KR20140126676A - Prism optical system, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method - Google Patents

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Abstract

A prism optical system configured to change a sectional shape of light flux comprises: a light incident surface, a light exit surface, and an outer surface. The light incident surface includes a concave conical surface, and the light exit surface includes a convex conical surface. The outer surface includes a reflection surface from which light incident from the light incident surface to the outer surface is reflected.

Description

프리즘 광학계, 조명 광학계, 노광 장치 및 소자 제조 방법{PRISM OPTICAL SYSTEM, ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a prism optical system, an illumination optical system, an exposure apparatus, and a device manufacturing method. 2. Description of the Related Art PRIMM OPTICAL SYSTEM, ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

본 발명은 프리즘 광학계, 조명 광학계, 노광 장치 및 소자 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a prism optical system, an illumination optical system, an exposure apparatus, and a device manufacturing method.

반도체 소자, 액정 디스플레이 소자 및 다른 소자를 제조할 때, 리소그래피 단계에서는, 조명 광학계로 마스크(레티클)를 조명하고 투영 광학계를 통해 기판에 마스크 패턴의 화상을 투영하는 노광 장치가 사용된다. 기판에는 포토레지스트층이 형성된다. 이런 노광 장치에서는, 고해상도를 유지하면서 초점 심도를 확보하기 위해 마스크 패턴에 따라 유효 광원 분포(조명 조건)가 최적화된다. 유효 광원 분포는 조명 광학계의 동공면의 광 강도 분포이고, 조명 광학계의 마스크(조명 대상 평면)에 입사되는 광의 각도 분포이기도 하다.In manufacturing a semiconductor element, a liquid crystal display element, and other elements, in the lithography step, an exposure apparatus for illuminating a mask (reticle) with an illumination optical system and projecting an image of the mask pattern onto a substrate through a projection optical system is used. A photoresist layer is formed on the substrate. In such an exposure apparatus, the effective light source distribution (illumination condition) is optimized according to the mask pattern in order to secure the depth of focus while maintaining high resolution. The effective light source distribution is a light intensity distribution of the pupil plane of the illumination optical system, and is also an angular distribution of the light incident on the mask (illumination target plane) of the illumination optical system.

일본 특허 출원 공개 제2002-343715호는 원추 프리즘 또는 피라미드형 프리즘을 사용함으로써 광속(light flux)의 단면 형상을 변경하여 윤대 유효 광원 분포를 형성하는 방법을 논의한다. 일본 특허 출원 공개 제11-271619호는 한 쌍의 원추 프리즘 또는 한 쌍의 피라미드형 프리즘을 사용하여 윤대 조명 또는 사중(quadruple) 조명을 형성하는 방법을 논의한다.Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-343715 discusses a method of changing the cross-sectional shape of a light flux by using a conical prism or a pyramidal prism to form a conjugate effective light source distribution. Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-271619 discusses a method of forming annular illumination or quadruple illumination using a pair of conical prisms or a pair of pyramidal prisms.

또한, 국제공개(PCT 출원) 제99-25009호는 균일한 광 강도 분포를 갖는 윤대 조명을 형성하기 위해 원추 프리즘에서 방출되는 광을 조명광 균일화 광학계로 안내하는 방법을 논의한다. 조명광 균일화 광학계는 기둥형 반사 부재와 원통형 반사 부재를 포함한다.International Publication (PCT Application No. 99-25009) also discusses a method for guiding light emitted from a conical prism to an illumination light uniformizing optical system to form annular illumination having a uniform light intensity distribution. The illumination light uniformizing optical system includes a columnar reflecting member and a cylindrical reflecting member.

도 13은 예컨대 일본 특허 출원 공개 제2002-343715호와 일본 특허 출원 공개 제11-271619호에서 설명하는 바와 같은 프리즘을 사용하는 조명 광학계를 갖춘 노광 장치를 도시한다. 노광 장치는 조명 광학계(IL)와 투영 광학계(PO)를 포함한다. 광원(1)은 회전 대칭형 광 분포를 갖는 광을 방출하는 광원이다. 광원(1)에서 방출되는 광은 광학계(2), 원추 프리즘(3) 및 광학계(4)를 통과하여 마스크(M)에 입사된다. 마스크(M)에서 출사되는 회절 광은 투영 광학계(PO)에 입사되고 개구 다이아프램(NA 다이아프램)(5)을 통과하여 기판(P)에 화상을 형성한다. 원추 프리즘(3)은 마스크(M)에 대해 푸리에 변환 평면에 배치된다. 유효 광원 분포는 원형 형상에서 윤대 형상으로 변화한다. 이 방식은 실선과 점선을 사용하여 도시되어 있다. 점선은 원추 프리즘(3)이 마련되지 않는 경우에 통과 광의 상태를 도시한다. 실선은 원추 프리즘(3)이 마련되는 경우에 통과 광의 상태를 도시한다. 물론 광속은 원추 프리즘(3)의 작용으로 인해 확산되며, 광은 점선으로 도시된 입사각보다 큰 입사각으로 마스크(M)에 입사된다. 그 결과, 광의 일부가 투영 광학계(PO)의 개구 다이아프램(5)에 의해 차단되어 기판(P)의 노광량이 감소한다. 즉, 조명 광학계(IL)에서 나오는 광의 일부가 사용되지 않는데, 이는 광 이용 효율의 저하를 의미한다.Fig. 13 shows an exposure apparatus equipped with an illumination optical system using a prism as described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-343715 and Japanese Patent Application Laid-open No. 11-271619. The exposure apparatus includes an illumination optical system IL and a projection optical system PO. The light source 1 is a light source that emits light having a rotationally symmetrical light distribution. The light emitted from the light source 1 passes through the optical system 2, the cone prism 3 and the optical system 4 and is incident on the mask M. The diffracted light emitted from the mask M is incident on the projection optical system PO and passes through an aperture diaphragm (NA diaphragm) 5 to form an image on the substrate P. The conical prism 3 is disposed in the Fourier transform plane with respect to the mask M. [ The effective light source distribution changes from a circular shape to a ring shape. This method is shown using solid lines and dotted lines. And the dotted line shows the state of the passing light when the conical prism 3 is not provided. The solid line shows the state of the passing light when the conical prism 3 is provided. Of course, the light flux is diffused due to the action of the cone prism 3, and the light is incident on the mask M at an incident angle larger than the incident angle shown by the dotted line. As a result, a part of the light is blocked by the aperture diaphragm 5 of the projection optical system PO, and the amount of exposure of the substrate P is reduced. That is, part of the light emitted from the illumination optical system IL is not used, which means a decrease in light utilization efficiency.

상술한 바와 같이, 종래의 원추 프리즘(3)에서는 광속이 확산되고 광의 일부가 원추 프리즘(3) 뒤에 배치되는 광 차폐 부재에 의해 차단되어 광의 일부가 원추 프리즘(3) 뒤에 배치되는 광학 요소에 입사되지 못한다. 이는 광 이용 효율의 감소를 초래한다.As described above, in the conventional conical prism 3, the light flux is diffused and a part of the light is blocked by the light shielding member disposed behind the conical prism 3, so that a part of the light enters the optical element disposed behind the conical prism 3 It does not. This results in a reduction in light utilization efficiency.

또한, 국제공개(PCT 출원) 제99/25009호에서 논의하는 조명 광 균일화 광학계를 사용하는 경우에는, 광학계에서 방출되는 광의 각도 분포가 광학계에 입사되는 광의 각도 분포보다 넓다. 이는 광의 일부가 후속 광학계에 입사되지 못하도록 하여 광 이용 효율의 감소를 초래한다.In addition, when the illumination optical homogenizing optical system discussed in International Publication (PCT Application No. 99/25009) is used, the angular distribution of the light emitted from the optical system is wider than the angular distribution of the light incident on the optical system. This prevents a part of the light from being incident on the subsequent optical system, resulting in a reduction in light utilization efficiency.

본 발명의 목적은 광속의 단면 형상을 변화시키는 프리즘으로부터 나오는 광에 기판이 노출될 때 광 이용 효율의 감소를 억제할 수 있는 조명 광학계를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an illumination optical system capable of suppressing a decrease in light utilization efficiency when a substrate is exposed to light emitted from a prism that changes the cross-sectional shape of a light beam.

본 발명의 양태에 따르면, 조명 광학계는 광속의 단면 형상을 변화시키도록 구성되는 프리즘을 포함하며, 조명 광학계는 조명 대상 평면을 조명하도록 구성된다. 프리즘은 광 입사면과, 광 출사면과, 광 입사면 측에서 광 출사면 측으로 연장되는 외측면을 포함한다. 광 입사면은 오목 추면을 포함하고 광 출사면은 볼록 추면을 포함하며 외측면은 광 입사면으로부터 외측면으로 입사되는 광을 반사하는 반사면을 포함한다.According to an aspect of the present invention, the illumination optical system includes a prism configured to change the sectional shape of the light beam, and the illumination optical system is configured to illuminate the illumination target plane. The prism includes a light incident surface, a light exit surface, and an outer surface extending from the light incident surface toward the light exit surface. The light incident surface includes concave surfaces, the light exit surface includes convex truncate surfaces, and the outer surface includes a reflecting surface that reflects light incident from the light incident surface to the outside surface.

본 발명의 추가적인 특징은 첨부 도면을 참조하여 예시적인 실시예의 후술하는 설명으로부터 명백해질 것이다.Further features of the present invention will become apparent from the following description of exemplary embodiments with reference to the accompanying drawings.

도 1은 제1 예시적인 실시예에 따른 조명 광학계를 도시하는 개략적인 구조도.
도 2는 플라이-아이 광학계를 도시하는 개략적인 구조도.
도 3은 필드 스톱을 도시하는 개략적인 구조도.
도 4a, 도 4b 및 도 4c는 제1 예시적인 실시예에 따른 프리즘을 도시하는 도면.
도 5a, 도 5b, 도 5c 및 도 5d는 제1 예시적인 실시예에 따른 프리즘의 효과를 도시하는 도면.
도 6은 제2 예시적인 실시예에 따른 프리즘을 도시하는 도면.
도 7은 제3 예시적인 실시예에 따른 프리즘을 도시하는 도면.
도 8은 제4 예시적인 실시예에 따른 프리즘을 도시하는 도면.
도 9는 제2 예시적인 실시예에 따른 노광 장치를 도시하는 개략적인 구조도.
도 10은 육각형 광학 로드를 도시하는 도면.
도 11a와 도 11b는 제2 예시적인 실시예에 따른 프리즘을 도시하는 도면.
도 12는 σ 다이아프램 교환기의 개략적인 구조도.
도 13은 종래 프리즘의 문제를 도시하는 도면.
도 14는 제5 예시적인 실시예에 따른 프리즘을 도시하는 도면.1 is a schematic structural view showing an illumination optical system according to a first exemplary embodiment;
2 is a schematic structural view showing a fly-eye optical system.
3 is a schematic structural view showing a field stop;
Figures 4A, 4B and 4C illustrate a prism according to a first exemplary embodiment;
Figures 5A, 5B, 5C and 5D show the effect of the prism according to the first exemplary embodiment.
6 illustrates a prism according to a second exemplary embodiment;
7 illustrates a prism according to a third exemplary embodiment;
8 is a view showing a prism according to a fourth exemplary embodiment;
9 is a schematic structural view showing an exposure apparatus according to a second exemplary embodiment;
10 is a view showing a hexagonal optical rod;
11A and 11B show a prism according to a second exemplary embodiment;
Fig. 12 is a schematic structural view of a sigma diaphragm exchanger. Fig.
13 is a view showing a problem of a conventional prism.
14 illustrates a prism according to a fifth exemplary embodiment;

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 예시적인 실시예와 특징과 양태를 상세히 설명한다.Various exemplary embodiments, features and aspects of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.

도 1 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 제1 예시적인 실시예에 따른 조명 광학계의 구조를 설명한다.The structure of the illumination optical system according to the first exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to Figs. 1 to 8. Fig.

예시적인 실시예에 따른 조명 광학계는 예컨대 노광 장치에 사용된다. 조명 광학계는 광원에서 방출되는 광을 조명 대상 표적인 마스크(레티클)로 안내하는 장치이다. 패턴이 마스크에 형성된다. 노광 장치는 마스크 패턴으로부터의 회절광을 사용하여 투영 광학계로 화상을 형성하고, 마스크 패턴의 화상을 기판(예컨대 웨이퍼와 유리판)에 투영하여 기판을 광에 노출한다.The illumination optical system according to the exemplary embodiment is used, for example, in an exposure apparatus. The illumination optical system is a device for guiding light emitted from a light source to a mask (reticle) that is a target of illumination. A pattern is formed in the mask. An exposure apparatus forms an image with a projection optical system using diffracted light from a mask pattern, and projects an image of the mask pattern onto a substrate (e.g., a wafer and a glass plate) to expose the substrate to light.

도 1은 예시적인 실시예에 따른 조명 광학계를 도시하는 개략적인 구조도이다. 광원 유닛(120)은 광원(101)과 타원형 미러(102)를 포함한다. 조명 광학계는 프리즘(광학계)(104), 제1 광학계(105), 편향 미러(107), 제2 광학계(140), 플라이-아이 광학계(109), σ 다이아프램(110), 제3 광학계(150), 필드 스톱(111) 및 제4 광학계(160)를 포함한다. 조명 광학계는 조명 대상 평면 상의 마스크(M)를 조명한다.1 is a schematic structural view showing an illumination optical system according to an exemplary embodiment. The light source unit 120 includes a light source 101 and an elliptical mirror 102. The illumination optical system includes a prism (optical system) 104, a first optical system 105, a deflection mirror 107, a second optical system 140, a fly-eye optical system 109, a diaphragm 110, 150, a field stop 111, and a fourth optical system 160. The illumination optical system illuminates the mask M on the illuminated object plane.

광원(101)은 고압 수은등이다. 대안으로서, 예컨대 크세논 램프와 엑시머 레이저가 광원(101)으로서 사용될 수 있다. 타원형 미러(102)는 광원(101)에서 방출되는 광을 모으는 집광 광학계이다. 타원형 미러(102)는 타원 일부의 형상을 취한다. 광원(101)은 타원의 두 초점 위치 중 하나에 배치된다.The light source 101 is a high-pressure mercury lamp. As an alternative, for example, a xenon lamp and an excimer laser can be used as the light source 101. The elliptical mirror 102 is a condensing optical system for collecting the light emitted from the light source 101. The elliptical mirror 102 takes the shape of a part of the ellipse. The light source 101 is disposed at one of two focus positions of the ellipse.

광원(101)에서 방출되어 타원형 미러(102)에 의해 반사되는 광은 타원의 타측 초점 위치 가까이에 배치되는 프리즘(104)에 집광된다. 프리즘(104)은 입사광을 투과시키고 입사광의 광속의 단면 형상을 변화시켜 광을 방출한다. 프리즘(104)을 통과한 광은 제1 광학계(105)에 의해 편향 미러(107)로 안내되고 편향 미러(107)에 의해 반사된다.The light emitted from the light source 101 and reflected by the elliptical mirror 102 is condensed on the prism 104 disposed near the other focal point of the ellipse. The prism 104 transmits the incident light and changes the sectional shape of the light flux of the incident light to emit light. The light having passed through the prism 104 is guided to the deflection mirror 107 by the first optical system 105 and reflected by the deflection mirror 107. [

본 예시적인 실시예에서는, 두 개의 광원 유닛(120)이 마련되고 편향 미러(107)가 각각의 광원 유닛마다 배열된다. 광원의 개수에 따라 편향 미러의 배열이 달라진다. 광원의 개수는 하나이거나 셋 이상일 수도 있다.In the present exemplary embodiment, two light source units 120 are provided and a deflection mirror 107 is arranged for each light source unit. The arrangement of the deflection mirrors depends on the number of light sources. The number of light sources may be one or more than three.

평면(108)은 프리즘(104)의 출사면에 대해 실질적으로 푸리에 변환 관계에 있는 위치를 점유하도록 설정된다. 그 결과, 프리즘(104)의 출사면 상의 윤대 광 강도 분포가 평면(108)에 입사되는 광의 각도 분포가 된다. 도 1은 프리즘(104)의 출사면에서 출사되는 광에 대해 소정 각도 분포(평면(108)의 광 강도 분포)를 이루는 광선을 도시한다. 평면(108)에서 나오는 광은 제2 광학계(140)에 의해 플라이-아이 광학계(109)로 안내된다. 제2 광학계(140)에서, 플라이-아이 광학계(109)의 입사면은 평면(108)에 대해 실질적으로 푸리에 변환 관계에 있는 위치를 점유하도록 설정된다.The plane 108 is set to occupy a position in a substantially Fourier transform relationship with respect to the exit surface of the prism 104. [ As a result, the annular light intensity distribution on the exit surface of the prism 104 becomes the angular distribution of the light incident on the plane 108. Fig. 1 shows a light ray forming a predetermined angular distribution (light intensity distribution of the plane 108) with respect to light emitted from the exit surface of the prism 104. Fig. The light emerging from the plane 108 is guided to the fly-eye optical system 109 by the second optical system 140. In the second optical system 140, the incident surface of the fly-eye optical system 109 is set to occupy a position in a substantially Fourier transform relationship with respect to the plane 108.

도 2는 플라이-아이 광학계(109)를 도시한다. 도 2에 도시된 바와 같이, 플라이-아이 광학계(109)는 평평한 상태로 접합되는 많은 평-볼록 렌즈를 갖는 두 개의 렌즈 유닛(131, 132)을 포함한다. 렌즈 유닛(131, 132)을 구성하는 각각의 평-볼록 렌즈의 초점 위치에, 대응하는 평-볼록 렌즈가 둘씩 짝을 지어 배치되도록 이들 렌즈의 곡면은 서로 대면하도록 배치된다. 플라이-아이 광학계(109)의 사용은 플라이-아이 광학계(109)의 출사면 측에 이차적인 광원 분포(유효 광원 분포)를 형성한다.Fig. 2 shows the fly-eye optical system 109. Fig. As shown in FIG. 2, the fly-eye optical system 109 includes two lens units 131 and 132 having many flat-convex lenses joined in a flat state. The curved surfaces of the lenses are arranged so as to face each other so that the corresponding flat-convex lenses are arranged in pairs at the focus positions of the flat-convex lenses constituting the lens units 131 and 132. The use of the fly-eye optical system 109 forms a secondary light source distribution (effective light source distribution) on the exit surface side of the fly-eye optical system 109.

플라이-아이 광학계(109)의 출사면에서 방출되는 광속은 제3 광학계(150)에 의해 σ 다이아프램(110)을 통해 필드 스톱(111)으로 안내된다. σ 다이아프램(110)은 개구 형상에 의해 유효 광원 분포의 형상을 조정한다. 제3 광학계(150)에서, 필드 스톱(111)의 위치는 플라이-아이 광학계(109)의 출사면(110)에 대해 실질적으로 푸리에 변환 관계에 있도록 설정된다. 플라이-아이 광학계(109)의 출사면에 이차적인 광원 분포가 형성되기 때문에, 필드 스톱(111) 상에서는 균일한 광 강도 분포를 얻을 수 있다.The light beam emitted from the exit surface of the fly-eye optical system 109 is guided to the field stop 111 through the σ diaphragm 110 by the third optical system 150. The sigma diaphragm 110 adjusts the shape of the effective light source distribution by the opening shape. In the third optical system 150, the position of the field stop 111 is set so as to be substantially in a Fourier transform relationship with respect to the exit surface 110 of the fly-eye optical system 109. A secondary light source distribution is formed on the exit surface of the fly-eye optical system 109, so that a uniform light intensity distribution can be obtained on the field stop 111. [

도 3은 필드 스톱(111)을 도시하는 구조도이다. 필드 스톱(111) 상에는 원호 형상 슬릿(개구)(23)이 형성되며, 슬릿(23) 이외의 곳으로 입사되는 광은 차단된다. 제3 광학계(160)는 슬릿(23)을 통해 전달되는 원호 형상 광속으로 마스크(M)를 균일하게 조명한다. 필드 스톱(111)의 슬릿의 형상은 원호 형상이다. 대안으로서, 다른 형상, 예컨대 직사각형 형상이 사용될 수 있다.3 is a structural diagram showing the field stop 111. Fig. An arc-shaped slit (opening) 23 is formed on the field stop 111, and light incident on the slit 23 is blocked. The third optical system 160 uniformly illuminates the mask M with an arc-shaped light beam transmitted through the slit 23. The slit of the field stop 111 has an arc shape. Alternatively, other shapes, such as rectangular shapes, may be used.

프리즘(104)의 예시적인 실시예를 설명한다.An exemplary embodiment of the prism 104 will be described.

도 4a, 도 4b 및 도 4c는 제1 예시적인 실시예에 따른 프리즘(104A)을 도시한다. 도 4a는 프리즘(104A)을 도시하는 사시도이다. 도 4b는 프리즘(104A)의 광축을 포함하는 평면을 따라 취한 단면도와, 우측에서 바라본 측면도이다. 프리즘(104A)에서는, 기둥형 광학 로드를 기본으로 하여, 일측 중앙부 주위의 부분은 표면(104A1)으로서 도시된 바와 같은 오목 추면을 형성하도록 구성되고, 타측 중앙부 주위의 부분은 표면(104A3)으로서 도시된 바와 같은 볼록 추면을 형성하도록 구성된다. 오목 추면(104A1)의 꼭지점과 볼록 추면(104A3)의 꼭지점을 연결하는 축은 광축이다.4A, 4B, and 4C illustrate a prism 104A according to a first exemplary embodiment. 4A is a perspective view showing the prism 104A. 4B is a cross-sectional view taken along a plane including the optical axis of the prism 104A and a side view seen from the right side. In the prism 104A, on the basis of the columnar optical rod, a portion around one central portion is configured to form a concave surface as shown as a surface 104A1, and a portion around the other central portion is configured as a surface 104A3 As shown in Fig. The axis connecting the vertex of concave surface 104A1 and the vertex of convex surface 104A3 is an optical axis.

조명 광학계에서, 프리즘(104A)의 오목 추면(104A1)은 광원 측에 배치되고 볼록 추면(104A2)은 광원의 반대측에 배열된다. 프리즘(104A)의 광 입사면, 광 출사면 및 외측면은 하나의 광학 요소로서 형성된다. 프리즘(104A)의 광 입사면은 오목 추면(104A1)과, 오목 추면(104A1) 주위에 형성되는 윤대 편평면(104A2)(제1 표면)을 포함한다. 구체적으로, 광 입사면에는 제1 표면(104A2)이 오목 추면(104A1)의 중심축에서 볼 때 외측에 배치된다. 오목 추면(104A1)은 꼭지점을 통과하는 중심축(광축)에 대해 회전 대칭이다. 광 출사면은 볼록 추면(104A3)과, 볼록 추면(104A3) 주위에 형성되는 윤대면(104A4)(제2 표면)을 포함한다. 구체적으로, 광 출사면에는 제2 표면(104A4)이 볼록 추면(104A3)의 중심축에서 볼 때 외측에 배치된다. 볼록 추면(104A3)은 꼭지점을 통과하는 중심축(광축)에 대해 회전 대칭이다. 광 출사면은 볼록 추면(104A3)과 표면(104A4) 사이에 기둥형 내측면(104A5)을 포함한다. 내측면(104A5)은 볼록 추면(104A3)의 중심축에서 볼 때 최외측 주연부와 제2 표면(104A4)의 내주부를 연결하도록 형성된다. 내측면(104A5)은 볼록 추면(104A3)을 둘러싸도록 배치되는 기둥형 측면이다. 프리즘(104A)은 광 입사면 측에서 광 출사면 측으로 연장되는 외측면(104A6)을 추가로 포함한다. 외측면(104A6)은 광 입사면의 제1 표면(104A2)의 외주부와 광 출사면의 제2 표면(104A4)의 외주부를 연결하도록 형성된다.In the illumination optical system, the concave surface 104A1 of the prism 104A is disposed on the light source side and the convex curved surface 104A2 is arranged on the opposite side of the light source. The light incident surface, light exit surface, and outer surface of the prism 104A are formed as one optical element. The light incident surface of the prism 104A includes a concave surface 104A1 and a ring surface 104A2 (first surface) formed around the concave surface 104A1. Specifically, the first surface 104A2 is disposed on the light incident surface on the outer side when viewed from the central axis of the concave surface 104A1. The concave surface 104A1 is rotationally symmetric with respect to the central axis (optical axis) passing through the vertexes. The light emitting surface includes a convex bevel 104A3 and a convex bevel 104A3 and a convex bevel 104A3 (second surface) formed around the convex bevel 104A3. Specifically, the second surface 104A4 is disposed on the light outgoing surface on the outer side when viewed from the central axis of the convex surface 104A3. The convex curved surface 104A3 is rotationally symmetric with respect to the central axis (optical axis) passing through the vertexes. The light exit surface includes a columnar inner surface 104A5 between the convex surface 104A3 and the surface 104A4. The inner surface 104A5 is formed so as to connect the innermost periphery of the second surface 104A4 with the outermost periphery when viewed from the central axis of the convex convex surface 104A3. The inner side 104A5 is a columnar side arranged to surround the convex red 104A3. The prism 104A further includes an outer surface 104A6 extending from the light incident surface side toward the light exit surface side. The outer surface 104A6 is formed so as to connect the outer peripheral portion of the first surface 104A2 of the light incident surface to the outer peripheral portion of the second surface 104A4 of the light exit surface.

도 4c는 광원에서 나오는 각각의 광선이 프리즘(104A)의 내부를 통과하는 방식을 도시한다. 광선(1)은 제1 표면(104A2)에 입사되고 외측면(104A6)에 의해 전반사된다. 이어서, 광은 제2 표면(104A4)에서 출사된다. 광선(2)은 오목 추면(104A1)에 입사되고 볼록 추면(104A3)에서 출사된다. 광선(3)은 오목 추면(104A1)에 입사되고 볼록 추면(104A3)에서 출사되어 내측면(104A5)에 의해 반사된다.4C shows how each light ray from the light source passes through the interior of the prism 104A. The light beam 1 is incident on the first surface 104A2 and totally reflected by the outer surface 104A6. Then, the light is emitted from the second surface 104A4. The light beam 2 is incident on the concave surface 104A1 and emitted from the convex surface 104A3. The light beam 3 is incident on the concave surface 104A1 and emitted from the convex surface 104A3 and reflected by the inner surface 104A5.

상술한 바와 같이, 광 입사면에서 외측면(104A6)으로 입사되는 광은 외측면(104A6)에 의해 전반사된다. 반사막이 외측면(104A6)에 형성되어 반사면을 형성할 수 있다. 즉, 외측면(104A6)은 광 입사면에서 외측면으로 입사되는 광을 반사하는 반사면을 포함한다. 그 결과, 광 입사면으로부터 입사되는 광의 방출과 외부로의 확산이 저감될 수 있으며, 입사 측 광속의 외경과 출사 측 광속의 외경이 동일할 수 있다. 그 결과, 프리즘(104A)에서 나와 투영 광학계의 동공면의 다이아프램에 의해 차단되는 광의 양이 저감될 수 있거나, 후속 광학 요소에 입사되지 못하고 거부되는 광의 양이 저감될 수 있다. 즉, 기판이 프리즘(104A)에서 나오는 광에 노출될 때 광 이용 효율의 저하가 억제될 수 있다. 오목 추면(104A1)과 볼록 추면(104A3)의 형상이 유사하고 제1 표면과 제2 표면이 서로 평행하다면, 광축에 대한 입사광의 각도와 출사광의 각도는 동일하며, 원래대로 유지된다. 예컨대 광축에 평행하게 입사되는 광은 광축에 평행하게 출사된다.As described above, light incident from the light incident surface to the outer surface 104A6 is totally reflected by the outer surface 104A6. A reflective film may be formed on the outer surface 104A6 to form a reflective surface. That is, the outer surface 104A6 includes a reflecting surface that reflects light incident from the light incident surface to the outer surface. As a result, the emission of light incident from the light incident surface and the diffusion to the outside can be reduced, and the outer diameter of the incident-side light flux and the outer diameter of the exit-side light flux can be the same. As a result, the amount of light that comes out of the prism 104A and is blocked by the diaphragm of the pupil plane of the projection optical system can be reduced, or the amount of light rejected without being incident on the subsequent optical element can be reduced. That is, the degradation of light utilization efficiency can be suppressed when the substrate is exposed to light emitted from the prism 104A. If the concave surface 104A1 and the convex surface 104A3 are similar in shape and the first surface and the second surface are parallel to each other, the angle of the incident light to the optical axis and the angle of the emitted light are the same and remain unchanged. For example, light incident parallel to the optical axis is emitted parallel to the optical axis.

내측면(104A5)은 예컨대 볼록 추면(104A3)에서 출사되는 광을 반사하는 반사막으로 형성되는 반사면이다. 내측면(104A5)의 반사막은 생략될 수 있다. 그러나, 반사막을 형성함으로써, 볼록 추면(104A3)에서 출사되는 광은 내측면(104A5)에 의해 반사되며, 프리즘(104A)에서 출사되는 광의 광축에 대한 각도를 유지하면서 광의 속도가 저감될 수 있다.The inner surface 104A5 is, for example, a reflecting surface formed of a reflecting film for reflecting light emitted from the convex surface 104A3. The reflective film of the inner side 104A5 may be omitted. However, by forming the reflective film, the light emitted from the convex surface 104A3 is reflected by the inner surface 104A5, and the light velocity can be reduced while maintaining the angle of the light emitted from the prism 104A with respect to the optical axis.

반사막이 내측면(104A5)에 형성되면, 프리즘(104A)에서 출사되는 광의 속도는 프리즘(104A)에 입사되는 광의 속도에 비해 저감될 수 있다. 그 결과, 프리즘(104A) 뒤에 있는 광학계에서는, 차단된 광의 양이 저감될 수 있고 광 이용 효율의 저하가 더욱 억제될 수 있다. 프리즘(104A)의 치수는 ro=17.5, ri=17.5, t=35 및 d=52.5(mm 단위의 치수)이고, 글래스 재료는 합성 실리카이다.When the reflective film is formed on the inner surface 104A5, the speed of light emitted from the prism 104A can be reduced as compared with the speed of light incident on the prism 104A. As a result, in the optical system behind the prism 104A, the amount of blocked light can be reduced and the deterioration of the light utilization efficiency can be further suppressed. The dimensions of prism 104A are ro = 17.5, ri = 17.5, t = 35 and d = 52.5 (dimensions in mm) and the glass material is synthetic silica.

예컨대, 도 5a에 도시된 강도 분포를 갖는 광이 광원 측으로부터 프리즘(104A)의 입사면으로 입사되고, 광축의 방향은 종이의 평면을 향해 도 5a의 좌표 원점을 수직으로 통과하는 방향인 것으로 가정한다. 이런 조건에서, 프리즘(104A)의 출사면 상의 광 강도 분포는 도 5b에 도시된 바와 같이 윤대 형상이다.For example, assuming that light having the intensity distribution shown in FIG. 5A is incident on the incident surface of the prism 104A from the light source side, and the direction of the optical axis is a direction perpendicularly passing through the coordinate origin of FIG. 5A toward the plane of the paper do. In this condition, the light intensity distribution on the exit surface of the prism 104A is annular as shown in Fig. 5B.

프리즘(104A)이 사용되지 않는다면, 윤대 광 강도 분포를 생성하기 위해서는 도 5a에 도시된 강도 분포를 예컨대 개구 다이아프램에 의해 윤대 형상으로 절단하고 획득된 광 강도 분포를 사용하는 것이 필요하다. 도 5c는 예컨대 개구 다이아프램에 의해 도 5a의 강도 분포로부터 윤대 형상으로 절단된 광 강도 분포를 도시한다.If the prism 104A is not used, it is necessary to cut out the intensity distribution shown in Fig. 5A, for example, in a ring shape by an aperture diaphragm and use the obtained light intensity distribution in order to generate a ring light intensity distribution. Fig. 5C shows a light intensity distribution cut out in a ring-like shape from the intensity distribution of Fig. 5A, for example, by an aperture diaphragm.

도 5d는 도 5b와 도 5c의 파선을 따라 절단한 단면으로 에너지 분포를 도시한다. 도 5d의 실선은 도 5b의 경우를 도시하고 도 5d의 점선은 도 5c의 경우를 도시한다. 선을 비교해 보면, (프리즘(104A)을 사용한) 도 5b의 경우에 축적된 광 에너지가 도 5c의 경우보다 약 60%만큼 높다.FIG. 5D shows the energy distribution in cross section taken along the broken line in FIGS. 5B and 5C. The solid line in FIG. 5D shows the case of FIG. 5B, and the broken line in FIG. 5D shows the case of FIG. 5C. Comparing the lines, the light energy accumulated in the case of Fig. 5B (using the prism 104A) is about 60% higher than in the case of Fig. 5C.

프리즘(104)의 제2 예시적인 실시예를 설명한다. 본 예시적인 실시예에 따른 프리즘(104)은 제1 예시적인 실시예에 사용되는 분할 프리즘(104A)을 포함하는 광학 요소 그룹(104B)이다.A second exemplary embodiment of the prism 104 will be described. The prism 104 according to the present exemplary embodiment is an optical element group 104B including a division prism 104A used in the first exemplary embodiment.

도 6은 광축을 포함하는 광학 요소 그룹(104B)을 도시하는 단면도이다. 광학 요소 그룹(104B)은 두 개의 광학 요소(104B1, 104B2)를 포함한다. 글래스 재료로는 예컨대 합성 실리카가 사용된다. 광학 요소(제1 광학 요소)(104B1)는 기둥형 광학 로드의 중심부 주위를 공동화(hollowing)함으로써 형성되는 형상을 가진다. 광학 요소(104B1)는 프리즘(104A)의 편평면(104A2)(제1 표면)과 편평면(104A4)(제2 표면)을 저면과 상면으로서 각각 갖는 중공 기둥형 광학 로드이고, 외측면(104A6)을 가진다. 광학 요소(104B2)(제2 광학 요소)는 일측에 오목 추면을 가지고 타측에 볼록 추면을 갖는 원추 프리즘이다. 광학 요소(104B2)의 오목 추면은 오목 추면(104A1)과 유사하고, 광학 요소(104B2)의 볼록 추면은 볼록 추면(104A3)과 유사하다. 광학 요소(104B2)는 광학 요소(104B1)의 중공부에 배치된다.6 is a cross-sectional view showing an optical element group 104B including an optical axis. The optical element group 104B includes two optical elements 104B1 and 104B2. As the glass material, for example, synthetic silica is used. The optical element (first optical element) 104B1 has a shape formed by hollowing around the central portion of the columnar optical rod. The optical element 104B1 is a hollow columnar optical rod having a flat surface 104A2 (first surface) and a flat surface 104A4 (second surface) of the prism 104A respectively as a bottom surface and an upper surface, and the outer surface 104A6 ). The optical element 104B2 (second optical element) is a cone prism having a convex sidewall on one side and a convex sidewall on the other side. The concave surface of the optical element 104B2 is similar to the concave surface 104A1 and the convex truncate surface of the optical element 104B2 is similar to the convex truncate surface 104A3. The optical element 104B2 is disposed in the hollow portion of the optical element 104B1.

광학 요소 그룹(104B)은 프리즘(104A)과 유사한 방식으로 조명 광학계(100)에 배열될 수 있고, 유사한 효과를 기대할 수 있다.The optical element group 104B can be arranged in the illumination optical system 100 in a manner similar to the prism 104A, and a similar effect can be expected.

프리즘(104A)의 제조에 있어서는, 볼록 추면과 오목 추면을 가공하는 것이 어렵다. 또한, 프리즘(104A)에서는, 평면 부분과 원추면 부분에 투과막을 도포하는 것이 바람직하지만 투과막을 균일하게 도포하기가 어렵다. 한편, 광학 요소 그룹(104B)에서는, 광학 요소(104B1)와 광학 요소(104B2)가 별도로 제조되어 조립되며, 이로써 상기 문제를 해결할 수 있다. 그 결과, 광학 요소 그룹(104B)의 제조가 프리즘(104A)의 제조보다 용이하여 제조 수율을 증가시킬 수 있다.In manufacturing the prism 104A, it is difficult to process the convex and concave surfaces. In the prism 104A, it is preferable to apply the permeable film to the flat portion and the conical portion, but it is difficult to apply the permeable film uniformly. On the other hand, in the optical element group 104B, the optical element 104B1 and the optical element 104B2 are separately manufactured and assembled, thereby solving the above problem. As a result, the manufacture of the optical element group 104B is easier than the manufacture of the prism 104A, so that the manufacturing yield can be increased.

또한, 광학 요소(104B1)와 광학 요소(104B2)를 접합하여 광학 요소 그룹(104B)을 제조하는 것이 바람직하다. 제조 공정에서, 광학 요소(104B1)와 광학 요소(104B2)의 접합면에는 합성 실리카보다 낮은 굴절률을 갖는 유전체막이 사용 대상 광의 파장과 유사한 두께로 형성될 수 있다. 이런 경우에는, 광학 요소(104B1)와 광학 요소(104B2) 사이의 경계 영역에서 광이 전반사되어, 광 에너지가 유지될 수 있다.It is also preferable to manufacture the optical element group 104B by bonding the optical element 104B1 and the optical element 104B2. In the manufacturing process, a dielectric film having a refractive index lower than that of synthetic silica can be formed on the bonding surface of the optical element 104B1 and the optical element 104B2 to a thickness similar to the wavelength of light to be used. In this case, light is totally reflected in the boundary region between the optical element 104B1 and the optical element 104B2, so that the light energy can be maintained.

프리즘(104)의 제3 예시적인 실시예를 설명한다. 본 실시예에 따른 프리즘(104)은 제1 예시적인 실시예에 사용되는 분할 프리즘(104A)을 포함하는 광학 요소 그룹(104C)이다. 분할 방법은 광학 요소 그룹(104B)과 다르다.A third exemplary embodiment of the prism 104 will be described. The prism 104 according to the present embodiment is an optical element group 104C including a division prism 104A used in the first exemplary embodiment. The division method differs from the optical element group 104B.

도 7은 광축을 포함하는 광학 요소 그룹(104C)을 도시하는 단면도이다. 광학 요소 그룹(104C)은 두 개의 광학 요소(104C1, 104C2)를 포함한다. 글래스 재료로는 예컨대 합성 실리카가 사용된다. 광학 요소(제4 광학 요소)(104C1)는 기둥형 광학 로드의 중심부 주위를 공동화함으로써 형성되는 형상을 가진다. 광학 요소(104C1)는 광 출사면 측에 프리즘(104A)의 편평면(104A4)(제2 표면)을 가지며 외측면(104A6)의 일부를 갖는 중공 기둥형 로드이다. 광학 요소(제3 광학 요소)(104C2)는 오목 추면(104A1), 편평면(104A2)(제1 표면), 볼록 추면(104A3) 및 프리즘(104A)의 외측면(104A6)의 일부를 갖는 프리즘이다. 광학 요소(104C1)는 광학 요소(104C1)의 중공부에 광학 요소(104C2)의 볼록 추면(104A3)을 가진다.7 is a cross-sectional view showing an optical element group 104C including an optical axis. The optical element group 104C includes two optical elements 104C1 and 104C2. As the glass material, for example, synthetic silica is used. The optical element (fourth optical element) 104C1 has a shape formed by hollowing around the central portion of the columnar optical rod. The optical element 104C1 is a hollow columnar rod having a flat surface 104A4 (second surface) of the prism 104A on the light exit surface side and a part of the outer surface 104A6. The optical element (third optical element) 104C2 is a prism having a concave surface 104A1, a flat surface 104A2 (first surface), a convex surface 104A3, and a portion of the outer surface 104A6 of the prism 104A. to be. The optical element 104C1 has a convex fringe 104A3 of the optical element 104C2 in the hollow portion of the optical element 104C1.

광학 요소 그룹(104C)은 프리즘(104A)와 유사한 방식으로 조명 광학계(100)에 배열될 수 있고, 유사한 효과를 기대할 수 있다. 제2 예시적인 실시예와 마찬가지로, 광학 요소 그룹(104C)의 제조는 프리즘(104A)의 제조보다 용이하다.The optical element group 104C can be arranged in the illumination optical system 100 in a manner similar to the prism 104A, and a similar effect can be expected. As in the second exemplary embodiment, the manufacture of the optical element group 104C is easier than the manufacture of the prism 104A.

프리즘(104A)의 내측면(104A5)와 마찬가지로, 반사막이 광학 요소(104C1)의 내측면에 형성된다면, 광학 요소 그룹(104C)이 복수의 광학 요소를 포함하기 때문에 광학 요소(104C1)의 내측면 상의 반사막을 증발시키는 것이 프리즘(104A)보다 용이하다. 또한, 광학 요소(104B1)의 내측면의 일부에 형성된 막을 증발시키는 것에 비해, 광학 요소(104C1)의 내측면 전체에 형성된 막을 증발시키는 것이 보다 용이하다.If the reflective film is formed on the inner surface of the optical element 104C1 similarly to the inner surface 104A5 of the prism 104A, since the optical element group 104C includes a plurality of optical elements, It is easier to evaporate the reflective film on the prism 104A than on the prism 104A. It is also easier to evaporate the film formed on the entire inner surface of the optical element 104C1, compared to evaporating the film formed on a part of the inner surface of the optical element 104B1.

프리즘(104)의 제4 예시적인 실시예를 설명한다. 본 예시적인 실시예에 따른 프리즘(104)은 제1 예시적인 실시예에 사용되는 분할 프리즘(104A)을 포함하는 광학 요소 그룹(104D)이다.A fourth exemplary embodiment of the prism 104 will be described. The prism 104 according to the present exemplary embodiment is an optical element group 104D including a division prism 104A used in the first exemplary embodiment.

도 8은 광축을 포함하는 광학 요소 그룹(104D)을 도시하는 단면도이다. 광학 요소 그룹(104D)은 세 개의 광학 요소(104C1, 104B2, 104D1)를 포함한다.8 is a cross-sectional view showing an optical element group 104D including an optical axis. The optical element group 104D includes three optical elements 104C1, 104B2 and 104D1.

광학 요소(104C1)는 제3 예시적인 실시예에서 설명한 광학 요소이다. 광학 요소(104B2)는 제2 예시적인 실시예에서 설명한 광학 요소이다. 광학 요소(104D1)은 편평면(104A2)(제1 표면)과, 프리즘(104A)의 외측면(104A6)의 일부를 갖는 중공 기둥형 광학 로드이다.The optical element 104C1 is the optical element described in the third exemplary embodiment. The optical element 104B2 is the optical element described in the second exemplary embodiment. The optical element 104D1 is a hollow columnar optical rod having a flat surface 104A2 (first surface) and a portion of the outer surface 104A6 of the prism 104A.

프리즘(104)의 광학 요소 그룹의 다른 예로서, 본 발명은 기둥의 광축을 통과하는 단면에 의해 광학 요소(104C1)를 둘 또는 넷으로 분할하거나, 다양한 다른 분할 방법에 의해 광학 요소(104C1)를 분할함으로써 얻어지는 광학 요소 그룹에 적용될 수 있다.As another example of the group of optical elements of the prism 104, the present invention can be used to divide the optical element 104C1 into two or four by a cross-section through the optical axis of the column, And can be applied to optical element groups obtained by dividing.

이런 프리즘과 광학 요소 그룹을 포함하는 프리즘(104)은 윤대 조명과 같은 오프-축 조명시에도 광 이용 효율의 저하와 조명 대상 평면의 휘도 감소를 억제할 수 있다.The prism 104 including the prism and the optical element group can suppress the decrease in the light utilization efficiency and the decrease in the luminance of the illumination target plane even in off-axis illumination such as annular illumination.

본 예시적인 실시예에서는, 원추면이 프리즘(104)에 사용된다. 대안으로서, 직사각 원통면이 사용될 수 있다. 이런 경우에는, 원형 또는 직사각형 원통 오목면과 볼록면이 사용될 수 있다. 본 예시적인 실시예에서, 프리즘(104)의 측면은 기둥이다. 그러나, 대안으로서, 직사각기둥이 사용될 수 있다.In the present exemplary embodiment, a conical surface is used for the prism 104. [ Alternatively, a rectangular cylindrical surface may be used. In this case, circular or rectangular cylindrical concave and convex surfaces may be used. In this exemplary embodiment, the side of the prism 104 is a column. However, alternatively, a rectangular column may be used.

또한, 예컨대, 투영 광학계에 의해 포착되는 광의 양을 증가시키기 위해, 동공면의 개구 다이아프램의 개구의 직경을 증가시킬 수 있다. 그러나, 개구 다이아프램(5)의 개구의 직경이 증가하면 투영 광학계의 개구수(NA)도 증가하고 초점 심도가 감소하여 노광 장치에서 공정 마진이 상실된다.Further, for example, in order to increase the amount of light captured by the projection optical system, the diameter of the aperture of the aperture diaphragm of the pupil plane can be increased. However, as the diameter of the aperture of the aperture diaphragm 5 increases, the numerical aperture (NA) of the projection optical system also increases and the depth of focus decreases, thereby losing the process margin in the exposure apparatus.

프리즘(104)의 제5 예시적인 실시예를 설명한다. 도 14는 프리즘(104E)의 광축을 포함하는 평면을 따라 취한 단면도와, 프리즘(104E)의 우측에서 바라본 측면도이다. 프리즘(104E)은 광학 요소(104E1)와 광학 요소(104E2)를 포함한다. 광학 요소(104E1)는 원형 오목 추면(104E11)과, 원형 볼록 추면(104E12)과, 원형 오목 추면(104E11)의 외주부와 원형 볼록 추면(104E12)의 외주부를 연결하는 외측면(104E13)을 포함한다. 광학 요소(104E2)는 중공 기둥형 부재이며, 내측면(104E22)을 포함한다. 내측면(104E22)에는 반사막이 마련된다. 내측면(104E22)은 원형 볼록 추면(104E12)을 둘러싸도록 배치되는 기둥형 측면이다. 광선(1E)은 원형 오목 추면(104E11)에 입사되고 광학 요소(104E1)를 통해 이동하여 원형 볼록 추면(104E12)에서 출사된다. 광선(2E)은 원형 오목 추면(104E11)에 입사되고 광학 요소(104E1)를 통해 이동하여 원형 볼록 추면(104E12)에서 출사된다. 또한, 광선은 내측면(104E22)에 의해 반사되고 프리즘(104E)으로부터 출사된다. 즉, 광선(2E)은 광축에 대해 외측 방향을 향해 소정 각도로 원형 오목 추면(104E11)에 입사되고, 원형 볼록 추면(104E12)으로부터 출사된다. 이어서, 광선은 내측면(104E22)에 의해 반사되고 내측 방향으로 출사된다. 광선(3E)은 원형 오목 추면(104E11)에 입사되며, 광학 요소(104E1)를 통해 이동하는 도중에 외측면(104E13)에 의해 전반사된다. 이어서, 광선은 원형 볼록 추면(104E12)으로부터 출사된다. 상술한 바와 같이, 외측면(104E13)은 광을 전반사하는 반사면의 기능을 가진다. 광선(3E)은 외측 방향으로 원형 오목 추면(104E11)에 의해 굴절되고 외측면(104E13)에 의해 전반사되며, 따라서 광선(3E)은 내측 방향으로 진행된다. 그 결과, 외측면(104E13)과 내측면(104E22)은 프리즘(104E)에서 출사되는 광의 확산을 저감한다. 원형 오목 추면(104E11)과 원형 볼록 추면(104E12)의 원추면은 유사한 형상을 가지며, 외측면(104E13)과 내측면(104E22)은 광축에 평행하다. 출사광은 입사광의 각도와 유사한 각도로 출사된다.A fifth exemplary embodiment of the prism 104 will be described. 14 is a cross-sectional view taken along a plane including the optical axis of the prism 104E and a side view seen from the right side of the prism 104E. The prism 104E includes an optical element 104E1 and an optical element 104E2. The optical element 104E1 includes a circular concave cone 104E11, a circular convex convex cone 104E12 and an outer side 104E13 connecting the outer circumferential portion of the circular concave cone 104E11 and the outer circumference of the circular convex convex portion 104E12 . The optical element 104E2 is a hollow columnar member and includes an inner surface 104E22. A reflective film is provided on the inner surface 104E22. The inner side face 104E22 is a columnar side face arranged to surround the circular convex convex curved face 104E12. The light ray 1E is incident on the circular concave cone 104E11, travels through the optical element 104E1, and is emitted from the circular convex convex cone 104E12. The ray 2E is incident on the circular concave surface 104E11, travels through the optical element 104E1, and is emitted from the circular convex convex surface 104E12. Further, the light beam is reflected by the inner surface 104E22 and emitted from the prism 104E. That is, the light ray 2E is incident on the circular concave cone 104E11 at a predetermined angle toward the outward direction with respect to the optical axis, and is emitted from the circular convex convex facet 104E12. Then, the light beam is reflected by the inner surface 104E22 and emitted in the inward direction. The ray 3E is incident on the circular concave surface 104E11 and is totally reflected by the outer surface 104E13 while moving through the optical element 104E1. Then, the light beam is emitted from the circular convex convex surface 104E12. As described above, the outer surface 104E13 has the function of a reflecting surface that totally reflects light. The ray 3E is refracted by the circular concave cone 104E11 in the outward direction and totally reflected by the outer side 104E13 so that the ray 3E proceeds in the inward direction. As a result, the outer surface 104E13 and the inner surface 104E22 reduce diffusion of light emitted from the prism 104E. The conical surfaces of the circular concave cone 104E11 and the circular convex convex cone 104E12 have a similar shape, and the outer surface 104E13 and the inner surface 104E22 are parallel to the optical axis. The emitted light is emitted at an angle similar to the angle of the incident light.

도 9를 참조하여 본 발명의 제2 예시적인 실시예에 따른 투영 노광 장치를 설명한다. 도면에 사용되는 동일한 참조번호는 마찬가지로 적용되며, 설명의 일부는 생략한다.A projection exposure apparatus according to a second exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The same reference numerals as used in the drawings apply equally, and a part of the explanation is omitted.

조명 광학계는 제1 예시적인 실시예에 따른 프리즘(104A)과, 도 10에 도시된 육각형 광학 로드(114)와, 도 11에 도시된 프리즘(106)을 포함한다. 조명 광학계는 광로에 하나의 광학 부재를 선별적으로 제공하기 위해 이들 광학 요소를 광로에 집어넣고 광로에서 꺼내는 프리즘 교환기(112)를 추가로 포함한다.The illumination optical system includes a prism 104A according to the first exemplary embodiment, a hexagonal optical rod 114 shown in Fig. 10, and a prism 106 shown in Fig. The illumination optical system further includes a prism changer 112 for putting these optical elements into the optical path and taking them out of the optical path to selectively provide one optical member to the optical path.

프리즘(106)은, 도 11a에 도시된 바와 같이, 외측 볼록 추면(1061)과 내측 볼록 추면(1062)을 광 입사면에 포함한다. 조명 광학계는 광 출사면에 오목 추면(1063)을 추가로 포함하며 중심부는 중공형이다. 도 11b는 프리즘(106)을 통과하는 광선을 도시한다. 볼록 추면이 입사면에 배치되고 오목 추면이 출사면에 배치되면, 광선(4)은 볼록 추면(1061)에 입사되고 광축(O)에 보다 가까워진다. 그러나, 도면에 도시된 바와 같이, 굴절면이 마련되지 않은 상태에서 중공 영역을 통과하는 광선(5)과 광선(6)의 경우에, 광 이동로는 영향을 받지 않는다. 그 결과, 프리즘(106)이 사용되는 경우에는 출사 광속의 직경이 입사 광속의 직경보다 작을 수 있다.The prism 106 includes an outer convex surface 1061 and an inner convex surface 1062 on the light incident surface, as shown in Fig. 11A. The illumination optical system further includes a concave surface 1063 on the light exit surface, and the central portion is hollow. 11B shows the light rays passing through the prism 106. FIG. When the convex trunk is disposed on the incident surface and the concave trunk is disposed on the exit surface, the light beam 4 enters the convex trunk 1061 and gets closer to the optical axis O. [ However, as shown in the figure, in the case of the light ray 5 and the light ray 6 passing through the hollow region without the refracting surface, the light path is not affected. As a result, when the prism 106 is used, the diameter of the emitted light flux may be smaller than the diameter of the incident light flux.

조명 광학계의 동공면에 형성되는 광 강도 분포(유효 광원 분포)의 확산을 저감하기 위해서는, 예컨대 σ 다이아프램으로 유효 광원 분포의 외주부를 절단하는 것이 필요하다. 그러나, 이런 경우에는 광 이용 효율이 저하된다. 그러나, 프리즘(106)을 사용함으로써 유효 광원 형상이 협소화될 수 있고 광 이용 효율의 저하가 억제될 수 있다.In order to reduce the diffusion of the light intensity distribution (effective light source distribution) formed on the pupil plane of the illumination optical system, it is necessary to cut the outer periphery of the effective light source distribution with a sigma diaphragm, for example. However, in this case, the light utilization efficiency is lowered. However, by using the prism 106, the shape of the effective light source can be narrowed and the deterioration of the light utilization efficiency can be suppressed.

조명 광학계는 개구 형상이 각기 다른 복수의 σ 다이아프램을 선별 배치할 수 있는 다이아프램 교환기(113)를 플라이-아이 광학계(109)의 출사면 주위에 포함한다.The illumination optical system includes a diaphragm exchanger 113 around the exit surface of the fly-eye optical system 109 capable of selectively arranging a plurality of sigma diaphragms having different opening shapes.

도 12는 σ 다이아프램 교환기(113)의 개략적인 구조도이다. 예컨대, 프리즘 교환기(112)가 광로에 광학 로드(114)를 배치하도록 구동될 때, σ 다이아프램 교환기(113)는 σ 다이아프램(113A)이 플라이-아이 광학계(109)의 출사면 주위에 배치되도록 구동된다. 프리즘 교환기(112)가 광로에 프리즘(104)을 배치하도록 구동될 때, σ 다이아프램 교환기(113)는 σ 다이아프램(113B)이 플라이-아이 광학계(109)의 출사면 주위에 배치되도록 구동된다. 프리즘 교환기(112)가 광로에 프리즘(106)을 배치하기 위해 구동될 때, σ 다이아프램 교환기(113)는 σ 다이아프램(113C)이 플라이-아이 광학계(109)의 출사면 주위에 배치되도록 구동된다.Fig. 12 is a schematic structural view of the sigma diaphragm exchanger 113. Fig. For example, when the prism exchanger 112 is driven to place the optical rod 114 in the optical path, the sigma diaphragm exchanger 113 allows the sigma diaphragm 113A to be placed around the exit surface of the fly-eye optical system 109 . When the prism exchanger 112 is driven to arrange the prism 104 in the optical path, the sigma diaphragm exchanger 113 is driven so that the sigma diaphragm 113B is disposed around the exit surface of the fly-eye optical system 109 . When the prism exchanger 112 is driven to place the prism 106 in the optical path, the sigma diaphragm switch 113 is driven such that the sigma diaphragm 113C is arranged around the exit surface of the fly-eye optical system 109 do.

예시적인 실시예에 따른 투영 노광 장치는 프리즘 교환기(112)와 σ 다이아프램 교환기(113)를 사용하여 복수 유형의 유효 광원 분포(조명 조건)를 형성할 수 있다. 그 결과, 마스크(M)의 패턴에 따라, 유효 광원 분포가 마스크(M)를 조명하기 위해 선택된다. 투영 노광 장치는 투영 광학계(PO)를 통해 마스크(M)의 패턴을 기판(P)에 투영하여 기판(P)을 광에 노출한다. 예시적인 실시예에 따른 투영 노광 장치에서는, 마스크(M)의 패턴에 따라, 높은 패턴 해상도를 갖는 유효 광원 분포가 마스크(M)를 조명하여 기판을 광에 노출하기 위해 선택될 수 있다. 그 결과, 생산성이 증가할 수 있다.The projection exposure apparatus according to the exemplary embodiment can form plural types of effective light source distribution (illumination conditions) by using the prism exchanger 112 and the sigma diaphragm exchanger 113. As a result, depending on the pattern of the mask M, the effective light source distribution is selected to illuminate the mask M. [ The projection exposure apparatus projects a pattern of the mask M onto the substrate P through the projection optical system PO to expose the substrate P to light. In the projection exposure apparatus according to the exemplary embodiment, an effective light source distribution having a high pattern resolution can be selected in order to illuminate the mask M to expose the substrate to light, depending on the pattern of the mask M. [ As a result, productivity can be increased.

예시적인 실시예에 따른 투영 노광 장치는 기판(P)에 입사되는 광의 각도 분포(유효 광원 분포)를 측정하는 측정 소자(JS)를 포함한다. 측정 소자(JS)는 기판을 유지하는 기판 스테이지(PS)에 배치되어 이동한다. 측정 소자(JS)는 직경이 1 mm 이하인 핀홀이 형성되는 핀홀판과, 약 100 mm만큼 핀홀에서 이격된 위치에 있는 전하 결합 소자(CCD) 카메라를 포함한다. 기판(P)에 입사되는 광의 각도 분포를 측정시, 측정 소자(JS)는 화상 평면에 핀홀을 배치하기 위해 노광 영역으로 이동하며 핀홀을 통해 전달되는 광의 광 분포 화상을 CCD 카메라로 포착한다. CCD 카메라에 의해 포착되는 화상 데이터를 사용하여, 기판(P)에 입사되는 광의 각도 분포를 산출할 수 있다. 이어서, 기판(P)에 입사되는 광의 각도 분포가 바람직한 각도 분포가 되도록, 산출된 각도 분포를 사용하여 프리즘(104)의 위치와 배향을 조정한다. 측정 소자(JS)는 투영 광학계의 텔레센트릭 조정을 위해서도 사용될 수 있다.The projection exposure apparatus according to the exemplary embodiment includes a measuring element JS for measuring an angular distribution (effective light source distribution) of light incident on the substrate P. The measuring element JS is disposed and moved on the substrate stage PS holding the substrate. The measuring element JS includes a pinhole plate in which a pinhole having a diameter of 1 mm or less is formed and a charge coupled device (CCD) camera in a position apart from the pinhole by about 100 mm. When measuring the angular distribution of the light incident on the substrate P, the measuring element JS moves to the exposure area to locate the pinhole in the image plane, and captures the light distribution image of the light transmitted through the pinhole with the CCD camera. The angular distribution of the light incident on the substrate P can be calculated using the image data captured by the CCD camera. Then, the position and orientation of the prism 104 are adjusted using the calculated angular distribution such that the angular distribution of the light incident on the substrate P is a preferable angular distribution. The measuring element JS can also be used for telecentric adjustment of the projection optical system.

이하, 제3 예시적인 실시예를 설명한다. 상술한 노광 장치를 사용하여 소자(반도체 집적 회로 소자, 액정 디스플레이 소자 등)를 제조하는 방법을 설명한다. 소자는, 상술한 노광 장치를 사용하여, 감광성 재료가 도포되는 기판(예컨대 웨이퍼와 유리 기판)을 광에 노출하는 단계와, 기판(감광성 재료)을 현상하는 단계와, 다른 공지된 단계를 밟아 제조된다. 다른 공지된 단계는 예컨대 식각, 레지스트 박리, 다이싱, 접합 및 패키징을 포함한다. 본 소자 제조 방법에 따르면, 공지된 소자보다 우수한 품질을 갖는 소자가 제조될 수 있다.A third exemplary embodiment will be described below. A method of manufacturing an element (a semiconductor integrated circuit element, a liquid crystal display element, or the like) using the above-described exposure apparatus will be described. The device can be manufactured by using the above-described exposure apparatus, exposing a substrate (e.g., a wafer and a glass substrate) to which a photosensitive material is applied to light, developing the substrate (photosensitive material) do. Other known steps include, for example, etching, resist stripping, dicing, bonding and packaging. According to the device manufacturing method, a device having a quality superior to that of a known device can be manufactured.

상술한 예시적인 실시예에 따르면, 광속의 단면 형상을 변화시키는 프리즘에서 나오는 광을 사용하여 기판을 광에 노출할 때 광 이용 효율의 저하가 억제될 수 있다.According to the above-described exemplary embodiment, a decrease in the light utilization efficiency can be suppressed when the substrate is exposed to light by using light emitted from a prism that changes the cross-sectional shape of the light beam.

예시적인 실시예를 참조하여 본 발명을 설명하긴 했지만, 물론 본 발명은 개시된 예시적인 실시예에 한정되지 않는다. 하기 특허청구범위의 범위는 이런 일체의 변경과, 균등한 구조 및 기능을 망라하도록 광의의 해석을 따라야 한다.Although the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. The scope of the following claims is to be accorded the broadest interpretation so as to encompass all such modifications and equivalent structures and functions.

Claims (17)

광속의 단면 형상을 변화시키도록 구성되는 프리즘 광학계를 포함하고 조명 대상 평면을 조명하도록 구성되는 조명 광학계로서,
상기 프리즘 광학계는 광 입사면과, 광 출사면과, 상기 광 입사면에서 상기 광 출사면으로 연장되는 외측면을 포함하고,
상기 광 입사면은 오목 추면(concave conical surface)을 포함하고,
상기 광 출사면은 볼록 추면(convex conical surface)을 포함하고,
상기 외측면은 상기 광 입사면에서 상기 외측면으로 입사되는 광을 반사하는 반사면을 포함하는 조명 광학계.An illumination optical system comprising a prism optical system configured to change a cross-sectional shape of a light beam and configured to illuminate a plane to be illuminated,
Wherein the prism optical system includes a light incident surface, a light exit surface, and an outer surface extending from the light incident surface to the light exit surface,
Wherein the light incidence surface comprises a concave conical surface,
Wherein the light exit surface comprises a convex conical surface,
And the outer surface includes a reflecting surface that reflects light incident from the light incident surface to the outer surface. 제1항에 있어서,
상기 광 입사면은 상기 오목 추면의 꼭지점(vertex)을 통과하는 중심축에 대해 상기 오목 추면의 외측에 배치되는 제1 표면을 포함하고,
상기 광 출사면은 상기 볼록 추면의 꼭지점을 통과하는 중심축에 대해 상기 볼록 추면의 외측에 배치되는 제2 표면을 포함하는 조명 광학계.The method according to claim 1,
The light incidence surface includes a first surface disposed outside the concave surface with respect to a central axis passing through a vertex of the concave surface,
And the light exit surface includes a second surface disposed outside the convex truncate surface with respect to a central axis passing through the vertex of the convex truncate surface. 제2항에 있어서, 상기 광 입사면의 상기 오목 추면과 상기 제1 표면에 입사되도록 광을 안내하는 조명 광학계.The illumination optical system according to claim 2, wherein light is guided to be incident on the concave surface and the first surface of the light incidence surface. 제1항에 있어서, 상기 반사면은 상기 광 입사면으로부터 입사되는 광을 전반사하는 조명 광학계.The illumination optical system according to claim 1, wherein the reflective surface totally reflects light incident from the light incident surface. 제1항에 있어서, 상기 반사면은 반사막이 형성되는 표면인 조명 광학계.The illumination optical system according to claim 1, wherein the reflective surface is a surface on which a reflective film is formed. 제1항에 있어서, 상기 프리즘 광학계는 복수의 광학 요소를 접합함으로써 형성되고, 상기 광학 요소의 접합면에는 상기 광학 요소의 굴절률보다 낮은 굴절률을 갖는 막이 형성되는 조명 광학계.The illumination optical system according to claim 1, wherein the prism optical system is formed by bonding a plurality of optical elements, and a film having a refractive index lower than the refractive index of the optical element is formed on a bonding surface of the optical element. 제2항에 있어서, 상기 프리즘 광학계는 상기 제1 표면과 상기 제2 표면을 저면(bottom face)과 상면(top face)으로서 각각 가지며, 상기 프리즘 광학계는 상기 외측면을 갖는 중공 기둥형 광학 요소와, 상기 제1 광학 요소의 중공부에 상기 오목 추면과 상기 볼록 추면을 갖는 광학 요소를 포함하는 조명 광학계.The prism optical system according to claim 2, wherein the prism optical system has the first surface and the second surface respectively as a bottom face and a top face, and the prism optical system includes a hollow cylindrical optical element having the outer surface, And an optical element having the concave surface and the convex surface on a hollow portion of the first optical element. 제2항에 있어서, 상기 프리즘 광학계는 오목 추면, 제1 표면, 볼록 추면 및 외측면을 갖는 광학 요소와; 상기 볼록 추면이 중공부에 배치되어 있고 상기 제2 표면과 상기 외측면을 포함하는 중공 기둥형 광학 요소를 포함하는 조명 광학계.The prism optical system according to claim 2, wherein the prism optical system includes: an optical element having a concave surface, a first surface, a convex surface, and an outer surface; And a hollow cylindrical optical element in which the convex curved surface is disposed in the hollow portion and includes the second surface and the outer surface. 제1항에 있어서, 상기 광 입사면과 상기 광 출사면과 상기 외측면은 하나의 프리즘을 형성하는 조명 광학계.The illumination optical system according to claim 1, wherein the light incident surface, the light exit surface, and the outer surface form one prism. 제1항에 있어서, 상기 오목 추면은 원형 오목 추면이고, 상기 볼록 추면은 원형 볼록 추면이며, 상기 외측면은 기둥형 측면인 조명 광학계.The illumination optical system according to claim 1, wherein the concave surface is a circular concave surface, the convex surface is a convex convex surface, and the outer surface is a columnar surface. 제1항에 있어서, 상기 프리즘은 상기 볼록 추면으로부터 출사되는 광을 전반사하는 반사면을 포함하는 조명 광학계.The illumination optical system according to claim 1, wherein the prism includes a reflecting surface for totally reflecting light emitted from the convex curved surface. 제11항에 있어서, 상기 볼록 추면으로부터 출사되는 광을 반사하는 상기 반사면은 상기 볼록 추면을 둘러싸도록 배치되는 상기 기둥형 측면에 형성되는 조명 광학계.The illumination optical system according to claim 11, wherein the reflecting surface for reflecting light emitted from the convex trunk is formed on the columnar side surface so as to surround the convex trunk. 제1항에 있어서, 상기 프리즘 광학계는 상기 오목 추면, 상기 볼록 추면 및 상기 외측면을 갖는 광학 요소와; 내측면에 형성되는 볼록 추면으로부터 출사되는 광을 반사하는 반사면을 갖는 중공 기둥형 광학 요소를 포함하는 조명 광학계.The optical system according to claim 1, wherein the prism optical system includes: an optical element having the concave surface, the convex surface, and the outer surface; And a hollow pillar-shaped optical element having a reflecting surface for reflecting the light emitted from the convex truncate surface formed on the inner side surface. 제1항에 있어서, 상기 프리즘 광학계로부터 출사되는 광속의 외경은 상기 프리즘 광학계에 입사되는 광속의 외경과 동일한 조명 광학계.The illumination optical system according to claim 1, wherein the outer diameter of the light flux emitted from the prism optical system is equal to the outer diameter of the light flux incident on the prism optical system. 마스크를 조명하는 제1항에 따른 조명 광학계와,
기판에 마스크의 패턴 화상을 투영하는 투영 광학계를 포함하는 노광 장치.An illumination optical system according to claim 1 for illuminating a mask,
And a projection optical system for projecting a pattern image of the mask onto the substrate. 제15항에 따른 노광 장치를 사용하여 기판을 노광하는 단계와,
노광된 기판을 현상하는 단계를 포함하는 소자 제조 방법.A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: exposing a substrate using an exposure apparatus according to claim 15;
And developing the exposed substrate. 광 입사면과, 광 출사면과, 상기 광 입사면 측에서 상기 광 출사면으로 연장되는 외측면을 갖는 프리즘 광학계로서,
상기 광 입사면은 오목 추면을 포함하고,
상기 광 출사면은 볼록 추면을 포함하고,
상기 외측면은 상기 광 입사면으로부터 상기 외측면에 입사되는 광을 반사하는 반사면을 포함하며,
상기 프리즘 광학계는 상기 볼록 추면으로부터 출사되는 광을 반사하는 반사면을 포함하는 프리즘 광학계.1. A prism optical system having a light incident surface, a light exit surface, and an outer surface extending from the light incident surface to the light exit surface,
Wherein the light incidence surface includes a concave surface,
Wherein the light exit surface includes a convex fringe surface,
Wherein the outer surface includes a reflecting surface for reflecting light incident on the outer surface from the light incident surface,
Wherein the prism optical system includes a reflecting surface for reflecting light emitted from the convex trunk.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3303322B2 (en) * 1992-01-31 2002-07-22 株式会社ニコン Projection exposure apparatus and method, and element manufacturing method
JP3295956B2 (en) * 1992-03-05 2002-06-24 株式会社ニコン Exposure apparatus and method for manufacturing semiconductor element
NL194929C (en) * 1992-10-20 2003-07-04 Samsung Electronics Co Ltd Projection exposure system.
EP1041606A4 (en) * 1997-11-10 2005-02-09 Nikon Corp Exposure apparatus
JP2007212694A (en) * 2006-02-09 2007-08-23 Sony Corp Beam splitter
JP2008071791A (en) * 2006-09-12 2008-03-27 Canon Inc Illumination optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing device

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