KR20150041377A - 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치 - Google Patents

플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20150041377A
KR20150041377A KR20130119825A KR20130119825A KR20150041377A KR 20150041377 A KR20150041377 A KR 20150041377A KR 20130119825 A KR20130119825 A KR 20130119825A KR 20130119825 A KR20130119825 A KR 20130119825A KR 20150041377 A KR20150041377 A KR 20150041377A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
flexible film
vacuum chamber
vapor deposition
vacuum
roller
Prior art date
Application number
KR20130119825A
Other languages
English (en)
Inventor
송보경
Original Assignee
송보경
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 송보경 filed Critical 송보경
Priority to KR20130119825A priority Critical patent/KR20150041377A/ko
Publication of KR20150041377A publication Critical patent/KR20150041377A/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
    • C23C16/545—Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45563—Gas nozzles
    • C23C16/45578—Elongated nozzles, tubes with holes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
    • C23C16/463—Cooling of the substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 언와인더(un winder)에 감겨진 플렉시블필름이 와인더(winder)로 이송되는 과정에서 기체상태의 화합물이 플라즈마 방전으로 증착(蒸着)되어 고기능성의 얇은 박막(薄膜)이 형성되고, 증착되는 모든 과정이 연속 자동으로 이루어져 작업의 효율 및 생산성을 높여줄 수 있도록 한 발명에 관한 것이다.
전술한 본 발명의 특징은, 하부에 제1진공펌프(11a)가 장착되어 진공이 유지되는 제1진공챔버(11)의 내부에는 플렉시블필름(1)이 풀려지는 언와인더(12)가 장착되어 아이들롤러(12a)들을 통해 플렉시블필름(1)이 이송되고, 제1진공챔버(11)의 내부에 장착된 제1분사관(14)의 제1노즐공(14a)을 통해 플렉시블필름(1)의 표면으로 화합물가스를 분사하는 언와인더부(10)와; 하부에 제2진공펌프(21a)가 장착된 제2진공챔버(21)의 내부에는 구동롤러(22)와 아이들롤러(22a)가 장착되어 플렉시블필름(1)이 이송되고, 구동롤러(22)의 양측에 장착된 제2분사관(24)의 제2노즐공(24a)을 통해 화합물 가스가 분사되며, 제2진공챔버(21)의 양측에 장착된 가이드(25)에는 플라즈마발생기(25a)가 장착되어 전극(25b)의 방전에 의하여 발생되는 플라즈마가 화합물가스를 미세 입자로 분해하여 플렉시블필름(1)의 표면에 박막(薄膜)을 형성하는 기상증착부(20)와; 하부에 제3진공펌프(31a)가 장착된 제3진공챔버(31)의 내부에는 와인더(30)가 장착되어 아이들롤러(32a)들을 통해 이송되는 플렉시블필름(1)이 감겨져 보관되는 와인더부(30)와; 상기 제1,2,3진공챔버(11)(21)(31)들은 덕트(40)로 서로 연결되어 내부 전체가 진공으로 유지되고, 언와인더(12)에서 풀려지는 플렉시블필름(1)이 연속 이송되면서 증착(蒸着)된 후 와인더(32)에 감겨질 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치에 의하여 달성될 수 있는 것이다.

Description

플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치{a chemical vapor deposition for flexible film}
본 발명은 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 언와인더(un winder)에 감겨진 플렉시블필름이 와인더(winder)로 이송되는 과정에서 기체상태의 화합물이 플라즈마 방전으로 증착(蒸着)되어 고기능성의 얇은 박막(薄膜)이 형성되고, 증착되는 모든 과정이 연속 자동으로 이루어져 작업의 효율 및 생산성을 높여줄 수 있도록 한 발명에 관한 것이다.
일반적으로 플렉시블필름은 연성회로기판(FPCB)과 같이 얇은 필름에 도전(導電) 패턴을 형성하여 3차원 배선이 가능하고, 소형화 및 경량화가 가능하여 휴대폰, 카메라, 모바일(mobile) 제품과 같은 각종 전자제품의 신경회로로 사용된다.
이와 같은 플렉시블필름에는 전자회로를 보호하고 필름의 내구성을 강화하기 위하여 박막 형태의 보호막이 형성되고, 주로 금속과 비금속 원자를 이온화 반응시켜 인디움, 탄화티탄, 알루미나, 질화알루미늄, 탄화규소 등의 금속 화합물 박막을 형성하는 물리적 증착법(PVD)이 사용된다.
그러나, 물리적 증착에 의하여 금속화합물 피막을 형성하는 경우에는 비용이 고가(高價)로 형성되었을 뿐 아니라 물리적 증착과정에서 환경오염물질이 발생되어 별도의 정화처리시설을 해야하는 등의 폐단이 발생되었다.
특히, 인디움과 같은 일부 금속 화합물은 매장량이 적어 상당한 고가(高價)이므로 구입이 어려웠을 뿐 아니라 작업환경이 열악하고 지속적인 대량생산이 어려웠다.
따라서, 종래에는 등록특허 제10-0402698호 "화학 기상 증착장치"(선행기술1) 및 공개특허 제10-2012-0061322호 "발명의 명칭 플라즈마 보조 마그네트론 스퍼터링을 이용한 고속 증착장치 및 이를 이용한 고속 증착방법"(인용발명2)이 제안된 바 있다.
상기 선행기술1은 박막공정이 이루어지는 반응챔버; 기화시켜 증기를 발생시키는 원료물질들이 혼합되어 엉겨붙는 것을 방지하기 위한 금속 볼; 컨테이너의 내부 구획공간으로, 수송기체를 일정 압력으로 공급하는 원료공급장치; 원료물질과 동일온도로 가열하기 위한 가열수단을 구비하는 인입부; 증발된 고체원료물질의 증기를 반응챔버에 공급하는 공급부; 상기 금속 볼의 자전 및 공전운동을 위한 자장형성수단을 포함하는 화학 기상 증착장치이다.
상기 선행기술2는 전도체로 이루어지며, 내부 유체를 외부 공간으로 배출하는 제1챔버; 상기 제1챔버와 연통되어 보조 플라즈마를 공급하는 소스공급부가 위치하는 제2챔버; 상기 제1챔버의 내부에 위치되어 표면 처리되는 기재; 상기 기재와 마주보는 위치에서 기재 표면의 활성화를 위한 자기장을 형성하는 자기장발생부; 상기 제1챔버의 외부에 위치하여 보조 플라즈마를 자기장발생부로 안내하는 제1코일; 상기 제2챔버와 동일 축방향으로 제2챔버의 외면에 감기는 제2코일을 포함하는 고속증착장치이다.
그러나, 상기 선행기술1은 원료물질들이 혼합되어 엉겨붙는 것을 방지하기 위한 금속 볼이 챔버 내부에 위치되고, 금속 볼에는 자장(磁場)이 부가되도록 한 기술이고, 선행기술2는 보조 플라즈마를 자기장발생부로 안내하는 제1코일과 제2챔버에 감겨지는 제2코일이 장착되어 기재 표면의 활성화를 이루도록 한 기술이므로 유연한 플렉시블필름에 얇은 박막을 증착(蒸着)하여 코팅을 하거나 필름을 이송시키면서 연속 증착하여 생산성(生産性)을 높여줄 수 있도록 하는 효과는 기대하기 어려웠다.
본 발명은 상기한 문제점을 감안하여 창안한 것으로서, 그 목적은 플렉시블한 유연성 필름에 화합물 가스를 부여하고 플라즈마 방전시켜 얇은 박막을 입히는 한편, 필름을 자동으로 이송시키면서 연속 증착하여 생산성(生産性)을 높여줄 수 있는 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치를 제공함에 있는 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징은, 하부에 제1진공펌프(11a)가 장착되어 진공이 유지되는 제1진공챔버(11)의 내부에는 플렉시블필름(1)이 풀려지는 언와인더(12)가 장착되어 아이들롤러(12a)들을 통해 플렉시블필름(1)이 이송되고, 제1진공챔버(11)의 내부에 장착된 제1분사관(14)의 제1노즐공(14a)을 통해 플렉시블필름(1)의 표면으로 화합물가스를 분사하는 언와인더부(10)와; 하부에 제2진공펌프(21a)가 장착된 제2진공챔버(21)의 내부에는 구동롤러(22)와 아이들롤러(22a)가 장착되어 플렉시블필름(1)이 이송되고, 구동롤러(22)의 양측에 장착된 제2분사관(24)의 제2노즐공(24a)을 통해 화합물 가스가 분사되며, 제2진공챔버(21)의 양측에 장착된 가이드(25)에는 플라즈마발생기(25a)가 장착되어 전극(25b)의 방전에 의하여 발생되는 플라즈마가 화합물가스를 미세 입자로 분해하여 플렉시블필름(1)의 표면에 박막(薄膜)을 형성하는 기상증착부(20)와; 하부에 제3진공펌프(31a)가 장착된 제3진공챔버(31)의 내부에는 와인더(30)가 장착되어 아이들롤러(32a)들을 통해 이송되는 플렉시블필름(1)이 감겨져 보관되는 와인더부(30)와; 상기 제1,2,3진공챔버(11)(21)(31)들은 덕트(40)로 서로 연결되어 내부 전체가 진공으로 유지되고, 언와인더(12)에서 풀려지는 플렉시블필름(1)이 연속 이송되면서 증착(蒸着)된 후 와인더(32)에 감겨질 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치에 의하여 달성될 수 있는 것이다.
이상에서 상술한 바와 같은 본 발명은, 언와인더(12)에서 풀려지는 플렉시블필름(1)이 연속 이송되면서 화합물가스와 플라즈마 방전에 의하여 증착(蒸着)된 후 와인더(32)에 감겨지는 것이므로 연속적인 증착이 이루어져 대량생산(大量生産)이 가능한 것이므로 작업의 효율 및 생산성을 최대한 높여줄 수 있을 뿐 아니라 제2분사관(24)의 미세 제2노즐공(24a)을 통해 분사되는 화합물가스가 전극(25b)의 방전에 의하여 발생되는 플라즈마에 의하여 미세 입자로 분해되면서 플렉시블필름(1)의 표면에 고르게 증착되어 균일한 두께의 피막을 형성하는 것이므로 고품질의 박막(薄膜)이 형성된 고기능성의 플렉시블필름을 얻을 수 있는 동시에 전극(25b)의 방전에 의하여 발생되는 플라즈마 가스는 저온증착이 가능하므로 부착력이 좋고, 증착(蒸着) 온도를 낮출 수 있어 고온가열에 의한 필름의 변형 및 변성을 최소화시켜 고품질·고기능성을 갖는 플렉시블필름을 구현할 수 있는 것으로서 대외 경쟁력이 우수한 고기능성의 기상 증착장치를 제공할 수 있는 등의 이점이 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예를 예시한 단면도,
도 2는 본 발명에 의한 언와인더부를 예시한 단면도,
도 3는 본 발명에 의한 기상증착부를 예시한 정단면도,
도 4는 본 발명에 의한 기상증착부를 예시한 측단면도,
도 5는 본 발명에 의한 기상증착부를 예시한 사시도,
도 6은 본 발명에 의한 기상증착부의 구동롤러와 제2분사관을 예시한 사시도,
도 7은 본 발명에 의한 기상증착부의 제2분사관을 예시한 사시도,
도 8은 본 발명에 의한 와인더부를 예시한 단면도,
도 9a와 도 9b는 언와인더부와 와인더부에 장착된 가압롤러를 예시한 작동도,
도 10은 본 발명의 다른 실시예를 예시한 단면도,
도 11은 본 발명의 다른 실시예를 예시한 정면도.
이하, 상기한 목적을 달성하기 위한 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1 내지는 도 8에서 도시한 바와 같이, 본 발명에 의한 박막 코팅용 연속 증착장치는 언와인더부(10), 기상증착부(20) 및 와인더부(30)로 구성되어 있다.
상기 제1진공챔버(11)의 하부에는 제1진공펌프(11a)가 장착되어 제1진공펌프(11a)에서 발생되는 흡입력에 의하여 제1진공챔버(11)의 내부가 진공으로 유지된다.
상기 제1진공챔버(11)의 내부에는 언와인더(un winder)가 장착되어 구동모터(도시하지 않았음)의 동력에 의하여 회전되고, 언와인더(12)에는 플렉시블필름(1)이 감겨져 서서히 풀려질 수 있도록 구성되어 있다.
상기 언와인더(12)에서 풀려지는 플렉시블필름(1)은 아이들롤러(12a)들을 통해 후술되는 기상증착부(20)로 이송된다.
상기 제1진공챔버(11)의 내부에는 제1분사관(14)이 장착되어 있고, 제1분사관(14)에 뚫려진 미세한 제1노즐공(14a)을 통해 산소(O2), 수소(H2). 아르곤가스 등을 플렉시블필름(1)에 분사하여 필름의 표면을 깨끗하게 청소하고 활성화시켜 후술되는 증착(蒸着) 작업이 원활하게 이루어질 수 있도록 구성되어 있다.
상기 제1분사관(14)에는 고주파 전력이 인가되는 마그네트코일(도시하지 않았음)이 장착되어 가스들은 제1진공챔버(11)의 내부에서 플라즈마 상태로 분무되어 플렉시블필름(1)의 표면을 깨끗하게 청소하는 한편, 활성활 실 수 있도록 구성되어 있으며, 제1분사관(14)은 가스탱크(도시하지 않았음)와 펌프 및 호스로 연결되어 가스가 펌핑(pumping)된 후 제1분사관(14)의 내부로 유입될 수 있도록 구성되어 있다.
전술한 구성은 제1진공펌프(11a)의 내부 언와인더(12)에 감겨진 플렉시블필름(1)이 풀려지면서 이송되는 언와인더부(10) 역할을 수행한다.
상기 언와인더(12)에서 풀려져 이송되는 플렉시블필름(1)은 제2진공챔버(21)의 일측에 결합된 덕트(40)를 통해 제2진공챔버(21)의 내부로 유입될 수 있도록 구성되어 있고, 제1진공챔버(21) 내부로 유입된 플렉시블필름(1)은 아이들롤러(22a)와 구동롤러(22)를 통해 이송된 후 타측의 덕트(40)를 통해 와인더부(30)로 이송된다.
상기 구동롤러(22)는 구동모터(도시하지 않았음)에 의하여 일정 속도로 회전되면서 플렉시블필름(1)을 이송시킬 수 있도록 구성되어 있으며, 제2진공챔버(21)의 하부에는 제2진공펌프(21a)가 장착되어 내부가 진공상태로 유지된다.
상기 구동롤러(22)의 내부에는 냉각수파이프(23)가 관통 결합되어 순환되는 냉각수에 의하여 구동롤러(22)를 냉각시킬 수 있도록 구성되어 있고, 냉각수파이프(23)는 냉각수펌프(도시하지 않았음)와 호스로 연결되어 냉각수가 순환될 수 있도록 구성되어 있다.
상기 구동롤러(22)의 양측에는 제2분사관이 장착되어 있고, 제2분사관(24)의 미세 제2노즐공(24a)을 통해 분사되는 화합물 가스가 이송되는 플렉시블필름(1)의 표면에 정착되어 얇은 두께의 박막(薄膜)이 형성된다.
상기 제2진공챔버(21)의 양측에는 사각 관 형태의 가이드(25)가 돌출되어 있고, 양측 가이드(25)에는 플라즈마발생기(25a)와 전극(25b)이 장착되어 있으며, 전극(25b)의 방전에 의하여 발생되는 플라즈마가 화합물가스를 미세 입자로 분해하여 플렉시블필름(1)의 표면에 고르게 분무하여 고기능성의 얇은 박막(薄膜)이 형성된다.
전술한 구성은 구동롤러(22)를 통해 플렉시블필름(1)을 이송시키고, 제2분사관(24)이 분사한 화합물가스를 전극(25b)의 방전에 의하여 발생된 플라즈마로 분해하여 플렉시블필름(1)의 표면에 진공증착(眞空蒸着)이 이루어지도록 하는 기상증착부(20) 역할을 수행한다.
상기 제2진공챔버(21)의 배출구측 덕트(40)를 통해 이송되는 플렉시블필름(1)은 제3진공챔버(31)로 유입된 후 아이들롤러(32a)를 통해 와인더(32)에 감겨져 보관된다.
상기 제3진공챔버(31)의 하부에는 제3진공펌프(31a)가 장착되어 제3진공챔버(31)의 내부가 진공으로 유지될 수 있도록 구성되어 있고, 와인더(32)는 구동모터(도시하지 않았음)의 동력에 의하여 회전되면서 플렉시블필름(1)을 감아서 보관할 수 있도록 구성되어 있다.
전술한 구성은 최종 이송된 플렉시블필름(1)을 와인더(32)에 감아서 보관하는 와인더부(30) 역할을 수행한다.
상기 제1,2,3진공챔버(11)(21)(31)들은 덕트(40)로 서로 연결되어 챔버들의 내부 전체가 진공을 유지할 수 있도록 구성되어 있고, 덕트(40)를 통해 플렉시블필름(1)이 챔버들 사이를 이송될 수 있도록 구성되어 있다.
전술한 구성으로 이루어진 본 발명은, 언와인더(12)에서 풀려지는 플렉시블필름(1)이 연속 이송되면서 증착(蒸着)된 후 와인더(32)에 감겨지는 것이므로 연속적인 대량생산(大量生産)이 가능하여 작업의 효율 및 생산성을 높여줄 수 있는 동시에 제2분사관(24)의 미세 제2노즐공(24a)을 통해 분사되는 화합물가스가 전극(25b)의 방전에 의하여 발생되는 플라즈마에 의하여 미세 입자로 분해되면서 플렉시블필름(1)의 표면에 고르게 증착되어 균일한 두께의 피막을 형성하는 것이므로 고품질의 박막(薄膜)이 형성된 고기능성의 플렉시블필름을 얻을 수 있는 것으로서 대외 경쟁력이 우수한 고기능성의 화학적 기상 증착장치를 제공할 수 있는 것이다.
또한, 플라즈마발생기(25a)의 전극(25b) 방전에 의하여 발생되는 플라즈마가 기체 상태의 화합물가스를 미세 입자로 분해하여 플렉시블필름(1)의 표면에 균일하게 분사하는 것이므로 부착력이 좋고, 증착 온도를 낮출 수 있어 고온가열에 의한 필름의 변형 및 변성을 최소화시킬 수 있는 것으로서 고품질·고기능성을 갖는 플렉시블필름을 구현할 수 있는 것이다.
상기 제1진공챔버(11)의 내부에 장착된 아이들롤러(12a)에는 도 9a에서 도시한 바와 같이, 제1가압롤러(13)가 장착되어 있고, 제1실린더(13b)의 로드에 결합된 제1링크(13a)에 제1가압롤러(13)가 결합되어 회동되면서 아이들롤러(12a)에 접촉되어 아이들롤러(12a)를 지나는 플렉시블필름(1)의 장력을 조절해주는 한편, 평평하게 펼쳐질 수 있도록 하여 플렉시블필름(1)이 적정 텐션(tension)을 유지한 상태에서 이송될 수 있도록 구성되어 있다.
또한, 도 9b에서 도시한 바와 같이, 상기 제3진공챔버(31)의 내부에 장착된 아이들롤러(32a)에도 제2가압롤러(33)가 장착되어 있고, 제2실린더(33b)의 로드에 결합된 제2링크(33a)에 제2가압롤러(33)가 결합되어 플렉시블필름(1)의 장력을 조절하 f수 있도록 구성되어 있다.
한편, 상기 기상증착부(20)는 복수로 이루어지도록 할 수 있다. 즉, 도 10과 도 11에서 도시한 바와 같이 제1기상증착부(20A), 제2기상증착부(20B), 제3기상증착부(20C)들로 나누어 연속 설치하면 단계적으로 연속적인 증착작업이 이루어져 정밀한 박막(薄膜)이 형성될 수 있도록 하는 것이 바람직하다.
본 발명에 사용된 화합물가스는 불산(hydrofluoric acid)가스를 사용하였으며, 불산가스는 수소가스의 수소원자들이 불소원자들과 반응하여 불산(HF)을 생성시키고 200℃ 이하의 낮은 온도에서 기화되지 않는 것이므로 불산가스를 반응가스로서 사용하는 경우에는 불소 함유된(fluorine-doped) 고밀도 플라즈마 물질막이 얇은 필름에 증착되어 고품질의 박막(薄膜)을 형성할 수 있는 것이다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 또한 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 기재된 청구범위 내에 있게 된다.
1 : 플렉시블필름 10 : 언와인더부
11 : 제1진공챔버 11a : 제1진공펌프
12 : 언와인더 12a, 22a, 32a : 아이들롤러
13 : 제1가압롤러 13a : 제1링크
13b : 제1실린더 14 : 제1분사관
14a : 제1노즐공 20 : 기상증착부
20A : 제1기상증착부 20B : 제2기상증착부
20C : 제3기상증착부 21 : 제2진공챔버
21a : 제2진공펌프 22 : 구동롤러
23 : 냉각수파이프 24 : 제2분사관
24a : 제2노즐공 25 : 가이드
25a : 플라즈마발생기 25b : 전극
30 : 와인더부 31 : 제3진공챔버
31a : 제3진공펌프 32 : 와인더
33 : 제2가압롤러 33a : 제2링크
33b : 제2실린더 40 : 덕트

Claims (4)

  1. 하부에 제1진공펌프(11a)가 장착되어 진공이 유지되는 제1진공챔버(11)의 내부에는 플렉시블필름(1)이 풀려지는 언와인더(un winder)가 장착되어 아이들롤러(12a)들을 통해 플렉시블필름(1)이 이송되고, 제1진공챔버(11)의 내부에 장착된 제1분사관(14)의 제1노즐공(14a)을 통해 플렉시블필름(1)의 표면으로 화합물가스를 분사하는 언와인더부(10)와;
    하부에 제2진공펌프(21a)가 장착된 제2진공챔버(21)의 내부에는 구동롤러(22)와 아이들롤러(22a)가 장착되어 플렉시블필름(1)이 이송되고, 구동롤러(22)의 양측에 장착된 제2분사관(24)의 제2노즐공(24a)을 통해 화합물 가스가 분사되며, 제2진공챔버(21)의 양측에 장착된 가이드(25)에는 플라즈마발생기(25a)가 장착되어 전극(25b)의 방전에 의하여 발생되는 플라즈마가 화합물가스를 미세 입자로 분해하여 플렉시블필름(1)의 표면에 박막(薄膜)을 형성하는 기상증착부(20)와;
    하부에 제3진공펌프(31a)가 장착된 제3진공챔버(31)의 내부에는 와인더(32)가 장착되어 아이들롤러(32a)들을 통해 이송되는 플렉시블필름(1)이 감겨져 보관되는 와인더부(30)와;
    상기 제1,2,3진공챔버(11)(21)(31)들은 덕트(40)로 서로 연결되어 내부 전체가 진공으로 유지되고, 언와인더(12)에서 풀려지는 플렉시블필름(1)이 연속 이송되면서 증착(蒸着)된 후 와인더(32)에 감겨질 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 구동롤러(22)의 내부에는 냉각수파이프(23)가 관통 결합되어 순환되는 냉각수에 의하여 구동롤러(22)를 식혀줄 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 기상증착부(20)는 복수로 이루어지고,
    제1기상증착부(20A), 제2기상증착부(20B), 제3기상증착부(20C)들로 나누어 연속 설치되어 단계적이고 연속적인 증착작업이 이루어질 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 제1진공챔버(11)의 내부에 장착된 아이들롤러(12a)에는 제1가압롤러(13)가 장착되고, 제1실린더(13b)의 로드에 결합된 제1링크(13a)에 제1가압롤러(13)가 결합되어 회동되면서 아이들롤러(12a)에 접촉되어 플렉시블필름(1)의 장력이 조절되며,
    상기 제3진공챔버(31)의 내부에 장착된 아이들롤러(32a)에도 제2가압롤러(33)가 장착되고, 제2실린더(33b)의 로드에 결합된 제2링크(33a)에 제2가압롤러(33)가 결합되어 플렉시블필름(1)의 장력을 조절할 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치.
KR20130119825A 2013-10-08 2013-10-08 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치 KR20150041377A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20130119825A KR20150041377A (ko) 2013-10-08 2013-10-08 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20130119825A KR20150041377A (ko) 2013-10-08 2013-10-08 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20150041377A true KR20150041377A (ko) 2015-04-16

Family

ID=53034886

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20130119825A KR20150041377A (ko) 2013-10-08 2013-10-08 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20150041377A (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110029313A (zh) * 2019-04-25 2019-07-19 深圳吉阳智能科技有限公司 一种负极卷绕镀锂系统
CN113684464A (zh) * 2021-08-27 2021-11-23 辽宁分子流科技有限公司 一种用于石墨烯复合薄膜制备的卷绕式设备
KR102376634B1 (ko) * 2021-03-25 2022-03-22 (주)마루엘앤씨 이차전지의 음극용 리튬 증착장치 및 증착방법
CN114635111A (zh) * 2022-02-12 2022-06-17 吴梦伟 一种柔性基材双面卷绕镀膜自动生产线

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0849077A (ja) * 1994-08-09 1996-02-20 Kao Corp 薄膜形成方法及びその装置
JP3560134B2 (ja) * 1999-03-08 2004-09-02 富士電機ホールディングス株式会社 薄膜半導体の製造装置
JP2009138240A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Fujifilm Corp 成膜方法
JP2020002069A (ja) * 2018-06-28 2020-01-09 国立大学法人名古屋大学 α−カルバガラクトース化合物の製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0849077A (ja) * 1994-08-09 1996-02-20 Kao Corp 薄膜形成方法及びその装置
JP3560134B2 (ja) * 1999-03-08 2004-09-02 富士電機ホールディングス株式会社 薄膜半導体の製造装置
JP2009138240A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Fujifilm Corp 成膜方法
JP2020002069A (ja) * 2018-06-28 2020-01-09 国立大学法人名古屋大学 α−カルバガラクトース化合物の製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110029313A (zh) * 2019-04-25 2019-07-19 深圳吉阳智能科技有限公司 一种负极卷绕镀锂系统
CN110029313B (zh) * 2019-04-25 2024-02-06 深圳吉阳智能科技有限公司 一种负极卷绕镀锂系统
KR102376634B1 (ko) * 2021-03-25 2022-03-22 (주)마루엘앤씨 이차전지의 음극용 리튬 증착장치 및 증착방법
CN113684464A (zh) * 2021-08-27 2021-11-23 辽宁分子流科技有限公司 一种用于石墨烯复合薄膜制备的卷绕式设备
CN114635111A (zh) * 2022-02-12 2022-06-17 吴梦伟 一种柔性基材双面卷绕镀膜自动生产线

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2290127B1 (en) Film deposition device
JP6474546B2 (ja) プラズマを使った前処理装置を有した蒸着装置
JP5486249B2 (ja) 成膜方法
JP2003306769A (ja) 製膜方法及び基材
KR20150041377A (ko) 플렉시블필름 박막 코팅용 연속 증착장치
CN102383107B (zh) 薄膜沉积装置
CN110168130B (zh) 成膜方法和卷绕式成膜装置
JP5562723B2 (ja) 成膜方法、成膜装置、およびガスバリアフィルムの製造方法
JP2009221510A (ja) 成膜装置
JP2001073133A (ja) 真空薄膜形成装置および真空薄膜形成方法
WO2013172403A1 (ja) 成膜装置および成膜方法
KR20150041376A (ko) 플렉시블필름 코팅용 화학적 기상 증착장치
JP4558810B2 (ja) 成膜装置
KR101065312B1 (ko) 원자층 증착 장치
KR101020773B1 (ko) 아크 이온 플레이팅 장치
WO2014132891A1 (ja) 成膜装置及び成膜方法
JP2007077433A (ja) 成膜装置
KR20200086883A (ko) 원자층 증착 장치
US20120107487A1 (en) Roll to roll patterned deposition process and system
JP2012062527A (ja) 金属酸化物薄膜の製造方法およびその方法を用いる金属酸化物薄膜形成装置
JP2014218716A (ja) 薄膜形成装置
KR101510193B1 (ko) 플렉서블 기판의 처리 장치
JP2010235968A (ja) 真空処理装置
JP2017155286A (ja) ロールツーロール処理装置及び処理方法
JP2006307257A5 (ko)

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application