KR20140111975A - EMI shielding film manufactured by electroplating and printed circuit board using the same - Google Patents

EMI shielding film manufactured by electroplating and printed circuit board using the same Download PDF

Info

Publication number
KR20140111975A
KR20140111975A KR1020140028188A KR20140028188A KR20140111975A KR 20140111975 A KR20140111975 A KR 20140111975A KR 1020140028188 A KR1020140028188 A KR 1020140028188A KR 20140028188 A KR20140028188 A KR 20140028188A KR 20140111975 A KR20140111975 A KR 20140111975A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plating
layer
forming
shielding film
electromagnetic wave
Prior art date
Application number
KR1020140028188A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101546452B1 (en
Inventor
전성욱
Original Assignee
와이엠티 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 와이엠티 주식회사 filed Critical 와이엠티 주식회사
Publication of KR20140111975A publication Critical patent/KR20140111975A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101546452B1 publication Critical patent/KR101546452B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0213Electrical arrangements not otherwise provided for
    • H05K1/0216Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference
    • H05K1/0218Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference by printed shielding conductors, ground planes or power plane
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • H05K9/0073Shielding materials
    • H05K9/0081Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding
    • H05K9/0084Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding comprising a single continuous metallic layer on an electrically insulating supporting structure, e.g. metal foil, film, plating coating, electro-deposition, vapour-deposition

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

A method of manufacturing an electromagnetic wave shielding film for transfer according to the present invention includes a step of forming a release layer on an insulating substrate, a step of forming a primer for plating on the release layer, a step of forming an undercoat layer on the primer for plating by wet plating, a step of forming a plating layer on the undercoat layer by using wet plating, and a step of forming an adhesive layer on the plating layer.

Description

습식 도금을 이용한 전사용 전자파 차폐 필름의 제조방법{EMI shielding film manufactured by electroplating and printed circuit board using the same}[0001] The present invention relates to an electromagnetic shielding film,

본 발명은 전자파 차폐 필름의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 전사방식을 이용하여 인쇄회로기판 등에 전자파 차폐층을 형성할 수 있는 전자파 차폐 필름의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding film, and more particularly, to a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding film capable of forming an electromagnetic wave shielding layer on a printed circuit board or the like using a transfer method.

최근 자동차, 우주 항공, 선박, 바이오 산업 등 다양한 분야에서 첨단 전기 전자 제품과 통신기기의 사용이 급증함에 따라 전자 노이즈 또는 전자 간섭 문제가 심각해지고 있다. 즉, 이들 기기로부터 나오는 전자파로 인해 전기 전자 제품이 상호 간섭을 일으켜 다른 기기의 오작동을 초래하고 인체에 여러 가지 악영향을 미치고 있다. 이처럼 전자기기에서 방사 또는 전도되는 전자파가 다른 기기의 기능에 장해를 주는 것을 전자파 장해(EMI, electromagnetic interference)라고 한다. 현대와 같은 정보사회에서는 컴퓨터나 휴대전화, 무선 LAN 등 정보 전달 수단으로서 전파를 적극적으로 사용하고 있다. 그러나, 정보기기의 보급이 진행되고, 고속도, 고밀도의 정보 전달화에 따라 범람한 전파장해에 의한 인체의 유해성 및 각종 계기류의 오작동이나 정보 누설 등의 문제가 일어나고 있다. 더구나 요즈음 널리 사용되는 무선 통신 기기의 경우는 기기 자체에서 무선 주파수 신호를 송수신하고, 또한 직접 인체에 접촉하여 사용되므로 전술한 바와 같은 전자파의 방사에 따라 발생하는 인체의 피해가 더 크게 우려되고 있다. Recently, as the use of advanced electric and electronic products and communication devices in a variety of fields such as automobile, aerospace, ship, and bio industry has been rapidly increased, problems of electromagnetic noise or electromagnetic interference have become serious. That is, due to the electromagnetic waves emitted from these devices, the electric and electronic products interfere with each other, resulting in malfunction of other devices and various adverse effects on the human body. Electromagnetic interference (EMI) is a phenomenon in which electromagnetic waves radiated or conducted from an electronic device interfere with the functions of other devices. In today's information society, radio waves are actively used as information transmission means such as computers, mobile phones, and wireless LANs. However, the spread of information devices is progressing, and problems such as the harmfulness of the human body due to radio wave trouble overflowed due to high-speed and high-density information transmission, malfunctions of various instruments and information leakage are occurring. Moreover, in the case of widely used wireless communication devices, since the device itself transmits and receives a radio frequency signal and is directly used in contact with the human body, the human body caused by the above-mentioned radiation of electromagnetic waves is more likely to be damaged.

이러한 전파 방해에 대한 대책으로 한정된 조건하에서의 전파 컨트롤 기술의 확립이 시급히 요구되고 있으며, 국제적으로 전자파의 방출과 전자파 내성에 관한 규제, 전자파 방사에 의한 인체의 유해성 등에 관한 관심이 활발해지고 있음과 동시에 이에 대한 규제가 강화되고 있다.As a countermeasure against such radio wave interference, it is urgently required to establish a radio wave control technology under limited conditions, and there is a growing interest in the international regulation of electromagnetic wave emission and electromagnetic wave resistance, harmfulness of the human body due to electromagnetic wave radiation, and the like Regulations are being tightened.

전자파 감쇠는 공기층과 금속 간의 임피던스 부정합에 의한 반사 손실, 금속 차폐막을 통과하면서 저항성 손실에 의해 열로 발산하는 투과 손실 및 금속 차폐막 양쪽의 경계층에서의 금속층 내부로의 재반사에 의한 다중 반사 손실 등의 메카니즘에 의해 이루어진다. 전자파 차폐는 전기장 차폐와 자기장 차폐로 나눌 수 있으며, 전기장 차폐는 전도도가 우수한 물질로 보호하고자 하는 물체를 감싸주면 되고, 물질의 두께에 따라서 차폐 효과가 달라지는데 일반적으로 두꺼울수록 효과가 더 좋다. 자기장 차폐에는 고투자율 재료를 사용해 흡수 손실을 증가시키거나 자속에 대해 자기 저항을 낮춤으로서 자기장을 우회하는 방법이 있다. 이러한 차폐를 위해서는 전도성이 우수한 알루미늄박이나 은박지와 같은 금속 박막을 부착하거나, 바인더 수지에 전도성 분말을 분산하여 제조한 전도성 페이스트를 인쇄회로기판 표면에 균일하게 도포하거나, 전도성 페이스트를 필름화하여 가열 부착하는 전도성 접착 필름 형태의 제품 등이 적용되고 있다. 특히 반복적인 굴곡 특성이 요구되는 연성인쇄회로기판의 경우 금속 박막이나 액상의 페이스트 도료의 경우 굴곡 특성이 좋지 않아 사용상에 제한이 따르며 우수한 굴곡 특성이 요구되는 용도에는 가열 부착성이 좋으며 굴곡성과 전기전도성이 우수한 접착 필름 형상의 제품 요구가 크게 증가하고 있다.Electromagnetic wave attenuation is a mechanism that causes reflection loss due to impedance mismatch between an air layer and a metal, transmission loss that dissipates into heat due to resistance loss while passing through a metal shielding film, and multiple reflection loss due to retroreflection into the metal layer in both boundary layers of the metal shielding film . Electromagnetic wave shielding can be divided into electric field shielding and magnetic field shielding. The electric field shielding is required to cover an object to be protected with a highly conductive material. The shielding effect varies depending on the thickness of the material. For magnetic shielding, there is a way to bypass the magnetic field by increasing the absorption loss using a high permeability material or by lowering the magnetoresistance to magnetic flux. For this shielding, it is necessary to apply a metal thin film such as aluminum foil or silver foil excellent in conductivity, or to apply a conductive paste prepared by dispersing the conductive powder to the binder resin uniformly on the surface of the printed circuit board, A conductive adhesive film type product is applied. Particularly, in the case of a flexible printed circuit board requiring repeated bending characteristics, the metal thin film or the liquid paste paste has a poor bending property and is restricted in use. In applications requiring excellent bending properties, the bending property is good and the bending property and the electric conductivity A demand for a product having such an excellent adhesive film shape is greatly increased.

이처럼 모바일 기기에 사용하는 전자파 차폐 필름은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 등의 절연층과 금속 박 등의 도전층을 적층, 합지하여 만들거나, 테레프탈레이트 등의 절연층 위에 은(Ag) 등의 금속을 스퍼터링하거나 실버페이스트 등을 이용하여 도전층을 형성하거나, 전도층 및 절연층을 형성하는 수지를 이용하여 필름을 제조하는 방법 등이 소개되어 적용되고 있다.As described above, the electromagnetic wave shielding film used for mobile devices may be formed by laminating and laminating an insulating layer such as polyethylene terephthalate (PET) and a conductive layer such as a metal foil, or by forming a metal such as Ag on the insulating layer such as terephthalate A method of forming a conductive layer by sputtering, silver paste or the like, or a method of producing a film by using a resin that forms a conductive layer and an insulating layer has been introduced and applied.

이러한 방법에 의해 제조된 전자파 차폐 필름은 대부분 전면에 도전층을 형성하고 있으며, 가열 부착식 필름의 경우에는 부착 부위의 형상에 맞도록 재단한 후 가열 압착하는 방식으로 전자파 차폐 필름을 부착하고 있어 매우 낮은 생산성으로 인해 어려움을 겪고 있는 실정이다.The electromagnetic wave shielding film produced by this method forms a conductive layer on the whole surface. In the case of the heat-immersed film, the electromagnetic wave shielding film is attached in such a manner that the electromagnetic wave shielding film is cut to fit the shape of the attaching portion, It is difficult because of low productivity.

한국등록특허 제0995563호, 한국등록특허 제1044567호 및 한국공개특허 제2009-0008557호에는 수지를 이용한 전자파 차폐 필름의 제조 기술에 대한 설명이 개시되어 있으나, 해당 필름을 이용하여 부착하는 방법 등에 대한 언급은 나타나 있지 않다. Korean Patent No. 0995563, Korean Patent No. 1044567 and Korean Patent Publication No. 2009-0008557 disclose a technique for manufacturing an electromagnetic wave shielding film using a resin, No mention is made.

따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 첫 번째 과제는 이형 기능을 가져 인쇄회로기판 등에 전사하는 방식으로 전자파 차폐층을 형성할 수 있는 전사용 전자파 차폐 필름의 제조방법을 제공하는 것이다. Accordingly, a first object of the present invention is to provide a method for manufacturing a conductive electromagnetic wave shielding film capable of forming an electromagnetic wave shielding layer by transferring to a printed circuit board or the like with a mold releasing function.

따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 두 번째 과제는 상기의 전사용 전자파 차폐 필름의 제조방법이 적용된 인쇄회로 기판의 제조방법을 제공하는 것이다. Accordingly, a second object of the present invention is to provide a method of manufacturing a printed circuit board to which the method for manufacturing a conductive electromagnetic shielding film is applied.

본 발명은 상기 첫 번째 과제를 달성하기 위하여, 절연기재 위에 이형층을 형성하는 단계와, 상기 이형층 위에 도금용 프라이머를 형성하는 단계와, 상기 도금용 프라이머 위에 습식 도금으로 하지 도금층을 형성하는 단계와, 상기 하지 도금층 위에 습식 도금을 이용하여 도금층을 형성하는 단계와, 상기 도금층 위에 접착제층을 형성하는 단계를 포함하는 전사용 전자파 차폐 필름의 제조 방법을 제공한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of: forming a release layer on an insulating substrate; forming a primer for plating on the release layer; forming a base plating layer by wet plating on the primer for plating; Forming a plating layer on the base plating layer using a wet plating method, and forming an adhesive layer on the plating layer.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 절연기재는 폴리에틸린 테레프탈레이트, 아크릴계, 폴리카보네이트계, 폴리프로필렌계, 폴리에틸렌계, 폴리스틸렌계, 폴리에스테르계, 셀룰로우즈계, 폴리염화비닐계 수지로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the insulating substrate may be made of a resin selected from the group consisting of polyethyleneterephthalate, acrylic, polycarbonate, polypropylene, polyethylene, polystyrene, polyester, cellulosic, At least one selected from the group consisting of

본 발명의 다른 구현예에 따르면, 상기 이형층은 멜라닌계, 불소계, 실리콘계, 알킬아크릴레이트계로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나일 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the release layer may be at least one selected from the group consisting of a melanin series, a fluoric series, a silicone series, and an alkyl acrylate series.

본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 하지 도금층은 니켈 또는 구리로 이루어질 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the underlying plating layer may be made of nickel or copper.

본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 도금층은 은, 아연, 구리, 니켈로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나일 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the plating layer may be at least one selected from the group consisting of silver, zinc, copper, and nickel.

본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 도금용 프라이머 위에 습식 도금으로 하지 도금층을 형성하는 단계 이전 또는 이후에, 전자파 차폐 영역을 패터닝하기 위한 마스크 형성 단계를 더 포함할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the method may further include a mask forming step for patterning the electromagnetic wave shielding region before or after the step of forming the ground plating layer by wet plating on the plating primer.

본 발명은 상기 두 번째 과제를 달성하기 위하여, 상기의 전사용 전자파 차폐 필름의 제조 방법을 이용하는 인쇄회로기판의 제조방법을 제공한다.In order to achieve the second object of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed circuit board using the method for manufacturing a conductive electromagnetic shielding film.

본 발명의 전사용 전자파 차폐 필름의 제조 방법은 도금방법에 의하여 전자파 차폐층을 형성하므로 스퍼터링 등과 같은 고가의 진공공정을 이용하지 않으므로 저렴한 비용으로 전자파 차폐층을 형성할 수 있다.Since the electromagnetic wave shielding film of the present invention forms an electromagnetic wave shielding layer by a plating method, an expensive electromagnetic wave shielding process such as sputtering is not used, and thus an electromagnetic wave shielding layer can be formed at a low cost.

또한, 본 발명의 전사용 전자파 차폐 필름은 전사방식에 의하여 인쇄회로기판 또는 전자소자의 전자파 차폐가 필요한 부위에 선택적으로 전자파 차폐 부위를 형성할 수 있다.In addition, the electromagnetic wave shielding film for transfer according to the present invention can selectively form an electromagnetic wave shielding region on a printed circuit board or an electronic device where electromagnetic wave shielding is required by a transfer method.

도 1은 기존의 전자파 차폐 필름의 구조를 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명의 전사용 전자파 차폐 필름 제조방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 3은 본 발명의 전사용 전자파 차폐 필름 제조방법에 의하여 제조된 전자파 차폐 필름의 단면 구조를 나타낸 것이다.
1 shows the structure of a conventional electromagnetic wave shielding film.
2 is a flow chart for explaining a method of manufacturing a transfer electromagnetic shielding film of the present invention.
3 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave shielding film produced by the method for manufacturing electromagnetic wave shielding film for transfer according to the present invention.

본 발명의 전사용 전자파 차폐 필름의 제조 방법은 절연기재 위에 이형층을 형성하는 단계와, 상기 이형층 위에 도금용 프라이머를 형성하는 단계와, 상기 도금용 프라이머 위에 습식 도금으로 하지 도금층을 형성하는 단계와, 상기 하지 도금층 위에 습식 도금을 이용하여 도금층을 형성하는 단계와, 상기 도금층 위에 접착제층을 형성하는 단계를 포함한다.The method for manufacturing a conductive electromagnetic wave shielding film of the present invention includes the steps of forming a release layer on an insulating substrate, forming a primer for plating on the release layer, forming a base plating layer by wet plating on the primer for plating Forming a plating layer on the base plating layer using wet plating; and forming an adhesive layer on the plating layer.

도 1은 기존의 전자파 차폐 필름의 구조를 나타낸 것이다. 도 1을 참조하면, 기존의 전자파 차폐 필름은 이형층(101), 도전성 점착제층(102), 도전 시트층(103) 및 절연층(104)을 포함한다. 이와 같은 종래의 전자파 차폐 필름은 스퍼터링 등의 방법에 의하여 도전 시트층을 형성하므로 고가의 진공공정을 이용하는 문제점과, 전면에 도전 시트층을 형성하므로 인쇄회로기판 등에 전자파 차폐 필름을 부착한 후에 별도의 공정으로 전자차 차폐 부위를 제외한 부분을 제거해야 하는 문제점을 가지고 있다. 1 shows the structure of a conventional electromagnetic wave shielding film. 1, the conventional electromagnetic wave shielding film includes a release layer 101, a conductive pressure-sensitive adhesive layer 102, a conductive sheet layer 103, and an insulating layer 104. Since such a conventional electromagnetic wave shielding film forms a conductive sheet layer by a method such as sputtering, there is a problem that an expensive vacuum process is used and a conductive sheet layer is formed on the entire surface. Therefore, after attaching an electromagnetic wave shielding film to a printed circuit board, It is necessary to remove the portion excluding the shielding portion of the electronic car.

본 발명은 전사용 전자파 차폐 필름을 제조하는 방법에 관한 것으로서, 도금 공정을 적용하여 제조비용을 감소시키고, 도금층을 형성하기 전에 광경화성 수지 등을 이용한 패터닝 방법에 의하여 전자파 차폐가 필요한 영역에만 선택적으로 도금을 수행함으로써 인쇄회로기판에 부착된 후에 별도의 도전층 제거 공정을 생략할 수 있는 효과를 가진다.The present invention relates to a method of manufacturing an electromagnetically shielding film for use in the prior art. The present invention reduces the manufacturing cost by applying a plating process, and selectively forms only a region requiring electromagnetic shielding by a patterning method using a photo- The plating process is performed to remove the conductive layer removing process after the conductive layer is attached to the printed circuit board.

도 2는 본 발명의 전사용 전자파 차폐 필름 제조방법을 설명하기 위한 흐름도이다. 도 2를 참조하면, 먼저 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 등의 절연기판을 준비한다(S1). 절연기판은 도금방법을 이용하여 전자파 차폐층을 형성하기 위한 기저기판으로서 인쇄회로기판 등에 부착된 후에는 제거되는 부분이다. 절연기판은 폴리에틸린 테레프탈레이트, 아크릴계, 폴리카보네이트계, 폴리프로필렌계, 폴리에틸렌계, 폴리스틸렌계, 폴리에스테르계, 셀룰로우즈계, 폴리염화비닐계 수지 등으로 이루어질 수 있다. 이어서, 상기 절연기판 위에 이형층을 형성한다(S2). 이형층은 절연기판과 도금층을 분리하기 위한 부분으로서, 멜라닌계, 불소계, 실리콘계, 알킬아크릴레이트계로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나일 수 있다. 이어서, 상기 이형층 위에 도금용 프라이머층을 형성한다(S3). 도금용 프라이머는 마감 코팅 및 인쇄제로 사용되는 아크릴계 에폭시 등이 이용될 수 있고, 무전해 도금 후 밀착력이 저하되어 직접 도금하기가 어려우므로 도금용 프라이머를 도포하고 앵커(anchor)를 형성시켜 밀착력을 확보하기 위하여 사용된다. 도금용 프라이머는 마감용 코팅제 및 인쇄제의 종류와 용도에 따라 다양하게 적용될 수 있다. 이어서, 상기 도금용 프라이머층 위에 하지 도금층을 형성한다(S4). 하지 도금층의 형성은 무전해 도금 등의 공정으로 수행될 수 있고, 구체적으로 니켈 또는 구리 무전해 도금 공정으로 수행될 수 있다. 이어서, 상기 하지 도금층 위에 도금층을 형성한다(S5). 도금층은 은, 아연, 구리, 니켈 등의 금속층으로 이루어질 수 있고, 전기도금이나 무전해 도금 등의 공정이 적용될 수 있다. 이어서, 상기 도금층 위에 접착제층을 형성한다(S6). 접착제층은 인쇄회로기판 등에 부착하기 위한 수단이 되며, 피처리물의 재질과 종류에 따라 다양한 형태의 레진(resin)을 사용할 수 있으며, 열, 자외선 또는 압력 등을 경화 매체로 하는 프라이머(primer)가 이용될 수 있다. 2 is a flow chart for explaining a method of manufacturing a transfer electromagnetic shielding film of the present invention. Referring to FIG. 2, first, an insulating substrate such as polyethylene terephthalate (PET) is prepared (S1). An insulating substrate is a base substrate for forming an electromagnetic wave shielding layer by using a plating method, and is a portion removed after being attached to a printed circuit board or the like. The insulating substrate may be made of polyethyleneterephthalate, acrylic, polycarbonate, polypropylene, polyethylene, polystyrene, polyester, cellulosic, polyvinyl chloride, or the like. Next, a release layer is formed on the insulating substrate (S2). The release layer is a part for separating the insulating substrate and the plating layer, and may be at least one selected from the group consisting of a melanin series, a fluoric series, a silicone series, and an alkyl acrylate series. Subsequently, a primer layer for plating is formed on the release layer (S3). As the primer for plating, acrylic epoxy used as a finish coating and printing agent can be used, and since the adhesion after electroless plating is lowered, it is difficult to directly coat the primer, so the primer for plating is applied and an anchor is formed to secure adhesion . Plating primers can be applied in various ways depending on the type and use of finish coating agents and printing agents. Subsequently, a base plating layer is formed on the plating primer layer (S4). The formation of the underlying plated layer may be performed by a process such as electroless plating, and may be performed specifically with a nickel or copper electroless plating process. Subsequently, a plating layer is formed on the underlying plating layer (S5). The plating layer may be formed of a metal layer such as silver, zinc, copper, or nickel, and electroplating or electroless plating may be applied. Then, an adhesive layer is formed on the plating layer (S6). The adhesive layer is a means for attaching to a printed circuit board or the like. Various types of resin may be used depending on the material and the type of the object to be processed. A primer using heat, ultraviolet rays, pressure, or the like as a curing medium may be used Can be used.

본 발명의 전사용 전자파 차폐 필름의 제조 방법은 하지 도금층 및 도금층을 형성하는 과정에서 특정 형태의 패터닝을 적용하는 것이 가능하다. 이와 같이 패터닝된 형태의 도금층을 형성하면 인쇄회로기판에 부착된 후에 별도의 패터닝 공정을 적용하지 않고도 필요한 부위에만 인쇄회로기판에 도전층을 형성할 수 있다. 패터닝된 도금층을 형성하는 방법은 하지 도금층을 형성하기 이전에 광감성 필름 등의 마스크를 이용하여 패터닝된 형태의 하지 도금층 및/또는 도금층을 형성하는 방법과, 전면에 하지 도금층 및/또는 도금층을 형성한 후에 광감성 필름 등의 마스크를 이용하여 식각으로 하지 도금층 및/또는 도금층을 패터닝하는 방법이 적용될 수 있다. 하지 도금층 또는 도금층을 패터닝하는 방법으로 도금용 프라이머층 위에 팔라듐(Pd) 촉매 처리한 후 동도금을 바로 하여 패턴된 회로를 형성하는 방법이 이용될 수도 있다.In the method of manufacturing electromagnetic wave shielding film for transfer of the present invention, it is possible to apply a patterning of a specific type in the process of forming the base plating layer and the plating layer. When the patterned plating layer is formed as described above, the conductive layer can be formed on the printed circuit board only at a necessary portion without applying a separate patterning process after being attached to the printed circuit board. A method of forming a patterned plating layer includes a method of forming a base plating layer and / or a plating layer in a patterned pattern using a mask such as a photosensitive film or the like before forming the base plating layer, a method of forming a base plating layer and / A method of patterning the underlying plating layer and / or the plating layer by etching using a mask such as a light-sensitive film can be applied. A method of patterning a base plating layer or a plating layer may be used to form a patterned circuit by performing palladium (Pd) catalytic treatment on the plating primer layer followed by copper plating.

이와 같은 방법으로 도금층을 패터닝된 형태로 형성하면, 전사용 전자파 차폐 필름을 인쇄회로기판에 부착하는 과정에서 전자파 차폐가 필요한 영역에만 전자파 차폐층을 형성할 수 있는 효과를 가진다. 전사용 전자파 차폐 필름을 인쇄회로기판에 적용하는 과정은, 전사용 전자파 차폐 필름과 해당 필름을 부착해야 하는 인쇄회로기판을 합지하는 단계와 합지 제품을 전사 방식에 의해 가열 압착하여 패턴을 전사시키는 단계로 이루어질 수 있다.When the plating layer is formed in the patterned manner by such a method, the electromagnetic shielding layer can be formed only in a region where electromagnetic shielding is required in the process of attaching the electromagnetic shielding film for transfer to the printed circuit board. The process of applying the electromagnetically shielding film to the printed circuit board includes: a step of joining the electromagnetic shielding film for electronic use and a printed circuit board on which the film is to be adhered, and a step of transferring the pattern by heat pressing the laminated product by a transfer method ≪ / RTI >

도 3은 본 발명의 전사용 전자파 차폐 필름 제조방법에 의하여 제조된 전자파 차폐 필름의 단면 구조를 나타낸 것이다. 도 3을 참조하면, 전자파 차폐 필름은 절연기재(201), 이형층(202), 도금용 프라이머(203), 하지 도금층(204), 도금층(205) 및 접착제층(206)이 차례로 적층된 형태로 이루어진다. 3 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave shielding film produced by the method for manufacturing electromagnetic wave shielding film for transfer according to the present invention. 3, the electromagnetic wave shielding film includes an insulating substrate 201, a release layer 202, a plating primer 203, a base plating layer 204, a plating layer 205, and an adhesive layer 206 in this order .

절연기재(201)는 폴리에틸린 테레프탈레이트, 아크릴계, 폴리카보네이트계, 폴리프로필렌계, 폴리에틸렌계, 폴리스틸렌계, 폴리에스테르계, 셀룰로우즈계, 폴리염화비닐계 수지로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나일 수 있다. 특히 절연기재는 폴리에틸린 테레프탈레이트인 것이 바람직한데, 폴리에틸린 테레프탈레이트 필름은 일반적으로 13∼50㎛ 두께의 필름이 사용될 수 있고, 전사용 메탈 필름(metal film) 제조를 위해서는 125㎛ 이하의 두께를 갖는 폴리에틸린 테레프탈레이트 필름인 것이 바람직하다. 이는 롤 투 롤(roll to roll) 전사용 메탈 필름에 있어 텐션(tension)이 유지되면서 작업이 되어야 하는 특성 때문이다.The insulating substrate 201 is made of at least one material selected from the group consisting of polyethyleneterephthalate, acrylic, polycarbonate, polypropylene, polyethylene, polystyrene, polyester, cellulosic, . Particularly, it is preferable that the insulating substrate is polyethyleneterephthalate. The polyethyleneterephthalate film can be generally used in the form of a film having a thickness of 13 to 50 mu m, and in order to produce a metal film to be transferred, It is preferable that the film is a polyethyleneterephthalate film having a thickness. This is due to the characteristics of the metal film used before the roll-to-roll process, in which tension must be maintained.

이형층(202)은 멜라닌계, 불소계, 실리콘계, 알킬아크릴레이트계로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나일 수 있다. 이형층은 테프론 수지, 실리콘 수지 또는 멜라닌 수지 등을 얇게 도포하여 피도체에 전사용 필름으로부터 절연기재를 분리시키기 위하여 사용되며 수 ㎛ 정도의 두께를 갖는 것이 바람직하다.The release layer 202 may be at least one selected from the group consisting of a melanin series, a fluoric series, a silicone series, and an alkyl acrylate series. The release layer is preferably used to remove the insulating substrate from the transfer film by applying a thin coating of Teflon resin, silicone resin or melamine resin to the conductor, and preferably has a thickness of about several micrometers.

도금용 프라이머(203)는 마감 코팅 및 인쇄제로 사용되는 아크릴계 에폭시의 경우에 무전해 도금 후 밀착력이 저하되어 직접 도금하기가 어려우므로 도금용 프라이머를 도포하고 앵커(anchor)를 형성시켜 밀착력을 확보하기 위하여 사용된다. 이러한 도금용 프라이머는 마감용 코팅제 및 인쇄제의 종류와 용도에 따라 다양하게 적용될 수 있다. In the case of the acrylic epoxy used as the finish coat and the printing agent, the primer for plating 203 is difficult to be directly coated since the adhesion force after electroless plating is lowered, so that the primer for plating is applied and an anchor is formed to secure adhesion . Such a primer for plating may be variously applied depending on the type and use of the finish coating agent and the printing agent.

하지 도금층(204)은 니켈, 구리 등이 이용될 수 있고, 도금층(205)은 은, 아연, 구리, 니켈 등이 이용될 수 있다. 이러한 금속층은 각각의 용도에 따라 다양한 금속 을 전기 도금 또는 무전해 도금 등으로 형성할 수 있으며, 0.01∼10㎛ 내외에서 금속층을 형성하는 것이 바람직하다. 일반적으로 전자파 차폐를 하는 경우에는 무전해니켈 층을 0.1∼0.5㎛ 도금한 후 동도금층을 0.1∼1.0㎛ 내외에서 처리하고 배선 재료의 경우 도금용 프라이머층 위에 팔라듐 촉매 처리한 후 동도금을 바로 하여 회로를 형성할 수도 있다. Nickel, copper, or the like may be used for the base plating layer 204, and silver, zinc, copper, nickel, or the like may be used for the plating layer 205. The metal layer may be formed by electroplating or electroless plating with various metals depending on the application, and it is preferable to form the metal layer at about 0.01 to 10 탆. In general, when electromagnetic shielding is performed, the electroless nickel layer is coated in a thickness of 0.1 to 0.5 μm, the copper plating layer is treated in a range of 0.1 to 1.0 μm, the wiring material is treated with palladium on the primer layer for plating, .

접착층(206)으로는 피처리물의 재질과 종류에 따라 다양한 형태의 레진이 이용될 수 있고, 열, UV 또는 압력 등을 경화 매체로 하는 프라이머의 형성이 가능하다. As the adhesive layer 206, various types of resins may be used depending on the material and type of the object to be processed, and a primer using heat, UV, pressure, or the like as a curing medium may be formed.

101: 이형층 102: 도전성 점착제층
103: 도전 시트층 104: 절연층
201: 절연기재 202: 이형층
203: 도금용 프라이머 204: 하지 도금층
205: 도금층 206: 접착제층
101: release layer 102: conductive pressure-sensitive adhesive layer
103: conductive sheet layer 104: insulating layer
201: insulating substrate 202: release layer
203: primer for plating 204: lower plating layer
205: Plated layer 206: Adhesive layer

Claims (7)

절연기재 위에 이형층을 형성하는 단계;
상기 이형층 위에 도금용 프라이머를 형성하는 단계;
상기 도금용 프라이머 위에 습식 도금으로 하지 도금층을 형성하는 단계;
상기 하지 도금층 위에 습식 도금을 이용하여 도금층을 형성하는 단계; 및
상기 도금층 위에 접착제층을 형성하는 단계;를 포함하는 전사용 전자파 차폐 필름의 제조 방법.
Forming a release layer on the insulating substrate;
Forming a plating primer on the release layer;
Forming a base plating layer by wet plating on the plating primer;
Forming a plating layer on the underlying plating layer using wet plating; And
And forming an adhesive layer on the plating layer.
제1항에 있어서,
상기 절연기재는 폴리에틸린 테레프탈레이트, 아크릴계, 폴리카보네이트계, 폴리프로필렌계, 폴리에틸렌계, 폴리스틸렌계, 폴리에스테르계, 셀룰로우즈계, 폴리염화비닐계 수지로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전사용 전자파 차폐 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the insulating substrate is at least one selected from the group consisting of polyethyleneterephthalate, acrylic, polycarbonate, polypropylene, polyethylene, polystyrene, polyester, cellulosic, and polyvinyl chloride resins By weight based on the total weight of the electromagnetic wave shielding film.
제1항에 있어서,
상기 이형층은 멜라닌계, 불소계, 실리콘계, 알킬아크릴레이트계로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전사용 전자파 차폐 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the release layer is at least one selected from the group consisting of melanin, fluorine, silicon, and alkyl acrylate.
제1항에 있어서,
상기 하지 도금층은 니켈 또는 구리로 이루어진 것을 특징으로 하는 전사용 전자파 차폐 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the base plating layer is made of nickel or copper.
제1항에 있어서,
상기 도금층은 은, 아연, 구리, 니켈로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전사용 전자파 차폐 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the plating layer is at least one selected from the group consisting of silver, zinc, copper, and nickel.
제1항에 있어서,
상기 도금용 프라이머 위에 습식 도금으로 하지 도금층을 형성하는 단계 이전 또는 이후에, 전자파 차폐 영역을 패터닝하기 위한 마스크 형성 단계를 더 포함하는 전사용 전자파 차폐 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Further comprising the step of forming a mask for patterning the electromagnetic wave shielding region before or after the step of forming the ground plating layer by wet plating on the plating primer.
제1항의 전사용 전자파 차폐 필름의 제조 방법을 이용하는 인쇄회로기판의 제조방법.A manufacturing method of a printed circuit board using the method of manufacturing a conductive electromagnetic wave shielding film according to claim 1.
KR1020140028188A 2013-03-12 2014-03-11 EMI shielding film manufactured by electroplating and printed circuit board using the same KR101546452B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130026105 2013-03-12
KR20130026105 2013-03-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140111975A true KR20140111975A (en) 2014-09-22
KR101546452B1 KR101546452B1 (en) 2015-08-25

Family

ID=51757162

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140028188A KR101546452B1 (en) 2013-03-12 2014-03-11 EMI shielding film manufactured by electroplating and printed circuit board using the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101546452B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9929131B2 (en) 2015-12-18 2018-03-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of fabricating a semiconductor package having mold layer with curved corner
CN108690975A (en) * 2017-03-30 2018-10-23 Ymt股份有限公司 The porous copper foil for manufacturing the method for porous copper foil and being produced from it

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9929131B2 (en) 2015-12-18 2018-03-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of fabricating a semiconductor package having mold layer with curved corner
US10147713B2 (en) 2015-12-18 2018-12-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor package having mold layer with curved corner and method of fabricating same
CN108690975A (en) * 2017-03-30 2018-10-23 Ymt股份有限公司 The porous copper foil for manufacturing the method for porous copper foil and being produced from it
CN108690975B (en) * 2017-03-30 2020-09-15 Ymt股份有限公司 Method for manufacturing porous copper foil and porous copper foil manufactured thereby
US11028495B2 (en) 2017-03-30 2021-06-08 Ymt Co., Ltd. Method for producing porous copper foil and porous copper foil produced by the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR101546452B1 (en) 2015-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10674610B1 (en) Multilayer rigid flexible printed circuit board and method for manufacturing the same
KR101956091B1 (en) Electromagnetic wave shielding film
JP2015133474A (en) Electromagnetic shield film and method of manufacturing circuit board including shield film
US20180332720A1 (en) High-speed interconnects for printed circuit boards
CN101448362B (en) Ultra-thin shielding film and circuit board capable of changing circuit impedance, and method for preparing same
KR20140142708A (en) Ultrathin shielding film of high shielding effectiveness and manufacturing method therefor
CN102286254A (en) High-peeling-strength conductive adhesive film with through holes and preparation method thereof
JP2003273571A5 (en)
JP2020510985A (en) Electromagnetic wave shielding film, its manufacturing method and application
US20210059042A1 (en) Electromagnetic Shielding Film and Shielded Printed Wiring Board Including the Same
KR101546452B1 (en) EMI shielding film manufactured by electroplating and printed circuit board using the same
JP2022550011A (en) Double-sided single conductor laminate
TW201801602A (en) Electromagnetic wave shielding film and method for manufacturing same
JP7023836B2 (en) Electromagnetic wave shield film
KR101498140B1 (en) Manufacturing method of cover layer for FPC and Manufacturing method of FPC and cover layer for FPC and FPC using the methods
KR101718855B1 (en) Method of composite sheet for shielding electromagnetic wave and dissipating heat
TWI724367B (en) Electromagnetic shielding film and manufacturing method thereof
KR101411978B1 (en) The fabrication method of adhesive tape for thin electromagnetic shield with color layer in polymer film and adhesive tape thereby
JP2000348916A (en) Manufacture of magnetic sheet
CN110691500B (en) Electromagnetic shielding film, circuit board and preparation method of electromagnetic shielding film
CN115024029A (en) Electromagnetic wave shielding film
CN110691503B (en) Electromagnetic shielding film, circuit board and preparation method of electromagnetic shielding film
CN108430156A (en) Nano metal substrate and manufacturing method for ultra fine-line FPC and COF material
KR102459013B1 (en) Electromagnetic wave absorber and preparing method thereof
KR20160106631A (en) Electrically conductive adhesive tapes

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180709

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190703

Year of fee payment: 5