KR102420255B1 - optical element for exposure system - Google Patents

optical element for exposure system Download PDF

Info

Publication number
KR102420255B1
KR102420255B1 KR1020200107912A KR20200107912A KR102420255B1 KR 102420255 B1 KR102420255 B1 KR 102420255B1 KR 1020200107912 A KR1020200107912 A KR 1020200107912A KR 20200107912 A KR20200107912 A KR 20200107912A KR 102420255 B1 KR102420255 B1 KR 102420255B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
incident
optical element
light beam
exposure system
light
Prior art date
Application number
KR1020200107912A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20220026860A (en
Inventor
이정운
마용원
신보성
Original Assignee
부산대학교 산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 부산대학교 산학협력단 filed Critical 부산대학교 산학협력단
Priority to KR1020200107912A priority Critical patent/KR102420255B1/en
Publication of KR20220026860A publication Critical patent/KR20220026860A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102420255B1 publication Critical patent/KR102420255B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/04Prisms
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70225Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements

Abstract

본 발명은 노광시스템용 광학소자에 대한 것으로서, 더욱 상세하게는 광 간섭과 반사를 활용항 노광되는 위치를 원거리로 맞출 수 있는 노광시스템용 광학소자에 대한 것이다.
본 발명에 따른 노광시스템용 광학소자는 상면에 광선이 입사되는 입사면과, 하면에 상기 입사면에서 입사된 광선이 출사되는 출사면과, 상기 상면과 상기 하면 사이의 측면으로 형성된 프리즘으로 된다. 이때 상기 출사면에는 상기 입사면에서 입사된 광선이 분할되어 상기 입사면으로 반사될 수 있도록 전반사 코팅된 분할홈이 형성된다. 그리고 상기 입사면에는 상기 분할홈에서 반사된 광선이 상기 측면으로 전반사되도록 전반사 코팅된 반사부가 형성된다. 그리고 상기 측면은 상기 반사부에서 전반사된 광선이 상기 출사면으로 출사되어 중첩하여 노광될 수 있게 전반사코팅된다.
본 발명에 의하면, 광학소자의 입사면에 형성된 반사부의 형태에 따라 입사면으로 입사되는 광선의 형상을 결정지을 수 있다. 그래서 원하는 형태의 광선을 입사시켜 이용할 수 있다.
The present invention relates to an optical device for an exposure system, and more particularly, to an optical device for an exposure system that can remotely adjust an exposure position using optical interference and reflection.
An optical element for an exposure system according to the present invention includes an incident surface on which a light ray is incident on an upper surface, an exit surface on which a light ray incident from the incident surface is emitted on a lower surface, and a prism formed by a side surface between the upper surface and the lower surface. In this case, a split groove coated with total reflection is formed on the exit surface so that the light beam incident from the incidence surface is divided and reflected to the incident surface. In addition, a reflector coated with total reflection is formed on the incident surface so that the light beam reflected from the dividing groove is totally reflected to the side surface. And the side surface is coated with total reflection so that the light rays totally reflected by the reflection unit are emitted to the exit surface and overlapped and exposed.
According to the present invention, the shape of the light beam incident on the incident surface can be determined according to the shape of the reflection unit formed on the incident surface of the optical element. Therefore, a desired type of light can be incident and used.

Description

노광시스템용 광학소자{optical element for exposure system}Optical element for exposure system

본 발명은 노광시스템용 광학소자에 대한 것으로서, 더욱 상세하게는 광 간섭과 반사를 활용하여 노광되는 위치를 원거리로 맞출 수 있는 노광시스템용 광학소자에 대한 것이다.The present invention relates to an optical device for an exposure system, and more particularly, to an optical device for an exposure system that can remotely adjust an exposure position using optical interference and reflection.

노광시스템은 프린트 기판 및 액정 기판 등의 제조에 널리 사용되며, 노광시스템에서 광학소자로 사용되는 프리즘은 광학계에서 빔을 나눠주는 스플리터의 역할과 빔을 다시 모아주는 미러의 역할을 동시에 수행하여 시스템을 좀 더 간소하게 만들어 준다. 또한 반사면이 대칭 구조로 정렬의 시간을 줄여주는 역할을 수행한다.The exposure system is widely used in the manufacture of printed circuit boards and liquid crystal boards, and the prism used as an optical element in the exposure system plays the role of a splitter that divides the beam in the optical system and the role of a mirror that collects the beam at the same time. makes it a bit simpler. In addition, the reflective surface plays a role of reducing the alignment time with a symmetrical structure.

등록특허 제10-1782672호(등록일자 2017년 9월 21일)Registered Patent No. 10-1782672 (Registration Date September 21, 2017) 등록특허 제10-1506358호(등록일자 2015년 03월 20일)Registered Patent No. 10-1506358 (Registration date March 20, 2015) 공개특허 제10-2008-0073795호(공개일자 2008년 08월 11일)Patent Publication No. 10-2008-0073795 (published on August 11, 2008)

종래의 경우 노광시스템의 광학소자로 사용되는 프리즘은 출사되어 노광되는 위치가 프리즘에서 가깝다. 이때 광학소자를 사용하여 구리와 같은 금속 재질을 가공할 경우 금속재질에 레이저 광선이 노광되면 흄, 금속 파티클 등이 발생한다. 프리즘과 노광되는 위치가 가깝기 때문에 프리즘에 금속 파티클이 증착된다는 문제점이 있었다. 이 경우 에어 블로우 등의 장치를 설치하여 프리즘에 금속 파티클이 부착되는 것을 방지해야 하지만 그 간격이 가까우므로 에어 블로우와 같은 장치를 설치하기에도 어려움이 따른다는 문제점이 있었다.In the conventional case, a prism used as an optical element of an exposure system is emitted and exposed at a position close to the prism. At this time, when a metal material such as copper is processed using an optical element, fumes, metal particles, etc. are generated when the laser beam is exposed to the metal material. There is a problem in that metal particles are deposited on the prism because the exposure position is close to the prism. In this case, it is necessary to prevent metal particles from adhering to the prism by installing a device such as an air blower, but there is a problem in that it is difficult to install a device such as an air blower because the gap is close.

본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것이다. 본 발명은 원거리에 노광될 수 있도록 하는 노광시스템용 광학소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is to solve the above problems. An object of the present invention is to provide an optical device for an exposure system that can be exposed at a long distance.

또한, 본 발명은 금속 파티클이 증착되는 것을 방지할 수 있는 노광시스템용 광학소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide an optical device for an exposure system capable of preventing metal particles from being deposited.

본 발명에 따른 노광시스템용 광학소자는 상면에 광선이 입사되는 입사면과, 하면에 상기 입사면에서 입사된 광선이 출사되는 출사면과, 상기 상면과 상기 하면 사이의 측면으로 형성된 프리즘으로 된다. 이때 상기 출사면에는 상기 입사면에서 입사된 광선이 분할되어 상기 입사면으로 반사될 수 있도록 전반사 코팅된 분할홈이 형성된다. 그리고 상기 입사면에는 상기 분할홈에서 반사된 광선이 상기 측면으로 전반사되도록 전반사 코팅된 반사부가 형성된다. 그리고 상기 측면은 상기 반사부에서 전반사된 광선이 상기 출사면으로 출사되어 중첩하여 노광될 수 있게 전반사코팅된다.An optical element for an exposure system according to the present invention includes an incident surface on which a light ray is incident on an upper surface, an exit surface on which a light ray incident from the incident surface is emitted on a lower surface, and a prism formed by a side surface between the upper surface and the lower surface. In this case, a split groove coated with total reflection is formed in the exit surface so that the light beam incident from the incidence surface is divided and reflected to the incident surface. In addition, a reflector coated with total reflection is formed on the incident surface so that the light beam reflected from the dividing groove is totally reflected to the side surface. In addition, the side surface is coated with total reflection so that the light rays totally reflected by the reflection unit are emitted to the emission surface and overlapped and exposed.

또한, 상기의 노광시스템용 광학소자에 있어서, 상기 입사면은 상기 입사되는 광선이 특정한 단면의 모양으로 입사될 수 있게 통과시키도록 상기 반사부가 형성된 것이 바람직하다.In addition, in the optical device for the exposure system, it is preferable that the reflective portion is formed on the incident surface to pass the incident light beam to be incident in a specific cross-sectional shape.

또한, 상기의 노광시스템용 광학소자에 있어서, 상기 출사면은 상기 분할홈이 상기 입사면에서 입사되는 광선을 적어도 2개 이상의 광선으로 분할시킬 수 있게 형성된 것이 바람직하다.In addition, in the optical device for the exposure system, it is preferable that the emitting surface is formed such that the dividing groove can split the light incident from the incident surface into at least two or more light beams.

또한, 상기의 노광시스템용 광학소자에 있어서, 상기 광학소자 내부의 광선과 간섭되지 않도록 상기 입사면에서 상기 출사면으로 관통된 관통공이 형성된 것이 바람직하다.In addition, in the optical element for the exposure system, it is preferable that a through hole is formed from the incident surface to the exit surface so as not to interfere with the light beam inside the optical element.

본 발명에 의하면, 광학소자의 입사면에 형성된 반사부의 형태에 따라 입사면으로 입사되는 광선의 형상을 결정지을 수 있다. 그래서 원하는 형태의 광선을 입사시킬 수 있다.According to the present invention, the shape of the light beam incident on the incident surface can be determined according to the shape of the reflection unit formed on the incident surface of the optical element. Therefore, a desired type of light can be incident.

또한, 본 발명에 의하면, 출사면의 분할홈에서 광이 분할 및 반사되도록 하여 광학소자의 내부에서 광반사가 일어난다. 그래서 광학계를 심플하게 구현할 수 있다.In addition, according to the present invention, light is reflected inside the optical element by dividing and reflecting the light in the division groove of the emitting surface. Therefore, the optical system can be implemented simply.

또한, 본 발명에 의하면 출사면의 분할홈의 형태를 다르게 하여 입사 광선을 다양하게 분할할 수 있을 뿐만 아니라 측면의 전반사를 통하여 분할된 광선을 다시 모이도록 한다. 따라서 하나의 광학소자를 이용하여 광선의 분할기 및 거울 기능을 동시에 수행하므로 광학계를 더욱 간소하게 구현할 수 있다. 그리고 측면의 각도를 주어 광학소자에서 멀리 떨어진 위치에 노광이 될 수 있도록 할 수 있다. 따라서 노광면에서 발생되는 금속 파티클이 광학소자에 부착되는 것을 감소시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, by changing the shape of the dividing groove of the exit surface, the incident light beam can be divided in various ways, and the divided light beam is gathered again through total reflection of the side. Therefore, since the splitter and mirror functions of the light beam are simultaneously performed using one optical element, the optical system can be implemented more simply. And by giving the angle of the side, it is possible to allow exposure to a position far away from the optical element. Accordingly, it is possible to reduce the adhesion of metal particles generated on the exposure surface to the optical element.

또한, 본 발명에 의하면 광학소자에 형성된 관통공으로 에어를 분사시킬 수 있다. 이 경우 금속 파티클을 외부로 분사시켜 금속 파티클이 광학소자에 부착되는 것을 방지할 수 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to inject air into the through hole formed in the optical element. In this case, it is possible to prevent the metal particles from adhering to the optical element by spraying the metal particles to the outside.

도 1은 본 발명에 따른 노광시스템용 광학소자의 일 실시예의 사시도,
도 2는 도 1의 실시예의 단면도,
도 3은 도 1에 도시된 실시예를 사용하여 광선을 투과하는 개념도,
도 4는 본 발명에 따른 노광시스템용 광학소자의 다른 실시예의 사시도,
도 5는 본 발명에 따른 노광시스템용 광학소자의 또 다른 실시예의 사시도,
도 6은 본 발명에 따른 노광시스템용 광학소자의 또 다른 실시예의 사시도이다.
1 is a perspective view of an embodiment of an optical device for an exposure system according to the present invention;
Figure 2 is a cross-sectional view of the embodiment of Figure 1;
3 is a conceptual diagram of transmitting light rays using the embodiment shown in FIG. 1;
4 is a perspective view of another embodiment of an optical device for an exposure system according to the present invention;
5 is a perspective view of another embodiment of an optical device for an exposure system according to the present invention;
6 is a perspective view of another embodiment of an optical device for an exposure system according to the present invention.

도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명에 따른 노광시스템용 광학소자의 일 실시예를 설명한다.An embodiment of an optical device for an exposure system according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3 .

본 발명에 따른 노광시스템용 광학소자(10)는 상면(11)에서 광선이 입사하여 하면(13)으로 출사하는 프리즘으로 구성된다. 그래서 상면(11)이 입사면이고 하면(13)이 출사면이다. 이때 상면(11)에는 입사되는 광선을 일부분을 차단하여 특정한 모양으로 입사되도록 반사부(11a)가 코팅된다. 그래서 상면(11)에서 코팅되지 않은 영역이 입사부(11b)가 된다. 본 실시예의 경우 입사부(11b)가 사각형 모양으로 되어 광학소자(10)로 투사되는 광선(a)은 사각형 모양의 빔(b)으로 입사된다. 따라서 상면(11)에 반사 코팅을 하면 원하는 모양의 빔(b)의 형태가 입사되도록 할 수 있다.The optical element 10 for an exposure system according to the present invention is composed of a prism through which light rays are incident from the upper surface 11 and output to the lower surface 13 . Therefore, the upper surface 11 is the incident surface and the lower surface 13 is the exit surface. At this time, the reflective portion 11a is coated on the upper surface 11 to block a portion of the incident light beam and to be incident in a specific shape. Therefore, the uncoated area on the upper surface 11 becomes the incident portion 11b. In the present embodiment, the incident portion 11b has a rectangular shape, so that the light beam a projected to the optical element 10 is incident as a rectangular beam b. Therefore, if a reflective coating is applied to the upper surface 11 , the shape of the beam b having a desired shape can be incident.

출사면인 하면(13)에는 입사부(11b)로 입사된 빔(b)을 분할하여 반사 시키기 위한 분할홈(14)이 형성된다. 즉 입사부(11b)를 통과한 빔(b)은 분할홈(14)으로 투사된다. 분할홈(14)은 복수의 면으로 형성되며, 이때 면의 개수는 빔(b)을 분할시키기 위한 개수이다. 즉 빔(b)을 2개로 분할시키기 위해서는 분할홈(14)은 2개의 면으로 구성된다. 본 실시예의 경우 분할홈(14)은 2개의 면으로 구성되어 빔(b)을 2개의 광선으로 분할시킨다. 그리고 분할홈(14)은 분할된 광선이 전반사되도록 전반사 코팅된다. 그래서 분할홈(14)으로 투사된 빔(b)은 분할홈(14)에서 2개의 광선(c)으로 분할되어 반사된다. 이때 분할홈(14)은 반사되는 광선(c)이 상면(11)의 반사부(11a)로 반사되도록 형성된다. 즉 분할홈(14)을 이루는 2개의 면은 반사되는 광선(c)이 반사부(11a)로 반사될 수 있도록 각도를 이룬다.A split groove 14 for splitting and reflecting the beam b incident on the incident portion 11b is formed on the lower surface 13 as the exit surface. That is, the beam (b) passing through the incident part (11b) is projected to the dividing groove (14). The dividing groove 14 is formed of a plurality of surfaces, wherein the number of surfaces is the number for dividing the beam (b). That is, in order to split the beam b into two, the split groove 14 is composed of two surfaces. In the present embodiment, the split groove 14 is composed of two surfaces to split the beam b into two light beams. And the division groove 14 is coated with total reflection so that the divided light beam is totally reflected. Therefore, the beam (b) projected to the dividing groove (14) is divided into two light beams (c) in the dividing groove (14) and reflected. At this time, the dividing groove 14 is formed so that the reflected light beam (c) is reflected to the reflecting portion (11a) of the upper surface (11). That is, the two surfaces forming the dividing groove 14 form an angle so that the reflected light beam c can be reflected to the reflecting unit 11a.

반사부(11a)에도 전반사 코팅이 되어 있다. 그래서 분할홈(13a)에서 반사된 광선(c)은 반사부(11a)에서 반사되어 광선(d)이 측면(15)으로 투사된다. The reflective portion 11a is also coated with total reflection. Therefore, the light beam (c) reflected from the dividing groove (13a) is reflected by the reflection unit (11a) and the light beam (d) is projected to the side surface (15).

측면(15)에도 전반사 코팅된다. 그래서 측면(15)으로 투사된 광선(d)은 하면(13)으로 반사된다. 이때 측면(15)은 반사된 광선(e)이 출사부(13b)로 반사되도록 그 기울기가 형성된다. 따라서 출사부(13b)를 통과한 광선(e)은 노광위치(18)로 반사된다. 본 실시예의 경우 2개의 광선(e)으로 분할되었으므로 노광위치(18)에서 서로 중첩된다. 그래서 노광위치(18)에 금속 가공물을 놓고 가공을 할 수 있다.The side 15 is also coated with total reflection. So, the ray d projected to the side surface 15 is reflected to the lower surface 13 . At this time, the side surface 15 is inclined so that the reflected light beam (e) is reflected to the emission part (13b). Accordingly, the light beam e that has passed through the emitting portion 13b is reflected to the exposure position 18 . In the case of this embodiment, since it is divided into two light rays e, they overlap each other at the exposure position 18 . Therefore, it is possible to place a metal workpiece at the exposure position 18 and process it.

본 실시예의 경우 광학소자(10)는 하나의 프리즘으로 구성되고, 입사광선(a)을 2개의 광선(e)으로 분할시켜 노광위치(18)까지 투사한다. 이때 분할홈(13a)을 이루는 면의 각도와 측면(15)의 각도를 조절하면 광학소자(10)에서 노광위치(18)까지의 거리를 충분히 멀게 할 수 있다. In the case of this embodiment, the optical element 10 is composed of one prism, and the incident ray (a) is divided into two rays (e) and projected to the exposure position (18). In this case, by adjusting the angle of the surface forming the dividing groove 13a and the angle of the side surface 15 , the distance from the optical element 10 to the exposure position 18 can be sufficiently long.

본 실시예에서는 광학소자(10)로 사용되는 프리즘은 재질이 HOYA사의 BSC7로 하였다. 입사면인 상면(11)은 가로 세로의 비를 1 : 1로 하였다. 그리고 상면(11)의 세로길이를 1이라고 했을 때 상면(11)과 하면(13)의 간격을 1.15로 하였다. 또한, 출사면인 하면(13)의 크기는 상면(11)의 세로길이에 대하여 1 ~ 1.325 배 사이로 하였다. 하면(13)의 세로길이는 측면(15)의 각도를 결정짓는 요소이므로 노광위치(18)에 따라서 하면(13)의 정확한 세로길이가 결정된다.In this embodiment, the prism used as the optical element 10 was made of HOYA's BSC7 material. The upper surface 11, which is the incident surface, has a ratio of width and length of 1:1. And when the vertical length of the upper surface 11 is 1, the interval between the upper surface 11 and the lower surface 13 is 1.15. In addition, the size of the lower surface 13, which is the exit surface, was set to be between 1 and 1.325 times the vertical length of the upper surface 11. Since the vertical length of the lower surface 13 is a factor determining the angle of the side surface 15 , the correct vertical length of the lower surface 13 is determined according to the exposure position 18 .

금속가공물이 레이저 빔으로 가공되면 금속 파티클이 발생한다. 금속가공물과 광학소자 사이의 거리가 가까울 경우 금속 파티클이 광학소자에 부착하게 되고 그러면 금속 파티클이 광학소자에 증착되어 금속가공물을 가공할 수 없다는 문제점이 있다. 또한 금속 파티클을 제거하기 위하여 에어블로우를 설치해야 하지만 광학소자와 금속가공물 사이의 거리가 가까울 경우 에어블로우를 설치하기 어렵다는 문제점이 있었다.When a metal workpiece is processed with a laser beam, metal particles are generated. When the distance between the metal workpiece and the optical element is close, the metal particles are attached to the optical element, and then the metal particles are deposited on the optical element, so there is a problem that the metal workpiece cannot be processed. In addition, an air blow must be installed to remove the metal particles, but there is a problem in that it is difficult to install the air blow when the distance between the optical element and the metal work is close.

본 발명의 경우 광학소자(10)와 노광위치(18) 사이의 간격을 충분히 길게할 수 있으므로 금속가공물에서 금속 파티클이 발생되더라도 광학소자(10)에 부착되는 것을 감소시킬 수 있다. 또한, 광학소자와 금속가공물 사이에 에어블로우를 설치할 수 있으므로 금속 파티클이 발생되더라도 이를 제거하여 광학소자(10)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.In the case of the present invention, since the distance between the optical element 10 and the exposure position 18 can be sufficiently long, it is possible to reduce attachment to the optical element 10 even when metal particles are generated from the metal work. In addition, since the air blow can be installed between the optical element and the metal-processed object, even if the metal particles are generated, it is possible to prevent them from being attached to the optical element 10 by removing them.

본 발명의 경우 분할홈(13a)의 형상에 따라 분할되는 광선의 개수를 조절할 수 있다. 도 1에 도시된 실시예의 경우 분할홈(13a)을 이루는 면을 2개로 하여 2개의 광선으로 분할 하였지만, 도 4에 도시된 바와 같이 분할홈(13a)을 이루는 면을 4개로 하여 4개의 광선으로 분할할 수 있다. 이 경우에도 분할홈(13a)에서 분할된 각각의 광선은 상면(11)의 반사부(11a)와 측면(15)으로 반사되어 출사부(13b)를 통하여 출사된다.In the case of the present invention, the number of divided beams can be adjusted according to the shape of the dividing groove 13a. In the case of the embodiment shown in FIG. 1, the surface forming the dividing groove 13a is divided into two beams, but as shown in FIG. can be divided Even in this case, each light beam divided by the dividing groove 13a is reflected by the reflection part 11a and the side surface 15 of the upper surface 11 and is emitted through the emission part 13b.

또한, 도 5에 도시된 바와 같이 분할홈(13a)을 이루는 면을 5개로 할 경우 5개의 광선으로 분할된다. 이 경우에는 5개의 분할된 광선이 반사부(11a)를 통하여 측면(15)으로 반사되므로 측면(15)은 5개의 면으로 구성되어야 한다.In addition, as shown in FIG. 5 , when there are five surfaces constituting the dividing groove 13a, it is divided into five light beams. In this case, since the five divided rays are reflected to the side surface 15 through the reflection unit 11a, the side surface 15 must be composed of five surfaces.

한편, 도 6에 도시된 바와 같이 광학소자(10)는 입사면인 상면(11)에서 출사면인 하면(13)까지 관통된 관통공(17)이 형성될 수 있다. 이때 관통공(17)은 광학소자(10)의 내부에 투사되는 광선과 간섭되지 아니해야 하다. 간섭이 발생될 경우 관통공(17) 때문에 굴절이 생겨 하면(13)을 통하여 출사되지 않기 때문이다.Meanwhile, as shown in FIG. 6 , in the optical element 10 , a through hole 17 penetrating from the upper surface 11 , which is the incident surface, to the lower surface 13 , which is the exit surface, may be formed. In this case, the through hole 17 should not interfere with the light beam projected into the optical element 10 . This is because, when interference occurs, refraction occurs due to the through hole 17 and does not exit through the lower surface 13 .

그러면 관통공(17)을 통하여 에어를 공급할 수 있다. 금속 구조물을 가공할 경우 금속파티클이 발생하여 광학소자(10)의 하면(13)에 부착될 수도 있기 때문에 이를 방지하기 위하여 관통공(17)으로 에어를 공급할 수 있다. 그러면 금속파티클이 광학소자(10)에 부착되는 것을 방지할 수 있다. Then, air can be supplied through the through hole 17 . When the metal structure is processed, since metal particles may be generated and attached to the lower surface 13 of the optical element 10 , air may be supplied through the through hole 17 to prevent this. Then, it is possible to prevent the metal particles from adhering to the optical element 10 .

10 : 광학소자 11a : 반사부
11b : 입사부 13 : 하면
13a : 분할홈 13b : 출사부
15 : 측면 17 : 관통공
18 : 노광위치
10: optical element 11a: reflector
11b: entrance part 13: lower surface
13a: split groove 13b: exit unit
15: side 17: through hole
18: exposure position

Claims (4)

상면에 광선이 입사되는 입사면과, 하면에 상기 입사면에서 입사된 광선이 출사되는 출사면과, 상기 상면과 상기 하면 사이의 측면으로 형성된 프리즘으로 된 광학소자에 있어서,
상기 출사면에는 상기 입사면에서 입사된 광선이 분할되어 상기 입사면으로 반사될 수 있도록 전반사 코팅된 분할홈이 형성되고,
상기 입사면에는 상기 분할홈에서 반사된 광선이 상기 측면으로 전반사되도록 전반사 코팅된 반사부가 형성되고,
상기 측면은 상기 반사부에서 전반사된 광선이 상기 출사면으로 출사되어 중첩하여 노광될 수 있게 전반사코팅되며,
상기 광학소자 내부의 광선과 간섭되지 않도록 상기 입사면에서 상기 출사면으로 관통된 관통공이 형성된 것을 특징으로 하는 노광시스템용 광학소자.
In the optical element comprising a prism formed by an incident surface on which a light beam is incident on an upper surface, an output surface on which a light beam incident from the incident surface on a lower surface is emitted, and a side surface between the upper surface and the lower surface,
A split groove coated with total reflection is formed on the exit surface so that the light beam incident from the incident surface can be divided and reflected to the incident surface,
A reflective portion coated with total reflection is formed on the incident surface so that the light beam reflected from the dividing groove is totally reflected to the side surface,
The side surface is coated with total reflection so that the light rays totally reflected by the reflection unit are emitted to the exit surface and overlapped and exposed,
An optical element for an exposure system, characterized in that a through hole is formed through the incident surface to the output surface so as not to interfere with the light beam inside the optical element.
제1항에 있어서,
상기 입사면은 상기 입사되는 광선이 특정한 단면의 모양으로 입사될 수 있게 통과시키도록 상기 반사부가 형성된 것을 특징으로 하는 노광시스템용 광학소자.
The method of claim 1,
The optical device for an exposure system, characterized in that the reflective portion is formed on the incident surface to pass the incident light beam to be incident in a specific cross-sectional shape.
제2항에 있어서,
상기 출사면은 상기 분할홈이 상기 입사면에서 입사되는 광선을 적어도 2개 이상의 광선으로 분할시킬 수 있게 형성된 것을 특징으로 하는 노광시스템용 광학소자.
3. The method of claim 2,
The emitting surface is an optical device for an exposure system, characterized in that the dividing groove is formed to split the light incident from the incident surface into at least two or more light beams.
삭제delete
KR1020200107912A 2020-08-26 2020-08-26 optical element for exposure system KR102420255B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200107912A KR102420255B1 (en) 2020-08-26 2020-08-26 optical element for exposure system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200107912A KR102420255B1 (en) 2020-08-26 2020-08-26 optical element for exposure system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220026860A KR20220026860A (en) 2022-03-07
KR102420255B1 true KR102420255B1 (en) 2022-07-13

Family

ID=80817791

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200107912A KR102420255B1 (en) 2020-08-26 2020-08-26 optical element for exposure system

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102420255B1 (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009063684A (en) * 2007-09-05 2009-03-26 Hitachi Ltd Video display device

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4835380A (en) * 1987-06-11 1989-05-30 U. S. Philips Corporation Scanning device for an optical recording and/or reproducing apparatus
US7529030B2 (en) 2004-09-06 2009-05-05 Olympus Corporation Optical apparatus with optical element made of a medium exhibiting negative refraction
JP5251869B2 (en) 2007-04-23 2013-07-31 株式会社ニコン Optical element holding apparatus, lens barrel, exposure apparatus, and device manufacturing method
KR101782672B1 (en) 2013-04-23 2017-09-27 캐논 가부시끼가이샤 Prism optical system, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009063684A (en) * 2007-09-05 2009-03-26 Hitachi Ltd Video display device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20220026860A (en) 2022-03-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4468472B2 (en) Optical film
KR970025072A (en) Optical system of projection image display device
US6154319A (en) Multiple laser beam generation
US4005926A (en) Scanning device
KR0135834B1 (en) Light source with shadow removing double reflector
EP0342292A2 (en) An optical beam splitter
KR102420255B1 (en) optical element for exposure system
JPH08504996A (en) Signal lamp
CN100410689C (en) Aperture diaphragm assembly for high power laser beams
CN102308019B (en) Device for projecting an image on a surface and device for moving said image
GB2253714A (en) Preventing ghosting in scanning optical system
JPH08227606A (en) Parallel light source device by two multiple array mirror
CN210051332U (en) Light path structure and laser demarcation device using same
US7180674B2 (en) Polygonal prism
JP7048826B2 (en) Optical path structure and laser line projector using the optical path structure
KR102149579B1 (en) Exposure system using optical interference
US4925271A (en) Optical beam splitter
US5233475A (en) Rectangular prism including a V-shaped groove at a boundary
JP2000250033A (en) Surface light source device
JPS63211624A (en) Optical device for illumination
JP3069703B1 (en) Optical branching method
KR20040095242A (en) Modulation device
US20070189685A1 (en) Optical fiber and method of forming electrodes of plasma display panel
JPS5940621A (en) Scanning optical system
KR101657185B1 (en) Exposure Equipment

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right