안 가치있는 생성물의 손실 및 낮은 수율을 유발한다. 예를 들어, 화합물 8의 산화 생성물(들)에 산성 조건을 적용하여 트리틸- 및 t-부틸 보호기를 제거하는 경우에 (반응식 4), 상당량의 화합물-A-탈수화물이 부산물로서 형성된다. 산 농도 및 반응 조건에 따라, 화합물-A-탈수화물은 심지어 이러한 생성물 혼합물 중 주 생성물로서 형성될 수 있다.
예를 들어, 트리플루오로아세트산/디클로로메탄 (5:95 v/v)을 사용하여 산화 단계 후에 보호기를 제거하는 경우에 (실시예 1 E(B)), 화합물 A/화합물 A-탈수화물 비 (1:2)가 관찰되었다.
따라서, 탈수화물 부산물을 목적 생성물로 전환시키는 방법이 연구되었다. 잘 한정된 조건 하에 물의 존재 하에 생성물 혼합물의 산 촉매화된 평형에 의해 달성될 수 있다는 것이 본 발명에 이르러 밝혀졌다. 물을 실시예 1의 반응 혼합물에 첨가하고, 후속적으로 실온에서 19시간 동안 교반하여, 약 96:4의 화합물 A/화합물 A-탈수화물 비를 갖는 생성물 혼합물을 수득하였다. 따라서, 산-촉매화된 탈보호 단계 (반응식 4) 후에 반응 혼합물에 물을 첨가함으로써, 화합물 A / 화합물 A-탈수화물 비가 물이 없는 조건 하에 (1:2)로부터 물 첨가 및 평형 후에 (96:4)로 변하였다.
산성 탈보호 조건 하에 화합물 A로부터 화합물 A-탈수화물의 형성은 DCM 중 트리플루오로아세트산을 사용하는 순수한 화합물 A의 화합물 A-탈수화물로의 전환에 의해 확인되었다. 화합물 A을 DCM 중 33% (v/v) TFA로 2시간 동안 실온에서 처리하여 화합물 A-탈수화물/ 화합물 A의 생성물 혼합물을 HPLC에 따라 78:22의 비로 수득하였다. 수분 흡수제, 예컨대 분자체를 반응 혼합물에 첨가한 경우에, 탈수는 >95% 전환율로 구동될 수 있었다. 따라서, 분자체의 존재 하에 TFA/DCM의 1:2 혼합물 중에서 순수한 화합물 A를 교반하는 것은 탈수화된-생성물을 정량적 조 수율 및 약 96 면적% HPLC 순도로 제공하였다 (실시예 3B). 여전히 약 4 면적%의 화합물 A가 조 생성물 중에 존재하였다.
실시예 3B로부터의 화합물 A-탈수화물의 화합물 A로의 전환은 화합물 A-탈수화물을 트리플루오로아세트산 및 물의 존재 하에 디클로로메탄 중에서 교반함으로써 입증되었다 (실시예 3 C). 이와 같이 하여 수득된 생성물은 HPLC에 따라 95.6 면적% 화합물 A 및 단지 4.4 면적% 화합물 A-탈수화물을 포함하였다.
<반응식 7>
Figure pct00075
화합물 A에 대한 물리적 데이터에 대해 실시예 1 E(B) 및 2 I)를 참조한다.
평형은 또한 5원 고리 헤미아미날 이성질체를 6-고리 헤미아미날인 화합물 A로 전환시킨다. 5원 고리 헤미아미날 이성질체는 알데히드 관능기의 탈보호 후에 동역학적 생성물로서 다량으로 형성된다 (반응식 3). 이 이성질체는 평형 동안 열역학적으로 더 안정한 화합물 A로 전환된다.

Claims (17)

  1. 하기 화학식 I의 시클릭 뎁시펩티드 화합물 또는 그의 염을 제조하기 위한 방법 또는 공정이며,
    <화학식 I>
    Figure pct00076

    (상기 식에서,
    A1은 말단 카르복시 또는 카르바모일 기를 갖는 아미노산의 2가 모이어티이고, 그의 우측에서 카르보닐을 통해 화학식 I에서 분자의 나머지 부분에 결합되거나; 또는 C1-8-알카노일 또는 인산화 히드록시-C1-8-알카노일이고;
    X는 A1의 N을 통해 결합되고 아실이거나, 또는 A1이 C1-8-알카노일 또는 인산화 히드록시-C1-8-알카노일인 경우에는 부재하고;
    R2는 C1-8-알킬이고;
    R3은 아미노산의 측쇄이고;
    R5는 아미노산의 측쇄이고;
    R6은 히드록시 아미노산의 측쇄이고;
    R7은 아미노산의 측쇄이고;
    Y는 수소 또는 C1-8-알킬임)
    상기 방법은
    하기 화학식 II의 화합물을 탈보호시켜
    <화학식 II>
    Figure pct00077

    (상기 식에서, 알데히드 보호기(들) Rk 및 Rl은 서로 독립적으로 비치환 또는 치환된 알킬이거나, 또는 2개의 결합 O 원자, 및 2개의 O 원자가 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 비치환 또는 치환된 고리를 형성하고, Y는 화학식 I의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, X*, A1*, R2*, R3*, R5*, R6* 및 R7*는 각각 화학식 I에서의 X, A1, R2, R3, R5, R6 및 R7에 상응하나, 단 이들 모이어티 상의 반응성 관능기는 적어도 이들이 목적하지 않은 부반응에 참여할 수 있는 경우에는 보호된 형태로 존재함)
    화학식 I의 화합물을 생성하고;
    원하는 경우에, 화학식 I의 유리 화합물을 염으로, 화학식 I의 화합물의 염을 화학식 I의 화합물의 상이한 염으로 또는 화학식 I의 유리 화합물로 전환시키고/거나 화학식 I의 화합물의 탈수화물 유사체 및/또는 5원 고리 유사체를 화학식 I의 상응하는 화합물로 전환시키는 것을 포함하는 방법 또는 공정.
  2. 제1항에 있어서, 고체 상 펩티드 합성 및 용액 상 합성의 조합에 의해 상응하는 출발 아미노산 및 측쇄 전구체로부터 화학식 II의 화합물을 제조하는 것을 포함하는 방법 또는 공정.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 제1항에 주어진 화학식 II의 화합물의 합성을 위해, N-말단 아미노 기 및 C-말단 카르복시 기를 보유하는 화학식 II의 화합물의 아직 시클릭이 아닌 선형 전구체 펩티드의 락탐화 하에서, 상기 아미노 기 및 상기 카르복시 기로부터의 아미드 결합의 형성을 허용하는 반응 조건 하에, 바람직하게는 용액 상 화학을 사용하는 고리화를 포함하는 방법 또는 공정.
  4. 제3항에 있어서, 선형 전구체 펩티드가 하기 화학식 III을 갖고,
    <화학식 III>
    Figure pct00078

    (상기 식에서, Rk, Rl, X*, A1*, R2*, R3*, R5*, R6* 및 R7*는 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같음)
    이는 고체 상 펩티드 합성 (예를 들어 단계 (iii/b) 하에 기재된 바와 같음)으로부터 직접적으로 또는 하기 화학식 III*의 상응하는 화합물로부터
    <화학식 III*>
    Figure pct00079

    (상기 식에서, Rk, Rl, X*, A1*, R2*, R3*, R5*, R6* 및 R7*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, 각각의 Prot** 모이어티는 제5항에 따른 절단의 조건과 상이한 조건 하에 제거될 수 있는 보호기임)
    보호된 아미노를 탈보호시킴으로써 탈보호에 의해 수득될 수 있는 것인 방법 또는 공정.
  5. 제4항에 있어서, 화학식 III의 화합물 또는 화학식 III*의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 IV의 화합물을 절단하는 것
    <화학식 IV>
    Figure pct00080

    (상기 식에서, Rk, Rl, X*, A1*, R2*, R3*, R5*, R6* 및 R7*는 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수이고, Z는 화학식 III의 화합물을 수득하기 위한 화학식 NHProt* (여기서 Prot*는 절단 반응 전에 또는 절단 반응 동안 또는 추가로 이에 후속적으로 제거될 수 있는 (및 제거되는) 보호기임)의 보호된 아미노 기이거나; 또는 Z는 화학식 III*의 화합물을 수득하기 위한 화학식 N(Prot**)2 (여기서 각각 하나의 Prot**는 절단 반응의 조건과 상이한 조건 하에 제거될 수 있는 아미노 보호기임)의 보호된 아미노 기임)
    을 추가로 포함하는 방법 또는 공정.
  6. 제5항에 있어서, 화학식 IV의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 V의 아미노산,
    <화학식 V>
    Figure pct00081

    (상기 식에서, Rk 및 Rl은 제1항 및 상기에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, Z는 화학식 NHProt* (여기서 Prot*는 (iii/b) 하에서의 절단 반응 전에 또는 절단 반응 동안 또는 추가로 후속적으로 제거될 수 있는 (및 제거되는) 보호기임)의 보호된 아미노 기이거나; 또는 Z는 화학식 N(Prot**)2 (여기서 각각의 Prot**는 제5항 하에서의 절단 반응의 조건과 상이한 조건 하에 제거될 수 있는 아미노 보호기임)의 보호된 아미노 기임)
    또는 상기 아미노산의 활성화된 유도체를 하기 화학식 VI의 화합물과 커플링시키는 것
    <화학식 VI>
    Figure pct00082

    (상기 식에서, X*, A1*, R2*, R3*, R5*, R6* 및 R7*는 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수임)
    을 추가로 포함하는 방법 또는 공정.
  7. 제6항에 있어서, 화학식 VI의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 VII의 아미노산,
    <화학식 VII>
    Figure pct00083

    (상기 식에서, R5*는 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, Prot***는, 존재하는 다른 보호기에 영향을 미치지 않고 생성물은 수지 상에 잔류시키면서 선택적으로 절단될 수 있는 아미노 보호기임)
    또는 상기 아미노산의 반응성 유도체를 하기 화학식 VIII의 화합물과 커플링시키고,
    <화학식 VIII>
    Figure pct00084

    (상기 식에서, X*, A1*, R2*, R3*, R6* 및 R7*는 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수임)
    보호기 Prot***를 제거하는 것
    을 추가로 포함하는 방법 또는 공정.
  8. 제7항에 있어서, 화학식 VIII의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 IX의 아미노산,
    <화학식 IX>
    Figure pct00085

    (상기 식에서, R6* 및 Y는 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, Prot***는, 존재하는 다른 보호기에 영향을 미치지 않고 생성물은 수지 상에 잔류시키면서 선택적으로 절단될 수 있는 아미노 보호기임)
    또는 상기 아미노산의 반응성 유도체를 하기 화학식 X의 화합물과 커플링시키고,
    <화학식 X>
    Figure pct00086

    (상기 식에서, X*, A1*, R2*, R3* 및 R7*는 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수임)
    보호기 Prot***를 제거하는 것
    을 추가로 포함하는 방법 또는 공정.
  9. 제8항에 있어서, 화학식 X의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 XI의 아미노산,
    <화학식 XI>
    Figure pct00087

    (상기 식에서, Prot***는, 존재하는 다른 보호기에 영향을 미치지 않고 생성물은 수지 상에 잔류시키면서 선택적으로 절단될 수 있는 아미노 보호기이고, R7*는 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같음)
    또는 상기 아미노산의 반응성 유도체를
    하기 화학식 XII의 화합물의 히드록실 기와 반응시키고,
    <화학식 XII>
    Figure pct00088

    (상기 식에서, X*, A1*, R2* 및 R3*는 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수임)
    보호기 Prot***를 제거하는 것
    을 추가로 포함하는 방법 또는 공정.
  10. 제9항에 있어서, 화학식 XII의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 XIII에 의해 나타내어진 수지 결합된 디펩티드를
    <화학식 XIII>
    Figure pct00089

    (상기 식에서, Prot****는, 상기 정의된 바와 같은 화학식 II의 화합물에 존재하는 다른 보호기에 영향을 미치지 않고 생성물은 수지 상에 잔류시키면서 선택적으로 절단될 수 있는 아미노 보호기이고, R2* 및 R3*는 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수임)
    보호기 Prot****의 제거 후에 이에 따라 수득가능한 유리 아미노기를 통해, 하기 화학식 XIV의 산,
    <화학식 XIV>
    Figure pct00090

    (상기 식에서, X**는 아미노 보호기이거나 또는 X*이고, 여기서 X* 및 A1*는 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같음)
    또는 상기 산의 반응성 유도체와 커플링시키고;
    X**가 아미노 보호기인 경우에, 상기 아미노 보호기 X**를 제거하여, X* 대신에 H가 존재하는 화학식 II의 유도체를 수득하고, 생성된 아미노 기를 상응하는 산 X*-OH (여기서 X*는 상기 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같음) 또는 상기 산의 반응성 유도체를 사용하여 아실 기 X*와 커플링시키는 것
    을 추가로 포함하는 방법 또는 공정.
  11. 제10항에 있어서, 화학식 XIII, 특히 XIIIA의 화합물의 합성을 위해, 하기 화학식 XV에 의해 나타내어진 수지 결합된 아미노산을
    <화학식 XV>
    Figure pct00091

    (상기 식에서, R3*는 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, L은 절단가능한 링커이고, RES는 고체 수지이고, n은 0을 포함하지 않는 자연수임)
    하기 화학식 XVI의 아미노산,
    <화학식 XVI>
    Figure pct00092

    (상기 식에서, Prot****는, 존재하는 다른 보호기에 영향을 미치지 않고 생성물은 수지 상에 잔류시키면서 선택적으로 절단될 수 있는 아미노 보호기이고, R2*는 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같음)
    또는 상기 아미노산의 반응성 유도체와 커플링시키는 것
    을 추가로 포함하는 방법 또는 공정.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 기호 A1, R2, R3, R5, R6, R7, X 및 Y 또는 상응하는 비보호 또는 보호된 모이어티 R2*, R3*, R5*, R6*, R7*, X* 및 Y3이, 생성된 화학식 I의 화합물 또는 그의 염에서,
    A1이 그의 α-카르복실 기의 카르보닐을 통해 화학식 I에서의 A1의 우측에서 아미노 기에 및 그의 α-아미노 기를 통해 X에 결합된 L-글루타민의 2가 라디칼이거나, 또는 2S-(2-히드록시-3-포스포노옥시)-프로피오닐이고;
    R2가 메틸이고;
    R3이 이소프로필, 이소부틸 또는 벤질, 특히 이소부틸이고;
    R5가 sec-부틸 또는 벤질, 특히 sec-부틸이고;
    R6이 4-히드록시벤질이고;
    R7이 이소프로필 또는 sec-부틸, 특히 sec-부틸이고;
    X가 아세틸 또는 이소부티릴이거나, 또는 A1이 2S-(2-히드록시-3-포스포노옥시)-프로피오닐인 경우에는 부재하고;
    Y가 메틸이도록
    선택되는 것인 방법 또는 공정.
  13. 제1항에 제공되거나 또는 제12항에 정의된 바와 같은 치환기를 갖는 화학식 I의 화합물의 탈수화물을, 제1항의 방법 또는 공정에 따라 수득되는 각 경우에, 화학식 I의 상응하는 화합물로 전환시키며, 여기서 탈수화물은 하기 화학식 V,
    <화학식 V>
    Figure pct00093

    (상기 식에서, Y, X, A1, R2, R3, R5, R6 및 R7은 제1항 또는 제11항에서 화학식 I의 화합물에 대해 정의된 바와 같음)
    및/또는 또한 부산물로서 형성될 수 있고 하기 화학식 V*를 갖는, 화학식 I에서 ahp 구조 대신에 5원 고리를 갖는 그의 상응하는 헤미아미날 유사체인 방법 또는 공정,
    <화학식 V*>
    Figure pct00094

    (상기 식에서, Y, X, A1, R2, R3, R5, R6 및 R7은 각각 제1항 또는 제17항에서 화학식 I의 화합물에 대해 정의된 바와 같음)
    또는 제1항의 방법 또는 공정에 따라 수득된 화학식 I의 화합물 및 그의 상응하는 탈수화물 및/또는 헤미아미날의 혼합물의 평형을 화학식 I의 화합물에 우세하게 이동시키는 방법 또는 공정이며,
    수성 산을 반응성 용매로서 사용하여 반응을 구동하는 것을 포함하는 공정 또는 방법.
  14. 하기 화학식 XX, 특히 하기 화학식 XXA의 화합물.
    <화학식 XX>
    Figure pct00095

    <화학식 XXA>
    Figure pct00096

    상기 식에서, Rk 및 Rl은 제1항에서 화학식 II의 화합물에 대해 정의된 바와 같고, Y는 제1항에서 화학식 I의 화합물에 대해 정의된 바와 같거나 또는 특히 제14항에서와 같고, X*, A1*, R2*, R3*, R5*, R6* 및 R7*는 각각 제1항에 정의된 바와 같은 화학식 I에서의 X, A1, R2, R3, R5, R6 및 R7에 상응하나, 단 이들 모이어티 상의 반응성 관능기는 보호된 형태로 존재한다.
  15. (a) Rk 및 Rl이 함께 비치환 또는 치환된 저급 알킬렌 가교를 형성하는 것인 화학식 V의 화합물의 합성의 경우에는,
    대안적으로 경로 (i) 1* -> 2* -> 3*, (ii) 1* -> 2* -> 4* -> 5* 또는 (iii) 1* -> 2* -> 3* -> 5*를 통해, 하기 반응식에 따른,
    Figure pct00097

    (상기 식에서, Rk, Rl은 상기 나타낸 의미를 갖고, Z는 화학식 V의 화합물에 대해 제6항에 언급된 의미를 가짐)
    또는
    (b) 각각의 Rk 및 Rl이 비치환 또는 치환된 알킬 모이어티인 화학식 V의 화합물의 합성의 경우에는,
    하기 반응식에 따른,
    Figure pct00098

    (상기 식에서, Rk, Rl은 상기 나타낸 의미를 갖고, Prot*는 화학식 V의 화합물에 대해 제6항에 언급된 의미를 가짐)
    제6항에 언급된 화학식 V의 화합물의 합성을 위한 방법 또는 공정.
  16. 하기 화합물의 군:
    a) 하기 화학식
    Figure pct00099
    , 특히
    Figure pct00100
    , 보다 특히
    Figure pct00101
    의 화합물;
    하기 화학식
    Figure pct00102
    , 특히
    Figure pct00103
    , 보다 특히
    Figure pct00104
    의 화합물;
    하기 화학식
    Figure pct00105
    , 특히
    Figure pct00106
    , 보다 특히
    Figure pct00107
    의 화합물;
    하기 화학식
    Figure pct00108
    , 특히
    Figure pct00109
    , 보다 특히
    Figure pct00110
    의 화합물
    (상기 식에서, 언급된 경우에, 모이어티 Prot*, Prot**, Rk 및 Rl은 제6항에서 화학식 V의 화합물에 대해 정의된 바와 같음);
    b) 하기 화학식 II
    <화학식 II>
    Figure pct00111

    (상기 식에서, 치환기는 제1항에 정의된 바와 같음), 특히 하기 화학식
    Figure pct00112

    또는 하기 화학식
    Figure pct00113

    의 화합물;
    c) 하기 화학식 III
    <화학식 III>
    Figure pct00114

    (상기 식에서, 치환기는 제3항에 정의된 바와 같음),
    특히 하기 화학식
    Figure pct00115

    또는 하기 화학식
    Figure pct00116

    의 화합물;
    및
    d) 하기 화학식 III*
    <화학식 III*>
    Figure pct00117

    (상기 식에서, 치환기는 제4항에 정의된 바와 같음), 특히 하기 화학식
    Figure pct00118

    의 화합물
    로부터 선택된 화합물 또는 각 경우에 그의 염.
  17. 하기 화합물의 군:
    하기 화학식
    Figure pct00119
    ,
    특히 하기 화학식
    Figure pct00120

    의 화합물;
    하기 화학식
    Figure pct00121
    ,
    특히 화학식
    Figure pct00122

    의 화합물;
    하기 화학식
    Figure pct00123
    ,
    특히 하기 화학식
    Figure pct00124

    의 화합물;
    하기 화학식
    Figure pct00125
    ,
    특히 하기 화학식
    Figure pct00126
    ,
    특별히 하기 화학식
    Figure pct00127

    의 화합물;
    및
    하기 화학식
    Figure pct00128
    ,
    특히 화학식
    Figure pct00129
    ,
    특별히 하기 화학식
    Figure pct00130

    의 화합물
    (상기 식에서, 언급된 경우에, Rk 및 Rl은 치환된 알킬 모이어티, 예컨대 1-아릴알킬이거나; 또는 함께 비치환된 또는 치환된 알킬렌 가교, 예컨대 -CH2-CH2- 또는 -CH2-CH2-CH2-를 형성함)
    로부터 선택된 화합물 또는 각 경우에 그의 염.
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