KR20140115389A - 발광 소자 및 그를 포함하는 발광소자 패키지 - Google Patents

발광 소자 및 그를 포함하는 발광소자 패키지 Download PDF

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KR20140115389A
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본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자는 기판; 기판 상에 배치되고, 제1 반도체층, 제2 반도체층 및 제1 반도체층과 제2 반도체층 사이에 배치되는 활성층을 포함하는 발광구조물; 제2 반도체층 상에 배치되는 투명전극층; 투명전극층 상에 배치되는 제2 전극; 투명전극층과 제2 전극 사이에 배치되고, 투명전극층이 포함하는 산소가 제2 전극에 확산되는 것을 최소화하는 확산제한층;을 포함하고, 확산제한층은 4족, 6족 또는 10족의 원소 중 적어도 어느 하나를 포함한다.

Description

발광 소자 및 그를 포함하는 발광소자 패키지{Light emitting device}
실시예는 발광 소자 및 그를 포함하는 발광소자 패키지에 관한 것이다.
발광 다이오드(Light Emitting Diode, LED)는 화합물 반도체의 특성을 이용해 전기 신호를 광의 형태로 변환시키는 소자로, 가정용 가전제품, 리모컨, 전광판, 표시기, 각종 자동화 기기 등에 사용되고 있으며, 점차 사용 영역이 넓어지고 있는 추세이다.
발광소자는 순방향전압 인가시 n층의 전자(electron)와 p층의 정공(hole)이 결합하여 전도대(Conduction band)와 가전대(Valance band)의 에너지 갭에 해당하는 만큼의 에너지를 발산하는데, 주로 열이나 빛의 형태로 방출되며, 빛의 형태로 발산되면 LED가 되는 것이다.
질화물 반도체는 높은 열적 안정성과 폭넓은 밴드갭 에너지에 의해 광소자 및 고출력 전자소자 개발분야에서 큰 관심을 받고 있다. 특히, 질화물 반도체를 이용한 청색(Blue) 발광소자, 녹색(Green) 발광소자, 자외선(UV) 발광소자 등은 상용화되어 널리 사용되고 있다.
발광소자는 반도체층 또는 금속층 사이의 확산현상으로 인하여 품질이 떨어져 결함이 발생할 수 있다. 따라서, 발광소자 내부에서 확산현상을 차단하는 방법에 대한 고도의 연구가 필요한 실정이다.
발광소자 패키지는 발광소자를 기판 상에 제작하고, 절단(sawing)공정인 다이 분리(dieseparation)를 통해 발광소자 칩을 분리한 후, 발광소자 칩을 패키지 몸체(package body)에 다이 본딩(diebonding)하고 와이어 본딩(wire bonding), 몰딩(molding)을 진행 후 테스트를 진행할 수 있다.
본 발명의 실시예는 투명전극층의 산소가 다른 층으로 확산되는 것을 차단하여, 광효율을 높인 발광소자를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자는 기판; 기판 상에 배치되고, 제1 반도체층, 제2 반도체층 및 제1 반도체층과 제2 반도체층 사이에 배치되는 활성층을 포함하는 발광구조물; 제2 반도체층 상에 배치되는 투명전극층; 투명전극층 상에 배치되는 제2 전극; 투명전극층과 제2 전극 사이에 배치되고, 투명전극층이 포함하는 산소가 제2 전극에 확산되는 것을 최소화하는 확산제한층;을 포함하고, 확산제한층은 4족, 6족 또는 10족의 원소 중 적어도 어느 하나를 포함한다.
본 발명의 여러 실시예의 발광소자 및 발광소자 패키지는 다음과 같은 효과가 하나 혹은 그 이상 있다.
일 실시예에 따른 발광소자는 투명전극층이 산소를 제2 전극으로 확산시켜, 투명전극층 내부의 조성의 차이가 발생하고, 이로 인해 발생하는 오믹접촉의 어려움을 개선할 수 있다.
일 실시예에 따른 발광소자는 확산제한층 상에 본딩층을 배치하여, 확산제한층과 제2 전극과의 접촉성을 높여, 발광소자의 전류공급을 크게 개선할 수 있다.
도 1 은 일 실시예에 따른 발광소자의 단면을 나타낸 단면도,
도 2 는 일 실시예에 따른 발광소자의 상면을 도시한 단면도,
도 3 은 일 실시예에 따른 발광소자의 단면을 나타낸 단면도,
도 4a 및 도 4b 는 일 실시예에 다른 발광소자를 포함하는 발광소자 패키지의 사시도 및 단면도,
도 5a 는 실시예에 따른 발광소자 패키지를 포함하는 조명장치를 도시한 사시도,
도 5b 는 실시예에 따른 발광소자 패키지를 포함하는 조명장치를 도시한 단면도,
도 6 은 실시예에 따른 발광소자 패키지를 포함한 액정표시장치를 나타낸 개념도,
도 7 은 실시예에 따른 발광소자 패키지를 포함한 액정표시장치를 나타낸 개념도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)"또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않은 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
도면에서 각층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기와 면적은 실제크기나 면적을 전적으로 반영하는 것은 아니다.
또한, 실시예에서 발광소자의 구조를 설명하는 과정에서 언급하는 각도와 방향은 도면에 기재된 것을 기준으로 한다. 명세서에서 발광소자를 이루는 구조에 대한 설명에서, 각도에 대한 기준점과 위치관계를 명확히 언급하지 않은 경우, 관련 도면을 참조하도록 한다.
이하에서는 도면을 참조하여 실시예를 보다 상세하게 설명한다.
도 1 내지 도 3 은 일 실시예에 따른 발광소자의 단면을 나타낸 단면도이다.
도 1 을 참조하면, 일 실시예에 따른 발광소자(100)는 기판(110), 기판(110) 상에 배치되고, 제1 반도체층(132), 제2 반도체층(136) 및 제1 반도체층(132)과 제2 반도체층(136) 사이에 배치되는 활성층(134)을 포함하는 발광구조물(130), 제2 반도체층(136) 상에 배치되는 투명전극층(160), 투명전극층(160)상에 배치되는 제2 전극(150), 투명전극층(160)과 제2 전극(150) 사이에 배치되고, 투명전극층(160)이 포함하는 산소가 제2 전극(150)에 확산되는 것을 최소화하는 확산제한층(170)을 포함하고, 확산제한층(170)은 4족, 6족 또는 10족의 원소 중 적어도 어느 하나를 포함한다 다.
기판(110)은 제1 반도체층(132) 하부에 배치될 수 있다. 기판(110)은 제1 반도체층(132)을 지지할 수 있다. 기판(110)은 제1 반도체층(132)에서 열을 전달받을 수 있다. 기판(110)은 광 투과적 성질을 가질 수 있다. 예를 들어, 기판(110)은 사파이어(Al2O3)를 포함할 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다. 기판(110)은 광 투과적 물질을 사용하거나, 일정두께 이하로 형성하는 경우 광 투과적 성질을 가질 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다. 기판(110)의 굴절율은 광 추출 효율을 위해 제1 반도체층(132)의 굴절율보다 작은 것이 바람직하나, 이에 한정하지 아니한다.
기판(110)은 실시예에 따라 반도체 물질로 형성될 수 있으며, 예를 들어, 규소(Si), 게르마늄(Ge), 비소화갈륨(GaAs), 산화아연(ZnO), 실리콘카바이드(SiC), 실리콘게르마늄(SiGe), 질화갈륨(GaN), 갈륨(Ⅲ)옥사이드(Ga2O3)와 같은 캐리어 웨이퍼로 구현될 수 있다.
기판(110)은 전도성 물질로 형성될 수 있다. 실시예에 따라서 금속으로 형성될 수 있으며, 예를 들어 금(Au), 니켈(Ni), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 탄탈륨(Ta), 은(Ag), 백금(Pt), 크롬(Cr)중에서 선택된 어느 하나로 형성하거나 둘 이상의 합금으로 형성할 수 있으며, 위 물질 중 둘 이상의 물질을 적층하여 형성할 수 있다. 기판(110)이 금속으로 형성된 경우 발광 소자에서 발생하는 열의 방출을 용이하게 하여 발광 소자의 열적 안정성을 향상시킬 수 있다.
기판(110)은 광 추출 효율을 높이기 위해서, 상면에 PSS(Patterned Substrate) 구조를 구비할 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다. 기판(110)은 발광소자(100)에서 발생하는 열의 방출을 용이하게 하여 발광소자(100)의 열적 안정성을 향상시킬 수 있다. 기판(110)은 제1 반도체층(132)과 격자상수의 차이가 존재하여 제1 반도체층(132)과의 사이에 격자상수 차이를 완화시키는 층을 구비할 수 있다.
제1 반도체층(132)은 기판(110) 상에 배치될 수 있다. 제1 반도체층(132)은 기판(110)과의 격자상수 차이를 정합시키기 위해 버퍼층(미도시) 상에 배치될 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다. 제1 반도체층(132)은 기판(110) 상에서 성장될 수 있으나, 수평형 발광소자에만 한정되는 것은 아니며 수직형 발광소자에도 적용될 수 있다.
제1 반도체층(132)은 n형 반도체층으로 구현될 수 있다. 예를 들어, 발광소자(100)가 파란색 파장의 빛을 발광하는 경우, 상기 n형 반도체층은 예컨데, InxAlyGa1-x-yN (0=x=1, 0=y=1, 0=x+y=1)의 조성식을 갖는 반도체 재료, 예를 들어 GaN(Gallium nitride), AlN(Aluminium nitride), AlGaN(Aluminium gallium nitride), InGaN(Indium gallium nitride), InN(Indium nitride), InAlGaN, AlInN 등에서 선택될 수 있다. 제1 반도체층(132)은 예를 들어, 규소(Si), 게르마늄(Ge), 주석(Sn), 셀레늄(Se), 텔루늄(Te)와 같은 n형 도펀트가 도핑될 수 있다.
제1 반도체층(132)은 외부에서 전원을 공급받을 수 있다. 제1 반도체층(132)은 활성층(134)에 전자를 제공할 수 있다.
활성층(134)은 제1 반도체층(132) 상에 배치될 수 있다. 활성층(134)은 제2 반도체층(136)과 제1 반도체층(132)의 사이에 배치될 수 있다.
활성층(134)은 반도체 물질로 형성될 수 있다. 활성층(134)은 3족-5족 원소의 화합물 반도체 재료를 이용하여 단일 또는 다중 우물 구조 등으로 형성될 수 있다. 활성층(134)은 질화물 반도체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 활성층(134)은 갈륨나이트라이드(GaN), 인듐갈륨나이트라이드(InGaN), 및 인듐갈륨나이트라이드(InAlGaN) 등을 포함할 수 있다.
활성층(134)은 파란색 빛을 발광하는 경우, 예를 들어, InxAlyGa1 -x- yN (0=x=1, 0=y=1, 0=x+y=1)의 조성식을 갖는 우물층(미도시)과 InaAlbGa1 -a- bN (0=a=1, 0=b=1, 0=a+b=1)의 조성식을 갖는 장벽층(미도시)을 갖는 단일 또는 다중 우물구조를 가질 수 있으나, 이에 한정되지 아니한다. 상기 우물층(미도시)은 상기 장벽층(미도시)의 밴드 갭보다 작은 밴드 갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다.
활성층(134)은 복수의 우물층(미도시)과 장벽층(미도시)이 교대로 적층되어 형성될 수 있다. 활성층(134)은 복수의 우물층(미도시)을 포함하여 광효율을 극대화할 수 있다.
우물층(미도시)은 장벽층(미도시)보다 에너지 밴드갭이 작을 수 있다. 우물층(미도시)은 제1 반도체층(132)보다 에너지 밴드갭이 작을 수 있다. 우물층(미도시)은 캐리어의 에너지 준위가 연속적일 수 있다.
제2 반도체층(136)은 활성층(134) 상에 형성될 수 있다. 제2 반도체층(136)은 p형 도펀트가 도핑된 p형 반도체층으로 구현될 수 있다. 발광소자가 파란색의 파장의 빛을 발광하는 경우, 제2 반도체층(136)은 InxAlyGa1 -x- yN (0=x=1, 0=y=1, 0=x+y=1)의 조성식을 갖는 반도체 재료, 예를 들어 GaN(Gallium nitride), AlN(Aluminium nitride), AlGaN(Aluminium gallium nitride), InGaN(Indium gallium nitride), InN(Indium nitride), InAlGaN, AlInN 등에서 선택될 수 있으며 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 칼슘(Ca), 스트론튬(Sr), 바륨(Ba) 등의 p형 도펀트가 도핑될 수 있다.
제1 반도체층(132), 활성층(134) 및 제2 반도체층(136)은 예를 들어, 유기금속 화학 증착법(MOCVD; Metal Organic Chemical Vapor Deposition), 화학 증착법(CVD; Chemical Vapor Deposition), 플라즈마 화학 증착법(PECVD; Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition), 분자선 성장법(MBE; Molecular Beam Epitaxy), 수소화물 기상 성장법(HVPE; Hydride Vapor Phase Epitaxy) 등의 방법을 이용하여 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.
제1 반도체층(132) 및 제2 반도체층(136) 내의 도전형 도펀트의 도핑 농도는 균일 또는 불균일하게 형성될 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다.
발광소자(100)가 수평형 발광다이오드인 경우, 제1 전극(140)은 제1 반도체층(132)의 일 영역에 배치될 수 있다. 제1 전극(140)은 제1 반도체층(132)과 전기적으로 연결될 수 있다. 제1 전극(140)은 외부에서 연결된 전원을 제1 반도체층(132)에 전달할 수 있다.
제2 전극(150)은 제2 반도체층(136)의 일 영역에 배치될 수 있다. 제2 전극(150)은 제2 반도체층(136)과 전기적으로 연결될 수 있다. 제2 전극(150)은 외부에서 제공되는 전원을 제2 반도체층(136)에 제공할 수 있다.
제1 전극(140) 및 제2 전극(150)은 전도성 물질 예를 들어, 인듐(In), 코발트(Co), 규소(Si), 게르마늄(Ge), 금(Au), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 루테늄(Ru), 레늄(Re), 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 하프늄(Hf), 탄탈(Ta), 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 은(Ag), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 나이오븀(Nb), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 구리(Cu), 및 티타늄 텅스텐 합금(WTi) 중에서 선택된 금속 또는 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 형성될 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다.
투명전극층(160)은 제2 전극(150)과 제2 반도체층 사이에 배치될 수 있다. 투명전극층(160)은 제2 반도체층(136)에 오믹접촉될 수 있다. 투명전극층(160)은 하나의 층 또는 번갈아 적층되는 복수개의 층을 포함할 수 있다. 투명전극층(160)은 투광성 전도층과 금속층을 선택적으로 포함할 수 있다. 투명전극층(160)은 제2 반도체층(136)에 캐리어의 주입을 원활히 할 수 있다.
예를 들어, 투명전극층(160)은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IrOx, RuOx, RuOx/ITO, Ni, Ag, Ni/IrOx/Au, 및 Ni/IrOx/Au/ITO 중 하나 이상을 이용하여 단층 또는 다층으로 구현할 수 있다.
투명전극층(160) 상에는 확산제한층(170)이 배치될 수 있다. 확산제한층(170)은 금속물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 확산제한층(170)은 4족, 6족, 10족의 원소 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
예를 들어, 확산제한층(170)은 티타늄(Ti), 지르콘(Zr), 하프늄(Hf), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd) 또는 Pt(백금) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
확산제한층(170)은 투명전극층(160)이 산소가 다른 층으로 확산되어, 내부 조성이 변화되는 것을 방지할 수 있다. 확산제한층(170)은 투명전극층(160)의 내부조성을 유지하여, 투명전극층(160)과 제2 반도체층(136) 간의 오믹접촉의 품질이 유지되도록 할 수 있다.
확산제한층(170)은 크롬(Cr) 또는 티타늄(Ti)을 포함할 수 있다. 확산제한층(170)은 금속산화물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 확산제한층(170)은 MOx (M은 4족, 6족 또는 10족의 원자) 분자를 포함할 수 있다.
확산제한층(170)은 두께가 2 내지 10nm일 수 있다.
확산제한층(170)은 두께가 2nm 미만인 경우, 두께가 얇아, 투명전극층(160)의 산소가, 확산제한층(170)의 상부에 배치된 층으로 확산되는 것을 막지 못해, 발광소자(100)의 품질을 저하시킬 수 있고, 두께가 10nm 초과인 경우, 두께가 너무 두꺼워, 발광구조물(130)에서 방출된 빛을 흡수하여, 광추출효율을 떨어트릴 수 있다.
확산제한층(170)은 투명전극층(160)과 확산제한층(170)의 상부에 배치되는 층 사이의 결합력을 강화할 수 있다. 확산제한층(170)은 발광소자(100)의 동작전압을 안정화시킬 수 있다.
도 2 를 참조하면, 발광소자(100)는 확산제한층(170)과 제2 전극(150) 사이에 배치되는 본딩층(174)을 더 포함할 수 있다.
본딩층(174)은 제2 전극(150)과 확산제한층(170) 사이의 접착력을 향상시킬 수 있다. 본딩층(174)은 4족, 6족, 또는 10족의 원소 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
예를 들어, 본딩층(174)은 티타늄(Ti), 지르콘(Zr), 하프늄(Hf), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd) 또는 Pt(백금) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
본딩층(174)은 두께가 1nm 내지 5nm일 수 있다. 본딩층(174)은 두께가 1nm 미만인 경우, 너무 얇아 그 위, 아래에 배치된 층을 접착시켜주는 정도가 너무 미약해질 수 있고, 두께가 5nm 이상인 경우, 발광구조물(130)에서 방출된 빛을 흡수하는 정도가 높아져, 발광소자(100)의 광추출효율을 저하시킬 수 있다.
발광소자(100)는 본딩층(174)과 확산제한층(170)을 적층할 수 있다. 확산제한층(170)은 본딩층(174)과 접하도록 적층된 경우, 두께가 1nm 내지 5nm일 수 있다. 확산제한층(170)은 두께가 1nm 미만인 경우, 두께가 얇아, 투명전극층(160)의 산소가, 본딩층(174)으로 확산되는 것을 막지 못해, 발광소자(100)의 품질을 저하시킬 수 있고, 두께가 5nm 초과인 경우, 두께가 너무 두꺼워, 발광구조물(130)에서 방출된 빛을 흡수하여, 광추출효율을 떨어트릴 수 있다.
다른 실시예의 발광소자의 경우, 본딩층(174)은 금속산화물을 포함할 수 있다. 본딩층(174)은 크롬(Cr) 또는 티타늄(Ti)을 포함할 수 있다. 본딩층(174)은 금속산화물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 본딩층(174)은 MOx (M은 4족, 6족 또는 10족의 원자) 분자를 포함할 수 있다.
도 3 을 참조하면, 발광소자(100)는 수직형 발광소자일 수 있다.
지지기판(196)은 열전도성이 우수한 물질을 이용하여 형성할 수 있다. 또한, 지지기판(196)은 전도성 물질로 형성할 수 있다. 본 실시예에서 지지기판(196)은 금속 물질 또는 전도성 세라믹을 이용하여 형성할 수 있다. 전도성 지지기판(196)은 단일층으로 형성될 수 있다. 실시예에 따라 전도성 지지기판(196)은 다층 구조로 형성될 수 있다.
지지기판(196)은 전도성 물질로 형성될 수 있다. 실시예에 따라서 금속으로 형성될 수 있으며, 예를 들어 금(Au), 니켈(Ni), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 탄탈륨(Ta), 은(Ag), 백금(Pt), 크롬(Cr) 중에서 선택된 어느 하나로 형성하거나 둘 이상의 합금으로 형성할 수 있으며, 서로 다른 둘 이상의 물질을 적층하여 형성할 수 있다. 또한 실시예에 따라서 지지기판(196)은 반도체 물질로 형성될 수 있으며, 예를 들어, 규소(Si), 게르마늄(Ge), 비소화갈륨(GaAs), 산화아연(ZnO), 실리콘카바이드(SiC), 실리콘게르마늄(SiGe), 질화갈륨(GaN), 갈륨(Ⅲ)옥사이드(Ga2O3)와 같은 캐리어 웨이퍼로 구현될 수 있다.
지지기판(196)은 발광 소자에서 발생하는 열의 방출을 용이하게 하여 발광 소자(100)의 열적 안정성을 향상시킬 수 있다.
지지기판(196) 상에는 지지기판(196)과 전도층(192)의 결합을 위하여 결합층(Wafer Bonding Layer)(194)을 형성될 수 있다. 결합층(194)은 예를 들어, 금(Au), 주석(Sn), 인듐(In), 은(Ag), 니켈(Ni), 나이오븀(Nb) 및 구리(Cu)로 구성되는 군으로부터 선택되는 물질 또는 이들의 합금으로 형성될 수 있다.
결합층(194) 위에는 전도층(Diffusion Barrier Layer)(192)이 형성될 수 있다. 전도층(192)은 니튬(Ni), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 바나듐(V), 철(Fe), 몰리브덴(Mo) 등으로 이루어질 수 있으며 이에 한정하지는 아니한다.
전도층(192)은 스퍼터링 증착 방법을 사용하여 형성될 수 있다. 스퍼터링 증착 방법을 사용할 경우, 이온화된 원자를 전기장에 의해 가속시켜, 전도층(192)의 소스재료(source material)에 충돌시키면, 소스재료의 원자들이 튀어나와 증착된다. 전도층(192)은 실시예에 따라 전기 화학적인 금속 증착 방법이나, 유테틱 메탈을 이용한 본딩 방법 등으로 형성될 수 있다. 전도층(192)은 실시예에 따라 복수의 레이어로 형성될 수 있다.
전도층(192)은 발광소자의 제조 공정상 발생할 수 있는 기계적 손상(깨짐 또는 박리 등)을 최소화할 수 있다. 전도층(192)은 지지기판(196) 또는 결합층(194)을 구성하는 금속 물질이 발광구조물(130)로 확산되는 것을 방지한다.
전도층(192) 상에는 제2 전극(160, 170, 180)이 형성될 수 있다. 제2 전극(160, 170, 180)은 투명전극층(ohmic layer)(160), 반사층(reflective layer)(180), 본딩층(bonding layer)(미도시) 중 적어도 한 층을 포함할 수 있다. 예를 들어 제2 전극(160, 170, 180)은 투명전극층/반사층/본딩층의 적층 구조이거나, 투명전극층/반사층의 적층 구조이거나, 반사층(오믹 포함)/본딩층의 적층 구조일 수 있으나, 이에 대해 한정하지는 않는다. 예컨대, 제2 전극(160, 170, 180)은 전도층(192)상에 반사층(142) 및 투명전극층(160)이 적층된 형태일 수 있다.
반사층(180)은 투명전극층(160) 및 전도층(192) 사이에 배치될 수 있으며, 반사특성이 우수한 물질, 예를 들어 은(Ag), 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 루비듐(Rh), 팔라듐(Pd), 이리듐(Ir), 루테늄(Ru), 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 백금(Pt), 금(Au), 하프늄(Hf) 및 이들의 선택적인 조합으로 구성된 물질 중에서 형성되거나, 상기 금속 물질과 IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide) 등의 투광성 전도성 물질을 이용하여 다층으로 형성할 수 있다. 반사층(180)은 IZO/Ni, AZO/Ag, IZO/Ag/Ni, AZO/Ag/Ni 등으로 적층할 수 있다. 반사층(180)을 발광 구조물(예컨대, 제2 반도체층(136))과 오믹 접촉하는 물질로 형성할 경우, 투명전극층(160)은 별도로 형성하지 않을 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.
투명전극층(160)은 발광구조물(130)의 하면에 오믹 접촉되며, 층 또는 복수의 패턴으로 형성될 수 있다. 투명전극층(160)은 투광성 전도층과 금속이 선택적으로 사용될 수 있다. 예를 들어, 투명전극층(160)은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IrOx, RuOx, RuOx/ITO, Ni, Ag, Ni/IrOx/Au, 및 Ni/IrOx/Au/ITO 중 하나 이상을 이용하여 단층 또는 다층으로 구현할 수 있다. 투명전극층(160)은 제2 반도체층(136)에 캐리어의 주입을 원활히 하기 위한 것으로, 생략될 수 있다.
투명전극층(160) 하부에는 확산제한층(170)이 배치될 수 있다. 확산제한층(170)은 금속물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 확산제한층(170)은 4족, 6족, 10족의 원소 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 도 1 및 도 2 에서 설명한 부분에 대해서는 추가로 상세하게 설명하지 아니한다.
제2 전극(160, 170, 180)은 본딩층(미도시)을 포함할 수 있다. 본딩층(미도시)은 확산제한층(170)과 반사층(180) 사이의 접착력을 향상시킬 수 있다. 본딩층(미도시)은 4족, 6족, 또는 10족의 원소 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 도 2 에서 설명한 부분은 추가로 상세하게 설명하지 아니한다.
제2 전극(160, 170, 180) 상에는 전류 제한층(CBL)(198)이 형성될 수 있다. 전류 제한층(150)은 광투과성을 가지며, 비전도성 또는 약전도성 재질로 형성될 수 있다. 전류 제한층(198)은 이산화규소(SiO2), 또는 이산화규소(SiO2)를 포함하는 산화알루미늄(Al2O3)으로 구성될 수도 있다.
제2 전극(160, 170, 180)의 상에는 발광구조물(130)이 형성된다. 발광구조물(130)은 제2 반도체층(136), 활성층(134) 및 제1 반도체층(132)을 포함할 수 있고, 제2 반도체층(136)과 제1 반도체층(132) 사이에 활성층(134)이 개재된 구성으로 이루어질 수 있다.
제1 반도체층(132) 상에는 제1 반도체층(132)과 전기적으로 연결된 제1 전극(140)을 형성될 수 있으며, 제1 전극(140)은 적어도 하나의 패드(미도시) 또는/및 소정 패턴을 갖는 전극을 포함할 수 있고, 이에 한정하지 아니한다. 제1 전극(140)은 제1 반도체층(132)의 상면 중 센터 영역, 외측 영역 또는 모서리 영역에 배치될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 한편, 제1 전극(140)은 패드(미도시) 및 패드(미도시)와 연결되어 적어도 일 방향으로 연장되는 적어도 하나의 브랜치(branch) 전극(미도시)이 연결될 수 있다. 제1 전극(140)은 제1 반도체층(132)의 위가 아닌 다른 영역에 배치될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.
한편, 제1 전극(140)은 제1 반도체층(132)의 평탄한 상면 위에 배치될 수 있고 평탄하지 않는 요철부(138) 위에 배치될 수도 있으며, 이에 한정하지 아니한다.
제1 반도체층(132)은 상부의 표면 일부 영역 또는 전체 영역에 대해 형성된 요철부(138)를 포함할 수 있다. 요철부(138)는 발광구조물(130)의 상면 예컨대, 제1 반도체층(132)의 상면의 적어도 일 영역에 대해 에칭을 수행함으로써 형성될 수 있다. 상기 에칭 과정은 습식 또는/및 건식 에칭 공정을 포함할 수 있다. 한편, 상기 에칭 면은 습식 에칭에 의해 용이하게 에칭되어 더욱 조밀한 요철부가 형성될 수 있는 N(나이트라이드)180)-face일 수 있으며, Ga(갈륨)-face에 비해 표면 거칠기가 향상될 수 있다. 에칭 과정을 거침에 따라서, 제1 반도체층(132)의 상면은 광 추출 구조를 형성하는 요철부(138)가 형성될 수 있다. 요철부(138)는 랜덤한 크기로 불규칙하게 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 요철부(138)는 평탄하지 않는 상면으로서, 텍스쳐(texture) 패턴, 요철 패턴, 평탄하지 않는 패턴(uneven pattern) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나 이에 한정하지 아니한다.
요철부(138)는 측 단면이 원기둥, 다각기둥, 원뿔, 다각뿔, 원뿔대, 다각뿔대 등 다양한 형상을 갖도록 형성될 수 있으며, 뿔 형상을 포함할 수 있으나 이에 한정하지 아니한다.
요철부(138)는 PEC(photo electro chemical), 또는 KOH 용액을 사용한 습식 식각 방법 등의 방법으로 형성될 수 있으며, 이에 한정하지 아니한다. 요철부(138)가 제1 반도체층(132)의 상면에 형성됨에 따라서 활성층(134)으로부터 생성된 빛이 제2 도전성 반도체층(162)의 상면으로부터 전반사되어 발광구조물(130)내에서 재흡수되거나 산란되는 것이 방지될 수 있으므로, 발광소자의 광 추출 효율의 향상에 기여할 수 있다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(300)를 나타낸 사시도이며, 도 4b는 다른 실시예에 따른 발광소자 패키지(300)의 단면을 도시한 단면도이다.
도 4a 및 도 4b 를 참조하면, 실시예에 따른 발광소자 패키지(300)는 캐비티가 형성된 몸체(310), 몸체(310)에 실장된 제1 및 제2 전극(340, 350) 제1 및 제2 전극과 전기적으로 연결되는 발광소자(320) 및 캐비티에 형성되는 봉지재(330)를 포함할 수 있고, 봉지재(330)는 형광체(미도시)를 포함할 수 있다.
몸체(310)는 폴리프탈아미드(PPA:Polyphthalamide)와 같은 수지 재질, 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 알루미늄 나이트라이드(AlN), 액정폴리머(PSG, photo sensitive glass), 폴리아미드9T(PA9T), 신지오택틱폴리스티렌(SPS), 금속 재질, 사파이어(Al2O3), 베릴륨 옥사이드(BeO), 인쇄회로기판(PCB, Printed Circuit Board), 세라믹 중 적어도 하나로 형성될 수 있다. 몸체(310)는 사출 성형, 에칭 공정 등에 의해 형성될 수 있으나 이에 대해 한정하지는 않는다.
몸체(310)의 내측면은 경사면이 형성될 수 있다. 이러한 경사면의 각도에 따라 발광소자(320)에서 방출되는 광의 반사각이 달라질 수 있으며, 이에 따라 외부로 방출되는 광의 지향각을 조절할 수 있다.
몸체(310)에 형성되는 캐비티를 위에서 바라본 형상은 원형, 사각형, 다각형, 타원형 등의 형상일 수 있으며, 특히 모서리가 곡선인 형상일 수도 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
봉지재(330)는 캐비티에 충진될 수 있으며, 형광체(미도시)를 포함할 수 있다. 봉지재(330)는 투명한 실리콘, 에폭시, 및 기타 수지 재질로 형성될 수 있다. 봉지재(330)는 캐비티 내에 충진한 후, 이를 자외선 또는 열 경화하는 방식으로 형성될 수 있다.
형광체(미도시)는 발광소자(320)에서 방출되는 광의 파장에 따라 종류가 선택되어 발광소자 패키지(300)가 백색광을 구현하도록 할 수 있다.
봉지재(330)에 포함되어 있는 형광체(미도시)는 발광소자(320)에서 방출되는 광의 파장에 따라 청색 발광 형광체, 청록색 발광 형광체, 녹색 발광 형광체, 황녹색 발광 형광체, 황색 발광 형광체, 황적색 발광 형광체, 오렌지색 발광 형광체, 및 적색 발광 형광체중 하나가 적용될 수 있다.
형광체(미도시)는 발광소자(320)에서 방출되는 제1 빛을 가지는 광에 의해 여기 되어 제2 빛을 생성할 수 있다. 예를 들어, 발광소자(320)가 청색 발광 다이오드이고 형광체(미도시)가 황색 형광체인 경우, 황색 형광체는 청색 빛에 의해 여기되어 황색 빛을 방출할 수 있으며, 청색 발광 다이오드에서 발생한 청색 빛 및 청색 빛에 의해 여기 되어 발생한 황색 빛이 혼색됨에 따라 발광소자 패키지(300)는 백색 빛을 제공할 수 있다.
발광소자(320)가 녹색 발광 다이오드인 경우는 magenta 형광체 또는 청색과 적색의 형광체(미도시)를 혼용하는 경우, 발광소자(320)가 적색 발광 다이오드인 경우는 Cyan형광체 또는 청색과 녹색 형광체를 혼용하는 경우를 예로 들 수 있다.
형광체(미도시)는 YAG계, TAG계, 황화물계, 실리케이트계, 알루미네이트계, 질화물계, 카바이드계, 니트리도실리케이트계, 붕산염계, 불화물계, 인산염계 등의 공지된 것일 수 있다.
몸체(310)에는 제1 전극(340) 및 제2 전극(350)이 실장될 수 있다. 제1 전극(340) 및 제2 전극(350)은 발광소자(320)와 전기적으로 연결되어 발광소자(320)에 전원을 공급할 수 있다.
제1 전극(340) 및 제2 전극(350)은 서로 전기적으로 분리되며, 발광소자(320)에서 발생된 빛을 반사시켜 광 효율을 증가시킬 수 있다. 제1 전극(340) 및 제2 전극(350)은 발광소자(320)에서 발생된 열을 외부로 배출시킬 수 있다.
도 4b에서는 발광소자(320)가 제1 전극(340) 상에 실장되었으나, 이에 한정되지 않으며, 발광소자(320)와 제1 전극(340) 및 제2 전극(350)은 와이어 본딩(wire bonding) 방식, 플립 칩(flip chip) 방식 또는 다이 본딩 방식 중 어느 하나에 의해 전기적으로 연결될 수도 있다.
제1 전극(340) 및 제2 전극(350)은 금속 재질, 예를 들어, 티타늄(Ti), 구리(Cu), 니켈(Ni), 금(Au), 크롬(Cr), 탄탈늄(Ta), 백금(Pt), 주석(Sn), 은(Ag), 인(P), 알루미늄(Al), 인듐(In), 팔라듐(Pd), 코발트(Co), 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf), 루테늄(Ru), 철(Fe) 중에서 하나 이상의 물질 또는 합금을 포함할 수 있다. 제1 전극(340) 및 제2 전극(350)은 단층 또는 다층 구조를 가지도록 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.
발광소자(320)는 제1 전극(340) 상에 실장되며, 예를 들어, 적색, 녹색, 청색, 백색 등의 빛을 방출하는 발광 소자 또는 자외선을 방출하는 UV(Ultra Violet) 발광 소자일 수 있으나, 이에 대해 한정하지는 않는다. 발광 소자(320)는 한 개 이상 실장될 수 있다.
발광소자(320)는 그 전기 단자들이 모두 상부 면에 형성된 수평형 타입(Horizontal type)이거나, 또는 상, 하부 면에 형성된 수직형 타입(Vertical type), 또는 플립 칩 모두에 적용 가능하다.
발광소자 패키지(300)는 발광소자를 포함할 수 있다.
실시예에 따른 발광소자 패키지(300)는 복수개가 기판 상에 어레이되며, 발광소자 패키지(300)의 광 경로 상에 광학 부재인 도광판, 프리즘 시트, 확산 시트 등이 배치될 수 있다.
발광소자 패키지(300), 기판, 광학 부재는 라이트 유닛으로 기능할 수 있다. 또 다른 실시 예는 발광소자(미도시) 또는 발광소자 패키지(300)를 포함하는 표시 장치, 지시 장치, 조명 시스템으로 구현될 수 있으며, 예를 들어, 조명 시스템은 램프, 가로등을 포함할 수 있다.
도 5a는 일 실시예에 따른 발광소자를 포함하는 조명 시스템(400)을 도시한 사시도이며, 도 5b는 도 5a의 조명 시스템의 D-D'단면을 도시한 단면도이다.
즉, 도 5b 는 도 5a의 조명 시스템(400)을 길이방향(Z)과 높이방향(X)의 면으로 자르고, 수평방향(Y)으로 바라본 단면도이다.
도 5a 및 도 5b를 참조하면, 조명 시스템(400)은 몸체(410), 몸체(410)와 체결되는 커버(430) 및 몸체(410)의 양단에 위치하는 마감캡(450)을 포함할 수 있다.
몸체(410)의 하부면에는 발광소자 모듈(443)이 체결되며, 몸체(410)는 발광소자 패키지(444)에서 발생한 열이 몸체(410)의 상부면을 통해 외부로 방출할 수 있도록 전도성 및 열 발산 효과가 우수한 금속재질로 형성될 수 있고, 이에 한정하지 아니한다.
발광소자 패키지(444)는 발광소자(미도시)를 포함한다.
발광소자 패키지(444)는 기판(442) 상에 다색, 다열로 실장되어 모듈을 이룰 수 있으며, 동일한 간격으로 실장되거나 또는 필요에 따라서 다양한 이격 거리를 가지고 실장될 수 있어 밝기 등을 조절할 수 있다. 기판(442)으로 MCPCB(Metal Core PCB) 또는 FR4 재질의 PCB 를 사용할 수 있다.
커버(430)는 몸체(410)의 하부면을 감싸도록 원형의 형태로 형성될 수 있으며, 이에 한정되지 않는다.
커버(430)는 내부의 발광소자 모듈(443)을 외부의 이물질 등으로부터 보호할 수 있다. 커버(430)는 발광소자 패키지(444)에서 발생한 광의 눈부심을 방지하고, 외부로 광을 균일하게 방출할 수 있도록 확산입자를 포함할 수 있으며, 또한 커버(430)의 내면 및 외면 중 적어도 어느 한 면에는 프리즘 패턴 등이 형성될 수 있다. 또한 커버(430)의 내면 및 외면 중 적어도 어느 한 면에는 형광체가 도포될 수도 있다.
발광소자 패키지(444)에서 발생하는 광은 커버(430)를 통해 외부로 방출되므로, 커버(430)는 광투과율이 우수하여야 하며, 발광소자 패키지(444)에서 발생하는 열에 견딜 수 있도록 충분한 내열성을 구비하고 있어야 하는바, 커버(430)는 폴리에틸렌테레프탈레이트 (Polyethylen?Terephthalate;?PET), 폴리카보네이트(Polycarbonate;?PC), 또는 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl Methacrylate; PMMA) 등을 포함하는 재질로 형성될 수 있다.
마감캡(450)은 몸체(410)의 양단에 위치하며 전원장치(미도시)를 밀폐하는 용도로 사용될 수 있다. 마감캡(450)에는 전원 핀(452)이 형성되어 있어, 실시예에 따른 조명 시스템(400)은 기존의 형광등을 제거한 단자에 별도의 장치 없이 곧바로 사용할 수 있게 된다.
도 6 은 일 실시예에 따른 발광소자를 포함하는 액정표시장치의 분해 사시도이다.
도 6 은 에지-라이트 방식으로, 액정 표시 장치(500)는 액정표시패널(510)과 액정표시패널(510)로 빛을 제공하기 위한 백라이트 유닛(570)을 포함할 수 있다.
액정표시패널(510)은 백라이트 유닛(570)으로부터 제공되는 광을 이용하여 화상을 표시할 수 있다. 액정표시패널(510)은 액정을 사이에 두고 서로 대향하는 컬러 필터 기판(512) 및 박막 트랜지스터 기판(514)을 포함할 수 있다.
컬러 필터 기판(512)은 액정표시패널(510)을 통해 디스플레이되는 화상의 색을 구현할 수 있다.
박막 트랜지스터 기판(514)은 구동 필름(517)을 통해 다수의 회로부품이 실장되는 인쇄회로기판(518)과 전기적으로 접속되어 있다. 박막 트랜지스터 기판(514)은 인쇄회로기판(518)으로부터 제공되는 구동 신호에 응답하여 인쇄회로기판(518)으로부터 제공되는 구동 전압을 액정에 인가할 수 있다.
박막 트랜지스터 기판(514)은 유리나 플라스틱 등과 같은 투명한 재질의 다른 기판상에 박막으로 형성된 박막 트랜지스터 및 화소 전극을 포함할 수 있다.
백라이트 유닛(570)은 빛을 출력하는 발광소자 모듈(520), 발광소자 모듈(520)로부터 제공되는 빛을 면광원 형태로 변경시켜 액정표시패널(510)로 제공하는 도광판(530), 도광판(530)으로부터 제공된 빛의 휘도 분포를 균일하게 하고 수직 입사성을 향상시키는 다수의 필름(550, 560, 564) 및 도광판(530)의 후방으로 방출되는 빛을 도광판(530)으로 반사시키는 반사 시트(540)로 구성된다.
발광소자 모듈(520)은 복수의 발광소자 패키지(524)와 복수의 발광소자 패키지(524)가 실장되어 모듈을 이룰 수 있도록 PCB기판(522)을 포함할 수 있다.
발광소자 패키지(524)는 발광소자(미도시)를 포함한다.
백라이트유닛(570)은 도광판(530)으로부터 입사되는 빛을 액정 표시 패널(510) 방향으로 확산시키는 확산필름(566)과, 확산된 빛을 집광하여 수직 입사성을 향상시키는 프리즘필름(550)으로 구성될 수 있으며, 프리즘필름(550)를 보호하기 위한 보호필름(564)을 포함할 수 있다.
도 7 은 실시예에 따른 발광소자를 포함하는 액정표시장치의 분해 사시도이다. 다만, 도 6 에서 도시하고 설명한 부분에 대해서는 반복하여 상세히 설명하지 않는다.
도 7 은 실시예에 따른 직하 방식의 액정 표시 장치(600)이다. 액정 표시 장치(600)는 액정표시패널(610)과 액정표시패널(610)로 빛을 제공하기 위한 백라이트 유닛(670)을 포함할 수 있다. 액정표시패널(610)은 도 6 에서 설명한 바와 동일하므로, 상세한 설명은 생략한다.
백라이트 유닛(670)은 복수의 발광소자 모듈(623), 반사시트(624), 발광소자 모듈(623)과 반사시트(624)가 수납되는 하부 섀시(630), 발광소자 모듈(623)의 상부에 배치되는 확산판(640) 및 다수의 광학필름(660)을 포함할 수 있다.
발광소자 모듈(623)은 복수의 발광소자 패키지(622)와 복수의 발광소자 패키지(622)가 실장되어 모듈을 이룰 수 있도록 PCB기판(621)을 포함할 수 있다.
발광소자 패키지(622)는 발광소자(미도시)를 포함한다.
반사 시트(624)는 발광소자 패키지(622)에서 발생한 빛을 액정표시패널(610)이 위치한 방향으로 반사시켜 빛의 이용 효율을 향상시킨다.
발광소자 모듈(623)에서 발생한 빛은 확산판(640)에 입사하며, 확산판(640)의 상부에는 광학 필름(660)이 배치된다. 광학 필름(660)은 확산 필름(666), 프리즘필름(650) 및 보호필름(664)를 포함하여 구성된다.
실시예에 따른 발광소자는 상기한 바와 같이 설명된 실시예들의 구성과 방법이 한정되게 적용될 수 있는 것이 아니라, 상기 실시예들은 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.
이상에서는 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안될 것이다
100 : 발광소자
110 : 기판
132 : 제1 반도체층
134 : 활성층
136 : 제2 반도체층
140 : 제1 전극
150 : 제2 전극
160 : 투명전극층
170 : 확산제한층

Claims (11)

  1. 기판;
    상기 기판 상에 배치되고, 제1 반도체층, 제2 반도체층 및 상기 제1 반도체층과 상기 제2 반도체층 사이에 배치되는 활성층을 포함하는 발광구조물;
    상기 제2 반도체층 상에 배치되는 투명전극층;
    상기 투명전극층 상에 배치되는 제2 전극;
    상기 투명전극층과 상기 제2 전극 사이에 배치되고, 상기 투명전극층이 포함하는 산소가 상기 제2 전극에 확산되는 것을 최소화하는 확산제한층;을 포함하고,
    상기 확산제한층은 4족, 6족 또는 10족의 원소 중 적어도 어느 하나를 포함하는 발광소자.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 확산제한층 상에 배치되며, 상기 제2 전극과 상기 확산제한층 사이의 접착력을 향상시키는 본딩층;을 더 포함하는 발광소자.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 본딩층은 4족, 6족, 또는 10족의 원소 중 적어도 어느 하나를 포함하는 발광소자.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 본딩층은 산화된 금속을 포함하는 발광소자.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 본딩층은 두께가 1nm 내지 5nm 인 발광소자.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 확산제한층은 상기 두께가 1nm 내지 5nm 인 발광소자.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 확산제한층은 두께가 2nm 내지 10nm인 발광소자.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 확산제한층은 산화된 금속을 포함하는 발광소자.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 확산제한층은 크롬(Cr) 또는 티타늄(Ti)을 포함하는 발광소자.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 확산제한층은 티타늄(Ti), 지르콘(Zr), 하프늄(Hf), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd) 또는 Pt(백금) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 발광소자.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 발광소자를 포함하는 발광소자 패키지.
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