KR20140144859A - 원수분할유입과 내생탈질된 내부반송 슬러지의 분할반송을 이용한 하폐수 고도처리시스템 - Google Patents

Abstract

본 발명은 유입하수 내 유기물이 손실 없이 질소 및 인 제거반응에 사용되어 고도처리성능이 향상된 하폐수 처리시스템에 관한 것으로서, 제1무산소조, 혐기조, 제2무산소조, 호기조 및 제3무산소조가 순서대로 연결되어 위치하고, 상기 제1무산소조는 유입원수가 분할유입되는 제1분할유입라인과 상기 제3무산소조로부터의 반송슬러지가 분할내부반송되는 제1분할반송라인이 연결되고, 상기 제1무산소조로부터의 처리수가 이송되는 상기 혐기조에는 상기 유입원수가 분할유입되는 제2분할유입라인이 연결되고, 상기 혐기조로부터의 처리수가 이송되는 상기 제2무산소조에는 상기 제3무산소로부터의 반송슬러지가 분할내부반송되는 제2분할반송라인이 연결되고, 상기 호기조에는 제2무산소조로부터의 처리수가 유입되고, 처리수를 고액분리하기 위한 침지된 분리막이 장착되며, 상기 호기조로부터의 처리수가 이송되는 제3무산소조에는 슬러지 반송라인이 연결된, 하폐수의 고도처리장치를 개시한다.

Description

원수분할유입과 내생탈질된 내부반송 슬러지의 분할반송을 이용한 하폐수 고도처리시스템{ADVANCED SEWAGE TREATMENT SYSTEM USING DIVIDED INFLOW OF INFLUENT AND DIVIDED INFLOW OF ENDOGENEOUS DENITRIFIED RETURN SLUDGE}

본 발명은 하수 또는 폐수의 고도처리시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 유입하수 내 유기물이 손실 없이 질소 및 인 제거반응에 사용되어 고도처리성능이 향상된 하폐수 처리장치 및 공정에 관한 것이다.

인류생활의 산업화, 도시화는 질소와 인과 같은 영양염류의 배출량을 급격하게 증가시키면서 연안과 호소의 부영양화를 유발하여 적조와 녹조 현상을 발생시켜 수질환경을 심하게 오염시키고 있다.

현재 전국적으로 운영되고 있는 하폐수처리시설들은 거의 대부분 활성슬러지법을 기본으로 하는 2차 처리시설에 의해 운영되고 있다. 이러한 기존의 활성슬러지 공법을 적용한 시설들은 산소가 공급되는 폭기조에서 미생물의 대사과정을 통하여 하수 중의 유기물이 제거되고, 그리고 이어지는 침전조에서 중력침전에 의하여 미생물과 유기물이 제거된 처리수가 분리되도록 되어있으며, 침전조에서 침전한 일부 슬러지는 폭기조의 미생물 농도 유지를 위하여 다시 반송되어 내부 순환되고, 나머지 슬러지는 외부로 배출되는 구조의 시설이다. 따라서, 하폐수에 함유된 질소, 인과 같은 영양염류의 처리를 위한 고도처리에는 적합하지 않은 문제점이 있다. 유기물 제거를 위한 공정인 2차처리 다음에 부여되는 단계로서 부영양화의 원인물질인 질소와 인을 제거하기 위한 공정들을 고도처리라고 한다.

상기와 같은 문제점들을 개선하기 위한 방안으로, 대한민국특허등록 제10-0422211호는 침지식 분리막을 이용한 생물학적 질소인 제거장치 및 방법에 관한 것으로서, 원수가 유입되고 탈질 반응이 일어나는 무산소조와, 인방출 반응이 일어나는 혐기조, 질산화 반응 및 인과량 흡수 반응이 일어나는 호기조를 순차적으로 설치하고; 상기 호기조에는 슬러지와 처리수의 분리를 위하여 침지식 분리막을 설치하며; 상기 호기조 후단에는 질산화용액 및 슬러지내의 용존산소를 최소화시키기 위한 탈기조를 설치하고; 상기 탈기조와 무산소조 사이에는 용존산소가 최소화된 질산화용액 및 슬러지를 상기 무산소조로 반송하기 위한 질산화용액 및 슬러지 반송수단을 설치한 것을 특징으로 한다(도 1 참조). 그러나 상기 시스템은 유입수가 무산소조로만 유입되어 혐기조로 충분한 유기물이 공급되지 않아 인대사율이 낮아져 인제거율이 하락한다는 문제점이 있다.

또한, 대한민국특허등록 제10-0540986호는 분리막을 이용한 하폐수고도처리장치에 관한 것으로서, 큰 고형물이나 협잡물을 제거하는 스크린(1)과, 상기 스크린(1)과 연결되어 유입수의 유기물을 이용해 미생물내의 인을 방출시키는 혐기조(2)와, 상기 혐기조(2)와 연결되어 무산소조(4)로 유입되는 고농도의 반송슬러지를 균등화하여 시스템의 탈질 및 탈인 반응을 안정화시키는 안정화조(3)와, 상기 안정화조(3)와 연결되어 질산성질소를 탈질산화하는 무산소조(4)와, 상기 무산소조에 연결되어 질산화, 및 처리수와 미생물의 분리가 일어나는 막분리반응조(5)와, 상기 막분리반응조(5)로 부터 배출되는 잉여슬러지를 분리막을 이용하여 고농도로 농축하는 막분리슬러지농축조(6)로 구성되는 것에 있어서, 상기 스크린(1)은 원수를 분기하여 안정화조(3)로 분할주입하고, 침지식 한외여과 분리막이 설치된 막분리반응조(5)는 슬러지를 안정화조(3)로 반송하고, 무산소조(4)는 처리수를 혐기조(2)로 내부순환시키는 특징으로 하는 분리막을 이용한 하폐수고도처리장치를 개시한다(도 2 참조). 그러나 상기 방법은 슬러지 반송에 독립된 2개의 내부반송펌프가 필요하고, 내생탈질조가 없어 추가탈질이 어렵다. 또한 안정화조로 혐기조의 잔여유기물이 유입됨에 따라 질산반송슬러지 내의 용존산소에 의하여 유기물이 소모된다는 문제점이 있다.

대한민국특허등록 제10-0422211호 대한민국특허등록 제10-0540986호

따라서, 본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하여, 유입유기물을 손실시키지 않고 최대한 질소, 인 제거에 활용함과 동시에 각각의 반응조에 최적조건을 부여함으로서 질소제거량과 인제거량을 증진시킬 수 있는 공정을 제공하고자 한다.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은,

제1무산소조, 혐기조, 제2무산소조, 호기조 및 제3무산소조가 순서대로 연결되어 위치하고,

상기 제1무산소조는 유입원수가 분할유입되는 제1분할유입라인과 상기 제3무산소조로부터의 반송슬러지가 분할내부반송되는 제1분할반송라인이 연결되고,

상기 제1무산소조로부터의 처리수가 이송되는 상기 혐기조에는 상기 유입원수가 분할유입되는 제2분할유입라인이 연결되고,

상기 혐기조로부터의 처리수가 이송되는 상기 제2무산소조에는 상기 제3무산소로부터의 반송슬러지가 분할내부반송되는 제2분할반송라인이 연결되고,

상기 호기조에는 제2무산소조로부터의 처리수가 유입되고, 처리수를 고액분리하기 위한 침지된 분리막이 장착되며,

상기 호기조로부터의 처리수가 이송되는 제3무산소조에는 슬러지 반송라인이 연결된, 하폐수의 고도처리장치를 제공한다.

또한 본 발명은 상기 장치를 이용하는 하폐수고도처리 공정에 있어서,

상기 제1무산소조에서는 상기 제1분할반송라인을 통해 유입된 슬러지 내의 잔여 질산성질소를 상기 제1분할유입라인을 통하여 유입된 원수 중의 유기물과 종속탈질 미생물을 이용하여 질산성 질소를 종속탈질시키며,

상기 혐기조에서는 상기 제2분할유입라인을 통하여 유입된 원수 중의 유기물을 이용하여 인대사 미생물이 인을 방출시키며,

상기 제2무산소조에서는 상기 혐기조에서 인방출에 소비되고 잔류하는 유기물을 이용하여 상기 제2분할반송 슬러지 내에 잔여하는 질산성 질소를 종속탈질 미생물에 의하여 종속탈질시키며,

상기 호기조에서는 상기 제2무산소조에서 탈질에 소비되고 잔여하는 유기물을 호기성 미생물에 의해 산화시키고, 동시에 미생물 생산에 사용되고 잔여하는 암모니아성질소를 독립영양미생물에 의하여 질산화시키면서, 호기조내 침지된 분리막에 의하여 연속적으로 고액분리함으로써 처리수를 얻으며,

상기 제3무산소조에서는 상기 호기조 처리수내의 용존산소가 내생호흡에 의하여 소비되고, 호기조에서 질산화된 질산성질소를 탈질미생물에 의하여 별도의 유기물 없이 내생탈질하고, 그 결과 얻어진 용존산소를 포함하지 않고 내생탈질에 의하여 질산성 질소가 감소된 내생탈질슬러지를 상기 제1무산소조와 제2무산소조에 분할반송하는 것을 특징으로 하는 하폐수 고도처리공정을 제공한다.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 혐기조에는 상기 제1무산소조에서 탈질이 완료된 슬러지가 이송됨에 따라 혐기조 내 질산저해가 방지되는 것이 바람직하다.

또한 본 발명의 실시예에 따르면, 상기 제3무산소조의 내생탈질슬러지를 분할반송함으로써 제1무산소조와 제2무산소조의 용존산소 저해를 방지하고 동시에 제1무산소조와 제2무산소조로 반송되는 질산성질소의 총량을 감소시키는 것이 바람직하다.

본 발명은 효율적인 공정구성 및 분할유입과 분할내부반송을 통하여 제1무산소조에서의 산소저해를 방지하고, 혐기조에서의 산소저해 및 질산저해를 방지하며, 제2무산소조에서의 산소저해를 방지하고, 제3무산소조에서 내생탈질이 발생하여 제1무산소조와 제2무산소조의 탈질부하율을 감소시킴에 따라 유입유기물의 손실없이 최대한 질소, 인제거에 활용함과 동시에 각각의 반응조에 최적조건을 부여함으로써 질소 제거량과 인 제거량을 최대한 증진시키는 효과가 있다.

도 1 및 도 2는 종래기술에 따른 공정구성도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 장치구성도이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 공정의 흐름도이다.

하폐수고도처리에 적용하는 생물학적 고도처리공정은 구성요소인 무산소조, 혐기조, 호기조 각각의 최적조건이 존재하는데, 일반적으로 용존산소는 무산소조와 혐기조의 저해인자이며, 질산성질소는 혐기조의 저해인자이다. 따라서 최적의 공정을 구성하기 위해서는 이러한 용존산소저해와 질산저해를 방지해야 할 필요가 있다.

이에 따라 본 발명은 유입원수가 제1무산소조와 혐기조로 각각 분할유입되도록 하는 원수유입방식 및 제3무산소조에서 반송되는 슬러지가 제1무산소와 제2무산소로 분할반송되도록 하는 슬러지 분할반송방식을 이용하여, 상기 반응조별로 최적의 반응조건을 부여하였다.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.

먼저 도 3을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 공정은 제1무산소조(100), 혐기조(200), 제2무산소조(300), 호기조(400), 제3무산소조(500)의 순서로 구성되고, 유입원수(10)가 제1무산소조(100)와 혐기조(200)로 분할유입된다. 또한, 제3무산소조(500)에서 내생탈질된 슬러지(20)는 제1무산소조(100)와 제2무산소조(200)로 분할되어 내부반송된다.

즉, 도 3에 도시된 바와 같이, 유입원수(10)는 제1분할유입(11)을 통하여 제1무산소조(100)로, 제2분할유입(12)을 통하여 혐기조(200)로 각각 유입되고, 제3무산소(300)에서 내생탈질된 슬러지(20)는 제1분할내부반송(21)을 통하여 제1무산소조(100)로 제2분할내부반송(22)을 통하여 제2무산소조(300)로 분할되어 내부반송된다.

이하에서는 각각의 생물학적 반응조에서 일어나는 화학반응에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.

1) 제1무산소조(100)

종속영양미생물들은 유리산소와 결합산소 모두 호흡에 이용할 수 있으며 유리산소호흡을 선호한다. 따라서 원활한 탈질을 위해서는 유리산소인 용존산소의 유입이 방지되고 탈질에 필요한 충분한 유기물이 공급되어 질산이온내의 산소를 전자 수용체로 유기물 분해에 이용하면서 질소 가스로 환원시킬 수 있는 무산소 조건이 형성되어야 한다. 따라서 무산소조 내로 용존산소 유입시 탈질은 저해된다. 질산 이온을 환원시킬 수 있는 미생물은 Aerobacter, Bacillus, Micrococcus 등 매우 다양한 종이 알려져 있으며 이들에 의한 탈질은 다음과 같은 과정을 거치는 것으로 알려져 있다.

본 발명에 있어서 제1무산소조(100)에는 원수가 제1분할유입(11) 될 뿐 아니라 제3무산소조(500)로부터 반송된 제1분할반송 슬러지(21)가 함께 유입된다. 따라서 제1무산소조(100)에서는 제3무산소조(500)로부터의 제1분할반송 슬러지(21) 내의 잔여 질산성 질소를 제1분할유입 원수(11)을 통해 유입된 유기물을 이용하여 종속탈질미생물이 종속탈질시킨다. 제1분할반송 슬러지(21)는 호기조(400)에서 질산화된 질산성질소를 탈질미생물에 의하여 별도의 유기물 없이 내생탈질한 슬러지로서 질산성 질소의 함량이 최소화 되기 때문에 최적의 탈질 조건에서 충분한 유기물이 공급되는 조건이 된다.

제3무산소조(500)에서는 원수내 유기물이 제1무산소조(100), 혐기조(200), 제2무산소조(300), 호기조(400)를 거치면서 대부분이 소비됨에 따라 외부에서 유입되는 유기물 대신 세포내의 기질을 이용한 내생탈질이 발생하며, 결과적으로 원수내 유기물의 소모없이 질산성 질소를 감소시킬 수 있다. 이에 따라 슬러지 반송시 제1무산소조(100)와 제2무산소조로(300)의 질산성질소 부하가 감소되어 별도의 유기물 투입없이 질산성 질소의 제거율을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.

2) 혐기조(200)

혐기조(200) 내에서의 인방출은, 유리산소와 결합산소가 없는 혐기성 조건에서 인 대사 미생물이 유기물을 흡수하여 PHB로 체내에 저장하면서 동시에 ATP를 분해하여 ADP로 전환 시키면서 생물대사에 필요한 에너지를 얻게 되며, 이 과정에서 정인산을 체외로 배출되는 인 방출이 발생하므로 혐기조(200) 내에 질산성 질소가 존재하면 인방출은 저해된다.

본 발명에 있어서, 혐기조(200)에서는 제2분할유입원수(12)를 통하여 유입된 유기물을 이용하여 인대사 미생물이 인방출시키며 이때 제1무산소조(100)에서 탈질이 완료된 슬러지가 혐기조(200)로 이송됨에 따라 혐기조(200) 내에서 질산저해가 방지될 수 있다.

구체적으로, 제1무산소조(100)에서 질산성 질소가 제거된 후 혐기조(200)로 전달되는 슬러지 내의 인 대사미생물 및 별도로 분할유입(12)되는 원수 내의 인방출 속도가 빠른 휘발성 유기산 성분을 이용하여 인 방출이 진행되므로, 질산성 질소가 없으면서 탈질이 빠른 휘발성 유기산이 충분히 공급되는 최적 인방출 조건을 충족한다.

3) 제2무산소조(300)

제1무산소조(100)와 혐기조(200)에서 사용되고 잔류하는 잔류유기물을 이용하여 제3무산소조(500)로부터 별도로 분할반송되는 슬러지(22)에 포함된 질산성질소를 탈질함에 따라 최적 탈질 조건인 용존산소가 없으면서 충분한 유기물이 공급되는 조건을 충족한다.

제2무산소조(300)에서는 혐기조(200)에서 인방출에 소비되고 잔류하는 유기물을 이용하여 제2분할반송 슬러지(22) 내에 잔류하는 질산성 질소를 종속탈질 미생물에 의하여 종속탈질 시킨다.

4) 호기조(400)

종속영양미생물에 의하여 제1무산소조(100), 혐기조(200), 제2무산소조(300)를 거치면서 탈질과 인방출에 사용되고 잔류하는 유기물을 제거하고, 혐기조(200)에서 방출된 인을 흡수하며, 독립영양미생물에 의하여 하수 유입수에 포함된 질소(유기질소, 암모니아성질소)를 질산화한다.

질산화에는 질산화 미생물로서 Nitrosomonas와 Nitrobactor가 이용되며 질산화 과정은 다음과 같다.

Nitrosomonas:

Nitrobactor:

독립영양미생물(질산화)과 종속영양미생물(유기물제거)은 호기조(400) 내에서 공통기질인 용존산소에 대하여 경쟁관계에 있으며 종속영양미생물의 성장률이 독립영양미생물의 성장률보다 높으므로 과다한 유기물은 질산화를 저해한다. 본 발명에 있어서, 호기조(400) 전단에 제1무산소조(100), 혐기조(200), 제2무산소조(300)가 위치하여 원수내 유기물이 최대한 탈질과 탈인에 이용됨에 따라, 유기물이 최대한 감소된 상태로 호기조(400)에 유입되므로 최적질산화 조건인 유기물의 유입이 최소화되어 독립영양미생물과 종속영양미생물 간의 산소기질경쟁이 없는 최적 질산화조건을 충족한다.

또한, 본 발명에 있어서 호기조(400)는 침지형 분리막이 구비되어 호기조(400) 내의 슬러지로부터 처리수를 분리하여 외부로 배출한다. 침지형 분리막이란 하우징 타입(housing type)의 분리막 모듈과는 달리 하우징을 없애고 막을 직접 수중에 침지시켜 흡입방식(out→in)으로 전량여과가 가능하도록 모듈을 설계한 평막 및 중공사형 분리막을 총칭한다.

즉 본 발명에 따르면, 호기조(400)에서는 제2무산소조(300)에서 탈질에 소비되고 잔류하는 유기물을 호기성 미생물이 산화시키고 동시에 미생물 생산에 사용되고 잔여하는 암모니아성 질소를 독립영양미생물에 의하여 질산화시키는데, 이때 호기조(400)내 침지된 분리막을 이용하여 고액분리함으로써 처리수를 연속공정으로 얻을 수 있다.

5) 제3무산소조(500)

제3무산소조(500)에서는 호기조(400)의 폭기(산소공급)에 의해 슬러지에 포함된 용존 산소를 미생물의 산소호흡 현상을 이용하여 제거하며, 순차적으로 호기조(400)에서 질산화된 질산성질소를 탈질미생물에 의하여 별도의 유기물 없이 내생탈질 한다. 따라서 내생탈질 슬러지가 이송되어 제1무산소조(100)와 제2무산소조(300)로 유입될 때 용존산소 유입을 방지하므로 제1무산소조(100)와 제2무산소조(300)에서의 산소 저해를 방지할 수 있고, 또한 이와 동시에 제1무산소조(100)와 제2무산소조(300)로 반송되는 질산성질소의 총량을 감소시켜 질소제거율을 향상시키는 것을 특징으로 한다.

도 4는 본 발명에 따른 하수고도처리시스템의 공정 흐름도를 나타낸다. 본 발명에 따른 반송 슬러지 분할유입 및 내생탈질을 이용한 하수고도처리시스템은 유입수 분할유입단계(S40), 제1질산성질소 탈질단계(S41), 인 방출단계(S42), 제2질산성질소 탈질단계(S43), 인흡수 및 질산화단계(S44), 처리수 분리단계(S45), 내생탈질단계(S46) 및 슬러지 분할반송단계(S47)를 구비한다.

제1질산성질소 탈질단계(S41)는 제1무산소조(100)에 인가된 유기물을 포함한 원수를 이용하여, 제3무산소조(500)로부터 유입되는 반송슬러지에 포함된 질산성질소를 탈질한다. 인 방출단계(S42)는 혐기조에 인가된 포함한 원수를 이용하여 제1무산소조(100)로부터 혐기조(200)로 전달받은 하수에 포함된 인을 방출한다. 제2질산성질소 탈질단계(S43)는 혐기조(200)로부터 제2무산소조(300)에 전달된 하수내의 잔여유기물을 이용하여 제3무산소조(500)로부터 유입되는 반송슬러지에 포함된 질산성질소를 탈질한다.

인흡수 및 질산화단계(440)는 제2무산소조(300)로부터 전달된 하수에 포함된 정인산을 슬러지 내로 흡수시키고 동시에 제2무산소조(300)로부터 전달된 하수에 포함된 질소를 호기조(400)에서 질산화시킨다. 처리수 분리단계(S45)는 분리막(130)을 이용하여 제2무산소조(300)로부터 호기조(400)로 전달된 하수에 포함된 처리수를 분리하여 외부로 배출한다. 내생탈질단계(S46)는 호기조(400)로부터 제3무산소조(500)에 전달된 하수내의 용존산소를 내생호흡을 통하여 제거하고, 이후 별도의 유기물 투입 없이 내생탈질하여 반송되는 질산성 질소의 총량을 감소시킬 수 있다.

슬러지 분할반송단계(S47)는 내생탈질단계(S46)에서 용존 산소가 제거되고, 질산성질소가 감소된 슬러지를 제1무산소조(100) 및 제2무산소조(300)에 반송하며, 제1질산성질소 탈질단계(S41) 및 제2질산성질소 탈질단계(S42)에서 각각 사용되는 슬러지는 슬러지 분할반송단계(S47)를 통해 전달된 반송슬러지이다.

본 발명의 공정은 제3무산소조의 내생탈질슬러지를 분할반송함으로써 제1무산소조와 제2무산소조의 용존산소 저해를 방지하고 동시에 제1무산소조와 제2무산소조로 반송되는 질산성질소의 총량을 감소시키므로, 유입유기물의 손실 없이 최대한 탈질 및 탈인 고도처리에 이용함으로써 질소 및 인제거율을 대폭 향상시킬 수 있다.

100 제1무산소조
200 혐기조
300 제2무산소조
400 호기조
500 제3무산소조
10 유입원수
11 제1분할유입원수
12 제2분할유입원수
20 반송슬러지
21 제1분할반송 슬러지
22 제2분할반송 슬러지

Claims (4)

1. 제1무산소조, 혐기조, 제2무산소조, 호기조 및 제3무산소조가 순서대로 연결되어 위치하고,
   상기 제1무산소조는 유입원수가 분할유입되는 제1분할유입라인과 상기 제3무산소조로부터의 반송슬러지가 분할내부반송되는 제1분할반송라인이 연결되고,
   상기 제1무산소조로부터의 처리수가 이송되는 상기 혐기조에는 상기 유입원수가 분할유입되는 제2분할유입라인이 연결되고,
   상기 혐기조로부터의 처리수가 이송되는 상기 제2무산소조에는 상기 제3무산소로부터의 반송슬러지가 분할내부반송되는 제2분할반송라인이 연결되고,
   상기 호기조에는 제2무산소조로부터의 처리수가 유입되고, 처리수를 고액분리하기 위한 침지된 분리막이 장착되며,
   상기 호기조로부터의 처리수가 이송되는 제3무산소조에는 슬러지 반송라인이 연결된, 하폐수의 고도처리장치.
   
2. 제1항의 장치를 이용하는 하폐수고도처리 공정에 있어서,
   상기 제1무산소조에서는 상기 제1분할반송라인을 통해 유입된 슬러지 내의 잔여 질산성질소를 상기 제1분할유입라인을 통하여 유입된 원수 중의 유기물과 종속탈질 미생물을 이용하여 질산성 질소를 종속탈질시키며,
   상기 혐기조에서는 상기 제2분할유입라인을 통하여 유입된 원수 중의 유기물을 이용하여 인대사 미생물이 인을 방출시키며,
   상기 제2무산소조에서는 상기 혐기조에서 인방출에 소비되고 잔류하는 유기물을 이용하여 상기 제2분할반송 슬러지 내에 잔여하는 질산성 질소를 종속탈질 미생물에 의하여 종속탈질시키며,
   상기 호기조에서는 상기 제2무산소조에서 탈질에 소비되고 잔여하는 유기물을 호기성 미생물에 의해 산화시키고, 동시에 미생물 산화에 사용되고 잔여하는 암모니아성질소를 독립영양미생물에 의하여 질산화시키면서, 호기조내 침지된 분리막에 의하여 연속적으로 고액분리함으로써 처리수를 얻으며,
   상기 제3무산소조에서는 상기 호기조에서 질산화된 질산성질소를 탈질미생물에 의하여 별도의 유기물 없이 내생탈질하고, 그 결과 얻은 내생탈질슬러지를 상기 제1무산소조와 제2무산소조에 분할반송하는 것을 특징으로 하는 하폐수 고도처리공정.
   
3. 제2항에 있어서,
   상기 혐기조에는 상기 제1무산소조에서 탈질이 완료된 슬러지가 이송됨에 따라 혐기조내 질산저해가 방지되는 것을 특징으로 하는 하폐수 고도처리공정.
   
4. 제2항에 있어서,
   상기 제3무산소조의 내생탈질슬러지를 분할반송함으로써 제1무산소조와 제2무산소조의 용존산소 저해를 방지하고 동시에 제1무산소조와 제2무산소조로 반송되는 질산성질소의 총량을 감소시키는 것을 특징으로 하는 하폐수 고도처리공정.

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