KR20140123273A - Printed circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20140123273A
KR20140123273A KR20130040367A KR20130040367A KR20140123273A KR 20140123273 A KR20140123273 A KR 20140123273A KR 20130040367 A KR20130040367 A KR 20130040367A KR 20130040367 A KR20130040367 A KR 20130040367A KR 20140123273 A KR20140123273 A KR 20140123273A
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plating
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aluminum
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최양윤
백옥기
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타이코에이엠피(유)
주식회사 태우이앤피
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Abstract

Disclosed are a printed circuit board and a manufacturing method thereof, capable of using a bonding member made of a general material by forming a copper layer on a surface thereof, improving adhesion, and increasing bending strength and heat dissipation by using aluminum. The printed circuit board includes a core part, a base part which has a surface made of copper materials, the bonding member which is interposed between the core part and the base part to bond the base part to both sides of the core part, a substitution layer which forms zinc on the surface of the base part, a first plating layer which is formed with a first metal material on the substitution layer by plating, and a second plating layer which is formed with a second metal material, which is different from the first metal material, on the first plating layer by the plating.

Description

인쇄회로기판 및 그 제조방법{PRINTED CIRCUIT BOARD AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a printed circuit board (PCB)

본 발명은 알루미늄을 이용한 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것으로, 알루미늄을 이용하여 방열 및 휨 강도를 증가시킬 수 있는 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed circuit board using aluminum and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a printed circuit board capable of increasing heat radiation and flexural strength using aluminum and a method of manufacturing the same.

일반적으로 PCB(Printed Circuit Board)라 불리는 인쇄 회로기판은 배선이 집적되어 다양한 소자들이 실장되거나 소자 간의 전기적 연결이 가능하도록 구성되는 부품으로서, 기술의 발전에 따라 다양한 형태와 다양한 기능을 갖게 되는 인쇄 회로기판이 제조되고 있다. 수요산업인 가전기기, 통신기기, 반도체장비, 산업용 기기, 자동차의 전기 제어 등의 성장과 함께 인쇄회로기판 수요가 증가하고 있고, 특히 전자부품의 소형화, 첨단화에 따라 인쇄회로기판 제품도 소형, 경량화 및 고부가가치 제품으로 변모하고 있다.In general, a printed circuit board (PCB) called a printed circuit board (PCB) is a component that is integrated with wiring so that various devices can be mounted or electrical connection between the devices is possible. Substrates are being manufactured. Demand for printed circuit boards has been growing along with the growth of electric appliances, communication equipment, semiconductor equipment, industrial equipment, and automobile electrical control in demand industries. In particular, printed circuit board products are becoming smaller and lighter And high value-added products.

이러한 전자 기기에서의 두드러진 특징 중의 하나가 여러 가지 복합기능이 추가되면서 전력 소모가 많아지고, 이에 따라 전자 부품에서의 열 발생이 심화되면서 전자 제품의 열 발생 정도에 따라서 사용자의 만족도 및 구매 기준의 하나로 작용하기도 한다.One of the prominent features of such electronic devices is that power consumption is increased due to the addition of various complex functions, and as a result, heat generation in electronic components is intensified, so that depending on the degree of heat generation of electronic products, It also works.

종래에는 베이스 기판으로 동박 적층판(Copper Clad Laminate: CCL)을 사용하고 동박에 회로 패턴을 형성한 뒤에 추가적으로 적층함으로써 다층 인쇄회로기판을 제조하는 방식이 사용되었다. 하지만, 이러한 인쇄회로기판에서는 구리(Cu)라는 재료 한정에 의해 인쇄회로기판의 방열 특성을 향상시키는 데 한계가 있었다.
Conventionally, a method of manufacturing a multilayer printed circuit board by using a copper clad laminate (CCL) as a base substrate, forming a circuit pattern on a copper foil, and then laminating the circuit pattern has been used. However, in such a printed circuit board, there is a limitation in improving the heat radiation characteristic of the printed circuit board by limiting the material of copper (Cu).

본 발명의 목적은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것으로서, 알루미늄 재질이 적층되어 구성되므로, 다양한 형태의 회로를 구현할 수 있고 이에 따라 회로를 집적하여 제품을 간소화시킬 수 있는 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a printed circuit board and a printed circuit board which can realize various types of circuits, And a method for manufacturing the same.

본 발명의 다른 목적은 일반적으로 사용되는 접합부재를 사용할 수 있어서 접합력을 향상시키고, 그 제조 비용을 절감할 수 있는 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a printed circuit board and a method of manufacturing the same that can use commonly used bonding members to improve the bonding force and reduce the manufacturing cost.

본 발명의 다른 목적은 방열 기능 및 휨강도를 증가시킬 수 있는 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a printed circuit board and a method of manufacturing the same that can increase the heat radiation function and the bending strength.

본 발명의 다른 목적은 자동차에 적용되는 가혹한 환경 조건에서 기판의 파손(균열)을 방지하여 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a printed circuit board and a method of manufacturing the same that can improve the reliability of a product by preventing breakage (cracking) of the substrate under harsh environmental conditions applied to automobiles.

본 발명의 다른 목적은 비교적 가벼운 알루미늄을 사용하여 자동차용 전장 부품의 무게를 감소시키는 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a printed circuit board and a method of manufacturing the same that reduce the weight of automotive electrical components using relatively lightweight aluminum.

본 발명의 다른 목적은 인쇄회로기판의 제조 시간을 단축하고, 그 제조 비용을 절감할 수 있는 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
Another object of the present invention is to provide a printed circuit board and a method of manufacturing the same that can shorten the manufacturing time of the printed circuit board and reduce the manufacturing cost thereof.

상술한 본 발명의 실시예들에 따른 인쇄회로기판은, 코어부, 표면이 구리 재질로 형성된 베이스부, 상기 코어부 양측에 각각 상기 베이스부를 접합시키도록 상기 코어부와 상기 베이스부 사이에 개재되는 접합부재, 상기 베이스부의 표면을 아연화시키도록 형성된 치환층, 상기 치환층 상에 도금을 이용하여 제1 금속 재질로 형성되는 제1 도금층 및 상기 제1 도금층 상에 도금을 이용하여 상기 제1 금속과 다른 재질의 제2 금속 재질로 형성되는 제2 도금층을 포함하여 구성된다.The printed circuit board according to the above-described embodiments of the present invention includes a core portion, a base portion having a surface made of a copper material, and a base portion interposed between the core portion and the base portion to bond the base portion to both sides of the core portion A first plating layer formed on the substitution layer by using a first metal material and a second plating layer formed on the first plating layer by plating on the first metal layer, And a second plating layer formed of a second metal material of different material.

일 측에 따르면, 상기 코어부는 절연체 재질로 형성될 수 있다. 그리고 상기 코어부와 상기 접합부재 및 상기 베이스부를 관통하여 비아홀이 형성되고, 상기 비아홀 내부에서 절연체 재질로 형성된 상기 코어부와 상기 접합부재가 노출된 단면 부분을 금속화시키기 위한 금속층이 형성되고, 상기 치환층은 상기 금속층이 형성된 부분을 제외한 영역에 형성될 수 있다. 여기서, 상기 치환층은 상기 금속층과 두께가 갖거나 상기 금속층보다 두꺼운 두께를 갖도록 형성될 수 있다. 또한, 상기 베이스부는 알루미늄의 표면 처리를 통해 알루미늄층 표면에 구리막이 형성된 형태를 갖고, 알루미늄층, 상기 알루미늄층 상에 형성된 아연막, 상기 아연막 상에 도금을 이용하여 형성된 니켈막 및 상기 니켈막 상에 도금을 이용하여 형성된 구리막을 포함하여 구성될 수 있다.According to one aspect, the core portion may be formed of an insulator material. And a via hole is formed through the core portion, the bonding member, and the base portion, a metal layer for metallizing the core portion formed of an insulator material and the cross-sectional portion exposed by the bonding material is formed in the via hole, Layer may be formed in a region except for the portion where the metal layer is formed. Here, the substitution layer may be formed to have a thickness equal to or greater than that of the metal layer. The base portion has a copper film formed on the surface of the aluminum layer through surface treatment of aluminum. The base portion includes an aluminum layer, a zinc film formed on the aluminum film, a nickel film formed by plating on the zinc film, And a copper film formed by plating on the copper film.

일 측에 따르면, 상기 코어부는 알루미늄의 표면 처리를 통해 알루미늄층 표면에 구리막이 형성된 형태를 가질 수 있다. 여기서, 상기 코어부는, 알루미늄층, 상기 알루미늄층 상에 형성된 아연막, 상기 아연막 상에 도금을 이용하여 형성된 니켈막 및 상기 니켈막 상에 도금을 이용하여 형성된 구리막을 포함하여 구성될 수 있다. 그리고 상기 코어부는 코어 패턴이 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 코어 패턴은 상기 금속 코어층을 관통하여 형성되는 하나 이상의 홀로 형성되고, 상기 홀이 패턴으로 형성되거나 규칙적 또는 불규칙적으로 홀이 배열되어 형성될 수 있다. 또한, 상기 코어부와 상기 접합부재 및 상기 베이스부를 관통하여 비아홀이 형성되고, 상기 비아홀 내부에서 상기 접합부재가 노출된 단면 부분을 금속화시키기 위한 금속층이 형성되고, 상기 치환층은 상기 금속층이 형성된 부분을 제외한 영역에 형성될 수 있다. 여기서, 상기 치환층은 상기 금속층과 두께가 갖거나 상기 금속층보다 두꺼운 두께를 갖도록 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 베이스부는 알루미늄의 표면 처리를 통해 알루미늄층 표면에 구리막이 형성된 형태를 갖고, 알루미늄층, 상기 알루미늄층 상에 형성된 아연막, 상기 아연막 상에 도금을 이용하여 형성된 니켈막 및 상기 니켈막 상에 도금을 이용하여 형성된 구리막을 포함하여 구성될 수 있다. 또는 상기 베이스부는 구리판으로 형성될 수 있다.According to one aspect, the core portion may have a form in which a copper film is formed on the surface of the aluminum layer through surface treatment of aluminum. Here, the core portion may include an aluminum layer, a zinc film formed on the aluminum layer, a nickel film formed on the zinc film using plating, and a copper film formed on the nickel film using plating. The core portion may be formed with a core pattern. For example, the core pattern may be formed of at least one hole formed through the metal core layer, and the holes may be formed in a pattern or regularly or irregularly arranged holes. A via hole is formed through the core portion, the bonding member, and the base portion. A metal layer for metallizing a cross-sectional portion of the bonding material exposed in the via hole is formed, May be formed in an area other than the area. Here, the substitution layer may be formed to have a thickness equal to or greater than that of the metal layer. For example, the base portion has a copper film formed on the surface of the aluminum layer through surface treatment of aluminum, and includes an aluminum layer, a zinc film formed on the aluminum film, a nickel film formed on the zinc film using plating, And a copper film formed by plating on the nickel film. Alternatively, the base portion may be formed of a copper plate.

일 측에 따르면, 상기 접합부재는 폴리이미드(polyimide) 계열의 접착 시트 또는 에폭시 계열이 사용될 수 있다.According to one aspect, the bonding material may be a polyimide-based adhesive sheet or an epoxy-based material.

일 측에 따르면, 상기 제1 도금층은 무전해 또는 전해 도금을 이용하여 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 도금층은 니켈, 금, 은 중에서 선택된 어느 하나의 금속 재질로 형성될 수 있다.According to one aspect, the first plating layer may be formed using electroless plating or electrolytic plating. For example, the first plating layer may be formed of any one metal selected from the group consisting of nickel, gold, and silver.

일 측에 따르면, 상기 제2 도금층은 전해 도금을 이용하여 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 도금층은 구리 재질로 형성될 수 있다.According to one aspect, the second plating layer may be formed using electrolytic plating. For example, the second plating layer may be formed of a copper material.

일 측에 따르면, 상기 제2 도금층 상에 형성된 회로 패턴을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 회로 패턴은 상기 도금층 상에 드라이 필름을 도포하고 노광 후 염화 제2철, 염화 제2동, 염소산나트륨 중 어느 하나의 물질을 이용하여 형성될 수 있다.According to one aspect of the present invention, the circuit pattern may further include a circuit pattern formed on the second plating layer. For example, the circuit pattern may be formed using a material selected from ferric chloride, cupric chloride, and sodium chlorate after applying a dry film on the plating layer and after exposure.

일 측에 따르면, 상기 코어부, 상기 접합부재 및 상기 베이스부가 다수층이 적층되어 형성될 수 있다.According to one aspect, the core portion, the joining member, and the base portion may be formed by stacking a plurality of layers.

한편, 상술한 본 발명의 실시예들에 따른 인쇄회로기판의 제조방법은, 코어부를 제공하는 단계, 표면이 구리 재질로 형성된 베이스부를 제공하는 단계, 상기 코어부 양측에 접합부재를 이용하여 상기 베이스부를 접합하는 단계, 상기 베이스부의 표면을 아연화하여 치환층을 형성하는 단계, 상기 치환층 상에 도금을 이용하여 제1 금속 재질의 제1 도금층을 형성하는 단계 및 상기 제1 도금층 상에 도금을 이용하여 상기 제1 금속과 다른 재질의 제2 금속 재질의 제2 도금층을 형성하는 단계를 포함하여 구성된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board, including the steps of providing a core, providing a base portion having a surface made of a copper material, Forming a substitution layer on the surface of the base by zincating the surface of the base, forming a first plating layer of a first metal material on the substitution layer by plating, and forming a first plating layer on the first plating layer using plating And forming a second plating layer of a second metal material different from the first metal.

일 측에 따르면, 상기 코어부는 절연체 재질로 형성될 수 있다. 또한, 상기 코어부와 상기 접합부재 및 상기 베이스부를 관통하는 비아홀을 형성하는 단계 및 상기 비아홀 내부에서 절연체 재질로 형성된 상기 코어부와 상기 접합부재가 노출된 단면 부분을 금속화시키기 위한 금속층을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 치환층은 상기 금속층이 형성된 부분을 제외한 영역에 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 치환층을 형성하는 단계는, 상기 금속층과 같은 두께로 형성하거나, 상기 금속층보다 두꺼운 두께로 형성될 수 있다. 또한, 상기 베이스부는 알루미늄의 표면 처리를 통해 알루미늄층 표면에 구리막이 형성된 형태를 가질 수 있고, 알루미늄층을 제공하는 단계, 상기 알루미늄층 상에 아연막을 형성하는 단계, 상기 아연막 상에 도금을 이용하여 니켈막을 형성하는 단계 및 상기 니켈막 상에 도금을 이용하여 구리막을 형성하는 단계를 포함하여 구성될 수 있다.According to one aspect, the core portion may be formed of an insulator material. Forming a via hole penetrating the core portion, the bonding member, and the base portion; and forming a metal layer for metallizing the end portion of the core portion and the bonding material exposed from the insulator within the via hole, And the substitution layer may be formed in a region except for a portion where the metal layer is formed. For example, the step of forming the substitution layer may be formed to have the same thickness as the metal layer, or may be formed to be thicker than the metal layer. Further, the base portion may have a form in which a copper film is formed on the surface of the aluminum layer through surface treatment of aluminum, providing an aluminum layer, forming a zinc film on the aluminum layer, plating on the zinc film Thereby forming a nickel film, and forming a copper film on the nickel film using plating.

일 측에 따르면, 상기 코어부는 알루미늄의 표면 처리를 통해 알루미늄층 표면에 구리막이 형성된 형태를 가질 수 있다. 여기서, 상기 코어부는, 알루미늄층을 제공하는 단계, 상기 알루미늄층 상에 아연막을 형성하는 단계, 상기 아연막 상에 도금을 이용하여 니켈막을 형성하는 단계 및 상기 니켈막 상에 도금을 이용하여 구리막을 형성하는 단계를 포함하여 구성될 수 있다. 그리고 상기 코어부에 코어 패턴을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 코어 패턴을 형성하는 단계는, 상기 금속 코어층을 관통하여 형성되는 하나 이상의 홀을 형성하고, 상기 홀이 패턴으로 형성되거나 규칙적 또는 불규칙적으로 홀이 배열되어 형성될 수 있다. 또한, 상기 코어부와 상기 접합부재 및 상기 베이스부를 관통하는 비아홀을 형성하는 단계 및 상기 비아홀 내부에서 상기 접합부재가 노출된 단면 부분을 금속화시키기 위한 금속층을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 치환층은 상기 금속층이 형성된 부분을 제외한 영역에 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 치환층을 형성하는 단계는, 상기 금속층과 같은 두께로 형성하거나, 상기 금속층보다 두꺼운 두께로 형성될 수 있다. 여기서, 상기 베이스부는 알루미늄의 표면 처리를 통해 알루미늄층 표면에 구리막이 형성된 형태를 가질 수 있고, 알루미늄층을 제공하는 단계, 상기 알루미늄층 상에 아연막을 형성하는 단계, 상기 아연막 상에 도금을 이용하여 니켈막을 형성하는 단계 및 상기 니켈막 상에 도금을 이용하여 구리막을 형성하는 단계를 포함하여 구성될 수 있다. 또는, 상기 베이스부는 구리판으로 형성될 수 있다.According to one aspect, the core portion may have a form in which a copper film is formed on the surface of the aluminum layer through surface treatment of aluminum. Here, the core portion may include a step of providing an aluminum layer, forming a zinc film on the aluminum layer, forming a nickel film on the zinc film using plating, and forming a copper film on the nickel film using plating And a step of forming the second electrode. And forming a core pattern on the core portion. For example, the step of forming the core pattern may include forming at least one hole formed through the metal core layer, and the hole may be formed in a pattern or regularly or irregularly arranged holes. Forming a via hole penetrating the core portion, the bonding member, and the base portion; and forming a metal layer for metallizing a cross-sectional portion of the bonding material exposed in the via hole, May be formed in a region except for the portion where the metal layer is formed. For example, the step of forming the substitution layer may be formed to have the same thickness as the metal layer, or may be formed to be thicker than the metal layer. Here, the base portion may have a form in which a copper film is formed on the surface of the aluminum layer through surface treatment of aluminum, and includes the steps of providing an aluminum layer, forming a zinc film on the aluminum layer, Thereby forming a nickel film, and forming a copper film on the nickel film using plating. Alternatively, the base portion may be formed of a copper plate.

일 측에 따르면, 상기 접합부재는 폴리이미드(polyimide) 계열의 접착 시트 또는 에폭시 계열이 사용될 수 있다.According to one aspect, the bonding material may be a polyimide-based adhesive sheet or an epoxy-based material.

일 측에 따르면, 상기 제1 도금층은 무전해 또는 전해 도금을 이용하여 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 도금층은 니켈, 금, 은 중에서 선택된 어느 하나의 금속 재질로 형성될 수 있다.According to one aspect, the first plating layer may be formed using electroless plating or electrolytic plating. For example, the first plating layer may be formed of any one metal selected from the group consisting of nickel, gold, and silver.

일 측에 따르면, 상기 제2 도금층은 전해 도금을 이용하여 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 도금층은 구리 재질로 형성될 수 있다.According to one aspect, the second plating layer may be formed using electrolytic plating. For example, the second plating layer may be formed of a copper material.

일 측에 따르면, 상기 제2 도금층 상에 회로 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 회로 패턴은, 상기 제2 도금층 상에 드라이 필름을 도포하는 단계, 상기 드라이 필름을 노광하는 단계 및 염화 제2철, 염화 제2동, 염소산나트륨 중 어느 하나의 물질을 사용하는 염산 계열의 산성 에칭을 이용하여 상기 제2 도금층을 에칭하는 단계를 포함하여 구성될 수 있다.According to one aspect of the invention, there is provided a method of forming a circuit pattern, the method comprising: forming a circuit pattern on the second plating layer, the circuit pattern comprising: applying a dry film on the second plating layer; And etching the second plating layer using a hydrochloric acid-based acid etching using any one of iron, cupric chloride, and sodium chlorate.

일 측에 따르면, 상기 코어부를 제공하는 단계 내지 상기 접합부재를 이용하여 상기 베이스부를 접합하는 단계를 다수 회 반복하여 다층을 형성할 수 있다.
According to one aspect, the step of providing the core part or the step of bonding the base part using the bonding member may be repeated many times to form a multilayer.

이상에서 본 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 따르면, 알루미늄 재질이 적층되어 구성되므로, 다양한 형태의 회로를 구현할 수 있고 이에 따라 회로를 집적하여 제품을 간소화시킬 수 있다.As described above, according to the embodiments of the present invention, since aluminum materials are stacked, it is possible to realize various types of circuits, thereby integrating circuits to simplify the product.

또한, 본 발명의 실시예들에 따르면, 알루미늄 표면에 구리막이 형성되므로, 일반적으로 사용되는 접합부재를 사용할 수 있어서 접합력을 향상시키고, 제조 시간을 단축하고, 그 제조 비용을 절감할 수 있다.Further, according to the embodiments of the present invention, since a copper film is formed on the aluminum surface, a commonly used joining member can be used, so that the joining force can be improved, the manufacturing time can be shortened, and the manufacturing cost can be reduced.

또한, 알루미늄이 적층 형성되므로, 인쇄회로기판의 방열 기능 및 휨강도를 증가시킬 수 있고, 자동차와 같이 가혹한 환경 조건에서 인쇄회로기판의 파손(균열)을 방지하여 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.Further, since the aluminum is laminated, the heat radiation function and the bending strength of the printed circuit board can be increased, and the breakage (cracking) of the printed circuit board can be prevented under harsh environmental conditions such as automobiles, thereby improving the reliability of the product.

또한, 비교적 가벼운 알루미늄을 사용하여 자동차용 전장 부품의 무게를 감소시킬 수 있다.
In addition, the use of relatively lightweight aluminum can reduce the weight of automotive electrical components.

도 1 내지 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판의 제조방법에 대해서 설명하기 위한 도면들이다.
도 14 내지 도 22는 본 발명의 다른 실시예들에 따른 인쇄회로기판의 제조방법에 대해서 설명하기 위한 도면들이다.
1 to 13 are views for explaining a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
14 to 22 are views for explaining a method of manufacturing a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면들을 참조하여 실시예들을 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 실시예들을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대해 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략될 수 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to or limited by the embodiments. In describing the embodiments, a detailed description of well-known functions or constructions may be omitted so as to clarify the gist of the present invention.

이하, 도 1 내지 도 13을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 알루미늄 표면에 구리막이 형성된 재질의 코어부(100)를 갖는 인쇄회로기판의 제조방법에 대해서 상세하게 설명한다. 한편, 이하에서 설명하는 실시예에서는 "~층 상에"라고 기재하는 경우, 특별한 언급이 없으면, 상면 및 하면 양쪽 모두에 형성되는 것을 의미한다. 또한, '홀'이라 함은 그 단면이 원형뿐만 아니라 다각형인 경우도 포함한다.Hereinafter, with reference to FIGS. 1 to 13, a method of manufacturing a printed circuit board having a core portion 100 made of a copper film on an aluminum surface according to an embodiment of the present invention will be described in detail. On the other hand, in the embodiment described below, the expression "on a layer" means that it is formed on both the upper surface and the lower surface unless otherwise specified. The term " hole " includes not only a circular shape but also a polygonal shape.

우선, 코어부(100)를 준비한다. 코어부(100)는 알루미늄 재질로 형성되며, 소정 두께의 알루미늄 호일 재질의 코어층(101) 상에 소정의 표면 처리가 수행되어 구리막(104)이 형성된 형태를 가질 수 있다. 상세하게는, 코어부(100)는 소정 두께의 알루미늄 코어층(101) 상에 아연막(102)과 니켈막(103) 및 구리막(104)이 순차적으로 적층 형성된 형태를 가질 수 있다. 코어부(100)의 구조 및 제조방법에 대해서 설명하면 다음과 같다.First, the core portion 100 is prepared. The core part 100 is formed of an aluminum material and may have a shape in which a copper film 104 is formed by performing a predetermined surface treatment on a core layer 101 made of an aluminum foil having a predetermined thickness. Specifically, the core portion 100 may have a configuration in which a zinc film 102, a nickel film 103, and a copper film 104 are sequentially stacked on an aluminum core layer 101 having a predetermined thickness. The structure and manufacturing method of the core unit 100 will be described below.

우선, 도 1에 도시한 바와 같이, 소정 두께의 알루미늄 호일로 형성된 코어층(101)을 마련한다.First, as shown in Fig. 1, a core layer 101 formed of an aluminum foil having a predetermined thickness is provided.

다음으로, 도 2에 도시한 바와 같이, 코어층(101) 표면을 징케이트(zincate: 아연 치환도금) 처리하여, 소정 두께의 아연막(102)을 형성한다. 아연막(102)은 코어층(101) 표면의 두께 일부가 아연으로 치환되어 형성된다. 아연막(102)은 알루미늄 재질의 코어층(101)이 대기 중에서 산화되는 것을 방지하고, 이후 실시되는 무전해 도금 또는 전해 도금 과정에서 코어층(101) 표면을 보호하는 역할을 한다.Next, as shown in Fig. 2, the surface of the core layer 101 is treated with zincate (zinc substitution plating) to form a zinc film 102 having a predetermined thickness. The zinc film 102 is formed by replacing a part of the thickness of the surface of the core layer 101 with zinc. The zinc film 102 serves to prevent the aluminum core layer 101 from being oxidized in the atmosphere and to protect the surface of the core layer 101 in the subsequent electroless plating or electrolytic plating process.

다음으로, 도 3에 도시한 바와 같이, 아연막(102) 상에 전해 도금을 수행하여 니켈막(103)을 형성한다. 니켈막(103)은 무전해 도금 중에서 생산비용이 비교적 적게 소요되는 전해(환원) 도금의 방법을 사용하여 형성될 수 있다. 그러나 작업여건에 따라, 아연막(102)을 니켈로 치환 도금하여 니켈막(103)을 형성하는 것도 가능하다. 이 겨우, 니켈막(103)은 아연막(102)의 두께 일부 또는 전부가 니켈막(103)으로 치환될 수 있다. 한편, 아연막(102)에 니켈막(103)을 형성할 때, 상술한 실시예에서는 니켈을 사용하였으나, 니켈 대신에 내화학성이 강한 다른 금속, 예를 들어, 금(Au) 또는 은(Ag) 등의 금속을 사용하는 것도 가능하다. 다만, 금, 은 등의 금속을 사용하는 경우에는 비용 측면에서 니켈보다 고가이기 때문에 본 실시예에서는 니켈을 이용하여 도금막을 형성한다.Next, as shown in Fig. 3, electroplating is performed on the zinc film 102 to form a nickel film 103. Then, as shown in Fig. The nickel film 103 can be formed by a method of electrolytic (reductive) plating in which the production cost is relatively low in electroless plating. However, it is also possible to form the nickel film 103 by plating the zinc film 102 with nickel in accordance with working conditions. In this case, the nickel film 103 can be replaced with a nickel film 103 in part or all of the thickness of the zinc film 102. [ Nickel is used in the above embodiment to form the nickel film 103 on the zinc film 102. However, instead of nickel, other metals having high chemical resistance such as gold (Au) or silver (Ag ) Can also be used. However, when a metal such as gold or silver is used, since the cost is higher than nickel in terms of cost, nickel is used in this embodiment to form a plating film.

다음으로, 도 4에 도시한 바와 같이, 니켈막(103) 상에 전해 도금을 이용하여 구리막(104)을 형성한다. 예를 들어, 구리막(104)은 20㎛ 두께로 형성되며, 전기적 특성에 따라 구리막(104)의 두께를 조절할 수 있다.Next, as shown in Fig. 4, a copper film 104 is formed on the nickel film 103 by electrolytic plating. For example, the copper film 104 is formed to a thickness of 20 탆, and the thickness of the copper film 104 can be adjusted according to electrical characteristics.

도 1 내지 도 4를 통해 설명한 과정을 통해서, 알루미늄에 소정 두께의 구리막(104)이 형성된 코어부(100)를 형성할 수 있다. 따라서, 코어부(100)는 표면이 구리막(104)으로 형성되기 때문에, 접합성이 알루미늄에 비해서 개선되므로, 일반적으로 사용되는 재질의 접합부재(111)를 사용하는 것이 가능하다.Through the process described with reference to FIG. 1 to FIG. 4, a core portion 100 having a copper film 104 of a predetermined thickness formed on aluminum can be formed. Therefore, since the surface of the core portion 100 is formed of the copper film 104, bonding property is improved as compared with aluminum, it is possible to use a joining member 111 made of a generally used material.

다음으로, 도 5에 도시한 바와 같이, 코어부(100)에는 하나 이상의 홀로 이루어지는 코어 패턴(105)을 형성한다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 코어부(100)에서 코어 패턴(105)을 생략하고, 코어부(100)부 자체를 하나의 패턴으로 사용할 수 있다.Next, as shown in Fig. 5, a core pattern 105 composed of one or more holes is formed in the core portion 100. As shown in Fig. However, the present invention is not limited thereto, and the core pattern 100 may be omitted and the core portion 100 itself may be used as one pattern.

예를 들어, 코어 패턴(105)은 소정의 패턴에 따라 다수의 홀이 배치되어 형성되거나, 다수의 홀이 규칙적이거나 불규칙적으로 배열되어 형성될 수 있다. 코어 패턴(105)의 역할은 코어부(100)에 소정의 회로 패턴을 형성하는 역할을 할 수 있다. 또한, 코어 패턴(105)은 코어부(100)의 방열이 원활하게 이루어질 수 있도록 하는 역할을 한다. 여기서, 코어 패턴(105)은 코어부(100) 상에서 화학적 또는 기계적인 방법으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 코어 패턴(105)은 코어부(100) 상에 화학 에칭 등을 이용하여 패턴을 형성할 수 있다. 또는, 코어 패턴(105)은 코어부(100)에 펀칭 등을 이용하여 홀을 형성할 수 있다.For example, the core pattern 105 may be formed by arranging a plurality of holes according to a predetermined pattern, or a plurality of holes may be formed regularly or irregularly. The role of the core pattern 105 may serve to form a predetermined circuit pattern on the core portion 100. [ In addition, the core pattern 105 serves to smoothly dissipate the heat of the core portion 100. Here, the core pattern 105 may be formed on the core portion 100 by a chemical or mechanical method. For example, the core pattern 105 can form a pattern on the core portion 100 using chemical etching or the like. Alternatively, the core pattern 105 may be formed in the core portion 100 by punching or the like.

다음으로, 도 6a와 도 6b에 도시한 바와 같이, 접합부재(111)를 이용하여 코어부(100)의 양측면 상에 베이스부(112)를 각각 접합시킨다. 베이스부(112)는, 코어부(100)와 베이스부(112) 사이에 접합부(111)를 개재시킨 상태에서 코어부(100) 및 베이스부(112)를 소정 온도로 가열하고 소정의 압력을 가하여 접합할 수 있다.Next, as shown in Figs. 6A and 6B, the base portion 112 is bonded to both side surfaces of the core portion 100 by using the bonding member 111. Next, as shown in Figs. The base portion 112 is formed by heating the core portion 100 and the base portion 112 to a predetermined temperature with the bonding portion 111 interposed between the core portion 100 and the base portion 112, Can be added.

여기서, 베이스부(112)는 표면이 구리 재질로 형성된다. 예를 들어, 도 6a에 도시한 바와 같이, 베이스부(112)는 상술한 코어부(100)와 같이, 알루미늄 상에 소정의 표면 처리를 수행하여 형성된 알루미늄 재질이 사용될 수 있다. 베이스부(112)는 도 1 내지 도 4에서 설명한 바와 같이, 소정 두께의 알루미늄층(1121) 표면에 순차적으로 아연막(1122)과 니켈막(1123) 및 구리막(1124)이 형성된 형태를 가질 수 있다. 여기서, 베이스부(112)를 구성하는 알루미늄층(1121) 내지 구리막(1124)을 형성하는 과정은 상술한 코어부(100)의 공정과 동일하므로 중복되는 설명은 생략한다. 그러나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 도 6b에 도시한 바와 같이, 베이스부(112)는 소정 두께의 구리판 또는 구리 호일과 같이 단일 구리층(1125)으로 형성되는 것도 가능하다.Here, the surface of the base portion 112 is made of copper. For example, as shown in FIG. 6A, the base portion 112 may be formed of an aluminum material formed by performing a predetermined surface treatment on aluminum, such as the core portion 100 described above. The base portion 112 has a configuration in which a zinc film 1122, a nickel film 1123, and a copper film 1124 are sequentially formed on the surface of an aluminum layer 1121 having a predetermined thickness, as described with reference to FIGS. 1 to 4 . Here, the process of forming the aluminum layer 1121 to the copper film 1124 forming the base portion 112 is the same as the process of the core portion 100 described above, so duplicate description will be omitted. However, the present invention is not limited thereto. As shown in FIG. 6B, the base portion 112 may be formed of a single copper layer 1125 such as a copper plate or copper foil of a predetermined thickness.

예를 들어, 접합부재(111)는 접착 성능이 우수하고 절연 기능을 갖는 폴리이미드 계열의 절연 접착 시트나, 유리섬유 에폭시 수지(glass epoxy resin)와 같은 에폭시 계열의 접합제를 사용할 수 있다. 여기서, 접합부재(111)는 베이스부(112)와 열팽창 계수가 유사한 것을 사용할 수 있다. 또한, 본 실시예에 따르면, 베이스부(112)의 표면이 구리 재질로 형성되므로, 접합부재(111)는 기존의 구리 재질에 사용되는 범용 접착제를 사용할 수 있다. 본 실시예들에 따르면, 알루미늄 재질을 사용하여 인쇄회로기판의 방열 기능 및 휨강도를 증가시킬 수 있는 반면, 범용 접합부재(111)를 사용함으로써, 접합력을 향상시키고, 제조 시간을 단축하고, 그 제조 비용을 절감할 수 있다.다음으로, 도 7에 도시한 바와 같이, 코어부(100)에 베이스부(112)가 접합된 상태에서 코어부(100)와 접합부재(111) 및 베이스부(112)를 관통하는 비아홀(via hole)(113)을 형성한다. 예를 들어, 비아홀(113)은 드릴(drill) 가공 또는 레이저(laser) 가공 등을 이용하여 형성할 수 있다.For example, the bonding member 111 may be a polyimide-based insulating adhesive sheet having an excellent adhesive performance and an insulating function, or an epoxy-based bonding agent such as a glass epoxy resin. Here, the bonding member 111 may be made of a material having a thermal expansion coefficient similar to that of the base portion 112. According to the present embodiment, since the surface of the base portion 112 is formed of a copper material, the bonding member 111 can use a general-purpose adhesive used for a conventional copper material. According to the embodiments, the heat dissipation function and the bending strength of the printed circuit board can be increased by using the aluminum material. On the other hand, by using the universal joint member 111, it is possible to improve the bonding force, shorten the manufacturing time, The core member 100 is bonded to the bonding member 111 and the base member 112 in a state in which the base member 112 is bonded to the core member 100 as shown in FIG. A via hole 113 is formed. For example, the via hole 113 can be formed by using a drill process, a laser process, or the like.

다음으로, 도 8에 도시한 바와 같이, 비아홀(113) 내측면에 노출된 접합부재(111) 부분을 금속화하기 위한 금속층(114)을 형성한다. 예를 들어, 금속층(114)은 직접 도금법(carbon direct plating)을 사용하여 탄소층을 형성할 수 있다. 금속층(114)을 형성함으로써, 접합부재(111)에 의해서 전기적으로 절연되어 있는 코어부(100) 및 상기 코어부(100)의 상하부에 형성된 베이스부(112)가 서로 전기적으로 연결된다. 또한, 금속층(114)은 코어부(100)와 베이스부(112)를 서로 전기적으로 연결시킬 수 있도록, 도 9에 도시한 바와 같이, 금속층(114)이 접합부재(111)의 단면 부분뿐만 아니라, 코어부(100)의 일부와 베이스부(112)의 일부까지 확장되게 형성될 수 있다.Next, as shown in Fig. 8, a metal layer 114 for metallizing a portion of the bonding member 111 exposed on the inner surface of the via hole 113 is formed. For example, the metal layer 114 may be formed using carbon direct plating. The core portion 100 electrically isolated by the bonding member 111 and the base portion 112 formed at the upper and lower portions of the core portion 100 are electrically connected to each other by forming the metal layer 114. [ 9, the metal layer 114 is formed so as to cover not only the end face portion of the bonding member 111 but also the end face portion of the base member 112, as shown in FIG. 9, so that the core portion 100 and the base portion 112 can be electrically connected to each other. And may extend to a portion of the core portion 100 and a portion of the base portion 112.

다음으로, 도 9에 도시한 바와 같이, 베이스부(112) 표면에 징케이트 처리하여 소정 두께의 치환층(115)을 형성한다. 예를 들어, 치환층(115)은 베이스부(112)의 표면 일부가 아연으로 치환되어 형성되며, 베이스부(112)의 표면 및 비아홀(113) 내부에서 금속층(114)을 제외한 영역, 즉, 베이스부(112)의 단면과 코어부(100)의 단면 부분에 형성된다. 또한, 치환층(115)의 두께는 적어도 금속층(114)의 두께와 동일한 두께가 되거나 금속층(114)의 두께보다 두꺼운 두께를 갖도록 형성된다. 여기서, 본 실시예에서는, 도 9에서 도면부호 115a로 표시한 바와 같이, 베이스부(112)의 두께 일부가 아연으로 치환되어 형성된 것으로 예시하였으나, 본 발명이 도면에 의해 한정되는 것은 아니며, 치환층(115)은 베이스부(112)의 두께 전부가 치환되어 형성되는 것도 가능하고, 치환층(115)의 두께와 베이스부(112)에서 치환되는 부분(115a)의 두께는 실질적으로 변경 가능하다.Next, as shown in Fig. 9, the surface of the base portion 112 is subjected to a zincate treatment to form a substitution layer 115 having a predetermined thickness. For example, the replacement layer 115 is formed by replacing a part of the surface of the base portion 112 with zinc, and a region excluding the metal layer 114 in the surface of the base portion 112 and inside the via hole 113, And is formed on the end face of the base portion 112 and the end face portion of the core portion 100. The thickness of the substitution layer 115 is at least equal to the thickness of the metal layer 114 or is formed to be thicker than the thickness of the metal layer 114. Here, in this embodiment, as shown by reference numeral 115a in FIG. 9, a part of the thickness of the base portion 112 is replaced with zinc, but the present invention is not limited to the drawings, The thickness of the substitution layer 115 and the thickness of the portion 115a to be substituted in the base portion 112 can be substantially changed.

본 실시예에 따르면, 치환층(115)은, 알루미늄 재질의 베이스부(112)가 대기 중에서 산화되는 것을 방지하고, 이후 실시되는 무전해 도금 및 전해 도금 과정에서 베이스부(112)의 표면이 부식되는 것을 방지하여 보호하는 역할을 수행한다.According to the present embodiment, the replacement layer 115 prevents the base portion 112 of the aluminum material from being oxidized in the atmosphere, and the surface of the base portion 112 in the electroless plating and electrolytic plating processes, And protects it from being damaged.

다음으로, 도 10에 도시된 바와 같이, 치환층(115) 상에 내화학성이 강한 금속으로 도금을 실행하여 제1 도금층(116)을 형성한다. 제1 도금층(116)은 치환층(115)뿐만 아니라, 비아홀(113) 내부의 금속층(114) 표면에도 형성된다. 또한, 제1 도금층(116)은 전해 도금 또는 무전해 도금을 이용하여 형성할 수 있다. 예를 들어, 제1 도금층(116)은 니켈(Ni)의 전해(환원) 도금을 이용하여 형성할 수 있다. 그러나 본 발명의 제1 도금층(116)의 재질이 니켈로만 한정되는 것은 아니며, 내화학성이 강한 다른 금속, 예를 들어, 금(Au) 또는 은(Ag) 등으로 치환 도금을 수행하는 것도 가능하다.Next, as shown in FIG. 10, the first plating layer 116 is formed on the replacement layer 115 by plating with a metal having high chemical resistance. The first plating layer 116 is formed not only on the substitution layer 115 but also on the surface of the metal layer 114 inside the via hole 113. The first plating layer 116 can be formed by electrolytic plating or electroless plating. For example, the first plating layer 116 can be formed using electrolytic (reduction) plating of nickel (Ni). However, the material of the first plating layer 116 of the present invention is not limited to nickel, and it is also possible to perform substitution plating with another metal having a high chemical resistance, such as gold (Au) or silver (Ag) .

다음으로, 도 11에 도시한 바와 같이, 제1 도금층(116) 상에 제1 도금층(116)과는 다른 재질의 금속을 이용하여 제2 도금층(117)을 형성한다. 예를 들어, 제2 도금층(117)은 구리를 이용하여 전해 도금을 수행함으로써 형성된 구리막일 수 있다.Next, as shown in FIG. 11, a second plating layer 117 is formed on the first plating layer 116 by using a metal different from the first plating layer 116. Next, as shown in FIG. For example, the second plating layer 117 may be a copper film formed by performing electrolytic plating using copper.

다음으로, 도 12에 도시한 바와 같이, 제2 도금층(117) 표면에 소정의 패턴(119)이 형성된 드라이 필름(Dry Film)(118)을 도포한다. 예를 들어, 드라이 필름(118)은 소정 시간 노광 및 현상하여 표면에 소정의 패턴(119)을 인쇄하고 형성한다.Next, as shown in Fig. 12, a dry film 118 having a predetermined pattern 119 formed on the surface of the second plating layer 117 is coated. For example, the dry film 118 is exposed and developed for a predetermined time to print and form a predetermined pattern 119 on the surface.

다음으로, 도 13에 도시한 바와 같이, 드라이 필름(118)의 패턴(119)에 따라 제2 도금층(117), 제1 도금층(116), 치환층(115) 및 베이스부(112)를 제거함으로써 회로 패턴(120)을 형성하고, 회로 패턴(120)의 형성이 완료된 후 드라이 필름(118)를 제거하여 인쇄회로기판을 형성할 수 있다. 회로 패턴(120)은 드라이 필름(118) 상의 패턴(119)을 기반으로 하여, 염산 계열 산성 에칭을 이용하여 형성할 수 있다. 예를 들어, 염산 계열은, 염화 제2철, 염화 제2동, 염소산나트륨 등이 사용될 수 있다. 그러나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 회로 패턴(120)은 드라이 필름(118)과 염산 계열 산성 에칭을 이용하는 화학적 방법뿐만 아니라, 펀칭과 같은 기계적 방법으로도 형성할 수 있다.Next, as shown in Fig. 13, the second plating layer 117, the first plating layer 116, the replacement layer 115, and the base portion 112 are removed along the pattern 119 of the dry film 118 The circuit pattern 120 is formed, and after the formation of the circuit pattern 120 is completed, the dry film 118 is removed to form a printed circuit board. The circuit pattern 120 may be formed using a hydrochloric acid based acid etch, based on the pattern 119 on the dry film 118. For example, as the hydrochloric acid series, ferric chloride, cupric chloride, sodium chlorate, and the like can be used. However, the present invention is not limited thereto, and the circuit pattern 120 can be formed by a mechanical method such as punching as well as a chemical method using dry film 118 and hydrochloric acid-based acid etching.

한편, 상술한 실시예에서는 코어부(100)가 하나로 형성된 것을 예시하였으나, 본 발명이 도면에 의해 한정되는 것은 아니고, 코어부(100)와 접합부재(111) 및 베이스부(112)가 반복적으로 적층되어 다수층으로 형성되는 것도 가능하다. 물론 코어부(100) 및 베이스부(112)가 다수층 적층되는 경우에도, 비아홀(113)을 형성하고, 금속층(114), 치환층(115), 제1 도금층(116) 및 제2 도금층(117)을 형성하는 단계들은 동일하게 수행될 수 있다.The present invention is not limited to the drawings, and the core part 100, the joining member 111, and the base part 112 may be repeatedly formed It is also possible to laminate and form a plurality of layers. The via hole 113 is formed and the metal layer 114, the substitution layer 115, the first plating layer 116, and the second plating layer (not shown) are stacked on the core layer 100 and the base portion 112, 117 may be performed in the same manner.

본 발명에 따라 제조된 인쇄회로기판은 자동차용 전장(電裝) 부품 등에 적용될 수 있다.
The printed circuit board manufactured according to the present invention can be applied to automobile electric parts and the like.

다음으로, 도 14 내지 도 22를 참조하여, 본 발명의 다른 실시예들에 따른 인쇄회로기판의 제조방법에 대해서 상세하게 설명한다. 한편, 이하에서 설명하는 실시예는 상술한 도 1 내지 도 13에서 설명한 실시예와 비교하여 코어부의 재질을 제외하고는 실질적으로 동일하므로, 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 명칭을 부여하고 중복되는 설명은 생략한다.Next, a method for manufacturing a printed circuit board according to another embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 14 to 22. FIG. Since the embodiments described below are substantially the same as those of the embodiments described above with reference to FIGS. 1 to 13 except for the material of the core portion, the same elements are given the same names, and redundant explanations are omitted do.

우선, 도 14에 도시한 바와 같이, 코어부(200)를 준비한다. 코어부(200)는 절연체 재질로 형성된다.First, as shown in Fig. 14, the core portion 200 is prepared. The core portion 200 is formed of an insulator material.

다음으로, 도 15에 도시한 바와 같이, 코어부(200)의 양측면 상에 접합부재(211)를 이용하여 베이스부(212)를 각각 접합시킨다. 베이스부(212)는 코어부(200) 및 베이스부(212)를 소정 온도로 가열하고 소정의 압력을 가하여 접합할 수 있다. 예를 들어, 접합부재(211)는 접착 성능이 우수하고 절연 기능을 갖는 폴리이미드 계열의 절연 접착 시트나, 유리섬유 에폭시 수지(glass epoxy resin)와 같은 에폭시 계열의 접합제를 사용할 수 있다. 또한, 접합부재(211)는 베이스부(212)와 열팽창 계수가 유사한 것을 사용할 수 있다.Next, as shown in Fig. 15, the base portion 212 is bonded to the both side surfaces of the core portion 200 using the bonding member 211. Next, as shown in Fig. The base portion 212 can be bonded by heating the core portion 200 and the base portion 212 to a predetermined temperature and applying a predetermined pressure. For example, the bonding member 211 may be a polyimide-based insulating adhesive sheet having an excellent adhesive performance and an insulating function, or an epoxy-based bonding agent such as a glass epoxy resin. The joining member 211 may have a thermal expansion coefficient similar to that of the base portion 212.

베이스부(212)는 알루미늄 상에 소정의 표면 처리를 수행하여 구리막이 형성된 알루미늄 재질이 사용될 수 있다. 베이스부(212)는 상술한 도 1 내지 도 4에서 설명한 바와 같이, 소정 두께의 알루미늄층(2121) 표면에 순차적으로 아연막(2122)과 니켈막(2123) 및 구리막(21244)이 형성된 형태를 가질 수 있다. 여기서, 베이스부(212)를 구성하는 알루미늄층(2121) 내지 구리막(2124)을 형성하는 과정은 도 1 내지 도 4에서 상술한 코어부(100)의 제조 공정과 동일하므로 중복되는 설명은 생략한다.The base portion 212 may be made of an aluminum material on which a copper film is formed by performing a predetermined surface treatment on aluminum. The base portion 212 has a structure in which a zinc film 2122, a nickel film 2123, and a copper film 21244 are sequentially formed on the surface of an aluminum layer 2121 having a predetermined thickness, as described with reference to FIGS. 1 to 4 Lt; / RTI > Here, the process of forming the aluminum layer 2121 to the copper film 2124 constituting the base portion 212 is the same as the process of manufacturing the core portion 100 described with reference to FIGS. 1 to 4, do.

다음으로, 도 16에 도시한 바와 같이, 코어부(200)에 베이스부(212)가 접합된 상태에서 코어부(200)와 접합부재(211) 및 베이스부(212)를 관통하는 비아홀 (213)을 형성한다. 예를 들어, 비아홀(213)은 드릴 가공 또는 레이저 가공 등을 이용하여 형성할 수 있다.Next, as shown in Fig. 16, a via hole 213 (shown in Fig. 16) that penetrates the core portion 200, the bonding member 211, and the base portion 212 with the base portion 212 bonded to the core portion 200 ). For example, the via hole 213 can be formed by a drilling process, a laser process, or the like.

다음으로, 도 17에 도시한 바와 같이, 비아홀(213) 내측면에서 노출되어 있는 절연체 재질의 코어부(200) 및 접합부재(211) 부분을 금속화하기 위한 금속층(214)을 형성한다. 금속층(214)을 형성함으로써, 전기적으로 절연되어 있는 코어부(200) 양측의 베이스부(212)가 서로 전기적으로 연결된다. 예를 들어, 금속층(214)은 직접 도금법을 사용하여 탄소층을 형성하고, 코어부(212)를 서로 연결할 수 있도록 베이스부(212)의 일부까지 확장되게 형성될 수 있다.Next, as shown in Fig. 17, a metal layer 214 for metallizing the core portion 200 of the insulator material exposed at the inner side of the via hole 213 and the bonding member 211 is formed. By forming the metal layer 214, the base portions 212 on both sides of the electrically insulated core portion 200 are electrically connected to each other. For example, the metal layer 214 may be formed by using a direct plating method to form a carbon layer and extend to a portion of the base portion 212 to connect the core portions 212 to each other.

다음으로, 도 18에 도시한 바와 같이, 베이스부(212) 표면을 징케이트 처리하여 소정 두께의 치환층(215)을 형성한다. 예를 들어, 치환층(215)은 베이스부(212)의 표면 일부가 아연으로 치환되어 형성될 수 있고, 비아홀(213) 내부에서 금속층(214)을 제외한 영역에 형성된다. 또한, 치환층(215)의 두께는 적어도 금속층(214)의 두께와 동일한 두께가 되거나 금속층(214)보다 두꺼운 두께를 갖도록 형성된다. 본 실시예에 따르면, 치환층(215)은, 알루미늄 재질의 베이스부(212)가 대기 중에서 산화되는 것을 방지하고, 이후 실시되는 무전해 도금 및 전해 도금 과정에서 베이스부(212)의 표면이 부식되는 것을 방지하여 보호하는 역할을 수행한다.Next, as shown in FIG. 18, the surface of the base portion 212 is subjected to a zincate treatment to form a replacement layer 215 having a predetermined thickness. For example, the substitution layer 215 may be formed by replacing a portion of the surface of the base portion 212 with zinc, and formed in a region inside the via hole 213 except for the metal layer 214. The thickness of the substitution layer 215 may be at least equal to the thickness of the metal layer 214 or may be greater than the thickness of the metal layer 214. According to the present embodiment, the replacement layer 215 prevents the base portion 212 of the aluminum material from being oxidized in the atmosphere and prevents the surface of the base portion 212 from being corroded during the subsequent electroless plating and electrolytic plating processes. And protects it from being damaged.

다음으로, 도 19에 도시된 바와 같이, 치환층(215) 상에 내화학성이 강한 금속으로 도금을 실행하여 제1 도금층(216)을 형성한다. 제1 도금층(216)은 치환층(215)뿐만 아니라, 비아홀(213) 내부의 금속층(214) 표면에도 형성된다. 또한, 제1 도금층(216)은 전해 도금 또는 무전해 도금을 이용하여 형성할 수 있다. 예를 들어, 제1 도금층(216)은 니켈(Ni)의 전해(환원) 도금을 이용하여 형성할 수 있다. 그러나 본 발명의 제1 도금층(216)의 재질이 니켈로만 한정되는 것은 아니며, 내화학성이 강한 다른 금속, 예를 들어, 금(Au) 또는 은(Ag) 등으로 치환 도금을 수행하는 것도 가능하다.Next, as shown in FIG. 19, the first plating layer 216 is formed on the replacement layer 215 by plating with a metal having a high chemical resistance. The first plating layer 216 is formed not only on the replacement layer 215 but also on the surface of the metal layer 214 inside the via hole 213. The first plating layer 216 may be formed by electrolytic plating or electroless plating. For example, the first plating layer 216 may be formed by electrolytic (reduction) plating of nickel (Ni). However, the material of the first plating layer 216 of the present invention is not limited to nickel, and it is also possible to perform substitution plating with another metal having a high chemical resistance, such as gold (Au) or silver (Ag) .

다음으로, 도 20에 도시한 바와 같이, 제1 도금층(216) 상에 제1 도금층(216)과는 다른 재질의 금속을 이용하여 제2 도금층(217)을 형성한다. 예를 들어, 제2 도금층(217)은 구리를 이용하여 전해 도금을 수행함으로써 형성된 구리막일 수 있다.Next, as shown in FIG. 20, a second plating layer 217 is formed on the first plating layer 216 by using a metal different from the first plating layer 216. For example, the second plating layer 217 may be a copper film formed by performing electrolytic plating using copper.

다음으로, 도 21에 도시한 바와 같이, 제2 도금층(217) 표면에 소정의 패턴(219)이 형성된 드라이 필름(218)을 도포하고, 소정 시간 노광 및 현상하여 패턴(219)을 형성한다.Next, as shown in Fig. 21, a dry film 218 having a predetermined pattern 219 formed on the surface of the second plating layer 217 is coated and exposed and developed for a predetermined time to form a pattern 219. Next, as shown in Fig.

다음으로, 도 2에 도시한 바와 같이, 드라이 필름(218)의 패턴(219)에 따라 제2 도금층(217), 제1 도금층(216), 치환층(215) 및 베이스부(212)를 제거함으로써 회로 패턴(220)을 형성하고, 회로 패턴(220)의 형성이 완료된 후 드라이 필름(218)를 제거하여 인쇄회로기판을 형성할 수 있다. 회로 패턴(220)은 드라이 필름(218) 상의 패턴(219)을 기반으로 하여, 염산 계열 산성 에칭을 이용하여 형성할 수 있다. 예를 들어, 염산 계열은, 염화 제2철, 염화 제2동, 염소산나트륨 등이 사용될 수 있다. 그러나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 회로 패턴(220)은 드라이 필름(218)과 염산 계열 산성 에칭을 이용하는 화학적 방법뿐만 아니라, 펀칭과 같은 기계적 방법으로도 형성할 수 있다.2, the second plating layer 217, the first plating layer 216, the replacement layer 215, and the base portion 212 are removed in accordance with the pattern 219 of the dry film 218 The circuit pattern 220 is formed, and after the formation of the circuit pattern 220 is completed, the dry film 218 can be removed to form a printed circuit board. The circuit pattern 220 can be formed using a hydrochloric acid based acid etch, based on the pattern 219 on the dry film 218. For example, as the hydrochloric acid series, ferric chloride, cupric chloride, sodium chlorate, and the like can be used. However, the present invention is not limited thereto, and the circuit pattern 220 can be formed by a mechanical method such as punching as well as a chemical method using dry film 218 and hydrochloric acid-based acid etching.

한편, 상술한 실시예에서는 코어부(200)가 하나의 층으로 형성된 것을 예시하였으나, 본 발명이 도면에 의해 한정되는 것은 아니고, 코어부(200)와 접합부재(211) 및 베이스부(212)가 반복적으로 적층되어 다수층으로 형성되는 것도 가능하다. 물론 코어부(200) 및 베이스부(212)가 다수층 적층되는 경우에도, 비아홀(213)을 형성하고, 금속층(214), 치환층(215), 제1 도금층(216) 및 제2 도금층(217)을 형성하는 단계들은 동일하게 수행될 수 있다.The present invention is not limited to the drawings but may be applied to the core part 200 and the joining member 211 and the base part 212. In the above embodiment, May be repeatedly stacked to form a plurality of layers. A via hole 213 is formed and a metal layer 214, a substitution layer 215, a first plating layer 216, and a second plating layer (not shown) are formed in the core layer 200 and the base portion 212, 217 may be performed in the same manner.

본 발명에 따라 제조된 인쇄회로기판은 자동차용 전장(電裝) 부품 등에 적용될 수 있다.The printed circuit board manufactured according to the present invention can be applied to automobile electric parts and the like.

한편, 상술한 실시예들에서는 비아홀이 형성된 경우에 인쇄회로기판의 제조방법에 대해서 설명하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며 비아홀이 형성되지 않은 경우에도 상술한 실시예의 방법이 동일하게 적용될 수 있다.In the above-described embodiments, a method of manufacturing a printed circuit board in the case where a via hole is formed has been described. However, the present invention is not limited thereto, and the method of the above embodiment may be applied to a case where a via hole is not formed .

이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. For example, it is to be understood that the techniques described may be performed in a different order than the described methods, and / or that components of the described systems, structures, devices, circuits, Lt; / RTI > or equivalents, even if it is replaced or replaced.

그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.
Therefore, other implementations, other embodiments, and equivalents to the claims are also within the scope of the following claims.

100: 코어부
101: 코어층
102: 아연막
103: 니켈막
104: 구리막
105: 코어 패턴
111: 접합부재
112: 베이스부
1121: 알루미늄층
1122: 아연막
1123: 니켈막
1124: 구리막
1125: 단일 구리층
113: 비아홀(via hole)
114: 금속층
115: 치환층
116: 제1 도금층
117: 제2 도금층
118: 드라이 필름
119: 패턴
120: 회로 패턴
100: core part
101: core layer
102: zinc film
103: Nickel film
104: Copper film
105: core pattern
111:
112: Base portion
1121: Aluminum layer
1122: zinc film
1123: Nickel film
1124: Copper film
1125: single copper layer
113: via hole
114: metal layer
115: Substitution layer
116: First plating layer
117: Second plating layer
118: Dry film
119: Pattern
120: Circuit pattern

Claims (41)

코어부;
표면이 구리 재질로 형성된 베이스부;
상기 코어부 양측에 각각 상기 베이스부를 접합시키도록 상기 코어부와 상기 베이스부 사이에 개재되는 접합부재;
상기 베이스부의 표면을 아연화시키도록 형성된 치환층;
상기 치환층 상에 도금을 이용하여 제1 금속 재질로 형성되는 제1 도금층; 및
상기 제1 도금층 상에 도금을 이용하여 상기 제1 금속과 다른 재질의 제2 금속 재질로 형성되는 제2 도금층;
을 포함하는 인쇄회로기판.
A core portion;
A base portion having a surface made of a copper material;
A joining member interposed between the core portion and the base portion to join the base portion to both sides of the core portion;
A substitution layer formed to zincate the surface of the base portion;
A first plating layer formed of a first metal material on the replacement layer using plating; And
A second plating layer formed on the first plating layer by plating using a second metal material different from the first metal;
And a printed circuit board.
제1항에 있어서,
상기 코어부는 절연체 재질로 형성되는 인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
Wherein the core portion is formed of an insulator material.
제2항에 있어서,
상기 코어부와 상기 접합부재 및 상기 베이스부를 관통하여 비아홀이 형성되고,
상기 비아홀 내부에서 절연체 재질로 형성된 상기 코어부와 상기 접합부재가 노출된 단면 부분을 금속화시키기 위한 금속층이 형성되고,
상기 치환층은 상기 금속층이 형성된 부분을 제외한 영역에 형성되는 인쇄회로기판.
3. The method of claim 2,
A via hole is formed through the core portion, the joining member, and the base portion,
A metal layer for metallizing the core portion formed of an insulator material and the cross-sectional portion of the bonding material exposed in the via hole,
Wherein the substitution layer is formed in a region excluding a portion where the metal layer is formed.
제3항에 있어서,
상기 치환층은 상기 금속층과 두께가 갖거나 상기 금속층보다 두꺼운 두께를 갖도록 형성되는 인쇄회로기판.
The method of claim 3,
Wherein the substitution layer is formed to have a thickness equal to or greater than that of the metal layer.
제2항에 있어서,
상기 베이스부는 알루미늄의 표면 처리를 통해 알루미늄층 표면에 구리막이 형성된 형태를 갖고,
알루미늄층;
상기 알루미늄층 상에 형성된 아연막;
상기 아연막 상에 도금을 이용하여 형성된 니켈막; 및
상기 니켈막 상에 도금을 이용하여 형성된 구리막;
을 포함하는 인쇄회로기판.
3. The method of claim 2,
Wherein the base portion has a copper film formed on the surface of the aluminum layer through surface treatment of aluminum,
An aluminum layer;
A zinc film formed on the aluminum layer;
A nickel film formed on the zinc film by plating; And
A copper film formed on the nickel film by plating;
And a printed circuit board.
제1항에 있어서,
상기 코어부는 알루미늄의 표면 처리를 통해 알루미늄층 표면에 구리막이 형성된 형태를 갖는 인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
Wherein the core portion has a form in which a copper film is formed on a surface of an aluminum layer through surface treatment of aluminum.
제1항에 있어서,
상기 코어부는,
알루미늄층;
상기 알루미늄층 상에 형성된 아연막;
상기 아연막 상에 도금을 이용하여 형성된 니켈막; 및
상기 니켈막 상에 도금을 이용하여 형성된 구리막;
을 포함하는 인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
The core portion
An aluminum layer;
A zinc film formed on the aluminum layer;
A nickel film formed on the zinc film by plating; And
A copper film formed on the nickel film by plating;
And a printed circuit board.
제6항에 있어서,
상기 코어부는 코어 패턴이 형성된 인쇄회로기판.
The method according to claim 6,
Wherein the core portion is formed with a core pattern.
제8항에 있어서,
상기 코어 패턴은 상기 금속 코어층을 관통하여 형성되는 하나 이상의 홀로 형성되고, 상기 홀이 패턴으로 형성되거나 규칙적 또는 불규칙적으로 홀이 배열되어 형성된 인쇄회로기판.
9. The method of claim 8,
Wherein the core pattern is formed of at least one hole formed through the metal core layer, and the holes are formed in a pattern or regularly or irregularly arranged holes.
제6항에 있어서,
상기 코어부와 상기 접합부재 및 상기 베이스부를 관통하여 비아홀이 형성되고,
상기 비아홀 내부에서 상기 접합부재가 노출된 단면 부분을 금속화시키기 위한 금속층이 형성되고,
상기 치환층은 상기 금속층이 형성된 부분을 제외한 영역에 형성되는 인쇄회로기판.
The method according to claim 6,
A via hole is formed through the core portion, the joining member, and the base portion,
A metal layer is formed in the via hole for metallizing a cross-section portion of the bonding material exposed,
Wherein the substitution layer is formed in a region excluding a portion where the metal layer is formed.
제10항에 있어서,
상기 치환층은 상기 금속층과 두께가 갖거나 상기 금속층보다 두꺼운 두께를 갖도록 형성되는 인쇄회로기판.
11. The method of claim 10,
Wherein the substitution layer is formed to have a thickness equal to or greater than that of the metal layer.
제6항에 있어서,
상기 베이스부는 알루미늄의 표면 처리를 통해 알루미늄층 표면에 구리막이 형성된 형태를 갖고,
알루미늄층;
상기 알루미늄층 상에 형성된 아연막;
상기 아연막 상에 도금을 이용하여 형성된 니켈막; 및
상기 니켈막 상에 도금을 이용하여 형성된 구리막;
을 포함하는 인쇄회로기판.
The method according to claim 6,
Wherein the base portion has a copper film formed on the surface of the aluminum layer through surface treatment of aluminum,
An aluminum layer;
A zinc film formed on the aluminum layer;
A nickel film formed on the zinc film by plating; And
A copper film formed on the nickel film by plating;
And a printed circuit board.
제6항에 있어서,
상기 베이스부는 구리판으로 형성된 인쇄회로기판.
The method according to claim 6,
Wherein the base portion is formed of a copper plate.
제1항에 있어서,
상기 접합부재는 폴리이미드(polyimide) 계열의 접착 시트 또는 에폭시 계열이 사용되는 인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
Wherein the bonding material is a polyimide adhesive sheet or an epoxy-based printed circuit board.
제1항에 있어서,
상기 제1 도금층은 무전해 또는 전해 도금을 이용하여 형성되는 인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
Wherein the first plating layer is formed using electroless plating or electrolytic plating.
제15항에 있어서,
상기 제1 도금층은 니켈, 금, 은 중에서 선택된 어느 하나의 금속 재질로 형성되는 인쇄회로기판.
16. The method of claim 15,
Wherein the first plating layer is formed of a metal selected from the group consisting of nickel, gold, and silver.
제1항에 있어서,
상기 제2 도금층은 전해 도금을 이용하여 형성되는 인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
And the second plating layer is formed using electrolytic plating.
제17항에 있어서,
상기 제2 도금층은 구리 재질로 형성되는 인쇄회로기판.
18. The method of claim 17,
Wherein the second plating layer is formed of a copper material.
제1항에 있어서,
상기 제2 도금층 상에 형성된 회로 패턴을 더 포함하는 인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
And a circuit pattern formed on the second plating layer.
제19항에 있어서,
상기 회로 패턴은 상기 도금층 상에 드라이 필름을 도포하고 노광 후 염화 제2철, 염화 제2동, 염소산나트륨 중 어느 하나의 물질을 이용하여 형성되는 인쇄회로기판.
20. The method of claim 19,
Wherein the circuit pattern is formed using a material selected from ferric chloride, cupric chloride, and sodium chlorate after applying a dry film on the plating layer and after exposure.
제1항에 있어서,
상기 코어부, 상기 접합부재 및 상기 베이스부가 다수층이 적층되어 형성된 인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
And the base portion, the core portion, the bonding member, and the base portion.
코어부를 제공하는 단계;
표면이 구리 재질로 형성된 베이스부를 제공하는 단계;
상기 코어부 양측에 접합부재를 이용하여 상기 베이스부를 접합하는 단계;
상기 베이스부의 표면을 아연화하여 치환층을 형성하는 단계;
상기 치환층 상에 도금을 이용하여 제1 금속 재질의 제1 도금층을 형성하는 단계; 및
상기 제1 도금층 상에 도금을 이용하여 상기 제1 금속과 다른 재질의 제2 금속 재질의 제2 도금층을 형성하는 단계;
를 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법.
Providing a core portion;
Providing a base portion whose surface is made of a copper material;
Joining the base portion to both sides of the core portion using a joining member;
Forming a substitution layer by zincifying the surface of the base portion;
Forming a first plating layer of a first metal material on the replacement layer using plating; And
Forming a second plating layer of a second metal material different from the first metal on the first plating layer using plating;
And a step of forming the printed circuit board.
제22항에 있어서,
상기 코어부는 절연체 재질로 형성되는 인쇄회로기판의 제조방법.
23. The method of claim 22,
Wherein the core portion is formed of an insulator material.
제23항에 있어서,
상기 코어부와 상기 접합부재 및 상기 베이스부를 관통하는 비아홀을 형성하는 단계; 및
상기 비아홀 내부에서 절연체 재질로 형성된 상기 코어부와 상기 접합부재가 노출된 단면 부분을 금속화시키기 위한 금속층을 형성하는 단계;
를 더 포함하고,
상기 치환층은 상기 금속층이 형성된 부분을 제외한 영역에 형성되는 인쇄회로기판의 제조방법.
24. The method of claim 23,
Forming a via hole penetrating the core portion, the joining member, and the base portion; And
Forming a metal layer in the via hole to metallize the core portion formed of an insulator material and a cross-sectional portion of the joint material exposed;
Further comprising:
Wherein the replacement layer is formed in a region except for a portion where the metal layer is formed.
제24항에 있어서,
상기 치환층을 형성하는 단계는, 상기 금속층과 같은 두께로 형성하거나, 상기 금속층보다 두꺼운 두께로 형성하는 인쇄회로기판의 제조방법.
25. The method of claim 24,
Wherein the step of forming the substitution layer is formed to have the same thickness as the metal layer or to have a thickness greater than that of the metal layer.
제23항에 있어서,
상기 베이스부는 알루미늄의 표면 처리를 통해 알루미늄층 표면에 구리막이 형성된 형태를 갖고,
알루미늄층을 제공하는 단계;
상기 알루미늄층 상에 아연막을 형성하는 단계;
상기 아연막 상에 도금을 이용하여 니켈막을 형성하는 단계; 및
상기 니켈막 상에 도금을 이용하여 구리막을 형성하는 단계;
를 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법.
24. The method of claim 23,
Wherein the base portion has a copper film formed on the surface of the aluminum layer through surface treatment of aluminum,
Providing an aluminum layer;
Forming a zinc film on the aluminum layer;
Forming a nickel film on the zinc film using plating; And
Forming a copper film on the nickel film using plating;
And a step of forming the printed circuit board.
제22항에 있어서,
상기 코어부는 알루미늄의 표면 처리를 통해 알루미늄층 표면에 구리막이 형성된 형태를 갖는 인쇄회로기판의 제조방법.
23. The method of claim 22,
Wherein the core portion has a form in which a copper film is formed on the surface of the aluminum layer through surface treatment of aluminum.
제22항에 있어서,
상기 코어부는,
알루미늄층을 제공하는 단계;
상기 알루미늄층 상에 아연막을 형성하는 단계;
상기 아연막 상에 도금을 이용하여 니켈막을 형성하는 단계; 및
상기 니켈막 상에 도금을 이용하여 구리막을 형성하는 단계;
을 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법.
23. The method of claim 22,
The core portion
Providing an aluminum layer;
Forming a zinc film on the aluminum layer;
Forming a nickel film on the zinc film using plating; And
Forming a copper film on the nickel film using plating;
The method comprising the steps of:
제27항에 있어서,
상기 코어부에 코어 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법.
28. The method of claim 27,
And forming a core pattern on the core portion.
제29항에 있어서,
상기 코어 패턴을 형성하는 단계는, 상기 금속 코어층을 관통하여 형성되는 하나 이상의 홀을 형성하고, 상기 홀이 패턴으로 형성되거나 규칙적 또는 불규칙적으로 홀이 배열되어 형성된 인쇄회로기판의 제조방법.
30. The method of claim 29,
The forming of the core pattern may include forming at least one hole formed through the metal core layer, wherein the hole is formed in a pattern, or holes are regularly or irregularly arranged.
제27항에 있어서,
상기 코어부와 상기 접합부재 및 상기 베이스부를 관통하는 비아홀을 형성하는 단계; 및
상기 비아홀 내부에서 상기 접합부재가 노출된 단면 부분을 금속화시키기 위한 금속층을 형성하는 단계;
를 더 포함하고,
상기 치환층은 상기 금속층이 형성된 부분을 제외한 영역에 형성되는 인쇄회로기판의 제조방법.
28. The method of claim 27,
Forming a via hole penetrating the core portion, the joining member, and the base portion; And
Forming a metal layer in the via hole to metallize a cross-section portion of the bonding material exposed;
Further comprising:
Wherein the replacement layer is formed in a region except for a portion where the metal layer is formed.
제31항에 있어서,
상기 치환층을 형성하는 단계는, 상기 금속층과 같은 두께로 형성하거나, 상기 금속층보다 두꺼운 두께로 형성하는 인쇄회로기판의 제조방법.
32. The method of claim 31,
Wherein the step of forming the substitution layer is formed to have the same thickness as the metal layer or to have a thickness greater than that of the metal layer.
제27항에 있어서,
상기 베이스부는 알루미늄의 표면 처리를 통해 알루미늄층 표면에 구리막이 형성된 형태를 갖고,
알루미늄층을 제공하는 단계;
상기 알루미늄층 상에 아연막을 형성하는 단계;
상기 아연막 상에 도금을 이용하여 니켈막을 형성하는 단계; 및
상기 니켈막 상에 도금을 이용하여 구리막을 형성하는 단계;
를 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법.
28. The method of claim 27,
Wherein the base portion has a copper film formed on the surface of the aluminum layer through surface treatment of aluminum,
Providing an aluminum layer;
Forming a zinc film on the aluminum layer;
Forming a nickel film on the zinc film using plating; And
Forming a copper film on the nickel film using plating;
And a step of forming the printed circuit board.
제27항에 있어서,
상기 베이스부는 구리판으로 형성되는 인쇄회로기판의 제조방법.
28. The method of claim 27,
Wherein the base portion is formed of a copper plate.
제22항에 있어서,
상기 접합부재는 폴리이미드(polyimide) 계열의 접착 시트 또는 에폭시 계열이 사용되는 인쇄회로기판의 제조방법.
23. The method of claim 22,
Wherein the bonding material is a polyimide adhesive sheet or an epoxy-based adhesive.
제22항에 있어서,
상기 제1 도금층은 무전해 또는 전해 도금을 이용하여 형성되는 인쇄회로기판의 제조방법.
23. The method of claim 22,
Wherein the first plating layer is formed using electroless plating or electrolytic plating.
제36항에 있어서,
상기 제1 도금층은 니켈, 금, 은 중에서 선택된 어느 하나의 금속 재질로 형성되는 인쇄회로기판의 제조방법.
37. The method of claim 36,
Wherein the first plating layer is formed of one of a metal selected from the group consisting of nickel, gold, and silver.
제22항에 있어서,
상기 제2 도금층은 전해 도금을 이용하여 형성되는 인쇄회로기판의 제조방법.
23. The method of claim 22,
And the second plating layer is formed using electrolytic plating.
제38항에 있어서,
상기 제2 도금층은 구리 재질로 형성되는 인쇄회로기판의 제조방법.
39. The method of claim 38,
Wherein the second plating layer is formed of a copper material.
제22항에 있어서,
상기 제2 도금층 상에 회로 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하고,
상기 회로 패턴은,
상기 제2 도금층 상에 드라이 필름을 도포하는 단계;
상기 드라이 필름을 노광하는 단계; 및
염화 제2철, 염화 제2동, 염소산나트륨 중 어느 하나의 물질을 사용하는 염산 계열의 산성 에칭을 이용하여 상기 제2 도금층을 에칭하는 단계;
를 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법.
23. The method of claim 22,
Further comprising the step of forming a circuit pattern on the second plating layer,
In the circuit pattern,
Applying a dry film on the second plating layer;
Exposing the dry film to light; And
Etching the second plating layer using a hydrochloric acid-based acid etching using any one of ferric chloride, cupric chloride, and sodium chlorate;
And a step of forming the printed circuit board.
제22항에 있어서,
상기 코어부를 제공하는 단계 내지 상기 접합부재를 이용하여 상기 베이스부를 접합하는 단계를 다수 회 반복하여 다층을 형성하는 인쇄회로기판의 제조방법.
23. The method of claim 22,
Wherein the step of providing the core part or the step of bonding the base part using the bonding member is repeated many times to form a multilayer.
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