KR20150026984A - 기능성막의 패터닝 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 투명 도전성 필름 - Google Patents

Abstract

기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 인쇄법을 사용하여 고정밀하게 패터닝한다.
기재(10) 상에 기능성막(20)을 형성하는 기능성막(20)의 패터닝 방법으로서, 상기 기재(10) 상에 고점도 액체(40a)를 인쇄함으로써 네거티브 패턴 형성부(40)를 형성하는 제1 공정(S1)과, 상기 네거티브 패턴 형성부(40)가 형성된 상기 기재(10) 상에, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체(20a)를 도포함으로써 포지티브 패턴부(20)를 형성하는 제2 공정(S2)을 구비하여 이루어진다.

Description

기능성막의 패터닝 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 투명 도전성 필름{METHOD FOR PATTERNING FUNCTIONAL FILM, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM}

본 발명은 기재 상에 고정밀한 패턴의 기능성막을 형성하는 기능성막의 패터닝 방법, 그 방법을 적용한 전자 디바이스의 제조 방법, 그 제조 방법에 의해 제조되는 투명 도전성 필름에 관한 것이다.

각종 전자 부품에 사용되는 도전 회로로서의 정밀한 패턴의 도전막을 형성하는 도전막의 패터닝 방법으로서는 에칭법이 알려져 있다. 에칭법은 기재 상에 금속막을 정밀하게 패터닝할 수 있는 방법이며, 금속막이 형성된 기재 상에 포토리소그래피에 의해 패턴화된 레지스트막을 형성한 후에, 불필요한 금속막을 화학적 또는 전기 화학적으로 용해 제거하고, 마지막으로 레지스트막을 제거함으로써, 도전 회로로서의 정밀한 패턴의 도전막을 형성하는 방법이다.

에칭법에 의해 정밀한 패턴의 도전막을 형성하여 제조하는 것으로서, 예를 들면, 전자 부품의 터치패널이나 전자 페이퍼 등에 사용되는 투명 도전성 필름이 있다. 투명 도전성 필름은 정밀한 도전 회로로서 고정밀한 패턴의 도전막을 가지는 투명 필름이며, 터치패널 등에 사용되는 투명 도전성 필름에 있어서의 도전막으로서는 전기 저항이 가능한 한 낮고 또한 전광선 투과율(투명성)이 높은 것이 요구된다.

투명 도전성 필름에 있어서의 도전막(도전 회로)을 형성하는 투명 도전 재료에는 일반적으로 ITO(산화인듐·주석)가 채용된다. ITO를 사용한 투명 도전성 필름인 ITO 필름은 진공 증착 또는 스퍼터에 의해 기재 상에 금속막으로서의 ITO층을 형성하고, 상기 서술한 에칭법에 의해 당해 ITO층을 패터닝함으로써 제조된다.

그러나, ITO의 박막 생성에는 과도한 비용이 드는 것에 더해, ITO는 표면 전기 저항이 높으므로, 표면 전기 저항을 억제하기 위해서 ITO층을 두껍게 형성해야 하는 한편, ITO층을 두껍게 형성함으로써 투명 도전성 필름으로서의 투명성이 저하된다는 문제가 있다. 그리고, ITO층을 얇게 형성하기 위해서는, 과도한 비용이 드는 동시에, 대면적에 ITO를 코팅하는 경우에는 면 저항의 변화가 크고, 디스플레이의 휘도 및 발광 효율이 감소되므로, 대면적의 ITO 필름을 제조하기 어렵다는 결점이 있다. 또한, ITO의 주원료인 인듐은 레어 메탈이며, 디스플레이 시장이 확장됨에 따라 급속하게 고갈되고 있다.

이상과 같은 에칭법에 있어서의 양산성의 문제 및 ITO 필름의 제조상 또는 특성상의 문제를 해결하기 위해서, ITO 필름에 따라 바뀌는 투명 도전성 필름을 제공하는 시도가 이루어지고 있다.

일본 공개특허공보 2009-231029호

ITO 필름에 따라 바뀌는 투명 도전성 필름으로서는, 예를 들면, 카본나노튜브나 금속 나노 와이어를 사용한 투명 도전성 필름이 있고, 당해 투명 도전성 필름의 제조 방법으로서는, 예를 들면, 특허문헌 1에 기재된 제조 방법이 있다. 이 제조 방법은 금속 플레이트 상에 카본나노튜브나 금속 나노 와이어 등의 도전성 섬유를 포함하는 도전성 액체를 종래 공지의 도포법이나 인쇄법에 의해 도포하고, 금속 플레이트 상의 도전성 섬유층을 열 처리하여, 열 처리된 금속 플레이트 상의 도전성 섬유층을 투명 필름 기재 상에 전사하는 것이다. 이 제조 방법에 의하면, 저비용으로 경량이며 또한 유연성이 풍부한 투명 도전성 필름을 제조할 수 있다.

그러나, 터치패널 등에 사용되는 투명 도전성 필름으로서는, 고정밀하게 패터닝된 도전 회로가 요구되고 있고, 인용문헌 1에 기재된 제조 방법에서는 도전성 섬유층을 고정밀하게 패터닝하는 것은 어렵다. 이것은 투명 도전성 필름으로서의 높은 투명성을 얻기 위해서는 도전막으로서의 카본나노튜브나 금속 나노 와이어 등의 도전성 섬유를 성기게(저밀도) 할 필요가 있고, 그렇게 하면 도전성 액체는 물과 같이 낮은 점도가 되어, 종래 공지의 도포법이나 인쇄법에서는 고정밀하게 패터닝하는 것이 곤란하게 되기 때문이다.

기능성막을 고정밀하게 패터닝하는 기술은 터치패널 이외에도 박막 트랜지스터, 유기 EL 디스플레이, 태양전지, 전자 페이퍼 등의 전자 디바이스에도 응용되며, 또한 차세대의 일렉트로닉스 분야, 바이오 테크놀로지 분야, 옵트로닉스 분야에도 응용이 기대되고 있어, 이러한 응용 기술에 있어서도 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 고정밀하게 패터닝할 때는 상기 서술한 문제가 생기게 된다.

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 인쇄법을 사용하여 고정밀하게 패터닝할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.

상기 과제를 해결하는 제1 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법은 기재 상에 기능성막을 형성하는 기능성막의 패터닝 방법으로서, 상기 기재 상에 고점도 액체를 인쇄함으로써 네거티브 패턴 형성부를 형성하는 제1 공정과, 상기 네거티브 패턴 형성부가 형성된 상기 기재 상에, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 도포함으로써 포지티브 패턴부를 형성하는 제2 공정을 구비한 것을 특징으로 한다.

상기 과제를 해결하는 제2 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법은, 제1 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 있어서, 상기 고점도 액체의 인쇄를 그라비어 인쇄법에 의해 행하고, 상기 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체의 도포를 코팅법 또는 인쇄법에 의해 행하는 것을 특징으로 한다.

상기 과제를 해결하는 제3 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법은 제1 또는 제2 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 있어서, 상기 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체로서 도전성 액체를 사용하여, 상기 기재 상에 도전막을 형성하는 것을 특징으로 한다.

상기 과제를 해결하는 제4 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법은, 제3 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 있어서, 상기 제2 공정 후에, 상기 기재 상에 형성된 상기 네거티브 패턴 형성부를 제거하는 제3 공정을 구비한 것을 특징으로 한다.

상기 과제를 해결하는 제5 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법은, 제3 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 있어서, 상기 고점도 액체가 절연 재료인 것을 특징으로 한다.

상기 과제를 해결하는 제6 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법은, 제3 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 있어서, 상기 도전성 액체가 도전성 섬유 또는 도전성 폴리머를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 과제를 해결하는 제7 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법은, 제3 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 있어서, 상기 기재는 투명성을 가지는 투명 필름이며, 상기 도전성 액체는 투명성을 가지는 액체인 것을 특징으로 한다.

상기 과제를 해결하는 제8 발명에 따른 전자 디바이스의 제조 방법은, 기재 상에 고점도 액체를 인쇄함으로써 네거티브 패턴 형성부를 형성하는 제1 공정과, 상기 네거티브 패턴 형성부가 형성된 상기 기재 상에, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 도포함으로써 포지티브 패턴부를 형성하는 제2 공정을 구비한 것을 특징으로 한다.

상기 과제를 해결하는 제9 발명에 따른 전자 디바이스의 제조 방법은, 제8 발명에 따른 전자 디바이스의 제조 방법에 있어서, 상기 고점도 액체의 인쇄를 그라비어 인쇄법에 의해 행하고, 상기 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 코팅법 또는 인쇄법에 의해 행하는 것을 특징으로 한다.

상기 과제를 해결하는 제10 발명에 따른 전자 디바이스의 제조 방법은, 제8 또는 제9 발명에 따른 전자 디바이스의 제조 방법에 있어서, 상기 기재로서 투명 필름 기재를 사용하고, 상기 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체로서 도전성 액체를 사용하여, 투명 도전성 필름을 제조하는 것을 특징으로 한다.

상기 과제를 해결하는 제11 발명에 따른 투명 도전성 필름은, 투명 필름 기재 상에 고점도 액체가 그라비어 인쇄법에 의해 인쇄됨으로써 형성된 네거티브 패턴 형성부와, 상기 네거티브 패턴 형성부가 형성된 상기 투명 필름 기재 상에 저점도의 도전성 액체가 코팅법 또는 인쇄법에 의해 도포됨으로써 형성된 포지티브 패턴부를 가지는 것을 특징으로 한다.

상기 과제를 해결하는 제12 발명에 따른 투명 도전성 필름은, 고점도 액체가 그라비어 인쇄법에 의해 인쇄됨으로써 네거티브 패턴 형성부가 형성된 상기 투명 필름 기재 상에, 저점도의 도전성 액체가 코팅법 또는 인쇄법에 의해 도포됨으로써 형성된 포지티브 패턴부를 가지고, 상기 네거티브 패턴 형성부가 제거되어 이루어지는 것을 특징으로 한다.

제1 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 의하면, 기재 상에 고점도 액체를 인쇄함으로써 네거티브 패턴 형성부를 형성하는 제1 공정과, 네거티브 패턴 형성부가 형성된 기재 상에, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 도포함으로써 포지티브 패턴부를 형성하는 제2 공정을 구비함으로써, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 고정밀하게 패터닝할 수 있고, 고정밀한 포지티브 패턴부 즉 고정밀한 패턴의 기능성막을 형성할 수 있다.

제2 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 의하면, 고점도 액체의 인쇄를 그라비어 인쇄법에 의해 행하고, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체의 도포를 코팅법 또는 인쇄법에 의해 행함으로써, 고정밀한 패턴의 기능성막을 효율적으로 형성할 수 있다.

제3 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 의하면, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체로서 도전성 액체를 사용함으로써, 도전성 액체를 고정밀하게 패터닝할 수 있고, 고정밀한 포지티브 패턴부 즉 고정밀한 패턴의 기능성막으로서의 도전막을 형성할 수 있다.

제4 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 의하면, 제2 공정 후에 기재 상에 형성된 네거티브 패턴 형성부를 제거하는 제3 공정을 구비함으로써, 확실하게 절연 영역으로서의 네거티브 패턴부를 확보하고, 고정밀한 패턴의 기능성막으로서의 도전막을 형성할 수 있다.

제5 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 의하면, 고점도 액체를 절연 재료로 함으로써, 고점도 액체를 인쇄함으로써 형성된 네거티브 패턴 형성부를 제거하지 않고, 고정밀한 패턴의 기능성막으로서의 도전막을 형성할 수 있다.

제6 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 의하면, 도전성 액체를 도전성 섬유 또는 도전성 폴리머를 포함하는 것으로 함으로써, 형성되는 포지티브 패턴부 즉 기능성막으로서의 도전막의 도전율을 확보함과 아울러, 형성되는 도전막의 막 두께를 얇게 할 수 있다. 또한, 도전막을 얇게 형성함으로써, 도전막의 투명성을 향상시킬 수 있다.

제7 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 의하면, 기재를 투명성을 가지는 투명 필름으로 하고, 도전성 액체를 투명을 가지는 액체로 함으로써, 고정밀한 패턴의 기능성막으로서의 도전막을 가지는 투명 도전성 필름을 제조할 수 있다.

제8 발명에 따른 전자 디바이스의 제조 방법에 의하면, 기재 상에 고점도 액체를 인쇄함으로써 네거티브 패턴 형성부를 형성하는 제1 공정과, 네거티브 패턴 형성부가 형성된 기재 상에, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 도포함으로써 포지티브 패턴부를 형성하는 제2 공정을 구비함으로써, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 고정밀하게 패터닝할 수 있고, 고정밀한 포지티브 패턴부 즉 고정밀한 패턴의 기능성막을 가지는 전자 디바이스를 제조할 수 있다.

제9 발명에 따른 전자 디바이스의 제조 방법에 의하면, 고점도 액체의 인쇄를 그라비어 인쇄법에 의해 행하고, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체의 도포를 코팅법 또는 인쇄법에 의해 행함으로써, 고정밀한 패턴의 기능성막을 가지는 전자 디바이스를 제조할 수 있음과 아울러, 전자 디바이스의 양산성을 향상시킬 수 있다.

제10 발명에 따른 전자 디바이스의 제조 방법에 의하면, 기재로서 투명 필름 기재를 사용하고, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체로서 도전성 액체를 사용함으로써, 도전성 액체를 투명 필름 기재 상에 고정밀하게 패터닝할 수 있고, 투명 필름 기재 상에 고정밀한 포지티브 패턴부 즉 고정밀한 패턴의 기능성막으로서의 도전막을 형성할 수 있으므로, 저점도의 도전성 액체를 고정밀하게 패터닝한 고정밀한 포지티브 패턴부를 가지는 투명 필름 기재, 즉, 고정밀한 패턴의 도전막을 가지는 투명 도전성 필름을 제조할 수 있다.

제11 발명에 따른 투명 도전성 필름에 의하면, 투명 필름 기재 상에 고점도 액체를 그라비어 인쇄법에 의해 인쇄함으로써 형성된 네거티브 패턴 형성부와, 네거티브 패턴 형성부가 형성된 투명 필름 기재 상에 저점도의 도전성 액체를 코팅법 또는 인쇄법에 의해 도포함으로써 형성된 포지티브 패턴부를 가짐으로써, 고정밀한 포지티브 패턴부를 가지고, 도전막의 막 두께가 얇고 균일하며, 양산성이 높은 투명 도전성 필름으로 할 수 있다.

제12 발명에 따른 투명 도전성 필름에 의하면, 고점도 액체가 그라비어 인쇄법에 의해 인쇄됨으로써 네거티브 패턴 형성부가 형성된 투명 필름 기재 상에 저점도의 도전성 액체가 인쇄법에 의해 도포됨으로써 형성된 포지티브 패턴부를 가지고, 네거티브 패턴 형성부가 제거되어 이루어짐으로써, 투명 도전성 필름에 있어서의 네거티브 패턴 형성부는 확실하게 비도전 범위 즉 절연 영역으로서의 네거티브 패턴부가 되므로, 고정밀한 패턴부를 가지고, 도전막의 막 두께가 얇고 균일하며, 양산성이 높은 투명 도전성 필름으로 할 수 있다.

도 1은 실시예 1에 따른 도전막의 패터닝 방법의 공정을 나타내는 플로우차트이다.
도 2는 실시예 1에 따른 도전막의 패터닝 방법에 의해 제조되는 투명 도전성 필름을 나타내는 부분 확대도이다.
도 3은 실시예 1에 따른 도전막의 패터닝 방법에 있어서의 제1 공정에서 사용되는 마스크부 형성 장치를 나타내는 설명도이다.
도 4는 실시예 1에 따른 도전막의 패터닝 방법에 있어서의 제2 공정에서 사용되는 도전막 형성 장치를 나타내는 설명도이다.
도 5a는 실시예 1에 따른 도전막의 패터닝 방법에 있어서의 제1 공정의 작용을 나타내는 설명도이다.
도 5b는 실시예 1에 따른 도전막의 패터닝 방법에 있어서의 제2 공정의 작용을 나타내는 설명도이다.
도 5c는 실시예 1에 따른 도전막의 패터닝 방법에 있어서의 제3 공정의 작용을 나타내는 설명도이다.

이하에, 본 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법의 실시예에 대해서, 첨부 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 실시예는 본 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법을 투명 필름에 도전막을 고정밀하게 패터닝한 전자 디바이스의 제조 방법에 적용한 것이다. 물론, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 범위 내에서 여러가지 변형이 가능하다.

(실시예 1)

본 실시예에 따른 기능성막의 패터닝 방법은 인쇄법을 사용하여 투명 필름에 고정밀한 도전막을 패터닝하는 방법이며, 그 방법을 전자 디바이스의 제조 방법에 적용하여 고정밀한 도전막의 투명 도전성 필름을 얻는다.

우선, 본 실시예에 있어서 제조되는 전자 디바이스로서의 투명 도전성 필름에 대해서, 이하에 설명한다.

도 2에 나타내는 바와 같이, 본 실시예에서 얻어지는 투명 도전성 필름(1)은 기재로서의 투명성을 가지는 투명 필름(10) 상에, 가로세로 약4[mm]의 기능성막으로서의 도전막(20)을 약20[μm]의 간극을 비우고 연속적으로 고정밀하게 패터닝한 것이며, 투명 필름(10)의 원료로서는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)를 채용하고, 도전막(20)의 주원료로서는 은 나노 와이어를 채용한다.

본 발명에 있어서의 기재는 본 실시예와 같이 PET를 원료로 하는 것에 한정되지 않고, 제품으로서 요구되는 투명도나 강성률 등의 특성에 맞추어 각종 원료를 적당히 선택할 수 있다. 예를 들면, 본 발명에 있어서의 기재로서, PET 이외의 폴리에스터류, 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리스티렌, 환상 올레핀계 수지 등의 폴리올레핀류, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴 등의 비닐계 수지, 폴리에터에터케톤(PEEK), 폴리설폰(PSF), 폴리에터설폰(PES), 폴리카보네이트(PC), 폴리아마이드, 폴리이미드, 아크릴 수지, 트라이아세틸셀룰로오스(TAC) 등을 원료로 하는 필름상물을 채용해도 된다.

또, 본 발명에 있어서의 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체는, 본 실시예의 은 나노 와이어를 주원료로 하는 것에 한정되지 않고, 제품으로서 요구되는 도전율 등의 기능성에 맞추어 각종 원료를 적당히 선택할 수 있다. 예를 들면, 본 발명에 있어서의 기능성막을 은 나노 와이어 이외의 금속 나노 와이어, 금속 나노 로드, 카본나노튜브, 도전성 폴리머(ICP) 등을 주원료로 하는 도전막으로 해도 된다. 또한, 상기 도전막의 금속 나노 와이어 및 금속 나노 로드에 있어서의 금속 원소로서는, 예를 들면, Ag, Cu, Au, Al, Rh, Ir, Co, Zn, Ni, In, Fe, Pd, Pt, Sn, Ti 등을 들 수 있고, 본 실시예와 같은 투명 도전성 필름의 도전막으로서는 도전율이 높은 금속 원소가 바람직하고, 상기 금속 원소 중에서는 Ag, Cu, Au, Al, Co가 바람직하다. 또, 도전성 폴리머로서는 예를 들면 폴리(3,4-에틸렌다이옥시티오펜)/폴리(스티렌설폰산)(PEDOT/PSS) 등을 들 수 있다.

투명 필름(10) 상에 도전막(20)을 고정밀하게 패터닝할 때에, 투명 도전성 필름(1)으로서의 높은 투명성을 얻기 위해서, 도전막(20)의 주원료인 은 나노 와이어를 성기게(저밀도) 하면, 저밀도의 은 나노 와이어를 포함하는 도전막 형성재(20a)(도 5b 참조)가 물과 동등한 점도인 약1[mPa·s]로부터 1000[mPa·s]의 낮은 점도가 되므로, 종래의 투명 도전성 필름의 제조 방법(예를 들면, 특허문헌 1에 기재된 투명 도전성 필름의 제조 방법)에서는, 고정밀한 패턴의 도전막을 형성할 수 없다.

그래서, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체 즉 저점도의 도전막 형성재(20a)를 인쇄법을 사용하여 고정밀하게 패터닝할 수 있도록 한 것이 본원 발명이며, 본 실시예에 따른 기능성막의 패터닝 방법은, 도 1에 나타내는 바와 같이, 스텝 S1의 마스크부 형성 공정, 스텝 S2의 도전막 형성 공정, 스텝 S3의 마스크부 제거 공정을 구비하고 있다. 이하에 각 공정에 대해서 상세하게 설명한다.

우선, 기능성막의 패터닝 방법에 있어서의 제1 공정인 마스크부 형성 공정(도 1에 있어서의 스텝 S1)에 대해서 설명한다.

마스크부 형성 공정은 투명 필름(10) 상에 있어서의 도전막(20)을 형성하지 않는 비도전 범위(30)에(도 2 참조), 8000~30000[mPa·s]의 점도를 가지는 네거티브 패턴 형성재로서의 마스크부 형성재(40a)로 이루어지는 네거티브 패턴 형성부로서의 마스크부(40)를 형성하는 공정이다(도 5a 참조). 본 공정에 있어서 마스크부(40)를 형성함으로써, 후술하는 후공정에 있어서, 투명 필름(10) 상에 도전막(20)을 형성할 때, 즉, 기재(10) 상에 저점도의 투명성을 가지는 도전성 액체인 도전막 형성재(20a)를 도포할 때에, 도전막 형성재(20a)를 비도전 범위(30)에는 도포하지 않고, 마스크부(40) 이외의 범위인 도전 범위(50)에만 도포하는 것이 가능하게 된다(도 5b 참조).

도 3에 나타내는 바와 같이, 마스크부 형성 공정에 사용하는 마스크부 형성 장치(60)는 투명 필름(10)을 재치하는 테이블(70)과, 테이블(70) 상에 재치된 투명 필름(10)의 인쇄면(마스크부(40)를 형성하는 면)을 따라(도 3에 있어서의 좌우 방향으로) 이동이 자유롭게 유지되고, 인쇄법에 의해 투명 필름(10) 상에 마스크부 형성재(40a)를 인쇄하기 위한 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)를 구비하고 있다. 여기서, 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)는 도시하지 않는 이동 수단에 의해, 테이블(70)에 대해 일방측(도 3에 있어서의 우측)으로부터 타방측(도 3에 있어서의 좌측)으로 이동함으로써, 투명 필름(10) 상에 마스크부 형성재(40a)의 인쇄를 시행한다. 또한, 도 3에 있어서, 80(a)은 인쇄하기 전의 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)를 나타내고, 80(b)은 인쇄 중의 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)를 나타내며, 80(c)은 인쇄한 후의 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)를 나타내고 있다.

그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)는 테이블(70)의 상측에 배열 및 설치되고, 상기 비도전 범위(30)(도 2 참조)에 대응하는 도시하지 않는 오목부가 형성된 그라비어 판동(90)과, 그라비어 판동(90)과 맞닿음과 아울러 테이블(70) 상의 투명 필름(10)에 맞닿는 블랭킷 동체(100)를 구비하여 이루어진다. 그라비어 판동(90)에는 고점도의 마스크부 형성재(40a)(고점도 액체)를 그라비어 판동(90)에 공급하는 마스크부 형성재 공급 장치(110)와, 마스크부 형성재 공급 장치(110)로부터 공급된 그라비어 판동(90) 상의 여분의 마스크부 형성재(40a)를 긁어내어 취하는 닥터 블레이드(120)가 설치되어 있다.

마스크부 형성재 공급 장치(110)에 비축된 마스크부 형성재(40a)는 회전하는 그라비어 판동(90)에 공급되고, 닥터 블레이드(120)에 의해 그라비어 판동(90)의 도시하지 않는 오목부 이외에 공급된 잉여분이 긁어져 취해진 후에, 그라비어 판동(90)으로부터 블랭킷 동체(100)를 통하여 테이블(70) 상에 실린 투명 필름(10) 상에 전사된다. 이 때, 투명 필름(10)이 재치되는 테이블(70)의 설치 위치를 고정하고, 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)를 도시하지 않는 이동 수단에 의해 투명 필름(10)의 인쇄면을 따라 이동시킴과 아울러(도 3에 있어서의 80(a)→80(b)→80(c)), 당해 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)의 이동 속도와 동일한 주속으로 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)의 블랭킷 동체(100)를 회전시킴으로써, 테이블(70) 상에 재치된 투명 필름(10)에 인쇄를 시행하도록 하고 있다. 투명 필름(10) 상에 전사된 마스크부 형성재(40a)는 별도 설치된 도시하지 않는 건조 장치의 열에 의해 건조되고, 도전막(20)을 형성하는 도전막 형성재(20a)를 도포하기 위한 마스크부(40)가 된다.

본 실시예에서는 투명 필름(10)을 재치하는 테이블(70)의 설치 위치를 고정하고, 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)를 투명 필름(10)의 인쇄면을 따라 이동시킴과 아울러, 당해 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)의 이동 속도와 동일한 주속으로 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)의 블랭킷 동체(100)를 회전시킴으로써, 테이블(70) 상에 재치된 투명 필름(10)에 인쇄를 시행하도록 하고 있지만, 본 발명에 있어서의 그라비어 인쇄법은 이것에 한정되지 않고, 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)를 고정하고, 투명 필름(10)을 재치하는 테이블(70)을 이동시킴과 아울러, 당해 테이블(70)의 이동 속도와 동일한 주속으로 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)의 블랭킷 동체(100)를 회전시킴으로써, 테이블(70) 상에 재치된 투명 필름(10)에 인쇄를 시행하도록 해도 된다. 또한, 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80) 및 테이블(70)의 양쪽을 이동시킴으로써, 투명 필름(10)에 인쇄를 시행하도록 해도 된다.

또, 본 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법은 제1 공정에 있어서의 고점도 액체의 인쇄로서, 그라비어 인쇄법을 채용하는 것이 최적이다. 그라비어 인쇄법에는 본 실시예와 같이 블랭킷 동체(100)를 통하여 그라비어 오프셋 인쇄나, 블랭킷 동체(100)를 통하지 않는 그라비어 인쇄가 있고, 모두 미세선의 인쇄를 가능하게 하는 인쇄법이다. 또, 본 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법은 제1 공정에 있어서의 고점도 액체의 인쇄로서, 그라비어 인쇄법 이외에 스크린 인쇄법, 요판 인쇄법, 평판 인쇄법, 철판 인쇄법 등을 채용해도 된다. 저점도의 도전막 형성재(20a)를 고정밀하게 패터닝하기 위해서, 고점도의 마스크부 형성재(40a)를 인쇄하여 미세선의 마스크부(40)를 형성하는 것을 고려하면, 요판 인쇄법을 채용하는 것이 바람직하고, 특히 그라비어 인쇄법을 채용하는 것이 바람직하다.

또, 본 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법에 있어서의 고점도 액체는 본 실시예와 같이 건조 장치의 열에 의해 건조되는 것에 한정되지 않고, 예를 들면, 자외선(UV)이 조사됨으로써 고화하는 것으로 해도 된다. 또, 고점도 액체로서 속건성을 가지는 것을 채용함으로써, 고점도 액체의 건조 공정(고화 공정)을 생략할 수도 있다.

상기 서술한 마스크부 형성재(40a)의 재질을 나타내는 「고점도」는 인쇄법에 의해 투명 필름(10)(기재) 상에 미세선을 인쇄하는 것이 가능한 점도를 말하고, 본 실시예와 같은 그라비어 인쇄법에 있어서의 마스크부 형성재(40a)로서 바람직한 「고점도」는 구체적으로는 8000~30000 [mPa·s] 정도의 점도이다. 이것에 의해, 본 실시예에 있어서의 마스크부 형성재(40a)를 그라비어 인쇄 장치(80)에 의해 투명 필름(10) 상의 고정밀한 패턴의 비도전 범위(30), 즉, 10~30 [μm] 폭의 화선(본 실시예에서는, 도 2에 나타내는 20[μm]의 화선)으로 인쇄할 수 있음과 아울러, 인쇄된 당해 형상(10~30[μm] 폭의 화선)을 유지할 수 있다. 즉, 투명 필름(10) 상에 인쇄된 마스크부 형성재(40a)로 이루어지는 화선은 흐트러지지 않고, 비뚤어짐이나 단선을 발생시키지도 않는다. 또한, 본 실시예에 있어서는, 도전막(20)의 막 두께는 1[μm] 이하이며, 마스크부(40)의 높이(두께)는 2~3[μm]로 형성하는 것으로 한다.

또, 도전막 형성재(20a)의 재질을 나타내는 「저점도」는 투명 도전성 필름(1)으로서 필요하게 되는 높은 투명성을 얻기 위해서, 도전막(20) 즉 도전막 형성재(20a)에 포함되는 은 나노 와이어를 성긴(저밀도) 상태로 한 경우에 있어서의 도전막 형성재(20a)의 점도를 말하고, 이 점도는 통상의 인쇄법에 의해 투명 필름(10)(기재) 상에 인쇄되었을 때의 형상을 유지할 수 없을 정도로 낮은 점도이며, 물과 동등한 점도인 약1[mPa·s] 내지 1000[mPa·s]의 점도이다. 본 실시예에 있어서의 도전막 형성재(20a)는 후술하는 제2 공정에 있어서 투명 필름(10) 상의 고정밀한 패턴의 비도전 범위(30), 즉, 마스크부(40)에 의해 구분된 범위 이외에 도포되게 되므로, 도전막 형성재(20a)가 상기 서술한 바와 같이 「저점도」여도 도전막 형성재(20a)를 고정밀하게 패터닝하고, 고정밀한 패턴의 도전막(20)(도 2 참조)을 형성할 수 있다.

이와 같이, 도전막 형성재(20a)를 저점도로 함으로써, 형성하는 도전막(20)의 막 두께의 균일성을 향상시킬 수 있다. 도전막(20)의 막 두께 균일성을 고려하면, 도전막 형성재(20a)를 1~500[mPa·s] 정도의 점도로 하는 것이 바람직하다.

또한, 마스크부(40)가 형성되어 있지 않은 경우에는, 도전막 형성재(20a)는 상기 서술한 정도로 낮은 점도이므로, 도포되었을 때의 형상 즉 고정밀한 패턴의 형상을 유지할 수 없다. 즉, 투명 필름(10) 상에 고정밀한 패턴의 도전막(20)을 형성할 수 없다.

다음에, 기능성막의 패터닝 방법에 있어서의 제2 공정인 기능성막 형성 공정으로서의 도전막 형성 공정(도 1에 있어서의 스텝 S2)에 대해서 설명한다.

도전막 형성 공정은 도 5b에 나타내는 바와 같이 마스크부(40)가 형성되어 있지 않은 도전 범위(50)(도 2 참조)에, 저점도의 기능성 재료를 포함하는 액체로서의 도전막 형성재(20a)를 도포하여 도전막(20)을 형성하는 공정이다. 상기 서술한 마스크부 형성 공정에 있어서 투명 필름(10) 상에 마스크부(40)가 형성되어 있으므로, 투명 필름(10) 상에 도전막 형성재(20a)를 도포하면, 도전막 형성재(20a)는 마스크부(40)가 형성된 비도전 범위(30)에 도포되지 않고, 마스크부(40) 이외의 범위인 고정밀한 패턴의 도전 범위(50)에만 도포된다.

도전막 형성 공정에 사용하는 도전막 형성 장치(130)는 도 4에 나타내는 바와 같이 투명 필름(10)을 올려 놓는 테이블(70)과, 테이블(70) 상의 투명 필름(10)에 대하여 도전막 형성재(20a)를 코팅법에 의해 도포하기 위한 코팅 장치(140)를 구비하고 있다.

코팅 장치(140)는 테이블(70)의 상측에 배열 및 설치되고, 도전막 형성재(20a)를 저류하는 탱크(150)와, 당해 탱크(150) 내의 도전막 형성재(20a)를 빨아올려 하류로 이송하는 송액 펌프(160)와, 송액 펌프(160)에 의해 이송되는 도전막 형성재(20a)의 유량(도출량)을 조정하는 도포 밸브(170)와, 테이블(70) 상에 재치된 투명 필름(10)에 근접하여 도전막 형성재(20a)를 도포하는 슬릿 다이(180)를 구비하여 이루어진다.

탱크(150) 내에 비축된 도전막 형성재(20a)는 송액 펌프(160)와 도포 밸브(170)가 연동하여 움직임으로써 슬릿 다이(180)의 선단부(181)에 설치한 슬릿부(도시하지 않음)로부터 도출되고, 슬릿 다이(180)가 도전막 형성재(20a)의 도출과 연동하여 테이블(70) 상에 재치된 투명 필름(10) 상을 투명 필름(10)의 도포면을 따라(도 4에 있어서의 좌우 방향으로) 이동함으로써 투명 필름(10)의 표면에 도전막 형성재(20a)가 도포된다. 이 때, 도 5b에 나타내는 바와 같이, 도전막 형성재(20a)는 투명 필름(10) 상에 있어서의 마스크부(40)로 구분된 범위, 즉, 마스크부(40) 이외의 범위인 도전 범위(50)에 도포된다. 투명 필름(10) 상에 도포된 도전막 형성재(20a)는 별도 설치된 도시하지 않는 건조 장치의 열에 의해 건조되고, 도전막(20)이 된다.

본 실시예에서는 도 4에 나타내는 바와 같이 투명 필름(10)을 재치하는 테이블(70)의 설치 위치를 고정하고, 코팅 장치(140)에 있어서의 슬릿 다이(180)의 선단부(181)로부터 도전막 형성재(20a)를 도출시킴과 아울러, 슬릿 다이(180)를 투명 필름(10)의 도포면을 따라 이동시킴으로써, 테이블(70) 상에 재치된 투명 필름(10)에 코팅을 시행하도록 하고 있지만, 본 발명에 있어서의 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체의 도포는 이것에 한정되지 않고, 코팅 장치(140)에 있어서의 슬릿 다이(180)를 고정하고, 투명 필름(10)을 재치하는 테이블(70)을 이동시킴으로써, 테이블(70) 상에 재치된 투명 필름(10)에 도전막 형성재(20a)의 도포를 시행하도록 해도 된다. 또한, 코팅 장치(140) 및 테이블(70)의 양쪽을 이동시킴으로써, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체의 도포를 시행하도록 해도 된다.

또한, 투명 필름(10) 상에 형성하는 도전막(20)의 막 두께는 송액 펌프(160)에 의한 송액량, 도포 밸브(170)에 의해 조정되는 유량, 슬릿 다이(180)의 선단부(181)에 있어서의 슬릿부의 폭, 슬릿 다이(180)의 이동 속도 등에 의해 조정할 수 있다.

또, 본 실시예에서는 제2 공정에 있어서의 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체의 도포로서, 슬릿 다이(180)에 의한 슬릿 코터를 사용한 코팅법을 채용하여 설명했지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체의 도포로서, 롤 코터, 커튼 코터, 스프레이 코터 등을 사용한 코팅법을 채용해도 되고, 코팅법 이외에도 플렉소 인쇄나 스크린 인쇄 등의 인쇄법을 채용해도 된다.

또, 본 발명에 있어서의 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체는, 본 실시예와 같이 건조 장치의 열에 의해 건조되는 것에 한정되지 않고, 자외선(UV)이 조사됨으로써 고화하는 것으로 해도 된다. 또, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체로서 속건성을 가지는 것을 채용함으로써, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체의 건조 공정(고화 공정)을 생략할 수도 있다.

다음에 기능성막의 패터닝 방법에 있어서의 제3 공정인 마스크부 제거 공정(도 1에 있어서의 스텝 S3)에 대해서 설명한다.

마스크부 제거 공정은 도 5c에 나타내는 바와 같이 제2 공정의 도전막 형성 공정에서 형성된 도전막(20)을 남기고, 제1 공정의 마스크부 형성 공정에서 형성된 마스크부(40)만을 제거하는 공정이다. 본 공정에 있어서 마스크부(40)만을 제거함으로써, 마스크부(40)가 형성되어 있던 비도전 범위(30)는 확실하게 절연 영역으로서 확보되고, 남겨진 도전막(20)이 형성된 도전 범위(50)만이 도전 영역이 되어, 고정밀하게 패터닝된 도전 회로를 가지는 투명 도전성 필름(1)을 얻을 수 있다. 즉, 본 실시예에서는 마스크부(40)는 투명 도전성 필름(1)의 도전 회로에 있어서의 비도전 범위(30) 즉 절연부(네거티브 패턴부)를 형성하기 위한 네거티브 패턴 형성부이며, 도전막(20)은 투명 도전성 필름(1)의 도전 회로에 있어서의 도전 범위(50) 즉 도전부(포지티브 패턴부)이다.

도전막(20)을 남기고 마스크부(40)만을 제거하는 마스크부 제거 방법으로서는 화학적 또는 물리적으로 마스크부(40)만을 제거하는 방법을 들 수 있다.

화학적 제거 방법으로서는 예를 들면 도시하지 않는 화학적 제거 장치에 의해 마스크부(40) 및 도전막(20)이 형성된 투명 필름(10)을 마스크부 제거액에 침지시키거나, 또는 마스크부(40) 및 도전막(20)이 형성된 투명 필름(10)의 표면에 마스크부 제거액을 내뿜음으로써, 투명 필름(10) 상의 마스크부(40)만을 박리 또는 용해시켜 제거하는 방법이 있다. 또한, 화학적 제거 방법에 있어서 사용하는 마스크부 제거액은 기재인 투명 필름(10), 도전막(20) 즉 도전막 형성재(20a), 마스크부(40) 즉 마스크부 형성재(40a)의 재질 등에 따라 적당히 선택된다.

물리적 제거 방법으로서는 예를 들면 투명 필름(10) 및 도전막(20)의 강성율에 대하여 마스크부(40)의 강성율이 현저하게 높은 재료를 선택하고, 마스크부(40) 및 도전막(20)이 형성된 투명 필름(10)을 도시하지 않는 물리적 제거 장치에 의해 만곡 또는 진동시키거나 하여 투명 필름(10) 상의 마스크부(40)만을 박리시켜 제거하는 방법이 있다.

마스크부 제거 방법으로서는 기재인 투명 필름(10), 도전막(20) 즉 도전막 형성재(20a), 마스크부(40) 즉 고점도의 마스크부 형성재(40a)의 재질에 따라 화학적 제거 방법, 물리적 제거 방법, 그 밖의 제거 방법을 적당히 선택함과 아울러, 화학적 제거 방법에 있어서 사용하는 마스크부 제거액 등도 적당히 선택한다.

또, 마스크부(40)를 실리콘이나 불소로 이루어지는 절연 재료로 형성한 경우, 즉, 마스크부 형성재(40a)로서 절연성 물질을 채용한 경우에는, 마스크부(40)가 형성된 비도전 범위(30)는 확실하게 절연 영역으로서 확보되어 있으므로, 절연체인 마스크부(40)를 제거할 필요는 없다. 즉, 절연 재료로 이루어지는 마스크부(40)는 투명 도전성 필름(1)의 도전 회로에 있어서의 비도전 범위(30) 즉 절연부(네거티브 패턴부)가 되므로, 제3 공정의 마스크부 제거 공정을 생략할 수 있다. 또한, 마스크부(40)는 그라비어 인쇄법에 의해 미세선으로 인쇄되어 있기 때문에, 투명성이 필요한 터치패널 등에서도, 제거되지 않고 남겨지는 마스크부(40)에 의해 투명 도전성 필름으로서의 투명성이 저해되지는 않는다.

이상에 설명한 바와 같이, 본 실시예에서는 스텝 S1의 마스크부 형성 공정, 스텝 S2의 도전막 형성 공정, 스텝 S3의 마스크부 제거 공정을 구비함으로써, 저점도의 도전막 형성재(20a)를 고정밀하게 패터닝할 수 있다. 즉, 본 실시예에 의하면, 고정밀한 패턴의 도전막(20)을 가지는 투명 도전성 필름(1)을 제조할 수 있다. 이하에, 스텝 S1~S3에 있어서의 일련의 동작을 설명한다.

우선, 스텝 S1의 마스크부 형성 공정에 있어서, 투명성을 가지는 투명 필름(10)을 테이블(70) 상에 올려 놓고, 마스크부 형성 장치(60)의 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)를 도시하지 않는 이동 수단에 의해 테이블(70)의 상측을 투명 필름(10)의 인쇄면을 따라 이동시킴과 아울러, 당해 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)의 이동 속도와 동일한 주속으로 그라비어 오프셋 인쇄 장치(80)의 블랭킷 동체(100)를 회전시킴으로써, 테이블(70) 상에 올려진 투명 필름(10)의 인쇄면에 마스크부 형성재(40a)의 인쇄를 시행한다. 마스크부 형성재(40a)의 인쇄 후, 투명 필름(10) 상의 마스크부 형성재(40a)를 필요에 따라서 별도 설치한 도시하지 않는 건조 장치에 의해 건조시키고, 도전막(20)을 도포하기 위한 마스크부(40)를 형성한다.

계속해서, 마스크부(40)가 형성된 투명 필름(10)을 스텝 S2의 도전막 형성 공정으로 진행시킨다.

스텝 S2의 도전막 형성 공정에 있어서, 마스크부(40)를 형성한 투명 필름(10)을 테이블(70) 상에 올려 놓은 상태에서, 도전막 형성 장치(130)에 있어서의 코팅 장치(140)의 슬릿 다이(180)를 도시하지 않는 이동 수단에 의해 테이블(70)의 상측을 투명 필름(10)의 인쇄면을 따라 이동시킴과 아울러, 당해 코팅 장치(140)의 탱크(150)에 저류된 도전막 형성재(20a)를 송액 펌프(160), 도포 밸브(170), 슬릿 다이(180)를 통하여, 마스크부(40)를 형성한 투명 필름(10)의 인쇄면에 도포한다. 도전막 형성재(20a)의 도포 후, 투명 필름(10) 상에 고정밀하게 패터닝한 도전막 형성재(20a)를 필요에 따라 별도 설치한 도시하지 않는 건조 장치에 의해 건조시키고, 고정밀한 패터닝의 도전막(20)을 형성한다.

계속해서, 마스크부(40) 및 도전막(20)을 형성한 투명 필름(10)을 스텝 S3의 마스크부 제거 공정으로 진행시킨다.

스텝 S3에 있어서, 마스크부(40) 및 도전막(20)을 형성한 투명 필름(10)을 테이블(70) 상에 올려 놓은 상태에서, 또는 테이블(70)로부터 분리하고, 도시하지 않는 화학적 제거 장치 또는 물리적 제거 장치에 의해, 투명 필름(10) 상에 형성한 마스크부(40)만을 제거한다.

이상의 공정에 의해, 투명 필름(10) 상에 도전막(20)이 고정밀하게 패터닝된 투명 도전성 필름(1)을 제조할 수 있다.

또한, 상기 서술한 바와 같이, 마스크(40)를 절연 재료로 형성한 경우, 즉, 마스크 형성재(40a)로서 절연성 물질을 채용한 경우에는, 스텝 S3의 마스크부 제거 공정을 생략할 수 있다. 또, 필요에 따라 공정 사이에 냉각 장치 등을 설치하여, 상기 서술한 처리 이외의 처리 공정을 더할 수도 있다.

또, 본 실시예에서는 터치패널에 채용되는 투명 도전성 필름을 제조하는 방법을 설명했지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 유기·무기·금속의 도전성 재료, 유기 반도체, 산화물 반도체, 액체 실리콘, 카본나노튜브, 그래핀 등의 반도체 재료, 발광 재료 등의 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 사용하여, 박막 트랜지스터, 유기 EL 디스플레이, 태양전지, 전자 페이퍼 등의 전자 디바이스를 제조하는 것도 가능하며, 또한 차세대의 일렉트로닉스 분야, 바이오테크놀로지 분야, 옵트로닉스 분야에 있어서도 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 고정밀하게 패터닝할 수 있다.

본 발명에 따른 기능성막의 패터닝 방법은 고정밀한 패턴의 기능성막을 형성할 수 있으므로, 본 실시예의 투명 도전성 필름의 제조 방법에 한정되지 않고, 기재 상에 기능성막을 가지는 각종 제품의 제조 방법에 채용할 수 있다.

1…투명 도전성 필름
10…투명 필름(기재)
20…도전막(포지티브 패턴부)
20a…도전막 형성재(저점도의 도전성 액체)
30…비도전 범위
40…마스크부(네거티브 패턴 형성부)
40a…마스크부 형성재(고점도 액체)
50…도전 범위
60…마스크부 형성 장치
70…테이블
80…인쇄 장치
90…오프셋 그라비어 판동
100…블랭킷 동체
110…마스크부 형성재 공급 장치
120…닥터 블레이드
130…도전막 형성 장치
140…코팅 장치
150…탱크
160…송액 펌프
170…도포 밸브
180…슬릿 다이

Claims (12)

1. 기재 상에 기능성막을 형성하는 기능성막의 패터닝 방법으로서,
   상기 기재 상에 고점도 액체를 인쇄함으로써 네거티브 패턴 형성부를 형성하는 제1 공정과,
   상기 네거티브 패턴 형성부가 형성된 상기 기재 상에, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 도포함으로써 포지티브 패턴부를 형성하는 제2 공정을 구비한 것을 특징으로 하는 기능성막의 패터닝 방법.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 고점도 액체의 인쇄를 그라비어 인쇄법에 의해 행하고,
   상기 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체의 도포를 코팅법 또는 인쇄법에 의해 행하는 것을 특징으로 하는 기능성막의 패터닝 방법.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체로서 도전성 액체를 사용하여,
   상기 기재 상에 도전막을 형성하는 것을 특징으로 하는 기능성막의 패터닝 방법.
4. 제 3 항에 있어서, 상기 제2 공정 후에, 상기 기재 상에 형성된 상기 네거티브 패턴 형성부를 제거하는 제3 공정을 구비한 것을 특징으로 하는 기능성막의 패터닝 방법.
5. 제 3 항에 있어서, 상기 고점도 액체가 절연 재료인 것을 특징으로 하는 기능성막의 패터닝 방법.
6. 제 3 항에 있어서, 상기 도전성 액체가 도전성 섬유 또는 도전성 폴리머를 포함하는 것을 특징으로 하는 기능성막의 패터닝 방법.
7. 제 3 항에 있어서, 상기 기재는 투명성을 가지는 투명 필름이며,
   상기 도전성 액체는 투명성을 가지는 액체인 것을 특징으로 하는 기능성막의 패터닝 방법.
8. 기재 상에 고점도 액체를 인쇄함으로써 네거티브 패턴 형성부를 형성하는 제1 공정과,
   상기 네거티브 패턴 형성부가 형성된 상기 기재 상에, 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 도포함으로써 포지티브 패턴부를 형성하는 제2 공정을 구비한 것을 특징으로 하는 전자 디바이스의 제조 방법.
9. 제 8 항에 있어서, 상기 고점도 액체의 인쇄를 그라비어 인쇄법에 의해 행하고,
   상기 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체를 코팅법 또는 인쇄법에 의해 행하는 것을 특징으로 하는 전자 디바이스의 제조 방법.
10. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서, 상기 기재로서 투명 필름 기재를 사용하고,
    상기 기능성 재료를 포함하는 저점도의 액체로서 도전성 액체를 사용하여,
    투명 도전성 필름을 제조하는 것을 특징으로 하는 전자 디바이스의 제조 방법.
11. 투명 필름 기재 상에 고점도 액체가 그라비어 인쇄법에 의해 인쇄됨으로써 형성된 네거티브 패턴 형성부와,
    상기 네거티브 패턴 형성부가 형성된 상기 투명 필름 기재 상에 저점도의 도전성 액체가 코팅법 또는 인쇄법에 의해 도포됨으로써 형성된 포지티브 패턴부를 가지는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
12. 고점도 액체가 그라비어 인쇄법에 의해 인쇄됨으로써 네거티브 패턴 형성부가 형성된 상기 투명 필름 기재 상에, 저점도의 도전성 액체가 코팅법 또는 인쇄법에 의해 도포됨으로써 형성된 포지티브 패턴부를 가지고,
    상기 네거티브 패턴 형성부가 제거되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.

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