KR20150004205A - 웨이퍼 정 위치 감지 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 웨이퍼 정 위치 감지 장치에 관한 것으로, 수광부와 발광부가 챔버 내부를 향하고, 상기 챔버내에 위치한 웨이퍼의 위치를 감지하는 챔버 센서들 및 상기 챔버 센서들과 상기 챔버의 도어를 구동하는 구동부와 전기적으로 연결된 제어부를 포함하며, 상기 챔버 센서는, 상기 챔버의 중심을 기준으로 상기 웨이퍼의 최 외곽을 따라 등 간격으로 배열되어 있으며, 상기 챔버 센서는 상기 챔버 내부로 반송된 상기 웨이퍼가 정 위치에 위치하지 않으면 이를 감지하여 상기 제어부에 신호를 인가하고, 상기 챔버 센서의 신호를 입력 받은 상기 제어부는 상기 도어가 닫히지 않도록 상기 구동부를 제어한다.

Description

웨이퍼 정 위치 감지 장치{sensing apparatus and wafer fixed position}
본 발명은 웨이퍼 정 위치 감지 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 따위를 제조할 때 다양한 진공 영역에서 해당 제조 공정이 진행된다. 각 제조 공정마다 요구되는 진공도를 구현하기 위하여 복수의 진공 챔버를 연결하여 구성한다.
반도체를 만드는 토대가 되는 얇은 판인 웨이퍼(WAFER)를 챔버 내부로 반송할 때 혹은 가공이 끝난 웨이퍼가 이송될 때 챔버내에서 웨이퍼가 정 위치에 놓이지 않고 비정상 적인 위치에 놓일 수 있다. 챔버에서 웨이퍼가 정 위치에 놓이지 않는 상태에서 웨이퍼 반송 해당 제조 공정이 이루어질 경우 웨이퍼가 손상되는 문제가 발생하였다.
특허등록 제10-0875691호 (2008.12.17) 특허등록 제10-0583955호 (2006.05.22)
본 발명은 웨이퍼가 챔버 내에 비정상적으로 놓일 경우 이를 감지하여 제조 공정이 이루어지지 않도록 하는 웨이퍼 정 위치 감지 장치를 제공한다.
본 발명의 한 실시예에 따른 웨이퍼 정 위치 감지 장치는 수광부와 발광부를 가지며 챔버 내에 위치한 웨이퍼의 위치를 감지하는 챔버 센서들 및 상기 챔버의 도어를 구동하는 구동부와 상기 챔버 센서들을 제어하는 제어부를 포함하며, 상기 챔버 센서는, 상기 챔버의 중심을 기준으로 상기 웨이퍼의 최 외곽을 따라 기설정된 간격으로 배열되어 있으며, 상기 챔버 센서는 상기 챔버 내부로 반송된 상기 웨이퍼가 정 위치에 위치하지 않으면 이를 감지하여 상기 제어부에 신호를 인가하고, 상기 챔버 센서의 신호를 입력 받은 상기 제어부는 상기 도어가 닫히지 않도록 상기 구동부를 제어한다.
상기 챔버 내부에는 상기 웨이퍼가 놓이는 홀더가 상기 웨이퍼의 최 외곽을 따라 복수로 배열되어 있고, 상기 홀더와 떨어져 있고, 상기 웨이퍼의 최 외곽을 따라 상기 챔버 센서들을 지지하는 스테이지가 배치되어 있으며, 상기 챔버 센서는 이웃한 상기 홀더 사이에 위치할 수 있다.
상기 웨이퍼 정 위치 감지 장치는 상기 도어 배치되어 있고, 상기 도어를 출입하는 웨이퍼를 감지하는 도어 센서를 더 포함할 수 있다.
상기 챔버 센서 및 상기 도어 센서는 상기 웨이퍼에 스폿광을 조사하여 상기 웨이퍼로부터 반사되는 반사광의 각도 차이를 감지하는 거리설정 반사형 광센서일 수 있다.
상기 웨이퍼 정 위치 감지 장치는 상기 스테이지와 상기 챔버 사이에 위치한 흡착부를 더 포함할 수 있다.
상기 챔버 센서들은 4개로 형성되고, 상기 4개의 챔버 센서들은 90°간격으로 배치될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 발광부에서 조사된 광이 내부 바닥면 또는 웨이퍼에 접할 때 기설정된 각도로 반사되어 수광부에 입광된다. 이때 반사된 광이 수광부에 입광되는 각도에 따라 웨이퍼가 정 위치를 벗어났는지를 감지할 수 있다. 입광 각도로 웨이퍼를 위치를 감지하므로 웨이퍼의 상태(색상, 거칠기, 기울기)에 대해 영향을 받지 않는다. 이에 따라 안정된 웨이퍼의 위치를 감지할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 챔버 센서들이 스테이지에 장착된 상태에서, 스테이지를 챔버의 커버에 놓으면서 설치된다. 챔버 센서들을 챔버에 간편하게 설치할 수 있어 작업성이 향상될 수 있다.
도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 웨이퍼 정 위치 감지 장치가 위치한 챔버를 개략적으로 나타낸 사시도.
도 2는 도 1에 도시한 센서의 부착 상태를 나타낸 개략적인 측면도.
도 3은 도 2에 도시한 스테이지와 챔버 사이에 흡착부가 위치한 상태를 나타낸 측면도.
도 4는 도 2에 도시한 챔버 센서 부분 확대도.
도 5는 본 발명의 웨이퍼 정 위치 감지 장치 작동에 따른 블록도.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 웨이퍼 정 위치 감지 장치를 개략적으로 나타낸 사시도.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 그리고 본 실시예에서 챔버는 외형을 이루는 몸체를 의미한다.
그러면 본 발명의 한 실시예에 따른 웨이퍼 정 위치 감지 장치에 대하여 도 1 및 도 2를 참고하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 웨이퍼 정 위치 감지 장치가 위치한 챔버를 개략적으로 나타낸 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시한 센서의 부착 상태를 나타낸 개략적인 측면도이다.
도 1 및 도 2를 참고하면, 본 실시예에 따른 웨이퍼 정 위치 감지 장치는 챔버(1) 내부로 반송된 웨이퍼가 정 위치를 벗어날 경우 이를 감지한다. 웨이퍼 정 위치 감지 장치는 스테이지(200), 센서(100), 그리고 제어부(300)를 포함한다.
웨이퍼 정 위치 감지 장치가 설치되는 챔버(1) 내에서는 반도체 따위가 제조될 수 있다. 그러나 챔버(1) 내에서는 PDP(plasma display panel), LCD(Liquid Crystal Display) 따위가 제조될 수 있다. 챔버(1)의 상면은 개방되어 있다. 챔버(1)의 개방된 상면에는 커버(12)가 결합된다. 커버(12)는 내부가 보일 수 있도록 투명 재질로 형성되어 있다.
챔버(1) 내부에는 반도체를 만드는 토대가 되는 얇은 판인 웨이퍼(W)가 놓이는 홀더(2)가 배치되어 있다. 홀더(2)는 챔버(1) 내부 바닥면(11)에 배치되어 있다. 홀더(2)는 챔버(1)의 내부 바닥면(11) 중심에서 떨어져 있다. 홀더(2)는 챔버(1)의 중심을 기준으로 90°간격으로 배열되어 있다.
여기서, 홀더(2)는 챔버(1)의 내부 바닥면(11)에서 상부측으로 돌출되어 있다. 그리고 홀더(2)의 상부에는 웨이퍼(W)가 놓이는 적어도 하나의 안치부(21)가 형성되어 있다.
한편, 홀더(2)가 챔버(1)의 내부 바닥면(11)에서 돌출되므로, 홀더(2)의 안치부(21)가 챔버(1)의 내부 바닥면(11)보다 커버(12)에 더 근접되어 있다.
그리고 챔버(1)의 일측에는 웨이퍼가 출입하는 출입구(도시하지 않음)가 형성되어 있다. 그리고 출입구가 형성된 챔버(1) 부분에는 내부에 도어(31)가 설치된 게이트 밸브(3)가 결합되어 있다. 도어(31)는 구동부(도시하지 않음)에 의해 작동하여 출입구를 개폐한다. 도어(31)의 구동부는 압축 공기를 이용한 액추에이터 따위로 형성될 수 있다.
아울러, 게이트 밸브(3) 상면도 챔버(1)의 상면과 동일하게 개방되어 있다. 게이트 밸브(3)의 개방된 상면에는 커버(12)와 동일한 커버(32)가 결합되어 있다.
위와 같은 챔버, 도어, 그리고 구동부의 세부적인 구성은 공지된 반도체, 디스플레이 따위의 제조 장치에 적용되는 챔버, 도어, 그리고 구동부와 동일하므로 자세한 설명은 생략한다.
스테이지(200)는 커버(12)에 놓여 있다. 스테이지(200)는 링 형태로 형성되어 있다. 링 형태로 형성된 스테이지(200)는 1부재 및 2부재로 이루어져 있다. 1부재와 2부재는 간격을 두고 떨어져 있다. 1부재와 2부재 사이에 레일 홈(210)이 형성된다. 1부재와 2부재의 상면은 평면 형태로 형성되어 있다. 이에 따라 커버(12)와 스테이지(200)는 평행을 이룬다.
한편 레일 홈(210)이 안치부(21)에 위치한 웨이퍼(W)의 최 외곽 부분과 일치하도록 커버(12)의 표면에는 스테이지(200)가 놓이는 놓임 표시부(도시하지 않음)가 형성되어 있다. 놓임 표시부는 홀더(2)를 따라 형성되어 있다.
이와 같은 스테이지(200)는 금속 따위로 만들어질 수 있다. 금속으로 만들어진 스테이지(200)는 그 무게에 의하여 커버(12) 표면에 견고히 밀착될 수 있다. 아울러, 커버(13)에 접하는 스테이지(200) 면에는 고무 따위로 만들어진 패드(도시하지 않음)가 결합될 수 있다. 패드는 스테이지(200)가 커버(12)의 표면에서 미끌어지지 않도록 한다.
그러나, 도 3에서 도시한 바와 같이 스테이지(200)와 커버(12) 사이에는 흡착부(230)가 위치할 수 있다. 흡착부(230)는 스테이지(200)를 커버(12)의 표면에 분리 가능하게 결합한다. 스테이지(200)는 흡착부(230)에 의해 커버(12)에 견고히 고정될 수 있다. 이에 따라 스테이지(200)에 외력이 가해져도 스테이지(200)는 움직이지 않게 된다.
아울러, 스테이지(200)를 커버(12)에 결합하는 것을 흡착부로 설명하였으나, 본원 발명은 이를 한정하지 않는다. 스테이지(200)는 볼트, 클램프, 버클 따위로 다양하게 형성될 수 있다. 그리고 흡착부는 생략될 수 있다. 이때 스테이지(200)는 놓임 표시부에 놓인 상태를 유지한다.
한편, 도 1에서 스테이지(200)를 원형으로 도시하였지만, 스테이지(200)는 사각, 오각과 같은 다각형으로 형성될 수 있다.
센서(100)는 웨이퍼의 위치를 감지한다. 센서(100)는 챔버(1) 내부로 반송된 웨이퍼(W)가 정 위치에 놓여있는지를 감지하는 챔버 센서(110) 및 출입구를 통해 챔버(1)와 게이트 밸브(3)를 통행하는 웨이퍼를 감지하는 도어 센서(120)로 이루어져 있다.
챔버 센서(110)는 스테이지(200)에 배치되어 있고 도어 센서(120)는 게이트 밸브(3)의 커버(32)에 배치되어 있다.
챔버 센서(110)는 광을 조사하는 발광부(112), 발광부(112)에서 조사된 광이 반사되어 입력되는 수광부(113), 그리고 발광부(112)와 수광부(113)를 제어하는 회로부(도시하지 않음) 그리고 케이싱(111)으로 이루어져 있다. 케이싱(111)은 수광부(113), 발광부(112), 그리고 회로부를 보호한다. 즉, 수광부(113), 발광부(112), 그리고 회로부는 케이싱(111)의 내부에 위치하며, 수광부(113)와 발광부(112)는 일직선상에 위치한다.
아울러, 챔버 센서(110)는 스테이지(200)에 90° 등 간격으로 배치되어 있다. 이에 따라 챔버 센서(110)는 4개로 형성된다. 그러나 챔버 센서(110) 또한 90°보다 작은 간격으로 형성될 수 있다. 배치 각도가 작을수록 챔버 센서(110)의 개수가 증가하게 되어 웨이퍼의 위치를 보다 정확하게 감지할 수 있다.
챔버 센서(110)의 케이싱(121)은 스테이지(200)의 1부재와 2부재를 걸쳐 배치되어 있다. 챔버 센서(110)는 이웃한 홀더(2) 사이에 위치한다.
케이싱(111)은 스테이지(200)에 볼트(도시하지 않음) 따위로 분리 가능하게 결합될 수 있다. 챔버(1) 내부와 마주하는 케이싱(111)의 저면은 개방되어 있다.
수광부(113)와 발광부(112)는 케이싱(111) 내부에 배치되어 있다. 이때 수광부(113)와 발광부(112)는 레일 홈(210)을 통하여 챔버(1) 내부를 향한다.
이때 수광부(113)와 발광부(112)는 홀더(2)가 위치한챔버(1) 내부 바닥면(11)과 마주한다. 그리고 케이싱(111)이 평행한 스테이지(200)에 결합되므로, 수광부(113)와 발광부(112) 또한 커버(12), 내부 바닥면(11)과 평행을 이룬다.
여기서, 내부 바닥면(11)과 홀더(2)의 안치부(2)의 높이 차이에 의해 발광부(112)와 수광부(113)는 바닥면(11) 보다 안치부(21)에 더 근접되어 있다. 이에 따라 발광부(112)와 수광부(113)는 내부 바닥면(11)보다 웨이퍼(W)에 더 근접되어 있다. 따라서, 웨이퍼(W)가 정위치에 벗어나 있으면, 발광부(112)에서 조사된 광은 웨이퍼(W)에 먼저 접하여 반사될 수 있다.
발광부(112)에서 조사된 광이 안치부(21)를 벗어난 웨이퍼(W)에서 반사되어 수광부(113)에 입력될 수도 있다. 여기서, 웨이퍼(W)에서 반사된 입광(L2) 각도와 내부 바닥면(11)에서 반사된 입광(L1) 각도는 다른 각도로 입력된다. 즉, 반사면(내부 바닥면, 웨이퍼)에서 반사되어 수광부(113)에 입광되는 입광(L1, L2) 각도는 반사면의 위치에 따라 다르게 입력된다.
예컨대, 내부 바닥면(11)과 안치부(21) 높이 차이에 의해 발광부(112)에서 조사된 광이 내부 바닥면(11)에서 반사되면 12°각도로 수광부(113)에 입광(L1) 된다. 그러나 발광부(112)에서 조사된 광이 내부 바닥면(11) 보다 수광부(113)에 근접된 웨이퍼(W)에서 반사되면 18°각도로 수광부(113)에 입광(L2) 된다. 이와 같이 수광부(113)에 입광되는 각도의 차이에 의해 웨이퍼(W)가 안치부(21)에서 벗어났는지를 확인할 수 있다.
도어 센서(120)는 챔버 센서(110)와 동일하게 케이싱(121), 발광부(122), 수광부(123), 그리고 회로부(도시하지 않음)로 이루어져 있다. 도어 센서(120)는 챔버 센서(110)와 동일한 구조로 형성되어 있다. 다만 그 배치 위치에 있어서 상이하다. 이에 따라 도어 센서(120)의 구조에 대한 자세한 설명은 생략한다.
도어 센서(120)의 배치 위치를 살펴 보면, 도어 센서(120)의 케이싱(111)은 게이트 밸브(3)의 커버(32)에 위치한다. 도어 센서(120)의 케이싱(121)은 커버에 볼트(도시하지 않음) 따위로 분리 가능하게 결합되어 있다. 커버(32)와 마주하는 케이싱(121)의 저면은 개방되어 있다. 도어 센서(120)의 수광부(123)와 발광부(122)는 게이트 밸브(3) 내부에 설치된 도어(31)와 마주한다.
발광부(122)에서 조사된 광은 게이트 밸브(3)의 내부 바닥면(도시하지 않음) 또는 출입구를 출입하는 웨이퍼(W)에서 반사되어 수광부(123)에 입광될 수 있다. 여기서, 수광부(123)에 입력되는 입광 각도는 챔버 센서(110)와 동일하게 반사 대상물에 따라 다르다.
그리고 이와 같은 챔버 센서(110) 및 도어 센서(120)는 발광부(112)에서 스폿광을 조사하여 내부 바닥면에서 반사되어 수광부(113)에 입력되는 각도 차이를 감지하는 거리설정 반사형 광센서로 형성될 수 있다.
회로부는 발광부(112)에서 내부 바닥면(11)을 향해 광이 조사되도록 하고, 조사된 광이 내부 바닥면(11) 또는 웨이퍼(W)에서 반사되어 수광부(113)로 입력된 입광(L1, L2)을 측정한다. 이때, 회로부는 내부 바닥면(11)에서 반사된 입광(L1) 각도가 아닌 웨이퍼(W)에서 반사된 입광(L1) 각도이면 그 신호를 외부로 인가한다.
제어부(300)는 회로부와 전기적으로 연결되어 있다. 또한 제어부(300)는 구동부와 연결되어 있다. 제어부(300)는 회로부에서 인가되는 신호를 입력 받는다. 제어부(300)는 회로부에서 신호가 인가되면 경보음을 발생시킬 수 있다. 또한, 제어부(300)는 구동부가 작동하지 않도록 구동부에 정지 신호를 인가한다.
정지 신호를 입력 받은 구동부는 정지 상태를 유지한다. 이에 따라 출입구는 개방 상태를 유지할 수 있다.
다음으로 도 1 내지 도 5를 참고하여 본 실시예에 의한 작용을 설명한다.
먼저, 챔버(1) 내부로 웨이퍼를 반송하기 위해 구동부가 작동하여 도어(31)가 출입구를 개방한다. 출입구가 개방되면 챔버(1) 내부로 웨이퍼가 반송된다. 이때 도어 센서(120)의 발광부에서 조사된 광이 출입구를 출입하는 웨이퍼(W)에서 반사되어 수광부(113)에 입광 된다. 입광 각도가 웨이퍼(W)에서 반사되어 입력되면 회로부는 그 신호를 제어부(300)에 인가한다. 제어부(300)는 구동부가 정지하도록 신호를 인가한다. 웨이퍼가 출입구를 출입하고 있으므로 도어는 개방 상태를 유지한다.
출입구를 통해 챔버(1) 내부로 반송된 웨이퍼(W)는 홀더(2)의 안치부(21)에 놓인다. 이때 웨이퍼(W)가 안치부(21)에 정확하게 놓이면 챔버 센서(110)의 발광부(112)에서 조사된 광은 내부 바닥면(11)에 반사되어 수광부(113)로 입광 된다. 이때 회로부는 제어부(300)에 신호를 인가하지 않는다. 이에 따라 구동부가 작동하여 도어(31)가 출입구를 폐쇄할 수 있다. 출입구가 폐쇄되면 챔버(1) 내부에서 웨이퍼의 제조 공정이 이루어진다.
한편, 웨이퍼(W)가 안치부(21)에 정확하게 위치하지 않고, 안치부(21)를 벗어나게 되면, 안치부(21)에서 벗어난 웨이퍼(W)와 근접된 챔버 센서(110)의 발광부(112)에서 조사된 광이 웨이퍼(W)에 반사되어 수광부(113)에 입광된다. 이때 회로부는 수광부(113)에 입광된 각도가 내부 바닥면(11)에서 반사된 입광 각도와 다르므로 제어부(300)에 신호를 인가한다. 신호를 입력 받은 제어부(300)는 경보음을 발생시킨다. 그리고 구동부에 정지 신호를 인가한다. 정지 신호를 입력 받은 구동부는 정지된다. 이에 따라 출입구는 개방된 상태를 유지하고 있다. 이에 따라 챔버(1) 내부에서는 웨이퍼(W)의 제조 공정이 진행되지 않고 정지된 상태를 유지한다.
이후, 웨이퍼 반출 장치(도시하지 않음), 웨이퍼 위치 보정 장치(도시하지 않음)가 작동하여 웨이퍼를 정 위치에 위치시킨다. 또는 웨이퍼를 챔버 내에서 외부로 반출할 수 있다.
웨이퍼(W)가 정 위치에 위치하면 발광부(112)에서 조사된 광이 내부 바닥면(11)에 반사되어 수광부(113)에 입광될 수 있다. 입광 각도가 내부 바닥면(11)에서 반사된 입광 각도이므로 회로부는 제어부에 신호를 인가하지 않는다. 이에 따라 구동부는 구동하여 도어(31)가 출입구를 폐쇄하도록 한다. 출입구가 폐쇄되면 챔버(1) 내부에서 웨이퍼의 제조 공정이 이루어진다.
본 발명의 또 다른 실시예는, 도 1 내지 도 5을 참고하여 설명한 실시예의 구성 요소를 대부분 가진다. 다만 본 실시예는 스테이지가 생략된다. 이때 챔버 센서(110)들은 도 6에서 도시한 바와 같이 챔버(1)의 커버(12)에 직접 결합된다. 이외 다른 구성은 도 1 내지 도 5의 실시예의 구성이 그대로 적용될 수 있다.
참고로 위 설명과 도면에서는 본 발명의 웨이퍼 정 위치 감지 장치가 반도체를 제조하는 웨이퍼의 정 위치를 감지하는 것으로 설명하였지만, 본 발명의 웨이퍼 정 위치 감지 장치 적용분야는 이에 한정되지 않고 제조물의 정 위치를 감지하는 구조라면 얼마든지 적용될 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
W: 웨이퍼 1: 챔버
11: 내부 바닥면 12: 커버
2: 홀더 21: 안치부
3: 게이트 밸브
31: 도어 32: 커버
100: 센서 110: 챔버 센서
120: 도어 센서 111, 121: 케이싱
112, 122: 발광부 113, 123: 수광부
200: 스테이지 210: 레일 홈
230: 흡착부
300: 제어부
L1: 내부 바닥면에서 반사된 입광
L2: 웨이퍼에서 반사된 입광

Claims (6)

  1. 수광부와 발광부를 가지며 챔버 내에 위치한 웨이퍼의 위치를 감지하는 챔버 센서들 및 상기 챔버의 도어를 구동하는 구동부와 상기 챔버 센서들을 제어하는 제어부를 포함하며,
    상기 챔버 센서는, 상기 챔버의 중심을 기준으로 상기 웨이퍼의 최 외곽을 따라 기설정된 간격으로 배열되어 있으며, 상기 챔버 센서는 상기 챔버 내부로 반송된 상기 웨이퍼가 정 위치에 위치하지 않으면 이를 감지하여 상기 제어부에 신호를 인가하고, 상기 챔버 센서의 신호를 입력 받은 상기 제어부는 상기 도어가 닫히지 않도록 상기 구동부를 제어하는
    웨이퍼 정 위치 감지 장치.
  2. 제1항에서,
    상기 챔버 내부에는 상기 웨이퍼가 놓이는 홀더가 상기 웨이퍼의 최 외곽을 따라 복수로 배열되어 있고,
    상기 홀더와 떨어져 있고, 상기 웨이퍼의 최 외곽을 따라 상기 챔버 센서들을 지지하는 스테이지가 배치되어 있으며,
    상기 챔버 센서는 이웃한 상기 홀더 사이에 위치하는
    웨이퍼 정 위치 감지 장치.
  3. 제1항에서,
    상기 도어 배치되어 있고, 상기 도어를 출입하는 웨이퍼를 감지하는 도어 센서를 더 포함하는 웨이퍼 정 위치 감지 장치.
  4. 제3항에서,
    상기 챔버 센서 및 상기 도어 센서는 상기 웨이퍼에 스폿광을 조사하여 상기 웨이퍼로부터 반사되는 반사광의 각도 차이를 감지하는 거리설정 반사형 광센서인 웨이퍼 정 위치 감지 장치.
  5. 제2항에서,
    상기 스테이지와 상기 챔버 사이에 위치한 흡착부를 더 포함하는 웨이퍼 정 위치 감지 장치.
  6. 제1항에서,
    상기 챔버 센서들은 4개로 형성되고, 상기 4개의 챔버 센서들은 90° 간격으로 배치되어 있는 웨이퍼 정 위치 감지 장치.
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