KR20140112894A - 터치 스크린 패널 및 그 제조 방법 - Google Patents

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KR20140112894A
KR20140112894A KR1020130027564A KR20130027564A KR20140112894A KR 20140112894 A KR20140112894 A KR 20140112894A KR 1020130027564 A KR1020130027564 A KR 1020130027564A KR 20130027564 A KR20130027564 A KR 20130027564A KR 20140112894 A KR20140112894 A KR 20140112894A
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정성기
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서영삼
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삼성디스플레이 주식회사
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Abstract

본 발명에 의한 터치 스크린 패널의 제조 방법은, 기판의 활성 영역에 형성되며 제1 방향을 따라 연결된 제1 감지전극들, 및 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 연결된 제2 감지전극들을 포함하는 터치 스크린 패널의 제조 방법에 있어서, 상기 제1 및 제2 감지전극들을 각각 라인 단위로 외부의 구동회로와 연결하기 위한 외곽 배선들을 상기 기판의 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역에 형성하는 단계; 상기 제1 감지전극들을 서로 전기적으로 연결하기 위한 브리지 패턴들을 상기 기판의 활성 영역에 형성하는 단계; 상기 제2 감지전극들과 상기 브리지 패턴들을 절연시키기 위한 절연막 패턴들을 상기 브리지 패턴들 상에 형성하는 단계; 및 상기 외곽 배선들, 상기 브리지 패턴들 및 상기 절연막 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계를 포함한다.

Description

터치 스크린 패널 및 그 제조 방법{Touch Screen Panel and Fabricating Method Thereof}
본 발명의 실시예는 터치 스크린 패널 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히 금속성 나노와이어 재질의 감지전극들을 갖는 터치 스크린 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
터치 스크린 패널은 영상표시장치 등의 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치이다.
이를 위해, 터치 스크린 패널은 영상표시장치의 전면(front face)에 구비되어 사람의 손 또는 물체에 직접 접촉된 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다. 이에 따라, 접촉위치에서 선택된 지시 내용이 입력신호로 받아들여진다.
이와 같은 터치 스크린 패널은 일반적으로 액정표시장치, 유기전계 발광 표시장치와 같은 영상표시장치의 외면에 부착되어 제품화되는 경우가 많다. 따라서, 상기 터치 스크린 패널은 높은 투명도 및 얇은 두께의 특성이 요구된다.
또한, 최근 들어 플렉서블한 영상표시장치가 개발되고 있는 추세이며, 이 경우 상기 플렉서블 영상표시장치 상에 부착되는 터치 스크린 패널 역시 플렉서블한 특성이 요구된다.
일반적으로 터치 스크린 패널의 감지전극들은 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명한 전극물질로 형성되는데, 터치 스크린 패널의 두께를 감소시키고 플렉서블 특성을 향상시키기 위한 새로운 전극물질로서, 은나노와이어(AgNW), 그래핀(graphene), 전도성 고분자 등이 제안되고 있으나, 실제 제품에 적용은 어려운 실정이다.
구체적으로, 전술한 신소재 물질들은 두께가 극히 얇으며 금속성을 가질 경우 에칭시 손상되는 문제점이 있다. 예를 들어, 은나노와이어 재질로 감지전극들을 형성하고 이후에 금속 재질의 외곽 배선들 및 브리지 패턴들을 패터닝할 경우, 은나노와이어 물질이 금속을 제거하는 에칭액에 반응하면서 면저항의 증가 또는 도전성을 상실하게 된다.
즉, 은나노와이어와 같은 신소재 물질로 감지전극들을 안정적으로 용이하게 형성할 수 있는 방안이 요구되고 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 에칭시 감지전극들의 손상을 방지할 수 있는 터치 스크린 패널 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 의한 터치 스크린 패널의 제조 방법은, 기판의 활성 영역에 형성되며 제1 방향을 따라 연결된 제1 감지전극들, 및 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 연결된 제2 감지전극들을 포함하는 터치 스크린 패널의 제조 방법에 있어서, 상기 제1 및 제2 감지전극들을 각각 라인 단위로 외부의 구동회로와 연결하기 위한 외곽 배선들을 상기 기판의 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역에 형성하는 단계; 상기 제1 감지전극들을 서로 전기적으로 연결하기 위한 브리지 패턴들을 상기 기판의 활성 영역에 형성하는 단계; 상기 제2 감지전극들과 상기 브리지 패턴들을 절연시키기 위한 절연막 패턴들을 상기 브리지 패턴들 상에 형성하는 단계; 및 상기 외곽 배선들, 상기 브리지 패턴들 및 상기 절연막 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계를 포함한다.
일부 실시예에서, 상기 외곽 배선들을 형성하는 단계는, 상기 기판 상에 금속성 도전막을 증착하는 단계; 및 상기 금속성 도전막을 패터닝하여 외곽 배선들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 브리지 패턴들을 형성하는 단계는, 상기 기판 상에 제1 나노와이어 도전막을 코팅하는 단계; 및 상기 제1 나노와이어 도전막을 패터닝하여 상기 브리지 패턴들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 브리지 패턴들은 상기 외곽 배선들과 동일한 레이어에 형성될 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 절연막 패턴들을 형성하는 단계는, 상기 브리지 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 절연막을 증착하는 단계; 및 상기 절연막을 패터닝하여 상기 절연막 패턴들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 절연막 패턴들은 상기 브리지 패턴들과 일부 중첩될 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 절연막 패턴들은 상기 브리지 패턴들보다 상기 제1 방향으로 더 짧고, 상기 제2 방향으로 더 긴 것이 바람직하다.
일부 실시예에서, 상기 브리지 패턴들과 상기 절연막 패턴들은 상기 제1 및 제2 감지전극들의 교차부에 위치할 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계는, 상기 외곽 배선들, 상기 브리지 패턴들 및 상기 절연막 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 제2 나노와이어 도전막을 코팅하는 단계; 및 상기 제2 나노와이어 도전막을 패터닝하여 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 제1 및 제2 나노와이어 도전막은 은나노와이어(AgNW)를 포함하는 재질인 것이 바람직하다.
일부 실시예에서, 상기 제1 및 제2 나노와이어 도전막 중 적어도 하나를 패터닝하여 상기 외곽 배선들에 중첩되는 제2 외곽 배선들을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계는, 상기 제2 감지전극들을 상기 제2 방향으로 연결하는 연결 패턴들이 함께 형성됨이 바람직하다.
일부 실시예에서, 상기 제1 감지전극들은 상기 브리지 패턴들의 양 단부와 중첩되도록 형성됨이 바람직하다.
일부 실시예에서, 상기 기판은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 아크릴(Acryl), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리에테르술폰(PES) 및 폴리이미드(PI)로 구성된 군에서 선택된 하나 이상의 재료로 형성된 박막형 필름기판일 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 다른 실시예에 의한 터치 스크린 패널의 제조 방법은, 기판의 활성 영역에 형성되며 제1 방향을 따라 연결된 제1 감지전극들, 및 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 연결된 제2 감지전극들을 포함하는 터치 스크린 패널의 제조 방법에 있어서, 금속성 도전막을 상기 기판의 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역에 형성하는 단계; 상기 제1 감지전극들을 서로 전기적으로 연결하기 위한 브리지 패턴들을 상기 기판의 활성 영역에 형성하는 단계; 상기 제2 감지전극들과 상기 브리지 패턴들을 절연시키기 위한 절연막 패턴들을 상기 브리지 패턴들 상에 형성하는 단계; 및 상기 금속성 도전막, 상기 브리지 패턴들 및 상기 절연막 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계를 포함한다.
일부 실시예에서, 상기 브리지 패턴들을 형성하는 단계는, 상기 기판 상에 제1 나노와이어 도전막을 코팅하는 단계; 및 상기 제1 나노와이어 도전막을 패터닝하여 상기 브리지 패턴들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 절연막 패턴들을 형성하는 단계는, 상기 브리지 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 절연막을 증착하는 단계; 및 상기 절연막을 패터닝하여 상기 절연막 패턴들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계는, 상기 금속성 도전막, 상기 브리지 패턴들 및 상기 절연막 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 제2 나노와이어 도전막을 코팅하는 단계; 및 상기 제2 나노와이어 도전막을 패터닝하여 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 제1 및 제2 나노와이어 도전막은 은나노와이어(AgNW)를 포함하는 재질일 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 제1 및 제2 감지전극들을 각각 라인 단위로 외부의 구동회로와 연결하기 위한 외곽 배선들을 상기 비활성 영역에 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 외곽 배선들을 형성하는 단계는, 상기 비활성 영역에 차례로 적층된 상기 금속성 도전막, 상기 제1 나노와이어 도전막 및 제2 나노와이어 도전막을 동반 패터닝하여 상기 외곽 배선들이 형성됨이 바람직하다.
일부 실시예에서, 상기 외곽 배선들은 상기 제1 및 제2 감지전극들과 동일한 공정을 통해 동시에 형성됨이 바람직하다.
또한, 본 발명의 실시예에 의한 터치 스크린 패널은, 활성 영역 및 상기 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역으로 구분되는 기판; 상기 기판의 활성 영역에 형성되며 제1 방향을 따라 연결된 제1 감지전극들과, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 연결된 제2 감지전극들; 상기 제1 감지전극들을 상기 제1 방향을 따라 전기적으로 연결하기 위한 브리지 패턴들; 상기 제2 감지전극들과 상기 브리지 패턴들을 절연시키기 위한 절연막 패턴들; 및 상기 제1 및 제2 감지전극들을 각각 라인 단위로 외부의 구동회로와 연결하기 위한 외곽 배선들을 포함하되, 상기 제1 및 제2 감지전극들은, 상기 외곽 배선들, 상기 브리지 패턴들 및 상기 절연막 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 형성된다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 기판 상에 외곽 배선들 및 브리지 패턴들을 먼저 형성한 이후, 감지전극들을 형성함으로써, 상기 외곽 배선들 및 브리지 패턴들을 패터닝하는 에칭 공정시 발생하는 감지전극들의 손상을 방지할 수 있다.
결과적으로, 은나노와이어와 같은 신소재 물질을 안정적으로 적용하여 터치 감도와 플렉서블 특성이 향상된 터치 스크린 패널 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.
도 1a는 터치 스크린 패널의 일례를 개략적으로 도시한 평면도.
도 1b는 도 1a의 터치 스크린 패널을 제1 방향을 따라 절취한 단면도.
도 2a 내지 도 2i는 상기 터치 스크린 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 도면들.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 의한 터치 스크린 패널의 단면도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세히 설명하도록 한다.
도 1a는 터치 스크린 패널의 일례를 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 1b는 도 1a의 터치 스크린 패널을 제1 방향을 따라 절취한 단면도이다.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널은 기판(10), 감지전극들(11), 연결패턴들(11c), 절연 패턴들(IP), 브리지 패턴들(BP) 및 외곽 배선들(15)을 포함할 수 있다.
기판(10)은 영상 표시영역과 중첩되고 일면에 감지전극들(11)이 형성되어 터치 입력이 가능한 활성 영역(AA)과, 상기 활성 영역(AA)의 외곽부에 위치하고 외곽 배선들(15)이 형성되는 비활성 영역(NA)으로 구분될 수 있다.
여기서, 비활성 영역(NA)은 상기 디스플레이부(30)의 영상 비표시영역과 중첩되는 차광 영역으로서, 영상이 표시되는 활성 영역(AA)을 둘러싸는 형태를 가지게 된다.
상기 기판(10)은 플렉서블 특성을 가지며 투명하면서도 고 내열성 및 내 화학성의 특성을 갖는 물질로 구현될 수 있는데, 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 아크릴(Acryl), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리에테르술폰(PES) 및 폴리이미드(PI)로 구성된 군에서 선택된 하나 이상의 재료로 형성된 윈도우 기판 또는 박막형 필름기판일 수 있다.
감지전극들(11)은 기판(10) 상의 활성 영역(AA)에 분산되어 배치되며 제1 방향(D1)을 따라 전기적으로 연결되도록 형성된 다수의 제1 감지전극들(11a)과, 상기 제1 감지전극들(11a)과 중첩되지 않도록 제1 감지전극들(11a)의 사이에 분산되어 배치되며 제1 방향(D1)과 교차하는 제2 방향(D2)을 따라 전기적으로 연결되도록 형성된 다수의 제2 감지전극들(11b)을 포함한다.
즉, 제1 감지전극들(11a)과 제2 감지전극들(11b)은 서로 교번적으로 배치되어 서로 다른 방향을 따라 연결된다. 예컨대, 제1 감지전극들(11a)은 행 방향(수평 방향)을 따라 연결되도록 형성되어 행 라인 단위로 각각의 외곽 배선(15)과 연결되고, 제2 감지전극들(11b)은 열 방향(수직 방향)을 따라 연결되도록 형성되어 열 라인 단위로 각각의 외곽 배선(15)과 연결될 수 있다.
이러한 제1 감지전극들(11a)과 제2 감지전극들(11b)은 전기적 특성과 플렉서블 특성이 향상된 은나노와이어(AgNW)를 포함하는 재질일 수 있으며, 동일한 다이아몬드 형상으로 동일한 레이어에 배치될 수 있다.
단, 상기 감지전극들(11)의 재질은 은나노와이어에 한정되지 않으며, 하부에 배치되는 표시패널(미도시)로부터의 빛이 투과될 수 있도록 투명 전극물질로 형성될 수 있다.
또한, 다른 실시예에서, 상기 감지전극들(11)은 스트라이프 형상을 가질 수 있으며, 감지전극들(11)의 재질, 형상 및 배치구조는 다양한 변형 실시예를 가질 수 있다.
연결패턴들(11c)은 상기 제2 감지전극들(11b)을 제2 방향(D2)을 따라 연결하고, 브리지 패턴들(BP)은 상기 제1 감지전극들(11a)을 제1 방향(D1)을 따라 연결한다.
단, 연결패턴들(11c)은 제2 감지전극들(11b)과 서로 직접적으로 연결되는 패턴으로 형성되고, 브리지 패턴들(BP)은 제1 감지전극들(11a)로부터 분리된 패턴을 갖되, 제1 감지전극들(11a)에 전기적으로 연결되면서 제1 감지전극들(11a)을 제1 방향(D1)을 따른 라인 단위로 연결할 수 있다.
여기서, 절연 패턴들(IP)은 제1 감지전극들(11a)과 제2 감지전극들(11b)의 교차부, 즉, 연결패턴들(11c)과 브리지 패턴들(BP) 사이에 형성되어 양 패턴들을 전기적으로 절연시킨다.
본 실시예에서, 연결패턴들(11c)과 브리지 패턴들(BP)은 상기 감지전극들(11)과 더불어 은나노와이어(AgNW)를 포함하는 재질로 예시하고 있지만, 다른 실시예로서, 다른 투명 전극물질 또는 저저항의 불투명 금속물질로 형성될 수 있다.
상기 연결패턴들(11c)이 투명 전극물질로 형성되는 경우, 투명 전극물질의 패터닝 단계에서부터 제2 감지전극들(11b) 및 연결패턴들(11c)을 일체로 패터닝함에 의해 공정을 단순화할 수 있다.
상기 브리지 패턴들(BP)은 상기 감지전극들(11) 및 연결패턴들(11c)과 같은 투명 전극물질로 형성되거나 혹은 불투명한 저저항 금속물질로 형성되되 가시화가 방지될 수 있도록 그 폭이나 두께, 길이 등이 조절될 수 있다.
상기 브리지 패턴들(BP)이 저저항의 불투명 금속물질로 형성되는 경우, 비활성 영역(NA)에 배치되는 외곽 배선들(15)을 형성하는 단계에서 동시에 형성함에 의해 공정을 보다 단순화할 수 있다. 즉, 브리지 패턴들(BP)은 외곽 배선들(15)과 동일한 물질로 동일한 레이어에 형성될 수 있다.
단, 가시화가 방지될 수 있도록 그 폭이 한정되며, 따라서 브리지 패턴들(BP)의 폭은 투명 전극물질로 형성되는 연결패턴들(11c)의 폭보다 좁게 형성될 수 있다.
다른 실시예에서, 브리지 패턴들(BP)은 가시화가 보다 효과적으로 방지될 수 있도록 사선 방향으로 기울여져 설계될 수도 있다.
외곽 배선들(15)은 제1 감지전극들(11a) 및 제2 감지전극들(11b)을 각각 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)을 따른 라인 단위로 외부의 구동회로(미도시)와 연결하기 위한 것으로, 예컨대, 각각 행 라인 단위 및 열 라인 단위의 제1 및 제2 감지전극들(11a, 11b)과 전기적으로 연결되어, 이들을 패드부(PAD)를 통해 위치검출회로와 같은 외부의 구동회로와 연결한다.
이러한 외곽 배선들(15)은 영상이 표시되는 활성 영역(AA)을 피해 터치 스크린 패널 외곽의 비활성 영역(NA)에 배치되는 것으로, 재료 선택의 폭이 넓어 감지전극들(11)의 형성에 이용되는 투명 전극물질 외에도 몰리브덴(Mo), 은(Ag), 티타늄(Ti), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴/알루미늄/몰리브덴(Mo/Al/Mo) 등의 저저항 금속물질로 형성될 수 있다.
전술한 바와 같이, 은나노와이어와 같은 신소재 물질로 감지전극들(11)을 형성할 경우, 에칭액에 의해 감지전극들(11)이 손상되는 문제점이 있다.
이에 본 발명은 기판(10) 상에 외곽 배선들(15) 및 브리지 패턴들(BP)을 먼저 형성한 이후, 감지전극들(11)이 형성됨을 특징으로 한다.
이에 의하여, 은나노와이어와 같은 신소재 물질을 안정적으로 적용하여 터치 감도와 플렉서블 특성이 향상된 터치 스크린 패널 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.
상기 터치 스크린 패널의 제조 방법에 관하여는 도 2a 내지 도 2i를 참조하여 설명하기로 한다.
도 2a 내지 도 2i는 상기 터치 스크린 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
먼저, 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 제1 및 제2 감지전극들(11a, 11b)을 각각 라인 단위로 외부의 구동회로와 연결하기 위한 외곽 배선들(15)을 기판(10)의 활성 영역(AA)의 외곽부에 위치하는 비활성 영역(NA)에 형성한다.
구체적으로, 상기 기판(10) 상에 금속성 도전막(MT)을 전면에 증착하고, 상기 금속성 도전막(MT)을 패터닝하여 외곽 배선들(15)을 형성한다.
예컨대, 상기 금속성 도전막(MT)에는 외곽 배선들(15)에 대응하는 패턴이 형성된 마스크(미도시)를 이용한 포토리소그래피 공정과 식각 공정이 수행될 수 있다. 이때, 활성 영역(AA)의 금속성 도전막(MT)은 전부 제거된다.
도 2c 및 도 2d를 참조하면, 제1 감지전극들(11a)을 서로 전기적으로 연결하기 위한 브리지 패턴들(BP)을 상기 기판(10)의 활성 영역(AA)에 형성한다.
구체적으로, 상기 기판(10) 상에 제1 나노와이어 도전막(NW1)을 전면에 코팅하고, 상기 제1 나노와이어 도전막(NW1)을 패터닝하여 브리지 패턴들(BP)을 형성한다.
예컨대, 상기 제1 나노와이어 도전막(NW1)에는 브리지 패턴들(BP)에 대응하는 패턴이 형성된 마스크(미도시)를 이용한 포토리소그래피 공정과 식각 공정이 수행될 수 있다.
여기서, 상기 브리지 패턴들(BP)은 상기 외곽 배선들(15)과 동일한 레이어에 형성될 수 있고, 특히, 브리지 패턴들(BP)과 외곽 배선들(15)이 동일한 재질인 경우, 동일한 공정을 통해 동시에 형성됨으로써 공정이 단순화될 수 있다.
도 2e, 도 2f 및 도 2g를 참조하면, 제2 감지전극들(11b)과 상기 브리지 패턴들(BP)을 절연시키기 위한 절연막 패턴들(IP)을 상기 브리지 패턴들(BP) 상에 형성한다.
구체적으로, 상기 브리지 패턴들(BP)이 형성된 기판(10)의 전면에 절연막(IL)을 증착하고, 상기 절연막(IL)을 패터닝하여 절연막 패턴들(IP)을 형성한다.
예컨대, 상기 절연막(IL)에는 절연막 패턴들(IP)에 대응하는 패턴이 형성된 마스크(미도시)를 이용한 포토리소그래피 공정과 식각 공정이 수행될 수 있다.
여기서, 브리지 패턴들(BP)과 절연막 패턴들(IP)은 상기 제1 및 제2 감지전극들(11a, 11b)의 교차부에 위치하되, 상기 절연막 패턴들(IP)은 브리지 패턴들(BP)보다 제1 방향(D1)으로 더 짧고, 제2 방향(D2)으로 더 길게 형성되는 것이 바람직하다.
즉, 브리지 패턴들(BP)의 양 단부는 제2 감지전극들(11b)과 연결되어야 하므로, 절연막 패턴들(IP) 밖으로 돌출되고, 그 이외의 영역은 제1 감지전극들(11a) 및 연결패턴들(11c)과 절연되어야 하므로, 폭이 넓게 형성되어야 한다.
도 2h 및 도 2i를 참조하면, 상기 외곽 배선들(15), 브리지 패턴들(BP) 및 절연막 패턴들(IP)이 형성된 기판(10) 상에 제1 및 제2 감지전극들(11a, 11b)을 형성한다.
구체적으로, 상기 기판(10) 상에 제2 나노와이어 도전막(NW2)을 전면 코팅하고, 제2 나노와이어 도전막(NW2)을 패터닝하여 상기 제1 및 제2 감지전극들(11a, 11b)을 형성한다.
예컨대, 상기 제2 나노와이어 도전막(NW2)에는 감지전극들(11)에 대응하는 패턴이 형성된 마스크(미도시)를 이용한 포토리소그래피 공정과 식각 공정이 수행될 수 있다.
이 때, 제1 감지전극들(11a)은 상기 브리지 패턴들(BP)의 양 단부와 중첩되도록 형성되어야 하고, 상기 제2 감지전극들(11b)을 제2 방향(D2)으로 연결하는 연결패턴들(11c)이 함께 형성될 수 있다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 의한 터치 스크린 패널의 단면도이다.
전술한 구성 요소와 동일한 참조 번호를 갖는 구성 요소에 관하여는 모순되지 않는 한 전술한 개시 사항을 참조할 수 있으며, 중복된 설명은 생략하기로 한다.
도 3을 참조하면, 본 실시예의 터치 스크린 패널은 상기 제1 및 제2 나노와이어 도전막(NW1, NW2) 중 적어도 하나를 패터닝하여 상기 외곽 배선들(15)에 중첩되는 제2 외곽 배선들(15a)이 형성된다.
즉, 외곽 배선들(15) 상에는 적어도 하나 이상의 나노와이어 레이어가 외곽 배선들(15)과 동일한 형상으로 적층될 수 있다.
예컨대, 상기 제1 나노와이어 도전막(NW1)과 동일한 레이어의 제2 외곽 배선들(15a)이 적층될 경우, 브리지 패턴들(BP)과 상기 제2 외곽 배선들(15a)은 동일한 공정을 통해 동시에 형성될 수 있다.
부가적으로, 상기 제2 나노와이어 도전막(NW2)과 동일한 레이어의 제3 외곽 배선들(미도시)이 적층될 경우, 상기 감지전극들(11)과 상기 제3 외곽 배선들은 동일한 공정을 통해 동시에 형성될 수 있다.
또한, 상기 외곽 배선들(15)과 제2 외곽 배선들(15a)은 기판(10)의 비활성 영역(NA)에 차례로 적층된 금속성 도전막과 나노와이어 도전막을 동반 패터닝하여 형성될 수 있다.
구체적으로, 금속성 도전막을 상기 기판(10)의 비활성 영역(NA)에 형성하고, 전술한 실시예와 같은 방법으로, 활성 영역(AA)에 브리지 패턴들(BP)과 절연막 패턴들(IP)을 형성한 후, 감지전극들(11)과 상기 외곽 배선들(15) 및 제2 외곽 배선들(15a)을 동일한 마스크를 이용하여 동반 패터닝할 수 있다.
이에 의하면, 외곽 배선들(15)과 감지전극들(11)을 동시에 형성함으로써, 패터닝 공정의 수를 줄일 수 있다.
본 발명의 기술 사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 변형예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
10: 기판 11: 감지전극들
11a: 제1 감지전극들 11b: 제2 감지전극들
11c: 연결패턴들 IP: 절연 패턴들
BP: 브리지 패턴들 15: 외곽 배선들
MT: 금속성 도전막 NW1: 제1 나노와이어 도전막
NW2: 제2 나노와이어 도전막

Claims (23)

  1. 기판의 활성 영역에 형성되며 제1 방향을 따라 연결된 제1 감지전극들, 및 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 연결된 제2 감지전극들을 포함하는 터치 스크린 패널의 제조 방법에 있어서,
    상기 제1 및 제2 감지전극들을 각각 라인 단위로 외부의 구동회로와 연결하기 위한 외곽 배선들을 상기 기판의 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역에 형성하는 단계;
    상기 제1 감지전극들을 서로 전기적으로 연결하기 위한 브리지 패턴들을 상기 기판의 활성 영역에 형성하는 단계;
    상기 제2 감지전극들과 상기 브리지 패턴들을 절연시키기 위한 절연막 패턴들을 상기 브리지 패턴들 상에 형성하는 단계; 및
    상기 외곽 배선들, 상기 브리지 패턴들 및 상기 절연막 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계를 포함하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  2. 제1 항에 있어서, 상기 외곽 배선들을 형성하는 단계는,
    상기 기판 상에 금속성 도전막을 증착하는 단계; 및
    상기 금속성 도전막을 패터닝하여 외곽 배선들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  3. 제2 항에 있어서, 상기 브리지 패턴들을 형성하는 단계는,
    상기 기판 상에 제1 나노와이어 도전막을 코팅하는 단계; 및
    상기 제1 나노와이어 도전막을 패터닝하여 상기 브리지 패턴들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 브리지 패턴들은 상기 외곽 배선들과 동일한 레이어에 형성됨을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  5. 제3 항에 있어서, 상기 절연막 패턴들을 형성하는 단계는,
    상기 브리지 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 절연막을 증착하는 단계; 및
    상기 절연막을 패터닝하여 상기 절연막 패턴들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 절연막 패턴들은 상기 브리지 패턴들과 일부 중첩됨을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 절연막 패턴들은 상기 브리지 패턴들보다 상기 제1 방향으로 더 짧고, 상기 제2 방향으로 더 긴 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 브리지 패턴들과 상기 절연막 패턴들은 상기 제1 및 제2 감지전극들의 교차부에 위치함을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  9. 제3 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계는,
    상기 외곽 배선들, 상기 브리지 패턴들 및 상기 절연막 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 제2 나노와이어 도전막을 코팅하는 단계; 및
    상기 제2 나노와이어 도전막을 패터닝하여 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 나노와이어 도전막은 은나노와이어(AgNW)를 포함하는 재질인 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  11. 제9 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 나노와이어 도전막 중 적어도 하나를 패터닝하여 상기 외곽 배선들에 중첩되는 제2 외곽 배선들을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  12. 제1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계는,
    상기 제2 감지전극들을 상기 제2 방향으로 연결하는 연결 패턴들이 함께 형성됨을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  13. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 감지전극들은 상기 브리지 패턴들의 양 단부와 중첩되도록 형성됨을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  14. 제1 항에 있어서, 상기 기판은
    폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 아크릴(Acryl), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리에테르술폰(PES) 및 폴리이미드(PI)로 구성된 군에서 선택된 하나 이상의 재료로 형성된 박막형 필름기판인 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  15. 기판의 활성 영역에 형성되며 제1 방향을 따라 연결된 제1 감지전극들, 및 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 연결된 제2 감지전극들을 포함하는 터치 스크린 패널의 제조 방법에 있어서,
    금속성 도전막을 상기 기판의 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역에 형성하는 단계;
    상기 제1 감지전극들을 서로 전기적으로 연결하기 위한 브리지 패턴들을 상기 기판의 활성 영역에 형성하는 단계;
    상기 제2 감지전극들과 상기 브리지 패턴들을 절연시키기 위한 절연막 패턴들을 상기 브리지 패턴들 상에 형성하는 단계; 및
    상기 금속성 도전막, 상기 브리지 패턴들 및 상기 절연막 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계를 포함하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  16. 제15 항에 있어서, 상기 브리지 패턴들을 형성하는 단계는,
    상기 기판 상에 제1 나노와이어 도전막을 코팅하는 단계; 및
    상기 제1 나노와이어 도전막을 패터닝하여 상기 브리지 패턴들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  17. 제16 항에 있어서, 상기 절연막 패턴들을 형성하는 단계는,
    상기 브리지 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 절연막을 증착하는 단계; 및
    상기 절연막을 패터닝하여 상기 절연막 패턴들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  18. 제16 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계는,
    상기 금속성 도전막, 상기 브리지 패턴들 및 상기 절연막 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 제2 나노와이어 도전막을 코팅하는 단계; 및
    상기 제2 나노와이어 도전막을 패터닝하여 상기 제1 및 제2 감지전극들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  19. 제18 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 나노와이어 도전막은 은나노와이어(AgNW)를 포함하는 재질인 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  20. 제18 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 감지전극들을 각각 라인 단위로 외부의 구동회로와 연결하기 위한 외곽 배선들을 상기 비활성 영역에 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  21. 제20 항에 있어서, 상기 외곽 배선들을 형성하는 단계는,
    상기 비활성 영역에 차례로 적층된 상기 금속성 도전막, 상기 제1 나노와이어 도전막 및 제2 나노와이어 도전막을 동반 패터닝하여 상기 외곽 배선들이 형성됨을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  22. 제21 항에 있어서,
    상기 외곽 배선들은 상기 제1 및 제2 감지전극들과 동일한 공정을 통해 동시에 형성됨을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  23. 활성 영역 및 상기 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역으로 구분되는 기판;
    상기 기판의 활성 영역에 형성되며 제1 방향을 따라 연결된 제1 감지전극들과, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 연결된 제2 감지전극들;
    상기 제1 감지전극들을 상기 제1 방향을 따라 전기적으로 연결하기 위한 브리지 패턴들;
    상기 제2 감지전극들과 상기 브리지 패턴들을 절연시키기 위한 절연막 패턴들; 및
    상기 제1 및 제2 감지전극들을 각각 라인 단위로 외부의 구동회로와 연결하기 위한 외곽 배선들을 포함하되,
    상기 제1 및 제2 감지전극들은,
    상기 외곽 배선들, 상기 브리지 패턴들 및 상기 절연막 패턴들이 형성된 상기 기판 상에 형성됨을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.


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