KR20150002222U - 립스틱블록을 이용한 립스틱 제조 공정 및 립스틱블록 - Google Patents
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Abstract
본 고안은 립스틱블록을 이용한 립스틱 제조 공정 및 립스틱블록에 관한 것이다. 보다 상세하게는 커버부재와 커버몰드 및 립스틱몰드로 구성된 립스틱블록에 립스틱 원료를 냉각 성형한 후 커버부재를 분리시킬 때 성형된 립스틱 표면에 스크래치 현상이 발생되지 않도록 하는 립스틱블록을 이용한 립스틱 제조 공정 및 립스틱블록에 관한 것이다.
이를 실현하기 위한 본 고안은 커버부재와 립스틱몰드 및 커버몰드가 결합되어 형성된 립스틱블록단계(S10);립스틱몰드에 수용된 탄성몰드에 립스틱 원료를 충전하는 립스틱원료충진단계(S20); 립스틱원료를 냉각하여 립스틱을 성형하는 립스틱냉각단계(S30); 립스틱블록에 마련된 커버부재를 분리하는 커버분리단계(S40)로 공정이 이루어져 있다.
한편 립스틱이 성형되는 탄성몰드(111)를 수용하는 립스틱몰드(112)를 포함하는 립스틱블록(100)에 있어서, 상기 탄성몰드(111) 상측 가장자리와 동일한 지름으로 하여 가압할 수 있는 가압링(113a)을 갖는 커버몰드(113); 상기 커버몰드(113) 상측에 조립되는 커버부재(114)로 구성된 특징이다.
이를 실현하기 위한 본 고안은 커버부재와 립스틱몰드 및 커버몰드가 결합되어 형성된 립스틱블록단계(S10);립스틱몰드에 수용된 탄성몰드에 립스틱 원료를 충전하는 립스틱원료충진단계(S20); 립스틱원료를 냉각하여 립스틱을 성형하는 립스틱냉각단계(S30); 립스틱블록에 마련된 커버부재를 분리하는 커버분리단계(S40)로 공정이 이루어져 있다.
한편 립스틱이 성형되는 탄성몰드(111)를 수용하는 립스틱몰드(112)를 포함하는 립스틱블록(100)에 있어서, 상기 탄성몰드(111) 상측 가장자리와 동일한 지름으로 하여 가압할 수 있는 가압링(113a)을 갖는 커버몰드(113); 상기 커버몰드(113) 상측에 조립되는 커버부재(114)로 구성된 특징이다.
Description
본 고안은 립스틱블록을 이용한 립스틱 제조 공정 및 립스틱블록에 관한 것이다. 보다 상세하게는 커버부재와 커버몰드 및 립스틱몰드로 구성된 립스틱블록에 립스틱 원료를 냉각 성형한 후 커버부재를 분리시킬 때 성형된 립스틱 표면에 스크래치 현상이 발생되지 않도록 하는 립스틱블록을 이용한 립스틱 제조 공정 및 립스틱블록에 관한 것이다.
립스틱 제조 장치는 실리콘이나 고무 등의 '탄성몰드의 개구부에 립스틱 용기를 꽂은 상태에서 상기 용기의 후단부에 형성되는 충진구를 통해 용융상태의 립스틱 원료를 탄성몰드의 내부공간에 충전한 후 이를 냉각하여 고형화 된 립스틱을 얻는 공정을 거치는 것이 일반적이다.
이와 같은 종래 립스틱 제조 장치는 립스틱이 적정 수준으로 고형화된 후에는, 1차적으로는 립스틱블록에 마련된 커버부재를 분리시킨 뒤 2차적으로는 립스틱몰드에 수용된 탄성몰드로부터 립스틱을 분리하는 공정으로 이루어진다.
그러나 첨부도면 도1a과 도1b 내지 도 2에 도시된 바와 같이 상기 1차적으로 커버부재(1)를 분리장치(2)로 승강시켜 분리할 때 커버부재(1)의 립스틱 삽입공(1a)과 립스틱(R)의 외주연부와 소정의 간격(S1)으로 이격되어 있고 탄성몰드(3)와 상측면과 커버부재(1)의 하측면이 소정의 간격(S2)로 공간이 형성되어 있어 커버부재(1)가 상승하면 탄성몰드(3)는 고정시키는 구속 물체가 없기 때문에 어느 한 방향으로 기울어져 있게 된다.
따라서 탄성몰드(3)가 어느 한 방향으로 기울어지게 되면 상승하는 커버부재(1) 내주연부와 립스틱(R)의 외주연부가 접촉되면서 립스틱(R)의 연질표면에 스크래치가 발생되거나, 글씨 등이 양각된 경우 이것이 손상되는 일이 빈번하게 발생하는 문제점이 있다.
본 고안은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로 립스틱이 성형되는 탄성몰드를 커버몰드에 마련된 가압링으로 가압시켜 탄성몰드가 임의 한 방향으로 기울지는 것을 직선으로 고정시켜 립스틱블록을 조립한 뒤 립스틱 원료를 탄성몰드에 내부공간에 충전과 냉각하여 립스틱이 고형된 후 분리장치로 커버부재만 분리하게 되면 탄성몰드가 수직으로 고정되어 있어 립스틱 표면에 스크래치 현상이 발생되지 않도록 하는 것을 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 고안은 립스틱블록을 이용한 립스틱 제조 공정은 커버부재와 립스틱몰드 및 커버몰드가 결합되어 형성된 립스틱블록단계(S10);
립스틱몰드에 수용된 탄성몰드에 립스틱 원료를 충전하는 립스틱원료충진단계(S20); 립스틱원료를 냉각하여 립스틱을 성형하는 립스틱냉각단계(S30); 립스틱블록에 마련된 커버부재를 분리하는 커버분리단계(S40)로 공정이 이루어져 있다.
한편 립스틱이 성형되는 탄성몰드(111)를 수용하는 립스틱몰드(112)를 포함하는 립스틱블록(100)에 있어서, 상기 탄성몰드(111) 상측 가장자리와 동일한 지름으로 하여 가압할 수 있는 가압링(113a)을 갖는 커버몰드(113); 상기 커버몰드(113) 상측에 조립되는 커버부재(114)로 하여 달성된다.
본 고안은 탄성몰드에서 립스틱이 고형된 후 분리장치로 커버부재만 분리하게 되면 커버몰드에 마련된 가압링이 탄성몰드를 이동하지 못하도록 제동함으로써 립스틱 표면에 스크래치 현상이 발생되지 않도록 하는 것이다.
도 1a 내지 도1b는 종래의 립스틱블록의 작용상태도.
도 2는 도1a의 a부분 확대도.
도 3은 본 고안의 립스틱블록의 제조 공정의 블록도.
도 4 내지 도 5는 본 고안의 립스틱블록의 분해사시도 및 결합 단면도.
도 6은 도 5의 b부분의 확대도.
도 7은 본 고안의 립스틱블록의 작용상태도.
도 2는 도1a의 a부분 확대도.
도 3은 본 고안의 립스틱블록의 제조 공정의 블록도.
도 4 내지 도 5는 본 고안의 립스틱블록의 분해사시도 및 결합 단면도.
도 6은 도 5의 b부분의 확대도.
도 7은 본 고안의 립스틱블록의 작용상태도.
이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
첨부도면 도 3에 도시된 바와 같이 본 고안의 립스틱 제조 공정은 커버부재와 립스틱몰드 및 커버몰드가 결합되어 형성된 립스틱블록단계(S10);
립스틱몰드에 수용된 탄성몰드에 립스틱 원료를 충전하는 립스틱원료충진단계(S20); 립스틱원료를 냉각하여 립스틱을 성형하는 립스틱냉각단계(S30); 립스틱블록에 마련된 커버부재를 분리하는 커버분리단계(S40)로 공정이 이루어 진다.
그리고 첨부도며 도 4내지 6에 도시된 바와 같이 립스틱이 성형되는 탄성몰드(111)를 수용하는 립스틱몰드(112)를 포함하는 립스틱블록(100)에 있어서, 상기 탄성몰드(111) 상측 가장자리와 동일한 지름으로 하여 가압할 수 있는 가압링(113a)을 갖는 커버몰드(113); 상기 커버몰드(113) 상측에 조립되는 커버부재(114)로 하여 구성된다.
그리고 상기 립스틱몰드(112)에는 조립되는 커버몰드(113)가 외력에 의해 이탈하지 못하도록 자성체(M)가 양측단부에 마련되어 있다.
그리고 상기 커버몰드(113)에 마련된 결합핀(113b)에 대응하여 커버부재(114)에는 결합공(114a)이 마련되어 있어 커버부재(114)가 커버몰드(112)에 결합되는 것이다.
상기와 같이 구성된 본 고안의 작용을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 본 고안의 립스틱블록에 의한 립스틱 제조 공정을 설명하면 첨부도면 도 3에서와 같이 커버부재와 립스틱몰드 및 커버몰드가 결합되어 형성된 립스틱블록단계(S10)와 립스틱몰드에 수용된 탄성몰드에 립스틱 원료를 충전하는 립스틱원료충진단계(S20)와 립스틱원료를 냉각하여 립스틱을 성형하는 립스틱냉각단계(S30) 및 립스틱블록에 마련된 커버부재를 분리하는 커버분리단계(S40)의 공정으로 되어 있다.
여기서 립스틱블록단계(S10)에서의 립스틱블록(100)의 구조를 설명하면 첨부도면 도 4 내지 6에서와 같이 립스틱몰드(112)에는 성형된 립스틱(R)이 수용된 탄성몰드(111)가 결합되어 있고, 상기 립스틱몰드(111)의 상측에는 탄성몰드(111)의 가장자리를 가압하는 가압링(113a)이 포함된 커버몰드(113)가 결합되어 있다.
이때 립스틱몰드(112)에 마련된 자성체(M) 자력에 의해 커버몰드(113)는 립스틱몰드(112)와 밀착됨과 동시에 가압링(113a)은 탄성몰드(111)를 가압하게 된다.
또한, 카버몰드(113)에는 성형된 립스틱(R)의 외주연부와 소정의 간격으로 립스틱구멍(113c)이 형성되어 있다.
한편, 커버몰드(113) 상측에 마련된 결합핀(113b)에는 커버부재(114)에 마련된 결합공(114a)이 결합되어 커버부재(114)가 커버몰드(113)에 조립되되 성형된 립스틱(R)의 외주연부와 밀착되는 립스틱리브(114b)가 형성되며, 커버부재(114)의 양측단부에는 클램프파지홈(114c)이 마련되어 있다.
그리고 상기 커버분리단계(S40)에서의 커버부재(114)의 분리되는 작용을 설명하면 첨부도면 도6 에서와 같이 리프팅수단(120)에 마련된 클램프(121)가 하강하여 커버부재(114)의 클램프파지홈(114c)을 파지한 다음 성형된 립스틱의 이탈을 방지하는 방지프레임(121)이 하강하여 복수개의 이탈방지핀(122)이 립스틱을 가압하고 이어서 클램프(121)가 커버부재(114)를 승강하게 된다.
이때 커버몰드(113)는 립스틱몰드(112)의 자성체(M)에 의해 고정되어 있기 때문에 립스틱은 좌우로 움직이지 않고 커버부재(114)에는 립스틱이 묻어나지 않는 것이다.
이상에서는 본 고안의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 또한 설명하였으나, 본 고안의 상기한 실시예에 한정되지 않고 이하 청구하는 본 고안의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안의 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능함은 물론이며, 그와 같은 변형은 본 고안의 청구범위의 기재 내에 있다 하겠다.
100: 립스틱블록 111: 탄성몰드
112: 립스틱몰드 113: 커버몰드
114: 커버부재
112: 립스틱몰드 113: 커버몰드
114: 커버부재
Claims (4)
- 커버부재와 립스틱몰드 및 커버몰드가 결합되어 형성된 립스틱블록단계(S10);
립스틱몰드에 수용된 탄성몰드에 립스틱 원료를 충전하는 립스틱원료충진단계(S20);
립스틱원료를 냉각하여 립스틱을 성형하는 립스틱냉각단계(S30);
립스틱블록에 마련된 커버부재를 분리하는 커버분리단계(S40)를 포함하는 립스틱블록을 이용한 립스틱 제조 공정. - 립스틱이 성형되는 탄성몰드(111)를 수용하는 립스틱몰드(112)를 포함하는 립스틱블록(100)에 있어서,
상기 탄성몰드(111) 상측 가장자리와 동일한 지름으로 하여 가압할 수 있는 가압링(113a)을 갖는 커버몰드(113);
상기 커버몰드(113) 상측에 조립되는 커버부재(114)로 구성된 것을 특징으로 하는 립스틱블록. - 제2항에 있어서,
상기 립스틱몰드(112)에는 조립되는 커버몰드(113)가 외력에 의해 이탈하지 못하도록 자성체(M)가 양측단부에 마련된 것을 특징으로 하는 립스틱블록. - 제2항에 있어서,
상기 커버몰드(113)에 마련된 결합핀(113b)에 대응하여 커버부재(114)에는 결합공(114a)이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 립스틱블록.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2020130009962U KR200478344Y1 (ko) | 2013-12-03 | 2013-12-03 | 립스틱블록을 이용한 립스틱 제조 공정 및 립스틱블록 |
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KR200478344Y1 KR200478344Y1 (ko) | 2015-09-22 |
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-
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