KR20150003402A - 개구 채널을 가진 uv 수처리 설비용 혼합장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 개방 채널을 구비한 수처리 설비용 혼합 장치에 관한 것으로, 채널의 벽에 부착하기 위하여 판-형상 또는 스트립-형상으로 형성되는 베이스 본체(2)를 구비하고, 상기 베이스 본체(2)는 작동중 상기 채널의 벽을 향하는 하부 면(6)과 작동중 상기 채널의 벽 반대편을 향하는 상부 면(5)을 가지는, 수처리 설비용 혼합장치로서, 상기 베이스 본체(2)로부터 연장되어, 상기 상부 면(5) 방향으로 및 상기 하부 면(6)에 반대 방향으로 기울어진 복수의 돌출부(3)들이 구비되고, 두 개의 인접한 상기 돌출부(3)들 사이에 각각 배치되는 복수의 리세스(4)들이 구비되는 것을 특징으로 한다.

Description

개구 채널을 가진 UV 수처리 설비용 혼합장치{MIXING DEVICE FOR OPEN-CHANNEL UV WATER TREATMENT PLANTS}

본 발명은 청구항 1의 전제부의 혼합 장치 및 청구항 8의 전제부의 UV 수처리 설비에 관한 것이다.

오랜 동안 UV 조사는 살균 효과를 가지며 태양광에서 자연적으로 발생하는 UV 조사는 충분한 세기와 수명의 살균 효과를 가지는 것으로 알려져 있다. UV 조사는 물과 폐수의 살균을 위한 작고 큰 설비에 사용된다. UV 이미터(emitter)들이 폐쇄 채널에 배치되는 설비들과 UV 이미터들이 개방 채널로서 알려진 상부에서 개방된 채널들에 배치된 설비 사이를 구분할 수 있다.

개방 채널을 가진 제2의 구성 유형은 먼저 폐수 기술에서 사용된다. 정화된 폐수는 개방 채널을 통해 UV 시스템으로 안내되어 세균들의 수를 예컨대 정화된 폐수가 정상적인 물로 배출될 수 있는 레벨로 감소시키도록 UV 조사에 노출된다. 살균 레벨은 세면용 물로 배출될 수 있는 정도로 높을 수 있다. 폐수 처리 설비는 정상적으로 물이 여러 다른 처리 레벨을 통해 펌프의 필요 없이 단지 중력의 힘에 의해 입구로부터 출구로 흐르도록 구성된다. 이러한 이유로서, 폐수 처리 기술의 UV 처리 시스템에서 역시, 목적은 기대되는 관통 흐름 속도로부터 가능한 작은 압력 손실을 달성하도록 흐름 저항을 가능한 낮게 유지하는 것이다. 설비의 동작에서, 이러한 유형의 압력 손실은 입구의 물 레벨과 출구의 물 레벨 사이의 높이 차이로서 그 자체가 보여질 것이다. 목적은 가능한 낮게 이러한 높이 차이를 유지하는 것이다.

그렇지 않으면, 시스템의 살균 성능은 보장되어야 하며, 시스템의 유효성 수준은 달성된 살균과 사용된 전력 사이의 비로서 표현된다. 이러한 정도의 유효성은 경제적인 이유로서 최적화되어야 한다. 이러한 이유로서, 일반적으로 연장된 가스 배출 램프인 UV 이미터들은 채널에, 바람직하게 흐름을 가로지르는 열로 배치된다. 여러 열들이 연달아서 배치되고 서로 치우치므로 일 열의 이미터들은 상류에 배치된 열의 이미터들 사이의 중심에 배치된다. 제1 이미터들 사이로 흐르는 물은 이어서 갭 후방의 중심에 있는 후속 이미터에 충돌할 것이다. 이러한 배치에 의해 다른 열들의 이미터들과 채널의 횡방향, 인접한 벽 사이에 다른 공간들이 발생한다. 이미터와 채널 벽 사이의 큰 갭 영역에서, 조사 양은 다른 영역에서보다 더 작다. 이러한 효과는 실제 발생하는 각각의 흐름 경로가 충분하고, 가능하다면, 균등한 양의 UV를 수용하도록 보충되어야 한다.

종래 기술에서는 이에 대한 여러 다른 솔루션들이 알려져 있다. 기본적으로, 공지 솔루션들은 여러 다른 단면의 연속적인 비임-형상의 부재들이 인접한 UV 이미터와 채널 벽 사이의 공간을 감소시키는 채널 벽 위에 배치되어, 그 갭을 감소시키는 것에 기초한다. 특정 공보에서, 4개의 UV 이미터들이 각각 흐름 방향으로 연이어서 배치되는 4개의 열을 가진 채널을 도시하며, 흐름은 그 길이방향 축을 가로질러 이미터들을 통과한다. 개방 채널에서, 그러므로 이미터들은 수직으로 배치된다. 삼각형 단면의 리브가 벽으로부터 가장 먼 이미터 다음에 배치되고, 이 리브는 물이 그를 관통하여 자유로이 흐를 수 있는 벽과 이미터 사이의 갭 단면을 좁힌다. 공보 WO 2008055344 A1은 삼각형 단면을 가진 리브들과 같이 또한 작용하는 여러 다른 솔루션들을 도시하며, 여기서 리브들은 한편으로 자유 단면을 좁히고 다른 한편 흐름을 편향시킨다.

공보 EP 0893411B1은 L-형상의 프로파일이 채널의 벽에 횡방향으로 배치되고 여기서, UV 이미터들이 채널 벽들로부터 에지에 가장 근접한 영역에서 UV 이미터들의 열들이 서로 뒤에 배치되고 서로에 대해 치우쳐 배치된다. 이 영역에서 물 흐름을 기본적으로 완전히 편향시킨다. 여기서의 목적은 에지 영역에서 물 흐름을 벽으로부터 일 정 거리에 배치된 이미터로 완전히 전환하는 것이다.

그러므로 설명된 기술적 솔루션들은 채널을 통해 흐르는 폐수 또는 물의 흐름 경로에 큰 영향을 미치므로 이미터가 채널의 인접 벽으로부터 더 큰 거리에 있는 영역에 도달하면 조사 세기는 더 커진다. 실제로, 이는 두 가지 문제들을 발생한다. 한편으로, 채널 벽을 따라 인접한 이미터의 전 길이에 걸쳐 동일한 형상의 단면으로 연장되는 설비에 의해 흐름 경로들의 완전한 편향이 채널의 자유 단면을 좁히고, 따라서 채널 시스템의 상류측과 채널 시스템의 하류측 사이의 압력 손실이 증가한다. 다른 한편, 이들 설비 영역에서 흐름이 가속되고, 따라서 흐름 경로들이 세기가 더 큰 영역에서 편향되나, 이 영역에서 소비된 시간은 더 짧아진다. 흐름 경로에 적용된 UV 양을 증가시키는 목적은 이와 같이 적절하게 달성되지 않는다.

따라서 본 발명의 목적은 서로 오프셋되어 배치되는 열을 이루는 UV 이미터들을 구비한 시스템들의 에지를 따라 흐르는 흐름 경로의 분산을 최적화하는 UV 수처리 설비에서 흐름에 충격을 주는 장치를 제공하는 것이다. 또한 본 발명의 추가적인 목적은 특히 양호한 효능을 가진 UV 살균이 달성됨과 동시에 상류측과 하류측 사이의 압력 손실이 가능한 작은 UV 수처리 설비를 제공하는 것이다.

상기 목적은, 청구항 1의 특징을 가지는 장치 및 청구항 8의 특징을 가지는 설비에 의해 달성된다. 본 발명의 혼합 장치는, 작동중 채널의 자유 단면으로 연장된 복수의 돌출부들을 가지고 흐름 방향으로 돌출부들 사이에 물이 자유로이 흐를 수 있는 단면의 리세스가 구비되어, 그리고 돌출부와 리세스 사이의 흐름 방향으로 유효 면적 비율이 ≤ 1 으로, 거기에 충격을 주는 흐름은 돌출부들의 모든 측면들과 접촉하고 특히 리세스들을 관통하는 흐름에 충격을 가하므로, 흐름 속도를 음의 영역으로 증가시키지 않고 리세스들의 하류에서 유효 레벨의 와류와 입자들의 재분포가 달성되며, 동시에 혼합 장치를 따라 단지 약간의 흐름 저항이 증가하는데, 이는 동작에서 무시할 정도이며, 특히 설비의 상류측과 하류측 사이의 압력의 큰 저하를 발생하지 않는다.

본 발명에 따른 UV 수처리 설비에서 혼합 장치에는 흐름 방향에 대해 채널 벽으로부터 일정 거리에서 오프셋되는 UV 이미터들 전 또는 바로 인접하여 돌출부들과 리세스가 구비되므로, 혼합 장치는 UV 이미터의 길이방향 축에 기본적으로 평행하게 연장되고, 흐름 경로들의 혼합이 인접 이미터 바로 다음에서 생성되며, 이러한 혼합에 의하여 이들 흐름 경로들에 함유된 병원성 세균들이 확실히 분배된다. 채널 근처에서 흐름 경로에 운반된 세균들은 UV 이미터들에 더욱 인접하여 가이드된다. 중요한 것은 전체 흐름 속도가 거의 증가하지 않으며 단지 압력이 조금 감소한다는 사실이다. 종래 기술에 비해 감소된 흐름 속도에 의해 존재하는 병원균에 대한 더 높은 UV 양이 필요하며, 이는 살균에 필요한 UV 양이 근본적으로 조사 면적에 소비된 양의 시간과 세기의 곱이기 때문이다. 조사 면적에 소비된 시간의 양은 흐름 속도가 감소함에 따라 증가한다.

특히 상기 목적은, 개방 채널을 구비한 수처리 설비용 혼합 장치로서, 채널의 벽에 부착하기 위하여 판-형상 또는 스트립-형상으로 형성되는 베이스 본체를 구비하고, 상기 베이스 본체는 작동중 상기 채널의 벽을 향하는 하부 면과 작동중 상기 채널의 벽 반대편을 향하는 상부 면을 가지는, 수처리 설비용 혼합장치에 있어서, 상기 베이스 본체로부터 연장되어, 상기 상부 면 방향으로 및 상기 하부 면에 반대 방향으로 기울어진 복수의 돌출부들이 구비되고, 두 개의 인접한 상기 돌출부들 사이에 각각 배치되는 복수의 리세스들이 구비되는 것을 특징으로 하는 수처리 설비용 혼합장치에 의해 달성된다.

돌출부들은 바람직하게는 베이스 본체과 일체로 스테인레스강의 단일 부재로부터 형성된다.

또한 돌출부들과 리세스들이 직선으로 서로 인접하여 배치되면 효과적이다. 이러한 구성은 예컨대 펀칭과 벤딩을 이용하여 특히 제조가 간단하다.

또한 돌출부들의 전체 면적이 리세스들의 전체 면적과 같거나 더 작으면 처리될 물의 흐름 방향으로 돌출부에서의 낮은 흐름 저항에 바람직하다. 특히, 모든 돌출부들이 같은 크기이며 각 돌출부의 면적이 인접 리세스의 면적과 같거나 더 작을 수 있다.

돌출부들이 베이스 본체의 두께와 같은 두께를 가지면 간단한 부품이 제조될 수 있다.

돌출부 각각이 측면 에지와 전방 에지에 의하여 형성되면, 특히 양호한 기능, 즉 흐름 저항이 작은 양호한 혼합이 달성되므로, 측면 에지의 길이는 2mm 내지 45mm 이며, 바람직하게는 20mm 내지 30mm 이고, 특히 25mm이다. 전방 에지의 길이는 2mm 내지 100mm 고 바람직하게는 25mm 내지 50mm 이며, 특히 40mm이다.

상기 목적은 또한, 상부가 개방된 채널과 상기 채널에 배열된 복수의 길다란 튜브-형상의 UV 이미터들을 포함하는 UV 수처리 설비로서, 상기 채널은 두 개의 측벽 및 베이스 벽을 가지고, 상기 UV 이미터들은 상기 측벽에 평행하고 상기 베이스 벽에는 평행하지 않도록 구성되는, UV 수처리 설비에 있어서, 복수의 돌출부를 구비한 적어도 하나의 혼합 장치가 이미터들에 평행한 하나의 측벽에 배치되며, 상기 돌출부는 작동중 상기 채널의 자유 단면으로 돌출되는 것을 특징으로 하는 UV 수처리 설비에 의해 달성된다.

바람직하게는 각각의 경우에 흐름 방향으로 두 개의 돌출부들 사이에 물이 관통하여 흐르는 단면인 하나의 리세스가 구비된다.

리세스들의 대응 면적에 대한 흐름 방향에서의 유효 돌출부의 면적의 면적 비율이 1과 같거나 작으면 압력 손실이 작은 채널 에지에서 흐르는 물의 특히 양호한 혼합이 이루어진다.

상기 적어도 하나의 혼합 장치는 바람직하게 흐름 방향으로 인접한 UV 이미터들 앞 또는 바로 인접하는 상류에 배치된다.

하기의 도면들을 기초로 본 발명의 실시예들이 도시되며:
도 1은 직사각형 돌출부들을 구비한 혼합 장치의 사시도이며;
도 2는 개방 채널을 구비한 UV 수처리 설비와 내부에 장착된 혼합 장치이며; 및,
도 3은 시물레이션 흐름 경로들을 구비한 도 2로부터의 수처리 설비의 수평 단면도이다.

도 1은 본 발명에 따른 혼합 장치의 사시도이다. 혼합 장치(1)는 길다란 판-형상의 베이스 본체(2)와 이러한 베이스 본체로부터 연장되는 돌출부(3)들을 가진다. 돌출부(3)들은 그들 사이의 리세스(4)들에 의해 서로 떨어져 있다.

특히, 베이스 본체(2)는 금속 스트립으로 형성된다. 이는 상부 면(5)과 도 1에 도시되지 않은 하부 면(6)을 가진다. 베이스 본체(2)는 수처리 장치의 채널 벽에 혼합 장치(1)를 부착하기 위하여 사용되는 전체 6개의 길다란 홀(7)들에 의해 천공된다. 돌출부(3)는 베이스 본체(2)에 일체로 연결되고 상부 면(5)의 평면에 대해 상향으로 각도를 형성한다. 돌출부(3)는 측면 에지(8)와 전방 에지(9)를 가진다. 측면 에지(8)는 서로 평행하게 연장되고 전방 에지(9)는 측면 에지(8)에 대해 거의 직각으로 연장되어 이들을 서로 연결한다. 기본적으로 직사각형 돌출부(3)가 생성된다.

돌출부(3)들 사이에는 리세스(4)가 배치된다. 리세스는 돌출부(3)의 측면 에지(8)들에 의해 형성된다. 하부 에지(10)는 베이스 본체(2)로부터 리세스(4)를 형성한다. 전체적으로, 길다란 본체(2)의 길이에 걸쳐 규칙적으로 돌출부(3)와 리세스(4)가 형성되어, 돌출부(3)들은 들쭉날쭉하게 베이스 본체(2)의 상부 면(5) 위로 연장되어 있다.

실제로, 혼합 장치는 금속 스트립으로 제조되고, 그 폭은 베이스 본체(2)의 폭과 측면 에지(8)의 폭의 합에 대응한다. 이어서 돌풀부(3)를 형성하기 위하여 금속 스트립으로부터 리세스(4)들이 절단된다. 이어서 이와 같이 생성된 돌출부(3)는 도 1에 도시된 바와 같이 상부 면(5)의 평면으로부터 위를 향하여 거의 직각으로 굽혀진다.

리세스(4)들의 영역에서, 베이스 본체(2)는 완전 평평하므로, 두 개의 인접 돌출부(3)들 사이로 베이스 본체(2)의 상부 면(5)을 지나 위로 연장되는 부분이 없다. 이 실시예에서, 측면 에지(8)들은 전방 에지(9)와 하부 에지(10)에 직각으로 향해지며, 면적 비율은 하부 에지(10)에 대한 전방 에지(9)의 길이 비율로 정해진다. 전방 에지(9)와 하부 에지(10)의 길이가 같으면 돌출부(3)와 리세스(4) 사이의 면적 비율은 1:1이다. 도 1에 따른 혼합 장치는 작동중 채널 벽 위에 하부 면(6)이 위치되고 화살표(11) 방향의 흐름에 의해 고정되므로, 이 비율이 또한 흐름 저항을 결정한다. 가능한 낮은 흐름 저항을 위해서는, 돌출부(3)의 면적이 리세스(4)의 면적보다 작거나 같은 것이 바람직하며, 즉, 직사각형 돌출부(3)와 리세스(4)의 경우, 전방 에지(9)의 길이가 하부 에지(10)의 길이보다 작거나 같은 것이 바람직하다.

측면 에지(8)의 길이는 돌출부(3)가 물의 흐름으로 돌출되는 크기를 결정하여 와류를 생성한다. 측면 에지(8)는 현재 45mm의 길이를 넘지 않는 것이 바람직하며, 20mm 내지 25mm 길이를 가지는 것이 더 바람직하다.

도 1의 직사각형, 시멘트-형상의 구조에서 변형된 혼합 장치의 다른 구조가 또한 고려된 수 있다. 돌출부는 또한 도시되지 않았지만 사다리형 또는 삼각형일 수 있다. 돌출부들 사이의 리세스는 이에 상보적인 형상을 가진다. 돌출부들과 리세스들 사이의 면적 비율은 기하학적 형상에 무관하게 1과 같거나 그보다 작은 것이 중요하다.

도 2는 UV 수처리 설비의 사시도이다.

설비는 측벽(16)들과 베이스벽(17)을 가지고 상향으로 개방된 채널(15)을 가진다. 작동중 물이 관통하여 흐르는 채널(15)에는, 많은 UV 이미터(19)들을 포함하는 이미터(18) 장치가 제공된다. 이미터(19)의 구조는 공지되어 있다. 이는 UV 수은 저압 이미터들이다. 도 2에서, 물은 화살표(11) 방향으로 후방으로부터 전방으로 설비를 관통하여 흐른다.

복수의 이미터(19)들이 설비에 제공되어 높은 조사 강도를 달성한다. 구체적으로, 도 2의 장치는 전체 24개의 이미터(19)를 포함한다. 이미터들은 각각 흐름 방향(11)을 가로질러 향하는 6개의 이미터들을 가지는 열들이다. 6개의 이미터들의 전체 4열이 흐름 방향(11)으로 연달아 제공된다. 그러므로, 도 2에서 흐름 방향으로 최종 4개의 열들이 도시되어 있다. 이들 최후의 열들의 전체 6개의 이미터(19)들 중에서 도 2에는 5개만 보이고 가장 좌측의 이미터는 사시도의 측벽(16)에 의해 가려져 있다.

도 2의 우측의 이미터(19)는 인접 측벽(16)으로부터 비교적 큰 거리에 있다. 도 1에서 이미 설명되었던 혼합 장치(1)는 이 공간에 배치된다.

혼합 장치(1)는 측벽(16)의 내면 위에 이미터(19)의 길이방향 축에 평행하게 부착되고, 하부 면(6)은 측벽(16)에 인접한다. 상부 면(5)은 이미터(19)들을 향하여 경사져 있다. 측벽(16)으로부터 수직인 돌출부(3) 또한 이미터들을 향하여 경사져 있다. 그러므로 돌출부(3)는 채널(15)의 내부를 향하여 돌출된다.

도 2에서 UV 수처리 설비는 개별적인 이미터들이 흐름 방향에 대해 각을 형성하는 UV 이미터(19)들의 구조를 보여준다. 혼합 장치(1)는 정확하게 이러한 각도에서 측벽(16)에 부착된다. UV 수처리 장치의 정밀한 구조는 도 2의 III-III선을 따라 수평 길이방향 단면을 도시하는 도 3을 참조하여 이하에 설명된다.

도 3은 도 2의 III-III선에 따른 수평 길이방향 단면도이다. 측벽(16)을 가진 채널(15)은 흐름 경로의 구획부로 도시되어 있고, 물이 수처리 설비를 통해 흐름 방향(11)으로 흐른다. 각각 6개의 이미터들을 가진 4개의 열이 흐름 방향(11)으로 배치된다. 상류 열은 6개의 이미터(21)들을 포함하고, 제2 열은 6개의 이미터(22)들을 포함하고, 흐름 방향으로 제3 열은 6개의 이미터(23)들을 포함하고, 최후 열은 도 2에 이미 도시된 이미터(19)들을 포함한다.

이미터(21)들은 채널(15)의 폭에 걸쳐 균등하게 분포되어 있지 않다. 오히려, 이 열의 6개의 이미터(21)들은 서로 균등하게 이격되어 있으나, 흐름 방향(11)에 대해 다소 좌측으로 치우쳐 있으며, 달리 말하면 도 3의 상부 방향으로 치우쳐 있으며, 따라서 흐름 방향으로 좌측에 있으며 도 3의 상부에 있는 이미터(21)가, 흐름 방향으로 우측에 있고 도 3의 바닥에 있는 이미터(21)보다 측벽(16)에 근접하여 장착된다. 따라서, 흐름 방향으로 우측에 있는 이미터(21)와 측벽(16) 사이에 혼합 장치(1)가 배치되는 갭이 있다.

제2 열의 이미터(22)들도 유사한 방식으로 구성된다. 이미터(22)들은 서로 균등하게 이격되어 있다. 그러나, 이미터들은 흐름 방향에 대해 우측으로 치우쳐 있으며, 따라서 도 3의 바닥에 도시된 우측 이미터(22)는 흐름 방향으로 좌측에 있는 도 3의 상부에 배치되는 이미터(22)보다 채널(15)의 측벽(16)에 더 근접하게 배치된다.

따라서, 도 3의 상부에 있는 이미터(22)와 채널(15)의 측벽(16) 사이에 다시 내부에 혼합 장치(1)가 배치되는 갭이 있다.

일 측면의 이미터(21)와 다른 측면의 이미터(22)들의 열의 위에 설명된 바와 같은 오프셋은 두 열의 서로에 대한 디자인을 형성하는데, 여기서 이미터(22)는 두 개의 상류 이미터(21)들 사이에 발생된 갭의 후방 중심에 배치된다. 이와 같이, 살균을 위한 특히 안전한 배치가 생성된다. 이미터(21)들 사이로 통과하는 입자들은 거의 중심에서 이미터(21)에 충돌할 것이다. 이들 입자들이 이미터(21)들 사이로 통과하면서 비교적 적은 양의 UV를 수용하면, 이어지는 이미터(22)를 통과할 때 더 높은 양의 조사를 불가피하게 수용할 것이다. 물을 교란함으로써, 이미터와 측벽 사이의 갭에서 혼합 장치(1)는 살균을 향상시키며, 입자들이 낮은 UV 강도를 경험하는 벽 근처에 흐름 경로들이 형성될 수 없다. 혼합 장치는 또한 흐름 방향(11)으로 물 흐름의 경로들의 큰 편향은 발생하지 않으며, 따라서 이 영역에서 감소된 UV 양을 초래하는 흐름의 파괴적인 가속은 없다.

다른 이미터(23 및 19)들의 배치는 상기한 이미터(21 및 22)들에 대응한다. 이미터(23)들은 흐름 방향에 대해 좌측으로 치우쳐 있고, 이미터(19)들은 우측으로 치우쳐 있다. 두 개의 혼합 장치(1)들이 측벽(16)들에 형성된 갭들에 장착되는데, 각 이미터 열에 대해 하나의 혼합 장치가 배치된다.

Claims (11)

1. 개방 채널을 구비한 수처리 설비용 혼합 장치로서, 채널의 벽에 부착하기 위하여 판-형상 또는 스트립-형상으로 형성되는 베이스 본체(2)를 구비하고, 상기 베이스 본체(2)는 작동중 상기 채널의 벽을 향하는 하부 면(6)과 작동중 상기 채널의 벽 반대편을 향하는 상부 면(5)을 가지는, 수처리 설비용 혼합장치에 있어서,
   상기 베이스 본체(2)로부터 연장되어, 상기 상부 면(5) 방향으로 및 상기 하부 면(6)에 반대 방향으로 기울어진 복수의 돌출부(3)들이 구비되고, 두 개의 인접한 상기 돌출부(3)들 사이에 각각 배치되는 복수의 리세스(4)들이 구비되는 것을 특징으로 하는 수처리 설비용 혼합장치.
2. 제1항에 있어서,
   상기 돌출부(3)들은 상기 베이스 본체(2)와 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 혼합장치.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   상기 돌출부(3)와 상기 리세스(4)들은 직선으로 서로 인접하여 배치되는 것을 특징으로 하는 혼합장치.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 돌출부(3)들의 전체 면적은 상기 리세스(4)들의 전체 면적과 같거나 더 작은 것을 특징으로 하는 혼합장치.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 돌출부(3)들은 동일한 크기을 가지고, 각 돌출부(3)의 면적은 인접한 리세스(4)의 면적과 같거나 더 작은 것을 특징으로 하는 혼합장치.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 돌출부(3)는 상기 베이스 본체(2)의 두께와 같은 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 혼합장치.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 돌출부(3)는 각각 측면 에지(8)와 전방 에지(9)에 의해 형성되고, 상기 측면 에지(8)의 길이는 2mm 내지 45mm 이며, 상기 전방 에지(9)의 길이는 2mm 내지 100mm 인 것을 특징으로 하는 혼합장치.
8. 상부가 개방된 채널(15)과, 상기 채널(15)에 배열된 복수의 길다란 튜브-형상의 UV 이미터(19, 20, 21, 22)들을 포함하는 UV 수처리 설비로서, 상기 채널은 두 개의 측벽(16) 및 베이스 벽(17)을 가지고, 상기 UV 이미터들은 상기 측벽(16)에 평행하고 상기 베이스 벽(17)에는 평행하지 않도록 구성되는, UV 수처리 설비에 있어서,
   복수의 돌출부(3)를 구비한 적어도 하나의 혼합 장치(1)가 이미터(19, 20, 21, 22)들에 평행한 하나의 측벽에 배치되며, 상기 돌출부(3)는 작동중 상기 채널의 자유 단면으로 돌출되는 것을 특징으로 하는 UV 수처리 설비.
9. 제8항에 있어서,
   흐름 방향(11)에서 볼 때, 각각의 두 개의 돌출부(3) 사이에는, 물이 자유로이 관통하여 흐를 수 있는 단면을 가지는 리세스(4)가 제공되는 것을 특징으로 하는 UV 수처리 설비.
10. 제9항에 있어서,
    흐름(11) 방향으로 유효한 상기 돌출부(3)와 리세스(4) 사이의 면적비는 1과 같거나 1보다 작은 것을 특징으로 하는 UV 수처리 설비.
11. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 혼합 장치(1)는, 흐름 방향(11)에 대해 인접한 UV 이미터(19, 20, 21, 22)들 전 또는 바로 옆의 상류에 배치되는 것을 특징으로 하는 UV 수처리 설비.

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