KR20140134997A - 표면경화 고주파 열처리 장치 - Google Patents

표면경화 고주파 열처리 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명의 표면경화 고주파 열처리 장치는 하부의 모터(14)에 의해 회전하되, 대상물을 삽입 안치할 수 있는 안치대(12)가 다수개 형성된 공급 턴테이블(10); 상기 공급 턴테이블과 이격설치되되, 대상물이 안치되는 안치대(22)가 다수개 형성된 회전 턴테이블(20); 상기 회전 턴테이블의 측면에 설치되되, 상기 공급 턴테이블(10)의 안치대(12) 상에 위치하는 대상물을 집어서 상기 회전 턴테이블(20)의 안치대(22)로 이송시키는 공급부(30); 상기 회전 턴테이블의 측면에 설치되되, 안치대(22) 상의 대상물이 해당 위치에존재하는지 여부를 감지하는 감지부(40); 상기 회전 턴테이블의 측면에 설치되되, 상기 회전 턴테이블 쪽으로 전후진하는 CT 박스(54)에 고정설치된 유도자 코일(52)에 의해 대상물이 회전하는 상태에서 고주파 열처리가 이루어지고, 냉각수 분사구(53)에서 분사되는 냉각수에 의해 냉각이 이루어지는 고주파 열처리 및 냉각부(50); 상기 회전 턴테이블의 측면에 설치되되, 열처리와 냉각이 끝난 대상물을 회전 턴테이블의 안치대(22)에서 취출하는 취출부(60);를 포함한다.

Description

표면경화 고주파 열처리 장치{High frequency heat treatment apparatus for surface hardening}
본 발명은 표면경화 고주파 열처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 금속가공물 특히 자동차 조향용 볼 스터드(ball stud)의 표면을 경화하기 위해서 자동으로 고주파 열처리를 수행하는, 표면경화 고주파 열처리 장치에 관한 것이다.
금속가공물 '볼 스터드(Ball Stud)'를 제조하기 위하여는, 봉 형태의 강재를 일정 길이로 절단하여 준비하고 냉간 단조 기계적 가공을 하여 볼 스터드의 머리부와 목부와 테이퍼(Taper)부와 꼬리부를 형성한다. 연이어 상기 냉간단조품을 열처리공정, 담금질공정, 어닐링(Annealing)공정, 템프링(Tampering)공정 등을 선택적으로 거쳐 그 강도를 강화시키고, 꼬리부에 핀홀(pinhole)을 형성하는 가공 등을 수행한다.
도 1은 볼 스터드의 사시도이다.
종래, 볼 스터드를 고주파 열처리하는 방법은 고주파 코일 내에 수작업으로 볼 스터드를 삽입하고, 고주파 코일에 의해 고주파 열처리를 수행한 후에 냉각수에 의해 냉각하고, 수작업으로 취출하는 과정을 거쳐 고주파 열처리를 수행하는 실정이다. 이러한 수작업에 의한 고주파 열처리는 생산량이 저조하며, 제품별로 품질의 편차가 크며, 작업자의 안전을 위협하는 문제가 있었다.
한편, 본 발명자는 고주파 열처리 자동화 생산라인을 제시한 바 있다. 한국등록번호 제0597238호(표면경화 열처리를 위한 자동화 생산라인)는 볼스터드의 자동화 고주파 열처리 설비이다. 상기 특허에 따르면, 원판형상으로 중심축이 마련되어, 상기 중심축을 기준으로 회전가능하도록 마련되는 회전판과, 상기 회전판 상면에 가장자리를 따라 피가열물의 일부분이 수용될 수 있도록 마련된 적어도 네 개 이상의 회전가능한 수용부를 포함하여 구성되는 회전부재; 상기 어느 하나의 수용부의 일측에 마련되어, 피가열물의 일부분이 상기 수용부에 수용되도록 피가열물을 하나씩 차례로 공급하는 공급부재; 상기 다른 하나의 수용부의 상부에 배치되어 고주파 유도가열기와 연결되는 가열부와, 상기 가열부의 일측으로부터 연장되어 냉각수라인이 연결된 연결부를 포함하여 구성되어, 상기 수용부에 수용되어 있는 피가열물에 고주파 열을 가하여 열처리 되도록 하는 고주파 유도가열 부재; 상기 또 다른 하나의 수용부의 일측에 마련되어, 상기 고주파 유도가열 부재에 의해 열처리된 피가열물에 냉각수를 분사하여 냉각시키는 냉각부재; 상기 또 다른 하나의 수용부의 일측에 마련되어, 상기 냉각부재에 의해 냉각된 피가열물을 상기 회전부재로부터 제거하여 수집하는 수집부재;를 포함한다.
그러나, 상기 특허는 공급부재는 정렬부와 공급부로 구성되되, 정렬부는 진동모터와 나선형 지지대에 의해 이루어지는 데, 이는 볼 스터드를 낱개씩 공급하는 데 무리가 있고 볼 스터드가 수직으로 세워지는 것 또한 쉽지 않다. 또한, 상기 특허에서는 진공흡입모터에 의해서 수집(취출)이 이루어지는 데, 진공흡입모터의 진공력이 일정하지 않을 수 있다는 단점이 있었다.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 표면경화 고주파 열처리, 특히 자동차 조향용 볼 스터드(ball stud)의 표면을 경화하기 위한 고주파 열처리를 함에 있어, 자동화를 통해 제품의 품질을 일정하게 유지하여 생산력이 증대되며, 작업자의 안전사고의 위험을 없앨 수 있으며, 불량품 발생시 해당 불량품 만을 제거할 수 있는, 표면경화 고주파 열처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명은 상기의 목적을 달성하기 위한 것으로서, 본 발명의 표면경화 고주파 열처리 장치는 하부의 모터(14)에 의해 회전하되, 대상물을 삽입 안치할 수 있는 안치대(12)가 다수개 형성된 공급 턴테이블(10); 상기 공급 턴테이블과 이격설치되되, 대상물이 안치되는 안치대(22)가 다수개 형성된 회전 턴테이블(20); 상기 회전 턴테이블의 측면에 설치되되, 상기 공급 턴테이블(10)의 안치대(12) 상에 위치하는 대상물을 집어서 상기 회전 턴테이블(20)의 안치대(22)로 이송시키는 공급부(30); 상기 회전 턴테이블의 측면에 설치되되, 안치대(22) 상의 대상물이 해당 위치에존재하는지 여부를 감지하는 감지부(40); 상기 회전 턴테이블의 측면에 설치되되, 상기 회전 턴테이블 쪽으로 전후진하는 CT 박스(54)에 고정설치된 유도자 코일(52)에 의해 대상물이 회전하는 상태에서 고주파 열처리가 이루어지고, 냉각수 분사구(53)에서 분사되는 냉각수에 의해 냉각이 이루어지는 고주파 열처리 및 냉각부(50); 상기 회전 턴테이블의 측면에 설치되되, 열처리와 냉각이 끝난 대상물을 회전 턴테이블의 안치대(22)에서 취출하는 취출부(60);를 포함한다.
바람직한 실시예에 따르면, 상기 고주파 열처리 및 냉각부(50)에서의 작업 상태를 실시간으로 표시하는 작업표시기(70), 고주파 열처리 장치의 출력발생기에서 유도자 코일로 출력되는 DC 전류값을 표시하는 출력전류표시기(80) 및, 상기 DC 전류값이 설정치를 벗어난 경우에 경보음을 발생시키는 경보기(90)를 추가로 포함한다.
바람직한 실시예에 따르면, 상기 냉각수 분사구(53)에서 분사되는 냉각수의 온도를 표시하는 냉각수 온도표시기(100)를 추가로 포함한다.
바람직한 실시예에 따르면, 상기 공급부(30)는 대상물을 파지하는 파지부(31), 대상물을 상하방향으로 이동시키는 수직이동부(32), 및 대상물을 수평방향으로 수평이동부(33)를 포함하며, 상기 취출부(60)는 대상물을 파지하는 파지부(61), 대상물을 상하방향으로 이동시키는 수직이동부(62), 및 대상물을 수평방향으로 수평이동부(63)를 포함한다.
바람직한 실시예에 따르면, 상기 공급부(30), 상기 감지부(40), 상기 고주파열처리 및 냉각부(50), 상기 취출부(60)의 4개의 구성부는 상기 회전 턴테이블(20)을 중심으로 90도의 각도를 이루도록 배치되어, 4개의 대상물에 대한 작업이 동시에 각각 이루어진다.
이상에서 상술한 바와 같이, 본 발명의 표면경화 고주파 열처리 장치는 자동으로 대상물에 대한 고주파 열처리가 이루어져 제품의 품질을 일정하게 유지할 수 있으며, 이에 따라 생산력이 증대된다. 또한, 작업자의 안전사고의 위험을 없앨 수 있으며, 불량품 발생시 불량품만을 제거할 수 있다는 장점이 있다.
도 1은 볼 스터드의 사시도.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 표면경화 고주파 열처리 장치의 사시도.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 표면경화 고주파 열처리 장치의 작업 표시기, 냉각수 온도표시기, 출력전류표시기의 사시도.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 표면경화 고주파 열처리 장치의 공급부의 동작원리를 설명하기 위한 정면도.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 표면경화 고주파 열처리 장치의 감지부의 동작원리를 설명하기 위한 사시도.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 표면경화 고주파 열처리 장치의 고주파 열처리 및 냉각부의 동작원리를 설명하기 위한 단면개략도.
도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 표면경화 고주파 열처리 장치의 취출부의 동작원리를 설명하기 위한 정면도.
이하에서는 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명의 표면경화 고주파 열처리 장치를 보다 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 표면경화 고주파 열처리 장치의 사시도로서, 대상물(1)은 볼 스터드를 예시한다.
도 2를 참조하면, 대상물을 공급하는 공급 턴테이블(10), 회전하면서 대상물에 대한 검사, 고주파열처리, 냉각, 취출이 이루어지는 회전 턴테이블(20), 대상물을 공급턴테이블에서 회전 턴테이블로 이동시키는 공급부(30), 안치대(22) 상의 대상물이 해당 위치에 존재하는지 여부를 감지하는 감지부(40), 고주파 열처리와 냉각이 이루어지는 고주파 열처리 및 냉각부(50), 대상물을 취출하는 취출부(60)로 이루어진다.
즉, 작업자가 공급 턴테이블(10)의 안치대(12)에 대상물(1)을 올려놓으면, 공급부(30)는 공급 턴테이블(10)에 위치하는 대상물을 하나씩 회전 턴테이블(20) 상으로 이동시킨다. 이때 공급 턴테이블(10) 및 회전 턴테이블(20)은 공급부(30)가 순차적으로 대상물(1)을 이동시킬 수 있도록 각각 미리 정해진 각도만큼 회전하게 된다.
회전 턴테이블(20)은 4부분으로 나누어져 순차적으로 대상물(1)에 대한 작업이 이루어지는 데, 먼저, 공급부(30), 감지부(40), 고주파 열처리 및 냉각부(50), 취출부(60)가 측면에 각각 부착되어, 1회에 일정한 각도씩 회전하여 각 작업을 수행하게 된다. 즉, 4개의 구성부분은 상기 회전 턴테이블(20)을 중심으로 90도의 각도를 이루도록 배치되어, 회전 턴테이블의 4개의 대상물(1)이 동시에 각각의 작업이 수행하게 된다. 따라서, 회전 턴테이블(20) 상의 안치대는 4의 배수에 해당하는 수만큼 배치된다.
먼저, 공급 턴테이블(10)은 하부의 모터(14)에 의해 일정한 각도씩 회전하는 부분이다. 바람직하게는 스탭핑 모터가 사용된다. 공급 턴테이블(10)에는 대상물(1)을 삽입할 수 있는 안치대(12)가 다수개 형성된다. 안치대(12) 사이의 각도만큼 1회에 회전하면서 안치대 상에 위치하는 대상물(1)을 회전 턴테이블(20)로 이송시키게 된다.
공급 턴테이블(10)과 이격설치되는 회전 턴테이블(20) 또한 하부에 모터(바람직하게는 스탭핑 모터)에 의해 회전하며, 대상물이 안치되는 안치대(22)가 다수개 형성된다. 회전 턴테이블(20) 또한, 안치대(22) 사이의 각도 만큼 1회 회전하는 데, 회전 턴테이블(20)의 1회 회전각도가 공급 턴테이블(10)의 1회 회전각도보다 크게 형성하여, 공급 턴테이블에서는 작업자가 많은 수의 대상물을 올려놓을 수 있게 하여 작업의 효율성을 높이며, 회전 턴테이블에서는 각각의 공정이 서로 방해가 되지 않도록 구성한다.
각 구성부의 동작원리는 이하에서 도면과 함께 다시 설명하기로 한다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 표면경화 고주파 열처리 장치의 작업 표시기, 냉각수 온도표시기, 출력전류표시기의 사시도이다.
작업표시기(70)는 대상물에 대한 유도자 코일(52)에 의한 고주파 가열 작업과 냉각수 분사구(53)에 의한 냉각 작업 등 고주파 열처리 및 냉각부(50)에서의 작업 상태를 실시간으로 표시하는 부분이다. 작업표시기(70)는 가열시작대기→ (CT 박스의) 전진운전 → 가열지연(지연시간:약 1초) → 고주파가열(가열시간:약 3.5초) → 냉각지연(지연시간:약 0.1초)→ 냉각작동(냉각시간:약 6초)→ (CT 박스의) 후진운전→ 원점복귀(운전완료)로 구분되어, 고주파 열처리 및 냉각부(50)가 수행하는 작업 상태를 실시간으로 표시하게 된다.
출력전류표시기(80)는 고주파 열처리 장치의 출력발생기에서 출력되는 DC 전류값을 표시하는 부분이다. 즉, 고주파 열처리 장치를 이용하여 대상물에 열처리를 하기 위해서는 출력발생기에서 고전압 고전류를 유도자 코일에 전달하여야 하는 데, 출력이 낮으면 대상물은 완전한 고주파 열처리가 이루어지지 않고 불량품이 발생된다.
본 발명에서는 고주파 열처리 장치의 출력발생기에서 출력되는 DC 전류값을 표시하는 출력전류표시기(80)를 설치하여, 출력 DC 전류값이 기준치(ex. 280~300A) 이하로 떨어지면, 이와 연결된 경보기(90)에서 경보음을 발생시키고, 자동으로 제어전원부로 연결된 전원을 차단시켜 열처리 장치의 동작을 멈추도록 구성된다.
고주파 열처리 대상물의 검사는 전수검사가 불가능함으로, 출력전류가 낮아서 불량품이 발생한 경우에 해당 대상물만을 선별적으로 불량품으로 분류할 수 있다.
경보기(90)는 출력 DC 전류값이 설정치를 벗어난 경우에 경보음을 발생시키는 부분이다.
냉각수 온도표시기(100)는 고주파 열처리가 끝난 대상물을 냉각시키기 위해 냉각수 분사구(53)에서 분사되는 냉각수의 온도를 표시하는 부분이다. 고주파 열처리에 있어서 냉각수의 온도는 고주파 열처리의 성능을 결정하는 아주 중요한 인자이다. 따라서 냉각수 온도표시기(100)를 별도로 설치하여 냉각수의 온도를 관리하게 된다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 표면경화 고주파 열처리 장치의 공급부의 동작원리를 설명하기 위한 정면도이다.
공급부(30)는 공급 턴테이블(10)의 안치대(12) 상에 위치하는 대상물을 집어서(파지해서) 회전 턴테이블(20)의 안치대(22)로 이송시키는 부분이다. 즉, 공급부(30)는 대상물을 파지하는 파지부(31), 대상물을 상하방향으로 이동시키는 수직이동부(32), 및 대상물을 수평방향으로 수평이동부(33)를 포함하되, 각 구성부는 공압 또는 유압으로 가능하며, 바람직하게는 공압에 의해 움직이게 된다.
공급부(30)가 작동하는 원리를 설명하면, 공급 턴테이블(10)이 일정한 각도 회전하고 나면, 공급부(30)의 파지부(31)가 벌려지고, 수직이동부(32)에 의해 하강하게 된다. 수직이동부(32)가 최대로 하강하고 나면, 대상물(1)은 파지부(31)의 안쪽에 위치하게 된다. 이 때 파지부(31)가 다시 오므려져 대상물을 집은 상태에서, 수직이동부(32)는 상승하게 된다. 수직이동부(32)가 상승한 상태에서 수평이동부(33)가 우측으로 움직인다. 수평이동부(33)가 우측으로 최대로 이동하고 나면, 수직이동부(32)가 다시 하강하게 된다. 수직이동부(32)가 최대로 하강하고 나면, 대상물(1)은 회전 턴테이블(20)의 안치대(22)에 삽입되게 된다. 이 상태에서 다시 파지부(31)가 벌려지고, 수직이동부(32)가 상승하며, 파지부(31)가 다시 오므려지고 수평이동부(33)는 다시 원위치로 되돌아오게 된다.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 표면경화 고주파 열처리 장치의 감지부의 동작원리를 설명하기 위한 사시도이다.
감지부(40)는 회전 턴테이블의 측면에 설치되어, 안치대(22) 상의 대상물이 해당 위치에 존재하는지 여부를 감지하는 부분이다. 감지부(40)는 상하 실린더(42)에 의해 하강하여 위치감지 센서에 의해 대상물의 존재 여부를 감지하게 된다. 만약, 감지부에 대상물이 안치대(22) 상의 해당 위치에 존재하지 않는 경우에는, 고주파 열처리 및 냉각부(50) 및/또는 취출부(60)를 거치지 않고 다음 단으로 지나게 된다.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 표면경화 고주파 열처리 장치의 고주파 열처리 및 냉각부의 동작원리를 설명하기 위한 단면개략도이다.
고주파 열처리 및 냉각부(50)는 회전 턴테이블의 측면에 설치되어, 유도자 코일(52)에 의해 대상물이 회전하는 상태에서 고주파 열처리가 이루어지고, 냉각수 분사구(53)에서 분사되는 냉각수에 의해 냉각이 이루어지는 부분이다.
본 발명에서는 유도자 코일이 고정설치되는 CT 박스가 전후진 하는 방식이다. 즉, 처음에는 CT 박스가 후진한 상태에서(a 참조), 대상물이 정위치에 오게 되면, CT 박스(54)가 전진하여 CT 박스에 고정된 유도자 코일(52)이 대상물(1)을 감싸게 된다(b 참조). 그런다음, 유도자 코일(52)에 고주파수 전력이 인가되어 고주파 열처리가 이루어진 후, 냉각수 분사구(53)에서 분사되는 냉각수에 의해 냉각이 이루어진다(c 부분). 그런 후 다시 CT 박스가 후진하게 된다.
고주파 열처리 및 냉각부(50) 측면에 위치하는 대상물(1)은 회전하게 되는 데, 이는 회전 턴테이블(20)의 하부에 베벨 기어를 부착하여 모터에 의해 베벨 기어를 회전시킴으로써, 베벨기어와 연결되는 안치대(22)가 회전하도록 구성된다.
공급부, 감지부, 취출부에서는 회전하지 않고, 고주파 열처리 및 냉각부(50)에서만 대상물이 회전하게 되는 데, 이는 고주파 열처리 및 냉각부(50) 측의 회전테이블 하단에 베벨기어를 설치하여, 이 베벨 기어에 의해 안치대를 회전시키기 때문이다.
도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, 표면경화 고주파 열처리 장치의 취출부의 동작원리를 설명하기 위한 정면도이다.
취출부(60)는 회전 턴테이블의 측면에 설치되되, 열처리와 냉각이 끝난 대상물(1)을 회전 턴테이블(20)의 안치대(22)에서 취출하는 부분이다. 상기 취출부(60)는 대상물을 파지하는 파지부(61), 대상물을 상하방향으로 이동시키는 수직이동부(62), 및 대상물을 수평방향으로 수평이동부(63)를 포함한다. 각 구성부는 공압 또는 유압으로 가능하며, 바람직하게는 공압에 의해 움직이게 된다.
취출부(60)의 동작원리를 설명하면, 공급 턴테이블(10)이 일정한 각도 회전하고 나면, 취출부(60)의 파지부(61)가 벌려지고, 수직이동부(62)에 의해 하강하게 된다. 수직이동부(62)가 최대로 하강하고 나면, 대상물(1)은 파지부(361)의 안쪽에 위치하게 된다. 이 때 파지부(61)가 다시 오므려져 대상물을 집은 상태에서, 수직이동부(62)는 상승하게 된다. 수직이동부(62)가 상승한 상태에서 수평이동부(63)가 좌측으로 움직인다. 수평이동부(63)가 좌측으로 최대로 이동하고 나면, 이 상태에서 다시 파지부(61)가 벌려져 대상물을 취출/배출시키게 된다. 대상물을 배출후, 파지부(61)가 다시 오므려지고 수평이동부(63)는 다시 원위치로 되돌아오게 된다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라, 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것도 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래 특허청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
1: 볼 스터드(대상물)
10: 공급 턴테이블 12: 안치대
14: 모터
20: 회전 턴테이블 22: 안치대
30: 공급부 31: 파지부
32: 수직이동부 33: 수평이동부
40: 감지부 42: 상하실린더
50: 고주파 열처리 및 냉각부 52: 유도자코일
53: 냉각수 분사구 54: CT 박스
60: 취출부 61: 파지부
62: 수직이동부 63: 수평이동부
70: 작업표시기
80: 출력전류표시기
90: 경보기
100: 냉각수 온도표시기

Claims (5)

  1. 하부의 모터(14)에 의해 회전하되, 대상물을 삽입 안치할 수 있는 안치대(12)가 다수개 형성된 공급 턴테이블(10);
    상기 공급 턴테이블과 이격설치되되, 대상물이 안치되는 안치대(22)가 다수개 형성된 회전 턴테이블(20);
    상기 회전 턴테이블의 측면에 설치되되, 상기 공급 턴테이블(10)의 안치대(12) 상에 위치하는 대상물을 집어서 상기 회전 턴테이블(20)의 안치대(22)로 이송시키는 공급부(30);
    상기 회전 턴테이블의 측면에 설치되되, 안치대(22) 상의 대상물이 해당 위치에존재하는지 여부를 감지하는 감지부(40);
    상기 회전 턴테이블의 측면에 설치되되, 상기 회전 턴테이블 쪽으로 전후진하는 CT 박스(54)에 고정설치된 유도자 코일(52)에 의해 대상물이 회전하는 상태에서 고주파 열처리가 이루어지고, 냉각수 분사구(53)에서 분사되는 냉각수에 의해 냉각이 이루어지는 고주파 열처리 및 냉각부(50); 및
    상기 회전 턴테이블의 측면에 설치되되, 열처리와 냉각이 끝난 대상물을 회전 턴테이블의 안치대(22)에서 취출하는 취출부(60);를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면경화 고주파 열처리 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 고주파 열처리 및 냉각부(50)에서의 작업 상태를 실시간으로 표시하는 작업표시기(70), 고주파 열처리 장치의 출력발생기에서 유도자 코일로 출력되는 DC 전류값을 표시하는 출력전류표시기(80) 및, 상기 DC 전류값이 설정치를 벗어난 경우에 경보음을 발생시키는 경보기(90)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 표면경화 고주파 열처리 장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 냉각수 분사구(53)에서 분사되는 냉각수의 온도를 표시하는 냉각수 온도표시기(100)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 표면경화 고주파 열처리 장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 공급부(30)는 대상물을 파지하는 파지부(31), 대상물을 상하방향으로 이동시키는 수직이동부(32), 및 대상물을 수평방향으로 수평이동부(33)를 포함하며,
    상기 취출부(60)는 대상물을 파지하는 파지부(61), 대상물을 상하방향으로 이동시키는 수직이동부(62), 및 대상물을 수평방향으로 수평이동부(63)를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면경화 고주파 열처리 장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 공급부(30), 상기 감지부(40), 상기 고주파열처리 및 냉각부(50), 상기 취출부(60)의 4개의 구성부는 상기 회전 턴테이블(20)을 중심으로 90도의 각도를 이루도록 배치되어, 4개의 대상물에 대한 작업이 동시에 각각 이루어지는 것을 특징으로 하는 표면경화 고주파 열처리 장치.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190054724A (ko) * 2017-11-14 2019-05-22 동명대학교산학협력단 스테이터 샤프트 고주파 열처리장치
KR102053929B1 (ko) * 2019-06-26 2019-12-11 윤홍근 열처리의 자동화가 가능한 휠 조립체의 가공장치 및 이를 이용한 가공방법
JP2021504577A (ja) * 2017-11-29 2021-02-15 イーエフディー・インダクション・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング 金属製のワークピースを誘導式に硬化させる装置、誘導式の硬化方法及び装置の使用
KR20220063450A (ko) * 2020-11-10 2022-05-17 (주)대성종합열처리 링크 브라켓의 고주파 열처리 자동화 장치
KR20230093888A (ko) * 2021-12-20 2023-06-27 동명대학교산학협력단 요크 샤프트 고주파 열처리 방법
KR20230093887A (ko) * 2021-12-20 2023-06-27 동명대학교산학협력단 요크 샤프트 고주파 열처리 시스템

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004277863A (ja) * 2003-03-18 2004-10-07 Nissan Motor Co Ltd 高周波熱処理装置
JP2007262450A (ja) * 2006-03-27 2007-10-11 Ntn Corp 高周波熱処理設備における品質保証システム
CN202116597U (zh) * 2011-03-02 2012-01-18 上海久鼎复合软管制造有限公司 光机电一体化全自动高频齿轮局部淬火机

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190054724A (ko) * 2017-11-14 2019-05-22 동명대학교산학협력단 스테이터 샤프트 고주파 열처리장치
JP2021504577A (ja) * 2017-11-29 2021-02-15 イーエフディー・インダクション・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング 金属製のワークピースを誘導式に硬化させる装置、誘導式の硬化方法及び装置の使用
KR102053929B1 (ko) * 2019-06-26 2019-12-11 윤홍근 열처리의 자동화가 가능한 휠 조립체의 가공장치 및 이를 이용한 가공방법
KR20220063450A (ko) * 2020-11-10 2022-05-17 (주)대성종합열처리 링크 브라켓의 고주파 열처리 자동화 장치
KR20230093888A (ko) * 2021-12-20 2023-06-27 동명대학교산학협력단 요크 샤프트 고주파 열처리 방법
KR20230093887A (ko) * 2021-12-20 2023-06-27 동명대학교산학협력단 요크 샤프트 고주파 열처리 시스템

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